特開 2024-179150 蛍光Ｘ線分析装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024179150

(43)【公開日】2024-12-26

(54)【発明の名称】蛍光Ｘ線分析装置

(51)【国際特許分類】

   G01N 23/223 20060101AFI20241219BHJP

【ＦＩ】

G01N23/223

【審査請求】有

【請求項の数】2

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023097750

(22)【出願日】2023-06-14

(71)【出願人】

【識別番号】000250339

【氏名又は名称】株式会社リガク

(74)【代理人】

【識別番号】100087941

【弁理士】

【氏名又は名称】杉本 修司

(74)【代理人】

【識別番号】100112829

【弁理士】

【氏名又は名称】堤 健郎

(74)【代理人】

【識別番号】100142608

【弁理士】

【氏名又は名称】小林 由佳

(74)【代理人】

【識別番号】100155963

【弁理士】

【氏名又は名称】金子 大輔

(74)【代理人】

【識別番号】100150566

【弁理士】

【氏名又は名称】谷口 洋樹

(74)【代理人】

【識別番号】100213470

【弁理士】

【氏名又は名称】中尾 真二

(74)【代理人】

【識別番号】100220489

【弁理士】

【氏名又は名称】笹沼 崇

(72)【発明者】

【氏名】今林 洋一

(72)【発明者】

【氏名】原 真也

(72)【発明者】

【氏名】堂井 真

【テーマコード（参考）】

2G001

【Ｆターム（参考）】

2G001AA01

2G001BA04

2G001CA01

2G001EA01

2G001EA03

2G001FA10

2G001FA30

2G001GA01

2G001GA13

2G001HA05

2G001KA01

(57)【要約】

【課題】数え落とし補正を行う定量手段により試料の定量分析を行う蛍光Ｘ線分析装置において、計数精度に数え落とし補正の揺らぎを適切に反映させる装置を提供する。
【解決手段】定量手段が、計数精度として、補正前積分強度および補正前微分強度に基づいて式（１）により補正後微分強度の理論標準偏差を計算して表示する。
σ_Ｗ（Ｉ_ｔ０，Ｉ_Ｗ０）＝（（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_ｔ０）^２・σ_Ｉｔ０ ^２＋（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_Ｗ０）^２・σ_ＩＷ０ ^２）^１／２ …（１）
σ_Ｗ：補正後微分強度の理論標準偏差，Ｉ_ｔ０：補正前積分強度，Ｉ_Ｗ０：補正前微分強度，Ｉ_Ｗ：補正後微分強度，σ_Ｉｔ０：補正前積分強度の理論標準偏差，σ_ＩＷ０：補正前微分強度の理論標準偏差
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

Ｘ線管から試料に１次Ｘ線を照射し、発生する蛍光Ｘ線の強度に基づいて、数え落とし補正を行う定量手段により、前記試料の定量分析を行う蛍光Ｘ線分析装置であって、
前記定量手段が、次式（１）を用いて補正後微分強度の理論標準偏差を計算して表示器に表示する蛍光Ｘ線分析装置。
σ_Ｗ（Ｉ_ｔ０，Ｉ_Ｗ０）＝（（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_ｔ０）^２・σ_Ｉｔ０ ^２＋（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_Ｗ０）^２・σ_ＩＷ０ ^２）^１／２ …（１）
ここで、式中の各記号および各項については左から順に以下のとおり。
σ_Ｗ：補正後微分強度の理論標準偏差
Ｉ_ｔ０：補正前積分強度
Ｉ_Ｗ０：補正前微分強度
Ｉ_Ｗ：補正後微分強度
（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_ｔ０）：Ｉ_ｔ０に対するＩ_Ｗの偏微分係数
（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_ｔ０）＝（（Ｉ_Ｗ・τ_ｄ）／（１－Ｉ_Ｗ・τ_Ｗ））・（∂Ｉ_ｔ／∂Ｉ_ｔ０）＝（（Ｉ_Ｗ・τ_ｄ）／（１－Ｉ_Ｗ・τ_Ｗ））・（（Ｉ_ｔ／Ｉ_ｔ０）／（１－Ｉ_ｔ・τ_ｄ））
τ_ｄ：積分強度についての数え落とし補正係数
τ_Ｗ：微分強度についての数え落とし補正係数
Ｉ_ｔ：補正後積分強度
σ_Ｉｔ０：補正前積分強度の理論標準偏差
（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_Ｗ０）：Ｉ_Ｗ０に対するＩ_Ｗの偏微分係数
（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_Ｗ０）＝（Ｉ_Ｗ／Ｉ_Ｗ０）／（１－Ｉ_Ｗ・τ_Ｗ）
σ_ＩＷ０：補正前微分強度の理論標準偏差

