知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
特開2024-179348マスク装置、アライメントマスク及びマスク装置の製造方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024179348
(43)【公開日】2024-12-26
(54)【発明の名称】マスク装置、アライメントマスク及びマスク装置の製造方法
(51)【国際特許分類】
C23C 14/04 20060101AFI20241219BHJP
【ＦＩ】
C23C14/04 A
【審査請求】未請求
【請求項の数】19
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023098113
(22)【出願日】2023-06-14
(71)【出願人】
【識別番号】000002897
【氏名又は名称】大日本印刷株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100120031
【弁理士】
【氏名又は名称】宮嶋 学
(74)【代理人】
【識別番号】100127465
【弁理士】
【氏名又は名称】堀田 幸裕
(74)【代理人】
【識別番号】100158964
【弁理士】
【氏名又は名称】岡村 和郎
(72)【発明者】
【氏名】岡本 英介
【テーマコード（参考）】
4K029
【Ｆターム（参考）】
4K029AA09
4K029BA62
4K029BD01
4K029CA01
4K029HA01
4K029HA02
4K029HA03
4K029HA04
(57)【要約】 （修正有）
【課題】フレームの開口の近傍に基板ホルダを配置しながら基板ホルダとフレームとの間の干渉を抑制するマスク装置の提供。
【解決手段】マスク装置は開口を挟んで第１方向において対向する第１及び第２部分と第２方向において開口を挟んで対向する第３及び第４部分とを含むフレームと、第１及び第２部分においてフレーム第１面に固定された複数のマスクと第３部分の内縁を覆うよう延びる第１アライメントマスクとを備える。第３部分は厚み方向においてフレーム第１面に対して凹んでいる第３凹部を含む。第１アライメントマスクの中間部はフレームの第３部分に重なる外側側縁と、第２方向において外側側縁に対向する内側側縁を含む。第１アライメントマスクの外側側縁は直線部と平面視において直線部から内側側縁に向かって凹み平面視において第３凹部に重なる第３切り欠きを含む。第１アライメントマスクの複数の固定部の一部は第３切り欠きの輪郭に沿って並ぶ。
【選択図】図４
【解決手段】マスク装置は開口を挟んで第１方向において対向する第１及び第２部分と第２方向において開口を挟んで対向する第３及び第４部分とを含むフレームと、第１及び第２部分においてフレーム第１面に固定された複数のマスクと第３部分の内縁を覆うよう延びる第１アライメントマスクとを備える。第３部分は厚み方向においてフレーム第１面に対して凹んでいる第３凹部を含む。第１アライメントマスクの中間部はフレームの第３部分に重なる外側側縁と、第２方向において外側側縁に対向する内側側縁を含む。第１アライメントマスクの外側側縁は直線部と平面視において直線部から内側側縁に向かって凹み平面視において第３凹部に重なる第３切り欠きを含む。第１アライメントマスクの複数の固定部の一部は第３切り欠きの輪郭に沿って並ぶ。
【選択図】図４
【特許請求の範囲】
【請求項1】
マスク装置であって、
開口を挟んで第１方向において対向する第１部分及び第２部分と、前記第１方向に直交する第２方向において前記開口を挟んで対向する第３部分及び第４部分と、フレーム第１面と、前記フレーム第１面の反対側に位置するフレーム第２面と、を含むフレームと、
前記第１部分及び前記第２部分において前記フレーム第１面に固定され、前記開口を横切るよう延びる複数のマスクと、
前記フレーム第１面に固定され、前記第３部分の内縁を覆うよう延びる第１アライメントマスクと、を備え、
前記第３部分は、厚み方向において前記フレーム第１面に対して凹んでいる第３凹部を含み、
前記第１アライメントマスクは、前記第１方向において対向する第１端部及び第２端部と、前記第１端部と前記第２端部との間に位置する中間部と、アライメントマークと、前記第１アライメントマスクを前記フレーム第１面に固定する複数の固定部と、を含み、
前記第１アライメントマスクの前記中間部は、前記フレームの前記第３部分に重なる外側側縁と、前記第２方向において前記外側側縁に対向する内側側縁と、を含み、
前記第１アライメントマスクの前記外側側縁は、直線部と、平面視において前記直線部から前記内側側縁に向かって凹み、平面視において前記第３凹部に重なる第３切り欠きと、を含み、
前記第１アライメントマスクの前記複数の固定部の一部は、前記第３切り欠きの輪郭に沿って位置する、マスク装置。
開口を挟んで第１方向において対向する第１部分及び第２部分と、前記第１方向に直交する第２方向において前記開口を挟んで対向する第３部分及び第４部分と、フレーム第１面と、前記フレーム第１面の反対側に位置するフレーム第２面と、を含むフレームと、
前記第１部分及び前記第２部分において前記フレーム第１面に固定され、前記開口を横切るよう延びる複数のマスクと、
前記フレーム第１面に固定され、前記第３部分の内縁を覆うよう延びる第１アライメントマスクと、を備え、
前記第３部分は、厚み方向において前記フレーム第１面に対して凹んでいる第３凹部を含み、
前記第１アライメントマスクは、前記第１方向において対向する第１端部及び第２端部と、前記第１端部と前記第２端部との間に位置する中間部と、アライメントマークと、前記第１アライメントマスクを前記フレーム第１面に固定する複数の固定部と、を含み、
前記第１アライメントマスクの前記中間部は、前記フレームの前記第３部分に重なる外側側縁と、前記第２方向において前記外側側縁に対向する内側側縁と、を含み、
前記第１アライメントマスクの前記外側側縁は、直線部と、平面視において前記直線部から前記内側側縁に向かって凹み、平面視において前記第３凹部に重なる第３切り欠きと、を含み、
前記第１アライメントマスクの前記複数の固定部の一部は、前記第３切り欠きの輪郭に沿って位置する、マスク装置。
【請求項2】
前記第３切り欠きの輪郭は、第１コーナー部と、前記第１コーナー部に対して前記第２端部の側に位置する第２コーナー部と、前記第１コーナー部から前記直線部まで延びる第１ラインと、前記第２コーナー部から前記直線部まで延びる第２ラインと、前記第１コーナー部から前記第２コーナー部まで延びる第３ラインと、を含む、請求項１に記載のマスク装置。
【請求項3】
前記第１ライン及び前記第２ラインは、前記第２方向に沿って直線的に延び、
前記第３ラインは、前記第１方向に沿って直線的に延びる、請求項２に記載のマスク装置。
前記第３ラインは、前記第１方向に沿って直線的に延びる、請求項２に記載のマスク装置。
【請求項4】
前記第１コーナー部は、内端及び外端を含むコーナーを含み、
前記コーナーは、前記内端において、前記第１方向に一致する接線方向を有し、
前記コーナーは、前記外端において、前記第２方向に一致する接線方向を有し、
前記コーナーの前記外端は、前記第１ラインに対して前記第１端部の側に位置する、請求項３に記載のマスク装置。
前記コーナーは、前記内端において、前記第１方向に一致する接線方向を有し、
前記コーナーは、前記外端において、前記第２方向に一致する接線方向を有し、
前記コーナーの前記外端は、前記第１ラインに対して前記第１端部の側に位置する、請求項３に記載のマスク装置。
【請求項5】
前記コーナーの前記外端と前記第１ラインとの間の、前記第１方向における距離が、１μｍ以上である、請求項４に記載のマスク装置。
【請求項6】
前記コーナーは、湾曲した部分を含む、請求項４に記載のマスク装置。
【請求項7】
前記第１部分は、厚み方向において前記フレーム第１面に対して凹んでいる第１凹部を含み、
前記第１アライメントマスクの前記第１端部は、前記フレームの前記第１部分に重なる第１側縁を含み、
前記第１アライメントマスクの前記第１側縁は、直線部と、平面視において前記直線部から前記第２端部に向かって凹み、平面視において前記第１凹部に重なる第１切り欠きと、を含み、
前記第１アライメントマスクの前記複数の固定部の一部は、前記第１切り欠きの輪郭に沿って位置する、請求項１～６のいずれか一項に記載のマスク装置。
前記第１アライメントマスクの前記第１端部は、前記フレームの前記第１部分に重なる第１側縁を含み、
前記第１アライメントマスクの前記第１側縁は、直線部と、平面視において前記直線部から前記第２端部に向かって凹み、平面視において前記第１凹部に重なる第１切り欠きと、を含み、
前記第１アライメントマスクの前記複数の固定部の一部は、前記第１切り欠きの輪郭に沿って位置する、請求項１～６のいずれか一項に記載のマスク装置。
【請求項8】
前記フレーム第１面に固定され、前記第４部分の内縁を覆うよう延びる第２アライメントマスクを備え、
前記第４部分は、厚み方向において前記フレーム第１面に対して凹んでいる第４凹部を含み、
前記第２アライメントマスクは、前記第１方向において対向する第１端部及び第２端部と、前記第１端部と前記第２端部との間に位置する中間部と、アライメントマークと、前記第２アライメントマスクを前記フレーム第１面に固定する複数の固定部と、を含み、
前記第２アライメントマスクの前記中間部は、前記フレームの前記第４部分に重なる外側側縁と、前記第２方向において前記外側側縁に対向する内側側縁と、を含み、
前記第２アライメントマスクの前記外側側縁は、直線部と、平面視において前記直線部から前記内側側縁に向かって凹み、平面視において前記第４凹部に重なる第４切り欠きと、を含み、
前記第２アライメントマスクの前記複数の固定部の一部は、前記第２アライメントマスクの前記第４切り欠きの輪郭に沿って位置する、請求項１～６のいずれか一項に記載のマスク装置。
前記第４部分は、厚み方向において前記フレーム第１面に対して凹んでいる第４凹部を含み、
前記第２アライメントマスクは、前記第１方向において対向する第１端部及び第２端部と、前記第１端部と前記第２端部との間に位置する中間部と、アライメントマークと、前記第２アライメントマスクを前記フレーム第１面に固定する複数の固定部と、を含み、
前記第２アライメントマスクの前記中間部は、前記フレームの前記第４部分に重なる外側側縁と、前記第２方向において前記外側側縁に対向する内側側縁と、を含み、
前記第２アライメントマスクの前記外側側縁は、直線部と、平面視において前記直線部から前記内側側縁に向かって凹み、平面視において前記第４凹部に重なる第４切り欠きと、を含み、
前記第２アライメントマスクの前記複数の固定部の一部は、前記第２アライメントマスクの前記第４切り欠きの輪郭に沿って位置する、請求項１～６のいずれか一項に記載のマスク装置。
【請求項9】
前記フレームは、前記第１方向において１０００ｍｍ以上の寸法を有する、請求項１～６のいずれか一項に記載のマスク装置。
【請求項10】
前記フレームは、前記第２方向において１２００ｍｍ以上の寸法を有する、請求項１～６のいずれか一項に記載のマスク装置。
【請求項11】
マスク装置のフレームに固定されるアライメントマスクであって、
第１方向において対向する第１端部及び第２端部と、
前記第１端部と前記第２端部との間に位置し、外側側縁及び内側側縁を含む中間部と、
アライメントマークと、を備え、
前記中間部は、９９．０％以上の占有率を有する遮蔽部と、前記第１方向に並ぶ第１貫通部及び第２貫通部と、を含む、アライメントマスク。
第１方向において対向する第１端部及び第２端部と、
前記第１端部と前記第２端部との間に位置し、外側側縁及び内側側縁を含む中間部と、
アライメントマークと、を備え、
前記中間部は、９９．０％以上の占有率を有する遮蔽部と、前記第１方向に並ぶ第１貫通部及び第２貫通部と、を含む、アライメントマスク。
【請求項12】
前記第１貫通部は、内端及び外端を含むコーナーを含み、
前記コーナーは、前記内端において、前記第１方向に一致する接線方向を有し、
前記コーナーは、前記外端において、前記第１方向に直交する第２方向に一致する接線方向を有する、請求項１１に記載のアライメントマスク。
前記コーナーは、前記内端において、前記第１方向に一致する接線方向を有し、
前記コーナーは、前記外端において、前記第１方向に直交する第２方向に一致する接線方向を有する、請求項１１に記載のアライメントマスク。
【請求項13】
前記第１貫通部は、前記コーナーの前記内端から前記第２貫通部に向かって延びる第１辺と、前記コーナーの前記外端から前記外側側縁に向かって延びる第２辺と、前記第１辺と前記第２辺との間に位置する接続部と、を含む、請求項１２に記載のアライメントマスク。
【請求項14】
前記第１貫通部は、前記コーナーを含む円形の輪郭を有する、請求項１２に記載のアライメントマスク。
【請求項15】
前記第１端部は、前記第１方向に直交する第２方向に並ぶ第３貫通部及び第４貫通部を含む、請求項１１～１４のいずれか一項に記載のアライメントマスク。
【請求項16】
マスク装置の製造方法であって、
開口を挟んで第１方向において対向する第１部分及び第２部分と、前記第１方向に直交する第２方向において前記開口を挟んで対向する第３部分及び第４部分と、フレーム第１面と、前記フレーム第１面の反対側に位置するフレーム第２面と、を含むフレームを準備する工程と、
前記第１方向において対向する第１端部及び第２端部と、前記第１端部と前記第２端部との間に位置する中間部と、アライメントマークと、を含む第１アライメントマスクを準備する工程と、
前記第１アライメントマスクを前記フレーム第１面に固定する第１固定工程と、
前記第１固定工程の後、前記第１アライメントマスクをトリミングする第１トリミング工程と、を備え、
前記フレームの前記第３部分は、前記フレーム第１面に位置する第３凹部を含み、
前記第１アライメントマスクの前記中間部は、外側側縁と、前記第２方向において前記外側側縁に対向する内側側縁と、を含み、
前記第１トリミング工程は、平面視において前記第３凹部に重なる前記第１アライメントマスクの前記中間部の部分を除去する除去工程を含む、マスク装置の製造方法。
開口を挟んで第１方向において対向する第１部分及び第２部分と、前記第１方向に直交する第２方向において前記開口を挟んで対向する第３部分及び第４部分と、フレーム第１面と、前記フレーム第１面の反対側に位置するフレーム第２面と、を含むフレームを準備する工程と、
前記第１方向において対向する第１端部及び第２端部と、前記第１端部と前記第２端部との間に位置する中間部と、アライメントマークと、を含む第１アライメントマスクを準備する工程と、
前記第１アライメントマスクを前記フレーム第１面に固定する第１固定工程と、
前記第１固定工程の後、前記第１アライメントマスクをトリミングする第１トリミング工程と、を備え、
前記フレームの前記第３部分は、前記フレーム第１面に位置する第３凹部を含み、
前記第１アライメントマスクの前記中間部は、外側側縁と、前記第２方向において前記外側側縁に対向する内側側縁と、を含み、
前記第１トリミング工程は、平面視において前記第３凹部に重なる前記第１アライメントマスクの前記中間部の部分を除去する除去工程を含む、マスク装置の製造方法。
【請求項17】
前記第１アライメントマスクの前記中間部は、９９．０％以上の占有率を有する遮蔽部と、前記第１方向に並ぶ第１貫通部及び第２貫通部と、を含み、
前記除去工程は、前記第１貫通部及び前記第２貫通部を通る経路に沿って前記第１アライメントマスクを切断する切断工程を含む、請求項１６に記載のマスク装置の製造方法。
前記除去工程は、前記第１貫通部及び前記第２貫通部を通る経路に沿って前記第１アライメントマスクを切断する切断工程を含む、請求項１６に記載のマスク装置の製造方法。
【請求項18】
前記切断工程は、前記外側側縁上の第１位置から前記第１貫通部に至る第１経路に沿って前記第１アライメントマスクを切断する第１切断工程と、前記外側側縁上の第２位置から前記第２貫通部に至る第２経路に沿って前記第１アライメントマスクを切断する第２切断工程と、前記第１貫通部から前記第２貫通部に至る第３経路に沿って前記第１アライメントマスクを切断する第３切断工程と、を含む、請求項１７に記載のマスク装置の製造方法。
【請求項19】
前記フレームの前記第１部分は、前記フレーム第１面に位置する第１凹部を含み、
前記第１アライメントマスクの前記第１端部は、第１側縁を含み、
前記除去工程は、平面視において前記第１凹部に重なる前記第１アライメントマスクの前記第１端部の部分を除去する、請求項１６～１８のいずれか一項に記載のマスク装置の製造方法。
前記第１アライメントマスクの前記第１端部は、第１側縁を含み、
前記除去工程は、平面視において前記第１凹部に重なる前記第１アライメントマスクの前記第１端部の部分を除去する、請求項１６～１８のいずれか一項に記載のマスク装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示の実施形態は、マスク装置、アライメントマスク及びマスク装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
有機ＥＬ表示装置などの有機デバイスが注目されている。有機デバイスの素子を形成する方法として、素子を構成する材料を蒸着により基板に付着させる方法が知られている。例えば、まず、素子に対応するパターンで第１電極が形成されている基板を準備する。続いて、マスク装置を用いて蒸着工程を実施する。マスク装置は、複数のマスクと、マスクを支持するフレームと、を備える。各マスクは、複数の貫通孔を含む。マスクの貫通孔を通った有機材料が第１電極の上に付着することにより、第１電極の上に有機層が形成される。
【0003】
フレームは、開口を挟んで対向する第１部分及び第２部分と、開口を挟んで対向する第３部分及び第４部分と、を含む。マスクの端部は、第１部分及び第２部分に固定されている。
【0004】
マスク装置は、マスクと重なっていない開口の部分を覆う遮蔽部材を更に備える。例えば、マスク装置は、マスクとフレームとの間の開口の部分を覆うアライメントマスクを備える。アライメントマスクは、フレームの第１部分から第２部分まで延びる外側側縁及び内側側縁を含む。アライメントマスクの外側側縁は、平面視においてフレームに重なる。アライメントマスクの内側側縁は、平面視においてマスクに重なる。アライメントマスクなどの遮蔽部材は、マスクの貫通孔に対応する位置以外の位置で基板に有機材料が付着することを抑制できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２０２１－１７５８２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
蒸着工程において、基板は、平面視においてフレームの開口に重なるように配置される。有機材料などの蒸着材料は、開口の内側でマスクの貫通孔に重なる基板の部分に付着する。蒸着材料は、開口の外側に位置する基板の部分には付着しない。有機デバイスの生産性を高めるためには、開口の外側に位置する基板の面積が小さいことが好ましい。
【0007】
