特開 2024-20068 ベーンポンプ

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024020068

(43)【公開日】2024-02-14

(54)【発明の名称】ベーンポンプ

(51)【国際特許分類】

   F04C 2/344 20060101AFI20240206BHJP

【ＦＩ】

F04C2/344 331C

F04C2/344 331A

【審査請求】未請求

【請求項の数】5

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022122955

(22)【出願日】2022-08-01

(71)【出願人】

【識別番号】000000929

【氏名又は名称】カヤバ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110002468

【氏名又は名称】弁理士法人後藤特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】佐野 碧

(72)【発明者】

【氏名】鈴木 一成

(72)【発明者】

【氏名】清水 朋佳

【テーマコード（参考）】

3H040

【Ｆターム（参考）】

3H040AA03

3H040BB04

3H040CC09

3H040DD03

3H040DD07

3H040DD11

(57)【要約】

【課題】ベーンポンプの作動効率を向上させる。
【解決手段】ベーンポンプ２００は、複数のベーン１０３と、カムリング４と、ロータ２の一方の側面が摺接する摺接面３０ａを有するサイドプレート１３０と、摺接面３０ａに開口する吸込ポート３１と、摺接面３０ａに開口する吐出ポート３２と、ベーン１０３に作用する磁場を発生させる第一磁石４０と、を備え、ベーン１０３は、磁性体で形成されまたは第二磁石４１を有し、ロータ２の回転により生じる遠心力と、第一磁石４０と反発する反発力または第一磁石４０と引き付け合う吸引力と、によって内周カム面４ａに押圧され、反発力または吸引力は、吸込ポート３１が設けられポンプ室６の容積が拡張する吸込領域５０、吐出ポート３２が設けられポンプ室６の容積が収縮する吐出領域５１、及び吸込領域５０と吐出領域５１の間の遷移領域５２において、吸込領域５０、遷移領域５２、及び吐出領域５１の順で小さい。
【選択図】図７

【特許請求の範囲】

【請求項1】

回転駆動されるロータと、
前記ロータの外周面に開口する複数のスリットと、
前記スリットに摺動自在に収装される複数のベーンと、
前記ロータの回転に伴って前記ベーンの先端部が摺接する内周カム面を有するカムリングと、
前記ロータ、前記カムリング、及び一対の隣り合う前記ベーンによって区画されるポンプ室と、
前記ロータの一方の側面が摺接する摺接面を有するサイド部材と、
前記摺接面に開口し前記ポンプ室に作動流体を導く吸込ポートと、
前記摺接面に開口し前記ポンプ室から吐出される作動流体を導く吐出ポートと、
前記ベーンに作用する磁場を発生させる第一磁石と、を備え、
前記ベーンは、磁性体で形成されまたは第二磁石を有し、前記ロータの回転により生じる遠心力と、前記第一磁石と反発する反発力または前記第一磁石と引き付け合う吸引力と、によって前記内周カム面に押圧され、
前記反発力または前記吸引力は、前記吸込ポートが設けられ前記ポンプ室の容積が拡張する吸込領域、前記吐出ポートが設けられ前記ポンプ室の容積が収縮する吐出領域、及び前記吸込領域と前記吐出領域の間の遷移領域において、前記吸込領域、前記遷移領域、及び前記吐出領域の順で小さいことを特徴とするベーンポンプ。

【請求項2】

請求項１に記載のベーンポンプであって、
前記第一磁石は、前記カムリングに設けられ前記ベーンとの間で前記吸引力を生じるとともに、前記吐出領域及び前記遷移領域に複数設けられ、
前記吐出領域に設けられる前記第一磁石と前記ベーンとの間で生じる吸引力は、前記遷移領域に設けられる前記第一磁石と前記ベーンとの間で生じる吸引力よりも大きいことを特徴とするベーンポンプ。

【請求項3】

請求項１に記載のベーンポンプであって、
前記ベーンは、前記第二磁石を有し、
前記第一磁石は、円弧状に形成されて前記サイド部材に設けられ前記第二磁石との間で前記反発力を生じるとともに、前記吐出領域及び前記遷移領域に対応して設けられ、
前記吐出領域に対応して設けられる前記第一磁石と前記第二磁石との間で生じる反発力は、前記遷移領域に対応して設けられる前記第一磁石と前記第二磁石との間で生じる反発力よりも大きいことを特徴とするベーンポンプ。

【請求項4】

回転駆動されるロータと、
前記ロータの外周面に開口する複数のスリットと、
前記スリットに摺動自在に収装される複数のベーンと、
前記ロータの回転に伴って前記ベーンの先端部が摺接する内周カム面を有するカムリングと、
前記ロータ、前記カムリング、及び一対の隣り合う前記ベーンによって区画されるポンプ室と、
前記ロータの一方の側面が摺接する摺接面を有するサイド部材と、
前記摺接面に開口し前記ポンプ室に作動流体を導く吸込ポートと、
前記摺接面に開口し前記ポンプ室から吐出される作動流体を導く吐出ポートと、
前記スリット内において前記ベーンの基端部によって区画され、前記吐出ポートを通じて作動流体が導かれる背圧室と、
前記ベーンに作用する磁場を発生させる第一磁石と、を備え、
前記ベーンは、磁性体で形成されまたは第二磁石を有し、前記ロータの回転により生じる遠心力と、前記背圧室内の作動流体の圧力と、によって前記内周カム面に押圧され、
前記第一磁石は、前記ベーンと前記内周カム面との間で生じる摩擦力が、前記ベーンと反発する反発力または前記ベーンと引き付け合う吸引力により小さくなるように設けられ、
前記反発力または前記吸引力は、前記吸込ポートが設けられ前記ポンプ室の容積が拡張する吸込領域、前記吐出ポートが設けられ前記ポンプ室の容積が収縮する吐出領域、及び前記吸込領域と前記吐出領域の間の遷移領域において、前記吸込領域、前記遷移領域、及び前記吐出領域の順で大きいことを特徴とするベーンポンプ。

【請求項5】

請求項４に記載のベーンポンプであって、
前記ベーンは、前記第二磁石を有し、
前記第一磁石は、前記カムリングに設けられ前記第二磁石との間で前記反発力を生じるとともに、前記吸込領域及び前記遷移領域に設けられ、
前記吸込領域に設けられる前記第一磁石と前記第二磁石との間で生じる反発力は、前記遷移領域に設けられる前記第一磁石と前記第二磁石との間で生じる反発力よりも大きいことを特徴とするベーンポンプ。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ベーンポンプに関するものである。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、駆動軸に連結されたロータと、ロータに対して径方向に往復動自在に設けられる複数のベーンと、ロータの回転に伴ってベーンの先端が摺接する内周面を有するカムリングと、ロータとカムリングと一対の隣り合うベーンとによって区画されるポンプ室と、ポンプ室に作動流体を導く吸込ポートと、ポンプ室から吐出される作動流体を導く吐出ポートと、を有するベーンポンプが開示されている。ロータには、ベーンが摺動自在に挿入されるスリットが形成され、スリットにはベーンの基端部により背圧室が区画される。ロータ及びカムリングの一側面には、サイドプレートが当接して配置され、サイドプレートに設けられる背圧通路及び円弧溝を通じて背圧室に高圧の作動油が導かれる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０２１－１８８５３９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

特許文献１に記載のようなベーンポンプでは、背圧室に導かれる作動油の圧力により、ベーンがカムリングの内周面に向けて押圧される。一方で、ベーンには、ポンプ室内の作動油の圧力により、カムリングの内周面から離れる向きにも力が作用する。

