特開 2024-27394 蒸着マスクのためのマスクフレーム、マスクアセンブリ及び蒸着方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024027394

(43)【公開日】2024-03-01

(54)【発明の名称】蒸着マスクのためのマスクフレーム、マスクアセンブリ及び蒸着方法

(51)【国際特許分類】

   C23C 14/04 20060101AFI20240222BHJP

   C23C 14/24 20060101ALI20240222BHJP

   H05B 33/10 20060101ALI20240222BHJP

   H10K 50/10 20230101ALI20240222BHJP

【ＦＩ】

C23C14/04 A

C23C14/24 G

H05B33/10

H05B33/14 A

【審査請求】未請求

【請求項の数】9

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022130161

(22)【出願日】2022-08-17

(71)【出願人】

【識別番号】500171707

【氏名又は名称】株式会社ブイ・テクノロジー

(74)【代理人】

【識別番号】110003708

【氏名又は名称】弁理士法人鈴榮特許綜合事務所

(74)【代理人】

【識別番号】100108855

【弁理士】

【氏名又は名称】蔵田 昌俊

(74)【代理人】

【識別番号】100179062

【弁理士】

【氏名又は名称】井上 正

(74)【代理人】

【識別番号】100153051

【弁理士】

【氏名又は名称】河野 直樹

(74)【代理人】

【識別番号】100199565

【弁理士】

【氏名又は名称】飯野 茂

(74)【代理人】

【識別番号】100162570

【弁理士】

【氏名又は名称】金子 早苗

(72)【発明者】

【氏名】杉本 重人

(72)【発明者】

【氏名】小松 伸壽

(72)【発明者】

【氏名】田坂 知樹

【テーマコード（参考）】

3K107

4K029

【Ｆターム（参考）】

3K107AA01

3K107BB01

3K107CC45

3K107FF15

3K107GG04

3K107GG33

3K107GG54

4K029AA09

4K029AA24

4K029BA62

4K029BB03

4K029BC07

4K029BD01

4K029CA01

4K029DB06

4K029HA02

4K029HA03

4K029HA04

(57)【要約】

【課題】特に縦型蒸着方式で用いられる蒸着マスクのためのマスクフレームであって、蒸着マスクへのアライメントのずれの影響が抑制される蒸着マスクのためのマスクフレーム及びそれを備えたマスクアセンブリ並びにそれを用いた蒸着方法を提供する。
【解決手段】蒸着マスクのためのマスクフレームは、蒸着マスクを保持するように構成されたフレーム本体を備える。フレーム本体の少なくとも一部には、凹部が設けられている。凹部には、蒸着マスクが保持される第１の面と平行なフレーム本体の幅方向に延びた第１のリブと、第１のリブから斜め方向に延びた第２のリブとが形成されている。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

蒸着マスクを保持するように構成されたフレーム本体を備え、
前記フレーム本体の少なくとも一部には凹部が設けられ、
前記凹部には、前記蒸着マスクが保持される第１の面と平行な前記フレーム本体の幅方向に延びた第１のリブと、前記第１のリブから斜め方向に延びた第２のリブとが形成されている、
蒸着マスクのためのマスクフレーム。

【請求項2】

前記凹部は、前記フレーム本体の前記第１の面の側に形成される、
請求項１に記載のマスクフレーム。

【請求項3】

前記凹部は、前記フレーム本体の前記第１の面と逆側の第２の面の側に形成される、
請求項１に記載のマスクフレーム。

【請求項4】

前記フレーム本体は、矩形状をしており、
前記フレーム本体の第１の辺と、前記第１の辺と平行な第２の辺と、の前記幅方向の長さが異なる、
請求項１に記載のマスクフレーム。

【請求項5】

前記フレーム本体は、矩形状をしており、
前記フレーム本体の第１の辺と、前記第１の辺と平行な第２の辺と、の厚さが異なる、
請求項１に記載のマスクフレーム。

【請求項6】

前記フレーム本体は、複数のサブマスクを保持するように構成され、
前記第１のリブは、複数の前記サブマスクの境界部に対応して形成される、
請求項１に記載のマスクフレーム。

【請求項7】

前記フレーム本体は、低膨張Ｆｅ－Ｎｉ合金又は低膨張高Ｎｉ鋳鉄によって形成されている、
請求項１に記載のマスクフレーム。

【請求項8】

請求項１乃至請求項７の何れか１項記載のマスクフレームと、
前記マスクフレームに固定され、蒸着パターンに対応する開口を有する蒸着マスクと、
を備える、
マスクアセンブリ。

