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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024176430
(43)【公開日】2024-12-19
(54)【発明の名称】積層フィルムおよび画像表示装置
(51)【国際特許分類】
G02B 5/08 20060101AFI20241212BHJP
G02B 5/00 20060101ALI20241212BHJP
G09F 19/12 20060101ALI20241212BHJP
G03H 1/02 20060101ALI20241212BHJP
G02B 3/00 20060101ALI20241212BHJP
G02B 3/06 20060101ALI20241212BHJP
G02B 5/04 20060101ALI20241212BHJP
H05B 33/02 20060101ALN20241212BHJP
H10K 50/80 20230101ALN20241212BHJP
【ＦＩ】
G02B5/08 A
G02B5/00 Z
G09F19/12 F
G09F19/12 L
G03H1/02
G02B3/00 A
G02B3/06
G02B5/04 A
H05B33/02
H10K50/80
【審査請求】未請求
【請求項の数】8
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023094954
(22)【出願日】2023-06-08
(71)【出願人】
【識別番号】000003964
【氏名又は名称】日東電工株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110003845
【氏名又は名称】弁理士法人籾井特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】吉見 俊哉
(72)【発明者】
【氏名】服部 大輔
(72)【発明者】
【氏名】佐藤 啓介
【テーマコード（参考）】
2H042
2K008
3K107
【Ｆターム（参考）】
2H042AA02
2H042DA08
2K008AA13
2K008EE04
3K107AA01
3K107AA05
3K107BB01
3K107CC02
3K107CC33
3K107CC41
3K107EE28
3K107EE61
3K107FF06
3K107FF15
(57)【要約】
【課題】輝度が高く、かつ、色ムラが抑制されたデザインを実現し得る積層フィルムを提供すること。
【解決手段】本発明の実施形態による積層フィルムは、第１主面と第２主面とを有し、第１主面が凹凸構造を有する、加飾層と；加飾層の第１主面に設けられた低屈折率層と；低屈折率層の加飾層と反対側に設けられた高屈折率層と；を有する。１つの実施形態においては、低屈折率層の屈折率は１．３０以下であり、かつ、厚みは０．３μｍ以上であり；および／または、高屈折率層の屈折率は１．６０～２．２０であり、かつ、厚みは０．３μｍ以上である。
【選択図】図１
【解決手段】本発明の実施形態による積層フィルムは、第１主面と第２主面とを有し、第１主面が凹凸構造を有する、加飾層と；加飾層の第１主面に設けられた低屈折率層と；低屈折率層の加飾層と反対側に設けられた高屈折率層と；を有する。１つの実施形態においては、低屈折率層の屈折率は１．３０以下であり、かつ、厚みは０．３μｍ以上であり；および／または、高屈折率層の屈折率は１．６０～２．２０であり、かつ、厚みは０．３μｍ以上である。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第１主面と第２主面とを有し、該第１主面が凹凸構造を有する、加飾層と；
該加飾層の第１主面に設けられた低屈折率層と；
該低屈折率層の該加飾層と反対側に設けられた高屈折率層と；
を有する、
積層フィルム。
該加飾層の第１主面に設けられた低屈折率層と；
該低屈折率層の該加飾層と反対側に設けられた高屈折率層と；
を有する、
積層フィルム。
【請求項2】
前記低屈折率層の屈折率が１．３０以下であり、かつ、厚みが０．３μｍ以上である、請求項１に記載の積層フィルム。
【請求項3】
前記高屈折率層の屈折率が１．６０～２．２０であり、かつ、厚みが０．３μｍ以上である、請求項２に記載の積層フィルム。
【請求項4】
前記加飾層が光の方向変換機能を有する、請求項１に記載の積層フィルム。
【請求項5】
前記加飾層の凹凸構造における凹凸の高さをＨ、凹凸のピッチをＰとしたとき、Ｐ／Ｈが１．５以上である、請求項１に記載の積層フィルム。
【請求項6】
前記高屈折率層の前記低屈折率層と反対側に着色層をさらに有する、請求項１から５のいずれかに記載の積層フィルム。
【請求項7】
画像表示面と裏面とを有し、
該裏面に請求項１から５のいずれかに記載の積層フィルムが配置されている、
画像表示装置。
該裏面に請求項１から５のいずれかに記載の積層フィルムが配置されている、
画像表示装置。
【請求項8】
画像表示面と裏面とを有し、
該裏面に請求項６に記載の積層フィルムが配置されている、
画像表示装置。
該裏面に請求項６に記載の積層フィルムが配置されている、
画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、積層フィルムおよび画像表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
各種製品のデザイン性向上の手段として、加飾フィルムが用いられている。例えば、スマートフォンおよびタブレット端末等を収容するカバーケースおよび／または画像表示装置の裏面（画像表示に関与しない面）を構成するガラスパネルに加飾フィルムを貼り合わせ、画像表示装置自体にデザイン性を付与する技術が提案されている。例えば、凹凸層と低屈折率層とを有する加飾フィルムが知られている。しかし、従来の加飾フィルムによれば、付与されたデザインの輝度が不十分である、および／または、付与されたデザインに色ムラが生じる、といった問題を生じる場合がある。したがって、画像表示装置の商品価値をさらに高めることができる加飾フィルムが望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０２２－５７４７１号公報
【特許文献2】特開２０１７－４７５９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、輝度が高く、かつ、色ムラが抑制されたデザインを実現し得る積層フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0005】
［１］本発明の実施形態による積層フィルムは、第１主面と第２主面とを有し、該第１主面が凹凸構造を有する、加飾層と；該加飾層の第１主面に設けられた低屈折率層と；該低屈折率層の該加飾層と反対側に設けられた高屈折率層と；を有する。
［２］上記［１］において、上記低屈折率層の屈折率は１．３０以下であり、かつ、厚みは０．３μｍ以上である。
［３］上記［１］または［２］において、上記高屈折率層の屈折率は１．６０～２．２０であり、かつ、厚みは０．３μｍ以上である。
［４］上記［１］から［３］のいずれかにおいて、上記加飾層は光の方向変換機能を有する。
［５］上記［１］から［４］のいずれかにおいて、上記加飾層の凹凸構造における凹凸の高さをＨ、凹凸のピッチをＰとしたとき、Ｐ／Ｈは１．５以上である。
［６］上記［１］から［５］のいずれかにおいて、上記積層フィルムは、上記高屈折率層の上記低屈折率層と反対側に着色層をさらに有する。
［７］本発明の別の局面によれば、画像表示装置が提供される。該画像表示装置は、画像表示面と裏面とを有し；該裏面に上記［１］から［６］のいずれかの積層フィルムが配置されている。
［２］上記［１］において、上記低屈折率層の屈折率は１．３０以下であり、かつ、厚みは０．３μｍ以上である。
［３］上記［１］または［２］において、上記高屈折率層の屈折率は１．６０～２．２０であり、かつ、厚みは０．３μｍ以上である。
［４］上記［１］から［３］のいずれかにおいて、上記加飾層は光の方向変換機能を有する。
［５］上記［１］から［４］のいずれかにおいて、上記加飾層の凹凸構造における凹凸の高さをＨ、凹凸のピッチをＰとしたとき、Ｐ／Ｈは１．５以上である。
