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2024-28139樹脂膜、樹脂膜の作成方法、表示装置、光学部材および偏光部材
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024028139
(43)【公開日】2024-03-01
(54)【発明の名称】樹脂膜、樹脂膜の作成方法、表示装置、光学部材および偏光部材
(51)【国際特許分類】
G02B 5/02 20060101AFI20240222BHJP
G02B 1/111 20150101ALI20240222BHJP
B32B 7/023 20190101ALI20240222BHJP
B32B 27/18 20060101ALI20240222BHJP
B32B 3/30 20060101ALI20240222BHJP
【ＦＩ】
G02B5/02 C
G02B1/111
B32B7/023
B32B27/18 Z
B32B3/30
【審査請求】未請求
【請求項の数】31
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023114734
(22)【出願日】2023-07-12
(31)【優先権主張番号】P 2022130694
(32)【優先日】2022-08-18
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】390019839
【氏名又は名称】三星電子株式会社
【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．
【住所又は居所原語表記】１２９，Ｓａｍｓｕｎｇ－ｒｏ，Ｙｅｏｎｇｔｏｎｇ－ｇｕ，Ｓｕｗｏｎ－ｓｉ，Ｇｙｅｏｎｇｇｉ－ｄｏ，Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｋｏｒｅａ
(74)【代理人】
【識別番号】100125346
【弁理士】
【氏名又は名称】尾形 文雄
(72)【発明者】
【氏名】後藤 雄一郎
(72)【発明者】
【氏名】大山 毅
(72)【発明者】
【氏名】横手 恵紘
(72)【発明者】
【氏名】ジャン ネウォン
(72)【発明者】
【氏名】チョ ビョンジン
(72)【発明者】
【氏名】キム スンギ
【テーマコード（参考）】
2H042
2K009
4F100
【Ｆターム（参考）】
2H042BA02
2H042BA04
2H042BA12
2H042BA15
2H042BA20
2K009AA04
2K009AA05
2K009BB24
2K009CC09
2K009DD02
2K009EE00
4F100AA20A
4F100AA20B
4F100AA20H
4F100AA27C
4F100AA27H
4F100AJ06A
4F100AJ06H
4F100AK01A
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4F100AK36H
4F100AK46A
4F100AK46H
4F100AK51A
4F100AK52A
4F100AK52H
4F100AT00D
4F100BA02
4F100BA04
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4F100DD07A
4F100DE01A
4F100DE01C
4F100DE01H
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4F100EH46C
4F100GB41
4F100JB14A
4F100JB14B
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4F100JN10E
4F100JN18B
4F100JN18C
4F100JN21
4F100JN26A
4F100YY00B
(57)【要約】
【課題】防眩性と鮮鋭度との双方が良好な樹脂膜等を提供する。
【解決手段】樹脂膜は、アンチグレア層１６と、低屈折率層１７とを備える。低屈折率層１７は、アンチグレア層１６に積層される。また、低屈折率層１７は、１．４０以下の屈折率を有する。アンチグレア層１６は、散乱粒子１６２と、バインダ１６１とを含む。散乱粒子１６２は、表面に凹凸１６３が形成されている。バインダ１６１は、散乱粒子１６２を分散する樹脂からなる。また、アンチグレア層１６は、平坦部１６ａと、突出部１６ｂとを含む。突出部１６ｂは、平坦部１６ａから散乱粒子１６２が突出している。
【選択図】図２
【解決手段】樹脂膜は、アンチグレア層１６と、低屈折率層１７とを備える。低屈折率層１７は、アンチグレア層１６に積層される。また、低屈折率層１７は、１．４０以下の屈折率を有する。アンチグレア層１６は、散乱粒子１６２と、バインダ１６１とを含む。散乱粒子１６２は、表面に凹凸１６３が形成されている。バインダ１６１は、散乱粒子１６２を分散する樹脂からなる。また、アンチグレア層１６は、平坦部１６ａと、突出部１６ｂとを含む。突出部１６ｂは、平坦部１６ａから散乱粒子１６２が突出している。
【選択図】図２
【特許請求の範囲】
【請求項1】
表面に凹凸が形成された散乱粒子と、当該散乱粒子を分散する樹脂からなるバインダとを含むアンチグレア層と、
前記アンチグレア層に積層され、１．４０以下の屈折率を有する低屈折率層と
を備え、
前記アンチグレア層は、平坦部と、当該平坦部から前記散乱粒子が突出している突出部とを有する樹脂膜。
前記アンチグレア層に積層され、１．４０以下の屈折率を有する低屈折率層と
を備え、
前記アンチグレア層は、平坦部と、当該平坦部から前記散乱粒子が突出している突出部とを有する樹脂膜。
【請求項2】
前記アンチグレア層は、前記低屈折率層が積層される方向から見て、前記突出部の面積に対する前記平坦部の面積の比率（平坦部の面積／突出部の面積）が、２．０以上３０以下である請求項１に記載の樹脂膜。
【請求項3】
前記散乱粒子は、平均粒子径が１μｍ以上１０μｍ以下である請求項１に記載の樹脂膜。
【請求項4】
前記散乱粒子は、ＢＥＴ法で算出した比表面積が５ｍ２／ｇ以上である請求項３に記載の樹脂膜。
【請求項5】
前記散乱粒子は、粒径が２０μｍ以上である粒子の割合が１質量％以下である請求項３に記載の樹脂膜。
【請求項6】
前記散乱粒子は、粒度分布の変動係数が３０％以下である請求項１に記載の樹脂膜。
【請求項7】
前記散乱粒子は、平均粒子径が異なる複数の粒子を含む請求項１に記載の樹脂膜。
【請求項8】
前記散乱粒子は、前記複数の粒子の平均粒子径の差が２．０μｍ以下である請求項７に記載の樹脂膜。
【請求項9】
前記アンチグレア層は、前記バインダの屈折率と前記散乱粒子の屈折率との差が０．１５以下である請求項１に記載の樹脂膜。
【請求項10】
前記アンチグレア層は、前記バインダと前記散乱粒子との界面が相溶している請求項１に記載の樹脂膜。
【請求項11】
前記アンチグレア層は、前記バインダの屈折率が１．５０以上１．６０以下である請求項１に記載の樹脂膜。
【請求項12】
前記アンチグレア層は、前記散乱粒子の屈折率が１．４４以上１．６０以下である請求項１に記載の樹脂膜。
【請求項13】
前記散乱粒子は、シリカ粒子、ＰＭＭＡ粒子、メラミン粒子、酢酸セルロース粒子のうちの少なくとも１つを含む請求項１に記載の樹脂膜。
【請求項14】
前記散乱粒子は、シリコーン粒子を含む請求項１に記載の樹脂膜。
【請求項15】
前記アンチグレア層は、さらに平均粒子径が１００ｎｍ以下のナノ粒子を含む請求項１に記載の樹脂膜。
【請求項16】
前記アンチグレア層は、さらに前記バインダから突出しない粒子を含む請求項１に記載の樹脂膜。
【請求項17】
前記低屈折率層は、屈折率が１．３４以下である請求項１に記載の樹脂膜。
【請求項18】
前記低屈折率層は、中空粒子と、当該中空粒子を分散する樹脂とを含む請求項１に記載の樹脂膜。
【請求項19】
前記低屈折率層の平均膜厚が８０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下である請求項１に記載の樹脂膜。
【請求項20】
前記アンチグレア層と前記低屈折率層との間に、１．６０以上の屈折率を有する高屈折率層をさらに備える請求項１に記載の樹脂膜。
【請求項21】
外部ヘイズ値が２０％以上である請求項１に記載の樹脂膜。
【請求項22】
内部ヘイズ値が１５％以下である請求項１に記載の樹脂膜。
【請求項23】
前記低屈折率層側から入射角６０°で測定したグロス値が１０以下である請求項１に記載の樹脂膜。
【請求項24】
前記低屈折率層側から入射角８５°で測定したグロス値が５０以下である請求項１に記載の樹脂膜。
【請求項25】
平坦部と、当該平坦部から突出した突出部とを有するアンチグレア層と、
前記アンチグレア層に積層され、１．４０以下の屈折率を有する低屈折率層とを備え、
前記アンチグレア層は、前記低屈折率層が積層される方向から見て、前記突出部の面積に対する前記平坦部の面積の比率（平坦部の面積／突出部の面積）が、２．０以上３０以下であり、且つ、当該突出部における表面粗さが、当該平坦部における表面粗さより大きい樹脂膜。
前記アンチグレア層に積層され、１．４０以下の屈折率を有する低屈折率層とを備え、
前記アンチグレア層は、前記低屈折率層が積層される方向から見て、前記突出部の面積に対する前記平坦部の面積の比率（平坦部の面積／突出部の面積）が、２．０以上３０以下であり、且つ、当該突出部における表面粗さが、当該平坦部における表面粗さより大きい樹脂膜。
【請求項26】
表面に凹凸が形成された散乱粒子と、当該散乱粒子を分散する樹脂からなるバインダとを用いて、平坦部と、当該平坦部から前記散乱粒子が突出している突出部とを有するアンチグレア層を作成するアンチグレア層作成工程と、
前記アンチグレア層上に、１．４０以下の屈折率を有する低屈折率層を作成する低屈折率層作成工程と
を含む樹脂膜の作成方法。
前記アンチグレア層上に、１．４０以下の屈折率を有する低屈折率層を作成する低屈折率層作成工程と
を含む樹脂膜の作成方法。
【請求項27】
前記低屈折率層作成工程は、前記低屈折率層をウェットコーティング法により製膜する請求項２６に記載の樹脂膜の作成方法。
【請求項28】
画像の表示を行う表示手段と、
前記表示手段の表面に設けられ、請求項１乃至２５のいずれか１項に記載の樹脂膜と
を有する表示装置。
前記表示手段の表面に設けられ、請求項１乃至２５のいずれか１項に記載の樹脂膜と
を有する表示装置。
【請求項29】
基材と、
前記基材上に設けられ、請求項１乃至２５のいずれか１項に記載の樹脂膜と
を有する光学部材。
前記基材上に設けられ、請求項１乃至２５のいずれか１項に記載の樹脂膜と
を有する光学部材。
【請求項30】
前記基材は、可視光波長領域における内部ヘイズ値の最大値が０．５％以下である請求項２９に記載の光学部材。
【請求項31】
光を偏光させる偏光手段と、
前記偏光手段上に設けられ、請求項１乃至２５のいずれか１項に記載の樹脂膜と
を有する偏光部材。
前記偏光手段上に設けられ、請求項１乃至２５のいずれか１項に記載の樹脂膜と
を有する偏光部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、樹脂膜等に関する。より詳しくは、表示装置の表示手段の表面に設ける樹脂膜等に関する。
【背景技術】
【0002】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ：Plasma Display Panel）等の表示装置が知られている。また、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ：Electroluminescence Display）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ：Field Emission Display）等の表示装置が知られている。これらの表示装置では、画像表示面に反射防止部材を設けることで、画像の視認性を高めている。
反射防止部材としては、凹凸形状を有するアンチグレア層上に、低屈折率層等の反射防止層を積層したものが存在する。
反射防止部材としては、凹凸形状を有するアンチグレア層上に、低屈折率層等の反射防止層を積層したものが存在する。
【0003】
特許文献１には、基材上に、防眩層及び低屈折率層を有する防眩性反射防止部材が開示されている。この防眩性反射防止部材では、防眩層が、バインダー樹脂および粒子を有し、凹凸形状を備えた層である。また、この防眩性反射部材では、低屈折率層が、防眩層の凸部上の膜厚が薄い一方で、平坦部上の膜厚が厚い。そして、低屈折率層の膜厚さをΔｄと定義した際に、Δｄの値が７．０ｎｍ以上４０．０ｎｍ以下の範囲となっている。
【0004】
特許文献２には、防眩層の上に積層された低屈折率層（反射防止層）を有する光学積層体が開示されている。この光学積層体では、低波長領域の反射率を抑制するために、防眩層表面および低屈折率層表面のスキューネスＲｓｋを０未満とし、防眩層および低屈折率層の表面形状を、谷が多く、かつ細長く急峻な谷を有する表面形状（細長く急峻な山が少ない形状）としている。
【0005】
特許文献３には、基材の表層に、凹凸構造を有し、防眩機能を有するアンチグレア層と、反射防止層とが積層された防眩・反射防止部材が開示されている。この防眩・反射防止部材では、アンチグレア層上にスパッタリング法やＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層された多層膜からなる反射防止層を形成している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】国際公開２０２１／１８２４２４号
【特許文献2】特開２０２２－１５７０２号公報
【特許文献3】特開２０１８－９７３７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
アンチグレア層および低屈折率層を備える樹脂膜による防眩性を高め、表示手段に対する外部光等の映り込みを抑制するためには、アンチグレア層表面の凹凸を大きくすることが好ましい。その一方で、アンチグレア層表面の凹凸が大きい場合、アンチグレア層上に積層される低屈折率層の塗工性が低下し、均一な厚さを有する低屈折率層を得ることが難しくなる場合がある。この場合、表示手段に表示される画像が白くぼけた状態となって鮮鋭度が低下する場合がある。
本発明は、防眩性と鮮鋭度との双方が良好な樹脂膜等を提供することを目的とする。
本発明は、防眩性と鮮鋭度との双方が良好な樹脂膜等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明の樹脂膜は、アンチグレア層と、低屈折率層とを備える。低屈折率層は、アンチグレア層に積層される。また、低屈折率層は、１．４０以下の屈折率を有する。アンチグレア層は、散乱粒子と、バインダとを含む。散乱粒子は、表面に凹凸が形成されている。バインダは、散乱粒子を分散する樹脂からなる。また、アンチグレア層は、平坦部と、突出部とを含む。突出部は、平坦部から散乱粒子が突出している。
【0009】
ここで、アンチグレア層は、低屈折率層が積層される方向から見て、突出部の面積に対する平坦部の面積の比率（平坦部の面積／突出部の面積）が、２．０以上３０以下であるようにすることができる。
また、散乱粒子は、平均粒子径が１μｍ以上１０μｍ以下であるようにすることができる。
また、散乱粒子は、ＢＥＴ法で算出した比表面積が５ｍ２／ｇ以上であるようにすることができる。
また、散乱粒子は、粒径が２０μｍ以上である粒子の割合が１質量％以下であるようにすることができる。
また、散乱粒子は、粒度分布の変動係数が３０％以下であるようにすることができる。
また、散乱粒子は、平均粒子径が異なる複数の粒子を含むようにすることができる。
また、散乱粒子は、複数の粒子の平均粒子径の差が２．０μｍ以下であるようにすることができる。
また、アンチグレア層は、バインダの屈折率と散乱粒子の屈折率との差が０．１５以下であるようにすることができる。
また、アンチグレア層は、バインダと散乱粒子との界面が相溶するようにすることができる。
また、アンチグレア層は、バインダの屈折率が１．５０以上１．６０以下であるようにすることができる。
また、アンチグレア層は、散乱粒子の屈折率が１．４４以上１．６０以下であるようにすることができる。
また、散乱粒子は、シリカ粒子、ＰＭＭＡ粒子、メラミン粒子、酢酸セルロース粒子のうちの少なくとも１つを含むようにすることができる。
また、散乱粒子は、シリコーン粒子を含むようにすることができる。
また、アンチグレア層は、さらに平均粒子径が１００ｎｍ以下のナノ粒子を含むようにすることができる。
また、アンチグレア層は、さらに前記バインダから突出しない粒子を含むようにすることができる。
また、低屈折率層は、屈折率が１．３４以下であるようにすることができる。
また、低屈折率層は、中空粒子と、樹脂とを含む。樹脂は、中空粒子を分散する。
また、低屈折率層の平均膜厚が８０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下であるようにすることができる。
また、アンチグレア層と低屈折率層との間に、高屈折率層をさらに備えるようにすることができる。高屈折率層は、１．６０以上の屈折率を有する。
また、外部ヘイズ値が２０％以上であるようにすることができる。
また、内部ヘイズ値が１５％以下であるようにすることができる。
また、低屈折率層側から入射角６０°で測定したグロス値が１０以下であるようにすることができる。
また、低屈折率層側から入射角８５°で測定したグロス値が５０以下であるようにすることができる。
また、散乱粒子は、平均粒子径が１μｍ以上１０μｍ以下であるようにすることができる。
また、散乱粒子は、ＢＥＴ法で算出した比表面積が５ｍ２／ｇ以上であるようにすることができる。
また、散乱粒子は、粒径が２０μｍ以上である粒子の割合が１質量％以下であるようにすることができる。
また、散乱粒子は、粒度分布の変動係数が３０％以下であるようにすることができる。
また、散乱粒子は、平均粒子径が異なる複数の粒子を含むようにすることができる。
また、散乱粒子は、複数の粒子の平均粒子径の差が２．０μｍ以下であるようにすることができる。
また、アンチグレア層は、バインダの屈折率と散乱粒子の屈折率との差が０．１５以下であるようにすることができる。
また、アンチグレア層は、バインダと散乱粒子との界面が相溶するようにすることができる。
また、アンチグレア層は、バインダの屈折率が１．５０以上１．６０以下であるようにすることができる。
また、アンチグレア層は、散乱粒子の屈折率が１．４４以上１．６０以下であるようにすることができる。
また、散乱粒子は、シリカ粒子、ＰＭＭＡ粒子、メラミン粒子、酢酸セルロース粒子のうちの少なくとも１つを含むようにすることができる。
また、散乱粒子は、シリコーン粒子を含むようにすることができる。
また、アンチグレア層は、さらに平均粒子径が１００ｎｍ以下のナノ粒子を含むようにすることができる。
また、アンチグレア層は、さらに前記バインダから突出しない粒子を含むようにすることができる。
また、低屈折率層は、屈折率が１．３４以下であるようにすることができる。
また、低屈折率層は、中空粒子と、樹脂とを含む。樹脂は、中空粒子を分散する。
また、低屈折率層の平均膜厚が８０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下であるようにすることができる。
また、アンチグレア層と低屈折率層との間に、高屈折率層をさらに備えるようにすることができる。高屈折率層は、１．６０以上の屈折率を有する。
また、外部ヘイズ値が２０％以上であるようにすることができる。
また、内部ヘイズ値が１５％以下であるようにすることができる。
また、低屈折率層側から入射角６０°で測定したグロス値が１０以下であるようにすることができる。
また、低屈折率層側から入射角８５°で測定したグロス値が５０以下であるようにすることができる。
【0010】
また、本発明の樹脂膜は、アンチグレア層と、低屈折率層とを備える。低屈折率層は、アンチグレア層に積層される。また、低屈折率層は、１．４０以下の屈折率を有する。アンチグレア層は、平坦部と、平坦部から突出した突出部とを有する。また、アンチグレア層は、低屈折率層が積層される方向から見て、突出部の面積に対する平坦部の面積の比率（平坦部の面積／突出部の面積）が、２．０以上３０以下である。さらに、アンチグレア層は、突出部における表面粗さが平坦部における表面粗さより大きい。
【0011】
また、本発明の樹脂膜の作成方法は、アンチグレア層作成工程と、低屈折率層作成工程とを含む。アンチグレア層作成工程は、散乱粒子と、バインダとを用いて、平坦部と、突出部とを有するアンチグレア層を作成する。散乱粒子は、表面に凹凸が形成されている。バインダは、散乱粒子を分散する樹脂からなる。突出部は、平坦部から散乱粒子が突出している。低屈折率層作成工程は、１．４０以下の屈折率を有する低屈折率層を作成する。
ここで、低屈折率層作成工程は、低屈折率層をウェットコーティング法により製膜することができる。
ここで、低屈折率層作成工程は、低屈折率層をウェットコーティング法により製膜することができる。
【0012】
また、本発明の表示装置は、画像の表示を行う表示手段と、表示手段の表面に設けられる上記樹脂膜とを備える。
また、本発明の光学部材は、基材と、基材上に設けられる上記樹脂膜とを備える。
ここで、基材は、可視光波長領域における内部ヘイズ値の最大値が０．５％以下であるようにすることができる。
また、本発明の偏光部材は、光を偏光させる偏光手段と、偏光手段上に設けられる上記樹脂膜とを備える。
また、本発明の光学部材は、基材と、基材上に設けられる上記樹脂膜とを備える。
ここで、基材は、可視光波長領域における内部ヘイズ値の最大値が０．５％以下であるようにすることができる。
また、本発明の偏光部材は、光を偏光させる偏光手段と、偏光手段上に設けられる上記樹脂膜とを備える。
【発明の効果】
【0013】
本発明によれば、防眩性と鮮鋭度との双方が良好な樹脂膜等を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0014】
【図2】反射防止フィルムについて示した図であり、反射防止フィルムを各層の積層方向に沿って切断した断面図である。
【図3】反射防止フィルムにおけるアンチグレア層の拡大図である。
【図4】（ａ）～（ｂ）は、反射防止フィルムの変形例について示した図である。
【図5】（ａ）～（ｂ）は、異方拡散層の他の形態を説明する図である。
【図6】反射防止フィルムの他の変形例について示した図である。
【図7】（ａ）～（ｂ）は、本実施の形態が適用される偏光板の構成例について示した図である。
【図8】（ａ）は、反射防止フィルムの作成方法の一例を示したフローチャートであり、（ｂ）は、反射防止フィルムにおけるアンチグレア層および低屈折率層の作成方法を示したフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【0015】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態に限定するものではない。またその要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。さらに使用する図面は本実施の形態を説明するためのものであり、実際の大きさを表すものではない。
【0016】
＜表示装置１の説明＞
図１（ａ）は、本実施の形態が適用される表示装置１について説明した図である。
図示する表示装置１は、例えばＰＣ（Personal Computer）用の液晶ディスプレイ、あるいは液晶テレビなどである。表示装置１は、液晶パネル１ａに画像を表示する。
図１（ａ）は、本実施の形態が適用される表示装置１について説明した図である。
