特開 2024-28309 表面処理剤

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024028309

(43)【公開日】2024-03-04

(54)【発明の名称】表面処理剤

(51)【国際特許分類】

   C08G 77/54 20060101AFI20240226BHJP

   C09K 3/18 20060101ALI20240226BHJP

   G02B 1/18 20150101ALI20240226BHJP

   G02B 1/113 20150101ALN20240226BHJP

【ＦＩ】

C08G77/54

C09K3/18 104

G02B1/18

G02B1/113

【審査請求】未請求

【請求項の数】35

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023218251

(22)【出願日】2023-12-25

(62)【分割の表示】P 2022127234の分割

【原出願日】2022-08-09

(31)【優先権主張番号】P 2021130808

(32)【優先日】2021-08-10

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(31)【優先権主張番号】P 2022031220

(32)【優先日】2022-03-01

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(31)【優先権主張番号】P 2022031226

(32)【優先日】2022-03-01

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(31)【優先権主張番号】P 2022106050

(32)【優先日】2022-06-30

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(71)【出願人】

【識別番号】000002853

【氏名又は名称】ダイキン工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100129791

【弁理士】

【氏名又は名称】川本 真由美

(74)【代理人】

【識別番号】100132252

【弁理士】

【氏名又は名称】吉田 環

(74)【代理人】

【識別番号】100221501

【弁理士】

【氏名又は名称】式見 真行

(72)【発明者】

【氏名】半田 晋也

(72)【発明者】

【氏名】野村 孝史

(72)【発明者】

【氏名】松井 元志

(72)【発明者】

【氏名】トルティシ，グレゴリー

(72)【発明者】

【氏名】高田 昌和

(72)【発明者】

【氏名】中野 希望

(72)【発明者】

【氏名】大向 吉景

(72)【発明者】

【氏名】高野 真也

(57)【要約】

【課題】指紋拭き取り性に優れた表面処理層を形成することができる表面処理剤の提供。
【解決手段】下記式（１）又は（２）で表されるシロキサン基含有シラン化合物。各記号は、明細書に記載の通りである。

【選択図】なし

【特許請求の範囲】

【請求項1】

下記式（１）又は（２）：

【化1】

［式中：
Ｒ^Ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^１－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ－であり；
Ｒ^Ｓ２は、－Ｏ_ｐ－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ－であり；
Ｒ^Ｓは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の直鎖オルガノシロキサン基であり；
Ｒ^１は、炭化水素基であり；
Ｒ^２は、－ＳｉＲ^３ _２－であり；
Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、炭化水素基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
Ｒ^Ｈは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、又は１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
上記Ｒ^Ｈ中には、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が２つ以上存在し；
Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表されるシロキサン基含有シラン化合物。

【請求項2】

Ｒ^Ｓは、－（ＳｉＲ^３ _２－Ｏ）_ａ－であり、
Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、炭化水素基であり、
ａは、２～１５００である、
請求項１に記載のシロキサン基含有シラン化合物。

【請求項3】

Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、ハロゲン原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキル基又はアリール基である、請求項１に記載のシロキサン基含有シラン化合物。

【請求項4】

Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、メチル基又はフェニル基である、請求項１に記載のシロキサン基含有シラン化合物。

【請求項5】

ａは、１０～５００である、請求項１に記載のシロキサン基含有シラン化合物。

【請求項6】

Ｒ^Ｈは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、又は（Ｓ４）：

【化2】

［式中：
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基であり；
Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり；
Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり；
Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。
Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、又は－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２であり；
Ｚ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
ただし、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、及び（Ｓ４）中、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。］
で表される基である、請求項１に記載のシロキサン基含有シラン化合物。

【請求項7】

前記式（Ｓ１）で表される基は、下記式（Ｓ１－ｂ）：

【化3】

［式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｘ^１１、ｎ１及びｔは、上記式（Ｓ１）の記載と同意義である］
で表される基である、請求項６に記載のシロキサン基含有シラン化合物。

【請求項8】

Ｒ^Ｈは、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｓ２）、（Ｓ３）、又は（Ｓ４）で表される基である、請求項６に記載のシロキサン基含有シラン化合物。

【請求項9】

Ｒ^Ｈは、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｓ２）、又は（Ｓ３）で表される基である、請求項６に記載のシロキサン基含有シラン化合物。

【請求項10】

Ｒ^Ｈは、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｓ３）、又は（Ｓ４）で表される基である、請求項６に記載のシロキサン基含有シラン化合物。

【請求項11】

Ｒ^Ｈは、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｓ３）で表される基である、請求項６に記載のシロキサン基含有シラン化合物。

【請求項12】

α、β、及びγは、１である、請求項１に記載のシロキサン基含有シラン化合物。

【請求項13】

Ｘ^Ａは、単結合又は下記式：
－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－
［式中：
Ｒ^５１は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｓ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、
ｓ５は、１～２０の整数であり、
Ｘ^５１は、－（Ｘ^５２）_ｌ５－であり、
Ｘ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基であり、
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、又は１価の有機基であり、
ｎ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数であり、
ｌ５は、１～１０の整数であり、
ｐ５は、０又は１であり、
ｑ５は、０又は１であり、
ここに、ｐ５及びｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５又はｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の有機基である、請求項１に記載のシロキサン基含有シラン化合物。

【請求項14】

Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－、
－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－又は
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、
Ｘ^５３は、単結合、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯＮＲ^５４－、又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯ－であり、
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
ｓ５は、１～２０の整数であり、
ｔ５は、１～２０の整数であり、
ｕ５は、１～２０の整数である。］
で表される２価の有機基である、請求項１に記載のシロキサン基含有シラン化合物。

【請求項15】

Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｔ５－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_ｔ５－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯ－、又は
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
ｓ５は、１～２０の整数であり、
ｔ５は、１～２０の整数であり、
ｕ５は、１～２０の整数である。］
で表される２価の有機基である、請求項１に記載のシロキサン基含有シラン化合物。

【請求項16】

Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、３～１０価の有機基である、請求項１に記載のシロキサン基含有シラン化合物。

【請求項17】

Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、下記：

【化4】

［式中、Ｘ^ａは、それぞれ独立して、単結合または２価の有機基である。］
で表される基である、請求項１に記載のシロキサン基含有シラン化合物。

【請求項18】

Ｘ^ａ、それぞれ独立して、下記式：
－（ＣＸ^１２１Ｘ^１２２）_ｘ１－（Ｘ^ａ１）_ｙ１－（ＣＸ^１２３Ｘ^１２４）_ｚ１－
［式中、
Ｘ^１２１～Ｘ^１２４は、それぞれ独立して、Ｈ、ＯＨ、または、－ＯＳｉ（ＯＲ^１２１）_３（式中、Ｒ^１２１は、それぞれ独立して、炭素数１～４のアルキル基である。）であり、
Ｘ^ａ１は、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＲ^１２２－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^１２２－、－ＮＲ^１２２－Ｃ（＝Ｏ）－、またはＳであり、
Ｒ^１２２は、Ｃ_１－６の炭化水素鎖であり、
ｘ１は、０～１０の整数であり、
ｙ１は、０または１であり、
ｚ１は、１～１０の整数である。］
で表される基である、請求項１７に記載のシロキサン基含有シラン化合物。

【請求項19】

請求項１～１８のいずれか１項に記載のシロキサン基含有シラン化合物を含有する、組成物。

【請求項20】

請求項１～１８のいずれか１項に記載のシロキサン含有シラン化合物、および該シロキサン含有シラン化合物の少なくとも一部が縮合した縮合体からなる化合物の少なくとも一つを含有する、組成物。

【請求項21】

さらに、Ｒ^７１ＯＲ^７２、Ｒ^７３ _ｎ８Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８、Ｒ^７４Ｒ^７５Ｒ^７６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ８－Ｒ^７９、及び（ＯＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ９
［式中
Ｒ^７１～Ｒ^７９は、それぞれ独立して、炭素数１～１０個の一価の有機基であり、
ｍ８は、１～６の整数であり、
ｍ９は、３～８の整数であり、
ｎ８は、０～６の整数である。］
で表される化合物から選択される溶媒を含む、請求項１９に記載の組成物。

【請求項22】

前記溶媒は、Ｒ^７４Ｒ^７５Ｒ^７６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ８－Ｒ^７９である、請求項２１に記載の組成物。

【請求項23】

前記溶媒は、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、又はデカメチルシクロペンタシロキサンである、請求項２１に記載の組成物。

