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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024179110
(43)【公開日】2024-12-26
(54)【発明の名称】光源装置及び膜厚調整機構
(51)【国際特許分類】
G21K 5/08 20060101AFI20241219BHJP
G21K 1/00 20060101ALI20241219BHJP
H01J 35/10 20060101ALI20241219BHJP
【ＦＩ】
G21K5/08 X
G21K1/00 X
H01J35/10 Z
【審査請求】未請求
【請求項の数】24
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023097665
(22)【出願日】2023-06-14
(71)【出願人】
【識別番号】000102212
【氏名又は名称】ウシオ電機株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110003339
【氏名又は名称】弁理士法人南青山国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】後藤 直樹
(57)【要約】
【課題】速い回転数においても液体原料を一定の膜厚で塗布すること。
【解決手段】本技術に係る光源装置では、エネルギービームが照射される照射面に当接部材が当接される。当接部材は照射面に直交する方向に移動可能に支持され、照射面に対して押圧される。また当接部材は、照射面と平行な面における断面積が、当接部材及び照射面の当接位置から当接部材側に向かうにつれて増加する。これにより、速い回転数においても液体原料を一定の膜厚で塗布することが可能となる。
【選択図】図３
【解決手段】本技術に係る光源装置では、エネルギービームが照射される照射面に当接部材が当接される。当接部材は照射面に直交する方向に移動可能に支持され、照射面に対して押圧される。また当接部材は、照射面と平行な面における断面積が、当接部材及び照射面の当接位置から当接部材側に向かうにつれて増加する。これにより、速い回転数においても液体原料を一定の膜厚で塗布することが可能となる。
【選択図】図３
【特許請求の範囲】
【請求項1】
エネルギービームの照射を利用して液体原料をプラズマ化して放射線を取り出す光源装置であって、
前記エネルギービームを照射するビーム源と、
前記液体原料が付着する面であり、かつ前記エネルギービームが照射される面である照射面を有する第１の回転体と、
前記照射面に当接する当接部材と、
前記当接部材を前記照射面に直交する方向に移動可能に支持する支持部材と
を有し、前記当接部材は、前記照射面に対して押圧され、前記照射面と平行な面における断面積が、前記当接部材及び前記照射面の当接位置から前記当接部材側に向かうにつれて増加する膜厚調整機構と
を具備する光源装置。
前記エネルギービームを照射するビーム源と、
前記液体原料が付着する面であり、かつ前記エネルギービームが照射される面である照射面を有する第１の回転体と、
前記照射面に当接する当接部材と、
前記当接部材を前記照射面に直交する方向に移動可能に支持する支持部材と
を有し、前記当接部材は、前記照射面に対して押圧され、前記照射面と平行な面における断面積が、前記当接部材及び前記照射面の当接位置から前記当接部材側に向かうにつれて増加する膜厚調整機構と
を具備する光源装置。
【請求項2】
請求項１に記載の光源装置であって、
前記当接部材は、前記当接部材が移動可能な方向の軸を中心軸とする第２の回転体である
光源装置。
前記当接部材は、前記当接部材が移動可能な方向の軸を中心軸とする第２の回転体である
光源装置。
【請求項3】
請求項２に記載の光源装置であって、
前記当接部材は、球状の形状を有する
光源装置。
前記当接部材は、球状の形状を有する
光源装置。
【請求項4】
請求項２に記載の光源装置であって、
前記当接部材は、砲弾型の形状を有し、先端が前記照射面に当接する
光源装置。
前記当接部材は、砲弾型の形状を有し、先端が前記照射面に当接する
光源装置。
【請求項5】
請求項１に記載の光源装置であって、
前記当接部材は、円柱形状を有し、側面が前記照射面に当接する
光源装置。
前記当接部材は、円柱形状を有し、側面が前記照射面に当接する
光源装置。
【請求項6】
請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記支持部材は、前記当接部材を前記照射面に対して押圧する弾性体を有する
光源装置。
前記支持部材は、前記当接部材を前記照射面に対して押圧する弾性体を有する
光源装置。
【請求項7】
請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記支持部材は、前記当接部材を重力方向に移動可能に支持し、
前記当接部材は、前記当接部材の自重により前記照射面に対して押圧される
光源装置。
前記支持部材は、前記当接部材を重力方向に移動可能に支持し、
前記当接部材は、前記当接部材の自重により前記照射面に対して押圧される
光源装置。
【請求項8】
請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記第１の回転体は、円形状の第１の面、前記第１の面の反対側の面である円形状の第２の面、及び側面からなる円盤形状を有する
光源装置。
前記第１の回転体は、円形状の第１の面、前記第１の面の反対側の面である円形状の第２の面、及び側面からなる円盤形状を有する
光源装置。
【請求項9】
請求項８に記載の光源装置であって、
前記照射面は、前記第１の面である
光源装置。
前記照射面は、前記第１の面である
光源装置。
【請求項10】
請求項８に記載の光源装置であって、
前記照射面は、前記側面である
光源装置。
前記照射面は、前記側面である
光源装置。
【請求項11】
請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記照射面には、溝部が構成され、
前記エネルギービームは、前記溝部に照射され、
前記当接部材は、前記溝部に当接する
光源装置。
前記照射面には、溝部が構成され、
前記エネルギービームは、前記溝部に照射され、
前記当接部材は、前記溝部に当接する
光源装置。
【請求項12】
請求項１１に記載の光源装置であって、
前記溝部は、前記当接部材と同一の形状を有する
光源装置。
前記溝部は、前記当接部材と同一の形状を有する
光源装置。
【請求項13】
請求項１１に記載の光源装置であって、
前記溝部の断面は、前記当接部材の断面と異なる形状を有する
光源装置。
前記溝部の断面は、前記当接部材の断面と異なる形状を有する
光源装置。
【請求項14】
請求項１１に記載の光源装置であって、
前記溝部は、断面が三角形状、矩形状、半円形状、台形状の少なくとも１つの形状を有する
光源装置。
前記溝部は、断面が三角形状、矩形状、半円形状、台形状の少なくとも１つの形状を有する
光源装置。
【請求項15】
請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記当接部材は、前記第１の回転体の回転方向と垂直な面における断面積が、前記回転の下流側に向かうにつれて増加する
光源装置。
前記当接部材は、前記第１の回転体の回転方向と垂直な面における断面積が、前記回転の下流側に向かうにつれて増加する
光源装置。
【請求項16】
請求項１５に記載の光源装置であって、
前記当接部材は、前記第１の回転体の回転の上流側に、平面形状のテーパ面を有する
光源装置。
前記当接部材は、前記第１の回転体の回転の上流側に、平面形状のテーパ面を有する
光源装置。
【請求項17】
請求項１５に記載の光源装置であって、
前記当接部材は、前記第１の回転体の回転の上流側に、曲面形状のテーパ面を有する
光源装置。
前記当接部材は、前記第１の回転体の回転の上流側に、曲面形状のテーパ面を有する
光源装置。
【請求項18】
請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記当接部材は、前記第１の回転体の回転に伴って回転する
光源装置。
前記当接部材は、前記第１の回転体の回転に伴って回転する
光源装置。
【請求項19】
請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記支持部材は、円筒状の形状を有する
光源装置。
前記支持部材は、円筒状の形状を有する
光源装置。
【請求項20】
請求項１又は２に記載の光源装置であって、さらに、
前記液体原料を収容可能な収容部を具備し、
前記回転体は、前記収容部に収容された前記液体原料に浸漬される
光源装置。
前記液体原料を収容可能な収容部を具備し、
前記回転体は、前記収容部に収容された前記液体原料に浸漬される
光源装置。
【請求項21】
請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記エネルギービームは、レーザ光である
光源装置。
前記エネルギービームは、レーザ光である
光源装置。
【請求項22】
請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記放射線は、極端紫外光又はＸ線である
光源装置。
前記放射線は、極端紫外光又はＸ線である
光源装置。
【請求項23】
請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記液体原料は、スズ、リチウム、ガドリニウム、テルビウム、ガリウム、ビスマス、インジウム、又はこれらの材料のうちの少なくとも１つを含む合金である
光源装置。
前記液体原料は、スズ、リチウム、ガドリニウム、テルビウム、ガリウム、ビスマス、インジウム、又はこれらの材料のうちの少なくとも１つを含む合金である
光源装置。
【請求項24】
液体原料が付着する面である付着面を有する第１の回転体と、
前記付着面に当接する当接部材と、
前記当接部材を前記付着面に直交する方向に移動可能に支持する支持部材と
を具備し、前記当接部材は、前記付着面に対して押圧され、前記付着面と平行な面における断面積が、前記当接部材及び前記付着面の当接位置から前記当接部材側に向かうにつれて増加する
膜厚調整機構。
前記付着面に当接する当接部材と、
前記当接部材を前記付着面に直交する方向に移動可能に支持する支持部材と
を具備し、前記当接部材は、前記付着面に対して押圧され、前記付着面と平行な面における断面積が、前記当接部材及び前記付着面の当接位置から前記当接部材側に向かうにつれて増加する
