特開 2024-25600 樹脂組成物、それを用いた膜、光学フィルタ、赤外線カメラ、固体撮像素子、赤外線センサ、及び積層体

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024025600

(43)【公開日】2024-02-26

(54)【発明の名称】樹脂組成物、それを用いた膜、光学フィルタ、赤外線カメラ、固体撮像素子、赤外線センサ、及び積層体

(51)【国際特許分類】

   C08L 101/00 20060101AFI20240216BHJP

   G02B 5/22 20060101ALI20240216BHJP

   G03F 7/004 20060101ALI20240216BHJP

   H01L 27/146 20060101ALI20240216BHJP

   H01L 27/144 20060101ALI20240216BHJP

   C08K 5/51 20060101ALI20240216BHJP

   B32B 7/023 20190101ALI20240216BHJP

   B32B 27/18 20060101ALI20240216BHJP

   B32B 27/20 20060101ALI20240216BHJP

   C07F 19/00 20060101ALN20240216BHJP

   C07F 9/12 20060101ALN20240216BHJP

   C07F 9/32 20060101ALN20240216BHJP

   C07F 9/40 20060101ALN20240216BHJP

   C09B 47/00 20060101ALN20240216BHJP

   C09B 57/00 20060101ALN20240216BHJP

   C09B 1/32 20060101ALN20240216BHJP

   C09B 23/01 20060101ALN20240216BHJP

【ＦＩ】

C08L101/00

G02B5/22

G03F7/004 505

G03F7/004 501

H01L27/146 D

H01L27/144 K

C08K5/51

B32B7/023

B32B27/18 Z

B32B27/20 Z

C07F19/00

C07F9/12

C07F9/32

C07F9/40 Z

C09B47/00

C09B57/00 X

C09B1/32

C09B23/01

C09B57/00 Z

【審査請求】未請求

【請求項の数】11

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022148270

(22)【出願日】2022-09-16

(31)【優先権主張番号】P 2022127887

(32)【優先日】2022-08-10

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(71)【出願人】

【識別番号】000222118

【氏名又は名称】ａｒｔｉｅｎｃｅ株式会社

(72)【発明者】

【氏名】平佐 美幸

(72)【発明者】

【氏名】日水 秋生

【テーマコード（参考）】

2H148

2H225

4F100

4H050

4J002

4M118

【Ｆターム（参考）】

2H148CA04

2H148CA14

2H148CA17

2H225AC33

2H225AC36

2H225AC37

2H225AC43

2H225AC44

2H225AC46

2H225AC58

2H225AC63

2H225AC72

2H225AD02

2H225AD06

2H225AD14

2H225AD15

2H225AE06P

2H225AM22P

2H225AM23P

2H225AM62P

2H225AM91P

2H225AM95P

2H225AM96P

2H225AN05P

2H225AN22P

2H225AN23P

2H225AN33P

2H225AN38P

2H225AN39P

2H225AN41P

2H225AN42P

2H225AN49P

2H225AN65P

2H225AN68P

2H225AN72P

2H225AN73P

2H225AN80P

2H225AN82P

2H225AN84P

2H225AN91P

2H225AN92P

2H225AN94P

2H225AN98P

2H225BA05P

2H225BA09P

2H225BA10P

2H225BA11P

2H225BA12P

2H225BA13P

2H225BA16P

2H225BA22P

2H225BA32P

2H225BA33P

2H225BA35P

2H225CA15

2H225CB05

2H225CC01

2H225CC13

4F100AH03

4F100AH03A

4F100AH08

4F100AH08A

4F100AK01A

4F100AK25

4F100AR00B

4F100BA02

4F100BA07

4F100CA13

4F100CA13A

4F100JD08

4F100JD08B

4F100JD10

4F100JD10A

4F100JD14

4F100JD14A

4F100JD14B

4F100JJ03

4F100YY00A

4F100YY00B

4H050AA03

4H050AB92

4J002AA011

4J002AA021

4J002AB011

4J002BB031

4J002BC031

4J002BC071

4J002BD031

4J002BD051

4J002BD181

4J002BE061

4J002BF021

4J002BG021

4J002BG072

4J002BL011

4J002BP032

4J002CC031

4J002CC181

4J002CC191

4J002CC211

4J002CD001

4J002CF001

4J002CK021

4J002CL001

4J002CM041

4J002CM051

4J002EP007

4J002EV207

4J002EW046

4J002FD050

4J002FD090

4J002FD310

4J002GF00

4J002GP00

4J002GQ00

4J002GS00

4M118AA10

4M118AB01

4M118BA10

4M118BA14

4M118CA02

4M118GA10

4M118GB03

4M118GB07

4M118GC07

4M118GD04

(57)【要約】      （修正有）

【課題】高い保存安定性、耐性（耐熱性、耐湿性）、および低い異物発生率などの優れた特性を示す樹脂組成物、それを用いた膜、光学フィルタ、赤外線カメラ、固体撮像素子、赤外線センサ、および積層体を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表わされる化合物（Ａ）、一般式（３ａ）または一般式（３ｂ）で表わされる化合物（Ｂ）０．０００１～１質量％、及びバインダ樹脂（Ｃ）を含むことを特徴とする樹脂組成物による。

【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

一般式（１）で表わされる化合物（Ａ）、一般式（３ａ）または一般式（３ｂ）で表わされる化合物（Ｂ）０．０００１～１質量％、及びバインダ樹脂（Ｃ）を含むことを特徴とする樹脂組成物。
一般式（１）

【化1】

[一般式（１）中、Ｘ_１～Ｘ_８、Ｙ_ｌ～Ｙ_８は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原
子、ニトロ基、スルホン基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置換基を有してもよいフタルイミドメチル基、または、置換基を有してもよいスルファモイル基を表す。また、Ｘ_１～Ｘ_８は、それぞれ独立に、互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成しても良い。ただし、Ｘ_１とＸ_２、Ｘ_３とＸ_４、Ｘ_５とＸ₆、Ｘ_７とＸ_８のいずれか１組
以上は互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成する。
Ｚ_１は、－ＯＰ（＝Ｏ）Ｒ_１Ｒ_２、または一般式（２）で表される単量体単位を含む重合体部位を表す。ここでＲ_１、Ｒ_２はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基を表す。］

一般式（２）

【化2】

［一般式（２）中、Ｗは、－ＣＯＮＨ－Ｒ_４－、－ＣＯＯ－Ｒ_５－、－ＣＯＮＨ－Ｒ_６－Ｏ－、－ＣＯＯ－Ｒ_７－Ｏ－を表し、Ｒ_４～Ｒ_７は、炭素原子と炭素原子の間が、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、または－ＮＨＣＯ－で連結されていても良いアルキレン基もしくはアリーレン基を表す。Ｒ_３は水素原子または、メチル基を表す。＊は、Ａｌとの結合手である。］

【化3】

［一般式（３ａ）、（３ｂ）中、Ｚ_３～Ｚ_７は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基または置換基を有してもよい複素環基を表す。Ｚ_３～Ｚ_７で示される基のうち隣り合う２個の基は、連結してそれぞれが結合する窒素原子または硫黄原子と共に環を形成してもよい。］

【請求項2】

化合物（Ａ）が、下記一般式（４）で表わされる化合物（Ａ１）を含むことを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
一般式（４）

【化4】

［一般式（４）中、Ｙ_９～Ｙ_１６、Ｒ_８～Ｒ_２１は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、スルホン基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置換基を有してもよいフタルイミドメチル基、または、置換基を有してもよいスルファモイル基を表す。
Ｚ_２は、－ＯＰ（＝Ｏ）Ｒ_１Ｒ_２、または一般式（２）で表される単量体単位を含む重合体部位を表す。ここでＲ_１、Ｒ_２はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、置換基を有して
もよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基を表す。］

【請求項3】

一般式（３ａ）または一般式（３ｂ）で表わされる化合物（Ｂ）が、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、及びジメチルスルホキシドからなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。

【請求項4】

さらに、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲に吸収極大波長を有する化合物（Ｈ）を含むことを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。

【請求項5】

さらに、光重合性単量体および／または光重合開始剤を含むことを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。

【請求項6】

請求項１～５いずれか１項に記載の樹脂組成物を用いてなることを特徴とする膜。

【請求項7】

基材上に、請求項６に記載の膜を有することを特徴とする光学フィルタ。

【請求項8】

請求項７に記載の光学フィルタを具備することを特徴とする赤外線カメラ。

【請求項9】

請求項７に記載の光学フィルタを具備することを特徴とする固体撮像素子。

【請求項10】

請求項７に記載の光学フィルタを具備することを特徴とする赤外線センサ。

【請求項11】

波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲に吸収極大波長を有する化合物（Ｈ）を含む層と、請求項６記載の膜とを有することを特徴とする積層体。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、樹脂組成物、それを用いた膜、光学フィルタ、赤外線カメラ、固体撮像素子、赤外線センサ、及び積層体に関する。

【背景技術】

【0002】

ビデオカメラ、デジタルカメラ、及びスマートフォン等には、光学センサである固体撮像素子が用いられている。固体撮像素子としては、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）が挙げられる。これら固体撮像素子の受光部には、赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用しているため、視感度補正を行うことが必要であり、赤外線を遮断するための光学フィルタが配置される。このような光学フィルタは、例えば、近赤外線吸収色素を含む組成物を用いて製造される。

【0003】

耐熱性や耐光性に優れた近赤外線吸収性色素として、特許文献１には、置換基を有するフタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物が開示されている。特許文献２には、８００ｎｍ～１０００ｎｍの近赤外線をカットするナフタロシアニン化合物が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】ＷＯ２０２０－０７１４７０号公報

【特許文献2】特開平１０－７８５０９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

光学フィルタは、様々な環境下で用いられるため、高い堅牢性（高い耐熱性、耐湿性など）が求められる。フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物を含む樹脂組成物を用いた膜について検討を行ったところ、膜の耐性について、更なる改善の余地があることがわかった。本発明は高い保存安定性、耐性（耐熱性、耐湿性）、および低い異物発生率、といった優れた特性を示す樹脂組成物、それを用いた膜、光学フィルタ、該光学フィルタを具備する赤外線カメラ、固体撮像素子、赤外線センサ、および積層体を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明者らは、前記諸問題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、一般式（１）で表わされる化合物（Ａ）、一般式（３ａ）または一般式（３ｂ）で表わされる化合物０．０００１～１質量％、及びバインダ樹脂（Ｃ）を含む樹脂組成物が、高い保存安定性で、耐性（耐熱性、耐湿性）に優れ、低い異物発生率であることを見出し、本発明に至った。

【0007】

すなわち、本発明は、一般式（１）で表わされる化合物（Ａ）、一般式（３ａ）または一般式（３ｂ）で表わされる化合物（Ｂ）０．０００１～１質量％、及びバインダ樹脂（Ｃ）を含むことを特徴とする樹脂組成物に関する。

【0008】

一般式（１）

【化1】

[一般式（１）中、Ｘ_１～Ｘ_８、Ｙ_ｌ～Ｙ_８は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原
子、ニトロ基、スルホン基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置換基を有してもよいフタルイミドメチル基、または、置換基を有してもよいスルファモイル基を表す。また、Ｘ_１～Ｘ_８は、それぞれ独立に、互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成しても良い。ただし、Ｘ_１とＸ_２、Ｘ_３とＸ_４、Ｘ_５とＸ₆、Ｘ_７とＸ_８のいずれか１組
以上は互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成する。
Ｚ_１は、－ＯＰ（＝Ｏ）Ｒ_１Ｒ_２、または一般式（２）で表される単量体単位を含む重合体部位を表す。ここでＲ_１、Ｒ_２はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基を表す。］

【0009】

一般式（２）

【化2】

［一般式（２）中、Ｗは、－ＣＯＮＨ－Ｒ_４－、－ＣＯＯ－Ｒ_５－、－ＣＯＮＨ－Ｒ_６－Ｏ－、－ＣＯＯ－Ｒ_７－Ｏ－を表し、Ｒ_４～Ｒ_７は、炭素原子と炭素原子の間が、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、または－ＮＨＣＯ－で連結されていても良いアルキレン基もしくはアリーレン基を表す。Ｒ_３は水素原子または、メチル基を表す。＊は、Ａｌとの結合手である。］

【0010】

【化3】

［一般式（３ａ）、（３ｂ）中、Ｚ_３～Ｚ_７は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基または置換基を有してもよい複素環基を表す。Ｚ_３～Ｚ_７で示される基のうち隣り合う２個の基は、連結してそれぞれが結合する窒素原子または硫黄原子と共に環を形成してもよい。］

【0011】

また、本発明は、化合物（Ａ）が、下記一般式（４）で表わされる化合物（Ａ１）を含むことを特徴とする前記樹脂組成物に関する。

【0012】

一般式（４）

【化4】

［一般式（４）中、Ｙ_９～Ｙ_１６、Ｒ_８～Ｒ_２１は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、スルホン基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置換基を有してもよいフタルイミドメチル基、または、置換基を有してもよいスルファモイル基を表す。
Ｚ_２は、－ＯＰ（＝Ｏ）Ｒ_１Ｒ_２、または一般式（２）で表される単量体単位を含む重合体部位を表す。ここでＲ_１、Ｒ_２はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基を表す。］

【0013】

また、本発明は、一般式（３ａ）または一般式（３ｂ）で表わされる化合物（Ｂ）が、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、及びジメチルス
ルホキシドからなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする前記樹脂組成物に関する。

【0014】

また、本発明は、さらに、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲に吸収極大波長を有する化合物（Ｈ）を含むことを特徴とする前記樹脂組成物に関する。

【0015】

また、本発明は、さらに、光重合性単量体および／または光重合開始剤を含有することを特徴とする前記樹脂組成物に関する。

【0016】

また、本発明は、前記樹脂組成物を用いてなることを特徴とする膜に関する。

【0017】

また、本発明は、基材上に、前記膜を有することを特徴とする光学フィルタに関する。

【0018】

また、本発明は、前記光学フィルタを具備することを特徴とする赤外線カメラに関する。

【0019】

また、本発明は、前記光学フィルタを具備することを特徴とする固体撮像素子に関する。

【0020】

また、本発明は、前記光学フィルタを具備することを特徴とする赤外線センサに関する。

【0021】

また、本発明は、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲に吸収極大波長を有する化合物（Ｈ）を含む層と、前記樹脂組成物を含む層とを有することを特徴とする積層体関する。

【発明の効果】

【0022】

本発明により、高い保存安定性、耐性（耐熱性、耐湿性）、および低い異物発生率、といった優れた特性を示す樹脂組成物、それを用いた膜、光学フィルタ、該光学フィルタを具備する赤外線カメラ、固体撮像素子、赤外線センサ、および積層体を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0023】

【図1】図１は、本発明の膜を備えた赤外線センサの概略断面図を示す。

【発明を実施するための形態】

【0024】

本願明細書の用語を定義する。「（メタ）アクリロイル」、「（メタ）アクリル」、「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリレート」、又は「（メタ）アクリルアミド」と表記した場合には、特に説明がない限り、それぞれ、「アクリロイル及び／又はメタクリロイル」、「アクリル及び／又はメタクリル」、「アクリル酸及び／又はメタクリル酸」、「アクリレート及び／又はメタクリレート」、又は「アクリルアミド及び／又はメタクリルアミド」を表すものとする。本明細書に挙げる「Ｃ．Ｉ．」は、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）を意味する。色材は、顔料および染料を含む。

【0025】

＜色材＞
本明細書において、色材とは、一般式（１）で表わされる化合物（Ａ）、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲に吸収極大波長を有する化合物（Ｈ）、後述する波長７００ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の範囲に吸収極大波長を有する化合物（Ｆ）を意味する。

【0026】

＜一般式（１）で表わされる化合物（Ａ）＞
本発明の樹脂組成物は、一般式（１）で表わされる化合物（Ａ）（以下、単に化合物（Ａ）ともいう）を含む。

【0027】

一般式（１）

【化5】

[一般式（１）中、Ｘ_１～Ｘ_８、Ｙ_ｌ～Ｙ_８は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原
子、ニトロ基、スルホン基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置換基を有してもよいフタルイミドメチル基、または、置換基を有してもよいスルファモイル基を表す。また、Ｘ_１～Ｘ_８は、それぞれ独立に、互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成しても良い。ただし、Ｘ_１とＸ_２、Ｘ_３とＸ_４、Ｘ_５とＸ₆、Ｘ_７とＸ_８のいずれか１組
以上は互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成する。
Ｚ_１は、－ＯＰ（＝Ｏ）Ｒ_１Ｒ_２、または一般式（２）で表される単量体単位を含む重合体部位を表す。ここでＲ_１、Ｒ_２はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基を表す。］

【0028】

一般式（２）

【化6】

［一般式（２）中、Ｗは、－ＣＯＮＨ－Ｒ_４－、－ＣＯＯ－Ｒ_５－、－ＣＯＮＨ－Ｒ_６－Ｏ－、－ＣＯＯ－Ｒ_７－Ｏ－を表し、Ｒ_４～Ｒ_７は、炭素原子と炭素原子の間が、－Ｏ－
、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、または－ＮＨＣＯ－で連結されていても良いアルキレン基もしくはアリーレン基を表す。Ｒ_３は水素原子または、メチル基を表す。＊は、Ａｌとの結合手である。］

【0029】

本発明の化合物（Ａ）は、波長７００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の範囲に吸収極大を有しており、本発明の樹脂組成物は近赤外線吸収性樹脂組成物として使用することができる。

【0030】

（フタロシアニン部位（ＰＣ１））
化合物（Ａ）は、フタロシアニン部位（ＰＣ１）と、－ＯＰ（＝Ｏ）Ｒ_１Ｒ_２（リン化合物部位）または一般式（２）で表される単量体単位を含む重合体部位と、から構成される。フタロシアニン部位（ＰＣ１）は、下記一般式（５）で表されるフタロシアニンを原料とすることが好ましい。

【0031】

一般式（５）

【化7】

【0032】

一般式（５）中、Ｘ_１～Ｘ_８、Ｙ_ｌ～Ｙ_８は、一般式（１）中のＸ_１～Ｘ_８、Ｙ_ｌ～Ｙ_８と同様の意義である。

【0033】

置換基を有してもよいアルキル基の「アルキル基」は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ネオペンチル基、ｎ－へキシル基、ｎ－オクチル基、ステアリル基、２－エチルへキシル基等の直鎖又は分岐アルキル基が挙げられる。「置換基を有するアルキル基」は、例えば、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、２，２－ジブロモエチル基、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル基、２－エトキシエチル基、２－ブトキシエチル基、２－ニトロプロピル基、ベンジル基、４－メチルベンジル基、４－ｔｅｒｔ－プチルベンジル基、４－メトキシベンジル基、４－ニトロベンジル基、２，４－ジクロロベンジル基等が挙げられる。

【0034】

置換基を有してもよいアリール基の「アリール基」は、例えば、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基等が挙げられる。
「置換基を有するアリール基」は、例えば、ｐ－メチルフェニル基、ｐ－ブロモフェニル基、ｐ－ニトロフェニル基、ｐ－メトキシフェニル基、２，４－ジクロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、２－アミノフェニル基、２－メチル－４－クロロフェニル基、４－ヒドロキシ－１－ナフチル基、６－メチル－２－ナフチル基、４，５，８－トリクロロ－２－ナフチル基、アントラキノニル基、２－アミノアントラキノニル基等が挙げられる。

【0035】

置換基を有してもよいシクロアルキル基の「シクロアルキル基」は、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、アダマンチル基等が挙げられる。
「置換基を有するシクロアルキル基」は、例えば、２，５－ジメチルシクロペンチル基、４－ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキシル基等が挙げられる。

【0036】

置換基を有してもよい複素環基の「複素環基」としては、ピリジル基、ピラジル基、ピペリジノ基、ピラニル基、モルホリノ基、アクリジニル基等が挙げられ、「置換基を有する複素環基」としては、３－メチルピリジル基、Ｎ－メチルピペリジル基、Ｎ－メチルピロリル基等が挙げられる。

【0037】

置換基を有してもよいアルコキシル基の「アルコキシル基」は、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ネオペンチルオキシ基、２，３－ジメチル－３－ペンチルオキシ、ｎ－へキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ステアリルオキシ基、２－エチルへキシルオキシ基等の直鎖又は分岐アルコキシル基が挙げられる。
「置換基を有するアルコキシル基」は、例えば、トリクロロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、２，２，３，３－テトラフルオロプロポキシ基、２，２－ジトリフルオロメチルプロポキシ基、２－エトキシエトキシ基、２－ブトキシエトキシ基、２－ニトロプロポキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。

【0038】

置換基を有してもよいアリールオキシ基の「アリールオキシ基」は、例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基、アンスリルオキシ基等が挙げられ、
「置換基を有するアリールオキシ基」は、例えば、ｐ－メチルフェノキシ基、ｐ－ニトロフェノキシ基、ｐ－メトキシフェノキシ基、２，４－ジクロロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、２－メチル－４－クロロフェノキシ基等が挙げられる。