蒸着工程において、基板は、基板ホルダによって保持される。開口の外側に位置する基板の面積が小さい場合、基板ホルダとフレームとが干渉しあうことが考えられる。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本開示の一実施形態によるマスク装置は、開口を挟んで第１方向において対向する第１部分及び第２部分と、前記第１方向に直交する第２方向において前記開口を挟んで対向する第３部分及び第４部分と、フレーム第１面と、前記フレーム第１面の反対側に位置するフレーム第２面と、を含むフレームと、前記第１部分及び前記第２部分において前記フレーム第１面に固定され、前記開口を横切るよう延びる複数のマスクと、前記フレーム第１面に固定され、前記第３部分の内縁を覆うよう延びる第１アライメントマスクと、を備えてもよい。前記第３部分は、厚み方向において前記フレーム第１面に対して凹んでいる第３凹部を含んでもよい。前記第１アライメントマスクは、前記第１方向において対向する第１端部及び第２端部と、前記第１端部と前記第２端部との間に位置する中間部と、アライメントマークと、前記第１アライメントマスクを前記フレーム第１面に固定する複数の固定部と、を含んでもよい。前記第１アライメントマスクの前記中間部は、前記フレームの前記第３部分に重なる外側側縁と、前記第２方向において前記外側側縁に対向する内側側縁と、を含んでもよい。前記第１アライメントマスクの前記外側側縁は、直線部と、平面視において前記直線部から前記内側側縁に向かって凹み、平面視において前記第３凹部に重なる第３切り欠きと、を含んでもよい。前記第１アライメントマスクの前記複数の固定部の一部は、前記第３切り欠きの輪郭に沿って並んでもよい。
【発明の効果】
【0009】
本開示の実施形態によれば、フレームの開口の近傍に基板ホルダを配置しながら、基板ホルダとフレームとの間の干渉を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【図1】有機デバイスの一例を示す断面図である。
【図2】有機デバイス群の一例を示す平面図である。
【図3】蒸着装置の一例を示す断面図である。
【図4】マスク装置の一例を示す平面図である。
【図5】マスクの一例を示す平面図である。
【図6】マスクの一例を示す断面図である。
【図7】マスク装置の中間製品の一例を示す平面図である。
【図8】フレームの第３部分及びアライメントマスクを拡大して示す平面図である。
【図12】フレームの凹部及びアライメントマスクの切り欠きの一例を示す平面図である。
【図13】アライメントマスクの切り欠きの一例を示す平面図である。
【図14】フレームに固定される前のアライメントマスクの一例を示す平面図である。
【図15】アライメントマスクの第１貫通部及び第２貫通部の一例を示す平面図である。
【図16】アライメントマスクの第１貫通部の一例を示す平面図である。
【図17】フレームを準備する工程の一例を示す平面図である。
【図18】フレーム上にアライメントマスクを配置する工程の一例を示す平面図である。
【図19】フレームにアライメントマスクを固定する工程の一例を示す平面図である。
【図20】アライメントマスクをトリミングする工程の一例を示す平面図である。
【図21】アライメントマスクの一部を切断する工程の一例を示す平面図である。
【図22】比較の形態において、アライメントマスクの一部を切断する工程を示す平面図である。
【図23】アライメントマスクの第１貫通部及び第２貫通部の一例を示す平面図である。
【図25】アライメントマスクの第１貫通部及び第２貫通部の一例を示す平面図である。
【図27】フレーム及びアライメントマスクの一例を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【0011】
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、「基板」や「基材」や「板」や「シート」や「フィルム」などのある構成の基礎となる物質を意味する用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。
【0012】
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待してもよい程度の範囲を含めて解釈する。
【0013】
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、ある部材又はある領域等のある構成が、他の部材又は他の領域等の他の構成の「上に」や「下に」、「上側に」や「下側に」、又は「上方に」や「下方に」とする場合、ある構成が他の構成に直接的に接している場合を含む。さらに、ある構成と他の構成との間に別の構成が含まれている場合、つまり間接的に接している場合も含む。また、特別な説明が無い限りは、「上」や「上側」や「上方」、又は、「下」や「下側」や「下方」という語句は、上下方向が逆転してもよい。
【0014】
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号または類似の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。また、図面の寸法比率は説明の都合上実際の比率とは異なる場合や、構成の一部が図面から省略される場合がある。
【0015】
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、本明細書の一実施形態は、矛盾の生じない範囲で、その他の実施形態と組み合わせられてもよい。また、その他の実施形態同士も、矛盾の生じない範囲で組み合わせられてもよい。
【0016】
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、製造方法などの方法に関して複数の工程を開示する場合に、開示されている工程の間に、開示されていないその他の工程が実施されてもよい。また、開示されている工程の順序は、矛盾の生じない範囲で任意である。
【0017】
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、「～」という記号によって表現される数値範囲は、「～」という符号の前後に置かれた数値を含んでいる。例えば、「３４～３８質量％」という表現によって画定される数値範囲は、「３４質量％以上且つ３８質量％以下」という表現によって画定される数値範囲と同一である。
【0018】
本明細書の一実施形態において、有機ＥＬ表示装置を製造する際に有機材料又は電極を所望のパターンで基板上にパターニングするために用いられるマスクやその製造方法に関した例をあげて説明する。ただし、このような適用に限定されることなく、種々の用途に用いられるマスクに対し、本実施形態を適用することができる。例えば、仮想現実いわゆるＶＲや拡張現実いわゆるＡＲを表現するための画像や映像を表示又は投影するための装置の電極を形成するために、本実施形態のマスクを用いてもよい。また、液晶表示装置の電極などの、有機ＥＬ表示装置以外の表示装置の電極を形成するために、本実施形態のマスクを用いてもよい。また、圧力センサの電極などの、表示装置以外の有機デバイスの電極を形成するために、本実施形態のマスクを用いてもよい。
【0019】
本開示の第１の態様は、マスク装置であって、
開口を挟んで第１方向において対向する第１部分及び第２部分と、前記第１方向に直交する第２方向において前記開口を挟んで対向する第３部分及び第４部分と、フレーム第１面と、前記フレーム第１面の反対側に位置するフレーム第２面と、を含むフレームと、
前記第１部分及び前記第２部分において前記フレーム第１面に固定され、前記開口を横切るよう延びる複数のマスクと、
前記フレーム第１面に固定され、前記第３部分の内縁を覆うよう延びる第１アライメントマスクと、を備え、
前記第３部分は、厚み方向において前記フレーム第１面に対して凹んでいる第３凹部を含み、
前記第１アライメントマスクは、前記第１方向において対向する第１端部及び第２端部と、前記第１端部と前記第２端部との間に位置する中間部と、アライメントマークと、前記第１アライメントマスクを前記フレーム第１面に固定する複数の固定部と、を含み、
前記第１アライメントマスクの前記中間部は、前記フレームの前記第３部分に重なる外側側縁と、前記第２方向において前記外側側縁に対向する内側側縁と、を含み、
前記第１アライメントマスクの前記外側側縁は、直線部と、平面視において前記直線部から前記内側側縁に向かって凹み、平面視において前記第３凹部に重なる第３切り欠きと、を含み、
前記第１アライメントマスクの前記複数の固定部の一部は、前記第３切り欠きの輪郭に沿って位置する、マスク装置である。
開口を挟んで第１方向において対向する第１部分及び第２部分と、前記第１方向に直交する第２方向において前記開口を挟んで対向する第３部分及び第４部分と、フレーム第１面と、前記フレーム第１面の反対側に位置するフレーム第２面と、を含むフレームと、
前記第１部分及び前記第２部分において前記フレーム第１面に固定され、前記開口を横切るよう延びる複数のマスクと、
前記フレーム第１面に固定され、前記第３部分の内縁を覆うよう延びる第１アライメントマスクと、を備え、
前記第３部分は、厚み方向において前記フレーム第１面に対して凹んでいる第３凹部を含み、
前記第１アライメントマスクは、前記第１方向において対向する第１端部及び第２端部と、前記第１端部と前記第２端部との間に位置する中間部と、アライメントマークと、前記第１アライメントマスクを前記フレーム第１面に固定する複数の固定部と、を含み、
前記第１アライメントマスクの前記中間部は、前記フレームの前記第３部分に重なる外側側縁と、前記第２方向において前記外側側縁に対向する内側側縁と、を含み、
前記第１アライメントマスクの前記外側側縁は、直線部と、平面視において前記直線部から前記内側側縁に向かって凹み、平面視において前記第３凹部に重なる第３切り欠きと、を含み、
前記第１アライメントマスクの前記複数の固定部の一部は、前記第３切り欠きの輪郭に沿って位置する、マスク装置である。
【0020】
本開示の第２の態様は、上述した第１の態様によるマスク装置において、前記第３切り欠きの輪郭は、第１コーナー部と、前記第１コーナー部に対して前記第２端部の側に位置する第２コーナー部と、前記第１コーナー部から前記直線部まで延びる第１ラインと、前記第２コーナー部から前記直線部まで延びる第２ラインと、前記第１コーナー部から前記第２コーナー部まで延びる第３ラインと、を含んでもよい。
【0021】
本開示の第３の態様は、上述した第２の態様によるマスク装置において、前記第１ライン及び前記第２ラインは、前記第２方向に沿って直線的に延びていてもよく、前記第３ラインは、前記第１方向に沿って直線的に延びていてもよい。
【0022】
本開示の第４の態様は、上述した第２の態様又は第３の態様によるマスク装置において、前記第１コーナー部は、内端及び外端を含むコーナーを含んでもよい。前記コーナーは、前記内端において、前記第１方向に一致する接線方向を有し、前記コーナーは、前記外端において、前記第２方向に一致する接線方向を有する。前記コーナーの前記外端は、前記第１ラインに対して前記第１端部の側に位置していてもよい。
【0023】
本開示の第５の態様は、上述した第４の態様によるマスク装置において、前記コーナーの前記外端と前記第１ラインとの間の、前記第１方向における距離が、１μｍ以上であってもよい。
【0024】
本開示の第６の態様は、上述した第４の態様又は第５の態様によるマスク装置において、前記コーナーは、湾曲した部分を含んでもよい。
【0025】
本開示の第７の態様は、上述した第１の態様～第６の態様のいずれか１つによるマスク装置において、前記第１部分は、厚み方向において前記フレーム第１面に対して凹んでいる第１凹部を含んでもよく、前記第１アライメントマスクの前記第１端部は、前記フレームの前記第１部分に重なる第１側縁を含んでもよく、前記第１アライメントマスクの前記第１側縁は、直線部と、平面視において前記直線部から前記第２端部に向かって凹み、平面視において前記第１凹部に重なる第１切り欠きと、を含んでもよく、前記第１アライメントマスクの前記複数の固定部の一部は、前記第１切り欠きの輪郭に沿って位置してもよい。
【0026】
本開示の第８の態様は、上述した第１の態様～第７の態様のいずれか１つによるマスク装置において、前記マスク装置は、前記フレーム第１面に固定され、前記第４部分の内縁を覆うよう延びる第２アライメントマスクを備えてもよく、前記第４部分は、厚み方向において前記フレーム第１面に対して凹んでいる第４凹部を含んでもよく、前記第２アライメントマスクは、前記第１方向において対向する第１端部及び第２端部と、前記第１端部と前記第２端部との間に位置する中間部と、アライメントマークと、前記第２アライメントマスクを前記フレーム第１面に固定する複数の固定部と、を含んでもよく、前記第２アライメントマスクの前記中間部は、前記フレームの前記第４部分に重なる外側側縁と、前記第２方向において前記外側側縁に対向する内側側縁と、を含んでもよく、前記第２アライメントマスクの前記外側側縁は、直線部と、平面視において前記直線部から前記内側側縁に向かって凹み、平面視において前記第４凹部に重なる第４切り欠きと、を含んでもよく、前記第２アライメントマスクの前記複数の固定部の一部は、前記第２アライメントマスクの前記第４切り欠きの輪郭に沿って位置してもよい。
【0027】
本開示の第９の態様は、上述した第１の態様～第８の態様のいずれか１つによるマスク装置において、前記フレームは、前記第１方向において１０００ｍｍ以上の寸法を有してもよい。
【0028】
本開示の第１０の態様は、上述した第１の態様～第９の態様のいずれか１つによるマスク装置において、前記フレームは、前記第２方向において１２００ｍｍ以上の寸法を有してもよい。
【0029】
本開示の第１１の態様は、マスク装置のフレームに固定されるアライメントマスクであって、
第１方向において対向する第１端部及び第２端部と、
前記第１端部と前記第２端部との間に位置し、外側側縁及び内側側縁を含む中間部と、
アライメントマークと、を備え、
前記中間部は、９９．０％以上の占有率を有する遮蔽部と、前記第１方向に並ぶ第１貫通部及び第２貫通部と、を含む、アライメントマスクである。
第１方向において対向する第１端部及び第２端部と、
前記第１端部と前記第２端部との間に位置し、外側側縁及び内側側縁を含む中間部と、
アライメントマークと、を備え、
前記中間部は、９９．０％以上の占有率を有する遮蔽部と、前記第１方向に並ぶ第１貫通部及び第２貫通部と、を含む、アライメントマスクである。
【0030】
本開示の第１２の態様は、上述した第１１の態様によるアライメントマスクにおいて、前記第１貫通部は、内端及び外端を含むコーナーを含んでもよい。前記コーナーは、前記内端において、前記第１方向に一致する接線方向を有し、前記コーナーは、前記外端において、前記第１方向に直交する第２方向に一致する接線方向を有する。
【0031】
本開示の第１３の態様は、上述した第１２の態様によるアライメントマスクにおいて、前記第１貫通部は、前記コーナーの前記内端から前記第２貫通部に向かって延びる第１辺と、前記コーナーの前記外端から前記外側側縁に向かって延びる第２辺と、前記第１辺と前記第２辺との間に位置する接続部と、を含んでもよい。
【0032】
本開示の第１４の態様は、上述した第１２の態様によるアライメントマスクにおいて、前記第１貫通部は、前記コーナーを含む円形の輪郭を有してもよい。
【0033】
本開示の第１５の態様は、上述した第１１の態様～第１４の態様のいずれか１つによるアライメントマスクにおいて、前記第１端部は、前記第２方向に並ぶ第３貫通部及び第４貫通部を含んでもよい。
【0034】
本開示の第１６の態様は、マスク装置の製造方法であって、
開口を挟んで第１方向において対向する第１部分及び第２部分と、前記第１方向に直交する第２方向において前記開口を挟んで対向する第３部分及び第４部分と、フレーム第１面と、前記フレーム第１面の反対側に位置するフレーム第２面と、を含むフレームを準備する工程と、
前記第１方向において対向する第１端部及び第２端部と、前記第１端部と前記第２端部との間に位置する中間部と、アライメントマークと、を含む第１アライメントマスクを準備する工程と、
前記第１アライメントマスクを前記フレーム第１面に固定する第１固定工程と、
前記第１固定工程の後、前記第１アライメントマスクをトリミングする第１トリミング工程と、を備え、
前記フレームの前記第３部分は、前記フレーム第１面に位置する第３凹部を含み、
前記第１アライメントマスクの前記中間部は、外側側縁と、前記第２方向において前記外側側縁に対向する内側側縁と、を含み、
前記第１トリミング工程は、平面視において前記第３凹部に重なる前記第１アライメントマスクの前記中間部の部分を除去する除去工程を含む、マスク装置の製造方法である。
開口を挟んで第１方向において対向する第１部分及び第２部分と、前記第１方向に直交する第２方向において前記開口を挟んで対向する第３部分及び第４部分と、フレーム第１面と、前記フレーム第１面の反対側に位置するフレーム第２面と、を含むフレームを準備する工程と、
前記第１方向において対向する第１端部及び第２端部と、前記第１端部と前記第２端部との間に位置する中間部と、アライメントマークと、を含む第１アライメントマスクを準備する工程と、
前記第１アライメントマスクを前記フレーム第１面に固定する第１固定工程と、
前記第１固定工程の後、前記第１アライメントマスクをトリミングする第１トリミング工程と、を備え、
前記フレームの前記第３部分は、前記フレーム第１面に位置する第３凹部を含み、
前記第１アライメントマスクの前記中間部は、外側側縁と、前記第２方向において前記外側側縁に対向する内側側縁と、を含み、
前記第１トリミング工程は、平面視において前記第３凹部に重なる前記第１アライメントマスクの前記中間部の部分を除去する除去工程を含む、マスク装置の製造方法である。
【0035】
本開示の第１７の態様は、上述した第１６の態様による製造方法において、前記第１アライメントマスクの前記中間部は、９９．０％以上の占有率を有する遮蔽部と、前記第１方向に並ぶ第１貫通部及び第２貫通部と、を含んでもよく、前記除去工程は、前記第１貫通部及び前記第２貫通部を通る経路に沿って前記第１アライメントマスクを切断する切断工程を含んでもよい。
【0036】
本開示の第１８の態様は、上述した第１７の態様による製造方法において、前記切断工程は、前記外側側縁上の第１位置から前記第１貫通部に至る第１経路に沿って前記第１アライメントマスクを切断する第１切断工程と、前記外側側縁上の第２位置から前記第２貫通部に至る第２経路に沿って前記第１アライメントマスクを切断する第２切断工程と、前記第１貫通部から前記第２貫通部に至る第３経路に沿って前記第１アライメントマスクを切断する第３切断工程と、を含んでもよい。
【0037】
本開示の第１９の態様は、上述した第１６の態様～第１８の態様のいずれか１つによる製造方法において、前記フレームの前記第１部分は、前記フレーム第１面に位置する第１凹部を含んでもよく、前記第１アライメントマスクの前記第１端部は、第１側縁を含んでもよく、前記除去工程は、平面視において前記第１凹部に重なる前記第１アライメントマスクの前記第１端部の部分を除去してもよい。
【0038】
本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例であって、本開示はこれらの実施形態のみに限定して解釈されるものではない。
【0039】
マスクを用いることにより形成される要素を備える有機デバイス１００について説明する。図１は、有機デバイス１００の一例を示す断面図である。
【0040】
有機デバイス１００は、第１面１１１及び第２面１１２を含む基板１１０と、基板１１０の第１面１１１に位置する複数の素子１１５と、を含む。素子１１５は、例えば画素である。素子１１５は、第１面１１１の面内方向に沿って並んでいてもよい。基板１１０は、２以上の種類の素子１１５を含んでもよい。例えば、基板１１０は、第１素子１１５Ａ及び第２素子１１５Ｂを含んでもよい。図示はしないが、基板１１０は、第３素子を含んでいてもよい。第１素子１１５Ａ、第２素子１１５Ｂ及び第３素子は、例えば、赤色画素、青色画素及び緑色画素である。
