(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024028099
(43)【公開日】2024-03-01
(54)【発明の名称】イメージセンサー
(51)【国際特許分類】
H01L 27/146 20060101AFI20240222BHJP
【FI】
H01L27/146 D
【審査請求】未請求
【請求項の数】20
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2023068545
(22)【出願日】2023-04-19
(31)【優先権主張番号】10-2022-0104084
(32)【優先日】2022-08-19
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(71)【出願人】
【識別番号】390019839
【氏名又は名称】三星電子株式会社
【氏名又は名称原語表記】Samsung Electronics Co.,Ltd.
【住所又は居所原語表記】129,Samsung-ro,Yeongtong-gu,Suwon-si,Gyeonggi-do,Republic of Korea
(74)【代理人】
【識別番号】110000051
【氏名又は名称】弁理士法人共生国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】任 周 娟
(72)【発明者】
【氏名】金 成 寛
(72)【発明者】
【氏名】李 準 澤
(72)【発明者】
【氏名】金 杜 鎭
(72)【発明者】
【氏名】鄭 ミン 旭
【テーマコード(参考)】
4M118
【Fターム(参考)】
4M118AA01
4M118AB01
4M118BA14
4M118CA04
4M118CA07
4M118CA09
4M118CA22
4M118CA34
4M118CB13
4M118DD04
4M118FA06
4M118FA28
4M118FA38
4M118GA02
4M118GB03
4M118GB09
4M118GB11
4M118GB17
4M118GC08
4M118GC14
4M118GD04
4M118GD07
4M118HA02
4M118HA25
4M118HA30
(57)【要約】
【課題】感度を向上させたイメージセンサーを提供する。
【解決手段】本発明のイメージセンサーは、ピクセルアレイ領域及びピクセルアレイピクセル領域を囲むオプティカルブラック領域を含む基板と、ピクセルアレイ領域上に提供されるマイクロレンズと、オプティカルブラック領域上に提供されるダミーレンズと、オプティカルブラック領域上に提供されるブロッキングバーと、を備え、ブロッキングバーの長さは、マイクロレンズの長さ及びダミーレンズの長さよりも長く、ブロッキングバーの上面は、曲がっている。
【選択図】
図3A
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ピクセルアレイ領域及び前記ピクセルアレイ領域を囲むオプティカルブラック領域を含む基板と、
前記ピクセルアレイ領域上に提供されるマイクロレンズと、
前記オプティカルブラック領域上に提供されるダミーレンズと、
前記オプティカルブラック領域上に提供されるブロッキングバーと、を備え、
前記ブロッキングバーの長さは、前記マイクロレンズの長さ及び前記ダミーレンズの長さよりも長く、
前記ブロッキングバーの上面は、曲がっていることを特徴とするイメージセンサー。
【請求項2】
前記ブロッキングバーは、前記マイクロレンズを囲むことを特徴とする請求項1に記載のイメージセンサー。
【請求項3】
前記ブロッキングバーは、前記マイクロレンズを囲む第1ブロッキングバー及び前記第1ブロッキングバーを囲む第2ブロッキングバーを含むことを特徴とする請求項2に記載のイメージセンサー。
【請求項4】
前記ダミーレンズは、前記第1ブロッキングバーによって囲まれる第1ダミーレンズ、及び第1ブロッキングバーと第2ブロッキングバーとの間に配置される第2ダミーレンズを含むことを特徴とする請求項3に記載のイメージセンサー。
【請求項5】
前記ブロッキングバーの上面の曲率半径は、前記マイクロレンズの上面の曲率半径と同一であることを特徴とする請求項1に記載のイメージセンサー。
【請求項6】
前記ブロッキングバーの幅は、前記マイクロレンズの幅と同一であることを特徴とする請求項1に記載のイメージセンサー。
【請求項7】
前記ブロッキングバーは、第1方向に延長される複数のブロッキングバーを含み、
前記ブロッキングバーは、前記第1方向に配列されることを特徴とする請求項1に記載のイメージセンサー。
【請求項8】
前記ブロッキングバーは、第1ブロッキングバー及び前記第1ブロッキングバーよりも前記マイクロレンズに対して遠くに配置される第2ブロッキングバーを含み、
前記第1ブロッキングバーは、第1方向に配列され、
前記第2ブロッキングバーは、前記第1方向に配列されることを特徴とする請求項1に記載のイメージセンサー。
【請求項9】
前記第1ブロッキングバーの間には、ギャップが定義され、
前記第1ブロッキングバーの各々の長さは、前記ギャップの各々の長さよりも大きいことを特徴とする請求項8に記載のイメージセンサー。
【請求項10】
前記ブロッキングバーの最上部のレベルは、前記マイクロレンズの最上部のレベルと同一であることを特徴とする請求項1に記載のイメージセンサー。
【請求項11】
ピクセルアレイ領域及び前記ピクセルアレイ領域を囲むオプティカルブラック領域を含む基板と、
前記ピクセルアレイ領域上のマイクロレンズと、
前記オプティカルブラック領域上のダミーレンズと、
前記オプティカルブラック領域上のブロッキングバーと、を備え、
前記ブロッキングバーの長さは、前記マイクロレンズの長さ及び前記ダミーレンズの長さよりも長く、
前記ブロッキングバーは、前記マイクロレンズを囲むことを特徴とするイメージセンサー。
【請求項12】
前記マイクロレンズ、前記ダミーレンズ、及び前記ブロッキングバーに連結されるベース部を更に含むことを特徴とする請求項11に記載のイメージセンサー。
【請求項13】
前記ブロッキングバーは、第1ブロッキングバー及び前記第1ブロッキングバーを囲む第2ブロッキングバーを含み、
前記ベース部は、前記第1ブロッキングバーと前記第2ブロッキングバーとを連結するフラット上面を含むことを特徴とする請求項12に記載のイメージセンサー。
【請求項14】
前記ブロッキングバーは、第1方向に延長されるブロッキングバーを含み、
前記ブロッキングバーは、前記第1方向に配列され、
前記ブロッキングバーの間には、ギャップが提供されることを特徴とする請求項11に記載のイメージセンサー。
【請求項15】
前記マイクロレンズ、前記ダミーレンズ、及び前記ブロッキングバーを覆うコーティング膜を更に含むことを特徴とする請求項11に記載のイメージセンサー。
【請求項16】
前記ブロッキングバーの上面は、曲がっていることを特徴とする請求項11に記載のイメージセンサー。
【請求項17】