［６］上記［１］から［５］のいずれかにおいて、上記積層フィルムは、上記高屈折率層の上記低屈折率層と反対側に着色層をさらに有する。
［７］本発明の別の局面によれば、画像表示装置が提供される。該画像表示装置は、画像表示面と裏面とを有し；該裏面に上記［１］から［６］のいずれかの積層フィルムが配置されている。
【発明の効果】
【0006】
本発明の実施形態によれば、輝度が高く、かつ、色ムラが抑制されたデザインを実現し得る積層フィルムが提供され得る。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。なお、見やすくかつ理解を容易にするために、図面は模式的または概念的に描かれており、長さ、幅、形状、大きさ、比率、方向、個数等は実際と異なっている場合があり、図面間で対応していない場合がある。
【0009】
Ａ．積層フィルムの全体構成
図１は、本発明の１つの実施形態による積層フィルムの概略断面図である。図示例の積層フィルム１００は、加飾層１０と低屈折率層２０と高屈折率層３０とを有する。加飾層１０は第１主面１０ａと第２主面１０ｂとを有し、第１主面１０ａは凹凸構造を有する。低屈折率層２０は、加飾層１０の第１主面１０ａに設けられている。高屈折率層３０は、低屈折率層２０の加飾層１０と反対側に設けられている。加飾層１０に対してこのような位置関係で低屈折率層２０と高屈折率層３０とを組み合わせて設けることにより、輝度が高く、かつ、色ムラが抑制されたデザインを実現し得る積層フィルムが得られ得る。低屈折率層２０および高屈折率層３０は、これらの厚みと凹凸構造の高さ（深さ）との関係上、代表的には図示例のように加飾層１０の凹凸構造に追従している。一方で、低屈折率層２０または高屈折率層３０のいずれかが凹凸構造の凹部を埋めて、加飾層と反対側を平坦面としてもよい。
図１は、本発明の１つの実施形態による積層フィルムの概略断面図である。図示例の積層フィルム１００は、加飾層１０と低屈折率層２０と高屈折率層３０とを有する。加飾層１０は第１主面１０ａと第２主面１０ｂとを有し、第１主面１０ａは凹凸構造を有する。低屈折率層２０は、加飾層１０の第１主面１０ａに設けられている。高屈折率層３０は、低屈折率層２０の加飾層１０と反対側に設けられている。加飾層１０に対してこのような位置関係で低屈折率層２０と高屈折率層３０とを組み合わせて設けることにより、輝度が高く、かつ、色ムラが抑制されたデザインを実現し得る積層フィルムが得られ得る。低屈折率層２０および高屈折率層３０は、これらの厚みと凹凸構造の高さ（深さ）との関係上、代表的には図示例のように加飾層１０の凹凸構造に追従している。一方で、低屈折率層２０または高屈折率層３０のいずれかが凹凸構造の凹部を埋めて、加飾層と反対側を平坦面としてもよい。
【0010】
本発明の実施形態においては、加飾層１０は、代表的には、光の方向変換機能を有する。加飾層１０は、凹凸構造を制御して、例えば、光の透過、反射、回折、散乱、および拡散を組み合わせて制御することにより、目的に応じた意匠（デザイン）を発現することができる。このような加飾層を含む積層フィルムは、加飾層の種類に応じて以下のような効果を実現することができる：（１）各種製品を表面加飾し、これらの意匠性を向上させることができる；（２）視認角度によって各種製品の表面の色を変化させることができる；および（３）視認角度によって各種製品の表面に異なる像、文字等を表示させることができる。したがって、本発明の実施形態による積層フィルムは、加飾フィルム、光学積層体等とも称され得る。加飾層１０は、具体的な構成に応じて第１主面側および第２主面側の一方または両方に意匠を発現し得る。積層フィルムの１つの使用形態（後述）においては、加飾層１０は、好ましくは、少なくとも図１の矢印側に意匠を発現し得る。加飾層としては、上記のような機能を有する限りにおいて、任意の適切な構成が採用され得る。加飾層の具体的な構成については、後述のＢ項で説明する。
【0011】
低屈折率層２０は、代表的には、屈折率が１．３０以下である。このような低屈折率層を所定の位置に設けることにより、加飾層との界面において適切な反射を実現し得る。その結果、積層フィルムの反射率を大きくすることができ、したがって、高い輝度を有する意匠を発現させることができる。低屈折率層２０は、加飾層１０の第１主面１０ａに接着層を介して形成されてもよく、当該第１主面に直接形成されてもよい。好ましくは、低屈折率層は、当該第１主面に直接形成されている。このような構成であれば、接着層の屈折率に起因する悪影響を回避することができる。このような直接形成は、例えば、後述するように低屈折率層形成用液を塗工または印刷することにより実現され得る。さらに、低屈折率層２０の厚みは、好ましくは０．３μｍ以上である。低屈折率層の厚みがこのような範囲であれば、本発明の実施形態による効果がより顕著なものとなり得る。具体的には、積層フィルムの色相変化が抑制され得、結果として、発現する意匠の色ムラが抑制され得る。これは、低屈折率層と高屈折率層との間の薄膜干渉が抑制されるからであると推定され得る。低屈折率層の具体的な構成については、後述のＣ項で説明する。なお、接着層は、粘着剤で構成されていてもよく、接着剤で構成されていてもよい。接着層（を構成する接着剤または粘着剤）は業界で周知の構成が採用され得るので、詳細な説明は省略する。以下、特段の明示がなければ、他の「接着層」についても同様である。
【0012】
高屈折率層３０は、代表的には、屈折率が１．６０～２．２０である。このような高屈折率層を所定の位置に設けることにより、低屈折率層を設ける効果との相乗的な効果により、積層フィルムにおいてさらに良好な反射を実現し得る。その結果、低屈折率層を単独で設ける場合よりも高い輝度を有する意匠を発現させることができる。高屈折率層３０は、低屈折率層２０に接着層を介して形成されてもよく、低屈折率層２０に直接形成されてもよい。好ましくは、高屈折率層は、低屈折率層に直接形成されている。このような構成であれば、接着層の屈折率に起因する悪影響を回避することができる。このような直接形成は、例えば、後述するように高屈折率層形成用液を塗工または印刷することにより実現され得る。さらに、高屈折率層３０の厚みは、好ましくは０．３μｍ以上である。高屈折率層の厚みがこのような範囲であれば、低屈折率層の厚みを所定値以上とする場合と同様に、本発明の実施形態による効果がより顕著なものとなり得る。具体的には、積層フィルムの色相変化が抑制され得、結果として、発現する意匠の色ムラが抑制され得る。１つの実施形態においては、高屈折率層の厚みは低屈折率層の厚みより大きい。この場合、高屈折率層の厚みと低屈折率層の厚みとの差は、例えば０．２μｍ～３．０μｍであってもよく、また例えば１．０μｍ～２．０μｍであってもよい。高屈折率層の具体的な構成については、後述のＤ項で説明する。
【0013】
図２は、本発明の別の実施形態による積層フィルムの概略断面図である。図示例の積層フィルム１０１は、高屈折率層３０の低屈折率層２０と反対側に着色層４０をさらに有する。着色層４０を設けることにより、反射により発現する意匠をより鮮明なものとすることができる。着色層４０は、高屈折率層３０に接着層を介して形成されてもよく、高屈折率層３０に直接形成されてもよい。図示例においては、着色層４０は、高屈折率層３０に接着層５０を介して形成されている。なお、この実施形態における接着層は、代表的には粘着剤層であり得る。着色層の具体的な構成については、後述のＥ項で説明する。
【0014】
必要に応じて、高屈折率層３０側の最外層として粘着剤層（図示せず）が設けられてもよい。このような粘着剤層を設けることにより、積層フィルムは画像表示装置に貼り合わせ可能とされる。実用的には、積層フィルムが使用に供されるまではく離ライナー（図示せず）が仮着されていることが好ましい。はく離ライナーを仮着することにより、粘着剤層を保護するとともに、積層フィルムのロール形成が可能となる。
【0015】
以下、積層フィルムの構成要素について詳細に説明する。
【0016】
Ｂ．加飾層
本発明の実施形態においては、加飾層１０は、代表的には上記のとおり、光の方向変換機能を有する。加飾層の具体例としては、賦形フィルム、反射型ホログラムフィルム、マイクロレンズアレイフィルム、プリズムフィルム、レンチキュラーレンズが挙げられる。なお、反射型ホログラムフィルム等も賦形フィルムに包含され得るが、本明細書においては、便宜上、賦形フィルムと反射型ホログラムフィルム等とを併記する。