図示する表示装置１は、例えばＰＣ（Personal Computer）用の液晶ディスプレイ、あるいは液晶テレビなどである。表示装置１は、液晶パネル１ａに画像を表示する。
【0017】
＜液晶パネル１ａの説明＞
図１（ｂ）は、図１（ａ）のＩｂ―Ｉｂ断面図であり、本実施の形態が適用される液晶パネル１ａの構成の一例を示したものである。
液晶パネル１ａは、画像の表示を行う表示手段の一例である。本実施の形態の液晶パネル１ａは、例えば、ＶＡ型液晶パネルである。図示する液晶パネル１ａは、バックライトユニット１１と、偏光フィルム１２ａとを有する。また、液晶パネル１ａは、位相差フィルム１３ａと、液晶１４と、位相差フィルム１３ｂと、偏光フィルム１２ｂとを有する。さらに、液晶パネル１ａは、反射防止フィルム１０を有する。そして、これらは、この順で、液晶パネル１ａの内部側から表面側に向けて積層する構造となっている。なお、以下では、偏光フィルム１２ａと偏光フィルム１２ｂとを区別しない場合には、単に偏光フィルム１２と表記することがある。同様に、位相差フィルム１３ａと位相差フィルム１３ｂとを区別しない場合には、単に位相差フィルム１３と表記することがある。
また、詳細については、後述するが、反射防止フィルム１０は、基材１５と、アンチグレア層１６と、低屈折率層１７とが、この順で、液晶パネル１ａの内部側から表面側に向けて積層する構造となっている。本実施形態では、反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６と低屈折率層１７との積層体が、樹脂膜の一例である。また、アンチグレア層１６および低屈折率層１７に加えて基材１５を含む反射防止フィルム１０も、樹脂膜の一例である。
図１（ｂ）は、図１（ａ）のＩｂ―Ｉｂ断面図であり、本実施の形態が適用される液晶パネル１ａの構成の一例を示したものである。
液晶パネル１ａは、画像の表示を行う表示手段の一例である。本実施の形態の液晶パネル１ａは、例えば、ＶＡ型液晶パネルである。図示する液晶パネル１ａは、バックライトユニット１１と、偏光フィルム１２ａとを有する。また、液晶パネル１ａは、位相差フィルム１３ａと、液晶１４と、位相差フィルム１３ｂと、偏光フィルム１２ｂとを有する。さらに、液晶パネル１ａは、反射防止フィルム１０を有する。そして、これらは、この順で、液晶パネル１ａの内部側から表面側に向けて積層する構造となっている。なお、以下では、偏光フィルム１２ａと偏光フィルム１２ｂとを区別しない場合には、単に偏光フィルム１２と表記することがある。同様に、位相差フィルム１３ａと位相差フィルム１３ｂとを区別しない場合には、単に位相差フィルム１３と表記することがある。
また、詳細については、後述するが、反射防止フィルム１０は、基材１５と、アンチグレア層１６と、低屈折率層１７とが、この順で、液晶パネル１ａの内部側から表面側に向けて積層する構造となっている。本実施形態では、反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６と低屈折率層１７との積層体が、樹脂膜の一例である。また、アンチグレア層１６および低屈折率層１７に加えて基材１５を含む反射防止フィルム１０も、樹脂膜の一例である。
【0018】
バックライトユニット１１は、液晶１４に対し光を照射する。バックライトユニット１１は、例えば、冷陰極蛍光ランプや白色ＬＥＤ（Light Emitting Diode）、青色ＬＥＤ等の光源を有する。また、バックライトユニット１１は、光の均一性を制御する拡散シートやプリズムシート、色を制御する量子ドット色変換シート等を有していてもよい。
偏光フィルム１２ａおよび偏光フィルム１２ｂは、光を偏光させる偏光手段の一例である。偏光フィルム１２ａと偏光フィルム１２ｂとは、偏光方向が互いに直交するようになっている。偏光フィルム１２ａおよび偏光フィルム１２ｂは、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ：poly-vinyl alcohol）にヨウ素化合物分子を含ませた樹脂フィルムを備える。そしてこれをトリアセチルセルロース（ＴＡＣ：triacetylcellulose）からなる樹脂フィルムで挟み接着したものである。ヨウ素化合物分子を含ませることで光が偏光する。
偏光フィルム１２ａおよび偏光フィルム１２ｂは、光を偏光させる偏光手段の一例である。偏光フィルム１２ａと偏光フィルム１２ｂとは、偏光方向が互いに直交するようになっている。偏光フィルム１２ａおよび偏光フィルム１２ｂは、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ：poly-vinyl alcohol）にヨウ素化合物分子を含ませた樹脂フィルムを備える。そしてこれをトリアセチルセルロース（ＴＡＣ：triacetylcellulose）からなる樹脂フィルムで挟み接着したものである。ヨウ素化合物分子を含ませることで光が偏光する。
【0019】
位相差フィルム１３ａ、１３ｂは、液晶パネル１ａの視野角依存性を補償する。液晶１４を透過した光は、直線偏光から楕円偏光に偏光状態が変化する。例えば、黒表示させた場合、液晶パネル１ａを鉛直方向から見たときは、黒色に見える。一方、液晶パネル１ａを斜め方向から見たときは、液晶１４のリタデーションが発生する。また、偏光フィルム１２の軸が９０°ではなくなる。そのため、光抜けが生じて、コントラストが低下するという問題が生じる。即ち、液晶パネル１ａに視野角依存性が生じる。位相差フィルム１３ａ、１３ｂは、この楕円偏光を直線偏光に戻す機能を有する。これにより、位相差フィルム１３ａ、１３ｂは、液晶パネル１ａの視野角依存性を補償することができる。
【0020】
液晶１４には、図示しない電源が接続され、この電源により電圧を印加すると液晶１４の配列方向が変化する。そして液晶１４は、これにより、光の透過状態を制御する。
ＶＡ型液晶パネルの場合、液晶１４に電圧を印加していないとき（電圧ＯＦＦ）は、液晶分子が、図中垂直方向に配列する。そして、バックライトユニット１１から光を照射すると、まず、偏光フィルム１２ａを光が通過して偏光となる。そして、偏光は、液晶１４をそのまま通過する。さらに、偏光フィルム１２ｂは、偏光方向が異なるため、この偏光を遮断する。この場合、液晶パネル１ａを見るユーザは、この光を視認できない。即ち、液晶１４に電圧を印加しない状態では、液晶の色は、「黒」となる。
ＶＡ型液晶パネルの場合、液晶１４に電圧を印加していないとき（電圧ＯＦＦ）は、液晶分子が、図中垂直方向に配列する。そして、バックライトユニット１１から光を照射すると、まず、偏光フィルム１２ａを光が通過して偏光となる。そして、偏光は、液晶１４をそのまま通過する。さらに、偏光フィルム１２ｂは、偏光方向が異なるため、この偏光を遮断する。この場合、液晶パネル１ａを見るユーザは、この光を視認できない。即ち、液晶１４に電圧を印加しない状態では、液晶の色は、「黒」となる。
【0021】
対して、液晶１４に最大電圧を印加しているときは、液晶分子が、図中水平方向に配列する。そして、偏光フィルム１２ａを通過した偏光は、液晶１４の作用により偏光の方向が９０°回転する。そのため、偏光フィルム１２ｂは、この偏光を遮断せず、透過させる。この場合、液晶パネル１ａを見るユーザは、この光を視認できる。即ち、液晶１４に最大電圧を印加している状態では、液晶の色は、「白」となる。また、電圧は、電圧ＯＦＦと最大電圧の間とすることもできる。この場合、液晶１４は、図中上下方向と図中上下方向に対する垂直方向との間の状態となる。即ち、液晶１４は、上下方向および垂直方向の双方に交差する方向である斜め方向に配列する。この状態では、液晶の色は、「グレー」となる。よって、液晶１４に印加する電圧をＯＦＦから最大電圧の間で調整することで、黒、白の他に、中間階調が表現できる。そして、液晶パネル１ａは、これにより画像を表示する。
なお、図示はしていないが、カラーフィルタを使用することでカラー画像を表示することもできる。
なお、図示はしていないが、カラーフィルタを使用することでカラー画像を表示することもできる。
【0022】
＜反射防止フィルム１０の説明＞
続いて、反射防止フィルム１０を構成する各層について説明する。
図２は、反射防止フィルム１０について示した図であり、反射防止フィルム１０を各層の積層方向に沿って切断した断面図である。図３は、反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の拡大図である。
反射防止フィルム１０は、上述したように、液晶パネル１ａ（図１参照）の偏光フィルム１２ｂ（図１参照）上に設けられる。反射防止フィルム１０は、基材１５と、基材１５上に積層されるアンチグレア層１６と、アンチグレア層１６上に積層される低屈折率層１７とを備える。
続いて、反射防止フィルム１０を構成する各層について説明する。
図２は、反射防止フィルム１０について示した図であり、反射防止フィルム１０を各層の積層方向に沿って切断した断面図である。図３は、反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の拡大図である。
反射防止フィルム１０は、上述したように、液晶パネル１ａ（図１参照）の偏光フィルム１２ｂ（図１参照）上に設けられる。反射防止フィルム１０は、基材１５と、基材１５上に積層されるアンチグレア層１６と、アンチグレア層１６上に積層される低屈折率層１７とを備える。
【0023】
＜基材１５の説明＞
基材１５は、アンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成するための支持体である。基材１５は、光の透過率が高い材料であることが好ましく、全光線透過率が８５％以上である透明基材であることが好ましい。基材１５としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ：triacetylcellulose）が用いられる。また、基材１５としては、これらに限られるものではなく、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ：polyethylene terephthalate）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ：polymethyl methacrylate）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ：cycloolefin polymer）等を使用することもできる。さらにまた、基材１５としてＰＥＴを用いる場合、大きな複屈折率を有するようにＰＥＴを延伸したフィルムである超複屈折率フィルム（ＳＲＦ：super reflection film）を使用してもよい。ただし、本実施の形態では、偏光フィルム１２ｂに貼り合わせた際の着色むらやモアレの発生を抑制する観点から、基材１５としては、ＴＡＣやＰＥＴからなるフィルムをより好適に使用することができる。基材１５は、例えば、２０μｍ以上２００μｍ以下の厚さを有する。また、アンチグレア層１６との密着性を確保するため、基材１５の表面には易接着層が形成されていてもよい。基材１５の表面に易接着層が形成されている場合、易接着層の屈折率は、アンチグレア層１６の後述するバインダ１６１の屈折率との差が小さいことが好ましい。
基材１５は、アンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成するための支持体である。基材１５は、光の透過率が高い材料であることが好ましく、全光線透過率が８５％以上である透明基材であることが好ましい。基材１５としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ：triacetylcellulose）が用いられる。また、基材１５としては、これらに限られるものではなく、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ：polyethylene terephthalate）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ：polymethyl methacrylate）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ：cycloolefin polymer）等を使用することもできる。さらにまた、基材１５としてＰＥＴを用いる場合、大きな複屈折率を有するようにＰＥＴを延伸したフィルムである超複屈折率フィルム（ＳＲＦ：super reflection film）を使用してもよい。ただし、本実施の形態では、偏光フィルム１２ｂに貼り合わせた際の着色むらやモアレの発生を抑制する観点から、基材１５としては、ＴＡＣやＰＥＴからなるフィルムをより好適に使用することができる。基材１５は、例えば、２０μｍ以上２００μｍ以下の厚さを有する。また、アンチグレア層１６との密着性を確保するため、基材１５の表面には易接着層が形成されていてもよい。基材１５の表面に易接着層が形成されている場合、易接着層の屈折率は、アンチグレア層１６の後述するバインダ１６１の屈折率との差が小さいことが好ましい。
【0024】
また、基材１５は、可視光領域（波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の範囲）における内部ヘイズ値の上限値が、０．８％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましく、０．３％以下であることがより好ましい。また、基材１５の視光領域における内部ヘイズ値の下限値は、特に限定されないが、例えば、０．０５％以上であることが好ましい。基材１５の可視光領域における内部ヘイズ値が高い場合、反射防止フィルム１０の拡散反射成分（ＳＣＥ）が上昇し、反射防止フィルム１０のＳＣＩ（Specular Component Include）や反射色度（ａ＊／ｂ＊）が悪化するおそれがある。この傾向は、アンチグレア層１６に散乱性の高い粒子（後述する散乱粒子１６２）を用いた場合に、特に顕著となる。なお、反射防止フィルム１０のＳＣＥとは、反射防止フィルム１０の正反射成分を除いた反射率である。
基材１５の内部ヘイズ値は、例えば、基材１５の屈折率に近い液体を介して基材１５をガラスに挟んだ状態で、ヘイズを測定することにより得ることができる。また、基材１５の内部ヘイズ値の波長依存性は、分光ヘイズメーター（例えば、日本電色工業社製ＳＨ７０００）を用いて測定することができる。
基材１５の内部ヘイズ値は、例えば、基材１５の屈折率に近い液体を介して基材１５をガラスに挟んだ状態で、ヘイズを測定することにより得ることができる。また、基材１５の内部ヘイズ値の波長依存性は、分光ヘイズメーター（例えば、日本電色工業社製ＳＨ７０００）を用いて測定することができる。
【0025】
＜アンチグレア層１６の説明＞
アンチグレア層１６は、外部からの光を散乱させ、液晶パネル１ａへの光の映り込みを抑制して、反射防止フィルム１０の防眩性を高めるための層である。
本実施形態のアンチグレア層１６は、バインダ１６１と、散乱粒子１６２とを含む。詳細については後述するが、アンチグレア層１６は、例えば、バインダ１６１と散乱粒子１６２とを含む塗布溶液から形成することが可能である。また、アンチグレア層１６は、バインダ１６１および散乱粒子１６２の他に、重合開始剤、連鎖移動剤、レベリング剤、消泡剤、表面改質剤、紫外線吸収剤、増粘剤、酸化防止剤、難燃剤等の他の添加剤を含んでいてもよい。
本実施形態のアンチグレア層１６は、図２および図３に示すように、主にバインダ１６１からなり平坦な表面形状を有する平坦部１６ａと、平坦部１６ａの表面から散乱粒子１６２の一部が突出することで形成された突出部１６ｂとを有している。なお、突出部１６ｂは、平坦部１６ａの表面から、図中上方、すなわち液晶パネル１ａの表面側に突出している。
アンチグレア層１６は、外部からの光を散乱させ、液晶パネル１ａへの光の映り込みを抑制して、反射防止フィルム１０の防眩性を高めるための層である。
本実施形態のアンチグレア層１６は、バインダ１６１と、散乱粒子１６２とを含む。詳細については後述するが、アンチグレア層１６は、例えば、バインダ１６１と散乱粒子１６２とを含む塗布溶液から形成することが可能である。また、アンチグレア層１６は、バインダ１６１および散乱粒子１６２の他に、重合開始剤、連鎖移動剤、レベリング剤、消泡剤、表面改質剤、紫外線吸収剤、増粘剤、酸化防止剤、難燃剤等の他の添加剤を含んでいてもよい。
本実施形態のアンチグレア層１６は、図２および図３に示すように、主にバインダ１６１からなり平坦な表面形状を有する平坦部１６ａと、平坦部１６ａの表面から散乱粒子１６２の一部が突出することで形成された突出部１６ｂとを有している。なお、突出部１６ｂは、平坦部１６ａの表面から、図中上方、すなわち液晶パネル１ａの表面側に突出している。
【0026】
バインダ１６１は、散乱粒子を分散する樹脂を含む。バインダ１６１を構成する樹脂としては、硬化性樹脂を用いることができる。硬化性樹脂の中でも、アンチグレア層１６の機械的強度を高める観点および良好な光特性を得る観点から、光硬化性樹脂を用いることが好ましい。
光硬化性樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、（メタ）アクリルウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。これらの光硬化性樹脂として、より具体的には、１または複数の不飽和結合を有する化合物が挙げられる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ－ビニルピロリドン等が挙げられる。複数の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。また、複数の不飽和結合を有するオリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。
また、バインダ１６１の樹脂としては、後述する低屈折率層１７のバインダ１７１として例示する樹脂と同様のものを用いてもよい。
光硬化性樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、（メタ）アクリルウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。これらの光硬化性樹脂として、より具体的には、１または複数の不飽和結合を有する化合物が挙げられる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ－ビニルピロリドン等が挙げられる。複数の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。また、複数の不飽和結合を有するオリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。
また、バインダ１６１の樹脂としては、後述する低屈折率層１７のバインダ１７１として例示する樹脂と同様のものを用いてもよい。
【0027】
バインダ１６１の屈折率は、１．５０以上であることが好ましく、１．５５以上であることがより好ましい。また、バインダ１６１の屈折率は、１．６０以下であることが好ましい。
なお、詳細については後述するが、バインダ１６１の屈折率は、散乱粒子１６２の屈折率との差が小さいことが好ましい。
なお、詳細については後述するが、バインダ１６１の屈折率は、散乱粒子１６２の屈折率との差が小さいことが好ましい。
【0028】
散乱粒子１６２は、図３に示すように、主にバインダ１６１によって構成される平坦部１６ａから突出した状態で存在する。この突出形状により、外部からの光が散乱される。さらに散乱粒子１６２は、表面に凹凸１６３が形成されている。散乱粒子１６２の表面に形成された凹凸１６３により、外部からの光がより散乱されやすくなる。
散乱粒子１６２の平均粒子径は、アンチグレア層１６において、バインダ１６１により形成される平坦部１６ａの表面から散乱粒子１６２の一部が突出して突出部１６ｂが形成される範囲に設定される。したがって、散乱粒子１６２の平均粒子径は、バインダ１６１に対する散乱粒子１６２の配合量、平坦部１６ａの厚さ等によっても異なるが、例えば、１μｍ以上１０μｍ以下とすることができる。散乱粒子１６２の平均粒子径が１μｍ未満である場合、平坦部１６ａの表面から散乱粒子１６２が突出しにくくなり、突出部１６ｂにより光を散乱させることによる映り込みを抑制する効果が不十分となりやすい。一方、散乱粒子１６２の平均粒子径が１０μｍを超える場合、アンチグレア層１６における突出部１６ｂの面積が大きくなって、アンチグレア層１６に対する低屈折率層１７の塗工性が低下するおそれがある。
また、散乱粒子１６２は、粗大粒子を含まないほうが好ましい。具体的には、散乱粒子１６２は、粒径２０μｍ以上の粒子が１質量％以下であることが好ましく、粒径１６μｍ以上の粒子が０．５質量％以下であることがより好ましく、粒径１２μｍ以上の粒子が０．２質量％以下であることがさらに好ましい。散乱粒子１６２が粗大粒子を多く含むと、アンチグレア層１６に対する低屈折率層１７の塗工性が低下し、低屈折率層１７に粗大粒子を中心とした斑点状の外観不良が発生しやすくなる。散乱粒子１６２の粒度分布は、コールターカウンター等を用いて測定することができる。
散乱粒子１６２の平均粒子径は、アンチグレア層１６において、バインダ１６１により形成される平坦部１６ａの表面から散乱粒子１６２の一部が突出して突出部１６ｂが形成される範囲に設定される。したがって、散乱粒子１６２の平均粒子径は、バインダ１６１に対する散乱粒子１６２の配合量、平坦部１６ａの厚さ等によっても異なるが、例えば、１μｍ以上１０μｍ以下とすることができる。散乱粒子１６２の平均粒子径が１μｍ未満である場合、平坦部１６ａの表面から散乱粒子１６２が突出しにくくなり、突出部１６ｂにより光を散乱させることによる映り込みを抑制する効果が不十分となりやすい。一方、散乱粒子１６２の平均粒子径が１０μｍを超える場合、アンチグレア層１６における突出部１６ｂの面積が大きくなって、アンチグレア層１６に対する低屈折率層１７の塗工性が低下するおそれがある。
また、散乱粒子１６２は、粗大粒子を含まないほうが好ましい。具体的には、散乱粒子１６２は、粒径２０μｍ以上の粒子が１質量％以下であることが好ましく、粒径１６μｍ以上の粒子が０．５質量％以下であることがより好ましく、粒径１２μｍ以上の粒子が０．２質量％以下であることがさらに好ましい。散乱粒子１６２が粗大粒子を多く含むと、アンチグレア層１６に対する低屈折率層１７の塗工性が低下し、低屈折率層１７に粗大粒子を中心とした斑点状の外観不良が発生しやすくなる。散乱粒子１６２の粒度分布は、コールターカウンター等を用いて測定することができる。
【0029】
また、散乱粒子１６２は、粒度分布が狭いほうが好ましい。具体的には、散乱粒子１６２の粒度分布を測定した際の変動係数（ＣＶ値）が３５％以下であることが好ましく、３０％以下であることがより好ましく、２５％以下であることがさらに好ましい。変動係数の下限については特に限定されないが、例えば、５％以上であることが好ましい。散乱粒子１６２の粒度分布の変動係数が３５％を上回ると、散乱粒子１６２を含むアンチグレア層１６表面の凹凸が不均一となる。この場合、アンチグレア層１６に対する低屈折率層１７の塗工性が低下し、低屈折率層１７を塗工した際に斑点状の塗工不良が発生しやすくなる。また、散乱粒子１６２の粒度分布の変動係数が３５％を上回ると、反射防止フィルム１０の表面の耐摩耗性が低下しやすい。
【0030】
さらに、アンチグレア層１６は、平均粒子径の異なる２種類以上の散乱粒子１６２を含んでもよい。また、アンチグレア層１６は、散乱粒子１６２に加えて、散乱粒子１６２とは平均粒子径が異なり、表面に凹凸１６３が形成されていない他の粒子を含んでもよい。