前記ブロッキングバーの幅は、前記マイクロレンズの幅と同一であることを特徴とする請求項11に記載のイメージセンサー。
【請求項18】
前記ブロッキングバーの幅は、前記マイクロレンズの幅とは異なることを特徴とする請求項11に記載のイメージセンサー。
【請求項19】
ピクセルアレイ領域及び前記ピクセルアレイ領域を囲むオプティカルブラック領域を含む基板と、
前記ピクセルアレイ領域上のカラーフィルターと、
前記オプティカルブラック領域上のブラックバルクフィルタリング膜と、
前記カラーフィルター及び前記ブラックバルクフィルタリング膜上のレンズ膜と、
前記レンズ膜上のコーティング膜と、を備え、
前記レンズ膜は、
ベース部と、
前記ベース部上のマイクロレンズと、
前記ベース部上のダミーレンズと、
前記ベース部上のブロッキングバーと、を含み、
前記ブロッキングバーの長さは、前記マイクロレンズの長さ及び前記ダミーレンズの長さよりも長く、
前記ブロッキングバーは、前記マイクロレンズを囲み、
前記ブロッキングバーの上面は、曲がっていることを特徴とするイメージセンサー。
【請求項20】
前記コーティング膜は、前記マイクロレンズ上の第1部分、前記ダミーレンズ上の第2部分、及び前記ブロッキングバー上の第3部分を含み、
前記コーティング膜の前記第3部分の上面は、曲がっていることを特徴とする請求項19に記載のイメージセンサー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、イメージセンサーに関し、より詳細には、ブロッキングバーを含むイメージセンサーに関する。
【背景技術】
【0002】
イメージセンサーは光学映像(Optical image)を電気的信号に変換する素子である。イメージセンサーはCCD(Charge coupled device)型及びCMOS(Complementary metal oxide semiconductor)型に分類される。CMOS型イメージセンサーはCIS(CMOS image sensor)と略称される。CISは2次元的に配列された複数のピクセルを具備する。ピクセルの各々はフォトダイオード(photodiode:PD)を含む。フォトダイオードは入射する光を電気信号に変換する役割をする。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明は、上記従来技術に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、感度を向上させたイメージセンサーを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0005】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様によるイメージセンサーは、ピクセルアレイ領域及び前記ピクセルアレイ領域を囲むオプティカルブラック領域を含む基板と、前記ピクセルアレイ領域上に提供されるマイクロレンズと、前記オプティカルブラック領域上に提供されるダミーレンズと、前記オプティカルブラック領域上に提供されるブロッキングバーと、を備え、前記ブロッキングバーの長さは、前記マイクロレンズの長さ及び前記ダミーレンズの長さよりも長く、前記ブロッキングバーの上面は、曲がっている。
【0006】
上記目的を達成するためになされた本発明の他の態様によるイメージセンサーは、ピクセルアレイ領域及び前記ピクセルアレイ領域を囲むオプティカルブラック領域を含む基板と、前記ピクセルアレイ領域上のマイクロレンズと、前記オプティカルブラック領域上のダミーレンズと、前記オプティカルブラック領域上のブロッキングバーと、を備え、前記ブロッキングバーの長さは、前記マイクロレンズの長さ及び前記ダミーレンズの長さよりも長く、前記ブロッキングバーは、前記マイクロレンズを囲む。
【0007】
上記目的を達成するためになされた本発明の更に他の態様によるイメージセンサーは、ピクセルアレイ領域及び前記ピクセルアレイ領域を囲むオプティカルブラック領域を含む基板と、前記ピクセルアレイ領域上のカラーフィルターと、前記オプティカルブラック領域上のブラックバルクフィルタリング膜と、前記カラーフィルター及び前記ブラックバルクフィルタリング膜上のレンズ膜と、前記レンズ膜上のコーティング膜と、を備え、前記レンズ膜は、ベース部と、前記ベース部上のマイクロレンズと、前記ベース部上のダミーレンズと、前記ベース部上のブロッキングバーと、を含み、前記ブロッキングバーの長さは、前記マイクロレンズの長さ及び前記ダミーレンズの長さよりも長く、前記ブロッキングバーは、前記マイクロレンズを囲み、前記ブロッキングバーの上面は、曲がっている。
【発明の効果】
【0008】
本発明のイメージセンサーによれば、オプティカルブラック領域上のブロッキングバーを含むことによって、オプティカルブラック領域上に塗布される接着性物質がピクセルアレイ領域に浸透することが防止され、イメージセンサーの感度が低下することを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【
図1】一実施形態によるイメージセンサーを説明するためのブロック図である。
【
図2】一実施形態によるイメージセンサーのアクティブピクセルセンサーアレイの回路図である。
【
図3A】一実施形態によるイメージセンサーの第1例の平面図である。
【
図3E】
図3Aに示すイメージセンサーのレンズ膜を説明するための斜視図である。
【
図4A】一実施形態によるイメージセンサーの第2例の平面図である。
【
図5】一実施形態によるイメージセンサーの第3例の平面図である。
【
図6】一実施形態によるイメージセンサーの第4例の平面図である。
【
図7】一実施形態によるイメージセンサーパッケージの断面図である。
【
図8A】一実施形態によるイメージセンサーの他の例の断面図である。
【
図8B】一実施形態によるイメージセンサーの他の例の断面図である。
【
図9】一実施形態によるイメージセンサーの更に他の例の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、本発明を実施するための形態の具体例を、図面を参照しながら詳細に説明する。
【0011】
図1は、一実施形態によるイメージセンサーを説明するためのブロック図である。
図2は、一実施形態によるイメージセンサーのアクティブピクセルセンサーアレイの回路図である。
【0012】
図1を参照すると、イメージセンサーは、アクティブピクセルセンサーアレイ(Active Pixel Sensor array)1001、行デコーダー(row decoder)1002、行ドライバー(row driver)1003、列デコーダー(column decoder)1004、タイミング発生器(timing generator)1005、相関二重サンプラー(CDS:Correlated Double Sampler)1006、アナログデジタルコンバータ(ADC:Analog to Digital Converter)1007、及び入出力バッファ(I/O buffer)1008を含む。