【請求項24】

表面処理剤である、請求項１９に記載の組成物。

【請求項25】

真空蒸着用である、請求項１９に記載の組成物。

【請求項26】

湿潤被覆用である、請求項１９に記載の組成物。

【請求項27】

請求項１９に記載の組成物を含有するペレット。

【請求項28】

基材と、該基材上に、請求項１に記載のシロキサン基含有シラン化合物から形成された層とを含む物品。

【請求項29】

光学部材である、請求項２８に記載の物品。

【請求項30】

ディスプレイである、請求項２８に記載の物品。

【請求項31】

下記式（１－ａ）又は（２－ａ）：

【化5】

［式中：
Ｒ^Ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^１－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ－であり；
Ｒ^Ｓ２は、－Ｏ_ｐ－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ－であり；
Ｒ^Ｓは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の直鎖オルガノシロキサン基であり；
Ｒ^１は、炭化水素基であり；
Ｒ^２は、－ＳｉＲ^３ _２－であり；
Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、炭化水素基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、
－（ＣＨ_２）_ｓ６－Ｘ^５３－Ｘ^５４、
－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ６－Ｘ^５４、又は
－（ＣＨ_２）_ｓ６－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ６－Ｘ^５４
（式中、
Ｘ^５３は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ^７４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^７４－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ６－ＣＯＮＲ^７４－、又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ６－ＣＯ－、単結合であり、
Ｘ^５４は、Ｒ^７５、－ＮＲ^７５ _２、－ＳｉＲ^７５ _２Ｒ^７６、－ＳｉＲ^７５ _３、－ＣＲ^７５ _２Ｒ^７５、－ＣＲ^７５ _３、－ＳｉＣｌ_２Ｒ^７６、－ＳｉＣｌ_３、又は

【化6】

であり、
Ｒ^７５は、－ＣＨ＝ＣＨ_２、又は－ＣＨ_２－ＣＨ＝ＣＨ_２であり、
Ｒ^７６は、１価の有機基であり、
Ｒ^７４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基、又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
ｓ６は、１～２０の整数であり、
ｔ６は、１～２０の整数であり、
ｕ６は、１～２０の整数である。）
である。］
で表される化合物。

【請求項32】

Ｘ^５３は、－ＣＯＮＲ^７４－である、請求項３１に記載の化合物。

【請求項33】

Ｘ^５４は、－Ｓｉ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３、又は－ＳｉＣｌ_３である、請求項３１に記載の化合物。

【請求項34】

Ｘ^５４は、

【化7】

である、請求項３１に記載の化合物。

【請求項35】

－Ｘ^５３－Ｘ^５４は、－ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_２、－ＣＯＮＨＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３である、請求項３１に記載の化合物。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、表面処理剤に関する。

【背景技術】

【0002】

ある種のシラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水撥油性を提供し得ることが知られている（特許文献１）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１９－４４１７９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

特許文献１に記載のシラン化合物は、指紋拭き取り性に優れた表面処理層を与えることができるが、より高い機能を有する表面処理層が求められている。

【0005】

本開示は、指紋拭き取り性に優れた表面処理層を形成することができる表面処理剤を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本開示は、下記の態様を含む。
［１］ 下記式（１）又は（２）：

【化1】

［式中：
Ｒ^Ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^１－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ－であり；
Ｒ^Ｓ２は、－Ｏ_ｐ－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ－であり；
Ｒ^Ｓは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の直鎖オルガノシロキサン基であり；
Ｒ^１は、炭化水素基であり；
Ｒ^２は、－ＳｉＲ^３ _２－であり；
Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、炭化水素基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
Ｒ^Ｈは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、又は１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
上記Ｒ^Ｈ中には、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が２つ以上存在し；
Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表されるシロキサン基含有シラン化合物。
［２］ Ｒ^Ｓは、－（ＳｉＲ^３ _２－Ｏ）_ａ－であり、
Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、炭化水素基であり、
ａは、２～１５００である、
上記［１］に記載のシロキサン基含有シラン化合物。
［３］ Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、ハロゲン原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキル基又はアリール基である、上記［１］又は［２］に記載のシロキサン基含有シラン化合物。
［４］ Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、メチル基又はフェニル基である、上記［１］～［３］のいずれか１項に記載のシロキサン基含有シラン化合物。
［５］ ａは、１０～５００である、上記［１］～［４］のいずれか１項に記載のシロキサン基含有シラン化合物。
［６］ Ｒ^Ｈは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、又は（Ｓ４）：

【化2】

［式中：
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基であり；
Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり；
Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり；
Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。
Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、又は－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２であり；
Ｚ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
ただし、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、及び（Ｓ４）中、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。］
で表される基である、上記［１］～［５］のいずれか１項に記載のシロキサン基含有シラン化合物。
［７］ 前記式（Ｓ１）で表される基は、下記式（Ｓ１－ｂ）：

【化3】

［式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｘ^１１、ｎ１及びｔは、上記式（Ｓ１）の記載と同意義である］
で表される基である、上記［６］に記載のシロキサン基含有シラン化合物。
［８］ Ｒ^Ｈは、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｓ２）、（Ｓ３）、又は（Ｓ４）で表される基である、上記［６］に記載のシロキサン基含有シラン化合物。
［９］ Ｒ^Ｈは、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｓ２）、又は（Ｓ３）で表される基である、上記［６］に記載のシロキサン基含有シラン化合物。
［１０］ Ｒ^Ｈは、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｓ３）、又は（Ｓ４）で表される基である、上記［６］に記載のシロキサン基含有シラン化合物。
［１１］ Ｒ^Ｈは、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｓ３）で表される基である、上記［６］に記載のシロキサン基含有シラン化合物。
［１２］ α、β、及びγは、１である、上記［１］～［１１］のいずれか１項に記載のシロキサン基含有シラン化合物。
［１３］ Ｘ^Ａは、単結合又は下記式：
－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－
［式中：
Ｒ^５１は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｓ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、
ｓ５は、１～２０の整数であり、
Ｘ^５１は、－（Ｘ^５２）_ｌ５－であり、
Ｘ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基であり、
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、又は１価の有機基であり、
ｎ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数であり、
ｌ５は、１～１０の整数であり、
ｐ５は、０又は１であり、
ｑ５は、０又は１であり、
ここに、ｐ５及びｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５又はｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の有機基である、上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載のシロキサン基含有シラン化合物。
［１４］ Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－、
－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－又は
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、
Ｘ^５３は、単結合、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯＮＲ^５４－、又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯ－であり、
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
ｓ５は、１～２０の整数であり、
ｔ５は、１～２０の整数であり、
ｕ５は、１～２０の整数である。］
で表される２価の有機基である、上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載のシロキサン基含有シラン化合物。
［１５］ Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｔ５－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_ｔ５－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯ－、又は
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
ｓ５は、１～２０の整数であり、
ｔ５は、１～２０の整数であり、
ｕ５は、１～２０の整数である。］
で表される２価の有機基である、上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載のシロキサン基含有シラン化合物。
［１６］ Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、３～１０価の有機基である、上記［１］～［１１］のいずれか１項に記載のシロキサン基含有シラン化合物。
［１７］ Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、下記：

【化4】

［式中、Ｘ^ａは、それぞれ独立して、単結合または２価の有機基である。］
で表される基である、上記［１］～［１１］のいずれか１項に記載のシロキサン基含有シラン化合物。
［１８］ Ｘ^ａ、それぞれ独立して、下記式：
－（ＣＸ^１２１Ｘ^１２２）_ｘ１－（Ｘ^ａ１）_ｙ１－（ＣＸ^１２３Ｘ^１２４）_ｚ１－
［式中、
Ｘ^１２１～Ｘ^１２４は、それぞれ独立して、Ｈ、ＯＨ、または、－ＯＳｉ（ＯＲ^１２１）_３（式中、Ｒ^１２１は、それぞれ独立して、炭素数１～４のアルキル基である。）であり、
Ｘ^ａ１は、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＲ^１２２－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^１２２－、－ＮＲ^１２２－Ｃ（＝Ｏ）－、またはＳであり、
Ｒ^１２２は、Ｃ_１－６の炭化水素鎖であり、
ｘ１は、０～１０の整数であり、
ｙ１は、０または１であり、
ｚ１は、１～１０の整数である。］
で表される基である、上記［１７］に記載のシロキサン基含有シラン化合物。
［１９］ 上記［１］～［１８］のいずれか１項に記載のシロキサン基含有シラン化合物を含有する、組成物。
［２０］ 上記［１］～［１８］のいずれか１項に記載のシロキサン含有シラン化合物、および該シロキサン含有シラン化合物の少なくとも一部が縮合した縮合体からなる化合物の少なくとも一つを含有する、組成物。
［２１］ さらに、Ｒ^７１ＯＲ^７２、Ｒ^７３ _ｎ８Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８、Ｒ^７４Ｒ^７５Ｒ^７６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ８－Ｒ^７９、及び（ＯＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ９
［式中
Ｒ^７１～Ｒ^７９は、それぞれ独立して、炭素数１～１０個の一価の有機基であり、
ｍ８は、１～６の整数であり、
ｍ９は、３～８の整数であり、
ｎ８は、０～６の整数である。］
で表される化合物から選択される溶媒を含む、上記［１９］又は［２０］に記載の組成物。
［２２］ 前記溶媒は、Ｒ^７４Ｒ^７５Ｒ^７６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ８－Ｒ^７９である、上記［２１］に記載の組成物。
［２３］ 前記溶媒は、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、又はデカメチルシクロペンタシロキサンである、上記［２１］～［２２］に記載の組成物。
［２４］ 表面処理剤である、請求項上記［１９］～［２３］のいずれか１項に記載の組成物。
［２５］ 真空蒸着用である、上記［１９］又は［２４］に記載の組成物。
［２６］ 湿潤被覆用である、上記［１９］又は［２４］に記載の組成物。
［２７］ 上記［１９］～［２５］のいずれか１項に記載の組成物を含有するペレット。
［２８］ 基材と、該基材上に、上記［１］～［１８］のいずれか１項に記載のシロキサン基含有シラン化合物、上記［１９］～［２６］のいずれか１項に記載の組成物から形成された層とを含む物品。
［２９］ 光学部材である、上記［２８］に記載の物品。
［３０］ ディスプレイである、上記［２８］に記載の物品。
［３１］ 下記式（１－ａ）又は（２－ａ）：