アンチグレア層１６が平均粒子径の異なる２種類以上の粒子を含む場合、これらの平均粒子径の差は、３．５μｍ以下が好ましく、２．０μｍ以下がより好ましく、１．５μｍ以下がさらに好ましい。また、アンチグレア層１６が平均粒子径の異なる２種類以上の粒子を含む場合、これらの平均粒子径の差は、０．５μｍ以上が好ましく、１．０μｍ以上がより好ましい。平均粒子径の差を上記の範囲内とすることで、反射防止フィルム１０のＳＣＩの悪化を招くことなく、防眩性を向上させることができる。また、反射防止フィルム１０の反射色度を低減させることができる。
アンチグレア層１６が平均粒子径の異なる２種類以上の粒子を含む場合、これらの平均粒子径の差は、３．５μｍ以下が好ましく、２．０μｍ以下がより好ましく、１．５μｍ以下がさらに好ましい。また、アンチグレア層１６が平均粒子径の異なる２種類以上の粒子を含む場合、これらの平均粒子径の差は、０．５μｍ以上が好ましく、１．０μｍ以上がより好ましい。平均粒子径の差を上記の範囲内とすることで、反射防止フィルム１０のＳＣＩの悪化を招くことなく、防眩性を向上させることができる。また、反射防止フィルム１０の反射色度を低減させることができる。
【0031】
なお、本実施形態の説明において、平均粒子径は、個数平均一次粒子径を意味する。散乱粒子１６２の平均一次粒子径は、散乱粒子１６２を分散させた粒子分散液の乾燥膜のＳＥＭ（Scanning Electron Microscope）、ＴＥＭ（Transmission Electron Microscope）およびＳＴＥＭ（Scanning Transmission Electron Microscope）を用いた観察像により測定することが可能である。なお、散乱粒子１６２は表面に凹凸１６３を有するため、平均一次粒子径は、上記の観察像において、散乱粒子１６２の表面の凹凸１６３のうちの凸部を散乱粒子１６２の外周面と近似して測定する。
【0032】
散乱粒子１６２の表面に形成される凹凸１６３の表面粗さ、すなわち、アンチグレア層１６の突出部１６ｂにおける表面粗さは、アンチグレア層１６の平坦部１６ａにおける表面粗さよりも大きい。
また、平坦部１６ａの表面粗さ（Ｒａ）は、平坦部１６ａに対する低屈折率層１７の塗工性を向上させる観点から、小さいほど好ましい。
平坦部１６ａおよび突出部１６ｂにおける表面粗さは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）等を用いて測定することができる。
また、平坦部１６ａの表面粗さ（Ｒａ）は、平坦部１６ａに対する低屈折率層１７の塗工性を向上させる観点から、小さいほど好ましい。
平坦部１６ａおよび突出部１６ｂにおける表面粗さは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）等を用いて測定することができる。
【0033】
散乱粒子１６２の表面に形成される凹凸１６３は、散乱粒子１６２の比表面積によって規定することができる。散乱粒子１６２の表面に形成される凹凸１６３の形状が複雑で凹凸１６３による光の散乱性が大きいほど、散乱粒子１６２の比表面積が大きくなる。本実施形態では、散乱粒子１６２の比表面積は、５ｍ２／ｇ以上が好ましく、５０ｍ２／ｇ以上がより好ましく、８０ｍ２／ｇ以上がさらに好ましい。また、散乱粒子１６２の比表面積の上限値は特に定めるものではないが、５００ｍ２／ｇ以下を例示することができる。比表面積が５ｍ２／ｇ未満の散乱粒子１６２を用いた場合、反射防止フィルム１０の防眩性を確保するために、アンチグレア層１６に散乱粒子１６２を多量に配合する必要がある。この場合、アンチグレア層１６における突出部１６ｂの面積が大きくなって、アンチグレア層１６に対する低屈折率層１７の塗工性が低下するおそれがある。散乱粒子１６２の比表面積は、例えば、粒子への気体分子の吸着量から粒子の比表面積を測定するＢＥＴ法により算出することができる。
【0034】
散乱粒子１６２の配合量は、散乱粒子１６２の平均粒子径等によっても異なるが、アンチグレア層１６の固形分に対して、２質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、３質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、４質量％以上２０質量％以下であることがさらに好ましい。散乱粒子１６２の配合量が２質量％未満である場合、突出した散乱粒子１６２の密度が低下し、突出部１６ｂの面積が小さくなる。この場合、アンチグレア層１６において、突出部１６ｂにより光を散乱させることによる映り込みを抑制する効果が不十分となりやすい。一方、散乱粒子１６２の配合量が４０質量％を超える場合、アンチグレア層１６における突出部１６ｂの面積が大きくなって、アンチグレア層１６に対する低屈折率層１７の塗工性が低下するおそれがある。
ここで、反射防止フィルム１０を表示装置１に用いる場合、アンチグレア層１６に含まれる散乱粒子１６２は、表示装置１に表示される画像のコントラストの低下を招く場合がある。表示装置１において画像の高コントラストが要求される場合には、アンチグレア層１６における散乱粒子１６２の配合量は、上述した範囲よりもさらに少ないほうが好ましい。具体的には、散乱粒子１６２の配合量は、アンチグレア層１６の固形分に対して、１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、７質量％以下がさらに好ましい。
ここで、反射防止フィルム１０を表示装置１に用いる場合、アンチグレア層１６に含まれる散乱粒子１６２は、表示装置１に表示される画像のコントラストの低下を招く場合がある。表示装置１において画像の高コントラストが要求される場合には、アンチグレア層１６における散乱粒子１６２の配合量は、上述した範囲よりもさらに少ないほうが好ましい。具体的には、散乱粒子１６２の配合量は、アンチグレア層１６の固形分に対して、１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、７質量％以下がさらに好ましい。
【0035】
散乱粒子１６２としては、無機粒子を用いてもよく、有機粒子を用いてもよい。散乱粒子１６２としては、シリカ粒子、アルミナ粒子、チタニア粒子、ＰＭＭＡ粒子、ポリスチレン粒子、ポリエチレン粒子、メラミン粒子、ナイロン粒子、酢酸セルロース粒子、シリコーン粒子、ＰＴＦＥ粒子などが挙げられる。このうち、屈折率および機械強度の観点から、シリカ粒子、ＰＭＭＡ粒子、メラミン粒子、酢酸セルロース粒子、シリコーン粒子のうち少なくとも１つを含むことが好ましい。
また、散乱粒子１６２の形状は、特に限定されず、例えば、球状、楕円体状、針状、不定形状等が挙げられるが、球状であることが好ましい。散乱粒子１６２が球状である場合、散乱粒子１６２がバインダ１６１に均一に分散されやすくなり、アンチグレア層１６において突出部１６ｂが偏在しにくくなる。
また、散乱粒子１６２の形状は、特に限定されず、例えば、球状、楕円体状、針状、不定形状等が挙げられるが、球状であることが好ましい。散乱粒子１６２が球状である場合、散乱粒子１６２がバインダ１６１に均一に分散されやすくなり、アンチグレア層１６において突出部１６ｂが偏在しにくくなる。
【0036】
散乱粒子１６２の屈折率は、１．４４以上であることが好ましい。また、散乱粒子１６２の屈折率は、１．６０以下であることが好ましい。
また、アンチグレア層１６では、バインダ１６１の屈折率と散乱粒子１６２の屈折率との差が小さいことが好ましい。具体的には、バインダ１６１の屈折率と散乱粒子１６２の屈折率との差が０．１５以下であることが好ましく、０．１０以下であることがより好ましい。バインダ１６１の屈折率と散乱粒子１６２の屈折率との差が小さいことで、バインダ１６１と散乱粒子１６２との界面での光の散乱を低減できる。これにより、アンチグレア層１６の内部ヘイズ値の上昇を抑制することができ、反射防止フィルム１０にした際のＳＣＩ（Specular Component Include）を小さくしやすくなる。
また、アンチグレア層１６では、バインダ１６１の屈折率と散乱粒子１６２の屈折率との差が小さいことが好ましい。具体的には、バインダ１６１の屈折率と散乱粒子１６２の屈折率との差が０．１５以下であることが好ましく、０．１０以下であることがより好ましい。バインダ１６１の屈折率と散乱粒子１６２の屈折率との差が小さいことで、バインダ１６１と散乱粒子１６２との界面での光の散乱を低減できる。これにより、アンチグレア層１６の内部ヘイズ値の上昇を抑制することができ、反射防止フィルム１０にした際のＳＣＩ（Specular Component Include）を小さくしやすくなる。
【0037】
また、同様の観点から、アンチグレア層１６は、バインダ１６１と散乱粒子１６２との界面（図３にて符号Ｘで示す部分）が相溶していることが好ましい。これにより、バインダ１６１と散乱粒子１６２との界面での屈折率が連続して変化し、界面での後方散乱を低減することができる。そして、内部ヘイズをさらに小さくしやすくなる。
相溶している部分では、散乱粒子１６２の表面に形成された凹凸１６３が小さくなるものの、バインダ１６１の表面から突出した散乱粒子１６２の凹凸１６３は維持される。したがって、アンチグレア層１６では、バインダ１６１と散乱粒子１６２との界面が相溶している場合であっても、散乱粒子１６２の凹凸１６３により光を散乱させる作用は維持される。
バインダ１６１と散乱粒子１６２との界面を相溶させる方法としては、相溶化剤を配合する方法が挙げられる。また、詳しくは後述するが、アンチグレア層１６を作成する塗布溶液の塗布（塗工）時に、散乱粒子１６２の成分を溶解する溶剤を配合する方法が挙げられる。バインダ１６１と散乱粒子１６２との界面が相溶していることは、アンチグレア層１６の断面を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等で観察することにより確認できる。
相溶している部分では、散乱粒子１６２の表面に形成された凹凸１６３が小さくなるものの、バインダ１６１の表面から突出した散乱粒子１６２の凹凸１６３は維持される。したがって、アンチグレア層１６では、バインダ１６１と散乱粒子１６２との界面が相溶している場合であっても、散乱粒子１６２の凹凸１６３により光を散乱させる作用は維持される。
バインダ１６１と散乱粒子１６２との界面を相溶させる方法としては、相溶化剤を配合する方法が挙げられる。また、詳しくは後述するが、アンチグレア層１６を作成する塗布溶液の塗布（塗工）時に、散乱粒子１６２の成分を溶解する溶剤を配合する方法が挙げられる。バインダ１６１と散乱粒子１６２との界面が相溶していることは、アンチグレア層１６の断面を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等で観察することにより確認できる。
【0038】
上述したように、アンチグレア層１６は、平坦な表面形状を有する平坦部１６ａと、平坦部１６ａの表面から散乱粒子１６２の一部が突出することで形成された突出部１６ｂとを有している。そして、突出部１６ｂには、散乱粒子１６２に由来する凹凸１６３が形成されている。
ここで、一般に、アンチグレア層１６による防眩性を高くするためには、アンチグレア層１６表面の凹凸を大きくし、外部ヘイズ値を高くすることが挙げられる。しかしながら、アンチグレア層１６表面の凹凸を単純に大きくすると、アンチグレア層１６上に積層する低屈折率層１７等の塗工性が低下する。例えば、アンチグレア層１６表面の凹凸が大きいと、アンチグレア層１６上にウェットコーティング法などによって低屈折率層１７を均一に塗工することが困難になる。この場合、低屈折率層１７によって、アンチグレア層１６と低屈折率層１７との界面での光の反射量が低減されにくくなる。そして、液晶パネル１ａに表示される画像が白くぼけた状態となり、画像の鮮鋭度が下がる場合がある。
なお、スパッタリング法や蒸着法などでコーティングを行う場合、表面の凹凸が大きいアンチグレア層１６上に対しても均一な低屈折率層１７を作成することが可能である。しかしながら、これらの方法で形成可能な低屈折率層１７は屈折率が高いため、十分な反射防止特性を確保するためには高屈折率層との積層（例えば４層）が必要となる。その結果、反射防止フィルム１０を斜めから観察した際に着色が見られる。また、製造コストも大幅に上がってしまう。
ここで、一般に、アンチグレア層１６による防眩性を高くするためには、アンチグレア層１６表面の凹凸を大きくし、外部ヘイズ値を高くすることが挙げられる。しかしながら、アンチグレア層１６表面の凹凸を単純に大きくすると、アンチグレア層１６上に積層する低屈折率層１７等の塗工性が低下する。例えば、アンチグレア層１６表面の凹凸が大きいと、アンチグレア層１６上にウェットコーティング法などによって低屈折率層１７を均一に塗工することが困難になる。この場合、低屈折率層１７によって、アンチグレア層１６と低屈折率層１７との界面での光の反射量が低減されにくくなる。そして、液晶パネル１ａに表示される画像が白くぼけた状態となり、画像の鮮鋭度が下がる場合がある。
なお、スパッタリング法や蒸着法などでコーティングを行う場合、表面の凹凸が大きいアンチグレア層１６上に対しても均一な低屈折率層１７を作成することが可能である。しかしながら、これらの方法で形成可能な低屈折率層１７は屈折率が高いため、十分な反射防止特性を確保するためには高屈折率層との積層（例えば４層）が必要となる。その結果、反射防止フィルム１０を斜めから観察した際に着色が見られる。また、製造コストも大幅に上がってしまう。
【0039】
これに対し、本実施形態では、アンチグレア層１６が上述した構成を有することで、アンチグレア層１６の外部ヘイズ値を高めて、反射防止フィルム１０の防眩性を高くすることができる。さらに、アンチグレア層１６に対する低屈折率層１７の塗工性の低下を抑制することができる。
すなわち、アンチグレア層１６には、散乱粒子１６２の一部が突出することで、複数の突出部１６ｂが形成されている。そして、それぞれの突出部１６ｂの表面には、散乱粒子１６２に由来する凹凸１６３が形成されている。付言すると、突出部１６ｂの表面粗さは、平坦部１６ａの表面粗さよりも大きい。これにより、例えば突出部１６ｂの表面に凹凸１６３が形成されない場合と比べて、アンチグレア層１６の外部ヘイズ値が高くなり、アンチグレア層１６の表面にて外部からの光が散乱しやすくなる。この結果、液晶パネル１ａへの光の映り込みが抑制され、反射防止フィルム１０の防眩性を高めることができる。
すなわち、アンチグレア層１６には、散乱粒子１６２の一部が突出することで、複数の突出部１６ｂが形成されている。そして、それぞれの突出部１６ｂの表面には、散乱粒子１６２に由来する凹凸１６３が形成されている。付言すると、突出部１６ｂの表面粗さは、平坦部１６ａの表面粗さよりも大きい。これにより、例えば突出部１６ｂの表面に凹凸１６３が形成されない場合と比べて、アンチグレア層１６の外部ヘイズ値が高くなり、アンチグレア層１６の表面にて外部からの光が散乱しやすくなる。この結果、液晶パネル１ａへの光の映り込みが抑制され、反射防止フィルム１０の防眩性を高めることができる。
【0040】
また、アンチグレア層１６には、表面形状が平坦な平坦部１６ａが形成されている。これにより、アンチグレア層１６の平坦部１６ａ上に低屈折率層１７を作成することで、アンチグレア層１６に対する低屈折率層１７の塗工性の低下が抑制される。付言すると、ウェットコーティング法を用いて低屈折率層１７を作成する場合であっても、低屈折率層１７を均一に塗工することが可能となる。この結果、低屈折率層１７によって液晶パネル１ａの反射率を低下させ、液晶パネル１ａに表示される画像の鮮鋭度を高めることが可能となる。
【0041】
アンチグレア層１６は、低屈折率層１７が積層される方向（上方）から見た場合に、突出部１６ｂの面積に対する平坦部１６ａの面積の比率（平坦部１６ａの面積／突出部１６ｂの面積）が、２．０以上３０以下であることが好ましく、５．０以上２０以下であることがより好ましい。
突出部１６ｂの面積に対する平坦部１６ａの面積の比率が２．０未満である場合、アンチグレア層１６において表面形状が平坦な部分の面積が小さくなるため、低屈折率層１７の塗工性が低下するおそれがある。また、突出部１６ｂの面積に対する平坦部１６ａの面積の比率が３０を超える場合、突出部１６ｂの面積が相対的に小さくなるため、突出部１６ｂの表面に形成された凹凸１６３により光を散乱しにくくなる場合がある。
突出部１６ｂの面積に対する平坦部１６ａの面積の比率が２．０未満である場合、アンチグレア層１６において表面形状が平坦な部分の面積が小さくなるため、低屈折率層１７の塗工性が低下するおそれがある。また、突出部１６ｂの面積に対する平坦部１６ａの面積の比率が３０を超える場合、突出部１６ｂの面積が相対的に小さくなるため、突出部１６ｂの表面に形成された凹凸１６３により光を散乱しにくくなる場合がある。
【0042】
アンチグレア層１６における平坦部１６ａの膜厚は、１μｍ以上１０μｍ以下が好ましく、２μｍ以上６μｍ以下がより好ましい。平坦部１６ａの膜厚が１μｍ未満である場合、平坦部１６ａを構成するバインダ１６１による散乱粒子１６２の保持力が低くなりやすい。また、鉛筆硬度などのアンチグレア層１６に必要な機械特性が不十分となる。一方、平坦部１６ａの膜厚が１０μｍを超える場合、散乱粒子１６２が平坦部１６ａの表面から突出しにくくなり、突出部１６ｂが形成されにくくなる。この場合、アンチグレア層１６において、突出部１６ｂにより光を散乱させることによる映り込みを抑制する効果が不十分となりやすい。
また、突出部１６ｂにおいて散乱粒子１６２が平坦部１６ａの表面から突出する高さは、例えば、散乱粒子１６２の粒子径の２０％以上８０％以下であり、３０％以上７０％以下であることが好ましい。
また、突出部１６ｂにおいて散乱粒子１６２が平坦部１６ａの表面から突出する高さは、例えば、散乱粒子１６２の粒子径の２０％以上８０％以下であり、３０％以上７０％以下であることが好ましい。
【0043】
なお、本実施形態のアンチグレア層１６では、突出部１６ｂの表面に低屈折率層１７が積層されず、散乱粒子１６２の表面の凹凸１６３が露出しているが、これに限られない。散乱粒子１６２の表面の凹凸１６３が低屈折率層１７によって被覆されていてもよい。
【0044】
また、アンチグレア層１６は、さらに、平均粒子径が小さい粒子を含んでいてもよい。平均粒子径が小さい粒子とは、アンチグレア層１６におけるバインダ１６１の厚み（すなわち、平坦部１６ａの膜厚）よりも平均粒子径が小さい粒子を意味する。以下、この平均粒子径が小さい粒子を微小粒子と表記する。微小粒子の材質としては、ポリメチル（メタ）アクリレート、スチレン、ポリアクリル－スチレン共重合体、メラミン樹脂、シリコーン、フッ素樹脂、シリカ、アルミナ等が挙げられる。本実施形態では、微小粒子を配合することで、散乱粒子１６２の過度な凝集が抑制された均一なアンチグレア層１６を形成することが可能となる。
【0045】
アンチグレア層１６の平坦部１６ａの膜厚をＴとすると、微小粒子の平均粒子径は、０．１Ｔ以上０．９Ｔ以下が好ましく、０．２Ｔ以上０．８Ｔ以下がより好ましく、０．３Ｔ以上０．７Ｔ以下がさらに好ましい。また、具体的な微小粒子の平均粒子径としては、０．５μｍ以上３．０μｍ以下が好ましく、０．８μｍ以上２．３μｍ以下がより好ましい。微小粒子の平均粒子径が上記範囲を下回ると、アンチグレア層１６への入射光の後方散乱が大きくなり、反射率が悪化する。また、微小粒子の平均粒子径が上記範囲を上回ると、バインダ１６１の表面に微小粒子が突出してしまい、低屈折率層１７を均一に塗工することが困難になる。この場合、低屈折率層１７によって液晶パネル１ａの反射率を低下させることが困難になる。
【0046】
また、アンチグレア層１６は、さらに、ナノ粒子を含んでいてもよい。ナノ粒子とは、平均粒子径が１００ｎｍ以下の粒子である。ナノ粒子の材質としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、酸化インジウム等が挙げられるが、中でもバインダ１６１との屈折率の差が小さいシリカが好ましい。本実施形態のアンチグレア層１６では、ナノ粒子がバインダ１６１内に含まれることで、バインダ１６１の比重および粘度が増加し、アンチグレア層１６における散乱粒子１６２同士の凝集を防ぐことができる。
ナノ粒子の含有量は、アンチグレア層１６の固形分に対して、１質量％以上４０質量％以下が好ましく、３質量％以上３０質量％以下がより好ましい。ナノ粒子の含有量を上記の範囲内にすることで、アンチグレア層１６においてナノ粒子同士の凝集を発生させることなく、ナノ粒子による上記の効果を得ることができる。
ナノ粒子の含有量は、アンチグレア層１６の固形分に対して、１質量％以上４０質量％以下が好ましく、３質量％以上３０質量％以下がより好ましい。ナノ粒子の含有量を上記の範囲内にすることで、アンチグレア層１６においてナノ粒子同士の凝集を発生させることなく、ナノ粒子による上記の効果を得ることができる。
【0047】
＜低屈折率層１７の説明＞
低屈折率層１７は、液晶パネル１ａの反射率を低減させるための層である。本実施形態では、低屈折率層１７は、アンチグレア層１６における平坦部１６ａ上に積層されている。
低屈折率層１７は、相対的に屈折率が小さい層である。具体的には、低屈折率層１７は、屈折率が１．４０以下であることが必要である。また、低屈折率層１７は、屈折率が、１．２０以上１．３４以下であることが好ましい。低屈折率層１７の屈折率がこの範囲であることで、液晶パネル１ａでの反射率をより低減することができる。
低屈折率層１７は、単層で形成しても多層で形成してもよいが、製造コストの観点からなるべく少ない層数で形成することが好ましい。
低屈折率層１７は、液晶パネル１ａの反射率を低減させるための層である。本実施形態では、低屈折率層１７は、アンチグレア層１６における平坦部１６ａ上に積層されている。
低屈折率層１７は、相対的に屈折率が小さい層である。具体的には、低屈折率層１７は、屈折率が１．４０以下であることが必要である。また、低屈折率層１７は、屈折率が、１．２０以上１．３４以下であることが好ましい。低屈折率層１７の屈折率がこの範囲であることで、液晶パネル１ａでの反射率をより低減することができる。
低屈折率層１７は、単層で形成しても多層で形成してもよいが、製造コストの観点からなるべく少ない層数で形成することが好ましい。
【0048】
低屈折率層１７の厚さは、５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、８０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下であることが好ましい。付言すると、低屈折率層１７の厚さ（平均膜厚）は、アンチグレア層１６における散乱粒子１６２の粒径、およびアンチグレア層１６の突出部１６ｂの高さと比べて、十分に小さいことが好ましい。
【0049】
低屈折率層１７は、バインダ１７１と、バインダ１７１中に分布する中空粒子の一例としての中空シリカ粒子１７２とを含む。また、図示は省略するが、低屈折率層１７は、バインダ１７１の表面側（図２における上側）に主に分布する表面改質剤をさらに含む。
【0050】
バインダ１７１は、３次元架橋構造となっており、中空シリカ粒子１７２同士を連結する。バインダ１７１は、主成分として樹脂を含む。樹脂としては、含フッ素樹脂を含んでいてもよい。この場合、樹脂は、全て含フッ素樹脂でもよく、一部が含フッ素樹脂であってもよい。含フッ素樹脂は、フッ素を含む樹脂であり、例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）である。また、例えば、パーフルオロアルコキシアルカン（ＰＦＡ）である。さらに、例えば、パーフルオロエチレンプロペンコポリマー（ＦＥＰ）、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー（ＥＴＦＥ）である。含フッ素樹脂は、屈折率が低い。そのため、含フッ素樹脂を使用することで、低屈折率層１７が、より低屈折率になりやすく、反射率をより低減することができる。