【0041】
素子１１５は、第１電極１２０と、第１電極１２０上に位置する有機層１３０と、有機層１３０上に位置する第２電極１４０と、を含んでもよい。マスクを用いることにより形成される要素は、有機層１３０であってもよく、第２電極１４０であってもよい。マスクを用いることにより形成される要素のことを、蒸着層とも称する。
【0042】
有機デバイス１００は、平面視において隣り合う２つの第１電極１２０の間に位置する絶縁層１６０を備えていてもよい。絶縁層１６０は、例えばポリイミドを含んでいる。絶縁層１６０は、平面視において第１電極１２０の端に重なっていてもよい。
【0043】
有機デバイス１００は、アクティブ・マトリクス型であってもよい。例えば、図示はしないが、有機デバイス１００は、複数の素子１１５のそれぞれに電気的に接続されているスイッチを備えていてもよい。スイッチは、例えばトランジスタである。スイッチは、対応する素子１１５に対する電圧又は電流のＯＮ／ＯＦＦを制御することができる。
【0044】
基板１１０は、絶縁性を有する板状の部材であってもよい。基板１１０は、好ましくは、光を透過させる透明性を有する。基板１１０の材料としては、例えば、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のないリジッド材、あるいは、樹脂フィルム、光学用樹脂板、薄ガラス等の可撓性を有するフレキシブル材等を用いることができる。また、基材は、樹脂フィルムの片面または両面にバリア層を有する積層体であってもよい。
【0045】
素子１１５は、第１電極１２０と第２電極１４０との間に電圧が印加されることにより、又は、第１電極１２０と第２電極１４０との間に電流が流れることにより、何らかの機能を実現するよう構成されている。例えば、素子１１５が、有機ＥＬ表示装置の画素である場合、素子１１５は、映像を構成する光を放出できる。
【0046】
第１電極１２０は、導電性を有する材料を含む。例えば、第１電極１２０は、金属、導電性を有する金属酸化物や、その他の導電性を有する無機材料などを含む。第１電極１２０は、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）などの、透明性及び導電性を有する金属酸化物を含んでもよい。
【0047】
有機層１３０は、有機材料を含む。有機層１３０に電流が流れると、有機層１３０は、何らかの機能を発揮することができる。有機層１３０としては、電流により光を放出する発光層などを用いることができる。有機層１３０は、有機半導体材料を含んでもよい。有機層１３０の透過率、屈折率などの特性は、適宜調整されていてもよい。
【0048】
図１に示すように、有機層１３０は、第１有機層１３０Ａ及び第２有機層１３０Ｂを含んでもよい。第１有機層１３０Ａは、第１素子１１５Ａに含まれる。第２有機層１３０Ｂは、第２素子１１５Ｂに含まれる。図示はしないが、有機層１３０は、第３素子に含まれる第３有機層を含んでもよい。第１有機層１３０Ａ、第２有機層１３０Ｂ及び第３有機層は、例えば、赤色発光層、青色発光層及び緑色発光層である。
【0049】
第１電極１２０と第２電極１４０との間に電圧を印加すると、有機層１３０に電流が流れる。有機層１３０が発光層である場合、有機層１３０から光が放出され、光が第２電極１４０側又は第１電極１２０側から外部へ取り出される。
【0050】
有機層１３０は、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層、電荷発生層などを更に含んでもよい。
【0051】
第２電極１４０は、金属などの、導電性を有する材料を含む。第２電極１４０は、マスクを用いる蒸着法によって有機層１３０の上に形成される。第２電極１４０を構成する材料としては、白金、金、銀、銅、鉄、錫、クロム、アルミニウム、インジウム、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、炭素等を用いることができる。これらの材料は、単独で用いても、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を用いる場合には、各材料からなる層を積層してもよい。また、２種類以上の材料を含む合金を用いてもよい。例えば、ＭｇＡｇ等のマグネシウム合金、ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等のアルミニウム合金を用いることができる。ＭｇＡｇのことを、マグネシウム銀とも称する。マグネシウム銀は、第２電極１４０の材料として好ましく用いられる。アルカリ金属類およびアルカリ土類金属類の合金等を用いてもよい。例えば、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム等を用いてもよい。
【0052】
第２電極１４０は、共通電極であってもよい。例えば、１つの素子１１５の第２電極１４０が、その他の素子１１５の第２電極１４０に電気的に接続されていてもよい。
【0053】
第２電極１４０は、１つの層から構成されていてもよい。例えば、第２電極１４０は、１つのマスクを用いる蒸着工程によって形成される層であってもよい。
【0054】
若しくは、図１に示すように、第２電極１４０は、第１層１４０Ａ及び第２層１４０Ｂを含んでいてもよい。第１層１４０Ａは、第１のマスクを用いる蒸着工程によって形成される層であってもよい。第２層１４０Ｂは、第２のマスクを用いる蒸着工程によって形成される層であってもよい。このように、２つ以上のマスクを用いて第２電極１４０を形成してもよい。これにより、平面視における第２電極１４０のパターンの自由度が高くなる。例えば、有機デバイス１００は、平面視において第２電極１４０が存在しない領域を含むことができる。第２電極１４０が存在しない領域は、第２電極１４０が存在する領域に比べて高い透過率を有することができる。
【0055】
図１に示すように、第１層１４０Ａの端部と第２層１４０Ｂの端部とが部分的に重なっていてもよい。これにより、第１層１４０Ａと第２層１４０Ｂとを電気的に接続できる。
【0056】
図示はしないが、第２電極１４０は、第３層などのその他の層を含んでもよい。第３層などのその他の層は、第１層１４０Ａ及び第２層１４０Ｂに電気的に接続されていてもよい。
【0057】
以下の説明において、第２電極１４０の構成のうち、第１層１４０Ａ、第２層１４０Ｂ、第３層などに共通する構成を説明する場合には、「第２電極１４０」という用語及び符号を用いる。
【0058】
有機デバイス１００の製造方法においては、図２に示すような有機デバイス群１０２が作製されてもよい。有機デバイス群１０２は、２つ以上の有機デバイス１００を含む。例えば、有機デバイス群１０２は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に並ぶ有機デバイス１００を含んでもよい。第２方向Ｄ２は、第１方向Ｄ１に交差する方向である。第２方向Ｄ２は、第１方向Ｄ１に直交していてもよい。２つ以上の有機デバイス１００において、共通の１枚の基板１１０が用いられてもよい。例えば、有機デバイス群１０２は、１枚の基板１１０の上に位置し、２つ以上の有機デバイス１００を構成する第１電極１２０、有機層１３０、第２電極１４０などの層を含んでもよい。有機デバイス群１０２を分割することにより、有機デバイス１００が得られる。
【0059】
第１方向Ｄ１は、後述するように、有機デバイス１００を製造するために用いられるマスクが延びる方向であってもよい。
【0060】
第１方向Ｄ１における有機デバイス１００の寸法Ａ１は、例えば、１０ｍｍ以上でもよく、３０ｍｍ以上でもよく、１００ｍｍ以上でもよい。寸法Ａ１は、例えば、２００ｍｍ以下でもよく、５００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以下でもよい。寸法Ａ１の範囲は、１０ｍｍ、３０ｍｍ及び１００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、２００ｍｍ、５００ｍｍ及び１０００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ａ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ａ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ａ１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、寸法Ａ１は、１０ｍｍ以上１０００ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上３０ｍｍ以下でもよく、３０ｍｍ以上１０００ｍｍ以下でもよく、３０ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、３０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、３０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、５００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下でもよい。
【0061】
第２方向Ｄ２における有機デバイス１００の寸法Ａ２は、例えば、１０ｍｍ以上でもよく、２０ｍｍ以上でもよく、５０ｍｍ以上でもよい。寸法Ａ２は、例えば、１００ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以下でもよく、５００ｍｍ以下でもよい。寸法Ａ２の範囲は、１０ｍｍ、２０ｍｍ及び５０ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、１００ｍｍ、２００ｍｍ及び５００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ａ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ａ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ａ２の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、寸法Ａ２は、１０ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上２０ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよい。
【0062】
有機デバイス群１０２は、複数の有機デバイス１００が位置するデバイス領域１０３を含む。デバイス領域１０３は、第１方向Ｄ１において寸法Ｇ１２を有し、第２方向Ｄ２において寸法Ｇ２２を有する。
【0063】
基板１１０を大型化することにより、デバイス領域１０３の寸法Ｇ１２及びＧ２２を大きくできる。これにより、１枚の基板１１０の上に形成される有機デバイス１００の数が増加する。これにより、有機デバイス１００の製造コストを低減できる。
【0064】
第１方向Ｄ１における基板１１０の寸法Ｇ１１は、例えば、１０００ｍｍ以上でもよく、１２００ｍｍ以上でもよく、１３００ｍｍ以上でもよく、２１００ｍｍ以上でもよい。寸法Ｇ１１は、例えば、１２００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以下でもよく、１９００ｍｍ以下でもよく、２１００ｍｍ以下でもよく、２３００ｍｍ以下でもよい。寸法Ｇ１１の範囲は、１０００ｍｍ、１２００ｍｍ、１３００ｍｍ及び２１００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、１２００ｍｍ、１３００ｍｍ、１９００ｍｍ、２１００ｍｍ及び２３００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ｇ１１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｇ１１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｇ１１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、寸法Ｇ１１は、１０００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上１９００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上１３００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上１２００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上１９００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上１３００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上１９００ｍｍ以下でもよく、１９００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１９００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下でもよく、２１００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよい。
【0065】
第２方向Ｄ２における基板１１０の寸法Ｇ２１は、例えば、１２００ｍｍ以上でもよく、１３００ｍｍ以上でもよく、１５００ｍｍ以上でもよく、２０００ｍｍ以上でもよく、２４００ｍｍ以上でもよい。寸法Ｇ２１は、例えば、１３００ｍｍ以下でもよく、２３００ｍｍ以下でもよく、２４００ｍｍ以下でもよく、２６００ｍｍ以下でもよい。寸法Ｇ２１の範囲は、１２００ｍｍ、１３００ｍｍ、１５００ｍｍ、２０００ｍｍ及び２４００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、１３００ｍｍ、２３００ｍｍ、２４００ｍｍ及び２６００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ｇ２１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｇ２１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｇ２１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、寸法Ｇ２１は、１２００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上１３００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下でもよく、１５００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下でもよく、１５００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよく、１５００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、２０００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、２３００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下でもよく、２３００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよく、２４００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下でもよい。
【0066】
寸法Ｇ１１の特定の数値範囲と、寸法Ｇ２１の特定の数値範囲とが組み合わされてもよい。例えば、寸法Ｇ１１が１０００ｍｍ以上１２００ｍｍ以下であり、寸法Ｇ２１が１２００ｍｍ以上１３００ｍｍ以下であってもよい。例えば、寸法Ｇ１１が１２００ｍｍ以上１３００ｍｍ以下であり、寸法Ｇ２１が２０００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下であってもよい。例えば、寸法Ｇ１１が２１００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下であり、寸法Ｇ２１が２４００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下であってもよい。
【0067】
次に、有機層１３０、第２電極１４０などの要素を蒸着法によって形成する方法について説明する。図３は、蒸着装置１０を示す図である。蒸着装置１０は、基板１１０に蒸着材料を蒸着させる蒸着処理を実施する。
【0068】
図３に示すように、蒸着装置１０は、その内部に、蒸着源６、ヒータ８、及びマスク装置１５を備えてもよい。蒸着装置１０は、蒸着装置１０の内部を真空雰囲気にするための排気手段を備えてもよい。蒸着源６は、例えばるつぼである。蒸着源６は、有機材料、金属材料などの蒸着材料７を収容する。ヒータ８は、蒸着源６を加熱することにより、真空雰囲気の下で蒸着材料７を蒸発させる。
【0069】
図３に示すように、マスク装置１５は、少なくとも１つのマスク５０を備える。マスク装置１５は、マスク５０を支持するフレーム４０を備えてもよい。フレーム４０は、開口４５を含む。マスク５０は、平面視において開口４５を横切るように延びていてもよい。マスク５０は、フレーム４０に固定されている。フレーム４０は、マスク５０が固定されているフレーム第１面４０１と、フレーム第１面４０１の反対側に位置する第２フレーム面４０２と、を含んでもよい。フレーム４０は、マスク５０が撓むことを抑制するように、マスク５０をその面方向に引っ張った状態で支持していてもよい。
【0070】
マスク装置１５は、図３に示すように、基板１１０の第１面１１１にマスク５０が対面するよう、蒸着装置１０内に配置されている。マスク５０は、蒸着源６から飛来した蒸着材料７を通過させる複数の貫通孔５６を含む。以下の説明において、基板１１０に面するマスク５０の面を第１面５５１と称する。第１面５５１の反対側に位置するマスク５０の面を第２面５５２と称する。第２面５５２の一部は、フレーム第１面４０１に面している。
【0071】
蒸着装置１０は、図３に示すように、基板１１０を保持する基板ホルダ２を備えてもよい。基板ホルダ２は、基板１１０の厚み方向において移動可能であってもよい。基板ホルダ２は、基板１１０の面方向において移動可能であってもよい。基板ホルダ２は、基板１１０の傾きを制御するよう構成されていてもよい。例えば、基板ホルダ２は、基板１１０の外縁に取り付けられた複数のチャックを含んでもよい。各チャックは、基板１１０の厚み方向や面方向において独立に移動可能であってもよい。
【0072】
フレーム４０は、フレーム４０の厚み方向においてフレーム第１面４０１に対して凹んでいる凹部４４を含んでいてもよい。基板ホルダ２は、図１に示すように、平面視において凹部４４に重なるよう位置していてもよい。フレーム４０が凹部４４を含むことにより、開口４５の近傍に基板ホルダ２を配置しながら、基板ホルダ２とフレーム４０との間の干渉の間の干渉を抑制できる。例えば、基板ホルダ２とフレーム４０との接触を抑制できる。「平面視」は、基板１１０の第１面１１１の法線方向、フレーム４０のフレーム第１面４０１の法線方向又はマスクの第１面の法線方向に沿って対象物を見ることを意味する。