【0013】
アクティブピクセルセンサーアレイ1001は、2次元的に配列された複数の単位ピクセルを含み、光信号を電気的信号に変換する。アクティブピクセルセンサーアレイ1001は、行ドライバー1003からのピクセル選択信号、リセット信号、及び電荷伝送信号のような複数の駆動信号によって駆動される。また、変換された電気的信号は相関二重サンプラー1006に提供される。
【0014】
行ドライバー1003は、行デコーダー1002でデコーディングされた結果に応じて多数の単位ピクセルを駆動するための多数の駆動信号をアクティブピクセルセンサーアレイ1001に提供する。単位ピクセルが行列形状に配列された場合には各行別に駆動信号が提供される。
【0015】
タイミング発生器1005は行デコーダー1002及び列デコーダー1004にタイミング(timing)信号及び制御信号を提供する。
【0016】
相関二重サンプラー(CDS)1006はアクティブピクセルセンサーアレイ1001で生成された電気信号を受信してホールド(hold)及びサンプリングする。相関二重サンプラー1006は、特定の雑音レベル(noise level)及び電気的信号による信号レベルを二重にサンプリングして、雑音レベルと信号レベルとの差分に該当する差分レベルを出力する。
【0017】
アナログデジタルコンバータ(ADC)1007は相関二重サンプラー1006から出力された差分レベルに該当するアナログ信号をデジタル信号に変換して出力する。
【0018】
入出力バッファ1008はデジタル信号をラッチ(latch)し、ラッチされた信号は列デコーダー1004におけるデコーディング結果に応じて順次的に映像信号処理部(図示せず)にデジタル信号を出力する。
【0019】
図1及び
図2を参照すると、アクティブピクセルセンサーアレイ1001は複数の単位画素UPを含み、単位画素UPはマトリックス形状で配列される。各々の単位画素UPは伝送トランジスタTXを含む。各々の単位画素UPはロジックトランジスタ(RX、SX、DX)を更に含む。ロジックトランジスタは、リセットトランジスタRX、選択トランジスタSX、又はソースフォロワートランジスタDXである。伝送トランジスタTXは伝送ゲートTGを含む。各々の単位画素UPは光電変換領域PD及びフローティング拡散領域FDを更に含む。ロジックトランジスタ(RX、SX、DX)は複数の単位画素UP同士で互いに共有される。
【0020】
光電変換領域PDは外部から入射した光の量に比例して光電荷を生成及び蓄積する。光電変換領域PDは、フォトダイオード、フォトトランジスタ、フォトゲート、ピンドフォトダイオード、及びこれらの組合を含む。伝送トランジスタTXは光電変換領域PDで生成された電荷をフローティング拡散領域FDに伝送する。フローティング拡散領域FDは光電変換領域PDで生成された電荷が伝送されて累積的に格納する。フローティング拡散領域FDに蓄積された光電荷の量に応じてソースフォロワートランジスタDXが制御される。
【0021】
リセットトランジスタRXはフローティング拡散領域FDに蓄積された電荷を周期的にリセットする。リセットトランジスタRXのドレーン電極はフローティング拡散領域FDに連結され、ソース電極は電源電圧VDDに連結される。リセットトランジスタRXがターンオン(turn-on)されると、リセットトランジスタRXのソース電極に連結された電源電圧VDDがフローティング拡散領域FDに印加される。従って、リセットトランジスタRXがターンオンされると、フローティング拡散領域FDに蓄積された電荷が排出されてフローティング拡散領域FDがリセットされる。
【0022】
ソースフォロワーゲート電極SFを含むソースフォロワートランジスタDXはソースフォロワーバッファ増幅器(source follower buffer amplifier)の役割をする。ソースフォロワートランジスタDXは、フローティング拡散領域FDにおける電位変化を増幅して、これを出力ラインVoutに出力する。
【0023】
選択ゲート電極SELを含む選択トランジスタSXは行単位に読み出す単位画素UPを選択する。選択トランジスタSXがターンオンされる時、電源電圧VDDがソースフォロワートランジスタDXのドレーン電極に印加される。
【0024】
図3Aは、一実施形態によるイメージセンサーの第1例の平面図である。
図3Bは、
図3AのA領域の拡大図である。
図3Cは、
図3AのB-B’線に沿う断面図である。
図3Dは、
図3BのC-C’線に沿う断面図である。
図3Eは、
図3Aに示すイメージセンサーのレンズ膜を説明するための斜視図である。
【0025】
図3A、
図3B、
図3C、
図3D、及び
図3Eを参照すると、イメージセンサーはセンサーチップ10を含む。センサーチップ10は第1基板100を含む。第1基板100は第1方向D1及び第2方向D2によって定義される平面に沿って拡張されるプレートの形状を有する。第1方向D1及び第2方向D2は互いに交差する。一例として、第1方向D1及び第2方向D2は互いに直交する水平方向である。
【0026】
第1基板100は半導体基板である。例えば、第1基板100は、シリコン基板、ゲルマニウム基板、又はシリコン-ゲルマニウム基板である。第1基板100は第1導電型の不純物を含む。例えば、第1基板100は、アルミニウム(Al)、ホウ素(B)、インジウム(In)、又はガリウム(Ga)を第1導電型の不純物で含む。一実施形態において、第1基板100はSOI(Silicon on insulator)基板である。
【0027】
第1基板100は、ピクセルアレイ領域APS、ダミー領域DMR、オプティカルブラック領域OBR、及びパッド領域PDRを含む。ピクセルアレイ領域APS、ダミー領域DMR、オプティカルブラック領域OBR、及びパッド領域PDRは第1方向D1及び第2方向D2によって定義される平面的に区分される領域である。ダミー領域DMRはピクセルアレイ領域APSを囲み、オプティカルブラック領域OBRはダミー領域DMR及びピクセルアレイ領域APSを囲み、パッド領域PDRは、オプティカルブラック領域OBR、ダミー領域DMR、及びピクセルアレイ領域APSを囲む。
【0028】
第1基板100は互いに反対になる前面及び背面を含む。光は第1基板100の背面に入射する。
【0029】
第1基板100のピクセルアレイ領域APSは複数のピクセル領域PXを含む。ピクセルアレイ領域APSのピクセル領域PXは入射光(incident light)から光電信号を出力する。ピクセル領域PXはピクセルアレイ領域APS内で平面的に配列される。
【0030】
一実施形態において、第1基板100のダミー領域DMRは複数のピクセル領域PXを含む。ダミー領域DMRのピクセル領域PXはダミーピクセル領域である。
【0031】
第1基板100は複数の光電変換領域PDを含む。光電変換領域PDは第1基板100の前面と背面との間に配置される。光電変換領域PDは第1基板100のピクセル領域PX内に各々提供される。
【0032】