【0051】
また、含フッ素樹脂は、光硬化性含フッ素樹脂であることがさらに好ましい。光硬化性含フッ素樹脂は、下記一般式（１）～（２）で示す光重合性含フッ素モノマーが光重合したものである。そして、構造単位Ｍを、０．１モル％以上１００モル％以下含む。また構造単位Ａを、０モル％を超え９９．９モル％以下含む。さらに数平均分子量が３０，０００以上１，０００，０００以下である。
【0052】
【化1】
【0053】
一般式（１）中、構造単位Ｍは、一般式（２）で示す含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位である。また、構造単位Ａは、一般式（２）で示す含フッ素エチレン性単量体と共重合可能な単量体に由来する構造単位である。
一般式（２）中、Ｘ１およびＸ２は、ＨまたはＦである。また、Ｘ３はＨ、Ｆ、ＣＨ３またはＣＦ３である。Ｘ４およびＸ５は、Ｈ、ＦまたはＣＦ３である。Ｒｆは、炭素数１以上４０以下の含フッ素アルキル基または炭素数２以上１００以下のエーテル結合を有する含フッ素アルキル基に、Ｙ１が１個以上３個以下結合している有機基である。なおＹ１は末端にエチレン性炭素－炭素二重結合を有する炭素数２以上１０以下の１価の有機基である。また、ａは０、１、２または３であり、ｂおよびｃは、０または１である。
光重合性含フッ素樹脂としては、例えば、ダイキン工業株式会社製のＯＰＴＯＯＬ ＡＲ－１１０を例示することができる。また、ダイセルオルネクス社製のＥＢＥＣＲＹＬ８１１０、共栄社化学社製のＬＩＮＣシリーズなどを例示することができる。
また、フッ素原子を含まないバインダの具体例としては、共栄社化学製のライトアクリレートＰＯＢ－Ａ、ＮＰ－Ａ、ＤＣＰ－Ａ、ＴＭＰ－Ａ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＵＡ－３０６Ｈが挙げられる。さらに、新中村化学社製のＮＫエステルＡ－ＤＯＤ－Ｎ、Ａ－２００、Ａ－ＢＰＥ－４が挙げられる。またさらに、東亞合成社製のアロニックスＭ－３１５、Ｍ－３０６、Ｍ－４０８が挙げられる。またさらに、日本化薬社製のＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、ＤＰＥＡ－１２などが挙げられる。これらのバインダは、膜強度を向上させる上で有効である。
一般式（２）中、Ｘ１およびＸ２は、ＨまたはＦである。また、Ｘ３はＨ、Ｆ、ＣＨ３またはＣＦ３である。Ｘ４およびＸ５は、Ｈ、ＦまたはＣＦ３である。Ｒｆは、炭素数１以上４０以下の含フッ素アルキル基または炭素数２以上１００以下のエーテル結合を有する含フッ素アルキル基に、Ｙ１が１個以上３個以下結合している有機基である。なおＹ１は末端にエチレン性炭素－炭素二重結合を有する炭素数２以上１０以下の１価の有機基である。また、ａは０、１、２または３であり、ｂおよびｃは、０または１である。
光重合性含フッ素樹脂としては、例えば、ダイキン工業株式会社製のＯＰＴＯＯＬ ＡＲ－１１０を例示することができる。また、ダイセルオルネクス社製のＥＢＥＣＲＹＬ８１１０、共栄社化学社製のＬＩＮＣシリーズなどを例示することができる。
また、フッ素原子を含まないバインダの具体例としては、共栄社化学製のライトアクリレートＰＯＢ－Ａ、ＮＰ－Ａ、ＤＣＰ－Ａ、ＴＭＰ－Ａ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＵＡ－３０６Ｈが挙げられる。さらに、新中村化学社製のＮＫエステルＡ－ＤＯＤ－Ｎ、Ａ－２００、Ａ－ＢＰＥ－４が挙げられる。またさらに、東亞合成社製のアロニックスＭ－３１５、Ｍ－３０６、Ｍ－４０８が挙げられる。またさらに、日本化薬社製のＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、ＤＰＥＡ－１２などが挙げられる。これらのバインダは、膜強度を向上させる上で有効である。
【0054】
中空シリカ粒子１７２は、外殻層を有し、外殻層の内部は中空または多孔質体となっている。外殻層及び多孔質体は、主に酸化ケイ素（ＳｉＯ２）にて構成する。また外殻層の表面側には、光重合性基および水酸基が多数結合している。光重合性基と外殻層とは、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合及び水素結合のうち、少なくとも一方の結合を介して結合している。光重合性基としては、アクリロイル基及びメタクリロイル基を挙げることができる。すなわち、中空シリカ粒子１７２は、光重合性基として、アクリロイル基及びメタクリロイル基のうち少なくとも一方を含む。光重合性基は、電離放射線硬化性基とも称する。中空シリカ粒子１７２は少なくとも光重合性基を有していればよく、これらの官能基の数、種類は特に限定しない。
【0055】
中空シリカ粒子１７２の平均一次粒子径は、３５ｎｍ以上１２０ｎｍ以下であることが好ましい。また、中空シリカ粒子１７２の平均一次粒子径は、４０ｎｍ以上９０ｎｍ以下であることがより好ましい。平均一次粒子径が３５ｎｍ未満の場合、中空シリカ粒子１７２の空隙率が小さくなりやすい。そのため、低屈折率層１７の屈折率を下げる効果が生じにくくなる。また、中空シリカ粒子１７２の平均一次粒子径が１２０ｎｍを超える場合、低屈折率層１７の表面の凹凸が顕著になりやすい。そのため、防汚性や耐擦傷性が低下しやすい。
【0056】
中空シリカ粒子１７２の平均一次粒子径は、粒子分散液の乾燥膜のＳＥＭ（Scanning Electron Microscope）、ＴＥＭ（Transmission Electron Microscope）およびＳＴＥＭ（Scanning Transmission Electron Microscope）を用いた観察像により測定することが可能である。
【0057】
中空シリカ粒子１７２の配合量は、低屈折率層１７の中で３０質量％以上６５質量％以下であることが好ましい。中空シリカ粒子１７２の配合量が３０質量％未満であると、低屈折率層１７の屈折率が高くなり、反射防止フィルム１０の反射率が高くなりやすい。また、中空シリカ粒子１７２の配合量が６５質量％を超えると、膜強度が低下しやすくなる。さらに、付着物が目立ちやすく、拭き取りがしにくくなる。
【0058】
また、中空シリカ粒子１７２は、中空シリカ粒子１７２の粒径に対する頻度曲線（粒度分布曲線）に複数の極大値を有するようにすることができる。つまり、この場合、中空シリカ粒子１７２は、粒径分布の異なる複数のものからなる。例えば、中空シリカ粒子１７２の平均一次粒子径が、３０ｎｍ、６０ｎｍ、７５ｎｍのものの中から複数選択し、混合して使用する。
【0059】
表面改質剤は、バインダ１７１の表面側に主に分布し、低屈折率層１７の表面を改質する。即ち、表面改質剤は、低屈折率層１７の表面側に偏析している。なお、表面改質剤は、バインダ１７１の内部に存在しても、低屈折率層１７の機能を損なうものではない。
本実施の形態では、表面改質剤は、撥油性の表面改質剤および親油性の表面改質剤を含む。
本実施の形態では、表面改質剤は、撥油性の表面改質剤および親油性の表面改質剤を含む。
【0060】
撥油性の表面改質剤は、バインダ１７１等に配合し表面に偏析することで、膜表面の撥油性を向上させる役割を担う。撥油性の表面改質剤の効果は、オレイン酸等の接触角を測定することで確認することができる。この場合、撥油性の表面改質剤の添加時と未添加時との膜表面の接触角の差（添加時の接触角－未添加時の接触角）により、効果を確認できる。この場合、撥油性の表面改質剤を添加すると接触角は、大きくなる。そして、接触角の差が、１０°以上のものが好ましい。また、接触角の差が、２０°以上のものがより好ましく、３０°以上のものがさらに好ましい。
【0061】
撥油性の表面改質剤は、光重合性基を有するフッ素系化合物であることが好ましい。
具体的な撥油性の表面改質剤としては、例えば、信越化学工業株式会社製のＫＹ－１２０３、ＫＹ－１２０７が挙げられる。また、例えば、ダイキン工業株式会社製のオプツールＤＡＣ－ＨＰが挙げられる。さらに、例えば、ＤＩＣ株式会社製のメガファックＦ－４７７、Ｆ－５５４、Ｆ－５５６、Ｆ－５７０、ＲＳ－５６、ＲＳ－５８、ＲＳ－７５、ＲＳ－７８、ＲＳ－９０が挙げられる。またさらに、例えば、株式会社フロロテクノロジー製のＦＳ－７０２４、ＦＳ－７０２５、ＦＳ－７０２６、ＦＳ－７０３１、ＦＳ－７０３２が挙げられる。またさらに、例えば、第一工業製薬株式会社製のＨ－３５９３、Ｈ－３５９４が挙げられる。さらに、例えば、ＡＧＣ株式会社製のＳＵＲＥＣＯ ＡＦ Ｓｅｒｉｅｓが挙げられる。そして、例えば、株式会社ネオス製のフタージェントＦ－２２２Ｆ、Ｍ－２５０、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２が挙げられる。
具体的な撥油性の表面改質剤としては、例えば、信越化学工業株式会社製のＫＹ－１２０３、ＫＹ－１２０７が挙げられる。また、例えば、ダイキン工業株式会社製のオプツールＤＡＣ－ＨＰが挙げられる。さらに、例えば、ＤＩＣ株式会社製のメガファックＦ－４７７、Ｆ－５５４、Ｆ－５５６、Ｆ－５７０、ＲＳ－５６、ＲＳ－５８、ＲＳ－７５、ＲＳ－７８、ＲＳ－９０が挙げられる。またさらに、例えば、株式会社フロロテクノロジー製のＦＳ－７０２４、ＦＳ－７０２５、ＦＳ－７０２６、ＦＳ－７０３１、ＦＳ－７０３２が挙げられる。またさらに、例えば、第一工業製薬株式会社製のＨ－３５９３、Ｈ－３５９４が挙げられる。さらに、例えば、ＡＧＣ株式会社製のＳＵＲＥＣＯ ＡＦ Ｓｅｒｉｅｓが挙げられる。そして、例えば、株式会社ネオス製のフタージェントＦ－２２２Ｆ、Ｍ－２５０、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２が挙げられる。
【0062】
親油性の表面改質剤は、バインダ１７１等に配合し表面に偏析することで、膜表面の親油性を向上させる役割を担う。親油性の表面改質剤の効果は、オレイン酸等の接触角を測定することで確認することができる。この場合、親油性の表面改質剤の未添加時と添加時との膜表面の接触角の差（未添加時の接触角－添加時の接触角）により、効果を確認できる。この場合、親油性の表面改質剤を添加すると接触角は、小さくなる。そして、接触角の差が、３°以上のものが好ましい。また、接触角の差が、５°以上のものがより好ましく、７°以上のものがさらに好ましい。
【0063】
具体的な親油性の表面改質剤としては、例えば、三洋化成工業株式会社製のメルクリア３５０Ｌが挙げられる。また、例えば、株式会社ネオス製のフタージェント７３０ＬＭ、６０２Ａ、６５０Ａ、６５０ＡＣが挙げられる。
【0064】
低屈折率層１７は、皮脂等の付着物が付着しても、付着物が目立ちにくい。また、付着物の拭き取り除去が容易である。これは、中空シリカ粒子１７２を多く含有させても同様である。
【0065】
＜反射防止フィルム１０の特性＞
続いて、アンチグレア層１６と低屈折率層１７とが積層された反射防止フィルム１０の特性について説明する。
反射防止フィルム１０は、内部ヘイズ値と外部ヘイズ値とを合わせたヘイズ値（トータルヘイズ値）が、２０％以上であることが好ましく、３０％以上であることがより好ましい。反射防止フィルム１０のヘイズ値は、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に準拠して測定することができる。また、反射防止フィルム１０は、ヘイズ値が８０％以下であることが好ましく、６０％以下であることがより好ましい。反射防止フィルム１０のヘイズ値が２０％未満である場合、反射防止フィルム１０の防眩性が不十分となり、液晶パネル１ａに光の映り込みが生じやすくなる。
続いて、アンチグレア層１６と低屈折率層１７とが積層された反射防止フィルム１０の特性について説明する。
反射防止フィルム１０は、内部ヘイズ値と外部ヘイズ値とを合わせたヘイズ値（トータルヘイズ値）が、２０％以上であることが好ましく、３０％以上であることがより好ましい。反射防止フィルム１０のヘイズ値は、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に準拠して測定することができる。また、反射防止フィルム１０は、ヘイズ値が８０％以下であることが好ましく、６０％以下であることがより好ましい。反射防止フィルム１０のヘイズ値が２０％未満である場合、反射防止フィルム１０の防眩性が不十分となり、液晶パネル１ａに光の映り込みが生じやすくなる。
【0066】
また、反射防止フィルム１０は、外部ヘイズ値が、１５％以上であることが好ましく、２０％以上であることがより好ましい。外部ヘイズ値は、反射防止フィルム１０の表面形状に由来し、外部ヘイズ値が大きいほど反射防止フィルム１０の表面で光が散乱しやすくなる。本実施形態では、外部ヘイズ値は、アンチグレア層１６の突出部１６ｂ、および突出部１６ｂ（散乱粒子１６２）の表面に形成された凹凸１６３に由来する。
反射防止フィルム１０の外部ヘイズ値が１５％以上であることで、液晶パネル１ａへの光の映り込みが抑制され、反射防止フィルム１０の防眩性をより高めることができる。
反射防止フィルム１０の外部ヘイズ値は、トータルヘイズ値から、後述する方法で測定した内部ヘイズ値を減算して得ることができる。
反射防止フィルム１０の外部ヘイズ値が１５％以上であることで、液晶パネル１ａへの光の映り込みが抑制され、反射防止フィルム１０の防眩性をより高めることができる。
反射防止フィルム１０の外部ヘイズ値は、トータルヘイズ値から、後述する方法で測定した内部ヘイズ値を減算して得ることができる。
【0067】
さらに、反射防止フィルム１０は、内部ヘイズ値が、１５％以下であることが好ましく、７％以下であることがより好ましい。内部ヘイズ値は、反射防止フィルム１０を構成する各層の組成等に由来し、内部ヘイズ値が小さいほど、反射防止フィルム１０内で光が散乱しにくくなる。
反射防止フィルム１０の内部ヘイズ値が１５％以下であることで、反射防止フィルム１０内で光が散乱することによって液晶パネル１ａに表示される画像の鮮鋭度が低下することが抑制される。
反射防止フィルム１０の内部ヘイズ値は、反射防止フィルム１０の表面に露出する突出部１６ｂの凹凸１６３を、アンチグレア層１６（散乱粒子１６２）を溶解することなく、且つ屈折率がほぼ同一な液体で充填して平坦にした状態で、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に準拠して測定することができる。
反射防止フィルム１０の内部ヘイズ値が１５％以下であることで、反射防止フィルム１０内で光が散乱することによって液晶パネル１ａに表示される画像の鮮鋭度が低下することが抑制される。
反射防止フィルム１０の内部ヘイズ値は、反射防止フィルム１０の表面に露出する突出部１６ｂの凹凸１６３を、アンチグレア層１６（散乱粒子１６２）を溶解することなく、且つ屈折率がほぼ同一な液体で充填して平坦にした状態で、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に準拠して測定することができる。
【0068】
また、反射防止フィルム１０は、低屈折率層１７側から入射角６０°で測定したグロス値が１０以下であることが好ましく、５以下であることがより好ましい。
さらに、反射防止フィルム１０は、低屈折率層１７側から入射角８５°で測定したグロス値が５０以下であることが好ましく、４０以下であることがより好ましい。
反射防止フィルム１０のグロス値が低いほど、反射防止フィルム１０の表面にて光が散乱しやすくなり、液晶パネル１ａへの光の映り込みが抑制される。本実施形態では、反射防止フィルム１０の低屈折率層１７側から入射角６０°で測定したグロス値を１０以下とし、低屈折率層１７側から入射角８５°で測定したグロス値を５０以下とすることで、反射防止フィルム１０の防眩性をより高めることができる。
さらに、反射防止フィルム１０は、低屈折率層１７側から入射角８５°で測定したグロス値が５０以下であることが好ましく、４０以下であることがより好ましい。
反射防止フィルム１０のグロス値が低いほど、反射防止フィルム１０の表面にて光が散乱しやすくなり、液晶パネル１ａへの光の映り込みが抑制される。本実施形態では、反射防止フィルム１０の低屈折率層１７側から入射角６０°で測定したグロス値を１０以下とし、低屈折率層１７側から入射角８５°で測定したグロス値を５０以下とすることで、反射防止フィルム１０の防眩性をより高めることができる。
【0069】
＜異方拡散層１８を備える変形例についての説明＞
続いて、反射防止フィルム１０の変形例について説明する。反射防止フィルム１０の層構造は、図２に示したものに限られない。
図４（ａ）～（ｂ）は、反射防止フィルム１０の変形例について示した図である。図４（ａ）～（ｂ）では、図２と同様の構成については同じ符号を用い、ここでは詳細な説明は省略する。
図４（ａ）～（ｂ）に示す反射防止フィルム１０は、基材１５（基材１５ａ、１５ｂ）、アンチグレア層１６および低屈折率層１７に加えて、異方拡散層１８を備えている点で、図２に示した反射防止フィルム１０とは異なっている。
続いて、反射防止フィルム１０の変形例について説明する。反射防止フィルム１０の層構造は、図２に示したものに限られない。
図４（ａ）～（ｂ）は、反射防止フィルム１０の変形例について示した図である。図４（ａ）～（ｂ）では、図２と同様の構成については同じ符号を用い、ここでは詳細な説明は省略する。
図４（ａ）～（ｂ）に示す反射防止フィルム１０は、基材１５（基材１５ａ、１５ｂ）、アンチグレア層１６および低屈折率層１７に加えて、異方拡散層１８を備えている点で、図２に示した反射防止フィルム１０とは異なっている。
【0070】
図４（ａ）に示す反射防止フィルム１０は、基材１５、異方拡散層１８、アンチグレア層１６および低屈折率層１７が、この順で積層されている。
また、図４（ｂ）に示す反射防止フィルム１０は、基材１５ａ、異方拡散層１８、基材１５ｂ、アンチグレア層１６および低屈折率層１７が、この順で積層されている。付言すると、図４（ｂ）に示す例では、異方拡散層１８が粘着性を有しており、基材１５ａと基材１５ｂとが異方拡散層１８を介して貼り合わされている。
また、図４（ｂ）に示す反射防止フィルム１０は、基材１５ａ、異方拡散層１８、基材１５ｂ、アンチグレア層１６および低屈折率層１７が、この順で積層されている。付言すると、図４（ｂ）に示す例では、異方拡散層１８が粘着性を有しており、基材１５ａと基材１５ｂとが異方拡散層１８を介して貼り合わされている。
【0071】
異方拡散層１８は、光を異方拡散させる層である。ここで、「異方拡散」とは、特定方向に強い光拡散性を有する性質である。そして、「異方拡散層」は、特定方向に強い光拡散性を有する拡散層である。異方拡散層を有する部材にレーザ光等の等方的な光（円形状の光）を照射した場合、その透過光は、直線状または楕円状となる。
【0072】
異方拡散層１８は、少なくとも、樹脂部１８１と、異方性粒子１８２とを備える。
樹脂部１８１は、異方性粒子１８２を分散する樹脂からなる。よって、樹脂部１８１は、異方性粒子１８２を、長軸方向が一方向に沿って配列するように固定する分散層であると言うこともできる。
異方性粒子１８２は、異方形状を有し、樹脂部１８１内で長軸方向が一方向に沿うように配列する。この場合、図４（ａ）～（ｂ）に示すように、異方性粒子１８２は、長軸方向が、異方拡散層１８の面内方向に沿って配列する。
樹脂部１８１は、異方性粒子１８２を分散する樹脂からなる。よって、樹脂部１８１は、異方性粒子１８２を、長軸方向が一方向に沿って配列するように固定する分散層であると言うこともできる。
異方性粒子１８２は、異方形状を有し、樹脂部１８１内で長軸方向が一方向に沿うように配列する。この場合、図４（ａ）～（ｂ）に示すように、異方性粒子１８２は、長軸方向が、異方拡散層１８の面内方向に沿って配列する。
【0073】
樹脂部１８１は、上述したように樹脂からなる。樹脂部１８１の屈折率が１．４５以上１．６５以下であることが好ましい。異方拡散層１８の正反射光成分を除いた反射率であるＳＣＥ（Specular Component Exclude）は、１．０％以下であることが好ましい。樹脂部１８１の屈折率を、この範囲とすることで、ＳＣＥが１．０％以下になりやすくなる。対して、この範囲を外れると、ＳＣＥが１．０％を越えやすくなる。
【0074】
樹脂部１８１を構成する樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂を使用することができる。また、例えば、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂を使用することができる。
なお、図４（ｂ）に示す例のように、異方拡散層１８が粘着性を有する場合、樹脂部１８１を構成する樹脂として粘着性を有する樹脂を選択すればよい。
なお、図４（ｂ）に示す例のように、異方拡散層１８が粘着性を有する場合、樹脂部１８１を構成する樹脂として粘着性を有する樹脂を選択すればよい。
【0075】
異方性粒子１８２は、異方形状であり、本実施の形態では、楕円球形状をなす。そして、異方性粒子１８２は、この形状に起因して、長軸方向の屈折率と短軸方向の屈折率とが異なる。これにより、異方拡散層１８に、異方拡散性が発現する。また、異方性粒子１８２の有する屈折率と、樹脂部１８１との屈折率は、異なる。なお、異方性粒子１８２の形状は、異方形状であれば、特に限られるものではない。例えば、紡錘形状、針状形状、繊維状形状、円筒形状、円盤形状などであってもよい。
【0076】
ここで、異方性粒子１８２の長軸方向の屈折率をｎａｘ、短軸方向の屈折率をｎａｙ、樹脂部１８１の屈折率をｎｂとする。異方性粒子１８２による異方拡散方向が短軸方向である場合、異方性粒子１８２の長軸方向の屈折率ｎａｘと樹脂部１８１の屈折率ｎｂとの差は、小さい方が好ましい。また、異方性粒子１８２による異方拡散方向が長軸方向である場合、異方性粒子１８２の短軸方向の屈折率ｎａｙと樹脂部１８１の屈折率ｎｂとの差は、小さい方が好ましい。つまり、異方拡散方向の垂直方向の異方性粒子１８２の屈折率ｎａｘ、ｎａｙと、樹脂部１８１の屈折率ｎｂとの差は、小さい方が好ましい。
さらに具体的には、下記（Ｉ）および（ＩＩ）の関係の少なくとも一方が成り立つことが好ましい。異方性粒子１８２と樹脂部１８１との屈折率を以下の範囲内とすることで、異方拡散方向と垂直な方向の後方散乱を抑制する。そして、異方拡散層１８のＳＣＥを低くすることが可能となる。
さらに具体的には、下記（Ｉ）および（ＩＩ）の関係の少なくとも一方が成り立つことが好ましい。異方性粒子１８２と樹脂部１８１との屈折率を以下の範囲内とすることで、異方拡散方向と垂直な方向の後方散乱を抑制する。そして、異方拡散層１８のＳＣＥを低くすることが可能となる。
【0077】
（Ｉ）｜ｎｂ－ｎａｘ｜＜０．０４かつ０．０４＜｜ｎｂ－ｎａｙ｜＜０．５０
（ＩＩ）｜ｎｂ－ｎａｙ｜＜０．０４かつ０．０４＜｜ｎｂ－ｎａｘ｜＜０．５０
（ＩＩ）｜ｎｂ－ｎａｙ｜＜０．０４かつ０．０４＜｜ｎｂ－ｎａｘ｜＜０．５０
【0078】
また、異方拡散層１８のＳＣＥを、１．０％以下にするため、異方拡散層１８の長さやアスペクト比が下記の範囲であることが好ましい。そしてこの範囲を外れると、ＳＣＥが１．０％を越えやすくなる。
即ち、異方性粒子１８２は、長軸方向の長さが、０．５μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましい。また、異方性粒子１８２は、長軸方向の長さが、１μｍ以上２００μｍ以下であることがさらに好ましい。
そして、異方性粒子１８２は、短軸方向の長さが、０．０５μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましい。また、異方性粒子１８２は、短軸方向の長さが、０．１μｍ以上１０μｍ以下であることがさらに好ましい。
異方性粒子１８２を、このようなサイズにすることで、良好な異方拡散性を確保しつつ、異方性粒子１８２と樹脂部１８１との界面での後方散乱を抑制し、異方拡散層のＳＣＥを低減しやすくなる。
