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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024179393
(43)【公開日】2024-12-26
(54)【発明の名称】インク組成物、硬化物及び画像表示装置
(51)【国際特許分類】
C09D 11/30 20140101AFI20241219BHJP
H01L 33/00 20100101ALI20241219BHJP
H01L 33/60 20100101ALI20241219BHJP
B41M 5/00 20060101ALI20241219BHJP
B41J 2/01 20060101ALI20241219BHJP
【ＦＩ】
C09D11/30
H01L33/00 L
H01L33/60
B41M5/00 120
B41J2/01 501
【審査請求】未請求
【請求項の数】13
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023098206
(22)【出願日】2023-06-15
(71)【出願人】
【識別番号】392007566
【氏名又は名称】ナトコ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002789
【氏名又は名称】弁理士法人ＩＰＸ
(72)【発明者】
【氏名】九澤 昌祥
(72)【発明者】
【氏名】山門 祥彦
【テーマコード（参考）】
2C056
2H186
4J039
5F142
【Ｆターム（参考）】
2C056FC01
2H186AA17
2H186AB11
2H186AB12
2H186BA08
2H186DA18
2H186FA09
2H186FB04
2H186FB32
2H186FB40
2H186FB41
2H186FB44
2H186FB45
2H186FB46
2H186FB56
4J039AD21
4J039BA20
4J039BC31
4J039BE01
4J039FA07
4J039GA24
5F142BA32
5F142CB12
5F142CB14
5F142CB23
5F142CD02
5F142CD16
5F142CD17
5F142CD18
5F142CE03
5F142CE16
5F142CG03
5F142CG13
5F142CG24
5F142CG43
5F142DA15
5F142DA22
5F142DA23
5F142DA36
5F142DA64
5F142DB17
5F142DB40
5F142FA21
5F142GA02
(57)【要約】
【課題】画像表示装置等の作製に有用なインク組成物等を提供する。
【解決手段】本発明の一態様によれば、インク組成物が提供される。このインク組成物は、反射材（Ａ）と、カチオン重合性化合物（Ｂ）と、光酸発生剤（Ｃ）と、を含む。カチオン重合性化合物（Ｂ）は、カチオン重合性基と加水分解性基とを有する金属元素含有化合物（Ｂ１）を含む。
【選択図】図１
【解決手段】本発明の一態様によれば、インク組成物が提供される。このインク組成物は、反射材（Ａ）と、カチオン重合性化合物（Ｂ）と、光酸発生剤（Ｃ）と、を含む。カチオン重合性化合物（Ｂ）は、カチオン重合性基と加水分解性基とを有する金属元素含有化合物（Ｂ１）を含む。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
インク組成物であって、
反射材（Ａ）と、カチオン重合性化合物（Ｂ）と、光酸発生剤（Ｃ）と、を含み、
前記カチオン重合性化合物（Ｂ）は、カチオン重合性基と加水分解性基とを有する金属元素含有化合物（Ｂ１）を含む、インク組成物。
反射材（Ａ）と、カチオン重合性化合物（Ｂ）と、光酸発生剤（Ｃ）と、を含み、
前記カチオン重合性化合物（Ｂ）は、カチオン重合性基と加水分解性基とを有する金属元素含有化合物（Ｂ１）を含む、インク組成物。
【請求項2】
請求項１に記載のインク組成物において、
前記反射材（Ａ）は、白色顔料または金属顔料を含む、インク組成物。
前記反射材（Ａ）は、白色顔料または金属顔料を含む、インク組成物。
【請求項3】
請求項１に記載のインク組成物において、
前記反射材（Ａ）のＺ平均粒子径は１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である、インク組成物。
前記反射材（Ａ）のＺ平均粒子径は１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である、インク組成物。
【請求項4】
請求項１に記載のインク組成物において、
前記金属元素含有化合物（Ｂ１）はケイ素含有化合物である、インク組成物。
前記金属元素含有化合物（Ｂ１）はケイ素含有化合物である、インク組成物。
【請求項5】
請求項１に記載のインク組成物において、
前記金属元素含有化合物（Ｂ１）の有する前記カチオン重合性基はエポキシ基である、インク組成物。
前記金属元素含有化合物（Ｂ１）の有する前記カチオン重合性基はエポキシ基である、インク組成物。
【請求項6】
請求項１に記載のインク組成物において、
増感剤（Ｄ）をさらに含む、インク組成物。
増感剤（Ｄ）をさらに含む、インク組成物。
【請求項7】
請求項１に記載のインク組成物において、
前記カチオン重合性化合物（Ｂ）は、前記金属元素含有化合物（Ｂ１）に該当しない他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）として、オキセタン化合物をさらに含む、インク組成物。
前記カチオン重合性化合物（Ｂ）は、前記金属元素含有化合物（Ｂ１）に該当しない他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）として、オキセタン化合物をさらに含む、インク組成物。
【請求項8】
請求項１に記載のインク組成物において、
前記金属元素含有化合物（Ｂ１）の含有量は、前記インク組成物の固形分全体を１００質量部としたときに１．５質量部以上８０質量部以下である、インク組成物。
前記金属元素含有化合物（Ｂ１）の含有量は、前記インク組成物の固形分全体を１００質量部としたときに１．５質量部以上８０質量部以下である、インク組成物。
【請求項9】
請求項１に記載のインク組成物において、
インクジェット用である、インク組成物。
インクジェット用である、インク組成物。
【請求項10】
請求項１に記載のインク組成物において、
固形分濃度が７０質量％以上である、インク組成物。
固形分濃度が７０質量％以上である、インク組成物。
【請求項11】
請求項１に記載のインク組成物において、
隔壁を形成するために用いられ、
前記隔壁は、複数の発光素子を備える画像表示装置において、前記複数の発光素子の間に介在するものである、インク組成物。
隔壁を形成するために用いられ、
前記隔壁は、複数の発光素子を備える画像表示装置において、前記複数の発光素子の間に介在するものである、インク組成物。
【請求項12】
硬化物であって、
請求項１ないし請求項１１のいずれか１項に記載のインク組成物を硬化してなる、硬化物。
請求項１ないし請求項１１のいずれか１項に記載のインク組成物を硬化してなる、硬化物。
【請求項13】
画像表示装置であって、
請求項１２に記載の硬化物を備える、画像表示装置。
請求項１２に記載の硬化物を備える、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、インク組成物、硬化物及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、より鮮明な画像を表示させることが可能な画像表示装置の開発がなされてきている。たとえば特許文献１には、基板に複数のＬＥＤチップが実装されたディスプレイモジュールが開示されている。ここで、当該特許文献１には、ＬＥＤチップ間の出力光が干渉することを防止するために、ＬＥＤチップ間に光反射壁を設ける構造が示されている（特許文献１；［００４３］、図４等参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０１８－０２６５１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
ところで、画像表示装置の発する光の輝度を向上させるための技術開拓の要請は未だ存在する。
【0005】
本発明では上記事情に鑑み、画像表示装置等の作製に有用なインク組成物等を提供することとした。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明の一態様によれば、インク組成物が提供される。このインク組成物は、反射材（Ａ）と、カチオン重合性化合物（Ｂ）と、光酸発生剤（Ｃ）と、を含む。カチオン重合性化合物（Ｂ）は、カチオン重合性基と加水分解性基とを有する金属元素含有化合物（Ｂ１）を含む。
【0007】
上記態様によれば、画像表示装置等の作製に有用なインク組成物等が提供される。
【図面の簡単な説明】
【0008】
【図1】本実施形態にかかるインク組成物の硬化物を隔壁として適用した画像表示装置の断面図である。
【図2】本実施形態にかかるインク組成物の硬化物を隔壁として適用した画像表示装置の断面図である。
【図3】本実施形態にかかるインク組成物の硬化物を隔壁として適用した画像表示装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、本発明の実施形態について説明する。なお、以下に示す実施形態中で示した各種特徴事項は、互いに組み合わせ可能である。
また、本明細書中における「～」はとくに断りがなければ、以上から以下を表す。
また、本明細書中における「～」はとくに断りがなければ、以上から以下を表す。
【0010】
<インク組成物>
本実施形態のインク組成物は以下に示すものである。
インク組成物であって、
反射材（Ａ）と、カチオン重合性化合物（Ｂ）と、光酸発生剤（Ｃ）と、を含み、
前記カチオン重合性化合物（Ｂ）は、カチオン重合性基と加水分解性基とを有する金属元素含有化合物（Ｂ１）を含む、インク組成物。
以下、本実施形態のインク組成物を構成する成分、インク組成物の製造方法、用途等について説明を行う。
本実施形態のインク組成物は以下に示すものである。
インク組成物であって、
反射材（Ａ）と、カチオン重合性化合物（Ｂ）と、光酸発生剤（Ｃ）と、を含み、
前記カチオン重合性化合物（Ｂ）は、カチオン重合性基と加水分解性基とを有する金属元素含有化合物（Ｂ１）を含む、インク組成物。
以下、本実施形態のインク組成物を構成する成分、インク組成物の製造方法、用途等について説明を行う。
【0011】
［反射材（Ａ）］
本実施形態のインク組成物は反射材（Ａ）を含む。後述するように、本実施形態のインク組成物は、典型的には発光素子を備える画像表示装置の隔壁を形成する際に用いられる。ここで、このようにインク組成物が反射材（Ａ）を含むことにより、かかる隔壁が発光素子の発した光を反射させ、結果、画像表示装置の輝度向上に寄与することができる。
本実施形態のインク組成物は反射材（Ａ）を含む。後述するように、本実施形態のインク組成物は、典型的には発光素子を備える画像表示装置の隔壁を形成する際に用いられる。ここで、このようにインク組成物が反射材（Ａ）を含むことにより、かかる隔壁が発光素子の発した光を反射させ、結果、画像表示装置の輝度向上に寄与することができる。
【0012】
この反射材（Ａ）は、光を反射させることのできる公知の材料の中から適宜選択して用いればよい。入手容易性が高い観点からは、反射材（Ａ）は、白色顔料または金属顔料を含むことが好ましい。
