特開 2024-180374 フィルター

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024180374

(43)【公開日】2024-12-26

(54)【発明の名称】フィルター

(51)【国際特許分類】

   G02B 5/22 20060101AFI20241219BHJP

   G02B 1/113 20150101ALI20241219BHJP

   G02B 1/14 20150101ALI20241219BHJP

【ＦＩ】

G02B5/22

G02B1/113

G02B1/14

【審査請求】有

【請求項の数】26

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2024096975

(22)【出願日】2024-06-14

(31)【優先権主張番号】112122734

(32)【優先日】2023-06-16

(33)【優先権主張国・地域又は機関】TW

(71)【出願人】

【識別番号】516210676

【氏名又は名称】白金科技股▲分▼有限公司

(74)【代理人】

【識別番号】100145403

【弁理士】

【氏名又は名称】山尾 憲人

(74)【代理人】

【識別番号】100221501

【弁理士】

【氏名又は名称】式見 真行

(72)【発明者】

【氏名】成 詩宋

(72)【発明者】

【氏名】朱 柏勳

(72)【発明者】

【氏名】張 家誠

(72)【発明者】

【氏名】陳 冠諭

(72)【発明者】

【氏名】段 宏翰

(72)【発明者】

【氏名】張 仕琳

(72)【発明者】

【氏名】朱 伯恩

【テーマコード（参考）】

2H148

2K009

【Ｆターム（参考）】

2H148CA04

2H148CA05

2H148CA12

2H148CA13

2H148CA23

2H148CA24

2H148CA27

2K009AA04

2K009AA15

2K009CC03

(57)【要約】      （修正有）

【課題】フィルターに特定の近赤外線吸収層を設置することにより、近赤外線を効率よく吸収させ、可視光線透過率に優れており、後加工の負担を軽減することができるフィルターの提供。
【解決手段】基材層２０と前記基材層２０の上にある近赤外線吸収層１０と含むフィルター１であって、前記近赤外線吸収層１０は、銅錯体を含み、前記銅錯体は、銅イオンを供給するために用いられる銅化合物、下記式１で示されるホスホン酸、及び少なくとも１種の式２～式４で示されるリン含有化合物により形成され、前記フィルター１の入射光波長９３０ｎｍ～９５０ｎｍに対するＯＤ値は４超である。

【選択図】図１Ａ

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基材層と、前記基材層の上にある近赤外線吸収層とを含む、フィルターであって、
前記近赤外線吸収層は銅錯体を含み、前記銅錯体は、銅イオンを供給するために用いられる銅化合物、下記式１で示されるホスホン酸、及び少なくとも１種の式２～式４で示されるリン含有化合物により形成され、

（式中、Ｒ、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３は、それぞれ独立して、置換若しくは無置換のＣ_１～Ｃ_１２アルキル又は置換若しくは無置換のＣ_６～Ｃ_１２アリールである。）
前記フィルターの入射光波長９３０ｎｍ～９５０ｎｍに対するＯＤ値は４超である、フィルター。

【請求項2】

前記置換若しくは無置換のＣ_１～Ｃ_１２アルキルは、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、イソブチル、及びｔｅｒｔ－ブチルからなる群より選択され、前記置換若しくは無置換の之Ｃ_６～Ｃ_１２アリールは、フェニル、ナフチル、及びクロロフェニルからなる群より選択される、請求項１に記載のフィルター。

【請求項3】

前記近赤外線吸収層のヘイズは０．４％以下である、請求項１に記載のフィルター。

【請求項4】

前記近赤外線吸収層のＸ線光電子スペクトルは、結合エネルギーが９３０電子ボルト（ｅＶ）～９４０電子ボルトである場合、少なくとも１つのメインピークを有する、請求項１に記載のフィルター。

【請求項5】

前記少なくとも１つのメインピークの１秒あたりのカウント数の値は４５００以上である、請求項４に記載のフィルター。

【請求項6】

入射光波長９４０ｎｍに対するＯＤ値は４．５超である、請求項１に記載のフィルター。

【請求項7】

前記近赤外線吸収層の厚さが２５μｍ～１５０μｍである、請求項１に記載のフィルター。

【請求項8】

前記基材層の材料はガラスであり、前記基材層の厚さは２００μｍ～５００μｍである、請求項１に記載のフィルター。

【請求項9】

前記基材層の前記近赤外線吸収層とは反対側にあるフィルター層をさらに含む、請求項１に記載のフィルター。

【請求項10】

前記フィルター層は第１の吸収染料層及び／又は第２の吸収染料層をさらに含み、前記第１の吸収染料層は近赤外線吸収染料を含み、前記第２の吸収染料層は紫外線染料を含む、請求項９に記載のフィルター。

【請求項11】

前記近赤外線吸収染料は、アゾ化合物、ジイミン化合物、ジチオフェン金属錯体、スクアライン類化合物、シアニン類化合物、及びフタロシアニン（類化合物からなる群より選択される少なくとも１種である、請求項１０に記載のフィルター。

【請求項12】

前記紫外線吸収染料は、アゾメチン類化合物、インドール類化合物、ケトン類化合物、ベンゾイミダゾール類化合物、及びトリアジン類化合物からなる群より選択される少なくとも１種である、請求項１０に記載のフィルター。

【請求項13】

前記第１の吸収染料層及び前記第２の吸収染料層の厚さはそれぞれ、０．５μｍ至～１０μｍであり、前記フィルター層の総厚さは０．５μｍ至～１０μｍである、請求項１０に記載のフィルター。

【請求項14】

前記フィルターの最外側にある少なくとも１つの反射防止層をさらに含む、請求項１に記載のフィルター。

【請求項15】

前記少なくとも１つの反射防止層の材料は、ＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、ＭｇＦ_２、Ａ１_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＡｌＦ_３、Ｂｉ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３、ＬaＦ_３、ＰｂＴｅ、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＳｉＯ、ＳｉＮ、Ｔａ_２Ｏｓ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｒＯ_２及びＮａ_３ＡｌＦ_６から選択される少なくとも１種であり、厚さは０．５μｍ至～１０μｍである、請求項１４に記載のフィルター。