【請求項9】

請求項８に記載のマスクアセンブリを用いて、被蒸着基板に前記蒸着パターンを形成することを備える、
蒸着方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

実施形態は、蒸着マスクのためのマスクフレーム及びそれを備えたマスクアセンブリ並びにそれを用いた蒸着方法に関する。

【背景技術】

【0002】

有機ＥＬ（electro-luminescence）ディスプレイの製造工程の１つである真空蒸着工程では、有機物等の蒸着物質を蒸着させる際に蒸着マスクが使用される。蒸着マスクのずれは、成膜位置のずれにつながる。したがって、通常、蒸着マスクは、マスクフレームによって保持された状態で使用される。ここで、プロセス温度によってはマスクフレーム及び蒸着マスクが熱膨張を起こし、これによってアライメントのずれ及びサイズのずれが生じることがある。したがって、マスクフレームは、熱膨張率の小さい材料によって製造される。また、同時に蒸着マスクの変形防止策として、蒸着マスクを架張してマスクフレームに溶接固定する方法が用いられている。この場合、マスクフレームには、蒸着マスクの架張時の引っ張り力に耐えうる剛性が求められる。このような剛性を得るために、マスクフレームは、幅広、かつ、厚肉となる。したがって、マスクフレームは、通常、高重量である。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１４－１９４０６２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

近年、有機ＥＬディスプレイに用いられるガラス基板の大型化に伴い、蒸着マスクを縦型に配置して蒸着を行う縦型蒸着方式が用いられるようになってきている。縦型蒸着方式は、横型蒸着方式と異なり、蒸着マスクの自重たわみによるアライメントのずれはキャンセルされる。一方で、蒸着マスクを保持しているマスクフレームの自重たわみによるマスクフレームの変形によって蒸着マスクにおけるアライメントのずれが発生することがある。

【0005】

実施形態は、特に縦型蒸着方式で用いられる蒸着マスクのためのマスクフレームであって、蒸着マスクへのアライメントのずれの影響が抑制される蒸着マスクのためのマスクフレーム及びそれを備えたマスクアセンブリ並びにそれを用いた蒸着方法を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0006】

一態様の蒸着マスクのためのマスクフレームは、蒸着マスクを保持するように構成されたフレーム本体を備える。フレーム本体の少なくとも一部には、凹部が設けられている。凹部には、蒸着マスクが保持される第１の面と平行なフレーム本体の幅方向に延びた第１のリブと、第１のリブから斜め方向に延びた第２のリブとが形成されている。

【発明の効果】

【0007】

実施形態は、特に縦型蒸着方式で用いられる蒸着マスクのためのマスクフレームであって、蒸着マスクへのアライメントのずれの影響が抑制される蒸着マスクのためのマスクフレーム及びそれを備えたマスクアセンブリ並びにそれを用いた蒸着方法を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】図１は、実施形態に係るマスクフレームに蒸着マスクが保持された、マスクアセンブリの構成を示す図である。

【図2】図２は、図１の（Ａ）のフレーム本体の下部の部分であるＩＩ－ＩＩ線断面図である。

【図3】図３は、実施形態に係るマスクアセンブリを用いた蒸着処理を示す模式図である。

【図4A】図４Ａは、本実施形態に係るマスクフレームの効果を示す模式図である。

【図4B】図４Ｂは、本実施形態に係るマスクフレームの効果を示す模式図である。

【図5】図５は、変形例１の凹部の構成を示す断面図である。

【図6】図６は、接合面の側と逆側から見た変形例２のマスクアセンブリの構成を示す平面図である。

【図7】図７は、変形例３の凹部の構成を示す断面図である。

【図8】図８は、接合面の側と逆側から見た変形例４のマスクアセンブリの第１の構成を示す平面図である。

【図9】図９は、変形例４のマスクアセンブリの第２の構成を示す側面図である。

【図10】図１０は、接合面の側から見た変形例５のマスクフレームの正面図である。

【図11】図１１は、接合面の側から見た変形例６のマスクアセンブリの第１の構成を示す平面図である。

【図12】図１２は、接合面の側から見た変形例６のマスクアセンブリの第２の構成を示す平面図である。

【図13】図１３は、接合面の側から見た変形例７のマスクアセンブリの第１の構成を示す平面図である。

【図14】図１４は、接合面の側から見た変形例７のマスクアセンブリの第２の構成を示す平面図である。

【発明を実施するための形態】

【0009】

１． 実施形態
実施形態に係るマスクフレームについて説明する。実施形態に係るマスクフレームは、有機ＥＬパネルの製造工程において被蒸着基板に蒸着パターンを形成するために使用される蒸着マスクを保持するためのフレームである。蒸着マスクと接合されることによって、被蒸着基板に対する蒸着マスクの正確な位置決めを行えるようにする。

