特開 2024-27044 光ファイバの製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024027044

(43)【公開日】2024-02-29

(54)【発明の名称】光ファイバの製造方法

(51)【国際特許分類】

   C03B 37/027 20060101AFI20240221BHJP

   G02B 6/02 20060101ALI20240221BHJP

【ＦＩ】

C03B37/027 A

G02B6/02 356A

【審査請求】未請求

【請求項の数】4

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022129748

(22)【出願日】2022-08-16

(71)【出願人】

【識別番号】000002130

【氏名又は名称】住友電気工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110002343

【氏名又は名称】弁理士法人 東和国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】小林 弓月

(72)【発明者】

【氏名】中原 慎二

【テーマコード（参考）】

4G021

【Ｆターム（参考）】

4G021HA05

(57)【要約】

【課題】ガラスファイバの弦振動による冷却装置への接触を素早く検出する光ファイバの製造方法を提供する。
【解決手段】線引き炉１２０から線引きされたガラスファイバＧ１を冷却する冷却装置１４０と、この冷却装置１４０を通過したガラスファイバＧ１に樹脂を塗布する樹脂コーティングダイス１６０とを用いてガラスファイバＧ１に樹脂を被覆した光ファイバＧ３を製造する光ファイバＧ３の製造方法であって、樹脂コーティングダイス１６０より上流に配置されたファイバ位置測定器１３０を用いてガラスファイバＧ１の走行方向と交差する測定面におけるガラスファイバＧ１の面内振動の振動周波数ｆを測定する振動周波数測定工程Ｓ１１０と、振動周波数測定工程Ｓ１１０により測定されたガラスファイバＧ１の振動周波数ｆに基づいてガラスファイバＧ１が冷却装置１４０に接触したか否かを判定する接触判定工程Ｓ１２０とを備えている。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

ガラス母材を加熱して軟化させる線引き炉と、前記線引き炉よりも下流側に配置されて前記線引き炉から線引きされたガラスファイバを冷却する冷却装置と、前記冷却装置を通過したガラスファイバに樹脂を塗布する樹脂コーティングダイスとを用いて、前記ガラスファイバに前記樹脂を被覆した光ファイバを製造する光ファイバの製造方法であって、
前記樹脂コーティングダイスより上流に配置されたファイバ位置測定器を用いて前記ガラスファイバの走行方向と交差する測定面における前記ガラスファイバの面内振動の振動周波数を測定する振動周波数測定工程と、
前記振動周波数測定工程により測定された前記ガラスファイバの振動周波数に基づいて前記ガラスファイバが前記冷却装置に接触したか否かを判定する接触判定工程とを備えている、光ファイバの製造方法。

【請求項2】

前記接触判定工程において、前記ガラスファイバの振動周波数が所定範囲から外れている場合に前記ガラスファイバが前記冷却装置に接触したと判定する、請求項１に記載の光ファイバの製造方法。

【請求項3】

前記接触判定工程において、前記所定範囲がファイバ張力測定器の測定した前記ガラスファイバの張力に基づいて算出される、請求項２に記載の光ファイバの製造方法。

【請求項4】

前記接触判定工程によって前記ガラスファイバが前記冷却装置に接触していると判定された場合に前記ガラスファイバの線引きを停止する線引停止工程をさらに備える、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の光ファイバの製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、光ファイバの製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、ガラス母材からガラスファイバを線引きして光ファイバを製造する光ファイバの製造方法において、ガラス母材の先端側のネックダウン部とガラスファイバに樹脂を塗布する塗布装置との間にガラスファイバの振動を抑制する固定点が存在しないため、ネックダウン部の下端から塗布装置の間のガラスファイバがネックダウン部の下端と塗布装置とを固定点として弦のように振動（弦振動）してしまうことがあった。
このガラスファイバの弦振動はガラスファイバの走行方向と交差する交差面内で振動するため、ガラス母材から線引きされたガラスファイバを冷却する冷却装置の壁面にガラスファイバが接触し、この接触によるガラスファイバの損傷によって光ファイバの強度が低下してしまうことがあった。