【請求項16】

光学樹脂を材料とする保護層をさらに含む、請求項１４に記載のフィルター。

【請求項17】

前記保護層の厚さは１０μｍ～３０μｍであり、前記保護層は、前記近赤外線吸収層と前記反射防止層との間にある、請求項１６に記載のフィルター。

【請求項18】

総厚さは２２５μｍ～８００μｍである、請求項１に記載のフィルター。

【請求項19】

ヘイズは０．５％以下となる、請求項１に記載のフィルター。

【請求項20】

入射光波長範囲９３０ｎｍ～９５０ｎｍに対する最大透過率は０．０１％以下である、請求項１に記載のフィルター。

【請求項21】

入射光波長範囲９３０ｎｍ～９５０ｎｍに対する最大透過率は０．００５％以下である、請求項２０に記載のフィルター。

【請求項22】

入射光波長範囲４６０ｎｍ～５６０ｎｍに対する最小透過率は８０％以上である、請求項１に記載のフィルター。

【請求項23】

入射光波長範囲４６０ｎｍ～５６０ｎｍに対する最小透過率は８５％以上である、請求項２３に記載のフィルター。

【請求項24】

３５０ｎｍ～８５０ｎｍの波長範囲と重なる通過帯域を有し、前記通過帯域の中心波長は３５０ｎｍ～８５０ｎｍの波長範囲内にある、請求項１に記載のフィルター。

【請求項25】

入射光がそれぞれ０度及び３０度の入射角で前記フィルターに入射されると、前記通過帯域の中心波長がシフトし、そのシフト量は１．４ｎｍ以下である、請求項２４に記載のフィルター。

【請求項26】

入射光がそれぞれ０度及び３５度の入射角で前記フィルターに入射されると、前記通過帯域の中心波長がシフトし、そのシフト量は１．９ｎｍ以下である、請求項２５に記載のフィルター。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、フィルターに関し、特に、銅錯体を含有する近赤外線吸収層を含むフィルターに関する。

【背景技術】

【0002】

近赤外線吸収フィルターは、イメージセンサーなどの光学装置中に広く使用されているが、画像解像度とパターンの光学品質に対する要求が日々高まるにつれ、現在の近赤外線吸収フィルターは、新しい要求に対応できなくなった。したがって、現在、基準が高くなる厳しい要求に応えるために、可視光領域で良好な透過率を有し、かつ近赤外線領域で良好な遮蔽性（すなわち、現在の８～１５％の透過率よりも低い）を有する近赤外線吸収剤の開発が必要となった。

【0003】

一方、現在広く使用されている光学識別素子は、一般的には、近赤外線、特に波長が９４０ｎｍの近赤外線を識別光源としているため、光学識別素子及びイメージセンサーを備える裝置には、イメージセンサーのフィルターで前記識別光源を効果的に遮断する必要がある。

【0004】

吸収型フィルターのフィルター効果は、材料の厚さと依存し、薄いほど光透過率が良くなり、厚いほど光のフィルター効果が大きくなる。公知の技術において、フィルターの上にあるブルーガラスや染料吸収層などの近赤外線遮断能を有する材料の厚さを増やすか、又は反射防止膜などの光学コーティングの枚数及び膜厚を厚くすることで、フィルター効果を向上させる技術的手段が報告されている。しかしながら、携帯性（例えば、軽い、薄い、短い、小さい）がより重視されるようになるため、材料又はコーティングの厚さを増やすことで光学性能を改善する技術的手段は、既に要求を満たしていない。

【0005】

加えて、コーティングの厚さを増やすことでフィルター効果を高めることができるが、コーティングの厚さ及び複雑さが増加するにつれて、材料の加工性及びプロセスの難しさが劣り、かつ損失率も増加する。その結果、コストが増加し、産業上の利用性の減少を招く。コーティングの厚膜化も画質劣化の低減を引き起こし、高解像度の追求という傾向を満たしていない。

【発明の概要】

【0006】

前述した課題に対して、本開示は、基材層と、前記基材層の上にある近赤外線吸収層とを含むフィルターであって、
前記近赤外線吸収層は銅錯体を含み、前記銅錯体は、銅イオンを供給するために用いられる銅化合物、下記式１で示されるホスホン酸、及び少なくとも１種の式２～式４で示されるリン含有化合物により形成され、

（式中、Ｒ、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３は、それぞれ独立して、置換若しくは無置換のＣ_１～Ｃ_１２アルキル又は置換若しくは無置換のＣ_６～Ｃ_１２アリールである。）
前記フィルターの入射光波長９３０ｎｍ～９５０ｎｍに対するＯＤ値は４超である、フィルター、を提供する。

【0007】

一実施形態において、置換若しくは無置換のＣ_１～Ｃ_１２アルキルは、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、イソブチル、及びｔｅｒｔ－ブチルからなる群より選択され、置換若しくは無置換のＣ_６～Ｃ_１２アリールは、フェニル、ナフチル、及びクロロフェニルからなる群より選択される。

【0008】

一実施形態において、近赤外線吸収層のヘイズは０．４％以下となる。

【0009】

一実施形態において、近赤外線吸収層のＸ線光電子スペクトルは、結合エネルギー（ｂｉｎｄｉｎｇ ｅｎｅｒｇｙ）が９３０電子ボルト（ｅＶ）～９４０電子ボルトである場合、少なくとも１つのメインピークを有する。他の実施形態において、Ｘ線光電子スペクトルにおける少なくとも１つのメインピークの１秒あたりのカウント数（ｃｏｕｎｔｓ ｐｅｒ ｓｅｃｏｎｄ）値は４５００以上である。

【0010】

一実施形態において、近赤外線吸収層の厚さは２５μｍ～１５０μｍである。

【0011】

一実施形態において、フィルターの入射光波長９４０ｎｍに対するＯＤ値は４．５超である。

【0012】

一実施形態において、近赤外線吸収層復は光学樹脂をさらに含み、光学樹脂中に銅錯体が分散される。一実施形態において、光学樹脂は、熱可塑性樹脂及び／又は光硬化樹脂である。一実施形態において、光学樹脂は、ポリカーボネート類、ポリエステル類、ポリシクロオレフィン類、ポリアクリル酸類、シロキサン樹脂、及びポリイミド類から選択される。

【0013】

一実施形態において、フィルターは、基材層の近赤外線吸収層とは反対側にあるフィルター層をさらに含む。

【0014】

一実施形態において、フィルターは、基材層の近赤外線吸収層とは反対側にあるフィルター層をさらに含む。

【0015】

一実施形態において、フィルター層は第１の吸収染料層及び／又は第２の吸収染料層をさらに含み、第１の吸収染料層は近赤外線吸収染料を含み、第２の吸収染料層は紫外線染料を含む。