光電変換領域PDは第2導電形の不純物を含む。第2導電型は第1導電型とは異なる。例えば、光電変換領域PDは、リン、ヒ素、ビスマス、又はアンチモンを第2導電型の不純物で含む。光電変換領域PDは第1基板100の背面に隣接する。
【0033】
第1基板100は複数のフローティング拡散領域FDを含む。フローティング拡散領域FDは第1基板100のピクセル領域PX内に各々提供される。フローティング拡散領域FDは第2導電型の不純物を含む。フローティング拡散領域FDは第1基板100の前面に隣接する。
【0034】
センサーチップ10はピクセル分離パターン110を含む。ピクセル分離パターン110は第1基板100内に提供される。ピクセル分離パターン110は第3方向D3に延長されて第1基板100を貫通する。第3方向D3は第1の方向D1及び第2方向D2と交差する。一例として、第3方向D3は第1方向D1及び第2方向D2と直交する垂直方向である。ピクセル分離パターン110によってピクセル領域PXが定義される。ピクセル分離パターン110は、例えばグリッドの形状を有する。
【0035】
ピクセル分離パターン110は分離導電膜111及び分離絶縁膜112を含む。分離導電膜111は第1基板100を貫通する。分離絶縁膜112は分離導電膜111と第1基板100との間に介在する。分離導電膜111は導電物質を含む。分離絶縁膜112は絶縁材料を含む。
【0036】
センサーチップ10は素子分離パターン120を含む。素子分離パターン120は第1基板100内に提供される。素子分離パターン120は第1基板100の前面に隣接するように配置される。素子分離パターン120は第1基板100の活性領域を定義する。素子分離パターン120は絶縁材料を含む。
【0037】
センサーチップ10は第1基板100の前面を覆う第1配線絶縁膜130を含む。第1配線絶縁膜130は第1基板100の活性領域を覆う。第1配線絶縁膜130は絶縁材料を含む。一実施形態において、第1配線絶縁膜130は複数の絶縁膜を含む多重絶縁膜である。
【0038】
センサーチップ10は伝送ゲートTG及びゲート絶縁膜GIを含む。伝送ゲートTGは第1基板100と第1配線絶縁膜130との間に提供される。伝送ゲートTGは導電物質を含む。
【0039】
伝送ゲート電極TGと第1基板100との間にゲート絶縁膜GIが提供される。ゲート絶縁膜GIは絶縁材料を含む。
【0040】
第1配線絶縁膜130内に第1コンタクトCT1及び第1導電ラインCL1が提供される。第1コンタクトCT1の中の少なくともいくつはフローティング拡散領域FDに連結される。第1導電ラインCL1の中の少なくともいくつは第1コンタクトCT1に連結される。第1コンタクトCT1及び第1導電ラインCL1は導電物質を含む。
【0041】
センサーチップ10は第1基板100の背面を覆う固定電荷膜140を含む。固定電荷膜140は、例えば化学量論比より不足する量の酸素を含む金属酸化膜又は化学量論比より不足する量の弗素を含む金属フッ化膜である。固定電荷膜140は、負の固定電荷を有し、正孔の蓄積(hole accumulation)を発生させる。固定電荷膜140によって第1基板100の暗電流及びホワイトスポット(white spot)を効果的に減少することができる。一実施形態において、固定電荷膜140は互いに異なる複数の膜を含む。
【0042】
センサーチップ10は固定電荷膜140上の反射防止膜150を含む。反射防止膜150は、例えばアルミニウム酸化物を含む。一実施形態において、反射防止膜150は互いに異なる複数の膜を含む。
【0043】
センサーチップ10は反射防止膜150上のフェンスパターン160を含む。フェンスパターン160は第1基板100のピクセルアレイ領域APS上に配置される。フェンスパターン160は後述するカラーフィルターCFを互いに分離する。例えば、フェンスパターン160はグリッドの形状を有する。フェンスパターン160は導電物質を含む。例えば、フェンスパターン160はタングステンを含む。
【0044】
センサーチップ10は反射防止膜150上の遮光膜170を含む。遮光膜170は第1基板100のダミー領域DMR、オプティカルブラック領域OBR、及びパッド領域PDR上に配置される。遮光膜170は導電物質を含む。遮光膜170はフェンスパターン160と同一の物質を含む。例えば、遮光膜170はタングステンを含む。
【0045】
一実施形態において、センサーチップ10はフェンスパターン160及び遮光膜170を覆う保護膜を含む。保護膜は絶縁材料を含む。
【0046】
センサーチップ10は連結コンタクト180を含む。連結コンタクト180は第1基板100のオプティカルブラック領域OBR上に配置される。連結コンタクト180は固定電荷膜140及び反射防止膜150を貫通してピクセル分離パターン110に連結される。連結コンタクト180はピクセル分離パターン110に連結される第1コンタクトパターン181及び第1コンタクトパターン181上の第2コンタクトパターン182を含む。
【0047】
第1コンタクトパターン181は遮光膜170に境界なしで連結される。第1コンタクトパターン181と遮光膜170とは一体の構造をなす。第1コンタクトパターン181は遮光膜170と同一の物質を含む。第2コンタクトパターン182は第1コンタクトパターン181とは異なる物質を含む。一例として、第2コンタクトパターン182はアルミニウムを含む。
【0048】
センサーチップ10は第1連結構造体190を含む。第1連結構造体190は第1基板100のオプティカルブラック領域OBR上に配置される。第1連結構造体190は、固定電荷膜140、反射防止膜150、第1基板100、及び第1配線絶縁膜130を貫通して後述する回路チップ20に連結される。第1連結構造体190は第1配線絶縁膜130内の第1導電ラインCL1の中の少なくとも1つに連結される。
【0049】
第1連結構造体190は、回路チップ20に連結される第1導電パターン191、第1導電パターン191上の第1絶縁パターン192、及び第1絶縁パターン192上の第1キャッピングパターン193を含む。第1導電パターン191は遮光膜170に境界なしで連結される。第1導電パターン191と遮光膜170とは一体の構造をなす。第1導電パターン191は遮光膜170と同一の物質を含む。
【0050】
第1絶縁パターン192は絶縁材料を含む。第1キャッピングパターン193は絶縁材料を含む。
【0051】
センサーチップ10は導電パッド210を含む。導電パッド210は第1基板100のパッド領域PDR上に配置される。導電パッド210は固定電荷膜140及び反射防止膜150を貫通して第1基板100に連結される。
【0052】
導電パッド210は第1基板100上の第1パッドパターン211及び第1パッドパターン211上の第2パッドパターン212を含む。第1パッドパターン211は遮光膜170に境界なしで連結される。第1パッドパターン211と遮光膜170とは一体の構造をなす。第1パッドパターン211は遮光膜170と同一の物質を含む。
【0053】
第2パッドパターン212は第1パッドパターン211とは異なる物質を含む。一例として、第2パッドパターン212はアルミニウムを含む。
【0054】
