特開 2024-178511 保持部材および静電チャック

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024178511

(43)【公開日】2024-12-25

(54)【発明の名称】保持部材および静電チャック

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/683 20060101AFI20241218BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 R

【審査請求】未請求

【請求項の数】8

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023096682

(22)【出願日】2023-06-13

(71)【出願人】

【識別番号】000004547

【氏名又は名称】日本特殊陶業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100160691

【弁理士】

【氏名又は名称】田邊 淳也

(74)【代理人】

【識別番号】100195659

【弁理士】

【氏名又は名称】木村 祐介

(72)【発明者】

【氏名】上松 秀樹

(72)【発明者】

【氏名】山口 貴司

(72)【発明者】

【氏名】松丸 郁子

【テーマコード（参考）】

5F131

【Ｆターム（参考）】

5F131AA02

5F131BA03

5F131BA04

5F131BA19

5F131CA12

5F131CA68

5F131EB14

5F131EB54

5F131EB78

5F131EB81

(57)【要約】

【課題】脱粒粒子による凸部やウエハからの更なる脱粒の発生を抑制することができる保持部材および静電チャックを提供する。
【解決手段】対象物を保持する保持部材であって、保持部材は、対象物を保持する側の面である保持面を有し、保持面には、凸部と、凹部と、が形成されており、凸部の頂部を画定している頂面には、溝部が形成されていることを特徴とする。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

対象物を保持する保持部材であって、
前記保持部材は、前記対象物を保持する側の面である保持面を有し、
前記保持面には、凸部と、凹部と、が形成されており、
前記凸部の頂部を画定している頂面には、溝部が形成されていることを特徴とする、保持部材。

【請求項2】

請求項１に記載の保持部材であって、
少なくとも１つ以上の前記溝部は、前記頂面の端まで伸びていることを特徴とする、保持部材。

【請求項3】

請求項１に記載の保持部材であって、
少なくとも１つ以上の前記溝部は、前記保持面の中心および前記頂面の中心を通る仮想直線に対して直交する方向に伸びた直線状に形成されていることを特徴とする、保持部材。

【請求項4】

請求項１に記載の保持部材であって、
前記保持面と向き合う側から前記保持面を見て、
一の前記凸部および一の前記凸部よりも前記保持面の中心側にある他の前記凸部が配置され、
一の前記凸部の前記頂面に占める前記溝部の合計面積の割合は、他の前記凸部の前記頂面に占める前記溝部の合計面積の割合よりも大きいことを特徴とする、保持部材。

【請求項5】

請求項１に記載の保持部材であって、
前記保持面と向き合う側から前記保持面を見て、前記保持面の中心および前記頂面の中心を通る仮想直線に対して直交する方向に伸びつつ前記頂面の中心を通る仮想垂線で少なくとも一部の前記凸部の前記頂面を２つの領域に分けたとき、前記保持面の中心から遠い側の領域に占める前記溝部の合計面積の割合は、前記保持面の中心に近い側の領域に占める前記溝部の合計面積の割合よりも大きいことを特徴とする、保持部材。

【請求項6】

請求項１に記載の保持部材であって、
少なくとも１つ以上の前記溝部においては、前記溝部の開口縁部の横断面形状がＣ面形状もしくはＲ面形状であることを特徴とする、保持部材。

【請求項7】

請求項１に記載の保持部材であって、
前記保持面と向き合う側から前記保持面を見て、少なくとも１つ以上の前記溝部は、前記保持面の外縁に向かって凸の円弧状に形成されていることを特徴とする、保持部材。

【請求項8】

静電チャックであって、
請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の保持部材と、
前記保持面に静電引力を発生させる静電電極と、を備えることを特徴とする、静電チャック。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、保持部材および静電チャックに関する。

【背景技術】

【0002】

静電引力により対象物であるウエハを保持する保持部材を備えた静電チャックが知られている。特許文献１～３には、保持部材のうち対象物を保持する側の保持面に、ウエハが載置される凸部が形成された静電チャックが開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特許第３７８４２７４号公報

【特許文献2】特許第４４１７１９７号公報

【特許文献3】特開２００２－２２２８５１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

凸部とウエハとの接触によって凸部もしくはウエハから脱粒が発生することがある。このように発生した脱粒粒子は、凸部とウエハとの間に挟まって応力を集中させることにより、凸部やウエハからの更なる脱粒を促進させる虞がある。この点について、特許文献１～３に開示された静電チャックにおいては、何ら考慮されていない。このため、脱粒粒子による凸部やウエハからの更なる脱粒の発生を抑制できる技術が要望されていた。

【0005】

本発明は、上述した課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、脱粒粒子による凸部やウエハからの更なる脱粒の発生を抑制することができる保持部材および静電チャックを提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態として実現できる。
（１）本発明の一形態によれば、保持部材が提供される。この保持部材は、対象物を保持する保持部材であって、前記保持部材は、前記対象物を保持する側の面である保持面を有し、前記保持面には、凸部と、凹部と、が形成されており、前記凸部の頂部を画定している頂面には、溝部が形成されていることを特徴とする。

【0007】

この構成によれば、凸部の頂部を画定している頂面には、溝部が形成されている。このため、互いに異なる熱膨張率で保持部材およびウエハが熱膨張する際に、凸部の頂面上を転動する脱粒粒子を溝部に落下させることができる。したがって、凸部とウエハとの間を転動する脱粒粒子を除去できることから、脱粒粒子による凸部やウエハからの更なる脱粒の発生を抑制することができる。その結果、保持部材の耐久性を向上することができる。

【0008】

（２）上記形態の保持部材において、少なくとも１つ以上の前記溝部は、前記頂面の端まで伸びていてもよい。
この構成によれば、溝部に落とされた脱粒粒子を頂面の端から排出することができる。したがって、脱粒粒子の堆積により溝部が埋まるのを抑制することができる。

【0009】

（３）上記形態の保持部材において、少なくとも１つ以上の前記溝部は、前記保持面の中心および前記頂面の中心を通る仮想直線に対して直交する方向に伸びた直線状に形成されていてもよい。
頂面は概ね仮想直線に沿った方向に熱膨張するため、脱粒粒子が頂面上を転動する方向も概ね仮想直線に沿う。この構成によれば、脱粒粒子を溝部に落下させる可能性を高めることができる。