【0013】
白色顔料としては、酸化チタン（チタン白）、酸化亜鉛（亜鉛華）、鉛白、塩基性硫酸鉛、硫酸鉛、リトポン、硫化亜鉛、アンチモン白、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、タルク等を用いることができる。
一方、金属顔料としては、単体としての金属や各種合金等を用いることができる。この金属や各種合金を構成することのできる金属元素としては、例えば、インジウム、アルミニウム、銀、金、白金、ニッケル、クロム、錫、亜鉛、チタン、鉄、銅等が挙げられる。光の反射性能の高さの観点から、金属顔料は、これらのうちインジウム又はアルミニウムを含むことが好ましい。また、インク組成物の塗工性を向上させる観点から、金属顔料はインジウムを含むことが好ましい。
一方、金属顔料としては、単体としての金属や各種合金等を用いることができる。この金属や各種合金を構成することのできる金属元素としては、例えば、インジウム、アルミニウム、銀、金、白金、ニッケル、クロム、錫、亜鉛、チタン、鉄、銅等が挙げられる。光の反射性能の高さの観点から、金属顔料は、これらのうちインジウム又はアルミニウムを含むことが好ましい。また、インク組成物の塗工性を向上させる観点から、金属顔料はインジウムを含むことが好ましい。
【0014】
その他、反射材（Ａ）としては、光を反射しない粒子の表面に酸化チタン等の金属化合物を付着させて得られる材料を採用してもよい。
【0015】
本実施形態において、反射材（Ａ）は粒子形状を有していてもよい。この、粒子の形状は、多面体、球形、鱗片状等であってよい。なお、反射材（Ａ）が、このように粒子形状を有している場合は、その平均粒子径が制御されていることが好ましい。一例として、反射材（Ａ）のＺ平均粒子径は、１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であってよく、１５０ｎｍ以上８００ｎｍ以下であってよく、１８０ｎｍ以上６００ｎｍ以下であってよい。反射材（Ａ）の粒径をこのような範囲に設定することにより、インク組成物としての塗工性と、得られる硬化物の反射特性とのバランスの向上に寄与することができる。なお、このＺ平均粒子径は、ゼータサイザーナノＺＳ（マルバーン社製）等を用いて測定することができる。
【0016】
本実施形態のインク組成物において、反射材（Ａ）の含有量は用途等に応じて適宜設定することができる。一方、反射材（Ａ）の含有量は、インク組成物の固形分全体を１００質量部としたときに０．５質量部以上５０質量部以下であることが好ましく、１質量部以上４０質量部以下であることがより好ましく、２質量部以上３０質量部以下であることがさらに好ましい。反射材（Ａ）の含有量をこのような範囲に設定することにより、インク組成物の硬化性を担保しつつ、得られる硬化物についてより高い反射特性を実現することができる。
【0017】
［カチオン重合性化合物（Ｂ）］
本実施形態のインク組成物はカチオン重合性化合物（Ｂ）を含む。このカチオン重合性化合物（Ｂ）は、その化学構造中にカチオン重合性基を含む化合物である。具体的に、このカチオン重合性基としては、エポキシ基やオキセタニル基等の環状エーテル基のほか、ビニルエーテル基等が挙げられる。また、本実施形態のカチオン重合性化合物（Ｂ）としては、エポキシ化合物、オキセタン化合物のほか、オキソラン化合物（テトラヒドロフラン、置換テトラヒドロフランなど）等の化合物が包含される。
本実施形態のインク組成物はカチオン重合性化合物（Ｂ）を含む。このカチオン重合性化合物（Ｂ）は、その化学構造中にカチオン重合性基を含む化合物である。具体的に、このカチオン重合性基としては、エポキシ基やオキセタニル基等の環状エーテル基のほか、ビニルエーテル基等が挙げられる。また、本実施形態のカチオン重合性化合物（Ｂ）としては、エポキシ化合物、オキセタン化合物のほか、オキソラン化合物（テトラヒドロフラン、置換テトラヒドロフランなど）等の化合物が包含される。
【0018】
本実施形態のインク組成物は、このカチオン重合性化合物（Ｂ）として、カチオン重合性基と加水分解性基とを有する金属元素含有化合物（Ｂ１）を含む。なお、本実施形態のインク組成物は、この金属元素含有化合物（Ｂ１）に該当しない他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）をさらに含んでもよい。以下、これらの成分について説明を続ける。
【0019】
本実施形態における金属元素含有化合物（Ｂ１）は、その化学構造中に前述のカチオン重合性基と、金属元素とを含む。具体的には、この金属元素含有化合物（Ｂ１）は以下の構造式（１）で表すことができる。
Ｍ（Ｒ）ｘ（Ｘ）ｙ ・・・ （１）
ここで、構造式（１）中のＭは金属元素であり、Ｒはその構造中にカチオン重合性基を含む有機基であり、かつ、Ｒの有する炭素原子とＭとが結合するものである。Ｘは水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、フェノキシ基からなる群から選択される基である。ｘとｙは１以上の整数であり、ｘとｙとの和はＭの結合手数である。
Ｍ（Ｒ）ｘ（Ｘ）ｙ ・・・ （１）
ここで、構造式（１）中のＭは金属元素であり、Ｒはその構造中にカチオン重合性基を含む有機基であり、かつ、Ｒの有する炭素原子とＭとが結合するものである。Ｘは水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、フェノキシ基からなる群から選択される基である。ｘとｙは１以上の整数であり、ｘとｙとの和はＭの結合手数である。
【0020】
上述の金属元素としては、ケイ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、錫、鉛、ホウ素等が挙げられる。この中でも入手容易性が高く、取り扱い性に優れる観点から、上述の金属元素はケイ素であることが好ましく、すなわち、金属元素含有化合物（Ｂ１）はケイ素含有化合物であることが好ましい。また、上述の通り、金属元素含有化合物（Ｂ１）はＲの構造中にカチオン重合性基を含むものである。この点に関して、その反応性の高さ等の観点から、Ｒの構造中にエポキシ基を含むことが好ましく、すなわち、金属元素含有化合物（Ｂ１）の有するカチオン重合性基はエポキシ基であることが好ましい。また、Ｒの構造中に含まれるカチオン重合性基は、オキセタニル基であってもよい。また、Ｘがアルコキシ基である場合、当該アルコキシ基の炭素数はたとえば１～８であり、好ましくは１～６であり、より好ましくは１～４である。Ｘがフェノキシ基である場合、このフェノキシ基を構成するベンゼン環の水素原子は種々の置換基により置換されていてもよい。
なお、Ｍがケイ素である場合、ｘは１または２，ｙは２または３である態様が例示される。
なお、Ｍがケイ素である場合、ｘは１または２，ｙは２または３である態様が例示される。
【0021】
本実施形態の金属元素含有化合物（Ｂ１）は、後述する光酸発生剤（Ｃ）の発した酸によりカチオン重合を行いつつ、その構造に備えられる金属元素がインク組成物を適用する基板の表面部位との化学結合を形成し得る。このような寄与もあり、本実施形態のインク組成物は高い基板密着性を発現し得る。
【0022】
この金属元素含有化合物（Ｂ１）のとくに好ましい化合物としては、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３－［（３－エチルオキセタン－３－イル）メトキシ］プロピル（トリメトキシ）シラン、３－［（３－エチルオキセタン－３－イル）メトキシ］プロピル（トリエトキシ）シラン、３－［（３－メチルオキセタン－３－イル）メトキシ］プロピル（トリメトキシ）シラン、３－［（３－メチルオキセタン－３－イル）メトキシ］プロピル（トリエトキシ）シラン等を挙げることができる。
【0023】
また、本実施形態のインク組成物が含み得る他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）としては、入手容易性と反応性の高さからエポキシ化合物やオキセタン化合物、ビニルエーテル化合物等が好ましい。なお、この他のカチオン重合性化合物は、その化学構造中に前述の金属元素を含まないものである。
【0024】
カチオン重合性化合物（Ｂ）は、金属元素含有化合物（Ｂ１）に該当しない他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）として、エポキシ化合物をさらに含んでもよい。
エポキシ化合物は、エポキシ基を有する化合物であり、例えば、グリシジルエーテル型エポキシ化合物や脂環式エポキシ化合物等が挙げられる。
なお、エポキシ化合物において、エポキシ基の数は１以上であればよいが、２以上のエポキシ基を有する化合物を含んでいてもよい。すなわち、本実施形態の他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）におけるエポキシ化合物は単官能エポキシ化合物であっても多官能エポキシ化合物であってもよい。
エポキシ化合物は、エポキシ基を有する化合物であり、例えば、グリシジルエーテル型エポキシ化合物や脂環式エポキシ化合物等が挙げられる。
なお、エポキシ化合物において、エポキシ基の数は１以上であればよいが、２以上のエポキシ基を有する化合物を含んでいてもよい。すなわち、本実施形態の他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）におけるエポキシ化合物は単官能エポキシ化合物であっても多官能エポキシ化合物であってもよい。
【0025】
エポキシ化合物の具体例としては、フェニルグリシジルエーテル、２－エチルヘキシルグリシジルエーテル、３'，４'－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４，３'，４'－ジエポキシビシクロヘキシル、１，２－エポキシ４－ビニルシクロヘキサン、ε－カプロラクトン変性３'，４'－エポキシシクロヘキシルメチル、３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、リモネンジオキサイド、２，２－ビス（４－グリシジルオキシフェニル）プロパン、２－［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］－２－［４－［１，１－ビス［４－（［２，３－エポキシプロポキシ］フェニル）］エチル］フェニル］プロパンと１，３－ビス［４－［１－［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］－１－［４－［１－［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］－１－メチルエチル］フェニル］エチル］フェノキシ］－２－プロパノールとの混合物、２－［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］－２－［４－［１，１－ビス［４－（［２，３－エポキシプロポキシ］フェニル）］エチル］フェニル］プロパン等が挙げられる。
【0026】
また、エポキシ化合物としては、エポキシモノマー、エポキシオリゴマー及びエポキシ樹脂のいずれであってもよく、下記のような市販品を用いることもできる。
すなわち、セロキサイド（登録商標）ＣＥＬ２０２１Ｐ、ＣＥＬ２０００、ＣＥＬ８０００（株式会社ダイセル製）等の多官能エポキシモノマーをエポキシ化合物として用いてもよい。