【0010】

なお、有機ＥＬパネルの表示方式としては、各々が独立に蒸着された赤、青、緑の３原色の有機ＥＬ層を個別に発光させて有色表示する方式と、一面に蒸着された白色の有機ＥＬ層の白色発光を、カラーフィルタを介して有色表示する方式と、があり得る。実施形態に係るマスクフレームは、上述したいずれの表示方式の有機ＥＬパネルの製造工程においても、適用可能である。一方で、実施形態は、より正確な位置決めが求められる、赤、青、緑等の有機ＥＬ層を個別に発光させて有色表示する方式の有機ＥＬパネルの製造工程に用いられるのが、好ましい。

【0011】

１．１ 構成
まず、実施形態に係るマスクフレーム及びそれを備えたマスクアセンブリの構成について説明する。マスクアセンブリは、蒸着マスクが接合された状態のマスクフレームである。

【0012】

１．１．２ マスクアセンブリ
図１は、実施形態に係るマスクフレームに蒸着マスクが保持された、マスクアセンブリの構成を示す図である。図１の左部（図１の（Ａ））には、マスクアセンブリの平面図が示される。図１の（Ａ）の平面図は、を蒸着マスクとマスクフレームとの接合面の側からマスクフレームを見た平面図である。また、図１の右部（図１の（Ｂ））には、マスクアセンブリの長辺側の側面図が示される。

【0013】

マスクアセンブリ１０は、蒸着マスク３０がマスクフレーム５０に架張された状態で接合されることによって構成される。ここで、蒸着マスク３０とマスクフレーム５０との接合は、例えば溶接によって行われる。後で説明するようにマスクアセンブリ１０は、例えば長辺方向が重力方向と平行になるように縦型に設置される。ここで、以下の説明のためにマスクアセンブリ１０の上側となる短辺部をマスクアセンブリ１０の上部、下側となる短辺部をマスクアセンブリ１０の下部、左右の両側方となる長辺部をマスクアセンブリ１０の側面と定義すると、蒸着マスク３０とマスクフレーム５０とは、例えば上部及び下部において接合される。

【0014】

蒸着は、蒸着マスク３０とマスクフレーム５０との接合面と逆側の面からマスクアセンブリ１０に向けて、すなわち図１の（Ｂ）の矢印Ｖの方向から行われる。前述したように、蒸着マスク３０がマスクフレーム５０に接合されることによって、蒸着の際の蒸着マスクの３０の位置決めが行われ得る。

【0015】

以下、マスクアセンブリ１０を構成する蒸着マスク３０及びマスクフレーム５０についてさらに説明する。

【0016】

１．１．２．１ 蒸着マスク
まず、蒸着マスク３０の構成について説明する。図１の（Ａ）に示すように、蒸着マスク３０は、マスクフレーム５０に形成される開口である内部領域を覆うように固定部としての接合スポット３２において接合される。蒸着マスク３０は、例えば、マスクフレーム５０と同じ矩形状であり、２マイクロメートル～５０マイクロメートル（［μｍ］）程度の厚さを有する。蒸着マスク３０のサイズは、例えば被蒸着基板のサイズに応じて適宜に決められてよい。

【0017】

蒸着マスク３０には、各々が被蒸着基板に蒸着パターンを与えるための複数の開口３１が形成されている。蒸着マスク３０は、金属層に開口３１が形成されることで構成されたメタルマスクであってよい。または、蒸着マスク３０は、金属層と樹脂層が積層され、これらの金属層と樹脂層に開口３１が形成されることで構成されたハイブリッドマスクであってもよい。メタルマスク又はハイブリッドマスクの金属層に使用される材料は、特に限定されない。金属層に使用される材料は、ステンレス鋼、鉄ニッケル合金、アルミニウムといった材料であってよい。特に、鉄とニッケルを主とする合金である低膨張Ｆｅ－Ｎｉ合金、所謂インバー合金は熱膨張率が小さいために熱変形によるアライメントのずれが生じにくく、他の材料より有利となり得る。また、ハイブリッドマスクに使用される樹脂層の材料についても特に限定は無いが、例えば、レーザ加工等によって高精細に開口を形成でき、かつ熱変形に伴う位置ずれを抑制するために小さい熱膨張率及び吸湿率を有する材料が望ましい。このような樹脂層の材料として、例えばポリイミドが用いられる。

