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特開2024-24600光選択カット光学部材、樹脂組成物およびフタロシアニン系化合物
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024024600
(43)【公開日】2024-02-22
(54)【発明の名称】光選択カット光学部材、樹脂組成物およびフタロシアニン系化合物
(51)【国際特許分類】
G02B 5/22 20060101AFI20240215BHJP
C09B 47/04 20060101ALI20240215BHJP
C09B 57/00 20060101ALI20240215BHJP
C09B 55/00 20060101ALI20240215BHJP
【ＦＩ】
G02B5/22
C09B47/04
C09B57/00 X
C09B55/00 C
【審査請求】未請求
【請求項の数】10
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023121041
(22)【出願日】2023-07-25
(31)【優先権主張番号】P 2022127293
(32)【優先日】2022-08-09
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000004628
【氏名又は名称】株式会社日本触媒
(74)【代理人】
【識別番号】110002837
【氏名又は名称】弁理士法人アスフィ国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】久野 美輝
(72)【発明者】
【氏名】青木 正矩
【テーマコード（参考）】
2H148
【Ｆターム（参考）】
2H148CA04
2H148CA12
2H148CA13
2H148CA14
2H148CA17
2H148CA27
2H148CA29
(57)【要約】
【課題】透過領域の透過スペクトルのリップルの発生を抑えることができる光選択カット光学部材を提供する。
【解決手段】基材と吸収層と誘電体膜とを有する光選択カット光学部材であって、吸収層が水溶性樹脂と水溶性色素を含有する樹脂組成物から形成されている光選択カット光学部材。
【選択図】なし
【解決手段】基材と吸収層と誘電体膜とを有する光選択カット光学部材であって、吸収層が水溶性樹脂と水溶性色素を含有する樹脂組成物から形成されている光選択カット光学部材。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材と吸収層と誘電体膜とを有する光選択カット光学部材であって、
前記吸収層は、水溶性樹脂と水溶性色素を含有する樹脂組成物から形成されていることを特徴とする光選択カット光学部材。
前記吸収層は、水溶性樹脂と水溶性色素を含有する樹脂組成物から形成されていることを特徴とする光選択カット光学部材。
【請求項2】
前記水溶性色素は、近赤外線吸収色素および紫外線吸収色素から選ばれる少なくとも１種である請求項１に記載の光選択カット光学部材。
【請求項3】
前記水溶性色素は、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、クロコニウム系化合物、シアニン系化合物、ジピロメンテン系化合物、ジイモニウム系化合物、金属ジチオール錯体化合物、および金属ジアミン錯体化合物から選ばれる少なくとも１種の近赤外線吸収色素である請求項１に記載の光選択カット光学部材。
【請求項4】
前記水溶性色素は、トリアジン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、アクリレート系化合物、ベンゾオキサジノン系化合物、アゾメチン系化合物、アゾキシ系化合物、シアノビフェニル系化合物、シアノフェニルエステル系化合物、安息香酸エステル系化合物、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル系化合物、シアノフェニルシクロヘキサン系化合物、フェニルピリミジン系化合物、フェニルジオキサン系化合物、シナメート系化合物、およびトラン系化合物から選ばれる少なくとも１種の紫外線吸収色素である請求項１に記載の光選択カット光学部材。
【請求項5】
前記水溶性樹脂は、アミノ基、カルボニル基、エーテル基またはスルホニル基を有する請求項１に記載の光選択カット光学部材。
【請求項6】
前記基材はガラス基板であり、前記吸収層がガラス基板上に形成されている請求項１に記載の光選択カット光学部材。
【請求項7】
前記水溶性樹脂と前記基材との屈折率差は０．３０以下である請求項１に記載の光選択カット光学部材。
【請求項8】
請求項１～７のいずれか一項に記載の光選択カット光学部材を有することを特徴とする撮像素子。
【請求項9】
請求項１～７のいずれか一項に記載の光選択カット光学部材の吸収層を形成するための樹脂組成物であって、
水溶性樹脂と水溶性色素を含有することを特徴とする樹脂組成物。
水溶性樹脂と水溶性色素を含有することを特徴とする樹脂組成物。
【請求項10】
下記式（１）で表されることを特徴とするフタロシアニン系化合物。
［式（１）中、
Ｍは、金属原子、金属酸化物または金属ハロゲン化物を表し、
Ｒ１～Ｒ１６はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、－ＯＲ１７または－ＳＲ１８を表し、
Ｒ１７とＲ１８はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、または置換基を有していてもよいアルキル基を表し、
Ｒ１～Ｒ１６のうち５つ以上が－ＯＲ１７または－ＳＲ１８であり、当該Ｒ１７およびＲ１８は、カルボキシ基またはその塩を有するアリール基、またはカルボキシ基またはその塩を有するアラルキル基である。］
【化1】
Ｍは、金属原子、金属酸化物または金属ハロゲン化物を表し、
Ｒ１～Ｒ１６はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、－ＯＲ１７または－ＳＲ１８を表し、
Ｒ１７とＲ１８はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、または置換基を有していてもよいアルキル基を表し、
Ｒ１～Ｒ１６のうち５つ以上が－ＯＲ１７または－ＳＲ１８であり、当該Ｒ１７およびＲ１８は、カルボキシ基またはその塩を有するアリール基、またはカルボキシ基またはその塩を有するアラルキル基である。］
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光選択カット光学部材、当該光選択カット光学部材の吸収層を形成するための樹脂組成物、および当該光選択カット光学部材の吸収層に含まれる色素として好適に用いることができるフタロシアニン系化合物に関するものである。
【背景技術】
【0002】
携帯電話用カメラ、デジタルカメラ、車載用カメラ、ビデオカメラ、表示素子（ＬＥＤ等）等の撮像装置には、被写体の光を電気信号等に変換して出力する撮像素子が通常使用されている。このような撮像素子は、例えばＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）やＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ Ｍｅｔａｌ－Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）等の検出素子（センサー）およびレンズを備えるとともに、高性能化のため、画像処理等の妨げとなる光学ノイズ（例えばゴーストやフレア）を除去するための近赤外線カットフィルターを備える場合がある。このような近赤外線カットフィルターには通常、酸化チタン等の高屈折率材料層や酸化ケイ素等の低屈折率材料層から構成された誘電体膜が設けられており、高屈折率材料層と低屈折率材料層の各層の厚みや層数を調整することにより、入射光のうち所定の波長域の光を反射して、カットすることができる。
【0003】
誘電体膜によって所定の波長域の光の入射をカットする場合、誘電体膜は入射角によってカット波長域あるいは透過波長域が変化する。例えば、入射角が垂直方向から斜め方向に変化すると、カット波長域あるいは透過波長域が短波長側にシフトする。そのため誘電体膜では、斜め方向の入射光に対しては、意図した波長域の光を十分にカットできなかったり、あるいは意図しない波長域の光もカットする事態が生じうる。このような入射角依存性を低減するために、色素を含有する吸収層を設けることがなされている。誘電体膜に加え、色素を含有する吸収層を設けることにより、吸収層に含まれる色素が誘電体膜のカット波長域と透過波長域の境界付近の波長域の光を吸収して、光学特性の入射角依存性を低減することができる。例えば、特許文献１，２には、ガラス基板と近赤外線吸収色素を含有する吸収層と誘電体膜とを備えた近赤外線カットフィルター（光選択カット光学部材）が開示されている。一方、色素として水溶性色素が知られており、例えば特許文献３，４にはそのような水溶性色素が開示されているが、水溶性色素を近赤外線カットフィルターなどの光選択カット光学部材に適用することは開示されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０１４－１２６６４２号公報
【特許文献2】特開２０１２－００８５３２号公報
【特許文献3】特開２００５－２２００６０号公報
【特許文献4】特許第５０６６４１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
近赤外線カットフィルターでは、誘電体膜と吸収層によって入射光のうち近赤外線領域の光が選択的にカットされ、可視光領域の光が透過光として近赤外線カットフィルターを透過する。この場合、透過領域の光が色素固有の透過スペクトルに近い透過スペクトルを示すことが望ましく、これにより近赤外線カットフィルターの光学設計が容易になる。しかしながら、従来の近赤外線カットフィルターなどの光選択カット光学部材では、透過領域の透過スペクトルにリップルが生じて透過スペクトルが波うち、色素固有の透過スペクトルに対してずれが生じることがあった。
【0006】
本発明は前記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、透過領域の透過スペクトルのリップルの発生を抑えることができる光選択カット光学部材を提供することにある。本発明はまた、本発明の光選択カット光学部材を備えた撮像素子、当該光選択カット光学部材の吸収層を形成するための樹脂組成物、および当該光選択カット光学部材の吸収層に含まれる色素として好適に用いることができるフタロシアニン化合物も提供する。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明は、以下の光選択カット光学部材、撮像素子、樹脂組成物およびフタロシアニン系化合物を含む。
［１］ 基材と吸収層と誘電体膜とを有する光選択カット光学部材であって、前記吸収層は、水溶性樹脂と水溶性色素を含有する樹脂組成物から形成されていることを特徴とする光選択カット光学部材。
［２］ 前記水溶性色素は、近赤外線吸収色素および紫外線吸収色素から選ばれる少なくとも１種である［１］に記載の光選択カット光学部材。
［３］ 前記水溶性色素は、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、クロコニウム系化合物、シアニン系化合物、ジピロメンテン系化合物、ジイモニウム系化合物、金属ジチオール錯体化合物、および金属ジアミン錯体化合物から選ばれる少なくとも１種の近赤外線吸収色素である［１］または［２］に記載の光選択カット光学部材。
［４］ 前記水溶性色素は、トリアジン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、アクリレート系化合物、ベンゾオキサジノン系化合物、アゾメチン系化合物、アゾキシ系化合物、シアノビフェニル系化合物、シアノフェニルエステル系化合物、安息香酸エステル系化合物、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル系化合物、シアノフェニルシクロヘキサン系化合物、フェニルピリミジン系化合物、フェニルジオキサン系化合物、シナメート系化合物、およびトラン系化合物から選ばれる少なくとも１種の紫外線吸収色素である［１］～［３］のいずれかに記載の光選択カット光学部材。
［５］ 前記水溶性樹脂は、アミノ基、カルボニル基、エーテル基またはスルホニル基を有する［１］～［４］のいずれかに記載の光選択カット光学部材。
［６］ 前記基材はガラス基板であり、前記吸収層がガラス基板上に形成されている［１］～［５］のいずれかに記載の光選択カット光学部材。
［７］ 前記水溶性樹脂と前記基材との屈折率差は０．３０以下である［１］～［６］のいずれかに記載の光選択カット光学部材。
［８］ ［１］～［７］のいずれかに記載の光選択カット光学部材を有することを特徴とする撮像素子。
［９］ ［１］～［７］のいずれかに記載の光選択カット光学部材の吸収層を形成するための樹脂組成物であって、水溶性樹脂と水溶性色素を含有することを特徴とする樹脂組成物。
［１０］ 下記式（１）で表されることを特徴とするフタロシアニン系化合物。
［式（１）中、
Ｍは、金属原子、金属酸化物または金属ハロゲン化物を表し、
Ｒ１～Ｒ１６はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、－ＯＲ１７または－ＳＲ１８を表し、
Ｒ１７とＲ１８はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、または置換基を有していてもよいアルキル基を表し、
Ｒ１～Ｒ１６のうち５つ以上が－ＯＲ１７または－ＳＲ１８であり、当該Ｒ１７およびＲ１８は、カルボキシ基またはその塩を有するアリール基、またはカルボキシ基またはその塩を有するアラルキル基である。］
［１］ 基材と吸収層と誘電体膜とを有する光選択カット光学部材であって、前記吸収層は、水溶性樹脂と水溶性色素を含有する樹脂組成物から形成されていることを特徴とする光選択カット光学部材。
［２］ 前記水溶性色素は、近赤外線吸収色素および紫外線吸収色素から選ばれる少なくとも１種である［１］に記載の光選択カット光学部材。