【0010】

（４）上記形態の保持部材において、前記保持面と向き合う側から前記保持面を見て、一の前記凸部および一の前記凸部よりも前記保持面の中心側にある他の前記凸部が配置され、一の前記凸部の前記頂面に占める前記溝部の合計面積の割合は、他の前記凸部の前記頂面に占める前記溝部の合計面積の割合よりも大きくてもよい。
保持面と向き合う側から見て保持面のうち中心から離れている位置ほど、保持部材およびウエハが互いに異なる熱膨張率で熱膨張した際の膨張度合の差は必然的に大きくなる。すなわち、保持面の中心から離れている位置にある凸部ほど凸部とウエハとの接触部分での擦れ量が増大することから、多くの脱粒粒子が発生しやすくなる。この構成によれば、他の凸部よりも一の凸部の方がその頂面に占める溝部の合計面積の割合が大きいことから、他の凸部および一の凸部の各々において脱粒粒子の発生量に応じた適切な割合の溝部を頂面に配置することができる。

【0011】

（５）上記形態の保持部材において、前記保持面と向き合う側から前記保持面を見て、前記保持面の中心および前記頂面の中心を通る仮想直線に対して直交する方向に伸びつつ前記頂面の中心を通る仮想垂線で少なくとも一部の前記凸部の前記頂面を２つの領域に分けたとき、前記保持面の中心から遠い側の領域に占める前記溝部の合計面積の割合は、前記保持面の中心に近い側の領域に占める前記溝部の合計面積の割合よりも大きくてもよい。
保持面と向き合う側から保持面を見て凸部の頂面のうち保持面の中心から離れている領域ほど、保持部材およびウエハが互いに異なる熱膨張率で熱膨張した際の膨張度合の差は必然的に大きくなる。すなわち、頂面のうち保持面の中心から離れている領域ほど凸部とウエハとの接触部分での擦れ量が増大することから、多くの脱粒粒子が発生しやすくなる。この構成によれば、保持面の中心に近い側の領域よりも保持面の中心から遠い側の領域の方がその領域に占める溝部の合計面積の割合が大きくなっていることから、各々の領域において想定される脱粒粒子の発生量に応じた適切な割合の溝部を配置することができる。

【0012】

（６）上記形態の保持部材において、少なくとも１つ以上の前記溝部においては、前記溝部の開口縁部の横断面形状がＣ面形状もしくはＲ面形状であってもよい。
この構成によれば、溝部の開口縁部におけるチッピングの発生を抑制することができる。したがって、開口縁部からのパーティクルの発生を抑制することができる。

【0013】

（７）上記形態の保持部材において、前記保持面と向き合う側から前記保持面を見て、少なくとも１つ以上の前記溝部は、前記保持面の外縁に向かって凸の円弧状に形成されていてもよい。
保持面は中心から放射状に熱膨張するため、脱粒粒子が頂面上を転動する方向も概ね放射状であることから、この構成によれば、脱粒粒子を溝部に落下させる可能性を高めることができる。

【0014】

（８）本発明の別の一形態によれば、静電チャックが提供される。この静電チャックは、上記形態に記載の保持部材と、前記保持面に静電引力を発生させる静電電極と、を備えることを特徴とする。
この構成によれば、静電電極に対して電力が供給されることによって、静電引力（吸着力）が発生し、この静電引力により対象物を保持面の側に保持することができる。また、凸部の頂面には溝部が形成されていることから、脱粒粒子による凸部やウエハからの更なる脱粒の発生を抑制することで保持部材の耐久性を向上させた静電チャックを提供することができる。

【0015】

なお、本発明は、種々の態様で実現することが可能であり、例えば、保持部材、静電チャック、真空チャック、セラミックスヒータ、半導体製造装置、およびこれらを備える部品、およびこれらの製造方法等の形態で実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【0016】

【図1】第１実施形態の保持部材を備えた静電チャックを示す説明図である。

【図2】保持面と向き合う側から見た保持面を示す説明図である。

【図3】凸部を拡大した説明図である。

【図4】溝部Ｇの横断面を示す説明図である。

【図5】第２実施形態の保持部材の保持面に形成された凸部を示す説明図である。

【図6】第３実施形態の保持部材の保持面に形成された凸部を示す説明図である。

【図7】第４実施形態の保持部材の保持面に形成された凸部の拡大図である。

【図8】第５実施形態の保持部材の保持面に形成された凸部を示す説明図である。

【図9】第６実施形態の保持部材の保持面に形成された凸部の拡大図である。

【図10】第７実施形態の保持部材の保持面に形成された凸部を示す説明図である。

【図11】第８実施形態の保持部材の保持面に形成された凸部の拡大図である。

【図12】変形例の溝部を示す説明図である。

【図13】変形例の溝部を示す説明図である。

【図14】変形例の溝部を示す説明図である。

【図15】変形例の溝部を示す説明図である。

【図16】変形例の溝部を示す説明図である。

【発明を実施するための形態】

【0017】

＜第１実施形態＞
図１は、第１実施形態の保持部材１０を備えた静電チャック１の断面構成を模式的に示す説明図である。図１には、相互に直交するＸＹＺ軸が図示されている。このＸＹＺ軸は、図２と共通する。静電チャック１は、対象物であるウエハＷを静電引力により吸着して保持する装置である。図１に示した矢印は、静電チャック１に対して、ウエハＷが吸着される方向を示している。静電チャック１は、例えば、半導体製造装置の真空チャンバー内でウエハＷを固定するために使用される。静電チャック１は、保持部材１０と、静電電極３０と、を備える。

【0018】

保持部材１０は、円盤状の部材であり、セラミックを主成分として形成されている。主成分とは、体積含有率の最も多い成分のことをいう。保持部材１０の構成材料としては、酸化アルミニウム（アルミナ）や窒化アルミニウム等が例示され、本実施形態では、アルミナである。保持部材１０は、保持面１０ｆと、裏面１０ｂと、を有する。保持面１０ｆは、ウエハＷを保持する側の円形状の面である。裏面１０ｂは、保持面１０ｆの反対側に位置する円形状の面である。保持面１０ｆには、環状凸部１２と、複数の凸部１４と、複数の凹部１６と、が形成されている。

【0019】

図２は、保持面１０ｆと向き合う側（＋Ｚ軸方向側）から見た保持面１０ｆを示す説明図である。環状凸部１２は、保持面１０ｆの外縁に沿って形成されている。凸部１４の各々は、環状凸部１２の内側に形成されている。凸部１４の各々は、保持面１０ｆの中心Ｏから規則的に配置されていることが一般的であり、例えば、図２に示すように、第１実施形態の保持部材１０では、凸部１４の各々は放射状に配置されている。凹部１６は、凸部１４の間に形成されている。換言すれば、凹部１６の形成位置は、環状凸部１２の内側において、凸部１４が形成されていない位置にあたる。