【請求項2】

請求項１に記載の蛍光Ｘ線分析装置において、
前記定量手段が、
あらかじめ求められた補正前積分強度と補正前微分強度との関係に基づいて、補正後微分強度に対する補正後微分強度の理論標準偏差の比である変動係数について、その変動係数が極小となる補正後微分強度を最適補正後微分強度として求め、
前記Ｘ線管の管電流値が補正後微分強度に比例するとの仮定のもとに、変動係数が極小となる最適管電流値を最適補正後微分強度から求めて表示器に表示する蛍光Ｘ線分析装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、試料に１次Ｘ線を照射し、発生する蛍光Ｘ線の強度に基づいて、数え落とし補正を行う定量手段により、試料の定量分析を行う蛍光Ｘ線分析装置に関する。

【背景技術】

【0002】

一般に、蛍光Ｘ線分析においては、高計数率で、つまり高強度の蛍光Ｘ線でＸ線の数え落としが目立ってくるため、数え落とし補正が行われる。数え落とし補正を行う場合の計数精度の推定値としては、数え落とし補正後の強度Ｉ（kcps）の統計誤差から計算した理論標準偏差σ、つまり、数え落とし補正後の強度Ｉ（kcps）および測定時間Ｔ（秒）からσ＝（Ｉ／１０００Ｔ）^１／２と計算した理論標準偏差σが用いられる。

【0003】

また、別の手法として、特許文献１に記載の蛍光Ｘ線分析装置では、数え落としが発生する場合にも、適切な計数時間と分析精度での測定を行うために、計数精度（数え落とし補正後の強度の理論標準偏差）を、数え落とし補正を行う前の強度である補正前強度の計数精度と、その補正前強度に対する補正後強度の勾配との積として推定することにより、数え落としの影響を計数精度に反映させている（段落００３４－００３５等参照）。なお、蛍光Ｘ線の強度には、分析線（分析対象の蛍光Ｘ線）のピークを含む所定の波高範囲の累積強度である微分強度と、検出器に入射する全波高範囲の累積強度である積分強度とがあるが、特許文献１に記載の蛍光Ｘ線分析装置では、段落００３２における式（６）から理解されるように、積分強度を用いている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０２２－０８６６６９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、これらの従来技術による計数精度の推定では、数え落とし補正の揺らぎが考慮されていないため、蛍光Ｘ線が高強度になるほど推定される計数精度が高く（数値としては小さく、良好に）なってしまい、その結果、高強度の測定では、実際の繰り返し精度よりもかなり高い計数精度が推定されてしまうことが判明した。これでは、適切な計数精度での定量分析ができない。

【0006】

本発明は前記従来の問題に鑑みてなされたもので、数え落とし補正を行う定量手段により試料の定量分析を行う蛍光Ｘ線分析装置において、数え落とし補正の揺らぎを適切に反映させた計数精度を計算して表示できる装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

前記目的を達成するために、本発明は、Ｘ線管から試料に１次Ｘ線を照射し、発生する蛍光Ｘ線の強度に基づいて、数え落とし補正を行う定量手段により、前記試料の定量分析を行う蛍光Ｘ線分析装置であって、前記定量手段が、次式（１）を用いて補正後微分強度の理論標準偏差を計算して表示器に表示する。