また、ＴＥＣＨＭＯＲＥＶＧ３１０１Ｌ（株式会社プリンテック製）、ＥＰＰＮ－５０１Ｈ、５０２Ｈ（日本化薬株式会社製）、ＪＥＲ１０３２Ｈ６０（三菱ケミカル株式会社製）等のグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；ＪＥＲ１５７Ｓ６５、１５７Ｓ７０（三菱ケミカル株式会社製）等のビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂；ＥＰＰＮ－２０１（日本化薬株式会社製）、ＪＥＲ１５２、１５４（三菱化学株式会社製）等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂等の樹脂を本実施形態におけるエポキシ化合物として用いることもできる。
すなわち、セロキサイド（登録商標）ＣＥＬ２０２１Ｐ、ＣＥＬ２０００、ＣＥＬ８０００（株式会社ダイセル製）等の多官能エポキシモノマーをエポキシ化合物として用いてもよい。
また、ＴＥＣＨＭＯＲＥＶＧ３１０１Ｌ（株式会社プリンテック製）、ＥＰＰＮ－５０１Ｈ、５０２Ｈ（日本化薬株式会社製）、ＪＥＲ１０３２Ｈ６０（三菱ケミカル株式会社製）等のグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；ＪＥＲ１５７Ｓ６５、１５７Ｓ７０（三菱ケミカル株式会社製）等のビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂；ＥＰＰＮ－２０１（日本化薬株式会社製）、ＪＥＲ１５２、１５４（三菱化学株式会社製）等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂等の樹脂を本実施形態におけるエポキシ化合物として用いることもできる。
【0027】
カチオン重合性化合物（Ｂ）は、金属元素含有化合物（Ｂ１）に該当しない他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）として、オキセタン化合物をさらに含んでもよい。
オキセタン化合物としては、オキセタニル基の数は１以上であればよいが、２以上のオキセタニル基を有する化合物を含んでいてもよい。すなわち、本実施形態の他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）におけるオキセタン化合物は単官能オキセタン化合物であっても多官能オキセタン化合物であってもよい。
オキセタン化合物としては、オキセタニル基の数は１以上であればよいが、２以上のオキセタニル基を有する化合物を含んでいてもよい。すなわち、本実施形態の他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）におけるオキセタン化合物は単官能オキセタン化合物であっても多官能オキセタン化合物であってもよい。
【0028】
オキセタン化合物の例としては、２－エチルヘキシルオキセタン、３－エチル－３－エトキシメチルオキセタン、３－エチル－３－ブトキシメチルオキセタン、３－エチル－３－ヘキシルオキシメチルオキセタン、３－エチル－３－（２－エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、［（１－エチル－３－オキセタニル）メトキシ］シクロヘキサン、３－エチル－３－（フェノキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－メトキシメチルオキセタン、オキセタンアルコール、３－エチル－３｛［３－エチルオキセタンー３―イル］メトキシ｝メチル）オキセタン、ビス［（１－エチル－３－オキセタニル）メトキシ］シクロヘキサン、ビス［（１－エチル－３－オキセタニル）メトキシ］ノルボルナン、１，４－ビス（（１－エチル－３オキセタニル）メトキシ）ベンゼン、１，３－ビス（（１－エチル－３オキセタニル）メトキシ）ベンゼン、４，４'－ビス（（３－エチル－３オキセタニル）メトキシ）ビフェニル、キシリレンビスオキセタン等が挙げられる。
【0029】
カチオン重合性化合物（Ｂ）は、金属元素含有化合物（Ｂ１）に該当しない他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）として、ビニルエーテル化合物をさらに含んでもよい。
ビニルエーテル化合物の例としては、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物；エチルビニルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、２－エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、ｎ－プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル－ｏ－プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物が挙げられる。
ビニルエーテル化合物の例としては、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物；エチルビニルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、２－エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、ｎ－プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル－ｏ－プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物が挙げられる。
【0030】
本実施形態のインク組成物が他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）を含む場合、この他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）は、その化学構造中にカチオン重合性基を１つ含む化合物を含有することが好ましい。
典型的には、本実施形態のインク組成物は、単官能エポキシ化合物または単官能オキセタン化合物を含むことが好ましい。これらの化合物は硬化時の硬化収縮が起こりづらく、結果、硬化膜の基板密着性に寄与することになる。
一例として、単官能エポキシ化合物または単官能オキセタン化合物の含有量は、他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）全体を１００質量部としたときに、５質量部以上であってもよく、２０質量部以上であってもよく、４０質量部以上であってもよい。上限はとくに制限されず、他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）のすべてが単官能エポキシ化合物または単官能オキセタン化合物であってもよく、単官能エポキシ化合物または単官能オキセタン化合物の含有量は、他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）全体を１００質量部としたときに、８５質量部以下であるように調整してもよい。
典型的には、本実施形態のインク組成物は、単官能エポキシ化合物または単官能オキセタン化合物を含むことが好ましい。これらの化合物は硬化時の硬化収縮が起こりづらく、結果、硬化膜の基板密着性に寄与することになる。
一例として、単官能エポキシ化合物または単官能オキセタン化合物の含有量は、他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）全体を１００質量部としたときに、５質量部以上であってもよく、２０質量部以上であってもよく、４０質量部以上であってもよい。上限はとくに制限されず、他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）のすべてが単官能エポキシ化合物または単官能オキセタン化合物であってもよく、単官能エポキシ化合物または単官能オキセタン化合物の含有量は、他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）全体を１００質量部としたときに、８５質量部以下であるように調整してもよい。
【0031】
また、本実施形態のインク組成物が他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）を含む場合、この他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）が２種以上の成分となっていることが好ましい。このような構成を採用することにより、硬化性や、硬化膜の密着性や硬度のバランスに優れたインク組成物を実現しやすくなる。
【0032】
本実施形態のインク組成物において、カチオン重合性化合物（Ｂ）の含有量は、インク組成物の固形分全体を１００質量部としたときに５質量部以上９６質量部以下であることが好ましく、７質量部以上９５質量部以下であることがより好ましく、１０質量部以上９４質量部以下であることがさらに好ましい。カチオン重合性化合物（Ｂ）の含有量をこのような範囲に設定することにより、インク組成物の保存安定性を担保しつつ、インク組成物の硬化性を高い水準にすることができる。
【0033】
本実施形態のインク組成物において、金属元素含有化合物（Ｂ１）の含有量は、インク組成物の固形分全体を１００質量部としたときに１．５質量部以上８０質量部以下であることが好ましい。このような金属元素含有化合物（Ｂ１）の含有量をこのような範囲に設定することにより、従来技術に比して、基板密着性をより高いものとすることができる。また、金属元素含有化合物（Ｂ１）の含有量は、インク組成物の固形分全体を１００質量部としたときに、３質量部以上であることがより好ましく、５質量部以上であることがさらに好ましく、８質量部以上であることがいっそう好ましく、１０質量部以上であることが特に好ましい。金属元素含有化合物（Ｂ１）の含有量をこのような範囲に設定することで、基板密着性をより高い水準とすることができる。なお、製造コストを削減する観点から、金属元素含有化合物（Ｂ１）の含有量を、インク組成物の固形分全体を１００質量部としたときに、７８質量部以下や、７０質量部以下や、６０質量部以下、５５質量部以下とすることもできる。
【0034】
本実施形態のインク組成物において、他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）の含有量は、インク組成物の固形分全体を１００質量部としたときに５質量部以上８０質量部以下であることが好ましく、１０質量部以上７８質量部以下であることがより好ましく、１５質量部以上７５質量部以下であることがさらに好ましい。他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）の含有量をこのような範囲に設定することで、良好な硬化性を発現でき、得られる反射部材の膜質を良好なものとすることができる。
【0035】
［光酸発生剤（Ｃ）］
本実施形態のインク組成物は光酸発生剤（Ｃ）を含む。すなわち、本実施形態のインク組成物は露光された際に、この光酸発生剤（Ｃ）が酸を発生し、前述のカチオン重合性化合物（Ｂ）の重合反応を促進する。
この光酸発生剤（Ｃ）は、公知の材料の中から適宜選択すればよいが、好ましくは光酸発生剤（Ｃ）が、スルホニウム塩化合物（Ｃ１）を含む。このようにスルホニウム塩化合物（Ｃ１）を用いることで、効率よく光によるインク組成物の硬化が進行する。
本実施形態のインク組成物は光酸発生剤（Ｃ）を含む。すなわち、本実施形態のインク組成物は露光された際に、この光酸発生剤（Ｃ）が酸を発生し、前述のカチオン重合性化合物（Ｂ）の重合反応を促進する。