【0003】

そこで、この弦振動による光ファイバの強度低下を防ぐために、ガラス母材から垂下したガラスファイバの走行方向と交差する水平方向におけるガラスファイバの走行位置をファイバ位置測定器で検出し、ガラス母材を加熱する加熱炉の中心にガラスファイバの走行位置が配置されるようにガラス母材を水平方向に移動させる位置調整制御を行う光ファイバの製造方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１３－２２０９７２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、ガラス母材は長尺且つ大径であり、ガラス母材の慣性を考慮すると、ガラス母材の移動速度を高めることには限界があるため、上述した特許文献１に記載された光ファイバの製造方法では、所定のサンプリング時間（例えば、０．１秒。すなわち、１０Ｈｚ）におけるガラスファイバの水平面における平均走行位置に対してガラス母材の水平面内における位置を変化させている。
したがって、サンプリング時間のあいだにガラスファイバが冷却装置に間欠的に接触した場合、ガラス母材の位置が変化せず、ガラスファイバが接触して損傷してしまうおそれがある。

【0006】

そこで、本発明は、前述したような従来技術の問題を解決するものであって、すなわち、本発明の目的はガラスファイバの弦振動による冷却装置への接触を素早く検出する光ファイバの製造方法を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本開示の光ファイバの製造方法は、ガラス母材を加熱して軟化させる線引き炉と、前記線引き炉よりも下流側に配置されて前記線引き炉から線引きされたガラスファイバを冷却する冷却装置と、前記冷却装置を通過したガラスファイバに樹脂を塗布する樹脂コーティングダイスとを用いて、前記ガラスファイバに前記樹脂を被覆した光ファイバを製造する光ファイバの製造方法であって、前記樹脂コーティングダイスより上流に配置されたファイバ位置測定器を用いて前記ガラスファイバの走行方向と交差する測定面における前記ガラスファイバの面内振動の振動周波数を測定する振動周波数測定工程と、前記振動周波数測定工程により測定された前記ガラスファイバの振動周波数に基づいて前記ガラスファイバが前記冷却装置に接触したか否かを判定する接触判定工程とを備えている。

【発明の効果】

【0008】

上記によれば、ガラスファイバの弦振動による冷却装置への接触を素早く検出することができる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】本開示の光ファイバの製造方法で用いる光ファイバ製造装置の概略図である。

【図2】図１に示すファイバ位置測定器によるガラスファイバの位置測定を説明する模式図。

【図3】本開示の一態様に係る光ファイバの製造工程における異常判定のフローチャート。

【発明を実施するための形態】

【0010】

［本開示の実施形態の説明］
最初に本開示の実施態様の内容を列記して説明する。
本開示の光ファイバの製造方法は、（１）ガラス母材を加熱して軟化させる線引き炉と、前記線引き炉よりも下流側に配置されて前記線引き炉から線引きされたガラスファイバを冷却する冷却装置と、前記冷却装置を通過したガラスファイバに樹脂を塗布する樹脂コーティングダイスとを用いて、前記ガラスファイバに前記樹脂を被覆した光ファイバを製造する光ファイバの製造方法であって、前記樹脂コーティングダイスより上流に配置されたファイバ位置測定器を用いて前記ガラスファイバの走行方向と交差する測定面における前記ガラスファイバの面内振動の振動周波数を測定する振動周波数測定工程と、前記振動周波数測定工程により測定された前記ガラスファイバの振動周波数に基づいて前記ガラスファイバが前記冷却装置に接触したか否かを判定する接触判定工程とを備えている。
このように樹脂コーティングダイスより上流に配置されたファイバ位置測定器を用いてガラスファイバの走行方向と交差する測定面におけるガラスファイバの面内振動の振動周波数を測定する振動周波数測定工程と、振動周波数測定工程により測定されたガラスファイバの振動周波数に基づいてガラスファイバが冷却装置に接触したか否かを判定する接触判定工程とを備えていることにより、ガラスファイバの弦振動による冷却装置への接触がガラスファイバの振動周波数に基づいて判定されるため、測定面におけるガラスファイバの位置に基づいてガラスファイバの冷却装置への接触を判定する場合に比べてガラスファイバの弦振動による冷却装置への接触を素早く検出することができる。