【0020】

図１に示すように、凸部１４は、側面Ｓと、頂面Ｔと、によって画定されている。側面Ｓは、凸部１４の側部を画定している面である。頂面Ｔは、凸部１４の頂部を画定している面である。

【0021】

保持部材１０の内側には、複数の貫通流路２２が形成されている。貫通流路２２の各々は、保持面１０ｆと裏面１０ｂとの間を貫通する流路であり、裏面１０ｂの側から供給されるヘリウムガス等の不活性ガスを保持面１０ｆの側に供給するための流路である。貫通流路２２は、保持面１０ｆの側において凹部１６に接続している。

【0022】

静電電極３０は、保持部材１０の内部に設けられた円盤状の部材であり、タングステンやモリブデン等の導電性材料によって形成されている。静電電極３０は、図示しない外部電源から電力が供給されることによって、保持面１０ｆに静電引力を発生させる。ウエハＷは、この静電引力で保持面１０ｆに向けて吸着されることによって、保持面１０ｆに保持される。

【0023】

保持面１０ｆに静電引力が発生している際、ウエハＷは、環状凸部１２や凸部１４と接触することによって、保持面１０ｆに保持される。このような環状凸部１２や凸部１４にウエハＷが載置された状態において、ウエハＷと保持面１０ｆとの間の熱伝導性を高めるために、ウエハＷと保持面１０ｆとの間に不活性ガスが供給される。詳細には、不活性ガスは、裏面１０ｂの側から貫通流路２２を経て、凹部１６から保持面１０ｆの側に供給される。保持面１０ｆの側に供給された不活性ガスは、ウエハＷと凹部１６との間の空間を流れて、その空間全体に拡散する。

【0024】

保持部材１０の内部には、静電電極３０の他に、タングステンやモリブデン等の導電性材料によって形成された複数のヒータ電極（不図示）が備えられている。ヒータ電極は、図示しない外部電源から供給される電力で発熱することによって、保持部材１０に保持されたウエハＷを温めることができる。このようなヒータ電極によるウエハＷの加熱は、ウエハＷの温度が所望の温度にならないとウエハＷに対する各処理（成膜、エッチング等）の精度が低下するおそれがあるため実行される。

【0025】

図３は、保持面１０ｆに形成された複数の凸部１４のうちの１つの凸部１４を拡大した説明図である。図３に示す凸部１４は、図２と同様、保持面１０ｆと向き合う側（＋Ｚ軸方向側）から見た凸部１４である。すなわち、図３には、頂面Ｔと向き合う側から見た凸部１４が示されている。頂面Ｔには、溝部Ｇ１～Ｇ５が形成されている。また、溝部Ｇ１～Ｇ５は、保持面１０ｆの中心Ｏ（図２参照）および頂面Ｔの中心ＴＯを通る仮想直線ＩＬに対して直交する方向に伸びた直線状に形成されている。さらに、溝部Ｇ１～Ｇ５は、頂面Ｔの端まで伸びている。本実施形態では、溝部Ｇ１～Ｇ５の各々の幅は同一であるとともに、溝部Ｇ１～Ｇ５の形成間隔（溝部Ｇ１～Ｇ５のうち隣り合う溝部間の距離）は略等間隔である。なお、これ以降、凸部１４の頂面Ｔに形成された溝部を総称して溝部Ｇとも呼ぶ。

【0026】

図４は、図３のＦ４―Ｆ４線における溝部Ｇの横断面を示した説明図である。溝部Ｇの横断面とは、溝部Ｇが伸びている方向に対して直交する断面のことである。図４に示された開口縁部ＥＧは、溝部Ｇの開口ＯＰの縁部である。図４に示すように、開口縁部ＥＧの横断面形状はＣ面形状である。溝部Ｇの幅ＷＤは、保持部材１０を構成するセラミックの結晶粒子径（シェラー径）の９０％以上の長さであることが好ましい。結晶粒子径は、Ｘ線回析ピークの半価幅からＳｃｈｅｒｒｅｒの式により求めるものとする。また、溝部Ｇの深さＤＰは、凸部１４の欠けや割れを抑制する観点から、保持部材１０を構成するセラミックの結晶粒子径（シェラー径）の９０％以上であって、且つ、凸部１４の高さ以下であることが好ましい。本実施形態では、すべての凸部１４の頂面Ｔに形成されたすべての溝部Ｇは、図３，４で説明したような溝部Ｇである。他の実施形態では、一部の凸部１４の頂面Ｔに形成されたすべての溝部Ｇは、図３，４で説明したような溝部Ｇであり、その他の凸部１４の頂面Ｔに形成された溝部Ｇには、図３，４で説明したような溝部Ｇの他にそれとは異なる溝部Ｇが含まれていてもよいし、図３，４で説明したような溝部Ｇとは異なる溝部Ｇのみが含まれていてもよい。

【0027】

凸部１４とウエハＷとの接触によって凸部１４もしくはウエハＷから脱粒が発生することがある。また、このような脱粒は、保持部材１０にウエハＷが保持されている状態において、ヒータ電極による加熱で保持部材１０およびウエハＷが互いに異なる熱膨張率で熱膨張することにより、凸部１４とウエハＷとの接触部分で擦れが生じることで発生することもある。保持部材１０の熱膨張とは、図２を用いて説明すると、ＸＹ平面において中心Ｏから放射状に広がる膨張のことである。ウエハＷの熱膨張も同様である。脱粒粒子は、凸部１４とウエハＷとの間に挟まって応力を集中させることにより、凸部１４やウエハＷからの更なる脱粒を促進させる虞がある。また、異なる熱膨張率での凸部１４およびウエハＷの熱膨張によって脱粒粒子が頂面Ｔ上を転動することによっても、同様に更なる脱粒を促進する虞がある。

【0028】

この点、第１実施形態の保持部材１０によれば、凸部１４の頂部を画定している頂面Ｔには、溝部Ｇが形成されている。このため、互いに異なる熱膨張率で保持部材１０およびウエハＷが熱膨張する際に、頂面Ｔ上を転動する脱粒粒子を溝部Ｇに落下させることができる。したがって、凸部１４とウエハＷとの間に挟まる脱粒粒子を除去できることから、脱粒粒子による凸部１４やウエハＷからの更なる脱粒の発生を抑制することができる。その結果、保持部材１０の耐久性を向上することができる。