膜厚調整機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、Ｘ線や極端紫外光等を発生させる光源装置、及び液体原料の膜厚を調整する膜厚調整機構に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、Ｘ線は、医療用用途、工業用用途、研究用用途に用いられてきた。医療用分野においては、Ｘ線は、胸部Ｘ線写真撮影、歯科Ｘ線写真撮影や、ＣＴ（Computer Tomogram）といった用途に用いられる。工業用分野においては、Ｘ線は、構造物や溶接部などの物質内部を観察する非破壊検査、断層非破壊検査といった用途に用いられる。研究用分野においては、Ｘ線は、物質の結晶構造を解析するためのＸ線回折、物質の構成元素を分析するためのＸ線分光（蛍光Ｘ線分析）といった用途に用いられる。
【0003】
Ｘ線のうち比較的波長の長い軟Ｘ線領域にある波長１３．５ｎｍの極端紫外光（以下、「ＥＵＶ（Extreme Ultra Violet）光」ともいう）は、近年露光光として使用されている。ここで、微細パターンが構成されているＥＵＶリソグラフィ用のマスクの基材は、積層構造として、低熱膨張性ガラスから成る基板の上に、ＥＵＶ光を反射させるための多層膜（例えば、モリブデンとシリコン）が設けられてなる反射ミラーである。そして、多層膜上に波長１３．５ｎｍの放射線を吸収する材料をパターニングすることで、ＥＵＶマスクが構成される。
【0004】
また、ＥＵＶマスクにおける許容できない欠陥の大きさは、従来のＡｒＦマスクの場合に比べると大幅に小さくなっており検出することが困難となっている。そこで、ＥＵＶマスクの検査として、通常はアクティニック検査（Actinic inspection）と呼ばれる、リソグラフィの作業波長と一致する波長の放射線を用いた検査が行われる。例えば、波長１３．５ｎｍの放射線を用いて検査を行うと、波長以下の分解能で欠陥を検出することが可能となる。
【0005】
一般にＥＵＶ光源装置としては、ＤＰＰ（Discharge Produced Plasma）光源装置、ＬＤＰ（Laser Assisted Discharge Produced Plasma）光源装置、及びＬＰＰ（Laser Produced Plasma）光源装置が挙げられる。
【0006】
ＤＰＰ光源装置は、ＥＵＶ放射種を含む気体状のプラズマ原料（放電ガス）が供給された電極間に高電圧を印加して、放電により高密度高温プラズマを生成し、そこから放射される極端紫外光を利用するものである。
【0007】
ＬＤＰ光源装置は、ＤＰＰ光源装置が改良されたものであり、例えば、放電を発生させる電極（放電電極）表面にＥＵＶ放射種を含む液体状の高温プラズマ原料（例えば、Ｓｎ（スズ）やＬｉ（リチウム）等）を供給し、当該原料に対してエネルギービーム（例えば、電子ビームやレーザビーム等）を照射して当該原料を気化し、その後、放電によって高温プラズマを生成するものである。
【0008】
ＬＰＰ光源装置は、ＥＵＶ放射種をレーザビーム等により励起して高温プラズマを生成するものである。この方式の光源装置としては、ＥＵＶ放射用ターゲット材料である微小な液滴状に噴出されたスズ（Ｓｎ）、または、リチウム（Ｌｉ）等のドロップレットに対して、レーザ光を集光することにより当該ターゲット材料を励起してプラズマを発生させるものが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0009】
【特許文献1】特開２０１４－２１６２８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0010】
例えば特許文献１の光源装置では、光量を得るためにエネルギービームの周波数を変化させる必要がある。しかしながらこの場合、照射により発生する熱量もまた増加するため、熱を逃がす方策が必要となる。そこで、例えば回転体の回転を速くすることで、回転体の各々の領域が短いスパンでプラズマ原料に浸漬されるようにし、冷却効率を向上させるという対策が取られる。
【0011】
しかしながら、回転体の回転速度が速くなると原料の膜厚変動が大きくなる。これに対して、例えば回転体の表面に溝を設けるといった対策が考えられるが、それでも原料の膜厚変動を十分に抑えることができない場合もある。
【0012】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、速い回転数においても液体原料を一定の膜厚で塗布することが可能な光源装置及び膜厚調整機構を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0013】
上記目的を達成するため、本技術の一形態に係る光源装置は、エネルギービームの照射を利用して液体原料をプラズマ化して放射線を取り出す光源装置であって、ビーム源と、第１の回転体と、膜厚調整機構とを具備する。
前記ビーム源は、前記エネルギービームを照射する。
前記第１の回転体は、前記液体原料が付着する面であり、かつ前記エネルギービームが照射される面である照射面を有する。
前記膜厚調整機構は、当接部材と、支持部材とを有する。
前記当接部材は、前記照射面に当接する。
前記支持部材は、前記当接部材を前記照射面に直交する方向に移動可能に支持する。
前記当接部材は、前記照射面に対して押圧され、前記照射面と平行な面における断面積が、前記当接部材及び前記照射面の当接位置から前記当接部材側に向かうにつれて増加する。
前記ビーム源は、前記エネルギービームを照射する。
前記第１の回転体は、前記液体原料が付着する面であり、かつ前記エネルギービームが照射される面である照射面を有する。
前記膜厚調整機構は、当接部材と、支持部材とを有する。
前記当接部材は、前記照射面に当接する。
前記支持部材は、前記当接部材を前記照射面に直交する方向に移動可能に支持する。
前記当接部材は、前記照射面に対して押圧され、前記照射面と平行な面における断面積が、前記当接部材及び前記照射面の当接位置から前記当接部材側に向かうにつれて増加する。
【0014】
この光源装置では、エネルギービームが照射される照射面に、当接部材が当接される。当接部材は照射面に直交する方向に移動可能に支持され、照射面に対して押圧される。また当接部材は、照射面と平行な面における断面積が、当接部材及び照射面の当接位置から当接部材側に向かうにつれて増加する。これにより、速い回転数においても液体原料を一定の膜厚で塗布することが可能となる。
【0015】
前記当接部材は、前記当接部材が移動可能な方向の軸を中心軸とする第２の回転体であってもよい。
【0016】
前記当接部材は、球状の形状を有してもよい。
【0017】
前記当接部材は、砲弾型の形状を有し、先端が前記照射面に当接してもよい。
【0018】
前記当接部材は、円柱形状を有し、側面が前記照射面に当接してもよい。
【0019】
前記支持部材は、前記当接部材を前記照射面に対して押圧する弾性体を有してもよい。
【0020】
前記支持部材は、前記当接部材を重力方向に移動可能に支持してもよい。この場合、前記当接部材は、前記当接部材の自重により前記照射面に対して押圧されてもよい。
【0021】
前記第１の回転体は、円形状の第１の面、前記第１の面の反対側の面である円形状の第２の面、及び側面からなる円盤形状を有してもよい。
【0022】
前記照射面は、前記第１の面であってもよい。
【0023】
前記照射面は、前記側面であってもよい。
【0024】
前記照射面には、溝部が構成されてもよい。この場合、前記エネルギービームは、前記溝部に照射されてもよい。また、前記当接部材は、前記溝部に当接してもよい。
【0025】
前記溝部は、前記当接部材と同一の形状を有してもよい。
【0026】
前記溝部の断面は、前記当接部材の断面と異なる形状を有してもよい。
【0027】
前記溝部は、断面が三角形状、矩形状、半円形状、台形状の少なくとも１つの形状を有してもよい。
【0028】
前記当接部材は、前記第１の回転体の回転方向と垂直な面における断面積が、前記回転の下流側に向かうにつれて増加してもよい。
【0029】
前記当接部材は、前記第１の回転体の回転の上流側に、平面形状のテーパ面を有してもよい。
【0030】
前記当接部材は、前記第１の回転体の回転の上流側に、曲面形状のテーパ面を有してもよい。
【0031】
前記当接部材は、前記第１の回転体の回転に伴って回転してもよい。
【0032】
前記支持部材は、円筒状の形状を有してもよい。
【0033】
前記光源装置は、さらに、前記液体原料を収容可能な収容部を具備してもよい。この場合、前記回転体は、前記収容部に収容された前記液体原料に浸漬されてもよい。
【0034】
前記エネルギービームは、レーザ光であってもよい。
【0035】
前記放射線は、極端紫外光又はＸ線であってもよい。
【0036】
前記液体原料は、スズ、リチウム、ガドリニウム、テルビウム、ガリウム、ビスマス、インジウム、又はこれらの材料のうちの少なくとも１つを含む合金であってもよい。
【0037】
本技術の一形態に係る膜厚調整機構は、第１の回転体と、当接部材と、支持部材とを具備する。
前記第１の回転体は、液体原料が付着する面である付着面を有する。
前記当接部材は、前記付着面に当接する。
前記支持部材は、前記当接部材を前記付着面に直交する方向に移動可能に支持する。
前記当接部材は、前記付着面に対して押圧され、前記付着面と平行な面における断面積が、前記当接部材及び前記付着面の当接位置から前記当接部材側に向かうにつれて増加する。
前記第１の回転体は、液体原料が付着する面である付着面を有する。
前記当接部材は、前記付着面に当接する。
前記支持部材は、前記当接部材を前記付着面に直交する方向に移動可能に支持する。
前記当接部材は、前記付着面に対して押圧され、前記付着面と平行な面における断面積が、前記当接部材及び前記付着面の当接位置から前記当接部材側に向かうにつれて増加する。
【発明の効果】
【0038】
本発明によれば、速い回転数においても液体原料を一定の膜厚で塗布することが可能となる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれかの効果であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【0039】
【図1】本発明の第１の実施形態に係る光源装置の構成例を示す模式図である。
【図2A】回転体及びスキマーの構成例を示す模式図である。
【図2B】回転体及びスキマーの構成例を示す模式図である。
【図4A】球体の近傍の拡大図である。
【図4B】球体の近傍の拡大図である。
【図5】砲弾型の当接部材の断面図である。
【図6A】溝部の構成例を示す模式図である。
【図6B】溝部の構成例を示す模式図である。
【図7】溝部のバリエーションを示す模式図である。
【図8】回転体及びスキマーの構成例を示す断面図である。
【図9】ＬＤＰ光源装置の構成例を示す模式図である。
【図11】ＬＤＰ光源装置の構成例を示す模式図である。
【図12A】スキマーの拡大図である。
【図12B】スキマーの拡大図である。
【図14】当接部材のバリエーションを示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0040】
以下、本技術に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。
【0041】
＜第１の実施形態＞
［光源装置の基本構成］
図１は、本発明の第１の実施形態に係る光源装置の構成例を示す模式図である。