［３］ 前記水溶性色素は、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、クロコニウム系化合物、シアニン系化合物、ジピロメンテン系化合物、ジイモニウム系化合物、金属ジチオール錯体化合物、および金属ジアミン錯体化合物から選ばれる少なくとも１種の近赤外線吸収色素である［１］または［２］に記載の光選択カット光学部材。
［４］ 前記水溶性色素は、トリアジン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、アクリレート系化合物、ベンゾオキサジノン系化合物、アゾメチン系化合物、アゾキシ系化合物、シアノビフェニル系化合物、シアノフェニルエステル系化合物、安息香酸エステル系化合物、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル系化合物、シアノフェニルシクロヘキサン系化合物、フェニルピリミジン系化合物、フェニルジオキサン系化合物、シナメート系化合物、およびトラン系化合物から選ばれる少なくとも１種の紫外線吸収色素である［１］～［３］のいずれかに記載の光選択カット光学部材。
［５］ 前記水溶性樹脂は、アミノ基、カルボニル基、エーテル基またはスルホニル基を有する［１］～［４］のいずれかに記載の光選択カット光学部材。
［６］ 前記基材はガラス基板であり、前記吸収層がガラス基板上に形成されている［１］～［５］のいずれかに記載の光選択カット光学部材。
［７］ 前記水溶性樹脂と前記基材との屈折率差は０．３０以下である［１］～［６］のいずれかに記載の光選択カット光学部材。
［８］ ［１］～［７］のいずれかに記載の光選択カット光学部材を有することを特徴とする撮像素子。
［９］ ［１］～［７］のいずれかに記載の光選択カット光学部材の吸収層を形成するための樹脂組成物であって、水溶性樹脂と水溶性色素を含有することを特徴とする樹脂組成物。
［１０］ 下記式（１）で表されることを特徴とするフタロシアニン系化合物。
【化1】
［式（１）中、
Ｍは、金属原子、金属酸化物または金属ハロゲン化物を表し、
Ｒ１～Ｒ１６はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、－ＯＲ１７または－ＳＲ１８を表し、
Ｒ１７とＲ１８はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、または置換基を有していてもよいアルキル基を表し、
Ｒ１～Ｒ１６のうち５つ以上が－ＯＲ１７または－ＳＲ１８であり、当該Ｒ１７およびＲ１８は、カルボキシ基またはその塩を有するアリール基、またはカルボキシ基またはその塩を有するアラルキル基である。］
【発明の効果】
【0008】
本発明の光選択カット光学部材によれば、光選択カット光学部材を透過した光の透過スペクトル、すなわち透過領域の透過スペクトルのリップルを抑えることができる。そのため、光選択カット光学部材の光学設計が容易になる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1】実施例１で作製した光学部材のキュア前後の透過スペクトルを表す。
【図2】実施例１で作製した光学部材の誘電体膜蒸着後の透過スペクトルを表す。
【図3】実施例１で作製した光学部材の透過領域における透過スペクトルの拡大図を表す。
【図4】比較例１で作製した光学部材の透過領域における透過スペクトルの拡大図を表す。
【図5】比較例２で作製した光学部材の透過領域における透過スペクトルの拡大図を表す。
【図6】比較例３で作製した光学部材の透過領域における透過スペクトルの拡大図を表す。
【発明を実施するための形態】
【0010】
本発明の光選択カット光学部材は、基材と吸収層と誘電体膜とを有し、吸収層が、水溶性樹脂と水溶性色素（光選択吸収色素）を含有する樹脂組成物から形成されているものである。光選択カット光学部材は、誘電体膜と吸収層によって入射光のうち一部の波長域の光を選択的にカットすることができるが、入射光のうち、誘電体膜によって反射されず、吸収層にも吸収されなかった光は、透過光として光選択カット光学部材を透過する。例えば、光選択カット光学部材が、近赤外領域および／または紫外領域の光をカットするものである場合は、可視光領域の光が透過光となる。この場合、透過領域の光は、光選択吸収色素固有の透過スペクトルに近い透過スペクトルを示すことが望ましく、これにより光選択カット光学部材の光学設計が容易になる。しかし、水不溶性の樹脂や水不溶性の色素を用いて基材上に吸収層を形成した場合、透過領域の透過スペクトルにリップルが生じ、色素固有の透過スペクトルに対してずれが生じることがあった。具体的には、透過領域の透過スペクトルが波うち、一部の波長の光の透過率が色素固有の透過スペクトルより高くなったり、逆に他の一部の波長の光の透過率が色素固有の透過スペクトルより低くなることが生じていた。これに対して本発明の光選択カット光学部材は、吸収層が水溶性樹脂と水溶性色素を含有する樹脂組成物から形成されており、これにより、光選択カット光学部材を透過した光の透過スペクトルのリップルを抑えることができる。そのため、光選択カット光学部材の光学設計が容易になる。また、水溶性樹脂と水溶性色素を含有する樹脂組成物を用いることにより、有機溶媒ではなく水やアルコール等の水系溶媒を使用することが可能となり、光選択カット光学部材の製造の際の環境負荷を低減することができる。
【0011】
本発明において、光選択カット光学部材によってカットされる光は、近赤外領域の少なくとも一部の波長域の光であってもよく、紫外領域の少なくとも一部の波長域の光であってもよく、可視光領域の少なくとも一部の波長域の光であってもよく、これらの組み合わせであってもよい。なお、光選択カット光学部材は、入射光のうち紫外領域から近赤外領域の少なくとも一部の波長域の光を透過させるものであることが好ましく、可視光領域の光を透過させるものであることがより好ましい。これにより、光選択カット光学部材をカメラ等の撮像素子（イメージセンサー）に好適に適用できる。
【0012】
光選択カット光学部材としては、所定の波長域の光を選択的にカットできるフィルターやレンズ等が挙げられる。フィルターとしては、例えば、近赤外線カットフィルター、紫外線カットフィルター、カラーフィルター等が挙げられる。レンズは、光選択カット光学部材の表面に所定パターンを賦形したり、光選択カット光学部材を所定形状に形成することにより、形成することができる。レンズも、光選択カット性能を有するものとなる。以下、本発明の光選択カット光学部材について詳しく説明する。
【0013】
光選択カット光学部材において、基材は、吸収層や誘電体膜の支持体として用いられる。基材は、透明で光透過性を有するものであれば、無着色であっても着色したものであってもよい。基材は、ガラスや樹脂等から構成することができる。
【0014】
基材の形状は特に限定されず、光選択カット光学部材の用途や設置箇所に応じて適宜設定することができる。基材の形状としては、板状、シート状、球状、楕円球状、レンズ状、立方体状、柱状、棒状、錐形状、塊状、粒状等が挙げられる。
【0015】
基材は、光選択カット光学部材の耐熱性や耐久性を高める点から、ガラスから構成されることが好ましい。ガラス基材を用いれば、例えば、半田リフローにより光選択カット光学部材を電子部品に実装することが可能となり、電子部品の小型化を図ることができる。またガラス基材は、高温にさらされても割れや反りが起こりにくいため、吸収層との密着性を確保しやすくなる。ガラス基材としては、板状のガラス、すなわちガラス基板を用いることが好ましい。
【0016】
ガラス基材は、ケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、ホウ酸ガラス、リン酸ガラス等の公知のガラスから構成することができる。これらのガラスは、ケイ素原子、ホウ素原子またはリン原子が、酸素原子と網目構造を形成してガラスの主骨格を形成しており、ガラス中には、これらの原子以外にナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、バリウム、アルミニウム、鉄、銀、銅、コバルト、ニッケル、鉛、亜鉛、フッ素等の原子またはイオンが存在していてもよい。
【0017】
基材の厚みは、例えば、強度を確保する点から、０．０５ｍｍ以上が好ましく、０．１ｍｍ以上がより好ましく、また薄型化の点から、０．４ｍｍ以下が好ましく、０．３ｍｍ以下がより好ましい。
【0018】
誘電体膜は、通常、高屈折率材料層と低屈折率材料層とが交互に積層した誘電体多層膜として構成されるが、高屈折率材料層と低屈折率材料層の一方のみから構成されてもよい。高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．７以上の材料を用いることができ、屈折率の範囲が１．７以上２．５以下の材料が選択されることが好ましく、当該屈折率の範囲は１．８以上がより好ましく、２．０以上がさらに好ましい。高屈折率材料層を構成する材料としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化錫、酸化ビスマス等の酸化物；窒化ケイ素等の窒化物；前記酸化物や前記窒化物の混合物やそれらにアルミニウムや銅等の金属や炭素を含有ドープしたもの（例えば、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ））等が挙げられる。低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．７未満の材料を用いることができ、屈折率の範囲が１．２～１．６の材料が選択されることが好ましく、１．３～１．５の材料が選択されることがより好ましい。低屈折率材料層を構成する材料としては、例えば、酸化ケイ素（シリカ、ＳｉＯｘ（ｘ＝１～２））、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、六フッ化アルミニウムナトリウム等が挙げられる。これらの中でも、高屈折率材料層は酸化チタンから構成されることが好ましく、低屈折率材料層は酸化ケイ素から構成されることが好ましい。
【0019】
高屈折率材料層と低屈折率材料層の各厚みは、遮断しようとする光の波長λ（ｎｍ）の０．１λ～０．５λの範囲に調整することが好ましく、０．２λ～０．３λの範囲に調整することがより好ましい。このように誘電体膜を形成することにより、所望の波長域の光を選択的に反射させることができ、誘電体膜によって、紫外線反射膜、近赤外線反射膜、反射防止膜（可視光反射防止膜）等を形成することができる。紫外線反射膜と近赤外線反射膜は、１つで紫外線反射機能と近赤外線反射機能を有するものであってもよい。
【0020】
誘電体膜の層数は１層以上であれば特に限定されないが、紫外線反射膜、近赤外線反射膜、反射防止膜等としての所望の光学性能を発揮させる観点から、例えば２層～８０層であることが好ましい。誘電体膜の層数は、５層以上、１０層以上または２０層以上であってもよく、また７０層以下または６０層以下であってもよい。誘電体膜の厚みは特に限定されず、例えば０．０１μｍ～１０μｍの範囲であればよいが、所望の波長域の光の入射を十分にカットする観点から、０．０２μｍ以上が好ましく、０．０３μｍ以上がさらに好ましく、また薄型化の観点から、５μｍ以下が好ましく、３μｍ以下がさらに好ましい。
【0021】
誘電体膜は、蒸着膜として形成することができる。誘電体膜の蒸着は公知の方法により行えばよい。例えば、蒸発源の加熱手段としては、抵抗加熱、電子ビーム加熱、高周波誘導加熱、レーザビーム加熱等の公知の加熱手段を用いることができる。なお蒸着としては、イオンアシスト蒸着を用いることが好ましく、これにより緻密かつ平滑性の高い誘電体膜を形成しやすくなり、所望の光学性能を付与させやすくなる。イオンアシストとしては、イオン銃、イオンプレーティング、プラズマ銃等を用いることができる。
【0022】
誘電体膜は、光選択カット光学部材のいずれかの層を構成するように設けられればよく、基材に隣接して設けられてもよく、吸収層に隣接して設けられてもよく、基材にも吸収層にも隣接せずに設けられてもよい。光選択カット光学部材は、例えば、基材の一方側に吸収層が設けられ、他方側に誘電体膜が設けられてもよく、基材の一方側に吸収層が設けられ、吸収層の基材とは反対側に誘電体膜が設けられてもよい。なお、誘電体膜は吸収層よりも入光側に設けられることが好ましい。
【0023】
吸収層は、水溶性樹脂と水溶性色素を含有する樹脂組成物から形成される。本発明の光選択カット光学部材は、このように吸収層が形成されることにより、透過領域における透過スペクトルのリップルが抑えられるものとなる。その結果、光選択カット光学部材を透過した光の透過スペクトルは色素固有の透過スペクトルに近いものとなり、光選択カット光学部材の光学設計が容易になる。このようにリップルの発生が抑えられる原因としては、例えば、水溶性樹脂を用いることにより吸収層と基材との親和性が高くなり、内部反射が抑制されることが考えられる。なお、透過スペクトルの透過領域とは、波長３００ｎｍ～１０００ｎｍの範囲において相対的に透過率が高くなる波長範囲を意味し、例えば透過率が７０％以上となる範囲を透過領域とすることができる。
【0024】
吸収層は基材上に設けられることが好ましく、すなわち基材に隣接して設けられることが好ましい。吸収層は、基材の主面の一方面のみに設けられてもよく、両面に設けられてもよい。
【0025】
水溶性樹脂は、水に溶解する樹脂であれば特に限定されず、公知の水溶性樹脂を用いることができる。水溶性樹脂としては、例えば、ポリアクリル酸およびその塩、ポリビニルアセタール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリエチレンイミン、ポリアクリルアミド、スチレン－無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアミン、ポリアリルアミン、ポリスルホンアミドおよびその塩、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、オキサゾリン基含有水溶性樹脂、水溶性ウレタン樹脂、水溶性フェノール樹脂、水溶性エポキシ樹脂、水溶性メラミン樹脂、水溶性尿素樹脂、アルキド樹脂等が挙げられる。吸収層には、水溶性樹脂が１種のみ含まれていても、２種以上含まれていてもよい。