【0039】

置換基を有してもよいアルキルチオ基の「アルキルチオ基」は、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、オクタデシルチオ基等が挙げられる。
「置換基を有するアルキルチオ基」は、例えば、メトキシエチルチオ基、アミノエチルチオ基、ベンジルアミノエチルチオ基、メチルカルボニルアミノエチルチオ基、フェニルカルボニルアミノエチルチオ基等が挙げられる。

【0040】

置換基を有してもよいアリールチオ基の「アリールチオ基」は、例えば、フェニルチオ基、１－ナフチルチオ基、２－ナフチルチオ基、９－アンスリルチオ基等が挙げられる。
「置換基を有するアリールチオ基」は、例えば、クロロフェニルチオ基、トリフルオロメチルフェニルチオ基、シアノフェニルチオ基、ニトロフェニルチオ基、２－アミノフェニルチオ基、２－ヒドロキシフェニルチオ基等が挙げられる。

【0041】

置換基を有してもよい芳香環の置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、ニトリル基、カルボキシル基、スルホン基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基が挙げられる。

【0042】

（－ＯＰ（＝Ｏ）Ｒ_１Ｒ_２（リン化合物部位））
一般式（１）で表される化合物（Ａ）の一形態は、－ＯＰ（＝Ｏ）Ｒ_１Ｒ_２で表されるリン化合物部位中のリン酸基と、フタロシアニン部位中のアルミニウムカチオンが塩を形成したものである。別形態では、Ｒ_１Ｒ_２に応じて、リン化合物部位中のホスフィン酸基またはホスホン酸基と、アルミニウムカチオンが塩を形成する。
リン化合物部位の原料は、一般式（６）で表されるリン化合物である。

【0043】

一般式（６）

【化8】

【0044】

一般式（６）中、Ｒ_５０およびＲ_５１は、それぞれ独立に、水酸基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシル基または置換基を有してもよいアリールオキシ基を表し、Ｒ_５０とＲ_５１は、互いに結合して環を形成しても良い。
Ｖはヒドロキシ基または、塩素原子を表す。

【0045】

置換基を有してもよいアルキル基の「アルキル基」、置換基を有してもよいアリール基の「アリール基」、置換基を有してもよいアルコキシル基の「アルコキシル基」、置換基を有してもよいアリールオキシ基の「アリールオキシ基」は、上記一般式（５）の説明で例示したものと同じものがあげられる。

【0046】

一般式（６）で表されるリン化合物としては、分散性や色特性の観点から、Ｒ_５０とＲ_５１のうちの少なくとも１つが、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有してもよいアリールオキシ基であることが好ましく、Ｒ_５０とＲ_５１がいずれもアリール基、またはアリールオキシ基であることがより好ましく、Ｒ_５０とＲ_５１がいずれもフェニル基またはフェノキシ基であることがさらに好ましい。

【0047】

リン化合物の代表的な例として、下記に示す構造が挙げられるが、本発明は、これらに限定されるものではない。

【0048】

【化9】

【0049】

（一般式（２）で表される単量体単位を含む重合体部位）
一般式（１）で表される化合物（Ａ）の一形態は、一般式（２）で表される単量体単位を含む重合体部位中のリン酸基と、フタロシアニン部位中のアルミニウムカチオンが塩を形成したものである。別形態では、Ｗに応じて、重合体部位中のホスホン酸基と、アルミニウムカチオンが塩を形成する。
当該重合体部位は、その原料である一般式（７）で表されるモノマーをビニル重合してなる。なお、当該重合体部位は、一般式（７）で表されるモノマーと、一般式（７）で表されるモノマー以外にその他モノマーとを使用できる。

【0050】

一般式（７）

【化10】

【0051】

一般式（７）中、Ｗは－ＣＯＮＨ－Ｒ_２３－、－ＣＯＯ－Ｒ_２４－、－ＣＯＮＨ－Ｒ_２５－O－、－ＣＯＯ－Ｒ_２６－O－、Ｒ_２３～Ｒ_２６は、炭素原子と炭素原子の間が、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、または－ＮＨＣＯ－で連結されていても良いアルキレン基もしくはアリーレン基を表す。
アルキレン基は、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基が挙げられる。アリーレン基は、例えば、フェニレン、ナフチレン、ビフェニレン基、ターフェニレン基、アンスリレン基があげられる。Ｒ_２３～Ｒ_２６は、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基が挙げられる。
Ｒ_２２は水素原子または、メチル基を表す。

【0052】

一般式（７）で表されるモノマーは、例えば、（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、（２－（メタ）アクリロイルオキシプロピル）アシッドホスフェート、（２－（メタ）アクリロイルオキシイソプロピル）アシッドホスフェートが挙げられる。

【0053】

その他モノマーは、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、ビニルエーテル類、ビニルアルコールのエステル類、スチレン類、（メタ）アクリロニトリル、酸基含有モノマー、熱架橋性基含有モノマー等が挙げられる。

【0054】

（メタ）アクリル酸エステル類は、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ－プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ－ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ－ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ－ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ－オクチル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸アセトキシエチル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２－メトキシエチル、（メタ）アクリル酸２－エトキシエチル、（メタ）アクリル酸２－（２－メトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸３－フェノキシ－２－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸β－フェノキシエトキシエチル、（メタ）アクリル酸ノニルフェノキシポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸トリフロロエチル、（メタ）アクリル酸オクタフロロペンチル、（メタ）アクリル酸パーフロロオクチルエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニルオキシエチル等が挙げられる。

【0055】

クロトン酸エステル類は、例えば、クロトン酸ブチル、及びクロトン酸ヘキシル等が挙げられる。

【0056】

ビニルエステル類は、例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、及び安息香酸ビニル等が挙げられる。マレイン酸ジエステル類は、例えば、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、及びマレイン酸ジブチル等が挙げられる。

【0057】

フマル酸ジエステル類は、例えば、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、及びフマル酸ジブチル等が挙げられる。

【0058】

イタコン酸ジエステル類は、例えば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、及びイタコン酸ジブチル等が挙げられる。

【0059】

（メタ）アクリルアミド類は、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ｎ－ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ－ｔ－ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（２－メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミド等が挙げられる。

【0060】

ビニルエーテル類は、例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、及びメトキシエチルビニルエーテル等が挙げられる。
スチレン類は、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えばｔ－Ｂｏｃなど）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、α－メチルスチレン等が挙げられる。

【0061】

酸基含有モノマーは、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α－クロルアクリル酸、けい皮酸等の不飽和モノカルボン酸類；マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸等の不飽和ジカルボン酸またはその無水物類；３価以上の不飽和多価カルボン酸またはその無水物類；こはく酸モノ（２－アクリロイロキシエチル）、こはく酸モノ（２－メタクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２－アクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２－メタクリロイロキシエチル）等の２価以上の多価カルボン酸のモノ〔（メタ）アクリロイロキシアルキル〕エステル類；ω－カルボキシ－ポリカプロラクトンモノアクリレート、ω－カルボキシ－ポリカプロラクトンモノメタクリレート等の両末端カルボキシポリマーのモノ（メタ）アクリレート類等を挙げられる。

【0062】

熱架橋性基含有モノマー中の熱架橋性基は、例えば、色材の架橋点になり、色材の耐熱性向上に寄与する。熱架橋性基は、例えば、水酸基、カルボン酸無水物、１級または２級アミノ基、イミノ基、オキセタニル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、エポキシ基、メルカプト基、イソシアネート基等が挙げられる。これらの中でも保存安定性、および反応性の面でヒドロキシル基、カルボキシル基、オキセタニル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソシアネート基、（メタ）アクリロイル基が好ましく、ヒドロキシル基がより好ましい。
水酸基含有モノマーは、例えば、特に限定されないが、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－-ヒドロキ
シブチル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシビニルベンゼン、２－ヒドロキシ-３－-フェノキシプロピルアクリレートまたはこれらモノマーのカプロラクトン付加物（モル数は１～５）等が挙げられる。これらの中でも２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートが耐熱性の観点から好ましい。

【0063】

オキセタニル基含有モノマーは、例えば、３－（アクリロイルオキシメチル）３－メチルオキセタン、３－（メタクリロイルオキシメチル）３－メチルオキセタン、３－（アクリロイルオキシメチル）３－エチルオキセタン、３－（メタクリロイルオキシメチル）３－エチルオキセタン、３－（アクリロイルオキシメチル）３－ブチルオキセタン、３－（
メタクリロイルオキシメチル）３－ブチルオキセタン、３－（アクリロイルオキシメチル）３－ヘキシルオキセタン及び３－（メタクリロイルオキシメチル）３－ヘキシルオキセタン等が挙げられる。

【0064】

ｔｅｒｔ－ブチル基含有モノマーは、例えば、ｔｅｒｔ－ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ－ブチルメタクリレート等が挙げられる。

【0065】

イソシアネート基含有モノマーは、例えば、例えば、２－イソシアネートエチルメタクリレート、２－イソシアネートエチルアクリレート、４－イソシアネートブチルメタクリレート、４－イソシアネートブチルアクリレート等が挙げられる。なお、イソシアネート基は、例えば、ブロックイソシアネート基を含む。ブロックイソシアネート基とは、通常の条件では、イソシアネート基を他の官能基で保護することによりイソシアネート基の反応性を抑える一方で、加熱により脱保護し、活性なイソシアネート基を再生させることができる官能基である。

【0066】

ブロックイソシアネート基含有モノマーの市販品は、例えば、２－［（３，５－ジメチルピラゾリル）カルボキシアミノ］エチルメタクリレート（カレンズＭＯＩ－ＢＰ、昭和電工社製）；メタクリル酸２－（Ｏ－［１’－メチルプロビリデンアミノ］カルボキシアミノ）エチル（カレンズＭＯＩ－ＢＭ、昭和電工社製）等が挙げられる。

【0067】

これらのモノマーは、単独または２種類以上を併用して使用できる。

【0068】

重合体部位の合成に使用する一般式（７）で表されるモノマーの使用量は、全モノマー１００質量％中、１～３０質量％が好ましく、５～１５質量％がより好ましい。適量使用すると光学特性が向上する。

【0069】

また、熱架橋性基含有モノマーの使用量は、全モノマー１００質量％中、５～５０質量％が好ましく、１０～３０質量％がより好ましい。適量使用すると耐熱性が向上する。

【0070】

重合体部位の合成法は、例えば、アニオン重合、リビングアニオン重合、カチオン重合、リビングカチオン重合、フリーラジカル重合、リビングラジカル重合等が挙げられる。これらの中でもフリーラジカル重合またはリビングラジカル重合が好ましい。

【0071】

フリーラジカル重合法は、重合開始剤を使用する。重合開始剤は、例えば、アゾ系化合物、有機過酸化物が挙げられる。
アゾ系化合物は、例えば、２，２'－アゾビスイソブチロニトリル、２，２'－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）、１，１'－アゾビス（シクロヘキサン１－カルボニトリ
ル）、２，２'－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２'－アゾビス（２，４－ジメチル－４－メトキシバレロニトリル）、ジメチル２，２'－アゾビス（２－メ
チルプロピオネート）、４，４'－アゾビス（４－シアノバレリック酸）、２，２'－アゾビス（２－ヒドロキシメチルプロピオニトリル）、または２，２'－アゾビス［２－（２
－イミダゾリン－２－イル）プロパン］等が挙げられる。有機過酸化物は、例えば、過酸化ベンゾイル、ｔｅｒｔ－ブチルパーベンゾエイト、クメンヒドロパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ－ｎ－プロピルパーオキシジカーボネート、ジ（２－エトキシエチル）パーオキシジカーボネート、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシビバレート、（３，５，５－トリメチルヘキサノイル）パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、またはジアセチルパーオキシド等が挙げられる。

【0072】

重合開始剤は、単独または２種類以上を併用して使用できる。

【0073】

重合温度は、４０～１５０℃が好ましく、５０～１１０℃がより好ましい。重合時間は、３～３０時間が好ましく、５～２０時間がより好ましい。

【0074】

リビングラジカル重合法は、一般的なラジカル重合に起こる副反応が抑制され、かつ重合の成長が均一に起こるため、ブロックポリマーや分子量分布が狭い重合体を合成できる。

【0075】

リビングラジカル重合法は、様々な重合法がある中で、有機ハロゲン化物、またはハロゲン化スルホニル化合物を重合開始剤とし、遷移金属錯体を触媒とする原子移動ラジカル重合法が好ましい。この方法は、多様な構造のモノマーも重合できる点、既存の設備に適応可能な重合温度を採用できる点で好ましい。原子移動ラジカル重合法は、下記の参考文献１～８等に記載された方法で行うことができる。

【0076】

（参考文献１）Ｆuｋuｄaら、Ｐｒｏｇ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．２００４，２９，３２９
（参考文献２）Ｍａｔｙｊａｓｚｅｗｓｋｉら、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２００１，１０１，２９２１
（参考文献３）Ｍａｔｙｊａｓｚｅｗｓｋｉら、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９９５，１１７，５６１４
（参考文献４）Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ １９９５，２８，７９０１，Ｓｃｉｅｎ
ｃｅ，１９９６，２７２，８６６
（参考文献５）ＷＯ９６／０３０４２１号
（参考文献６）ＷＯ９７／０１８２４７号
（参考文献７）特開平９－２０８６１６号公報
（参考文献８）特開平８－４１１１７号公報

【0077】

重合体部位の合成には有機溶剤を用いることが好ましい。有機溶剤は、例えば、例えば、酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、トルエン、キシレン、アセトン、ヘキサン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、またはジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等が挙げられる。

【0078】

重合体部位の重量平均分子量は、５０００～２００００が好ましく、８０００～１５０００が好ましい。適度な分子量を有することで光学特性と耐熱性が向上する。

【0079】

重合体部位のガラス転移温度（Ｔｇ）は、－５０～１５０℃が好ましく、２０～８０℃がより好ましい。適度なＴｇにより光学特性が向上する。

【0080】

有機溶剤は、単独または２種類以上を併用して使用できる。

【0081】

＜一般式（４）で表される化合物（Ａ１）＞
本発明の化合物（Ａ）は、下記一般式（４）で表される化合物（Ａ１）（以下、単に化合物（Ａ１）ともいう）を含むことが好ましい。
一般式（４）

【化11】

【0082】

一般式（４）中、Ｙ_９～Ｙ_１６、Ｒ_８～Ｒ_２１は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、スルホン基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置換基を有してもよいフタルイミドメチル基、または、置換基を有してもよいスルファモイル基を表す。Ｚ_２は、－ＯＰ（＝Ｏ）Ｒ_１Ｒ_２、または一般式（２）で表される単量体単位を含む重合体部位を表す。ここでＲ_１、Ｒ_２はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基を表す。

【0083】

一般式（２）

【化12】

［一般式（２）中、Ｗは、－ＣＯＮＨ－Ｒ_４－、－ＣＯＯ－Ｒ_５－、－ＣＯＮＨ－Ｒ_６－Ｏ－、－ＣＯＯ－Ｒ_７－Ｏ－を表し、Ｒ_４～Ｒ_７は、炭素原子と炭素原子の間が、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、または－ＮＨＣＯ－で連結されていても良いアルキレン基もしくはアリーレン基を表す。Ｒ_３は水素原子または、メチル基を表す。＊は、Ａｌとの結合手である。］

【0084】

化合物（Ａ１）は、フタロシアニン部位（ＰＣ２）と、－ＯＰ（＝Ｏ）Ｒ_１Ｒ_２（リン化合物部位）または一般式（２）で表される単量体単位を含む重合体部位と、から構成される。フタロシアニン部位（ＰＣ２）は、下記一般式（８）で表されるフタロシアニンを原料とすることが好ましい。

【0085】

一般式（８）

【化13】

【0086】

一般式（８）中、Ｙ_９～Ｙ_１６、Ｒ_８～Ｒ_２１は、一般式（４）中のＹ_９～Ｙ_１６、Ｒ_８～Ｒ_２１と同様の意義である。

【0087】

置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置換基を有してもよいフタルイミドメチル基、または、置換基を有してもよいスルファモイル基は、前述の説明の通りである。

【0088】

化合物（Ａ１）としては、分散性や色特性の観点から、Ｙ_９～Ｙ_１６、Ｒ_８～Ｒ_２１は、水素原子、ハロゲン原子、または、置換基を有してもよいアルコキシル基が好ましい。

【0089】

本発明における化合物（Ａ）は、化合物（Ａ）中の化合物（Ａ１）の含有量が、２０～１００質量％であることが好ましく、保存安定性の観点から、４０～９０質量％であることがより好ましい。
化合物（Ａ１）は、ピロール環とナフタレン環が縮合したユニット３つと、イソインドール環ユニット１つが窒素で架橋した３＋１型非対称フタロシアニンである。化合物（Ａ１）は、非対称型であることにより、芳香環の会合による凝集が緩和し、保存安定性が良好な樹脂組成物を得ることができる。

【0090】

（フタロシアニン部位の合成法）
一般式（５）および一般式（８）で表されるフタロシアニンの一般的な工業的製法を以下に記載する。（４）の方法は、一般式（８）で表されるフタロシアニンを合成する方法である。（１）～（３）の方法を用いると、一般式（５）で表されるフタロシアニンとして複数の構造を含有する。化合物（Ａ）として複数の構造を含有するほうが、芳香環の会合による凝集が緩和され、分散安定性が優れた樹脂組成物が得られるため、（１）～（３）の方法が好ましい。
（１）Ｗｙｌｅｒ法
置換あるいは無置換の無水フタル酸および無水ナフタレンジカルボン酸や、置換あるいは無置換の無水フタル酸イミドおよび無水ナフタレンジカル
ボン酸イミドを用いて，尿素と金属塩存在下，高温で反応させる方法。無水フタル酸と無水ナフタレンジカルボン酸を併用、または、無水フタル酸イミドと無水ナフタレンジカルボン酸イミドを併用することで、一般式（１）で表される化合物（Ａ）を得ることができる。
（２）フタロジニトリル法
置換あるいは無置換フタロジニトリルおよび２，３―ジシアノナフタレンを、ｎ－アミルアルコール、ｎ－ヘキシルアルコール、１－メトキシエタノール、１－エトキシエタノールのようなアルコール系溶媒中で、ＤＢＵ（１，８－ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデセン－７）、ＤＢＮ（１，５－ジアザビシクロ［４，３，０］ノネン－５）、又は（金属）アルコキシドのような強塩基の存在下、金属塩と反応させる方法。フタロジニトリルと２，３―ジシアノナフタレンを併用することで、一般式（１）で表される化合物（Ａ）を得ることができる。
（３）ジイミノイソインドリン法
置換あるいは無置換の１,３－ジイミノイソインドリンおよび１，３－ジイミノベンゾ[ｆ]イソインドリンを、２－ジメチルアミノエタノール、キノリン、ＤＢＵ（１，８－ジ
アザビシクロ［５，４，０］ウンデセン－７）のような強塩基の存在下、金属塩と反応させる方法。１,３－ジイミノイソインドリンと１，３－ジイミノベンゾ[ｆ]イソインドリ
ン
を併用することで、一般式（１）で表される化合物（Ａ）を得ることができる。
（４）サブフタロシアニン開環法（サブフタロシアニンからの非対称型フタロシアニン合成法）
ボロンＳＵＢ-２，３-ナフタロシアニンクロリドと置換あるいは無置換の１,３－ジイ
ミノイソインドリンから一般式（９）で表される化合物を合成した後、金属塩と反応させる方法。

【0091】

一般式（９）

【化14】

【0092】

一般式（９）中、Ｙ_９～Ｙ_１６、Ｒ_８～Ｒ_２１は、一般式（４）中のＹ_９～Ｙ_１６、Ｒ
_８～Ｒ_２１と同様の意義である。

【0093】

（化合物（Ａ）または化合物（Ａ１）の合成法）
化合物（Ａ）または化合物（Ａ１）は、例えば、フタロシアニン部位（ＰＣ１）またはフタロシアニン部位（ＰＣ２）と、一般式（６）で表されるリン化合物または一般式（７）で表されるモノマーを含む単量体をビニル重合してなる重合体（以下、重合体ともいう）を反応させて合成する
なお、前記フタロシアニン部位に、前記リン化合物および前記重合体の両方を同時または逐次反応させてもよい。

【0094】

化合物（Ａ）または化合物（Ａ１）の合成は、例えば、フタロシアニン部位、リン化合物または重合体を有機溶媒に加え、数時間加熱攪拌する。次いで反応溶液を水に投入し、析出した生成物をろ過し、水洗、乾燥させることで作製できる。

【0095】

フタロシアニン部位、および重合体部位の比率については、フタロシアニン部位と重合体部位のうち一般式（７）で表されるモノマー由来のリン酸基のモル比率が、フタロシアニン部位／一般式（７）で表されるモノマー由来のリン酸基＝０．５～１．５が好ましく、０．８～１．２が好ましい。適度な比率で使用すると芳香環の会合による吸収が非常に弱くなり、比視感度の高い領域である４８０ｎｍ～６５０ｎｍの透過性が高くなる。

【0096】

フタロシアニン部位、およびリン化合物部位の比率については、一般式（６）で表されるリン化合物の添加量は、分散性や色特性の観点から、フタロシアニン部位に対して０．８モル当量から２．０モル当量が好ましく、１．０モル当量から１．５モル当量がより好ましい。