【0011】

上記の光ファイバの製造方法において、（２）前記接触判定工程において、前記ガラスファイバの振動周波数が所定範囲から外れている場合に前記ガラスファイバが前記冷却装置に接触したと判定する。
これにより、測定面におけるガラスファイバの位置変動を周波数解析するだけでガラスファイバの冷却装置への接触の有無が判定されるため、ガラスファイバの冷却装置への接触の有無の判定を簡単に行うことができる。

【0012】

上記の光ファイバの製造方法において、（３）前記接触判定工程において、前記所定範囲がファイバ張力測定器の測定した前記ガラスファイバの張力に基づいて算出される。
これにより、ガラスファイバが冷却装置に接触しているか否かを判定するための根拠となるガラスファイバの振動周波数の範囲が線引きされているガラスファイバの状態に基づいて算出されるため、ガラスファイバの冷却装置への接触の有無の判定をより正確に行うことができる。

【0013】

上記の光ファイバの製造方法において、（４）前記接触判定工程によって前記ガラスファイバが前記冷却装置に接触していると判定された場合に前記ガラスファイバの線引きを停止する線引停止工程をさらに備える。
これにより、ガラスファイバの弦振動による冷却装置への接触に基づいてガラスファイバの線引きが停止されるため、光ファイバの品質不良を抑制することができる。

【0014】

［本開示の実施形態の詳細］
以下、本開示に係る光ファイバの製造方法の具体例について説明する。

【0015】

＜１．光ファイバ製造装置の概要＞
まず、本開示に係る光ファイバの製造方法で用いる光ファイバの製造装置について。
図１は本開示の光ファイバの製造方法で用いる光ファイバ製造装置の概略図であり、図２は図１に示すファイバ位置測定器によるガラスファイバの位置測定を説明する模式図である。

【0016】

光ファイバ製造装置１００は、図１に示すように、最上流から順に、ガラス母材Ｇの上部を把持する母材送りユニット１１０と、ガラス母材Ｇを加熱して軟化させる線引き炉１２０と、ガラス母材Ｇから線引きされたガラスファイバＧ１の位置を検出するファイバ位置測定器１３０と、このファイバ位置測定器１３０を通過したガラスファイバＧ１をヘリウムガス等の冷却ガスによって冷却する冷却装置１４０と、この冷却装置１４０を通過したガラスファイバＧ１の屈折率からガラスファイバＧ１の張力を測定するファイバ張力測定器１５０と、このファイバ張力測定器１５０を通過したガラスファイバＧ１に紫外線硬化樹脂（以下、「ＵＶ（ＵｌｔｒａＶｉｏｌｅｔ）硬化樹脂」と称する。）を塗布して樹脂塗布済みファイバＧ２を生成する樹脂コーティングダイス１６０と、樹脂塗布済みファイバＧ２の表面に塗布されたＵＶ硬化樹脂を硬化させて光ファイバＧ３を生成するＵＶ硬化炉１７０と、光ファイバＧ３が巻き取られるボビンＢに向けて光ファイバＧ３の走行方向を転換する直下ローラー１８０と、光ファイバ製造装置１００の各要素を制御するコントローラー１９０とを備えている。
したがって、この光ファイバ製造装置１００は、ガラスファイバＧ１にＵＶ硬化樹脂を被覆した光ファイバＧ３を製造する。

【0017】

母材送りユニット１１０は、ガラス母材Ｇの上端に設けられたダミー棒Ｇｄを回転自在に把持してガラス母材Ｇの長手方向である中心軸方向（Ｚ方向）と直交する水平方向（ＸＹ方向）にガラス母材Ｇを移動させる水平移動機構１１１と、ガラス母材Ｇを中心軸回りに回転させる回転機構１１２と、ガラス母材Ｇ（すなわち、水平移動機構１１１）を線引きの進行に応じて上下動をさせるフィーダー１１３とを備えている。
なお、実施形態において、ガラス母材Ｇの中心軸方向は、光ファイバＧ３の直下ローラー１８０までの走行方向と一致する。