本発明の実施形態においては、加飾層１０は、代表的には上記のとおり、光の方向変換機能を有する。加飾層の具体例としては、賦形フィルム、反射型ホログラムフィルム、マイクロレンズアレイフィルム、プリズムフィルム、レンチキュラーレンズが挙げられる。なお、反射型ホログラムフィルム等も賦形フィルムに包含され得るが、本明細書においては、便宜上、賦形フィルムと反射型ホログラムフィルム等とを併記する。
【0017】
賦形フィルムとしては、目的に応じて任意の適切な構成が採用され得る。賦形フィルムの凹凸構造としては、例えば、直方体状の凹凸が平面視市松状に配置された構造、当該構造において凹部が図１のような異なる角度の傾斜面（図示例では垂直面と傾斜面）を有している構造、当該構造において凹部が四角錐状である構造、当該構造において凹部が四角錐台形状である構造、当該構造において凹部がドーム状である構造、断面矩形で一方向に延びる凸部を一定間隔で有する（平面視ストライプ状、いわゆるライン＆スペースの）凹凸形状、断面波形で一方向に延びる凸部を一定間隔で有する凹凸形状、断面三角形で一方向に延びる凸部を一定間隔で有する凹凸形状、ならびに、これらの組み合わせが挙げられる。
【0018】
賦形フィルムは、任意の適切な方法により作製され得る。賦形フィルムは、例えば、柔らかい状態の樹脂シートに金型の凹凸構造を転写することにより作製され得る。柔らかい状態の樹脂シートとしては、例えば、半硬化の熱硬化性または活性エネルギー線硬化性樹脂シート、加熱により軟化した熱可塑性樹脂シートが挙げられる。熱硬化性または活性エネルギー線硬化性樹脂シートは、凹凸構造が転写された後、加熱または活性エネルギー線（代表的には、可視光線、紫外線）照射により硬化され、凹凸構造が固定される。熱可塑性樹脂シートは、凹凸構造が転写された後、冷却により固化され、凹凸構造が固定される。
【0019】
反射型ホログラムフィルムとしては、目的に応じて任意の適切な構成が採用され得る。反射型ホログラムフィルムの凹凸形状としては、光拡散、光散乱、光反射、光回折などの機能を発現し得る任意の適切な微細凹凸形状を採用することができる。代表例としては、フーリエ変換構造、レンチキュラーレンズ、光回折パターン、モスアイ構造が挙げられる。また、光回折機能はないが、特異な光輝性を発現し得るヘアライン柄、マット柄、万線柄、干渉パターンのような凹凸形状であってもよい。１つの実施形態においては、反射型ホログラムフィルムは、反射光を回折光に変換し得る。
【0020】
マイクロレンズアレイフィルムは、代表的には、平坦な基体部と基体部の一方の面に設けられたレンズ部とを有する。レンズ部は複数のレンズで構成されている。レンズ部を構成するレンズは、代表的には凸レンズであり、例えばドーム形状を有していてもよい。レンズは、行列状（マトリックス状）に設けられてもよく、所定のパターン（例えば、ストライプ状）に設けられてもよく、ランダムに設けられてもよい。
【0021】
プリズムフィルムは、代表的には、平坦な基体部とプリズム部とを有する。プリズム部は、代表的には、基体部と反対側に凸となる断面三角形状で一方向に延びる単位プリズムが複数配列されて構成されている。単位プリズムが延びる方向（単位プリズムの稜線方向）は、目的に応じて適切に設定され得る。
【0022】
レンチキュラーレンズは、代表的には、並列して（すなわち、ストライプ状に）設けられた複数の断面半円状の凸シリンドリカルレンズを有する。
【0023】
１つの実施形態においては、加飾層１０の凹凸構造における凹凸の高さをＨ、凹凸のピッチをＰとしたとき、Ｐ／Ｈは、好ましくは１．５以上であり、より好ましくは２．０以上であり、さらに好ましくは３．０以上であり、特に好ましくは５．０以上である。一方、Ｐ／Ｈは、好ましくは１００以下であり、より好ましくは７０以下であり、さらに好ましくは６０以下であり、特に好ましくは５０以下である。加飾層の凹凸構造のＰ／Ｈがこのような範囲であれば、本発明の実施形態による効果がより顕著なものとなり得る。Ｐ／Ｈが小さすぎると、低屈折率層を適切に形成できない場合がある。Ｐ／Ｈの上限は、所望される意匠性に応じて決定され得る。なお、本明細書において「凹凸の高さ」は、１つの凹凸部分における山（または頂部）から谷（または平端部）までの距離を意味し、凹凸が不規則構造である場合にはそれぞれの凹凸部分における山（または頂部）から谷（または平端部）までの距離の平均を意味する。また、「凹凸のピッチ」は、隣接する山（または頂部）から山（または頂部）までの距離を意味し、凹凸が不規則構造である場合にはそれぞれの隣接する山（または頂部）から山（または頂部）までの距離の平均を意味する。
【0024】
凹凸のピッチＰおよび凹凸の高さＨは、それぞれ、上記所望のＰ／Ｈが得られる限りにおいて適切に設定され得る。ピッチＰは、好ましくは１０μｍ～５００μｍであり、より好ましくは３０μｍ～２００μｍであり、さらに好ましくは５０μｍ～１００μｍである。高さＨは、好ましくは０．１μｍ～１００μｍであり、より好ましくは１μｍ～５０μｍであり、さらに好ましくは２μｍ～２０μｍである。
【0025】
加飾層の厚み（凸部に対応する最大厚み）は、好ましくは５０μｍ～３ｍｍ（３０００μｍ）であり、より好ましくは１００μｍ～１ｍｍ（１０００μｍ）である。
【0026】
Ｃ．低屈折率層
低屈折率層２０の屈折率は、代表的には上記のとおり１．３０以下であり、その下限は１．００超である。低屈折率層２０の屈折率は、好ましくは１．１３～１．２８であり、より好ましくは１．１４～１．２７であり、さらに好ましくは１．１５～１．２６であり、特に好ましくは１．１６～１．２５である。低屈折率層の屈折率がこのような範囲であれば、加飾層の第１主面（凹凸面）側に層を設けることによる加飾層の機能の低下を、極めて良好に抑制することができる。屈折率は、特に断らない限り、波長５５０ｎｍにおいて測定した屈折率をいう。屈折率は、例えば、後述の実施例に記載の方法によって測定される値である。
低屈折率層２０の屈折率は、代表的には上記のとおり１．３０以下であり、その下限は１．００超である。低屈折率層２０の屈折率は、好ましくは１．１３～１．２８であり、より好ましくは１．１４～１．２７であり、さらに好ましくは１．１５～１．２６であり、特に好ましくは１．１６～１．２５である。低屈折率層の屈折率がこのような範囲であれば、加飾層の第１主面（凹凸面）側に層を設けることによる加飾層の機能の低下を、極めて良好に抑制することができる。屈折率は、特に断らない限り、波長５５０ｎｍにおいて測定した屈折率をいう。屈折率は、例えば、後述の実施例に記載の方法によって測定される値である。
【0027】
低屈折率層２０の全光線透過率は、好ましくは８５％～９９％であり、より好ましくは８７％～９８％であり、さらに好ましくは８９％～９７％である。このような低屈折率層を加飾層の第１主面（凹凸面）側に設けることにより、例えば、積層フィルム全体として優れた透明性を実現することができる。その結果、例えば、積層フィルムを各種製品に適用した場合に、発現し得る意匠の視認性を確保することができる。全光線透過率は、例えば、後述のヘイズメーターにより測定することができる。
【0028】
低屈折率層２０のヘイズは、好ましくは５％未満であり、より好ましくは３％未満である。一方、ヘイズは、例えば０．１％以上であり、０．２％以上であってもよい。このような低屈折率層を加飾層の第１主面（凹凸面）側に設けることにより、例えば、積層フィルム全体として優れた透明性を実現することができる。その結果、例えば、積層フィルムを各種製品に適用した場合に、発現し得る意匠の視認性を確保することができる。ヘイズは、例えば、ヘイズメーター（例えば、村上色彩技術研究所社製の「ＨＭ－１５０」）により測定した値を用いて、下記式より算出され得る。
ヘイズ（％）＝［拡散透過率（％）／全光線透過率（％）］×１００（％）
ヘイズ（％）＝［拡散透過率（％）／全光線透過率（％）］×１００（％）
【0029】
低屈折率層２０の厚みは、上記のとおり好ましくは０．３μｍ以上であり、より好ましくは１．０μｍ以上であり、さらに好ましくは１．２μｍ以上であり、特に好ましくは１．５μｍ以上であり、とりわけ好ましくは１．８μｍ以上である。また、低屈折率層の厚みは、例えば２．２μｍ以上であってもよく、また例えば２．５μｍ以上であってもよく、また例えば２．８μｍ以上であってもよい。一方、低屈折率層の厚みは、例えば２０μｍ以下であってもよく、また例えば１０μｍ以下であってもよく、また例えば８μｍ以下であってもよく、また例えば５μｍ以下であってもよい。低屈折率層の厚みがこのような範囲であれば、上記のとおり、積層フィルムの色相変化が抑制され得、結果として、発現する意匠の色ムラが抑制され得る。