【0016】

一実施形態において、近赤外線吸収染料は、アゾ化合物、ジイミン化合物、ジチオフェン金属錯体、スクアライン（ｓｑｕａｒａｉｎｅ）類化合物、シアニン（ｃｙａｎｉｎｅ）類化合物、及びフタロシアニン（ｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅ）類化合物からなる群より選択される少なくとも１種である。

【0017】

一実施形態において、紫外線吸収染料は、アゾメチン類化合物、インドール類化合物、ケトン類化合物、ベンゾイミダゾール類化合物、及びトリアジン類化合物からなる群より選択される少なくとも１種である。

【0018】

一実施形態において、第１の吸収染料層及び前記第２の吸収染料層の厚さはそれぞれ、０．５μｍ至～１０μｍであり、前記フィルター層の総厚さは０．５μｍ至～１０μｍである。

【0019】

一実施形態において、フィルターは、フィルターの最外側にある少なくとも１つの反射防止層をさらに含む。

【0020】

一実施形態において、少なくとも１つの反射防止層の材料は、ＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、ＭｇＦ_２、Ａ１_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＡｌＦ_３、Ｂｉ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３、ＬaＦ_３、ＰｂＴｅ、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＳｉＯ、ＳｉＮ、Ｔａ_２Ｏｓ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｒＯ_２及びＮａ_３ＡｌＦ_６から選択される少なくとも１種であり、厚さは０．５μｍ至～１０μｍである。

【0021】

一実施形態において、フィルターは保護層をさらに含み、保護層の材料は光学樹脂である。

【0022】

一実施形態において、保護層の厚さは１０μｍ～３０μｍであり、保護層は、近赤外線吸収層と反射防止層との間にある。

【0023】

一実施形態において、フィルターの総厚さは、２２５μｍ～８００μｍである。

【0024】

一実施形態において、フィルターは３５０ｎｍ～８５０ｎｍの波長範囲と重なる通過帯域を有し、通過帯域の中心波長は３５０ｎｍ～８５０ｎｍの波長範囲内にある。

【0025】

一実施形態において、フィルターのヘイズは０．５％以下である。

【0026】

一実施形態において、フィルターは、入射光波長範囲９３０ｎｍ～９５０ｎｍに対する最大透過率は０．０１％以下であり、入射光波長範囲９３０ｎｍ～９５０ｎｍに対する最大透過率は０．００５％以下、入射光波長範囲４６０ｎｍ～５６０ｎｍに対する最小透過率は８０％以上であり、入射光波長範囲４６０ｎｍ～５６０ｎｍに対する最小透過率は８５％以上である。

【0027】

一実施形態において、入射光がそれぞれ０度及び３０度の入射角でフィルターに入射されると、フィルターの通過帯域の中心波長がシフトし、そのシフト量は１．４ｎｍ以下である。入射光がそれぞれ０度及び３５度の入射角でフィルターに入射されると、フィルターの通過帯域の中心波長がシフトし、そのシフト量は１．９ｎｍ以下である。

【0028】

本開示のフィルターは、それに特定の近赤外線吸収層を設置することにより、波長８００ｎｍ～１１００ｎｍの入射光を効率よく吸収することができ、特に、波長９４０ｎｍの入射光を良好に吸収するとともに、可視光に対して高透過率を示す。したがって、本開示は、製品の厚さ、コーティングの厚さ及び複雑さを増やすことなく、優れた近赤外線遮断効果を実現するとともに、高い可視光線透過率を維持する。

【図面の簡単な説明】

【0029】

【図1A】図１Ａは、本開示のフィルターの構造の概略図である。

【図1B】図１Ｂは、本開示のフィルターの構造の概略図である。

【図1C】図１Ｃは、本開示のフィルターの構造の概略図である。

【図2】図２は、本開示のフィルターの構造の概略図である。

【図3】図３は、本開示のフィルターの構造の概略図である。

【図4】図４は、本開示のフィルターの構造の概略図である。

【図5】図５は、製造例１における近赤外線吸収層のＸ線光電子スペクトルである。

【図6】図６は、製造例１における第一のフィルター層及び第二フィルター層の透過率グラフである。

【図7】図７は、ＡＦ３２ガラスの透過率グラフ、並びに製造例１におけるフィルター層及び近赤外線吸収層の透過率グラフである。

【図8】図８は、製造例１における基材層、基材層＋フィルター層及び基材層＋近赤外線吸収層＋フィルター層等の３つの形態の透過率グラフである。

【図9】図９は、実施例１と比較例１のフィルターの透過率グラフである。

【図10】図１０は、実施例２と比較例１のフィルターの透過率グラフである。

【図11】図１１は、実施例３と比較例１のフィルターの透過率グラフである。

【図12】図１２は、実施例４と比較例１のフィルターの透過率グラフである。

【図13】図１３は、実施例１～４のフィルターの入射光波長９３０ｎｍ～９５０ｎｍに対するＯＤ値グラフである。

【図14】図１４は、それぞれ０度、３０度、３５度の入射角度で実施例１のフィルターを入射する場合の透過率グラフである。

【図15】図１５は、それぞれ０度、３０度、３５度の入射角度で実施例３のフィルターを入射する場合の透過率グラフである。

【発明を実施するための形態】

【0030】

以下、特定の具体的な実施例により、本開示の実施形態を説明する。当業者であれば、本明細書に記載の内容に基づき本開示の範囲及び効果を容易に理解することができる。

【0031】

ただし、本明細書に添付された図面に示される構造、比率、サイズ等は、明細書の記載内容に合わせて、当業者に理解や閲覧させるためのものであり、本開示の実施可能の条件を限定するものではないため、技術上の実質的な意義を有せず、あらゆる構造的修飾、比率の変更、又はサイズの調整は、本開示によって得られる効果及び達成できる目的に影響を与えないに限り、いずれも、本開示で開示する技術内容の範囲内に含まれているとすべきである。同時に、本明細書において使用される「上」、「第１の」、「第２の」等の用語は、説明の便宜上のみに用いられるものであり、本開示の範囲を限定するものではないため、技術内容に実質的な変更がない限り、それらの相対関係の変更や調整も、本開示が実施できる範囲内にあるものとみなすべきである。

【0032】

本明細書において、特定の要件を「含む」、「包含する」又は「有する」と記載されている場合、他に記載がない限り、他の部品、成分、構造、エリア、部位、装置、システム、工程又は接続関係などの要件を含んでもよく、かかる他の要件を排除するものではない。

【0033】

本明細書において他に明確な記載がない限り、本明細書における前記の単数の形式の「一つ」及び「当該」は、複数の形式も含み、また、本明細書における前記の「又は」及び「及び／又は」は、交換可能に使用されている。