センサーチップ10は第2連結構造体220を含む。第2連結構造体220は第1基板100のパッド領域PDR上に配置される。第2連結構造体220は、固定電荷膜140、反射防止膜150、第1基板100、及び第1配線絶縁膜130を貫通して後述する回路チップ20に連結される。第2連結構造体220は第1配線絶縁膜130内の第1導電ラインCL1の中の少なくとも1つに連結される。
【0055】
第2連結構造体220は、回路チップ20に連結される第2導電パターン221、第2導電パターン221上の第2絶縁パターン222、及び第2絶縁パターン222上の第2キャッピングパターン223を含む。第2導電パターン221は遮光膜170に境界なしで連結される。第2導電パターン221と遮光膜170とは一体の構造をなす。第2導電パターン221は遮光膜170と同一の物質を含む。
【0056】
第2絶縁パターン222は絶縁材料を含む。第2キャッピングパターン223は絶縁材料を含む。
【0057】
センサーチップ10はカラーフィルターCFを含む。カラーフィルターCFは第1基板100のピクセルアレイ領域APS及びダミー領域DMR上に配置される。カラーフィルターCFはピクセル領域PX上に各々配置される。カラーフィルターCFは光電変換領域PDに対応する位置に各々提供される。カラーフィルターCFの各々は、レッドフィルター、ブルーフィルター、及びグリーンフィルターの中の1つである。カラーフィルターCFはカラーフィルターアレイを成す。例えば、カラーフィルターCFはベイヤーパターン(Bayer pattern)方式で2次元的に配列される。
【0058】
ピクセルアレイ領域APS上に配置されるカラーフィルターCF間にフェンスパターン160が提供される。ダミー領域DMR上に配置されるカラーフィルターCFは遮光膜170上に提供される。一実施形態において、ダミー領域DMR上に配置されるカラーフィルターCFはダミーカラーフィルターである。
【0059】
センサーチップ10はブラックバルクフィルタリング膜FIを含む。ブラックバルクフィルタリング膜FIは第1基板100のオプティカルブラック領域OBR上に配置される。ブラックバルクフィルタリング膜FIは遮光膜170上に配置される。ブラックバルクフィルタリング膜FIはカラーフィルターCFとは異なる波長の光を遮断する。
【0060】
センサーチップ10はレンズ膜230を含む。レンズ膜230は、第1基板100のピクセルアレイ領域APS、ダミー領域DMR、オプティカルブラック領域OBR、及びパッド領域PDR上に配置される。レンズ膜230はカラーフィルターCF及びブラックバルクフィルタリング膜FI上に配置される。レンズ膜230は透明である。レンズ膜230は光を透過させる。レンズ膜230は有機物質を含む。例えば、レンズ膜230はフォトレジスト物質又は熱硬化性樹脂を含む。
【0061】
レンズ膜230はカラーフィルターCF及びブラックバルクフィルタリング膜FI上のベース部231を含む。レンズ膜230は、ベース部231上のマイクロレンズ232、ダミーレンズ233、及びブロッキングバー234を含む。マイクロレンズ232、ダミーレンズ233、及びブロッキングバー234は同一のレベルに配置される。マイクロレンズ232、ダミーレンズ233、及びブロッキングバー234はベース部231で第3方向D3に突出する部分である。マイクロレンズ232、ダミーレンズ233、及びブロッキングバー234はベース部231に境界無しで連結される。マイクロレンズ232、ダミーレンズ233、ブロッキングバー234、及びベース部231は一体の構造をなす。マイクロレンズ232は第1基板100のピクセルアレイ領域APS及びダミー領域DMR上に配置される。ダミーレンズ233及びブロッキングバー234は第1基板100のオプティカルブラック領域OBR上に配置される。
【0062】
マイクロレンズ232はピクセル領域PX上に各々配置される。マイクロレンズ232は光電変換領域PDに対応する位置に各々提供される。ダミー領域DMR上に配置されるマイクロレンズ232はダミーマイクロレンズである。
【0063】
ブロッキングバー234は第1方向D1に延長される2つの部分及び第2方向D2に延長される2つの部分を含む。ブロッキングバー234はマイクロレンズ232を囲む。マイクロレンズ232はブロッキングバー234の第1方向D1に延長される2つの部分の間に配置される。マイクロレンズ232はブロッキングバー234の第2方向D2に延長される2つの部分の間に配置される。ブロッキングバー234はダミーレンズ233の中の少なくとも幾つかを囲む。
図3Aに示す平面視において、ブロッキングバー234はリングの形状を有する。
【0064】
ブロッキングバー234の長さはマイクロレンズ232の長さ及びダミーレンズ233の長さよりも大きい。一例として、ブロッキングバー234の第1方向D1に延長される部分の第1方向D1への長さはマイクロレンズ232の第1方向D1への長さ及びダミーレンズ233の第1方向D1への長さよりも大きい。ブロッキングバー234の長さは第1基板100のピクセルアレイ領域APSの長さよりも大きい。
【0065】
マイクロレンズ232の上面232t、ダミーレンズ233の上面233t、及びブロッキングバー234の上面234tは曲がっている。マイクロレンズ232の上面232tの曲率半径、ダミーレンズ233の上面233tの曲率半径、及びブロッキングバー234の上面234tの曲率半径は同一である。例えば、
図3C及び
図3Dに示す断面的観点で、マイクロレンズ232の上面232tの曲率半径、ダミーレンズ233の上面233tの曲率半径、及びブロッキングバー234の上面234tの曲率半径は同一である。他の実施形態において、マイクロレンズ232の上面232tの曲率半径、ダミーレンズ233の上面233tの曲率半径、及びブロッキングバー234の上面234tの曲率半径は互いに異なる。
【0066】
マイクロレンズ232の最大幅、ダミーレンズ233の最大幅、及びブロッキングバー234の最大幅は同一である。一例として、マイクロレンズ232の第1方向D1への最大幅W1、ダミーレンズ233の第1方向D1への最大幅W2、及びブロッキングバー234の第1方向D1への最大幅W3は同一である。他の実施形態において、マイクロレンズ232の最大幅、ダミーレンズ233の最大幅、及びブロッキングバー234の最大幅は互いに異なる。
【0067】
マイクロレンズ232の最上部のレベル、ダミーレンズ233の最上部のレベル、及びブロッキングバー234の最上部のレベルは同一である。他の実施形態において、マイクロレンズ232の最上部のレベル、ダミーレンズ233の最上部のレベル、及びブロッキングバー234の最上部のレベルは互いに異なる。
【0068】
センサーチップ10はレンズ膜230上のコーティング膜240を含む。コーティング膜240は透明である。コーティング膜240はレンズ膜230の上面をコンフォーマルに覆う。
【0069】
コーティング膜240はマイクロレンズ232上の第1部分、ダミーレンズ233上の第2部分、及びブロッキングバー234上の第3部分を含む。コーティング膜240の第1部分の上面、第2部分の上面、及び第3部分の上面は曲がっている。