【0097】

以下、一般式（１）で表される化合物（Ａ）の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。

【0098】

【化15】

【0099】

＜一般式（３ａ）または一般式（３ｂ）で表される化合物（Ｂ）＞
本発明の樹脂組成物は、一般式（３ａ）または一般式（３ｂ）で表される化合物（Ｂ）（以下、単に化合物（Ｂ）ともいう）を含む。

【0100】

【化16】

【0101】

一般式（３ａ）または一般式（３ｂ）中、Ｚ_３～Ｚ_７は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基または置換基を有してもよい複素環基を表す。Ｚ_３～Ｚ_７で示される基のうち隣り合う２個の基は、連結してそれぞれが結合する窒素原子または硫黄原子と共に環を形成してもよい。

【0102】

置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基、は、前述の説明の通りである。

【0103】

置換基を有してもよいアルケニル基の「アルケニル基」は、例えば、直鎖又は分岐のアルケニル基（ビニル、アリル、１－プロペニル、２－プロペニル、１－ブテニル、２－ブテニル、３－ブテニル、１－メチル－１－プロペニル、１－メチル－２－プロペニル、２－
メチル－１－プロペニル及び２－メチル－２－プロぺニル等）、シクロアルケニル基（２－シクロヘキセニル及び３－シクロヘキセニル等）が挙げられる。アルケニル基としては、炭素数２～１８のアルケニル基が好ましく、さらに好ましくは炭素数２～８のアルケニル基である。直鎖のアルケニル基が好ましい。

【0104】

一般式（３ａ）で表される化合物（Ｂ）としては、Ｚ_３～Ｚ_５は、無置換のアルキル基であることが好ましい。Ｚ_４が無置換のアルキル基を表わし、かつＺ_３とＺ_５が互いに環を形成している構造がより好ましい。また、一般式（３ｂ）で表される化合物（Ｂ）としては、Ｚ_６とＺ_７が無置換のアルキル基であることが好ましい。化合物（Ａ）との立体反発が少なく、化合物（Ａ）のアルミニウムカチオン部分と相互作用しやすくなり、より耐性面（耐熱性、耐湿性）での効果が期待できる。

【0105】

化合物（Ｂ）の分子量は５０～１０００であることが好ましく、５０～３００であることがより好ましい。分子量が上記範囲であれば、化合物（Ａ）との立体反発が少なく、より効果が得られる。

【0106】

化合物（Ｂ）の沸点は、５０～３００℃であることが好ましく、１４０～２４０℃であると、塗膜の加熱後も効果が損なわれず、さらに好ましい。

【0107】

化合物（Ｂ）が、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドであることがさらに好ましい。
＜樹脂組成物＞

【0108】

本発明の樹脂組成物は、化合物（Ａ）、化合物（Ｂ）０．０００１～１質量％、及びバインダ樹脂（Ｃ）を含むことを特徴とする
化合物（Ａ）、化合物（Ｂ）０．０００１～１質量％、及びバインダ樹脂（Ｃ）を含むと、保存安定性が良好で、耐湿性に優れた膜を形成することができる。このような効果が得られる理由は、次のようなものであると推測される。
化合物（Ａ）の一形態は、－ＯＰ（＝Ｏ）Ｒ_１Ｒ_２で表されるリン化合物部位中のリン酸基と、フタロシアニン部位中のアルミニウムカチオンが塩を形成しており、ガスクロマトグラフによる定量により、化合物（Ａ）は化合物（Ｂ）を結晶中に取り込みやすいことがわかっている。
化合物（Ａ）の結晶中に化合物（Ｂ）が存在することで、凝集が起こりにくく高い保存安定性や異物抑制効果が得られる。また、製膜後の膜にした際に、熱や湿度による分解を抑制することができると推測される。化合物（Ａ）の樹脂組成物に後から化合物（Ｂ）を添加するよりも、化合物（Ａ）の合成時より化合物（Ｂ）を含有していたほうが、より凝集が起こりにくく、保存安定性の観点で好ましい。
耐熱性、耐湿性の観点では０．１～１質量％であることがより好ましく、保存安定性の観点では０．００１～０．６質量％であることがより好ましい。
保存安定性、異物抑制効果、耐熱性、耐湿性を両立するために０．０１～０．８質量％であることがさらに好ましい。
化合物（Ｂ）が０．０００１質量％より少ないと結晶中に取り込まれる化合物（Ｂ）の量が少なく、耐性への効果がない。一方、化合物（Ｂ）が１質量％より多いと保存安定性が悪化し、好ましくない。

【0109】

また、化合物（Ｂ）の含有量は、化合物（Ａ）１００質量部に対して０．０１～１０質量％であることが好ましく、０．１～９質量％であることがさらに好ましい。
なお、組成物の化合物（Ｂ） の含有量は、ガスクロマトグラフにより定量して求める
ことができる。

【0110】

＜波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲に吸収極大波長を有する化合物（Ｈ）＞
本発明の樹脂組成物は、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲に吸収極大波長を有する化合物（Ｈ）（以下、単に化合物（Ｈ）ともいう）を含有できる。これにより、光学フィルタの可視光領域の透過率を制御することができる。

【0111】

化合物（Ｈ）は、カラーインデックスにおいてピグメントに分類されている化合物が好ましい。
化合物（Ｈ）としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１，２，３，４，５，６，７，８，９，１２，１４，１５，１６，１７，２１，２２，２３，３１，３２，３７，３８，４１，４７，４８，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５０：１，５２：１，５２：２，５３，５３：１，５３：２，５３：３，５７，５７：１，５７：２，５８：４，６０，６３，６３：１，６３：２，６４，６４：１，６８，６９，８１，８１：１，８１：２，８１：３，８１：４，８３，８８，９０：１，１０１，１０１：１，１０４，１０８，１０８：１，１０９，１１２，１１３，１１４，１２２，１２３，１４４，１４６，１４７，１４９，１５１，１６６，１６８，１６９，１７０，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８１，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，１９３，１９４，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１４，２１６，２２０，２２１，２２４，２３０，２３１，２３２，２３３，２３５，２３６，２３７，２３８，２３９，２４２，２４３，２４５，２４７，２４９，２５０，２５１，２５３，２５４，２５５，２５６，２５７，２５８，２５９，２６０，２６２，２６３，２６４，２６５，２６６，２６７，２６８，２６９，２７０，２７１，２７２，２７３，２７４，２７５，２７６，２７７，２７８，２７９，２８０，２８１，２８２，２８３，２８４，２８５，２８６，２８７，２９１，２９５，２９６、特開２０１４－１３４７１２号公報、特許第６３６８８４４号公報等に記載された赤色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６，３８，４３，６４，７１，７３等の橙色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１，２，３，４，５，６，１０，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２６，１２７，１２８，１２９，１３８，１３９，１４７，１５０，１５１，１５２、１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９２，１９３，１９４，１９６，１９８，１９９，２１３，２１４，２３１，２３３、特開２０１２－２２６１１０号公報、特開２０１７－１７１９１２号公報、特開２０１７－１７１９１３号公報、特開２０１７－１７１９１４号公報、特開２０１７－１７１９１５号公報等に記載された黄色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１，２，４，７，８，１０，１３，１４，１５，１７，１８，１９，２６，３６，３７，４５，４８，５０，５１，５４，５５，５８，５９，６２，６３等の緑色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１，１：２，９，１４，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，１７，１９，２５，２７，２８，２９，３３，３５，３６，５６，５６：１，６０，６１，６１：１，６２，６３，６６，６７，６８，７１，７２，７３，７４，７５，７６，７８，７９等の青色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１，１：１，２，２：２，３，３：１，３：３，５，５：１，１４，１５，１６，１９，２３，２５，２７，２９，３１，３２，３７，３９，４２，４４，４７，４９，５０等の紫色顔料が挙げられる。

【0112】

本発明の樹脂組成物は、赤外線透過フィルタに用いる際には、化合物（Ｈ）として、赤色顔料、橙色顔料、黄色顔料、青色顔料、緑色顔料及び紫色顔料からなる群から選ばれる２種以上の顔料を含み、黒色を呈することが好ましい。

【0113】

化合物（Ｈ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。

【0114】

化合物（Ｈ）の含有量は、色材の合計１００質量％中、１～７０質量％以下が好ましく、５～６０質量％がより好ましい。

【0115】

化合物（Ａ）、化合物（Ｈ）が顔料の場合、微細化して用いることができる。微細化方法は、特に限定されるものではなく、例えば、湿式磨砕、乾式磨砕、溶解析出法いずれも使用できる。これらの中でも、湿式磨砕の１種であるニーダー法によるソルトミリング処理が好ましい。微細化顔料のＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）により求められる平均一次粒子径は、５～９０ｎｍが好ましい。なお、分散性、安定性の観点から、平均一次粒子径は１０～７０ｎｍがより好ましい。

【0116】

＜バインダ樹脂（Ｃ）＞
本発明の樹脂組成物は、バインダ樹脂（Ｃ）を含む。バインダ樹脂（Ｃ）は、被膜形成に必要な化合物である。バインダ樹脂（Ｃ）は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、エチレン性不飽和二重結合等を有する活性エネルギー線硬化性樹脂などが挙げられる。また、活性エネルギー線硬化性樹脂は、熱硬化性を有することも好ましい。バインダ樹脂（Ｃ）は、現像性の観点からアルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。

【0117】

熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ブチラール樹脂、スチレンーマレイン酸共重合体、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル樹脂、ビニル系樹脂、アルキッド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ゴム系樹脂、環化ゴム系樹脂、セルロース類、ポリエチレン（ＨＤＰＥ、ＬＤＰＥ）、ポリブタジエン、およびポリイミド樹脂等が挙げられる。

【0118】

熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フマル酸樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、およびフェノール樹脂等が挙げられる。

【0119】

バインダ樹脂（Ｃ）としては、可視光領域の４００～７００ｎｍの全波長領域において分光透過率が好ましくは８０％以上、より好ましくは９５％以上の樹脂であることが好ましい。

【0120】

アルカリ可溶性樹脂は、カルボキシル基、スルホン基等の酸性基を有する樹脂である。アルカリ可溶性樹脂は、例えば、酸性基を有するアクリル樹脂、α－オレフィン／（無水）マレイン酸共重合体、スチレン／スチレンスルホン酸共重合体、エチレン／（メタ）アクリル酸共重合体、またはイソブチレン／（無水）マレイン酸共重合体等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性、透明性がより向上する酸性基を有するアクリル樹脂、およびスチレン／スチレンスルホン酸共重合体が好ましく、酸性基を有するアクリル樹脂がより好ましい。

【0121】

アルカリ可溶性樹脂に光反応性を付与するためエチレン性不飽和活性二重結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂を使用することが好ましい。これにより硬化後の被膜は、耐溶剤性がより向上する。

【0122】

エチレン性不飽和二重結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂としては、たとえば以下に示す（a）～ (ｃ)の方法により不飽和エチレン性二重結合を導入した樹脂が挙げられる。

【0123】

[方法（ａ）]
方法(ａ)としては、例えば、エポキシ基を有する不飽和エチレン性単量体と、他の１種類以上の単量体とを共重合することによって得られた共重合体の側鎖エポキシ基に、不飽和エチレン性二重結合を有する不飽和一塩基酸のカルボキシル基を付加反応させ、更に、生成した水酸基に、多塩基酸無水物を反応させ、不飽和エチレン性二重結合およびカルボキシル基を導入する方法がある。

【0124】

エポキシ基を有する不飽和エチレン性単量体としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、２－グリシドキシエチル（メタ）アクリレート、３，４エポキシブチル（メタ）アクリレート、および３，４エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレートが挙げられ、これらは、単独で用いても、２種類以上を併用してもかまわない。次工程の不飽和一塩基酸との反応性の観点で、グリシジル（メタ）アクリレートが好ましい。

【0125】

不飽和一塩基酸としては、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ｏ－、ｍ－、ｐ－ビニル安息香酸、（メタ）アクリル酸のα位ハロアルキル、アルコキシル、ハロゲン、ニトロ、シアノ置換体等のモノカルボン酸等が挙げられ、これらは、単独で用いても、２種類以上を併用してもかまわない。

【0126】

多塩基酸無水物としては、テトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸等が挙げられ、これらは単独で用いても、２種類以上を併用してもかまわない。カルボキシル基の数を増やす等、必要に応じて、トリメリット酸無水物等のトリカルボン酸無水物を用いたり、ピロメリット酸二無水物等のテトラカルボン酸二無水物を用いたりして、残った無水物基を加水分解すること等もできる。また、多塩基酸無水物として、不飽和エチレン性二重結合を有する、テトラヒドロ無水フタル酸、または無水マレイン酸を用いると、更に不飽和エチレン性二重結合を増やすことができる。

【0127】

[方法（ｂ）]
方法(ａ)の類似の方法として、例えば、カルボキシル基を有する不飽和エチレン性単量体と、他の１種類以上の単量体とを共重合することによって得られた共重合体の側鎖カルボキシル基の一部に、エポキシ基を有する不飽和エチレン性単量体を付加反応させ、不飽和エチレン性二重結合およびカルボキシル基を導入する方法がある。
この方法では、方法(ａ)に比べ、エポキシ基を有する不飽和エチレン性単量体由来の水酸基が多く生成する。本発明の造塩化合物を得る際に使用する、側鎖にカチオン性基を有する樹脂に、熱架橋性官能基としてオキセタニル基、ｔ－ブチル基が含まれている場合は、バインダ樹脂（Ｃ）として方法（ｂ）によって得られる樹脂を使用すると、より高い耐熱性を発現するため、好ましい。

【0128】

[方法（ｃ）]
方法（ｃ）としては、水酸基を有する不飽和エチレン性単量体を使用し、他のカルボキシル基を有する不飽和一塩基酸の単量体や、他の単量体とを共重合することによって得られた共重合体の側鎖水酸基に、イソシアネート基を有する不飽和エチレン性単量体のイソシアネート基を反応させる方法がある。

【0129】

水酸基を有する不飽和エチレン性単量体としては、２－ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレート、２－若しくは３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－若しくは３－若しくは4－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレ
ー
ト、またはシクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類が挙げられ、これらは、単独で用いても、２種類以上を併用してもかまわない。また、上記ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートに、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、および／またはブチレンオキシド等を付加重合させたポリエーテルモノ（メタ）アクリレートや、（ポリ）γ－バレロラクトン、（ポリ）ε－カプロラクトン、および／または（ポリ）１２－ヒドロキシステアリン酸等を付加した（ポリ）エステルモノ（メタ）アクリレートも使用できる。塗膜異物抑制の観点から、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、またはグリセロール（メタ）アクリレートが好ましい。

【0130】

イソシアネート基を有する不飽和エチレン性単量体としては、２－（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、または１，１－ビス〔（メタ）アクリロイルオキシ〕エチルイソシアネート等が挙げられるが、これらに限定することなく、２種類以上併用することもできる。

【0131】

バインダ樹脂（Ｃ）の質量平均分子量（Ｍｗ）は、成膜性、塗膜耐性の観点から、１０，０００～１００，０００の範囲が好ましく、より好ましくは１０，０００～８０，０００の範囲である。また数平均分子量（Ｍｎ）は５，０００～５０，０００の範囲が好ましく、Ｍｗ／Ｍｎの値は１０以下であることが好ましい。

【0132】

後述する感光性樹脂組成物として用いる場合、分散性、現像性、および耐熱性の観点から、酸価２０～３００ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダ樹脂（Ｃ）を用いることが好ましい。酸価が、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満では、現像液に対する溶解性が悪く、微細パターン形成するのが困難である。３００ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、微細パターンが残らなくなる場合がある。

【0133】

バインダ樹脂（Ｃ）は、成膜性および諸耐性が良好なことから、色材の合計１００質量％に対して、３０質量％以上の量で用いることが好ましく、色材濃度が高く、良好な色特性を発現できることから、５００質量％以下の量で用いることが好ましい。

【0134】

＜波長７００ｎｍ を超え１３００ｎｍ 以下の範囲に極大吸収波長を有する化合物（Ｆ）＞
本発明の樹脂組成物は、波長７００ｎｍを超え１３００ｎｍ以下の範囲に吸収極大波長を有する化合物（Ｆ）（以下、単に化合物（Ｆ）ともいう）を含有することができる 化合物（Ｆ）は、波長７００ｎｍを超え１３００ｎｍ 以下の範囲に吸収極大波長を有する化合物であれば、特に制限がなく、公知の化合物を使用できる。化合物（Ｆ）を併用する場合、化合物（Ｆ）／化合物（Ａ）の重量比が５／９５～３０／７０の範囲が好ましい。

【0135】

化合物（Ｆ）としては、例えば、インジゴ化合物、アントラキノン化合物、ジピロメテン化合物、ピロロピロール化合物、フタロシアニン化合物（化合物（Ａ）を除く）、ナフタロシアニン化合物（化合物（Ａ）を除く）、ペリレン化合物、シアニン化合物、ジチオール金属錯体化合物、ナフトキノン化合物、イミニウム化合物、アゾ化合物、キノリン化合物、スクアリリウム化合物、無機化合物等などが挙げられる。これらの中でも、化合物（Ａ）との相互作用の観点から、有機化合物が好ましく、芳香環を有する化合物がより好ましく、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、スクアリリウム化合物がより好ましい。

【0136】

＜分散助剤（Ｇ）＞
本発明の樹脂組成物は、分散助剤（Ｇ）を含有できる。分散助剤（Ｇ）は、色素骨格等の色材と親和性がある骨格に、スルホ基、カルボキシ基、リン酸基などの酸性置換基を導入した化合物及びこれらのアミン塩や、スルホンアミド基や末端に３級アミノ基などの塩基性置換基を導入した化合物、フェニル基やフタルイミドアルキル基などの中性置換基を導入した化合物が挙げられる。

【0137】

分散助剤（Ｇ）は、例えば、ピロロピロール系化合物、アントラキノン系化合物、キナクリドン系化合物、ジオキサジン系化合物、ペリノン系化合物、ペリレン系化合物、チアジンインジゴ系化合物、トリアジン系化合物、ベンズイミダゾロン系化合物、ベンゾイソインドール等のインドール系化合物、イソインドリン系化合物、イソインドリノン系化合物、キノフタロン系化合物、ナフトール系化合物、キナクリドン系化合物、スレン系化合物、金属錯体系化合物、アゾ、ジスアゾ、ポリアゾ等のアゾ系化合物、スクアリリウム系化合物等の構造の一部を、酸性基、塩基性基、中性基、塩構造を有する基等で置換した構造を有する化合物が挙げられる。

【0138】

酸性基は、スルホ基、カルボキシ基、リン酸基及びそれらの塩が挙げられる。塩を構成する原子又は原子団は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスフォニウムイオン等が挙げられる。

【0139】

塩基性基は、アミノ基、ピリジル基及びそれらの塩、アンモニウム基の塩が挙げられる。アミノ基は、－ＮＨ_２、ジアルキルアミノ基、アルキルアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、環状アミノ基等が挙げられる。ジアルキルアミノ基、アルキルアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、環状アミノ基は、更に置換基を有してもよい。置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、複素環基等が挙げられる。塩を構成する原子又は原子団は、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオン等が挙げられる。

【0140】

具体的には、ピロロピロール系分散助剤としては、特開２００１－２２０５２０号公報、国際公開第２００９／０８１９３０号、国際公開第２０１１／０５２６１７号、国際公開第２０１２／１０２３９９号、特開２０１７－１５６３９７号公報、国際公開２０１７／１４６０９２号、フタロシアニン系分散助剤としては、特開２００７－２２６１６１号公報、国際公開第２０１６／１６３３５１号、特開２０１７－１６５８２０号公報、特許第５７５３２６６号公報、アントラキノン系分散助剤としては、特開昭６３－２６４６７４号公報、特開平０９－２７２８１２号公報、特開平１０－２４５５０１号公報、特開平１０－２６５６９７号公報、特開２００７－０７９０９４号公報、国際公開第２００９／０２５３２５号、キナクリドン系分散助剤としては、特開昭４８－５４１２８号公報、特開平０３－９９６１号公報、特開２０００－２７３３８３号公報、ジオキサジン系分散助剤としては、特開２０１１－１６２６６２号公報、チアジンインジゴ系分散助剤としては、特開２００７－３１４７８５号公報、トリアジン系分散助剤としては、特開昭６１－２４６２６１号公報、特開平１１－１９９７９６号公報、特開２００３－１６５９２２号公報、特開２００３－１６８２０８号公報、特開２００４－２１７８４２号公報、特開２００７－３１４６８１号公報、ベンゾイソインドール系分散助剤としては、特開２００９－５７４７８号公報、キノフタロン系分散助剤としては、特開２００３－１６７１１２号公報、特開２００６－２９１１９４号公報、特開２００８－３１２８１号公報、特開２０１２－２２６１１０号公報、ナフトール系分散助剤としては、特開２０１２－２０８３２９号公報、特開２０１４－５４３９号公報、アゾ系分散助剤としては、特開２００１－１７２５２０号公報、特開２０１２－１７２０９２号公報、スクアリリウム系分散助剤として
は、国際公開２０１８／２３０３８７号等に記載の化合物が挙げられる。

【0141】

分散助剤（Ｇ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。

【0142】

分散助剤（Ｇ）は、色材１００質量部に対し、１～１００質量部添加することが好ましく、３～７０質量部添加することがより好ましく、５～５０質量部添加することがさらに好ましい。