【0018】

１．１．２．２ マスクフレーム
次に、マスクフレーム５０の構成について説明する。マスクフレーム５０は、フレーム本体５１を備える。フレーム本体５１は、一体に成型された例えば矩形状の枠である。ここで、フレーム本体５１の各辺に平行な方向の長さは、例えば適用される蒸着マスク３０の寸法＋５０～５００ミリメートル（［ｍｍ］）である。また、フレーム本体５１の接合面に平行で各辺に垂直な方向の長さ、すなわち幅も、例えば適用される蒸着マスク３０の寸法＋５０～５００ミリメートル（［ｍｍ］）でよい。さらに、フレーム本体５１の接合面に垂直な方向の長さ、すなわち厚さは、例えば３０～６０ミリメートルである。

【0019】

フレーム本体５１は、蒸着マスク３０に接合されることにより、薄膜の蒸着マスク３０の変形を抑制する機能を主に担う。したがって、フレーム本体５１の材料には、小さい熱膨張率の材料が用いられることが望ましい。例えば、フレーム本体５１の材料には、前述したインバー合金が用いられ得る。また、フレーム本体５１の材料には、低膨張高Ｎｉ鋳鉄鋳造品、所謂ノビナイト又はニレジストが用いられてもよい。

【0020】

フレーム本体５１は、複数の支持用穴５２を有する。支持用穴５２は、例えば、フレーム本体５１の上部及び下部のそれぞれに２つずつ短辺方向に沿って並ぶように設けられる。マスクアセンブリ１０は、蒸着処理の際に、支持用穴５２を貫通するロッドによって支持される。

【0021】

図１の（Ｂ）に示されるように、フレーム本体５１には、接合面の側から接合面と逆側の面にかけてマスクフレーム５０に形成される開口である内部領域が拡がるように平面状の傾斜面５３が設けられている。傾斜面５３は、シャドーによる蒸着不良の低減のために設けられている。シャドーは、蒸着処理によって高精細なパターンを形成する場合に、厚さを有するフレーム本体５１に対して斜め方向から入射した蒸着物質が遮断されることによって均一な蒸着が阻害される現象のことである。フレーム本体５１に傾斜面５３が形成されていることにより、フレーム本体５１に対して斜め方向から入射した蒸着物質が遮断されることが抑制される。

【0022】

ここで、実施形態においては、フレーム本体５１の接合面の側には、少なくとも１つの凹部５４が形成されている。凹部５４は、少なくともフレーム本体５１の上部に形成され、さらに側面及び下部に形成されてもよい。上部、下部、側面に形成される凹部５４の数は、例えばフレーム本体５１のサイズに応じて適宜に決められてよい。図１の（Ａ）では、上部に８個、下部に８個、右側面に１６個、左側面に１６個の凹部５４が形成されている。フレーム本体５１に凹部５４が形成されることにより、フレーム本体５１が軽量化される。

【0023】

図２は、図１の（Ａ）のフレーム本体５１の下部の部分であるＩＩ－ＩＩ線断面図である。図２に示すように、凹部５４は、例えばフレーム本体５１の接合面の側から形成されたザグリ部である。さらに、凹部５４の傾斜面５３の裏面に位置する部分は、傾斜面５３と平行な平面状の傾斜面５４ｃを有するように加工されている。傾斜面５４ｃを有するように加工されることで、フレーム本体５１の凹部５４における厚さが均一化される。

【0024】

さらに、実施形態においては、図１の（Ａ）に示すように、凹部５４に、第１のリブとしての柱リブ５４ａと、第２のリブとしての筋交リブ５４ｂとが設けられている。

【0025】

柱リブ５４ａは、フレーム本体５１の幅方向に延びるように例えば凹部５４の中央部に形成されたリブである。つまり、柱リブ５４ａは、フレーム本体５１の短辺部、すなわち上部及び下部については、フレーム本体５１の上方向から下方向にかけて延びるように形成されている。同様に、柱リブ５４ａは、フレーム本体５１の長辺部、すなわち左部及び右部については、フレーム本体５１の左方向から右方向にかけて延びるように形成されている。