【0018】

線引き炉１２０は、内側にガラス母材Ｇが供給される円筒状の炉心管１２１と、この炉心管１２１を取り囲む発熱体１２２とを備え、発熱体１２２によりガラス母材Ｇを軟化させる加熱領域が形成される。
また、線引き炉１２０には、加熱領域にパージガスを供給するガス供給部１２３が設けられている。

【0019】

ファイバ位置測定器１３０は、光学式の測定器であり、ガラスファイバＧ１の走行方向と交差する測定面におけるガラスファイバＧ１の位置（本実施形態では、ガラスファイバＧ１の走行方向と直交交差する水平面におけるガラスファイバＧ１の位置）を検出する。
そして、このファイバ位置測定器１３０は、図２に示すように、水平面上の第１の方向ＸにおけるガラスファイバＧ１の位置を検出する第１方向測定手段１３１と、水平面上で第１の方向Ｘと直交する第２の方向ＹにおけるガラスファイバＧ１の位置を検出する第２方向測定手段１３２とを有している。

【0020】

第１方向測定手段１３１は、図２に示すように、第２の方向Ｙでレーザー光Ｌを投光および受光するものであり、レーザー光Ｌを発する投光部１３１ａと、この投光部１３１ａより発せられたレーザー光Ｌを受光する受光部１３１ｂとを有している。
第２方向測定手段１３２は、図２に示すように、第１の方向Ｘでレーザー光Ｌを投光および受光するものであり、レーザー光Ｌを発する投光部１３２ａと、この投光部１３２ａより発せられたレーザー光Ｌを受光する受光部１３２ｂとを有している。
したがって、ファイバ位置測定器１３０は、レーザー光Ｌの投光と受光を互いに直交する２方向で行うことで、この２方向（本実施形態では、第１の方向Ｘと、第２の方向Ｙ）で形成される測定面（本実施形態では、水平面）のガラスファイバＧ１の位置を認識することができる。
なお、図２に示すように、ファイバ位置測定器１３０による検出範囲（すなわち、レーザー光Ｌが通過する範囲）は、ガラスファイバＧ１の直径より大きくなっている。

【0021】

さらに、このファイバ位置測定器１３０は、測定面である水平面におけるガラスファイバＧ１の位置の変動を周波数解析することで、水平面におけるガラスファイバＧ１の振動周波数を算出することができる。

【0022】

冷却装置１４０は、液体の冷媒で冷却された冷却筒を備えている。
この冷却筒の内部にはヘリウムガス等の冷却ガスが充填されている。
したがって、ガラスファイバＧ１が冷却筒の内部を通過すると、冷却ガスによってガラスファイバＧ１は冷却される。

【0023】

コントローラー１９０は、母材送りユニット１１０の水平移動機構１１１、回転機構１１２およびフィーダー１１３、ファイバ位置測定器１３０、ファイバ張力測定器１５０、ボビンＢを回転させる不図示のボビン回転機構等が通信可能に接続されている。
そして、このコントローラー１９０は、ファイバ位置測定器１３０が算出したガラスファイバＧ１の水平方向の振動周波数に基づいて母材送りユニット１１０の水平移動機構１１１、回転機構１１２およびフィーダー１１３等を制御するガラス母材位置制御手段１９１とを有している。

【0024】

＜２．光ファイバ製造装置による光ファイバの製造＞
次に、光ファイバ製造装置１００による光ファイバの製造方法について、図１および図３に基づいて詳しく説明する。
図３は、本開示の一態様に係る光ファイバの製造工程における異常判定のフローチャートである。