【0029】

また、第１実施形態の保持部材１０によれば、図３に示すように、溝部Ｇは、仮想直線ＩＬに対して直交する方向に伸びた直線状に形成されている。頂面Ｔは概ね仮想直線ＩＬに沿った方向（厳密には保持面１０ｆの中心Ｏから放射状）に熱膨張するため、脱粒粒子が頂面Ｔ上を転動する方向も概ね仮想直線ＩＬに沿う。このため、そのような仮想直線ＩＬに対して直交する方向に伸びた直線状に溝部Ｇが形成されていることから、脱粒粒子を溝部Ｇに落下させる可能性を高めることができる。

【0030】

また、第１実施形態の保持部材１０によれば、図３に示すように、溝部Ｇは、頂面Ｔの端まで伸びている。このため、溝部Ｇに落とされた脱粒粒子を頂面Ｔの端から排出することができる。したがって、脱粒粒子の堆積により溝部Ｇが埋まるのを抑制することができる。

【0031】

また、第１実施形態の保持部材１０によれば、図４に示すように、開口縁部ＥＧの横断面形状はＣ面形状である。このため、開口縁部ＥＧにおけるチッピングの発生を抑制することができる。したがって、開口縁部ＥＧからのパーティクルの発生を抑制することができる。

【0032】

また、本実施形態の静電チャック１によれば、静電電極３０に対して電力が供給されることによって、静電引力（吸着力）が発生し、この静電引力によりウエハＷを保持面１０ｆの側に保持することができる。また、凸部１４の頂面Ｔには溝部Ｇが形成されていることから、脱粒粒子による凸部１４やウエハＷからの更なる脱粒の発生を抑制することで保持部材１０の耐久性を向上させた静電チャック１を提供することができる。

【0033】

＜第２実施形態＞
図５は、第２実施形態の保持部材の保持面１０ｆに形成された凸部１４のうち３つの凸部１４ａ１～１４ａ３を示した説明図である。第２実施形態の保持部材は、第１実施形態の保持部材１０と比べて、凸部１４の頂面Ｔに形成されている溝部Ｇの態様が異なる点を除いて、第１実施形態の保持部材１０と同じである。以降の第３～第８実施形態においても同様に、いずれの実施形態も、第１実施形態の保持部材１０と比べて、凸部１４の頂面Ｔに形成されている溝部Ｇの態様が異なる点を除いて、第１実施形態の保持部材１０と同じである。すなわち、いずれの実施形態も、第１実施形態の保持部材１０と同様に、静電チャックに備わっている構成であるものとする。図５に示す凸部１４ａ１～１４ａ３は、図３に示した凸部１４と同様に、保持面１０ｆと向き合う側（＋Ｚ軸方向側）から見た凸部１４ａ１～１４ａ３である。第２実施形態の保持部材の説明において、第１実施形態の保持部材１０と同一の構成には同一の符号を付し、先行する説明を参照する（以降の第３～第８実施形態においても同様とする）。保持面１０ｆと向き合う側から保持面１０ｆを見たとき、凸部１４ａ１～１４ａ３は、凸部１４ａ１、凸部１４ａ２、凸部１４ａ３の順で、保持面１０ｆの中心Ｏから近い位置に配置されている（凸部１４ａ１が保持面１０ｆの中心Ｏから最も近い位置に配置されている）。

【0034】

凸部１４ａ１の頂面Ｔａ１には、溝部Ｇａ１～Ｇａ５が形成されている。凸部１４ａ２の頂面Ｔａ２には、溝部Ｇａ６～Ｇａ１２が形成されている。凸部１４ａ３の頂面Ｔａ３には、溝部Ｇａ１３～Ｇａ２１が形成されている。溝部Ｇａ１～Ｇａ２１の各々の幅は同一であるが、溝部Ｇａ１～Ｇａ５の形成間隔と、溝部Ｇａ６～Ｇａ１２の形成間隔と、溝部Ｇａ１３～Ｇａ２１の形成間隔と、は異なる。詳細には、溝部Ｇａ６～Ｇａ１２の形成間隔は、溝部Ｇａ１～Ｇａ５の形成間隔より狭く、溝部Ｇａ１３～Ｇａ２１の形成間隔は、溝部Ｇａ６～Ｇａ１２の形成間隔より狭い。すなわち、保持面１０ｆと向き合う側から保持面１０ｆを見て、凸部１４ａ２の頂面Ｔａ２に占める溝部Ｇａ６～Ｇａ１２の合計面積の割合は、凸部１４ａ１の頂面Ｔａ１に占める溝部Ｇａ１～Ｇａ５の合計面積の割合より大きい。また、保持面１０ｆと向き合う側から保持面１０ｆを見て、凸部１４ａ３の頂面Ｔａ３に占める溝部Ｇａ１３～Ｇａ２１の合計面積の割合は、凸部１４ａ２の頂面Ｔａ２に占める溝部Ｇａ６～Ｇａ１２の合計面積の割合より大きい。このように本実施形態では、保持面１０ｆに形成されたすべての凸部１４において、保持面１０ｆの中心Ｏから離れた位置にある凸部１４ほど、その頂面Ｔに占める溝部Ｇの合計面積の割合が大きくなっている。換言すれば、保持面１０ｆと向き合う側から保持面１０ｆを見て、一の凸部１４よりも保持面１０ｆの中心側にある凸部１４を他の凸部１４としたとき、一の凸部１４の頂面Ｔに占める溝部Ｇの合計面積の割合は、他の凸部１４の頂面に占める溝部Ｇの合計面積の割合よりも大きくなっている。ここで、頂面Ｔに占める溝部Ｇの合計面積の割合とは、保持面１０ｆと向き合う側から保持面１０ｆを見たときの、頂面Ｔ（溝部Ｇが形成された領域と溝部Ｇが形成されていない領域とのいずれも含んだ全領域）の面積に対する溝部Ｇが形成された領域の合計面積の割合のことである。図５で言えば、頂面Ｔを表した円形の面積に対する溝部Ｇを表した直線状部分の合計面積の割合のことである。なお、ウエハＷと接触する頂面Ｔの領域（溝部Ｇが形成されていない領域）を確保する観点から、頂面Ｔに占める溝部Ｇの合計面積は、保持面１０ｆと向き合う側から保持面１０ｆを見た頂面Ｔの面積の半分以下であるのが好ましい。