【化5】

［式中：
Ｒ^Ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^１－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ－であり；
Ｒ^Ｓ２は、－Ｏ_ｐ－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ－であり；
Ｒ^Ｓは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の直鎖オルガノシロキサン基であり；
Ｒ^１は、炭化水素基であり；
Ｒ^２は、－ＳｉＲ^３ _２－であり；
Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、炭化水素基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、
－（ＣＨ_２）_ｓ６－Ｘ^５３－Ｘ^５４、
－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ６－Ｘ^５４、又は
－（ＣＨ_２）_ｓ６－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ６－Ｘ^５４
（式中、
Ｘ^５３は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ^７４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^７４－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ６－ＣＯＮＲ^７４－、又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ６－ＣＯ－、単結合であり、
Ｘ^５４は、Ｒ^７５、－ＮＲ^７５ _２、－ＳｉＲ^７５ _２Ｒ^７６、－ＳｉＲ^７５ _３、－ＣＲ^７５ _２Ｒ^７５、－ＣＲ^７５ _３、－ＳｉＣｌ_２Ｒ^７６、－ＳｉＣｌ_３、又は

【化6】

であり、
Ｒ^７５は、－ＣＨ＝ＣＨ_２、又は－ＣＨ_２－ＣＨ＝ＣＨ_２であり、
Ｒ^７６は、１価の有機基であり、
Ｒ^７４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基、又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
ｓ６は、１～２０の整数であり、
ｔ６は、１～２０の整数であり、
ｕ６は、１～２０の整数である。）
である。］
で表される化合物。
［３２］ Ｘ^５３は、－ＣＯＮＲ^７４－である、上記［３１］に記載の化合物。
［３３］ Ｘ^５４は、－Ｓｉ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３、又は－ＳｉＣｌ_３である、上記［３１］に記載の化合物。
［３４］ Ｘ^５４は、

【化7】

である、上記［３１］に記載の化合物。
［３５］ －Ｘ^５３－Ｘ^５４は、－ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_２、－ＣＯＮＨＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３である、上記［３１］に記載の化合物。

【発明の効果】

【0007】

本開示によれば、指紋拭き取り性に優れた表面処理層を形成することができる表面処理剤が提供される。

【発明を実施するための形態】

【0008】

本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基又はその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端又は分子鎖中に、１つ又はそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。また、「２～１０価の有機基」とは、炭素を含有する２～１０価の基を意味する。かかる２～１０価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１～９個の水素原子を脱離させた２～１０価の基が挙げられる。例えば、２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

【0009】

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素及び水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つ又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい、Ｃ_１－２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれであってもよく、飽和又は不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つ又はそれ以上の環構造を含んでいてもよい。

【0010】

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個又はそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基及び５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個又はそれ以上の基が挙げられる。

【0011】

本明細書において用いられる場合、「加水分解性基」とは、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、－ＮＣＯ、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）などが挙げられる。

【0012】

本開示の化合物は、下記式（１）又は（２）：

【化8】

［式中：
Ｒ^Ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^１－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ－であり；
Ｒ^Ｓ２は、－Ｏ_ｐ－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ－であり；
Ｒ^Ｓは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の直鎖オルガノシロキサン基であり；
Ｒ^１は、炭化水素基であり；
Ｒ^２は、－ＳｉＲ^３ _２－であり；
Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、炭化水素基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
Ｒ^Ｈは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、又は１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
上記Ｒ^Ｈ中には、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が２つ以上であり；
Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表されるシロキサン基含有シラン化合物である。

【0013】

上記Ｒ^Ｓは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の直鎖オルガノシロキサン基である。ここに、２価の直鎖オルガノシロキサン基とは、シロキサンの主骨格（－ＳｉＲ_２－Ｏ－ＳｉＲ_２－）が直鎖であるオルガノシロキサン基を意味し、Ｓｉ原子に結合するＲ基は直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。

【0014】

好ましい態様において、Ｒ^Ｓは、下記式：
－（ＳｉＲ^３ _２－Ｏ）_ａ－
［式中：
Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、炭化水素基であり、
ａは、２～１５００である。］
で表される基である。

【0015】

上記Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、炭化水素基である。かかる炭化水素基は、置換されていてもよい。

【0016】

Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくは非置換炭化水素基、又はハロゲン原子により置換されている炭化水素基である。かかるハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である。

【0017】

Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくはハロゲン原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキル基又はアリール基、より好ましくはＣ_１－６アルキル基又はアリール基である。

【0018】

上記Ｃ_１－６アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖
である。Ｃ_１－６アルキル基は、好ましくはＣ_１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。

【0019】

上記アリール基は、好ましくはフェニル基である。

【0020】

一の態様において、Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキル基、好ましくはＣ_１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。

【0021】

別の態様において、Ｒ^３は、フェニル基である。

【0022】

別の態様において、Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、メチル基又はフェニル基、好ましくはメチル基である。

【0023】

上記ａは、２～１５００である。ａは、好ましくは５以上、より好ましくは１０以上、さらに好ましくは１５以上、例えば３０以上、又は５０以上であり得る。ａは、好ましくは１０００以下、より好ましくは５００以下、さらに好ましくは２００以下、さらにより好ましくは１５０以下、例えば１００以下、又は８０以下であり得る。

【0024】

ａは、好ましくは５～１０００、より好ましくは１０～５００、さらに好ましくは１５～２００、さらにより好ましくは１５～１５０であり得る。

【0025】

上記Ｒ^１は、炭化水素基であり、上記Ｒ^３と同意義である。

【0026】

Ｒ^１は、好ましくはハロゲン原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキル基又はアリール基、より好ましくはＣ_１－６アルキル基又はアリール基である。

【0027】

一の態様において、Ｒ^１は、Ｃ_１－６アルキル基、好ましくはＣ_１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。

【0028】

別の態様において、Ｒ^１は、フェニル基である。

【0029】

別の態様において、Ｒ^１は、メチル基又はフェニル基、好ましくはメチル基である。

【0030】

上記ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。

【0031】

上記ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。

【0032】

一の態様において、ｐは０であり、ｑは１である。

【0033】

上記Ｒ^Ｈは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、又は１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、Ｒ^Ｈ中には、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が２つ以上存在する。

【0034】

好ましい態様において、Ｒ^Ｈは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、又は（Ｓ４）：

【化9】

［式中：
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基であり；
Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり；
Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり；
Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。
Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、又は－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２であり；
Ｚ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
ただし、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、及び（Ｓ４）中、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。］
で表される基である。

【0035】

上記式中、Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

【0036】

Ｒ^１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

【0037】

Ｒ^１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

【0038】

上記式中、Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

【0039】

Ｒ^１２において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

【0040】

上記式中、ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、式（Ｓ１）において、ｎ１が１～３である（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位が少なくとも２つ存在する。換言すれば、式（Ｓ１）において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

【0041】

ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

【0042】

上記式中、Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基である。かかる２価の有機基は、好ましくは－Ｒ^２８－Ｏ_ｘ－Ｒ^２９－（式中、Ｒ^２８及びＲ^２９は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又はＣ_１－２０アルキレン基であり、ｘは０又は１である。）である。かかるＣ_１－２０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。かかるＣ_１－２０アルキレン基は、好ましくはＣ_１－１０アルキレン基、より好ましくはＣ_１－６アルキレン基、さらに好ましくはＣ_１－３アルキレン基である。

【0043】

一の態様において、Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｃ_１－６アルキレン－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン－又は－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン－である。

【0044】

好ましい態様において、Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は直鎖のＣ_１－６アルキレン基であり、好ましくは単結合又は直鎖のＣ_１－３アルキレン基、より好ましくは単結合又は直鎖のＣ_１－２アルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖のＣ_１－２アルキレン基である。

【0045】

上記式中、Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基である。

【0046】

好ましい態様において、Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は直鎖のＣ_１－６アルキル基であり、好ましくは水素原子又は直鎖のＣ_１－３アルキル基、好ましくは水素原子又はメチル基である。

【0047】

上記式中、Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基である。

【0048】

一の態様において、Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基である。

【0049】

好ましい態様において、Ｒ^１５は、単結合である。

【0050】

上記式中、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数である。

【0051】

好ましい態様において、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２～１０の整数、好ましくは２～６の整数である。