【0034】

本明細書に記載の数値範囲は、包含的にかつ合併できるものである。本明細書に記載の範囲内に含まれる任意の数値は、すべて最小値または最大値としてさらなる範囲を導き出すことができる。例えば、「２５～２００」の数値範囲は、端点である２５と端点である２００との間の任意のさらなる範囲（例えば、２５～１５０、３０～２００、３０～１５０…等のさらなる範囲）を包含すると理解すべきである。なお、ある数値が本明細書に記載の各範囲内（例えば、最大値と最小値との間）にある場合、本開示の範囲に含まれるものとみなすべきである。

【0035】

本開示は、主にフィルターを提供する。具体的には、本開示のフィルターは、基材層と前記基材層の上にある近赤外線吸収層とを含む。

【0036】

本開示の近赤外線吸収層は、近赤外線組成物から調製され得る。前記近赤外線組成物は、銅化合物、ホスホン酸及びリン含有化合物を含み得る。

【0037】

前記銅化合物は、主に銅イオンの供給源として用いられ、公知の二価銅イオン（Ｃｕ^２＋）を供給できる銅化合物、例えば、銅塩を使用することができる。例としては、酢酸銅又は酢酸銅の水和物が挙げられ、また、塩化銅、ギ酸銅、ステアリン酸銅、安息香酸銅、ピロリン酸銅、ナフテン酸銅、クエン酸銅の無水物又は水和物が挙げられる。一実施形態において、銅化合物は、酢酸銅である。

【0038】

前記ホスホン酸は、下記式１で示され、

式中、Ｒは、置換若しくは無置換のＣ_１～Ｃ_１２アルキル又は置換若しくは無置換のＣ_６～Ｃ_１２アリールである。

【0039】

前記アルキルは、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル等を含むが、これらに限られない。また、置換されたアルキルは、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、ニトロアルキル、アルコキシアルキル等を含むが、これらに限られない。前記アリールは、フェニル、ナフチル等を含むが、これらに限られない。また、置換されたアリールは、ハロアリール（例えば、クロロフェニル）、ニトロアリール、ヒドロキシアリール、アルコキシアリール、アルキルアリール、ハロアルキルアリール、ニトロアルキルアリール、ヒドロキシアルキルアリールを含むが、これらに限られない。一実施形態において、ホスホン酸は、ブチルホスホン酸である。

【0040】

前記リン含有化合物は、下記式２～式４で示され、

式中、Ｒ、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３は、それぞれ独立して、置換若しくは無置換のＣ_１～Ｃ_１２アルキル又はＣ_６～Ｃ_１２アリールであり、それらの定義は、式１のＲと同様である。

【0041】

リン含有化合物は、分散機能を有してもよく、組成物中の成分（形成された銅錯体）を互いに凝集せず均一に分散させる。この機能による効果の１つとして、組成物中の結晶子サイズが１００ｎｍ以下、さらに５ｎｍ～８０ｎｍの間、又は２０ｎｍ～６０ｎｍの間とにあり、例えば、５、１０、１５、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０、６０、７０、８０、９０、１００ｎｍとなり得る。結晶子サイズが５ｎｍ以上である場合、十分な近赤外線吸収特性を示す一方で、結晶子サイズが１００ｎｍ以下である場合、凝集粒径の平均粒子数が小さく、近赤外線吸収組成物を用いて製造された製品のヘイズが低くなる。本開示において、近赤外線吸収組成物を調製するために、少なくとも１種の式２～式４で示されるリン含有化合物が使用される。

【0042】

近赤外線吸収組成物中の銅化合物、ホスホン酸及びリン含有化合物は、必要に応じてそれらの比調整することができる。例えば、近赤外線吸収組成物には、銅化合物の量は１５０質量部であってもよく、その例としては、１、５、１０、１５、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０、５５、６０、６５、７０、７５、８０、８５、９０、９５、１００、１０５、１１０、１１５、１２０、１２５、１３０、１３５、１４０、１４５又は１５０質量部が挙げられ、ホスホン酸の量は１００質量部であってもよく、その例としては、１、５、１０、１５、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０、５５、６０、６５、７０、７５、８０、８５、９０、９５、又は１００質量部が挙げられ、リン含有化合物の合計の量は１～９０質量部であってもよく、その例としては、１、５、１０、１５、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０、５５、６０、６５、７０、７５、８０、８５又は９０質量部が挙げられる。

【0043】

一実施形態において、本開示の近赤外線吸収組成物は、式２～式４で示されるリン含有化合物を全て含み、必要に応じて、それらの比を調整することができる。例えば、近赤外線吸収組成物には、式２で示されるリン含有化合物の量は１～９０質量部であってもよく、式３で示されるリン含有化合物の量は１～９０質量部であってもよく、式４で示されるリン含有化合物の量は１～９０質量部であってもよく、そのうち、式２～式４で示されるリン含有化合物のそれぞれの量としては、、１、５、１０、１５、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０、５５、６０、６５、７０、７５、８０、８５又は９０質量部が挙げられる。他の実施形態において、式２で示されるリン含有化合物：式３で示されるリン含有化合物：式４で示されるリン含有化合物は、２０：２０：５０である。

【0044】

一実施形態において、本開示の近赤外線吸収組成物は、分散液形態であってもよく、すなわち、前記銅化合物、ホスホン酸及びリン含有化合物のほかにさらに溶媒を含む。調製の際に、銅化合物、ホスホン酸及びリン含有化合物を溶媒中に添加して混合することができ、これらの成分と溶媒との比は１：５～１：１であり、例えば、１：３であってもよいが、これらに限られない。

【0045】

前記溶媒は、公知の溶媒を選択してもよく、水、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン等を含むが、これらに限られない。具体的には、前記アルコール類は、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール等である。前記エステル類は、例えば、ギ酸アルキル、酢酸アルキル、プロピオン酸アルキル、酪酸アルキル、乳酸アルキル、アルコキシ酢酸アルキル、プロピオン酸３－アルコキシアルキル、プロピオン酸２－アルコキシアルキル、２－アルコキシ－２－メチルプロピオン酸アルキル、ピルビン酸アルキル、アセト酢酸アルキル、２－オキソ酪酸アルキル等である。前記エーテル類は、例として、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート等が挙げられる。前記ケトン類は、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン等である。前記芳香族炭化水素類は、例えば、トルエン、キシレン等である。