【0073】
凹部４４は、例えばフレーム第３面４０３を含む。フレーム第３面４０３は、フレーム第１面４０１と同様に、フレーム４０の厚み方向においてフレーム第２面４０２の反対側に位置する。厚み方向におけるフレーム第３面４０３とフレーム第２面４０２との間の距離は、厚み方向におけるフレーム第１面４０１とフレーム第２面４０２との間の距離よりも短い。
【0074】
蒸着装置１０は、図３に示すように、マスク装置１５を保持するマスクホルダ３を備えてもよい。マスクホルダ３は、移動可能であってもよい。
【0075】
基板ホルダ２又はマスクホルダ３の少なくともいずれか一方を移動させることにより、基板１１０に対するマスク５０の位置を調整できる。
【0076】
蒸着装置１０は、冷却板４を備えてもよい。冷却板４は、図３に示すように、基板１１０の第２面１１２側に配置されていてもよい。冷却板４は、冷却板４の内部に冷媒を循環させるための流路を有してもよい。冷却板４は、蒸着工程の際に基板１１０の温度が上昇することを抑制できる。
【0077】
蒸着装置１０は、磁石５を備えてもよい。磁石５は、図３に示すように、基板１１０の第２面１１２側に配置されていてもよい。磁石５は、基板１１０から遠い冷却板４の面に配置されていてもよい。磁石５は、磁力によってマスク５０を基板１１０側に引き寄せることができる。これにより、マスク５０と基板１１０との間の隙間を低減したり、隙間をなくしたりできる。このことにより、蒸着工程においてシャドーが発生することを抑制できる。シャドーとは、マスク５０と基板１１０との間の隙間に蒸着材料７が入り込み、これによって蒸着層の形状が不均一になる現象のことである。蒸着層の形状は、蒸着層の厚み、平面視における蒸着層の寸法などである。静電気力を利用する静電チャックを用いてマスク５０を基板１１０側に引き寄せてもよい。
【0078】
図４は、マスク装置１５を第１面５５１側から見た場合を示す平面図である。マスク装置１５は、フレーム４０と、フレーム４０に固定されたマスク５０と、を備えてもよい。フレーム４０は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に延びる矩形の輪郭を有していてもよい。フレーム４０は、第１方向Ｄ１においてマスク５０に張力を加えた状態でマスク５０を支持してもよい。
【0079】
フレーム４０は、第１部分４３Ａ、第２部分４３Ｂ、第３部分４３Ｃ、第４部分４３Ｄ及び開口４５を含む。第１部分４３Ａ及び第２部分４３Ｂは、開口４５を挟んで第１方向Ｄ１において対向している。第１部分４３Ａ及び第２部分４３Ｂは、第２方向Ｄ２に延びていてもよい。第３部分４３Ｃ及び第４部分４３Ｄは、開口４５を挟んで第２方向Ｄ２において対向している。第３部分４３Ｃ及び第４部分４３Ｄは、第１方向Ｄ１に延びていてもよい。第１部分４３Ａ及び第２部分４３Ｂが、第３部分４３Ｃ及び第４部分４３Ｄよりも長くてもよい。開口４５は、第１部分４３Ａと第２部分４３Ｂの間、及び第３部分４３Ｃと第４部分４３Ｄの間に位置している。
【0080】
フレーム４０は、内縁４１及び外縁４２を含む。内縁４１は、平面視において開口４５に面している。第１部分４３Ａの外縁４２は、第１方向Ｄ１において第１部分４３Ａの内縁４１の反対側に位置する。第２部分４３Ｂの外縁４２は、第１方向Ｄ１において第２部分４３Ｂの内縁４１の反対側に位置する。第３部分４３Ｃの外縁４２は、第２方向Ｄ２において第３部分４３Ｃの内縁４１の反対側に位置する。第４部分４３Ｄの外縁４２は、第２方向Ｄ２において第４部分４３Ｄの内縁４１の反対側に位置する。
【0081】
第１部分４３Ａ及び第２部分４３Ｂは、第１方向Ｄ１においてマスク５０に張力を加えてもよい。例えば、図示はしないが、第１部分４３Ａ及び第２部分４３Ｂは、開口４５に向かう方向に弾性的に変形していてもよい。弾性的な変形は、第１部分４３Ａ及び第２部分４３Ｂに、第１方向において外側へ働く復元力を生じさせる。マスク５０は、第１部分４３Ａ及び第２部分４３Ｂによって第１方向Ｄ１において外側へ引っ張られる。これにより、マスク５０に歪みや弛みが生じることを抑制できる。「外側」は、平面視においてフレーム４０の中心から遠ざかる側を意味する。
【0082】
フレーム４０は、第１方向Ｄ１において寸法Ｅ１１を有する。寸法Ｅ１１は、例えば、１０００ｍｍ以上でもよく、１２００ｍｍ以上でもよく、１３００ｍｍ以上でもよく、２１００ｍｍ以上でもよい。寸法Ｅ１１は、例えば、１２００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以下でもよく、１９００ｍｍ以下でもよく、２１００ｍｍ以下でもよく、２３００ｍｍ以下でもよい。寸法Ｅ１１の範囲は、１０００ｍｍ、１２００ｍｍ、１３００ｍｍ及び２１００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、１２００ｍｍ、１３００ｍｍ、１９００ｍｍ、２１００ｍｍ及び２３００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ｅ１１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｅ１１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｅ１１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、寸法Ｅ１１は、１０００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上１９００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上１３００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上１２００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上１９００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上１３００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上１９００ｍｍ以下でもよく、１９００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１９００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下でもよく、２１００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよい。
【0083】
フレーム４０は、第２方向Ｄ２において寸法Ｅ２１を有する。寸法Ｅ２１は、寸法Ｅ１１よりも大きくてもよい。寸法Ｅ２１は、例えば、１２００ｍｍ以上でもよく、１３００ｍｍ以上でもよく、１５００ｍｍ以上でもよく、２０００ｍｍ以上でもよく、２４００ｍｍ以上でもよい。寸法Ｅ２１は、例えば、１３００ｍｍ以下でもよく、２３００ｍｍ以下でもよく、２４００ｍｍ以下でもよく、２６００ｍｍ以下でもよい。寸法Ｅ２１の範囲は、１２００ｍｍ、１３００ｍｍ、１５００ｍｍ、２０００ｍｍ及び２４００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、１３００ｍｍ、２３００ｍｍ、２４００ｍｍ及び２６００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ｅ２１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｅ２１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｅ２１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、寸法Ｅ２１は、１２００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上１３００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、１３００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下でもよく、１５００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下でもよく、１５００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよく、１５００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、２０００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下でもよく、２３００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下でもよく、２３００ｍｍ以上２４００ｍｍ以下でもよく、２４００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下でもよい。
【0084】
寸法Ｅ１１に対する寸法Ｅ２１の比は、例えば、１．１以上でもよく、１．２以上でもよく、１．３以上でもよい。寸法Ｅ１１に対する寸法Ｅ２１の比は、例えば、１．５以下でもよく、１．７以下でもよく、２．０以下でもよい。寸法Ｅ１１に対する寸法Ｅ２１の比の範囲は、１．１、１．２及び１．３からなる第１グループ、及び／又は、１．５、１．７及び２．０からなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ｅ１１に対する寸法Ｅ２１の比の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｅ１１に対する寸法Ｅ２１の比の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｅ１１に対する寸法Ｅ２１の比の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、寸法Ｅ１１に対する寸法Ｅ２１の比は、１．１以上２．０以下でもよく、１．１以上１．７以下でもよく、１．１以上１．５以下でもよく、１．１以上１．３以下でもよく、１．１以上１．２以下でもよく、１．２以上２．０以下でもよく、１．２以上１．７以下でもよく、１．２以上１．５以下でもよく、１．２以上１．３以下でもよく、１．３以上２．０以下でもよく、１．３以上１．７以下でもよく、１．３以上１．５以下でもよく、１．５以上２．０以下でもよく、１．５以上１．７以下でもよく、１．７以上２．０以下でもよい。
【0085】
寸法Ｅ１１の特定の数値範囲と、寸法Ｅ２１の特定の数値範囲とが組み合わされてもよい。例えば、寸法Ｅ１１が１０００ｍｍ以上１２００ｍｍ以下であり、寸法Ｅ２１が１２００ｍｍ以上１３００ｍｍ以下であってもよい。例えば、寸法Ｅ１１が１２００ｍｍ以上１３００ｍｍ以下であり、寸法Ｅ２１が２０００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下であってもよい。例えば、寸法Ｅ１１が２１００ｍｍ以上２３００ｍｍ以下であり、寸法Ｅ２１が２４００ｍｍ以上２６００ｍｍ以下であってもよい。
【0086】
開口４５は、第１方向Ｄ１において寸法Ｅ１２を有し、第２方向Ｄ２において寸法Ｅ２２を有する。フレーム４０の寸法を大きくすることにより、開口４５の寸法を大きくできる。開口４５の寸法を大きくすることにより、平面視において開口４５に重なるマスク５０の面積を大きくできる。これにより、１枚の基板１１０の上に形成される有機デバイス１００の数が増加する。これにより、有機デバイス１００の製造コストを低減できる。
【0087】
マスク５０は、第１部分４３Ａ及び第２部分４３Ｂに固定されている。平面視において、マスク５０は、第１端部５１、第２端部５２及び中間部５３を含む。第１端部５１は、平面視において第１部分４３Ａに重なる。第２端部５２は、平面視において第２部分４３Ｂに重なる。第１端部５１と第２端部５２は、第１方向Ｄ１において対向していてもよい。中間部５３は、平面視において第１端部５１と第２端部５２との間に位置する。中間部５３は、平面視において開口４５に重なっている。中間部５３は、貫通孔群５４を含む。中間部５３は、第１方向Ｄ１に並ぶ複数の貫通孔群５４を含んでいてもよい。
【0088】
マスク装置１５は、第２方向に沿って並ぶ複数のマスク５０を備えてもよい。マスク装置１５は、第２方向Ｄ２に沿って並ぶ複数のカバーマスク６０を備えてもよい。カバーマスク６０は、第１部分４３Ａ及び第２部分４３Ｂに固定された一対の端部を含んでもよい。カバーマスク６０は、第１部分４３Ａから第２部分４３Ｂまで第１方向Ｄ１に延びていてもよい。
【0089】
カバーマスク６０は、第２方向Ｄ２において隣り合う２つのマスク５０の間の隙間を蒸着材料が通過することを抑制するための部材である。カバーマスク６０は、第２方向Ｄ２において隣り合う２つのマスク５０の両方に部分的に重なっていてもよい。
【0090】
図４に示すように、マスク装置１５は、第３部分４３Ｃに沿って延びるアライメントマスク７０を含んでいてもよい。第３部分４３Ｃに沿って延びるアライメントマスク７０は、第１アライメントマスク７０Ａと称される。第１アライメントマスク７０Ａは、第３部分４３Ｃの内縁４１を覆うよう延びている。マスク装置１５は、第４部分４３Ｄに沿って延びるアライメントマスク７０を含んでいてもよい。第４部分４３Ｄに沿って延びるアライメントマスク７０は、第２アライメントマスク７０Ｂと称される。第２アライメントマスク７０Ｂは、第４部分４３Ｄの内縁４１を覆うよう延びている。
【0091】
アライメントマスク７０は、アライメントマーク７７を含む。アライメントマーク７７は、フレーム４０に対するアライメントマスク７０の位置を調整するために用いられるマークであってもよい。アライメントマーク７７は、平面視の座標系におけるマスク装置１５の基準点を示すマークであってもよい。
【0092】
第１アライメントマスク７０Ａは、第３部分４３Ｃとマスク５０との間の隙間を蒸着材料が通過することを抑制する部材としても機能できる。第２アライメントマスク７０Ｂは、第４部分４３Ｄとマスク５０との間の隙間を蒸着材料が通過することを抑制する部材としても機能できる。
【0093】
図示はしないが、マスク装置１５は、第１方向Ｄ１に並ぶ複数の支持マスクを含んでもよい。支持マスクは、第３部分４３Ｃ及び第４部分４３Ｄに固定された一対の端部を含んでもよい。支持マスクは、第３部分４３Ｃから第４部分４３Ｄまで第２方向Ｄ２に延びていてもよい。
【0094】
支持マスクは、マスク５０を下方から支持するための部材である。支持マスクは、マスク５０が下方に撓むことを抑制できる。支持マスクは、平面視において、第１方向Ｄ１において隣り合う２つの貫通孔群５４の間に位置していてもよい。
【0095】
マスク５０について詳細に説明する。図５は、マスク５０の一例を示す平面図である。平面視において、マスク５０は、第１方向Ｄ１に延びる一対の側縁５０１，５０２と、第１側縁５０３及び第２側縁５０４と、を含んでもよい。第１側縁５０３及び第２側縁５０４は、第１方向Ｄ１におけるマスク５０の端である。一対の側縁５０１，５０２は、第２方向Ｄ２におけるマスク５０の端である。
【0096】
中間部５３の貫通孔群５４は、平面視において規則的に並ぶ複数の貫通孔５６を含む。貫通孔５６は、２つの方向において周期的に並んでいてもよい。例えば、貫通孔５６は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２において周期的に並んでいてもよい。
【0097】
１つの貫通孔群５４は、１つの有機デバイス１００に対応する。例えば、１つの有機デバイス１００に含まれる複数の第１有機層１３０Ａは、１つの貫通孔群５４の複数の貫通孔５６を通った蒸着材料によって構成される。マスク５０は、少なくとも１つの貫通孔群５４を含む。マスク５０は、第１方向Ｄ１に並ぶ２つ以上の貫通孔群５４を含んでもよい。
【0098】
マスク５０は、第１方向Ｄ１において寸法Ｍ１１を有する。寸法Ｍ１１は、例えば、６００ｍｍ以上でもよく、８００ｍｍ以上でもよく、１０００ｍｍ以上でもよい。寸法Ｍ１１は、例えば、１２００ｍｍ以下でもよく、１５００ｍｍ以下でもよく、２０００ｍｍ以下でもよい。寸法Ｍ１１の範囲は、６００ｍｍ、８００ｍｍ及び１０００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、１２００ｍｍ、１５００ｍｍ及び２０００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ｍ１１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｍ１１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｍ１１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、寸法Ｍ１１は、６００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下でもよく、６００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下でもよく、６００ｍｍ以上１２００ｍｍ以下でもよく、６００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下でもよく、６００ｍｍ以上８００ｍｍ以下でもよく、８００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下でもよく、８００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下でもよく、８００ｍｍ以上１２００ｍｍ以下でもよく、８００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下でもよく、１０００ｍｍ以上１２００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下でもよく、１２００ｍｍ以上１５００ｍｍ以下でもよく、１５００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下でもよい。
【0099】
マスク５０は、第２方向Ｄ２において寸法Ｍ２１を有する。寸法Ｍ２１は、例えば、５０ｍｍ以上でもよく、１００ｍｍ以上でもよく、１５０ｍｍ以上でもよい。寸法Ｍ２１は、例えば、２００ｍｍ以下でもよく、３００ｍｍ以下でもよく、５００ｍｍ以下でもよい。寸法Ｍ２１の範囲は、５０ｍｍ、１００ｍｍ及び１５０ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、２００ｍｍ、３００ｍｍ及び５００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ｍ２１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｍ２１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｍ２１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、寸法Ｍ２１は、５０ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上３００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上３００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上１５０ｍｍ以下でもよく、１５０ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、１５０ｍｍ以上３００ｍｍ以下でもよく、１５０ｍｍ以上２００ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよく、２００ｍｍ以上３００ｍｍ以下でもよく、３００ｍｍ以上５００ｍｍ以下でもよい。