【0052】

上記式中、Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１である。かかるハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子又はフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。好ましい態様において、Ｒ^１４は、水素原子である。

【0053】

一の態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１－ａ）である。

【化10】

［式中、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｘ^１１、及びｎ１は、上記式（Ｓ１）の記載と同意義であり；
ｔ１及びｔ２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上の整数、好ましくは１～１０の整数、より好ましくは２～１０の整数、例えば１～５の整数又は２～５の整数であり；
ｔ１及びｔ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

【0054】

好ましい態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１－ｂ）である。

【化11】

［式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｘ^１１、ｎ１及びｔは、上記式（Ｓ１）の記載と同意義である］

【0055】

上記式中、Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１である。

【0056】

上記Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）に結合する。

【0057】

好ましい態様において、Ｚ^１は、２価の有機基である。

【0058】

好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｚ^１が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ２）において、（Ｓｉ－Ｚ^１－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

【0059】

上記Ｚ^１は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

【0060】

好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－である。

【0061】

別の好ましい態様において、上記Ｚ^１は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

【0062】

上記Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’である。

【0063】

上記Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１’として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）に結合する。

【0064】

好ましい態様において、Ｚ^１’は、２価の有機基である。

【0065】

好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｚ^１’が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ２）において、（Ｓｉ－Ｚ^１’－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

【0066】

上記Ｚ^１’は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１’－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２’－（式中、ｚ１’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－（式中、ｚ３’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

【0067】

好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－である。

【0068】

別の好ましい態様において、上記Ｚ^１’は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

【0069】

上記Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”である。

【0070】

上記Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１”として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）に結合する。

【0071】

好ましい態様において、Ｚ^１”は、２価の有機基である。

【0072】

好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｚ^１”が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ２）において、（Ｓｉ－Ｚ^１”－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

【0073】

上記Ｚ^１”は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２”－（式中、ｚ１”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－（式中、ｚ３”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

【0074】

好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－である。Ｚ^１”がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

【0075】

別の好ましい態様において、上記Ｚ^１”は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１”は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１”は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

【0076】

上記Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

【0077】

上記Ｒ^２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

【0078】

上記Ｒ^２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

【0079】

上記Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

【0080】

上記Ｒ^２３”において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

【0081】

上記ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ１”とｒ１”の合計は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位において、３である。

【0082】

上記ｑ１”は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

【0083】

上記Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

【0084】

Ｒ^２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

【0085】

Ｒ^２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

【0086】

上記Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

【0087】

Ｒ^２３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

【0088】

上記ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ’、ｑ１’及びｒ１’の合計は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位において、３である。

【0089】

一の態様において、ｐ１’は、０である。

【0090】

一の態様において、ｐ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１’は、３である。

【0091】

一の態様において、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

【0092】

一の態様において、ｐ１’は０であり、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

【0093】

上記Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

【0094】

Ｒ^２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

【0095】

Ｒ^２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

【0096】

上記Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

【0097】

Ｒ^２３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

【0098】

上記ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ１、ｑ１とｒ１の合計は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位において、３である。

【0099】

一の態様において、ｐ１は、０である。

【0100】

一の態様において、ｐ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１は、３である。

【0101】

一の態様において、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

【0102】

一の態様において、ｐ１は０であり、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

【0103】

上記式中、Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

【0104】

上記Ｒ^ｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

【0105】

上記Ｒ^ｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

【0106】

上記式中、Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

【0107】

上記Ｒ^ｃ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

【0108】

上記ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ１、ｌ１とｍ１の合計は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位において、３である。

【0109】

一の態様において、ｋ１は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。好ましい態様において、ｋ１は、３である。

【0110】

式（Ｓ２）において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

【0111】

好ましい態様において、式（Ｓ２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

【0112】

好ましい態様において、式（Ｓ２）で表される基は、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１（式中、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１は、０～２の整数である。）、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’（式中、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１’は、０～２の整数である。）、又は－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”（式中、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１”は、０～２の整数である。）のいずれか１つを有する。Ｚ^１、Ｚ^１’、Ｚ^１”、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２２’、Ｒ^２３’、Ｒ^２２”、及びＲ^２３”は、上記と同意義である。

【0113】

好ましい態様において、式（Ｓ２）において、Ｒ^２１’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１’において、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

【0114】

好ましい態様において、式（Ｓ２）において、Ｒ^２１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１において、ｐ１’は、０であり、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

【0115】

好ましい態様において、式（Ｓ２）において、Ｒ^ａ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｐ１は、０であり、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

【0116】

好ましい態様において、式（Ｓ２）において、ｋ１は２又は３、好ましくは３であり、ｐ１は０であり、ｑ１は２又は３、好ましくは３である。

【0117】

Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２である。

【0118】

Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^２として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）に結合する。

【0119】

好ましい態様において、Ｚ^２は、２価の有機基である。

【0120】

好ましい態様において、Ｚ^２は、シロキサン結合を含まない。

【0121】

上記Ｚ^２は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６－（式中、ｚ５は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－（式中、ｚ７は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

【0122】

好ましい態様において、Ｚ^２は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－である。Ｚ^２がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

【0123】

別の好ましい態様において、上記Ｚ^２は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

【0124】

Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’である。

【0125】

Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^２’として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）に結合する。

【0126】

好ましい態様において、Ｚ^２’は、シロキサン結合を含まない。

【0127】

上記Ｚ^２’は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５’－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６’－（式中、ｚ５’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－（式中、ｚ７’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

【0128】

好ましい態様において、Ｚ^２’は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－である。Ｚ^２’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

【0129】

別の好ましい態様において、上記Ｚ^２’は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^２’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

【0130】

上記Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。

【0131】

上記Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^３として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）に結合する。

【0132】

一の態様において、Ｚ^３は酸素原子である。

【0133】

一の態様において、Ｚ^３は２価の有機基である。

【0134】

好ましい態様において、Ｚ^３は、シロキサン結合を含まない。

【0135】

上記Ｚ^３は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

【0136】

好ましい態様において、Ｚ^３は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－である。Ｚ^３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

【0137】

別の好ましい態様において、上記Ｚ^３は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

【0138】

上記Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

【0139】

Ｒ^３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

【0140】

Ｒ^３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

【0141】

上記Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

【0142】

上記Ｒ^３５において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

【0143】

上記式中、ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、式（Ｓ３）の末端部分においては、ｎ２が１～３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位が少なくとも２つ存在する。換言すれば、式（Ｓ３）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

【0144】

ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

【0145】

上記Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

【0146】

上記Ｒ^３３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基又は－（Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ１－（Ｏ－Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。

【0147】

一の態様において、Ｒ^３３’は、水酸基である。

【0148】

別の態様において、Ｒ^３３’は、１価の有機基、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

【0149】

上記ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ２’とｒ２’の合計は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位において、３である。

【0150】

ｑ２’は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

【0151】

Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。かかる－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

【0152】

上記Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

【0153】

上記Ｒ^３３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基又は－（Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ１－（Ｏ－Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。

【0154】

一の態様において、Ｒ^３３は、水酸基である。

【0155】

別の態様において、Ｒ^３３は、１価の有機基、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

【0156】

上記ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ２、ｑ２及びｒ２の合計は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位において、３である。

【0157】

一の態様において、ｐ２は、０である。

【0158】

一の態様において、ｐ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ２は、３である。

【0159】

一の態様において、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

【0160】

一の態様において、ｐ２は０であり、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

【0161】

上記Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。かかる－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

【0162】

上記Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

【0163】

上記Ｒ^ｆ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基又は－（Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ１－（Ｏ－Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。

【0164】

一の態様において、Ｒ^ｆ１は、水酸基である。

【0165】

別の態様において、Ｒ^ｆ１は、１価の有機基、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

【0166】

上記ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ２、ｌ２及びｍ２の合計は、（ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２）単位において、３である。

【0167】

一の態様において、ｎ２が１～３、好ましくは２又は３、より好ましくは３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位は、式（Ｓ３）の各末端部分において、２個以上、例えば２～２７個、好ましくは２～９個、より好ましくは２～６個、さらに好ましくは２～３個、特に好ましくは３個存在する。

【0168】

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^３２’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２’において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

【0169】

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^３２が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

【0170】

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^ｅ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

【0171】

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、ｋ２は０であり、ｌ２は２又は３、好ましくは３であり、ｎ２は、２又は３、好ましくは３である。

【0172】

上記Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２である。ここに、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^ａ１、Ｒ^ｂ２、Ｒ^ｃ１、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｅ１、Ｒ^ｆ１、ｎ１、ｋ１、ｌ１、ｍ１、ｋ２、ｌ２、及びｍ２は、上記と同意義である。

【0173】

好ましい態様において、Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１である。

【0174】

上記Ｚ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^４として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）に結合する。

【0175】

一の態様において、Ｚ^４は酸素原子である。

【0176】

一の態様において、Ｚ^４は２価の有機基である。

【0177】

好ましい態様において、Ｚ^４は、シロキサン結合を含まない。

【0178】

上記Ｚ^４は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

【0179】

好ましい態様において、Ｚ^４は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－である。Ｚ^３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