【0046】

前記混和とは、例えば、室温（例えば、２５℃)下でよく攪拌し、例えば、４時間以上、６時間以上、８時間以上攪拌することであるが、これらに限られない。

【0047】

近赤外線吸収組成物中の各成分は、相互作用し、反応して、銅錯体を形成する。前記銅錯体は、化学式Ｃｕ^２＋Ｘで表され、式中、Ｃｕ^２＋は銅化合物から供給され、Ｘはホスホン酸及び／又はリン含有化合物から供給される。

【0048】

一実施形態において、近赤外線吸収組成物は、さらに塗布液形態であってもよい。具体的には、前記分散液形態の近赤外線吸収組成物と光学樹脂とを混合して塗布液を形成することができ、前記分散液と光学樹脂との比は、５：１～１：１又は３：１～１：１であり、例えば、０．６５：０．３５であってもよいが、これらに限られない。塗布液形態の近赤外線吸収組成物を使用するとき、これを基材の上に形成し、乾燥・硬化させて、近赤外線吸収層を形成する。

【0049】

前記光学樹脂は、熱可塑性樹脂及び／又は光硬化性樹脂であってもよい。一実施形態において、光学樹脂は、ポリカーボネート類、ポリエステル類、ポリシクロオレフィンポリマー類、ポリアクリル酸類、シロキサン樹脂及びポリイミド類から選択される。一実施形態において、光学樹脂は、シロキサン樹脂である。

【0050】

なお、硬化プロセスを行うために、硬化劑、例えば、光硬化劑をさらに添加することにより、光照射により硬化して膜を形成することができる。

【0051】

一実施形態において、本開示の近赤外線吸収層のヘイズは、０．４％以下、０．３％又は０．２％以下であり、例えば、０．４％、０．３５％、０．３％、０．２５％、０．２％、０．１９％、０．１８％、０．１７％、０．１６％、０．１５％、０．１４％、０．１３％、０．１２％、０．１１％又は０．１％である。

【0052】

近赤外線吸収層の厚さも、近赤外線吸収特性に影響を与える。一般的には、近赤外線吸収層の厚さが増加すると、近赤外線遮断能も増加するが、それは薄型化の要求を満たさない。一方、近赤外線吸収層の厚さが低減すると、近赤外線遮断能も低減する。一実施形態において、本開示の近赤外線吸収層は、厚さが小さい場合であっても、優れた近赤外線遮断能を実現することができ、具体的には、近赤外線吸収層の厚さは、２５μｍ～１５０μｍの間、５０μｍ～１５０μｍの間、又は１００μｍ～１５０μｍの間にあり、例えば、２５μｍ、３０μｍ、３５μｍ、４０μｍ、４５μｍ、５０μｍ、６０μｍ、７０μｍ、８０μｍ、９０μｍ、１００μｍ、１１０μｍ、１２０μｍ、１２５μｍ、１３０μｍ、１３５μｍ、１４０μｍ、１４５μｍ、１４６μｍ、１４７μｍ又は１５０μｍである。

【0053】

一実施形態において、本開示の近赤外線吸収層のＸ線光電子スペクトルは、結合エネルギーが９３０電子ボルト～９４０電子ボルトである場合、少なくとも１つのメインピークを有する。一実施形態において、少なくとも１つのメインピークの１秒あたりのカウント数数は、４５００以上、４６００以上、４７００以上、４８００以上、４９００以上又は５０００以上である。

【0054】

一実施形態において、本開示の近赤外線吸収層の入射光波長範囲９３０ｎｍ～９５０ｎｍ（９４０ｎｍ入射光を含む）に対する最大透過率は、０．１％以下、０．１％未満、０．０５％以下、０．０５％未満、０．０１％以下、０．０１％未満、０．０００５以下又は０．００５％未満であり、例えば、０．１％、０．０９％、０．０８％、０．０７％、０．０６％、０．０５％、０．０４％、０．０３％、０．０２％、０．０１％、０．００９％、０．００８％、０．００７％、０．００６％、０．００５％、０．００４％、０．００３％、０．００２％、０．００１％である。一方、入射光波長９３０ｎｍ～９５０ｎｍ（９４０ｎｍの入射光を含む）に対するＯＤ値は、３以上、３超、３．５以上、３．５超、４以上、４超、４．５以上、又は４．５超であり、例えば、３、３．１、３．２、３．３、３．４、３．５、３．６、３．７、３．８、３．９、４、４．１、４．２、４．３、４．４、４．５、４．６、４．７、４．８、４．９である。一実施形態において、本開示の近赤外線吸収層の入射光波長範囲４６０ｎｍ～５６０ｎｍに対する最小透過率は、８０％以上又は８５％以上であり、例えば、８０％、８１％、８２％、８３％、８４％、８５％、８６％、８７％、８８％、８９％又は９０％である。

【0055】

一実施形態において、本開示の近赤外線吸収層は、３５０ｎｍ～８５０ｎｍ、３５０ｎｍ～８００ｎｍ、又は３５０ｎｍ～７５０ｎｍの波長範囲と重なる通過帯域を有し、当該通過帯域の中心波長は、３５０ｎｍ～８５０ｎｍ、３５０ｎｍ～８００ｎｍ、３５０ｎｍ～７５０ｎｍ、４００ｎｍ～７００ｎｍ、４５０ｎｍ～６５０ｎｍ、５００ｎｍ～６００ｎｍ、又は５００ｎｍ～５５０ｎｍの波長範囲内にある。本明細書において、前記「通過帯域」とは、波長範囲内の入射光に対する透過率がいずれも５０％以上のドメインを指し、前記「通過帯域の中心波長」とは、入射光に対する透過率が５０％となる場合の２つの入射光の波長の平均値を指す。

【0056】

一実施形態において、基材層は、近赤外線吸収層を支持するために使用することができ、また、近赤外線吸収層のろ過効果を補助するために使用することができ、フィルターの光学性能をより向上させ、例えば、近赤外線や紫外線遮断効果をさらに向上させる。前記基材層はガラス、例えば、透明ガラス（ＡＦ３２ガラスなど）又はブルーガラスであってもよく、ブルーガラスを選択すると、基材層は、近赤外線遮断効果を示すことができる。前記ブルーガラス、例えば、リン酸塩ガラスは、例えば、メタリン酸塩化合物、炭酸塩化合物、金属酸化物、及び金属フッ化物などの材料から形成されたブルーガラスである。ここで、当該メタリン酸塩化合物は、メタリン酸アルミニウム、メタリン酸マグネシウム、メタリン酸リチウム、メタリン酸亜鉛、及びメタリン酸カルシウムを含むが、これらに限られない。当該炭酸塩化合物は、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、及び炭酸ストロンチウムを含むが、これらに限られない。当該金属酸化物は、酸化銅、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、及び酸化マグネシウムを含むが、これらに限られない。当該金属フッ化物は、フッ化アルミニウム、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化バリウム、及びフッ化亜鉛を含むが、これらに限られない。ガラス原料を均一に混合してるつぼに入れ、さらにつぼを大気雰囲気又は還元雰囲気の炉内に入れ、温度を７００℃～１０００℃の間にすることにより均質化したガラスを得ることができる。