【0008】

σ_Ｗ（Ｉ_ｔ０，Ｉ_Ｗ０）＝（（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_ｔ０）^２・σ_Ｉｔ０ ^２＋（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_Ｗ０）^２・σ_ＩＷ０ ^２）^１／２ …（１）
ここで、式中の各記号および各項については左から順に以下のとおり。
σ_Ｗ：補正後微分強度の理論標準偏差
Ｉ_ｔ０：補正前積分強度（kcps）
Ｉ_Ｗ０：補正前微分強度（kcps）
Ｉ_Ｗ：補正後微分強度（kcps）
（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_ｔ０）：Ｉ_ｔ０に対するＩ_Ｗの偏微分係数
（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_ｔ０）＝（（Ｉ_Ｗ・τ_ｄ）／（１－Ｉ_Ｗ・τ_Ｗ））・（∂Ｉ_ｔ／∂Ｉ_ｔ０）＝（（Ｉ_Ｗ・τ_ｄ）／（１－Ｉ_Ｗ・τ_Ｗ））・（（Ｉ_ｔ／Ｉ_ｔ０）／（１－Ｉ_ｔ・τ_ｄ））
τ_ｄ：積分強度についての数え落とし補正係数
τ_Ｗ：微分強度についての数え落とし補正係数
Ｉ_ｔ：補正後積分強度（kcps）
σ_Ｉｔ０：補正前積分強度の理論標準偏差
σ_Ｉｔ０＝（Ｉ_ｔ０／１０００Ｔ）^１／２
Ｔ：測定時間（秒）
（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_Ｗ０）：Ｉ_Ｗ０に対するＩ_Ｗの偏微分係数
（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_Ｗ０）＝（Ｉ_Ｗ／Ｉ_Ｗ０）／（１－Ｉ_Ｗ・τ_Ｗ）
σ_ＩＷ０：補正前微分強度の理論標準偏差
σ_ＩＷ０＝（Ｉ_Ｗ０／１０００Ｔ）^１／２
上記σ_Ｉｔ０，σ_ＩＷ０の具体的数式はＩ_ｔ０，Ｉ_Ｗ０の揺らぎの分布としてPoisson分布を仮定した一例であり、数え落としなどの補正項を含む数式や別の確率分布を用いてもよい。

【0009】

本発明の蛍光Ｘ線分析装置によれば、定量手段が、計数精度として、補正前積分強度および補正前微分強度に基づいて式（１）により補正後微分強度の理論標準偏差を計算して表示するので、計数精度に数え落とし補正の揺らぎを適切に反映させることができる。したがって、適切な計数精度での定量分析が容易にできる。

【0010】

本発明の蛍光Ｘ線分析装置においては、前記定量手段が、あらかじめ求められた補正前積分強度と補正前微分強度との関係に基づいて、補正後微分強度に対する補正後微分強度の理論標準偏差の比である変動係数について、その変動係数が極小となる補正後微分強度を最適補正後微分強度として求め、前記Ｘ線管の管電流値が補正後微分強度に比例するとの仮定のもとに、変動係数が極小となる最適管電流値を最適補正後微分強度から求めて表示器に表示してもよい。この場合には、補正後微分強度に対する補正後微分強度の理論標準偏差の比である変動係数が極小となる最適管電流値が表示されるので、適切な計数精度での定量分析がいっそう容易にできる。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】本発明の一実施形態の蛍光Ｘ線分析装置を示す概略図である。