【0005】

ここで、ロータの回転に伴ってポンプ室の容積が収縮する吐出領域では、ポンプ室内の作動油の圧力が高いため、ベーンにカムリングの内周面から離れる向きに作用する力が大きい。そのため、大きい力でベーンをカムリングの内周面に向けて押圧し摺接させることが求められる。これに対して、ロータの回転に伴ってポンプ室の容積が拡張する吸込領域では、ポンプ室内の作動油の圧力が低いため、ベーンにカムリングの内周面から離れる向きに作用する力が小さい。そのため、大きい力でベーンをカムリングの内周面に向けて押圧する必要がない。

【0006】

しかしながら、特許文献１に記載のようなベーンポンプでは、吐出領域及び吸込領域を含む全ての背圧室に同じ圧力の作動油が導かれ、ベーンをカムリングの内周面に向けて押圧している。そのため、ベーンをカムリングの内周面に向けて押圧する大きな押圧力が不要な吸込領域においても、吐出領域と同等の押圧力でベーンをカムリングの内周面に向けて押圧している。よって、ベーンとカムリングの内周面との摺接面で生じる摩擦力が大きく、ベーンポンプの作動効率が低下するおそれがある。

【0007】

本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、ベーンポンプの作動効率を向上させることを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明は、回転駆動されるロータと、ロータの外周面に開口する複数のスリットと、スリットに摺動自在に収装される複数のベーンと、ロータの回転に伴ってベーンの先端部が摺接する内周カム面を有するカムリングと、ロータ、カムリング、及び一対の隣り合うベーンによって区画されるポンプ室と、ロータの一方の側面が摺接する摺接面を有するサイド部材と、摺接面に開口しポンプ室に作動流体を導く吸込ポートと、摺接面に開口しポンプ室から吐出される作動流体を導く吐出ポートと、ベーンに作用する磁場を発生させる第一磁石と、を備え、ベーンは、磁性体で形成されまたは第二磁石を有し、ロータの回転により生じる遠心力と、第一磁石と反発する反発力または第一磁石と引き付け合う吸引力と、によって内周カム面に押圧され、反発力または吸引力は、吸込ポートが設けられポンプ室の容積が拡張する吸込領域、吐出ポートが設けられポンプ室の容積が収縮する吐出領域、及び吸込領域と吐出領域の間の遷移領域において、吸込領域、遷移領域、及び吐出領域の順で小さいことを特徴とする。

【0009】

この発明では、ロータの回転により生じる遠心力と、ベーンと第一磁石との間で生じる反発力または吸引力により、ベーンが内周カム面に押圧される。また、反発力または吸引力は、吸込領域、遷移領域、及び吐出領域の順で小さい。よって、ポンプ室内の作動流体の圧力が低くベーンをカムリングの内周面に向けて大きな力で押圧することが不要な吸込領域においては、ベーンが内周カム面に小さい力で押圧されるため、ベーンと内周カム面とを摺接させつつ内周カム面で生じる摩擦力を小さくすることができる。一方で、ポンプ室内の作動流体の圧力が高くベーンをカムリングの内周面に向けて大きな力で押圧することが求められる吐出領域においては、ベーンを内周カム面に大きい力で押圧して摺接させることができる。また、ポンプ室内の作動流体の圧力が吸込領域よりも高く吐出領域よりも低い遷移領域においては、吸込領域よりも大きく吐出領域よりも小さい力でベーンが内周カム面に押圧される。そのため、ベーンと内周カム面とを摺接させつつ内周カム面で生じる摩擦力を小さくすることができる。このように、ベーンと第一磁石との間で生じる反発力または吸引力を調整することにより、ベーンと内周カム面とを摺接させつつ内周カム面で生じる摩擦力を小さくすることができる。

【0010】

また、本発明は、第一磁石は、カムリングに設けられベーンとの間で吸引力を生じるとともに、吐出領域及び遷移領域に複数設けられ、吐出領域に設けられる第一磁石とベーンとの間で生じる吸引力は、遷移領域に設けられる第一磁石とベーンとの間で生じる吸引力よりも大きいことを特徴とする。

【0011】

また、本発明は、ベーンは、第二磁石を有し、第一磁石は、円弧状に形成されてサイド部材に設けられ第二磁石との間で反発力を生じるとともに、吐出領域及び遷移領域に対応して設けられ、吐出領域に対応して設けられる第一磁石と第二磁石との間で生じる反発力は、遷移領域に対応して設けられる第一磁石と第二磁石との間で生じる反発力よりも大きいことを特徴とする。

【0012】

これらの発明では、ベーンがロータの回転により生じる遠心力と、第一磁石との間で生じる反発力または吸引力と、によって内周カム面に押圧される構成において、吸込領域、遷移領域、及び吐出領域の順でベーンが内周カム面に押圧される押圧力を小さくすることができる。

【0013】

また、本発明は、回転駆動されるロータと、ロータの外周面に開口する複数のスリットと、スリットに摺動自在に収装される複数のベーンと、ロータの回転に伴ってベーンの先端部が摺接する内周カム面を有するカムリングと、ロータ、カムリング、及び一対の隣り合うベーンによって区画されるポンプ室と、ロータの一方の側面が摺接する摺接面を有するサイド部材と、摺接面に開口しポンプ室に作動流体を導く吸込ポートと、摺接面に開口しポンプ室から吐出される作動流体を導く吐出ポートと、スリット内においてベーンの基端部によって区画され、吐出ポートを通じて作動流体が導かれる背圧室と、ベーンに作用する磁場を発生させる第一磁石と、を備え、ベーンは、磁性体で形成されまたは第二磁石を有し、ロータの回転により生じる遠心力と、背圧室内の作動流体の圧力と、によって内周カム面に押圧され、第一磁石は、ベーンと内周カム面との間で生じる摩擦力が、ベーンと反発する反発力またはベーンと引き付け合う吸引力により小さくなるように設けられ、反発力または吸引力は、吸込ポートが設けられポンプ室の容積が拡張する吸込領域、吐出ポートが設けられポンプ室の容積が収縮する吐出領域、及び吸込領域と吐出領域の間の遷移領域において、吸込領域、遷移領域、及び吐出領域の順で大きいことを特徴とする。

【0014】

この発明では、ベーンと第一磁石との間で生じる反発力または吸引力により、ベーンには内周カム面から離れる向きに力が作用し、ベーンと内周カム面との摺接面で生じる摩擦力が小さくなる。また、反発力または吸引力は、吸込領域、遷移領域、及び吐出領域の順で大きい。よって、ポンプ室内の作動流体の圧力が低くベーンをカムリングの内周面に向けて大きな力で押圧することが不要な吸込領域においては、ベーンが内周カム面に小さい力で押圧されるため、ベーンと内周カム面とを摺接させつつ内周カム面で生じる摩擦力を小さくすることができる。一方で、ポンプ室内の作動流体の圧力が高くベーンをカムリングの内周面に向けて大きな力で押圧することが求められる吐出領域においては、ベーンを内周カム面に大きい力で押圧して摺接させることができる。また、ポンプ室内の作動流体の圧力が吸込領域よりも高く吐出領域よりも低い遷移領域においては、吸込領域よりも大きく吐出領域よりも小さい力でベーンが内周カム面に押圧される。そのため、ベーンと内周カム面とを摺接させつつ内周カム面で生じる摩擦力を小さくすることができる。このように、ベーンと第一磁石との間で生じる反発力または吸引力を調整することにより、ベーンと内周カム面とを摺接させつつ内周カム面で生じる摩擦力を小さくすることができる。