【0025】

＜２．１．光ファイバの製造方法の概説＞
まず、図１を参照しつつ、光ファイバの製造方法について概説する。
光ファイバＧ３を製造するためには、母材送りユニット１１０によりガラス母材Ｇが線引き炉１２０の炉心管１２１内に送られる。
そして、ガラス母材Ｇの下端部分が発熱体１２２による炉心管１２１の加熱により軟化して下方に線引きされると、光ファイバＧ３を構成するガラスファイバＧ１が形成される。
このガラスファイバＧ１は、コア部およびクラッド部を有し、外径が例えば１２５μｍの光導波路となっている。

【0026】

そして、ガラス母材Ｇから線引きされたガラスファイバＧ１の水平面における走行位置がファイバ位置測定器１３０で測定された後、このガラスファイバＧ１が冷却装置１４０を通過することで、ガラスファイバＧ１の表面温度が室温程度まで下げられる。

【0027】

室温程度まで冷却されたガラスファイバＧ１の張力がファイバ張力測定器１５０で測定された後、このガラスファイバＧ１が樹脂コーティングダイス１６０を通過することで、ガラスファイバＧ１の周囲にＵＶ硬化樹脂が塗布されて樹脂塗布済みファイバＧ２となる。
そして、樹脂塗布済みファイバＧ２がＵＶ硬化炉１７０を通過することで、ガラスファイバＧ１の表面に塗布されたＵＶ硬化樹脂はＵＶ硬化炉１７０で紫外線が照射されて硬化し、光ファイバＧ３が生成される。

【0028】

そして、直下ローラー１８０によって走行方向が変更された光ファイバＧ３は、ボビンＢに巻き取られる。

【0029】

＜２．２．異常判定＞
上述した光ファイバＧ３の製造方法で光ファイバを製造すると、ガラスファイバＧ１の走行に伴って、ガラスファイバＧ１は、ガラス母材Ｇの先端Ｐ１と樹脂コーティングダイス１６０の入口Ｐ２とを両端とする区間で水平方向に振動する。
このガラスファイバＧ１の振動の振幅が大きいと、ガラスファイバＧ１が冷却装置１４０の内面に接触してしまう虞があり、ガラスファイバＧ１が冷却装置１４０の内面に接触するとガラスファイバＧ１の品質不良に繋がるため、ガラスファイバＧ１と冷却装置１４０の内面との接触の早期検知は重要となる。
そこで以下、光ファイバＧ３の製造における異常判定、すなわち、ガラスファイバＧ１と冷却装置１４０の内面との接触検知およびその後の処理について説明する。

【0030】

図３に示すように、本開示の光ファイバの製造における異常判定は、振動周波数測定工程Ｓ１１０と、接触判定工程Ｓ１２０と、線引停止工程Ｓ１３０とから構成されている。

【0031】

振動周波数測定工程Ｓ１１０は、光ファイバの製造中において常に実行される工程であり、樹脂コーティングダイス１６０より上流に配置されたファイバ位置測定器１３０を用いてガラスファイバＧ１の走行方向と交差する測定面（本実施形態では水平面）におけるガラスファイバＧ１の面内振動の振動周波数ｆを測定する。

【0032】

接触判定工程Ｓ１２０は、ファイバ位置測定器１３０の測定したガラスファイバＧ１の振動周波数ｆに基づいてガラスファイバＧ１が冷却装置１４０に接触したか否かを判定する。
具体的には、接触判定工程Ｓ１２０では、ファイバ位置測定器１３０の測定したガラスファイバＧ１の振動周波数ｆが所定範囲に収まっているか否かを判定する。

【0033】

ここで、ガラスファイバＧ１が冷却装置１４０に接触していないと判定する根拠となる、ガラスファイバＧ１の振動周波数の所定範囲について説明する。
ガラスファイバＧ１が冷却装置１４０に接触していない場合、ガラスファイバＧ１の固有振動数Ｆｎ［Ｈｚ］は次のようになる。