【0030】
低屈折率層は、上記所望の特性を達成し得る、任意の適切な構成が採用され得る。低屈折率層を構成する材料としては、例えば、国際公開第２００４／１１３９６６号、特開２０１３－２５４１８３号公報、および特開２０１２－１８９８０２号公報に記載の材料を採用し得る。低屈折率層を構成する材料の代表例としては、ケイ素化合物が挙げられる。ケイ素化合物としては、例えば、シリカ系化合物；加水分解性シラン類、ならびにその部分加水分解物および脱水縮合物；シラノール基を含有するケイ素化合物；ケイ酸塩を酸やイオン交換樹脂に接触させることにより得られる活性シリカが挙げられる。また、低屈折率層を構成する材料としては、有機ポリマー；重合性モノマー（例えば、（メタ）アクリル系モノマー、およびスチレン系モノマー）；硬化性樹脂（例えば、（メタ）アクリル系樹脂、フッ素含有樹脂、およびウレタン樹脂）等も挙げられる。これらの材料は、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0031】
１つの実施形態においては、低屈折率層は、その内部に空孔、間隙等の空間を含み得る。この場合、低屈折率層の気孔率は、好ましくは２０体積％～６０体積％であり、より好ましくは２５体積％～５５体積％であり、さらに好ましくは３０体積％～５０体積％であり、特に好ましくは３５体積％～４５体積％である。このような気孔率によれば、低屈折率層の屈折率を適切な範囲とすることができるとともに、強度を確保することができる。ここで、気孔率は、エリプソメーターで測定した屈折率の値から、Ｌｏｒｅｎｔｚ－Ｌｏｒｅｎｚ’ｓ ｆｏｒｍｕｌａ（ローレンツ・ローレンツの式）により算出された値である。
【0032】
低屈折率層に含まれ得る空孔のサイズは、目的および用途等に応じて、所望のサイズに調整することができる。低屈折率層に含まれ得る空孔のサイズは、例えば２ｎｍ以上であり、好ましくは５ｎｍ以上であり、より好ましくは１０ｎｍ以上であり、さらに好ましくは２０ｎｍ以上である。一方、低屈折率層に含まれ得る空孔のサイズは、例えば５００ｎｍ以下であり、好ましくは２００ｎｍ以下であり、より好ましくは１００ｎｍ以下である。なお、空孔のサイズは、空孔の長軸の直径および短軸の直径のうち、長軸の直径を指すものとする。
【0033】
空孔のサイズは、ＢＥＴ試験法により定量化できる。１つの実施形態においては、比表面積測定装置（例えば、マイクロメリティック社製の「ＡＳＡＰ２０２０」）のキャピラリに、測定サンプル（例えば、形成された低屈折率層）を０．１ｇ投入した後、室温で２４時間、減圧乾燥を行って、測定サンプルに含まれる気体を脱気する。そして、測定サンプルに窒素ガスを吸着させることで吸着等温線を描き、細孔分布を求める。これによって、空孔のサイズを評価することができる。
【0034】
上記内部に空間を有する低屈折率層としては、例えば、多孔質体で構成される多孔質層および／または空気層を少なくとも一部に含む層が挙げられる。低屈折率層は、代表的には、エアロゲルおよび／または粒子（例えば、中空微粒子および／または多孔質粒子であり得る）を含む。低屈折率層は、好ましくは、ナノポーラス層（具体的には、９０％以上の空孔の直径が１０－１ｎｍ～１０３ｎｍの範囲内の多孔質層）であり得る。
【0035】
上記粒子としては、任意の適切な粒子を採用し得る。粒子は、代表的には、シリカ系化合物から構成される。粒子の形状としては、例えば、球状、板状、針状、ストリング状、およびブドウの房状が挙げられる。ストリング状の粒子としては、例えば、球状、板状、または針状の形状を有する複数の粒子が数珠状に連なった粒子、短繊維状の粒子（例えば、特開２００１－１８８１０４号公報に記載の短繊維状の粒子）、およびこれらの組み合わせが挙げられる。ストリング状の粒子は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。ブドウの房状の粒子としては、例えば、球状、板状、および針状の粒子が複数凝集してブドウの房状になったものが挙げられる。粒子の形状は、例えば、透過型電子顕微鏡観察により確認することができる。
【0036】
低屈折率層の一例として、微細な空隙構造を形成する一種類または複数種類の構成単位から構成され、この構成単位同士が結合（例えば、触媒作用を介して化学的に結合）した構造体が挙げられる。構成単位の形状としては、例えば、粒子状、繊維状、棒状、平板状が挙げられる。構成単位は、１つの形状のみを有していてもよく、２つ以上の形状を組み合わせて有していてもよい。
【0037】
低屈折率層の具体的な一例として、微細孔を有する粒子（以下、微細孔粒子と称する）同士が化学的に結合した多孔質体から構成される多孔質層が挙げられる。このような多孔質層は、例えば、微細孔粒子同士を化学的に結合させることにより得ることができる。微細孔粒子の形状は、特に限定されず、例えば、球状であってもよく、他の形状であってもよい。また、微細孔粒子は、例えば、ゾルゲル数珠状粒子、ナノ粒子（例えば、中空ナノシリカ・ナノバルーン粒子）、ナノ繊維等であってもよい。微細孔粒子は、代表的には無機物を含む。無機物の具体例としては、ケイ素（Ｓｉ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、二種以上を併用してもよい。１つの実施形態においては、上記微細孔粒子は、例えばケイ素化合物の微細孔粒子であり、上記多孔質体は、例えばシリコーン多孔質体である。ケイ素化合物の微細孔粒子は、例えば、ゲル状シリカ化合物の粉砕物を含む。
【0038】
低屈折率層の別の例としては、例えば、ナノファイバー等の繊維状物質を含み、この繊維状物質の絡まり合いにより空間が形成された層が挙げられる。低屈折率層のさらに別の例としては、中空ナノ粒子やナノクレイを用いて形成された層、中空ナノバルーンやフッ化マグネシウムを用いて形成された層が挙げられる。低屈折率層は、単一の構成物質から構成されてもよいし、複数の構成物質から構成されてもよい。低屈折率層は、上記例の単一の形態で構成されてもよいし、上記例の複数の形態で構成されてもよい。
【0039】
上記多孔質層は、例えば、孔構造が連続した連泡構造体であってもよい。連泡構造とは、多孔質体（例えば、シリコーン多孔質体）において、三次元的に孔構造が連なっていることを意味し、孔構造の空間が連続している状態ともいえる。多孔質層が連泡構造を有することにより、気孔率を高めることができる。連泡構造は、例えば、中空粒子（例えば、中空シリカ）のような個々に孔構造を有する独泡粒子を用いて形成するのは困難であるが、例えば、シリカゾル粒子（ゾルを形成するゲル状ケイ素化合物の粉砕物）を用いる場合、シリカゾル粒子が三次元の樹状構造を有し得るために、塗工膜（ゲル状ケイ素化合物の粉砕物を含むゾルの塗工膜）中で当該樹状粒子が沈降および堆積することで、容易に連泡構造を形成することができる。多孔質層は、連泡構造が複数の細孔分布を含むモノリス構造を有することが好ましい。モノリス構造は、例えば、ナノサイズの微細な空孔が存在する構造と、ナノサイズの微細な空孔が集合した連泡構造とを含む階層構造を意味する。モノリス構造によれば、例えば、微細な空孔で膜強度を付与しつつ、粗大な連泡構造で高い気孔率を付与し、膜強度と高気孔率とを両立させることができる。
【0040】
例えば、上記モノリス構造は、シリカゾル粒子に粉砕する前段階のゲル（ゲル状ケイ素化合物）において、生成する空隙構造の細孔分布を制御することにより形成され得る。また例えば、ゲル状ケイ素化合物を粉砕する際、粉砕後のシリカゾル粒子の粒度分布を所定のサイズに制御することにより、モノリス構造を形成し得る。なお、粒度分布は、例えば、動的光散乱法、レーザー回折法等の粒度分布評価装置、および走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）等の電子顕微鏡等により測定することができる。
【0041】