光源装置１００は、ＬＰＰ方式の光源装置である。すなわち光源装置１００は、エネルギービームＥＢの照射を利用してプラズマ原料１をプラズマ化して放射線Ｒを取り出す光源装置である。
なお、本開示において、放射線Ｒには、ＥＵＶ光等の軟Ｘ線領域の光や、よりエネルギーの高い硬Ｘ線等、プラズマＰから放射される光（電磁波）が含まれる。
［光源装置の基本構成］
図１は、本発明の第１の実施形態に係る光源装置の構成例を示す模式図である。
光源装置１００は、ＬＰＰ方式の光源装置である。すなわち光源装置１００は、エネルギービームＥＢの照射を利用してプラズマ原料１をプラズマ化して放射線Ｒを取り出す光源装置である。
なお、本開示において、放射線Ｒには、ＥＵＶ光等の軟Ｘ線領域の光や、よりエネルギーの高い硬Ｘ線等、プラズマＰから放射される光（電磁波）が含まれる。
【0042】
放射線ＲとしてＥＵＶ光が出射される場合は、プラズマ原料１としてＥＵＶ原料が用いられる。ＥＵＶ光を放出するための原料としては、例えば、液体状のスズ（Ｓｎ）やリチウム（Ｌｉ）が用いられる。Ｓｎ、Ｌｉは常温では固体であるが、エネルギービームＥＢに照射される場合には、液体の状態で用いられる。
放射線ＲとしてＸ線が出射される場合は、プラズマ原料１としてＸ線原料が用いられる。Ｘ線原料は例えば常温で液体状である金属であり、例えば、ガリウム（Ｇａ）や、ガリウム合金、Ｓｎ化合物等を用いることができる。
プラズマ原料１は、本技術に係る液体原料の一実施形態に相当する。
放射線ＲとしてＸ線が出射される場合は、プラズマ原料１としてＸ線原料が用いられる。Ｘ線原料は例えば常温で液体状である金属であり、例えば、ガリウム（Ｇａ）や、ガリウム合金、Ｓｎ化合物等を用いることができる。
プラズマ原料１は、本技術に係る液体原料の一実施形態に相当する。
【0043】
図１は、光源装置１００を設置面から所定の高さの位置で水平方向に沿って切断した場合の模式的な断面を、上方から見た場合の図である。
図１では、光源装置１００の構成及び動作を理解しやすいように、断面の構成等を説明する必要のない部分については、断面の図示を省略している。
以下、Ｘ方向を左右方向（Ｘ軸の正側が右側、負側が左側）、Ｙ方向を前後方向（Ｙ軸の正側が前方側、負側が後方側）、Ｚ方向を高さ方向（Ｚ軸の正側が上方側、負側が下方側）として説明を行う場合がある。もちろん本技術の適用について、光源装置１００が使用される向き等が限定される訳ではない。
図１では、光源装置１００の構成及び動作を理解しやすいように、断面の構成等を説明する必要のない部分については、断面の図示を省略している。
以下、Ｘ方向を左右方向（Ｘ軸の正側が右側、負側が左側）、Ｙ方向を前後方向（Ｙ軸の正側が前方側、負側が後方側）、Ｚ方向を高さ方向（Ｚ軸の正側が上方側、負側が下方側）として説明を行う場合がある。もちろん本技術の適用について、光源装置１００が使用される向き等が限定される訳ではない。
【0044】
光源装置１００は、筐体２と、真空チャンバ３と、エネルギービーム入射チャンバ４と、放射線出射チャンバ５と、プラズマ生成機構６と、制御部７と、原料供給装置３０とを含む。なお、図１では、原料供給装置３０を破線の枠により模式的に図示している。
【0045】
図１に示す例では、筐体２は、おおよその外形が立方体形状となるように構成される。なお筐体２の形状は立方体形状に限定されず、任意の立体形状が用いられてよい。
筐体２は、前方面に形成される出射孔２ａと、右側面に形成される入射孔２ｂと、後方面に形成される貫通孔２ｃと、左側面に形成される貫通孔２ｄとを有する。
筐体２の材料は限定されず、例えば金属製の筐体が用いられる。
筐体２は、前方面に形成される出射孔２ａと、右側面に形成される入射孔２ｂと、後方面に形成される貫通孔２ｃと、左側面に形成される貫通孔２ｄとを有する。
筐体２の材料は限定されず、例えば金属製の筐体が用いられる。
【0046】
本実施形態では、前方面の出射孔２ａを通り、Ｙ方向（前後方向）に延在するように、放射線Ｒの出射軸ＥＡが設定される。Ｘ線やＥＵＶ光等の放射線Ｒは、出射軸ＥＡに沿って取り出され、出射孔２ａから前方側に向かって放出される。
また本実施形態では、右側面の入射孔２ｂから、後方側に向かって左斜めに延在するように、エネルギービームＥＢの入射軸ＩＡが設定される。
図１に示すように、筐体２の外部に、エネルギービームＥＢを出射するビーム源８が設置される。ビーム源８は、入射軸ＩＡに沿ってエネルギービームＥＢが筐体２の内部に入射するように設置される。
エネルギービームＥＢとしては、電子ビームやレーザビームを使用することが可能である。ビーム源８の構成としては、これらのエネルギービームＥＢを出射可能な任意の構成が採用されてよい。
また本実施形態では、右側面の入射孔２ｂから、後方側に向かって左斜めに延在するように、エネルギービームＥＢの入射軸ＩＡが設定される。
図１に示すように、筐体２の外部に、エネルギービームＥＢを出射するビーム源８が設置される。ビーム源８は、入射軸ＩＡに沿ってエネルギービームＥＢが筐体２の内部に入射するように設置される。
エネルギービームＥＢとしては、電子ビームやレーザビームを使用することが可能である。ビーム源８の構成としては、これらのエネルギービームＥＢを出射可能な任意の構成が採用されてよい。
【0047】
光源装置１００には、複数のチャンバを含むチャンバ部Ｃが設けられる。具体的には、チャンバ部Ｃは、真空チャンバ３、エネルギービーム入射チャンバ（以下、単に入射チャンバという）４、及び放射線出射チャンバ(以下、単に出射チャンバという)５を有する。真空チャンバ３、入射チャンバ４および出射チャンバ５は、互いに空間的に接続される。すなわち、真空チャンバ３と入射チャンバ４とは互いに連結される。同様に、真空チャンバ３と出射チャンバ５とは互いに連結される。
【0048】
入射チャンバ４は、エネルギービームＥＢの入射軸ＩＡ上に位置するように形成され、出射チャンバ５は、放射線Ｒの出射軸ＥＡ上に位置するように形成される。また真空チャンバ３には、プラズマＰを発生させる機構が設けられる。
【0049】
本実施形態では、チャンバ本体９と、チャンバ本体９の前方面から前方側に突出する外側突出部９ａと、チャンバ本体９の内周面から内部側に突出する２つの内側突出部９ｂ及び９ｃとにより、チャンバ部Ｃ（真空チャンバ３、入射チャンバ４、及び出射チャンバ５）が構成される。
チャンバ部Ｃを構成する、チャンバ本体９、外側突出部９ａ、及び２つの内側突出部９ｂ及び９ｃの材料としては、金属材料が用いられる。
チャンバ部Ｃを構成する、チャンバ本体９、外側突出部９ａ、及び２つの内側突出部９ｂ及び９ｃの材料としては、金属材料が用いられる。
【0050】
チャンバ本体９は、おおよその外形が直方体形状となるように構成され、前後左右の各面が、筐体２の前後左右の各面とそれぞれ対向するように配置される。
また、チャンバ本体９は、前方面と右側面との間の右前角部が、エネルギービームＥＢの入射軸ＩＡ上に位置するように配置される。
また、チャンバ本体９は、前方面と右側面との間の右前角部が、エネルギービームＥＢの入射軸ＩＡ上に位置するように配置される。
【0051】
図１に示すように、チャンバ本体９の前方面には、出射孔９ｄが形成される。出射孔９ｄは、放射線Ｒの出射軸ＥＡ上で、筐体２の前方面の出射孔２ａと並ぶ位置に形成される。
チャンバ本体９の出射孔９ｄの周縁部から、前方側に突出するように外側突出部９ａが構成される。外側突出部９ａは、筐体２の出射孔２ａに内接するように、筐体２の出射孔２ａよりも前方側に大きく突出するように構成される。
また、チャンバ本体９の内部側において、出射孔９ｄの周縁部から内部側に突出するように、内側突出部９ｂが構成される。なお、内側突出部９ｂの構成は必須ではなく、チャンバ部Ｃに外側突出部９ａのみが設けられてもよい。
外側突出部９ａ及び内側突出部９ｂに囲まれた空間が、出射チャンバ５として機能する。出射チャンバ５を構成する部材である外側突出部９ａ及び内側突出部９ｂ自体を、出射チャンバと呼ぶことも可能である。
外側突出部９ａ及び内側突出部９ｂは、チャンバ本体９と一体的に形成されてもよいし、別個に形成された後にチャンバ本体９に接続されてもよい。
チャンバ本体９の出射孔９ｄの周縁部から、前方側に突出するように外側突出部９ａが構成される。外側突出部９ａは、筐体２の出射孔２ａに内接するように、筐体２の出射孔２ａよりも前方側に大きく突出するように構成される。
また、チャンバ本体９の内部側において、出射孔９ｄの周縁部から内部側に突出するように、内側突出部９ｂが構成される。なお、内側突出部９ｂの構成は必須ではなく、チャンバ部Ｃに外側突出部９ａのみが設けられてもよい。
外側突出部９ａ及び内側突出部９ｂに囲まれた空間が、出射チャンバ５として機能する。出射チャンバ５を構成する部材である外側突出部９ａ及び内側突出部９ｂ自体を、出射チャンバと呼ぶことも可能である。
外側突出部９ａ及び内側突出部９ｂは、チャンバ本体９と一体的に形成されてもよいし、別個に形成された後にチャンバ本体９に接続されてもよい。
【0052】
出射チャンバ５は、放射線Ｒの出射軸ＥＡを中心軸として、コーン形状となるように構成される。出射チャンバ５は、放射線Ｒの出射軸ＥＡの方向において、中央部分の断面積が大きく、前後の端部に近づくにつれて断面積が小さくなるように構成される。すなわち、出射チャンバ５は、前後の端部に近づくにつれて絞られるような形状である。また出射チャンバ５には、前後の端部に放射線Ｒを通す開口部（アパーチャー）が設けられる。
【0053】
出射チャンバ５の前方側の端部（外側突出部９ａの前方側の端部）には、マスク検査装置等の利用装置が接続される。図１に示す例では、利用装置の一部をなすチャンバとして、アプリケーションチャンバ１０が接続される。アプリケーションチャンバ１０内の圧力は大気圧であってもよい。またアプリケーションチャンバ１０の内部は、必要に応じてガス注入路よりガス（例えば、不活性ガス）が導入され、パージされてもよい。またアプリケーションチャンバ１０の内部のガスは、図示を省略した排気手段により排気されてもよい。
【0054】
出射チャンバ５とアプリケーションチャンバ１０との間には、プラズマＰが生成される領域とアプリケーションチャンバ１０とを、物理的に分離するフィルタ膜１１が設けられる。フィルタ膜１１は、放射線を透過可能な構造で構成され、プラズマＰの発生に伴って飛散するプラズマ原料１やデブリのアプリケーションチャンバ１０への進入を防止する。
【0055】
出射チャンバ５の内部には、出射チャンバ５の内に入射した放射線Ｒを利用装置内（アプリケーションチャンバ１０内）に導光して集光するためのコレクタ（集光鏡）１２が配置されている。図１では、出射チャンバ５に入射し集光される放射線Ｒの成分がハッチングにて図示されている。
【0056】
また出射チャンバ５の内部には、遮蔽部材（中央掩蔽）１３が配置される。遮蔽部材１３は、放射線Ｒの出射軸ＥＡ上にて、チャンバ本体９の出射孔９ｄ、筐体２の出射孔２ａ、及びフィルタ膜１１と並ぶように配置される。本実施形態では、遮蔽部材１３により、コレクタ１２により集光されない放射線成分を遮光することが可能である。
【0057】