【発明を実施するための形態】

【0012】

以下、本発明の一実施形態の蛍光Ｘ線分析装置について説明する。図１に示すように、本実施形態の蛍光Ｘ線分析装置は、試料１，１４（未知試料１と標準試料１４の双方を含む）に１次Ｘ線３を照射して発生する２次Ｘ線５の強度を測定する走査型の蛍光Ｘ線分析装置であって、試料１，１４が載置される試料台２と、試料１，１４に１次Ｘ線３を照射するＸ線管４と、試料１，１４から発生する蛍光Ｘ線などの２次Ｘ線５を分光する分光素子６と、その分光素子６で分光された２次Ｘ線７が入射され、その強度を検出する検出器８とを備えている。検出器８の出力は、図示しない増幅器、波高分析器、計数手段などを経て、装置全体を制御するコンピューターなどの制御手段１１に入力される。

【0013】

本実施形態の蛍光Ｘ線分析装置は、波長分散型でかつ走査型の蛍光Ｘ線分析装置であり、検出器８に入射する２次Ｘ線７の波長が変化するように、分光素子６と検出器８を連動させる連動手段１０、すなわちいわゆるゴニオメーターを備えている。２次Ｘ線５がある入射角θで分光素子６へ入射すると、その２次Ｘ線５の延長線９と分光素子６で分光（回折）された２次Ｘ線７は入射角θの２倍の分光角２θをなすが、連動手段１０は、分光角２θを変化させて分光される２次Ｘ線７の波長を変化させつつ、その分光された２次Ｘ線７が検出器８に入射するように、分光素子６を、その表面の中心を通る紙面に垂直な軸Ｏを中心に回転させ、その回転角の２倍だけ、検出器８を、軸Ｏを中心に円１２に沿って回転させる。分光角２θの値（２θ角度）は、連動手段１０から制御手段１１に入力される。なお、本発明においては、蛍光Ｘ線分析装置は、波長分散型でかつ多元素同時分析型の蛍光Ｘ線分析装置でもよいし、エネルギー分散型の蛍光Ｘ線分析装置でもよい。

【0014】

本実施形態の蛍光Ｘ線分析装置は、制御手段１１に搭載されるプログラムとして定量手段１３を備えており、蛍光Ｘ線５の測定強度に基づいて、数え落とし補正を行う定量手段１３により、試料１，１４の定量分析を行う。定量手段１３は、次式（１）を用いて補正後微分強度の理論標準偏差σ_Ｗ（Ｉ_ｔ０，Ｉ_Ｗ０）を計算して、制御手段１１に接続された液晶ディスプレイ等の表示器１５に表示する。

【0015】

σ_Ｗ（Ｉ_ｔ０，Ｉ_Ｗ０）＝（（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_ｔ０）^２・σ_Ｉｔ０ ^２＋（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_Ｗ０）^２・σ_ＩＷ０ ^２）^１／２ …（１）
ここで、式中の各記号および各項については左から順に以下のとおり。
σ_Ｗ：補正後微分強度の理論標準偏差
Ｉ_ｔ０：補正前積分強度（kcps）
Ｉ_Ｗ０：補正前微分強度（kcps）
Ｉ_Ｗ：補正後微分強度（kcps）
（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_ｔ０）：Ｉ_ｔ０に対するＩ_Ｗの偏微分係数
（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_ｔ０）＝（（Ｉ_Ｗ・τ_ｄ）／（１－Ｉ_Ｗ・τ_Ｗ））・（∂Ｉ_ｔ／∂Ｉ_ｔ０）＝（（Ｉ_Ｗ・τ_ｄ）／（１－Ｉ_Ｗ・τ_Ｗ））・（（Ｉ_ｔ／Ｉ_ｔ０）／（１－Ｉ_ｔ・τ_ｄ））
τ_ｄ：積分強度についての数え落とし補正係数
τ_Ｗ：微分強度についての数え落とし補正係数
Ｉ_ｔ：補正後積分強度（kcps）
σ_Ｉｔ０：補正前積分強度の理論標準偏差
σ_Ｉｔ０＝（Ｉ_ｔ０／１０００Ｔ）^１／２
Ｔ：測定時間（秒）
（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_Ｗ０）：Ｉ_Ｗ０に対するＩ_Ｗの偏微分係数
（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_Ｗ０）＝（Ｉ_Ｗ／Ｉ_Ｗ０）／（１－Ｉ_Ｗ・τ_Ｗ）
σ_ＩＷ０：補正前微分強度の理論標準偏差
σ_ＩＷ０＝（Ｉ_Ｗ０／１０００Ｔ）^１／２
上記σ_Ｉｔ０，σ_ＩＷ０の具体的数式はＩ_ｔ０，Ｉ_Ｗ０の揺らぎの分布としてPoisson分布を仮定した一例である。