【0057】

一実施形態において、基材層は、ブルーガラスであり、そのうち、リン／（アルミニウム＋ランタン＋ニオブ＋イットリウム）のモル比は１．５～１６であってもよく、フッ素／（フッ素＋酸素）のモル比は０．０１～０．２であってもよい。一実施形態において、ブルーガラス中のリン元素は３５～５５モル％、アルミニウム元素は３．５～１５モル％、アルカリ金属元素は１５～２５モル％、アルカリ土類金属と二価金属は１０～３５モル％、銅元素は１０～２１モル％、ランタンとニオブとイットリウム元素の合計は０～７モル％を占め、かつ銅／リンのモル比は０．２５～０．７であり、フッ素／（フッ素＋酸素）のモル比は０．０１～０．２である。

【0058】

一実施形態において、基材層の厚さは、２００μｍ～５００μｍの間、２００μｍ～４００μｍの間又は２００μｍ～３００μｍの間にあり、例えば、２００μｍ、２２５μｍ、２５０μｍ、２７５μｍ、３００μｍ、３２５μｍ、３５０μｍ、３７５μｍ、４００μｍ、４２５μｍ、４５０μｍ、４７５μｍ又は５００μｍである。

【0059】

本開示のフィルター中の各層の配置順は限定されず、例えば、図１Ａに示すように、フィルター１は、近赤外線吸収層１０及び基材層２０を含み、近赤外線吸収層１０は、基材層２０の上にある。

【0060】

一実施形態において、本開示のフィルターはフィルター層をさらに含む。一実施形態において、フィルター層がフィルター中にある位置は限定されず、例えば、図１Ａに示すように、フィルター層３０は、基材層２０の近赤外線吸収層１０とは反対側にあり、すなわち、近赤外線吸収層１０とフィルター層３０は、それぞれ基材層２０の両側にある。他の実施形態において、図３に示すように、フィルター１”中のフィルター層３０は、近赤外線吸収層１０と基材層２０との間にあってもよい。また、図４に示すように、フィルター１”’中の近赤外線吸収層１０は、フィルター層３０と基材層２０との間にあってもよい。

【0061】

前記フィルター層は、近赤外線吸収層が優れた光学性能を発揮するために使用され、例えば、近赤外線や紫外線遮断効果をさらに向上させる。一実施形態において、フィルター層は、第１の吸収染料層及び第２の吸収染料層を含むことができ、それぞれが近赤外線吸収染料及び紫外線吸収染料を含む。図１Ｂ及び１Ｃに示すように、フィルター１中のフィルター層３０は、具体的には、第１の吸収染料層３１及び第２の吸収染料層３２の二重層構造であり、また、図１Ｂと１Ｃの相違点は、第１の吸収染料層３１及び第２の吸収染料層３２の配置順のみである。

【0062】

前記フィルター層は、透明の樹脂材料を含んでもよく、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアクリレート、ポリオレフィン、ポリカーボネート、多環オレフィン、及びポリビニルブチラールから選択されるものを含んでもよいが、これらに限られず、樹脂材料は、フィルター層塗布液のベースとしてもよい。

【0063】

前記近赤外線吸収染料、例えば、アゾ化合物、ジイミン化合物、ジチオフェン金属錯体、スクアライン（ｓｑｕａｒａｉｎｅ）類化合物、シアニン（ｃｙａｎｉｎｅ）類化合物や、フタロシアニン（ｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅ）類化合物は、最大吸収波長を６５０～１１００ｎｍ、又はより具体的には６５０～７５０ｎｍの間に調整することができる。前記紫外線吸収染料は、例えば、アゾメチン類化合物、インドール類化合物、ケトン類化合物、ベンゾイミダゾール類化合物、及びトリアジン類化合物である。

【0064】

一実施形態において、フィルター層の厚さは、０．５μｍ～１０μｍであり、例えば、０．５μｍ、１μｍ、２μｍ、３μｍ、４μｍ、５μｍ、６μｍ、７μｍ、８μｍ、９μｍ又は１０μｍである。フィルター層が多層構造、例えば、第１の吸収染料層及び第２の吸収染料層の二重層構造である場合、各層の厚さは、それぞれ０．５μｍ～１０μｍであり、例えば、０．５μｍ、１μｍ、２μｍ、３μｍ、４μｍ、５μｍ、６μｍ、７μｍ、８μｍ、９μｍ又は１０μｍである。

【0065】

一実施形態において、本開示のフィルターは、フィルターの最外側にある少なくとも１つの反射防止層をさらに含む。図２に示すように、反射防止層４０は、フィルター1’の両面の最外側にある。

【0066】

一実施形態において、反射防止層は、ＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、ＭｇＦ_２、Ａ１_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＡｌＦ_３、Ｂｉ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３、ＬaＦ_３、ＰｂＴｅ、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＳｉＯ、ＳｉＮ、Ｔａ_２Ｏｓ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｒＯ_２及びＮａ_３ＡｌＦ_６から選択される少なくとも１種の材質から形成されたコーティングである。一実施形態において、反射防止層は、ＴｉＯ_２層とＳｉＯ_２層を交互に積層してなる。

【0067】

一実施形態において、反射防止層の厚さは、０．５μｍ～１０μｍであり、例えば、０．５μｍ、１μｍ、２μｍ、３μｍ、４μｍ、５μｍ、６μｍ、７μｍ、８μｍ、９μｍ又は１０μｍである。

【0068】

一実施形態において、本開示のフィルターは保護層をさらに含み、保護層の材料は光学樹脂である。ここでの光学樹脂は、前述した、塗布液形態となる近赤外線吸収組成物に使用される光学樹脂を参照ください。