チャンバ本体９の右前角部には、入射窓１４が形成される。入射窓１４は、エネルギービームＥＢの入射軸ＩＡ上で、筐体２の右側面の入射孔２ｂと並ぶ位置に形成される。
また、チャンバ本体９の右前角部の内部側において、入射窓１４を囲む位置からエネルギービームＥＢの入射軸ＩＡの方向に沿って突出するように、内側突出部９ｃが構成される。
チャンバ本体９の内部空間のうち、内側突出部９ｃに囲まれた空間が、入射チャンバ４として機能する。入射チャンバ４を構成する内側突出部９ｃ及びチャンバ本体９の右前角部の部分自体を、入射チャンバと呼ぶことも可能である。
内側突出部９ｃは、チャンバ本体９と一体的に形成されてもよいし、別個に形成されたのちにチャンバ本体９に接続されてもよい。
また、チャンバ本体９の右前角部の内部側において、入射窓１４を囲む位置からエネルギービームＥＢの入射軸ＩＡの方向に沿って突出するように、内側突出部９ｃが構成される。
チャンバ本体９の内部空間のうち、内側突出部９ｃに囲まれた空間が、入射チャンバ４として機能する。入射チャンバ４を構成する内側突出部９ｃ及びチャンバ本体９の右前角部の部分自体を、入射チャンバと呼ぶことも可能である。
内側突出部９ｃは、チャンバ本体９と一体的に形成されてもよいし、別個に形成されたのちにチャンバ本体９に接続されてもよい。
【0058】
入射チャンバ４は、エネルギービームＥＢの入射軸ＩＡを中心軸として、コーン形状となるように構成される。入射チャンバ４は、エネルギービームＥＢの入射軸ＩＡの方向において、チャンバ本体９の内部側の端部に近づくにつれて断面積が小さくなるように構成される。すなわち入射チャンバ４は、内部側の端部に近づくにつれて絞られるような形状である。また入射チャンバ４は、内部側の端部にエネルギービームＥＢを通す開口部（アパーチャー）が設けられる。
【0059】
入射チャンバ４の内部には、飛散したプラズマ原料１やデブリを捕捉するための捕捉機構が配置される。図１に示す例では、捕捉機構として、エネルギービームＥＢを透過し、プラズマ原料１やデブリを捕捉する板状の回転部材である回転式窓１５が配置される。回転式窓１５を回転させることで、回転式窓１５のビーム透過領域の実質的な面積が増大し、回転式窓１５の交換頻度を低減することが可能となる。
【0060】
また、図１に示すように、出射チャンバ５及び入射チャンバ４には、ガス注入路１６ａ及び１６ｂがそれぞれ設けられ、図示を省略したガス供給装置から、出射チャンバ５及び入射チャンバ４の内部にガスが供給される。出射チャンバ５には、放射線Ｒに対して透過率の高いガスが供給される。また入射チャンバ４には、エネルギービームＥＢに対して透過率の高いガスが供給される。
【0061】
出射チャンバ５及び入射チャンバ４に供給されるガスは同じ種類のガスであってもよいし、異なる種類のガスであってもよい。例えばアルゴンやヘリウムは、エネルギービームＥＢ及び放射線Ｒの両方に対して透過率の高いガスとして用いることが可能である。この他、出射チャンバ５及び入射チャンバ４に供給されるガスの種類は限定されない。
ガスを供給することで、出射チャンバ５及び入射チャンバ４の内部圧力を真空チャンバ３の内部圧力よりも高い圧力に設定し、デブリ等の侵入を抑制することが可能となる。
ガスを供給することで、出射チャンバ５及び入射チャンバ４の内部圧力を真空チャンバ３の内部圧力よりも高い圧力に設定し、デブリ等の侵入を抑制することが可能となる。
【0062】
チャンバ本体９の内部空間のうち、出射チャンバ５として機能する内側突出部９ｂの内部空間、及び入射チャンバ４として機能する内側突出部９ｃの内部空間を除く空間が、真空チャンバ３として機能する。真空チャンバ３を構成する部分自体を、真空チャンバと呼ぶことも可能である。
【0063】
図１に示すように、チャンバ本体９は、筐体２の左側面の貫通孔２ｄから筐体２の外部に突出する部分を有し、その先端が排気用ポンプ１７に接続される。排気用ポンプ１７の具体的な構成は限定されず、真空ポンプ等の任意のポンプが用いられてよい。
排気用ポンプ１７により真空チャンバ３内が排気され、真空チャンバ３が減圧される。これにより、真空チャンバ３内にて生成される放射線Ｒの減衰が抑制される。
真空チャンバ３内は、入射チャンバ４及び出射チャンバ５に対して減圧雰囲気であればよく、必ずしも真空雰囲気でなくてもよい。また、真空チャンバ３内に不活性ガスが供給されていてもよい。
排気用ポンプ１７により真空チャンバ３内が排気され、真空チャンバ３が減圧される。これにより、真空チャンバ３内にて生成される放射線Ｒの減衰が抑制される。
真空チャンバ３内は、入射チャンバ４及び出射チャンバ５に対して減圧雰囲気であればよく、必ずしも真空雰囲気でなくてもよい。また、真空チャンバ３内に不活性ガスが供給されていてもよい。
【0064】
本実施形態では、入射軸ＩＡと出射軸ＥＡとの間の領域に向けて左右方向に延在するようにガスノズル１８が設置される。ガスノズル１８は、チャンバ本体９の右側面に、シール部材等を介して設置される。ガスノズル１８は、図示を省略したガス供給装置に接続され、チャンバ本体９内にガスを供給する。なお、ガスノズル１８の構成は必須ではなく、ガスノズルを介さない形でガスの供給が行われてもよい。
図１に示す例では、ガスノズル１８から、入射軸ＩＡと出射軸ＥＡとの間の領域の右側から左右方向に沿って左側に向かってガスが吹き付けられる。これにより、プラズマＰから放出されるデブリを、入射軸ＩＡ及び出射軸ＥＡから遠ざかる方向に移動させることが可能となる。
図１に示す例では、ガスノズル１８から、入射軸ＩＡと出射軸ＥＡとの間の領域の右側から左右方向に沿って左側に向かってガスが吹き付けられる。これにより、プラズマＰから放出されるデブリを、入射軸ＩＡ及び出射軸ＥＡから遠ざかる方向に移動させることが可能となる。
【0065】
プラズマ生成機構６は、真空チャンバ３内にてプラズマＰを生成し、放射線Ｒ（Ｘ線、ＥＵＶ光）を放出するための機構である。
プラズマ生成機構６は、原料供給用の円盤状の回転体２０、及び液体状のプラズマ原料１を収容する原料コンテナ２１を含む。回転体２０及び原料コンテナ２１は、真空チャンバ３の内部に配置される。
プラズマ生成機構６は、原料供給用の円盤状の回転体２０、及び液体状のプラズマ原料１を収容する原料コンテナ２１を含む。回転体２０及び原料コンテナ２１は、真空チャンバ３の内部に配置される。
【0066】
図１に示すように、円盤状の回転体２０には、エネルギービームＥＢが入射する。回転体２０は、エネルギービームＥＢの照射位置Ｉが入射軸ＩＡと出射軸ＥＡとの交点の位置に配置されるように、真空チャンバ３内に配置される。なお、回転体の形状は円盤形状に限定されず、例えば多角形形状の回転体等が用いられてもよい。
【0067】
原料コンテナ２１は、回転体２０が浸漬するように設けられ、回転体２０に液体状のプラズマ原料１を供給する。例えば回転体２０は、原料コンテナ２１内の液体状のプラズマ原料１に浸漬した状態で回転可能に保持され、回転体２０の表面にはプラズマ原料１が付着する。この状態で回転体２０が回転することにより、回転体２０の照射位置Ｉにプラズマ原料１が供給される。そして回転体２０の照射位置ＩにエネルギービームＥＢが入射することで、プラズマＰが生成される。
【0068】
このように、原料コンテナ２１は、真空チャンバ３内に設けられ、液体状のプラズマ原料１を貯留して、エネルギービームＥＢの照射位置Ｉに液体状のプラズマ原料１を供給する。原料コンテナ２１は、本技術に係る液体原料を収容可能な収容部の一実施形態に相当する。この他、プラズマ生成機構６の構成については、後に詳しく説明する。
【0069】
制御部７は、光源装置１００が有する各構成要素の動作を制御する。
例えば、制御部７により、ビーム源８や排気用ポンプ１７の動作が制御される。また制御部７により、後に説明する各種モータ、原料供給装置３０等の動作が制御される。
制御部７は、例えばＣＰＵやメモリ（ＲＡＭ、ＲＯＭ）等のコンピュータに必要なハードウェア回路を有する。ＣＰＵがメモリに記憶されている制御プログラムをＲＡＭにロードして実行することにより、種々の処理が実行される。
制御部７として、例えばＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）等のＰＬＤ(Programmable Logic Device)、その他ＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）等のデバイスが用いられてもよい。
図１では、制御部７が機能ブロックとして模式的に図示されているが、制御部７が構成される位置等は任意に設計されてよい。
例えば、制御部７により、ビーム源８や排気用ポンプ１７の動作が制御される。また制御部７により、後に説明する各種モータ、原料供給装置３０等の動作が制御される。
制御部７は、例えばＣＰＵやメモリ（ＲＡＭ、ＲＯＭ）等のコンピュータに必要なハードウェア回路を有する。ＣＰＵがメモリに記憶されている制御プログラムをＲＡＭにロードして実行することにより、種々の処理が実行される。
制御部７として、例えばＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）等のＰＬＤ(Programmable Logic Device)、その他ＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）等のデバイスが用いられてもよい。
図１では、制御部７が機能ブロックとして模式的に図示されているが、制御部７が構成される位置等は任意に設計されてよい。
【0070】
また図１に示すように、本実施形態では、チャンバ本体９の前面側にて、真空チャンバ３と空間的に接続される領域に放射線診断部１９が構成される。放射線診断部１９は、放射線Ｒの出射軸ＥＡとは異なる方向に放射される放射線Ｒが入射する位置に構成される。
放射線診断部１９は、プラズマＰからの放射線Ｒの状態を測定する。ここで放射線Ｒの状態とは、放射線Ｒの強度、波長、スペクトルといった放射線Ｒの物理的状態である。例えば、放射線Ｒの有無を検出する検出器や、放射線の出力を測定する測定器により放射線診断部１９が構成される。
放射線診断部１９による測定結果は、放射線Ｒの診断や、以下で説明する原料供給装置３０の動作制御に用いられる。
放射線診断部１９は、プラズマＰからの放射線Ｒの状態を測定する。ここで放射線Ｒの状態とは、放射線Ｒの強度、波長、スペクトルといった放射線Ｒの物理的状態である。例えば、放射線Ｒの有無を検出する検出器や、放射線の出力を測定する測定器により放射線診断部１９が構成される。
放射線診断部１９による測定結果は、放射線Ｒの診断や、以下で説明する原料供給装置３０の動作制御に用いられる。
【0071】
原料供給装置３０は、原料コンテナ２１内にプラズマ原料１を供給する。原料供給装置３０の具体的な構成、及び原料供給装置３０によるプラズマ原料１の供給タイミング等は限定されない。
【0072】
［スキマー］
図２は、回転体２０及びスキマー４０の構成例を示す模式図である。図２Ａには、回転体２０を図１の紙面奥側（Ｚ方向の負側）から、若干斜めに俯瞰した状態が示されている。図２Ｂには、回転体２０を図１の矢印Ａの方向（Ｙ方向の正側）から見た状態が示されている。
