特開 2024-177351 水素供給システム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024177351

(43)【公開日】2024-12-19

(54)【発明の名称】水素供給システム

(51)【国際特許分類】

   C01B 3/26 20060101AFI20241212BHJP

   C01B 3/56 20060101ALI20241212BHJP

   B01D 53/22 20060101ALI20241212BHJP

【ＦＩ】

C01B3/26

C01B3/56 Z

B01D53/22

【審査請求】有

【請求項の数】2

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2024173804

(22)【出願日】2024-10-02

(62)【分割の表示】P 2020057610の分割

【原出願日】2020-03-27

(71)【出願人】

【識別番号】000004444

【氏名又は名称】ＥＮＥＯＳ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100088155

【弁理士】

【氏名又は名称】長谷川 芳樹

(74)【代理人】

【識別番号】100113435

【弁理士】

【氏名又は名称】黒木 義樹

(74)【代理人】

【識別番号】100128381

【弁理士】

【氏名又は名称】清水 義憲

(74)【代理人】

【識別番号】100169454

【弁理士】

【氏名又は名称】平野 裕之

(74)【代理人】

【識別番号】100162640

【弁理士】

【氏名又は名称】柳 康樹

(72)【発明者】

【氏名】清家 匡

(72)【発明者】

【氏名】壱岐 英

(72)【発明者】

【氏名】前田 征児

(57)【要約】

【課題】水素精製部の精製負荷を低減できる水素供給システムを提供する。
【解決手段】水素供給システム１００は、原料の流れにおいて、脱水素反応部３の上流側で、原料に含まれる無機ガスを除去する脱気部２０を備える。この場合、脱水素反応部３は、脱気部２０によって無機ガスが除去された状態の原料を脱水素反応させることができる。これにより、水素含有ガスに無機ガスの成分が含まれることによる水素精製部８の精製負荷を低減することができる。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

水素の供給を行う水素供給システムであって、
水素化物を含む原料を脱水素反応させることによって水素含有ガスを得る脱水素反応部と、
前記脱水素反応部で得られた前記水素含有ガスから脱水素生成物を除去し、高純度水素を含む精製ガスを得る水素精製部と、
前記原料の流れにおいて、前記脱水素反応部の上流側で、前記原料に含まれる無機ガスを除去する脱気部と、を備える、水素供給システム。

【請求項2】

前記脱気部は、脱気膜分離器によって構成される、請求項１に記載の水素供給システム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、水素の供給を行う水素供給システムに関する。

【背景技術】

【0002】

従来の水素供給システムとして、例えば特許文献１に挙げるものが知られている。特許文献１の水素供給システムは、原料の芳香族炭化水素の水素化物を貯蔵するタンクと、当該タンクから供給された原料を脱水素反応させることによって水素を得る脱水素反応部と、脱水素反応部で得られた水素を気液分離する気液分離部と、気液分離された水素を精製する水素精製部と、を備える。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００６－２３２６０７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

上述したような水素供給システムにおいて、原料には、酸素や窒素などの無機ガスが含まれる場合がある。このような無機ガスの成分は、脱水素後の水素含有ガスにも含まれる。従って、水素精製部は、水素含有ガスから当該無機ガスも除去する必要がある。また、無機ガスのうち、酸素は、脱水素反応中に水を生成するため、水素含有ガスの露点を上昇させる。この場合、水素精製部にとって精製負荷が高くなってしまう。以上より、水素精製部の精製負荷が高くなってしまうという問題がある。

【0005】

本発明は、上記課題の解決のためになされたものであり、水素精製部の精製負荷を低減できる水素供給システムを提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

上記課題の解決のため、本発明に係る水素供給システムは、水素の供給を行う水素供給システムであって、水素化物を含む原料を脱水素反応させることによって水素含有ガスを得る脱水素反応部と、脱水素反応部で得られた水素含有ガスから脱水素生成物を除去し、高純度水素を含む精製ガスを得る水素精製部と、原料の流れにおいて、脱水素反応部の上流側で、原料に含まれる無機ガスを除去する脱気部と、を備える。