この光酸発生剤（Ｃ）は、公知の材料の中から適宜選択すればよいが、好ましくは光酸発生剤（Ｃ）が、スルホニウム塩化合物（Ｃ１）を含む。このようにスルホニウム塩化合物（Ｃ１）を用いることで、効率よく光によるインク組成物の硬化が進行する。
【0036】
このスルホニウム塩化合物（Ｃ１）は、スルホニウムカチオンとアニオンとの塩である。
【0037】
ここで、スルホニウムカチオンとしては、トリフェニルスルホニウム、（４－ｔｅｒｔ－ブトキシフェニル）ジフェニルスルホニウム、ビス（４－ｔｅｒｔ－ブトキシフェニル）フェニルスルホニウム、トリス（４－ｔｅｒｔ－ブトキシフェニル）スルホニウム、（３－ｔｅｒｔ－ブトキシフェニル）ジフェニルスルホニウム、ビス（３－ｔｅｒｔ－ブトキシフェニル）フェニルスルホニウム、トリス（３－ｔｅｒｔ－ブトキシフェニル）スルホニウム、（３，４－ジｔｅｒｔ－ブトキシフェニル）ジフェニルスルホニウム、ビス（３，４－ジｔｅｒｔ－ブトキシフェニル）フェニルスルホニウム、トリス（３，４－ジｔｅｒｔ－ブトキシフェニル）スルホニウム、ジフェニル（４－（フェニルチオ）フェニル）スルホニウム、（４－ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルメチルオキシフェニル）ジフェニルスルホニウム、トリス（４－ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルメチルオキシフェニル）スルホニウム、（４－ｔｅｒｔ－ブトキシフェニル）ビス（４－ジメチルアミノフェニル）スルホニウム、トリス（４－ジメチルアミノフェニル）スルホニウム、２－ナフチルジフェニルスルホニウム、ジメチル２－ナフチルスルホニウム、４－ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム、４－メトキシフェニルジメチルスルホニウム、トリメチルスルホニウム、２－オキソシクロヘキシルシクロヘキシルメチルスルホニウム、トリナフチルスルホニウム、トリベンジルスルホニウム等が挙げられる。
【0038】
また、アニオンとしては、ＢＦ４
－、ＰＦ６
－、ＳｂＦ６
－、［ＢＸ４］－（Ｘは、少なくとも２つ以上のフッ素又はトリフルオロメチル基で置換されたフェニル基を表す。）、［ＰＦｎＹ６－ｎ］－（Ｙは、炭素数１～９のフッ素化アルキル基又はフッ素化フェニル基を示し、ｎは１～６の整数である。）、スルホネート等のアニオンが挙げられる。
【0039】
その他、光酸発生剤（Ｃ）として用いることのできる化合物（他の光酸発生剤（Ｃ２）とも称す。）としては、スルホニウム塩以外のイオン系光酸発生剤や、非イオン系光酸発生剤等が挙げられる。
具体的に、他の光酸発生剤（Ｃ２）としては、四フッ化ホウ素のフェニルジアゾニウム塩；六フッ化リンのジフェニルヨードニウム塩；六フッ化アンチモンのジフェニルヨードニウム塩；テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素のジフェニルヨードニウム塩；アセチルアセトンアルミニウム塩とオルトニトロベンジルシリルエーテル混合体；フェニルチオピリジウム塩；六フッ化リンアレン－鉄錯体；スルホニルジアゾメタン；フタル酸イミド型光酸発生剤やナフタルイミド型光酸発生剤等のＮ－スルホニルオキシイミド型光酸発生剤、オキシム－Ｏ－スルホネート型光酸発生剤等を挙げることができる。
具体的に、他の光酸発生剤（Ｃ２）としては、四フッ化ホウ素のフェニルジアゾニウム塩；六フッ化リンのジフェニルヨードニウム塩；六フッ化アンチモンのジフェニルヨードニウム塩；テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素のジフェニルヨードニウム塩；アセチルアセトンアルミニウム塩とオルトニトロベンジルシリルエーテル混合体；フェニルチオピリジウム塩；六フッ化リンアレン－鉄錯体；スルホニルジアゾメタン；フタル酸イミド型光酸発生剤やナフタルイミド型光酸発生剤等のＮ－スルホニルオキシイミド型光酸発生剤、オキシム－Ｏ－スルホネート型光酸発生剤等を挙げることができる。
【0040】
本実施形態のインク組成物において、光酸発生剤（Ｃ）はピーク波長を２８０ｎｍ以上に有する化合物を含むことが好ましい。このような化合物を用いることにより、工業的に優位に反射部材を形成しやすくなる。なお、このピーク波長を２８０ｎｍ以上に有する化合物は、前述のスルホニウム塩化合物（Ｃ１）に該当するものであっても、他の光酸発生剤（Ｃ２）に該当する化合物であってもよい。
【0041】
本実施形態のインク組成物において、光酸発生剤（Ｃ）の含有量は、インク組成物の固形分全体を１００質量部としたときに０．１質量部以上１５質量部以下であることが好ましく、０．５質量部以上１０質量部以下であることがより好ましく、１質量部以上８質量部以下であることがさらに好ましい。光酸発生剤（Ｃ）の含有量をこのような範囲に設定することにより、インク組成物の保存安定性を担保しつつ、インク組成物の硬化性や密着性を高い水準にすることができる。
【0042】
なお、光酸発生剤（Ｃ）全体に占めるスルホニウム塩化合物（Ｃ１）の質量割合は、８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましく、９５質量％以上であることがさらに好ましく、９８質量％以上であることが特に好ましい。また、光酸発生剤（Ｃ）が実質的にスルホニウム塩化合物（Ｃ１）のみから構成されてもよい。このようにすることで、上述の効果をより発揮しやすくなる。
【0043】
［増感剤（Ｄ）］
本実施形態のインク組成物は増感剤（Ｄ）を含んでもよい。すなわち、本実施形態のインク組成物は、このように増感剤（Ｄ）を含むことにより、反射材（Ａ）を含みつつも、良好な硬化性が担保することができる。
本実施形態のインク組成物は増感剤（Ｄ）を含んでもよい。すなわち、本実施形態のインク組成物は、このように増感剤（Ｄ）を含むことにより、反射材（Ａ）を含みつつも、良好な硬化性が担保することができる。
【0044】
なお、本実施形態においては、増感剤（Ｄ）はアントラセン骨格を含む化合物（Ｄ１）を含むことが好ましい。これにより、インク組成物の良好な硬化性を担保することができる。
【0045】
このアントラセン骨格を含む化合物（Ｄ１）としては、アントラセン、９－アントラセンメタノール、９－アントラセンカルボン酸、９，１０－ジフェニルアントラセン、９，１０－ビス（フェニルエチニル）アントラセン、２－メトキシアントラセン、１，５－ジメトキシアントラセン、１，８－ジメトキシアントラセン、９，１０－ジエトキシアントラセン、９，１０－ジブトキシアントラセン、９，１０－ビス（オクタノイルオキシ）アントラセン、６－クロロアントラセン、１，５－ジクロロアントラセン等が挙げられる。
これらは単独で用いてもよいし、複数種を組み合わせて用いてもよい。
これらは単独で用いてもよいし、複数種を組み合わせて用いてもよい。
【0046】
また、本実施形態のインク組成物は、上述したアントラセン骨格を含む化合物（Ｄ１）に該当しない、他の増感剤（Ｄ２）を含んでもよい。
他の増感剤（Ｄ２）としては、芳香族ニトロ化合物；クマリン類；チアゾリン類；オキサゾリン類；チオキサントン類；ベンゾチアゾール；ニトロアニリン；ニトロアセナフテン；ベンゾインアルキルエーテル；Ｎ－アルキル化フタロン；ナフタレン類；クリセン；ピレン；ベンゾピラン；アゾインドリジン；フロクマリン；フェノチアジン；ベンゾ［ｃ］フェノチアジン；７－Ｈ－ベンゾ［ｃ］フェノチアジン；トリフェニレン；１，３－ジシアノベンゼン；フェニル－３－シアノベンゾエート等が挙げられる。
他の増感剤（Ｄ２）としては、芳香族ニトロ化合物；クマリン類；チアゾリン類；オキサゾリン類；チオキサントン類；ベンゾチアゾール；ニトロアニリン；ニトロアセナフテン；ベンゾインアルキルエーテル；Ｎ－アルキル化フタロン；ナフタレン類；クリセン；ピレン；ベンゾピラン；アゾインドリジン；フロクマリン；フェノチアジン；ベンゾ［ｃ］フェノチアジン；７－Ｈ－ベンゾ［ｃ］フェノチアジン；トリフェニレン；１，３－ジシアノベンゼン；フェニル－３－シアノベンゾエート等が挙げられる。
【0047】
本実施形態のインク組成物において、増感剤（Ｄ）の含有量は、インク組成物の固形分全体を１００質量部としたときに０．０５質量部以上６質量部以下であることが好ましく、０．０８質量部以上４質量部以下であることがより好ましく、０．１質量部以上２質量部以下であることがさらに好ましい。増感剤（Ｄ）の含有量をこのような範囲に設定することにより、インク組成物の保存安定性を担保しつつ、インク組成物の硬化性を高い水準にすることができる。
【0048】
なお、増感剤（Ｄ）全体に占めるアントラセン骨格を含む化合物（Ｄ１）の質量割合は、８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましく、９５質量％以上であることがさらに好ましく、９８質量％以上であることが特に好ましい。また、増感剤（Ｄ）が実質的にアントラセン骨格を含む化合物（Ｄ１）のみから構成されてもよい。このようにすることで、上述の効果をより発揮しやすくなる。
【0049】
［溶剤（Ｓ）］
本実施形態のインク組成物は、揮発成分として溶剤（Ｓ）を含んでもよい。このように溶剤（Ｓ）を含むことにより、本実施形態のインク組成物は塗工性に優れやすくなる。この溶剤（Ｓ）はインク分野で公知の溶剤を１又は２以上用いることができる。なお、有機溶剤としては、たとえば、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、エーテルエステル系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、アミド系溶剤、カーボネート系溶剤などのうち１又は２以上を用いることができる。なお、本明細書において溶剤（Ｓ）は、前述の成分（Ａ）～（Ｄ）に該当しない、１気圧における沸点が２５０℃以下である成分を指す。
本実施形態のインク組成物は、揮発成分として溶剤（Ｓ）を含んでもよい。このように溶剤（Ｓ）を含むことにより、本実施形態のインク組成物は塗工性に優れやすくなる。この溶剤（Ｓ）はインク分野で公知の溶剤を１又は２以上用いることができる。なお、有機溶剤としては、たとえば、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、エーテルエステル系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、アミド系溶剤、カーボネート系溶剤などのうち１又は２以上を用いることができる。なお、本明細書において溶剤（Ｓ）は、前述の成分（Ａ）～（Ｄ）に該当しない、１気圧における沸点が２５０℃以下である成分を指す。
【0050】
アルコール系溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、１－ブタノール、第３級ブタノール、イソブタノール、ダイアセトンアルコール、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノール等が挙げられる。
ケトン系溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトン等が挙げられる。
エステル系溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシブチル、酢酸セロソルブ、酢酸アミル、酢酸ノルマルプロピル、酢酸イソプロピル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル等が挙げられる。