図３は、図２ＢのＢ－Ｂ線での断面図である。図３には、回転体２０の断面を図２Ｂの矢印Ｂの方向（図１の紙面奥側、Ｚ方向の負側）から見た状態が示されている。
図２は、回転体２０及びスキマー４０の構成例を示す模式図である。図２Ａには、回転体２０を図１の紙面奥側（Ｚ方向の負側）から、若干斜めに俯瞰した状態が示されている。図２Ｂには、回転体２０を図１の矢印Ａの方向（Ｙ方向の正側）から見た状態が示されている。
図３は、図２ＢのＢ－Ｂ線での断面図である。図３には、回転体２０の断面を図２Ｂの矢印Ｂの方向（図１の紙面奥側、Ｚ方向の負側）から見た状態が示されている。
【0073】
回転体２０は円盤部４４と軸部４５とを有する。円盤部４４は円盤形状を有し、円形状の表面４１、表面４１の反対側の面である円形状の裏面４２、及び側面４３からなる。回転体２０は、表面４１及び裏面４２が概ねＸＺ平面と平行になるように配置される。また表面４１はＹ方向の正側に位置し、裏面４２はＹ方向の負側に位置する。
【0074】
軸部４５は細長い円柱形状を有し、円形状の面（上面又は下面）が回転体２０の裏面４２の中央に当接するように配置される。図２Ａ及び３には、回転体２０の回転軸Ｈが破線で示されている。また図２Ｂには、回転軸Ｈが黒丸で示されている。回転軸ＨはＹ軸に平行であり、軸部４５は回転軸Ｈに沿って延在する。軸部４５が回転軸Ｈを中心として回転することにより、回転体２０（円盤部４４と軸部４５）が一体的に回転する。
【0075】
図２Ａ及びＢには、回転体２０の回転の向きが矢印で示されている。このように回転体は、Ｙ方向の正側から見た場合に反時計回りに回転する。この向きは、図３においては回転体２０の右側が奥側に向かい、左側が手前側に向かう回転の向きに相当する。
【0076】
回転体２０は、例えば金属等の剛性を有する材料により構成される。あるいはプラズマ原料１やエネルギービームＥＢ、放射線Ｒとの反応による劣化を防止するために、これらとの反応性が低い材料が適宜用いられてもよい。その他回転体２０の具体的な構成は限定されない。例えば本技術を実現可能な範囲であれば、回転体２０が多角形形状である構成や、回転の向きが時計回りである構成等も採用可能である。
【0077】
回転体２０は、本技術に係る第１の回転体の一実施形態に相当する。
表面４１は、本技術に係る第１の面の一実施形態に相当する。
裏面４２は、本技術に係る第２の面の一実施形態に相当する。
表面４１は、本技術に係る第１の面の一実施形態に相当する。
裏面４２は、本技術に係る第２の面の一実施形態に相当する。
【0078】
図３には、円盤部４４に付着したプラズマ原料１が網掛け模様で模式的に図示されている。このように本実施形態では、円盤部４４の全体に所定の膜厚でプラズマ原料１が付着する。なお図３には、模式的に膜厚がどの位置でも概ね同じ大きさで示されているが、実際にはプラズマ原料１の付着位置によって膜厚の大きさは異なる。
【0079】
表面４１のうち原料コンテナ２１に浸漬されていない部分は、プラズマ原料１が付着する面である付着面の一実施形態に相当する。また、プラズマ原料１が付着する面であり、エネルギービームＥＢが照射される面である照射面の一実施形態に相当する。
【0080】
さらに本実施形態では、回転体２０に対してスキマー４０が設けられる。図３には、スキマー４０が破線の矩形にて示されている。スキマー４０は、球体４６、筒体４７、弾性体４８及び球体抑え４９を有する。
【0081】
球体４６は球状の形状を有し、例えば金属等の材料により構成される。球体４６の材料や径等は限定されない。筒体４７は円筒状の形状を有し、筒の径が球体４６の径以上となるように構成される。本実施形態では、筒体４７の径及び球体４６の径は概ね同じ大きさであり、筒体４７の内部に球体４６が概ね隙間なく収納される。その他筒体４７の材料、径、長さ等の具体的な構成は限定されない。例えば本技術を実現可能な範囲であれば、筒体４７が多角形の筒状の形状である構成等も採用可能である。
【0082】
弾性体４８は弾性を有する部材である。本実施形態では、弾性体４８としてばねが用いられる。図２Ｂに示すように、本実施形態ではＺ方向に沿って２つのばねが並べて配置されるが、弾性体４８の個数や配置は限定されない。また弾性体４８の種類や弾性力等の具体的な構成も限定されない。
球体抑え４９は、板状の形状を有する部材である。
球体抑え４９は、板状の形状を有する部材である。
【0083】
図３に示すように、本例では筒体４７がＹ方向に沿って延在するように配置され、内部には上側から順に弾性体４８、球体抑え４９、球体４６が収納される。なお図示を省略しているが、例えば筒体４７の上面は塞がれた状態となっており、当該上面に弾性体４８の上端が固定される。
【0084】
弾性体４８により、球体４６が表面４１に対して押圧される。具体的には、球体４６は球体抑え４９を介して弾性体４８の弾性力（下向きの力）を受け、表面４１に対して押圧された状態となる。これにより、回転体２０が回転していない状態においては、球体４６の下端は表面４１に当接した状態となる。
【0085】
球体４６は、本技術に係る当接部材の一実施形態に相当する。
筒体４７、弾性体４８、及び球体抑え４９は、本技術に係る支持部材の一実施形態に相当する。
回転体２０及びスキマー４０は、本技術に係る膜厚調整機構の一実施形態に相当する。
筒体４７、弾性体４８、及び球体抑え４９は、本技術に係る支持部材の一実施形態に相当する。
回転体２０及びスキマー４０は、本技術に係る膜厚調整機構の一実施形態に相当する。
【0086】
［膜厚の調整］
球体４６は、筒体４７、弾性体４８、及び球体抑え４９により、Ｙ方向に移動可能に支持される。具体的には、回転体２０が回転した場合には、表面４１に付着したプラズマ原料１による液圧が、球体４６の下部に対して作用する。これにより球体４６は図３における上向きの力を受ける。一方で球体４６は弾性体４８から下向きの力を受けており、プラズマ原料１の上向きの力が弾性体４８の下向きの力を超えた時に、球体４６は上側に移動する。弾性体４８の下向きの力は、球体４６が上側に移動するにつれて徐々に大きくなるため、やがてプラズマ原料１の力と弾性体４８の力が釣り合う位置で球体４６は静止する。
球体４６は、筒体４７、弾性体４８、及び球体抑え４９により、Ｙ方向に移動可能に支持される。具体的には、回転体２０が回転した場合には、表面４１に付着したプラズマ原料１による液圧が、球体４６の下部に対して作用する。これにより球体４６は図３における上向きの力を受ける。一方で球体４６は弾性体４８から下向きの力を受けており、プラズマ原料１の上向きの力が弾性体４８の下向きの力を超えた時に、球体４６は上側に移動する。弾性体４８の下向きの力は、球体４６が上側に移動するにつれて徐々に大きくなるため、やがてプラズマ原料１の力と弾性体４８の力が釣り合う位置で球体４６は静止する。
【0087】
すなわち回転中は、球体４６が表面４１に当接せず若干浮きあがり、その間にプラズマ原料１が流入した状態となる。逆に回転が止まった場合には、球体４６に対してプラズマ原料１による上向きの力は働かなくなるため、球体４６は表面４１に当接して静止した状態となる。このように球体４６は、回転体２０の回転に伴って上下方向に移動する。一方で球体４６は筒体４７により固定されているため、左右方向や奥行方向に動くことはない。
【0088】
球体４６が移動可能に支持される方向（Ｙ方向）は、照射面（表面４１、すなわちＸＺ平面に平行な面）に直交する方向の一実施形態に相当する。
なお筒体４７がＹ方向に対して斜めに配置され、球体４６が斜めに移動する場合も、球体４６がＹ方向に移動可能に支持されていることに含まれる。すなわち球体４６がＹ方向の成分を含む方向に移動可能である場合が、本技術の範囲に含まれる。球体４６がスムーズに動くようにするために、球体４６と筒体４７との間にベアリング機構が設けられてもよい。
なお筒体４７がＹ方向に対して斜めに配置され、球体４６が斜めに移動する場合も、球体４６がＹ方向に移動可能に支持されていることに含まれる。すなわち球体４６がＹ方向の成分を含む方向に移動可能である場合が、本技術の範囲に含まれる。球体４６がスムーズに動くようにするために、球体４６と筒体４７との間にベアリング機構が設けられてもよい。
【0089】
球体４６が弾性体４８から受ける力が大きい場合には、球体４６と表面４１との隙間は小さくなる。例えば弾性体４８であるばねのばね定数が大きい場合にこのような状態となり得る。逆に球体４６が弾性体４８から受ける力が小さい場合には、隙間は小さくなる。
【0090】
また球体４６がプラズマ原料１から受ける力が小さい場合には、隙間は小さくなる。例えば回転体２０の回転が遅い場合に液圧が低下し、このような状態となり得る。逆に回転体２０の回転が速い場合には、隙間は大きくなる。
【0091】
その他、回転体２０やスキマー４０を構成する各部材の形状、材料、あるいはプラズマ原料１の材料等に依存して、隙間の大きさが決まることとなる。すなわちこれらの構成を適宜決定することにより、隙間の大きさを所望の値に制御することが可能である。言い換えれば、スキマー４０の位置においてプラズマ原料１の膜厚を所望の値に調整することが可能である。
【0092】
本実施形態では、回転の中心と球体４６の先端との距離、及び回転の中心と照射位置Ｉとの距離が概ね等しくなるように光源装置１００が構成される。従って表面４１のうちスキマー４０の位置にあった部分は、回転体２０の回転により照射位置Ｉに移動する。すなわち、当該部分で所望の膜厚に調整されたプラズマ原料１が、照射位置Ｉに移動する。
【0093】
これにより照射位置Ｉにおいて、所望の膜厚で付着したプラズマ原料１にエネルギービームＥＢが照射される。なお回転の途中で遠心力等により膜厚が増加することも考えられるが、その場合は膜厚の増加量を考慮してあらかじめスキマー４０の位置における膜厚を小さめに調整することにより、いずれにしろ照射位置Ｉにおいては所望の膜厚を得ることが可能である。膜厚の増加量は回転体２０の回転速度等に依存して決まるため、それらの値を考慮した計算や試行によって求めることが可能である。
【0094】
［当接部材の形状］
図４は、球体４６の近傍の拡大図である。
本実施形態では、表面４１に当接する当接部材は、表面４１と平行な面における断面積が、当接部材及び表面４１の当接位置から当接部材側に向かうにつれて増加する。
図４は、球体４６の近傍の拡大図である。
本実施形態では、表面４１に当接する当接部材は、表面４１と平行な面における断面積が、当接部材及び表面４１の当接位置から当接部材側に向かうにつれて増加する。
【0095】
図４Ａには、平面５２が破線で図示されている。平面５２はＸＺ平面に平行な面であり、表面４１と平行な面に相当する。また平面５２と表面４１との距離はｄ１となっている。図４Ａには、球体４６を平面５２で切った場合の断面が斜線模様で示されている。当該断面の断面積はＳ１となっている。
【0096】
同様に図４Ｂでは、平面５２と表面４１との距離はｄ１より大きいｄ２となっている。ここで図４Ｂにおける断面積Ｓ２は、図４Ａにおける断面積Ｓ１よりも大きい値となる。すなわち表面４１と平面５２との距離が増加すれば、球体４６を平面５２で切った場合の断面積もまた増加する。