【0007】

水素供給システムにおいて、脱水素反応部は、原料を脱水素反応させることによって水素含有ガスを得る。また、水素精製部は、脱水素反応部で得られた水素含有ガスから脱水素生成物を除去し、高純度水素を含む精製ガスを得る。従って、水素精製部の精製負荷は、脱水素反応部からの水素含有ガスに含まれる成分によって影響を受け得る。これに対し、水素供給システムは、原料の流れにおいて、脱水素反応部の上流側で、原料に含まれる無機ガスを除去する脱気部を備える。この場合、脱水素反応部は、脱気部によって無機ガスが除去された状態の原料を脱水素反応させることができる。これにより、水素含有ガスに無機ガスの成分が含まれることによる水素精製部の精製負荷を低減することができる。以上より、水素精製部の精製負荷を低減できる。

【0008】

この水素供給システムにおいて、脱気部は、脱気膜分離器によって構成されてよい。これにより、脱気部は、原料から効率よく無機ガスを除去することができる。

【発明の効果】

【0009】

本発明によれば、水素精製部の精製負荷を低減できる水素供給システムを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】本発明の実施形態に係る水素供給システムの構成を示すブロック図である。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下、図面を参照しながら、本発明に係る水素供給システムの好適な実施形態について詳細に説明する。以下の説明において、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。

【0012】

図１は、本発明の実施形態に係る水素供給システムの構成を示すブロック図である。水素供給システム１００は、有機化合物（常温で液体）を原料とするものである。なお、水素精製の過程では、原料である有機化合物（常温で液体）を脱水素した、脱水素生成物（有機化合物（常温で液体））が除去される。原料の有機化合物として、例えば、有機ハイドライドが挙げられる。有機ハイドライドは、製油所で大量に生産されている水素を芳香族炭化水素と反応させた水素化物が好適な例である。また、有機ハイドライドは、芳香族の水素化化合物に限らず、２－プロパノール（水素とアセトンが生成される）の系もある。有機ハイドライドは、ガソリンなどと同様に液体燃料としてタンクローリーなどによって水素供給システム１００へ輸送することができる。本実施形態では有機ハイドライドとして、メチルシクロヘキサン（以下、ＭＣＨと称する）を用いる。その他、有機ハイドライドとしてシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、デカリン、メチルデカリン、ジメチルデカリン、エチルデカリンなど芳香物炭化水素の水素化物を適用することができる（なお、芳香族化合物は特に水素含有量の多い好適な例である）。水素供給システム１００は、燃料電池自動車（ＦＣＶ）や水素エンジン車に水素を供給することができる。なお、メタンを主成分とした天然ガスやプロパンを主成分としたＬＰＧ、あるいはガソリン、ナフサ、灯油、軽油といった液体炭化水素原料から水素を製造する場合にも適用可能である。

【0013】

図１に示すように、本実施形態に係る水素供給システム１００は、液体移送ポンプ１、熱交換部２、脱水素反応部３、加熱部４、気液分離部６、圧縮部７、及び水素精製部８を備えている。このうち、液体移送ポンプ１、熱交換部２、及び脱水素反応部３は、水素含有ガスを製造する水素製造部１０に属する。また、気液分離部６、圧縮部７、及び水素精製部８は、水素の純度を高める水素純度調整部１１に属する。また、水素供給システム１００は、ラインＬ１～Ｌ１２を備えている。なお、本実施形態では、原料としてＭＣＨを採用し、水素精製の過程で除去される脱水素生成物がトルエンである場合を例として説明する。なお、実際には、トルエンのみならず、未反応のＭＣＨと少量の副生成物及び不純物も存在するが、本実施形態中では、トルエンに混じって当該トルエンと同じ挙動を示す。従って、以下の説明において、「トルエン」と称して説明するものには、未反応のＭＣＨや副生成物も含むものとする。

【0014】

ラインＬ１～Ｌ１２は、ＭＣＨ、トルエン、水素含有ガス、オフガス、高純度水素、または加熱媒体が通過する流路である。ラインＬ１は、液体移送ポンプ１が図示されないＭＣＨタンクからＭＣＨをくみ上げるためのラインであり、液体移送ポンプ１とＭＣＨタンクを接続する。ラインＬ２は、液体移送ポンプ１と脱水素反応部３とを接続する。ラインＬ３は、脱水素反応部３と気液分離部６とを接続する。ラインＬ４は、気液分離部６と図示されないトルエンタンクとを接続する。ラインＬ５は、気液分離部６と圧縮部７とを接続する。ラインＬ６は、圧縮部７と水素精製部８とを接続する。ラインＬ７は、水素精製部８とオフガスの供給先とを接続する。ラインＬ８は、水素精製部８と図示されない精製ガスの供給装置とを接続する。ラインＬ１１，Ｌ１２は、加熱部４と脱水素反応部３とを接続する。ラインＬ１１，Ｌ１２は、熱媒体を流通させる。