エーテル系溶剤としては、例えば、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等が挙げられる。
エーテルエステル系溶剤としては、例えば、酢酸２－エトキシエチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチルジグリコールアセテート、メトキシプロピオン酸メチル等が挙げられる。
グリコールエーテル系溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ブチルセロソルブ（エチレングリコールモノブチルエーテル）等が挙げられる。
アミド系溶剤としては、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
カーボネート系溶剤としては、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、メチルエチルカーボネート等が挙げられる。
ケトン系溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトン等が挙げられる。
エステル系溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシブチル、酢酸セロソルブ、酢酸アミル、酢酸ノルマルプロピル、酢酸イソプロピル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル等が挙げられる。
エーテル系溶剤としては、例えば、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等が挙げられる。
エーテルエステル系溶剤としては、例えば、酢酸２－エトキシエチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチルジグリコールアセテート、メトキシプロピオン酸メチル等が挙げられる。
グリコールエーテル系溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ブチルセロソルブ（エチレングリコールモノブチルエーテル）等が挙げられる。
アミド系溶剤としては、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
カーボネート系溶剤としては、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、メチルエチルカーボネート等が挙げられる。
【0051】
本実施形態のインク組成物における溶剤（Ｓ）の含有量は任意である。たとえば、インク組成物の固形分濃度が７０質量％以上となるように溶剤（Ｓ）の含有量を設定してもよく、インク組成物の固形分濃度が８０質量％以上となるように溶剤（Ｓ）の含有量を設定してもよく、インク組成物の固形分濃度が９０質量％以上となるように溶剤（Ｓ）の含有量を設定してもよい。ここで、「固形分濃度」は、インク組成物全体に対する、インク組成物全体から溶剤（Ｓ）を除いた成分全体の割合である。すなわち、本明細書では、インク組成物全体から、前述の成分（Ａ）～（Ｄ）に該当しない、１気圧における沸点が２５０℃以下である成分を除いた分を固形分として扱う。
なお、本実施形態のインク組成物は、上述の溶剤（Ｓ）を実質的に含まない態様とすることもできる。なお、本明細書において、「実質的に含まない」とは、所定成分を意図的に添加する態様を排除する趣旨で用いており、製造プロセス上、所定成分の混入を避けることが不可避である態様は許容する趣旨で用いている。例示的なプロセスにおいては、本実施形態のインク組成物に露光を行う前段階として、この溶剤（Ｓ）を加熱し除去する必要がある。インク組成物が溶剤（Ｓ）の含有量を制御する場合は、このような加熱工程を省略できる点で好適である。
なお、本実施形態のインク組成物は、上述の溶剤（Ｓ）を実質的に含まない態様とすることもできる。なお、本明細書において、「実質的に含まない」とは、所定成分を意図的に添加する態様を排除する趣旨で用いており、製造プロセス上、所定成分の混入を避けることが不可避である態様は許容する趣旨で用いている。例示的なプロセスにおいては、本実施形態のインク組成物に露光を行う前段階として、この溶剤（Ｓ）を加熱し除去する必要がある。インク組成物が溶剤（Ｓ）の含有量を制御する場合は、このような加熱工程を省略できる点で好適である。
【0052】
［その他の添加剤］
本実施形態のインク組成物は、上述した各成分以外の添加成分を含んでもよい。この添加成分には表面調整剤が含まれるが、この表面調整剤としては、シリコーン化合物、ワックス、消泡剤、レベリング剤、ワキ防止剤（塗装時に巻き込んだ空気を破泡する成分）などが含まれる。
本実施形態のインク組成物は、上述した各成分以外の添加成分を含んでもよい。この添加成分には表面調整剤が含まれるが、この表面調整剤としては、シリコーン化合物、ワックス、消泡剤、レベリング剤、ワキ防止剤（塗装時に巻き込んだ空気を破泡する成分）などが含まれる。
【0053】
表面調整剤の例としては、アクロナール４Ｆなどのアクロナール（登録商標）シリーズ（ＢＡＳＦ社製、（メタ）アクリル樹脂系）、ＢＹＫシリーズ（ＢＹＫ社製）、ポリフローシリーズ（共栄社化学株式会社製）、レジフローシリーズ（ＥＳＴＲＯＮ ＣＨＥＭＩＣＡＬ社製）、モダフローシリーズ（モンサント社製）等が挙げられる。
【0054】
本実施形態のインク組成物は、表面調整剤を１種のみ含んでもよいし、２種以上の表面調整剤を含んでもよい。また、本実施形態のインク組成物中の表面調整剤の量は特に限定されず、他の性能との兼ね合いにより適宜調整される。
【0055】
本実施形態のインク組成物は、上述した各種成分以外の他の添加剤として、フィラー、カップリング剤、酸化防止剤、粘度調整剤、保存安定化剤、分散剤等を含んでもよい。本実施形態のインク組成物における、これらの剤の量は特に限定されず、他の性能との兼ね合いにより適宜調整される。
【0056】
［インク組成物の製造方法］
本実施形態のインク組成物は、典型的には前述の各成分を混合することにより作製される。
本実施形態のインク組成物は、典型的には前述の各成分を混合することにより作製される。
【0057】
より具体的な例を挙げると、本実施形態のインク組成物は、以下のような手順で製造することができる。
（工程１）：反射材（Ａ）を分散媒に分散させることで、反射材（Ａ）を含む分散液を得る。
（工程２）：得られた分散液を他の材料と混合する。
（工程１）：反射材（Ａ）を分散媒に分散させることで、反射材（Ａ）を含む分散液を得る。
（工程２）：得られた分散液を他の材料と混合する。
【0058】
すなわち、上述の方法においては、（工程１）にていったん反射材（Ａ）を含む分散液を得、これを他の材料と混合することで目的とするインク組成物を得ることができる。
なお、分散液を得る際に用いられる分散媒ついては、反射材（Ａ）を分散させ得る種々の材料が用いられてよい。たとえば、カチオン重合性化合物（Ｂ）が液状である場合は、このカチオン重合性化合物（Ｂ）を分散媒として採用することもできる。また、分散液の分散性を向上させるために、分散剤（沈降防止剤、分散助剤と称されることもある。）を共存させてもよい。
この分散剤は公知のものを採用することができるが、典型的にはポリマー型分散剤が挙げられる。分散剤は、市販品を用いることができ、具体的には、フローレンＤＯＰＡシリーズ（共栄社化学株式会社製）、ソルスパースシリーズ（日本ルーブリゾール株式会社製）、アジスパーシリーズ（味の素ファインテクノ株式会社製）、Ｄｉｓｐｅｒ ＢＹＫシリーズ（ＢＹＫ社製）、ディスパロンシリーズ（楠本化成株式会社製）などが挙げられる。
分散液における分散剤の配合割合はその種類などに応じて適宜設定できるが、反射材（Ａ）１００質量部に対して、例えば１～１００質量部の範囲であり、好ましくは３～７０質量部の範囲である。
なお、分散液を得る際に用いられる分散媒ついては、反射材（Ａ）を分散させ得る種々の材料が用いられてよい。たとえば、カチオン重合性化合物（Ｂ）が液状である場合は、このカチオン重合性化合物（Ｂ）を分散媒として採用することもできる。また、分散液の分散性を向上させるために、分散剤（沈降防止剤、分散助剤と称されることもある。）を共存させてもよい。
この分散剤は公知のものを採用することができるが、典型的にはポリマー型分散剤が挙げられる。分散剤は、市販品を用いることができ、具体的には、フローレンＤＯＰＡシリーズ（共栄社化学株式会社製）、ソルスパースシリーズ（日本ルーブリゾール株式会社製）、アジスパーシリーズ（味の素ファインテクノ株式会社製）、Ｄｉｓｐｅｒ ＢＹＫシリーズ（ＢＹＫ社製）、ディスパロンシリーズ（楠本化成株式会社製）などが挙げられる。
分散液における分散剤の配合割合はその種類などに応じて適宜設定できるが、反射材（Ａ）１００質量部に対して、例えば１～１００質量部の範囲であり、好ましくは３～７０質量部の範囲である。
【0059】
続いて、この（工程１）にて得られた分散液を、（工程２）にて他の材料と混合する。この（工程２）において、混合の方法は特に制限されることはない。
このようにして、目的のインク組成物を得ることができる。
このようにして、目的のインク組成物を得ることができる。
【0060】
［用途］
本実施形態のインク組成物は、例えば画像表示装置に備えられる部材を形成するために用いられる。この画像表示装置の例としては、ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）素子や、ミニＬＥＤ（ｍｉｎｉ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）マイクロＬＥＤ（ｍｉｃｒｏ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）素子、量子ドット等の発光素子を備える表示装置が挙げられる。
本実施形態のインク組成物は、例えば画像表示装置に備えられる部材を形成するために用いられる。この画像表示装置の例としては、ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）素子や、ミニＬＥＤ（ｍｉｎｉ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）マイクロＬＥＤ（ｍｉｃｒｏ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）素子、量子ドット等の発光素子を備える表示装置が挙げられる。
【0061】
本実施形態のインク組成物は、露光されることで硬化し、硬化物（硬化膜）となることで、画像表示装置内の部材として機能し得る。典型的には、この部材は画像表示装置において画像が表示される表示領域に設けられる。ここで、上述の表示領域とは、画像表示装置において、この画像表示装置に対峙する者が認識することのできる画素と、この画像表示装置に対峙する者の視点とを結ぶことで規定される領域を指す。
【0062】
典型的には、インク組成物は、画像表示装置内に設けられる隔壁を形成するために用いられる。ここで、隔壁は、複数の発光素子を備える画像表示装置において、複数の発光素子の間に介在するものである。この場合、隔壁は、ある発光素子が発光する際に、光の発せられる方向を制御する機能を発揮する。また、その結果、画像表示装置としての輝度向上に寄与することができる。
【0063】