【0026】

筋交リブ５４ｂは、柱リブ５４ａから凹部５４の端部に向けて斜め方向に延びるように、すなわち筋交構造となるように形成されたリブである。図１の（Ａ）では、凹部５４の中央部に形成された柱リブ５４ａから２つの筋交リブ５４ｂが形成された例が示されている。

【0027】

柱リブ５４ａと筋交リブ５４ｂとが組み合わせられた構造により、後で説明するマスクフレーム５０の自重たわみによるマスクフレーム５０の変形が低減される。これにより、マスクフレーム５０に接合される蒸着マスク３０のアライメントのずれも抑制される。

【0028】

ここで、柱リブ５４ａ及び筋交リブ５４ｂを含む凹部５４の形成方法は、フレーム本体５１に使用される材料に応じて適宜に選択されてよい。例えば、フレーム本体５１に使用される材料がインバー合金である場合には、柱リブ５４ａ及び筋交リブ５４ｂを含む凹部５４は、切削加工によって形成されてよい。また、例えば、フレーム本体５１に使用される材料がノビナイト又はニレジストである場合には、柱リブ５４ａ及び筋交リブ５４ｂを含む凹部５４は、鋳造加工によって形成されてよい。切削加工による凹部５４の形成よりも鋳造加工による凹部５４の形成のほうが低コストで実施される。

【0029】

１．２ 動作
次に、実施形態に係るマスクアセンブリを用いた動作について説明する。

【0030】

１．２．１ 蒸着処理
実施形態に係るマスクアセンブリを用いた蒸着処理について説明する。図３は、実施形態に係るマスクアセンブリを用いた蒸着処理を示す模式図である。図３では、マスクアセンブリ１０（蒸着マスク３０と、マスクフレーム５０）が蒸着室に設置された状態が示されている。図３では示されていないが、蒸着マスク３０と対向するように被蒸着基板が設置される。

【0031】

図３に示すように、蒸着室内には、蒸着源７０が設けられる。蒸着源７０は、内部に収容された蒸着物質を加熱して蒸発させることで、蒸着物質の蒸気７１を放出する機能を有する。蒸着源７０、マスクフレーム５０、蒸着マスク３０、及び被蒸着基板は、蒸着物質の蒸気７１が蒸着源７０から放出される方向に沿って、この順に並ぶ。

【0032】

マスクアセンブリ１０は、蒸着マスク３０の開口３１が、蒸着源７０からの蒸着物質の蒸気７１の放出範囲の最も強度が強い方向（例えば、蒸着源７０に設けられた図示しないノズルの中心軸に沿った方向）に対して垂直となり得るように設置される。具体的には、マスクアセンブリ１０の厚さ方向は、蒸着物質の蒸気７１の放出方向と一致し得る。これにより、被蒸着基板には、開口３１を通過した蒸着物質が蒸着される。

【0033】

前述したように、マスクフレーム５０は、４つの支持用穴５２を用いて縦型に支持される。この場合、重力は、フレーム本体５１の長辺に平行な方向（図３の－Ｑ方向）に沿って働く。

【0034】

蒸着源７０は、例えば、図３の矢印Ａの方向（すなわち、図３の±Ｑ方向）に沿って平行移動しながら、蒸着物質の蒸気７１を被蒸着基板に向かって放出する。これにより、被蒸着基板のサイズが大きい場合であっても、被蒸着基板及びマスクアセンブリ１０を動かすことなく、被蒸着基板の全面に対して蒸着物質が蒸着され得る。ここで、凹部は、フレーム本体における蒸着マスク３０とマスクフレーム５０との接合面の側に形成される。したがって、蒸着物質が凹部に侵入することはない。

【0035】

１．３ 本実施形態に係る効果
本実施形態によれば、マスクフレーム５０のフレーム本体５１の少なくとも一部には、凹部５４が形成される。凹部５４が形成されることにより、フレーム本体５１が軽量化される。フレーム本体５１が軽量化されることにより、フレーム本体５１の自重によるたわみが抑制される。さらに、本実施形態によれば、凹部５４には、柱リブ５４ａと、筋交リブ５４ｂとが形成される。柱リブ５４ａ及び筋交リブ５４ｂが組み合わせられた構造により、フレーム本体５１の自重によるたわみがさらに抑制される。また、柱リブ５４ａ及び筋交リブ５４ｂが組み合わせられた構造により、フレーム本体５１の自重によるたわみだけでなく、蒸着マスク３０がマスクフレーム５０に架張接合されることによる、蒸着マスク３０からの引っ張り応力によるフレーム本体５１のたわみも抑制される。フレーム本体５１の変形が抑制されることにより、蒸着マスク３０のアライメントのずれも抑制される。したがって、蒸着の精度が向上する。