【0015】

また、本発明は、ベーンは、第二磁石を有し、第一磁石は、カムリングに設けられ第二磁石との間で反発力を生じるとともに、吸込領域及び遷移領域に設けられ、吸込領域に設けられる第一磁石と第二磁石との間で生じる反発力は、遷移領域に設けられる第一磁石と第二磁石との間で生じる反発力よりも大きいことを特徴とする。

【0016】

この発明では、ベーンがロータの回転により生じる遠心力と、背圧室内の作動流体の圧力と、によって内周カム面に押圧されつつ、第一磁石によりベーンに内周カム面から離れる向きに力が作用する構成において、吸込領域、遷移領域、及び吐出領域の順でベーンが内周カム面に押圧される押圧力を小さくすることができる。

【発明の効果】

【0017】

本発明によれば、ベーンポンプの作動効率を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【0018】

【図1】本発明の第１実施形態に係るベーンポンプの断面図である。

【図2】本発明の第１実施形態に係るベーンポンプのロータ、カムリング、及びサイドプレートの平面図である。

【図3】本発明の第１実施形態に係るベーンポンプにおけるロータ側から見たサイドプレートの平面図である。

【図4】第１実施形態の第１変形例に係るベーンポンプにおける磁石の配置を示す拡大断面図であり、図２のＩＶ－ＩＶ線に沿った断面で示す。

【図5】第１実施形態の第２変形例に係るベーンポンプにおける磁石の配置を示すサイドプレートの平面図であり、図３に対応して示す。

【図6】第１実施形態の第２変形例に係るベーンポンプの吸込領域、吐出領域、及び遷移領域における磁石とベーンとが引き付け合う吸引力を示す平面図である。

【図7】本発明の第２実施形態に係るベーンポンプのロータ、カムリング、及びサイドプレートの平面図である。

【図8】本発明の第２実施形態に係るベーンポンプにおけるロータ側から見たサイドプレートの平面図である。

【図9】第２実施形態の第２変形例に係るベーンポンプの吸込領域、吐出領域、及び遷移領域における磁石とベーンとが引き付け合う吸引力を示す平面図である。

【図10】第２実施形態の第２変形例に係るベーンポンプにおける磁石の配置を示すサイドプレートの平面図であり、図８に対応して示す。

【発明を実施するための形態】

【0019】

以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。

【0020】

＜第１実施形態＞
図１及び図２を参照して、本発明の第１実施形態に係るベーンポンプ１００について説明する。ベーンポンプ１００は、車両や産業機械に搭載される流体圧機器、例えば、パワーステアリング装置や無段変速機等の流体圧供給源として用いられる。本実施形態では、作動油を作動流体とする固定容量型のベーンポンプ１００について説明する。なお、ベーンポンプ１００は、可変容量型のベーンポンプであってもよい。

【0021】

ベーンポンプ１００は、駆動シャフト１の端部にエンジンや電動モータ等の駆動源（図示省略）の動力が伝達され、駆動シャフト１に連結されたロータ２が回転するものである。ロータ２は、図２において時計回りに回転する。

【0022】

ベーンポンプ１００は、回転駆動されるロータ２と、ロータ２の外周面に開口する複数のスリット２ａと、ロータ２に対して径方向に往復動自在に設けられた複数のベーン３と、ロータ２を収容すると共にロータ２の回転に伴ってベーン３の先端部３ａが摺接する内周カム面４ａを有するカムリング４と、ロータ２及びカムリング４を収容するハウジング５と、を備える。ロータ２、カムリング４、及び一対の隣り合うベーン３によって、複数のポンプ室６が区画される。

【0023】

ロータ２は環状部材であり、駆動シャフト１の先端部にスプライン結合によって連結される。ロータ２には、外周面に開口するスリット２ａが放射状に形成される。

【0024】

ベーン３は、矩形平板状に形成される。ベーン３は、スリット２ａに摺動自在に収装され、スリット２ａから突出する方向の端部である先端部３ａと、先端部３ａとは反対側の端部である基端部３ｂと、を有する。スリット２ａ内には、ベーン３の基端部３ｂによって背圧室２ｂが区画される。ベーン３は、ロータ２の回転により生じる遠心力と、後述するように背圧室２ｂに導かれる作動油の圧力と、によりスリット２ａから突出する方向に力が作用し、内周カム面４ａに押圧される。

【0025】

カムリング４は、内周カム面４ａが略楕円形状をした環状部材である。カムリング４は、ロータ２の回転に伴ってポンプ室６の容積が拡張する二つの吸込領域５０と、ロータ２の回転に伴ってポンプ室６の容積が収縮する二つの吐出領域５１と、を有する。つまり、ロータ２が一回転する間に、ベーン３は二往復しポンプ室６は拡張と収縮を二回繰り返す。また、吸込領域５０と吐出領域５１の間には、遷移領域５２が設けられる。以下では、説明の便宜上、ポンプ室６が吸込領域５０から吐出領域５１へと遷移する領域を第一遷移領域５２ａ、ポンプ室６が吐出領域５１から吸込領域５０へと遷移する領域を第二遷移領域５２ｂとも称する。吸込領域５０、吐出領域５１、及び遷移領域５２は、内周カム面４ａの形状によって規定される。また、カムリング４には、後述する位置決めピン１０が挿通するピン孔４ｂが設けられる。

【0026】

ロータ２及びカムリング４の一方の側面（図１における下方の面）には、サイドプレート３０が接触して設けられる。サイドプレート３０は円板状部材である。サイドプレート３０は、ロータ２の一方の側面が摺接する摺接面３０ａを有する。

【0027】

ロータ２、カムリング４、及びサイドプレート３０は、ハウジング５に凹状に形成されたポンプ収容部５ａに収容される。ポンプ収容部５ａは、ポンプカバー７によって封止される。ポンプカバー７は、カムリング４の他側面に接触して設けられる。サイドプレート３０とポンプカバー７は、ロータ２及びカムリング４の両側面を挟んだ状態で配置され、ポンプ室６を密閉する。サイドプレート３０及びポンプカバー７は、カムリング４の一方の側面に接触して設けられるサイド部材として機能する。

【0028】

ポンプ収容部５ａの底面５ｂには、吐出ポート３２を通じてポンプ室６から吐出される作動油が導かれる高圧室１６が環状に形成される。高圧室１６は、底面５ｂに配置されるサイドプレート３０によって区画される。高圧室１６は、ハウジング５の外面に開口して形成される吐出通路（図示省略）に連通する。

【0029】

ポンプカバー７におけるロータ２が摺接する摺接面７ａには、ポンプ室６に作動油を導く二つの吸込ポート（図示省略）と、ポンプ室６の作動油を吐出する二つの吐出ポート９とが形成される。吸込ポートは、カムリング４の二つの吸込領域５０に対応して形成され、吐出ポート９は、カムリング４の二つの吐出領域５１に対応して形成される。さらに、ポンプカバー７には、吸込ポートを通じてタンクの作動油をポンプ室６へと導く吸込通路（図示省略）が形成される。

【0030】

また、図２に示すように、カムリング４には、タンクの作動油をポンプ室６へと導くための切り欠き部４ｃが、ポンプカバー７の吸込ポートに対応して設けられる。言い換えれば、切り欠き部４ｃは、二つの吸込領域５０に設けられる。切り欠き部４ｃは、カムリング４の外周面から内周カム面４ａにわたって設けられる。また、切り欠き部４ｃは、サイドプレート３０の後述する吸込ポート３１と軸方向に重なるように設けられる。