即ち、異方性粒子１８２は、長軸方向の長さが、０．５μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましい。また、異方性粒子１８２は、長軸方向の長さが、１μｍ以上２００μｍ以下であることがさらに好ましい。
そして、異方性粒子１８２は、短軸方向の長さが、０．０５μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましい。また、異方性粒子１８２は、短軸方向の長さが、０．１μｍ以上１０μｍ以下であることがさらに好ましい。
異方性粒子１８２を、このようなサイズにすることで、良好な異方拡散性を確保しつつ、異方性粒子１８２と樹脂部１８１との界面での後方散乱を抑制し、異方拡散層のＳＣＥを低減しやすくなる。
【0079】
さらに、異方性粒子１８２の長軸方向の長さと短軸方向の長さとの比であるアスペクト比が、１０以上であることが好ましい。また、アスペクト比が、２０以上であることがさらに好ましい。異方性粒子１８２のアスペクト比をこの範囲とすることで、ディスプレイの視野角特性を向上させることが可能な異方拡散性を確保しやすくなる。
【0080】
また、同様の観点から、異方性粒子１８２と樹脂部１８１との界面が相溶していることが好ましい。これにより、両者の界面での屈折率が、連続して変化し、後方散乱を低減することが可能となる。そして、ＳＣＥをさらに小さくしやすくなる。なお、この場合、異方性粒子１８２と樹脂部１８１と境界は、相溶しているため、曖昧である。しかしこの場合でも異方性粒子１８２は、樹脂部１８１中に粒子として存在することは、明らかである。界面の相溶化の方法としては、相溶化剤を配合する方法が挙げられる。界面が相溶していることは、異方拡散層１８の断面を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）で確認することができる。
【0081】
異方性粒子１８２は、例えば、金属酸化物、炭酸塩化合物、水酸化化合物およびリン酸塩化合物のうち少なくとも１つを含む。金属酸化物は、例えば、シリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛などである。また、異方性粒子１８２は、例えば、炭酸カルシウム、炭化ケイ素、炭化窒素、塩基性硫酸マグネシウムなどの化合物である。また、異方性粒子１８２は、ガラスファイバ、（メタ）アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂などである。
【0082】
異方拡散層１８は、ヘイズ値が２０％以上８０％以下であることが好ましい。また、ヘイズ値が３０％以上６５％以下であることがさらに好ましい。これにより、異方拡散層１８をディスプレイに搭載した際にぎらつきの少ないシャープな画質を確保することが可能となる。
【0083】
なお、異方拡散層１８の異方拡散性は、変角光度計（ゴニオフォトメーター）で測定することが可能である。光線を異方拡散層１８に対し入射角０°（垂直方向）で照射した際の透過光を、受光角を変化させながら取得する。そしてこれにより、透過散乱光の強度分布状態を測定する。これを異方拡散方向と異方拡散方向に対して垂直な方向とで取得することで異方拡散性を定量的に評価することが可能となる。本実施の形態では、異方拡散性は、異方拡散度（ＡＤＶ）にて評価する。異方拡散度は、以下の数式により算出できる。そして、異方拡散層１８は、異方拡散度（ＡＤＶ）が３以上であることが好ましい。また、ＡＤＶは、１５以上であることがより好ましく、２５以上であることがさらに好ましい。
【0084】
ＡＤＶ＝（変角光度計で測定した異方拡散方向の５°透過光量）／（変角光度計で測定した異方拡散方向と垂直方向の５°透過光量）
【0085】
ここで、異方拡散層１８は、光を異方拡散することができれば、図４（ａ）～（ｂ）に示したような樹脂部１８１と異方性粒子１８２とを有する形態には限定されない。
図５（ａ）～（ｂ）は、異方拡散層１８の他の形態を説明する図である。
図５（ａ）に示す異方拡散層１８は、空孔１８３ａを含有するコア層１８３と、コア層１８３を保護するためのスキン層１８４とを有する。コア層１８３内の空孔１８３ａは、略直線状の形状を有するクレーズであり、クレーズ加工等により形成される。この異方拡散層１８では、コア層１８３を構成する樹脂と空孔１８３ａとの界面で入射光が異方的に拡散し、反射防止フィルム１０の視野角の拡大に寄与する。このような異方拡散層１８の具体例としては、国際公開第２０１９／１５６００３号の実施例１～５等が挙げられる。
図５（ａ）～（ｂ）は、異方拡散層１８の他の形態を説明する図である。
図５（ａ）に示す異方拡散層１８は、空孔１８３ａを含有するコア層１８３と、コア層１８３を保護するためのスキン層１８４とを有する。コア層１８３内の空孔１８３ａは、略直線状の形状を有するクレーズであり、クレーズ加工等により形成される。この異方拡散層１８では、コア層１８３を構成する樹脂と空孔１８３ａとの界面で入射光が異方的に拡散し、反射防止フィルム１０の視野角の拡大に寄与する。このような異方拡散層１８の具体例としては、国際公開第２０１９／１５６００３号の実施例１～５等が挙げられる。
【0086】
また、図５（ｂ）に示す異方拡散層１８は、層内に凹凸状の界面１８５を有する。界面１８５は、例えば屈折率の異なる樹脂により形成される。このような異方拡散層１８では、界面１８５で入射光が異方的に拡散し、反射防止フィルム１０の視野角の拡大に寄与する。このような異方拡散層１８の具体例としては、特開２０２０－１６８８１号公報に記載された例が挙げられる。
【0087】
＜高屈折率層１９を備える変形例についての説明＞
続いて、反射防止フィルム１０の他の変形例について説明する。
図６は、反射防止フィルム１０の他の変形例について示した図である。なお、図６では、図２と同様の構成については同じ符号を用い、ここでは詳細な説明は省略する。
図６に示す反射防止フィルム１０は、基材１５、アンチグレア層１６、高屈折率層１９および低屈折率層１７が、この順で積層されている。付言すると、図６に示す反射防止フィルム１０は、高屈折率層１９を備えている点で、図２に示した反射防止フィルム１０とは異なっている。
続いて、反射防止フィルム１０の他の変形例について説明する。
図６は、反射防止フィルム１０の他の変形例について示した図である。なお、図６では、図２と同様の構成については同じ符号を用い、ここでは詳細な説明は省略する。
図６に示す反射防止フィルム１０は、基材１５、アンチグレア層１６、高屈折率層１９および低屈折率層１７が、この順で積層されている。付言すると、図６に示す反射防止フィルム１０は、高屈折率層１９を備えている点で、図２に示した反射防止フィルム１０とは異なっている。
【0088】
高屈折率層１９は、液晶パネル１ａの反射率をさらに低減させるための層である。
高屈折率層１９は、低屈折率層１７の下層、付言すると、アンチグレア層１６の平坦部１６ａと低屈折率層１７との間に設けられる。
高屈折率層１９は、バインダと高屈折率粒子とを含む。高屈折率層１９は、例えば、バインダと高屈折率粒子とを含んだ塗布溶液から形成することが可能である。高屈折率層１９は、単層で形成しても多層で形成してもよいが、製造コストの観点からなるべく少ない層数で形成することが好ましい。
高屈折率層１９は、低屈折率層１７の下層、付言すると、アンチグレア層１６の平坦部１６ａと低屈折率層１７との間に設けられる。
高屈折率層１９は、バインダと高屈折率粒子とを含む。高屈折率層１９は、例えば、バインダと高屈折率粒子とを含んだ塗布溶液から形成することが可能である。高屈折率層１９は、単層で形成しても多層で形成してもよいが、製造コストの観点からなるべく少ない層数で形成することが好ましい。
【0089】
液晶パネル１ａの反射率をより低減させるためには、高屈折率層１９の屈折率は高くすることが好ましい。高屈折率層１９の屈折率としては、１．５５以上１．８０以下が好ましく、１．６０以上１．７５以下とすることがより好ましい。
また、高屈折率層１９の厚みの上限としては、５００ｎｍ以下が好ましい。また、３５０ｎｍ以下がより好ましく、２００ｎｍ以下がさらに好ましい。そして、高屈折率層１９の厚みの下限としては、５０ｎｍ以上が好ましい。また、８０ｎｍ以上がより好ましく、１００ｎｍ以上がさらに好ましい。
また、高屈折率層１９の厚みの上限としては、５００ｎｍ以下が好ましい。また、３５０ｎｍ以下がより好ましく、２００ｎｍ以下がさらに好ましい。そして、高屈折率層１９の厚みの下限としては、５０ｎｍ以上が好ましい。また、８０ｎｍ以上がより好ましく、１００ｎｍ以上がさらに好ましい。
【0090】
高屈折率粒子としては、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化スズ、酸化イットリウム、チタン酸バリウム、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、リンドープ酸化スズ（ＰＴＯ）、インジウムドープ酸化スズ（ＩＴＯ）、硫化亜鉛などが挙げられる。耐久安定性の観点から、酸化ジルコニウム、チタン酸バリウム、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、リンドープ酸化スズ（ＰＴＯ）、インジウムドープ酸化スズ（ＩＴＯ）が特に好ましい。
【0091】
高屈折率粒子の一次粒子の平均粒子径（平均一次粒子径）は、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下が好ましい。また、３ｎｍ以上１００ｎｍ以下がより好ましく、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下がさらに好ましい。
高屈折率粒子の平均一次粒子径は、粒子分散液の乾燥膜のＳＥＭ（Scanning Electron Microscope）、ＴＥＭ（Transmission Electron Microscope）およびＳＴＥＭ（Scanning Transmission Electron Microscope）を用いた観察像により測定することが可能である。
高屈折率粒子の平均一次粒子径は、粒子分散液の乾燥膜のＳＥＭ（Scanning Electron Microscope）、ＴＥＭ（Transmission Electron Microscope）およびＳＴＥＭ（Scanning Transmission Electron Microscope）を用いた観察像により測定することが可能である。
【0092】
上記高屈折率粒子は、凝集を抑制する観点で分散安定化処理が施されていることが好ましい。分散安定化の手段としては、粒子を表面処理したものを用いたり、分散剤を添加したりする手段が挙げられる。また、高屈折率粒子よりも表面電荷量の少ない別の粒子を添加する手段も挙げられる。
【0093】
高屈折率粒子の含有量は、バインダ１００質量部に対して、２０質量部以上５００質量部以下であることが好ましい。また、５０質量部以上４００質量部以下であることがより好ましく、１００質量部以上３００質量部以下であることがさらに好ましい。
【0094】
ただし、高屈折率粒子の含有量を低減するためにバインダの屈折率は１．５０以上１．７０以下程度であることが好ましい。
高屈折率層１９は、バインダ、高屈折率粒子の他に必要に応じて、他の成分を含有してもよい。例えば、重合開始剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、界面活性剤等の添加剤および希釈溶媒を含んでいてもよい。レベリング剤や界面活性剤等の添加により高屈折率層１９の表面状態を制御する、その結果、上層の性能を改善することが可能となる。この場合、上層は、例えば、低屈折率層１７である。
高屈折率層１９は、バインダ、高屈折率粒子の他に必要に応じて、他の成分を含有してもよい。例えば、重合開始剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、界面活性剤等の添加剤および希釈溶媒を含んでいてもよい。レベリング剤や界面活性剤等の添加により高屈折率層１９の表面状態を制御する、その結果、上層の性能を改善することが可能となる。この場合、上層は、例えば、低屈折率層１７である。
【0095】
なお、図示は省略するが、図６に示した高屈折率層１９は、図４（ａ）～（ｂ）、図５（ａ）～（ｂ）に示した異方拡散層１８を有する反射防止フィルム１０に適用してもよい。付言すると、図４（ａ）～（ｂ）、図５（ａ）～（ｂ）に示した異方拡散層１８を有する反射防止フィルム１０は、図６と同様に、アンチグレア層１６と低屈折率層１７との間に、さらに高屈折率層１９を備えてもよい。
【0096】
＜偏光板についての説明＞
また、本実施形態のアンチグレア層１６および低屈折率層１７は、偏光板の表面フィルムとして使用することができる。
図７（ａ）～（ｂ）は、本実施の形態が適用される偏光板の構成例について示した図である。なお、図７（ａ）～（ｂ）では、図２と同様の構成については同じ符号を用い、ここでは詳細な説明は省略する。
図７（ａ）に示す偏光板は、基材１５ａ、接着層２１ａおよび偏光フィルム１２がこの順で積層されている。さらにその上に、接着層２１ｂ、基材１５ｂ、アンチグレア層１６および低屈折率層１７が積層する。なお、この場合、基材１５および接着層２１は、それぞれ２層形成されるが、同じ材料から構成されていてもよく、異なる材料から構成されていてもよい。
この場合、基材１５ａ上に偏光フィルム１２を接着層２１ａにより貼り合わせる。そして、さらにその上に、基材１５ｂ、および低屈折率層１７からなる樹脂膜を、接着層２１ｂにより貼り合わせる。接着層２１ａ、２１ｂは、例えば、ＵＶ（ultraviolet）接着剤による層である。また、接着層２１ａ、２１ｂは、ＰＳＡ（Pressure Sensitive Adhesive：感圧接着剤）であってもよい。さらに、接着層２１ａ、２１ｂは、ＯＣＡ（Optical Clear Adhesive）であってもよい。またさらに、接着層２１ａ、２１ｂは、ＯＣＲ（Optical Clear Resin）であってもよい。そしてこの中でも、ＵＶ接着剤を好適に用いることができる。
また、本実施形態のアンチグレア層１６および低屈折率層１７は、偏光板の表面フィルムとして使用することができる。
図７（ａ）～（ｂ）は、本実施の形態が適用される偏光板の構成例について示した図である。なお、図７（ａ）～（ｂ）では、図２と同様の構成については同じ符号を用い、ここでは詳細な説明は省略する。
図７（ａ）に示す偏光板は、基材１５ａ、接着層２１ａおよび偏光フィルム１２がこの順で積層されている。さらにその上に、接着層２１ｂ、基材１５ｂ、アンチグレア層１６および低屈折率層１７が積層する。なお、この場合、基材１５および接着層２１は、それぞれ２層形成されるが、同じ材料から構成されていてもよく、異なる材料から構成されていてもよい。
この場合、基材１５ａ上に偏光フィルム１２を接着層２１ａにより貼り合わせる。そして、さらにその上に、基材１５ｂ、および低屈折率層１７からなる樹脂膜を、接着層２１ｂにより貼り合わせる。接着層２１ａ、２１ｂは、例えば、ＵＶ（ultraviolet）接着剤による層である。また、接着層２１ａ、２１ｂは、ＰＳＡ（Pressure Sensitive Adhesive：感圧接着剤）であってもよい。さらに、接着層２１ａ、２１ｂは、ＯＣＡ（Optical Clear Adhesive）であってもよい。またさらに、接着層２１ａ、２１ｂは、ＯＣＲ（Optical Clear Resin）であってもよい。そしてこの中でも、ＵＶ接着剤を好適に用いることができる。
【0097】
また、図７（ｂ）に示す偏光板は、基材１５ａ、接着層２１ａおよび偏光フィルム１２が積層する。そして、その上に、接着層２１ｂおよび基材１５ｃが積層する。さらにその上に、接着層２１ｃ、基材１５ｂ、および低屈折率層１７が積層する。つまり、図７（ｂ）に示す偏光板は、図７（ａ）の偏光板に比較して、基材１５ｃ、接着層２１ｃが加わる点が異なる。この場合、例えば、接着層２１ａ、２１ｂを、ＵＶ接着剤による層とし、接着層２１ｃをＰＳＡによる層とすることができる。
【0098】
なお、図示は省略するが、アンチグレア層１６および低屈折率層１７を偏光板に適用する場合に、上述した異方拡散層１８（図４（ａ）～（ｂ）、図５（ａ）～（ｂ）参照）や高屈折率層１９（図６参照）をさらに付加してもよい。
【0099】
＜反射防止フィルム１０の作成方法の説明＞
次に、反射防止フィルム１０の作成方法について説明する。ここでは、図２に示したような層構造を有する反射防止フィルム１０の作成方法を例に挙げて説明する。図８（ａ）は、反射防止フィルム１０の作成方法の一例を示したフローチャートであり、図８（ｂ）は、反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６および低屈折率層１７の作成方法を示したフローチャートである。
次に、反射防止フィルム１０の作成方法について説明する。ここでは、図２に示したような層構造を有する反射防止フィルム１０の作成方法を例に挙げて説明する。図８（ａ）は、反射防止フィルム１０の作成方法の一例を示したフローチャートであり、図８（ｂ）は、反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６および低屈折率層１７の作成方法を示したフローチャートである。
【0100】
まず、基材１５上に、アンチグレア層１６を作成する（ステップ１０１：アンチグレア層作成工程）。例えば、基材１５上に、アンチグレア層１６の基となる塗布溶液を塗工することで、アンチグレア層１６を作成する。
次に、アンチグレア層１６上に、低屈折率層１７を作成する（ステップ１０２：低屈折率層作成工程）。例えば、アンチグレア層１６上に、低屈折率層１７の基となる塗布溶液を塗工することで、低屈折率層１７を作成する。この例では、アンチグレア層１６における平坦部１６ａ上に、低屈折率層１７を作成する。
次に、アンチグレア層１６上に、低屈折率層１７を作成する（ステップ１０２：低屈折率層作成工程）。例えば、アンチグレア層１６上に、低屈折率層１７の基となる塗布溶液を塗工することで、低屈折率層１７を作成する。この例では、アンチグレア層１６における平坦部１６ａ上に、低屈折率層１７を作成する。
【0101】
アンチグレア層１６および低屈折率層１７の各層は、いずれもウェットコーティング法を用いて、以下のように作成することができる。
まず、各層を形成するための塗布溶液を準備する（ステップ２０１：準備工程）。ここで、「準備」とは、塗布溶液を作成することで準備する場合の他、塗布溶液を購入して準備する場合も含む。
まず、各層を形成するための塗布溶液を準備する（ステップ２０１：準備工程）。ここで、「準備」とは、塗布溶液を作成することで準備する場合の他、塗布溶液を購入して準備する場合も含む。
【0102】
塗布溶液は、固形分と溶媒とからなる。
アンチグレア層１６を作成する場合、固形分は、バインダ１６１の基となるモノマー、オリゴマーおよびポリマーを含む。固形分は、散乱粒子１６２を含む。モノマーおよび／またはオリゴマーは、重合することで、バインダ１６１に含まれる樹脂となる。本実施の形態では、重合は、光重合や熱重合等である。以下では、このモノマーおよび／またはオリゴマーを、「バインダ成分」と言うことがある。
低屈折率層１７を作成する場合、固形分は、バインダ１７１の基となるバインダ成分を含む。また、固形分は、中空シリカ粒子１７２および表面改質剤を含む。
また、各層の固形分として、重合開始剤を含む。また、固形分として、分散剤、消泡剤、紫外線吸収剤、レベリング剤等の添加剤を含んでいてもよい。
そしてそれぞれの固形分を溶媒に投入し、攪拌することで、各層ごとの塗布溶液を作成する。
アンチグレア層１６を作成する場合、固形分は、バインダ１６１の基となるモノマー、オリゴマーおよびポリマーを含む。固形分は、散乱粒子１６２を含む。モノマーおよび／またはオリゴマーは、重合することで、バインダ１６１に含まれる樹脂となる。本実施の形態では、重合は、光重合や熱重合等である。以下では、このモノマーおよび／またはオリゴマーを、「バインダ成分」と言うことがある。
低屈折率層１７を作成する場合、固形分は、バインダ１７１の基となるバインダ成分を含む。また、固形分は、中空シリカ粒子１７２および表面改質剤を含む。
また、各層の固形分として、重合開始剤を含む。また、固形分として、分散剤、消泡剤、紫外線吸収剤、レベリング剤等の添加剤を含んでいてもよい。
そしてそれぞれの固形分を溶媒に投入し、攪拌することで、各層ごとの塗布溶液を作成する。
【0103】
溶媒は、固形分を分散する。溶媒としては、例えば、塩化メチレン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトンを使用することができる。また、ＭＥＫ（メチルエチルケトン：methyl ethyl ketone）、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）、エタノール、メタノール、ノルマルプロピルアルコールを使用することができる。さらに、イソプロピルアルコール、Ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、１－ブタノール、ミネラルスピリット、オレイン酸、シクロヘキサノンを使用することができる。またさらに、ＮＭＰ（Ｎ－メチル－２－ピロリドン：N-methylpyrrolidone）、ＤＭＰ（フタル酸ジメチル：dimethyl phthalate）、ジメチルカーボネート、ジオキソランを使用することができる。
塗布溶液の固形分濃度は、例えば２質量％以上８０質量％以下とすることができる。
アンチグレア層１６の塗布溶液は、散乱粒子１６２の平均粒子径や配合量等に応じて、アンチグレア層１６において平坦部１６ａと突出部１６ｂとの面積比が所望の範囲となるように固形分濃度を設定する。
また、低屈折率層１７の塗布溶液は、塗工時の膜厚均一性が確保されるよう、アンチグレア層１６と比べて固形分濃度を低くすることが好ましい。
塗布溶液の固形分濃度は、例えば２質量％以上８０質量％以下とすることができる。
アンチグレア層１６の塗布溶液は、散乱粒子１６２の平均粒子径や配合量等に応じて、アンチグレア層１６において平坦部１６ａと突出部１６ｂとの面積比が所望の範囲となるように固形分濃度を設定する。
また、低屈折率層１７の塗布溶液は、塗工時の膜厚均一性が確保されるよう、アンチグレア層１６と比べて固形分濃度を低くすることが好ましい。
【0104】
次に、塗布溶液を塗布（塗工）し、塗布膜を作成する（ステップ２０２：塗布工程）。塗布を行う方法は、特に限られるものではないが、ダイ方式やマイクログラビア方式で塗布する方法で行うことができる。また、塗布溶液を滴下し、回転させ、遠心力で、均一な厚さの膜状体を作成する方法を採用することもできる。塗布溶液は加温した状態で塗工してもよい。
【0105】
具体的には、基材１５上にアンチグレア層１６の塗布溶液を塗布（塗工）し、アンチグレア層１６の基となる塗布膜を作成する。
また、アンチグレア層１６上に低屈折率層１７の塗布溶液を塗布（塗工）し、低屈折率層１７の基となる塗布膜を作成する。ここで、アンチグレア層１６では、散乱粒子１６２が突出した突出部１６ｂが一部の領域に形成されており、突出部１６ｂ以外の部分は表面が平坦な平坦部１６ａとなっている。これにより、低屈折率層１７の塗布溶液を、アンチグレア層１６の平坦部１６ａに対して均一に塗布することが可能となる。
また、アンチグレア層１６上に低屈折率層１７の塗布溶液を塗布（塗工）し、低屈折率層１７の基となる塗布膜を作成する。ここで、アンチグレア層１６では、散乱粒子１６２が突出した突出部１６ｂが一部の領域に形成されており、突出部１６ｂ以外の部分は表面が平坦な平坦部１６ａとなっている。これにより、低屈折率層１７の塗布溶液を、アンチグレア層１６の平坦部１６ａに対して均一に塗布することが可能となる。
【0106】