【0143】

前記色材が顔料である場合には、分散助剤を添加し、アシッドペースティング、アシッドスラリー、ドライミリング、ソルトミリング、ソルベントソルトミリング等の顔料化処理を行う事で、顔料表面に分散助剤が吸着し、分散助剤を添加しない場合と比較して顔料の一次粒子をより微細化することができる。

【0144】

顔料に分散助剤を添加し二本ロール、三本ロール、ビーズを用いた湿式分散などの分散処理を行うことで、分散助剤が顔料表面に吸着し顔料表面が極性を持ち樹脂型分散剤の吸着が促進され、顔料、分散助剤、樹脂型分散剤、溶媒、その他添加剤との相溶性が向上し、樹脂組成物の分散安定性や経時粘度安定性が向上する。また、相溶性が向上することで樹脂組成物をガラス基板等に塗工した際の塗膜経時安定性に優れ、樹脂組成物の塗布から露光までの待ち時間（ＰＣＤ：Ｐｏｓｔ Ｃｏａｔｉｎｇ Ｄｅｌａｙ）や露光から熱処理までの待ち時間（ＰＥＤ：Ｐｏｓｔ Ｅｘｐｏｓｕｒｅ Ｄｅｌａｙ）に対するパターン形状などの安定性・特性依存性や、線幅感度安定性が良好となる。また顔料表面が分散助剤および樹脂型分散剤で吸着・被覆されることで、塗膜を加熱焼成した際の顔料の凝集や昇華による結晶析出を抑制できる。さらに現像時間ばらつきや現像残渣も抑制される。

【0145】

＜樹脂型分散剤＞
本発明の樹脂組成物は、必要に応じて樹脂型分散剤を含むことができる。樹脂型分散剤としては、色材に吸着する性質を有する色材親和性部位と、色材担体と相溶性のある部位とを有し、色材に吸着して色材担体への分散を安定化する働きをするものであれば良く、具体的には、ポリウレタン等のウレタン系分散剤、ポリアクリレート等のポリカルボン酸エステル、不飽和ポリアミド、ポリカルボン酸、ポリカルボン酸（部分）アミン塩、ポリカルボン酸アンモニウム塩、ポリカルボン酸アルキルアミン塩、ポリシロキサン、長鎖ポリアミノアマイドリン酸塩、水酸基含有ポリカルボン酸エステルや、これらの変性物、ポリ（低級アルキレンイミン）と遊離のカルボキシル基を有するポリエステルとの反応により形成されたアミドやその塩等の油性分散剤、（メタ）アクリル酸－スチレン共重合体、（メタ）アクリル酸－（メタ）アクリル酸エステル共重合体、スチレン－マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコ－ル、ポリビニルピロリドン等の水溶性樹脂や水溶性高分子化合物、ポリエステル系、変性ポリアクリレート系、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイド付加化合物、リン酸エステル系等が用いられ、これらは単独または２種以上を混合して用いることができる。

【0146】

酸性官能基を有する樹脂型分散剤の好ましい例としては、芳香族カルボン酸構造を有する樹脂型分散剤が挙げられ、それらはＷＯ２００８／００７７７６号公報、特開２００８－０２９９０１号公報、特開２００９－１５５４０６号公報、特開２０１０－１８５９３４号公報、特開２０１１－１５７４１６号公報、特開２００９－２５１４８１号公報、特開２００７－２３１９５号公報、特開１９９６－１４３６５１号公報等の公知の方法で製造することができる。

【0147】

塩基性官能基を有する樹脂型分散剤の好ましい例としては、窒素原子含有グラフト共重合体や、側鎖に３級アミノ基、４級アンモニウム塩基、含窒素複素環などを含む官能基を有する、窒素原子含有アクリル系ブロック共重合体及びウレタン系高分子分散剤などが挙げ
られる。

【0148】

また、特開２００９－１８５２７７号公報に開示されている様に、芳香族カルボキシル基を有する樹脂型分散剤と、３級アミノ基を有するビニル系樹脂（樹脂型分散剤の機能を有する）とを併用することも好ましい例として挙げられる。

【0149】

本発明の樹脂組成物においては、塩基性樹脂型分散剤が好ましい。塩基性樹脂型分散剤としては、アミノ基を有し、前記アミノ基が、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリ―ル、およびハロゲン化アラルキルからなる群から選ばれる少なくとも１種と塩形成していることが好ましく、前記アミノ基中、５～９０ｍｏｌ％のアミノ基が塩形成していることがより好ましく、１０～５０ｍｏｌ％のアミノ基が塩形成していることがさらに好ましい。この範囲であると、塩基性樹脂型分散剤が化合物（Ａ）に効率的に吸着するため分散性が良化する。

【0150】

塩基性樹脂型分散剤のアミン価は、３～８０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、５～７０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましい。

【0151】

樹脂型分散剤は、色材の合計１００質量％に対し、好ましくは０．１～２００質量％、さらに好ましくは０．１～１５０質量％である。適量使用すると良好な分散性が得られる。

【0152】

＜光重合性単量体＞
本発明の樹脂組成物は、光重合性単量体、及び光重合開始剤を含むことによって感光性樹脂組成物とすることができる。光重合性単量体には、紫外線や熱などにより硬化して透明樹脂を生成するモノマーもしくはオリゴマーが含まれる。

【0153】

光重合性単量体は、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、β－カルボキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、メチロール化メラミンの（メタ）アクリル酸エステル、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタンアクリレート等の各種アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸、スチレン、酢酸ビニル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ビニルホルムアミド、アクリロニトリル等が挙げられる。

【0154】

（酸基を有する光重合性単量体）
光重合性単量体は、酸基を有する光重合性単量体を含有できる。酸基は、スルホン酸基、カルボキシル基、リン酸基等が挙げられる。

【0155】

酸基を有する光重合性単量体は、例えば、多価アルコールと（メタ）アクリル酸との遊離水酸基含有ポリ（メタ）アクリレート類と、ジカルボン酸類とのエステル化物；多価カルボン酸と、モノヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類とのエステル化物等が挙げられる。具体例は、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート等のモノヒドロキシオリゴアクリレート又はモノヒドロキシオリゴメタクリレート類と、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、フタル酸等のジカルボン酸類との遊離カルボキシル基含有モノエステル化物；プロパン－１，２，３－トリカルボン酸（トリカルバリル酸）、ブタン－１，２，４－トリカルボン酸、ベンゼン－１，２，３－トリカルボン酸、ベンゼン－１，３，４－トリカルボン酸、ベンゼン－１，３，５－トリカルボン酸等のトリカルボン酸類と、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルメタクリレート等のモノヒドロキシモノアクリレート又はモノヒドロキシモノメタクリレート類との遊離カルボキシル基含有オリゴエステル化物等が挙げられる。

【0156】

（ウレタン結合を有する光重合性単量体）
光重合性単量体は、エチレン性不飽和結合とウレタン結合を有する光重合性単量体を含有できる。前記光重合性単量体は、例えば、水酸基を有する（メタ）アクリレートに多官能イソシアネートを反応させて得られる多官能ウレタンアクリレートや、アルコールに多官能イソシアネートを反応させ、さらに水酸基を有する（メタ）アクリレートを反応させて得られる多官能ウレタンアクリレート等が挙げられる。

【0157】

水酸基を有する（メタ）アクリレートは、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールエチレンオキサイド変性ペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールプロピレンオキサイド変性ペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールカプロラクトン変性ペンタ（メタ）アクリレート、グリセロールアクリレートメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、２－ヒドロキシ－３－アクリロイルプロピルメタクリレート、エポキシ基含有化合物とカルボキシ（メタ）アクリレートの反応物、水酸基含有ポリオールポリアクリレート等が挙げられる。

【0158】

また、多官能イソシアネートは、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ポリイソシアネート等が挙げられる。

【0159】

光重合性単量体は、単独または２種類以上を併用して使用できる。

【0160】

光重合性単量体の配合量は、樹脂組成物の不揮発分１００質量％中、１～５０質量％が好ましく、２～４０質量％がより好ましい。適量配合すると硬化性及び現像性がより向上する。

【0161】

＜光重合開始剤＞
光重合開始剤は、例えば、４－フェノキシジクロロアセトフェノン、４－ｔ－ブチル－ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１－（４－イソプロピルフェニル
）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－（ジメチルアミノ）－１－［４－（４－モルホリノ）フェニル］－２－（フェニルメチル）－１－ブタノン、又は２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン等のアセトフェノン系化合物；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、又はベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系化合物；ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルサルファイド、又は３，３’，４，４’－テトラ（ｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；チオキサントン、２－クロルチオキサントン、２－メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４－ジイソプロピルチオキサントン、又は２，４－ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系化合物；２，４，６－トリクロロ－ｓ－トリアジン、２－フェニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－トリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－ピペロニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－スチリル－ｓ－トリアジン、２－（ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－メトキシ－ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－トリクロロメチル－（ピペロニル）－６－トリアジン、又は２，４－トリクロロメチル－（４’－メトキシスチリル）－６－トリアジン等のトリアジン系化合物；１，２－オクタンジオン，１－〔４－（フェニルチオ）フェニル－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）〕、又はエタノン，１－〔９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル〕－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）等のオキシムエステル系化合物；ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、又はジフェニル－２，４，６－トリメチルベンゾイルホスフィンオキサイド等のホスフィン系化合物；９，１０－フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等のキノン系化合物；ボレート系化合物；カルバゾール系化合物；イミダゾール系化合物；あるいは、チタノセン系化合物等が挙げられる。これらの中でも、オキシムエステル系化合物が好ましい。

【0162】

光重合開始剤は、単独または２種類以上を併用して使用できる。

【0163】

（オキシムエステル系化合物）
オキシムエステル系化合物は、紫外線を吸収することによってオキシムのＮ－Ｏ結合の解裂がおこり、イミニルラジカルとアルキロキシラジカルを生成する。これらのラジカルは更に分解することにより活性の高いラジカルを生成するため、少ない露光量でパターンを形成させることができる。樹脂組成物の色材濃度が高い場合、塗膜の紫外線透過率が低くなり塗膜の硬化度が低くなることがあるが、オキシムエステル系化合物は高い量子効率を持つため好適に使用される。

【0164】

オキシムエステル系化合物は、特開２００７－２１０９９１号公報、特開２００９－１７９６１９号公報、特開２０１０－０３７２２３号公報、特開２０１０－２１５５７５号公報、特開２０１１－０２０９９８号公報等に記載のオキシムエステル系光重合開始剤が挙げられる。

【0165】

光重合開始剤の含有量は、色材の合計１００質量％に対し、２～２００質量％が好ましく、２～１５０質量％がより好ましい。適量配合すると光硬化性及び現像性がより向上する。

【0166】

＜オキセタン化合物＞
本発明の樹脂組成物は、オキセタン化合物を含有できる。オキセタン化合物は、オキセタン基を１官能、２官能、および３官能以上の化合物が挙げられる。

【0167】

オキセタン基が１官能の化合物は、例えば、(３－エチルオキセタン－３－イル)メチルアクリレート、 (３－エチルオキセタン－３－イル)メチルメタクリレート、３－エチル
－３－ヒドロキシメチルオキセタン、３－エチル－３－（２－エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（フェノキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（２－メタクリロキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－｛［３－（トリエトキシシリル）プロポキシ］メチル｝オキセタン等が挙げられる。

【0168】

オキセタン基が２官能の化合物は、例えば、４，４’－ビス［（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシメチル］ビフェニル）、１，４－ビス［（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシメチル］ベンゼン、１，４－ビス｛［（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシ］メチル｝ベンゼン、ジ［１－エチル（３－オキセタニル）］メチルエーテル、ジ［１－エチル（３－オキセタニル）］メチルエーテル－３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン、３－エチル－３－（２－エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（２－フェノキシメチル）オキセタン、３，７－ビス（３－オキセタニル）－５－オキサ－ノナン、１，２－ビス［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］エタン、１，３－ビス［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］プロパン、エチレングリコースビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、トリエチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、テトラエチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、１，４－ビス（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）ブタン、１，６－ビス（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）ヘキサン、ポリエチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、エチレンオキシド（ＥＯ）変性ビスフェノールＡビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、プロピレンオキシド（ＰＯ）変性ビスフェノールＡビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ＰＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性ビスフェノールＦ（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル等が挙げられる。

【0169】

オキセタン基が３官能以上の化合物は、例えば、ペンタエリスリトールトリス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサ（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタキス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ジトリメチロールプロパンテトラキス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、オキセタン基を含有する樹脂（例えば、特許第３７８３４６２号記載のオキセタン変性フェノールノボラック樹脂等）や（メタ）アクリルモノマーをラジカル重合させて得られる重合体が挙げられる。

【0170】

オキセタン化合物は、単独または２種類以上を併用して使用できる。

【0171】

オキセタン化合物の含有量は、樹脂組成物の不揮発分１００質量％中、０．５～５０質
量％が好ましく、１～４０質量％がより好ましい。適量含有すると耐熱性がより向上する。

【0172】

＜増感剤＞
さらに、本発明の樹脂組成物には、増感剤を含有させることができる。
増感剤としては、カルコン誘導体、ジベンザルアセトン等に代表される不飽和ケトン類、ベンジルやカンファーキノン等に代表される１，２－ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサントン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、メロシアニン誘導体、オキソノ－ル誘導体等のポリメチン色素、アクリジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリールメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テトラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキサリロポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チオピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、チオスピロピラン誘導体、金属アレーン錯体、有機ルテニウム錯体、又はミヒラーケトン誘導体、α－アシロキシエステル、アシルフォスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシレート、ベンジル、９，１０－フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアンスラキノン、４，４’－ジエチルイソフタロフェノン、３，３’又は４，４’－テトラ（ｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。

【0173】

上記増感剤の中で、特に好適に増感しうる増感剤としては、チオキサントン誘導体、ミヒラーケトン誘導体、カルバゾール誘導体が挙げられる。さらに具体的には、２，４－ジエチルチオキサントン、２－クロロチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、４－イソプロピルチオキサントン、１－クロロ－４－プロポキシチオキサントン、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（エチルメチルアミノ）ベンゾフェノン、Ｎ－エチルカルバゾール、３－ベンゾイル－Ｎ－エチルカルバゾール、３，６－ジベンゾイル－Ｎ－エチルカルバゾール等が用いられる。

【0174】

さらに具体的には、大河原信ら編、「色素ハンドブック」（１９８６年、講談社）、大河原信ら編、「機能性色素の化学」（１９８１年、シーエムシー）、池森忠三朗ら編、及び「特殊機能材料」（１９８６年、シーエムシー）に記載の増感剤が挙げられるがこれらに限定されるものではない。また、その他、紫外から近赤外域にかけての光に対して吸収を示す増感剤を含有させることもできる。

【0175】

増感剤は、単独または２種類以上を併用して使用できる。

【0176】

増感剤の含有量は、光重合開始剤１００質量％に対し、３～６０質量％が好ましく、５～５０質量％がより好ましい。適量含有すると硬化性、現像性がより向上する。

【0177】

＜チオール系連鎖移動剤＞
本発明の樹脂組成物は連鎖移動剤として、チオール系連鎖移動剤を含むことが好ましい。チオールを光重合開始剤とともに使用することにより、光照射後のラジカル重合過程において、連鎖移動剤として働き、酸素による重合阻害を受けにくいチイルラジカルが発生するので、得られる樹脂組成物は高感度となる。

【0178】

また、チオール基が２個以上あるメチレン、エチレン基等の脂肪族基に結合した多官能脂肪族チオールが好ましい。より好ましくは、チオール基が４個以上ある多官能脂肪族チオールである。官能基数が増えることで、重合開始機能が向上し、パターンにおける表面から基材付近まで硬化させることができる。

【0179】

多官能チオールとしては、例えば、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４－ブタンジオールビスチオプロピオネート、１，４－ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、トリメルカプトプロピオン酸トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、１，４－ジメチルメルカプトベンゼン、２、４、６－トリメルカプト－ｓ－トリアジン、２－（Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ）－４，６－ジメルカプト－ｓ－トリアジン等が挙げられ、好ましくは、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネートが挙げられる。

【0180】

チオール系連鎖移動剤は、単独または２種類以上を併用して使用できる。

【0181】

チオール系連鎖移動剤の含有量は、樹脂組成物の不揮発分１００質量％中、０．１～２０質量％が好ましく、０．１～１０質量％がより好ましい。適量含有すると光感度、テーパー形状が向上し、被膜表面にシワが発生し難くなる。

【0182】

＜重合禁止剤＞
本発明の樹脂組成物は、重合禁止剤を含有できる。これによりフォトリソグラフィー法の露光時にマスクの回折光による感光を抑制できるため、所望の形状のパターンが得やすくなる。

【0183】

重合禁止剤としては、例えば、カテコール、レゾルシノール、１，４－ヒドロキノン、２－メチルカテコール、３－メチルカテコール、４－メチルカテコール、２－エチルカテコール、３－エチルカテコール、４－エチルカテコール、２－プロピルカテコール、３－プロピルカテコール、４－プロピルカテコール、２－ｎ－ブチルカテコール、３－ｎ－ブチルカテコール、４－ｎ－ブチルカテコール、２－ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、３－ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルカテコール等のアルキルカテコール系化合物、２－メチルレゾルシノール、４－メチルレゾルシノール、２－エチルレゾルシノール、４－エチルレゾルシノール、２－プロピルレゾルシノール、４－プロピルレゾルシノール、２－ｎ－ブチルレゾルシノール、４－ｎ－ブチルレゾルシノール、２－ｔｅｒｔ－ブチルレゾルシノール、４－ｔｅｒｔ－ブチルレゾルシノール等のアルキルレゾルシノール系化合物、メチルヒドロキノン、エチルヒドロキノン、プロピルヒドロキノン、ｔｅｒｔ－ブチルヒドロキノン、２，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルヒドロキノン等のアルキルヒドロキノン系化合物、トリブチルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリベンジルホスフィン等のホスフィン化合物、トリオクチルホスフィンオキサイド、トリフェニルホスフィンオキサイドなどのホスフィンオキサイド化合物、トリフェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト等のホスファイト化合物、ピロガロール、フロログルシンなどが挙げられる。

【0184】

重合禁止剤の含有量は、樹脂組成物の不揮発分１００質量％中、０．０１～０．４質量％が好ましい。この範囲において、重合禁止剤の効果が大きくなり、テーパーの直線性や
塗膜のシワ、パターン解像性等が良好になる。

【0185】

＜紫外線吸収剤＞
本発明の樹脂組成物は、紫外線吸収剤を含んでも良い。本発明における紫外線吸収剤とは、紫外線吸収機能を有する有機化合物であり、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、シアノアクリレート系化合物、及びサリシレート系化合物などが挙げられる。

【0186】

紫外線吸収剤の含有量は、光重合開始剤と紫外線吸収剤との合計１００質量％中、５～７０質量％が好ましい。適量含有すると現像後の解像性がより向上する。

【0187】

また、光重合開始剤と紫外線吸収剤の合計含有量は、樹脂組成物の不揮発分１００質量％中、１～２０質量％が好ましい。適量含有すると基板と被膜の密着性がより向上し、良好な解像性が得られる。

【0188】

ベンゾトリアゾール系化合物は、例えば、２－（５メチル－２－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔ－ブチルフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、２－［２－ヒドロキシ－３，５－ビス（α， α－ジメチルベンジル）フェニル］－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、２－（３－ｔブチル－５－メチル－２－ヒドロキシフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－５’－ｔ－オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、５％の２－メトキシ－１－メチルエチルアセテートと９５％のベンゼンプロパン酸，３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－（１，１－ジメチルエチル）－４－ヒドロキシ，Ｃ７－９側鎖及び直鎖アルキルエステルの混合物、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－４，６－ビス（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－６－（１－メチル－１－フェニルエチル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール、メチル ３－（３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－５－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート／ポリエチレングリコール３００の反応生成物、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール、２，２’－メチレンビス［６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール］、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－ｐ－クレゾール、２－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）－６－ｔ－ブチル－４－メチルフェノール、２－（３，５－ジ－ｔ－アミル－２－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－［２－ヒドロキシ－５－［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］フェニル］－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、オクチル－３－［３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）フェニル］プロピオネート、２－エチルヘキシル－３－［３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール２－イル）フェニル］プロピオネートが挙げられる。

【0189】

トリアジン系化合物としては、２，４－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－６－（２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクチルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２‐［４，６‐ビス（２，４‐ジメチルフェニル）‐１，３，５‐トリアジン‐２‐イル］‐５‐［３‐（ドデシルオキシ）‐２‐ヒドロキシプロポキシ］フェノール、２－（２，４－ジヒドロキシフェニル）－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジンと（２－エチルヘキシル）－グリシド酸エステルの反応生成物、２，４－ビス「２－ヒドロキシ－４－ブトキシフェニル」－６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（ヘキシルオキシ）フェノール、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［２－（２－エチルヘキサノイルオキシ）エトキシ］フェノール、
２，４，６－トリス（２－ヒドロキシ－４－ヘキシルオキシ－３－メチルフェニル）－１，３，５－トリアジン等が挙げられる。その他トリアジン構造を有するオリゴマータイプ及びポリマータイプの化合物等も使用することが出来る。