【0016】

式（１）に関する数値のうち、補正前積分強度Ｉ_ｔ０および補正前微分強度Ｉ_Ｗ０は、従来の装置と同様に、測定により取得され、積分強度についての数え落とし補正係数τ_ｄ、微分強度についての数え落とし補正係数τ_Ｗ、測定時間Ｔも、従来の装置と同様に、分析線、用いる検出器、検出する波高範囲ＰＨＡ等とともに、測定条件として制御手段１１に入力されることにより、取得される。

【0017】

数え落とし補正については、種々の補正式が知られているが、拡張死時間モデル（窒息型）に基づく次式（２），（３）を用いている。

【0018】

Ｉ_ｔ＝Ｉ_ｔ０exp(Ｉ_ｔ・τ_ｄ) …（２）
Ｉ_Ｗ＝Ｉ_Ｗ０exp(Ｉ_ｔ・τ_ｄ)exp(Ｉ_Ｗ・τ_Ｗ) …（３）

【0019】

式（２）により得られる補正後積分強度Ｉ_ｔを補正前積分強度Ｉ_ｔ０で偏微分した式、式（３）により得られる補正後微分強度Ｉ_Ｗを補正前微分強度Ｉ_Ｗ０で偏微分した式、および、式（３）により得られる補正後微分強度Ｉ_Ｗを補正前積分強度Ｉ_ｔ０で偏微分した式から、上記の、Ｉ_Ｗ０に対するＩ_Ｗの偏微分係数（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_Ｗ０）、および、Ｉ_ｔ０に対するＩ_Ｗの偏微分係数（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_ｔ０）が求められる。

【0020】

さて、一般に定量分析には補正後微分強度Ｉ_Ｗが用いられるところ、式（１）では、補正前積分強度Ｉ_ｔ０と補正前微分強度Ｉ_Ｗ０は独立と仮定し、補正前積分強度の理論標準偏差σ_Ｉｔ０と、補正前積分強度Ｉ_ｔ０に対する補正後微分強度Ｉ_Ｗの偏微分係数つまり勾配（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_ｔ０）との積を求めるとともに、補正前微分強度の理論標準偏差σ_ＩＷ０と、補正前微分強度Ｉ_Ｗ０に対する補正後微分強度Ｉ_Ｗの偏微分係数つまり勾配（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_Ｗ０）との積を求め、両者の二乗平均平方根として、補正後微分強度の理論標準偏差σ_Ｗ（Ｉ_ｔ０，Ｉ_Ｗ０）を計算している。本発明の蛍光Ｘ線分析装置では、この補正後微分強度の理論標準偏差σ_Ｗ（Ｉ_ｔ０，Ｉ_Ｗ０）を計数精度として表示するので、計数精度に数え落とし補正の揺らぎを適切に反映させることができる。したがって、適切な計数精度での定量分析が容易にできる。