【0026】
水溶性樹脂は、アミノ基、カルボニル基、エーテル基またはスルホニル基を有するものが好ましい。このような水溶性樹脂を用いれば、水への溶解性を確保しつつ、吸収層の耐熱性を高めることが容易になる。アミノ基を有する水溶性樹脂としては、例えば、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンイミン、ポリアクリルアミド、ポリビニルアミン、ポリアリルアミン、ポリスルホンアミドおよびその塩、水溶性ウレタン樹脂、水溶性メラミン樹脂、水溶性尿素樹脂が挙げられる。カルボニル基を有する水溶性樹脂としては、例えば、ポリアクリル酸およびその塩、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、スチレン－無水マレイン酸共重合体、カルボキシメチルセルロール、水溶性ウレタン樹脂、水溶性尿素樹脂、アルキド樹脂が挙げられる。エーテル基を有する水溶性樹脂としては、例えば、ポリアクリル酸およびその塩、ポリビニルアセタール、ポリエチレングリコール、スチレン－無水マレイン酸共重合体、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、オキサゾリン基含有水溶性樹脂、水溶性ウレタン樹脂、水溶性エポキシ樹脂、アルキド樹脂が挙げられる。スルホニル基を有する水溶性樹脂としては、例えば、ポリスルホンアミドおよびその塩が挙げられる。水溶性樹脂は、アミノ基、カルボニル基、エーテル基、スルホニル基から選ばれる２種以上の基を有していてもよく、例えばアミド基、カルボキシ基、ウレタン基、スルホンアミド基等を有するものであってもよい。このような水溶性樹脂としては、ポリアクリル酸およびその塩、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、スチレン－無水マレイン酸共重合体、ポリスルホンアミドおよびその塩、カルボキシメチルセルロース、水溶性ウレタン樹脂、水溶性尿素樹脂、アルキド樹脂等が挙げられる。水溶性樹脂は、水溶性フェノール樹脂のようなフェノール性水酸基を有するものであってもよい。一方、水溶性樹脂は、アルコール性水酸基を有しないものであってもよい。
【0027】
水溶性樹脂は、水への溶解度が０．１質量％以上であることが好ましく、１質量％以上がより好ましく、３質量％以上がさらに好ましく、５質量％以上がさらにより好ましい。水溶性樹脂は、水への溶解度がさらに高くてもよく、１０質量％以上、２０質量％以上または３０質量％以上であってもよい。一方、水溶性樹脂の水への溶解度の上限は特に限定されず、８０質量％以下、６０質量％以下または５０質量％以下であってもよい。水溶性樹脂は、２５℃で撹拌しながら水に加え、目視で不溶分の有無を確認することで、水に溶解したかどうかを判断することができる。例えば、樹脂を所定の濃度（例えば０．１質量％の濃度）で水に加え、不溶分が認められた場合は、溶解度が当該所定の濃度未満であると判断することができる。
【0028】
水溶性色素は、水に溶解する色素であれば特に限定されない。水溶性色素は、有機色素であっても、無機色素であっても、有機無機複合色素（例えば、金属原子またはイオンが配位した有機化合物）であっても、特に限定されない。吸収層には、色素が１種のみ含まれていても、２種以上含まれていてもよい。
【0029】
水溶性色素は、水への溶解度が０．１質量％以上であることが好ましく、１質量％以上がより好ましく、３質量％以上がさらに好ましく、５質量％以上がさらにより好ましい。水溶性色素は、水への溶解度がさらに高くてもよく、１０質量％以上、２０質量％以上または３０質量％以上であってもよい。一方、水溶性色素の水への溶解度の上限は特に限定されず、８０質量％以下、６０質量％以下または５０質量％以下であってもよい。水溶性色素は、２５℃で撹拌しながら水に加え、目視で不溶分の有無を確認することで、水に溶解したかどうかを判断することができる。例えば、色素を所定の濃度（例えば０．１質量％の濃度）で水に加え、不溶分が認められた場合は、溶解度が当該所定の濃度未満であると判断することができる。
【0030】
水溶性色素は、可視光を吸収する色素であってもよく、可視光よりも長波長側の近赤外線を吸収する色素であってもよく、可視光よりも短波長側の紫外線を吸収する色素であってもよい。水溶性色素は、光選択カット光学部材としての用途を考慮すると、波長２００ｎｍ～１１００ｎｍの範囲に吸収極大を有することが好ましい。
【0031】
水溶性色素が可視光吸収色素である場合は、水溶性色素は、可視光領域（例えば、波長４２０ｎｍ超６８０ｎｍ未満の範囲）に極大吸収を有するものであればよく、例えば視感度が高い波長５００ｎｍ以上６８０ｎｍ未満の範囲に極大吸収を有するものであることが好ましい。水溶性色素が可視光吸収色素であれば、光選択カット光学部材を着色フィルターやブルーライト軽減フィルター等に適用することができる。
【0032】
水溶性色素が近赤外線吸収色素である場合は、水溶性色素は、例えば波長６８０ｎｍ以上１１００ｎｍ以下の範囲に吸収極大を有するものが好ましい。水溶性色素が近赤外線吸収色素であれば、光選択カット光学部材を、赤色～近赤外領域の光をカットする近赤外線カット光学部材に適用することができる。
【0033】
近赤外線吸収色素は、波長２００ｎｍ以上１１００ｎｍ以下の範囲における吸収スペクトルにおいて、波長６８０ｎｍ以上１１００ｎｍ以下の範囲に吸収極大を有するピークを有し、かつ当該吸収ピークの吸収極大が波長２００ｎｍ以上１１００ｎｍ以下の範囲で最大値をとることが好ましい。当該吸収極大波長は６８５ｎｍ以上がより好ましく、６９０ｎｍ以上がさらに好ましく、また１０００ｎｍ以下がより好ましく、９００ｎｍ以下がさらに好ましく、８００ｎｍ以下がさらにより好ましい。
【0034】
水溶性色素が紫外線吸収色素である場合、水溶性色素は、例えば２００ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲に吸収極大を有するものが好ましい。水溶性色素が紫外線吸収色素であれば、光選択カット光学部材を、紫外領域の光をカットする紫外線カット光学部材に適用することができる。さらに、樹脂組成物の保管の際や光学部材の製造・加工（例えば蒸着や実装など）の際に紫外光にさらされても、当該紫外光から樹脂成分や樹脂組成物中に含まれる他の成分を保護し、これらの成分の劣化を抑制することができる。
【0035】
紫外線吸収色素は、波長２００ｎｍ以上１１００ｎｍ以下の範囲における吸収スペクトルにおいて、波長２００ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲に吸収極大を有するピークを有し、かつ当該吸収ピークの吸収極大が波長２００ｎｍ以上１１００ｎｍ以下の範囲で最大値をとることが好ましい。当該吸収極大波長は２５０ｎｍ以上がより好ましく、３００ｎｍ以上がさらに好ましく、また４００ｎｍ以下がより好ましい。
【0036】
水溶性色素は、近赤外線吸収色素および紫外線吸収色素から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。これにより、光選択カット光学部材は、近赤外領域および／または紫外領域の光の透過を抑え可視光領域の光を優先的に透過するものとなり、近赤外線カット光学部材や紫外線カット光学部材に好適に適用することができる。吸収層は、水溶性色素として、近赤外線吸収色素と紫外線吸収色素を含むものであることが好ましく、可視光領域の光を透過させるものであることがより好ましい。これにより、光選択カット光学部材をカメラ等の撮像素子（イメージセンサー）に好適に適用できる。
【0037】
水溶性色素が近赤外線吸収色素である場合、水溶性色素としては、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、クロコニウム系化合物、シアニン系化合物、ジピロメンテン系化合物、ジイモニウム系化合物、金属ジチオール錯体化合物、および金属ジアミン錯体化合物から選ばれる少なくとも１種を用いることが好ましい。これらの化合物は近赤外領域の光を好適に吸収することができるとともに、可視光領域の光の透過率を高めることが容易になる。
【0038】
近赤外領域に吸収領域を有する水溶性色素としては、例えばフタロシアニン系化合物を好適に用いることができる。水溶性のフタロシアニン系化合物は、フタロシアニン骨格、すなわち４つのフタル酸イミドが窒素原子で架橋された環状構造を有し、水溶性であれば、特に制限なく用いることができる。水溶性色素としてフタロシアニン系化合物を用いれば、近赤外領域の光の透過を選択的に吸収することができる。また、フタロシアニン系化合物は分解温度が高いため、耐熱性に優れた光選択カット光学部材を得ることが容易になる。
【0039】
フタロシアニン系化合物としては、下記式（１）で表される化合物を用いることが好ましい。式（１）中、Ｍは、金属原子、金属酸化物または金属ハロゲン化物を表し、Ｒ１～Ｒ１６はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、－ＯＲ１７または－ＳＲ１８を表し、Ｒ１７とＲ１８はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Ｍを構成する金属元素は、酸素やハロゲン等の他の元素と結合していても配位していてもよい。
【0040】
【化2】
【0041】
式（１）中、Ｍを構成する金属元素としては、銅、亜鉛、インジウム、コバルト、バナジウム、鉄、ニッケル、錫、銀、マグネシウム、ナトリウム、リチウム、鉛等が挙げられる。これらの金属元素の中でも、可視光透過性や耐光性の点から、銅、バナジウム、および亜鉛が好ましく、銅および亜鉛がより好ましい。銅フタロシアニン（フタロシアニンの銅錯体）は、光による劣化が少なく、優れた耐光性を有する。亜鉛フタロシアニン（フタロシアニンの亜鉛錯体）は、可視光透過性に優れる。
【0042】
式（１）中、Ｒ１～Ｒ１６のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子および塩素原子が好ましい。
【0043】
Ｒ１～Ｒ１６が－ＯＲ１７または－ＳＲ１８を表す場合、Ｒ１７とＲ１８のアリール基としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基、インデニル基等が挙げられる。アリール基は置換基を有していてもよく、アリール基が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ヘテロアリール基、アリールオキシ基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、水酸基、カルボキシ基またはその塩、スルホ基（スルホン酸基）またはその塩、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、チオシアネート基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基等が挙げられる。アリール基の炭素数（置換基を除く炭素数）は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。
【0044】
Ｒ１～Ｒ１６が－ＯＲ１７または－ＳＲ１８を表す場合、Ｒ１７とＲ１８のアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基、ナフチルメチル基等が挙げられる。アラルキル基は置換基を有していてもよく、アラルキル基が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、水酸基、カルボキシ基またはその塩、スルホ基またはその塩、シアノ基、ニトロ基、チオシアネート基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基等が挙げられる。アラルキル基の炭素数（置換基を除く炭素数）は、７～２５が好ましく、７～１５がより好ましく、７～１１がさらに好ましい。
【0045】
Ｒ１～Ｒ１６が－ＯＲ１７または－ＳＲ１８を表す場合、Ｒ１７とＲ１８のヘテロアリール基としては、例えば、チエニル基、チオピラニル基、イソチオクロメニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラリジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、フラニル基、ピラニル基等が挙げられる。ヘテロアリール基は置換基を有していてもよく、ヘテロアリール基が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、水酸基、カルボキシ基またはその塩、スルホ基またはその塩、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、チオシアネート基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基等が挙げられる。ヘテロアリール基の炭素数（置換基を除く炭素数）は、２～１５が好ましく、３～１０がより好ましく、４～８がさらに好ましい。
【0046】
Ｒ１～Ｒ１６が－ＯＲ１７または－ＳＲ１８を表す場合、Ｒ１７とＲ１８のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基等の直鎖状または分岐状のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基等の環状（脂環式）のアルキル基等が挙げられる。アルキル基は置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、アリール基、アリールオキシ基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、ハロゲノ基、水酸基、カルボキシ基またはその塩、スルホン酸基またはその塩、シアノ基、ニトロ基、アミノ基等が挙げられる。ハロゲノ基を有するアルキル基としては、モノハロゲノアルキル基、ジハロゲノアルキル基、トリハロメチル単位を有するアルキル基、パーハロゲノアルキル基等が挙げられる。ハロゲノ基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましく、特にフッ素原子が好ましい。アルキル基の炭素数（置換基を除く炭素数）は１～２０が好ましく、具体的には、直鎖状または分岐状のアルキル基であれば炭素数１～２０が好ましく、より好ましくは１～１０であり、さらに好ましくは１～５であり、環状のアルキル基であれば炭素数４～１０が好ましく、５～８がより好ましい。