【0070】
コーティング膜240及びレンズ膜230を貫通するリセスRSが定義される。リセスRSによって導電パッド210が露出する。
【0071】
イメージセンサーは回路チップ20を含む。回路チップ20は第2基板300を含む。第2基板300は半導体基板である。一実施形態において、第2基板300はSOI基板である。
【0072】
回路チップ20は第2基板300上の第2配線絶縁膜310を含む。第2配線絶縁膜310は第2基板300の活性領域を覆う。第2配線絶縁膜310は絶縁材料を含む。一実施形態において、第2配線絶縁膜310は複数の絶縁膜を含む多重絶縁膜である。
【0073】
回路チップ20は第2基板300と第2配線絶縁膜310との間の集積回路320を含む。集積回路320はロジック回路及びメモリ回路の中の少なくとも1つを含む。
【0074】
回路チップ20は第2配線絶縁膜310内の第2コンタクトCT2及び第2導電ラインCL2を含む。第2コンタクトCT2の中の少なくともいくつかは集積回路320に連結される。第2導電ラインCL2の中の少なくともいくつかは第2コンタクトCT2に連結される。第2導電ラインCL2の中の少なくとも1つは第1連結構造体190に連結される。第2導電ラインCL2の中の少なくとも1つは第2連結構造体220に連結される。第2コンタクトCT2及び第2導電ラインCL2は導電物質を含む。
【0075】
図3A及び
図3Bを参照すると、ダミーレンズ233は、第1ダミーレンズDL1、第2ダミーレンズDL2、第3ダミーレンズDL3、及び第4ダミーレンズDL4を含む。ブロッキングバー234は、第1ブロッキングバーBB1、第2ブロッキングバーBB2、及び第3ブロッキングバーBB3を含む。
【0076】
図示したものとは異なり、ブロッキングバー234の数は3つに制限されない。他の実施形態において、ブロッキングバー234の数は2つ以下であってもよく、4つ以上であってもよい。
【0077】
第1ブロッキングバーBB1は第1ダミーレンズDL1及びマイクロレンズ232を囲む。第2ブロッキングバーBB2は、第1ブロッキングバーBB1、第2ダミーレンズDL2、第1ダミーレンズDL1、及びマイクロレンズ232を囲む。第3ブロッキングバーBB3は、第2ブロッキングバーBB2、第3ダミーレンズDL3、第1ブロッキングバーBB1、第2ダミーレンズDL2、第1ダミーレンズDL1、及びマイクロレンズ232を囲む。
【0078】
第1ダミーレンズDL1とマイクロレンズ232との間の距離は第1ブロッキングバーBB1とマイクロレンズ232との間の距離よりも小さい。第2ダミーレンズDL2は第1ブロッキングバーBB1と第2ブロッキングバーBB2との間に配置される。第3ダミーレンズDL3は第2ブロッキングバーBB2と第3ブロッキングバーBBと3の間に配置される。第4ダミーレンズDL4とマイクロレンズ232との間の距離は第3ブロッキングバーBB3とマイクロレンズ232との間の距離よりも大きい。第1ダミーレンズDL1と第4ダミーレンズDL4との間に第1~第3ブロッキングバー(BB1、BB2、BB3)が配置される。
【0079】
一実施形態によるイメージセンサーを含むイメージセンサーパッケージを製造する方法は、イメージセンサーの第1基板100のパッド領域PDR上に接着性物質を塗布し、接着性物質上にダム構造体を形成することを含む。例えば、接着性物質はエポキシを含む。
【0080】
オプティカルブラック領域OBR上にブロッキングバー234が提供されることによって、パッド領域PDR上に塗布される接着性物質がピクセルアレイ領域APSに浸透することが防止され、イメージセンサーの感度が低下することを防止することができる。
【0081】
一実施形態によるイメージセンサーはブロッキングバー234内に圧縮応力が生成され、ブロッキングバー234の圧縮応力によってオプティカルブラック領域OBR上で発生したコーティング膜240のクラックがピクセルアレイ領域APS上に伝播することを防止することができる。
【0082】
図4Aは、一実施形態によるイメージセンサーの第2例の平面図である。
図4Bは、
図4AのD-D’線に沿う断面図である。
【0083】
図4A及び
図4Bを参照すると、イメージセンサーはセンサーチップ10a及び回路チップ20aを含む。センサーチップ10aはレンズ膜230aを含む。
【0084】
レンズ膜230aはベース部231aを含む。レンズ膜230aは、ベース部231a上の第1ダミーレンズDL1a、第2ダミーレンズDL2a、第1ブロッキングバーBB1a、第2ブロッキングバーBB2a、及び第3ブロッキングバーBB3aを含む。
【0085】
第1ダミーレンズDL1aは第1~第3ブロッキングバー(BB1a、BB2a、BB3a)によって囲まれる。第2ダミーレンズDL2aは第3ブロッキングバーBB3aよりもパッド領域PDRに近く配置される。第1ブロッキングバーBB1aと第2ブロッキングバーBB2aとの間にはダミーレンズが配置されない。第2ブロッキングバーBB2aと第3ブロッキングバーBB3aとの間にはダミーレンズが配置されない。
【0086】
ベース部231aは、第1ブロッキングバーBB1aと第2ブロッキングバーBB2aとの間の第1フラット上面FS1a、及び第2ブロッキングバーBB2aと第3ブロッキングバーBB3aとの間の第2フラット上面FS2aを含む。
【0087】
第1フラット上面FS1aは第1ブロッキングバーBB1aと第2ブロッキングバーBB2aとを連結する。第1フラット上面FS1aは平らである。第1フラット上面FS1aは第1方向D1に延長される2つの部分及び第2方向D2に延長される2つの部分を含む。平面視において、第1フラット上面FS1aはリングの形状を有する。第1フラット上面FS1aの幅は第1ブロッキングバーBB1aの幅及び第2ブロッキングバーBB2aの幅よりも大きい。一例として、第1フラット上面FS1aの第2方向D2に延長される部分の第1方向D1への幅は第1ブロッキングバーBB1aの第2方向D2に延長される部分の第1方向D1への幅及び第2ブロッキングバーBB2aの第2方向D2に延長される部分の第1方向D1への幅よりも大きい。
【0088】
第2フラット上面FS2aは第2ブロッキングバーBB2aと第3ブロッキングバーBB3aとを連結する。第2フラット上面FS2aは平らである。第2フラット上面FS2aは第1方向D1に延長される2つの部分及び第2方向D2に延長される2つの部分を含む。平面視において、第2フラット上面FS2aはリングの形状を有する。第2フラット上面FS2aの幅は第2ブロッキングバーBB2aの幅及び第3ブロッキングバーBB3aの幅よりも大きい。一例として、第2フラット上面FS2aの第2方向D2に延長される部分の第1方向D1への幅は第2ブロッキングバーBB2aの第2方向D2に延長される部分の第1方向D1への幅及び第3ブロッキングバーBB3aの第2方向D2に延長される部分の第1方向D1への幅よりも大きい。
【0089】
図5は、一実施形態によるイメージセンサーの第3例の平面図である。