【0035】

保持面１０ｆと向き合う側から見て（図２の視野において）保持面１０ｆのうち中心Ｏから離れている位置ほど、保持部材１０およびウエハＷが互いに異なる熱膨張率で熱膨張した際の膨張度合の差は必然的に大きくなる。すなわち、保持面１０ｆの中心から離れている位置にある凸部１４ほど凸部１４とウエハＷとの接触部分での擦れ量が増大することから、多くの脱粒粒子が発生しやすくなる。この点、第２実施形態の保持部材によれば、他の凸部１４（一の凸部１４よりも保持面１０ｆの中心側にある凸部１４）よりも一の凸部１４の方がその頂面Ｔに占める溝部Ｇの面積の割合が大きいことから、他の凸部１４および一の凸部１４の各々において想定される脱粒粒子の発生量に応じた適切な割合の溝部Ｇを頂面Ｔに配置することができる。

【0036】

＜第３実施形態＞
図６は、第３実施形態の保持部材の保持面１０ｆに形成された凸部１４のうち３つの凸部１４ｂ１～１４ｂ３を示した説明図である。保持面１０ｆと向き合う側から保持面１０ｆを見たとき、凸部１４ｂ１～１４ｂ３は、図５に示した凸部１４ａ１～１４ａ３と同様に、凸部１４ｂ１、凸部１４ｂ２、凸部１４ｂ３の順で、保持面１０ｆの中心Ｏから近い位置に配置されている（凸部１４ｂ１が保持面１０ｆの中心Ｏから最も近い位置に配置されている）。

【0037】

凸部１４ｂ１の頂面Ｔｂ１には、溝部Ｇｂ１～Ｇｂ５が形成されている。凸部１４ｂ２の頂面Ｔｂ２には、溝部Ｇｂ６～Ｇｂ１０が形成されている。凸部１４ｂ３の頂面Ｔｂ３には、溝部Ｇｂ１１～Ｇｂ１５が形成されている。溝部Ｇｂ１～Ｇｂ５の各々の幅は同一であり、溝部Ｇｂ６～Ｇｂ１０の各々の幅は同一であり、溝部Ｇｂ１１～Ｇｂ１５の各々の幅は同一である。一方、溝部Ｇｂ１～Ｇ５の各々の幅と、溝部Ｇｂ６～Ｇｂ１０の各々の幅と、溝部Ｇｂ１１～Ｇｂ１５の各々の幅と、は異なる。詳細には、溝部Ｇｂ６～Ｇｂ１０の各々の幅は、溝部Ｇｂ１～Ｇｂ５の各々の幅より広く、溝部Ｇｂ１１～Ｇｂ１５の各々の幅は、溝部Ｇｂ６～Ｇｂ１０の各々の幅より広い。すなわち、保持面１０ｆと向き合う側から保持面１０ｆを見て、凸部１４ｂ２の頂面Ｔｂ２に占める溝部Ｇｂ６～Ｇｂ１０の合計面積の割合は、凸部１４ｂ１の頂面Ｔｂ１に占める溝部Ｇｂ１～Ｇｂ５の合計面積の割合より大きい。また、保持面１０ｆと向き合う側から保持面１０ｆを見て、凸部１４ｂ３の頂面Ｔｂ３に占める溝部Ｇｂ１１～Ｇｂ１５の合計面積の割合は、凸部１４ｂ２の頂面Ｔｂ２に占める溝部Ｇｂ６～Ｇｂ１０の合計面積の割合より大きい。このように本実施形態では、保持面１０ｆに形成されたすべての凸部１４において、保持面１０ｆの中心Ｏから離れた位置にある凸部１４ほど、その頂面Ｔに占める溝部Ｇの合計面積の割合が大きくなっている。このような第３実施形態の保持部材によれば、第２実施形態の保持部材と同様に、保持面１０ｆの中心Ｏからの距離に応じて、凸部１４の各々で想定される脱粒粒子の発生量に応じた適切な割合の溝部Ｇを頂面Ｔに配置することができる。

【0038】

＜第４実施形態＞
図７は、第４実施形態の保持部材の保持面１０ｆに形成された複数の凸部１４のうちの１つの凸部１４ｃを拡大した説明図である。図７に示す凸部１４ｃは、保持面１０ｆと向き合う側から見た凸部１４ｃである。凸部１４ｃの頂面Ｔｃには、溝部Ｇｃ１～Ｇｃ５が形成されている。本実施形態では、溝部Ｇｃ１～Ｇｃ５の各々の幅は同一であるが、溝部Ｇｃ１，Ｇｃ２の形成間隔は、溝部Ｇｃ３～Ｇｃ５の形成間隔より広い。仮想垂線ＩＰは、保持面１０ｆと向き合う側から見て、保持面１０ｆの中心Ｏおよび頂面Ｔｃの中心ＴｃＯを通る仮想直線ＩＬに対して直交する方向に伸びつつ頂面Ｔｃの中心ＴｃＯを通る仮想の垂線である。この仮想垂線ＩＰで頂面Ｔｃを２つの領域に分けたとき、保持面１０ｆの中心Ｏから遠い側の領域Ｆに占める溝部Ｇの合計面積の割合は、保持面１０ｆの中心Ｏに近い側の領域Ｎに占める溝部Ｇの合計面積の割合よりも大きくなっている。図７で言えば、領域Ｆもしくは領域Ｎに占める溝部Ｇの合計面積の割合とは、領域Ｆもしくは領域Ｎを表した半円形の面積に対する溝部Ｇを表した直線状部分の合計面積の割合のことである。本実施形態では、保持面１０ｆに形成されたすべての凸部１４の頂面Ｔにおいて、領域Ｆに占める溝部Ｇの合計面積の割合が、領域Ｎに占める溝部Ｇの合計面積の割合よりも大きくなっている。他の実施形態では、保持面１０ｆに形成された一部の凸部１４の頂面Ｔにおいてのみ、同様の関係が成り立っていてもよい。