インク組成物から形成される硬化物の反射特性は例えば以下のように設定されることが好ましい。すなわち、インク組成物から形成される硬化物の４００ｎｍ～７００ｎｍの拡散反射率の平均値が５０％以上であることが好ましく、６０％以上であることがより好ましく、７０％以上であることがさらに好ましい。このようにすることで、上述のような光の発せられる方向を制御する機能がより発揮されやすくなる。なお、この拡散反射率は、紫外可視分光光度計（積分球使用、株式会社島津製作所製、ＳｏｌｉｄＳｐｅｃ－３７００）等を用いて測定することができる。
【0064】
このような隔壁が設けられた画像表示装置の例について、図を交えて説明する。
図１は、本実施形態にかかるインク組成物の硬化物を隔壁として適用した画像表示装置の断面図である。図１における画像表示装置１００は、基板１０と、隔壁１１と、発光素子１２とを備えるものである。この画像表示装置１００の基板１０は種々の材料の中から選択される材料で構成されるものであり、無機材料で構成されていても、有機材料で構成されていても構わない。典型的な例としては、この基板１０はガラス基板であるが、その他、ガラス繊維とエポキシ樹脂とを複合させた複合材料や、ポリイミド等の有機材料、ガラス以外の他のセラミックスで構成された基板であっても構わない。なお、図には詳細を記載していないが、典型的には基板１０には回路や電極が設けられており、発光素子１２に電流を印加することができるように構成されている。
なお、この回路や電極は、銅や酸化インジウム錫等で構成されていてもよい。
図１は、本実施形態にかかるインク組成物の硬化物を隔壁として適用した画像表示装置の断面図である。図１における画像表示装置１００は、基板１０と、隔壁１１と、発光素子１２とを備えるものである。この画像表示装置１００の基板１０は種々の材料の中から選択される材料で構成されるものであり、無機材料で構成されていても、有機材料で構成されていても構わない。典型的な例としては、この基板１０はガラス基板であるが、その他、ガラス繊維とエポキシ樹脂とを複合させた複合材料や、ポリイミド等の有機材料、ガラス以外の他のセラミックスで構成された基板であっても構わない。なお、図には詳細を記載していないが、典型的には基板１０には回路や電極が設けられており、発光素子１２に電流を印加することができるように構成されている。
なお、この回路や電極は、銅や酸化インジウム錫等で構成されていてもよい。
【0065】
発光素子１２は、典型的にはミニＬＥＤまたはマイクロＬＥＤであり、発光素子１２（Ｒ）、発光素子１２（Ｇ）、発光素子１２（Ｂ）が、それぞれ異なる波長の光（赤・緑・青）を発するものである。なお、本実施形態の画像表示装置１００の備える発光素子１２は、ＯＬＥＤであっても構わない。
【0066】
隔壁１１は、本実施形態のインク組成物を硬化してなるものであり、複数存在する発光素子１２の間に設けられる。前述の通り、隔壁１１は、発光素子１２が発光する際に、光の発せられる方向を制御する機能を発揮する。なお、本実施形態の隔壁１１においては、特定のインク組成物から形成されていることから、基板１０との密着性に優れ、長期使用の場合であっても安定的にこのような機能を発現させることができる。
【0067】
このような隔壁１１は、発光素子１２が搭載された基板１０に対し、発光素子１２間にインク組成物が配置されるように塗布を行った上で、光硬化させることで得られる。このような塗布は例示的にはインクジェットプリンタを用いて行われる（すなわち、本実施形態のインク組成物はインクジェット用であるともいえる。）。なお、図１には隔壁１１が発光素子１２と互いに接するような位置に配される構造が示されている（隔壁１１が、複数の発光素子１２のうち少なくとも１つに対し、互いに接するように設けられている）が、この隔壁１１と発光素子１２とが離間されるように構成されていてもよい。なお、図１に示される画像表示装置１００のように、隔壁１１が発光素子１２と互いに接するような位置にある場合は、上述したような光の発せられる方向を制御する機能をいっそう発揮しやすくなる点で好ましい。
【0068】
また、本実施形態において、隔壁１１と発光素子１２の高さ（基板１０の厚み方向における厚さ）は、適宜設定することができる。一態様においては、隔壁１１の平均高さ（平均高さＨ１１）と、複数の発光素子１２の平均高さ（平均高さＨ１２）とを定義したときに、Ｈ１１とＨ１２とが略同等の高さであってよい。具体的に、Ｈ１１とＨ１２との比（Ｈ１１／Ｈ１２）は０．６～１．５の範囲であってよく、０．７～１．４の範囲であってよく、０．８～１．２の範囲であってよく、０．９～１．１の範囲であってよい。このような範囲とすることで発光素子１２の発する光の方向をより制御しやすくなる。一方、画像表示装置１００の製造プロセスを簡素化する等の観点からＨ１１とＨ１２との比は上述の範囲とは異なるものであってもよい。すなわち、Ｈ１１とＨ１２との比（Ｈ１１／Ｈ１２）は、０．１～１．１の範囲であってよく、０．２～１．０の範囲であってよく、０．３～１．０の範囲であってよく、０．８～１．０の範囲であってよい。
なお、この隔壁１１や発光素子１２の平均高さは、例えば、画像表示装置１００を分解し、分解物を走査型電子顕微鏡等で観察することによって求めることができる。
なお、この隔壁１１や発光素子１２の平均高さは、例えば、画像表示装置１００を分解し、分解物を走査型電子顕微鏡等で観察することによって求めることができる。
【0069】
例示的な実施形態においては、隔壁１１の平均高さＨ１１は２５μｍ以下であってもよく、２０μｍ以下であってもよい。このようにすることで、膜厚方向に均一な膜質を得やすくなる。
なお、発光素子１２同士の発する光の干渉を抑制する観点からは、隔壁１１の厚みは上記の数値以上であってもよい。そのような隔壁１１を形成するにあたっては、たとえば以下のような手法を採用することができる。
すなわち、インク組成物が露光による硬化が可能な膜厚となるように調整し、いったん露光硬化させ、その硬化した膜上にさらにインク組成物による塗膜を形成し、高膜厚の隔壁１１を形成することもできる（換言すれば、インク組成物の硬化膜を積層させることによって隔壁１１を形成してもよい）。
このことから、隔壁１１の厚みは必要に応じて上記以上に設計することができる。一例として、複数存在する隔壁１１の平均高さＨ１１は３００μｍ以下であってもよいし、２００μｍ以下であってもよい。また、隔壁１１の膜質を向上させる観点からは、硬化膜を積層させた後に加熱工程を行い、膜の架橋度合を向上させてもよい。
なお、Ｈ１１の下限値は特に制限されるものではないが、一例としては１μｍ以上である。
なお、発光素子１２同士の発する光の干渉を抑制する観点からは、隔壁１１の厚みは上記の数値以上であってもよい。そのような隔壁１１を形成するにあたっては、たとえば以下のような手法を採用することができる。
すなわち、インク組成物が露光による硬化が可能な膜厚となるように調整し、いったん露光硬化させ、その硬化した膜上にさらにインク組成物による塗膜を形成し、高膜厚の隔壁１１を形成することもできる（換言すれば、インク組成物の硬化膜を積層させることによって隔壁１１を形成してもよい）。
このことから、隔壁１１の厚みは必要に応じて上記以上に設計することができる。一例として、複数存在する隔壁１１の平均高さＨ１１は３００μｍ以下であってもよいし、２００μｍ以下であってもよい。また、隔壁１１の膜質を向上させる観点からは、硬化膜を積層させた後に加熱工程を行い、膜の架橋度合を向上させてもよい。
なお、Ｈ１１の下限値は特に制限されるものではないが、一例としては１μｍ以上である。
【0070】
一方、発光素子１２の平均高さＨ１２は、画像表示装置１００の用途やスペック等に応じて適宜設定される。一例としては、発光素子１２の平均高さＨ１２は、１～１００μｍの範囲であってよく、２～８０μｍの範囲であってよく、３～５０μｍの範囲であってよい。
【0071】
また、得られる画像表示装置１００の信頼性の向上等を目的として、隔壁１１の硬度が調整されていてもよい。例示的には隔壁１１の有する鉛筆硬度はＨ以上であってもよく、２Ｈ以上であってもよく、３Ｈ以上であってもよく、４Ｈ以上であってもよい。
【0072】
なお、本実施形態のインク組成物が適用された画像表示装置は以下に示されるものであってもよい。図２は、本実施形態にかかるインク組成物の硬化物を隔壁として適用した画像表示装置の断面図である。
【0073】
図２における画像表示装置２００は、基板２０と、隔壁２１と、発光素子２２とを備えるものである。この画像表示装置２００の基板２０は前述の基板１０と、発光素子２２は前述の発光素子１２と同様のもので構成することができる。
【0074】
画像表示装置２００において、隔壁２１は複数の層（２層）が積層された構造となっている。具体的に、図２の画像表示装置２００に即して説明すると、隔壁２１は反射材料層２１Ａと、遮光材料層２１Ｂとが積層されている。
【0075】
この反射材料層２１Ａは、本実施形態のインク組成物を硬化してなるものであり、前述の隔壁１１と同様の材料によって構成することができる。一方、遮光材料層２１Ｂは光を遮光する材料によって構成することができる。この光を遮光する材料は、無機材料を含むものであっても、有機材料を含むものであってもよい。この遮光材料層２１Ｂは、複数の発光素子２２の間に設けられる。この場合、遮光材料層２１Ｂは、発光素子（例えば発光素子２２（Ｒ））が発光する際に、隣接する発光素子（例えば発光素子２２（Ｇ））との間の光の干渉を緩和させたり、基板２０上に形成された配線（金属配線等）からの反射による表示ムラを抑制する機能を発揮する。
【0076】
反射材料層２１Ａは、前述の隔壁１１と同様に、所定のインク組成物を基板２０に塗布し、硬化させることで形成することができる。
一方、この遮光材料層２１Ｂを、無機材料を含むものとして構成する場合、一例としては以下のように形成することができる。すなわち、遮光性を有する無機材料（Ａｌ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｍｏ等の金属あるいはそれらの合金等）を反射材料層２１Ａ上に堆積させることにより、遮光材料層２１Ｂを形成することができる。
また、この遮光材料層２１Ｂを、有機材料を含むものとして構成する場合、一例としては以下のように形成することができる。すなわち、遮光剤と、バインダー成分との混合材料を、反射材料層２１Ａに適用することにより、遮光材料層２１Ｂを形成することができる。
一方、この遮光材料層２１Ｂを、無機材料を含むものとして構成する場合、一例としては以下のように形成することができる。すなわち、遮光性を有する無機材料（Ａｌ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｍｏ等の金属あるいはそれらの合金等）を反射材料層２１Ａ上に堆積させることにより、遮光材料層２１Ｂを形成することができる。
また、この遮光材料層２１Ｂを、有機材料を含むものとして構成する場合、一例としては以下のように形成することができる。すなわち、遮光剤と、バインダー成分との混合材料を、反射材料層２１Ａに適用することにより、遮光材料層２１Ｂを形成することができる。
【0077】
ここでの遮光剤としては、カーボンブラックや、カーボンブラック以外の他の遮光剤を含んでもよい。この他の遮光剤としては、チタンブラック；酸化鉄ブラック；バナジウム、銀、銅、錫などの１種以上の金属元素を含む遮光剤などの無機系遮光剤；アニリンブラック、ペリレンブラックやラクタムブラックなどの有機黒色顔料；アゾ系化合物やアジン系化合物などの黒色染料などが挙げられる。また、この他の遮光剤は、赤色顔料、青色顔料、緑色顔料、黄色顔料などの有彩色顔料や、赤色染料、青色染料、緑色染料、黄色染料などの有彩色染料を組み合わせることによって構成されてもよい。なお、この他の遮光剤は、得られる硬化物について遮光機能が担保されるようであれば単独で用いてもよく、また、複数種を組み合わせて用いてもよい。