【0100】
次に、マスク５０の断面構造を説明する。図６は、マスク５０の一例を示す断面図である。
【0101】
マスク５０は、基材５５と、基材５５を貫通する貫通孔５６と、を備える。基材５５は、第１面５５１及び第２面５５２を含む。貫通孔５６は、第１面５５１から第２面５５２へ基材５５を貫通している。
【0102】
貫通孔５６は、第１凹部５６１と、第２凹部５６２と、第１凹部５６１と第２凹部５６２とを接続する接続部５６３と、を含んでもよい。第１凹部５６１は、第１面５５１に位置し、第２面５５２に向かって凹んでいる。第２凹部５６２は、第２面５５２に位置し第１面５５１に向かって凹んでいる。第１凹部５６１と第２凹部５６２が接続部５６３で接続されることにより、貫通孔５６が構成される。第１凹部５６１は、基材５５を第１面５５１側からエッチングやレーザーなどによって加工することによって形成される。第２凹部５６２は、基材５５を第２面５５２側からエッチングやレーザーなどによって加工することによって形成される。
【0103】
第１凹部５６１は、平面視において寸法ｒ１を有する。第２凹部５６２は、平面視において寸法ｒ２を有する。寸法ｒ２は、寸法ｒ１よりも大きくてもよい。例えば、平面視において第２凹部５６２の輪郭が第１凹部５６１の輪郭を囲んでいてもよい。
【0104】
接続部５６３は、第１面５５１と第２面５５２の間に位置する。接続部５６３は、一周にわたって連続した輪郭を有してもよい。接続部５６３は、マスク５０の平面視において貫通孔５６の開口面積が最小になる貫通部５６４を画成していてもよい。
【0105】
貫通部５６４の寸法ｒは、例えば、１０μｍ以上であってもよく、１５μｍ以上であってもよく、２０μｍ以上であってもよく、２５μｍ以上であってもよい。また、貫通部５６４の寸法ｒは、例えば、４０μｍ以下であってもよく、４５μｍ以下であってもよく、５０μｍ以下であってもよく、５５μｍ以下であってもよい。貫通部５６４の寸法ｒの範囲は、１０μｍ、１５μｍ、２０μｍ及び２５μｍからなる第１グループ、及び／又は、４０μｍ、４５μｍ、５０μｍ及び５５μｍからなる第２グループによって定められてもよい。貫通部５６４の寸法ｒの範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。貫通部５６４の寸法ｒの範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。貫通部５６４の寸法ｒの範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、貫通部５６４の寸法ｒは、１０μｍ以上５５μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上４５μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上２５μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上５５μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上４５μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上２５μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上５５μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上４５μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上２５μｍ以下であってもよく、２５μｍ以上５５μｍ以下であってもよく、２５μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、２５μｍ以上４５μｍ以下であってもよく、２５μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、４０μｍ以上５５μｍ以下であってもよく、４０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、４０μｍ以上４５μｍ以下であってもよく、４５μｍ以上５５μｍ以下であってもよく、４５μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、５０μｍ以上５５μｍ以下であってもよい。
【0106】
貫通部５６４の寸法ｒは、貫通孔５６を透過する光によって画定される。具体的には、マスク５０の法線方向に沿って平行光をマスク５０の第１面５５１又は第２面５５２の一方に入射させ、貫通孔５６を透過させて第１面５５１又は第２面５５２の他方から出射させる。出射した光がマスク５０の面方向において占める領域の寸法を、貫通部５６４の寸法ｒとして採用する。
【0107】
図６においては、隣り合う二つの第２凹部５６２の間に基材５５の第２面５５２が残存している例を示したが、これに限られることはない。図示はしないが、隣り合う２つの第２凹部５６２が接続されるようにエッチングが実施されてもよい。すなわち、隣り合う２つの第２凹部５６２の間に、基材５５の第２面５５２が残存していない場所が存在していてもよい。
【0108】
マスク５０、６０、７０及びフレーム４０の材料について説明する。マスク５０、６０、７０およびフレーム４０の主要な材料としては、ニッケルを含む鉄合金を用いることができる。鉄合金は、ニッケルに加えてコバルトを更に含んでいてもよい。例えば、マスク５０、６０、７０の基材の材料として、ニッケル及びコバルトの含有量が合計で２８質量％以上且つ５４質量％以下であり、且つコバルトの含有量が０質量％以上且つ６質量％以下である鉄合金を用いることができる。これにより、マスク５０及びフレーム４０の熱膨張係数と、ガラスを含む基板１１０の熱膨張係数との差を小さくできる。このため、蒸着処理によって基板１１０上に形成される層の寸法精度や位置精度が、マスク５０、６０、７０、フレーム４０、基板１１０などの熱膨張に起因して低下することを抑制できる。
【0109】
マスク５０、６０、７０の基材におけるニッケルの含有量及びコバルトの含有量の合計は、２８質量％以上且つ３８質量％以下であってもよい。この場合、ニッケル若しくはニッケル及びコバルトを含む鉄合金の具体例としては、インバー材、スーパーインバー材、ウルトラインバー材などを挙げることができる。インバー材は、３４質量％以上且つ３８質量％以下のニッケルと、残部の鉄及び不可避の不純物とを含む鉄合金である。スーパーインバー材は、３０質量％以上且つ３４質量％以下のニッケルと、コバルトと、残部の鉄及び不可避の不純物と含む鉄合金である。ウルトラインバー材は、２８質量％以上且つ３４質量％以下のニッケルと、２質量％以上且つ７質量％以下のコバルトと、０．１質量％以上且つ１．０質量％以下のマンガンと、０．１０質量％以下のシリコンと、０．０１質量％以下の炭素と、残部の鉄及び不可避の不純物とを含む鉄合金である。
【0110】
マスク５０、６０、７０におけるニッケルの含有量及びコバルトの含有量の合計は、３８質量％以上且つ５４質量％以下であってもよい。例えば、マスク５０、６０、７０は、３８質量％以上且つ５４質量％以下のニッケルと、残部の鉄及び不可避の不純物とを含む鉄合金によって構成されていてもよい。このようなマスク５０は、めっき法によって製造されてもよい。
【0111】
蒸着処理の際に、マスク５０、６０、７０、フレーム４０および基板１１０の温度が高温には達しない場合は、マスク５０、６０、７０およびフレーム４０の熱膨張係数を、基板１１０の熱膨張係数と同等の値にする必要はない。この場合、マスク５０、６０、７０を構成する材料として、上述の鉄合金以外の材料を用いてもよい。例えば、クロムを含む鉄合金など、上述のニッケルを含む鉄合金以外の鉄合金を用いてもよい。クロムを含む鉄合金としては、例えば、いわゆるステンレスと称される鉄合金を用いることができる。また、ニッケルやニッケル－コバルト合金など、鉄合金以外の合金を用いてもよい。
【0112】
マスク５０の厚みＴ０は、例えば、８μｍ以上であってもよく、１０μｍ以上であってもよく、１３μｍ以上であってもよく、１５μｍ以上であってもよい。また、厚みＴ０は、例えば、２０μｍ以下であってもよく、３０μｍ以下であってもよく、４０μｍ以下であってもよく、５０μｍ以下であってもよい。厚みＴ０の範囲は、８μｍ、１０μｍ、１３μｍ及び１５μｍからなる第１グループ、及び／又は、２０μｍ、３０μｍ、４０μｍ及び５０μｍからなる第２グループによって定められてもよい。厚みＴ０の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。厚みＴ０の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。厚みＴ０の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、厚みＴ０は、８μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、８μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、８μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、８μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、８μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、８μｍ以上１３μｍ以下であってもよく、８μｍ以上１０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上１３μｍ以下であってもよく、１３μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１３μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１３μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、１３μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、１３μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、３０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、３０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、４０μｍ以上５０μｍ以下であってもよい。
【0113】
厚みＴ０を５０μｍ以下にすることにより、貫通孔５６を通過する前に貫通孔５６の壁面に蒸着材料７が付着することを抑制できる。これにより、蒸着材料７の利用効率を高めることができる。また、厚みＴ０を８μｍ以上にすることにより、マスク５０の強度を確保し、マスク５０に損傷や変形が生じることを抑制できる。
【0114】
カバーマスク６０の厚みの数値範囲は、マスク５０の厚みＴ０の上述の数値範囲と同一であってもよい。アライメントマスク７０の厚みの数値範囲は、マスク５０の厚みＴ０の上述の数値範囲と同一であってもよい。
【0115】
マスク５０、６０、７０の厚みを測定する方法としては、接触式の測定方法を採用する。接触式の測定方法としては、ボールブッシュガイド式のプランジャーを備える、ハイデンハイン社製の長さゲージHEIDENHAIN-METROの「MT1271」を用いる。
【0116】
次に、フレーム４０及びアライメントマスク７０について詳細に説明する。図７は、マスク装置１５の中間製品の一例を示す平面図である。図７に示す中間製品は、フレーム４０、カバーマスク６０及びアライメントマスク７０を備えるが、マスク５０を備えない。
【0117】
フレーム４０は、フレーム第１面４０１に対して凹んでいる凹部４４を含む。図７に示す例において、凹部４４は、第３部分４３Ｃに位置する第３凹部４４Ｃを少なくとも含む。凹部４４は、第４部分４３Ｄに位置する第４凹部４４Ｄを含んでいてもよい。
【0118】
図８は、第３部分４３Ｃ及び第１アライメントマスク７０Ａを拡大して示す平面図である。第３部分４３Ｃは、少なくとも１つの第３凹部４４Ｃを含む。第３部分４３Ｃは、２つ以上の第３凹部４４Ｃを含んでもよい。
【0119】
上述のとおり、蒸着工程において、基板１１０を保持する基板ホルダ２が凹部４４に配置される。例えば、平面視において第３部分４３Ｃに重なる基板１１０の辺を保持する基板ホルダ２が、第３凹部４４Ｃに配置される。図８において、符号Ｓ０３は、第２方向Ｄ２における、開口４５と第３凹部４４Ｃとの間の距離を表す。距離Ｓ０３が小さいことが好ましい。距離Ｓ０３が小さいほど、基板１１０の辺と開口４５との間の平面視における距離を小さくできる。これにより、有機デバイス１００の生産性を高めることができる。例えば、有機デバイス１００の面積に対するデバイス領域１０３の面積の比率を高めることができる。
【0120】
距離Ｓ０３は、例えば、１．０ｍｍ以上でもよく、２．０ｍｍ以上でもよく、３．０ｍｍ以上でもよい。距離Ｓ０３は、例えば、５．０ｍｍ以下でもよく、１０．０ｍｍ以下でもよく、２０．０ｍｍ以下でもよい。距離Ｓ０３の範囲は、１．０ｍｍ、２．０ｍｍ及び３．０ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、５．０ｍｍ、１０．０ｍｍ及び２０．０ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。距離Ｓ０３の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ０３の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ０３の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ０３は、例えば、１．０ｍｍ以上２０．０ｍｍ以下でもよく、１．０ｍｍ以上１０．０ｍｍ以下でもよく、１．０ｍｍ以上５．０ｍｍ以下でもよく、１．０ｍｍ以上３．０ｍｍ以下でもよく、１．０ｍｍ以上２．０ｍｍ以下でもよく、２．０ｍｍ以上２０．０ｍｍ以下でもよく、２．０ｍｍ以上１０．０ｍｍ以下でもよく、２．０ｍｍ以上５．０ｍｍ以下でもよく、２．０ｍｍ以上３．０ｍｍ以下でもよく、３．０ｍｍ以上２０．０ｍｍ以下でもよく、３．０ｍｍ以上１０．０ｍｍ以下でもよく、３．０ｍｍ以上５．０ｍｍ以下でもよく、５．０ｍｍ以上２０．０ｍｍ以下でもよく、５．０ｍｍ以上１０．０ｍｍ以下でもよく、１０．０ｍｍ以上２０．０ｍｍ以下でもよい。
【0121】
距離Ｓ０３が小さいほど、平面視において第１アライメントマスク７０Ａが第３凹部４４Ｃに重なり易くなる。第１アライメントマスク７０Ａが第３凹部４４Ｃに重なると、基板ホルダ２が第１アライメントマスク７０Ａに接触するという事態が生じ易くなる。このような事態を抑制するため、図８に示すように、第１アライメントマスク７０Ａの外縁に切り欠き７５が形成されていてもよい。
【0122】
第１アライメントマスク７０Ａの構成を詳細に説明する。第１アライメントマスクは、第１端部７１、第２端部７２、中間部７３、アライメントマーク７７及び固定部７８を含む。第１端部７１は、平面視においてフレーム４０に重なる。第１端部７１は、固定部７８によって第１部分４３Ａに固定されている。第２端部７２は、平面視においてフレーム４０に重なる。第２端部７２は、固定部７８によって第２部分４３Ｂに固定されている。第１端部７１と第２端部７２は、第１方向Ｄ１において対向していてもよい。第１端部７１は第１側縁７１１を含み、第２端部７２は第２側縁７２１を含む。第１側縁７１１及び第２側縁７２１は、第１方向Ｄ１における第１アライメントマスク７０Ａの端である。
【0123】
中間部５３は、平面視において第１端部５１と第２端部５２との間に位置する。中間部５３は、第２方向Ｄ２における中間部７３の端である外側側縁７３１及び内側側縁７３２を含む。外側側縁７３１は、平面視において第３部分４３Ｃに重なっていてもよい。内側側縁７３２は、第２方向Ｄ２において外側側縁７３１に対向している。内側側縁７３２は、平面視において開口４５に重なっている。図８には示されていないが、内側側縁７３２は、平面視においてマスク５０に重なっていてもよい。
【0124】
図８に示す例において、切り欠き７５は外側側縁７３１に形成されている。第１アライメントマスク７０Ａの外側側縁７３１に形成されている切り欠き７５は、第３切り欠き７５Ｃと称される。
【0125】
外側側縁７３１は、直線部７６及び第３切り欠き７５Ｃを含んでいてもよい。直線部７６は、第１方向Ｄ１に沿って直線的に延びている。直線部７６の延長線は、平面視において第３凹部４４Ｃに重なる。第３切り欠き７５Ｃは、平面視において直線部７６から内側側縁７３２に向かって凹んでいる。
【0126】
第３切り欠き７５Ｃは、平面視において第３凹部４４Ｃに重なるよう配置される。第１アライメントマスク７０Ａに第３切り欠き７５Ｃを形成することにより、基板ホルダ２が第１アライメントマスク７０Ａの外側側縁７３１に接触することを抑制できる。「切り欠きが平面視において凹部に重なる」は、切り欠きの輪郭と、切り欠きが接続された直線部の延長線とによって囲まれる領域が、平面視においてフレーム４０の凹部に少なくとも部分的に重なることを意味する。
【0127】
上述のように、アライメントマスク７０は、フレーム４０とマスク５０との間の隙間を蒸着材料が通過することを抑制する遮蔽部材としても機能できる。中間部７３は、遮蔽部７９を含む。遮蔽部７９は、第２方向Ｄ２において外側側縁７３１と内側側縁７３２との間に位置する固体の部分である。
【0128】
アライメントマスク７０の遮蔽部７９は、大きい占有率を有することが好ましい。遮蔽部７９の占有率は、中間部７３の面積に対する遮蔽部７９の面積の比率である。中間部７３の面積は、外側側縁７３１と内側側縁７３２との間に位置する中間部７３の部分の面積である。中間部７３が貫通孔を含まない場合、遮蔽部７９の占有率は１００％である。
【0129】
固定部７８は、アライメントマスク７０をフレーム第１面４０１に固定するための構成要素である。固定部７８は、溶接部であってもよい。溶接部は、マスク５０の一部とフレーム４０の一部とが互いに溶融することによって形成された部分である。溶接部は、例えば、フレーム４０のフレーム第１面４０１に重なるマスク５０の第１面５５１にレーザーを照射することによって形成される。
【0130】