【0015】

液体移送ポンプ１は、原料となるＭＣＨを脱水素反応部３へ供給する。なお、外部からタンクローリーなどで輸送されたＭＣＨは、ＭＣＨタンクにて貯留される。ＭＣＨタンクに貯留されているＭＣＨは、液体移送ポンプ１によってラインＬ１，Ｌ２を介して脱水素反応部３へ供給される。

【0016】

熱交換部２は、ラインＬ２を流通するＭＣＨとラインＬ３を流通する水素含有ガスとの間で熱交換を行う。脱水素反応部３から出てきた水素含有ガスの方がＭＣＨよりも高温である。従って、熱交換部２では、水素含有ガスの熱によってＭＣＨが加熱される。これにより、ＭＣＨは、温度が上昇した状態で脱水素反応部３へ供給される。なお、ＭＣＨは、ラインＬ７を介して水素精製部８から供給されたオフガスと合わせて、脱水素反応部３へ供給される。

【0017】

脱水素反応部３は、ＭＣＨを脱水素反応させることによって水素を得る機器である。すなわち、脱水素反応部３は、脱水素触媒を用いた脱水素反応によってＭＣＨから水素を取り出す機器である。脱水素触媒は、特に制限されないが、例えば、白金触媒、パラジウム触媒及びニッケル触媒から選ばれる。これら触媒は、アルミナ、シリカ及びチタニア等の担体上に担持されていてもよい。有機ハイドライドの反応は可逆反応であり、反応条件（温度、圧力）によって反応の方向が変わる（化学平衡の制約を受ける）。一方、脱水素反応は、常に吸熱反応で分子数が増える反応である。従って、高温、低圧の条件が有利である。脱水素反応は吸熱反応であるため、脱水素反応部３は加熱部４からラインＬ１１，Ｌ１２を循環する熱媒体を介して熱を供給される。脱水素反応部３は、脱水素触媒中を流れるＭＣＨと加熱部４からの熱媒体との間で熱交換可能な機構を有している。脱水素反応部３で取り出された水素含有ガスは、ラインＬ３を介して気液分離部６へ供給される。ラインＬ３の水素含有ガスは、液体であるトルエンを混合物として含んだ状態で、気液分離部６へ供給される。

【0018】

加熱部４は、熱媒体を加熱すると共に、当該熱媒体をラインＬ１１を介して脱水素反応部３へ供給する。加熱後の熱媒体は、ラインＬ１２を介して加熱部４に戻される。熱媒体は特に限定されないが、オイルなどが採用されてよい。なお、加熱部４は、脱水素反応部３を加熱することができるものであればどのようなものを採用してもよい。例えば、加熱部４は、脱水素反応部３を直接加熱するものであってもよく、例えばラインＬ２を加熱することによって脱水素反応部３に供給されるＭＣＨを加熱してもよい。また、加熱部４は、脱水素反応部３と、脱水素反応部３へ供給されるＭＣＨの両方を加熱してもよい。例えば、加熱部４としてバーナーやエンジンを採用することができる。

【0019】

気液分離部６は、水素含有ガスからトルエンを分離するタンクである。気液分離部６は、混合物としてトルエンを含む水素含有ガスを貯留することによって、気体である水素と液体であるトルエンとを気液分離する。また、気液分離部６に供給される水素含有ガスは、熱交換部２で冷却される。なお、気液分離部６は、冷熱源からの冷却媒体によって冷却されてよい。この場合、気液分離部６は、気液分離部６中の水素含有ガスと冷熱源からの冷却媒体との間で熱交換可能な機構を有している。気液分離部６で分離されたトルエンは、ラインＬ４を介して図示されないトルエンタンクへ供給される。気液分離部６で分離された水素含有ガスは、圧縮部７の圧力によりラインＬ５，Ｌ６を介して水素精製部８へ供給される。なお、水素含有ガスを冷やすと当該ガスの一部（トルエン）は液化し、気液分離部６によって、液化しないガス（水素）と分離することができる。ガスを低温とした方が、分離の効率は良くなり、圧力を上げると更に、トルエンの液化が進む。