【0180】

別の好ましい態様において、上記Ｚ^４は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^４は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^４は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

【0181】

好ましい態様において、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）及び（Ｓ４）は、シロキサン結合を含まない。

【0182】

一の態様において、Ｒ^Ｈは、式（Ｓ２）、（Ｓ３）又は（Ｓ４）で表される基である。

【0183】

一の態様において、Ｒ^Ｈは、式（Ｓ２）、又は（Ｓ３）で表される基である。

【0184】

一の態様において、Ｒ^Ｈは、式（Ｓ３）、又は（Ｓ４）で表される基である。

【0185】

一の態様において、Ｒ^Ｈは、式（Ｓ１）で表される基である。好ましい態様において、式（Ｓ１）は、式（Ｓ１－ｂ）で表される基である。好ましい態様において、式中、Ｒ^１３は、水素原子であり、Ｘ^１１は、単結合、又は－Ｒ^２８－Ｏ_ｘ－Ｒ^２９－（式中、Ｒ^２８及びＲ^２９は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又はＣ_１－２０アルキレン基であり、ｘは０又は１である。）であり、ｎ１は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

【0186】

一の態様において、Ｒ^Ｈは、式（Ｓ２）で表される基である。好ましい態様において、式（Ｓ３）は、－ＳｉＲ^ａ１ _２Ｒ^ｃ１、又は－ＳｉＲ^ａ１ _３であり、Ｒ^ａ１は、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり、Ｚ^１は、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｑ１は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

【0187】

一の態様において、Ｒ^Ｈは、式（Ｓ３）で表される基である。好ましい態様において、式（Ｓ４）は、－ＣＲ^ｅ１ _２Ｒ^ｆ１、又は－ＣＲ^ｅ１ _３であり、Ｒ^ｅ１は、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり、Ｚ^３は、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｎ２は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

【0188】

一の態様において、Ｒ^Ｈは、式（Ｓ４）で表される基である。好ましい態様において、Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり、Ｚ^４は、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｎ１は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

【0189】

Ｘ^Ａは、主に指紋拭き取り性等の機能を提供するシロキサン部（Ｒ^Ｓ１又はＲ^Ｓ２）と基材との結合能を提供する部（Ｒ^Ｈ）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^Ａは、式（１）及び（２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であってもよく、いずれの基であってもよい。

【0190】

上記式（１）において、αは１～９の整数であり、βは１～９の整数である。これらα及びβは、Ｘ^Ａの価数に応じて変化し得る。α及びβの和は、Ｘ^Ａの価数と同じである。例えば、Ｘ^Ａが１０価の有機基である場合、α及びβの和は１０であり、例えばαが９かつβが１、αが５かつβが５、又はαが１かつβが９となり得る。また、Ｘ^Ａが２価の有機基である場合、α及びβは１である。

【0191】

上記式（２）において、γは１～９の整数である。γは、Ｘ^Ａの価数に応じて変化し得る。即ち、γは、Ｘ^Ａの価数から１を引いた値である。

【0192】

Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基である。

【0193】

上記Ｘ^Ａにおける２～１０価の有機基は、好ましくは２～８価の有機基である。一の態様において、かかる２～１０価の有機基は、好ましくは２～４価の有機基であり、より好ましくは２価の有機基である。別の態様において、かかる２～１０価の有機基は、好ましくは３～８価の有機基、より好ましくは３～６価の有機基である。

【0194】

一の態様において、Ｘ^Ａは、単結合又は２価の有機基であり、α、β、及びγは１である。

【0195】

一の態様において、Ｘ^Ａは３～６価の有機基であり、αは１であり、βは２～５であり、γは２～５である。

【0196】

一の態様において、Ｘ^Ａは、３価の有機基であり、αは１であり、βは２である。

【0197】

Ｘ^Ａが、単結合又は２価の有機基である場合、式（１）及び（２）は、下記式（１’）及び（２’）で表される。

【化12】

【0198】

一の態様において、Ｘ^Ａは単結合である。

【0199】

別の態様において、Ｘ^Ａは２価の有機基である。

【0200】

一の態様において、Ｘ^Ａとしては、例えば、単結合又は下記式：
－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－
［式中：
Ｒ^５１は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｓ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、好ましくは－（ＣＨ_２）_ｓ５－であり、
ｓ５は、１～２０の整数、好ましくは１～１５の整数、より好ましくは１～１０の整数、さらにより好ましくは１～６の整数、例えば１～３の整数であり、あるいは、１～２０の整数、好ましくは４～１５の整数、より好ましくは７～１３の整数であり、
Ｘ^５１は、－（Ｘ^５２）_ｌ５－であり、
Ｘ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基であり、
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、又は１価の有機基であり、好ましくは水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
ｎ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～１５の整数、より好ましくは１～１０の整数、さらにより好ましくは１～６の整数、例えば１～３の整数であり、
ｌ５は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｐ５は、０又は１であり、
ｑ５は、０又は１であり、
ここに、ｐ５及びｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５又はｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の有機基が挙げられる。ここに、Ｘ^Ａ（典型的にはＸ^Ａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基及びＣ_１－３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｘ^Ａは、これらの基により置換されていない。なお、Ｘ^Ａは、左側が、Ｒ^Ｓ１又はＲ^Ｓ２に結合する。

【0201】

上記炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基は、－Ｏ－Ｃ_１－１０アルキレン－を含む基であり、例えば、－Ｒ^５５－（－Ｏ－Ｃ_１－１０アルキレン）_ｎ－Ｒ^５６（式中、Ｒ^５５は、単結合又は２価の有機基、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｎは任意の整数、好ましくは２～１０の整数であり、Ｒ^５６は、水素原子又は１価の有機基、好ましくはＣ_１－６アルキル基である。）である。上記アルキレン基は、直鎖であっても分岐鎖であってもよい。

【0202】

好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－Ｒ^５２－である。Ｒ^５２は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｔ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、好ましくは－（ＣＨ_２）_ｔ５－である。ｔ５は、１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。ここに、Ｒ^５２（典型的にはＲ^５２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基及びＣ_１－３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｒ^５６は、これらの基により置換されていない。

【0203】

好ましくは、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－Ｒ^５１－Ｘ^５３－Ｒ^５２－、又は
［式中、Ｒ^５１及びＲ^５２は、上記と同意義であり、
Ｘ^５３は、
単結合、
－Ｏ－、
－Ｓ－、
－ＣＯ－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、
－ＣＯＮＲ^５４－、
－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯＮＲ^５４－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯ－、又は
－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_u５－Ｎ（Ｒ^５４）－、
（式中、Ｒ^５４は、上記と同意義であり、
ｕ５は１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。）である。］
であり得る。

【0204】

より好ましくは、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－、
－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－、又は
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、Ｘ^５３、ｓ５及びｔ５は、上記と同意義である。］
である。

【0205】

好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－、
－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－又は
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、
Ｘ^５３は、単結合、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯＮＲ^５４－、又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯ－であり、
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
ｓ５、ｔ５、及びｕ５は、上記と同意義である。］
であり得る。

【0206】

好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｔ５－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_ｔ５－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯ－、又は
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
ｓ５、ｔ５、及びｕ５は、上記と同意義である。］
であり得る。

【0207】

上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基及びＣ_１－３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基）から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。一の態様において、Ｘ^Ａは、非置換である。

【0208】

尚、上記Ｘ^Ａは、各式の左側がＲ^Ｓ１又はＲ^Ｓ２に結合し、右側がＲ^Ｈに結合する。

【0209】

別の態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、３～１０価の有機基であり得る。

【0210】

さらに別の態様において、Ｘ^Ａの例として、下記：

【化13】

［式中、Ｘ^ａは、単結合または２価の有機基である。］
で表される基が挙げられる

【0211】

上記Ｘ^ａは、イソシアヌル環に直接結合する単結合または二価の連結基である。Ｘ^ａとしては、単結合、アルキレン基、または、エーテル結合、エステル結合、アミド結合及びスルフィド結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む二価の基が好ましく、単結合、炭素数１～１０のアルキレン基、または、エーテル結合、エステル結合、アミド結合及びスルフィド結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む炭素数１～１０の二価の炭化水素基がより好ましい。

【0212】

Ｘ^ａとしては、下記式：
－（ＣＸ^１２１Ｘ^１２２）_ｘ１－（Ｘ^ａ１）_ｙ１－（ＣＸ^１２３Ｘ^１２４）_ｚ１－
（式中、Ｘ^１２１～Ｘ^１２４は、それぞれ独立して、Ｈ、ＯＨ、または、－ＯＳｉ（ＯＲ^１２１）_３（式中、３つのＲ^１２１は、それぞれ独立して、炭素数１～４のアルキル基である。）であり、
上記Ｘ^ａ１は、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＲ^１２２－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^１２２－、－ＮＲ^１２２－Ｃ（＝Ｏ）－、またはＳであり（各結合の左側がＣＸ^１２１Ｘ^１２２に結合する。）、
Ｒ^１２２はＣ_１－６の炭化水素鎖、好ましくはＣ_１－６アルキル基であり、
ｘ１は０～１０の整数であり、ｙ１は０または１であり、ｚ１は１～１０の整数である。）
で表される基が更に好ましい。