アライメントマスク７０は、複数の固定部７８を含む。例えば、アライメントマスク７０は、第１端部７１をフレーム第１面４０１に固定する固定部７８、及び、第２端部７２をフレーム第１面４０１に固定する固定部７８を含む。アライメントマスク７０は、外側側縁７３１を第３部分４３Ｃのフレーム第１面４０１に固定する固定部７８を含んでもよい。例えば、固定部７８は、第３切り欠き７５Ｃの輪郭に沿って位置していてもよい。固定部７８は、第１アライメントマスク７０Ａの第３切り欠き７５Ｃの周囲の部分がフレーム４０に対して移動することを抑制できる。
【0131】
切り欠き７５に沿って位置する固定部７８と、切り欠き７５の輪郭との間の、平面視における距離は、例えば５．０ｍｍ以下であり、４．０ｍｍ以下であってもよく、３．０ｍｍ以下であってもよく、２．０ｍｍ以下であってもよい。
【0132】
図８に示すように、複数の固定部７８が、第３切り欠き７５Ｃの輪郭に沿って並んでいてもよい。図示はしないが、第３切り欠き７５Ｃの輪郭に沿って連続的に延びる固定部７８が形成されていてもよい。
【0133】
フレーム４０及びアライメントマスク７０の断面構造の一例を説明する。図９は、図８のIX-IX線に沿った断面図である。図１０は、図８のX-X線に沿った断面図である。図１１は、図８のXI-XI線に沿った断面図である。符号Ｄ３は、フレーム４０及びアライメントマスク７０の厚み方向を表す。厚み方向Ｄ３は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に対して直交している。
【0134】
図１０に示すように、第３部分４３Ｃの第３凹部４４Ｃは、フレーム第３面４０３を含む。第３凹部４４Ｃのフレーム第３面４０３は、平面視において、第１方向Ｄ１においてフレーム第１面４０１に挟まれていてもよい。
【0135】
フレーム第３面４０３からフレーム第２面４０２までの距離は、フレーム第１面４０１からフレーム第２面４０２までの距離よりも短い。図９及び図１０に示すように、第１部分４３Ａ及び第２部分４３Ｂも、フレーム第１面４０１に加えてフレーム第３面４０３を含んでいてもよい。フレーム第３面４０３は、上述の図４及び図７に示されるように、平面視においてフレーム第１面４０１を囲むように、フレーム第１面４０１の外側に位置していてもよい。
【0136】
符号Ｔ１は、厚み方向におけるフレーム第１面４０１とフレーム第３面４０３との間の距離を表す。距離Ｔ１は、基板ホルダ２がフレーム第３面４０３に接触しないよう定められていてもよい。距離Ｔ１は、例えば、２ｍｍ以上でもよく、５ｍｍ以上でもよく、１０ｍｍ以上でもよい。距離Ｔ１は、例えば、２０ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以下でもよい。距離Ｔ１の範囲は、２ｍｍ、５ｍｍ及び１０ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、２０ｍｍ、５０ｍｍ及び１００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。距離Ｔ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｔ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｔ１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｔ１は、例えば、２ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、２ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、２ｍｍ以上２０ｍｍ以下でもよく、２ｍｍ以上１０ｍｍ以下でもよく、２ｍｍ以上５ｍｍ以下でもよく、５ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、５ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、５ｍｍ以上２０ｍｍ以下でもよく、５ｍｍ以上１０ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上２０ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよい。
【0137】
図１１に示すように、第３切り欠き７５Ｃの輪郭は、フレーム第１面４０１上に位置してもよい。第３切り欠き７５Ｃの輪郭は、第２方向Ｄ２において第３凹部４４Ｃよりも内側に位置していてもよい。言い換えると、第３凹部４４Ｃは、第２方向Ｄ２において第３切り欠き７５Ｃの輪郭よりも外側に位置していてもよい。「内側」は、平面視においてフレーム４０の中心に近づく側を意味する。
【0138】
図１２は、フレーム４０の第３凹部４４Ｃ及び第１アライメントマスク７０Ａの第３切り欠き７５Ｃの一例を示す平面図である。第３切り欠き７５Ｃの輪郭は、第１コーナー部８１、第２コーナー部８２、第１ライン８６、第２ライン８７及び第３ライン８８を含んでもよい。
【0139】
第１コーナー部８１及び第２コーナー部８２は、第１方向Ｄ１において対向していてもよい。第２コーナー部８２は、第１コーナー部８１に対して第２端部７２の側に位置する。言い換えると、第２コーナー部８２から第２端部７２までの距離は、第１コーナー部８１から第２端部７２までの距離よりも短い。
【0140】
第１ライン８６は、第１コーナー部８１から直線部７６まで延びている。第１ライン８６は、直線的に延びていてもよい。例えば、第１ライン８６は、第２方向Ｄ２に沿って直線的に延びていてもよい。「第２方向Ｄ２に沿って直線的に延びる」は、第１ライン８６が延びる方向と第２方向Ｄ２とが成す角度が１０°以下であることを意味する。
【0141】
第２ライン８７は、第２コーナー部８２から直線部７６まで延びている。第２ライン８７は、直線的に延びていてもよい。例えば、第２ライン８７は、第２方向Ｄ２に沿って直線的に延びていてもよい。
【0142】
第３ライン８８は、第１コーナー部８１から第２コーナー部８２まで延びている。第３ライン８８は、直線的に延びていてもよい。例えば、第３ライン８８は、第１方向Ｄ１に沿って直線的に延びていてもよい。「第１方向Ｄ１に沿って直線的に延びる」は、第３ライン８８が延びる方向と第１方向Ｄ１とが成す角度が１０°以下であることを意味する。
【0143】
符号Ｓ１１は、平面視における第１ライン８６と第２ライン８７との間の距離を表す。距離Ｓ１１は、第１方向Ｄ１における第１ライン８６と第２ライン８７との間の間隔の最大値である。距離Ｓ１１は、例えば、１０ｍｍ以上でもよく、２０ｍｍ以上でもよく、３０ｍｍ以上でもよい。距離Ｓ１１は、例えば、５０ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以下でもよく、１５０ｍｍ以下でもよい。距離Ｓ１１の範囲は、１０ｍｍ、２０ｍｍ及び３０ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、５０ｍｍ、１００ｍｍ及び１５０ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。距離Ｓ１１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ１１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ１１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ１１は、例えば、１０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上３０ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上２０ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以上３０ｍｍ以下でもよく、３０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下でもよく、３０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、３０ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以上１５０ｍｍ以下でもよい。
【0144】
符号Ｓ１２は、平面視における直線部７６と第３ライン８８との間の距離を表す。距離Ｓ１２は、第２方向Ｄ２における直線部７６と第３ライン８８との間の間隔の最大値である。距離Ｓ１２は、例えば、５ｍｍ以上でもよく、１０ｍｍ以上でもよく、１５ｍｍ以上でもよい。距離Ｓ１２は、例えば、３０ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以下でもよい。距離Ｓ１２の範囲は、５ｍｍ、１０ｍｍ及び１５ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、３０ｍｍ、５０ｍｍ及び１００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。距離Ｓ１２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ１２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ１２の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ１２は、例えば、５ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、５ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、５ｍｍ以上３０ｍｍ以下でもよく、５ｍｍ以上１５ｍｍ以下でもよく、５ｍｍ以上１０ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上３０ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上１５ｍｍ以下でもよく、１５ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、１５ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、１５ｍｍ以上３０ｍｍ以下でもよく、３０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよく、３０ｍｍ以上５０ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以上１００ｍｍ以下でもよい。
【0145】
距離Ｓ１２は、距離Ｓ１１よりも小さくてもよい。距離Ｓ１２は、第２方向Ｄ２におけるアライメントマスク７０の寸法Ｍ２２に対して相対的に定められてもよい。寸法Ｍ２２に対する距離Ｓ１２の比率であるＳ１２／Ｍ２２は、例えば、０．０５以上でもよく、０．１０以上でもよく、０．１５以上でもよい。Ｓ１２／Ｍ２２は、例えば、０．３０以下でもよく、０．５０以下でもよく、０．８０以下でもよい。Ｓ１２／Ｍ２２の範囲は、０．０５、０．１０及び０．１５からなる第１グループ、及び／又は、０．３０、０．５０及び０．８０からなる第２グループによって定められてもよい。Ｓ１２／Ｍ２２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。Ｓ１２／Ｍ２２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。Ｓ１２／Ｍ２２の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。Ｓ１２／Ｍ２２は、例えば、０．０５以上０．８０以下でもよく、０．０５以上０．５０以下でもよく、０．０５以上０．３０以下でもよく、０．０５以上０．１５以下でもよく、０．０５以上０．１０以下でもよく、０．１０以上０．８０以下でもよく、０．１０以上０．５０以下でもよく、０．１０以上０．３０以下でもよく、０．１０以上０．１５以下でもよく、０．１５以上０．８０以下でもよく、０．１５以上０．５０以下でもよく、０．１５以上０．３０以下でもよく、０．３０以上０．８０以下でもよく、０．３０以上０．５０以下でもよく、０．５０以上０．８０以下でもよい。
【0146】
第１コーナー部８１及び第２コーナー部８２について詳細に説明する。第１コーナー部８１及び第２コーナー部８２はそれぞれ、コーナー８３、第１辺８４１及び第２辺８４２を含んでもよい。第１辺８４１は、第１コーナー部８１及び第２コーナー部８２の一方のコーナー８３から他方のコーナー８３に向かって延びている。例えば、第１コーナー部８１の第１辺８４１は、第１コーナー部８１のコーナー８３から第２コーナー部８２のコーナー８３に向かって延びている。例えば、第２コーナー部８２の第１辺８４１は、第２コーナー部８２のコーナー８３から第１コーナー部８１のコーナー８３に向かって延びている。第１辺８４１は、第３ライン８８に接続される。
【0147】
第２辺８４２は、コーナー８３から直線部７６に向かって延びている。第２辺８４２は、第１ライン８６又は第２ライン８７に接続される。例えば、第１コーナー部８１の第２辺８４２は、第１ライン８６に接続される。例えば、第２コーナー部８２の第２辺８４２は、第２ライン８７に接続される。
【0148】
図１３は、第１コーナー部８１の一例を拡大して示す平面図である。コーナー８３は、内端８３１及び外端８３２を含んでもよい。内端８３１は、第１方向Ｄ１に一致する接線方向を有するコーナー８３の部分である。第１コーナー部８１の第１辺８４１は、内端８３１から第２コーナー部８２に向かって延びていてもよい。外端８３２は、第２方向Ｄ２に一致する接線方向を有するコーナー８３の部分である。第２辺８４２は、外端８３２から直線部７６に向かって延びていてもよい。
【0149】
図１３に示すように、第１コーナー部８１のコーナー８３の内端８３１は、第３ライン８８に対して内側側縁７３２の側に位置していてもよい。「第３ライン８８に対して内側側縁７３２の側に位置する」は、内端８３１と内側側縁７３２との間の距離が、第１コーナー部８１に接続される第３ライン８８の位置と内側側縁７３２との間の距離よりも短いことを意味する。例えば、コーナー８３の内端８３１と第３ライン８８との間に段差が構成されていてもよい。図１３に示す例において、段差は、第１ライン８６に接続された第３辺８４３によって構成されている。第３辺８４３は、第２方向Ｄ２に延びる成分を含んでいる。
【0150】
符号Ｓ１３は、第１コーナー部８１に接続される第３ライン８８の位置とコーナー８３の内端８３１との間の、第２方向Ｄ２における距離を表す。距離Ｓ１３は、例えば、１μｍ以上でもよく、５μｍ以上でもよく、１０μｍ以上でもよい。距離Ｓ１３は、例えば、０．１ｍｍ以下でもよく、１ｍｍ以下でもよく、５ｍｍ以下でもよい。距離Ｓ１３の範囲は、１μｍ、５μｍ及び１０μｍからなる第１グループ、及び／又は、０．１ｍｍ、１ｍｍ及び５ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。距離Ｓ１３の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ１３の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ１３の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ１３は、例えば、１μｍ以上５ｍｍ以下でもよく、１μｍ以上１ｍｍ以下でもよく、１μｍ以上０．１ｍｍ以下でもよく、１μｍ以上１０μｍ以下でもよく、１μｍ以上５μｍ以下でもよく、５μｍ以上５ｍｍ以下でもよく、５μｍ以上１ｍｍ以下でもよく、５μｍ以上０．１ｍｍ以下でもよく、５μｍ以上１０μｍ以下でもよく、１０μｍ以上５ｍｍ以下でもよく、１０μｍ以上１ｍｍ以下でもよく、１０μｍ以上０．１ｍｍ以下でもよく、０．１ｍｍ以上５ｍｍ以下でもよく、０．１ｍｍ以上１ｍｍ以下でもよく、１ｍｍ以上５ｍｍ以下でもよい。
【0151】
図１３に示すように、第１コーナー部８１のコーナー８３の外端８３２は、第１ライン８６に対して第１端部７１の側に位置していてもよい。「第１ライン８６に対して第１端部７１の側に位置する」は、外端８３２と第１端部７１との間の距離が、第１コーナー部８１に接続される第１ライン８６の位置と第１端部７１との間の距離よりも短いことを意味する。例えば、コーナー８３の外端８３２と第１ライン８６との間に段差が構成されていてもよい。図１３に示す例において、段差は、第４辺８４４によって構成されている。第４辺８４４は、第１方向Ｄ１に延びる成分を含んでいる。
【0152】
符号Ｓ１４は、第１コーナー部８１に接続される第１ライン８６の位置とコーナー８３の外端８３２との間の、第１方向Ｄ１における距離を表す。距離Ｓ１４は、例えば、１μｍ以上でもよく、５μｍ以上でもよく、１０μｍ以上でもよい。距離Ｓ１３は、例えば、０．１ｍｍ以下でもよく、１ｍｍ以下でもよく、５ｍｍ以下でもよい。距離Ｓ１４の範囲は、１μｍ、５μｍ及び１０μｍからなる第１グループ、及び／又は、０．１ｍｍ、１ｍｍ及び５ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。距離Ｓ１４の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ１４の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ１４の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ１４は、例えば、１μｍ以上５ｍｍ以下でもよく、１μｍ以上１ｍｍ以下でもよく、１μｍ以上０．１ｍｍ以下でもよく、１μｍ以上１０μｍ以下でもよく、１μｍ以上５μｍ以下でもよく、５μｍ以上５ｍｍ以下でもよく、５μｍ以上１ｍｍ以下でもよく、５μｍ以上０．１ｍｍ以下でもよく、５μｍ以上１０μｍ以下でもよく、１０μｍ以上５ｍｍ以下でもよく、１０μｍ以上１ｍｍ以下でもよく、１０μｍ以上０．１ｍｍ以下でもよく、０．１ｍｍ以上５ｍｍ以下でもよく、０．１ｍｍ以上１ｍｍ以下でもよく、１ｍｍ以上５ｍｍ以下でもよい。
【0153】
図１３に示すように、コーナー８３は、湾曲した部分を含んでいてもよい。例えば、コーナー８３は、円弧の形状を有していてもよい。
【0154】
第２コーナー部８２の構成は、第１コーナー部８１の構成と同一であってもよい。例えば、第２コーナー部８２のコーナー８３は、第１コーナー部８１のコーナー８３と同様に、内端及び外端を含んでもよい。第２コーナー部８２のコーナー８３の内端は、第３ライン８８に対して内側側縁７３２の側に位置していてもよい。第２コーナー部８２のコーナー８３の外端は、第２ライン８７に対して第２端部７２の側に位置していてもよい。第２コーナー部８２のコーナー８３は、湾曲した部分を含んでいてもよい。
【0155】
第４部分４３Ｄの構成は、第３部分４３Ｃの構成と同一であってもよい。例えば、第４部分４３Ｄは、少なくとも１つの第３凹部４４Ｃを含む。第４部分４３Ｄは、２つ以上の第４凹部４４Ｄを含んでもよい。第２方向Ｄ２における開口４５と第４凹部４４Ｄとの間の距離の数値範囲は、距離Ｓ０３の上述の数値範囲と同一であってもよい。
【0156】