【0036】

図４Ａ及び図４Ｂは、本実施形態に係るマスクフレームの効果を示す模式図であり、蒸着処理においてマスクフレームに生じるたわみの大きさを模式的に示している。ここで、図４Ａは、比較例として柱リブ及び筋交リブを含む凹部が形成されていないマスクフレームに生じる大きさを模式的に示している。一方、図４Ｂは、凹部が形成されているマスクフレームに生じる大きさを模式的に示している。ここで、図４Ａ及び図４Ｂに記載された矢印Ｇは、重力方向を示す。

【0037】

図４Ａと図４Ｂの比較によって示されるように、凹部が形成されていない場合よりも、凹部が形成されている場合のほうが、フレーム本体の短辺部における凸状のたわみ、及び長辺部における凹状のたわみのいずれも低減される。なお、出願人による有限要素法による応力シミュレーションでは、凹部が形成されていない場合のフレーム本体の最大変形量に対して凹部が形成されている場合のフレーム本体の最大変形量が約５５％低減されたことが確認されている。

【0038】

近年、有機ＥＬディスプレイに用いられる被蒸着基板が大型化している。これに伴って蒸着マスク及びマスクフレームも大型化の傾向にある。蒸着マスクの大型化により、従来のマスクアセンブリを横に配置して蒸着を実施する横型蒸着方式では、蒸着マスクの自重たわみによるアライメントのずれが生じてしまう。そこで、近年、大型の有機ＥＬディスプレイの製造には、マスクアセンブリを縦に配置して蒸着を実施する縦型蒸着方式が用いられている。縦型蒸着方式では蒸着マスクの自重たわみの影響はキャンセルされる。一方で、縦型蒸着方式ではマスクフレームの自重たわみによる変形がアライメントのずれに影響する。本実施形態では、凹部の数を増やすこと等によって、マスクフレームが大型化されても過度のマスクフレームの高重量化が抑制される。したがって、本実施形態の技術は、例えばＧ８．５Ｈａｌｆ以上といった大型の被蒸着基板を縦型蒸着方式で蒸着する場合に特に有効である。

【0039】

２． 変形例
以下、実施形態の各種の変形例を説明する。

【0040】

２．１ 変形例１
前述の実施形態では、図１の（Ａ）に示されるように、凹部５４は、フレーム本体５１の接合面の側、すなわち蒸着処理の際に蒸着源７０と面する側と逆側に形成される。このため、蒸着処理の際に蒸着物質が凹部５４に侵入することはない。一方で、図５に示されるように、凹部５４は、接合面と逆側、すなわち蒸着処理の際に蒸着源７０と面する側に形成されてもよい。この場合、蒸着処理の際に凹部５４に蒸着物質が侵入してしまう可能性が生じるので、凹部５４は、防汚板５４ｄによって塞がれていてもよい。防汚板５４ｄは、フレーム本体５１と同じ材料で形成されてよい。

【0041】

２．２ 変形例２
実施形態では、フレーム本体５１の変形が抑制されるように、フレーム本体５１に柱リブ５４ａ及び筋交リブ５４ｂが組み合わせられた構造を有する凹部５４が設けられている。フレーム本体５１の変形がさらに抑制されるように、図６に示すようにフレーム本体５１に補強部材５５が設けられてもよい。図６は、接合面と逆側から見た変形例２のマスクアセンブリの構成を示す平面図である。図６に示すように、補強部材５５は、フレーム本体５１の内部領域を横切るように、例えば重力方向に沿ってフレーム本体５１に取り付けられる。補強部材５５は、フレーム本体５１と同じ材料で形成されてよい。また、図６では、補強部材５５は、フレーム本体５１と別体で示されている。補強部材５５は、フレーム本体５１と一体で形成されてもよい。

【0042】

２．３ 変形例３
実施形態では、図２に示したように、凹部５４の傾斜面５３の裏面に位置する部分は、傾斜面５３と平行な平面状の傾斜面５４ｃを有するように加工されているものとされている。これに対し、傾斜面５４ｃは、必ずしも傾斜面５３と平行な傾斜面である必要はない。例えば、図７に示すように、傾斜面５４ｃは、傾斜面５３に倣う形状の曲面状の傾斜面であってもよい。つまり、凹部５４の形状は、特定の形状に限定されない。変形例３では、凹部５４の設計の自由度が増す。