【0047】
式（１）で表されるフタロシアニン系化合物は、水への溶解性を高める点から、Ｒ１～Ｒ１６のうち少なくとも１つが－ＯＲ１７または－ＳＲ１８であり、かつＲ１７およびＲ１８が、カルボキシ基またはその塩を有するアリール基、スルホ基またはその塩を有するアリール基、カルボキシ基またはその塩を有するアラルキル基、またはヘテロアリール基となるものが好ましい。これらのアリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基は置換基を有していてもよく、当該置換基としては、炭素数１～３のアルキル基、ハロゲノ基、水酸基、アミノ基、ニトロ基が好ましく、ハロゲノ基がより好ましい。以下、当該－ＯＲ１７または－ＳＲ１８を、特定の－ＯＲ１７または－ＳＲ１８と称する。式（１）で表されるフタロシアニン系化合物は、Ｒ１～Ｒ１６のうち４つ以上が特定の－ＯＲ１７または－ＳＲ１８であることがより好ましく、５つ以上が特定の－ＯＲ１７または－ＳＲ１８であることがさらに好ましく、６つ以上が特定の－ＯＲ１７または－ＳＲ１８であることがさらにより好ましい。また、Ｒ１～Ｒ４のうちの１つ以上、Ｒ５～Ｒ８のうちの１つ以上、Ｒ９～Ｒ１２のうちの１つ以上、およびＲ１３～Ｒ１６のうちの１つ以上が、特定の－ＯＲ１７または－ＳＲ１８であることが好ましい。また、Ｒ１７およびＲ１８が、カルボキシ基またはその塩を有するアリール基、カルボキシ基またはその塩を有するアラルキル基、またはヘテロアリール基であることが好ましく、カルボキシ基またはその塩を有するアリール基、またはヘテロアリール基であることがより好ましい。
【0048】
式（１）で表されるフタロシアニン系化合物は、Ｒ１～Ｒ１６のうち少なくとも１つがハロゲン原子であることも好ましい。これにより、フタロシアニン系化合物の吸収波長が長波長側にシフトし、近赤外領域の光の透過をカットしやすくなる。フタロシアニン系化合物は、Ｒ１～Ｒ１６のうち４つ以上がハロゲン原子であることがより好ましく、６つ以上がハロゲン原子であることがさらに好ましい。また、Ｒ１～Ｒ４のうちの１つ以上、Ｒ５～Ｒ８のうちの１つ以上、Ｒ９～Ｒ１２のうちの１つ以上、およびＲ１３～Ｒ１６のうちの１つ以上が、ハロゲン原子であることが好ましい。
【0049】
式（１）で表されるフタロシアニン系化合物は、特に好ましくは、Ｒ１～Ｒ４のうちの１つ以上、Ｒ５～Ｒ８のうちの１つ以上、Ｒ９～Ｒ１２のうちの１つ以上、およびＲ１３～Ｒ１６のうちの１つ以上が、上記に説明した特定の－ＯＲ１７または－ＳＲ１８であり、かつ、Ｒ１～Ｒ４のうちの１つ以上、Ｒ５～Ｒ８のうちの１つ以上、Ｒ９～Ｒ１２のうちの１つ以上、およびＲ１３～Ｒ１６のうちの１つ以上が、ハロゲン原子である。また、Ｒ１７およびＲ１８が、カルボキシ基またはその塩を有するアリール基、またはヘテロアリール基であることが好ましく、これらアリール基およびヘテロアリール基は置換基としてハロゲノ基を有していてもよい。このようなフタロシアニン系化合物として、下記式（１Ａ）および（１Ｂ）に示される化合物が挙げられる。
【0050】
【化3】
【0051】
【化4】
【0052】
フタロシアニン系化合物は公知の方法を用いて合成すればよく、一般には、フタロニトリル誘導体を無溶媒または溶媒の存在下で加熱することで得ることができる。水溶性フタロシアニン系化合物の合成は、例えば、特開２００５-２２００６０号公報、特許第５０６６４１７号公報等を参考にすることができる。
【0053】
近赤外領域に吸収領域を有する水溶性のシアニン系色素としては、例えば、ＦＥＷ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製のＳ０５２４、Ｓ０３１６、Ｓ２１４６、Ｓ０１２１、Ｓ０４５６、Ｓ２４３３、Ｓ２１６３、Ｓ０８３７、Ｓ０３０６、Ｓ２１６１、Ｓ２１８０、Ｓ２４９３、東京化成工業社製のインドシアニングリーン（ＩＣＧ）、ＩＣＧカルボン酸、ＩＲ７５４カルボン酸等を用いることができる。
【0054】
水溶性色素が紫外線吸収色素である場合、水溶性色素としては、トリアジン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、アクリレート系化合物、ベンゾオキサジノン系化合物、アゾメチン系化合物、アゾキシ系化合物、シアノビフェニル系化合物、シアノフェニルエステル系化合物、安息香酸エステル系化合物、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル系化合物、シアノフェニルシクロヘキサン系化合物、フェニルピリミジン系化合物、フェニルジオキサン系化合物、シナメート系化合物、およびトラン系化合物から選ばれる少なくとも１種を用いることが好ましい。これらの化合物は紫外領域の光を好適に吸収することができるとともに、可視光領域の光の透過率を高めることが容易になる。
【0055】
紫外領域に吸収領域を有する水溶性色素としては、シナメート系化合物として、下記式（２）で表されるシナメート構造を有する化合物を用いることが好ましい。式（２）で表される化合物を用いれば、紫外領域の光の透過を選択的に吸収することができ、例えば、波長３５０ｎｍ～３９５ｎｍの範囲に吸収波長域を形成するとともに、当該吸収波長域の長波長側では、吸収波長域と透過波長域との境目をシャープに形成することができる。また、式（２）で表される化合物は分解温度が高いため、耐熱性に優れた光選択カット光学部材を得ることが容易になる。
【0056】
【化5】
【0057】
上記式（２）において、Ｒ２１は水素原子、有機基、またはカルボン酸塩を形成する金属カチオンまたはオニウムイオンを表し、Ｒ２２は水素原子、水素原子、シアノ基、アシル基、スルホニル基、カルボキシ基、カルボン酸エステル基、アミド基、炭化水素基、またはヘテロアリール基を表し、Ｒ２３は水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ２４は水素原子、有機基または極性官能基を表し、複数のＲ２４は互いに同一または異なっていてもよく、Ｘは硫黄原子、酸素原子またはイミノ基を表し、Ｌは２価以上の連結基を表し、ａは２以上の整数を表し、Ｌに結合する複数の基は互いに同一または異なっていてもよい。なお、Ｌに結合する複数の基に含まれるＲ２１のうち少なくとも１つは、カルボン酸塩を形成する金属カチオンまたはオニウムイオンである。式（２）中、－ＣＯＯＲ２１（またはＲ２２）はＲ２３に対して、シス位にあってもよく、トランス位にあってもよい。
【0058】
Ｒ２１の有機基としては、例えば、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基等が挙げられる。これらのアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基の具体例は、上記のＲ１７とＲ１８のアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基に関する説明がそれぞれ参照される。
【0059】
Ｒ２１のカルボン酸塩を形成する金属カチオンを与える金属元素としては、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素、遷移金属元素、第１２族～第１４族の金属元素が挙げられる。アルカリ金属元素としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム等が挙げられる。アルカリ土類金属元素としては、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウム、バリウム等が挙げられる。遷移金属元素には第３族から第１１族の金属元素が含まれ、例えばチタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、銀、ジルコニウム、モリブデン、タングステン等が挙げられる。第１２族～第１４族の金属元素としては、アルミニウム、亜鉛、ガリウム、カドミウム、スズ、鉛等が挙げられる。なお、Ｒ２１の金属カチオンが２価以上の金属カチオンである場合、同一分子内の２以上のＲ２１が１つの金属カチオンを表してもよく、異なる分子に属する２以上のＲ２１が１つの金属カチオンを表してもよい。これらの中でも、Ｒ２１の金属カチオンを与える金属元素としては、第２周期から第５周期の元素が好ましく、第２周期から第４周期の元素がより好ましい。また、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素、第１２族～第１４族の金属元素が好ましく、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、亜鉛がより好ましい。Ｒ２１が金属カチオンであることにより、シナメート系化合物の水への溶解性をより高めることができる。
【0060】
Ｒ２１のカルボン酸塩を形成するオニウムイオンとしては、例えば、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオン（例えば、テトラブチルアンモニウムイオン）、ホスホニウムイオン、有機ホスホニウムイオン、ホウ素カチオン等が挙げられる。Ｒ２１がオニウムイオンであることにより、水に対する溶解性に加えて、有機溶媒への溶解性も確保しやすくなる。
【0061】
式（２）で表される化合物は、当該化合物に含まれるＲ２１のうち少なくとも１つのＲ２１が金属カチオンまたはオニウムイオンであればよく、半分以上のＲ２１が金属カチオンまたはオニウムイオンであることが好ましく、全てのＲ２１が金属カチオンまたはオニウムイオンであることがより好ましい。これにより、式（２）のシナメート系化合物の水への溶解性を高めることができる。また、このようなシナメート系化合物は、紫外領域のうち比較的短波長側のＵＶＡ領域（例えば、３２０ｎｍ～３６０ｎｍ程度）に最大吸収ピークを示すものとなり、比較的エネルギーの大きいＵＶＡをカットすることができる。
【0062】
Ｒ２２のアシル基（アルカノイル基）としては、メタノイル基、エタノイル基、プロパノイル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ペンタデカノイル基、ヘキサデカノイル基、ヘプタデカノイル基、オクタデカノイル基、ノナデカノイル基、エイコサノイル基等が挙げられる。アシル基は、水素原子の一部が、アリール基、アルコキシ基、ハロゲノ基、水酸基等で置換されていてもよい。前記アシル基中のアルキル基は、直鎖状であってもよく分岐状であってもよい。アシル基の炭素数（置換基を除く炭素数）は、２～２１が好ましく、より好ましくは２～１１であり、さらに好ましくは２～６である。
【0063】
Ｒ２２のカルボン酸エステル基としては、式：－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｒａ１で表され、Ｒａ１がアルキル基、アリール基、アラルキル基であるものが挙げられる。アルキル基、アリール基、アラルキル基の具体例は、上記のＲ１７とＲ１８のこれらの基の説明が参照される。
【0064】
Ｒ２２のアミド基としては、式：－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａ２Ｒａ３で表され、Ｒａ２が水素原子またはアルキル基であり、Ｒａ３がアルキル基、アシル基、アリール基またはアラルキル基であるものが挙げられる。Ｒａ２とＲａ３のアルキル基、アリール基、アラルキル基の具体例は、上記のＲ１７とＲ１８のこれらの基の説明が参照され、Ｒａ３のアシル基の具体例は、上記のＲ２２のアシル基の説明が参照される。
【0065】
Ｒ２２の炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基（アリール基）が挙げられる。脂肪族炭化水素基は、飽和と不飽和のいずれであってもよく、また直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよい。脂肪族飽和炭化水素基の具体例は、上記のＲ１７とＲ１８のアルキル基の説明が参照され、脂肪族不飽和炭化水素基の具体例は、上記に説明したＲ１７とＲ１８のアルキル基の炭素－炭素単結合の一部が二重結合または三重結合に置き換わったものが挙げられる。芳香族炭化水素基（アリール基）の具体例は、上記のＲ１７とＲ１８のアリール基の説明が参照される。
【0066】
Ｒ２２のヘテロアリール基の具体例は、上記のＲ１７とＲ１８のヘテロアリール基の説明が参照される。なおヘテロアリール基は、炭素原子が式（２）のエチレン二重結合の炭素原子に結合していることが好ましく、ヘテロ原子に隣接する炭素原子が式（２）のエチレン二重結合の炭素原子に結合していることがより好ましく、これによりシナメート系化合物の合成が容易になる。
【0067】
式（２）のＲ２３は水素原子またはアルキル基を表し、アルキル基の具体例は、上記のＲ１７とＲ１８のアルキル基に関する説明が参照される。Ｒ２３のアルキル基は、好ましくは炭素数１～３であり、より好ましくは炭素数１～２である。Ｒ２３としては水素原子が特に好ましい。
【0068】
式（２）のＲ２４の有機基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリール基、アラルキル基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールオキシカルボニル基、アリールスルホニル基、アリールスルフィニル基、ヘテロアリール基、アミノ基、アミド基、スルホンアミド基、カルボキシ基（カルボン酸基）、シアノ基等が挙げられる。式（２）のＲ２４の極性官能基としては、ハロゲノ基、水酸基、ニトロ基、スルホ基（スルホン酸基）等が挙げられる。
【0069】
Ｒ２４のアルキル基、およびアルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基に含まれるアルキル基の具体例は、上記のＲ１７とＲ１８のアルキル基の説明が参照される。Ｒ２４のアリール基、およびアリールオキシ基、アリールチオ基、アリールオキシカルボニル基、アリールスルホニル基、アリールスルフィニル基に含まれるアリール基の具体例は、上記のＲ１７とＲ１８のアリール基の説明が参照される。Ｒ２４のアラルキル基とヘテロアリールの具体例は、上記のＲ１７とＲ１８のアラルキル基とヘテロアリール基の説明がそれぞれ参照される。Ｒ２４のアミド基の具体例は、上記のＲ２２のアミド基の説明が参照される。