第２アライメントマスク７０Ｂの構成は、第１アライメントマスク７０Ａの構成と同一であってもよい。例えば、第２アライメントマスク７０Ｂは、第１アライメントマスク７０Ａと同様に、第１端部７１、第２端部７２、中間部７３、アライメントマーク７７及び固定部７８を含んでもよい。中間部７３は、外側側縁７３１及び内側側縁７３２を含んでもよい。第２アライメントマスク７０Ｂは、外側側縁７３１に形成されている切り欠き７５を含んでもよい。第２アライメントマスク７０Ｂの外側側縁７３１に形成されている切り欠き７５は、第４切り欠き７５Ｄと称される。
【0157】
第２アライメントマスク７０Ｂの外側側縁７３１は、直線部７６及び第４切り欠き７５Ｄを含んでいてもよい。直線部７６は、第１方向Ｄ１に沿って直線的に延びている。第４切り欠き７５Ｄは、平面視において直線部７６から内側側縁７３２に向かって凹んでいる。第４切り欠き７５Ｄは、平面視において第４凹部４４Ｄに重なるよう配置される。第２アライメントマスク７０Ｂの複数の固定部７８の一部は、第４切り欠き７５Ｄの輪郭に沿って位置していてもよい。
【0158】
第４切り欠き７５Ｄの構成は、第３切り欠き７５Ｃの構成と同一であってもよい。例えば、第４切り欠き７５Ｄの輪郭は、フレーム第１面４０１上に位置してもよい。第４切り欠き７５Ｄの輪郭は、第２方向Ｄ２において第４凹部４４Ｄよりも内側に位置していてもよい。言い換えると、第４凹部４４Ｄは、第２方向Ｄ２において第４切り欠き７５Ｄの輪郭よりも外側に位置していてもよい。
【0159】
第４切り欠き７５Ｄの輪郭は、第３切り欠き７５Ｃの輪郭と同様に、第１コーナー部、第２コーナー部、第１ライン、第２ライン及び第３ラインを含んでもよい。
【0160】
次に、フレーム４０に固定される前のアライメントマスク７０の構成を説明する。図１４は、アライメントマスク７０の一例を示す平面図である。
【0161】
アライメントマスク７０は、第１端部７１、第２端部７２、中間部７３及びアライメントマーク７７を備える。中間部７３は、遮蔽部７９と、第１方向Ｄ１に並ぶ第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２と、を含む。第１貫通部７４１の輪郭の一部が、上述の切り欠き７５の第１コーナー部８１を構成する。第２貫通部７４２の輪郭の一部が、上述の切り欠き７５の第２コーナー部８２を構成する。第２貫通部７４２は、第１貫通部７４１に対して第２端部７２の側に位置する。
【0162】
第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２は、第１面７０１から第２面７０２までアライメントマスク７０を貫通する孔である。第２面７０２は、フレーム４０に面するアライメントマスク７０の面である。第１面７０１は、厚み方向において第２面７０２の反対側に位置するアライメントマスク７０の面である。フレーム４０に固定される前のアライメントマスク７０は第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２を含むので、中間部７３における遮蔽部７９の占有率は、１００％未満である。遮蔽部７９の占有率は、例えば９９．０％以上である。
【0163】
図１５は、第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２の一例を示す平面図である。第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２は、コーナー８３、第１辺８４１、第２辺８４２及び接続部８５を含む。
【0164】
図１６は、第１貫通部７４１の一例を示す平面図である。第１貫通部７４１のコーナー８３は、上述の切り欠き７５のコーナー８３と同様に、内端８３１及び外端８３２を含んでもよい。第１貫通部７４１のコーナー８３は、上述の切り欠き７５のコーナー８３と同様に、湾曲した部分を含んでいてもよい。例えば、コーナー８３は、円弧の形状を有していてもよい。
【0165】
第１辺８４１は、第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２の一方のコーナー８３から他方のコーナー８３に向かって延びている。例えば、第１貫通部７４１の第１辺８４１は、第１貫通部７４１のコーナー８３の内端８３１から第２貫通部７４２のコーナー８３に向かって延びている。例えば、第２貫通部７４２の第１辺８４１は、第２貫通部７４２のコーナー８３の内端８３１から第１貫通部７４１のコーナー８３に向かって延びている。
【0166】
第２辺８４２は、コーナー８３の外端８３２から外側側縁７３１に向かって延びている。
【0167】
接続部８５は、第１辺８４１と第２辺８４２との間に位置する。コーナー８３、第１辺８４１、第２辺８４２及び接続部８５によって、第１貫通部７４１の輪郭が構成される。接続部８５は、コーナー８３の内端８３１に対して外側側縁７３１の側に位置してもよい。第１貫通部７４１の接続部８５は、コーナー８３の外端８３２に対して第２端部７２の側に位置してもよい。
【0168】
接続部８５は、例えば、第３辺８４３、第４辺８４４、第５辺８４５及び第６辺８４６を含む。第３辺８４３は、第１辺８４１に接続されている。第３辺８４３は、第２方向Ｄ２に延びる成分を含んでいる。第３辺８４３は、第２辺８４２に平行に直線的に延びる部分を含んでいてもよい。第４辺８４４は、第２辺８４２に接続されている。第４辺８４４は、第１方向Ｄ１に延びる成分を含んでいる。第４辺８４４は、第１辺８４１に平行に直線的に延びる部分を含んでいてもよい。
【0169】
第５辺８４５は、第３辺８４３に接続されている。第５辺８４５は、第３辺８４３から第２辺８４２に向かうように延びている。第５辺８４５は、第１方向Ｄ１に延びる成分を含んでいる。第５辺８４５は、第１辺８４１に平行に延びる部分を含んでいてもよい。
【0170】
第６辺８４６は、第４辺８４４に接続されている。第６辺８４６は、第４辺８４４から第１辺８４１に向かうように延びている。第６辺８４６は、第５辺８４５に接続されてもよい。第６辺８４６は、第２方向Ｄ２に延びる成分を含んでいる。第６辺８４６は、第２辺８４２に平行に延びる部分を含んでいてもよい。
【0171】
符号Ｓ２１は、第１方向Ｄ１における第１貫通部７４１の寸法を表す。寸法Ｓ２１は、第１方向Ｄ１における第１貫通部７４１の寸法の最大値である。符号Ｓ２２は、第２方向Ｄ２における第１貫通部７４１の寸法を表す。寸法Ｓ２２は、第２方向Ｄ２における第１貫通部７４１の寸法の最大値である。符号Ｓ２３は、第１辺８４１に平行に延びる第５辺８４５の部分と、第１辺８４１との間の、第２方向Ｄ２における距離を表す。符号Ｓ２４は、第２辺８４２に平行に延びる第６辺８４６の部分と、第２辺８４２との間の、第１方向Ｄ１における距離を表す。
【0172】
後述するように、レーザーをアライメントマスク７０に照射してアライメントマスク７０を切断する工程は、第１切断工程、第２切断工程及び第３切断工程を含む。第１切断工程は、外側側縁７３１上の位置と第１貫通部７４１との間の経路に沿ってアライメントマスク７０を切断する。第２切断工程は、外側側縁７３１上の位置と第２貫通部７４２との間の経路に沿ってアライメントマスク７０を切断する。第３切断工程は、第１貫通部７４１と第２貫通部７４２との間の経路に沿ってアライメントマスク７０を切断する。
【0173】
第１切断工程においては、切断の経路が第１貫通部７４１の第４辺８４４に交わるようにレーザーが走査される。第２切断工程においては、切断の経路が第２貫通部７４２の第４辺８４４に交わるようにレーザーが走査される。第３切断工程においては、切断の経路が第１貫通部７４１の第３辺８４３及び第２貫通部７４２の第３辺８４３に交わるようにレーザーが走査される。上述の寸法Ｓ２１、Ｓ２２及び距離Ｓ２３、Ｓ２４は、レーザーの走査の開始点又は終了点が第１貫通部７４１又は第２貫通部７４２に位置するようにレーザーを制御できるよう、定められる。
【0174】
寸法Ｓ２１は、例えば、５０μｍ以上でもよく、２００μｍ以上でもよく、１ｍｍ以上でもよい。寸法Ｓ２１は、例えば、３ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以下でもよく、３０ｍｍ以下でもよい。寸法Ｓ２１の範囲は、５０μｍ、２００μｍ及び１ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、３ｍｍ、１０ｍｍ及び３０ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。寸法Ｓ２１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｓ２１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｓ２１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。寸法Ｓ２１は、例えば、５０μｍ以上３０ｍｍ以下でもよく、５０μｍ以上１０ｍｍ以下でもよく、５０μｍ以上３ｍｍ以下でもよく、５０μｍ以上１ｍｍ以下でもよく、５０μｍ以上２００μｍ以下でもよく、２００μｍ以上３０ｍｍ以下でもよく、２００μｍ以上１０ｍｍ以下でもよく、２００μｍ以上３ｍｍ以下でもよく、２００μｍ以上１ｍｍ以下でもよく、１ｍｍ以上３０ｍｍ以下でもよく、１ｍｍ以上１０ｍｍ以下でもよく、１ｍｍ以上３ｍｍ以下でもよく、３ｍｍ以上３０ｍｍ以下でもよく、３ｍｍ以上１０ｍｍ以下でもよく、１０ｍｍ以上３０ｍｍ以下でもよい。寸法Ｓ２１の下限が適切に定められることにより、第３切断工程においてレーザーの走査経路が第１貫通部７４１を第１方向Ｄ１に横断することを抑制できる。
【0175】
寸法Ｓ２２の数値範囲は、寸法Ｓ２１の上述の数値範囲と同一であってもよい。寸法Ｓ２２の下限が適切に定められることにより、第１切断工程及び第２切断工程においてレーザーの走査経路が第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２を第２方向Ｄ２に横断することを抑制できる。
【0176】
距離Ｓ２３は、例えば、１０μｍ以上でもよく、５０μｍ以上でもよく、３００μｍ以上でもよい。距離Ｓ２３は、例えば、１ｍｍ以下でもよく、５ｍｍ以下でもよく、２０ｍｍ以下でもよい。距離Ｓ２３の範囲は、１０μｍ、５０μｍ及び３００μｍからなる第１グループ、及び／又は、１ｍｍ、５ｍｍ及び２０ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。距離Ｓ２３の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ２３の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ２３の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。距離Ｓ２３は、例えば、１０μｍ以上２０ｍｍ以下でもよく、１０μｍ以上５ｍｍ以下でもよく、１０μｍ以上１ｍｍ以下でもよく、１０μｍ以上３００μｍ以下でもよく、１０μｍ以上５０μｍ以下でもよく、５０μｍ以上２０ｍｍ以下でもよく、５０μｍ以上５ｍｍ以下でもよく、５０μｍ以上１ｍｍ以下でもよく、５０μｍ以上３００μｍ以下でもよく、３００μｍ以上２０ｍｍ以下でもよく、３００μｍ以上５ｍｍ以下でもよく、３００μｍ以上１ｍｍ以下でもよく、１ｍｍ以上２０ｍｍ以下でもよく、１ｍｍ以上５ｍｍ以下でもよく、５ｍｍ以上２０ｍｍ以下でもよい。距離Ｓ２３の下限が適切に定められることにより、第３切断工程においてレーザーの走査経路が第３辺８４３に交わり易くなる。
【0177】
距離Ｓ２４の数値範囲は、距離Ｓ２３の上述の数値範囲と同一であってもよい。距離Ｓ２４の下限が適切に定められることにより、第１切断工程及び第２切断工程においてレーザーの走査経路が第４辺８４４に交わり易くなる。
【0178】
符号Ｓ２５は、第１貫通部７４１と第２貫通部７４２との間の、第１方向Ｄ１における距離を表す。距離Ｓ２５は、第１貫通部７４１の輪郭と第２貫通部７４２の輪郭との間の、第１方向Ｄ１における距離の最大値である。上述の距離Ｓ１１は、距離Ｓ２５に応じて定まる。距離Ｓ２５の数値範囲は、距離Ｓ１１の上述の数値範囲と同一であってもよい。
【0179】
符号Ｓ２６は、第１貫通部７４１と外側側縁７３１との間の、第２方向Ｄ２における距離を表す。距離Ｓ２６は、第１貫通部７４１の輪郭と外側側縁７３１との間の、第２方向Ｄ２における距離の最大値である。上述の距離Ｓ１２は、距離Ｓ２６に応じて定まる。距離Ｓ２６の数値範囲は、距離Ｓ１２の上述の数値範囲と同一であってもよい。
【0180】
第２貫通部７４２の構成は、第１貫通部７４１の構成と同一であってもよい。例えば、第２貫通部７４２のコーナー８３は、第１貫通部７４１のコーナー８３と同様に、内端及び外端を含んでもよい。例えば、第２貫通部７４２の接続部８５は、第１貫通部７４１の接続部８５と同様に、第３辺８４３、第４辺８４４、第５辺８４５及び第６辺８４６を含んでもよい。
【0181】
次に、マスク装置１５を製造する方法を説明する。
【0182】
図１７に示すように、フレーム４０を準備する工程が実施される。フレーム４０は、第３部分４３Ｃに位置する少なくとも１つの第３凹部４４Ｃを含んでもよい。フレーム４０は、第４部分４３Ｄに位置する少なくとも１つの第４凹部４４Ｄを含んでもよい。フレーム４０は、アライメントマーク４７を含んでもよい。アライメントマーク４７は、フレーム第１面４０１からフレーム第２面４０２へフレーム４０を厚み方向に貫通する孔であってもよい。
【0183】
アライメントマスク７０を準備する工程が実施される。アライメントマスク７０は、上述の図１４に示すように、第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２を含む。アライメントマスク７０は、アライメントマーク７７を含む。アライメントマーク７７は、アライメントマスク７０の第１面７０１から第２面７０２へアライメントマスク７０を厚み方向に貫通する孔であってもよい。平面視におけるアライメントマーク７７の輪郭は、平面視におけるフレーム４０のアライメントマーク４７の輪郭よりも小さくてもよい。
【0184】
アライメントマスク７０をフレーム４０に固定する固定工程が実施される。固定工程は、第１固定工程及び第２固定工程を含んでもよい。第１固定工程は、アライメントマスク７０が第３部分４３Ｃの内縁４１に重なるようにアライメントマスク７０がフレーム４０に固定される。第３部分４３Ｃの内縁４１に重なるアライメントマスク７０は、上述の第１アライメントマスク７０Ａを構成する。第２固定工程は、アライメントマスク７０が第４部分４３Ｄの内縁４１に重なるようにアライメントマスク７０がフレーム４０に固定される。第４部分４３Ｄの内縁４１に重なるアライメントマスク７０は、上述の第２アライメントマスク７０Ｂを構成する。
【0185】
第１固定工程は、第１配置工程を含んでもよい。第１配置工程においては、図１８に示すように、第１アライメントマスク７０Ａに第１方向Ｄ１において張力Ｆを加えながら、第１アライメントマスク７０Ａの配置が調整される。平面視においてフレーム４０のアライメントマーク４７と第１アライメントマスク７０Ａのアライメントマーク７７とが重なるよう、第１アライメントマスク７０Ａの配置及び張力Ｆが調整されてもよい。例えば、第１アライメントマスク７０Ａのアライメントマーク７７の輪郭がフレーム４０のアライメントマーク４７の輪郭の内側に位置するよう、第１アライメントマスク７０Ａの配置及び張力Ｆが調整されてもよい。
【0186】
第１アライメントマスク７０Ａの配置及び張力Ｆが調整された後、図１９に示すように、第１アライメントマスク７０Ａをフレーム４０に固定する工程が実施される。例えば、第１アライメントマスク７０Ａの第１面７０１にレーザーを照射することにより、第１アライメントマスク７０Ａがフレーム４０のフレーム第１面４０１に溶接されてもよい。
【0187】
第１固定工程により、第１アライメントマスク７０Ａをフレーム第１面４０１に固定する複数の固定部７８が形成される。複数の固定部７８は、第１端部７１をフレーム第１面４０１に固定する固定部７８、及び、第２端部７２をフレーム第１面４０１に固定する固定部７８を含む。複数の固定部７８は、外側側縁７３１を第３部分４３Ｃのフレーム第１面４０１に固定する固定部７８を含んでもよい。例えば、複数の固定部７８の一部が、第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２の周囲に形成されてもよい。第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２の周囲の固定部７８は、平面視において第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２を囲うように形成されてもよい。例えば、第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２の周囲に複数の固定部７８が形成される場合、複数の固定部７８を通る直線と外側側縁７３１との組み合わせが、平面視において第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２を囲んでもよい。複数の固定部７８を通る直線は、複数の固定部７８を通り、第１方向Ｄ１に延びる直線と、複数の固定部７８を通り、第２方向Ｄ２に延びる直線と、を含んでもよい。
【0188】
第１固定工程の後、図２０に示すように、第１アライメントマスク７０Ａをトリミングする第１トリミング工程が実施される。第１トリミング工程は、平面視において第３凹部４４Ｃに重なる第１アライメントマスク７０Ａの中間部７３の部分を除去する除去工程を含んでもよい。第１トリミング工程により、平面視において第３凹部４４Ｃに重なる第３切り欠き７５Ｃが第１アライメントマスク７０Ａの外側側縁７３１に形成される。
【0189】
第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２の周囲に形成されている固定部７８は、第１トリミング工程に起因して第３切り欠き７５Ｃの周囲の第１アライメントマスク７０Ａの部分がフレーム４０に対して移動することを抑制できる。
【0190】
図示はしないが、第２固定工程は、第１固定工程と同様に実施されてもよい。例えば、第２固定工程は、第２配置工程を含んでもよい。第２配置工程においては、第２アライメントマスク７０Ｂに第１方向Ｄ１において張力Ｆを加えながら、第２アライメントマスク７０Ｂの配置が調整される。第２配置工程の後、第１アライメントマスク７０Ａの場合と同様に、第２アライメントマスク７０Ｂをフレーム４０に固定する工程が実施される。
【0191】
第２固定工程の後、第１トリミング工程と同様に、第２アライメントマスク７０Ｂをトリミングする第２トリミング工程が実施されてもよい。第２トリミング工程は、第１トリミング工程と同様に、除去工程を含んでもよい。第２トリミング工程の除去工程においては、平面視において第４凹部４４Ｄに重なる第２アライメントマスク７０Ｂの中間部７３の部分が除去される。
【0192】
第１トリミング工程及び第２トリミング工程の除去工程は、第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２を通る経路に沿ってアライメントマスク７０を切断する切断工程を含んでもよい。図２１は、切断工程の一例を示す平面図である。切断工程は、第１切断工程、第２切断工程及び第３切断工程を含んでもよい。
【0193】
第１切断工程は、外側側縁７３１上の第１位置７３３から第１貫通部７４１に至る第１経路ＣＲ１に沿ってアライメントマスク７０を切断する。第１経路ＣＲ１は、第１貫通部７４１の第４辺８４４に交わってもよい。第１経路ＣＲ１と第４辺８４４とが交わる位置が、上述の距離Ｓ１４を定める。第１経路ＣＲ１は、直線的に延びていてもよい。例えば、第１経路ＣＲ１は、第２方向Ｄ２に沿って直線的に延びていてもよい。