【0031】

カムリング４には、第一磁石４０が設けられる。第一磁石４０は、吸込領域５０及び遷移領域５２に設けられる。吸込領域５０に設けられる第一磁石４０は、言い換えれば、切り欠き部４ｃに設けられる。第一磁石４０は、例えば、ネオジム等の永久磁石である。本実施形態では、第一磁石４０は、カムリング４を軸方向に貫通して、吸込領域５０及び第一遷移領域５２ａに二つずつ設けられ、第二遷移領域５２ｂに一つ設けられる。なお、第一磁石４０は、吸込領域５０及び遷移領域５２に少なくとも一つずつ設けられていればよい。第一磁石４０は、遷移領域５２での磁力が吸込領域５０での磁力よりも小さくなるように設けられる。具体的には、遷移領域５２に設けられる第一磁石４０ｃと吸込領域５０に設けられる第一磁石４０ａは、カムリング４の径方向におけるベーン３の先端部３ａとの間の距離（言い換えれば、内周カム面４ａとの間の距離）が同じであり、大きさのみが異なる。第一磁石４０ｃは、第一磁石４０ａよりも小さく、同じ材料で形成される。つまり、第一磁石４０ｃは、第一磁石４０ａよりも発生する磁力が弱い。なお、遷移領域５２に設けられる第一磁石４０ｃが吸込領域５０に設けられる第一磁石４０ａよりも発生する磁力が弱い構成であれば、両者が違う材料で形成されてもよく、両者が同じ大きさで形成されてもよい。

【0032】

本実施形態では、ベーン３は、第二磁石４１を有する。第二磁石４１は、例えば、ベーン３の先端部３ａ側に埋め込まれてベーン３と一体に形成される。なお、ベーン３は、第二磁石４１がベーン３の基端部３ｂ側や中央に埋め込まれてもよく、第二磁石４１のみで構成されてもよい。第二磁石４１は、例えば、ネオジム等の永久磁石であり、ベーン３の先端部３ａ側が第一磁石４０と反発するように設けられる。具体的には、第二磁石４１は、ベーン３の先端部３ａ側の極（Ｓ極又はＮ極）が、第一磁石４０における内周カム面４ａ側の極（Ｓ極又はＮ極）と同じになるように設けられる。言い換えれば、ベーン３は、第二磁石４１が第一磁石４０と反発することにより、先端部３ａ側が第一磁石４０と反発する。カムリング４は、第一磁石４０が発生する磁場に影響を受けないように、かつ、第一磁石４０が発生する磁場を遮断しないように、例えば非磁性体で形成される。ベーンポンプ１００の作動時における第一磁石４０の作用については後述する。

【0033】

図３は、カムリング４側から見たサイドプレート３０の正面図である。図２，図３に示すように、サイドプレート３０には、ポンプ室６に作動油を導く二つの吸込ポート３１と、ポンプ室６の作動油を吐出する二つの吐出ポート３２と、が形成される。吸込ポート３１は、カムリング４の二つの吸込領域５０に対応して設けられる。吸込ポート３１は、サイドプレート３０におけるロータ２が摺接する摺接面３０ａに開口して溝状に形成される。吸込ポート３１は、ポンプ収容部５ａの内周面に形成された通路（図示省略）を通じてポンプカバー７の吸込ポートと連通する。したがって、吸込通路からの作動油は、ポンプカバー７の吸込ポート及びカムリング４の切り欠き部４ｃを通じて図１におけるカムリング４の図１中上側からポンプ室６に導かれるとともに、サイドプレート３０の吸込ポート３１を通じてカムリング４の図１中下側からポンプ室６に導かれる。吐出ポート３２は、カムリング４の吐出領域５１に対応して設けられる。吐出ポート３２は、摺接面３０ａに開口し、サイドプレート３０を軸方向に貫通して円弧状に形成される。吐出ポート３２は、ポンプ室６の作動油を高圧室１６へ吐出する。

【0034】

サイドプレート３０には、ロータ２の周方向に互いに間隔を空けて設けられる複数の導圧孔３３が設けられる。本実施形態では、導圧孔３３は、二つの吸込領域５０及び二つの吐出領域５１のそれぞれに対応して一つずつ設けられ、合計で四つ設けられる。導圧孔３３は、サイドプレート３０を貫通して設けられ高圧室１６と背圧室２ｂとを連通する。導圧孔３３は、ロータ２の回転に伴い、背圧室２ｂと重なり連通する。これにより、吐出ポート３２からの高圧の作動油は、高圧室１６及び導圧孔３３を通じて背圧室２ｂに導かれる。つまり、背圧室２ｂには、吐出ポート３２を通じて作動油が導かれる。本実施形態では、四つの導圧孔３３が全て高圧室１６と連通するため、複数の背圧室２ｂには全て同じ圧力の作動油が導かれる。

【0035】

サイドプレート３０には、駆動シャフト１が挿通する貫通孔３５と、位置決めピン１０がそれぞれ挿通する二つのピン孔３６と、が設けられる。貫通孔３５は、サイドプレート３０の中央に設けられる。二つのピン孔３６は、カムリング４の二つのピン孔４ｂと軸方向に重なるように設けられる。ピン孔４ｂ及びピン孔３６に位置決めピン１０が挿入されることにより、カムリング４、サイドプレート３０、及びポンプカバー７の相対回転が規制される。これにより、カムリング４に対するポンプカバー７の吸込ポート８及び吐出ポート９の位置決めと、カムリング４に対するサイドプレート３０の吸込ポート３１及び吐出ポート３２の位置決めと、が行われる。

【0036】

なお、本明細書では、吸込領域５０、吐出領域５１、第一遷移領域５２ａ、及び第二遷移領域５２ｂは、サイドプレート３０の吸込ポート３１または吐出ポート３２との位置関係により定義される。具体的には、吸込領域５０は、ロータ２の回転方向における、吸込ポート３１の始端から終端までの領域である。吐出領域５１は、ロータ２の回転方向における、吐出ポート３２の始端から終端までの領域である。第一遷移領域５２ａは、ロータ２の回転方向における、吸込ポート３１の終端から吐出ポート３２の始端までの領域である。第二遷移領域５２ｂは、ロータ２の回転方向における、吐出ポート３２の終端から吸込ポート３１の始端までの領域である。

【0037】

動力源の駆動により駆動シャフト１が回転すると、駆動シャフト１に連結されたロータ２が回転する。この際、ベーン３には、ロータ２の回転により生じる遠心力と、背圧室２ｂ内の作動油の圧力と、が作用する。これにより、ベーン３の先端部３ａが内周カム面４ａを摺接する。ロータ２の回転に伴い、カムリング４内の各ポンプ室６は、ポンプカバー７の吸込ポート及びサイドプレート３０の吸込ポート３１を通じて作動油を吸込み、ポンプカバー７の吐出ポート９及びサイドプレート３０の吐出ポート３２を通じて作動油を高圧室１６に吐出する。高圧室１６の作動油は、吐出通路を通じて流体圧機器へ供給される。このように、カムリング４内の各ポンプ室６は、ロータ２の回転に伴う拡縮によって作動油を給排する。