【0078】
一方、バインダー成分は可塑材料、硬化材料のいずれであってもよいが、典型的には、硬化材料である。より具体的に、このバインダー成分は重合性化合物の硬化物であってよく、この重合性化合物は、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよい。この場合、バインダー成分には光によりラジカルや酸を発生させる剤が配合されていてもよい。
【0079】
隔壁２１と、発光素子２２との高さの関係は、図１に示される画像表示装置１００における隔壁１１と発光素子１２との高さの関係と同様であってよい。なお、反射材料層２１Ａと、遮光材料層２１Ｂと、の高さの比（反射材料層２１Ａの高さ：遮光材料層２１Ｂの高さ（Ｈ２１Ａ：Ｈ２１Ｂ））は適宜設定することができる。一方、画像表示装置２００の発する光の輝度の向上と、発光素子間の光の干渉を緩和させる機能とをバランスよく発揮させる観点からは、このＨ２１Ａ：Ｈ２１Ｂは３０：１～１：２の範囲であってよく、２０：１～１：１の範囲であってよく、１５：１～３：１の範囲であってよい。
【0080】
さらに、本実施形態のインク組成物が適用された画像表示装置は以下に示されるものであってもよい。図３は、本実施形態にかかるインク組成物の硬化物を隔壁として適用した画像表示装置の断面図である。
【0081】
図３における画像表示装置３００は、基板３０と、隔壁３１と、発光素子３２とを備えるものである。この画像表示装置３００の基板３０は前述の基板１０と、隔壁３１は前述の隔壁１１と同様のもので構成することができる。
【0082】
画像表示装置３００において、複数存在する発光素子３２はそれぞれ同種の色の光を発するように構成されている（図３中、３２（Ｂ）参照）。これに対し、本実施形態の画像表示装置３００では、基板３０上の発光素子３２が発する光の波長を調整する機構（波長調整層）が設けられる。具体的に、図３に示される画像表示装置３００においては、発光素子３２（Ｂ）の、基板３０が存在する側とは反対側に、波長変換層（波長変換材３３ともいう）が設けられている。ここで、この波長変換材３３には、波長変換領域３３１と、波長変換領域３３２と、透明領域３３３と、が設けられている。
【0083】
すなわち、図３における画像表示装置３００においては、発光素子３２（Ｂ）の発した青色光を波長変換領域３３１が赤色光に変換し、一方、発光素子３２（Ｂ）の発した青色光を波長変換領域３３２が緑色光に変換し得る。この波長変換領域３３１、３３２には、例えば量子ドットが含まれ、この量子ドットにより発光素子３２（Ｂ）から受けた光の波長を変換し得る。このような構成を採用することにより、同種の発光素子を基板に搭載するといった製造プロセス上の優位性を獲得しつつ、画像表示装置としてのＲＧＢ発光を実現することができる。なお、図３においては発光素子３２（Ｂ）の発した青色光が透明領域３３３を通過する態様が示されているが、画像表示装置３００の構成は、必ずしも、これには制限されない。例えば、透明領域３３３に替えて、波長変換領域を用いてもよい。このようにして、発せられる青色光の色調などをコントロール（微調整）することも可能である。また、図３における画像表示装置３００では、波長変換領域３３１等を備える波長変換材３３が採用される態様を示しているが、カラーフィルタを発光素子３２上に配置することもできる。このようなカラーフィルタは、発光素子３２より発せられた光の波長について、一部の波長領域の光をフィルタリングする。すなわち、本実施形態の画像表示装置３００において、波長調整層として、複数の発光素子のいずれかの発した光について一部の波長領域の光をフィルタリングする層が設けられてもよい。このようにして画像表示装置３００から発せられる光の色調を調整することができる。
【0084】
なお、上記の各種画像表示装置の隔壁は、図示したものと異なる構造を有していてもよい。たとえば、図２に示される反射材料層２１Ａと、遮光材料層２１Ｂと、の間に他の機能を有する層が介在されてもよい。また、各種隔壁中に、本実施形態のインク組成物の硬化物によって形成される材料以外の部材が組み合わされていてもよい。例えば、基板から高さ方向に延びる他の機能膜（遮光膜を包含する）を隔壁の中に備えてもよい。その他、本実施形態の画像表示装置は、各図に示される構成以外の構成を備えていてもよい。例えば、発光素子や隔壁の、基板の存在する側とは反対側に別途カバーガラス等が設けられていてもよい。
【0085】
以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することができる。また、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれる。
【0086】
さらに、次に記載の各態様で提供されてもよい。
【0087】
（１）インク組成物であって、反射材（Ａ）と、カチオン重合性化合物（Ｂ）と、光酸発生剤（Ｃ）と、を含み、前記カチオン重合性化合物（Ｂ）は、カチオン重合性基と加水分解性基とを有する金属元素含有化合物（Ｂ１）を含む、インク組成物。
【0088】
（２）上記（１）に記載のインク組成物において、前記反射材（Ａ）は、白色顔料または金属顔料を含む、インク組成物。
【0089】
（３）上記（１）または（２）に記載のインク組成物において、前記反射材（Ａ）のＺ平均粒子径は１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である、インク組成物。
【0090】
（４）上記（１）ないし（３）のいずれか１つに記載のインク組成物において、前記金属元素含有化合物（Ｂ１）はケイ素含有化合物である、インク組成物。
【0091】
（５）上記（１）ないし（４）のいずれか１つに記載のインク組成物において、前記金属元素含有化合物（Ｂ１）の有する前記カチオン重合性基はエポキシ基である、インク組成物。
【0092】
（６）上記（１）ないし（５）のいずれか１つに記載のインク組成物において、増感剤（Ｄ）をさらに含む、インク組成物。
【0093】
（７）上記（１）ないし（６）のいずれか１つに記載のインク組成物において、前記カチオン重合性化合物（Ｂ）は、前記金属元素含有化合物（Ｂ１）に該当しない他のカチオン重合性化合物（Ｂ２）として、オキセタン化合物をさらに含む、インク組成物。
【0094】
（８）上記（１）ないし（７）のいずれか１つに記載のインク組成物において、前記金属元素含有化合物（Ｂ１）の含有量は、前記インク組成物の固形分全体を１００質量部としたときに１．５質量部以上８０質量部以下である、インク組成物。
【0095】
（９）上記（１）ないし（８）のいずれか１つに記載のインク組成物において、インクジェット用である、インク組成物。
【0096】
（１０）上記（１）ないし（９）のいずれか１つに記載のインク組成物において、固形分濃度が７０質量％以上である、インク組成物。
【0097】
（１１）上記（１）ないし（１０）のいずれか１つに記載のインク組成物において、隔壁を形成するために用いられ、前記隔壁は、複数の発光素子を備える画像表示装置において、前記複数の発光素子の間に介在するものである、インク組成物。
【0098】
（１２）硬化物であって、上記（１）ないし（１１）のいずれか１つに記載のインク組成物を硬化してなる、硬化物。
【0099】
（１３）画像表示装置であって、上記（１２）に記載の硬化物を備える、画像表示装置。
もちろん、この限りではない。
もちろん、この限りではない。
【実施例0100】
以下、実施例および比較例により、本発明をさらに詳しく説明する。なお、本発明は以下の実施例により制限されるものではない。
【0101】
［使用原料］
まず、本実施例で用いた使用原料について説明する。本実施例項目で用いた各種使用原料は以下の通りである。
・Ａ１－１：Ｔｉ－Ｐｕｒｅ Ｒ－１０５（ルチル型酸化チタン；ケマーズ社製）
・Ａ１－２：４９ＣＪ－１１２０（鱗片状インジウムフィラー（固形分濃度２０％）；尾池工業株式会社製）
・Ｂ１－１：ＫＢＭ－４０３（化学名：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン；信越化学工業株式会社製）
・Ｂ２－１：アロンオキセタンＯＸＴ－１０１（化学名：３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン；東亞合成株式会社製）
・Ｂ２－２：デナコールＥＸ－１４１（化学名：フェニルグリシジルエーテル；ナガセケムテックス株式会社製）
・Ｂ２－３：アロンオキセタンＯＸＴ－２２１（化学名：３－エチル－３｛［３－エチルオキセタンー３―イル］メトキシ｝メチル）オキセタン；東亞合成株式会社製）
・Ｂ２－４：デナコールＥＸ－１２１（化学名：２－エチルへキシルグリシジルエーテル；ナガセケムテックス株式会社製）
・Ｂ２－５：リモネンジオキサイド（ＲＥＮＥＳＳＥＮＺ，ＬＬＣ．製）
・Ｃ１－１：ＣＰＩ－１１０Ｐ（化学名：ジフェニル［４－（フェニルチオ）フェニル］スルホニウムヘキサフルオロホスファート；サンアプロ株式会社製）
・Ｃ１－２：ＣＰＩ－１１０Ｂ（化学名：ジフェニル［４－（フェニルチオ）フェニル］スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラート；サンアプロ株式会社製）
・Ｄ１－１：アントラキュアー（登録商標）ＵＶＳ―１３３１（化学名：９，１０―ジブトキシアントラセン；エア・ウォーター・パフォーマンスケミカル株式会社製）
・Ｄ２－１：Ｏｍｎｉｒａｄ ＤＥＴＸ（化学名：２－メチル－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノ－１－プロパン；ＩＧＭ ＲＥＳＩＮＳ社製）
・Ｘ－１：ソルスパース３６０００（１００％活性ポリマー分散剤；日本ルーブリゾール株式会社製）
・Ｘ－２：ＢＹＫ―３６１Ｎ（ポリアクリレート系表面調整剤；ＢＹＫ社製）
まず、本実施例で用いた使用原料について説明する。本実施例項目で用いた各種使用原料は以下の通りである。
・Ａ１－１：Ｔｉ－Ｐｕｒｅ Ｒ－１０５（ルチル型酸化チタン；ケマーズ社製）
・Ａ１－２：４９ＣＪ－１１２０（鱗片状インジウムフィラー（固形分濃度２０％）；尾池工業株式会社製）
・Ｂ１－１：ＫＢＭ－４０３（化学名：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン；信越化学工業株式会社製）
・Ｂ２－１：アロンオキセタンＯＸＴ－１０１（化学名：３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン；東亞合成株式会社製）
・Ｂ２－２：デナコールＥＸ－１４１（化学名：フェニルグリシジルエーテル；ナガセケムテックス株式会社製）
・Ｂ２－３：アロンオキセタンＯＸＴ－２２１（化学名：３－エチル－３｛［３－エチルオキセタンー３―イル］メトキシ｝メチル）オキセタン；東亞合成株式会社製）
・Ｂ２－４：デナコールＥＸ－１２１（化学名：２－エチルへキシルグリシジルエーテル；ナガセケムテックス株式会社製）
・Ｂ２－５：リモネンジオキサイド（ＲＥＮＥＳＳＥＮＺ，ＬＬＣ．製）
・Ｃ１－１：ＣＰＩ－１１０Ｐ（化学名：ジフェニル［４－（フェニルチオ）フェニル］スルホニウムヘキサフルオロホスファート；サンアプロ株式会社製）
・Ｃ１－２：ＣＰＩ－１１０Ｂ（化学名：ジフェニル［４－（フェニルチオ）フェニル］スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラート；サンアプロ株式会社製）