【0097】
従って球体４６は、平面５２が当接位置から当接部材側（球体４６側、Ｙ方向の正側）に向かうにつれて断面積が増加する性質を持つ。以下簡単のために当該性質を断面積増加の性質と記載する場合がある。本例では当接部材として球体４６が用いられているが、断面積増加の性質を持つ任意の形状の当接部材が採用されてよい。
【0098】
図５は、砲弾型の当接部材の断面図である。
本例では当接部材が砲弾型の形状を有し、先端が表面４１に当接する。図５に示す砲弾体５５もまた断面積増加の性質を持つため、このような形状の当接部材が用いられてもよい。
本例では当接部材が砲弾型の形状を有し、先端が表面４１に当接する。図５に示す砲弾体５５もまた断面積増加の性質を持つため、このような形状の当接部材が用いられてもよい。
【0099】
あるいは、先端のみが球状である円錐形状や角錐形状、先端が平面であるが断面積増加の性質を持つ形状等が採用されてもよく、当接部材の具体的な形状は限定されない。なお球体４６を用いた例では、球体４６の上半分においてはＹ方向の正側に向かうにつれて断面積が減少するが、このように当接位置の近傍のみにおいて断面積増加の性質を持つ場合も本技術の範囲に含まれる。同様に砲弾体５５も途中から断面積が変化しなくなるが、このような当接部材も本技術の範囲に含まれる。
【0100】
当接部材は、当接部材が移動可能な方向の軸を中心軸とする回転体であってもよい。図２～５の例では、当接部材が移動可能な方向はＹ方向である。球体４６や砲弾体５５はいずれもＹ軸を中心軸とする回転体であるため、当接部材が移動可能な方向の軸を中心軸とする回転体である。これらに限定されず、例えば円錐や円錐台等も上記の回転体となり得る。
球体４６及び砲弾体５５は、本技術に係る第２の回転体の一実施形態に相当する。
球体４６及び砲弾体５５は、本技術に係る第２の回転体の一実施形態に相当する。
【0101】
以上、本実施形態に係る光源装置１００では、エネルギービームＥＢが照射される回転体２０の表面４１に、当接部材が当接される。当接部材は表面４２に直交する方向に移動可能に支持され、表面４１に対して押圧される。また当接部材は、表面４１と平行な面における断面積が、当接部材及び表面４１の当接位置から当接部材側に向かうにつれて増加する。これにより、速い回転数においても液体原料を一定の膜厚で塗布することが可能となる。
【0102】
ＥＵＶ光源装置においては、高出力を得るためにエネルギービームＥＢの周波数を高くする必要がある。しかしながらこの場合、照射により発生する熱量もまた増加するため、熱を逃がす何らかの対策が必要となる。例えば回転体２０の回転を速くすることで、回転体２０の各々の領域が短いスパンでプラズマ原料１に浸漬されるようになるため、冷却効率が上昇する。
【0103】
このような回転体の速度としては、１０ｍ／ｓｅｃ以上の値が望ましいとされている。しかしながらこういった大きい速度で回転体２０が回転する場合、プラズマ原料１が当接部材に高速で衝突するようになる。また回転体２０により原料コンテナ２１から持ち上げられるプラズマ原料１の量も多くなるため、より多くのプラズマ原料１が当接部材に衝突するようになる。これら２つの要因によりプラズマ原料１がスキマーに与える液圧が増加する。
【0104】
液圧が増加するとスキマーが大きく動いてしまい、膜厚の制御が困難となる。また最悪の場合にはスタッキングが起こり、光源装置１００の機能が停止してしまうといったこともあり得る。
【0105】
本実施形態では、当接部材として断面積増加の性質を持つ部材が用いられる。これにより、当接部材によりプラズマ原料１が徐々に押しのけられるようになるため、当接部材がプラズマ原料１から受ける液圧が相対的に小さくなる。従って、スキマー４０が動いてしまう、あるいはスタッキングが起こってしまうといった問題を解消することが可能となる。
【0106】
例えば当接部材として平板形状の部材（断面積増加の性質を持たない部材）が用いられた場合には、当接部材のうちプラズマ原料１が向かってくる方向の面（図３の手前側の面）は平面であるため、平面の全面にプラズマ原料１が衝突することとなる。すなわち当接部材が受ける液圧は大きくなる。
【0107】
一方で本実施形態では、プラズマ原料１が球体４６の先端以外の部位に避けながら押しのけられるため、平板形状の部材を用いる時に比べて当接部材が受ける液圧が小さくなり、液圧に起因する不具合を防止することが可能となる。
【0108】
また当接部材として球体４６や砲弾体５５が用いられることにより、プラズマ原料１に接する部位が点になるため、一か所の膜厚を精度よく調整することが可能となる。その他先端が点で接する様々な当接部材においてこのような効果を得ることが可能であり、適宜任意の形状を採用することが可能である。この構成はエネルギービームＥＢの照射面積が比較的小さいＬＰＰ方式の光源装置において特に有効である。一例として、ＬＰＰ方式では照射面が数十～数百μｍ程度の径の円となり、膜厚が調整される部分は１ｍｍ以下の径の円となる。もちろん照射面及び膜厚が調整される部分の形状がこれらに限定されるわけではない。
【0109】
先端が球状である当接部材が用いられることにより、先端に働く摩擦力等の力が軽減され、当接部材の損耗を抑制することが可能となる。もちろん先端が鋭利な当接部材を用いる場合が本技術の範囲から排除されるわけではない。
【0110】
本実施形態では、円筒状の筒体４７により当接部材が支持され、当接部材としては当接部材が移動可能な方向の軸を中心軸とする回転体が用いられる。すなわち当接部材が回転軸の方向以外の方向には動かないように支持される。これにより液圧の影響による球体４６のぶれが抑制される。
【0111】
本実施形態では、当接部材が弾性体４８により押圧される。これにより、当接部材を安定して動作させることが可能となる。さらに当接部材に対して一定の力が働くようになるため、膜厚をさらに高精度に調整することが可能となる。
【0112】
本実施形態では、回転体２０として円盤形状の部材が用いられ、円形状の表面４１にエネルギービームＥＢが照射される。また原料コンテナ２１が配置され、原料コンテナ２１に収容されたプラズマ原料１に回転体２０が浸漬される。これによりＬＰＰ方式の高品質な光源装置１００を実現することが可能となる。
【0113】
＜第２の実施形態＞
本技術に係る光源装置１００について、さらに詳細な実施形態を第２の実施形態として説明する。これ以降の説明では、上記の実施形態で説明した光源装置１００における構成及び作用と同様な部分については、その説明を省略又は簡略化する。
本技術に係る光源装置１００について、さらに詳細な実施形態を第２の実施形態として説明する。これ以降の説明では、上記の実施形態で説明した光源装置１００における構成及び作用と同様な部分については、その説明を省略又は簡略化する。
【0114】
［溝部］
図６は、溝部の構成例を示す模式図である。
図６Ａには、円盤部４４のうちスキマー４０の近傍を、図２Ａにおける右手前側から斜めに俯瞰した状態が示されている。図６Ｂは図３と同様の、Ｚ方向の正側から見た断面図である。
図６は、溝部の構成例を示す模式図である。
図６Ａには、円盤部４４のうちスキマー４０の近傍を、図２Ａにおける右手前側から斜めに俯瞰した状態が示されている。図６Ｂは図３と同様の、Ｚ方向の正側から見た断面図である。
【0115】
本例では、円盤部４４の表面４１及び裏面４２に溝部５８が構成され、エネルギービームＥＢが溝部５８に照射され、当接部材が溝部５８に当接する。溝部５８は所定の幅を有し、円盤部４４に垂直な方向（Ｙ方向）から見た場合には、回転体２０の回転軸Ｈを中心とするリング形状を有する。溝部５８は球体４６の当接位置及びエネルギービームＥＢの照射位置Ｉのいずれにも重なる位置に構成される。
【0116】
従って球体４６により、溝部５８の内部に付着するプラズマ原料１の膜厚が調整され、回転体２０が回転し、当該溝部５８のプラズマ原料１にエネルギービームＥＢが照射される。
【0117】
球体４６は図３等の例と同様に、筒体４７、弾性体４８、及び球体抑え４９により支持される。なお図６においては弾性体４８及び球体抑え４９の図示は省略されている。さらに本例では筒体４７が固定部材５９により固定される。固定部材５９は矩形の３辺からなる枠状の形状を有し、３辺で円盤部４４を挟み込むように配置される。固定部材５９の上部及び下部には開口が構成され、２つの開口にそれぞれ筒体４７が嵌め込まれることにより筒体４７が固定される。固定部材５９を用いることにより、筒体４７や球体４６を安定して保持することが可能となる。その他固定部材５９の具体的な形状や材料は限定されない。また筒体４７を固定する方法も、固定部材５９を用いた方法に限定されない。
【0118】
図６Ｂに示すように、本例では溝部５８の断面は矩形状となる。球体４６は溝部５８の底部に当接できるような径を有し、さらに球体４６が溝部５８の底部に当接した時に、球体４６は溝部の境界（図６Ｂにおける、上側の溝部５８の左上及び右上の角、及び下側の溝部５８の左下及び右下の角）にも同時に当接する。これにより、球体４６の先端と溝部５８の底部との当接位置における膜厚が、所望の値に調整される。そして当該位置にエネルギービームＥＢが照射される。このような構成を実現可能なように、溝部５８並びに球体４６の形状、及びエネルギービームＥＢの照射角度等の構成が適宜選択される。
【0119】
なお球体４６の径が小さい場合には、球体４６が溝部５８の底部に当接するものの、境界には当接しない場合も考えられる。このような場合でも溝部５８の底部の膜厚が調整されることに変わりはなく、問題は生じない。
【0120】
円盤部４４の表面４１に溝部５８が構成されることにより、球体４６のすわりが良くなり、位置安定性を向上させることが可能となる。これにより、球体４６が想定外の方向に移動してしまうといったことがなくなる。
【0121】
［溝部のバリエーション］
図７は、溝部のバリエーションを示す模式図である。
溝部６２は、ＸＹ平面で切った場合の断面が三角形状を有する。
溝部６３は、図６Ｂに示す溝部５８と同様に、断面が矩形状を有する。溝部６３の断面は、正方形状又は長方形状のいずれであってもよい。
溝部６４は、断面が半円形状を有する。断面が半円の一部に相当する形状（例えば１２０度の弧及び弦に囲まれた形状等）であってもよい。
溝部６５は、断面が台形状を有する。本例では上底の幅が下底の幅よりも小さくなっているが、上底の幅が下底の幅より大きくてもよい。
図７には、溝部６２の幅Ｗ及び深さＤが矢印で示されている。各々の溝部６２～６５の幅Ｗ及び深さＤの値は、球体４６の大きさ等に合わせて適宜選択されてよい。
図７は、溝部のバリエーションを示す模式図である。
溝部６２は、ＸＹ平面で切った場合の断面が三角形状を有する。
溝部６３は、図６Ｂに示す溝部５８と同様に、断面が矩形状を有する。溝部６３の断面は、正方形状又は長方形状のいずれであってもよい。
溝部６４は、断面が半円形状を有する。断面が半円の一部に相当する形状（例えば１２０度の弧及び弦に囲まれた形状等）であってもよい。