【0190】

ベンゾフェノン系化合物としては、２，４－ジ－ヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクトキシベンゾフェノン、２，２’－ジ－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－４，４’－ジメトキシベンゾフェノン、４－ドデシロキシ－２－ヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－オクタデシロキシベンゾフェノン、２，２’ジヒドロキシ－４，４’－ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－２’－カルボキシベンゾフェノン等が挙げられる。その他ベンゾフェノン構造を有するオリゴマータイプ及びポリマータイプの化合物等も使用することが出来る。

【0191】

サリチル酸エステル系化合物としては、サリチル酸フェニル、サリチル酸ｐ－オクチルフェニル、サリチル酸ｐ－ｔｅｒｔブチルフェニル等が挙げられる。その他サリチル酸エステル構造を有するオリゴマータイプ及びポリマータイプの化合物等も使用することが出来る。

【0192】

＜酸化防止剤＞
本発明の樹脂組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤は、樹脂組成物に含まれる光重合開始剤や熱硬化性化合物が、熱硬化やＩＴＯアニール時の熱工程によって酸化し黄変することを防ぐため、塗膜の透過率を向上できる。特に樹脂組成物の色材濃度が高い場合、塗膜架橋成分量が少なくなるため高感度の架橋成分の使用や、光重合開始剤の増量といった対応を取るため熱工程の黄変が強くなる現象が見られる。そのため、酸化防止剤を含むことで、加熱工程時の酸化による黄変を防止し、高い塗膜の透過率を得る事ができる。

【0193】

酸化防止剤は、例えば、ヒンダードフェノール系、ヒンダードアミン系、リン系、イオウ系、及びヒドロキシルアミン系の化合物が挙げられる。なお、本発明で酸化防止剤は、ハロゲン原子を含有しない化合物が好ましい。

【0194】

これらの中でも、塗膜の透過率と感度の両立の観点から、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤が好ましい。

【0195】

酸化防止剤は、単独または２種類以上を併用して使用できる。

【0196】

また酸化防止剤の含有量は、樹脂組成物の固形分１００質量％中、０．５～５．０質量％の場合、透過率、分光特性、及び感度が良好であるためより好ましい。

【0197】

＜アミン系化合物＞
本発明の樹脂組成物は、溶存している酸素を還元するためアミン系化合物を含有することができる。
アミン系化合物は、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４－ジメチルアミノ安息香酸メチル、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸２－ジメチルアミノエチル、４－ジメチルアミノ安息香酸２－エチルヘキシル、及びＮ，Ｎ－ジメチルパラトルイジン等が挙げられる。

【0198】

＜レベリング剤＞
本発明の樹脂組成物には、透明基板上での組成物の塗布性、被膜の乾燥性を良好することを目的として、レベリング剤を添加することが好ましい。レベリング剤としては、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。

【0199】

シリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合からなる直鎖状ポリマーや、側鎖や末端に有機基を導入した変性シロキサンポリマーが挙げられる。

【0200】

さらに具体的には、ビックケミー社製ＢＹＫ－３００、３０６、３１０、３１３、３１５Ｎ、３２０、３２２、３２３、３３０、３３１、３３３、３４２、３４５／３４６、３４７、３４８、３４９、３７０、３７７、３７８、３４５５、ＵＶ３５１０、３５７０、東レ・ダウコーニング株式会社製ＦＺ－７００２、２１１０、２１２２、２１２３、２１９１、５６０９、信越化学工業株式会社製Ｘ－２２－４９５２、Ｘ－２２－４２７２、Ｘ－２２－６２６６、ＫＦ－３５１Ａ、ＫＦ－３５４Ｌ、ＫＦ－３５５Ａ、ＫＦ－９４５、ＫＦ－６４０、ＫＦ－６４２、ＫＦ－６４３、Ｘ－２２－４５１５、ＫＦ－６００４、ＫＰ－３４１等が挙げられる。

【0201】

フッ素系界面活性剤としては、フルオロカーボン鎖を有する界面活性剤又はレべリング剤が挙げられる。

【0202】

さらに具体的には、ＡＧＣセイミケミカル株式会社製サーフロンＳ－２４２、Ｓ－２４３、Ｓ－４２０、Ｓ－６１１、Ｓ－６５１、Ｓ－３８６、ＤＩＣ株式会社製メガファックＦ－２５３、Ｆ－４７７、Ｆ－５５１、Ｆ－５５２、Ｆ－５５５、Ｆ－５５８、Ｆ－５６０、Ｆ－５７０、Ｆ－５７５，Ｆ－５７６、Ｒ－４０－ＬＭ、Ｒ－４１、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１、住友スリーエム株式会社製ＦＣ－４４３０、ＦＣ－４４３２、三菱マテリアル電子化成株式会社製ＥＦ－ＰＰ３１Ｎ０９、ＥＦ－ＰＰ３３Ｇ１、ＥＦ－ＰＰ３２Ｃ１、株式会社ネオス製フタージェント６０２Ａ等が挙げられる。

【0203】

ノニオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンミリステルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルドデシルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシフェニレンジスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレントリベンジルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシアルキレンアルケニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタンセスキオレエート、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート、ポリオキイエチレンソルビタントリイソステアレート、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット、グリセロールモノステアレート、グリセロールモノオレエート、ポリエチレングリコールモノラウレート、ポリエチレングリコールモノステアレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ポリエチレングリコールモノオレエート、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルキルアルカノールアミド、アルキルイミダゾリン等が挙げられる。

【0204】

さらに具体的には、花王株式会社製エマルゲン１０３、１０４Ｐ、１０６、１０８、１
０９Ｐ、１２０、１２３Ｐ、１３０Ｋ、１４７、１５０、２１０Ｐ、２２０、３０６Ｐ、３２０Ｐ、３５０、４０４、４０８、４０９ＰＶ、４２０、４３０、７０５、７０７、７０９、１１０８、１１１８Ｓ－７０、１１３５Ｓ－７０、１１５０Ｓ－６０、２０２０Ｇ－ＨＡ、２０２５Ｇ、ＬＳ－１０６、ＬＳ－１１０、ＬＳ－１１４、ＭＳ－１１０、Ａ－６０、Ａ－９０、Ｂ－６６、ＰＰ－２９０、ラテムルＰＤ－４２０、ＰＤ－４３０、ＰＤ－４３０Ｓ、ＰＤ４５０、レオドールＳＰ－Ｌ１０、ＳＰ－Ｐ１０、ＳＰ－Ｓ１０Ｖ、ＳＰ－Ｓ２０、ＳＰ－Ｓ３０Ｖ、ＳＰ－Ｏ１０Ｖ、ＳＰ－Ｏ３０Ｖ、スーパーＳＰ－Ｌ１０、ＡＳ－１０Ｖ、ＡＯ－１０Ｖ、ＡＯ－１５Ｖ、ＴＷ－Ｌ１２０、ＴＷ－Ｌ１０６、ＴＷ－Ｐ１２０、ＴＷ－Ｓ１２０Ｖ、ＴＷ－Ｓ３２０Ｖ、ＴＷ－Ｏ１２０Ｖ、ＴＷ－Ｏ１０６Ｖ、ＴＷ－ＩＳ３９９Ｃ、スーパーＴＷ－Ｌ１２０、４３０Ｖ、４４０Ｖ、４６０Ｖ、ＭＳ－５０、ＭＳ－６０、ＭＯ－６０、ＭＳ－１６５Ｖ、エマノーン１１１２、３１９９Ｖ、３２９９Ｖ、３２９９ＲＶ、４１１０、ＣＨ－２５、ＣＨ－４０、ＣＨ－６０（Ｋ）、アミート１０２、１０５、１０５Ａ、３０２、３２０、アミノーンＰＫ－０２Ｓ、Ｌ－０２、ホモゲノールＬ－９５、株式会社ＡＤＥＫＡ社製アデカプルロニック（登録商標）Ｌ－２３、３１、４４、６１、６２、６４、７１、７２、１０１、１２１、ＴＲ－７０１、７０２、７０４、９１３Ｒ、共栄社化学株式会社製（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフローＮｏ．７５、Ｎｏ．９０、Ｎｏ．９５等が挙げられる。

【0205】

カチオン性界面活性剤としてはアルキルアミン塩やラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、セチルトリメチルアンモニウムクロライドなどのアルキル４級アンモニウム塩やそれらのエチレンオキサイド付加物が挙げられる。

【0206】

さらに具体的には、花王株式会社製アセタミン２４、コータミン２４Ｐ、６０Ｗ、８６Ｐコンク等が挙げられる。

【0207】

アニオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、スチレン－アクリル酸共重合体のアルカリ塩、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸アンモニウム、ステアリン酸モノエタノールアミン、ステアリン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、スチレン－アクリル酸共重合体のモノエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル等が挙げられる。

【0208】

さらに具体的には、株式会社ネオス製フタージェント１００、１５０、株式会社ＡＤＥＫＡ社製アデカホープＹＥＳ－２５、アデカコールＴＳ－２３０Ｅ、ＰＳ－４４０Ｅ、ＥＣ－８６００等が挙げられる。

【0209】

両性界面活性剤としてはラウリン酸アミドプロピルベタイン、ラウリルベタイン、コカミドプロピルベタイン、ステアリルベタイン、アルキルジメチルアミノ酢酸ベタイン等のアルキルベタイン、ラウリルジメチルアミンオキサイド等のアルキルアミンオキサイド等が挙げられる。

【0210】

さらに具体的には、花王株式会社製アンヒトール２０ＡＢ、２０ＢＳ、２４Ｂ、５５ＡＢ、８６Ｂ、２０Ｙ－Ｂ、２０Ｎ等が挙げられる。

【0211】

本発明の樹脂組成物に界面活性剤を含有する場合、界面活性剤の添加量は、本発明の組成物の全固形分に対して、０．００１～２．０質量％が好ましく、より好ましくは０．００５～１．０質量％である。この範囲内であることで、樹脂組成物の塗布性とパターン密着性、透過率のバランスが良好となる。
本発明の樹脂組成物は、界面活性剤を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。

【0212】

＜貯蔵安定剤＞
本発明の樹脂組成物には、組成物の経時粘度を安定化させるために貯蔵安定剤を含有させることができる。貯蔵安定剤としては、例えば、ベンジルトリメチルクロライド、ジエチルヒドロキシアミンなどの４級アンモニウムクロライド、乳酸、シュウ酸などの有機酸およびそのメチルエーテル、ｔ－ブチルピロカテコール、テトラエチルホスフィン、テトラフェニルフォスフィンなどの有機ホスフィン、亜リン酸塩等が挙げられる。貯蔵安定剤は、色材の全量を基準（１００質量％）として、０．１～１０質量％の量で用いることができる。

【0213】

＜密着向上剤＞
本発明の樹脂組成物には、基材との密着性を高めるためにシランカップリング剤等の密着向上剤を含有させることができる。密着向上剤による密着性が向上することにより、細線の再現性が良好となり解像度が向上する。

【0214】

密着向上剤としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等のビニルシラン類、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリルシラン類、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシシラン類、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩等のアミノシラン類、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト類、ｐ－スチリルトリメトキシシラン等のスチリル類、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のウレイド類、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド等のスルフィド類、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネート類などのシランカップリング剤が挙げられる。密着向上剤は、樹脂組成物中の色材１００質量％に対し、０．０１～１０質量％、好ましくは０．０５～５質量％の量で用いることができる。この範囲内で効果が大きくなり、密着性、解像性、感度のバランスが良好であるためより好ましい。

【0215】

＜有機溶剤＞
本発明の樹脂組成物には、ガラス等の基板上に乾燥膜厚が０．２～５μｍとなるように塗布して膜を形成することを容易にするために有機溶剤を含有させることができる。有機溶剤は、樹脂組成物の塗布性が良好であることに加え、樹脂組成物の各成分の溶解性、さらには安全性を考慮して選定される。

【0216】

有機溶剤としては、当該分野で通常使用される溶剤を用いることが出来、沸点、ＳＰ値、蒸発速度、粘度などの性能を勘案し、塗布条件（速度、乾燥条件など）に合わせて適宜、単独または混合して使用される。

【0217】

使用される有機溶剤としては、例えば、エステル溶剤（分子内に－ＣＯＯ－を含み、－Ｏ－を含まない溶剤）、エーテル溶剤（分子内に－Ｏ－を含み、－ＣＯＯ－を含まない溶剤）、エーテルエステル溶剤（分子内に－ＣＯＯ－と－Ｏ－とを含む溶剤）、ケトン溶剤（分子内に－ＣＯ－を含み、－ＣＯＯ－を含まない溶剤）、アルコール溶剤（分子内にＯＨを含み、－Ｏ－、－ＣＯ－及び－ＣＯＯ－を含まない溶剤）、芳香族炭化水素溶剤、アミド溶剤、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。

【0218】

上記の有機溶剤のうち、塗布性、乾燥性の点から、１ａｔｍにおける沸点が１２０℃以上１８０℃以下である有機溶剤を含むことが好ましい。中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルピロリドン等が好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、３－エトキシプロピオン酸エチル等がより好ましい。

【0219】

＜その他成分＞
本発明の樹脂組成物は、上記以外のその他成分を含有できる。その他成分は、例えば、染料、無機顔料、熱架橋剤、硬化剤、硬化促進剤、酸発生剤、硬化触媒、及び連鎖移動剤等が挙げられる。その他成分の含有量は、本発明の課題を解決できる範囲において、適宜設定することができる。

【0220】

＜水の含有量＞
本発明の樹脂組成物は、安定性の観点から、樹脂組成物に含まれる水の含有量が２．０質量％以下であることが好ましい。

【0221】

樹脂組成物に含まれる水の含有量は、１．５質量％以下がより好ましく、１．０質量％以下が特に好ましい。また、水の含有量の下限は、少ないほど好ましく、特に制限はない。

【0222】

水の含有量を制御する方法は、特に制限がなく、公知の方法を使用できる。例えば、上述した各成分について十分に乾燥等を行い、成分に含まれる水分量を減らしたもの使用する。また、乾燥した空気や不活性ガス、それらの混合ガスを吹き込みながら、樹脂組成物を製造する方法や、製造後、モレキュラーシーブを投入し脱水する方法等が挙げられる。

【0223】

水の含有量は、カールフィッシャー法などの公知の方法により測定することができる。

【0224】

＜特定金属原子＞
本発明の樹脂組成物は、化合物（Ａ）、化合物（Ｆ）および化合物（Ｈ）の構成成分以外に少量のＬｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｋ、Ｃｓ、Ｃｏ、Ｃａ、Ｆｅ、ＳｉおよびＺｒ（以下、特定金属原子ともいう）を含む金属成分が存在する場合がある。これら特定金属原子を含む金属成分が多く存在すると、保存安定性が阻害される場合、耐熱性が低下する場合、感光性樹脂組成物の形態で調製した際の感度低下を引き起こす場合がある。
また、このような特定金属原子を含む金属成分が多く存在する樹脂組成物を用いて作成した光学フィルタは、異物が発生する場合があり、結果として透過率低下を引き起こしやすい。本発明の樹脂組成物に含まれる該金属成分中の特定金属原子の合計含有量は、樹脂組成物全体に対し、１～１０００質量ｐｐｍであることが好ましい。

【0225】

本発明の樹脂組成物に含まれる特定金属原子の合計量は、樹脂組成物全体に対し、３０
０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、２００質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。また、特定金属原子の合計量の下限は、特に限定されないが、樹脂組成物全体に対し、１質量ｐｐｍ以上が好ましく、５質量ｐｐｍ以上がより好ましい。上記範囲内であれば、コストも抑制でき、保存安定性に優れ、かつ異物の発生、透過率低下が少ない光学フィルタを形成できる樹脂組成物を得ることができる。

【0226】

本発明の樹脂組成物に含まれる各特定金属原子の含有量は、樹脂組成物全体に対し、各々１００質量ｐｐｍ以下であることが好ましく、各々５０質量ｐｐｍ以下であることがより好ましい。

【0227】

樹脂組成物に含まれる各種原料あるいは製造過程において装置から混入した金属原子を除去する方法としては、特開２０１０－８３９９７号公報、特開２０１８－３６５２１号公報、特開平７－１９８９２８号公報、特開平８－３３３５２１号公報、特開２００９－７４３２号公報等による水洗による方法、特開２０１１－４８７３６号公報に記載のマグネットによる磁性異物の除去等の方法が挙げられ、単独または複数の方法を適宜使用する。

【0228】

特定金属原子の含有量は、誘導結合プラズマ発光分光分析（ＩＣＰ）によって、測定できる。

【0229】

＜トルエン量＞
本発明の樹脂組成物は、トルエンを含んでいても良く、含む場合はトルエンの含有量が０．１～１０質量ｐｐｍであることが好ましい。トルエンの含有量の上限は、９質量ｐｐｍ以下であることが好ましく、８質量ｐｐｍ以下であることがより好ましく、７質量ｐｐｍ以下であることが更に好ましい。下限は、０．２質量ｐｐｍ以上であることが好ましく、０．３質量ｐｐｍ以上であることがより好ましく、０．４質量ｐｐｍ以上であることが更に好ましい。

【0230】

＜樹脂組成物の製造方法＞
本発明の樹脂組成物は、上述の各成分を混合して調製できる。調製に際しては、各成分を一括配合してもよいし、各成分を有機溶剤に溶解や分散した後に逐次配合してもよい。例えば、化合物（Ａ）、化合物（Ｂ）、バインダ樹脂（Ｃ）、及び有機溶剤等を加え、分散処理を行う。その後、必要に応じて、光重合性単量体、光重合開始剤等を配合・混合することで製造できる。なお、各成分を配合するタイミングは、任意である。また、分散処理を複数回行うこともできる。

【0231】

分散処理を行う分散機は、例えば、２本ロールミル、３本ロールミル、ボールミル、横型サンドミル、縦型サンドミル、アニュラー型ビーズミル、又はアトライター等が挙げられる。

【0232】

樹脂組成物中の粒子の平均分散粒子径（二次粒子径）は、３０～２００ｎｍが好ましく、４０～２００ｎｍがより好ましい。適度な粒子径を有すると分散安定性が高い樹脂組成物が得やすい。

【0233】

平均分散粒子径（二次粒子径）の測定方法は、例えば、動的光散乱法（ＦＦＴパワ－スペクトール法）を採用した日機装社のマイクロトラックＵＰＡ－ＥＸ１５０を用い、粒子透過性を吸収モード、粒子形状を非球形とし、Ｄ５０粒子径を平均径とする。測定用の希釈溶剤は分散に使用した有機溶剤をそれぞれ用い、超音波で処理したサンプルについてサンプル調製直後に測定するとバラツキが少ない結果が得られやすく好ましい。

【0234】

樹脂組成物は、遠心分離、焼結フィルタやメンブレンフィルタによる濾過等の手段にて、５μｍ以上の粗大粒子、好ましくは１μｍ以上の粗大粒子、さらに好ましくは０．５μｍ以上の粗大粒子、および混入した塵の除去を行うことが好ましい。本発明の樹脂組成物は、実質的に０．５μｍ以上の粒子を含まないことが好ましく、０．３μｍ以下の粒子を含まないことがより好ましい。

【0235】

＜膜＞
本発明の膜は、上述した樹脂組成物を用いて形成されたものである。膜は、基材上に積層した状態で用いてもよく、膜を基材から剥離してもよい。また、膜は、平坦膜であってもパターンを形成した膜のいずれでもよいが、パターンを形成した膜が好ましい。

【0236】

＜膜の製造方法＞
膜の製造方法は、特に限定されず、公知の方法を使用できる。例えば、本発明の樹脂組成物を基材上に塗工する工程を経て製造できる。

【0237】

基材は、例えば、ガラス、樹脂、シリコン等の材質で構成された基板が挙げられる。これらの基材上には有機発光層が形成されてもよい。また、基材には、ＣＣＤ、ＣＭＯＳ等の撮像素子が形成されていてもよい。また、基材上には、必要に応じて、上部との層との密着改良、物質の拡散防止、基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。

【0238】

基材としてガラスを使用する場合、ガラスとして、白板ガラス、又はブルーガラスを用いることが好ましい。白板ガラスは、高透明度のケイ酸塩ガラスが用いられることが多く、耐熱性、耐候性の観点からホウケイ酸ガラスなどがより好ましい。ブルーガラスは、可視光では高い透過率を持ちながら、近赤外領域の波長領域に広い吸収特性を持つガラスであり、ＣｕＯ含有フツリン酸塩ガラスまたはＣｕＯ含有リン酸塩ガラスなどを用いる。なお、リン酸塩ガラスとしては成分としてＳｉＯ２が入ったものも含むものとする。

【0239】

塗工方法は、公知の方法を使用できる。例えば、滴下法、スリットコート法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、流延塗布法、インクジェット法、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷等が挙げられる。