続いて、塗布した塗布膜を乾燥させる（ステップ２０３：乾燥工程）。乾燥は、室温で放置して、溶媒を揮発させる方法や、加熱または真空引きなどにより溶媒を強制的に除去する方法により行うことができる。
【0107】
続いて、紫外線や熱等のエネルギーを塗布膜に照射し、塗布膜中のバインダ成分を光重合させる（ステップ２０４：光重合工程）。これにより、塗布膜中のバインダ成分が硬化し、アンチグレア層１６のバインダ１６１、低屈折率層１７のバインダ１７１となる。
以上の工程により、アンチグレア層１６および低屈折率層１７の各層を作成することができる。なお、乾燥工程と光重合工程は、塗布した塗布溶液を硬化させる硬化工程として捉えることができる。
以上の工程により、アンチグレア層１６および低屈折率層１７の各層を作成することができる。なお、乾燥工程と光重合工程は、塗布した塗布溶液を硬化させる硬化工程として捉えることができる。
【0108】
以上説明したように、本実施の形態の反射防止フィルム１０は、アンチグレア層１６が、平坦な表面形状を有する平坦部１６ａと、平坦部１６ａの表面から散乱粒子１６２の一部が突出することで形成された突出部１６ｂとを有している。そして、突出部１６ｂには、散乱粒子１６２に由来する凹凸１６３が形成されている。
このような構成を有することで、アンチグレア層１６の作用により、反射防止フィルム１０の防眩性を高くすることができる。さらに、アンチグレア層１６に対する低屈折率層１７の塗工性の低下を抑制して、低屈折率層１７の作用により、液晶パネル１ａに表示される画像の鮮鋭度を高めることが可能となる。
このような構成を有することで、アンチグレア層１６の作用により、反射防止フィルム１０の防眩性を高くすることができる。さらに、アンチグレア層１６に対する低屈折率層１７の塗工性の低下を抑制して、低屈折率層１７の作用により、液晶パネル１ａに表示される画像の鮮鋭度を高めることが可能となる。
【0109】
なお、上述した例では、アンチグレア層１６の突出部１６ｂは、バインダ１６１の表面から散乱粒子１６２の一部が突出することで形成されているが、これに限られない。例えば、アンチグレア層１６が散乱粒子１６２を有しない場合には、バインダ１６１が平坦部１６ａと、平坦部１６ａから突出し表面に凹凸形状が形成された突出部１６ｂとを備えていればよい。この場合、アンチグレア層１６は、突出部１６ｂの面積に対する平坦部１６ａの面積の比率（平坦部１６ａの面積／突出部１６ｂの面積）が、２．０以上３０以下であり、且つ、突出部１６ｂにおける表面粗さが、平坦部１６ａにおける表面粗さよりも大きければよい。
このようなアンチグレア層１６は、例えば、平坦部１６ａと突出部１６ｂとに対応する部分を有する型（モールド）を用いて、バインダ１６１を構成する樹脂を、インプリント技術により加工して作成できる。
このようなアンチグレア層１６は、例えば、平坦部１６ａと突出部１６ｂとに対応する部分を有する型（モールド）を用いて、バインダ１６１を構成する樹脂を、インプリント技術により加工して作成できる。
【0110】
また、上述した例では、反射防止フィルム１０は、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７が積層された層構造を有していたが、反射防止フィルム１０は、必ずしも基材１５を有していなくてもよい。
また、上述した例では、表示装置１は、液晶パネル１ａにアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成する場合を示した。ただし、これに限るものではなく、例えば、有機ＥＬやブラウン管に形成してもよい。
またこれらの層を、ガラスやプラスチックなどの材料からなるレンズなどの表面に形成してもよい。この場合、レンズ等は基材の一例である。また、アンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成したレンズ等は、光学部材の一例である。
また、上述した例では、表示装置１は、液晶パネル１ａにアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成する場合を示した。ただし、これに限るものではなく、例えば、有機ＥＬやブラウン管に形成してもよい。
またこれらの層を、ガラスやプラスチックなどの材料からなるレンズなどの表面に形成してもよい。この場合、レンズ等は基材の一例である。また、アンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成したレンズ等は、光学部材の一例である。
【実施例0111】
以下、本発明を、実施例を用いてより詳細に説明する。本発明は、その要旨を超えない限りこれらの実施例により限定されるものではない。
【0112】
〔アンチグレア層１６の作成〕
先ず、アンチグレア層１６の作成方法について説明する。ここでは、表１～表３に示す組成で、アンチグレア層１６の基となる塗布溶液Ａ－１～Ａ－２１を作成した。
先ず、アンチグレア層１６の作成方法について説明する。ここでは、表１～表３に示す組成で、アンチグレア層１６の基となる塗布溶液Ａ－１～Ａ－２１を作成した。
【0113】
（塗布溶液Ａ－１）
塗布溶液Ａ－１は、バインダ１６１の基となるバインダ成分、散乱粒子１６２を含む。また、塗布溶液Ａ－１は、光重合開始剤、表面改質剤、消泡剤、および溶媒を含む。
バインダ成分としては、共栄社化学株式会社製のＵＡ－３０６Ｈと、日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０とを使用した。また、散乱粒子１６２として、積水化成品工業株式会社製のテクポリマーＭＢＰシリーズ（表面に凹凸を有するＰＭＭＡ粒子。平均粒子径：４μｍ、屈折率：１．４９、比表面積：１１０ｍ２／ｇ）を使用した。さらに、光重合開始剤として、ＢＡＳＦジャパン株式会社製のイルガキュア１８４を使用した。さらにまた、レベリング剤として、ＤＩＣ株式会社製のメガファックＦ－５５６を使用した。また、消泡剤として、ＡＬＴＡＮＡ社製のＢＹＫ－０６６Ｎを使用した。これらは、塗布溶液Ａ－１の固形分であり、配合比（質量配合比）は、表１に示した通りである。
そして、これらの固形分を、溶媒であるトルエンおよびイソプロピルアルコールの混合液に投入し、ホモジナイザーを用いて５分間攪拌処理を行い、塗布溶液Ａ－１を得た。この際、得られる塗布溶液Ａ－１の固形分濃度が５０質量％となるようにした。溶媒の配合比は、表１に示した通りである。
塗布溶液Ａ－１は、バインダ１６１の基となるバインダ成分、散乱粒子１６２を含む。また、塗布溶液Ａ－１は、光重合開始剤、表面改質剤、消泡剤、および溶媒を含む。
バインダ成分としては、共栄社化学株式会社製のＵＡ－３０６Ｈと、日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０とを使用した。また、散乱粒子１６２として、積水化成品工業株式会社製のテクポリマーＭＢＰシリーズ（表面に凹凸を有するＰＭＭＡ粒子。平均粒子径：４μｍ、屈折率：１．４９、比表面積：１１０ｍ２／ｇ）を使用した。さらに、光重合開始剤として、ＢＡＳＦジャパン株式会社製のイルガキュア１８４を使用した。さらにまた、レベリング剤として、ＤＩＣ株式会社製のメガファックＦ－５５６を使用した。また、消泡剤として、ＡＬＴＡＮＡ社製のＢＹＫ－０６６Ｎを使用した。これらは、塗布溶液Ａ－１の固形分であり、配合比（質量配合比）は、表１に示した通りである。
そして、これらの固形分を、溶媒であるトルエンおよびイソプロピルアルコールの混合液に投入し、ホモジナイザーを用いて５分間攪拌処理を行い、塗布溶液Ａ－１を得た。この際、得られる塗布溶液Ａ－１の固形分濃度が５０質量％となるようにした。溶媒の配合比は、表１に示した通りである。
【0114】
（塗布溶液Ａ－２）
散乱粒子１６２として、宇部興産株式会社製のＰＯＭＰ６０５（表面に凹凸を有するナイロン粒子。平均粒子径：５μｍ、屈折率：１．５４、比表面積：２３０ｍ２／ｇ）を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－２を得た。
塗布溶液Ａ－２における固形分および溶媒の配合比は、表１に示した通りである。
散乱粒子１６２として、宇部興産株式会社製のＰＯＭＰ６０５（表面に凹凸を有するナイロン粒子。平均粒子径：５μｍ、屈折率：１．５４、比表面積：２３０ｍ２／ｇ）を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－２を得た。
塗布溶液Ａ－２における固形分および溶媒の配合比は、表１に示した通りである。
【0115】
（塗布溶液Ａ－３）
散乱粒子１６２として、綜研化学株式会社製のＭＲ－７ＧＣＰ（表面に凹凸を有するＰＭＭＡ粒子。平均粒子径：７μｍ、屈折率：１．４９、比表面積：２１０ｍ２／ｇ）を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－３を得た。
塗布溶液Ａ－３における固形分および溶媒の配合比は、表１に示した通りである。
散乱粒子１６２として、綜研化学株式会社製のＭＲ－７ＧＣＰ（表面に凹凸を有するＰＭＭＡ粒子。平均粒子径：７μｍ、屈折率：１．４９、比表面積：２１０ｍ２／ｇ）を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－３を得た。
塗布溶液Ａ－３における固形分および溶媒の配合比は、表１に示した通りである。
【0116】
（塗布溶液Ａ－４）
散乱粒子１６２として、ＡＧＣエスアイテック株式会社製のサンラブリー（表面に凹凸を有するシリカ粒子。平均粒子径：５μｍ、屈折率：１．４５、比表面積：１００ｍ２／ｇ）を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－４を得た。
塗布溶液Ａ－４における固形分および溶媒の配合比は、表１に示した通りである。
散乱粒子１６２として、ＡＧＣエスアイテック株式会社製のサンラブリー（表面に凹凸を有するシリカ粒子。平均粒子径：５μｍ、屈折率：１．４５、比表面積：１００ｍ２／ｇ）を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－４を得た。
塗布溶液Ａ－４における固形分および溶媒の配合比は、表１に示した通りである。
【0117】
（塗布溶液Ａ－５）
散乱粒子１６２として使用した積水化成品工業株式会社製のテクポリマーＭＢＰシリーズの配合比を変更した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－５を得た。
塗布溶液Ａ－５における固形分および溶媒の配合比は、表１に示した通りである。
散乱粒子１６２として使用した積水化成品工業株式会社製のテクポリマーＭＢＰシリーズの配合比を変更した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－５を得た。
塗布溶液Ａ－５における固形分および溶媒の配合比は、表１に示した通りである。
【0118】
（塗布溶液Ａ－６）
散乱粒子１６２として使用した積水化成品工業株式会社製のテクポリマーＭＢＰシリーズの配合比を変更し、レベリング剤として、株式会社ネオス製のフタージェントＦＴＸ－２１８を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－６を得た。
塗布溶液Ａ－６における固形分および溶媒の配合比は、表１に示した通りである。
散乱粒子１６２として使用した積水化成品工業株式会社製のテクポリマーＭＢＰシリーズの配合比を変更し、レベリング剤として、株式会社ネオス製のフタージェントＦＴＸ－２１８を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－６を得た。
塗布溶液Ａ－６における固形分および溶媒の配合比は、表１に示した通りである。
【0119】
（塗布溶液Ａ－７）
バインダ成分として、共栄社化学株式会社製のＵＡ－３０６Ｉと、日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０とを使用し、表面改質剤として、株式会社ネオス製のフタージェントＦＴＸ－２１８を使用し、溶媒として、トルエンおよびメチルイソブチルケトンの混合液を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－７を得た。
塗布溶液Ａ－７における固形分および溶媒の配合比は、表１に示した通りである。
バインダ成分として、共栄社化学株式会社製のＵＡ－３０６Ｉと、日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０とを使用し、表面改質剤として、株式会社ネオス製のフタージェントＦＴＸ－２１８を使用し、溶媒として、トルエンおよびメチルイソブチルケトンの混合液を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－７を得た。
塗布溶液Ａ－７における固形分および溶媒の配合比は、表１に示した通りである。
【0120】
（塗布溶液Ａ－８）
バインダ成分として、共栄社化学株式会社製のＵＡ－３０６Ｈおよび日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０に加えて、大阪ガスケミカル株式会社製のＯＧＳＯＬ ＥＡ－０２００を使用し、消泡剤を使用しなかった以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－８を得た。
塗布溶液Ａ－８における固形分および溶媒の配合比は、表２に示した通りである。
バインダ成分として、共栄社化学株式会社製のＵＡ－３０６Ｈおよび日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０に加えて、大阪ガスケミカル株式会社製のＯＧＳＯＬ ＥＡ－０２００を使用し、消泡剤を使用しなかった以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－８を得た。
塗布溶液Ａ－８における固形分および溶媒の配合比は、表２に示した通りである。
【0121】
（塗布溶液Ａ－９）
レベリング剤として、株式会社ネオス製のフタージェントＦＴＸ－２１８を使用し、さらに、日産化学株式会社製のオルガノシリカゾルＰＧＭ－ＡＣ－２１４０Ｙを添加した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－９を得た。
塗布溶液Ａ－９における固形分および溶媒の配合比は、表２に示した通りである。
レベリング剤として、株式会社ネオス製のフタージェントＦＴＸ－２１８を使用し、さらに、日産化学株式会社製のオルガノシリカゾルＰＧＭ－ＡＣ－２１４０Ｙを添加した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－９を得た。
塗布溶液Ａ－９における固形分および溶媒の配合比は、表２に示した通りである。
【0122】
（塗布溶液Ａ－１０）
散乱粒子１６２として、積水化成品工業株式会社製のテクポリマーＭＢＰシリーズと、綜研化学株式会社製のＭＲ－７ＧＣＰとを使用し、レベリング剤として、株式会社ネオス製のフタージェントＦＴＸ－２１８を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－１０を得た。
塗布溶液Ａ－１０における固形分および溶媒の配合比は、表２に示した通りである。
散乱粒子１６２として、積水化成品工業株式会社製のテクポリマーＭＢＰシリーズと、綜研化学株式会社製のＭＲ－７ＧＣＰとを使用し、レベリング剤として、株式会社ネオス製のフタージェントＦＴＸ－２１８を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－１０を得た。
塗布溶液Ａ－１０における固形分および溶媒の配合比は、表２に示した通りである。
【0123】
（塗布溶液Ａ－１１）
散乱粒子１６２として、綜研化学株式会社製のＭＸ－５００（表面が平滑な真球のＰＭＭＡ粒子。平均粒子径：５μｍ、屈折率：１．４９、比表面積：０．６ｍ２／ｇ）を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－１１を得た。
塗布溶液Ａ－１１における固形分および溶媒の配合比は、表２に示した通りである。
散乱粒子１６２として、綜研化学株式会社製のＭＸ－５００（表面が平滑な真球のＰＭＭＡ粒子。平均粒子径：５μｍ、屈折率：１．４９、比表面積：０．６ｍ２／ｇ）を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－１１を得た。
塗布溶液Ａ－１１における固形分および溶媒の配合比は、表２に示した通りである。
【0124】
（塗布溶液Ａ－１２）
散乱粒子１６２として使用した綜研化学株式会社製のＭＸ－５００の配合比を変更した以外は塗布溶液Ａ－１１と同様にして、塗布溶液Ａ－１２を得た。
塗布溶液Ａ－１２における固形分および溶媒の配合比は、表２に示した通りである。
散乱粒子１６２として使用した綜研化学株式会社製のＭＸ－５００の配合比を変更した以外は塗布溶液Ａ－１１と同様にして、塗布溶液Ａ－１２を得た。
塗布溶液Ａ－１２における固形分および溶媒の配合比は、表２に示した通りである。
【0125】
（塗布溶液Ａ－１３）
散乱粒子１６２を使用しなかった以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－１３を得た。
塗布溶液Ａ－１３における固形分および溶媒の配合比は、表２に示した通りである。
散乱粒子１６２を使用しなかった以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－１３を得た。
塗布溶液Ａ－１３における固形分および溶媒の配合比は、表２に示した通りである。
【0126】
（塗布溶液Ａ－１４）
散乱粒子１６２として、根上工業株式会社製のＡＲＴ ＰＥＡＲＬ ＴＥ－８１２Ｔ（多孔質アクリル／ウレタン粒子。平均粒子径：６μｍ、屈折率：１．５２、比表面積：５５ｍ２／ｇ）を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－１４を得た。
塗布溶液Ａ－１４における固形分および溶媒の配合比は、表３に示した通りである。
散乱粒子１６２として、根上工業株式会社製のＡＲＴ ＰＥＡＲＬ ＴＥ－８１２Ｔ（多孔質アクリル／ウレタン粒子。平均粒子径：６μｍ、屈折率：１．５２、比表面積：５５ｍ２／ｇ）を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－１４を得た。
塗布溶液Ａ－１４における固形分および溶媒の配合比は、表３に示した通りである。
【0127】
（塗布溶液Ａ－１５）
バインダ成分として、共栄社化学株式会社製のＵＡ－３０６Ｉと、日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０とを使用し、散乱粒子１６２として、日興リカ株式会社製のＮＨ－ＲＡＳ０６（表面に凹凸を有するシリコーン／アルミナ粒子。平均粒子径：６μｍ、屈折率：１．４３～１．５０、比表面積：７０ｍ２／ｇ）を使用し、溶媒として、１－メトキシ－２－プロパノールおよびシクロヘキサノンの混合液を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－１５を得た。
塗布溶液Ａ－１５における固形分および溶媒の配合比は、表３に示した通りである。
バインダ成分として、共栄社化学株式会社製のＵＡ－３０６Ｉと、日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０とを使用し、散乱粒子１６２として、日興リカ株式会社製のＮＨ－ＲＡＳ０６（表面に凹凸を有するシリコーン／アルミナ粒子。平均粒子径：６μｍ、屈折率：１．４３～１．５０、比表面積：７０ｍ２／ｇ）を使用し、溶媒として、１－メトキシ－２－プロパノールおよびシクロヘキサノンの混合液を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－１５を得た。
塗布溶液Ａ－１５における固形分および溶媒の配合比は、表３に示した通りである。
【0128】
（塗布溶液Ａ－１６）
散乱粒子１６２として、日興リカ株式会社製のＳｉｌｃｒｕｓｔａ ＭＫＮ０３（表面に凹凸を有するシリコーン／ＰＭＭＡ粒子。平均粒子径：３μｍ、屈折率：１．４３～１．５０、比表面積：９０ｍ２／ｇ）を使用し、溶媒として、１－メトキシ－２－プロパノールおよびシクロヘキサノンの混合液を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－１６を得た。
塗布溶液Ａ－１６における固形分および溶媒の配合比は、表３に示した通りである。
散乱粒子１６２として、日興リカ株式会社製のＳｉｌｃｒｕｓｔａ ＭＫＮ０３（表面に凹凸を有するシリコーン／ＰＭＭＡ粒子。平均粒子径：３μｍ、屈折率：１．４３～１．５０、比表面積：９０ｍ２／ｇ）を使用し、溶媒として、１－メトキシ－２－プロパノールおよびシクロヘキサノンの混合液を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－１６を得た。
塗布溶液Ａ－１６における固形分および溶媒の配合比は、表３に示した通りである。
【0129】
（塗布溶液Ａ－１７）
散乱粒子１６２として、日興リカ株式会社製のＮＨ－ＲＡＳ０６および日興リカ株式会社製のＳｉｌｃｒｕｓｔａ ＭＫＮ０３を使用し、溶媒として、メチルイソブチルケトン、１－メトキシ－２－プロパノールおよびシクロヘキサノンの混合液を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－１７を得た。
塗布溶液Ａ－１７における固形分および溶媒の配合比は、表３に示した通りである。
散乱粒子１６２として、日興リカ株式会社製のＮＨ－ＲＡＳ０６および日興リカ株式会社製のＳｉｌｃｒｕｓｔａ ＭＫＮ０３を使用し、溶媒として、メチルイソブチルケトン、１－メトキシ－２－プロパノールおよびシクロヘキサノンの混合液を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－１７を得た。
塗布溶液Ａ－１７における固形分および溶媒の配合比は、表３に示した通りである。
【0130】
（塗布溶液Ａ－１８）
散乱粒子１６２として、日興リカ株式会社製のＳｉｌｃｒｕｓｈ Ａ３５００（表面に凹凸を有するシリコーン粒子。平均粒子径：３．７μｍ、屈折率：１．４２、比表面積：５０ｍ２／ｇ）を使用し、溶媒として、メチルイソブチルケトン、１－メトキシ－２－プロパノールおよびシクロヘキサノンの混合液を使用し、消泡剤を使用しなかった以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－１７を得た。
塗布溶液Ａ－１８における固形分および溶媒の配合比は、表３に示した通りである。
散乱粒子１６２として、日興リカ株式会社製のＳｉｌｃｒｕｓｈ Ａ３５００（表面に凹凸を有するシリコーン粒子。平均粒子径：３．７μｍ、屈折率：１．４２、比表面積：５０ｍ２／ｇ）を使用し、溶媒として、メチルイソブチルケトン、１－メトキシ－２－プロパノールおよびシクロヘキサノンの混合液を使用し、消泡剤を使用しなかった以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－１７を得た。
塗布溶液Ａ－１８における固形分および溶媒の配合比は、表３に示した通りである。
【0131】
（塗布溶液Ａ－１９）
散乱粒子１６２として、日興リカ株式会社製のＳｉｌｃｒｕｓｔａ ＭＫＮ０３を使用し、日産化学株式会社製のオルガノシリカゾルＰＧＭ－ＡＣ－２１４０Ｙを添加し、溶媒として、メチルイソブチルケトン、１－メトキシ－２－プロパノールおよびシクロヘキサノンの混合液を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－１９を得た。