【数1】

なお、Ｈ［ｍ］はガラス母材Ｇの先端Ｐ１と樹脂コーティングダイス１６０の入口Ｐ２との間の距離であり、Ｓ［Ｎ］はファイバ張力測定器１５０が測定したガラスファイバＧ１の張力、ρ［ｋｇ／ｍ］はガラスファイバＧ１の線密度であり、ＡはガラスファイバＧ１の線速に応じた係数である。
また、ｎ＝１のときを「基本振動」、ｎ＝２・・・のときを「ｎ倍振動」と称することから、ｎ＝１におけるガラスファイバＧ１の固有振動数Ｆ１は「基本振動におけるガラスファイバＧ１の固有振動数」であり、ｎ＝２・・・におけるガラスファイバＧ１の固有振動数Ｆｎは「ｎ倍振動におけるガラスファイバＧ１の固有振動数」と称する。

【0034】

そして、ガラスファイバＧ１が冷却装置１４０に接触していないと判定する根拠となるガラスファイバＧ１の振動周波数の所定範囲は、上記数１により算出されるガラスファイバＧ１の固有振動数Ｆｎに所定の誤差範囲を加えた範囲となる。

【0035】

接触判定工程Ｓ１２０において、ガラスファイバＧ１の振動周波数ｆが所定範囲に収まっている場合、ガラスファイバＧ１が冷却装置１４０に接触していないと判定し、光ファイバの製造を続行する。
接触判定工程Ｓ１２０において、ガラスファイバＧ１の振動周波数ｆが所定範囲から外れている場合、ガラスファイバＧ１が冷却装置１４０に接触していると判定し、コントローラー１９０はガラスファイバＧ１の線引きを停止する線引停止工程Ｓ１３０を実行する。

【0036】

線引停止工程Ｓ１３０では、ガラス母材位置制御手段１９１により母材送りユニット１１０を制御するか、コントローラー１９０が不図示のボビン回転機構を制御してガラスファイバＧ１の線引きを停止する。

【0037】

このように構成される光ファイバの製造方法によれば、樹脂コーティングダイス１６０より上流に配置されたファイバ位置測定器１３０を用いてガラスファイバＧ１の走行方向と交差する測定面である水平面におけるガラスファイバＧ１の面内振動の振動周波数ｆを測定する振動周波数測定工程Ｓ１１０と、この振動周波数測定工程Ｓ１１０により測定されたガラスファイバＧ１の振動周波数ｆに基づいてガラスファイバＧ１が冷却装置１４０に接触したか否かを判定する接触判定工程Ｓ１２０とを備えていることにより、ガラスファイバＧ１の弦振動による冷却装置１４０への接触がガラスファイバＧ１の振動周波数ｆに基づいて判定されるため、水平面におけるガラスファイバＧ１の位置に基づいてガラスファイバＧ１の冷却装置１４０への接触を判定する場合に比べてガラスファイバＧ１の弦振動による冷却装置１４０への接触を素早く検出することができる。

【0038】

さらに、接触判定工程Ｓ１２０において、ガラスファイバＧ１の振動周波数ｆが所定範囲から外れている場合にガラスファイバＧ１が冷却装置１４０に接触したと判定することにより、水平面におけるガラスファイバＧ１の位置変動を周波数解析するだけでガラスファイバＧ１の冷却装置１４０への接触の有無が判定されるため、ガラスファイバＧ１の冷却装置１４０への接触の有無の判定を簡単に行うことができる。

【0039】

また、接触判定工程Ｓ１２０において、所定範囲がファイバ張力測定器１５０の測定したガラスファイバＧ１の張力に基づいて算出されることにより、ガラスファイバＧ１が冷却装置１４０に接触しているか否かを判定するための根拠となるガラスファイバＧ１の振動周波数ｆの範囲が線引きされているガラスファイバＧ１の状態に基づいて算出されるため、ガラスファイバＧ１の冷却装置１４０への接触の有無の判定をより正確に行うことができる。

【0040】

さらに、接触判定工程Ｓ１２０によってガラスファイバＧ１が冷却装置１４０に接触していると判定された場合にガラスファイバＧ１の線引きを停止する線引停止工程Ｓ１３０をさらに備えることにより、ガラスファイバＧ１の弦振動による冷却装置１４０への接触に基づいてガラスファイバＧ１の線引きが停止されるため、光ファイバＧ３の品質不良を抑制することができる。