溝部６５は、断面が台形状を有する。本例では上底の幅が下底の幅よりも小さくなっているが、上底の幅が下底の幅より大きくてもよい。
図７には、溝部６２の幅Ｗ及び深さＤが矢印で示されている。各々の溝部６２～６５の幅Ｗ及び深さＤの値は、球体４６の大きさ等に合わせて適宜選択されてよい。
【0122】
このうち溝部６４は、球体４６と同一の形状を有する。すなわち溝部６４は半球形状を有し、球体４６の下方側もまた半球形状を有する。これにより、球体４６の位置安定性をさらに向上させることが可能となる。なお、溝部６４が大きい半球形状で球体４６が小さい半球形状である場合等、同一形状でサイズが違う構成であってもよい。
【0123】
また溝部６２、６３、及び６５の断面は、球体４６の断面と異なる形状を有する。すなわちいずれの溝部の断面も、球体４６の断面（半円形状）とは異なる形状となっている。これにより、球体４６により押しのけられない部位の原料がバッファとなり、膜厚を一定にするのにより効果の高い構成となりうる。例えば回転体２０の回転数が高い場合に、プラズマ原料１の膜厚が薄くなり、量が不足する場合がある。このような場合に、球体４６の形状と溝部の形状とが異なる構成を用いることで、球体４６により押しのけられないプラズマ原料１が多くなるため、その分がバッファとなり、不足するプラズマ原料１の量を補う効果を得ることが可能となる。
【0124】
その他、溝部５８の具体的な形状は限定されない。なお例えば溝部６２の形状が採用される場合には、球体４６と溝部６２との当接位置は三角形の斜めの辺上となるため、当該位置に対して斜めにエネルギービームＥＢが照射される。これに限らず、例えば三角形の中央の底部に溜まったプラズマ原料１に対してエネルギービームＥＢが照射されてもよい。この場合、底部に所望の膜厚でプラズマ原料１が溜まるように球体４６や溝部６２の形状が調整される。このように当接位置と照射位置とが厳密には微妙に異なる場合も、本技術の範囲に含まれる。
【0125】
＜第３の実施形態＞
［自重による押圧］
図８は、回転体２０及びスキマー４０の構成例を示す断面図である。本例では。回転体２０及びスキマー４０が重力方向（Ｚ方向）に対して斜めに配置される。具体的には、回転軸ＨがＺ軸を基準としてＹ軸側におよそ４５度の角度をなすように、回転体２０等が配置される。もちろん配置角度はこの値に限定されない。
［自重による押圧］
図８は、回転体２０及びスキマー４０の構成例を示す断面図である。本例では。回転体２０及びスキマー４０が重力方向（Ｚ方向）に対して斜めに配置される。具体的には、回転軸ＨがＺ軸を基準としてＹ軸側におよそ４５度の角度をなすように、回転体２０等が配置される。もちろん配置角度はこの値に限定されない。
【0126】
砲弾体５５は筒体４７により重力方向に移動可能に支持される。本例では砲弾体５５は矢印Ｃの方向（斜め４５度の方向）に移動可能となるが、この方向は重力方向の成分を含む方向であるため、重力方向に移動可能であると言える。また砲弾体５５にはＺ軸の負方向に重力が働くため、そのうち斜め４５度の成分の力（矢印Ｃの右下方向の力）により、砲弾体５５の先端は円盤部４４の表面４１に対して押圧される。すなわち砲弾体５５は、砲弾体５５の自重により表面４１に対して押圧される。
【0127】
この場合、例えば砲弾体５５の材料として密度の高い材料を選択することにより、砲弾体５５に働く自重が大きくなり、調整後の膜厚を小さくすることが可能である。逆に密度の低い材料を選択することにより、膜厚を大きくすることも可能である。また回転体２０の角度を変化させることで、砲弾体５５に働く自重の斜め成分の大きさが変化し、膜厚もまた変化する。その他砲弾体５５の大きさ等の種々の構成を適宜選択することにより、所望の膜厚を得ることが可能となる。
これにより、当接部材を表面４１に対して押圧するための弾性体４８、球体抑え４９といった機構が不要となり、簡易な構成で光源装置１００を実現することが可能となる。
これにより、当接部材を表面４１に対して押圧するための弾性体４８、球体抑え４９といった機構が不要となり、簡易な構成で光源装置１００を実現することが可能となる。
【0128】
【0129】
本例では、光源装置としてＬＤＰ方式の光源装置が用いられる。図９には、ＬＤＰ方式の光源装置におけるプラズマ生成機構６７が図示されている。プラズマ生成機構６７は２つの回転体６８及び６９を有する。回転体６８は円盤部７０と軸部７１とを有する。また回転体６９は円盤部７２と軸部７３とを有する。回転体６８及び６９の構成は、図２等に示すＬＰＰ方式の光源装置１００における回転体２０の構成と同様であるが、もちろんこのような構成に限定されない。
【0130】
回転体６８は図９の右側に配置され、回転体６９は左側に配置される。また回転体６８は原料コンテナ７９に浸漬され、回転体６９は原料コンテナ８０に浸漬される。図１０Ａには、図９のＤ－Ｄ線に沿った断面を上側（Ｚ方向の正側）から見た状態が図示されている。図１０Ａに示すように、回転体６８は回転軸を反時計回りの方向に若干傾けて配置される。同様に、回転体６９は回転軸を時計回りの方向に若干傾けて配置される。
【0131】
円盤部７０の右側にはスキマー７４が配置される。また円盤部７２の左側にはスキマー６６が配置される。以下、右側のスキマー７４の構成について説明する。スキマー６６の構成はスキマー７４の構成と同様である。図１０Ｂは、スキマー７４（図１０Ａの破線の矩形部分）の拡大図である。
【0132】
スキマー７４は、図２等に示すスキマー４０と同様に、球体７５、筒体７６、固定部材７７、弾性体、及び球体抑えを有する。なお図１０Ｂでは弾性体及び球体抑えの図示は省略されている。固定部材７７は矩形の３辺からなる枠状の形状を有し、３辺で円盤部７０を挟み込むように配置される。本例では固定部材７７の、円盤部７０の側面７８に対向する位置に開口が構成され、開口に筒体７６が嵌め込まれることにより筒体７６が固定される。さらに筒体７６には球体７５が挿入され、球体７５の先端が円盤部７０の側面７８に当接する。
【0133】
これにより、側面７８に付着したプラズマ原料１の膜厚が、球体７５により所望の値に調整される。ＬＤＰ方式の光源装置においては、回転体の表面ではなく側面に対してエネルギービームＥＢが照射される。このような場合においても本技術の構成が適用可能であり、膜厚を精度よく調整することが可能となる。
本例において、側面７８のうち原料コンテナ２１に浸漬されていない部分は、本技術に係る、プラズマ原料１が付着する面であり、エネルギービームＥＢが照射される照射面の一実施形態に相当する。なお側面７８に溝部が構成されてもよい。
本例において、側面７８のうち原料コンテナ２１に浸漬されていない部分は、本技術に係る、プラズマ原料１が付着する面であり、エネルギービームＥＢが照射される照射面の一実施形態に相当する。なお側面７８に溝部が構成されてもよい。
【0134】
【0135】
図１１には、回転体６８及び原料コンテナ７９が示されている。本例でも光源装置はＬＤＰ方式であり、円盤部７０の側面７８にスキマー８１が配置される。図１２Ａは、スキマー８１（図１１の破線の矩形部分）の拡大図である。図１２Ｂは、図１２Ａの固定部材８４を透明にした拡大図である。
【0136】
スキマー８１は、ローラー８２、弾性体８３、及び固定部材８４を有する。ローラー８２は円柱形状を有し、円形状の上面、底面及び側面８５を有する。また、上面及び底面の中心に突出部８６を有する。
弾性体８３は、本例では２つのばねである。
弾性体８３は、本例では２つのばねである。
【0137】
固定部材８４は矩形の３辺からなる枠状の形状を有し、３辺で円盤部７０を挟み込むように配置される。固定部材８４の２つの側部（ＸＺ平面に平行な面）には開口８７が構成され、内部には弾性体８３が横向きに（軸がＸ方向に延在するように）配置される。さらに開口８７の左端にはローラー８２の突出部８６が嵌め込まれ、突出部８６は弾性体８３により左側に押圧される。
【0138】
すなわちローラー８２全体が弾性体８３による左向きの力を受け、円盤部７０の側面７８に対して押圧される。これにより、ローラー８２の側面８５が円盤部７０の側面７８に当接するように配置される。
【0139】
このような構成によっても膜厚を調整することが可能である。ローラー８２を用いることにより、広い面積の膜厚を精度よく調整することが可能となる。ＬＤＰ方式の光源装置は発光面積が広い（広い範囲に対してエネルギービームＥＢが照射される）ため、ローラー８２を用いた構成はＬＤＰ方式の光源装置において特に効果的である。
【0140】
なお、ローラー８２の大きさ等の具体的な構成は限定されない。一例として、ローラー８２の厚み（Ｙ方向の長さ）は、円盤部７０の厚みよりも若干大きく設定される。また円盤部７０の側面７８に溝部が構成される場合、大きな溝部に対して溝部よりも小さいローラー８２が当接し、溝の内部とローラー８２との当接位置の膜厚が調整されてもよい。一方で、小さな溝部に対して溝部よりも大きいローラー８２が当接し、図７の三角形の溝部６２と同様に、溝部の内部に溜まったプラズマ原料１に対してエネルギービームＥＢが照射されてもよい。また、円盤部７０の表面に対してローラー８２が配置される構成が採用されてもよい。
ローラー８２は、本技術に係る当接部材の一実施形態に相当する。
ローラー８２は、本技術に係る当接部材の一実施形態に相当する。
【0141】
＜第６の実施形態＞
［当接部材のバリエーション］
図１３Ａは、図２ＢのＥ－Ｅ線での断面図である。
図１３Ｂ及びＣは、図１３Ａにおける当接部材の近傍の拡大図である。
本例では当接部材９０の断面は、左下及び右下の角が丸い長方形状を有する。
［当接部材のバリエーション］
図１３Ａは、図２ＢのＥ－Ｅ線での断面図である。
図１３Ｂ及びＣは、図１３Ａにおける当接部材の近傍の拡大図である。
本例では当接部材９０の断面は、左下及び右下の角が丸い長方形状を有する。
【0142】
当接部材９０は、回転体２０の回転方向と垂直な面における断面積が、回転の下流側に向かうにつれて増加する。回転体２０の回転方向は図１３における左右方向であり、回転方向と垂直な面とはＺ軸に垂直な面、すなわちＸＹ平面に相当する。図１３Ｂ及びＣには、ＸＹ平面９１が実線及び破線で示されている。
【0143】
図１３Ｂには、当接部材９０の左端の近傍をＸＹ平面９１で切った時の断面が破線で示されている。また図１３Ｃには、図１３Ｂの場合よりも若干右側をＸＹ平面９１で切った時の断面が破線で示されている。ここで当接部材９０の断面は左下の角が丸くなっているため、図１３Ｃの断面積Ｓ４は図１３Ｂの断面積Ｓ３よりも大きくなる。回転体２０の回転の向きは左から右に向かう向きであるため、回転の下流側は右側である。従って、当接部材９０の断面積は、回転の下流側に向かうにつれて増加していると言える。
【0144】
なお本例では、当接部材９０の中央部では断面積が変化せず、右端では回転の下流側に向かうにつれて断面積が減少するが、このように当接部材９０の左端のみにおいて断面積が増加する場合も本技術の範囲に含まれる。
【0145】
これにより、当接部材９０に向かってくるプラズマ原料１が、当接部材９０の左端で少しずつ押しのけられながら進行するため、平板形状の当接部材を用いる時に比べて当接部材９０が相対的に受ける液圧が小さくなり、液圧に起因する不具合を防止することが可能となる。