上記のように、多孔質層は、ゲル状ケイ素化合物等のゲル状化合物の粉砕物を含み得、この粉砕物同士は、例えば、化学的に結合（化学結合）している。化学結合としては、特に制限されず、例えば、架橋結合、共有結合、水素結合が挙げられる。多孔質層における粉砕物の体積平均粒子径は、例えば０．１０μｍ以上であり、好ましくは０．２０μｍ以上であり、より好ましくは０．４０μｍ以上である。一方、多孔質層における粉砕物の体積平均粒子径は、例えば２．００μｍ以下であり、好ましくは１．５０μｍ以下であり、より好ましくは１．００μｍ以下である。なお、体積平均粒子径は、粉砕物の粒度のバラツキの指標であり、粒度分布測定により求められる。
【0042】
低屈折率層は、ケイ素原子を含み得る。例えば、低屈折率層に含まれるケイ素原子は、シロキサン結合していることが好ましい。低屈折率層に含まれる全ケイ素原子のうち、未結合のケイ素原子（具体的には、残留シラノール）の割合は、例えば５０％未満であり、好ましくは３０％以下であり、より好ましくは１５％以下である。
【0043】
低屈折率層は、例えば、加飾層の第１主面（凹凸面）に低屈折率層形成用液（塗工液とも称する場合がある）を塗工または印刷することにより形成され得る。より詳細には、低屈折率層は、加飾層の第１主面（凹凸面）に形成された低屈折率層形成用液の塗工膜または印刷層を加熱することにより形成され得る。
【0044】
１つの実施形態においては、上記塗工膜は、微細孔粒子を含む塗工液を用いて形成され得、この塗工液を加熱（乾燥を含む）することより微細孔粒子同士を化学的に結合させ得る。微細孔粒子を含む塗工液は、例えば、懸濁液である。塗工液に、例えば、微細孔粒子同士の架橋結合（例えば、微細孔粒子に含まれ得る残留シラノール基の脱水縮合反応）を促進する触媒（架橋反応促進剤）および／または触媒（架橋反応促進剤）を発生する物質（触媒発生剤）を添加してもよい。触媒としては、例えば、光活性触媒および熱活性触媒が挙げられる。触媒を発生する物質（触媒発生剤）としては、例えば、光触媒発生剤および熱触媒発生剤が挙げられる。光触媒発生剤としては、例えば、光塩基発生剤（光照射により塩基性触媒を発生する触媒）および光酸発生剤（光照射により酸性触媒を発生する物質）が挙げられる。例えば、微細孔粒子はゲル状化合物（好ましくは、ゲル状ケイ素化合物）の粉砕物であり、低屈折率層はゲル状化合物の粉砕物を含む多孔質体（好ましくは、シリコーン多孔質体）から構成される多孔質層である。このような微細孔粒子は、粉砕前のゲル状化合物の三次元構造が三次元基本構造に分散された状態を有し得、このような微細孔粒子を用いることで、三次元基本構造に基づく構造が形成され得る。具体的には、ゲル状化合物の三次元構造とは異なる新たな構造が形成され得る。こうして、最終的に得られる低屈折率層（多孔質層）は、例えば空気層と同程度の低屈折率を有し得る。また、微細孔粒子同士を化学的に結合させることにより、上記三次元基本構造が固定化され得、最終的に得られる低屈折率層（多孔質層）において、十分な強度を確保し得る。低屈折率層（多孔質層）の具体的な構成および形成方法の詳細は、例えば、国際公開第２０１９／１５１０７３号に記載されている。当該公報の記載は、本明細書に参考として援用される。
【0045】
上記塗工液の塗工厚みは、低屈折率層に所望される厚みに応じて設定され得る。塗工膜（塗工液）の加熱温度は、例えば２０℃以上であり、好ましくは５０℃以上である。一方、塗工膜（塗工液）の加熱温度は、例えば２００℃以下であり、好ましくは１５０℃以下である。塗工膜（塗工液）の加熱時間は、例えば１０秒以上である。一方、塗工膜（塗工液）の加熱時間は、例えば２４時間以下であり、好ましくは１時間以下であり、より好ましくは３０分以下であり、さらに好ましくは１０分以下である。
【0046】
Ｄ．高屈折率層
高屈折率層３０の屈折率は、代表的には上記のとおり１．６０～２．２０である。高屈折率層３０の屈折率は、好ましくは１．６２～２．００であり、より好ましくは１．６３～１．９０であり、さらに好ましくは１．６５～１．８５であり、特に好ましくは１．６７～１．８０である。高屈折率層の屈折率がこのような範囲であれば、積層フィルムにおいてさらに良好な反射を実現し得る。その結果、非常に高い輝度を有する意匠を発現させることができる。
高屈折率層３０の屈折率は、代表的には上記のとおり１．６０～２．２０である。高屈折率層３０の屈折率は、好ましくは１．６２～２．００であり、より好ましくは１．６３～１．９０であり、さらに好ましくは１．６５～１．８５であり、特に好ましくは１．６７～１．８０である。高屈折率層の屈折率がこのような範囲であれば、積層フィルムにおいてさらに良好な反射を実現し得る。その結果、非常に高い輝度を有する意匠を発現させることができる。
【0047】
高屈折率層３０の全光線透過率は、好ましくは８５％～９９％であり、より好ましくは８７％～９８％であり、さらに好ましくは８９％～９７％である。高屈折率層の全光線透過率がこのような範囲であれば、例えば、積層フィルムを各種製品に適用した場合に、発現し得る意匠の視認性を良好に確保することができる。
【0048】
高屈折率層３０のヘイズは、好ましくは２％未満であり、より好ましくは１．５％未満である。一方、ヘイズは、例えば０．１％以上であり、０．２％以上であってもよい。高屈折率層のヘイズがこのような範囲であれば、例えば、積層フィルムを各種製品に適用した場合に、発現し得る意匠の視認性を良好に確保することができる。
【0049】
高屈折率層３０の厚みは、上記のとおり好ましくは０．３μｍ以上であり、より好ましくは１．０μｍ以上であり、さらに好ましくは１．２μｍ以上であり、特に好ましくは１．５μｍ以上であり、とりわけ好ましくは１．８μｍ以上である。また、高屈折率層の厚みは、例えば３．０μｍ以上であってもよく、また例えば３．５μｍ以上であってもよく、また例えば４．０μｍ以上であってもよい。一方、高屈折率層の厚みは、例えば２０μｍ以下であってもよく、また例えば１２μｍ以下であってもよく、また例えば１０μｍ以下であってもよく、また例えば７μｍ以下であってもよい。高屈折率層の厚みがこのような範囲であれば、上記のとおり、積層フィルムの色相変化が抑制され得、結果として、発現する意匠の色ムラが抑制され得る。
【0050】
高屈折率層３０としては、上記のような特性を満足する限りにおいて、任意の適切な構成が採用され得る。高屈折率層は、代表的には、バインダー樹脂（マトリックス）と屈折率調整材とを含む。バインダー樹脂としては、任意の適切な樹脂を用いることができる。好ましくは、水溶性樹脂である。水溶性樹脂の代表例としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂、水溶性アクリル樹脂が挙げられる。ＰＶＡ系樹脂が好ましい。ＰＶＡ系樹脂としては、任意の適切な樹脂が採用され得る。例えば、ポリビニルアルコールおよびエチレン－ビニルアルコール共重合体が挙げられる。ポリビニルアルコールは、ポリ酢酸ビニルをケン化することにより得られる。エチレン－ビニルアルコール共重合体は、エチレン－酢酸ビニル共重合体をケン化することにより得られる。
【0051】
ＰＶＡ系樹脂のケン化度は、好ましくは９３．５モル％以上であり、より好ましくは９５．０モル％以上であり、さらに好ましくは９９．０モル％以上である。ケン化度の上限は、例えば１００モル％であってもよく、また例えば９９．９５モル％であってもよく、また例えば９９．９３モル％であってもよい。このようなケン化度のＰＶＡ系樹脂を用いることによって、耐久性に優れた高屈折率層が得られ得る。
【0052】
ＰＶＡ系樹脂の重量平均分子量は、目的に応じて適切に選択し得る。重量平均分子量は、好ましくは２００００～１１００００であり、より好ましくは３００００～１０００００であり、さらに好ましくは４００００～８００００である。重量平均分子量は、例えばゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定され得る。
【0053】