【0240】

膜の厚さは、目的に応じて適宜調節できる。膜の厚さは、０．０５～２０．０μｍが好ましく、０．３～１０．０μｍがより好ましい。

【0241】

次に、パターンを形成する。パターンを形成する方法は、フォトリソグラフィー法やドライエッチング法が挙げられる。なお、平坦膜として使用する場合は、パターンを形成する工程を行わなくてよく、塗工後、必要に応じて乾燥する。

【0242】

以下、パターンを形成する方法について詳細に説明する。

【0243】

（フォトリソグラフィー法でパターンを形成する場合）
フォトリソグラフィー法でパターンを形成する場合、基板上に本発明の樹脂組成物を塗工して形成した層を、必要に応じて乾燥（プレベーク）した後、マスクを介してパターン状に露光し（露光工程）、未露光部分をアルカリ現像により除去（現像工程）後、必要に応じてパターンを加熱処理（ポストベーク工程）する。

【0244】

〔露光工程〕
露光工程は、塗工で形成した層を、例えば、ステッパー等の露光装置を用い、マスクを介して特定のパターンを露光する。これにより、露光部分を硬化することができる。露光に用いる活性エネルギー線は、例えば、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）等の紫外線が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ（波長１９３ｎｍ）などが挙げられる。
また、露光に際しては、光を連続的に照射して露光してもよく、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光（パルス露光）してもよい。

【0245】

〔現像工程〕
次に、アルカリ現像処理を行うことで、未露光部分の層がアルカリ水溶液に溶出し、硬化部分のみが残りパターン状の膜が得られる。
アルカリ現像液は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ－〔５．４．０〕－７－ウンデセン等のアルカリ性化合物が挙げられる。
アルカリ現像液の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。アルカリ現像液のｐＨは、１１～１３が好ましく、１１．５～１２．５がより好ましい。適度なｐＨで使用するとパターンの荒れや剥離を抑制し、現像後の残膜率が向上する。
現像方法は、例えば、ディップ法、スプレー法、パドル法等が挙げられる。現像温度は１５～４０℃が好ましい。なお、アルカリ現像後は、純水で洗浄することが好ましい。

【0246】

〔ポストベーク工程〕
現像後、必要に応じて加熱処理（ポストベーク）を行うこともできる。ポストベークにより、膜の耐性が向上する。
温度は、８０～３００℃が好ましい。また、時間は、２分間～１時間程度が好ましい。基材に耐熱性の低い素材を用いた場合や、光源として有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた場合などは、温度は、１５０℃以下が好ましく、１３０℃以下がより好ましい。

【0247】

（ドライエッチング法でパターンを形成する場合）
ドライエッチング法でパターンを形成する場合、例えば、基板上に本発明の樹脂組成物を塗工して形成した層を加熱し硬化させる。次いで、硬化膜上にパターニングされたフォトレジスト層を形成後、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとして硬化膜に対しエッチングガスを用いてドライエッチングを行う。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３－０６４９９３号公報の記載された方法を参酌できる。

【0248】

＜光学フィルタ＞
本発明の膜は、光学フィルタに使用できる。光学フィルタは、例えば、赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタ等が好ましい。本発明の光学フィルタの製造は、上述の膜と同様の方法で製造できる。

【0249】

＜赤外線カメラ、赤外線センサ＞
本発明の赤外線カメラおよび赤外線センサは、本発明の光学フィルタを有する。赤外線カメラの種類としては、近赤外線カメラ、監視カメラ、車載用カメラ、医療用カメラ、検査・分析カメラ、などが挙げられ、赤外線センサの種類としては、温度センサ、距離センサ、医療用センサ、ディスプレイなどのタッチセンサ、生体認証センサなどが挙げられる。赤外線カメラおよび赤外線センサの構成としては、本発明の光学フィルタを有する構成であり、赤外線カメラ、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。

【0250】

＜固体撮像素子＞
本発明の固体撮像素子は、本発明の光学フィルタを有する。固体撮像素子に用いる光学フィルタの形態は、特に制限されないが、例えば、基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口した遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、フィルタを有する構成である。さらに、デバイス保護膜上であ
ってフィルタの下（基材に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、フィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、フィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各着色画素を形成する硬化膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は、各着色画素に対して低屈折率であることが好ましい。
本発明の固体撮像素子を備えた撮像装置は、例えば、デジタルカメラ、撮像機能を有する電子機器（スマートフォン、タブレット端末等）、車載カメラ、監視カメラ、光センサ等様々な用途に使用できる。

【0251】

＜積層体＞
本発明の積層体は、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲に吸収極大波長を有する化合物（Ｈ）を含む層と、化合物（Ａ）、化合物（Ｂ）０．０００１～１質量％、及びバインダ樹脂（Ｃ）を含む樹脂組成物を含む層を有する積層体であり、赤外線透過フィルタとして用いることができる。

【0252】

積層体の厚みは１～５μｍが好ましく、１つの層の厚みは０．５～４μｍが好ましい。
積層体における各層の積層順序は特に限定はない。

【0253】

積層体における各層の積層順序は特に限定はない。支持体側から、第１の層、第２の層の順に配置してもよく、第２の層、第１の層の順に配置してもよい。第３の層をさらに有してもよい。

【実施例0254】

以下、実施例で本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されない。なお、「部」は「質量部」、「％」は「質量％」である。また、本発明で不揮発分もしくは不揮発分濃度は、２３０℃で３０分間オーブン静置後の質量残分をいう。また、「ＰＧＭＡｃ」は「プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート」である。

【0255】

実施例に先立ち、各測定方法について説明する。

【0256】

（化合物（Ａ）の同定方法）
本発明実施例に用いた化合物（Ａ）の同定には、ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ－ＭＳスペクトル（マトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間型質量分析）を用いた。ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ－ＭＳスペクトルは、ブルカー・ダルトニクス社製ＭＡＬＤＩ質量分析装置ａｕｔｏｆｌｅｘIIIを用い、得られたマススペクトラムの分子イオンピークと、計算によって
得られる質量数との一致をもって、得られた化合物を同定した。また、組成は、得られたマススペクトラムにおいて、全分子イオンピーク強度の総和に対する各分子イオンピーク強度（相対強度）を算出し、それらの相対強度比をモル比とみなした。
化合物（Ａ）は、一般式（１）においてＸ_１とＸ_２、Ｘ_３とＸ_４、Ｘ_５とＸ₆、Ｘ_７と
Ｘ_８のうち１組が互いに結合して芳香環を形成した化合物をｎ１体、２組が互いに結合して芳香環を形成した化合物をｎ２体、３組が互いに結合して芳香環を形成した化合物をｎ３体、４組とも互いに結合して芳香環を形成した化合物をｎ４体とする。また４組とも芳香環を形成していない化合物はｎ０体とした。

【0257】

（酸性樹脂型分散剤およびバインダ樹脂の質量平均分子量（Ｍｗ））
酸性樹脂型分散剤およびバインダ樹脂の質量平均分子量（Ｍｗ）は、ＴＳＫｇｅｌカラム（東ソー社製）を用い、ＲＩ検出器を装備したＧＰＣ（東ソー社製、ＨＬＣ－８１２０ＧＰＣ）で、展開溶媒にＴＨＦを用いて測定したポリスチレン換算の質量平均分子量（Ｍｗ）である。

【0258】

（塩基性樹脂型分散剤の質量平均分子量（Ｍｗ））
塩基性樹脂型分散剤の質量平均分子量（Ｍｗ）は、ＴＳＫｇｅｌカラム（東ソー社製）を用い、ＲＩ検出器を装備したＧＰＣ（東ソー社製、ＨＬＣ－８１２０ＧＰＣ）で、展開溶媒に３ｍＭトリエチルアミン及び１０ｍＭＬｉＢｒのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド溶液を用いて測定したポリスチレン換算の質量平均分子量（Ｍｗ）である。

【0259】

（樹脂型分散剤のアミン価）
樹脂型分散剤のアミン価は、０．１Ｎの塩酸水溶液を用い、電位差滴定法によって求めた後、水酸化カリウムの当量に換算した。樹脂型分散剤のアミン価は、不揮発分のアミン価を示す。

【0260】

（樹脂型分散剤の４級アンモニウム塩価）
樹脂型分散剤の４級アンモニウム塩価は、５％クロム酸カリウム水溶液を指示薬として、０．１Ｎの硝酸銀水溶液で滴定して求めた後、水酸化カリウムの当量に換算した。下記樹脂型分散剤の４級アンモニウム塩価は、不揮発分の４級アンモニウム塩価を示す。

【0261】

（化合物（Ｂ）の定量方法）
樹脂組成物中の化合物（Ｂ）の量は質量分析用ガスクロマトグラフ（島津製作所製、ＧＣ ＭＳ－ＱＰ２０２０ＮＸ）とヘッドスペース分析（島津製作所製、ＨＳ２０ＮＸ）の併用により定量した。具体的には、組成物を０．５μｍ のポリテトラフルオロエチレン（ ＰＴ Ｆ Ｅ ） フィルタで濾過し、通過液をガスクロマトグラフ検体とし、カラムと
してＳＨ－５Ｓｉｌ ＭＳを用いて定量した。

【0262】

＜樹脂（Ｋ－１）の製造方法＞
（樹脂（Ｋ－１）の合成）
攪拌装置、温度計、還流冷却管及び窒素導入管を備えた反応器に、ＰＧＭＡｃ１００部、メチル４－シアノ－4－（ドデシルチオカルボノチオイルチオ）ペンタノエート（以下
、「ＢＭ１４４８」と略記する。）３部を仕込み、窒素雰囲気中で８０℃に昇温した後、メチルメタクリレート４８部、エチルメタクリレート２９部、ターシャリーブチルアクリレート１９部、２，２’－アゾビス（２,４－ジメチルバレロニトリル）（以下、「Ｖ６
５」と略記する。）１部からなる混合物を４時間かけて滴下した。滴下終了後、９０℃に２時間保持した後、さらに、２－メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート（以下、「Ｐ－１Ｍ」と略記する。分子量２２８）５部及びＰＧＭＥ１００部からなる混合物を１時間で滴下した。次いで、９０℃に１２時間保持した後、ＰＧＭＥを添加することで、樹脂（Ｋ－１）の３０質量％溶液を得た。この樹脂（Ｋ－１）のＴｇは３７℃であった。

【0263】

＜化合物（Ａ）の製造＞
（化合物（Ａ－１）の合成）
反応容器中で、２，３―ジシアノナフタレン１７８部、ｎ－アミルアルコール８９０部、ＤＢＵ（１，８－Ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ－７－ｅｎｅ）１３７部と塩化アルミニウム無水物４０部を混合攪拌し、昇温後１３６℃で５時間還流した。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５，０００部、水１０，０００部からなる混合溶媒中へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール２，０００部、水４，０００部からなる混合溶媒で洗浄し、乾燥して化合物（ａ１－１）を得た。

【0264】

化合物（ａ１－１）

【化17】

【0265】

次いで、反応容器中で、濃硫酸１００部に化合物ｃ１０部を氷浴下にて加え、１時間攪拌を行った。続けて、この硫酸溶液を３℃の冷水１，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗、２．５％水酸化ナトリウム水溶液洗浄、水洗の順で処理を行い、乾燥して化合物（ａ１－２）を得た。

【0266】

化合物（ａ１－２）

【化18】

【0267】

Ｎ－メチルピロリドン２００部に５部のジフェニルリン酸を添加し、十分に攪拌混合を行った後、５０℃に加熱した。この溶液に、１０部の化合物（ａ１－２）を少しずつ添加した後、９０℃で１２０分攪拌した。反応の終点確認は、例えば、濾紙に反応液を滴下して、にじみがなくなったところを終点とした。続けて、この反応溶液にイオン交換水５００部を注入し、生成した析出物をろ過、水洗の順で処理を行い、乾燥して、化合物（Ａ－１）で表される化合物を得た。化合物（Ｂ）含有量は２．６質量％であった。

【0268】

化合物（Ａ－１）

【化19】

【0269】

（組成物（Ａ－２）の合成）
反応容器中で、フタロニトリル２６部、２，３―ジシアノナフタレン１４３部、ｎ－アミルアルコール８９０部、ＤＢＵ（１，８－Ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ－７－ｅｎｅ）１３７部と三塩化アルミニウム３４部を混合攪拌し、昇温後１３６℃で５時間還流した。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５，０００部、イオン交換水１０，０００部からなる混合溶媒中へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール２，０００部、イオン交換水４，０００部からなる混合溶媒で洗浄、乾燥して、下記構造式で表される化合物を含む組成物（ａ２－１）を得た。

【0270】

組成物（ａ２－１）

【化20】

【0271】

次いで、反応容器中で、濃硫酸１，５００部に１４０部の組成物（ａ２－１）を氷浴下にて加え、１時間攪拌を行った。続けて、この硫酸溶液を３℃の冷水１，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗、２．５％水酸化ナトリウム水溶液洗浄、水洗の順で処理を行い、乾燥して、組成物（ａ２－２）を得た。

【0272】

組成物（ａ２－２）

【化21】

【0273】

Ｎ－メチルピロリドン２００部に５部のジフェニルリン酸を添加し、十分に攪拌混合を行った後、５０℃に加熱した。この溶液に、１０部の組成物（ａ２－２）を少しずつ添加した後、９０℃で１２０分攪拌した。反応の終点確認は、例えば、濾紙に反応液を滴下して、にじみがなくなったところを終点とした。続けて、この反応溶液へイオン交換水２００部を滴下していき、生成した析出物をろ過、水洗の順で処理を行い、乾燥して、化合物（Ａ）を含有する組成物（Ａ－２）を得た。組成物（Ａ－２）は、下記化学式で表される混合物（混合比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝７：１９：５９：１５）であり、化合物（Ｂ）含有量は４．８質量％であった。

【0274】

組成物（Ａ－２）

【化22】

【0275】

（組成物（Ａ－３）の合成）
組成物（Ａ－２）を２００℃で６時間、加熱処理を行い、組成物（Ａ－３）を得た。化合物（Ｂ）含有量は０．６質量％であった。

【0276】

（組成物（Ａ－４）の合成）
組成物（Ａ－２）の合成で使用したＮ－メチルピロリドン２００部の代わりに、ジメチルホルムアミド２００部を使用した以外は、化合物（Ａ－２）の合成と同様の操作を行い
、混合物（混合比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝４：１６：６３：１７）である組成物（Ａ－４）を１２０部得た。組成物（Ａ－４）の主成分は以下の構造のｎ３体であり、化合物（Ｂ）含有量は６．１質量％であった。

【0277】

化合物（Ａ－４）の主成分

【化23】

【0278】

（組成物（Ａ－５）の合成）
組成物（Ａ－２）の合成で使用したＮ－メチルピロリドン２００部の代わりに、ジメチルアセトアミド２００部を使用した以外は、組成物（Ａ－２）の合成と同様の操作を行い、混合物（混合比率は、ｎ２：ｎ３：ｎ４＝１８：６０：２２）である組成物（Ａ－５）を１２０部得た。組成物（Ａ－５）の主成分は以下の構造のｎ３体であり、化合物（Ｂ）含有量は６．３質量％であった。

【0279】

組成物（Ａ－５）の主成分

【化24】

【0280】

（組成物（Ａ－６）の合成）
ジメチルスルホキシド２００部に５部のジフェニルリン酸を添加し、十分に攪拌混合を行った後、５０℃に加熱した。この溶液に、１０部の組成物（ａ２－２）を少しずつ添加した後、９０℃で１２０分攪拌した。反応の終点確認は、例えば、濾紙に反応液を滴下して、にじみがなくなったところを終点とした。続けて、この反応溶液へイオン交換水２００部を滴下していき、生成した析出物をろ過、水洗した。次いで、メタノール中で、室温下６０分攪拌後、ろ過、水洗乾の順で処理を行い、下記化学式で表される混合物（混合比率は、ｎ２：ｎ３：ｎ４＝２２：５５：２３）である組成物（Ａ－６）を得た。組成物（Ａ－６）の主成分は以下の構造のｎ３体であり、化合物（Ｂ）含有量は９．１質量％であった。

【0281】

組成物（Ａ－６）

【化25】

【0282】

（組成物（Ａ－７）の合成）
反応容器中で、キノリン９００部に３－テトラフルオロプロピルオキシ－１，３－ジイミノイソインドリン３０部、１，３―ジイミノベンゾ［ｆ］イソインドリン８６部と、塩化アルミニウム無水物５０部を混合攪拌した。昇温し、１４０℃で５時間加熱攪拌した。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５０００部、水１００００部からなる混合溶媒中へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール２０００部、水４０００部からなる混合溶媒で洗浄し、乾燥して、１０８部の組成物（ａ７－１）を得た。

【0283】

次いで、反応容器中で、濃硫酸１５００部に組成物（ａ７－１）１１４部を氷浴下にて加え、１時間攪拌を行った。続けて、この硫酸溶液を３℃の冷水１５０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗、２．５％水酸化ナトリウム水溶液洗浄、水洗の順で処理を行い、乾燥して、１００部の組成物（ａ７－２）を得た。

【0284】

ジメチルスルホキシド２００部に５部のジフェニルリン酸を添加し、十分に攪拌混合を行った後、５０℃に加熱した。この溶液に、１０部の組成物（ａ７－２）を少しずつ添加した後、９０℃で１２０分攪拌した。反応の終点確認は、例えば、濾紙に反応液を滴下して、にじみがなくなったところを終点とした。続けて、この反応溶液へイオン交換水４０
０部を滴下していき、生成した析出物をろ過、水洗の順で処理を行い、乾燥して、混合物（混合比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝８：１７：６２：１３）である組成物（Ａ－７）を得た。組成物（Ａ－７）の主成分は以下の構造のｎ３体であり、化合物（Ｂ）含有量は７．２質量％であった。

【0285】

組成物（Ａ－７）の主成分

【化26】

【0286】

（組成物（Ａ－８）の合成）
組成物（Ａ－２）の合成で使用したフタロニトリル２６部の代わりに、４－メチルフタロジニトリル２９部を使用した以外は、組成物（Ａ－２）の合成と同様の操作を行い、混合物（混合比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝７：２０：５８：１５）である組成物（Ａ－８）を１１０部得た。組成物（Ａ－８）の主成分は以下の構造のｎ３体であり、化合物（Ｂ）含有量は５．３質量％であった。

【0287】

組成物（Ａ－８）の主成分

【化27】

【0288】

（組成物（Ａ－９）の合成）
組成物（Ａ－２）の合成で使用したフタロニトリル２６部の代わりに、４－プロピルチオフタロジニトリル４０部を使用した以外は、組成物（Ａ－２）の合成と同様の操作を行い、混合物（混合比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝４：２２：６２：１２）である組成物（Ａ－９）を１１２部得た。組成物（Ａ－９）の主成分は以下の構造のｎ３体であり、化合物（Ｂ）含有量は８．２質量％であった。

【0289】

組成物（Ａ－９）の主成分

【化28】

【0290】

（組成物（Ａ－１０）の合成）
組成物（Ａ－２）の合成で使用したフタロニトリル２６部の代わりに、４－（４－ピリジ
ニル）フタロジニトリル４０部を使用した以外は、組成物（Ａ－２）の合成と同様の操作を行い、混合物（混合比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝５：１９：５９：１７）である組成物（Ａ－１０）を１０８部得た。組成物（Ａ－１０）の主成分は以下の構造のｎ３体であり、化合物（Ｂ）含有量は６．４質量％であった。

【0291】

組成物（Ａ－１０）の主成分

【化29】

【0292】

（化合物（Ａ－１１）の合成）
反応容器中で、ジメチルスルホキシド７００部、１－クロロナフタレン２００部に、ボロンｓｕｂ―２，３―ナフタロシアニンクロリド１００部と、１，３－ジイミノイソインドリン３０部を混合攪拌した。昇温し、１５０℃で５時間加熱攪拌した。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５０００部、水１００００部からなる混合溶媒中へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール２０００部、水４０００部からなる混合溶媒で洗浄し、乾燥して、１１０部の化合物（ａ１１－１）を得た。
次いで、キノリン９００部に、化合物（ａ１１－１）を１１０部と、塩化アルミニウム無水物２８部を混合攪拌した。昇温し、１５０℃で４時間加熱攪拌した。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５０００部、水１００００部からなる混合溶媒中へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール２０００部、水４０００部からなる混合溶媒で洗浄し、乾燥して、１００部の化合物（ａ１１－２）を得た。

【0293】

次いで、反応容器中で、濃硫酸１５００部に上記化合物（ａ１１－２）１００部を氷浴下にて加え、１時間攪拌を行った。続けて、この硫酸溶液を３℃の冷水１５０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗、２．５％水酸化ナトリウム水溶液洗浄、水洗の順で処理を行い、乾燥して、９０部の化合物（ａ１１－３）を得た。

【0294】

Ｎ－メチルピロリドン２００部に５部のジフェニルリン酸を添加し、十分に攪拌混合を行った後、５０℃に加熱した。この溶液に、１０部の化合物（ａ１１－３）を少しずつ添加した後、９０℃で１２０分攪拌した。反応の終点確認は、例えば、濾紙に反応液を滴下して、にじみがなくなったところを終点とした。続けて、この反応溶液へイオン交換水４
００部を滴下していき、生成した析出物をろ過、水洗の順で処理を行い、乾燥して、以下の構造のｎ３体のみである化合物（Ａ－１１）を得た。化合物（Ｂ）含有量は７．０質量％であった。