【0039】

保持面１０ｆと向き合う側から保持面１０ｆを見て凸部１４の頂面Ｔのうち保持面１０ｆの中心Ｏから離れている領域ほど、保持部材１０およびウエハＷが互いに異なる熱膨張率で熱膨張した際の膨張度合の差は必然的に大きくなる。すなわち、頂面Ｔのうち保持面１０ｆの中心Ｏから離れている領域ほど凸部１４とウエハＷとの接触部分での擦れ量が増大することから、多くの脱粒粒子が発生しやすくなる。この点、第４実施形態の保持部材によれば、領域Ｎよりも領域Ｆの方がその領域に占める溝部Ｇの合計面積の割合が大きくなっていることから、各々の領域において想定される脱粒粒子の発生量に応じた適切な割合の溝部Ｇを頂面Ｔに配置することができる。

【0040】

＜第５実施形態＞
図８は、第５実施形態の保持部材の保持面１０ｆに形成された凸部１４のうち３つの凸部１４ｄ１～１４ｄ３を示した説明図である。保持面１０ｆと向き合う側から保持面１０ｆを見たとき、凸部１４ｄ１～１４ｄ３は、凸部１４ｄ１、凸部１４ｄ２、凸部１４ｄ３の順で、保持面１０ｆの中心Ｏから近い位置に配置されている（凸部１４ｄ１が保持面１０ｆの中心Ｏから最も近い位置に配置されている）。

【0041】

凸部１４ｄ１の頂面Ｔｄ１には、溝部Ｇｄ１～Ｇｄ５が形成されている。凸部１４ｄ２の頂面Ｔｄ２には、溝部Ｇｄ６～Ｇｄ１１が形成されている。凸部１４ｄ３の頂面Ｔｄ３には、溝部Ｇｄ１２～Ｇｄ１８が形成されている。溝部Ｇｄ１～Ｇｄ１８の各々の幅は同一である。一方、溝部Ｇｄ１，Ｇｄ２の形成間隔は、溝部Ｇｄ３～Ｇｄ５の形成間隔より広く、溝部Ｇｄ６，Ｇｄ７の形成間隔は、溝部Ｇｄ８～Ｇｄ１１の形成間隔より広く、溝部Ｇｄ１２，Ｇｄ１３の形成間隔は、溝部Ｇｄ１４～Ｇｄ１８の形成間隔より広い。

【0042】

頂面Ｔｄ１～Ｔｄ３の各々は、図７と同様の仮想垂線ＩＰで２つの領域に分けたとき、各々の領域Ｎｄ１～Ｎｄ３（保持面１０ｆの中心Ｏに近い側の領域）よりも領域Ｆｄ１～Ｆｄ３（保持面１０ｆの中心Ｏから遠い側の領域）の方がその領域に占める溝部Ｇの合計面積の割合が大きくなっている。また、凸部１４ｄ３、凸部１４ｄ２、凸部１４ｄ１の順で、その頂面Ｔに占める溝部Ｇの合計面積の割合が大きくなっている（頂面Ｔに占める溝部Ｇの合計面積の割合は、凸部１４ｄ３が最も大きい）。本実施形態では、保持面１０ｆに形成されたすべての凸部１４において、凸部１４ｄ１～１４ｄ３を用いて説明した関係が成り立っている。このような第５実施形態の保持部材によれば、保持面１０ｆの中心Ｏからの距離に基づいて凸部１４の各々で想定される脱粒粒子の発生量および凸部１４内の各領域において想定される脱粒粒子の発生量のいずれにも応じて、適切な割合の溝部Ｇを頂面Ｔに配置することができる。

【0043】

＜第６実施形態＞
図９は、第６実施形態の保持部材の保持面１０ｆに形成された複数の凸部１４のうちの１つの凸部１４ｅを拡大した説明図である。図９に示す凸部１４ｅは、保持面１０ｆと向き合う側から見た凸部１４ｅである。凸部１４ｅの頂面Ｔｅには、溝部Ｇｅ１～Ｇｅ６が形成されている。溝部Ｇｅ１～Ｇｅ３の各々の幅は同一であり、溝部Ｇｅ４～Ｇｅ６の各々の幅は同一であるが、溝部Ｇｅ１～Ｇｅ３の各々の幅と溝部Ｇｅ４～Ｇｅ６の各々の幅とは異なる。

【0044】

頂面Ｔｅは、図７，８と同様の仮想垂線ＩＰで２つの領域に分けたとき、領域Ｎｅ（保持面１０ｆの中心Ｏに近い側の領域）よりも領域Ｆｅ（保持面１０ｆの中心Ｏから遠い側の領域）の方がその領域に占める溝部Ｇの面積の割合が大きくなっている。本実施形態では、保持面１０ｆに形成されたすべての凸部１４の頂面Ｔにおいて、領域Ｆｅに占める溝部Ｇの合計面積の割合が、領域Ｎｅに占める溝部Ｇの合計面積の割合よりも大きくなっている。他の実施形態では、保持面１０ｆに形成された一部の凸部１４の頂面Ｔにおいてのみ、同様の関係が成り立っていてもよい。このような第６実施形態の保持部材においても、各々の領域において想定される脱粒粒子の発生量に応じた適切な割合の溝部Ｇを頂面Ｔに配置することができる。

【0045】

＜第７実施形態＞
図１０は、第７実施形態の保持部材の保持面１０ｆに形成された凸部１４のうち３つの凸部１４ｆ１～１４ｆ３を示した説明図である。保持面１０ｆと向き合う側から保持面１０ｆを見たとき、凸部１４ｆ１～１４ｆ３は、凸部１４ｆ１、凸部１４ｆ２、凸部１４ｆ３の順で、保持面１０ｆの中心Ｏから近い位置に配置されている（凸部１４ｆ１が保持面１０ｆの中心Ｏから最も近い位置に配置されている）。

【0046】

凸部１４ｆ１の頂面Ｔｆ１には、溝部Ｇｆ１～Ｇｆ６が形成されている。凸部１４ｆ２の頂面Ｔｆ２には、溝部Ｇｆ７～Ｇｄ１２が形成されている。凸部１４ｆ３の頂面Ｔｆ３には、溝部Ｇｆ１３～Ｇｆ１８が形成されている。溝部Ｇｆ１～Ｇｆ３，Ｇｆ７～Ｇｆ９，Ｇｆ１３～Ｇｆ１５の各々の幅は同一である。また、溝部Ｇｆ４～Ｇｆ６の各々の幅は同一であり、溝部Ｇｆ１０～Ｇｆ１２の各々の幅は同一であり、溝部Ｇｆ１６～Ｇｆ１８の各々の幅は同一である。一方、溝部Ｇｆ１～Ｇｆ３の各々の幅と溝部Ｇｆ４～Ｇｆ６の各々の幅とは異なり、溝部Ｇｆ７～Ｇｆ９の各々の幅と溝部Ｇｆ１０～Ｇｆ１２の各々の幅とは異なり、溝部Ｇｆ１３～Ｇｆ１５の各々の幅と溝部Ｇｆ１６～Ｇｆ１８の各々の幅とは異なる。また、溝部Ｇｆ１６～Ｇｆ１８の各々の幅、溝部Ｇｆ１０～Ｇｆ１２の各々の幅、溝部Ｇｆ４～Ｇｆ６の各々の幅の順で、幅は大きくなっている（溝部Ｇｆ１６～Ｇｆ１８の各々の幅が最も大きい）。