【0038】

ここで、ベーンポンプ１００では、ベーン３には、ポンプ室６内の作動油の圧力により、カムリング４の内周カム面４ａから離れる向きにも力（以下では、「離間力」とも称する。）が作用する。吐出領域５１では、ポンプ室６内の作動油の圧力が高いため、ベーン３に作用する離間力が大きい。そのため、ベーン３が内周カム面４ａから離間しないように、大きい力でベーン３を内周カム面４ａに向けて押圧し摺接させることが求められる。これに対して、吸込領域５０では、ポンプ室６内の作動油の圧力が低いため、ベーン３に作用する離間力が小さい。また、遷移領域５２では、ポンプ室６内の作動油の圧力が吸込領域５０よりも高く吐出領域５１よりも低いため、ベーン３に作用する離間力は、吸込領域５０より大きいものの吐出領域５１よりは小さい。そのため、吸込領域５０及び遷移領域５２においては、大きい力でベーン３を内周カム面４ａに向けて押圧する必要がない。よって、仮に吸込領域５０及び第一遷移領域５２ａにおいても、吐出領域５１と同等の押圧力でベーン３を内周カム面４ａに向けて押圧すると、必要以上の力でベーン３を内周カム面４ａに押し付けることになる。結果として、ベーン３と内周カム面４ａとの間で生じる摩擦力により、ベーンポンプ１００の作動効率が低下するおそれがある。

【0039】

そこで、本実施形態のベーンポンプ１００では、ベーン３（第二磁石４１）と第一磁石４０との間で生じる反発力を調整することにより、ベーン３と内周カム面４ａとを摺接させつつ、吸込領域５０及び遷移領域５２においてベーン３と内周カム面４ａとの間で生じる摩擦力を小さくしている。

【0040】

次に、ベーンポンプ１００の作動時における第一磁石４０の作用について説明する。

【0041】

本実施形態では、上記のように、ベーン３は、一体に設けられた第二磁石４１により先端部３ａが第一磁石４０と反発するように設けられる（以下では、ベーン３に設けられる第二磁石４１と、第一磁石４０と、が反発することを、単に「ベーン３と第一磁石４０とが反発する」とも称する。）。そのため、ベーン３の先端部３ａと第一磁石４０との間で生じる反発力により、ベーン３には、図２の矢印で示すように、内周カム面４ａから離れる向きに力が作用する。これにより、ベーン３の先端部３ａと内周カム面４ａとの摺接面で生じる摩擦力が小さくなる。本実施形態では、第一磁石４０は、吸込領域５０及び遷移領域５２に設けられ、遷移領域５２での磁力が吸込領域５０での磁力よりも小さくなるように設けられる。よって、ベーン３と吸込領域５０に設けられる第一磁石４０ａとが反発する反発力は、ベーン３と遷移領域５２に設けられる第一磁石４０ｃとが反発する反発力よりも大きい。第一磁石４０は吐出領域５１には設けられないため、ベーン３と第一磁石４０とが反発する反発力は、吸込領域５０、第一遷移領域５２ａ、吐出領域５１の順で大きい。吐出領域５１では、ベーン３と第一磁石４０とが反発する反発力はほとんど生じない。言い換えれば、ベーン３の先端部３ａと内周カム面４ａとの摺接面で生じる摩擦力は、吸込領域５０、第一遷移領域５２ａ、吐出領域５１の順で小さい。

【0042】

このように、第一磁石４０が吸込領域５０に設けられるとともに、ベーン３と一体に第二磁石４１が設けられることにより、ポンプ室６内の作動油の圧力が低くベーン３をカムリング４の内周カム面４ａに向けて大きな力で押圧することが不要な吸込領域５０においては、ベーン３が内周カム面４ａに小さい力で押圧される。そのため、ベーン３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。一方で、ポンプ室６内の作動油の圧力が高くベーン３をカムリング４の内周カム面４ａに向けて大きな力で押圧することが求められる吐出領域５１においては、ベーン３を内周カム面４ａに大きい力で押圧して摺接させることができる。また、ポンプ室６内の作動油の圧力が吸込領域５０よりも高く吐出領域５１よりも低い遷移領域５２においては、吸込領域５０よりも大きく吐出領域５１よりも小さい力でベーン３が内周カム面４ａに押圧される。そのため、ベーン３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。このように、ベーン３と第一磁石４０との間で生じる反発力を調整することにより、ベーン３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。

【0043】

以上の第１実施形態によれば、以下に示す作用効果を奏する。

【0044】

ベーンポンプ１００では、ベーン３の先端部３ａと第一磁石４０との間で生じる反発力は、吸込領域５０、遷移領域５２、及び吐出領域５１の順で大きい。よって、吸込領域５０においては、ベーン３が内周カム面４ａに小さい力で押圧されるため、ベーン３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。一方で、吐出領域５１においては、ベーン３を内周カム面４ａに大きい力で押圧して摺接させることができる。また、遷移領域５２においては、吸込領域５０よりも大きく吐出領域５１よりも小さい力でベーン３が内周カム面４ａに押圧されるため、ベーン３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。このように、ベーン３と第一磁石４０との間で生じる反発力を調整することにより、ベーン３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。

【0045】

以下に、第１実施形態の変形例について説明する。以下のような変形例も本発明の範囲内であり、以下の変形例と上記実施形態の各構成とを組み合わせたり、以下の変形例同士を組み合わせたりすることも可能である。

【0046】

＜変形例１＞
上記の第１実施形態では、第一磁石４０は、吸込領域５０及び第一遷移領域５２ａにおいてカムリング４を軸方向に貫通して二つ設けられ、第二遷移領域５２ｂにおいて一つ設けられる。しかしながら、ベーン３と第一磁石４０とが反発する反発力が吸込領域５０、第一遷移領域５２ａ、吐出領域５１の順で大きい構成であれば、第一磁石４０の数や設けられる場所は上記に限らない。

【0047】

例えば、第一磁石４０が、カムリング４の径方向に延びて設けられてもよい。また、図４は、図２におけるＩＶ－ＩＶ線に沿ったカムリング４の断面図である。図４の（ａ）に示すように、第一磁石４０が、吸込領域５０において上下方向の両端部のみに設けられてもよい。さらに、図４の（ｂ）に示すように、第一磁石４０が、吸込領域５０の上方向の端部と下方向の端部とで互い違いに設けられてもよい。また、図４の（ｃ）に示すように、第一磁石４０が、ロータ２の周方向に沿ってカムリング４に設けられてもよい。図４の（ｃ）では、第一磁石４０は、カムリング４の厚さ方向の中央に設けられる。図４の（ｂ）や（ｃ）の構成では、第一磁石４０がロータ２の周方向に連続して設けられるため、第一磁石４０が発生させる磁力がより均一となる。

【0048】

また、上記の第１実施形態では、遷移領域５２に設けられる第一磁石４０ｃと吸込領域５０に設けられる第一磁石４０ａは、カムリング４の径方向におけるベーン３の先端部３ａとの間の距離が同じであり、第一磁石４０ｃの方が小さい。これに限らず、第一磁石４０ｃと第一磁石４０ａが同じ大きさで形成され、第一磁石４０ｃの方がカムリング４の径方向におけるベーン３の先端部３ａとの間の距離が大きい構成であってもよい。言い換えれば、遷移領域５２に設けられる第一磁石４０ｃを内周カム面４ａから離すことにより、遷移領域５２での磁力が吸込領域５０での磁力よりも小さくなるようにしてもよい。この構成であっても、ベーン３と第一磁石４０とが反発する反発力を、吸込領域５０、遷移領域５２、吐出領域５１の順で大きくすることができ、ベーン３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。

【0049】

また、第一磁石４０は、カムリング４における吸込領域５０のみに設けられてもよい。ベーン３と第一磁石４０の間で生じる反発力は、ベーン３が第一磁石４０に近い程大きい。そのため、この構成であっても、ベーン３と第一磁石４０の間で生じる反発力は、吸込領域５０、遷移領域５２、吐出領域５１の順で大きい。よって、ベーン３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。