【0043】

２．４ 変形例４
実施形態では、図１の（Ａ）に示されるように、フレーム本体５１の上部、下部、側面の構造が同じであるとされている。しかしながら、フレーム本体５１の上部、下部、側面の構造は、必ずしも同じでなくてよい。

【0044】

図８は、接合面と逆側から見た変形例４のマスクアセンブリの第１の構成を示す平面図である。図８では、マスクアセンブリ１０の下部は、予め定められた基準面Ｂに固定設置されている。この場合、フレーム本体５１の下部は、自重たわみによる変形を生じにくい。このような状態では、フレーム本体５１の下部の幅を上部の幅よりも短くし得る。フレーム本体５１の上部の幅及び下部の幅は、それぞれに生じる自重たわみによる変形量に応じて設定されてよい。

【0045】

また、フレーム本体５１の下部が基準面Ｂに固定設置されている場合には、フレーム本体５１の下部には凹部が設けられていなくてもよい。また、蒸着マスク３０の架張時の引っ張り力が小さいとみなせる場合には、フレーム本体５１の側面の凹部も省略され得る。

【0046】

図９は、変形例４のマスクアセンブリの第２の構成を示す側面図である。図９でも、マスクアセンブリ１０の下部は、予め定められた基準面Ｂに固定設置されている。第１の構成では、フレーム本体５１の上部の幅と下部の幅を異ならせる例が示されている。幅を異ならせるのに限らず、図９に示すように、フレーム本体５１の上部の厚さと下部の厚さとが異なっていてもよい。さらには、フレーム本体５１の側面の厚さも上部の厚さ及び下部の厚さと異なっていてもよい。フレーム本体５１の上部の厚さ、下部の厚さ及び側面の厚さは、それぞれに生じる自重たわみによる変形量に応じて設定されてよい。

【0047】

変形例４のように、フレーム本体５１の各部分に生じ得る変形量に応じて幅及び／又は厚さを異ならせることにより、フレーム本体５１の重量増を抑えつつ、変形も抑制され得る。

【0048】

２．５ 変形例５
前述した実施形態では、マスクフレームには、隙間なく凹部が形成されている。しかしながら、凹部は必ずしも隙間なく形成される必要はない。図１０は、接合面の側から見た変形例５のマスクフレームの正面図である。図１０に示すように、マスクフレーム５０のフレーム本体５１は、凹部５４が形成されない部分５６を有していてもよい。凹部５４が形成されない部分５６の位置は、フレーム本体５１の各部分に生じ得る変形量に応じて適宜に設定されてよい。

【0049】

凹部５４が形成されない部分５６は、凹部５４が形成される部分よりも高重量である。一方で、凹部５４が形成されない部分５６の強度は、凹部５４の強度よりも高い。図１０に示すように、凹部５４が形成される部分と凹部５４が形成されない部分５６とが設けられることにより、フレーム本体５１の軽量化と強度のバランスが図られ得る。

【0050】

２．６ 変形例６
前述した実施形態では、マスクフレーム５０に接合される蒸着マスク３０は１つであるとされている。蒸着マスクとしては、複数のサブマスクに分けられているものもある。実施形態の技術は、蒸着マスクが複数のサブマスクに分けられていても適用され得る。

【0051】

図１１は、接合面の側から見た変形例６のマスクアセンブリの第１の構成を示す平面図である。図１１に示されるように、変形例６では、蒸着マスク３０は、複数のサブマスク３０ａによって構成される。サブマスク３０ａは、それぞれが開口３１を有して蒸着マスクを形成している。第１の構成では、サブマスク３０ａは、それぞれ、重力方向と平行な方向に長辺を有するように接合スポット３２においてマスクフレーム５０に接合される。

【0052】

ここで、蒸着マスク３０が複数のサブマスク３０ａによって構成される場合、柱リブ５４ａは、それぞれのサブマスク３０ａの接合スポット３２に対応して形成されることが望ましい。これは、マスクフレーム５０がそれぞれのサブマスク３０ａから受ける引っ張り力は、それぞれのサブマスク３０ａの接合スポット３２において大きくなるためである。柱リブ５４ａがサブマスク３０ａのそれぞれの接合スポット３２に対応して形成されることにより、マスクフレーム５０は、それぞれのサブマスク３０ａからの引っ張り力に対する抵抗力を効率よく増すことができる。