【0146】
さらに本例では、当接部材９０は、回転体２０の回転の上流側に曲面形状のテーパ面を有する。図１３Ｂ及びＣに示す左下の角の丸い部分が、当該テーパ面９２となる。ここで回転の上流側とは左側であるため、当接部材９０は回転の上流側にテーパ面９２を有していると言える。
【0147】
これにより、当接部材９０が受ける液圧がさらに小さくなる。なお一例として、プラズマ原料１の流入前（当接部材９０より左側）の膜厚は数百μｍ、流入後（右側、膜厚調整後）の膜厚は数十μｍとなる。この場合、テーパ面９２の上端の位置は流入前の膜厚よりも高い位置にあることが望ましい。すなわち、テーパ面９２の上端と円盤部４４の表面４１との距離が数百μｍよりも大きいことが望ましい。これにより、プラズマ原料１の全体がテーパ面９２に触れながら流入することとなり、さらに高い効果が発揮される。もちろんこれらの寸法はあくまで一例であり、具体的な値は限定されない。またテーパ面９２の具体的な形状も限定されない。
【0148】
図１４は、当接部材のバリエーションを示す模式図である。
当接部材９５には、当接部材９０と同様に左下にテーパ面９２が構成されるが、右下にはテーパ面が構成されない。
当接部材９６～９９は、回転体２０の回転の上流側（左側）に平面形状のテーパ面１１０を有する。当接部材９６及び９７のテーパ面１１０は高さが小さいテーパ面、当接部材９８及び９９のテーパ面１１０は左側の側面の全体に渡るテーパ面となっている。また当接部材９６及び９８では右側にも左側と同じ形状のテーパ面が構成され、当接部材９７及び９９では右側にテーパ面は構成されない。
当接部材９５には、当接部材９０と同様に左下にテーパ面９２が構成されるが、右下にはテーパ面が構成されない。
当接部材９６～９９は、回転体２０の回転の上流側（左側）に平面形状のテーパ面１１０を有する。当接部材９６及び９７のテーパ面１１０は高さが小さいテーパ面、当接部材９８及び９９のテーパ面１１０は左側の側面の全体に渡るテーパ面となっている。また当接部材９６及び９８では右側にも左側と同じ形状のテーパ面が構成され、当接部材９７及び９９では右側にテーパ面は構成されない。
【0149】
平面形状のテーパ面１１０が構成されることにより、当接部材９０が受ける液圧がさらに小さくなる。また右側にテーパ面を有しない構成とすることにより、当接部材の加工に要する時間やコストを削減することが可能となる。その他本例以外にも任意の形状の当接部材が用いられてよい。
【0150】
＜その他の実施形態＞
本技術は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。
［当接部材の回転］
当接部材は、回転体２０の回転に伴って回転してもよい。例えば図１２Ａにおいて円盤部７０が反時計回りに回転した場合には、連動してローラー８２が時計回りに回転する。また図３においても、球体４６が転がる構成、転がらない構成のいずれも採用することが可能である。当接部材が回転することにより、当接部材と円盤部４４の表面４１との間に発生する摩擦力が小さくなり、当接部材や円盤部４４の摩耗が抑制される。また、回転体２０をスムーズに回転させることが可能となる。
本技術は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。
［当接部材の回転］
当接部材は、回転体２０の回転に伴って回転してもよい。例えば図１２Ａにおいて円盤部７０が反時計回りに回転した場合には、連動してローラー８２が時計回りに回転する。また図３においても、球体４６が転がる構成、転がらない構成のいずれも採用することが可能である。当接部材が回転することにより、当接部材と円盤部４４の表面４１との間に発生する摩擦力が小さくなり、当接部材や円盤部４４の摩耗が抑制される。また、回転体２０をスムーズに回転させることが可能となる。
【0151】
［プラズマ原料の種類］
プラズマ原料１としては、スズ、リチウム、ガドリニウム、テルビウム、ガリウム、ビスマス、インジウム、又はこれらの材料のうちの少なくとも１つを含む合金を用いることが可能である。例えば放射線ＲとしてＥＵＶ光が取り出され、当該ＥＵＶ光が顕微鏡に用いられる場合には、材料としてビスマスが用いられる。また放射線ＲとしてＸ線が生成される場合には、材料としてインジウムが用いられる。これらの材料を用いることにより、高品質な放射線Ｒを生成することが可能となる。その他プラズマ原料１の具体的な種類は限定されない。例えばプラズマ原料１は金属同士の潤滑剤としての役割も有するため、その役割が考慮された上でプラズマ原料１の種類が決定されてもよい。
プラズマ原料１としては、スズ、リチウム、ガドリニウム、テルビウム、ガリウム、ビスマス、インジウム、又はこれらの材料のうちの少なくとも１つを含む合金を用いることが可能である。例えば放射線ＲとしてＥＵＶ光が取り出され、当該ＥＵＶ光が顕微鏡に用いられる場合には、材料としてビスマスが用いられる。また放射線ＲとしてＸ線が生成される場合には、材料としてインジウムが用いられる。これらの材料を用いることにより、高品質な放射線Ｒを生成することが可能となる。その他プラズマ原料１の具体的な種類は限定されない。例えばプラズマ原料１は金属同士の潤滑剤としての役割も有するため、その役割が考慮された上でプラズマ原料１の種類が決定されてもよい。
【0152】
［エネルギービーム及び放射線の種類］
エネルギービームＥＢ及び放射線Ｒの具体的な種類は限定されない。例えばエネルギービームＥＢとしてレーザ光を用いることが可能である。これにより高品質な放射線Ｒを生成することが可能となる。また例えば、放射線Ｒとして極端紫外光（ＥＵＶ光）又はＸ線が生成される。これにより放射線Ｒを効率良く利用することが可能となる。
エネルギービームＥＢ及び放射線Ｒの具体的な種類は限定されない。例えばエネルギービームＥＢとしてレーザ光を用いることが可能である。これにより高品質な放射線Ｒを生成することが可能となる。また例えば、放射線Ｒとして極端紫外光（ＥＵＶ光）又はＸ線が生成される。これにより放射線Ｒを効率良く利用することが可能となる。
【0153】
各図面を参照して説明した光源装置、プラズマ原料、プラズマ生成機構、回転体、スキマー、当接部材、筒体、弾性体、砲弾体、溝部、テーパ面の各構成はあくまで一実施形態であり、本技術の趣旨を逸脱しない範囲で、任意に変形可能である。すなわち本技術を実施するための他の任意の構成等が採用されてよい。
【0154】
本開示において、「略」という文言が使用される場合、これはあくまで説明の理解を容易とするための使用であり、「略」という文言の使用／不使用に特別な意味があるわけではない。すなわち、本開示において、「中心」「中央」「均一」「等しい」「同じ」「直交」「平行」「対称」「延在」「軸方向」「三角形状」「矩形状」「正方形状」「長方形状」「多角形形状」「円形状」「半円形状」「台形状」「平面形状」「曲面形状」「円柱形状」「円錐形状」「角錐形状」「円盤形状」「立方体形状」「直方体形状」「球状の形状」「円筒状の形状」「砲弾型の形状」「リング形状」「コーン形状」「枠状の形状」等の、形状、サイズ、位置関係、状態等を規定する概念は、「実質的に中心」「実質的に中央」「実質的に均一」「実質的に等しい」「実質的に同じ」「実質的に直交」「実質的に平行」「実質的に対称」「実質的に延在」「実質的に軸方向」「実質的に三角形状」「実質的に矩形状」「実質的に正方形状」「実質的に長方形状」「実質的に多角形形状」「実質的に円形状」「実質的に半円形状」「実質的に台形状」「実質的に平面形状」「実質的に曲面形状」「実質的に円柱形状」「実質的に円錐形状」「実質的に角錐形状」「実質的に円盤形状」「実質的に立方体形状」「実質的に直方体形状」「実質的に球状の形状」「実質的に円筒状の形状」「実質的に砲弾型の形状」「実質的にリング形状」「実質的にコーン形状」「枠状の形状」等を含む概念とする。例えば「完全に中心」「完全に中央」「完全に均一」「完全に等しい」「完全に同じ」「完全に直交」「完全に平行」「完全に対称」「完全に延在」「完全に軸方向」「完全に三角形状」「完全に矩形状」「完全に正方形状」「完全に長方形状」「完全に多角形形状」「完全に円形状」「完全に半円形状」「完全に台形状」「完全に平面形状」「完全に曲面形状」「完全に円柱形状」「完全に円錐形状」「完全に角錐形状」「完全に円盤形状」「完全に立方体形状」「完全に直方体形状」「完全に球状の形状」「完全に円筒状の形状」「完全に砲弾型の形状」「完全にリング形状」「完全にコーン形状」「完全に枠状の形状」等を基準とした所定の範囲（例えば±１０％の範囲）に含まれる状態も含まれる。従って、「略」の文言が付加されていない場合でも、いわゆる「略」を付加して表現される概念が含まれ得る。反対に、「略」を付加して表現された状態について、完全な状態が排除される訳ではない。
【0155】
本開示において、「Ａより大きい」「Ａより小さい」といった「より」を使った表現は、Ａと同等である場合を含む概念と、Ａと同等である場合を含まない概念の両方を包括的に含む表現である。例えば「Ａより大きい」は、Ａと同等は含まない場合に限定されず、「Ａ以上」も含む。また「Ａより小さい」は、「Ａ未満」に限定されず、「Ａ以下」も含む。本技術を実施する際には、上記で説明した効果が発揮されるように、「Ａより大きい」及び「Ａより小さい」に含まれる概念から、具体的な設定等を適宜採用すればよい。
【0156】
以上説明した本技術に係る特徴部分のうち、少なくとも２つの特徴部分を組み合わせることも可能である。すなわち各実施形態で説明した種々の特徴部分は、各実施形態の区別なく、任意に組み合わされてもよい。また上記で記載した種々の効果は、あくまで例示であって限定されるものではなく、また他の効果が発揮されてもよい。
【符号の説明】
【0157】
１…プラズマ原料
６、６７…プラズマ生成機構
８…ビーム源
２０、６８、６９…回転体
２１、７９、８０…原料コンテナ
４０、６６、７４、８１…スキマー
４１…表面
４３、８５…側面
４４、７０、７２…円盤部
４６…球体
４７、７６…筒体
４８、８３…弾性体
５２…平面
５５…砲弾体
５８、６２～６５…溝部
８２…ローラー
９０、９５～９９…当接部材
９１…ＸＹ平面
９２、１１０…テーパ面
１００…光源装置
６、６７…プラズマ生成機構
８…ビーム源
２０、６８、６９…回転体
２１、７９、８０…原料コンテナ
４０、６６、７４、８１…スキマー
４１…表面
４３、８５…側面
４４、７０、７２…円盤部
４６…球体
４７、７６…筒体
４８、８３…弾性体
５２…平面
５５…砲弾体
５８、６２～６５…溝部
８２…ローラー
９０、９５～９９…当接部材
９１…ＸＹ平面
９２、１１０…テーパ面
１００…光源装置
【図1】
【図2A】
【図2B】
【図3】
【図4A】
【図4B】
【図5】
【図6A】
【図6B】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10A】
【図10B】
【図11】
【図12A】
【図12B】
【図13A】
【図13B】
【図13C】
【図14】