【0047】

頂面Ｔｆ１～Ｔｆ３の各々は、図７～９と同様の仮想垂線ＩＰで２つの領域に分けたとき、各々の領域Ｎｆ１～Ｎｆ３（保持面１０ｆの中心Ｏに近い側の領域）よりも領域Ｆｆ１～Ｆｆ３（保持面１０ｆの中心Ｏから遠い側の領域）の方がその領域に占める溝部Ｇの面積の割合が大きくなっている。また、凸部１４ｆ３、凸部１４ｆ２、凸部１４ｆ１の順で、その頂面Ｔに占める溝部Ｇの合計面積の割合が大きくなっている（頂面Ｔに占める溝部Ｇの合計面積の割合は、凸部１４ｆ３が最も大きい）。本実施形態では、保持面１０ｆに形成されたすべての凸部１４において、凸部１４ｆ１～１４ｆ３を用いて説明した関係が成り立っている。このような第７実施形態の保持部材においても、保持面１０ｆの中心Ｏからの距離に基づいて凸部１４の各々で想定される脱粒粒子の発生量および凸部１４内の各領域において想定される脱粒粒子の発生量のいずれにも応じて、適切な割合の溝部Ｇを頂面Ｔに配置することができる。

【0048】

＜第８実施形態＞
図１１は、第８実施形態の保持部材の保持面１０ｆに形成された複数の凸部１４のうちの１つの凸部１４ｇを拡大した説明図である。図１１に示す凸部１４ｇは、保持面１０ｆと向き合う側から見た凸部１４ｇである。凸部１４ｇの頂面Ｔｇには、溝部Ｇｇ１～Ｇｇ５が形成されている。また、溝部Ｇｇ１～Ｇｇ５は、保持面１０ｆと向き合う側から保持面１０ｆを見て、保持面１０ｆの外縁に向かって凸の円弧状に形成されている（図２参照）。本実施形態では、すべての凸部１４の頂面Ｔに形成されたすべての溝部Ｇは、図１１で説明したような溝部Ｇである。他の実施形態では、一部の凸部１４の頂面Ｔに形成されたすべての溝部Ｇは、図１１で説明したような溝部Ｇであり、その他の凸部１４の頂面Ｔに形成された溝部Ｇには、図１１で説明したような溝部Ｇの他にそれとは異なる溝部Ｇが含まれていてもよいし、図１１で説明したような溝部Ｇとは異なる溝部Ｇのみが含まれていてもよい。

【0049】

保持面１０ｆは中心Ｏから放射状に熱膨張するため、脱粒粒子が頂面Ｔｇ上を転動する方向も概ね放射状である。このため、そのような放射状の方向に対して溝部Ｇｇ１～Ｇｇ５が凸の円弧状に形成されていることから、第８実施形態の保持部材によれば、脱粒粒子を溝部Ｇｇ１～Ｇｇ５に落下させる可能性を高めることができる。

【0050】

＜本実施形態の変形例＞
本発明は上記の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の態様において実施することが可能であり、例えば次のような変形も可能である。

【0051】

第１実施形態では、保持面１０ｆには、環状凸部１２と、複数の凸部１４と、複数の凹部１６と、が形成されていたが、これに限られない。例えば、保持面１０ｆには、環状凸部１２は形成されておらず、複数の凸部１４と、複数の凹部１６と、が形成されていてもよい。

【0052】

上記実施形態では、保持部材１０の内側には、複数の貫通流路２２が形成されていたが、これに限られない。例えば、保持部材１０の内側には、複数の貫通流路２２に加えて、保持部材１０の内部において貫通流路２２同士を接続する流路や、その流路から分岐して凹部１６に接続する流路が形成されていてもよい。

【0053】

上記実施形態の静電チャックにおいて、さらに、保持部材の裏面に、板状のベース部材が接合されていてもよい。このベース部材の内部に冷媒流路が形成されている場合には、保持部材に対象物が保持されている際に、冷媒流路内を冷媒が流れることによって、ベース部材から保持部材を介して、対象物を冷却することができる。

【0054】

上記第２，３実施形態（図５，６参照）では、保持面１０ｆに形成されたすべての凸部１４において、保持面１０ｆの中心Ｏから離れた位置にある凸部１４ほど、その頂面Ｔに占める溝部Ｇの合計面積の割合が大きくなっていたが、これに限られない。保持面１０ｆに形成された一部の凸部１４においてのみ、同様の関係が成り立っていてもよい。

【0055】

第５，７実施形態（図８，１０参照）では、保持面１０ｆに形成されたすべての凸部１４において、凸部１４ｄ１～１４ｄ３もしくは凸部１４ｆ１～１４ｆ３を用いて説明した関係が成り立っていたが、これに限られない。保持面１０ｆに形成された一部の凸部１４においてのみ、凸部１４ｄ１～１４ｄ３もしくは凸部１４ｆ１～１４ｆ３を用いて説明した関係が成り立っていてもよい。

【0056】

第５実施形態（図８参照）では、領域Ｎｄ１～Ｎｄ３よりも領域Ｆｄ１～Ｆｄ３の方がその領域に占める溝部Ｇの合計面積の割合が大きくなっていたが、これに限られない。領域Ｆｄ１～Ｆｄ３よりも領域Ｎｄ１～Ｎｄ３の方がその領域に占める溝部Ｇの合計面積の割合が大きくなっていてもよい。また、このような場合、領域Ｎｄ１～Ｎｄ３における溝部Ｇの形成間隔が領域Ｆｄ１～Ｆｄ３における溝部Ｇの形成間隔よりも狭くなっていてもよい。頂面Ｔのうち保持面１０ｆの中心Ｏから近い領域ほど凸部１４とウエハＷとの間を転動する脱粒粒子の移動量が小さいことから、溝部Ｇの形成間隔を狭くすることで、そのような領域での溝部Ｇの除去効率を上げることができる。