【0070】
Ｒ２４のアミノ基としては、式：－ＮＲａ４Ｒａ５で表され、Ｒａ４およびＲａ５がそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基であるものが挙げられる。アルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基の具体例は、上記のこれらの基の説明が参照され、アルケニル基とアルキニル基としては、上記に例示したアルキル基の炭素－炭素単結合の一部が二重結合または三重結合に置き換わった基が挙げられる。Ｒａ４とＲａ５は互いに連結して環形成していてもよい。
【0071】
Ｒ２４のスルホンアミド基としては、式：－ＮＨ－ＳＯ２－Ｒａ６で表され、Ｒａ６がアルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基であるものが挙げられる。アルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基の具体例は、上記のこれらの基の説明が参照される。
【0072】
Ｒ２４のハロゲノ基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等が挙げられる。
【0073】
Ｒ２４としては、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アラルキル基、アリールオキシ基およびアリールチオ基から選ばれる１種以上であることが好ましく、水素原子またはアルキル基であることが好ましい。当該アルキル基の炭素数は、１～４が好ましく、１～３がより好ましい。なかでも、式（２）のベンゼン環に結合する４つのＲ２４のうち、２以上が水素原子であることが好ましく、３以上が水素原子であることがより好ましく、４つ全てが水素原子であることが特に好ましい。
【0074】
式（２）において、Ｘは硫黄原子、酸素原子またはイミノ基を表す。イミノ基は、式：－ＮＲ２５－で表され、Ｒ２５は水素原子または有機基を表す。Ｒ２５の有機基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基が好ましく挙げられ、これらの基の具体例は、上記のＲ２４のアミノ基のＲａ４およびＲａ５の説明が参照される。Ｘは、ＣＯＯＲ２１、Ｒ２２およびＲ２３を含むエチレン構造部に対して、オルト位に結合していてもよく、メタ位に結合していてもよく、パラ位に結合していてもよい。なお、化合物の製造容易性の観点からは、Ｘはエチレン構造部に対してパラ位に結合していることが好ましい。Ｘは、硫黄原子またはイミノ基であることが好ましく、硫黄原子であることがより好ましい。
【0075】
式（２）において、Ｌは２価以上の連結基を表す。連結基Ｌは、２価、３価、４価、５価または６価である連結基用有機基の単独、またはこれら２価、３価、４価、５価または６価の連結基用有機基を結合することで構成されるｎ価の基であってもよい。
【0076】
２価の連結基用有機基には、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、ＳＯ２－、－ＮＨ－などが含まれる。アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基は、水酸基および／またはチオール基を有していてもよい。
【0077】
前記アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基などの炭素数が１～２０、好ましくは炭素数が１～１０、より好ましくは炭素数が１～４のアルキレン基が挙げられる。
【0078】
前記シクロアルキレン基としては、シクロプロパンジイル基、シクロブタンジイル基、シクロペンタンジイル基、シクロヘキサン－１，２－ジイル基、シクロヘキサン－１，３－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基などの炭素数が３～２０、好ましくは炭素数が４～１０、より好ましくは炭素数が５～８のシクロアルキレン基が挙げられる。
【0079】
前記アリーレン基としては、１，２－フェニレン基、１，３－フェニレン基、１，４－フェニレン基、１，２－ナフチレン基、１，３－ナフチレン基、１，４－ナフチレン基、１，５－ナフチレン基、１，６－ナフチレン基、１，７－ナフチレン基、１，８－ナフチレン基、２，３－ナフチレン基、２，４－ナフチレン基、２，５－ナフチレン基、２，６－ナフチレンン基、２，７－ナフチレン基などの炭素数が３～２０、好ましくは炭素数が４～１０、より好ましくは炭素数が５～８のアリーレン基が挙げられる。
【0080】
前記ヘテロアリーレン基としては、フラン－２，３－ジイル基、フラン－２，４－ジイル基、フラン－２，５－ジイル基、フラン－３，４－ジイル基などの炭素数が３～２０、好ましくは炭素数が３～１０、より好ましくは炭素数が３～６のヘテロアリーレン基が挙げられる。
【0081】
２価の連結基用有機基としては、前記アルキレン基、前記シクロアルキレン基、前記アリーレン基などが好ましい。
【0082】
２価の連結基Ｌが、連結基用有機基を結合することで構成される２価の基であるときは、例えば、アルキレン基、－Ｏ－、アルキレン基の順に結合させた基；アルキレン基、－Ｓ－、アルキレン基の順に結合させた基；アルキレン基、－ＣＯ－、－Ｏ－、アルキレン基の順に結合させた基；アルキレン基、－ＣＯ－、－ＮＨ－、アルキレン基の順に結合させた基；アルキレン基、－Ｏ－、アルキレン基、－Ｏ－、アルキレン基の順に結合させた基；アリーレン基、アルキレン基、アリーレン基の順に結合させた基などが挙げられる。
【0083】
３価の連結基用有機基には、メチン基（－Ｃ＜）、－Ｎ＜、アルキル基を有していてもよい３価のベンゼン環、アルキル基を有していてもよい３価のナフタレン環などが含まれる。ベンゼン環またはナフタレン環が有していてもよいアルキル基としては、上記のＲ１１～Ｒ１８のアルキル基に関する説明が参照される。３価のベンゼン環としては、ベンゼン－１，２，３－トリイル基、ベンゼン－１，３，５－トリイル基などが挙げられる。３価のナフタレン環としては、ナフタレン－１，２，３－トリイル基、ナフタレン－１，３，６－トリイル基などが挙げられる。３価の連結基用有機基としては、３価のベンゼン環が好ましい。
【0084】
３価の連結基Ｌが連結基用有機基を結合することで構成される３価の基は、例えば、メチレン基、メチン基、メチレン基の順に結合させた基（ｎ－プロパン－１，２，３－トリイル基）、エチレン基、メチン基、エチレン基の順に結合させた基（ｎ－ヘキサン－１，３，６－トリイル基）などのＣ３－２０アルカントリイル基；３つのメチン基を必要に応じて１つ以上のメチレン基と共に環状に結合することで構成される３価の基などのシクロＣ３－１０アルカントリイル基；アルキル基を有する＞Ｃ＜と前記２価の連結基用有機基の３つとが結合した基、例えば、Ｃ１－４アルキル基を有する＞Ｃ＜と前記Ｃ２－４アルカン酸Ｃ１－４アルキルエステル残基（２価の基）の３つとが結合した基；などが挙げられる。
【0085】
４価の連結基用有機基には、＞Ｃ＜、アルキル基を有していてもよい４価のベンゼン環、アルキル基を有していてもよい４価のナフタレン環などが含まれる。ベンゼン環またはナフタレン環が有していてもよいアルキル基としては、上記のＲ１１～Ｒ１８のアルキル基に関する説明が参照される。４価のベンゼン環としては、ベンゼン－１，２，３，４－テトライル基、ベンゼン－１，２，４，５－テトライル基などが挙げられる。４価のナフタレン環としては、ナフタレン－１，２，３，４－テトライル基、ナフタレン－２，３，６，７－テトライル基、ナフタレン－１，４，５，６－テトライル基などが挙げられる。
【0086】
４価の連結基Ｌが連結基用有機基を結合することで構成される４価の基であるときは、例えば、メチレン基、メチン基、メチン基、メチレン基の順に結合させた基（ｎ－ブタン－１，２，３，４－テトライル基）、エチレン基、メチン基、メチン基、エチレン基の順に結合させた基（ｎ－ヘキサン－１，３，４，６－テトライル基）などのＣ４－２０アルカンテトライル基；アルキル基を有する＞Ｃ＜と前記２価の連結基用有機基の４つとが結合した基、例えば、Ｃ１－４アルキル基を有する＞Ｃ＜と前記Ｃ２－４アルカン酸Ｃ１－４アルキルエステル残基（２価の基）の４つとが結合した基；などが挙げられる。
【0087】
５価の連結基用有機基には、アルキル基を有していてもよい５価のベンゼン環、アルキル基を有していてもよい５価のナフタレン環などが含まれる。ベンゼン環またはナフタレン環が有していてもよいアルキル基としては、上記のＲ１１～Ｒ１８のアルキル基に関する説明が参照される。５価のベンゼン環としては、ベンゼン－１，２，３，４，５－ペンタイル基などが挙げられる。５価のナフタレン環としては、ナフタレン－１，２，３，４，５－ペンタイル基、ナフタレン－１，２，３，５，６－ペンタイル基、ナフタレン－１，２，３，６，７－ペンタイル基などが挙げられる。
【0088】
６価の連結基用有機基には、６価のベンゼン環、６価のナフタレン環などが含まれる。６価のナフタレン環としては、ナフタレン－１，２，３，４，５，６－ヘキサイル基、ナフタレン－１，２，３，５，６，７－ヘキサイル基などが挙げられる。
【0089】
６価の連結基Ｌが連結基用有機基を結合することで構成される６価の基であるときは、例えば、前記Ｃ２－４アルカン酸Ｃ１－４アルキルエステル残基（２価の基）の３つが結合した＞Ｃ＜、メチレン基、－Ｏ－、メチレン基、前記Ｃ２－４アルカン酸Ｃ１－４アルキルエステル残基（２価の基）の３つが結合した＞Ｃ＜の順に結合させた基などの前記２価の連結基用有機基の３つが結合した＞Ｃ＜、アルキレン基、－Ｏ－、アルキレン基、前記２価の連結基用有機基の３つが結合した＞Ｃ＜の順に結合させた基などが挙げられる。
【0090】
２価、３価、４価、５価、または６価である連結基用有機基は、必要に応じて、ハロゲノ基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基などの置換基を有していてもよい。置換基を有する連結基用有機基としては、シアノ基を有する３～６価のベンゼン環、シアノ基を有する３～６価のナフタレン環などが好ましく、シアノ基を有する３～６価のベンゼン環がより好ましく、シアノ基を有する４価のベンゼン環がより好ましい。シアノ基を有する４価のベンゼン環としては、例えば、５，６－ジシアノベンゼン－１，２，３，４－テトライル基、３，６－ジシアノベンゼン－１，２，４，５－テトライル基などが挙げられる。
【0091】
式（２）の化合物の耐熱性を高める観点からは、連結基Ｌは、水素原子の一部が水酸基および／またはチオール基で置き換えられていてもよいアルキレン基、水素原子の一部が水酸基および／またはチオール基で置き換えられていてもよいシクロアルキレン基、水素原子の一部が水酸基および／またはチオール基で置き換えられていてもよいアリーレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、およびこれらの基を組み合わせた連結基が好ましい（ただし、エーテル結合およびチオエーテル結合は連続しない）。アルキレン基の連続する炭素の数は６以下が好ましく、４以下がより好ましく、３以下がさらに好ましい。シクロアルキレン基の炭素数は、４以上が好ましく、５以上がより好ましく、また１０以下が好ましく、８以下がより好ましい。アリーレン基の炭素数は、５以上が好ましく、６以上がより好ましく、また１０以下が好ましく、８以下がより好ましい。
【0092】
シナメート系化合物としては、下記式（３）に示される化合物が特に好ましく示される。このようなシナメート系化合物は、例えば波長３００ｎｍ～４２０ｎｍの範囲に吸収極大を有するピークを有し、紫外（ＵＶＡ）～紫色領域の光を効果的に吸収できるとともに、安定性に優れるものとなり、製造が容易になる。下記式（３）において、Ｒ２１ａとＲ２１ｂの説明は上記のＲ２１の説明が参照され、Ｒ２２ａとＲ２２ｂの説明は上記のＲ２２の説明が参照され、Ｒ２３ａとＲ２３ｂの説明は上記のＲ２３の説明が参照され、ＸａとＸｂの説明は上記のＸの説明が参照される。
【0093】
【化6】
【0094】
式（２）や式（３）で表される化合物は、国際公開第２０１９／００９０９３号を参考に合成することができる。
【0095】
吸収層中の水溶性色素の含有量は、光選択カット光学部材の所望する光学性能に応じて適宜調整すればよいが、例えば吸収層１００質量％中、色素の含有量は０．５質量％以上であることが好ましく、１質量％以上がより好ましく、２質量％以上がさらに好ましく、また２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がさらに好ましい。このように吸収層中の色素含有量を調整することにより、所望の波長領域に吸収波長帯を十分広い範囲で有しやすくなるとともに、それ以外の波長領域での光線透過率を高めやすくなる。なお、ここで説明した吸収層中の色素の含有量は、吸収層を形成する際に用いる樹脂組成物においては、樹脂組成物の固形分（すなわち溶媒を除いた樹脂組成物）中の色素の含有量に当てはめることができる。後述する吸収層中の他の成分の含有量も同様に、樹脂組成物の固形分中の含有量に当てはめることができる。
【0096】
吸収層に含まれる水溶性色素が、可視光吸収色素と近赤外線吸収色素と紫外線吸収色素から選ばれる２種以上である場合、各色素の含有割合は、光選択カット光学部材の所望の光選択カット特性に応じて適宜調整すればよい。例えば、吸収層に含まれる全色素１００質量％中、各色素の含有割合は５質量％～９０質量％（好ましくは１０質量％～８０質量％）の範囲で適宜調整すればよい。一例として、光選択カット光学部材が近赤外領域と紫外領域の光をカットするものである場合、吸収層に含まれる近赤外線吸収色素と紫外線吸収色素の含有割合は、質量比（近赤外線吸収色素の含有量／紫外線吸収色素の含有量）で１／９～９／１が好ましく、２／８～８／２がより好ましい。
【0097】