【0213】

上記Ｘ^ａ１としては、－Ｏ－または－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－が好ましい。

【0214】

上記Ｘ^ａとしては、下記式：
－（ＣＨ_２）_ｍ１２－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｍ１３－
（式中、ｍ１２は１～１０の整数であり、ｍ１３は１～１０の整数である。）
で表される基、
－（ＣＨ_２）_ｍ１５－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）－（ＣＨ_２）_ｍ１６－
（式中、ｍ１５は１～１０の整数であり、ｍ１６は１～１０の整数である。）
で表される基、
－（ＣＨ_２）_ｍ１８－
（式中、ｍ１８は１～１０の整数である。）
で表される基、又は
－（ＣＨ_２）_ｍ２０－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_３）－（ＣＨ_２）_ｍ２１－
（式中、ｍ２０は１～１０の整数であり、ｍ２１は１～１０の整数である。）
で表される基
で表される基が特に好ましい。

【0215】

上記Ｘ^ａとして、特に限定されないが、－ＣＨ_２－、－Ｃ_２Ｈ_４－、－Ｃ_３Ｈ_６－、－Ｃ_４Ｈ_８－、－Ｃ_４Ｈ_８－Ｏ－ＣＨ_２－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２－、－Ｓ－、－ＮＲ^１２１－、－（ＣＨ_２）_ｍ２２－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｍ２３－、－（ＣＨ_２）_ｍ２２－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－（ＣＨ_２）_ｍ２３－、－（ＣＨ_２）_ｍ２２－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^１２１－（ＣＨ_２）_ｍ２３－、－（ＣＨ_２）_ｍ２２－ＮＲ^１２１－Ｃ（＝Ｏ）－（ＣＨ_２）_ｍ２３－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_３）ＣＨ_２－
（式中Ｒ^１２１は、Ｃ_１－６炭化水素鎖であり、ｍ２２は１～１０の整数であり、ｍ２３は１～１０の整数である。）
等が挙げられる。

【0216】

上記Ｘ^ａは、左側がイソシアヌル環に結合する。

【0217】

一の態様において、本開示のシロキサン基含有シラン化合物は、式（１）で表されるシロキサン基含有シラン化合物である。

【0218】

一の態様において、本開示のシロキサン基含有シラン化合物は、式（２）で表されるシロキサン基含有シラン化合物である。

【0219】

上記式（１）又は（２）で表されるシロキサン基含有シラン化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０^２～１×１０^５の数平均分子量を有し得る。上記式（１）又は（２）で表されるシロキサン基含有シラン化合物は、好ましくは１，０００～３０，０００、より好ましくは１，５００～１０，０００の数平均分子量を有することが、摩耗耐久性の観点から好ましい。なお、かかる「数平均分子量」は、^１Ｈ－ＮＭＲにより測定される値とする。

【0220】

上記シロキサン基含有シラン化合物は、例えば、オルガノシロキサン基を有する化合物と、加水分解性シラン基を有する化合物とを反応させることにより得ることができる。

【0221】

例えば、下記式：
Ｒ^６１－ＣＯＯＨ
［式中、Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基である。］
で表される化合物を、下記式：
ＮＨ_２－Ｒ^６２
［式中、Ｒ^６２は、アリル基含有基である。］
で表される化合物と反応させて、下記式：
Ｒ^６１－ＣＯＮＨ－Ｒ^６３－Ｒ^６４ _ｎ
［式中、
Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｒ^６３は、（ｎ＋１）価のリンカー基であり、
Ｒ^６４は、アリル基である。］
を得る。次いで、得られたアリル化合物を、
ＨＳｉＲ^６５ _ｍＲ^６６ _３－ｍ
［式中、
Ｒ^６５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ^６６は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり、
ｍは、１～３である。］
で表される化合物と反応させることにより、式（１）で表される化合物を得ることができる。

【0222】

別の方法として、下記スキームに従って、Ｒ^６１－ＣＯＯＨから、オキサジアゾール化合物を得、原料として用いることにより、式（１）で表される化合物を得ることができる。例えば、Ｒが末端にアリル基を有する場合、上記のようにＨＳｉＲ^６５ _ｍＲ^６６ _３－ｍを反応させることにより、式（１）で表される化合物を得ることができる。

【化14】

［式中：
Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｒは、末端に官能基を含んでいてもよい、アルキル、又はアリ－ルであり、
上記官能基は、エステルなどのカルボン酸誘導体（例えば、アリル、エステル、アミド、カルボン酸、酸無水物、酸クロリド、ニトリル）、アミン、エポキシド、ベンゼン環、アルコール、又は不飽和結合である。］

【0223】

別の方法として、下記式：
Ｒ^６１－ＣＷ_ｍＸ_３－ｍ
［式中：
Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｘは、加水分解性基であり、
Ｗは、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり、
ｍは、１～３である。］
で表される化合物を、下記式：
Ｍ－Ｒ^６２
［式中：
Ｍは、金属含有基、例えばＬｉ、ハロゲン－Ｍｇ、Ｚｎであり、
Ｒ^６２は、アリル基含有基である。］
で表される化合物と反応させて、下記式：
Ｒ^６１－ＣＷ_ｍ（－Ｒ^６３－Ｒ^６４）_３－ｍ
［式中：
Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｒ^６３は、２価の基であり、
Ｒ^６４は、アリル基であり、
Ｗは、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり、
ｍは、１～３である。］
を得る。次いで、得られたアリル化合物を、
ＨＳｉＲ^６５ _ｍＲ^６６ _３－ｍ
［式中、
Ｒ^６５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ^６６は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり、
ｍは、１～３である。］
で表される化合物と反応させることにより、式（１）で表される化合物を得ることができる。

【0224】

別の方法として、下記式：
Ｒ^６１－ＣＯＲ^６７
［式中：
Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｒ^６７は、ＯＨ、又はハロゲン元素、ＮＲ_２、－ＯＣＯＲ’、アルコキシ基などの加水分解性基であり、
Ｒは、それぞれ独立して、水素原子またはアルキル基であり、
Ｒ’は、水素原子またはアルキル基である。］
で表される化合物と、
Ｍ－Ｒ^６２
［式中：
Ｍは、金属含有基、例えばＬｉ、ハロゲン－Ｍｇ、又はＺｎであり、
Ｒ^６２は、アリル基含有基である。］
で表される化合物と反応させて、下記式：
Ｒ^６１－Ｃ（ＯＨ）（－Ｒ^６３－Ｒ^６４）_２
［式中：
Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｒ^６３は、２価の基であり、
Ｒ^６４は、アリル基である。］
で表される化合物を得る。得られた化合物を、下記式：
Ｌ－Ｒ^６２
［式中：
Ｌは、脱離基であり、
Ｒ^６２は、アリル基含有基である。］
である化合物と反応させて、
Ｒ^６１－Ｃ（－Ｏ－Ｒ^６３－Ｒ^６４）（－Ｒ^６３－Ｒ^６４）_２
［式中：
Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｒ^６３は、２価の基であり、
Ｒ^６４は、アリル基である。］
で表される化合物を得る。次いで、得られたアリル化合物を、
ＨＳｉＲ^６５ _ｍＲ^６６ _３－ｍ
［式中、
Ｒ^６５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ^６６は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり、
ｍは、１～３である。］
で表される化合物と反応させることにより、式（１）で表される化合物を得ることができる。

【0225】

別の方法として、下記式：
Ｒ^６１－ＣＨ＝ＣＨ_２
［式中：Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基である。］
で表される化合物と、下記式
Ｈ－ＳｉＸ_３
［式中、Ｘは加水分解性基である。］
とを反応させて、下記式：
Ｒ^６１－ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＸ_３
で表される化合物を得る。次いで、得られた化合物を、
Ｍ－Ｒ^６２
［式中、
Ｍは、金属含有基、例えばＬｉ、ハロゲン－Ｍｇ、又はＺｎであり、
Ｒ^６２は、アリル基含有基である。］
で表される化合物と反応させて、下記式：
Ｒ^６１－ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（－Ｒ^６３－Ｒ^６４）_３
［式中：
Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｒ^６３は、２価の基であり、
Ｒ^６４は、アリル基である。］
を得る。続いてアリル化合物を得る。次いで、得られたアリル化合物を、
ＨＳｉＲ^６５ _ｍＲ^６６ _３－ｍ
［式中、
Ｒ^６５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ^６６は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり、
ｍは、１～３である。］
で表される化合物と反応させることにより、式（１）で表される化合物を得ることができる。

【0226】

上記の反応において、Ｒ^６１－ＣＨ＝ＣＨ_２は、酸化剤と反応させることにより、エポキシ化合物とし、かかるエポキシ化合物を用いて、本開示の式（１）で表される化合物を得ることができる。