屈折率調整材は、実質的には、形成される層の屈折率を高くするために用いられる。したがって、屈折率調整材は、代表的には高屈折率材料であり、例えば２．３０以上の屈折率を有し得る。屈折率調整材としては、このような屈折率を有する限りにおいて、任意の適切な構成が採用され得る。屈折率調整材の代表例としては、金属酸化物微粒子が挙げられる。金属酸化物の具体例としては、酸化チタン（ＴｉＯ２）、シリカ（ＳｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化セリウム（ＣｅＯ２）、酸化錫（ＳｎＯ２）、酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、燐錫化合物（ＰＴＯ）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ）、アンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ２Ｏ６）が挙げられる。金属酸化物微粒子は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0054】
高屈折率微粒子の平均粒子径は、好ましくは１ｎｍ～１００ｎｍであり、より好ましくは２ｎｍ～５０ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ～２０ｎｍである。このような平均粒子径であれば、透明性に優れ、かつ、取扱いが容易である。当該平均粒子径は、二次粒子も１つの粒子とみなして、一次粒子と二次粒子とを区別することなく測定される値である。当該平均粒子径は、例えば、高屈折率層の断面の所定の領域を透過型電子顕微鏡で観察し、当該領域において観察される粒子（例えば、５０個）の粒子径の平均値として求めることができる。
【0055】
高屈折率層における高屈折率微粒子の含有量は、バインダー樹脂１００重量部に対して、例えば４０重量部～３００重量部であってもよく、また例えば７０重量部～１５０重量部である。
【0056】
Ｅ．着色層
着色層５０は、単色層であってもよく、所定のデザインが施された意匠層であってもよい。着色層は、好ましくは単色層であり、より好ましくは黒色の単色層である。このような構成であれば、積層フィルムにおいて反射により発現する意匠をより鮮明なものとすることができる。
着色層５０は、単色層であってもよく、所定のデザインが施された意匠層であってもよい。着色層は、好ましくは単色層であり、より好ましくは黒色の単色層である。このような構成であれば、積層フィルムにおいて反射により発現する意匠をより鮮明なものとすることができる。
【0057】
着色層は、代表的には、バインダー樹脂（マトリックス）と着色剤とを含む。バインダー樹脂としては、塩素化ポリオレフィン（例えば、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン）、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、セルロース系樹脂が挙げられる。バインダー樹脂は、単独で用いてもよく２種以上を併用してもよい。１つの実施形態においては、バインダー樹脂は熱重合性樹脂である。熱重合性樹脂は、光重合性樹脂に比べて使用量が少なくてすむので、着色剤の使用量（着色層における着色剤含有量）を増大させることができる。その結果、特に黒色の着色層を形成する場合に、全光線透過率が非常に小さく、優れた隠蔽性を有する着色層を形成することができる。１つの実施形態においては、バインダー樹脂はアクリル系樹脂であり、好ましくは多官能モノマー（例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート）を共重合成分として含むアクリル系樹脂である。多官能モノマーを共重合成分として含むアクリル系樹脂を用いることにより、適切な弾性率を有する着色層が形成され得る。
【0058】
着色剤としては、目的に応じて任意の適切な着色剤が用いられ得る。着色剤の具体例としては、チタン白、亜鉛華、カーボンブラック、鉄黒、弁柄、クロムバーミリオン、群青、コバルトブルー、黄鉛、チタンイエロー等の無機顔料；フタロシアニンブルー、インダスレンブルー、イソインドリノンイエロー、ベンジジンイエロー、キナクリドンレッド、ポリアゾレッド、ペリレンレッド、アニリンブラック等の有機顔料または染料；アルミニウム、真鍮等の鱗片状箔片からなる金属顔料；二酸化チタン被覆雲母、塩基性炭酸鉛等の鱗片状箔片からなる真珠光沢顔料（パール顔料）が挙げられる。黒色の着色層を形成する場合には、カーボンブラック、鉄黒、アニリンブラックが好適に用いられる。この場合、着色剤は併用することが好ましい。可視光を広範囲かつ均等に吸収し、色付きのない（すなわち、真っ黒な）着色層を形成し得るからである。例えば、上記の着色剤に加えて、アゾ化合物および／またはキノン化合物が用いられ得る。１つの実施形態においては、着色剤は、主成分としてのカーボンブラックとその他の着色剤（例えば、アゾ化合物および／またはキノン化合物）とを含む。このような構成によれば、色つきがなく、かつ、経時安定性に優れた着色層を形成し得る。黒色の着色層を形成する場合には、着色剤は、バインダー樹脂１００重量部に対して、好ましくは５０重量部～２００重量部の割合で用いられ得る。この場合、着色剤中のカーボンブラックの含有割合は、好ましくは８０％～１００％である。このような割合で着色剤（特にカーボンブラック）を用いることにより、全光線透過率が非常に小さく、かつ、経時安定性に優れた着色層を形成することができる。
【0059】
着色層の厚みは、例えば１μｍ～３ｍｍ（３０００μｍ）であってもよく、また例えば１０μｍ～１ｍｍ（１０００μｍ）であってもよい。さらに、着色層は、厚み１００μｍにおける全光線透過率が好ましくは０．０１％以下であり、より好ましくは０．００８％以下である。全光線透過率がこのような範囲であれば、積層フィルムにおいて反射により発現する意匠を格別に鮮明なものとすることができる。
【0060】
Ｆ．画像表示装置
本発明の実施形態による積層フィルムは、画像表示装置に用いられる。したがって、そのような画像表示装置もまた、本発明の実施形態に包含され得る。画像表示装置としては、代表的には、液晶表示装置、エレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置（例えば、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置）が挙げられる。画像表示装置の製品形態としては、例えば、スマートフォン、タブレット端末が挙げられる。また、本発明の実施形態による積層フィルムは、画像表示装置を収容するカバーケースに用いられてもよい。
本発明の実施形態による積層フィルムは、画像表示装置に用いられる。したがって、そのような画像表示装置もまた、本発明の実施形態に包含され得る。画像表示装置としては、代表的には、液晶表示装置、エレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置（例えば、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置）が挙げられる。画像表示装置の製品形態としては、例えば、スマートフォン、タブレット端末が挙げられる。また、本発明の実施形態による積層フィルムは、画像表示装置を収容するカバーケースに用いられてもよい。
【0061】
図３は、本発明の１つの実施形態による画像表示装置（言い換えれば、図１の積層フィルムの使用形態）を説明する概略断面図である。図示例の画像表示装置２００は、画像表示面２０１と裏面（画像表示に関与しない面）２０２とを有する。画像表示装置２００の裏面２０２には、図１の積層フィルム１００が配置されている。より詳細には、積層フィルム１００は、高屈折率層３０が画像表示装置２００側になるようにして、粘着剤層１２０を介して画像表示装置２００の裏面２０２に貼り合わせられている。このような実施形態によれば、積層フィルムにより画像表示装置の裏面に意匠が発現し、画像表示装置自体にデザイン性を付与することができる。このような実施形態によれば、例えばスマートフォンにケースを使用しない場合に、スマートフォンの商品価値を高めることができる。なお、図３から明らかなとおり、積層フィルムによる意匠は、矢印のとおり画像表示装置２００の裏面２０２に発現し、画像表示には関与しない。
【0062】
図３は、図１の積層フィルムを画像表示装置に配置する実施形態を説明しているが、言うまでもなく、本発明の他の実施形態による積層フィルム（例えば、図２の積層フィルム、図示しない実施形態による積層フィルム）もまた画像表示装置に配置され得る。