【0295】

化合物（Ａ－１１）

【化30】

【0296】

（組成物（Ａ－１２）の合成）
濃硫酸１５００部に組成物（ａ２－２）１００部を氷浴下にて加えた。その後、１，３－ジブロモ－５，５－ジメチルヒダントイン１５１部を徐々に加え、２５℃で６時間撹拌を行った。続けて、この硫酸溶液を３℃の冷水９０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗、１％水酸化ナトリウム水溶液洗浄、水洗の順で処理を行い、乾燥して、１６５部の組成物（ａ２－３）を得た。ＴＯＦ－ＭＳによる質量分析の結果、得られたマススペクトラムの分子イオンピークと、計算によって得られる質量数との一致をもって、得られた化合物を同定した。得られた組成物（ａ２－３）について臭素置換数を算出したところ、平均８個であり、マススペクトラムからも同一の分子量に相当するピークを確認した。
組成物（ａ２－３）の主成分は以下の構造のｎ３体であった。

【0297】

組成物（ａ２－３）の主成分

【化31】

【0298】

ジメチルアセトアミド２００部に５部のジフェニルリン酸を添加し、十分に攪拌混合を
行った後、５０℃に加熱した。この溶液に、１０部の組成物（ａ２－３）を少しずつ添加した後、９０℃で１２０分攪拌した。反応の終点確認は、例えば、濾紙に反応液を滴下して、にじみがなくなったところを終点とした。続けて、この反応溶液へイオン交換水２００部を滴下していき、生成した析出物をろ過、水洗の順で処理を行い、乾燥して、混合物（混合比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝８：１９：５５：１８）である組成物（Ａ－１２）を１０８部得た。化合物（Ａ－１２）の主成分は以下の構造のｎ３体であり、化合物（Ｂ）含有量は５．１質量％であった。

【0299】

組成物（Ａ－１２）

【化32】

【0300】

（組成物（Ａ－１３）の合成）
組成物（Ａ－４）の合成で使用したフタロニトリル２６部の代わりに、３－クロロフタロジニトリル２９部を使用した以外は、組成物（Ａ－４）の合成と同様の操作を行い、混合物（混合比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝８：２４：５９：９）である組成物（Ａ－８）を１１０部得た。組成物（Ａ－１３）の主成分は以下の構造のｎ３体であり、化合物（Ｂ）含有量は５．８質量％であった。

【0301】

組成物（Ａ－１３）の主成分

【化33】

【0302】

（組成物（Ａ－１４）の合成）
組成物（Ａ－７）の合成で使用した３－テトラフルオロプロピルオキシ－１，３－ジイミノイソインドリン３０部、１，３―ジイミノベンゾ［ｆ］イソインドリン８６部の代わりに、それぞれ、１，３－ジイミノイソインドリン１６部、４，９－ジクロロ－１Ｈ－ベンゾ［ｆ］イソインドール－１，３（２Ｈ）－ジイミン１１７部を使用した以外は、化合物（Ａ－７）の合成と同様の操作を行い、混合物（混合比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝９：１７：５７：１７）である組成物（Ａ－１４）を１１９部得た。組成物（Ａ－１４）の主成分は以下の構造のｎ３体であり、化合物（Ｂ）含有量は６．０質量％であった。

【0303】

組成物（Ａ－１４）の主成分

【化34】

【0304】

（組成物（Ａ－１５）の合成）
組成物（Ａ－７）の合成で使用した３－テトラフルオロプロピルオキシ－１，３－ジイミノイソインドリン３０部、１，３―ジイミノベンゾ［ｆ］イソインドリン８６部の代わりに、それぞれ、１，３－ジイミノイソインドリン１６部、５，８－ジエトキシ－１Ｈ－ベンゾ［ｆ］イソインドール－１，３（２Ｈ）－ジイミン１１５部を使用した以外は、化合物（Ａ－７）の合成と同様の操作を行い、混合物（混合比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝６：２１：６３：１０）である組成物（Ａ－１５）を１０３部得た。組成物（Ａ－１５）の主成分は以下の構造のｎ３体であり、化合物（Ｂ）含有量は５．３質量％であった。

【0305】

組成物（Ａ－１５）の主成分

【化35】

【0306】

（組成物（Ａ－１６）の合成）
組成物（Ａ－７）の合成で使用した３－テトラフルオロプロピルオキシ－１，３－ジイミノイソインドリン３０部、１，３―ジイミノベンゾ［ｆ］イソインドリン８６部の代わりに、それぞれ、１，３－ジイミノイソインドリン１６部、１，３－ジイミノ－２，３－ジヒドロ－１Ｈ－ベンゾ［ｆ］イソインドール－５－スルホン酸１２２部を使用した以外は、組成物（Ａ－７）の合成と同様の操作を行い、混合物（混合比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝５：１８：６６：１１）である組成物（Ａ－１６）を１２０部得た。組成物（Ａ－１６）の主成分は以下の構造のｎ３体であり、化合物（Ｂ）含有量は７．３質量％であった。

【0307】

組成物（Ａ－１６）の主成分

【化36】

【0308】

（組成物（Ａ－１７）の合成）
組成物（Ａ－７）の合成で使用した３－テトラフルオロプロピルオキシ－１，３－ジイミノイソインドリン３０部、１，３―ジイミノベンゾ［ｆ］イソインドリン８６部の代わりに、それぞれ、１，３－ジイミノイソインドリン１６部、６，７－ジメチル－１Ｈ－ベンゾ［ｆ］イソインドール－１，３（２Ｈ）－ジイミン９９部を使用した以外は、組成物（Ａ－７）の合成と同様の操作を行い、混合物（混合比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝８：１８：６２：１２）である組成物（Ａ－１７）を１０２部得た。組成物（Ａ－１７）の主成分は以下の構造のｎ３体であり、化合物（Ｂ）含有量は５．２質量％であった。

【0309】

組成物（Ａ－１７）の主成分

【化37】

【0310】

（組成物（Ａ－１８）の合成）
組成物（Ａ－２）の合成で使用したジフェニルリン酸５部の代わりに、ビス（４－ブロモフェニル）リン酸８部を使用した以外は、組成物（Ａ－２）の合成と同様の操作を行い、
混合物（混合比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝７：１７：６１：１５）である化合物（Ａ－１８）を１１８部得た。組成物（Ａ－１８）の主成分は以下の構造のｎ３体であり、化合物（Ｂ）含有量は４．７質量％であった。

【0311】

組成物（Ａ－１８）の主成分

【化38】

【0312】

（組成物（Ａ－１９）の合成）
組成物（Ａ－２）の合成で使用したジフェニルリン酸５部の代わりに、ジフェニルホスフィン酸５部を使用した以外は、組成物（Ａ－２）の合成と同様の操作を行い、混合物（混合比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝７：２０：５８：１５）である組成物（Ａ－１９）を１１６部得た。組成物（Ａ－１９）の主成分は以下の構造のｎ３体であり、化合物（Ｂ）含有量は５．０質量％であった。

【0313】

組成物（Ａ－１９）の主成分

【化39】

【0314】

（組成物（Ａ－２０）の合成）
組成物（Ａ－２）の合成で使用したジフェニルリン酸５部の代わりに、ジプロピルホスフィン酸４部を使用した以外は、組成物（Ａ－２）の合成と同様の操作を行い、混合物（混合比率は、ｎ２：ｎ３：ｎ４＝１８：６１：２１）である組成物（Ａ－２０）を１１７部得た。組成物（Ａ－２０）の主成分は以下の構造のｎ３体であり、化合物（Ｂ）含有量は４．７質量％であった。

【0315】

組成物（Ａ－２０）の主成分

【化40】

【0316】

（組成物（Ａ－２１）の合成）
組成物（Ａ－２）の合成で使用したジフェニルリン酸５部の代わりに、ドデシルリン酸４部を使用した以外は、組成物（Ａ－２）の合成と同様の操作を行い、混合物（混合比率は、ｎ２：ｎ３：ｎ４＝２３：５４：２３）である組成物（Ａ－２１）を１１７部得た。組成物（Ａ－２１）の主成分は以下の構造のｎ３体であり、化合物（Ｂ）含有量は４．８質量％であった。

【0317】

組成物（Ａ－２１）の主成分

【化41】

【0318】

（組成物（Ａ－２２）の合成）
下記の手順で組成物（ａ２－２）と樹脂（Ｋ－１）とからなる組成物（Ａ－２２）を製造した。Ｎ － メチルピロリドン２００部に６５部の樹脂（Ｋ－１）を添加し、十分に攪拌混合を行った後、５０℃に加熱した。この溶液に、１０部の組成物（ａ２－２）を少しずつ添加した後、９０℃で１２０分攪拌した。反応の終点確認は、例えば、濾紙に反応液を滴下して、にじみがなくなったところを終点とした。続けて、この反応溶液へイオン交換水４００部を滴下していき、生成した析出物をろ過、水洗の順で処理を行い、乾燥して、２４部の組成物（Ａ－２２）を得た。化合物（Ｂ）含有量は３．３質量％であった。
この時、組成物（ａ２－２）と、樹脂（Ｋ－１）に含まれるＰ－１Ｍのモル比率は、組成物（ａ２－２）／樹脂（Ｋ－１）に含まれるＰ－１Ｍ ＝０．９／１であった。

【0319】

（組成物（Ａ－２３）の合成）
１－プロパノール２００部に５部のジフェニルリン酸を添加し、十分に攪拌混合を行った後、５０℃に加熱した。この溶液に、１０部の組成物（ａ２－２）を少しずつ添加した後、７０℃で１２０分攪拌した。反応の終点確認は、例えば、濾紙に反応液を滴下して、にじみがなくなったところを終点とした。続けて、この反応溶液へイオン交換水２００部を滴下していき、生成した析出物をろ過、水洗の順で処理を行った。次いで、イオン交換水２０００部中、９０℃で１２０分攪拌し、ろ過、水洗の順で処理を行い、乾燥して、比較組成物（Ａ－２３）で表される化合物を得た。化合物（Ｂ）含有量は０質量％であった。

【0320】

＜バインダ樹脂溶液の製造方法＞
（バインダ樹脂溶液の調製）
温度計、冷却管、窒素ガス導入管、滴下管及び撹拌装置を備えたセパラブル４口フラスコにシクロヘキサノン３７０部を仕込み、８０℃に昇温し、フラスコ内を窒素置換した後、滴下管より、ジシクロペンタニルメタクリレート１８部、ベンジルメタクリレート１０部、グリシジルメタクリレート１８．２部、メタクリル酸メチル２５部、及び２，２'－
アゾビスイソブチロニトリル２．０部の混合物を２時間かけて滴下した。滴下後、更に１００℃で３時間反応させた後、アゾビスイソブチロニトリル１．０部をシクロヘキサノン５０部で溶解させたものを添加し、更に１００℃で１時間反応を続けた。次に、容器内を空気置換に替え、アクリル酸９．３部（グリシジル基の１００％）にトリスジメチルアミノフェノール０．５部及びハイドロキノン０．１部を上記容器内に投入し、１２０℃で６時間反応を続け固形分酸価０．５となったところで反応を終了し、アクリル樹脂の溶液を得た。更に、引き続きテトラヒドロ無水フタル酸１９．５部（生成した水酸基の１００％）、トリエチルアミン０．５部を加え１２０℃で３．５時間反応させアクリル樹脂の溶液を得た。
室温まで冷却した後、樹脂溶液約２ｇをサンプリングして１８０℃、２０分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂溶液に不揮発分が２０質量％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを添加してバインダ樹脂溶液を調製した。質量平均分子量（Ｍｗ）は１９０００であった。

【0321】

＜樹脂型分散剤の製造方法＞
（樹脂型分散剤１溶液）
［モノマー（ｂ－１）の合成］
攪拌機、温度計を備えた反応容器に、メタクリル酸２－イソシアナトエチル６０部、３－（ジメチルアミノ）プロピルアミン２９部、ＴＨＦ１２０部を仕込み、室温で５時間撹拌した。ＦＴ－ＩＲ（フーリエ変換赤外分光法）で反応が完結していることを確認したのち、ロータリーエバポレーターで溶媒を留去し、淡黄色透明の液体として、下記のモノマー（ｂ－１）を７３部得た（収率８２％）。得られた化合物の同定は、^１Ｈ－ＮＭＲで実施した。

【0322】

モノマー（ｂ－１）

【化42】

【0323】

［モノマー（ｂ－２）の合成］
攪拌機、温度計を備えた反応容器に、モノマー（ｂ－１）の合成で得られた、モノマー（ｂ－１）６．６部、イオン交換水５部を仕込み、室温で撹拌したのち、３５％塩酸水溶液８部を滴下した。アミン価測定で反応が完結していることを確認し、淡黄色透明液体として、モノマー（ｂ－２）水溶液を２０部得た。得られた化合物の同定は、^１Ｈ－ＮＭＲ（核磁気共鳴法）で実施した。

【0324】

モノマー（ｂ－２）

【化43】

【0325】

ガス導入管、コンデンサー、攪拌翼、及び温度計を備え付けた反応槽に、メチルメタクリレート１７．７部、ｎ－ブチルメタクリレート５３．２部、テトラメチルエチレンジアミン１３．２部を仕込み、窒素を流しながら５０℃で１時間撹拌し、系内を窒素置換した。次に、ブロモイソ酪酸エチル２．６部、塩化第一銅５．６部、ＰＧＭＡｃ１００部を仕込み、窒素気流下で、１１０℃まで昇温して第一ブロックの重合を開始した。４時間重合後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して重合転化率が９８％以上であることを確認した。
次に、この反応槽に、ＰＧＭＡｃ２０部、第二ブロックモノマーとしてモノマー（ｂ－１）２１．２部、モノマー（ｂ－２）水溶液２７部（不揮発分３８％）を投入し、１１０℃・窒素雰囲気下を保持したまま撹拌し、反応を継続した。２時間後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して第二ブロックの重合転化率が９８％以上であることを確認し、反応溶液を室温まで冷却して重合を停止した。
先に合成したブロック共重合体溶液に不揮発分が４０質量％になるようにＰＧＭＡｃを
添加した。このようにして、不揮発分当たりのアミン価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、４級アンモニウム塩価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ、質量平均分子量（Ｍｗ）９，８００、不揮発分が４０質量％である、塩基性の樹脂型分散剤１溶液を得た。

【0326】

（樹脂型分散剤２溶液）
ガス導入管、コンデンサー、攪拌翼、及び温度計を備え付けた反応装置に、メチルメタクリレート６０部、ｎー－ブチルメタクリレート２０部、テトラメチルエチレンジアミン１３．２部を仕込み、窒素を流しながら５０℃で１時間撹拌し、系内を窒素置換した。次に、ブロモイソ酪酸エチル９．３部、塩化第一銅５．６部、ＰＧＭＡｃ１３３部を仕込み、窒素気流下で、１１０℃まで昇温して第一ブロックの重合を開始した。４時間重合後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して重合転化率が９８％以上であることを確認した。
次に、この反応装置に、ＰＧＭＡｃ６１部、第二ブロックモノマーとしてジメチルアミノエチルメタクリレート２０部（以下、ＤＭという）を投入し、１１０℃・窒素雰囲気下を保持したまま撹拌し、反応を継続した。ジメチルアミノエチルメタクリレート投入から２時間後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して第二ブロックの重合転化率が９８％以上であることを確認し、反応溶液を室温まで冷却して重合を停止した。
先に合成したブロック共重合体溶液に不揮発分が４０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加した。このようにして、不揮発分当たりのアミン価が７１．４ｍｇＫＯＨ／ｇ、質量平均分子量９９００（Ｍｗ）、不揮発分が４０質量％のポリ（メタ）アクリレート骨格であり、３級アミノ基を有する、塩基性の樹脂型分散剤２溶液を得た。

【0327】

（樹脂型分散剤３溶液）
ガス導入管、コンデンサー、攪拌翼、及び温度計を備え付けた反応装置に、メチルメタクリレート３１部、ｎーブチルメタクリレート６２部、テトラメチルエチレンジアミン６．５部を仕込み、窒素を流しながら５０℃で１時間撹拌し、系内を窒素置換した。次に、ブロモイソ酪酸エチル９．３部、塩化第一銅５．６部、ＰＧＭＡｃ１３３部を仕込み、窒素気流下で、１１０℃まで昇温して第一ブロックの重合を開始した。４時間重合後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して重合転化率が９８％以上であることを確認した。
次に、この反応装置に、ＰＧＭＡｃ６１部、第二ブロックモノマーとしてＤＭ７．０部を投入し、１１０℃・窒素雰囲気下を保持したまま撹拌し、反応を継続した。ジメチルアミノエチルメタクリレート投入から２時間後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して第二ブロックの重合転化率が９８％以上であることを確認した。
さらに、この反応装置に、ベンジルクロライド３．３部を投入し、１１０℃・窒素雰囲気下を保持したまま３時間撹拌し、その後冷却した。
先に合成したブロック共重合体溶液に不揮発分が４０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加した。このようにして、不揮発分当たりのアミン価が１０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ、４級アンモニウム塩価が１４．２ｍｇＫＯＨ／ｇ、質量平均分子量２００００、不揮発分が４０質量％のポリ（メタ）アクリレート骨格である、塩基性の樹脂型分散剤３溶液を得た。

【0328】

（樹脂型分散剤４溶液）
ガス導入管、温度計、コンデンサー、攪拌機を備えた反応容器に、メチルメタクリレート５０部、ｎ－ブチルメタクリレート５０部、ＰＧＭＡｃ４５．４部を仕込み、窒素ガスで置換した。反応容器内を７０℃に加熱して、３－メルカプト－１，２－プロパンジオール６部を添加して、さらにＡＩＢＮ（アゾビスイソブチロニトリル）０．１２部を加え、１２時間反応した。不揮発分測定により９５％が反応したことを確認した。次に、ピロメリット酸無水物９．７部、ＰＧＭＡｃ７０．３部、触媒としてＤＢＵ（１，８－ジアザビシ
クロ－［５．４．０］－７－ウンデセン）０．２０部を追加し、１２０℃で７時間反応させた。酸価の測定で９８％以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認し反応を終了した。ＰＧＭＡｃを加えて不揮発分４０％に調製した。このようにして、酸価４３、質量平均分子量９０００、ポリ（メタ）アクリレート骨格であり、芳香族カルボキシル基を有する、酸性の樹脂型分散剤４溶液を得た。

【0329】

＜樹脂組成物の製造＞
［実施例１］
（樹脂組成物（Ｄ－１））
下記の組成の混合物を均一に撹拌混合した後、直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを用いて、アイガーミルで３時間分散した。
化合物（Ａ－１） ：１６．２部
樹脂型分散剤１溶液 ：２１．８部
ＰＧＭＡｃ ：６２．０部
得られた組成物：６１．５部、バインダ樹脂溶液：２３．１部、ＰＧＭＡｃ：１５．４部を均一に撹拌混合し、０．５μｍのフィルタで濾過し、樹脂組成物（Ｄ－１）を作製した。
樹脂組成物（Ｄ－１）中の化合物（Ｂ）の含有量は、０．２７３質量％であった。

【0330】

［実施例２～３４、比較例１］
（樹脂組成物（Ｄ－２）～（Ｄ－３４）、（Ｄ－３７））
以下、化合物（Ａ）、その他化合物、樹脂型分散剤溶液、バインダ樹脂溶液、溶剤を表１に示す組成、量に変更した以外は樹脂組成物（Ｄ－１）と同様にして、分散後バインダ樹脂溶液及びＰＧＭＡｃで希釈し、樹脂組成物（Ｄ－２）～（Ｄ－３４）および、（Ｄ－３７）を調製した。
樹脂組成物中の化合物（Ｂ）の化合物名、含有量は、表１に示すとおりであった。

【0331】

（分散助剤（Ｇ））

【0332】

（Ｇ－１）

【化44】

【0333】

（Ｇ－２）

【化45】

【0334】

【化46】

【0335】

［実施例３５］
（樹脂組成物（Ｄ－３５））
下記の組成の混合物を均一に撹拌混合した後、直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを用いて、アイガーミルで３時間分散した。
化合物（Ａ－２３） ：１６．２部
樹脂型分散剤１溶液 ：２１．８部
ＰＧＭＡｃ ：６１．０部
Ｎ－メチルピロリドン ：０．８２部
得られた組成物：６１．５部、バインダ樹脂溶液：２３．１部、ＰＧＭＡｃ：１５．４部を均一に攪拌混合し、０．５μｍのフィルタで濾過し、樹脂組成物（Ｄ－３５）を作製した。樹脂組成物（Ｄ－３５）中の化合物（Ｂ）の含有量は、０．５０２質量％であった。

【0336】

［実施例３６］
（樹脂組成物（Ｄ－３６））
表１に示す組成、量に変更した以外は樹脂組成物（Ｄ－１）と同様にして分散した。得られた組成物：６１．５部、バインダ樹脂溶液：２３．１部、Ｎ－メチルピロリドン：０．００１部、ＰＧＭＡｃ：１５．４部を均一に撹拌混合し、０．５μｍのフィルタで濾過し、樹脂組成物（Ｄ－３６）を作製した。樹脂組成物（Ｄ－３６）中の化合物（Ｂ）の含有量は、０．００１２質量％であった。