塗布溶液Ａ－１９における固形分および溶媒の配合比は、表３に示した通りである。
散乱粒子１６２として、日興リカ株式会社製のＳｉｌｃｒｕｓｔａ ＭＫＮ０３を使用し、日産化学株式会社製のオルガノシリカゾルＰＧＭ－ＡＣ－２１４０Ｙを添加し、溶媒として、メチルイソブチルケトン、１－メトキシ－２－プロパノールおよびシクロヘキサノンの混合液を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－１９を得た。
塗布溶液Ａ－１９における固形分および溶媒の配合比は、表３に示した通りである。
【0132】
（塗布溶液Ａ－２０）
散乱粒子１６２として、根上工業株式会社製のＡＲＴ ＰＥＡＲＬ ＴＥ－８１２Ｔを使用し、散乱粒子１６２以外のその他の粒子として、綜研化学株式会社製ＳＸ－１３０Ｈ（単分散ポリスチレン粒子、平均粒子径：１．３μｍ）を使用し、溶媒として、メチルイソブチルケトンおよび１－メトキシ－２－プロパノールの混合液を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－２０を得た。
塗布溶液Ａ－２０における固形分および溶媒の配合比は、表３に示した通りである。
散乱粒子１６２として、根上工業株式会社製のＡＲＴ ＰＥＡＲＬ ＴＥ－８１２Ｔを使用し、散乱粒子１６２以外のその他の粒子として、綜研化学株式会社製ＳＸ－１３０Ｈ（単分散ポリスチレン粒子、平均粒子径：１．３μｍ）を使用し、溶媒として、メチルイソブチルケトンおよび１－メトキシ－２－プロパノールの混合液を使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－２０を得た。
塗布溶液Ａ－２０における固形分および溶媒の配合比は、表３に示した通りである。
【0133】
（塗布溶液Ａ－２１）
バインダ成分として、共栄社化学株式会社製のＵＡ－３０６Ｈのみを用い、散乱粒子１６２として、日興リカ株式会社製のＳｉｌｃｒｕｓｔａ ＭＫＮ０３を使用し、散乱粒子１６２以外のその他の粒子として、綜研化学株式会社製ＳＸ－１３０Ｈを使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－２１を得た。
塗布溶液Ａ－２１における固形分および溶媒の配合比は、表３に示した通りである。
バインダ成分として、共栄社化学株式会社製のＵＡ－３０６Ｈのみを用い、散乱粒子１６２として、日興リカ株式会社製のＳｉｌｃｒｕｓｔａ ＭＫＮ０３を使用し、散乱粒子１６２以外のその他の粒子として、綜研化学株式会社製ＳＸ－１３０Ｈを使用した以外は塗布溶液Ａ－１と同様にして、塗布溶液Ａ－２１を得た。
塗布溶液Ａ－２１における固形分および溶媒の配合比は、表３に示した通りである。
【0134】
【表1】
【0135】
【表2】
【0136】
【表3】
【0137】
〔低屈折率層１７の作成〕
次に、低屈折率層１７の作成方法について説明する。ここでは、表４に示す組成で、低屈折率層１７の基となる塗布溶液Ｂ－１、Ｂ－２を作成した。
次に、低屈折率層１７の作成方法について説明する。ここでは、表４に示す組成で、低屈折率層１７の基となる塗布溶液Ｂ－１、Ｂ－２を作成した。
【0138】
（塗布溶液Ｂ－１）
塗布溶液Ｂ－１は、バインダ１７１の基となるバインダ成分、中空シリカ粒子１７２を含む。また、塗布溶液Ｂ－１は、中実シリカ粒子を含む。さらに、塗布溶液Ｂ－１は、光重合開始剤、表面改質剤、消泡剤、および溶媒を含む。
バインダ成分としては、ダイキン工業株式会社製のＡＲ－１００と、日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０とを使用した。また、中空シリカ粒子１７２としては、平均粒子径が７５ｎｍのものを使用した。さらに、中実シリカ粒子としては、平均粒子径が１０ｎｍのものを使用した。さらにまた、光重合開始剤としては、ＢＡＳＦジャパン株式会社製のイルガキュア１８４を使用した。また、表面改質剤としては、信越化学工業株式会社製のＫＹ－１２０３、ＤＩＣ株式会社製のメガファックＲＳ－５８、および株式会社ネオス製のフタージェント６５０Ａを使用した。さらに、消泡剤としては、ＡＬＴＡＮＡ社製のＢＹＫ－０６６Ｎを使用した。これらは、塗布溶液Ｂ－１の固形分であり、配合比は、表４に示した通りである。
そして、これらの固形分を、溶媒であるメチルイソブチルケトンおよびｎ－ブチルアルコールの混合液に投入し、５分間攪拌処理を行い、塗布溶液Ｂ－１を得た。この際、得られる塗布溶液Ｂ－１の固形分濃度が２．５質量％となるようにした。溶媒の配合比は、表３に示した通りである。
塗布溶液Ｂ－１は、バインダ１７１の基となるバインダ成分、中空シリカ粒子１７２を含む。また、塗布溶液Ｂ－１は、中実シリカ粒子を含む。さらに、塗布溶液Ｂ－１は、光重合開始剤、表面改質剤、消泡剤、および溶媒を含む。
バインダ成分としては、ダイキン工業株式会社製のＡＲ－１００と、日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０とを使用した。また、中空シリカ粒子１７２としては、平均粒子径が７５ｎｍのものを使用した。さらに、中実シリカ粒子としては、平均粒子径が１０ｎｍのものを使用した。さらにまた、光重合開始剤としては、ＢＡＳＦジャパン株式会社製のイルガキュア１８４を使用した。また、表面改質剤としては、信越化学工業株式会社製のＫＹ－１２０３、ＤＩＣ株式会社製のメガファックＲＳ－５８、および株式会社ネオス製のフタージェント６５０Ａを使用した。さらに、消泡剤としては、ＡＬＴＡＮＡ社製のＢＹＫ－０６６Ｎを使用した。これらは、塗布溶液Ｂ－１の固形分であり、配合比は、表４に示した通りである。
そして、これらの固形分を、溶媒であるメチルイソブチルケトンおよびｎ－ブチルアルコールの混合液に投入し、５分間攪拌処理を行い、塗布溶液Ｂ－１を得た。この際、得られる塗布溶液Ｂ－１の固形分濃度が２．５質量％となるようにした。溶媒の配合比は、表３に示した通りである。
【0139】
（塗布溶液Ｂ－２）
バインダ成分として、日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０と、新中村化学株式会社製のＮＫエステルＡ－２００とを使用し、中空シリカ粒子１７２として平均粒子径が６０ｎｍのものを使用し、光重合開始剤として、ＢＡＳＦジャパン株式会社製のイルガキュア１２７を使用し、表面改質剤として、信越化学工業株式会社製のＫＹ－１２０３およびＤＩＣ株式会社製のメガファックＲＳ－９０を使用し、溶媒として、メチルイソブチルケトンおよびｔｅｒｔ－ブチルアルコールの混合液を使用した以外は塗布溶液Ｂ－１と同様にして、塗布溶液Ｂ－２を得た。
塗布溶液Ｂ－２における固形分濃度および溶媒の配合比は、表４に示した通りである。
バインダ成分として、日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０と、新中村化学株式会社製のＮＫエステルＡ－２００とを使用し、中空シリカ粒子１７２として平均粒子径が６０ｎｍのものを使用し、光重合開始剤として、ＢＡＳＦジャパン株式会社製のイルガキュア１２７を使用し、表面改質剤として、信越化学工業株式会社製のＫＹ－１２０３およびＤＩＣ株式会社製のメガファックＲＳ－９０を使用し、溶媒として、メチルイソブチルケトンおよびｔｅｒｔ－ブチルアルコールの混合液を使用した以外は塗布溶液Ｂ－１と同様にして、塗布溶液Ｂ－２を得た。
塗布溶液Ｂ－２における固形分濃度および溶媒の配合比は、表４に示した通りである。
【0140】
【表4】
【0141】
〔高屈折率層１９の作成〕
次に、高屈折率層１９の作成方法について説明する。ここでは、表５に示す組成で、高屈折率層１９の基となる塗布溶液Ｃ－１を作成した。
次に、高屈折率層１９の作成方法について説明する。ここでは、表５に示す組成で、高屈折率層１９の基となる塗布溶液Ｃ－１を作成した。
【0142】
（塗布溶液Ｃ－１）
塗布溶液Ｃ－１は、バインダの基となるバインダ成分、高屈折率粒子を含む。また、塗布溶液Ｃ－１は、光重合開始剤、表面改質剤、および溶媒を含む。
バインダ成分としては、日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡを使用した。また、高屈折率粒子としては、酸化ジルコニアのナノ粒子（平均粒子径：１０ｎｍ）を使用した。さらに、光重合開始剤としては、ＢＡＳＦジャパン株式会社製のイルガキュア１８４を使用した。これらは塗布溶液Ｃ－１の固形分であり、配合比は、表５に示した通りである。
そして、これらの固形分を、溶媒であるメチルイソブチルケトンに投入し、５分間攪拌処理を行い、塗布溶液を得た。この際、得られる塗布溶液Ｃ－１の固形分濃度が８質量％となるようにした。
塗布溶液Ｃ－１は、バインダの基となるバインダ成分、高屈折率粒子を含む。また、塗布溶液Ｃ－１は、光重合開始剤、表面改質剤、および溶媒を含む。
バインダ成分としては、日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡを使用した。また、高屈折率粒子としては、酸化ジルコニアのナノ粒子（平均粒子径：１０ｎｍ）を使用した。さらに、光重合開始剤としては、ＢＡＳＦジャパン株式会社製のイルガキュア１８４を使用した。これらは塗布溶液Ｃ－１の固形分であり、配合比は、表５に示した通りである。
そして、これらの固形分を、溶媒であるメチルイソブチルケトンに投入し、５分間攪拌処理を行い、塗布溶液を得た。この際、得られる塗布溶液Ｃ－１の固形分濃度が８質量％となるようにした。
【0143】
【表5】
【0144】
〔反射防止フィルム１０の作成〕
続いて、得られた各塗布溶液を用いて、反射防止フィルム１０を作成した。
（実施例１）
ＰＥＴからなる基材１５（東洋紡株式会社製のコスモシャインＳＲＦ、厚さ８０μｍ）上に、塗布溶液Ａ－１を、ワイヤバーを用いて塗工した。続いて、９０℃で２分間加熱乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を照度１００ｍＷ／ｃｍ２で３秒間照射して塗布溶液Ａ－１を硬化させた。これにより、基材１５上に、膜厚３．３μｍのアンチグレア層１６を形成した。
続いて、得られた各塗布溶液を用いて、反射防止フィルム１０を作成した。
（実施例１）
ＰＥＴからなる基材１５（東洋紡株式会社製のコスモシャインＳＲＦ、厚さ８０μｍ）上に、塗布溶液Ａ－１を、ワイヤバーを用いて塗工した。続いて、９０℃で２分間加熱乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を照度１００ｍＷ／ｃｍ２で３秒間照射して塗布溶液Ａ－１を硬化させた。これにより、基材１５上に、膜厚３．３μｍのアンチグレア層１６を形成した。
【0145】
続いて、得られたアンチグレア層１６上に、塗布溶液Ｂ－１を、ワイヤバーを用いて塗工した。続いて、５０℃で３分間加熱乾燥した後、窒素ガス環境下（酸素濃度０．１％未満）で、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を照度１００ｍＷ／ｃｍ２で３秒間照射して塗布溶液Ｂ－１を硬化させた。これにより、アンチグレア層１６上に、膜厚９８ｎｍの低屈折率層１７を形成した。
以上により、基材１５と、アンチグレア層１６と、低屈折率層１７とがこの順で積層された反射防止フィルム１０を得た。
以上により、基材１５と、アンチグレア層１６と、低屈折率層１７とがこの順で積層された反射防止フィルム１０を得た。
【0146】
（実施例２）
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－２を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は３．８μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－２を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は３．８μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0147】
（実施例３）
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－３を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は４．６μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－３を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は４．６μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0148】
（実施例４）
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－４を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は４．６μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－４を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は４．６μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0149】
（実施例５）
アンチグレア層１６の膜厚を変更した以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は２．７μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の膜厚を変更した以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は２．７μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0150】
（実施例６）
アンチグレア層１６の膜厚を変更した以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は４．２μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の膜厚を変更した以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は４．２μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0151】
（実施例７）
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－５を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は５．０μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－５を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は５．０μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0152】
（実施例８）
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－６を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は６．０μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－６を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は６．０μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0153】
（実施例９）
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－７を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は３．３μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－７を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は３．３μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0154】
（実施例１０）
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－８を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は３．３μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－８を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は３．３μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0155】
（実施例１１）
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－９を用い、低屈折率層１７の作成に塗布溶液Ｂ－２を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は３．３μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－９を用い、低屈折率層１７の作成に塗布溶液Ｂ－２を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は３．３μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0156】
（実施例１２）
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－１０を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は３．３μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－１０を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は３．３μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0157】
（実施例１３）
塗布溶液Ａ－１を用い、実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６を作成した。続いて、塗布溶液Ｃ－１を用い、実施例１の低屈折率層１７の作成と同様にして、アンチグレア層１６上に高屈折率層１９を作成した。続いて、塗布溶液Ｂ－１を用い、実施例１と同様にして、高屈折率層１９上に低屈折率層１７を作成した。
以上により、基材１５と、アンチグレア層１６と、高屈折率層１９と、低屈折率層１７とがこの順で積層された反射防止フィルム１０を得た。得られた反射防止フィルム１０のけるアンチグレア層１６の膜厚は３．３μｍであり、高屈折率層１９の膜厚は１４５μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
塗布溶液Ａ－１を用い、実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６を作成した。続いて、塗布溶液Ｃ－１を用い、実施例１の低屈折率層１７の作成と同様にして、アンチグレア層１６上に高屈折率層１９を作成した。続いて、塗布溶液Ｂ－１を用い、実施例１と同様にして、高屈折率層１９上に低屈折率層１７を作成した。
以上により、基材１５と、アンチグレア層１６と、高屈折率層１９と、低屈折率層１７とがこの順で積層された反射防止フィルム１０を得た。得られた反射防止フィルム１０のけるアンチグレア層１６の膜厚は３．３μｍであり、高屈折率層１９の膜厚は１４５μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0158】
（実施例１４）
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－１４を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は４．３μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－１４を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は４．３μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0159】
（実施例１５）
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－１５を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は４．５μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－１５を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は４．５μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0160】
（実施例１６）
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－１６を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は１．８μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－１６を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は１．８μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0161】
（実施例１７）
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－１７を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は４．５μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－１７を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は４．５μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0162】
（実施例１８）
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－１８を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は２．３μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－１８を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は２．３μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0163】
（実施例１９）