【0021】

本発明の効果に関し、以下のような検証を行った。Ｓｉ－Ｋα線（１．７４keV）について、ＰＣ検出器を用い、波高範囲ＰＨＡを１００－３００とし、測定時間Ｔ＝２０（秒）、積分強度についての数え落とし補正係数τ_ｄ＝１．４２×１０^－７、微分強度についての数え落とし補正係数τ_Ｗ＝１．０３×１０^－７という測定条件で、実際に２０回の繰り返し測定を行って、補正後微分強度Ｉ_Ｗの標準偏差０．３７４を得た。補正後微分強度Ｉ_Ｗの平均値は、１２０７．４４（kcps）であった。ここで、補正後微分強度Ｉ_Ｗの統計誤差から計算する従来の理論標準偏差は、（１２０７．４４／(１０００×２０)）^１／２＝０．２４６であり、実際の繰り返し測定による標準偏差０．３７４より３４％も小さい（高精度の、良好な）数値が推定されてしまう。

【0022】

これに対し、本発明の蛍光Ｘ線分析装置では、補正前積分強度Ｉ_ｔ０の平均値：１０５２．９４（kcps）、補正前微分強度Ｉ_Ｗ０の平均値：８９１．６８（kcps）、補正前積分強度の理論標準偏差σ_Ｉｔ０＝（Ｉ_ｔ０／１０００Ｔ）^１／２＝０．２２９、補正前微分強度の理論標準偏差σ_ＩＷ０＝（Ｉ_Ｗ０／１０００Ｔ）^１／２＝０．２１１、Ｉ_Ｗ０に対するＩ_Ｗの偏微分係数（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_Ｗ０）＝（Ｉ_Ｗ／Ｉ_Ｗ０）／（１－Ｉ_Ｗ・τ_Ｗ）＝１．５４６４、Ｉ_ｔ０に対するＩ_Ｗの偏微分係数（∂Ｉ_Ｗ／∂Ｉ_ｔ０）＝（（Ｉ_Ｗ・τ_ｄ）／（１－Ｉ_Ｗ・τ_Ｗ））・（（Ｉ_ｔ／Ｉ_ｔ０）／（１－Ｉ_ｔ・τ_ｄ））＝０．２８５１を用いて、式（１）から、実際の繰り返しによる補正後微分強度Ｉ_Ｗの標準偏差０．３７４に十分に近い（１１％だけ小さい）、補正後微分強度の理論標準偏差σ_Ｗ＝０．３３３が推定される。このように、本発明の蛍光Ｘ線分析装置によれば、計数精度としての補正後微分強度の理論標準偏差σ_Ｗ（Ｉ_ｔ０，Ｉ_Ｗ０）に数え落とし補正の揺らぎを適切に反映させることができる。

【0023】

さて、本願発明者は、数え落とし補正の揺らぎについて検討する過程で、補正後微分強度Ｉ_Ｗに対する補正後微分強度の理論標準偏差σ_Ｗの比である変動係数Ｃ.Ｖ.について、高強度において単調減少ではなく極小値が存在することを見出した。そこで、本実施形態の蛍光Ｘ線分析装置においては、さらに、定量手段１３が、あらかじめ求められた補正前積分強度Ｉ_ｔ０と補正前微分強度Ｉ_Ｗ０との関係に基づいて、補正後微分強度Ｉ_Ｗに対する補正後微分強度の理論標準偏差σ_Ｗの比である変動係数Ｃ.Ｖ.について、その変動係数が極小となる補正後微分強度を最適補正後微分強度Ｉ_Ｗ ^ｏｐｔとして求め、Ｘ線管４の管電流値Ｃが補正後微分強度Ｉ_Ｗに比例するとの仮定のもとに、変動係数Ｃ.Ｖ.が極小となる最適管電流値Ｃ^ｏｐｔを最適補正後微分強度Ｉ_Ｗ ^ｏｐｔから求めて表示器１５に表示する。