【0337】

［比較例２］
（樹脂組成物（Ｄ－３８））
表１に示す組成、量に変更した以外は樹脂組成物（Ｄ－１）と同様にして分散した。得られた組成物：６１．５部、バインダ樹脂溶液：２３．１部、Ｎ－メチルピロリドン：２．０部、ＰＧＭＡｃ：１３．４部を均一に撹拌混合し、０．５μｍのフィルタで濾過し、樹脂組成物（Ｄ－３８）を作製した。樹脂組成物（Ｄ－３８）中の化合物（Ｂ）の含有量は、２．０７０質量％であった。

【0338】

【表1】

【0339】

表１中、化合物（Ｂ）の名称について以下のように表記した。
Ｎ－メチルピロリドン＝ＮＭＰ
ジメチルアセトアミド＝ＤＭＡＣ
ジメチルホルムアミド＝ＤＭＦ
ジメチルスルホキシド＝ＤＭＳＯ

【0340】

表１中、その他化合物の名称について以下のように表記した。
ＰＧ５８＝Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８
ＰＧ６２＝Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン６２

【0341】

＜樹脂組成物の評価＞
得られた樹脂組成物（Ｄ－１～３８）（実施例１～３６、比較例１及び２）について、下記の評価を行った。評価結果を表２に示す。

【0342】

［保存安定性］
得られた樹脂組成物の粘度を測定し、初期粘度とした。さらに、４０℃１か月の促進試
験を行い、経時促進粘度を測定した。
促進による変化率として、促進経時粘度／初期粘度を算出し、下記基準で評価した。
◎ ：１．０５未満
○ ：１．０５以上、１．１０未満
△ ：１．１０以上、１．３未満
× ：１．３以上

【0343】

［凝集異物の評価１］
得られた樹脂組成物を、５０ｍｍ×５０ｍｍ、１．１ｍｍ厚のコーニング社製無アルカリガラスイーグルＸＧ上にスピンコーターを用いて塗布、オーブンにて２３０℃で２０分焼成して熱処理後の塗膜の膜厚が１．０μｍとなるように塗布基板を作製した。膜厚の測定にはＤＥＫＴＡＫを用いて測定した。その後、得られた基板を２５０℃で１時間加熱して表面観察を行った。評価にはオリンパスシステム社製金属顕微鏡「ＢＸ６０」を用いた。倍率は５００倍とし、透過にて任意の５視野で観測可能な粒子の数をカウントして評価した。尚、◎は非常に良好なレベル、○は良好なレベル、△は実用可能なレベル、×は実用には適さないレベルである。
◎ ：異物の数が１０個未満
○ ：異物の数が１０個以上、２０個未満
△ ：異物の数が２０個以上、６０個未満
× ：異物の数が６０個以上

【0344】

［凝集異物の評価２］
得られた樹脂組成物を、５０ｍｍ×５０ｍｍ、１．０ｍｍ厚のＨＯＹＡ製ブルーガラスＣ－５０００上にスピンコーターを用いて塗布、オーブンにて２３０℃で２０分焼成して熱処理後の塗膜の膜厚が１．０μｍとなるように塗布基板を作製した。膜厚の測定にはＤＥＫＴＡＫを用いて測定した。その後、得られた基板を２５０℃で１時間加熱して表面観察を行った。評価にはオリンパスシステム社製金属顕微鏡「ＢＸ６０」を用いた。倍率は５００倍とし、透過にて任意の５視野で観測可能な粒子の数をカウントして評価した。尚、◎は非常に良好なレベル、○は良好なレベル、△は実用可能なレベル、×は実用には適さないレベルである。
◎ ：異物の数が１０個未満
○ ：異物の数が１０個以上、２０個未満
△ ：異物の数が２０個以上、６０個未満
× ：異物の数が６０個以上

【0345】

［耐熱性評価１］
凝集異物評価１と同じ手順で試験用基板を作製し、２５０℃での加熱前後の各波長領域における透過率を、分光光度計Ｕ－４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定した。７００～９００ｎｍの範囲にある膜の分光極大吸収波長における吸光度を測定し、耐熱性試験前のそれに対する残存比を求め、耐熱性を、下記基準で評価した。なお、残存率の算出は、以下の式を用いて算出した。
残存率＝（耐熱性試験後の吸光度）÷（耐熱性試験前の吸光度）×１００
◎ ：残存率が９５％以上
○ ：残存率が９０％以上、９５％未満
× ：残存率が９０％未満

【0346】

［耐熱性評価２］
凝集異物評価２と同じ手順で試験用基板を作製し、２５０℃での加熱前後の各波長領域における透過率を、分光光度計Ｕ－４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定した。７００～９００ｎｍの範囲にある膜の分光極大吸収波長における吸光度を測定し、耐熱性試験前のそれに対する残存比を求め、耐熱性を、下記基準で評価した。なお、残存率の算出は、以下の式を用いて算出した。
残存率＝（耐熱性試験後の吸光度）÷（耐熱性試験前の吸光度）×１００
◎ ：残存率が９５％以上
○ ：残存率が９０％以上、９５％未満
× ：残存率が９０％未満

【0347】

【表2】

【0348】

表２の結果より化合物（Ａ）と、化合物（Ｂ）０．０００１～１質量％を含む実施例１～３６は、保存安定性が良好で、かつ凝集異物が少なく、耐熱性に優れている。ブルーガラスを用いて評価を行った凝集異物の評価２および耐熱性評価２は、凝集異物の評価１および耐熱性評価１の結果と同様であった。

【0349】

＜感光性樹脂組成物の製造＞
［実施例１０１］
（感光性樹脂組成物（Ｒ－１））
下記の混合物を均一になるように攪拌混合した後、１ ．０μｍのフィルタで濾過して
、感光性樹脂組成物（Ｒ－１） を得た。
感光性樹脂組成物中の化合物（Ｂ）の含有量は、０．１４２質量％であった。

樹脂組成物（Ｄ－１） ：５０．０部
バインダ樹脂溶液 ： ７．５部
光重合性単量体（東亞合成社製「アロニックスＭ－４０２」） ： １．０部
光重合性単量体（ 東亞合成社製「アロニックスＭ ３ ５ ０ 」） ： １．０部
光重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン社製「ＯＸＥ－０２」） ： １．５部
増感剤（ 日本化薬社製「Ｋ Ａ Ｙ Ａ Ｃ Ｕ Ｒ Ｅ Ｄ Ｅ Ｔ Ｘ -Ｓ 」） ：０ ．０
５ 部
チオール化合物（ ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート）：０ ．２０
部
レべリング剤（ ビックケミー社製「ＢＹＫ－３３０ 」） ：０ ．０５ 部
酸化防止剤（ＢＡＳＦ社製「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０ 」 ：０ ．１０ 部
ＰＧＭＡｃ ：３８．６部

【0350】

［実施例１０２～１３６および比較例１０１、１０２］
（感光性樹脂組成物（Ｒ－２）～（Ｒ－３６）、（Ｒ－３９）～（Ｒ－４０））
以下、樹脂組成物を表３に示す樹脂組成物の種類に変更した以外は感光性樹脂組成物（Ｒ－１）と同様にして感光性樹脂組成物（Ｒ－２）～（Ｒ－３６）、（Ｒ－３９）～（Ｒ－４０）を得た。
感光性樹脂組成物中の化合物（Ｂ）の含有量は、表３に示すとおりであった。

【0351】

［実施例１３７］
（感光性樹脂組成物（Ｒ－３７））
下記の混合物を均一になるように攪拌混合した後、１ ．０μｍのフィルタで濾過して
、感光性樹脂組成物（Ｒ－３７） を得た。
感光性樹脂組成物中の化合物（Ｂ）の含有量は、０．２４９質量％であった。

樹脂組成物（Ｄ－１） ：５０．０部
バインダ樹脂溶液 ： ７．５部
エポキシ化合物（ 日産化学工業製「ＴＥＰＩＣ－Ｓ」） ０ ．１６部
光重合性単量体（ 日本化薬社製「Ｋ ＡＹＡＲＡＤＤＰＣＡ－３０ 」） １ ．８５部
光重合性単量体（ 共栄社化学社製「ＵＡ－５１０Ｈ 」） ０ ．５０部
光重合開始剤（ ＢＡＳＦ社製「イルガキュアーＯＸＥ０１ 」） ０ ．５５部
光重合開始剤（ ＢＡＳＦ社製「イルガキュアー９０７ 」） ０ ．２０部
増感剤（ 保土谷化学工業社製「ＥＡＢ－Ｆ」） ０ ．０５部
シランカップリング剤（ 信越シリコーン社製「ＫＢＭ－４０３ 」） ０ ．０３部
重合禁止剤（ メチルヒドロキノン） ０ ．０２部
紫外線吸収剤（ ＢＡＳＦ社製「ＴＩＮＵＶＩＮＰ」） ０ ．０５部
レべリング剤（ ＤＩＣ 株式会社製「メガファックＦ－５５１」） ０ ．０５部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ３４ ．０４部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ５ ． ００部

【0352】

［実施例１３８］
（感光性樹脂組成物（Ｒ－３８））
以下、樹脂組成物を表３に示す樹脂組成物の種類に変更した以外は感光性樹脂組成物（Ｒ－３７）と同様にして感光性樹脂組成物（Ｒ－３８）を得た。
感光性樹脂組成物中の化合物（Ｂ）の含有量は、０．３０４質量％であった。

【0353】

＜感光性樹脂組成物の評価＞
実施例および比較例で得られた感光性樹脂組成物（Ｒ－１）～（Ｒ－４０）について、保存安定性、凝集異物、耐性（耐熱性、耐湿性）に関する試験を下記の方法で行った。結果を表３に示す。

【0354】

［保存安定性］
得られた感光性樹脂組成物の粘度を測定し、初期粘度とした。さらに、４０℃１か月の促進試験を行い、経時促進粘度を測定した。
促進による変化率として、促進経時粘度／初期粘度を算出し、下記基準で評価した。
◎ ：１．０５未満
○ ：１．０５以上、１．１０未満
△ ：１．１０以上、１．３未満
× ：１．３以上

【0355】

［凝集異物の評価１］
得られた感光性樹脂組成物を、５０ｍｍ×５０ｍｍ、１．１ｍｍ厚のコーニング社製無アルカリガラスイーグルＸＧ上にスピンコーターを用いてスピンコートし、６０℃で５分乾燥した後、超高圧水銀ランプを用いて１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、０．２質量％の炭酸ナトリウム水溶液からなるアルカリ現像液によりスプレー現像し、その後２３０℃で２０分焼成して熱処理後の塗膜の膜厚が１．０μｍとなるように塗布基板を作製した。膜厚の測定にはＤＥＫＴＡＫを用いて測定した。その後、得られた基板を２５０℃で１時間加熱して表面観察を行った。評価にはオリンパスシステム社製金属顕微鏡「ＢＸ６０」を用いた。倍率は５００倍とし、透過にて任意の５視野で観測可能な粒子の数をカウントして評価した。尚、◎は非常に良好なレベル、○は良好なレベル、△は実用可能なレベル、×は実用には適さないレベルである。
◎ ：異物の数が１０個未満
○ ：異物の数が１０個以上、２０個未満
△ ：異物の数が２０個以上、６０個未満
× ：異物の数が６０個以上

【0356】

［凝集異物の評価２］
得られた感光性樹脂組成物を、５０ｍｍ×５０ｍｍ、１．０ｍｍ厚のＨＯ Ｙ Ａ 製ブルーガラスＣ－５０００上にスピンコーターを用いてスピンコートし、６０℃で５分乾燥した後、超高圧水銀ランプを用いて１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、０．２質量％の炭酸ナトリウム水溶液からなるアルカリ現像液によりスプレー現像し、その後２３０℃で２０分焼成して熱処理後の塗膜の膜厚が１．０μｍとなるように塗布基板を作製した。膜厚の測定にはＤＥＫＴＡＫを用いて測定した。その後、得られた基板を２５０℃で１時間加熱して表面観察を行った。評価にはオリンパスシステム社製金属顕微鏡「ＢＸ６０」を用いた。倍率は５００倍とし、透過にて任意の５視野で観測可能な粒子の数をカウントして評価した。尚、◎は非常に良好なレベル、○は良好なレベル、△は実用可能なレベル、×は実用には適さないレベルである。
◎ ：異物の数が１０個未満
○ ：異物の数が１０個以上、２０個未満
△ ：異物の数が２０個以上、６０個未満
× ：異物の数が６０個以上

【0357】

［耐熱性評価１］
凝集異物評価１と同じ手順で試験用基板を作製し、２５０℃での加熱前後の各波長領域における透過率を、分光光度計Ｕ－４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定した。７００～９００ｎｍの範囲にある膜の分光極大吸収波長における吸光度を測定し、耐熱性試験前のそれに対する残存比を求め、耐熱性を、下記基準で評価した。なお、残存率の算出は、以下の式を用いて算出した。
残存率＝（耐熱性試験後の吸光度）÷（耐熱性試験前の吸光度）×１００
◎ ：残存率が９５％以上
○ ：残存率が９０％以上、９５％未満
× ：残存率が９０％未満

【0358】

［耐熱性評価２］
凝集異物評価２と同じ手順で試験用基板を作製し、２５０℃での加熱前後の各波長領域における透過率を、分光光度計Ｕ－４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定した。７００～９００ｎｍの範囲にある膜の分光極大吸収波長における吸光度を測定し、耐熱性試験前のそれに対する残存比を求め、耐熱性を、下記基準で評価した。なお、残存率の算出は、以下の式を用いて算出した。
残存率＝（耐熱性試験後の吸光度）÷（耐熱性試験前の吸光度）×１００
◎ ：残存率が９５％以上
○ ：残存率が９０％以上、９５％未満
× ：残存率が９０％未満

【0359】

［耐湿性評価１］
得られた感光性樹脂組成物を、５０ｍｍ×５０ｍｍ、１．１ｍｍ厚のコーニング社製無アルカリガラスイーグルＸＧ上にスピンコーターを用いてスピンコートし、６０℃で５分乾燥した後、超高圧水銀ランプを用いて１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、０．２質量％の炭酸ナトリウム水溶液からなるアルカリ現像液によりスプレー現像し、その後２３０℃で２０分焼成して熱処理後の塗膜の膜厚が１．０μｍとなるように塗布基板を作製した。膜厚の測定にはＤＥＫＴＡＫを用いて測定した。作成した膜について、８０℃、相対湿度８５％の雰囲気下で５００時間静置し耐湿性試験を行った。耐湿性試験前後の各波長領域における透過率を、分光光度計Ｕ－４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定した。７００～９００ｎｍの範囲にある膜の分光極大吸収波長における吸光度を測定し、耐湿性試験前のそれに対する残存比を求め、耐湿性を、下記基準で評価した。なお、残存率の算出は、以下の式を用いて算出した。
残存率＝（耐熱性試験後の吸光度）÷（耐熱性試験前の吸光度）×１００
◎ ：残存率が９７％以上
○ ：残存率が９５％以上、９７％未満
× ：残存率が９５％未満

【0360】

［耐湿性評価２］
得られた感光性樹脂組成物を、５０ｍｍ×５０ｍｍ、１．０ｍｍ厚のＨＯ Ｙ Ａ 製ブルーガラスＣ－５０００上にスピンコーターを用いてスピンコートし、６０℃で５分乾燥した後、超高圧水銀ランプを用いて１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、０．２質量％の炭酸ナトリウム水溶液からなるアルカリ現像液によりスプレー現像し、その後２３０℃で２０分焼成して熱処理後の塗膜の膜厚が１．０μｍとなるように塗布基板を作製した。膜厚の測定にはＤＥＫＴＡＫを用いて測定した。作成した膜について、８０℃、相対湿度８５％の雰囲気下で５００時間静置し耐湿性試験を行った。耐湿性試験前後の各波長領域における透過率を、分光光度計Ｕ－４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定した。７００～９００ｎｍの範囲にある膜の分光極大吸収波長における吸光度を測定し、耐湿性試験前のそれに対する残存比を求め、耐湿性を、下記基準で評価した。なお、残存率の算出は、以下の式を用いて算出した。
残存率＝（耐熱性試験後の吸光度）÷（耐熱性試験前の吸光度）×１００
◎ ：残存率が９７％以上
○ ：残存率が９５％以上、９７％未満
× ：残存率が９５％未満

【0361】

【表3】

【0362】

表３の結果より感光性樹脂組成物の場合も樹脂組成物と結果は同様で、化合物（Ａ）と、化合物（Ｂ）０．０００１～１質量％を含むことで、保存安定性が良好で、かつ凝集異物が少なく、耐熱性に優れ、さらに耐湿性に優れている。
ブルーガラスを用いても評価を行った凝集異物の評価２、耐熱性評価２および耐湿性の評価２は、凝集異物の評価１、耐熱性評価１および耐湿性評価１の結果と同様に、凝集異物が少なく、耐熱性と耐湿性に優れていた。

【0363】

＜波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲に吸収極大波長を有する化合物（Ｈ）を含有する樹脂組成物（可視光領域吸収性樹脂組成物）の製造＞
（青色着色組成物）
下記の組成の混合物を均一に撹拌混合した後、直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを用いて、アイガーミルで３時間分散した後、０．５μｍのフィルタで濾過し、青色着色組成
物を作製した。
Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー ＰＢ１５：６ ：１０．０部
樹脂型分散剤２溶液 ： ７．５部
バインダ樹脂溶液 ：３５．０部
ＰＧＭＡｃ ：４７．５部

【0364】

（紫色着色組成物）
下記の組成の混合物を均一に撹拌混合した後、直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを用いて、アイガーミルで３時間分散した後、０．５μｍのフィルタで濾過し、紫色着色組成物を作製した。
Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット ＰＶ２３ ：１０．０部
樹脂型分散剤２溶液 ： ７．５部
バインダ樹脂溶液 ：３５．０部
ＰＧＭＡｃ ：４７．５部

【0365】

（黄色着色組成物）
下記の組成の混合物を均一に撹拌混合した後、直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを用いて、アイガーミルで３時間分散した後、０．５μｍのフィルタで濾過し、黄色着色組成物を作製した。
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー ＰＹ１３９ ：１０．０部
樹脂型分散剤２溶液 ： ７．５部
バインダ樹脂溶液 ：３５．０部
ＰＧＭＡｃ ：４７．５部

【0366】

［実施例１３９］
（可視光領域吸収性樹脂組成物（Ｐ－１））
下記の混合物を均一になるように攪拌混合した後、１．０μｍのフィルタで濾過して、可視光領域吸収性樹脂組成物（Ｐ－１）を得た。
可視光領域吸収性樹脂組成物中の化合物（Ｂ）の含有量は、０．０４８質量％であった。

樹脂組成物（Ｄ－１） ：１０．０部
青色顔料組成物 ：２０．０部
紫色顔料組成物 ：１０．０部
黄色顔料組成物 ：１０．０部
バインダ樹脂溶液 ： ７．５部
光重合性単量体（東亞合成社製「アロニックスＭ－４０２」） ： １．０部
光重合性単量体（ 東亞合成社製「アロニックスＭ ３ ５ ０ 」） ： １．０部
光重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン社製「ＯＸＥ－０２」） ： １．５部
ＰＧＭＡｃ ：３９．０部

【0367】

［実施例１４０～１４４］
（可視光領域吸収性組成物（Ｐ－２）～（Ｐ－６））
以下、樹脂組成物を表４に示す樹脂組成物の種類に変更した以外は可視光領域吸収性組成物（Ｐ－１）と同様にして可視光領域吸収性組成物（Ｐ－２）～（Ｐ－６）を得た。
可視光領域吸収性組成物中の化合物（Ｂ）の含有量は、表４に示すとおりであった。

【0368】

得られた可視光領域吸収性組成物（Ｐ－１）～（Ｐ－６）について、感光性樹脂組成物（Ｒ－１）～（Ｒ－４０）と同様の評価を行った。

【0369】

【表4】

【0370】

表４の結果から可視光領域吸収性組成物（Ｐ－１）～（Ｐ－６）は、感光性樹脂組成物（Ｒ－１）～（Ｒ－３８）の結果と同様、保存安定性が良好で、かつ凝集異物が少なく、耐性（耐熱性、耐湿性）が優れている。

【0371】

＜積層体での評価＞
実施例で作成した樹脂組成物を含む層を有する積層体は、耐性（耐熱性、耐湿性）に優れ、低い異物発生率であった。

【0372】

＜各種の用途でのフィルム作製＞
上記の結果から、実施例で作成した樹脂組成物を用いた光学フィルムは、その優れた特性により、近赤外線カメラ、監視カメラ、車載用カメラ、医療用カメラ、検査・分析カメラ、温度センサ、距離センサ、医療用センサ、ディスプレイなどのタッチセンサ、生体認証センサなどに用いた場合に好適に使用できることが予想される。

【符号の説明】

【0373】

１００ 赤外線センサ
１１０ 固体撮像素子
１１１ 赤外線カットフィルタ
１１２ カラーフィルタ
１１３ 赤外線透過フィルタ
１１４ 樹脂膜
１１５ マイクロレンズ
１１６ 平坦膜

【図1】