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－１９を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は１．９μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－１９を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は１．９μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0164】
（実施例２０）
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－２０を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は４．３μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－２０を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は４．３μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0165】
（実施例２１）
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－２１を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は１．９μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－２１を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は１．９μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0166】
（実施例２２）
ＰＥＴからなる基材１５（ＴＯＲＡＹ社製のＬｕｍｉｒｒｏｒ、厚さ５０μｍ）を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は３．３μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
ＰＥＴからなる基材１５（ＴＯＲＡＹ社製のＬｕｍｉｒｒｏｒ、厚さ５０μｍ）を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は３．３μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0167】
（実施例２３）
ＴＡＣからなる基材１５（ＦＵＪＩＦＩＬＭ社製のＦＵＪＩＴＡＣ、厚さ６０μｍ）を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は３．３μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
ＴＡＣからなる基材１５（ＦＵＪＩＦＩＬＭ社製のＦＵＪＩＴＡＣ、厚さ６０μｍ）を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は３．３μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0168】
（実施例２４）
ＰＭＭＡからなる基材１５（大倉工業社製のＯＸＩＳ、厚さ４０μｍ）を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は３．３μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
ＰＭＭＡからなる基材１５（大倉工業社製のＯＸＩＳ、厚さ４０μｍ）を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は３．３μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0169】
（比較例１）
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－１１を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は２．５μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－１１を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は２．５μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0170】
（比較例２）
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－１２を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は２．５μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－１２を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は２．５μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0171】
（比較例３）
アンチグレア層１６の膜厚を変更した以外は比較例２と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は３．７μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の膜厚を変更した以外は比較例２と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は３．７μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0172】
（比較例４）
アンチグレア層１６の膜厚を変更した以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は６．０μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。なお、比較例４のアンチグレア層１６では、アンチグレア層１６の膜厚が厚く、散乱粒子１６２がバインダ１６１内に埋没しており、突出部１６ｂが形成されていなかった。
アンチグレア層１６の膜厚を変更した以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は６．０μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。なお、比較例４のアンチグレア層１６では、アンチグレア層１６の膜厚が厚く、散乱粒子１６２がバインダ１６１内に埋没しており、突出部１６ｂが形成されていなかった。
【0173】
（比較例５）
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－１３を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は２．５μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
アンチグレア層１６の作成に塗布溶液Ａ－１３を用いた以外は実施例１と同様にして、基材１５上にアンチグレア層１６および低屈折率層１７を形成し、反射防止フィルム１０を得た。
得られた反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の膜厚は２．５μｍであり、低屈折率層１７の膜厚は９８ｎｍであった。
【0174】
〔評価方法〕
実施例１～実施例２１および比較例１～比較例５で得られた反射防止フィルム１０について、以下の項目について評価を行った。
（アンチグレア層１６におけるバインダ１６１および散乱粒子１６２の屈折率）
アンチグレア層１６におけるバインダ１６１および散乱粒子１６２のそれぞれについて、屈折率を測定した。具体的には、株式会社アタゴ製のアッベ屈折計（ＤＲ－Ａ１）を用いて、バインダ１６１および散乱粒子１６２の屈折率を測定した。このとき、同一サンプル内で、ｎ＝３点で屈折率を測定し、平均値を採用した。
実施例１～実施例２１および比較例１～比較例５で得られた反射防止フィルム１０について、以下の項目について評価を行った。
（アンチグレア層１６におけるバインダ１６１および散乱粒子１６２の屈折率）
アンチグレア層１６におけるバインダ１６１および散乱粒子１６２のそれぞれについて、屈折率を測定した。具体的には、株式会社アタゴ製のアッベ屈折計（ＤＲ－Ａ１）を用いて、バインダ１６１および散乱粒子１６２の屈折率を測定した。このとき、同一サンプル内で、ｎ＝３点で屈折率を測定し、平均値を採用した。
【0175】
（アンチグレア層１６の膜厚）
アンチグレア層１６の膜厚を測定した。具体的には、株式会社日立ハイテク製の走査電子顕微鏡（ＳＵ８６００）を用いて、反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の断面を２０００倍で観察し、バインダ１６１で形成された平坦部１６ａの膜厚を測定した。このとき、同一サンプル内で、ｎ＝２０点で膜厚を測定し、平均値を採用した。
アンチグレア層１６の膜厚を測定した。具体的には、株式会社日立ハイテク製の走査電子顕微鏡（ＳＵ８６００）を用いて、反射防止フィルム１０におけるアンチグレア層１６の断面を２０００倍で観察し、バインダ１６１で形成された平坦部１６ａの膜厚を測定した。このとき、同一サンプル内で、ｎ＝２０点で膜厚を測定し、平均値を採用した。
【0176】
（低屈折率層１７および高屈折率層１９の屈折率および膜厚）
低屈折率層１７および高屈折率層１９の屈折率および膜厚を、Ｊ．Ｗ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製の分光エリプソメーター（ＶＵＶ－ＶＡＳＥ）を用いて測定した。このとき、同一サンプル内で、ｎ＝３点で屈折率および膜厚を測定し、平均値を採用した。
低屈折率層１７および高屈折率層１９の屈折率および膜厚を、Ｊ．Ｗ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製の分光エリプソメーター（ＶＵＶ－ＶＡＳＥ）を用いて測定した。このとき、同一サンプル内で、ｎ＝３点で屈折率および膜厚を測定し、平均値を採用した。
【0177】
（トータルヘイズ値）
反射防止フィルム１０のトータルヘイズ値を、日本電色工業株式会社製のヘイズメーターＮＤＨ５０００Ｗを用いて、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に準拠して測定した。このとき、同一サンプル内で、ｎ＝３点でトータルヘイズ値を測定し、平均値を採用した。
反射防止フィルム１０のトータルヘイズ値を、日本電色工業株式会社製のヘイズメーターＮＤＨ５０００Ｗを用いて、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に準拠して測定した。このとき、同一サンプル内で、ｎ＝３点でトータルヘイズ値を測定し、平均値を採用した。
【0178】
（内部ヘイズ値および外部ヘイズ値）
アンチグレア層１６の表面に形成された凹凸１６３を、アンチグレア層１６と屈折率がほぼ同一な液体モノマーで充填して平坦にした状態で、日本電色工業株式会社製のヘイズメーターＮＤＨ５０００Ｗを用いて、内部ヘイズ値を測定した。このとき、同一サンプル内でｎ＝３点で内部ヘイズ値を測定し、平均値を採用した。
また、トータルヘイズ値から内部ヘイズ値を減算した値を外部ヘイズ値とした。
アンチグレア層１６の表面に形成された凹凸１６３を、アンチグレア層１６と屈折率がほぼ同一な液体モノマーで充填して平坦にした状態で、日本電色工業株式会社製のヘイズメーターＮＤＨ５０００Ｗを用いて、内部ヘイズ値を測定した。このとき、同一サンプル内でｎ＝３点で内部ヘイズ値を測定し、平均値を採用した。
また、トータルヘイズ値から内部ヘイズ値を減算した値を外部ヘイズ値とした。
【0179】
（入射角８５°でのグロス値）
反射防止フィルム１０の入射角８５°でのグロス値を測定した。具体的には、反射防止フィルム１０の裏面（基材１５）上に黒色のＰＥＴフィルムを貼り付け、ＢＹＫ社製のグロスメータを用いて、反射防止フィルム１０の表面（低屈折率層１７）側から入射角８５°でのグロス値を測定した。
反射防止フィルム１０の入射角８５°でのグロス値を測定した。具体的には、反射防止フィルム１０の裏面（基材１５）上に黒色のＰＥＴフィルムを貼り付け、ＢＹＫ社製のグロスメータを用いて、反射防止フィルム１０の表面（低屈折率層１７）側から入射角８５°でのグロス値を測定した。
【0180】
（アンチグレア層１６における平坦部１６ａおよび突出部１６ｂの面積）
アンチグレア層１６における平坦部１６ａおよび突出部１６ｂの面積を、株式会社キーエンス製のレーザ顕微鏡ＶＫ－Ｘ１１００を用いて測定した。具体的には、倍率１５０倍の対物レンズを使用し、アンチグレア層１６表面の９７μｍ×７３μｍの領域の形状データを取得した。取得した形状データにおける高さ情報を用いて、平坦部１６ａと突出部１６ｂとを区別し、それぞれの面積を算出した。
そして、突出部１６ｂの面積に対する平坦部１６ａの面積の比率（平坦部１６ａの面積／突出部１６ｂの面積）を算出した。
アンチグレア層１６における平坦部１６ａおよび突出部１６ｂの面積を、株式会社キーエンス製のレーザ顕微鏡ＶＫ－Ｘ１１００を用いて測定した。具体的には、倍率１５０倍の対物レンズを使用し、アンチグレア層１６表面の９７μｍ×７３μｍの領域の形状データを取得した。取得した形状データにおける高さ情報を用いて、平坦部１６ａと突出部１６ｂとを区別し、それぞれの面積を算出した。
そして、突出部１６ｂの面積に対する平坦部１６ａの面積の比率（平坦部１６ａの面積／突出部１６ｂの面積）を算出した。
【0181】
（ＳＣＩ反射率）
反射防止フィルム１０のＳＣＩ反射率を測定した。具体的には、反射防止フィルム１０の裏面（基材１５）上に黒色のＰＥＴフィルムを貼り付け、コニカミノルタ株式会社製のＣＭ－２６００ｄを用いて、反射防止フィルム１０のＳＣＩ反射率を測定した。
反射防止フィルム１０のＳＣＩ反射率は小さいほど好ましく、具体的には、１．８％以下であることが好ましい。
反射防止フィルム１０のＳＣＩ反射率を測定した。具体的には、反射防止フィルム１０の裏面（基材１５）上に黒色のＰＥＴフィルムを貼り付け、コニカミノルタ株式会社製のＣＭ－２６００ｄを用いて、反射防止フィルム１０のＳＣＩ反射率を測定した。
反射防止フィルム１０のＳＣＩ反射率は小さいほど好ましく、具体的には、１．８％以下であることが好ましい。
【0182】
（映り込み評価）
反射防止フィルム１０を、粘着フィルムを用いて５５インチサイズのディスプレイに貼り合わせた。また、ディスプレイから斜め４５°に２ｍ離れたところに白熱電球を備えたランプを配置した。そして、ディスプレイを点灯して映像を表示させた状態で、ディスプレイの正面方向に１ｍ離れた場所からディスプレイを目視にて観察し、ディスプレイへの白熱電球の映り込み、およびディスプレイに表示される映像の視認性を評価した。
評価は以下の基準で行った。
Ａ：外光の映り込みが非常に少なく、映像の視認性に優れる。
Ｂ：多少外光の映り込みが確認できるが、映像の視認性への影響はほとんどない。
Ｃ：外光の映り込みが目立ち、表示される映像の視認性の低下が確認される。
Ｄ：外光の映り込みが激しく、映像の視認性が悪い。
そして、評価がＡまたはＢの場合を合格とし、評価がＣまたはＤの場合を不合格とした。
反射防止フィルム１０を、粘着フィルムを用いて５５インチサイズのディスプレイに貼り合わせた。また、ディスプレイから斜め４５°に２ｍ離れたところに白熱電球を備えたランプを配置した。そして、ディスプレイを点灯して映像を表示させた状態で、ディスプレイの正面方向に１ｍ離れた場所からディスプレイを目視にて観察し、ディスプレイへの白熱電球の映り込み、およびディスプレイに表示される映像の視認性を評価した。
評価は以下の基準で行った。
Ａ：外光の映り込みが非常に少なく、映像の視認性に優れる。
Ｂ：多少外光の映り込みが確認できるが、映像の視認性への影響はほとんどない。
Ｃ：外光の映り込みが目立ち、表示される映像の視認性の低下が確認される。
Ｄ：外光の映り込みが激しく、映像の視認性が悪い。
そして、評価がＡまたはＢの場合を合格とし、評価がＣまたはＤの場合を不合格とした。
【0183】
（外観評価）
明視野下の条件で、反射防止フィルム１０を貼り付けたディスプレイの外観を目視にて観察し、評価した。ディスプレイは、映り込み評価に用いたのと同様のものを用い、外観の観察は、ディスプレイが非点灯の状態で行った。
評価は以下の基準で行った。
Ａ：光沢感のない黒が感じられる。
Ｂ：光沢感のある黒が若干感じられる。
Ｃ：散乱光による白みが若干感じられる。
Ｄ：散乱光による白みが感じられる。
そして、評価がＡまたはＢの場合を合格とし、評価がＣまたはＤの場合を不合格とした。
明視野下の条件で、反射防止フィルム１０を貼り付けたディスプレイの外観を目視にて観察し、評価した。ディスプレイは、映り込み評価に用いたのと同様のものを用い、外観の観察は、ディスプレイが非点灯の状態で行った。
評価は以下の基準で行った。
Ａ：光沢感のない黒が感じられる。
Ｂ：光沢感のある黒が若干感じられる。
Ｃ：散乱光による白みが若干感じられる。
Ｄ：散乱光による白みが感じられる。
そして、評価がＡまたはＢの場合を合格とし、評価がＣまたはＤの場合を不合格とした。
【0184】
〔評価結果〕
実施例１～実施例２１および比較例１～比較例５の反射防止フィルム１０の評価結果について、表６～表９に示す。
実施例１～実施例２１および比較例１～比較例５の反射防止フィルム１０の評価結果について、表６～表９に示す。
【0185】
【表6】
【0186】
【表7】
【0187】
【表8】
【0188】
【表9】
【0189】
表６～表８に示すように、実施例１～実施例２１の反射防止フィルム１０では、映り込み評価および外観評価の結果がいずれもＡまたはＢであり、合格の範囲となった。
【0190】
これに対し、アンチグレア層１６に含まれる散乱粒子１６２が表面に凹凸を有していない比較例１～比較例３の反射防止フィルム１０は、映り込み評価および外観評価の少なくとも一方の結果が不合格となった。
また、アンチグレア層１６の膜厚（平坦部１６ａの膜厚）が厚く、散乱粒子１６２がバインダ１６１から突出せずに突出部１６ｂが形成されていない比較例４の反射防止フィルム１０は、外観評価の結果は合格であるものの、映り込み評価の結果が不合格であった。
さらに、アンチグレア層１６が散乱粒子１６２を含まない比較例５の反射防止フィルム１０は、外観評価の結果は合格であるものの、映り込み評価の結果が不合格であった。
また、アンチグレア層１６の膜厚（平坦部１６ａの膜厚）が厚く、散乱粒子１６２がバインダ１６１から突出せずに突出部１６ｂが形成されていない比較例４の反射防止フィルム１０は、外観評価の結果は合格であるものの、映り込み評価の結果が不合格であった。
さらに、アンチグレア層１６が散乱粒子１６２を含まない比較例５の反射防止フィルム１０は、外観評価の結果は合格であるものの、映り込み評価の結果が不合格であった。
【0191】
また、実施例１～実施例１３を比べると、入射角８５°でのグロス値が４０以下である実施例１～実施例５、実施例７～実施例１３の反射防止フィルム１０は、入射角８５°でのグロス値が４０を超える実施例６の反射防止フィルム１０と比べて、映り込み評価の結果が良好であることが確認された。
さらに、突出部１６ｂの面積に対する平坦部１６ａの面積の比率（平坦部１６ａの面積／突出部１６ｂの面積）が２．０以上３０以下である実施例１～実施例７、実施例９～実施例１３の反射防止フィルム１０は、突出部１６ｂの面積に対する平坦部１６ａの面積の比率（平坦部１６ａの面積／突出部１６ｂの面積）が２．０未満である実施例８の反射防止フィルム１０と比べて、外観評価の結果が良好であることが確認された。
さらに、突出部１６ｂの面積に対する平坦部１６ａの面積の比率（平坦部１６ａの面積／突出部１６ｂの面積）が２．０以上３０以下である実施例１～実施例７、実施例９～実施例１３の反射防止フィルム１０は、突出部１６ｂの面積に対する平坦部１６ａの面積の比率（平坦部１６ａの面積／突出部１６ｂの面積）が２．０未満である実施例８の反射防止フィルム１０と比べて、外観評価の結果が良好であることが確認された。
【0192】
〔基材１５の違いによる評価〕
基材１５が互いに異なる実施例１、実施例２２～実施例２４で得られた反射防止フィルム１０について、以下の項目について評価、比較を行った。
（基材１５の内部ヘイズ値）
実施例１、実施例２２～実施例２４で用いた基材１５の可視光領域における内部ヘイズ値を、日本電色工業株式会社製の分光ヘイズメーターＳＨ７０００を用いて測定した。実施例１の基材１５（東洋紡株式会社製のコスモシャインＳＲＦ）については、可視光領域として波長４４０ｎｍでの内部ヘイズ値を測定した。また、実施例２２の基材１５（ＴＯＲＡＹ社製のＬｕｍｉｒｒｏｒ）、実施例２３の基材１５（（ＦＵＪＩＦＩＬＭ社製のＦＵＪＩＴＡＣ）、および実施例２４の基材１５（大倉工業社製のＯＸＩＳ）については、可視光領域として波長３８０ｎｍでの内部ヘイズ値を測定した。
基材１５が互いに異なる実施例１、実施例２２～実施例２４で得られた反射防止フィルム１０について、以下の項目について評価、比較を行った。
（基材１５の内部ヘイズ値）
実施例１、実施例２２～実施例２４で用いた基材１５の可視光領域における内部ヘイズ値を、日本電色工業株式会社製の分光ヘイズメーターＳＨ７０００を用いて測定した。実施例１の基材１５（東洋紡株式会社製のコスモシャインＳＲＦ）については、可視光領域として波長４４０ｎｍでの内部ヘイズ値を測定した。また、実施例２２の基材１５（ＴＯＲＡＹ社製のＬｕｍｉｒｒｏｒ）、実施例２３の基材１５（（ＦＵＪＩＦＩＬＭ社製のＦＵＪＩＴＡＣ）、および実施例２４の基材１５（大倉工業社製のＯＸＩＳ）については、可視光領域として波長３８０ｎｍでの内部ヘイズ値を測定した。
【0193】
（ＳＣＩ反射率、反射色度（ａ＊／ｂ＊））
実施例１、実施例２２～実施例２４で得られた反射防止フィルム１０のＳＣＩ反射率および反射色度（ａ＊／ｂ＊）を、コニカミノルタ株式会社製のＣＭ－２６００ｄを用いて測定した。
上述したように、反射防止フィルム１０のＳＣＩ反射率が小さいほど好ましい。また、反射防止フィルム１０の反射色度（ａ＊／ｂ＊）は、絶対値が小さいほど好ましい。
実施例１、実施例２２～実施例２４で得られた反射防止フィルム１０のＳＣＩ反射率および反射色度（ａ＊／ｂ＊）を、コニカミノルタ株式会社製のＣＭ－２６００ｄを用いて測定した。
上述したように、反射防止フィルム１０のＳＣＩ反射率が小さいほど好ましい。また、反射防止フィルム１０の反射色度（ａ＊／ｂ＊）は、絶対値が小さいほど好ましい。
【0194】
実施例１、実施例２２～実施例２４の反射防止フィルム１０の評価結果について、表１０に示す。
【0195】
【表10】
【0196】
表１０に示すように、基材１５の可視光領域における内部ヘイズ値が０．５％以下である実施例２２～実施例２４の反射防止フィルム１０では、基材１５の可視光領域の内部ヘイズ値が０．５％を超える実施例１の反射防止フィルム１０と比較して、ＳＣＩ（Specular Component Include）、反射色度（ａ＊／ｂ＊）の絶対値が小さくなることが確認された。
【符号の説明】
【0197】
１…表示装置、１ａ…液晶パネル、１０…反射防止フィルム、１１…バックライト、１２…偏光フィルム、１３…位相差フィルム、１４…液晶、１５…基材、１６…アンチグレア層、１６ａ…平坦部、１６ｂ…突出部、１７…低屈折率層、１８…異方拡散層、１９…高屈折率層、１６１…バインダ、１６２…散乱粒子、１６３…凹凸
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