吸収層に含まれる水溶性樹脂の屈折率は特に限定されないが、水溶性樹脂と基材との屈折率差は０．３０以下が好ましく、０．２５以下がより好ましく、０．２０以下がさらに好ましく、０．１５以下がさらにより好ましい。これにより、透過スペクトルのリップルを抑えやすくなる。なお、ここで説明した屈性率差は絶対値を表す。水溶性樹脂と基材との屈折率差の下限は特に限定されず０以上であればよいが、０．０１以上であってもよい。
【0098】
吸収層を形成する樹脂組成物は、シランカップリング剤、シランカップリング剤の加水分解物、およびシランカップリング剤の加水分解縮合物から選ばれる少なくとも１種を含有していてもよい。これにより、吸収層の基材への密着性を高めることができる。樹脂組成物は、シランカップリング剤の加水分解縮合物が含まれることがより好ましい。
【0099】
シランカップリング剤は、エポキシ基含有基、アミノ基含有基、メルカプト基含有基または重合性二重結合含有基を有することが好ましく、このような官能基とアルコキシシリル基を有する化合物を用いることが好ましい。シランカップリング剤には、上記の官能基が１つのみ含まれていてもよく、複数含まれていてもよく、またアルコキシシリル基が１つのみ含まれていてもよく、複数含まれていてもよい。
【0100】
シランカップリング剤がアルコキシシリル基を複数含むものである場合、当該シランカップリング剤としては、ポリマー型多官能シランカップリング剤を用いることができる。ポリマー型多官能シランカップリング剤は、有機ポリマー鎖に基とアルコキシシリル基含有基が結合した構造を有しており、１分子中にアルコキシシリル基を複数含むとともに、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、重合性二重結合基等の官能基も複数含むことができる。なお、ポリマー型多官能シランカップリング剤の有機鎖にはポリシロキサンは含まれない。ポリマー型多官能シランカップリング剤はこのように構成されることにより、樹脂や基材との反応点が多く形成され、吸収層の基材への密着性を高めることができる。
【0101】
シランカップリング剤の加水分解物は、当該シランカップリング剤に含まれるアルコキシシリル基を加水分解によりシラノール基に変換することで得ることができる。また、シランカップリング剤の加水分解縮合物は、当該シランカップリング剤の加水分解物に含まれるシラノール基を脱水縮合させてシロキサン結合（－Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ－）を形成することにより得ることができる。通常シランカップリング剤を加水分解させると、シランカップリング剤の加水分解物が得られるとともに、当該加水分解物に含まれるシラノール基の脱水縮合反応も起こることにより、シランカップリング剤の加水分解縮合物も容易に得られる。シランカップリング剤の加水分解縮合物は、同種のシランカップリング剤の加水分解物の脱水縮合物であってもよく、異種のシランカップリング剤の加水分解物の脱水縮合物であってもよい。
【0102】
吸収層中の上記シランカップリング剤、シランカップリング剤の加水分解物、およびシランカップリング剤の加水分解縮合物の含有量は、吸収層１００質量％中、０質量％以上であればよく、０．１質量％以上、０．５質量％以上、または１質量％以上であってもよく、また２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、５質量％以下がさらに好ましい。
【0103】
吸収層には、表面調整剤が含有されていてもよい。吸収層に表面調整剤が含まれることにより、樹脂組成物を硬化して吸収層を形成した際に、吸収層にストライエーションや凹み等の外観上の欠陥を生じることを抑制することができる。表面調整剤は、吸収層１００質量％中、例えば０．０１～１質量％含まれていればよい。
【0104】
表面調整剤の種類は特に限定されず、シロキサン系界面活性剤、アセチレングリコール系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、アクリル系レベリング剤などを用いることができる。中でも、表面調整剤としては、シロキサン系界面活性剤またはアクリル系レベリング剤を用いることが好ましく、シロキサン系界面活性剤を用いることがより好ましい。
【0105】
シロキサン系界面活性剤としては、シロキサン結合を有する界面活性剤であれば特に限定されず、例えば、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、アルキル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性ポリジメチルシロキサン、アラルキル変性ポリジメチルシロキサン等が挙げられる。中でも、吸収層中における色素（特にスクアリリウム化合物やクロコニウム化合物）の分散性の観点から、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンが好ましい。ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンは、親水基がポリアルキレンオキサイド（より好ましくはエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド）、疎水基がジメチルシロキサンで構成される非イオン系の界面活性剤であることが特に好ましい。
【0106】
吸収層には、上記以外の添加剤として、必要に応じて、可塑剤、分散剤、粘度調整剤、消泡剤、防腐剤、比抵抗調整剤、ｐＨ調整剤、安定性向上剤、密着性向上剤等の各種添加剤が含まれていてもよい。
【0107】
吸収層は、水溶性樹脂と水溶性色素を含有する樹脂組成物から形成することができるが、当該樹脂組成物は、射出成形等の成形に用いることのできる熱可塑性樹脂組成物であってもよく、基材上に塗工できるよう塗料化された樹脂組成物であってもよい。なお本発明では、吸収層を形成する樹脂組成物は水溶性樹脂と水溶性色素を含有することから、樹脂組成物は水系溶媒により塗料化されたものであることが好ましい。樹脂組成物に含まれる樹脂成分は、重合が完結した樹脂のみならず、樹脂原料（樹脂の前駆体、当該前駆体の原料、樹脂を構成する単量体等を含む）であって、樹脂組成物を成形する際に重合反応または架橋反応して樹脂に組み込まれるものも用いることができる。樹脂成分としては、上記に説明した各水溶性樹脂を用いることができる。
【0108】
塗料化された樹脂組成物としては、溶媒を含む樹脂組成物が挙げられる。溶媒は、樹脂組成物に含まれる各成分を溶解するように機能するものであっても、分散媒として機能するものであってもよい。溶媒としては、水やアルコール等の水系溶媒を用いることが好ましく、アルコールとしては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の炭素数５以下（好ましくは炭素数４以下であり、より好ましくは炭素数３以下）のアルコールが好ましく用いられる。これにより、光選択カット光学部材の製造の際の環境負荷を低減することができる。溶媒としては、水を用いることが特に好ましい。
【0109】
溶媒の含有量は、塗料化された樹脂組成物１００質量％中、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上がより好ましく、また９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８０質量％以下がさらに好ましい。
【0110】
塗料化された樹脂組成物は、スピンコート法、溶媒キャスト法、ロールコート法、スプレーコート法、バーコート法、ディップコート法、スリットコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット法等により塗工できる。この場合、液状の樹脂組成物を基材（例えば、樹脂板、フィルム、ガラス板等）上に塗工することで、基材上に、厚さ２００μｍ以下のフィルム状や、厚さ２００μｍ超のシート状の吸収層を形成することができる。
【0111】
吸収層の厚さは特に限定されないが、所望の光選択カット性能を確保する点から、例えば０．５μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましい。吸収層の厚みの上限としては、例えば１ｍｍ以下であってもよく、５００μｍ以下、２００μｍ以下、あるいは５０μｍ以下であってもよい。より薄い光選択カット光学部材を形成する観点からは、吸収層の厚みは２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましく、３μｍ以下がさらにより好ましく、２μｍ以下が特に好ましい。
【0112】
光選択カット光学部材は、基材、吸収層、誘電体膜以外に、他の層（膜）を有していてもよい。他の層（膜）としては、防眩性を有する層、傷付き防止性能を有する層、金属膜等が挙げられる。
【0113】
光選択カット光学部材の厚みは、例えば、１ｍｍ以下であることが好ましい。これにより、例えば、撮像素子の小型化への要請に十分に応えることができる。光選択カット光学部材の厚みは、より好ましくは５００μｍ以下、さらに好ましくは３００μｍ以下、さらにより好ましくは１５０μｍ以下であり、また３０μｍ以上が好ましく、５０μｍ以上がさらに好ましい。
【0114】
本発明の光選択カット光学部材はセンサーとして好適に適用することができ、すなわちセンサー用の光選択カット光学部材とすることができる。センサーとしては、イメージセンサー、照度センサー、近接センサー等が挙げられる。イメージセンサーは、被写体の光を電気信号等に変換して出力する電子部品として用いられ、ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）やＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ Ｍｅｔａｌ－Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）等が挙げられる。イメージセンサーは、携帯電話用カメラ、デジタルカメラ、車載用カメラ、監視カメラ、表示素子（ＬＥＤ等）等に用いることができる。
【0115】
本発明は、本発明の光選択カット光学部材の吸収層に含まれる色素として好適に用いることができるフタロシアニン化合物も提供する。本発明のフタロシアニン化合物は、下記式（１）で表されるものであり、下記式（１）中、ＭおよびＲ１～Ｒ１６は上記に説明した通りである。ただし、Ｒ１～Ｒ１６のうち５つ以上（好ましくは６つ以上）が－ＯＲ１７または－ＳＲ１８であり、当該Ｒ１７およびＲ１８は、カルボキシ基またはその塩を有するアリール基、またはカルボキシ基またはその塩を有するアラルキル基であり、好ましくはカルボキシ基またはその塩を有するアリール基である。これらのアリール基とアラルキル基は、カルボキシ基以外の置換基を有していてもよく、当該置換基としては、炭素数１～３のアルキル基、ハロゲノ基、水酸基、アミノ基、ニトロ基が好ましく、ハロゲノ基がより好ましい。本発明のフタロシアニン化合物は、水への溶解性に優れるものとなる。
【0116】
【化7】
【0117】
本発明のフタロシアニン系化合物は、上記式（１）において、Ｒ１～Ｒ４のうちの１つ以上、Ｒ５～Ｒ８のうちの１つ以上、Ｒ９～Ｒ１２のうちの１つ以上、およびＲ１３～Ｒ１６のうちの１つ以上が、上記の－ＯＲ１７または－ＳＲ１８であることが好ましい。さらに、Ｒ１～Ｒ１６のうち少なくとも１つがハロゲン原子であることが好ましく、４つ以上がハロゲン原子であることがより好ましく、６つ以上がハロゲン原子であることがさらに好ましく、また、Ｒ１～Ｒ４のうちの１つ以上、Ｒ５～Ｒ８のうちの１つ以上、Ｒ９～Ｒ１２のうちの１つ以上、およびＲ１３～Ｒ１６のうちの１つ以上が、ハロゲン原子であることが好ましい。
【実施例0118】
以下に、実施例を示すことにより本発明を更に詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
【0119】
（１）色素の合成
（１－１）合成例１：近赤外線吸収色素Ａの合成
２０００ｍＬの四つ口セパラブルフラスコに、テトラフルオロフタロニトリル１０８ｇ（０．５４ｍｏｌ）、フッ化カリウム６９．０ｇ（１．１８ｍｏｌ）、アセトン２５２ｇを仕込んだ。このフラスコに、３－クロロ－４－ヒドロキシ安息香酸メトキシエチルエステル２５４ｇ（１．１ｍｏｌ）およびアセトン４３２ｇを仕込んだ滴下ロートを取り付け、氷冷下、攪拌しながら、滴下ロートより３－クロロ－４－ヒドロキシ安息香酸メトキシエチルエステル溶液を約２時間かけて滴下し、さらに２時間攪拌を続けた。その後、フラスコ内の反応液の温度を室温までゆっくりと上昇させ、一晩撹拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、中間体（１）を２１７．４ｇ（収率６４．８％）得た。
（１－１）合成例１：近赤外線吸収色素Ａの合成
２０００ｍＬの四つ口セパラブルフラスコに、テトラフルオロフタロニトリル１０８ｇ（０．５４ｍｏｌ）、フッ化カリウム６９．０ｇ（１．１８ｍｏｌ）、アセトン２５２ｇを仕込んだ。このフラスコに、３－クロロ－４－ヒドロキシ安息香酸メトキシエチルエステル２５４ｇ（１．１ｍｏｌ）およびアセトン４３２ｇを仕込んだ滴下ロートを取り付け、氷冷下、攪拌しながら、滴下ロートより３－クロロ－４－ヒドロキシ安息香酸メトキシエチルエステル溶液を約２時間かけて滴下し、さらに２時間攪拌を続けた。その後、フラスコ内の反応液の温度を室温までゆっくりと上昇させ、一晩撹拌した。反応液をろ過し、ロータリーエバポレーターでろ液からアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、中間体（１）を２１７．４ｇ（収率６４．８％）得た。
【0120】
５００ｍＬの平底フラスコに、上記で得られた中間体（１）を１５０．０ｇ（０．２４１４ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（ＩＩ）を１９．２６ｇ（０．０６０３ｍｏｌ）、ベンゾニトリルを２２５．０ｇ入れ、窒素流通下（１０ｍｌ／ｍｉｎ）、平板撹拌翼を用いて回転数２００ｒｐｍで撹拌しながら、フラスコ内の反応液の温度を１６０℃に昇温し、同温度にてフタロシアニン化反応を行った。反応終了後、メチルセロソルブ４７０ｇを反応液に加え、メタノール３．８ｋｇと水０．６ｋｇの混合溶液に滴下して結晶を析出させ、吸引ろ過後ウェットケーキを得た。得られたケーキを再度、メタノール１．９ｋｇと水０．３ｋｇの混合溶液で撹拌洗浄し、吸引ろ過した。得られたケーキを、真空乾燥機を用いて９０℃で２４時間乾燥することにより、フタロシアニン系化合物の中間体（２）を１３７．０ｇ（収率８９．１％）得た。