【0024】

この動作は、より具体的には、以下のように行われる。まず、補正前積分強度Ｉ_ｔ０と補正前微分強度Ｉ_Ｗ０との関係が、分析線、用いる検出器、検出する波高範囲ＰＨＡ等の測定条件に応じて、あらかじめ求められ、Ｉ_ｔ０に対するＩ_Ｗ０のフィッティング関数の係数が、定量手段１３に格納される。また、従来の装置と同様に、測定条件決定のための予備測定により、測定時の管電流値Ｃ^ｍｅｓおよび分析線の補正後微分強度Ｉ_Ｗ ^ｍｅｓが取得される。積分強度についての数え落とし補正係数τ_ｄ、微分強度についての数え落とし補正係数τ_Ｗも、前述したように、従来の装置と同様に、測定条件として制御手段１１に入力されることにより、取得される。

【0025】

以上の準備の後、変数としての補正前積分強度Ｉ_ｔ０から、前式（２）により補正後積分強度Ｉ_ｔを求めるとともに、上述のあらかじめ求められた補正前積分強度Ｉ_ｔ０と補正前微分強度Ｉ_Ｗ０との関係により補正前微分強度Ｉ_Ｗ０を求める。次に、補正前微分強度Ｉ_Ｗ０、補正後積分強度Ｉ_ｔから、前式（３）により補正後微分強度Ｉ_Ｗを求め、さらに、その補正後微分強度Ｉ_Ｗを用いて前式（１）により変動係数Ｃ.Ｖ.（Ｉ_Ｗ）＝σ_Ｗ（Ｉ_ｔ０，Ｉ_Ｗ０）／Ｉ_Ｗを求める。この変動係数Ｃ.Ｖ.（Ｉ_Ｗ）は、分析線、用いる検出器、検出する波高範囲ＰＨＡ等の測定条件に応じて求められる。

【0026】

そして、回帰計算により、変動係数Ｃ.Ｖ.（Ｉ_Ｗ）が極小となる補正後微分強度を最適補正後微分強度Ｉ_Ｗ ^ｏｐｔとして求める。さらに、Ｘ線管４の管電流値Ｃが補正後微分強度Ｉ_Ｗに比例するとの仮定のもとに、変動係数Ｃ.Ｖ.が極小となる最適管電流値Ｃ^ｏｐｔを、最適補正後微分強度Ｉ_Ｗ ^ｏｐｔから、Ｃ^ｏｐｔ＝Ｃ^ｍｅｓ×（Ｉ_Ｗ ^ｏｐｔ／Ｉ_Ｗ ^ｍｅｓ）として求めて表示器１５に表示する。この場合には、補正後微分強度Ｉ_Ｗに対する補正後微分強度の理論標準偏差σ_Ｗ（Ｉ_ｔ０，Ｉ_Ｗ０）の比である変動係数Ｃ.Ｖ.（Ｉ_Ｗ）が極小となる最適管電流値Ｃ^ｏｐｔが表示されるので、適切な計数精度での定量分析がいっそう容易にできる。

【0027】

なお、管電流値Ｃを設定可能範囲で低下させるだけでは最適補正後微分強度Ｉ_Ｗ ^ｏｐｔが得られない場合には、図１に示すように、蛍光Ｘ線５の光路に、絞り孔を有するアッテネータ１６を進退機構１７により進出させることにより、検出器８に入射する蛍光Ｘ線７を減衰させる。管電流値Ｃの制御に所定の減衰率をもつアッテネータ１６を併用することは公知技術であり、アッテネータ１６を用いる場合には、定量手段１３は、アッテネータ１６の所定の減衰率で減衰された補正後微分強度Ｉ_Ｗについて、変動係数Ｃ.Ｖ.が極小となる最適補正後微分強度Ｉ_Ｗ ^ｏｐｔを求め、その最適補正後微分強度Ｉ_Ｗ ^ｏｐｔから変動係数Ｃ.Ｖ.が極小となる最適管電流値Ｃ^ｏｐｔを求めて、アッテネータ１６追加の旨とともに表示器１５に表示する。

【符号の説明】

【0028】

１ 未知試料
３ １次Ｘ線
４ Ｘ線管
５ 蛍光Ｘ線
１３ 定量手段
１４ 標準試料
１５ 表示器

【図1】