【0050】

＜変形例２＞
上記の第１実施形態では、ベーン３と、カムリング４に設けられる第一磁石４０と、が反発して内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくする。これに代えて、図５に示すように、サイドプレート３０に第一磁石４０を設け、ベーン３の基端部３ｂと、サイドプレート３０に設けられる第一磁石４０と、が引き付け合う吸引力により、内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくしてもよい。

【0051】

具体的には、第一磁石４０は、吸込領域５０及び遷移領域５２（第一遷移領域５２ａ）に対応して、導圧孔３３と吸込ポート３１の間に設けられる。遷移領域５２における第一磁石４０は、吸込領域５０における第一磁石４０よりも、カムリング４の径方向におけるベーン３の先端部３ａとの間の距離（言い換えれば、内周カム面４ａとの間の距離）が大きい。この形態では、第二磁石４１は、例えば、ベーン３の基端部３ｂ側に埋め込まれてベーン３と一体に形成される。第二磁石４１は、基端部３ｂ側の極（Ｓ極又はＮ極）が、第一磁石４０の外側の極（Ｓ極又はＮ極）と異なるように設けられる。これにより、ベーン３には、第一磁石４０と第二磁石４１の間で生じる吸引力により、図６の矢印で示すように、内周カム面４ａから離れる向きに力が作用し、上記第１実施形態と同様に、ベーン３の先端部３ａと内周カム面４ａとの摺接面で生じる摩擦力が小さくなる。また、ベーン３と第一磁石４０との間で生じる吸引力は、ベーン３（第二磁石４１）が第一磁石４０に近い程大きい。よって、ベーン３と第一磁石４０の間で生じる吸引力は、ベーン３が第一磁石４０に近い吸込領域５０、遷移領域５２、吐出領域５１の順で大きい。よって、上記第１実施形態と同様に、吸込領域５０においてはベーン３が内周カム面４ａに小さい力で押圧され、吐出領域５１においてはベーン３が内周カム面４ａに大きい力で押圧され、遷移領域５２においては吸込領域５０よりも大きく吐出領域５１よりも小さい力でベーン３が内周カム面４ａに押圧される。そのため、ベーン３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。

【0052】

なお、ベーン３は、第二磁石４１を有さずに、磁性体で形成されてもよい。この場合であっても、ベーン３には、基端部３ｂと第一磁石４０とが引き付け合う吸引力が作用する。これにより、内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。

【0053】

以上のように、ベーン３は、磁性体で形成されまたは第二磁石４１を有する構成であればよい。また、第一磁石４０は、ベーン３と内周カム面４ａとの間で生じる摩擦力が、ベーン３と反発する反発力またはベーン３と引き付け合う吸引力により小さくなるように設けられればよい。また、反発力または吸引力は、吸込領域５０、遷移領域５２、及び吐出領域５１の順で大きい構成であればよい。

【0054】

＜第２実施形態＞
次に、図７，図８を参照して、本発明の第２実施形態について、説明する。以下では、上記第１実施形態と異なる点を中心に説明し、上記第１実施形態と同一の構成には同一の符号を付して説明を省略する。

【0055】

上記第１実施形態のベーンポンプ１００では、ベーン３は、ロータ２の回転により生じる遠心力と、背圧室２ｂ内の作動油の圧力と、によって内周カム面４ａに押圧され、内周カム面４ａを摺接する。これに対し、第２実施形態のベーンポンプ２００では、ベーン３は、ロータ２の回転により生じる遠心力と、ベーン１０３と第一磁石４０とが引き付け合う吸引力と、によって内周カム面４ａに押圧される。

【0056】

具体的には、ベーンポンプ２００では、図７，図８に示すように、背圧室２ｂと連通する導圧孔がサイドプレート１３０に設けられない。つまり、背圧室２ｂには、高圧室１６から高圧の作動油が導かれない。よって、本第２実施形態では、高圧室１６及び導圧孔３３を通じて背圧室２ｂに導かれる作動油の圧力によりベーン３を内周カム面４ａに押圧する力は、発生しない。

【0057】

また、ベーンポンプ２００では、ベーン３に作用する磁場を発生させる第一磁石４０が、カムリング４における吸込領域５０、吐出領域５１、及び遷移領域５２に複数設けられる。第一磁石４０はカムリング４を軸方向に貫通してそれぞれ設けられる。さらに、ベーン１０３には、第二磁石４１がベーン３の先端部１０３ａ側に埋め込まれてベーン１０３と一体に形成される。なお、ベーン１０３は、第１実施形態と同様に、第二磁石４１がベーン１０３の基端部１０３ｂ側や中央に埋め込まれてもよく、第二磁石４１のみで構成されてもよい。第二磁石４１は、ベーン１０３の先端部１０３ａが第一磁石４０と引き付け合うように設けられる。具体的には、第二磁石４１は、ベーン１０３の先端部１０３ａ側の極（Ｓ極又はＮ極）が、第一磁石４０における内周カム面４ａ側の極（Ｓ極又はＮ極）と異なるように設けられる。このため、ベーン１０３には、第一磁石４０と第二磁石４１との間で生じる吸引力により、図７の矢印で示すように、内周カム面４ａに近づく向きに力が作用する。よって、ベーンポンプ２００では、ロータ２の回転により生じる遠心力と、ベーン１０３と第一磁石４０との間で生じる吸引力により、ベーン１０３が内周カム面４ａに押圧される。

【0058】

また、第一磁石４０は、遷移領域５２での磁力が吐出領域５１での磁力よりも小さくなり、吸込領域５３での磁力が遷移領域５２での磁力よりも小さくなるように設けられる。具体的には、吸込領域５０に設けられる第一磁石４０ａ、吐出領域５１に設けられる第一磁石４０ｂ、及び遷移領域５２に設けられる第一磁石４０ｃは、同じ材料で形成され、第一磁石４０ｂ、第一磁石４０ｃ、第一磁石４０ａの順で大きい。よって、ベーン３と第一磁石４０の間で生じる吸引力は、吸込領域５０、遷移領域５２、及び吐出領域５１の順で小さい。つまり、ベーン３をカムリング４の内周カム面４ａに向けて押圧する押圧力は、吸込領域５０、遷移領域５２、及び吐出領域５１の順で小さい。

【0059】

このように、上記第１実施形態と同様に、ベーン１０３をカムリング４の内周カム面４ａに向けて大きな力で押圧することが不要な吸込領域５０においては、ベーン１０３が内周カム面４ａに小さい力で押圧される。そのため、ベーン１０３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。一方で、ポンプ室６内の作動油の圧力が高くベーン１０３をカムリング４の内周カム面４ａに向けて大きな力で押圧することが求められる吐出領域５１においては、ベーン１０３を内周カム面４ａに大きい力で押圧して摺接させることができる。また、ポンプ室６内の作動油の圧力が吸込領域５０よりも高く吐出領域５１よりも低い遷移領域５２においては、吸込領域５０よりも大きく吐出領域５１よりも小さい力でベーン３が内周カム面４ａに押圧される。そのため、ベーン１０３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。このように、ベーン１０３と第一磁石４０との間で生じる吸引力を調整することにより、ベーン３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。

【0060】

また、吸込領域５０に第一磁石４０ｂ，４０ｃよりも小さい第一磁石４０ａを設けることで、吸込領域５０において、ベーン３と内周カム面４ａとが離れてしまうことが防止される。なお、吸込領域５０に第一磁石４０ａが設けられなくてもよい。