【0121】
３００ｍＬの丸底フラスコに、上記で得られた中間体（２）を１２．７６ｇ（０．００５ｍｏｌ）、水酸化ナトリウムを１．６０ｇ（０．０４ｍｏｌ）、２－メトキシエタノールを７６．０９ｇ（１．０ｍｏｌ）入れ、窒素流通下（５０ｍｌ／ｍｉｎ）、回転子で撹拌しながら、フラスコ内の反応液の温度を１００℃に昇温し、同温度にてケン化反応を行った。反応終了後、エバポレーターで反応液を濃縮後、８０℃で一晩真空乾燥し、表１に示す水溶性の近赤外線吸収色素Ａを得た（収率９８．２％）。
【0122】
【化8】
【0123】
（１－２）合成例２：近赤外線吸収色素Ｂの合成
特許第５０６６４１７号公報の実施例１に記載の方法に従い、表１に示す水溶性の近赤外線吸収色素Ｂを合成した。
特許第５０６６４１７号公報の実施例１に記載の方法に従い、表１に示す水溶性の近赤外線吸収色素Ｂを合成した。
【0124】
（１－３）合成例３：近赤外線吸収色素Ｄの合成
特開２０１６－７４６４９号公報の実施例１－１８に記載の方法に従い、表１に示す非水溶性の近赤外線吸収色素Ｄを合成した。
特開２０１６－７４６４９号公報の実施例１－１８に記載の方法に従い、表１に示す非水溶性の近赤外線吸収色素Ｄを合成した。
【0125】
（１－４）合成例４：近赤外線吸収色素Ｅの合成
特開２０２０-１３２６９９号公報の合成例２に従い、表１に示す非水溶性の近赤外線吸収色素Ｅを合成した。
特開２０２０-１３２６９９号公報の合成例２に従い、表１に示す非水溶性の近赤外線吸収色素Ｅを合成した。
【0126】
【表1】
【0127】
（１－５）合成例５：紫外線吸収色素Ｂの合成
２００ｍＬの四つ口フラスコに、４－フルオロベンズアルデヒド４．９８ｇ（０．０３９ｍｏｌ）、エチレングリコールビス（２－メルカプトエチル）エーテル２．７２ｇ（０．０２０ｍｏｌ）、炭酸カリウム１０．８６ｇ（０．０７９ｍｏｌ）、アセトニトリル７４ｇを仕込み、窒素流通下（１０ｍＬ／ｍｉｎ）、撹拌羽を用いて撹拌しながら６０℃で１２時間反応させた。反応終了後、減圧ろ過によって不溶分をろ別した後、エバポレーターを用いて溶媒を留去した。得られた濃縮物を２００ｍＬの四つ口フラスコに入れ、そこにシアノ酢酸イソブチル５．１９ｇ（０．０７９ｍｏｌ）、ピペリジン３．３２ｇ（０．０３９ｍｏｌ）、メタノール６８ｇを加え、還流温度条件下で、４時間反応させた。反応終了後、エバポレーターを用いて溶媒を留去し、得られた濃縮物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）によって精製を行い、表２に示す非水溶性の紫外線吸収色素Ｂを４．６ｇ（収率７９．６％）得た。
２００ｍＬの四つ口フラスコに、４－フルオロベンズアルデヒド４．９８ｇ（０．０３９ｍｏｌ）、エチレングリコールビス（２－メルカプトエチル）エーテル２．７２ｇ（０．０２０ｍｏｌ）、炭酸カリウム１０．８６ｇ（０．０７９ｍｏｌ）、アセトニトリル７４ｇを仕込み、窒素流通下（１０ｍＬ／ｍｉｎ）、撹拌羽を用いて撹拌しながら６０℃で１２時間反応させた。反応終了後、減圧ろ過によって不溶分をろ別した後、エバポレーターを用いて溶媒を留去した。得られた濃縮物を２００ｍＬの四つ口フラスコに入れ、そこにシアノ酢酸イソブチル５．１９ｇ（０．０７９ｍｏｌ）、ピペリジン３．３２ｇ（０．０３９ｍｏｌ）、メタノール６８ｇを加え、還流温度条件下で、４時間反応させた。反応終了後、エバポレーターを用いて溶媒を留去し、得られた濃縮物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）によって精製を行い、表２に示す非水溶性の紫外線吸収色素Ｂを４．６ｇ（収率７９．６％）得た。
【0128】
（１－６）合成例６：紫外線吸収色素Ａの合成
５００ｍＬの四つ口フラスコに、合成例６で得られた紫外線吸収色素Ｂを５．２４ｇ（０．００８２ｍｏｌ）、水酸化ナトリウムを０．６６ｇ（０．０１６４ｍｏｌ）、メタノール８０ｇを加え、窒素流通下（１０ｍＬ／ｍｉｎ）、マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、湯浴を用いて６０℃に加熱し、約５時間撹拌した。その後、反応液を室温まで冷却し、さらにアセトン２００ｇを加えて約３０分間攪拌した。撹拌後、析出した結晶を減圧ろ過した。ろ別した結晶を、真空乾燥機を用いて６０℃で１２時間乾燥し、表２に示す水溶性の紫外線吸収色素Ａを４．２ｇ（収率８７．５％）得た。
５００ｍＬの四つ口フラスコに、合成例６で得られた紫外線吸収色素Ｂを５．２４ｇ（０．００８２ｍｏｌ）、水酸化ナトリウムを０．６６ｇ（０．０１６４ｍｏｌ）、メタノール８０ｇを加え、窒素流通下（１０ｍＬ／ｍｉｎ）、マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、湯浴を用いて６０℃に加熱し、約５時間撹拌した。その後、反応液を室温まで冷却し、さらにアセトン２００ｇを加えて約３０分間攪拌した。撹拌後、析出した結晶を減圧ろ過した。ろ別した結晶を、真空乾燥機を用いて６０℃で１２時間乾燥し、表２に示す水溶性の紫外線吸収色素Ａを４．２ｇ（収率８７．５％）得た。
【0129】
【表2】
【0130】
（２）樹脂の合成
（２－１）ポリアリレート樹脂の合成
撹拌翼を備えた容量２Ｌの反応容器に、２，２’－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン１０．０１ｇ（０．０４４ｍｏｌ）、水酸化ナトリウム３．５９ｇ（０．０９０ｍｏｌ）、イオン交換水３００ｇを仕込み、溶解させた後、そこにトリエチルアミン０．８９ｇ（０．００９ｍｏｌ）を加えて溶解させた。テレフタル酸ジクロリド３．５７ｇ（０．０２１ｍｏｌ）とイソフタル酸ジクロリド３．５７ｇ（０．０２１ｍｏｌ）を５００ｇの塩化メチレンに溶解させた溶液を滴下ロートに入れ、これを前記反応容器に取り付けた。反応容器中の溶液を２０℃に保ちながら撹拌し、滴下ロートから塩化メチレン溶液を６０分間かけて滴下した。さらにそこに、塩化ベンゾイル０．７１ｇ（０．００５ｍｏｌ）を１０ｇの塩化メチレンに溶解させた溶液を添加し、６０分間撹拌した。得られた反応液に酢酸水溶液を加えて中和して、水相のｐＨを７にしてから分液ロートを用いて油相と水相を分離した。得られた油相を、撹拌下、メタノールに滴下してポリマーを再沈させ、沈殿をろ過により回収し、８０℃オーブンで乾燥して白色固体のポリアリレート樹脂を得た。収量は１１．５ｇであった。得られたポリアリレート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は３３，７８０、数平均分子量（Ｍｎ）は８，１３０であった。ポリアリレート樹脂の重量平均分子量と数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー測定により求めたポリスチレン換算の値である。
（２－１）ポリアリレート樹脂の合成
撹拌翼を備えた容量２Ｌの反応容器に、２，２’－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン１０．０１ｇ（０．０４４ｍｏｌ）、水酸化ナトリウム３．５９ｇ（０．０９０ｍｏｌ）、イオン交換水３００ｇを仕込み、溶解させた後、そこにトリエチルアミン０．８９ｇ（０．００９ｍｏｌ）を加えて溶解させた。テレフタル酸ジクロリド３．５７ｇ（０．０２１ｍｏｌ）とイソフタル酸ジクロリド３．５７ｇ（０．０２１ｍｏｌ）を５００ｇの塩化メチレンに溶解させた溶液を滴下ロートに入れ、これを前記反応容器に取り付けた。反応容器中の溶液を２０℃に保ちながら撹拌し、滴下ロートから塩化メチレン溶液を６０分間かけて滴下した。さらにそこに、塩化ベンゾイル０．７１ｇ（０．００５ｍｏｌ）を１０ｇの塩化メチレンに溶解させた溶液を添加し、６０分間撹拌した。得られた反応液に酢酸水溶液を加えて中和して、水相のｐＨを７にしてから分液ロートを用いて油相と水相を分離した。得られた油相を、撹拌下、メタノールに滴下してポリマーを再沈させ、沈殿をろ過により回収し、８０℃オーブンで乾燥して白色固体のポリアリレート樹脂を得た。収量は１１．５ｇであった。得られたポリアリレート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は３３，７８０、数平均分子量（Ｍｎ）は８，１３０であった。ポリアリレート樹脂の重量平均分子量と数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー測定により求めたポリスチレン換算の値である。
【0131】
（２－２）フッ素化芳香族樹脂の合成
温度計、冷却管、ガス導入管、撹拌翼を備えた反応器に、４，４’－ビス（２，３，４，５，６－ペンタフルオロベンゾイル）ジフェニルエーテル１６．７４ｇ、９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン１０．５ｇ、炭酸カリウム４．３４ｇ、ジメチルアセトアミド９０ｇを仕込んだ。反応容器中の溶液を撹拌しながら８０℃に加温し、８時間反応させた。反応終了後、反応液をブレンダーで激しく撹拌しながら、１％酢酸水溶液中に注加した。析出した反応物をろ別し、蒸留水およびメタノールで洗浄した後、減圧乾燥して、フッ素化芳香族樹脂を得た。フッ素化芳香族樹脂のガラス転移点温度（Ｔｇ）は２４２℃であり、数平均分子量（Ｍｎ）は７０，７７０であった。フッ素化芳香族樹脂の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー測定により求めたポリスチレン換算の値である。
温度計、冷却管、ガス導入管、撹拌翼を備えた反応器に、４，４’－ビス（２，３，４，５，６－ペンタフルオロベンゾイル）ジフェニルエーテル１６．７４ｇ、９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン１０．５ｇ、炭酸カリウム４．３４ｇ、ジメチルアセトアミド９０ｇを仕込んだ。反応容器中の溶液を撹拌しながら８０℃に加温し、８時間反応させた。反応終了後、反応液をブレンダーで激しく撹拌しながら、１％酢酸水溶液中に注加した。析出した反応物をろ別し、蒸留水およびメタノールで洗浄した後、減圧乾燥して、フッ素化芳香族樹脂を得た。フッ素化芳香族樹脂のガラス転移点温度（Ｔｇ）は２４２℃であり、数平均分子量（Ｍｎ）は７０，７７０であった。フッ素化芳香族樹脂の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー測定により求めたポリスチレン換算の値である。
【0132】
（３）シランカップリング剤の加水分解溶液の調製
３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ダウ・東レ社製、ＯＦＳ－６０４０）２４．７ｇと２－プロパノール３２．１ｇと蒸留水３．４ｇとを配合し、２５℃で均一に混合した。そこに、ギ酸１．５４ｇを加えて９０分間混合し、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシランの加水分解反応を進行させることにより、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシランの加水分解物を調製した。
３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ダウ・東レ社製、ＯＦＳ－６０４０）２４．７ｇと２－プロパノール３２．１ｇと蒸留水３．４ｇとを配合し、２５℃で均一に混合した。そこに、ギ酸１．５４ｇを加えて９０分間混合し、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシランの加水分解反応を進行させることにより、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシランの加水分解物を調製した。
【0133】
（４）樹脂組成物の調製
（４－１）調製例１
ポリビニルピロリドン（日本触媒社製、Ｋ－９０）１００質量部にイオン交換水１８００質量部を加え、そこに近赤外線吸収色素Ａを５質量部加え、室温で均一に混合した。これを孔径０．４５μｍのフィルター（ＧＬサイエンス社製、水系１３Ａ）でろ過して異物を取り除き、樹脂組成物１を得た。
（４－１）調製例１
ポリビニルピロリドン（日本触媒社製、Ｋ－９０）１００質量部にイオン交換水１８００質量部を加え、そこに近赤外線吸収色素Ａを５質量部加え、室温で均一に混合した。これを孔径０．４５μｍのフィルター（ＧＬサイエンス社製、水系１３Ａ）でろ過して異物を取り除き、樹脂組成物１を得た。
【0134】
（４－２）調製例２
ポリビニルピロリドン（日本触媒社製、Ｋ－９０）１００質量部にイオン交換水２０００質量部を加え、そこに近赤外線吸収色素Ａを５質量部と紫外線吸収色素Ａを１１質量部加えて、室温で均一に混合し、樹脂組成物２を得た。
ポリビニルピロリドン（日本触媒社製、Ｋ－９０）１００質量部にイオン交換水２０００質量部を加え、そこに近赤外線吸収色素Ａを５質量部と紫外線吸収色素Ａを１１質量部加えて、室温で均一に混合し、樹脂組成物２を得た。
【0135】
（４－３）調製例３
ポリビニルピロリドン（日本触媒社製、Ｋ－９０）６０質量部と水溶性メラミン樹脂（三和ケミカル社製、ニカラック（登録商標）ＭＸ０３５）４０質量部とイオン交換水１８００質量部を配合し、そこに近赤外線吸収色素Ａを５質量部加えて、室温で均一に混合し、樹脂組成物３を得た。
ポリビニルピロリドン（日本触媒社製、Ｋ－９０）６０質量部と水溶性メラミン樹脂（三和ケミカル社製、ニカラック（登録商標）ＭＸ０３５）４０質量部とイオン交換水１８００質量部を配合し、そこに近赤外線吸収色素Ａを５質量部加えて、室温で均一に混合し、樹脂組成物３を得た。
【0136】
（４－４）調製例４
調製例１において近赤外線吸収色素Ａを近赤外線吸収色素Ｂに変更した以外は、調製例１と同様にして樹脂組成物４を得た。
調製例１において近赤外線吸収色素Ａを近赤外線吸収色素Ｂに変更した以外は、調製例１と同様にして樹脂組成物４を得た。
【0137】
（４－５）調製例５