【0020】

水素精製部８は、脱水素反応部３で得られると共に気液分離部６で気液分離された水素含有ガスから、脱水素生成物（本実施形態ではトルエン）を除去する。これによって、水素精製部８は、当該水素含有ガスを精製して高純度水素（精製ガス）を得る。得られた精製ガスは、ラインＬ８へ供給される。なお、水素精製部８で生じたオフガスは、ラインＬ７を介して脱水素反応部３へ供給される。

【0021】

水素精製部８は、採用する水素精製方法によって異なるが、具体的には、水素精製方法として膜分離を用いる場合には、水素分離膜を備える水素分離装置であり、ＰＳＡ（Ｐｒｅｓｓｕｒｅ ｓｗｉｎｇ ａｄｓｏｒｐｔｉｏｎ）法又はＴＳＡ（Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ ｓｗｉｎｇ ａｄｓｏｒｐｔｉｏｎ）法を用いる場合には、不純物を吸着する吸着材を格納する吸着塔を複数備えた吸着除去装置である。

【0022】

水素精製部８が膜分離を用いる場合について説明する。この方法では、所定温度に加熱された膜に、圧縮部（不図示）によって所定圧力に加圧された水素含有ガスを透過させることによって、脱水素生成物を除去し、高純度の水素ガス（精製ガス）を得ることができる。膜を透過した透過ガスの圧力は、膜を透過する前の圧力と比べて低下する。一方、膜を透過しなかった非透過ガスの圧力は、膜を透過する前の所定圧力と略同一である。このとき、膜を透過しなかった非透過ガスが、水素精製部８のオフガスに該当する。

【0023】

水素精製部８に適用される膜の種類は特に限定されず、多孔質膜（分子流によって分離するもの、表面拡散流によって分離するもの、毛管凝縮作用によって分離するもの、分子ふるい作用によって分離するものなど）や、非多孔質膜を適用することができる。水素精製部８に適用される膜として、例えば、金属膜（ＰｂＡｇ系、ＰｄＣｕ系、Ｎｂ系など）、ゼオライト膜、無機膜（シリカ膜、カーボン膜など）、高分子膜（ポリイミド膜など）を採用することができる。

【0024】

水素精製部８の除去方法として、ＰＳＡ法を採用する場合について説明する。ＰＳＡ法で用いられる吸着材は、高圧下では水素含有ガスに含まれるトルエンを吸着し、低圧下では吸着したトルエンを脱着する性質を持つ。ＰＳＡ法は、吸着材のこのような性質を利用するものである。すなわち、吸着塔内を高圧にすることにより、水素含有ガスに含まれるトルエンを吸着材に吸着させて除去し、高純度の水素ガス（精製ガス）を得る。吸着により吸着塔内の吸着材の吸着機能が低下した場合には、吸着塔内を低圧にすることにより、吸着材に吸着したトルエンを脱着し、併せて除去した精製ガスの一部を逆流させることにより当該脱着されたトルエンを吸着塔内から除去することで、吸着材の吸着機能を再生する（このとき、トルエンを吸着塔内から除去することで排出される少なくとも水素とトルエンを含む水素含有ガスが、水素精製部８からのオフガスに該当する）。

【0025】

水素精製部８の除去方法として、ＴＳＡ法を採用する場合について説明する。ＴＳＡ法で用いられる吸着材は、常温下では水素含有ガスに含まれるトルエンを吸着し、高温下では吸着したトルエンを脱着する性質を持つ。ＴＳＡ法は、吸着材のこのような性質を利用するものである。すなわち、吸着塔内を常温にすることにより、水素含有ガスに含まれるトルエンを吸着材に吸着させて除去し、高純度の水素ガス（高純度水素）を得る。吸着により吸着塔内の吸着材の吸着機能が低下した場合には、吸着塔内を高温にすることにより、吸着材に吸着したトルエンを脱着し、併せて除去した高純度水素の一部を逆流させることにより当該脱着されたトルエンを吸着塔内から除去することで、吸着材の吸着機能を再生する（このとき、トルエンを吸着塔内から除去することで排出される少なくとも水素とトルエンを含む水素含有ガスが、水素精製部８からのオフガスに該当する）。