【0090】
図5を参照すると、イメージセンサーは、第1ダミーレンズDL1b、第2ダミーレンズDL2b、第3ダミーレンズDL3b、第4ダミーレンズDL4b、第1ブロッキングバーBB1b、第2ブロッキングバーBB2b、及び第3ブロッキングバーBB3bを含む。
【0091】
第1ブロッキングバーBB1bは互いに離隔される。第1ブロッキングバーBB1bは第1方向D1に延長される第1ブロッキングバーBB1b及び第2方向D2に延長される第1ブロッキングバーBB1bを含む。第1方向D1に延長される第1ブロッキングバーBB1bは第1方向D1に配列される。第2方向D2に延長される第1ブロッキングバーBB1bは第2方向D2に配列される。
【0092】
第2ブロッキングバーBB2bは互いに離隔される。第2ブロッキングバーBB2bは第1方向D1に延長される第2ブロッキングバーBB2b及び第2方向D2に延長される第2ブロッキングバーBB2bを含む。第1方向D1に延長される第2ブロッキングバーBB2bは第1方向D1に配列される。第2方向D2に延長される第2ブロッキングバーBB2bは第2方向D2に配列される。
【0093】
第3ブロッキングバーBB3bは互いに離隔される。第3ブロッキングバーBB3bは第1方向D1に延長される第3ブロッキングバーBB3b及び第2方向D2に延長される第3ブロッキングバーBB3bを含む。第1方向D1に延長される第3ブロッキングバーBB3bは第1方向D1に配列される。第2方向D2に延長される第3ブロッキングバーBB3bは第2方向D2に配列される。
【0094】
互いに隣接する第1ブロッキングバーBB1bの間に第1ギャップGA1bが定義される。互いに隣接する第2ブロッキングバーBB2bの間に第2ギャップGA2bが定義される。互いに隣接する第3ブロッキングバーBB3bの間に第3ギャップGA3bが定義される。第1~第3ギャップ(GA1b、GA2b、GA3b)を通じてベース部231bの上面の一部が露出する。
【0095】
ギャップ(GA1b、GA2b、GA3b)の幅はブロッキングバー(BB1b、BB2b、BB3b)の幅と同一である。一例として、第2方向D2に延長される第1ブロッキングバーBB1bの間に提供される第1ギャップGA1bの第1方向D1への幅は第2方向D2に延長される第1ブロッキングバーBB1bの第1方向D1への幅と同一である。
【0096】
ギャップ(GA1b、GA2b、GA3b)の長さよりもブロッキングバー(BB1b、BB2b、BB3b)の長さが大きい。一例として、第2方向D2に延長される第1ブロッキングバーBB1bの間に提供される第1ギャップGA1bの第2方向D2への長さよりも第2方向D2に延長される第1ブロッキングバーBB1bの第2方向D2への長さが大きい。
【0097】
図6は、一実施形態によるイメージセンサーの第4例の平面図である。
【0098】
図6を参照すると、イメージセンサーは、第1ブロッキングバーBB1c、第2ブロッキングバーBB2c、第3ブロッキングバーBB3c、第1ブロッキングバーBB1cによって囲まれる第1ダミーレンズDL1c、第3ブロッキングバーBB3cを囲む第2ダミーレンズDL2cを含む。
【0099】
第1ブロッキングバーBB1cの間に第1ギャップGA1cが定義され、第2ブロッキングバーBB2cの間に第2ギャップGA2cが定義され、第3ブロッキングバーBB3cの間に第3ギャップGA3cが定義される。
【0100】
ベース部231cは第1ブロッキングバーBB1cと第2ブロッキングバーBB2cとの間の第1フラット上面FS1c及び第2ブロッキングバーBB2cと第3ブロッキングバーBB3cとの間の第2フラット上面FS2cを含む。第1フラット上面FS1cは第1及び第2ギャップ(GA1c、GA2c)に連結される。第2フラット上面FS2cは第2及び第3ギャップ(GA2c、GA3c)に連結される。
【0101】
図7は、一実施形態によるイメージセンサーパッケージの断面図である。
【0102】
図7を参照すると、イメージセンサーパッケージはパッケージ基板410を含む。パッケージ基板410は、例えば印刷回路基板(Printed Circuit Board:PCB)である。
【0103】
パッケージ基板410は上部パッド430を含む。上部パッド430は導電物質を含む。パッケージ基板410下に外部連結端子420が提供される。外部連結端子420を通じてイメージセンサーパッケージが外部装置に電気的に連結される。外部連結端子420は導電物質を含む。
【0104】
パッケージ基板410上に接着膜440が提供される。接着膜440は、例えば高分子物質を含む。
【0105】
接着膜440上にイメージセンサー450が提供される。イメージセンサー450は、ピクセルアレイ領域(APS)451、オプティカルブラック領域(OBR)452、及びパッド領域(PDR)453を含む。イメージセンサー450はパッド領域453内の導電パッド454を含む。導電パッド454は、例えばワイヤを通じて上部パッド430に電気的に連結される。
【0106】
一実施形態において、イメージセンサー450はセンサーチップ及び回路チップを含み、導電パッド454はイメージセンサー450のセンサーチップと回路チップとの間に提供されて回路チップに直接連結される。
【0107】
イメージセンサー450のピクセルアレイ領域451にマイクロレンズが提供される。イメージセンサー450のオプティカルブラック領域452にダミーレンズ及びブロッキングバーが提供される。
【0108】
イメージセンサー450のパッド領域453及びオプティカルブラック領域452の一部上にダム構造体480が提供される。一実施形態において、イメージセンサー450はパッド領域453上のみに提供される。ダム構造体480は接着性物質を利用してイメージセンサー450に付着される。ダム構造体480によってイメージセンサー450のピクセルアレイ領域451が露出する。ダム構造体480は、例えば高分子物質又は金属の中の少なくとも1つを含む。平面視において、ダム構造体480はリングの形状を有する。
【0109】
ダム構造体480上に透明基板490が提供される。透明基板490は高い光透過率を有する物質を含む。例えば、透明基板490はガラスを含む。
【0110】
透明基板490、ダム構造体480、及びイメージセンサー450を囲むモールディング膜470が提供される。モールディング膜470は、例えば高分子物質を含む。
【0111】
一実施形態によるイメージセンサーパッケージは、イメージセンサー450がブロッキングバーを含むことによって、ダム構造体480をイメージセンサー450に付着するための接着性物質がピクセルアレイ領域451に浸透することが防止され、イメージセンサー450の感度が低下することを防止することができる。
【0112】
図8A及び
図8Bは、一実施形態によるイメージセンサーの他の例の断面図である。
【0113】
図8A及び