【0057】

溝部Ｇの形状は、上記実施形態で説明した形状に限られない。例えば、図１２～図１５に示すような形状であってもよい。図１２には、頂面Ｔｈに溝部Ｇｈが形成された凸部１４ｈが示されている。溝部Ｇｈは、格子状の溝部である。このような溝部Ｇｈでは、凸部１４とウエハＷとの接触部分での擦れに対する強度が向上される。図１３には、頂面Ｔｉに溝部Ｇｉが形成された凸部１４ｉが示されている。また、図１４には、頂面Ｔｊに溝部Ｇｊが形成された凸部１４ｊが示されている。溝部Ｇｉ、Ｇｊは、ともに保持面１０ｆの中心Ｏから放射状に伸びた放射状部分Ｒｉ、Ｒｊと、その放射状部分同士を架橋しつつ頂面Ｔの端まで伸びた架橋部分Ｂｉ、Ｂｊと、を含む。溝部Ｇｉの架橋部分Ｂｉは直線状であるのに対して、溝部Ｇｊの架橋部分Ｂｊは保持面１０ｆの外縁に向かって凸の円弧状である。このような溝部Ｇｉ、Ｇｊでは、放射状部分Ｒｉ、Ｒｊを含んでいることによって、凸部１４とウエハＷとの接触部分での擦れに対する強度を一層向上される。図１５には、頂面Ｔｋに溝部Ｇｋ１～Ｇｋ３が形成された凸部１４ｋが示されている。溝部Ｇｋ１～Ｇｋ３は、同心円状に形成された溝部である。このような溝部Ｇｋ１～Ｇｋ３では、保持部材１０およびウエハＷのうち少なくとも一方が放射状に熱膨張せず膨張する方向が互いに大きく異なっていたとしても、凸部１４とウエハＷとの間を転動する脱粒粒子を効率的に回収できる。

【0058】

溝部Ｇの横断面形状は、図４で説明した形状に限られない。例えば、図１６（Ａ）～（Ｃ）に示すような形状であってもよい。図１６（Ａ）には、凸部１４ｌの頂面Ｔｌに形成された溝部Ｇｌの横断面を示した説明図である。溝部Ｇｌの横断面形状は、台形状である。図１６（Ｂ）には、凸部１４ｍの頂面Ｔｍに形成された溝部Ｇｍの横断面を示した説明図である。溝部Ｇｍの横断面形状は、Ｖ字形状である。図１６（Ｃ）には、凸部１４ｎの頂面Ｔｎに形成された溝部Ｇｎの横断面を示した説明図である。溝部Ｇｎのうち開口縁部ＥＧｎの横断面形状はＲ面形状である。このような溝部Ｇｎでは、図４に示したＣ面形状の開口縁部ＥＧと同様に、開口縁部ＥＧｎにおけるチッピングの発生を抑制することができるため、開口縁部ＥＧｎからのパーティクルの発生を抑制することができる。なお、図４や図１６（Ａ）～（Ｃ）で示した溝部Ｇの横断面形状は、いずれも溝部Ｇの底に角が含まれていたが、むろん溝部Ｇの底には角が含まれず曲面のみが含まれていてもよい。

【0059】

以上、実施形態、変形例に基づき本態様について説明してきたが、上記した態様の実施の形態は、本態様の理解を容易にするためのものであり、本態様を限定するものではない。本態様は、その趣旨並びに特許請求の範囲を逸脱することなく、変更、改良され得ると共に、本態様にはその等価物が含まれる。また、その技術的特徴が本明細書中に必須なものとして説明されていなければ、適宜、削除することができる。

【0060】

本発明は、以下の形態としても実現することが可能である。
［適用例１］
対象物を保持する保持部材であって、
前記保持部材は、前記対象物を保持する側の面である保持面を有し、
前記保持面には、凸部と、凹部と、が形成されており、
前記凸部の頂部を画定している頂面には、溝部が形成されていることを特徴とする、保持部材。
［適用例２］
適用例１に記載の保持部材であって、
少なくとも１つ以上の前記溝部は、前記頂面の端まで伸びていることを特徴とする、保持部材。
［適用例３］
適用例１または適用例２に記載の保持部材であって、
少なくとも１つ以上の前記溝部は、前記保持面の中心および前記頂面の中心を通る仮想直線に対して直交する方向に伸びた直線状に形成されていることを特徴とする、保持部材。
［適用例４］
適用例１から適用例３までのいずれかに記載の保持部材であって、
前記保持面と向き合う側から前記保持面を見て、
一の前記凸部および一の前記凸部よりも前記保持面の中心側にある他の前記凸部が配置され、
一の前記凸部の前記頂面に占める前記溝部の合計面積の割合は、他の前記凸部の前記頂面に占める前記溝部の合計面積の割合よりも大きいことを特徴とする、保持部材。
［適用例５］
適用例１から適用例４までのいずれかに記載の保持部材であって、
前記保持面と向き合う側から前記保持面を見て、前記保持面の中心および前記頂面の中心を通る仮想直線に対して直交する方向に伸びつつ前記頂面の中心を通る仮想垂線で少なくとも一部の前記凸部の前記頂面を２つの領域に分けたとき、前記保持面の中心から遠い側の領域に占める前記溝部の合計面積の割合は、前記保持面の中心に近い側の領域に占める前記溝部の合計面積の割合よりも大きいことを特徴とする、保持部材。
［適用例６］
適用例１から適用例５までのいずれかに記載の保持部材であって、
少なくとも１つ以上の前記溝部においては、前記溝部の開口縁部の横断面形状がＣ面形状もしくはＲ面形状であることを特徴とする、保持部材。
［適用例７］
適用例１から適用例６までのいずれかに記載の保持部材であって、
前記保持面と向き合う側から前記保持面を見て、少なくとも１つ以上の前記溝部は、前記保持面の外縁に向かって凸の円弧状に形成されていることを特徴とする、保持部材。
［適用例８］
静電チャックであって、
適用例１から適用例７までのいずれかに記載の保持部材と、
前記保持面に静電引力を発生させる静電電極と、を備えることを特徴とする、静電チャック。

【符号の説明】

【0061】

１…静電チャック
１０…保持部材
１０ｂ…裏面
１０ｆ…保持面
１２…環状凸部
１４…凸部
Ｔ…頂面
Ｇ…溝部
１６…凹部
２２…貫通流路
３０…静電電極

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】