【0069】

一実施形態において、保護層の厚さは、１０μｍ～３０μｍであり、例えば、１０μｍ、１５μｍ、２０μｍ、２５μｍ又は３０μｍである。一実施形態において、保護層は、近赤外線吸収層の上にあるか、又は近赤外線吸収層とそれをカバーする層との間にある。図２に示すように、保護層１２は、近赤外線吸収層１０と反射防止層４０との間にある。保護層は、近赤外線吸収層を保護するために用いられ、なぜなら、近赤外線吸収層の材質が柔らかいため、その上に後加工を直接に施すと、近赤外線吸収層の表面に傷がつきやすく、ひいては近赤外線吸収層の剥離を引き起こすことがある。したがって、あらかじめ近赤外線吸収層の上に保護層を形成することにより、破損を防ぐことができる。

【0070】

一実施形態において、本開示のフィルターは、近赤外線吸収膜と基材層との間にある粘着層をさらに含む。図２に示すように、粘着層１１は、近赤外線吸収層１０と基材層２０との間にある。粘着層は、本技術分野において公知されている２つの隣接する層を粘着するための材料であってもよく、例えば、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）を使用してもよい。粘着層は、近赤外線吸収層がある条件下で基材層から剥離することを防ぐために使用され、それにより、フィルターの安定性を向上させる。

【0071】

一実施形態において、本開示のフィルターは、基材層、近赤外線吸収層、フィルター層、粘着層、保護層及び反射防止層を含む。図２に示すように、本開示のフィルター１’は、基材層２０、基材層２０の一方の面にある近赤外線吸収層１０、基材層２０と近赤外線吸収層との間にある粘着層１１、基材層２０のもう一方の面にあるフィルター層３０、近赤外線吸収層１０の上にある保護層１２、及びフィルターの両面の最外側にある反射防止層４０を含む。

【0072】

一実施形態において、本開示のフィルターの総厚さは、約２２５μｍ～約８００μｍ、約２５０μｍ～約５００μｍ又は約３００μｍ～約５００μｍであり、例えば、約２２５μｍ、約２５０μｍ、約２７５μｍ、約３００μｍ、約３２５μｍ、約３５０μｍ、約３７５μｍ、約４００μｍ、約４２５μｍ、約４５０μｍ、約４７５μｍ、約５００μｍ、約５５０μｍ、約６００μｍ、約６５０μｍ、約７００μｍ、約７５０μｍ又は約８００μｍである。

【0073】

一実施形態において、本開示のフィルターのヘイズは、０．５％以下、０．４％又は０．３％以下であり、例えば、０．５％、０．４５％、０．４％、０．３５％、０．３％、０．２５％、０．２％、０．１９％、０．１８％、０．１７％、０．１６％、０．１５％、０．１４％、０．１３％、０．１２％、０．１１％又は０．１％である。

【0074】

一実施形態において、本開示のフィルターの入射光波長範囲９３０ｎｍ～９５０ｎｍ（９４０ｎｍの入射光を含む）に対する最大透過率は、０．０１％以下、０．０１％未満、０．００５％以下、又は０．００５％未満であり、例えば、０．０１％、０．００９％、０．００８％、０．００７％、０．００６％、０．００５％、０．００４％、０．００３％、０．００２％、０．００１％であり；一方、入射光波長範囲９３０ｎｍ～９５０ｎｍ（９４０ｎｍの入射光を含む）に対するＯＤ値は、４以上、４超、４．５以上、４．５超、４．８以上、又は４．８超であり、例えば、４、４．０１、４．１、４．２、４．３、４．４、４．５、４．５１、４．６、４．７、４．８、４．８１、４．９である。一実施形態において、本開示のフィルターの、入射光波長範囲４６０ｎｍ～５６０ｎｍに対する最小透過率は、８０％以上又は８５％以上であり、例えば、８０％、８１％、８２％、８３％、８４％、８５％、８６％、８７％、８８％、８９％、９０％である。

【0075】

一実施形態において、本開示のフィルターは、３５０ｎｍ～８５０ｎｍ、３５０ｎｍ～８００ｎｍ、又は３５０ｎｍ～７５０ｎｍの波長範囲と重なる通過帯域を有し、当該通過帯域の中心波長は、３５０ｎｍ～８５０ｎｍ、３５０ｎｍ～８００ｎｍ、３５０ｎｍ～７５０ｎｍ、４００ｎｍ～７００ｎｍ、４５０ｎｍ～６５０ｎｍ、５００ｎｍ～６００ｎｍ、又は５００ｎｍ～５５０ｎｍの波長範囲内にある。

【0076】

一実施形態において、入射光がそれぞれ０度及び３０度の入射角で本開示のフィルターに入射されると、通過帯域の中心波長がシフトし、そのシフト量は、１．４ｎｍ以下であり、例えば、１．４ｎｍ、１．３ｎｍ、１．２ｎｍ又は１．１ｎｍである。一実施形態において、入射光がそれぞれ０度及び３５度の入射角で本開示のフィルターに入射されると、通過帯域の中心波長がシフトし、そのシフト量は、１．９ｎｍ以下であり、例えば、１．９ｎｍ、１．８ｎｍ又は１．７ｎｍである。

【0077】

本開示は、以下の具体的な実施例を参照して詳細をさらに説明するが、これらの具体的な実施例は、決本開示の範囲を制限することは意図していない。

【0078】

製造例１
近赤外線吸収層
１５０質量部の酢酸銅と１５０００質量部のエタノールと混合し、室温下で１．５時間攪拌し、第１の混合液を形成した。別途で２０質量部の式２で示されるリン含有化合物（ｐｌｙｓｕｒｆ Ａ２４２Ｇ、日本第一工業製薬株式会社から購入）、２０質量部の式３で示されるリン含有化合物（ｐｌｙｓｕｒｆ Ｗ５４２Ｃ、日本第一工業製薬株式会社から購入）、及び５０質量部の式４で示される含有化合物（ｐｌｙｓｕｒｆ Ａ２８５Ｃ、日本第一工業製薬株式会社から購入）と、１５００質量部のエタノールとを混合し、第２の混合液を形成した。前記の第１の混合液と前記の第２の混合液とを混合し、室温下で１時間攪拌し、続いて１００質量部のブチルホスホン酸を添加し、室温下で３時間攪拌して反応させた。その後、８５℃のオーブンに入れて１２時間放置し、粉末を得た。粉末とキシレンを質量比１：３で混合して分散液を形成し、また、当該分散液と光学樹脂を質量比０．６５：０．３５で混合して塗布液を形成し、それを基材の上に塗布し、７０℃の温度で３０分間焼き、近赤外線吸収層を得た。近赤外線吸収層の透過率グラフは、図７に示されている。