【実施例0063】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、各特性の測定方法は以下の通りである。また、特に明記しない限り、実施例における「％」および「部」は重量基準である。
【0064】
（１）屈折率
実施例および比較例で用いた低屈折率層または高屈折率層をアクリルフィルムに形成した。得られた積層体を２５ｍｍ×５０ｍｍのサイズにカットした。カットした積層体を、粘着剤を介してガラス板（厚み：３ｍｍ）の表面に貼合した。上記ガラス板の裏面中央部（直径２０ｍｍ程度）を黒マジックで塗りつぶして、該ガラス板の裏面で反射しないサンプルとした。エリプソメーター（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ Ｊａｐａｎ社製：ＶＡＳＥ）に上記サンプルをセットし、５５０ｎｍの波長、入射角５０～８０度の条件で、屈折率を測定した。
実施例および比較例で用いた低屈折率層または高屈折率層をアクリルフィルムに形成した。得られた積層体を２５ｍｍ×５０ｍｍのサイズにカットした。カットした積層体を、粘着剤を介してガラス板（厚み：３ｍｍ）の表面に貼合した。上記ガラス板の裏面中央部（直径２０ｍｍ程度）を黒マジックで塗りつぶして、該ガラス板の裏面で反射しないサンプルとした。エリプソメーター（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ Ｊａｐａｎ社製：ＶＡＳＥ）に上記サンプルをセットし、５５０ｎｍの波長、入射角５０～８０度の条件で、屈折率を測定した。
【0065】
（２）厚み
干渉膜厚計（大塚電子社製、製品名「ＭＣＰＤ－３０００」）を用いて測定した。
干渉膜厚計（大塚電子社製、製品名「ＭＣＰＤ－３０００」）を用いて測定した。
【0066】
（３）反射率
実施例および比較例で得られた積層フィルムについて、分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製、製品名「Ｕ４１００」）を用いて可視光領域における分光反射率を求め、以下の基準で評価した。
○（良好）：反射率が５．０％以上
×（不良）：反射率が５．０％未満
実施例および比較例で得られた積層フィルムについて、分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製、製品名「Ｕ４１００」）を用いて可視光領域における分光反射率を求め、以下の基準で評価した。
○（良好）：反射率が５．０％以上
×（不良）：反射率が５．０％未満
【0067】
（４）色相変化
上記（３）で得られた分光反射率から色度値（ｘ、ｙ）を算出した。無彩色値（ｘ´、ｙ´）からの変化量Δｘｙを下記式から求めた。
Δｘｙ＝｛（ｘ－ｘ´）２＋（ｙ－ｙ´）２｝１／２
得られたΔｘｙを、下記の基準で色相変化の指標として評価した。
◎（優良） ：Δｘｙ（×１０２）が３．０未満
○（良好） ：Δｘｙ（×１０２）が３．０以上５．０未満
△（許容可能）：Δｘｙ（×１０２）が５．０以上７．０未満
上記（３）で得られた分光反射率から色度値（ｘ、ｙ）を算出した。無彩色値（ｘ´、ｙ´）からの変化量Δｘｙを下記式から求めた。
Δｘｙ＝｛（ｘ－ｘ´）２＋（ｙ－ｙ´）２｝１／２
得られたΔｘｙを、下記の基準で色相変化の指標として評価した。
◎（優良） ：Δｘｙ（×１０２）が３．０未満
○（良好） ：Δｘｙ（×１０２）が３．０以上５．０未満
△（許容可能）：Δｘｙ（×１０２）が５．０以上７．０未満
【0068】
［製造例１］低屈折率層形成用塗工液の調製
（１）ケイ素化合物のゲル化
２．２ｇのジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）に、ケイ素化合物の前駆体であるメチルトリメトキシシラン（ＭＴＭＳ）を０．９５ｇ溶解させて混合液Ａを調製した。この混合液Ａに、０．０１ｍｏｌ／Ｌのシュウ酸水溶液を０．５ｇ添加し、室温で３０分撹拌を行うことでＭＴＭＳを加水分解して、トリス（ヒドロキシ）メチルシランを含む混合液Ｂを生成した。
５．５ｇのＤＭＳＯに、２８重量％のアンモニア水０．３８ｇ、および純水０．２ｇを添加した後、さらに、上記混合液Ｂを追添し、室温で１５分撹拌することで、トリス（ヒドロキシ）メチルシランのゲル化を行い、ゲル状ケイ素化合物を含む混合液Ｃを得た。
（２）熟成処理
上記のように調製したゲル状ケイ素化合物を含む混合液Ｃを、そのまま、４０℃で２０時間インキュベートして、熟成処理を行った。
（３）粉砕処理
次に、上記のように熟成処理したゲル状ケイ素化合物を、スパチュラを用いて数ｍｍ～数ｃｍサイズの顆粒状に砕いた。次いで、混合液Ｃにイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を４０ｇ添加し、軽く撹拌した後、室温で６時間静置して、ゲル中の溶媒および触媒をデカンテーションした。同様のデカンテーション処理を３回行うことにより、溶媒置換し、混合液Ｄを得た。次いで、混合液Ｄ中のゲル状ケイ素化合物を粉砕処理（高圧メディアレス粉砕）した。粉砕処理（高圧メディアレス粉砕）は、ホモジナイザー（エスエムテー社製、商品名「ＵＨ－５０」）を使用し、５ｃｃのスクリュー瓶に、混合液Ｄ中のゲル状化合物１．８５ｇおよびＩＰＡを１．１５ｇ秤量した後、５０Ｗ、２０ｋＨｚの条件で２分間の粉砕で行った。
この粉砕処理によって、上記混合液Ｄ中のゲル状ケイ素化合物が粉砕されたことにより、混合液Ｄは、粉砕物のゾル液Ｅとなった。ゾル液Ｅに含まれる粉砕物の粒度バラツキを示す体積平均粒子径を、動的光散乱式ナノトラック粒度分析計（日機装社製、ＵＰＡ－ＥＸ１５０型）にて確認したところ、０．５０～０．７０μｍであった。さらに、０．７５ｇのゾル液Ｅに対し、光塩基発生剤（和光純薬工業株式会社、商品名：ＷＰＢＧ２６６）の１．５重量％濃度ＭＥＫ（メチルエチルケトン）溶液を０．０１５ｇ、ビス架橋促進剤（（トリメトキシシリル）ヘキサン）の５％濃度ＭＥＫ溶液を０．００５ｇの比率で添加し、低屈折率層形成用塗工液１を得た。この塗工液を用いて形成される低屈折率層の屈折率は１．１６であった。
（１）ケイ素化合物のゲル化
２．２ｇのジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）に、ケイ素化合物の前駆体であるメチルトリメトキシシラン（ＭＴＭＳ）を０．９５ｇ溶解させて混合液Ａを調製した。この混合液Ａに、０．０１ｍｏｌ／Ｌのシュウ酸水溶液を０．５ｇ添加し、室温で３０分撹拌を行うことでＭＴＭＳを加水分解して、トリス（ヒドロキシ）メチルシランを含む混合液Ｂを生成した。
５．５ｇのＤＭＳＯに、２８重量％のアンモニア水０．３８ｇ、および純水０．２ｇを添加した後、さらに、上記混合液Ｂを追添し、室温で１５分撹拌することで、トリス（ヒドロキシ）メチルシランのゲル化を行い、ゲル状ケイ素化合物を含む混合液Ｃを得た。
（２）熟成処理
上記のように調製したゲル状ケイ素化合物を含む混合液Ｃを、そのまま、４０℃で２０時間インキュベートして、熟成処理を行った。
（３）粉砕処理
次に、上記のように熟成処理したゲル状ケイ素化合物を、スパチュラを用いて数ｍｍ～数ｃｍサイズの顆粒状に砕いた。次いで、混合液Ｃにイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を４０ｇ添加し、軽く撹拌した後、室温で６時間静置して、ゲル中の溶媒および触媒をデカンテーションした。同様のデカンテーション処理を３回行うことにより、溶媒置換し、混合液Ｄを得た。次いで、混合液Ｄ中のゲル状ケイ素化合物を粉砕処理（高圧メディアレス粉砕）した。粉砕処理（高圧メディアレス粉砕）は、ホモジナイザー（エスエムテー社製、商品名「ＵＨ－５０」）を使用し、５ｃｃのスクリュー瓶に、混合液Ｄ中のゲル状化合物１．８５ｇおよびＩＰＡを１．１５ｇ秤量した後、５０Ｗ、２０ｋＨｚの条件で２分間の粉砕で行った。
この粉砕処理によって、上記混合液Ｄ中のゲル状ケイ素化合物が粉砕されたことにより、混合液Ｄは、粉砕物のゾル液Ｅとなった。ゾル液Ｅに含まれる粉砕物の粒度バラツキを示す体積平均粒子径を、動的光散乱式ナノトラック粒度分析計（日機装社製、ＵＰＡ－ＥＸ１５０型）にて確認したところ、０．５０～０．７０μｍであった。さらに、０．７５ｇのゾル液Ｅに対し、光塩基発生剤（和光純薬工業株式会社、商品名：ＷＰＢＧ２６６）の１．５重量％濃度ＭＥＫ（メチルエチルケトン）溶液を０．０１５ｇ、ビス架橋促進剤（（トリメトキシシリル）ヘキサン）の５％濃度ＭＥＫ溶液を０．００５ｇの比率で添加し、低屈折率層形成用塗工液１を得た。この塗工液を用いて形成される低屈折率層の屈折率は１．１６であった。