【0227】

さらに、Ｒ^６１－ＣＨ＝ＣＨ_２は、ＨＳＲで表されるチオール化合物と反応させて、Ｒ^６１－ＣＨ_２－ＣＨ_２－ＳＲ又はＲ^６１－ＣＨ（ＳＲ）－ＣＨ_３で表されるチオ化合物とし、かかるチオ化合物を用いて、本開示の式（１）で表される化合物を得ることができる。ここに、Ｒは、任意の基である。

【0228】

さらに、下記スキームに示す通り、Ｒ^６１－ＣＨ＝ＣＨ_２は、ジエンと反応させて、環状化合物とし、かかる環状化合物を用いて、本開示の式（１）で表される化合物を得ることができる。

【化15】

［式中、Ｒは、それぞれ独立して、炭化水素、水素原子、または酸素原子、窒素原子、又は、－ＣＯＲ’である。Ｒ’は、任意の基である。］

【0229】

さらに、下記スキームに示す通り、Ｒ^６１－ＣＨ＝ＣＨ_２は、ジボラン、ボランジメチルスルフィド錯体、９－ボラビシクロ［３，３，１］－ノナン等のホウ素試薬と反応させて、次いで、得られたボラン誘導体をアルコール化合物に変換し、かかるアルコール化合物を用いて、本開示の式（１）で表される化合物を得ることができる。

【化16】

［式中、Ｒは、それぞれ独立して、水素原子、又は炭化水素基である。］

【0230】

別の方法として、下記式：
Ｒ^６１－ＳｉＷ^２－Ｈ
［式中、
Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｗは、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基である。］
で表される化合物と、下記式：
Ｈ_２Ｃ＝ＣＨ－Ｒ^６７
［Ｒ^６７は、アミド、カルボン酸、酸無水物、酸クロリド、ニトリル、アミン、エポキシド、ベンゼン環、アルコール等の官能基含有基である。］
とを反応させて、下記式：
Ｒ^６１－ＳｉＸ_２－ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｒ^６７
で表される化合物を得ることができる。かかる化合物を、原料として、上記の反応を適宜利用して、式（１）で表される化合物を得ることができる。

【0231】

別の方法として、下記式：
Ｒ^６１－ＣＨ_２ＮＲ^６８Ｈ
［式中、Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｒ^６８は、任意の基である。］
で表される化合物を下記式
ＨＯＣＯ－Ｒ^６９
［式中、Ｒ^６９は、二重結合基含有基である。］
で表される化合物と反応させて下記式：
Ｒ^６１－ＣＨ_２ＮＲ^６８ＣＯ－Ｒ^６９
を得る。かかる化合物を、原料として、Ｒ^６９内に含まれる二重結合に対して上記のヒドロシリル化反応を行うことにより、式（１）で表される化合物を得ることができる。

【0232】

別の方法として、下記式：
Ｒ^６１－ＣＨ_２ＮＨ_２
［式中、Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基である。］
で表される化合物を、
Ｒ^７０－ＣＯＯＨ
［式中、Ｒ^７０は、二重結合、アミド、カルボン酸、酸無水物、酸クロリド、ニトリル、アミン、エポキシド、ベンゼン環、アルコール等の官能基含有基である。］
で表される化合物と反応させて、
Ｒ^６１－ＣＨ_２ＮＨＣＯ－Ｒ^７０
が得られ、かかる化合物を原料として、式（１）で表される化合物を得ることができる。

【0233】

別の方法として、下記スキームに示すように、エポキシ化合物と、下記に示すような化合物とを反応させて得られる化合物を原料として、式（１）で表される化合物を得ることができる。

【化17】

［式中、
Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｒ^１は、水素原子、またはアルキル基であり、
Ｒ^２は、水素原子、またはアルキル基であり、
Ｒは、末端に官能基を含んでいてもよい、炭化水素基であり、
上記官能基は、エステルなどのカルボン酸誘導体（例えば、エステル、アミド、カルボン酸、酸無水物、酸クロリド、ニトリル）、アミン、エポキシド、ベンゼン環、アルコール、又は不飽和結合である。］

【0234】

別の方法として、下記スキームに従って、Ｒ^６１－ＣＨ_２Ｘとイソシアヌル酸とを、適切な塩基（水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、カリウムｔ－ブトキシド、金属ヘキサメチルジシラジドなど）の存在下で反応させて、置換イソシアヌレート化合物を得ることができる。ここに、Ｘは脱離性官能基であり、例えば、クロリド、ブロミド、ヨージド。パラトルエンスルホナート、トリフルオロメタンスルホナート、カルボキシラートが挙げられる。

【化18】

【0235】

上記ヒドロシリル化は、好適には、遷移金属触媒を用いて行われる。かかる遷移金属触媒としては、第８族～１０族遷移金属触媒が好ましく、中でも、白金触媒、ルテニウム触媒、ロジウム触媒等が挙げられる。中でも、白金触媒が好ましい。白金触媒としては、Ｐｔ／ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、Ｐｔ／テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン錯体、塩化白金酸、酸化白金等が挙げられる。中でも、Ｐｔ／ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体およびＰｔ／テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン錯体のいずれかが好ましい。

【0236】

上記遷移金属触媒の使用量は、反応対象である二重結合を有する化合物に対する質量比が、０．１～１，０００ｐｐｍであることが好ましく、１～１００ｐｐｍであることが特に好ましい。上記の使用量とすることにより、適切に反応が進行し、触媒に起因する着色を抑制することができる。

【0237】

好ましい態様において、上記触媒、特に白金触媒と、含窒素化合物、又は含硫黄化合物とを併用する。これらの化合物は１種を使用しても、２種以上を使用してもよい。

【0238】

上記含窒素化合物としては、脂肪族アミン化合物、トリエチルアミン、芳香族アミン化合物（アニリン、ピリジン等）、リン酸アミド（ヘキサメチルホスホルアミド等）、アミド化合物（Ｎ，Ｎ－ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等。）、尿素化合物（テトラメチル尿素等。）、環状アミド化合物（Ｎ－メチルピロリドン等。）等が挙げられる。含窒素化合物の中でも後述するドナー数の高い化合物が好ましく、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、リン酸アミド、尿素化合物が好ましい。また、含窒素化合物の塩基性が高いと、加水分解性基の加水分解や縮合反応等の副反応が進行しやすくなるため、塩基性は低いかまたは中性の化合物が良い。このような点から芳香族アミン化合物、リン酸アミド、尿素化合物が好ましい。

【0239】

上記含硫黄化合物としては、スルホキシド化合物（テトラメチレンスルホキシド、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。

【0240】

上記の化合物としては、芳香族アミン化合物およびスルホキシド化合物の１種以上が好ましく、テトラメチレンスルホキシド、又はジメチルスルホキシドの１種以上が特に好ましい。

【0241】

上記の含窒素化合物および含硫黄化合物は、いずれもドナー数が大きい。ドナー数とは、溶媒パラメータの一つであり、電子（対）供与性の尺度である。ドナー数が大きい化合物を上記遷移金属触媒と併用すると、遷移金属触媒中の遷移金属にかかる化合物が配位し、そのため、二重結合を有する化合物の遷移金属への配位が制御されるものと考えられる。その結果、特定組成を有する組成物が得られる。

【0242】

ここに、ドナー数は、含窒素化合物又は含硫黄化合物と、ＳｂＣｌ_５とが１：１付加体を形成するときの熱量であり、種々の化合物のドナー数、ドナー数の算出方法等は、たとえば、下記参考文献（１）および（２）等に開示されている。（１）Ｐｕｒｅ＆Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，Ｖｏｌ．４１，Ｎｏ．３，ｐｐ．２９１－３２６，１９７５。（２）Ｐｕｒｅ＆Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，Ｖｏｌ．５８，Ｎｏ．８，ｐｐ．１１５３－１１６１，１９８６。

【0243】

上記含窒素化合物又は含硫黄化合物の使用量は、二重結合を有する化合物の１００質量部に対して、０．００１～１，０００質量部が好ましく、０．０１～１０質量部が特に好ましい。また、遷移金属触媒と含窒素化合物又は含硫黄化合物の使用量の質量比率（含窒素化合物又は含硫黄化合物：遷移金属触媒）は、１０：１～１０，０００：１が好ましく、２０：１～１，０００：１が特に好ましい

【0244】

本開示は、上記式（１）又は（２）で表される化合物の中間体を提供する。

【0245】

本開示は、下記式（１－ａ）又は（２－ａ）：

【化19】

［式中：
Ｒ^Ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^１－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ－であり；
Ｒ^Ｓ２は、－Ｏ_ｐ－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ－であり；
Ｒ^Ｓは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の直鎖オルガノシロキサン基であり；
Ｒ^１は、炭化水素基であり；
Ｒ^２は、－ＳｉＲ^３ _２－であり；
Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、炭化水素基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、
－（ＣＨ_２）_ｓ６－Ｘ^５３－Ｘ^５４、
－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ６－Ｘ^５４、又は
－（ＣＨ_２）_ｓ６－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ６－Ｘ^５４
（式中、
Ｘ^５３は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ^７４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^７４－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ６－ＣＯＮＲ^７４－、又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ６－ＣＯ－、単結合であり、
Ｘ^５４は、Ｒ^７５、－ＮＲ^７５ _２、－ＳｉＲ^７５ _２Ｒ^７６、－ＳｉＲ^７５ _３、－ＣＲ^７５ _２Ｒ^７５、－ＣＲ^７５ _３、－ＳｉＣｌ_２Ｒ^７６、－ＳｉＣｌ_３、又は