・Ｄ１－１：アントラキュアー（登録商標）ＵＶＳ―１３３１（化学名：９，１０―ジブトキシアントラセン；エア・ウォーター・パフォーマンスケミカル株式会社製）
・Ｄ２－１：Ｏｍｎｉｒａｄ ＤＥＴＸ（化学名：２－メチル－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノ－１－プロパン；ＩＧＭ ＲＥＳＩＮＳ社製）
・Ｘ－１：ソルスパース３６０００（１００％活性ポリマー分散剤；日本ルーブリゾール株式会社製）
・Ｘ－２：ＢＹＫ―３６１Ｎ（ポリアクリレート系表面調整剤；ＢＹＫ社製）
【0102】
［インク組成物等の作製］
以下の各工程に従い、顔料分散液と、インク組成物とを作製した。
以下の各工程に従い、顔料分散液と、インク組成物とを作製した。
【0103】
（顔料分散液の作製）
表１に示す比率となるように各種材料をプレミックスした後、サンドミルにて５時間処理して所定の反射材を含む顔料分散液を得た。なお、実施例８ではインジウムフィラーが分散された市販品をそのまま用いた。
表１に示す比率となるように各種材料をプレミックスした後、サンドミルにて５時間処理して所定の反射材を含む顔料分散液を得た。なお、実施例８ではインジウムフィラーが分散された市販品をそのまま用いた。
【0104】
（インク組成物の製造）
上記で得られた顔料分散液と、表１に記載の各成分を十分に混合して、インク組成物を製造した。なお、表１には、インク組成物の固形分濃度と、全固形分に対する（Ａ）成分の含有割合（質量％）と、（Ｂ１）成分の含有割合（質量％）と、オキセタン化合物の含有割合（質量％）と、をあわせて記載している。また、固形分濃度が１００％に満たないインク組成物については、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルが含まれている。
上記で得られた顔料分散液と、表１に記載の各成分を十分に混合して、インク組成物を製造した。なお、表１には、インク組成物の固形分濃度と、全固形分に対する（Ａ）成分の含有割合（質量％）と、（Ｂ１）成分の含有割合（質量％）と、オキセタン化合物の含有割合（質量％）と、をあわせて記載している。また、固形分濃度が１００％に満たないインク組成物については、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルが含まれている。
【0105】
［評価］
得られたインク組成物は以下に示す各項目に沿って評価を行った。得られた評価結果は表１に示す通りである。また、試験環境は、温度：２０℃、湿度：４５％の条件を採用している。
得られたインク組成物は以下に示す各項目に沿って評価を行った。得られた評価結果は表１に示す通りである。また、試験環境は、温度：２０℃、湿度：４５％の条件を採用している。
【0106】
<評価基板作製>
インクジェットプリンタとして、ピエゾ型インクジェットヘッド（コニカミノルタ社製、ＫＭ１０２４ｉＭＨＥ、インク液滴量１３ｐＬ）を搭載したインクジェットプリンタ（株式会社トライテック製、Ｓｔａｇｅ ＪＥＴ）を準備した。このプリンタを用い、各インク組成物を充填し、ヘッド温度３５℃の条件で吐出した。塗装基板は、Ｅａｇｌｅ ＸＧ（Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）製Ｄｉｓｐｌａｙ Ｇｒａｄｅ Ｇｌａｓｓ）を用いた。次に、ＵＶ照射装置（ＵＳＨＩＯ製（型番）ＵＶＸ－５１６、ランプ：ＵＳＨＩＯ製（ＴＹＰＥ）ＵＶＨ－０５０１Ｃ－１２００）を用いて、指触乾燥が得られるまで照射した。さらに、内温１３０℃に設定した金庫式オーブンで１０分間加熱することで評価基板を得た。
インクジェットプリンタとして、ピエゾ型インクジェットヘッド（コニカミノルタ社製、ＫＭ１０２４ｉＭＨＥ、インク液滴量１３ｐＬ）を搭載したインクジェットプリンタ（株式会社トライテック製、Ｓｔａｇｅ ＪＥＴ）を準備した。このプリンタを用い、各インク組成物を充填し、ヘッド温度３５℃の条件で吐出した。塗装基板は、Ｅａｇｌｅ ＸＧ（Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）製Ｄｉｓｐｌａｙ Ｇｒａｄｅ Ｇｌａｓｓ）を用いた。次に、ＵＶ照射装置（ＵＳＨＩＯ製（型番）ＵＶＸ－５１６、ランプ：ＵＳＨＩＯ製（ＴＹＰＥ）ＵＶＨ－０５０１Ｃ－１２００）を用いて、指触乾燥が得られるまで照射した。さらに、内温１３０℃に設定した金庫式オーブンで１０分間加熱することで評価基板を得た。
【0107】
なお、インク組成物により形成した膜の膜厚と、ＵＶ照射における積算照射量は表１に示した通りである。ここで、照射強度および積算照射量はデジタル照度計（アイグラフィックス社製、型式：ＵＶＰＦ－Ａ１、受光器：ＰＤ－３６５）を用いて測定している。
【0108】
また、表１における１回塗装は、インクジェット塗装を行った後に露光し、その後加熱することで硬化膜を得ている。２回塗装の場合は、インクジェット塗装を１度行った後、露光し、この露光の後に、さらにインクジェット塗装と露光を行い、さらに加熱を行っている。
【0109】
<拡散反射率測定>
紫外可視分光光度計（積分球使用、株式会社島津製作所製、ＳｏｌｉｄＳｐｅｃ－３７００）を用いて４００～７００ｎｍの領域における拡散反射率を測定し、その平均値を拡散反射率とした。さらに、４５０～４７０ｎｍの領域における拡散反射率を測定し、その平均値を４６０ｎｍの拡散反射率とした。尚、標準反射板として、Ｌａｂｓｐｈｅｒｅ社製スペクトラロン（登録商標）反射スタンダード（型名：ＳＲＳ－９９－０２０）を用いている。
紫外可視分光光度計（積分球使用、株式会社島津製作所製、ＳｏｌｉｄＳｐｅｃ－３７００）を用いて４００～７００ｎｍの領域における拡散反射率を測定し、その平均値を拡散反射率とした。さらに、４５０～４７０ｎｍの領域における拡散反射率を測定し、その平均値を４６０ｎｍの拡散反射率とした。尚、標準反射板として、Ｌａｂｓｐｈｅｒｅ社製スペクトラロン（登録商標）反射スタンダード（型名：ＳＲＳ－９９－０２０）を用いている。
【0110】
<透過率測定>
紫外可視分光光度計（積分球使用、株式会社島津製作所製、ＳｏｌｉｄＳｐｅｃ－３７００）を用いて４００～７００ｎｍの領域における透過率を測定し、その平均値を透過率とした。尚、ベースライン測定には無塗装のＥａｇｌｅ ＸＧを用いている。
紫外可視分光光度計（積分球使用、株式会社島津製作所製、ＳｏｌｉｄＳｐｅｃ－３７００）を用いて４００～７００ｎｍの領域における透過率を測定し、その平均値を透過率とした。尚、ベースライン測定には無塗装のＥａｇｌｅ ＸＧを用いている。
【0111】
<外観>
上記評価基板において、外観は、以下の評価基準に従って評価した。
Ａ：異常なし
Ｂ：エッジ付近にシワが発生
Ｃ：塗膜全体にシワが発生
上記評価基板において、外観は、以下の評価基準に従って評価した。
Ａ：異常なし
Ｂ：エッジ付近にシワが発生
Ｃ：塗膜全体にシワが発生
【0112】
<密着性>
上記評価基板を密着性評価基板とした。
なお、Ｅａｇｌｅ ＸＧで良好な結果が得られたインク組成物については、密着性評価基板として、さらにガラスエポキシ基板（Ｓｕｎｈａｙａｔｏ製 片面ガラスエポキシＦＲ－４）およびベークライト基板（アズワン社製、ベークライト紙入りフェノール樹脂）を用いて評価した。すなわち、Ｅａｇｌｅ ＸＧを用いた際と同様の方法で塗装、硬化し、密着性評価基板を作製した。
密着性は、ＪＩＳ Ｋ５６００－５－６：１９９９に従って１ｍｍ間隔に切れ目を入れてクロスカット試験を行い、硬化膜と基板との密着性を評価した。０～３が実用範囲である。
０：カットの縁が完全に滑らかで、どの格子の目にもはがれがない。
１：カットの交差点における塗膜の小さなはがれ。クロスカット部分で影響を受けるのは、明確に５％を上回ることはない。
２：塗膜がカットの縁に沿って、及び／又は交差点においてはがれている。クロスカット部分で影響を受けるのは明確に５％を超えるが１５％を上回ることはない。
３：塗膜がカットの縁に沿って、部分的又は全面的に大はがれを生じており、及び／又は目のいろいろな部分が、部分的又は全面的にはがれている。クロスカット部分で影響を受けるのは、明確に１５％を超えるが３５％を上回ることはない。
４：塗膜がカットの縁に沿って、部分的又は全面的に大はがれを生じており、及び／又は数か所の目が部分的又は全面的にはがれている。クロスカット部分で影響を受けるのは、明確に６５％を上回ることはない。
５：分類４でも分類できないはがれ程度のいずれか。
上記評価基板を密着性評価基板とした。
なお、Ｅａｇｌｅ ＸＧで良好な結果が得られたインク組成物については、密着性評価基板として、さらにガラスエポキシ基板（Ｓｕｎｈａｙａｔｏ製 片面ガラスエポキシＦＲ－４）およびベークライト基板（アズワン社製、ベークライト紙入りフェノール樹脂）を用いて評価した。すなわち、Ｅａｇｌｅ ＸＧを用いた際と同様の方法で塗装、硬化し、密着性評価基板を作製した。
密着性は、ＪＩＳ Ｋ５６００－５－６：１９９９に従って１ｍｍ間隔に切れ目を入れてクロスカット試験を行い、硬化膜と基板との密着性を評価した。０～３が実用範囲である。
０：カットの縁が完全に滑らかで、どの格子の目にもはがれがない。
１：カットの交差点における塗膜の小さなはがれ。クロスカット部分で影響を受けるのは、明確に５％を上回ることはない。
２：塗膜がカットの縁に沿って、及び／又は交差点においてはがれている。クロスカット部分で影響を受けるのは明確に５％を超えるが１５％を上回ることはない。
３：塗膜がカットの縁に沿って、部分的又は全面的に大はがれを生じており、及び／又は目のいろいろな部分が、部分的又は全面的にはがれている。クロスカット部分で影響を受けるのは、明確に１５％を超えるが３５％を上回ることはない。
４：塗膜がカットの縁に沿って、部分的又は全面的に大はがれを生じており、及び／又は数か所の目が部分的又は全面的にはがれている。クロスカット部分で影響を受けるのは、明確に６５％を上回ることはない。
５：分類４でも分類できないはがれ程度のいずれか。
【0113】
<鉛筆硬度>
上記で成膜した基板を鉛筆硬度評価基板とした。この評価基板を用い、ＪＩＳ－Ｋ５６００－５－４の試験方法に準拠し、鉛筆硬度評価を行った。鉛筆はＭＩＴＳＵ－ＢＩＳＨＩ製を用い、試験機器は、（株）東洋精機製作所製鉛筆引っかき硬度試験機を用いて評価した。
上記で成膜した基板を鉛筆硬度評価基板とした。この評価基板を用い、ＪＩＳ－Ｋ５６００－５－４の試験方法に準拠し、鉛筆硬度評価を行った。鉛筆はＭＩＴＳＵ－ＢＩＳＨＩ製を用い、試験機器は、（株）東洋精機製作所製鉛筆引っかき硬度試験機を用いて評価した。
【0114】
【表1】
【0115】
本実施例項の結果から分かるように、本実施形態のインク組成物によれば、基板密着性と反射特性とのバランスに優れた硬化物を与え得る。
【符号の説明】
【0116】
１０、２０、３０ ：基板
１１、２１、３１ ：隔壁
１２、２２、３２ ：発光素子
２１Ａ ：反射材料層
２１Ｂ ：遮光材料層
２２ ：発光素子
３３ ：波長変換材
１００、２００、３００ ：画像表示装置
２００ ：画像表示装置
３００ ：画像表示装置
３３１ ：波長変換領域
３３２ ：波長変換領域
３３３ ：透明領域
１１、２１、３１ ：隔壁
１２、２２、３２ ：発光素子
２１Ａ ：反射材料層
２１Ｂ ：遮光材料層
２２ ：発光素子
３３ ：波長変換材
１００、２００、３００ ：画像表示装置
２００ ：画像表示装置
３００ ：画像表示装置
３３１ ：波長変換領域
３３２ ：波長変換領域
３３３ ：透明領域
【図1】
【図2】
【図3】