【0194】
第１切断工程においては、第１経路ＣＲ１に沿ってレーザーがアライメントマスク７０の第１面７０１に照射されるようにレーザーが走査されてもよい。レーザーの走査の向きは限定されない。例えば、レーザーは、第１位置７３３から第１貫通部７４１に向かうように走査されてもよい。例えば、レーザーは、第１貫通部７４１から第１位置７３３に向かうように走査されてもよい。
【0195】
レーザーは、アライメントマスク７０を切断できるよう適切に選択される。例えば、レーザーは、ファイバレーザであってもよい。ファイバレーザの波長は、例えば１０６０ｎｍである。ファイバレーザは、パルス状に発振されるパルスファイバレーザであってもよい。
【0196】
第２切断工程は、外側側縁７３１上の第２位置７３４から第２貫通部７４２に至る第２経路ＣＲ２に沿ってアライメントマスク７０を切断する。第２経路ＣＲ２は、第２貫通部７４２の第４辺８４４に交わってもよい。第２経路ＣＲ２は、直線的に延びていてもよい。例えば、第２経路ＣＲ２は、第２方向Ｄ２に沿って直線的に延びていてもよい。
【0197】
第２切断工程においては、第１切断工程と同様に、第２経路ＣＲ２に沿ってレーザーがアライメントマスク７０の第１面７０１に照射されるようにレーザーが走査されてもよい。レーザーの走査の向きは限定されない。
【0198】
第３切断工程は、第１貫通部７４１から第２貫通部７４２に至る第３経路ＣＲ３に沿ってアライメントマスク７０を切断する。第３経路ＣＲ３は、第１貫通部７４１の第３辺８４３及び第２貫通部７４２の第３辺８４３に交わってもよい。第３経路ＣＲ１と第３辺８４３とが交わる位置が、上述の距離Ｓ１３を定める。第３経路ＣＲ３は、直線的に延びていてもよい。例えば、第３経路ＣＲ３は、第１方向Ｄ１に沿って直線的に延びていてもよい。
【0199】
第３切断工程においては、第１切断工程と同様に、第３経路ＣＲ３に沿ってレーザーがアライメントマスク７０の第１面７０１に照射されるようにレーザーが走査されてもよい。レーザーの走査の向きは限定されない。
【0200】
第１切断工程、第２切断工程及び第３切断工程の順序は、特に限定されない。
【0201】
図２１に示す例においては、第１経路ＣＲ１、第２経路ＣＲ２及び第３経路ＣＲ３に沿った切断により、切り欠き７５の上述の第１ライン８６、第２ライン８７及び第３ライン８８が形成される。第１貫通部７４１のコーナー８３、第１辺８４１、第２辺８４２、第３辺８４３の一部及び第４辺８４４の一部が、切り欠き７５の上述の第１コーナー部８１を構成する。第２貫通部７４２のコーナー８３、第１辺８４１、第２辺８４２、第３辺８４３の一部及び第４辺８４４の一部が、切り欠き７５の上述の第２コーナー部８２を構成する。
【0202】
図２２は、比較の形態において、アライメントマスクの一部を切断する工程を示す平面図である。比較の形態の切断工程においては、第１経路ＣＲ１１、第２経路ＣＲ１２及び第３経路ＣＲ１３に沿ってアライメントマスクが切断される。第１経路ＣＲ１１及び第２経路ＣＲ１２は、第２方向Ｄ２に沿って延びる。第３経路ＣＲ１３は、第１経路ＣＲ１１及び第２経路ＣＲ１２に交わるよう第１方向Ｄ１に沿って延びる。
【0203】
比較の形態においては、経路同士が交わる点を超えてレーザーが走査されることにより、アライメントマスクが過剰に切断される可能性がある。例えば、第１過剰切断ＥＣ１、第２過剰切断ＥＣ２、第３１過剰切断ＥＣ３１、第３２過剰切断ＥＣ３２などが生じる可能性がある。第１過剰切断ＥＣ１は、第１経路ＣＲ１１と第３経路ＣＲ１３の交点を超えてレーザーが第２方向Ｄ２に走査されることによって生じる。第２過剰切断ＥＣ２は、第２経路ＣＲ１２と第３経路ＣＲ１３の交点を超えてレーザーが第２方向Ｄ２に走査されることによって生じる。第３１過剰切断ＥＣ３１は、第１経路ＣＲ１１と第３経路ＣＲ１３の交点を超えてレーザーが第１方向Ｄ１に走査されることによって生じる。第３２過剰切断ＥＣ３２は、第２経路ＣＲ１２と第３経路ＣＲ１３の交点を超えてレーザーが第１方向Ｄ１に走査されることによって生じる。
【0204】
比較の形態においては、切り欠きが形成された後のアライメントマスクの一部が捲れる可能性がある。例えば、アライメントマスクの一部が、過剰切断が生じた部分で捲れることにより、突起が生じる可能性がある。蒸着工程においてアライメントマスクの突起が基板１１０に接触すると、基板１１０に傷などの欠陥が生じる。
【0205】
本実施の形態によれば、アライメントマスク７０が第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２を含むので、過剰切断が生じることを抑制できる。このため、アライメントマスク７０の突起が基板１１０に接触することを抑制できる。
【0206】
マスク装置１５の製造方法は、カバーマスク６０をフレーム４０に固定する工程を備えてもよい。カバーマスク６０に第１方向Ｄ１において張力が加えられた状態で、カバーマスク６０がフレーム４０に固定されてもよい。
【0207】
マスク装置１５の製造方法は、マスク５０をフレーム４０に固定する工程を備えてもよい。マスク５０に第１方向Ｄ１において張力が加えられた状態で、マスク５０がフレーム４０に固定されてもよい。
【0208】
次に、有機デバイス１００を製造する方法の一例を説明する。
【0209】
まず、第１電極１２０が形成されている基板１１０を準備する。第１電極１２０は、例えば、第１電極１２０を構成する導電層をスパッタリング法などによって基板１１０に形成した後、フォトリソグラフィー法などによって導電層をパターニングすることによって形成される。隣り合う２つの第１電極１２０の間に位置する絶縁層１６０が基板１１０に形成されていてもよい。
【0210】
続いて、第１有機層１３０Ａ、第２有機層１３０Ｂなどを含む有機層１３０を第１電極１２０上に形成する。第１有機層１３０Ａは、第１有機層１３０Ａに対応する貫通孔５６を有する第１のマスク５０を用いる蒸着工程によって形成される。第２有機層１３０Ｂも、第２有機層１３０Ｂに対応する貫通孔５６を有する第２のマスク５０を用いる蒸着工程によって形成される。第３有機層１３０Ｃも、第３有機層１３０Ｃに対応する貫通孔５６を有する第３のマスク５０を用いる蒸着工程によって形成される。
【0211】
蒸着工程においては、基板ホルダ２によって保持された基板１１０が、フレーム４０、マスク５０及びアライメントマスク７０を備えるマスク装置１５に組み合わされる。具体的には、基板ホルダ２がフレーム４０の凹部４４に位置するよう、基板１１０の配置が調整される。
【0212】
続いて、有機層１３０上に第２電極１４０を形成する工程を実施する。このようにして、有機デバイス１００を得ることができる。
【0213】
本実施の形態においては、アライメントマスク７０に切り欠き７５が形成されるので、アライメントマスク７０と凹部４４とが重なることを抑制できる。これにより、基板ホルダ２とアライメントマスク７０との間の接触を抑制できる。
【0214】
本実施の形態によれば、アライメントマスク７０に切り欠き７５を形成することにより、基板ホルダ２とアライメントマスク７０との間の接触を抑制しながら、開口４５と凹部４４との間の距離を小さくできる。距離が小さいほど、基板１１０の辺と開口４５との間の平面視における距離を小さくできる。これにより、有機デバイス１００の生産性を高めることができる。例えば、有機デバイス１００の面積に対するデバイス領域１０３の面積の比率を高めることができる。
【0215】
本実施の形態によれば、アライメントマスク７０が第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２を含むので、切り欠き７５の形成に起因してアライメントマスク７０に突起が生じることを抑制できる。このため、アライメントマスク７０と基板１１０との接触に起因して基板１１０に傷などの欠陥が生じることを抑制できる。
【0216】
上述した一実施形態を様々に変更できる。以下、必要に応じて図面を参照しながら、その他の実施形態について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した一実施形態と同様に構成され得る部分について、上述の一実施形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いる。重複する説明は省略する。また、上述した一実施形態において得られる作用効果がその他の実施形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略する場合もある。
【0217】
アライメントマスク７０の過剰な切断を抑制できる限りにおいて、第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２の形状は特には限定されない。図２３は、アライメントマスク７０の第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２の一例を示す平面図である。第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２は、円形の輪郭を有していてもよい。円形の輪郭の一部が、コーナー８３を構成していてもよい。円形は、真円形であってもよく、楕円形であってもよい。
【0218】
図２４は、図２３に示すアライメントマスク７０を切断する工程の一例を示す平面図である。例えば、第１貫通部７４１から第２貫通部７４２に至る第３経路に沿ってアライメントマスク７０を切断する第３切断工程が実施される。これにより、図２４の第３ライン８８が得られる。続いて、外側側縁７３１上の第１位置から第１貫通部７４１に至る第１経路に沿ってアライメントマスク７０を切断する第１切断工程が実施される。これにより、図２４の第１ライン８６が得られる。続いて、外側側縁７３１上の第２位置から第２貫通部７４２に至る第２経路に沿ってアライメントマスク７０を切断する第２切断工程が実施される。これにより、図２４の第２ライン８７が得られる。第１切断工程、第２切断工程及び第３切断工程の順序は、特に限定されない。
【0219】
切断工程を実施することにより、図２４に示す第３切り欠き７５Ｃが外側側縁７３１に形成される。第３切り欠き７５Ｃは、第１コーナー部８１、第２コーナー部８２、第１ライン８６、第２ライン８７及び第３ライン８８を含む。第１コーナー部８１及び第２コーナー部８２は、コーナー８３を含む。
【0220】
図２５は、アライメントマスク７０の第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２の一例を示す平面図である。第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２の接続部８５は、第３辺８４３、第４辺８４４及び傾斜辺８４７を含んでもよい。傾斜辺８４７は、第３辺８４３と第４辺８４４との間に位置する。傾斜辺８４７は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に対して傾斜している。傾斜辺８４７は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に対して傾斜する方向に直線的に延びていてもよい。傾斜辺８４７が第３辺８４３と第４辺８４４とを接続することにより、第１貫通部７４１及び第２貫通部７４２の輪郭に沿ってアライメントマスク７０の一部が捲れ上がることを抑制できる。
【0221】
傾斜辺８４７が第１方向Ｄ１に対して成す角度は、例えば、２０°以上でもよく、３０°以上でもよく、４０°以上でもよい。角度は、例えば、５０°以下でもよく、６０°以下でもよく、７０°以下でもよい。角度の範囲は、２０°、３０°及び４０°からなる第１グループ、及び／又は、５０°、６０°及び７０°からなる第２グループによって定められてもよい。角度の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。角度の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。角度の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。角度は、例えば、２０°以上７０°以下でもよく、２０°以上６０°以下でもよく、２０°以上５０°以下でもよく、２０°以上４０°以下でもよく、２０°以上３０°以下でもよく、３０°以上７０°以下でもよく、３０°以上６０°以下でもよく、３０°以上５０°以下でもよく、３０°以上４０°以下でもよく、４０°以上７０°以下でもよく、４０°以上６０°以下でもよく、４０°以上５０°以下でもよく、５０°以上７０°以下でもよく、５０°以上６０°以下でもよく、６０°以上７０°以下でもよい。
【0222】
傾斜辺８４７が第２方向Ｄ２に対して成す角度の数値範囲は、傾斜辺８４７が第１方向Ｄ１に対して成す角度の上述の数値範囲と同一であってもよい。
【0223】
図２６は、図２５に示すアライメントマスク７０を切断する工程の一例を示す平面図である。例えば、第１貫通部７４１から第２貫通部７４２に至る第３経路に沿ってアライメントマスク７０を切断する第３切断工程が実施される。これにより、図２６の第３ライン８８が得られる。第３経路は、第１貫通部７４１の第３辺８４３及び第２貫通部７４２の第３辺８４３に交わってもよい。続いて、外側側縁７３１上の第１位置から第１貫通部７４１に至る第１経路に沿ってアライメントマスク７０を切断する第１切断工程が実施される。これにより、図２６の第１ライン８６が得られる。第１経路は、第１貫通部７４１の第４辺８４４に交わってもよい。続いて、外側側縁７３１上の第２位置から第２貫通部７４２に至る第２経路に沿ってアライメントマスク７０を切断する第２切断工程が実施される。これにより、図２６の第２ライン８７が得られる。第２経路は、第２貫通部７４２の第４辺８４４に交わってもよい。第１切断工程、第２切断工程及び第３切断工程の順序は、特に限定されない。
【0224】
切断工程を実施することにより、図２６に示す第３切り欠き７５Ｃが外側側縁７３１に形成される。第３切り欠き７５Ｃは、第１コーナー部８１、第２コーナー部８２、第１ライン８６、第２ライン８７及び第３ライン８８を含む。第１コーナー部８１及び第２コーナー部８２は、コーナー８３、第１辺８４１及び第２辺８４２を少なくとも含む。
【0225】
図２７は、フレーム４０及びアライメントマスク７０の一例を示す平面図である。フレーム４０の第１部分４３Ａは、厚み方向においてフレーム第１面４０１に対して凹んでいる第１凹部４４Ａを含んでもよい。第１凹部４４Ａは、第３凹部４４Ｃと同様に、フレーム第３面４０３を含んでもよい。第１凹部４４Ａのフレーム第３面４０３は、平面視において、第２方向Ｄ２においてフレーム第１面４０１に挟まれていてもよい。第１凹部４４Ａは、蒸着工程において、平面視において第１部分４３Ａに重なる基板１１０の辺を保持する基板ホルダ２を配置するための場所であってもよい。
【0226】
アライメントマスク７０は、平面視においてフレーム４０の第１部分４３Ａに重なる第１側縁７１１を含む。切り欠きが第１側縁７１１に形成されていてもよい。アライメントマスク７０Ａの第１側縁７１１に形成されている切り欠きは、第１切り欠き７５Ａと称される。
【0227】
第１側縁７１１は、直線部７６及び第１切り欠き７５Ａを含んでいてもよい。直線部７６は、第２方向Ｄ２に沿って直線的に延びていてもよい。第１切り欠き７５Ａは、平面視において直線部７６から第２側縁７２１に向かって凹んでいる。第１切り欠き７５Ａは、平面視において第１凹部４４Ａに重なるよう配置される。アライメントマスク７０の複数の固定部７８の一部は、第１切り欠き７５Ａの輪郭に沿って位置していてもよい。
【0228】
第１切り欠き７５Ａの構成は、第３切り欠き７５Ｃの構成と同様であってもよい。例えば、第１切り欠き７５Ａの輪郭は、フレーム第１面４０１上に位置してもよい。第１切り欠き７５Ａの輪郭は、第１方向Ｄ１において第１凹部４４Ａよりも内側に位置していてもよい。言い換えると、第１凹部４４Ａは、第１方向Ｄ１において第１切り欠き７５Ａの輪郭よりも外側に位置していてもよい。
【0229】
第１切り欠き７５Ａの輪郭は、第３切り欠き７５Ｃの輪郭と同様に、第１コーナー部、第２コーナー部、第１ライン、第２ライン及び第３ラインを含んでもよい。第１切り欠き７５Ａの輪郭に関する説明は、外側側縁７３１、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２が第１側縁７１１、第２方向Ｄ２及び第１方向Ｄ１に言い換えられる点を除いて、第３切り欠き７５Ｃの輪郭に関する説明と同一である。例えば、第１切り欠き７５Ａの第１コーナー部及び第２コーナー部は、第２方向Ｄ２において対向している。例えば、第１切り欠き７５Ａの第１ラインは、第１コーナー部から第１側縁７１１の直線部７６まで延びている。例えば、第１切り欠き７５Ａの第２ラインは、第２コーナー部から第１側縁７１１の直線部７６まで延びている。
【0230】
【0231】
第１凹部４４Ａを形成する工程においては、第３凹部４４Ｃを形成する工程と同様に、除去工程が実施される。除去工程においては、平面視において第１凹部４４Ａに重なる第１アライメントマスク７０Ａの第１端部７１の部分が除去される。除去工程は、第３貫通部７４３及び第４貫通部７４４を通る経路に沿ってアライメントマスク７０を切断する切断工程を含んでもよい。
【0232】
切断工程においては、例えば、第３貫通部７４３から第４貫通部７４４に至る第３経路に沿ってアライメントマスク７０を切断する第３切断工程が実施される。続いて、第１側縁７１１上の第１位置から第３貫通部７４３に至る第１経路に沿ってアライメントマスク７０を切断する第１切断工程が実施される。続いて、第１側縁７１１上の第２位置から第４貫通部７４４に至る第２経路に沿ってアライメントマスク７０を切断する第２切断工程が実施される。これによって、第１側縁７１１に第１切り欠き７５Ａが形成される。第１切断工程、第２切断工程及び第３切断工程の順序は、特に限定されない。
【0233】
第１部分４３Ａの第１凹部４４Ａと同様に、第２部分４３Ｂは、厚み方向においてフレーム第１面４０１に対して凹んでいる第２凹部４４Ｂを含んでもよい。第２凹部４４Ｂの構成は、第１凹部４４Ａの構成と同一であってもよい。
【0234】
アライメントマスク７０は、平面視においてフレーム４０の第２部分４３Ｂに重なる第２側縁７２１を含む。切り欠きが第２側縁７２１に形成されていてもよい。アライメントマスク７０Ａの第２側縁７２１に形成されている切り欠きは、第２切り欠き７５Ｂと称される。
【0235】
第２側縁７２１及び第２切り欠き７５Ｂの構成は、第１側縁７１１及び第１切り欠き７５Ａの構成と同一であってもよい。例えば、第１側縁７１１は、直線部７６及び第２切り欠き７５Ｂを含んでいてもよい。第２切り欠き７５Ｂは、平面視において直線部７６から第１側縁７１１に向かって凹んでいる。第２切り欠き７５Ｂは、平面視において第２凹部４４Ｂに重なるよう配置される。第１アライメントマスク７０Ａの複数の固定部７８の一部は、第２切り欠き７５Ｂの輪郭に沿って位置していてもよい。
【0236】
図２８に示すように、第２端部７２は、第２方向Ｄ２に並ぶ第３貫通部７４３及び第４貫通部７４４を含んでもよい。第１切り欠き７５Ａの場合と同様に、第３貫通部７４３及び第４貫通部７４４を通る経路に沿ってアライメントマスク７０を切断する切断工程によって、第２側縁７２１に第２切り欠き７５Ｂが形成される。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