【0061】

以上の第２実施形態によれば、以下に示す作用効果を奏する。

【0062】

ベーンポンプ２００では、ロータ２の回転により生じる遠心力と、ベーン１０３と第一磁石４０との間で生じる吸引力により、ベーン１０３が内周カム面４ａに押圧される。また、ベーン１０３と第一磁石４０との間で生じる吸引力は、吸込領域５０、遷移領域５２、及び吐出領域５１の順で小さい。よって、吸込領域５０においては、ベーン１０３が内周カム面４ａに小さい力で押圧されるため、ベーン１０３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。一方で、吐出領域５１においては、ベーン１０３を内周カム面４ａに大きい力で押圧して摺接させることができる。また、遷移領域５２においては、吸込領域５０よりも大きく吐出領域５１よりも小さい力でベーン１０３が内周カム面４ａに押圧されるため、ベーン１０３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。このように、ベーン１０３と第一磁石４０との間で生じる吸引力を調整することにより、ベーン１０３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。

【0063】

以下に、第２実施形態の変形例について説明する。以下のような変形例も本発明の範囲内であり、以下の変形例と上記実施形態の各構成とを組み合わせたり、以下の変形例同士を組み合わせたりすることも可能である。

【0064】

＜変形例１＞
上記の第２実施形態では、第一磁石４０は、カムリング４を軸方向に貫通するとともに、吸込領域５０、吐出領域５１、及び遷移領域５２にそれぞれ設けられる。しかしながら、ベーン３と第一磁石４０の間で生じる吸引力が吸込領域５０、遷移領域５２、吐出領域５１の順で小さい構成であれば、第一磁石４０の数や設けられる場所は上記に限らない。

【0065】

例えば、第１実施形態の変形例１で示したように、第一磁石４０が設けられてもよい。具体的には、第一磁石４０は、カムリング４の径方向に延びて設けられてもよく、カムリング４において上下方向の両端部のみに設けられてもよく（図４の（ａ））、カムリング４の上方向の端部と下方向の端部とで互い違いに設けられてもよく（図４の（ｂ））、ロータ２の周方向に沿ってカムリング４に設けられてもよい（図４の（ｃ））。

【0066】

また、第一磁石４０は、カムリング４における吐出領域５１のみに設けられてもよい。ベーン１０３と第一磁石４０の間で生じる吸引力は、ベーン１０３が第一磁石４０に近い程大きい。そのため、この構成であっても、ベーン３と第一磁石４０の間で生じる吸引力は、吸込領域５０、遷移領域５２、吐出領域５１の順で小さい。よって、ベーン３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。

【0067】

＜変形例２＞
上記の第２実施形態では、カムリング４に第一磁石４０が設けられ、ベーン３は、ロータ２の回転により生じる遠心力と、先端部１０３ａと第一磁石４０とが引き付け合う吸引力と、によって内周カム面４ａに押圧される。これに代えて、サイドプレート３０に第一磁石４０が円弧状に設けられ、ベーン１０３は、基端部１０３ｂと第一磁石４０の間で生じる反発力と、ロータ２の回転により生じる遠心力と、によって内周カム面４ａに押圧される構成であってもよい。

【0068】

具体的には、第一磁石４０は、図９，図１０に示すように、貫通孔３５と吐出ポート３２の間にロータ２の周方向に沿って設けられる。また、第一磁石４０は、吐出領域５１及び遷移領域５２に対応して、吐出領域５１及び遷移領域５２にわたって設けられる。この形態では、第二磁石４１は、例えば、ベーン１０３の基端部１０３ｂ側に埋め込まれてベーン１０３と一体に形成される。第二磁石４１は、基端部３ｂ側の極（Ｓ極又はＮ極）が、第一磁石４０の外側の極（Ｓ極又はＮ極）と同じになるように設けられる。これにより、ベーン３には、図９の矢印で示すように、内周カム面４ａに近づく向きに力が作用する。また、第一磁石４０は、遷移領域５２では貫通孔３５に近い位置に設けられ、吐出領域５１では貫通孔３５から遠い位置に設けられる。言い換えれば、第一磁石４０は、遷移領域５２ではベーン１０３から離れて設けられ、吐出領域５１ではベーン１０３の近くに設けられる。これにより、ベーン１０３と第一磁石４０の間で生じる反発力は、ベーン３が第一磁石４０に近い吐出領域５１、遷移領域５２、吸込領域５０の順で大きい。つまり、ベーン１０３をカムリング４の内周カム面４ａに向けて押圧する押圧力は、吸込領域５０、遷移領域５２、吐出領域５１の順で小さい。よって、上記第２実施形態と同様に、吸込領域５０においてはベーン１０３が内周カム面４ａに小さい力で押圧され、吐出領域５１においてはベーン１０３が内周カム面４ａに大きい力で押圧され、第一遷移領域５２ａにおいては吸込領域５０よりも大きく吐出領域５１よりも小さい力でベーン１０３が内周カム面４ａに押圧される。そのため、ベーン１０３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。

【0069】

＜変形例３＞
上記の第２実施形態では、ベーン１０３は、第二磁石４１を有し、先端部１０３ａが第一磁石４０と引き付け合うように設けられる。これに限らず、ベーン１０３は、磁性体で形成されてもよい。この場合であっても、ベーン１０３には、先端部１０３ａと第一磁石４０とが引き付け合う吸引力が作用する。これにより、上記の第２実施形態と同様の効果を奏する。

【0070】

以上のように、ベーン１０３は、磁性体で形成されまたは第二磁石４１を有する構成であればよい。また、第一磁石４０は、ベーン１０３と反発する反発力またはベーン１０３と引き付け合う吸引力によりベーン３を内周カム面４ａに押圧するように設けられればよい。また、反発力または吸引力は、吸込領域５０、遷移領域５２、及び吐出領域５１の順で小さい構成であればよい。

【0071】

以下、本発明の実施形態の構成、作用、及び効果をまとめて説明する。

【0072】

ベーンポンプ２００は、回転駆動されるロータ２と、ロータ２の外周面に開口する複数のスリット２ａと、スリット２ａに摺動自在に収装される複数のベーン１０３と、ロータ２の回転に伴ってベーン１０３の先端部１０３ａが摺接する内周カム面４ａを有するカムリング４と、ロータ２、カムリング４、及び一対の隣り合うベーン１０３によって区画されるポンプ室６と、ロータ２の一方の側面が摺接する摺接面３０ａを有するサイド部材としてのサイドプレート１３０と、摺接面３０ａに開口しポンプ室６に作動流体を導く吸込ポート３１と、摺接面３０ａに開口しポンプ室６から吐出される作動流体を導く吐出ポート３２と、ベーン１０３に作用する磁場を発生させる第一磁石４０と、を備え、ベーン１０３は、磁性体で形成されまたは第二磁石４１を有し、ロータ２の回転により生じる遠心力と、第一磁石４０と反発する反発力または第一磁石４０と引き付け合う吸引力と、によって内周カム面４ａに押圧され、反発力または吸引力は、吸込ポート３１が設けられポンプ室６の容積が拡張する吸込領域５０、吐出ポート３２が設けられポンプ室６の容積が収縮する吐出領域５１、及び吸込領域５０と吐出領域５１の間の遷移領域５２において、吸込領域５０、遷移領域５２、及び吐出領域５１の順で小さい。