【0026】

続いて、上述した水素供給システム１００の特徴的な部分について説明する。

【0027】

水素供給システム１００で用いられる原料には、無機ガスが溶存している場合がある。無機ガスとは、酸素、窒素などのガスである。これに対し、水素供給システム１００は、脱気部２０を備えている。脱気部２０は、原料の流れにおいて、脱水素反応部３の上流側で、原料に含まれる無機ガスを除去する。

【0028】

具体的に、脱気部２０は、液体移送ポンプ１と脱水素反応部３とを接続するラインＬ２上に設けられている。これにより、液体移送ポンプ１からの原料は、ラインＬ２ａを介して脱気部２０に供給される。原料に溶存する無機ガスの成分は、脱気部２０にて除去される。そして、無機ガスの成分が除去された原料は、ラインＬ２ｂを介して、脱水素反応部３へ供給される。なお、脱気部２０は、熱交換部２よりも下流側に設けられている。従って、ラインＬ２ｂに熱交換部２が設けられる。

【0029】

脱気部２０は、原料から無機ガスを除去できる機器によって構成される。具体的に、脱気部２０は、脱気膜分離器によって構成されてよい。脱気膜分離器は、脱気膜を用いることで、原料の脱気を行う機器である。脱気膜分離器は、原料を脱気膜に通過させることで、当該原料と無機ガスとを分離する。なお、脱気部２０は、除去した無機ガスを脱気部２０から外部へ排出する。そして、脱気部２０は、無機ガスを除去した原料を脱水素反応部３へ供給する。

【0030】

なお、脱気部２０を構成する機器は脱気膜分離器に限定されない。例えば、脱気部２０として液体サイクロン方式による溶存ガス分離、超音波ガス分離法などを用いた機器を採用してもよい。

【0031】

次に、本実施形態に係る水素供給システム１００の作用・効果について説明する。

【0032】

まず、比較例として、上述のような脱気部２０を有さない水素供給システムについて説明する。このような水素供給システムにおいて、原料には、酸素や窒素などの無機ガスが含まれる場合がある。このような無機ガスの成分は、脱水素後の水素含有ガスにも含まれる。従って、水素精製部８は、水素含有ガスから当該無機ガスも除去する必要がある。また、無機ガスのうち、酸素は、脱水素反応中に水を生成するため、水素含有ガスの露点を上昇させる。この場合、水素精製部８にとって精製負荷が高くなってしまう。以上より、水素精製部８の精製負荷が高くなってしまうという問題がある。

【0033】

これに対し、本実施形態に係る水素供給システム１００は、水素の供給を行う水素供給システム１００であって、水素化物を含む原料を脱水素反応させることによって水素含有ガスを得る脱水素反応部３と、脱水素反応部３で得られた水素含有ガスから脱水素生成物を除去し、高純度水素を含む精製ガスを得る水素精製部８と、原料の流れにおいて、脱水素反応部３の上流側で、原料に含まれる無機ガスを除去する脱気部２０と、を備える。

【0034】

水素供給システム１００において、脱水素反応部３は、原料を脱水素反応させることによって水素含有ガスを得る。また、水素精製部８は、脱水素反応部３で得られた水素含有ガスから脱水素生成物を除去し、高純度水素を含む精製ガスを得る。従って、水素精製部８の精製負荷は、脱水素反応部３からの水素含有ガスに含まれる成分によって影響を受け得る。これに対し、水素供給システム１００は、原料の流れにおいて、脱水素反応部３の上流側で、原料に含まれる無機ガスを除去する脱気部２０を備える。この場合、脱水素反応部３は、脱気部２０によって無機ガスが除去された状態の原料を脱水素反応させることができる。これにより、水素含有ガスに無機ガスの成分が含まれることによる水素精製部８の精製負荷を低減することができる。以上より、水素精製部８の精製負荷を低減できる。

【0035】

この水素供給システム１００において、脱気部２０は、脱気膜分離器によって構成されてよい。これにより、脱気部２０は、原料から効率よく無機ガスを除去することができる。

【0036】

本発明は、上記実施形態に限られるものではない。例えば上記実施形態では、水素供給システムとしてＦＶＣのための水素ステーションを例示したが、例えば家庭用電源や非常用電源などの分散電源のための水素供給システムであってもよい。

【符号の説明】

【0037】

３…脱水素反応部、８…水素精製部、２０…脱気部、１００…水素供給システム。

【図1】