【0069】
［製造例２］低屈折率層形成用塗工液の調製
０．７５ｇのゾル液Ｅに対し、塩基発生剤（和光純薬工業株式会社、商品名：ＷＰＢＧ２６６）の１．５重量％濃度ＭＥＫ（メチルエチルケトン）溶液を０．０６０ｇ、ビス架橋促進剤（（トリメトキシシリル）ヘキサン）の５％濃度ＭＥＫ溶液を０．０１８ｇの比率で添加したこと以外は製造例１と同様にして、低屈折率層形成用塗工液２を得た。この塗工液を用いて形成される低屈折率層の屈折率は１．１９であった。
０．７５ｇのゾル液Ｅに対し、塩基発生剤（和光純薬工業株式会社、商品名：ＷＰＢＧ２６６）の１．５重量％濃度ＭＥＫ（メチルエチルケトン）溶液を０．０６０ｇ、ビス架橋促進剤（（トリメトキシシリル）ヘキサン）の５％濃度ＭＥＫ溶液を０．０１８ｇの比率で添加したこと以外は製造例１と同様にして、低屈折率層形成用塗工液２を得た。この塗工液を用いて形成される低屈折率層の屈折率は１．１９であった。
【0070】
［製造例３］低屈折率層形成用塗工液の調製
０．７５ｇのゾル液Ｅに対し、塩基発生剤（和光純薬工業株式会社、商品名：ＷＰＢＧ２６６）の１．５重量％濃度ＭＥＫ（メチルエチルケトン）溶液を０．１８０ｇ、ビス架橋促進剤（（トリメトキシシリル）ヘキサン）の５％濃度ＭＥＫ溶液を０．０５４ｇの比率で添加したこと以外は製造例１と同様にして、低屈折率層形成用塗工液３を得た。この塗工液を用いて形成される低屈折率層の屈折率は１．２５であった。
０．７５ｇのゾル液Ｅに対し、塩基発生剤（和光純薬工業株式会社、商品名：ＷＰＢＧ２６６）の１．５重量％濃度ＭＥＫ（メチルエチルケトン）溶液を０．１８０ｇ、ビス架橋促進剤（（トリメトキシシリル）ヘキサン）の５％濃度ＭＥＫ溶液を０．０５４ｇの比率で添加したこと以外は製造例１と同様にして、低屈折率層形成用塗工液３を得た。この塗工液を用いて形成される低屈折率層の屈折率は１．２５であった。
【0071】
［製造例４］高屈折率層形成用塗工液の調製
ポリビニルアルコール（日本酢ビ・ポバール社製、製品名「ＪＣ－２５」）の６．０％水溶液を調製した。この水溶液１００部（固形分）に対して、酸化チタンゾル（多木化学社製、製品名「Ｍ－６」：酸化チタンの平均粒子径５ｎｍ）７２部（固形分）を添加し、高屈折率層形成用塗工液Ａを得た。この塗工液を用いて形成される高屈折率層の屈折率は１．６５であった。
ポリビニルアルコール（日本酢ビ・ポバール社製、製品名「ＪＣ－２５」）の６．０％水溶液を調製した。この水溶液１００部（固形分）に対して、酸化チタンゾル（多木化学社製、製品名「Ｍ－６」：酸化チタンの平均粒子径５ｎｍ）７２部（固形分）を添加し、高屈折率層形成用塗工液Ａを得た。この塗工液を用いて形成される高屈折率層の屈折率は１．６５であった。
【0072】
［製造例５］高屈折率層形成用塗工液の調製
ＰＶＡ水溶液１００部（固形分）に対して酸化チタンゾル１３０部（固形分）を添加したこと以外は製造例４と同様にして、高屈折率層形成用塗工液Ｂを得た。この塗工液を用いて形成される高屈折率層の屈折率は１．７０であった。
ＰＶＡ水溶液１００部（固形分）に対して酸化チタンゾル１３０部（固形分）を添加したこと以外は製造例４と同様にして、高屈折率層形成用塗工液Ｂを得た。この塗工液を用いて形成される高屈折率層の屈折率は１．７０であった。
【0073】
［製造例６］高屈折率層形成用塗工液の調製
ＰＶＡ水溶液１００部（固形分）に対して酸化チタンゾル２４０部（固形分）を添加したこと以外は製造例４と同様にして、高屈折率層形成用塗工液Ｃを得た。この塗工液を用いて形成される高屈折率層の屈折率は１．７５であった。
ＰＶＡ水溶液１００部（固形分）に対して酸化チタンゾル２４０部（固形分）を添加したこと以外は製造例４と同様にして、高屈折率層形成用塗工液Ｃを得た。この塗工液を用いて形成される高屈折率層の屈折率は１．７５であった。
【0074】
［実施例１］
加飾層として、一方の面に凹凸構造を有するアクリルフィルムを用いた。アクリルフィルムの凹凸表面に、製造例１で調製した低屈折率層形成用塗工液１を塗工した。塗工膜を、温度１００℃で１分処理して乾燥し、アクリルフィルムの凹凸表面上に低屈折率層（厚み３．０μｍ）を形成した。低屈折率層の屈折率は上記のとおり１．１６であった。次に、低屈折率層表面に製造例５で調製した高屈折率層形成用塗工液Ｂを塗工した。塗工膜を、温度１００℃で３分処理して乾燥し、低屈折率層上に高屈折率層（厚み４．５μｍ）を形成した。高屈折率層の屈折率は上記のとおり１．７０であった。このようにして、加飾層／低屈折率層／高屈折率層の構成を有する積層フィルムを得た。得られた積層フィルムを、上記の「反射率」および「色相変化」の評価に供した。結果を表１に示す。
加飾層として、一方の面に凹凸構造を有するアクリルフィルムを用いた。アクリルフィルムの凹凸表面に、製造例１で調製した低屈折率層形成用塗工液１を塗工した。塗工膜を、温度１００℃で１分処理して乾燥し、アクリルフィルムの凹凸表面上に低屈折率層（厚み３．０μｍ）を形成した。低屈折率層の屈折率は上記のとおり１．１６であった。次に、低屈折率層表面に製造例５で調製した高屈折率層形成用塗工液Ｂを塗工した。塗工膜を、温度１００℃で３分処理して乾燥し、低屈折率層上に高屈折率層（厚み４．５μｍ）を形成した。高屈折率層の屈折率は上記のとおり１．７０であった。このようにして、加飾層／低屈折率層／高屈折率層の構成を有する積層フィルムを得た。得られた積層フィルムを、上記の「反射率」および「色相変化」の評価に供した。結果を表１に示す。
【0075】
［実施例２～８］
低屈折率層形成用塗工液および高屈折率層形成用塗工液の種類および塗工厚みをそれぞれ変更し、表１に示す屈折率および厚みをそれぞれ有する低屈折率層および高屈折率層を形成したこと以外は実施例１と同様にして、積層フィルムを得た。得られた積層フィルムを、実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。
低屈折率層形成用塗工液および高屈折率層形成用塗工液の種類および塗工厚みをそれぞれ変更し、表１に示す屈折率および厚みをそれぞれ有する低屈折率層および高屈折率層を形成したこと以外は実施例１と同様にして、積層フィルムを得た。得られた積層フィルムを、実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。
【0076】
［比較例１］
実施例１で用いたアクリルフィルムをそのまま、実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。
実施例１で用いたアクリルフィルムをそのまま、実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。
【0077】
［比較例２］
高屈折率層を形成しなかったこと以外は実施例２と同様にして、加飾層／低屈折率層の構成を有する積層フィルムを得た。得られた積層フィルムを、実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。
高屈折率層を形成しなかったこと以外は実施例２と同様にして、加飾層／低屈折率層の構成を有する積層フィルムを得た。得られた積層フィルムを、実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。
【0078】
【表1】
【0079】
表１から明らかなように、本発明の実施例によれば、反射率が高く、かつ、色相変化が抑制された積層フィルムが得られることがわかる。このような積層フィルムは、輝度が高く、かつ、色ムラが抑制されたデザインを実現し得る。
【産業上の利用可能性】
【0080】
本発明の実施形態による積層フィルムは、加飾フィルムとして好適に用いられ得、特に、画像表示装置の裏面（画像表示に関与しない面）に適用される加飾フィルムとして好適に用いられ得る。
【符号の説明】
【0081】
１０ 加飾層
１０ａ 第１主面
１０ｂ 第２主面
２０ 低屈折率層
３０ 高屈折率層
１００ 積層フィルム
１２０ 粘着剤層
２００ 画像表示装置
１０ａ 第１主面
１０ｂ 第２主面
２０ 低屈折率層
３０ 高屈折率層
１００ 積層フィルム
１２０ 粘着剤層
２００ 画像表示装置
【図1】
【図2】
【図3】