【0073】

この構成では、ロータ２の回転により生じる遠心力と、ベーン１０３と第一磁石４０との間で生じる反発力または吸引力により、ベーン１０３が内周カム面４ａに押圧される。また、反発力または吸引力は、吸込領域５０、遷移領域５２、及び吐出領域５１の順で小さい。よって、ポンプ室６内の作動流体の圧力が低くベーン１０３をカムリング４の内周面に向けて大きな力で押圧することが不要な吸込領域５０においては、ベーン１０３が内周カム面４ａに小さい力で押圧されるため、ベーン１０３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。一方で、ポンプ室６内の作動流体の圧力が高くベーン１０３をカムリング４の内周面に向けて大きな力で押圧することが求められる吐出領域５１においては、ベーン１０３を内周カム面４ａに大きい力で押圧して摺接させることができる。また、ポンプ室６内の作動流体の圧力が吸込領域５０よりも高く吐出領域５１よりも低い遷移領域５２においては、吸込領域５０よりも大きく吐出領域５１よりも小さい力でベーン１０３が内周カム面４ａに押圧される。そのため、ベーン１０３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。このように、ベーン１０３と第一磁石４０との間で生じる反発力または吸引力を調整することにより、ベーン１０３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。

【0074】

また、第一磁石４０は、カムリング４に設けられベーン１０３との間で吸引力を生じるとともに、吐出領域５１及び遷移領域５２に複数設けられ、吐出領域５１に設けられる第一磁石４０ｂとベーン１０３との間で生じる吸引力は、遷移領域５２に設けられる第一磁石４０ｃとベーン１０３との間で生じる吸引力よりも大きい。

【0075】

また、ベーン１０３は、第二磁石４１を有し、第一磁石４０は、円弧状に形成されてサイドプレート１３０に設けられベーン１０３との間で反発力を生じるとともに、吐出領域５１及び遷移領域５２に対応して設けられ、吐出領域５１に対応して設けられる第一磁石４０ｂと第二磁石４１との間で生じる反発力は、遷移領域５２に対応して設けられる第一磁石４０ｃと第二磁石４１との間で生じる反発力よりも大きい。

【0076】

これらの構成では、ベーン１０３がロータ２の回転により生じる遠心力と、第一磁石４０との間で生じる反発力または吸引力と、によって内周カム面４ａに押圧される構成において、吸込領域５０、遷移領域５２、及び吐出領域５１の順でベーン１０３が内周カム面４ａに押圧される押圧力を小さくすることができる。

【0077】

また、ベーンポンプ１００は、回転駆動されるロータ２と、ロータ２の外周面に開口する複数のスリット２ａと、スリット２ａに摺動自在に収装される複数のベーン３と、ロータ２の回転に伴ってベーン３の先端部３ａが摺接する内周カム面４ａを有するカムリング４と、ロータ２、カムリング４、及び一対の隣り合うベーン３によって区画されるポンプ室６と、ロータ２の一方の側面が摺接する摺接面３０ａを有するサイド部材としてのサイドプレート３０と、摺接面３０ａに開口しポンプ室６に作動流体を導く吸込ポート３１と、摺接面３０ａに開口しポンプ室６から吐出される作動流体を導く吐出ポート３２と、スリット２ａ内においてベーン３の基端部３ｂによって区画され、吐出ポート３２を通じて作動流体が導かれる背圧室２ｂと、ベーン３に作用する磁場を発生させる第一磁石４０と、を備え、ベーン３は、磁性体で形成され第二磁石４１を有し、ロータ２の回転により生じる遠心力と、背圧室２ｂ内の作動流体の圧力と、によって内周カム面４ａに押圧され、第一磁石４０は、ベーン３と内周カム面４ａとの間で生じる摩擦力が、ベーン３と反発する反発力またはベーン３と引き付け合う吸引力により小さくなるように設けられ、反発力または吸引力は、吸込ポート３１が設けられポンプ室６の容積が拡張する吸込領域５０、吐出ポート３２が設けられポンプ室６の容積が収縮する吐出領域５１、及び吸込領域５０と吐出領域５１の間の遷移領域５２において、吸込領域５０、遷移領域５２、及び吐出領域５１の順で大きい。

【0078】

この構成では、ベーン３と第一磁石４０との間で生じる反発力または吸引力により、ベーン３には内周カム面４ａから離れる向きに力が作用し、ベーン３と内周カム面４ａとの摺接面で生じる摩擦力が小さくなる。また、反発力または吸引力は、吸込領域５０、遷移領域５２、及び吐出領域５１の順で大きい。よって、ポンプ室６内の作動流体の圧力が低くベーン３をカムリング４の内周面に向けて大きな力で押圧することが不要な吸込領域５０においては、ベーン３が内周カム面４ａに小さい力で押圧されるため、ベーン３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。一方で、ポンプ室６内の作動流体の圧力が高くベーン３をカムリング４の内周面に向けて大きな力で押圧することが求められる吐出領域５１においては、ベーン３を内周カム面４ａに大きい力で押圧して摺接させることができる。また、ポンプ室６内の作動流体の圧力が吸込領域５０よりも高く吐出領域５１よりも低い遷移領域５２においては、吸込領域５０よりも大きく吐出領域５１よりも小さい力でベーン３が内周カム面４ａに押圧される。そのため、ベーン３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。このように、ベーン３と第一磁石４０との間で生じる反発力または吸引力を調整することにより、ベーン３と内周カム面４ａとを摺接させつつ内周カム面４ａで生じる摩擦力を小さくすることができる。

【0079】

また、ベーン３は、第二磁石４１を有し、第一磁石４０は、カムリング４に設けられ第二磁石４１との間で反発力を生じるとともに、吸込領域５０及び遷移領域５２に設けられ、吸込領域５０に設けられる第一磁石４０ａと第二磁石４１との間で生じる反発力は、遷移領域５２に設けられる第一磁石４０ｃと第二磁石４１との間で生じる反発力よりも大きい。

【0080】

この構成では、ベーン３がロータ２の回転により生じる遠心力と、背圧室２ｂ内の作動流体の圧力と、によって内周カム面４ａに押圧されつつ、第一磁石４０によりベーン３に内周カム面４ａから離れる向きに力が作用する構成において、吸込領域５０、遷移領域５２、及び吐出領域５１の順でベーン３が内周カム面４ａに押圧される押圧力を小さくすることができる。

【0081】

以上、本発明の実施形態について説明したが、上記実施形態は本発明の適用例の一部を示したに過ぎず、本発明の技術的範囲を上記実施形態の具体的構成に限定する趣旨ではない。

【0082】

なお、上記実施形態の変形例では、サイドプレート３０，１３０に第一磁石４０が設けられる形態について説明したが、ポンプカバー７や、ポンプカバー７とロータ２の間に設けられる別のサイドプレートに第一磁石４０が設けられてもよい。

【符号の説明】

【0083】

２・・・ロータ、２ａ・・・スリット、２ｂ・・・背圧室、３，１０３・・・ベーン、３ａ，１０３ａ・・・先端部、３ｂ，１０３ｂ・・・基端部、４・・・カムリング、４ａ・・・内周カム面、３０，１３０・・・サイドプレート（サイド部材）、３０ａ・・・摺接面、３１・・・吸込ポート、３２・・・吐出ポート、４０，４０ａ，４０ｂ，４０ｃ・・・第一磁石、４１・・・第二磁石、５０・・・吸込領域、５１・・・吐出領域、５２ａ・・・第一遷移領域（遷移領域）、５２ｂ・・・第二遷移領域（遷移領域）、１００，２００・・・ベーンポンプ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】