調製例１において近赤外線吸収色素Ａを表１に示す近赤外線吸収色素Ｃ（ＦＥＷ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製、Ｓ２４９３）に変更した以外は、調製例１と同様にして樹脂組成物５を得た。
調製例１において近赤外線吸収色素Ａを表１に示す近赤外線吸収色素Ｃ（ＦＥＷ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製、Ｓ２４９３）に変更した以外は、調製例１と同様にして樹脂組成物５を得た。
【0138】
（４－６）調製例６
ポリアリレート樹脂１００質量部をトルエン３５０質量部とｏ－キシレン５３０質量部の混合溶媒に加え、さらにそこに近赤外線吸収色素Ｄを６．３質量部、近赤外線吸収色素Ｅを２．６質量部、紫外線吸収色素Ｂを１１．２質量部、表面調整剤としてビックケミー社製ＢＹＫ－３１０（ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン）０．３質量部、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）３.０質量部、シランカップリング剤の加水分解溶液を１０質量部加え、均一に混合した。これを孔径０．１μｍのフィルター（ＧＬサイエンス社製、非水系１３Ｎ）でろ過して異物を取り除き、樹脂組成物６を得た。
ポリアリレート樹脂１００質量部をトルエン３５０質量部とｏ－キシレン５３０質量部の混合溶媒に加え、さらにそこに近赤外線吸収色素Ｄを６．３質量部、近赤外線吸収色素Ｅを２．６質量部、紫外線吸収色素Ｂを１１．２質量部、表面調整剤としてビックケミー社製ＢＹＫ－３１０（ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン）０．３質量部、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）３.０質量部、シランカップリング剤の加水分解溶液を１０質量部加え、均一に混合した。これを孔径０．１μｍのフィルター（ＧＬサイエンス社製、非水系１３Ｎ）でろ過して異物を取り除き、樹脂組成物６を得た。
【0139】
（４－７）調製例７
ポリスチレン樹脂（ＰＳジャパン社製、ＨＦ７７）１００質量部にトルエン１８００質量部を加え、そこに近赤外線吸収色素Ｅを２．６質量部、紫外線吸収色素Ｂを１１．２質量部加え、均一に混合した。これを孔径０．１μｍのフィルター（ＧＬサイエンス社製、非水系１３Ｎ）でろ過して異物を取り除き、樹脂組成物７を得た。
ポリスチレン樹脂（ＰＳジャパン社製、ＨＦ７７）１００質量部にトルエン１８００質量部を加え、そこに近赤外線吸収色素Ｅを２．６質量部、紫外線吸収色素Ｂを１１．２質量部加え、均一に混合した。これを孔径０．１μｍのフィルター（ＧＬサイエンス社製、非水系１３Ｎ）でろ過して異物を取り除き、樹脂組成物７を得た。
【0140】
（４－８）調製例８
調製例７においてポリスチレン樹脂をフッ素化芳香族樹脂に変更した以外は、調製例７と同様にして樹脂組成物８を得た。
調製例７においてポリスチレン樹脂をフッ素化芳香族樹脂に変更した以外は、調製例７と同様にして樹脂組成物８を得た。
【0141】
（５）光選択カット光学部材の作製
樹脂組成物１～８をガラス基板（Ｓｃｈｏｔｔ社製、Ｄ２６３Ｔｅｃｏ）上に２ｃｃ垂らした後、スピンコーター（ミカサ社製、１Ｈ－Ｄ７）を用い、０．２秒間かけて１９００回転にし、２０秒間その回転数で保持し、その後０．２秒間かけて０回転になるようにして、樹脂組成物をガラス基板上に成膜した。樹脂組成物を成膜したガラス基板を、精密恒温器（ヤマト科学社製、ＤＨ６１１）を用いて１００℃で３分間初期乾燥した（キュア前）。その後、イナートオーブン（ヤマト科学社製、ＤＮ６１０Ｉ）を用いて５０℃で３０分間窒素置換した。樹脂組成物１～６を用いた場合は、１５分程度で１８０℃に昇温し、窒素雰囲気下で３０分乾燥させることにより、ガラス基板上に吸収層（樹脂層）を形成した（キュア後）。樹脂組成物７，８を用いた場合は、１５分程度で１９０℃に昇温し、窒素雰囲気下で１時間乾燥させることにより、ガラス基板上に吸収層（樹脂層）を形成した（キュア後）。ガラス基板上に形成した吸収層の厚みは約２μｍであった。
樹脂組成物１～８をガラス基板（Ｓｃｈｏｔｔ社製、Ｄ２６３Ｔｅｃｏ）上に２ｃｃ垂らした後、スピンコーター（ミカサ社製、１Ｈ－Ｄ７）を用い、０．２秒間かけて１９００回転にし、２０秒間その回転数で保持し、その後０．２秒間かけて０回転になるようにして、樹脂組成物をガラス基板上に成膜した。樹脂組成物を成膜したガラス基板を、精密恒温器（ヤマト科学社製、ＤＨ６１１）を用いて１００℃で３分間初期乾燥した（キュア前）。その後、イナートオーブン（ヤマト科学社製、ＤＮ６１０Ｉ）を用いて５０℃で３０分間窒素置換した。樹脂組成物１～６を用いた場合は、１５分程度で１８０℃に昇温し、窒素雰囲気下で３０分乾燥させることにより、ガラス基板上に吸収層（樹脂層）を形成した（キュア後）。樹脂組成物７，８を用いた場合は、１５分程度で１９０℃に昇温し、窒素雰囲気下で１時間乾燥させることにより、ガラス基板上に吸収層（樹脂層）を形成した（キュア後）。ガラス基板上に形成した吸収層の厚みは約２μｍであった。
【0142】
上記で得られた吸収層積層基板の吸収層の上に、高速ＩＡＤ真空薄膜型形成装置（シンクロン社製、ＢＩＳ－１３００Ｄ）を用いて、イオンアシストを用いた電子ビーム蒸着により酸化ケイ素層を５００ｎｍの厚さで蒸着して誘電体膜を形成し（蒸着後）、光選択カット光学部材を得た。酸化ケイ素の蒸着に使用した蒸着源としては、ＭＥＲＣＫ社製のＰａｔｉｎａｌ Ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ ＭａｔｅｒｉａｌｓのＩｔｅｍ Ｎｏ．１０８０４４１０００を用いた。成膜時の真空圧は２×１０－２Ｐａ（絶対圧）とし、アシストパワーの加速電圧を１０００Ｖ、加速電流を１２００ｍＡとした。ＩＡＤ（イオン銃）には酸素ガスを６０ｓｃｃｍの流量で導入し、基板ヒーター温度を９０℃に設定した。樹脂組成物１～５を用いて作製した例をそれぞれ実施例１～５とし、樹脂組成物６～８を用いて作製した例をそれぞれ比較例１～３とした。
【0143】
（６）評価
（６－１）透過スペクトル測定
分光光度計（島津製作所社製、ＵＶ－１８００）を用いて透過スペクトルを測定ピッチ１ｎｍで測定し、波長３００ｎｍ～１０００ｎｍにおける光の透過率を求めた。透過スペクトルは、キュア前、キュア後および蒸着後のそれぞれの光学部材について測定した。具体的な例として、実施例１のキュア前、キュア後および蒸着後のそれぞれの光学部材の透過スペクトルを図１および図２に示した。また、表３に、キュア前後の波長５００ｎｍにおける透過率変化の結果を示した。
（６－１）透過スペクトル測定
分光光度計（島津製作所社製、ＵＶ－１８００）を用いて透過スペクトルを測定ピッチ１ｎｍで測定し、波長３００ｎｍ～１０００ｎｍにおける光の透過率を求めた。透過スペクトルは、キュア前、キュア後および蒸着後のそれぞれの光学部材について測定した。具体的な例として、実施例１のキュア前、キュア後および蒸着後のそれぞれの光学部材の透過スペクトルを図１および図２に示した。また、表３に、キュア前後の波長５００ｎｍにおける透過率変化の結果を示した。
【0144】
（６－２）リップルの評価
キュア後の光学部材について、透過領域（例えば波長４５０ｎｍ～５５０ｎｍまたは４５０ｎｍ～６００ｎｍの範囲）における透過スペクトルを見て、リップルの発生の有無を確認した。具体的な例として、実施例１および比較例１～３のキュア後のそれぞれの光学部材の透過領域の透過スペクトルの拡大図を図３～図６に示した。また、リップルの発生度合いの指標として、波長５００ｎｍ～５２０ｎｍにおける最大透過率と最小透過率の差を求めた結果を、表３に示した。
キュア後の光学部材について、透過領域（例えば波長４５０ｎｍ～５５０ｎｍまたは４５０ｎｍ～６００ｎｍの範囲）における透過スペクトルを見て、リップルの発生の有無を確認した。具体的な例として、実施例１および比較例１～３のキュア後のそれぞれの光学部材の透過領域の透過スペクトルの拡大図を図３～図６に示した。また、リップルの発生度合いの指標として、波長５００ｎｍ～５２０ｎｍにおける最大透過率と最小透過率の差を求めた結果を、表３に示した。
【0145】
（６－３）耐熱性評価
キュア前後の光学部材について、波長５００ｎｍにおけるキュア前の透過率とキュア後の透過率の差を求め、その結果を表３に示した。この結果から、吸収層の耐熱性を評価した。
キュア前後の光学部材について、波長５００ｎｍにおけるキュア前の透過率とキュア後の透過率の差を求め、その結果を表３に示した。この結果から、吸収層の耐熱性を評価した。
【0146】
（６－４）密着性評価
（６－４－１）初期耐剥離性試験
蒸着後の光学部材にカッター（エヌティー社製、Ａ－３００）で切り込みを入れ、縦列、横列にそれぞれ２ｍｍ間隔で１０本のクロスカット線を設けることによって４ｍｍ２の四角を８１マス作製し、評価用サンプル基板を作製した。このサンプル基板を、空気が入らないようにテープ（３Ｍ（スリーエム）社製、スコッチ（登録商標）透明粘着テープ透明美色（登録商標））を貼り付け、５秒間放置した。その後、サンプル基板からのテープの剥離を６０°方向へ１秒以内に行い、下記基準で評価した。なお、いずれのマスにおいても剥離力が一定となるようにテープの剥離を行った。
Ａ：作製した８１マスの四角のうち、１マスも剥がれが発生しなかった
Ｂ：作製した８１マスの四角のうち、１～９マスに剥がれが発生した
Ｃ：作製した８１マスの四角のうち、１０～８１マスに剥がれが発生した
（６－４－１）初期耐剥離性試験
蒸着後の光学部材にカッター（エヌティー社製、Ａ－３００）で切り込みを入れ、縦列、横列にそれぞれ２ｍｍ間隔で１０本のクロスカット線を設けることによって４ｍｍ２の四角を８１マス作製し、評価用サンプル基板を作製した。このサンプル基板を、空気が入らないようにテープ（３Ｍ（スリーエム）社製、スコッチ（登録商標）透明粘着テープ透明美色（登録商標））を貼り付け、５秒間放置した。その後、サンプル基板からのテープの剥離を６０°方向へ１秒以内に行い、下記基準で評価した。なお、いずれのマスにおいても剥離力が一定となるようにテープの剥離を行った。
Ａ：作製した８１マスの四角のうち、１マスも剥がれが発生しなかった
Ｂ：作製した８１マスの四角のうち、１～９マスに剥がれが発生した
Ｃ：作製した８１マスの四角のうち、１０～８１マスに剥がれが発生した
【0147】
（６－４－２）水煮沸後耐剥離性試験
蒸着後の光学部材にカッター（エヌティー社製、Ａ－３００）で切り込みを入れ、縦列、横列にそれぞれ２ｍｍ間隔で１０本のクロスカット線を設けることによって４ｍｍ２の四角を８１マス作製し、評価用サンプル基板を作製した。次に、このサンプル基板を、沸騰状態に加熱した超純水中に入れ、２時間煮沸した。続いて、室温にて、空気が入らないようにテープ（３Ｍ（スリーエム）社製、スコッチ（登録商標）透明粘着テープ透明美色（登録商標））を貼り付け、５秒間放置した。その後、サンプル基板からのテープの剥離を６０°方向へ１秒以内に行い、下記基準で評価した。なお、いずれのマスにおいても剥離力が一定となるようにテープの剥離を行った。
Ａ：作製した８１マスの四角のうち、１マスも剥がれが発生しなかった
Ｂ：作製した８１マスの四角のうち、１～９マスに剥がれが発生した
Ｃ：作製した８１マスの四角のうち、１０～８１マスに剥がれが発生した
蒸着後の光学部材にカッター（エヌティー社製、Ａ－３００）で切り込みを入れ、縦列、横列にそれぞれ２ｍｍ間隔で１０本のクロスカット線を設けることによって４ｍｍ２の四角を８１マス作製し、評価用サンプル基板を作製した。次に、このサンプル基板を、沸騰状態に加熱した超純水中に入れ、２時間煮沸した。続いて、室温にて、空気が入らないようにテープ（３Ｍ（スリーエム）社製、スコッチ（登録商標）透明粘着テープ透明美色（登録商標））を貼り付け、５秒間放置した。その後、サンプル基板からのテープの剥離を６０°方向へ１秒以内に行い、下記基準で評価した。なお、いずれのマスにおいても剥離力が一定となるようにテープの剥離を行った。
Ａ：作製した８１マスの四角のうち、１マスも剥がれが発生しなかった
Ｂ：作製した８１マスの四角のうち、１～９マスに剥がれが発生した
Ｃ：作製した８１マスの四角のうち、１０～８１マスに剥がれが発生した
【0148】
【表3】
【0149】
（７）結果
実施例１～５は、吸収層が水溶性樹脂と水溶性色素を含有するものであり、ガラス基板上に吸収層を形成した光学部材は、透過領域の透過スペクトルにリップルの発生が認められなかった。また、波長５００ｎｍ～５２０ｎｍにおける最大透過率と最小透過率の差も小さいものとなった。一方、比較例１～３は、吸収層が非水溶性樹脂と非水溶性色素を含有するものであり、ガラス基板上に吸収層を形成した光学部材は、透過領域の透過スペクトルにリップルの発生が確認された。また、波長５００ｎｍ～５２０ｎｍにおける最大透過率と最小透過率の差は、実施例よりも大きいものとなった。耐熱性については、実施例１～５も比較例１～３もいずれも、波長５００ｎｍにおけるキュア前後の透過率変化が小さく、十分な耐熱性を有していた。実施例１～５はまた、いずれも初期密着性と水煮沸後密着性の両方に優れるものとなった。
実施例１～５は、吸収層が水溶性樹脂と水溶性色素を含有するものであり、ガラス基板上に吸収層を形成した光学部材は、透過領域の透過スペクトルにリップルの発生が認められなかった。また、波長５００ｎｍ～５２０ｎｍにおける最大透過率と最小透過率の差も小さいものとなった。一方、比較例１～３は、吸収層が非水溶性樹脂と非水溶性色素を含有するものであり、ガラス基板上に吸収層を形成した光学部材は、透過領域の透過スペクトルにリップルの発生が確認された。また、波長５００ｎｍ～５２０ｎｍにおける最大透過率と最小透過率の差は、実施例よりも大きいものとなった。耐熱性については、実施例１～５も比較例１～３もいずれも、波長５００ｎｍにおけるキュア前後の透過率変化が小さく、十分な耐熱性を有していた。実施例１～５はまた、いずれも初期密着性と水煮沸後密着性の両方に優れるものとなった。
【産業上の利用可能性】
【0150】
本発明の光選択カット光学部材は、表示素子や撮像素子等の光学デバイス等、種々の分野において用いることが可能である。例えば、携帯電話用カメラ、デジタルカメラ、車載用カメラ、監視カメラ、表示素子（ＬＥＤ等）等の電子部品に使用できる。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】