【0041】

［変形例］
以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明は上記に限定されるものではない。
また、前述した実施形態が備える各要素は技術的に可能である限り組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。

【0042】

例えば、上述した光ファイバ製造装置１００のファイバ位置測定器１３０における測定面は水平面であったが、光ファイバ製造装置のファイバ位置測定器における測定面は水平面に限ったものではなく、ガラスファイバの走行方向と交差していれば、傾斜面であってもよい。

【0043】

例えば、上述した光ファイバ製造装置１００のファイバ位置測定器１３０は、レーザー光の投光と受光とを２方向で行っていたが、レーザー光の投光と受光を１方向のみで行って光ファイバの水平面上の位置を測定してもよい。
この場合のレーザー投受光方向の位置の把握は、例えば、レーザー光の焦点を測定領域の中心からずらした状態で投光して得たファイバに遮られた領域を含む受光プロファイルから、ガラスファイバのエッジ部分の受光強度の傾きを求め、予め求めておいたエッジ部分の受光強度の傾きとレーザー投受光方向のファイバ位置との相関関係から、エッジ部分の受光強度の傾きをレーザー投受光方向のファイバ位置に換算して求める方法が挙げられる。

【0044】

例えば、上述した光ファイバ製造装置１００においては、ファイバ位置測定器１３０がガラスファイバの面内振動の振動周波数を測定していたが、コントローラー１９０がファイバ位置測定器１３０の検出した測定面におけるガラスファイバＧ１の位置の変動を周波数解析してもよい。

【0045】

例えば、上述した光ファイバの製造方法においては、接触判定工程Ｓ１２０によってガラスファイバＧ１が冷却装置１４０に接触していると判定された場合に、線引停止工程Ｓ１３０を実行していたが、接触判定工程Ｓ１２０によってガラスファイバＧ１が冷却装置１４０に接触していると判定された場合に、光ファイバＧ３の線引きを停止せず、判定された時点における線引き開始からのガラスファイバＧ１の長さを記録しておき、線引き後の工程で、接触していると判定された部分を除去してもよい。

【符号の説明】

【0046】

１００ ・・・ 光ファイバ製造装置
１１０ ・・・ 母材送りユニット
１１１ ・・・ 水平移動機構
１１２ ・・・ 回転機構
１１３ ・・・ フィーダー
１２０ ・・・ 線引き炉
１２１ ・・・ 炉心管
１２２ ・・・ 発熱体
１２３ ・・・ ガス供給部
１３０ ・・・ ファイバ位置測定器
１３１ ・・・ 第１方向測定手段
１３１ａ・・・ 第１方向投光部
１３１ｂ・・・ 第１方向受光部
１３２ ・・・ 第２方向測定手段
１３２ａ・・・ 第２方向投光部
１３２ｂ・・・ 第２方向受光部
１４０ ・・・ 冷却装置
１５０ ・・・ ファイバ張力測定器
１６０ ・・・ 樹脂コーティングダイス
１７０ ・・・ ＵＶ硬化炉
１８０ ・・・ 直下ローラー
１９０ ・・・ コントローラー
１９１ ・・・ 振動周波数算出手段
１９２ ・・・ ガラス母材位置制御手段

Ｂ ・・・ ボビン
Ｇ ・・・ ガラス母材
Ｇｄ ・・・ ダミー棒
Ｇ１ ・・・ ガラスファイバ
Ｇ２ ・・・ 樹脂塗布済みファイバ
Ｇ３ ・・・ 光ファイバ
Ｐ１ ・・・ ガラス母材の先端（紡糸開始点）
Ｐ２ ・・・ 樹脂コーティングダイスの入口

Ｘ ・・・ 第１の方向
Ｙ ・・・ 第２の方向
Ｌ ・・・ レーザー光

【図1】

【図2】

【図3】