【0079】

前述した近赤外線吸収層に対してＸ線光電子分光法（ＥＳＣＡ／ＸＰＳ）により解析を行った。そのＸ線光電子スペクトルは、図５に示されている。結合エネルギーが９３０ｅＶ～９４０ｅＶである場合、銅錯体に関連する特徴的なピーク（Ｃｕ（ＰＯ_ｘ）_ｙ、ＣｕＯ、Ｃｕ_２Ｏ、Ｃｕ（ＯＨ）_２）が観察されている。なお、結合エネルギーが９４０ｅＶ以上である場合に現れるピークは、サテライトピーク（ｓａｔｅｌｌｉｔｅ ｐｅａｋ）である。

【0080】

フィルター層
０．０２ｇのスクアライン類化合物及びシアニン類化合物を赤外線吸収染料として５ｇのエポキシ樹脂に添加し、基材の上に塗布し、７０℃の温度で３０分間ベーキングし、第１の吸収染料層を得た。０．０２ｇのトリアジン類化合物を紫外線吸収染料として５ｇのエポキシ樹脂に添加し、基材の上に塗布し、７０℃の温度で３０分間ベーキングし、第２の吸収染料層を得た。

【0081】

前述した第１の吸収染料層及び第２の吸収染料層の透過率グラフは、図６に示されている。

【0082】

加えて、前述した基材の上に第１の吸収染料層を形成し、続いて第１の吸収染料層の上に第２の吸収染料層をさらに形成することにより、二重層構造を有するフィルター層を形成した。その透過率グラフは、図７に示されている。

【0083】

製造例２
本明細書の記載に基づいて、ブルーガラスを基材層とする。次に、ブルーガラス基材層の一方の面に、製造例１に記載の方法に基づいてフィルター層を形成した。次に、ブルーガラス基材層のもう一方の面に、同じく製造例１に記載の方法に基づいて近赤外線吸収層を形成した。前述した基材層、基材層＋フィルター層の二重層構造、及び基材層＋近赤外線吸収層＋フィルター層の三重層構造の透過率グラフは、図８に示されている。結果を見てから、基材層＋フィルター層の二重層構造を有するフィルターのみは、近赤外線入射光に対する遮断効果が足りないことが分かった。これに対して、基材層＋近赤外線吸収層＋フィルター層の三重層構造を有するフィルターは、近赤外線入射光、特に８５０ｎｍ以上の入射光に対して、優れた遮断効果を示すことができる。これにより、近赤外線吸収層により、本開示の基材層＋近赤外線吸収層は、近赤外線遮断効果を大幅に改善し、かつ可視光域で高い透過率を維持することができる。

【0084】

実施例１
実施例１のフィルター中の各層の構造配置は、図２に示すように、基材層は厚さ２００μｍのブルーガラスであり、粘着層は厚さ６０μｍのヘキサメチルジシラザンであり、近赤外線吸収層は、製造例１に記載の方法に基づいて調製され、厚さが１４５．４４μｍであり、保護層は厚さ２０μｍの光学樹脂であり、フィルター層は、製造例１に記載の方法に基づいて調製され、厚さが５μｍであり、反射防止層は、ＴｉＯ_２層とＳｉＯ_２層を交互に積層してなり、総厚さが１μｍである。

【0085】

実施例２～４及び比較例１
実施例１の方法に基づいてフィルターを調製するが、近赤外線吸収層の厚さを１４６．２２μｍ、１４７．４４μｍ及び１４６．６３μｍに変更し、実施例２～４とする。また、実施例１の方法に基づいてフィルターを調製するが、近赤外線吸収層の厚さを１６５．１１μｍに変更し、比較例１とする。

【0086】

前述した実施例１～４及び比較例１の透過率グラフは、図９～１２に示されており、透過率データは下記表１に示されている。

【0087】

【表1】

【0088】

これらの結果に基づいて、本開示のフィルターは、入射光波長９３０ｎｍ～９５０ｎｍに対して極めて高い遮断能を有し、ＯＤ値４．５以上にも達する。本開示のフィルターの入射光波長９３０ｎｍ～９５０ｎｍに対するＯＤ値をさらに表すために、透過率グラフ及びそのデータに基づき図１３を作成し、それを実施例１～４のフィルターの波長９３０ｎｍ～９５０ｎｍに対するＯＤ値グラフとする。一方、本開示のフィルターは、可視光線に対して優れた透過性を有し、３５０ｎｍ～８５０ｎｍの波長範囲と重なる通過帯域を有し、前記通過帯域の中心波長が３５０ｎｍ～８５０ｎｍの波長範囲内にある。

【0089】

図１４は、０度、３０度、３５度の異なる角度で入射光を実施例１のフィルターに入射する場合の透過率スペクトルであり、これより、シフト量を観察することができる。同様、図１５は、０度、３０度、３５度の異なる角度で入射光を実施例３のフィルターに入射する場合の透過率スペクトルである。結果は、異なる入射角でフィルターに入射することによって得られる透過率グラフが非常に似ていることを示す。実施例１及び実施例３の透過率データを例として（下記表２に示すように）、それぞれ０度及び３０度で入射されると、通過帯域の中心波長のシフト量は、それぞれ１．１ｎｍ及び１．４nmであり、それぞれ０度及び３５度で入射されると、通過帯域の中心波長のシフト量は、それぞれ１．７ｎｍ及び１．９nmである。これに対して、実施例１の方法に基づいて調製するが、近赤外線吸収層を設置していない比較例２フィルターは、それぞれ０度及び３０度で入射されると、通過帯域の中心波長のシフト量は、９．６ｎｍに達し、それぞれ０度及び３０度で入射されると、通過帯域の中心波長のシフト量はさらに、１０．１ｎｍに達し、非常に大きいシフト量を示した。このようなシフト量が大きくなると、ギラつき及びゴーストの原因となることが知られている。一方、本開示のフィルターは、低いシフト量を示すため、ギラつき及びゴーストを顕著に減少し、画像品質を改善した。

【0090】

【表2】

【0091】

前述した各実施形態及び具体的な実施例は本開示を限定するものではなく、挙げられた各技術的特徴やアプローチを互いに組み合わせることができる。本開示も、他の異なる実施形態により実行又は応用することができる。本明細書に記載の各詳細事項も、異なる観点及び応用に応じて、本開示から逸脱することなく、様々な変更や修正を加えることができる。

【符号の説明】

【0092】

１、１’、１”、１”’：フィルター
１０：近赤外線吸収層
１１：粘着層
１２：保護層
２０：基材層
３０：フィルター層
３１：第１の吸収染料層
３２：第２の吸収染料層
４０：反射防止層

【図1A】

【図1B】

【図1C】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】