【0053】

図１２は、接合面の側から見た変形例６のマスクアセンブリの第２の構成を示す平面図である。図１２に示されるように、変形例６では、蒸着マスク３０は、複数のサブマスク３０ａによって構成される。サブマスク３０ａは、それぞれが開口３１を有して蒸着マスクを形成している。第２の構成では、サブマスク３０ａは、それぞれ、重力方向と直交する方向に長辺を有するように接合スポット３２においてマスクフレーム５０に接合される。

【0054】

ここで、第２の構成では、柱リブ５４ａは、それぞれのサブマスク３０ａの境界３０ｂに対応して形成されることが望ましい。これは、マスクフレーム５０がそれぞれのサブマスク３０ａから受ける引っ張り力は、それぞれのサブマスク３０ａの境界３０ｂにおいて大きくなるためである。つまり、サブマスク３０ａの境界３０ｂでは、サブマスク３０ａの長辺方向に、フレーム本体の反対側まで材料が連続しているため、架張力がかかりやすい。柱リブ５４ａがサブマスク３０ａの境界３０ｂに対応して形成されることにより、マスクフレーム５０は、それぞれのサブマスク３０ａからの引っ張り力に対する抵抗力を効率よく増すことができる。

【0055】

このように変形例６では、蒸着マスク３０が複数のサブマスク３０ａで構成される場合であってもそれぞれのサブマスクからの引っ張り力による変形が生じにくいマスクフレームが提供され得る。

【0056】

２．７ 変形例７
前述した実施形態では、凹部５４には、柱リブ５４ａと、筋交リブ５４ｂとが形成されるとされている。凹部５４に形成されるリブの構成は適宜に変更され得る。

【0057】

図１３は、接合面の側から見た変形例７のマスクアセンブリの第１の構成を示す平面図である。第１の構成では、凹部５４には、柱リブ５４ａと、筋交リブ５４ｂに加えて第３のリブとしての梁リブ５４ｅが形成される。梁リブ５４ｅは、柱リブ５４ａと直交するように形成されるリブである。梁リブ５４ｅが形成されることによって、マスクフレーム５０は、蒸着マスク３０からの引っ張り力に対するさらに強い抵抗力を得ることができる。図１３では、フレーム本体５１の上部にだけ梁リブ５４ｅが形成されている。梁リブ５４ｅは、フレーム本体５１の下部、側面に形成されてもよい。

【0058】

図１４は、接合面の側から見た変形例７のマスクアセンブリの第２の構成を示す平面図である。第２の構成では、凹部５４には、柱リブ５４ａと、筋交リブ５４ｂに加えて筋交リブ５４ｂと交差する第４のリブとしての筋交リブ５４ｆが形成される。筋交リブ５４ｆが形成されることでも、マスクフレーム５０は、蒸着マスク３０からの引っ張り力に対するさらに強い抵抗力を得ることができる。図１４では、フレーム本体５１の上部にだけ筋交リブ５４ｆが形成されている。筋交リブ５４ｆは、フレーム本体５１の下部、側面に形成されてもよい。

【0059】

このような変形例７で示されるように、凹部５４に形成されるリブの構造は種々の変形が可能である。つまり、リブの構造の自由度は高い。

【0060】

３．その他の変形例
前述した実施形態及び変形例では、フレーム本体５１は一体に成型されることが前提となっている。しかしながら、フレーム本体５１は、複数のフレーム材を組み合わせることによって形成されてもよい。例えば、フレーム本体５１は、フレーム本体５１の上部を構成する上部フレーム材と、下部を構成する下部フレーム材と、側面を構成する側面フレーム材とを組み合わせることによって形成されてもよい。この場合、リブ構造を含む凹部は、それぞれのフレーム材に対して個別に形成され得る。

【0061】

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。また、各実施形態は適宜組み合わせて実施してもよく、その場合組み合わせた効果が得られる。更に、上記実施形態には種々の発明が含まれており、開示される複数の構成要件から選択された組み合わせにより種々の発明が抽出され得る。例えば、実施形態に示される全構成要件からいくつかの構成要件が削除されても、課題が解決でき、効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出され得る。

【符号の説明】

【0062】

１０…マスクアセンブリ、３０…蒸着マスク、３０ａ…サブマスク、３１…開口、３２…溶接スポット、５０…マスクフレーム、５１…フレーム本体、５２…支持用穴、５３…傾斜面、５４…凹部、５４ａ…柱リブ、５４ｂ…筋交リブ、５４ｄ…防汚板、５４ｅ…梁リブ、５４ｆ…筋交リブ、５５…補強部材、７０…蒸着源、７１…蒸気。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4A】

【図4B】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】