図8Bを参照すると、イメージセンサーは、サブチップ20d、回路チップ30d、及びセンサーチップ10dを含む。回路チップ30d上にサブチップ20dが提供され、サブチップ20d上にセンサーチップ10dが提供される。センサーチップ10dは、マイクロレンズ231d、ダミーレンズ232d、及びブロッキングバー233dを含む。
【0114】
センサーチップ10dは第1基板100d及び第1配線絶縁膜130dを含む。サブチップ20dは第2基板300d及び第2配線絶縁膜310dを含む。回路チップ30dは第3基板500d及び第3配線絶縁膜510dを含む。第1配線絶縁膜130d及び第2配線絶縁膜310dは互いに接する。第2基板300d及び第3配線絶縁膜510dは互いに接する。
【0115】
センサーチップ10dはサブチップ20dに接する第1ボンディングパッドBP1を含む。サブチップ20dは第1ボンディングパッドBP1に接する第2ボンディングパッドBP2を含む。センサーチップ10dとサブチップ20dとは第1及び第2ボンディングパッド(BP1、BP2)を通じて電気的に連結される。第1及び第2ボンディングパッド(BP1、BP2)は、例えば銅を含む。
【0116】
サブチップ20dは、電子素子320d、電子素子320dに連結される第1コンタクト330d、及び第1導電ライン340dを含む。第1コンタクト330dは第1導電ライン340d又は第2ボンディングパッドBP2に連結される。電子素子320dは、選択トランジスタ、リセットゲート、又はソースフォロワーゲートの中の少なくとも1つを含む。第1コンタクト330d及び第1導電ライン340dは第2配線絶縁膜310d内に提供される。
【0117】
回路チップ30dは、集積回路520d、集積回路520dに連結される第2コンタクト530d、及び第2コンタクト530dに連結される第2導電ライン540dを含む。第2コンタクト530d及び第2導電ライン540dは第3配線絶縁膜510d内に提供される。
【0118】
貫通ビアTVが提供される。貫通ビアTVはサブチップ20dの第2基板300dを貫通する。貫通ビアTVは第1導電ライン340d及び第2導電ライン540dに連結される。サブチップ20dと回路チップ30dとは貫通ビアTVによって電気的に連結される。貫通ビアTVは導電物質を含む。
【0119】
図9は、一実施形態によるイメージセンサーの更に他の例の断面図である。
【0120】
図9を参照すると、イメージセンサーはセンサーチップ10e及び回路チップ20eを含む。センサーチップ10eは、ベース部231e、ダミーレンズ232e、及びブロッキングバー233eを含む。
【0121】
イメージセンサーは回路チップ20eに直接連結される導電パッド210eを含む。導電パッド210eはリセスRSe内に提供される。リセスRSeは、センサーチップ10eのレンズ膜230e、反射防止膜150e、固定電荷膜140e、第1基板100e、及び第1配線絶縁膜130eを貫通して回路チップ20eの第2配線絶縁膜310e内の導電構造体CSeを露出する。導電パッド210eは回路チップ20eの第2配線絶縁膜310e内の導電構造体CSeに直接連結される。導電パッド210eは導電物質を含む。
【0122】
導電構造体CSeは導電物質を含む。導電構造体CSeは、導電ライン、導電コンタクト、又は導電パッドである。
【0123】
以上、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳細に説明したが、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術思想から逸脱しない範囲内で多様に変更実施することが可能である。
【符号の説明】
【0124】
10、10a、10d、10e センサーチップ
20、20a、20e、30d 回路チップ
20d サブチップ
100、100d、100e 第1基板
110 ピクセル分離パターン
111 分離導電膜
112 分離絶縁膜
120 素子分離パターン
130、130d、130e、310 第1配線絶縁膜
140、140e 固定電荷膜
150、150e 反射防止膜
160 フェンスパターン
170 遮光膜
180 連結コンタクト
181、182 第1、第2コンタクトパターン
190、220 第1、第2連結構造体
191、221 第1、第2導電パターン
192、222 第1、第2絶縁パターン
193、223 第1、第2キャッピングパターン
210、210e 導電パッド
211、212 第1、第2パッドパターン
230、230a、230e レンズ膜
231、231a、231b、231c、231d、231e ベース部
232 マイクロレンズ
232d、232e ダミーレンズ
233d、233e、234 ブロッキングバー
232t マイクロレンズの上面
233 ダミーレンズ
233t ダミーレンズの上面
234 ブロッキングバー
234t ブロッキングバーの上面
240 コーティング膜
300、300d、320d 第2基板
310、310d、310e 第2配線絶縁膜
320、520d 集積回路
320d 電子素子
330d、530d 第1、第2コンタクト
340d、540d 第1、第2導電ライン
410 パッケージ基板
420 外部連結端子
430 上部パッド
440 接着膜
450 イメージセンサー
451 ピクセルアレイ領域(APS)
452 オプティカルブラック領域(OBR)
453 パッド領域(PDR)
454 導電パッド
470 モールディング膜
480 ダム構造体
490 透明基板
500d 第3基板
510d 第3配線絶縁膜
1001 アクティブピクセルセンサーアレイ
1002 行デコーダー
1003 行ドライバー
1004 列デコーダー
1005 タイミング発生器
1006 相関二重サンプラー(CDS)
1007 アナログデジタルコンバータ(ADC)
1008 入出力バッファ
APS ピクセルアレイ領域
BB1、BB1a、BB1b、BB1c 第1ブロッキングバー
BB2、BB2a、BB2b、BB2c 第2ブロッキングバー
BB3、BB3a、BB3b、BB3c 第3ブロッキングバー
BP1、BP2 第1、第2ボンディングパッド
CF カラーフィルター
CSe 導電構造体
CL1、CL2 第1、第2導電ライン
CT1、CT2 第1、第2コンタクト
DL1、DL1a、DL1b、DL1c 第1ダミーレンズ
DL2、DL2a、DL2b、DL2c 第2ダミーレンズ
DL3、DL3b 第3ダミーレンズ
DL4、DL4b 第4ダミーレンズ
DMR ダミー領域
DX ソースフォロワートランジスタ
FD フローティング拡散領域
FI ブラックバルクフィルタリング膜
FS1a、FS1c 第1フラット上面
FS2a、FS2c 第2フラット上面
GA1b、GA1c 第1ギャップ
GA2b、GA2c 第2ギャップ
GA3b、GA3c 第3ギャップ
GI ゲート絶縁膜
OBR オプティカルブラック領域
PD 光電変換領域
PDR パッド領域
PX ピクセル領域
RS、RSe リセス
RX リセットトランジスタ
SEL 選択ゲート電極
SF ソースフォロワーゲート電極
SX 選択トランジスタ
TG 伝送ゲート
TV 貫通ビア
TX 伝送トランジスタ
UP 単位画素