【化20】

であり、
Ｒ^７５は、－ＣＨ＝ＣＨ_２、又は－ＣＨ_２－ＣＨ＝ＣＨ_２であり、
Ｒ^７６は、１価の有機基であり、
Ｒ^７４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基、又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
ｓ６は、１～２０の整数であり、
ｔ６は、１～２０の整数であり、
ｕ６は、１～２０の整数である。）
である。］
で表される化合物を提供する。

【0246】

式（１－ａ）及び（２－ａ）におけるＲ^Ｓ１及びＲ^Ｓ２は、式（１）及び（２）におけるＲ^Ｓ１及びＲ^Ｓ２と同意義である。

【0247】

Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、－（ＣＨ_２）_ｓ６－Ｘ^５３－Ｘ^５４、－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ６－Ｘ^５４、又は－（ＣＨ_２）_ｓ６－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ６－Ｘ^５４である。

【0248】

Ｘ^５３は、単結合、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ^７４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^７４－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ６－ＣＯＮＲ^７４－、又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ６－ＣＯ－であり、好ましくは－－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ^７４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^７４－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ６－ＣＯＮＲ^７４－、又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ６－ＣＯ－、より好ましくはＣＯＮＲ^７４－である。

【0249】

Ｒ^７４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基、又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基、好ましくは水素原子、Ｃ_１－６アルキル基、又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基である。

【0250】

上記炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基は、－Ｏ－Ｃ_１－１０アルキレン－を含む基であり、例えば、－Ｒ^５５－（－Ｏ－Ｃ_１－１０アルキレン）_ｎ－Ｒ^５６（式中、Ｒ^５５は、単結合又は２価の有機基、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｎは任意の整数、好ましくは２～１０の整数であり、Ｒ^５６は、水素原子又は１価の有機基、好ましくはＣ_１－６アルキル基である。）である。上記アルキレン基は、直鎖であっても分岐鎖であってもよい。

【0251】

一の態様において、Ｒ^７４は水素原子である。

【0252】

別の態様において、Ｒ^７４は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基である。

【0253】

Ｘ^５４は、Ｒ^７５、－ＮＲ^７５ _２、－ＳｉＲ^７５ _２Ｒ^７６、－ＳｉＲ^７５ _３、－ＣＲ^７５ _２Ｒ^７５、－ＣＲ^７５ _３、－ＳｉＣｌ_２Ｒ^７６、－ＳｉＣｌ_３、又は

【化21】

であり、好ましくは－ＮＲ^７５ _２、－ＳｉＲ^７５ _２Ｒ^７６、－ＳｉＲ^７５ _３、－ＣＲ^７５ _２Ｒ^７５、－ＣＲ^７５ _３、又は

【化22】

である。

【0254】

一の態様において、Ｘ^５４は、Ｒ^７５、－ＮＲ^７５ _２、－ＳｉＲ^７５ _２Ｒ^７６、－ＳｉＲ^７５ _３、－ＣＲ^７５ _２Ｒ^７５、又は－ＣＲ^７５ _３、好ましくは－ＳｉＲ^７５ _３、又は－ＣＲ^７５ _３、より好ましくは－ＳｉＲ^７５ _３である。

【0255】

別の態様において、Ｘ^５４は、

【化23】

である。

【0256】

Ｒ^７５は、－ＣＨ＝ＣＨ_２、又は－ＣＨ_２－ＣＨ＝ＣＨ_２、好ましくは－ＣＨ_２－ＣＨ＝ＣＨ_２である。

【0257】

Ｒ^７６は、１価の有機基、好ましくはＣ_１－６アルキレン基、炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基である。炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基は、上記と同意義である。

【0258】

好ましい態様において、－Ｘ^５３－Ｘ^５４は、－ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_２、－ＣＯＮＨＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３である。

【0259】

Ｘ^５４が、－ＳｉＲ^７５ _２Ｒ^７６、又は－ＣＲ^７５ _２Ｒ^７５である場合、好ましくは、２価の直鎖オルガノシロキサン基は、ａが２以上、好ましくは３以上の－（ＳｉＲ^３ _２－Ｏ）_ａ－である。

【0260】

次に、本発明の組成物について説明する。

【0261】

本開示の組成物は、式（１）又は（２）で表される少なくとも１種のシロキサン基含有シラン化合物を含有する。

【0262】

一の態様において、本開示の組成物中、シロキサン基含有シラン化合物は、式（１）で表される化合物である。

【0263】

別の態様において、本開示の組成物中、シロキサン基含有シラン化合物は、式（２）で表される化合物である。

【0264】

別の態様において、本開示の組成物中、シロキサン基含有シラン化合物は、式（１）で表される化合物及び式（２）で表される化合物である。

【0265】

本開示の組成物中、式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対して、式（２）で表される化合物が、好ましくは０．１モル％以上３５モル％以下である。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物の含有量の下限は、好ましくは０．１モル％、より好ましくは０．２モル％、さらに好ましくは０．５モル％、さらにより好ましくは１モル％、特に好ましくは２モル％、特別には５モル％であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物の含有量の上限は、好ましくは３５モル％、より好ましくは３０モル％、さらに好ましくは２０モル％、さらにより好ましくは１５モル％又は１０モル％であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物は、好ましくは０．１モル％以上３０モル％以下、より好ましくは０．１モル％以上２０モル％以下、さらに好ましくは０．２モル％以上１０モル％以下、さらにより好ましくは０．５モル％以上１０モル％以下、特に好ましくは１モル％以上１０モル％以下、例えば２モル％以上１０モル％以下又は５モル％以上１０モル％以下である。

【0266】

一の態様において、上記の式（１）又は（２）で表される化合物の含有量は、組成物全体に対して、好ましくは０．１～５０．０質量％、より好ましくは１．０～３０．０質量％、さらに好ましくは５．０～２５．０質量％、特に好ましくは１０．０～２０．０質量％であり得る。

【0267】

別の態様において、上記の式（１）又は（２）で表される化合物の含有量は、組成物全体に対して、好ましくは０．００１～３０質量％、より好ましくは０．０１～１０質量％、さらに好ましくは０．０５～５質量％、特に好ましくは０．０５～２質量％であり得る。

【0268】

一の態様において、本開示の組成物は、シロキサン含有シラン化合物、及び該シロキサン含有シラン化合物の少なくとも一部が縮合した縮合体からなる化合物の少なくとも１つを含有する。

【0269】

一の態様において、本開示の組成物は、Ｒ^７１ＯＲ^７２、Ｒ^７３ _ｎ８Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８、Ｒ^７４Ｒ^７５Ｒ^７６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ８－Ｒ^７９、及び（ＯＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ９
［式中
Ｒ^７１～Ｒ^７９は、それぞれ独立して、炭素数１～１０個の一価の有機基であり、
ｍ８は、１～６の整数であり、
ｍ９は、３～８の整数であり、
ｎ８は、０～６の整数である。］
で表される化合物から選択される溶媒を含み得る。

【0270】

上記炭素数１～１０個の一価の有機基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、さらに環状構造を含んでいてもよい。

【0271】

一の態様において、上記炭素数１～１０個の一価の有機基は、酸素原子、窒素原子、又はハロゲン原子を含んでいてもよい。

【0272】

別の態様において、上記炭素数１～１０個の一価の有機基は、ハロゲン原子を含まない。

【0273】

好ましい態様において、上記炭素数１～１０個の一価の有機基は、ハロゲンにより置換されていてもよい炭化水素基、好ましくはハロゲンにより置換されていない炭化水素基である。

【0274】

一の態様において、上記炭化水素基は、直鎖である。

【0275】

別の態様において、上記炭化水素基は、分枝鎖である。

【0276】

別の態様において、上記炭化水素基は、環状構造を含む。

【0277】

一の態様において、上記溶媒は、Ｒ^７１ＯＲ^７２である。

【0278】

Ｒ^７１及びＲ^７２は、それぞれ独立して、好ましくは炭素数１～８の炭化水素基、より好ましくはＣ_１－６のアルキル基、又はＣ_５－８のシクロアルキル基であり得る。

【0279】

一の態様において、上記溶媒は、Ｒ^７３ _ｎ８Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８である。

【0280】

Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８は、ｎ８価のベンゼン環である。即ち、Ｒ^７３ _ｎ８Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８は、ｎ８個のＲ^７３により置換されたベンゼンである。

【0281】

Ｒ^７３は、それぞれ独立して、ハロゲン、又はハロゲンにより置換されていてもよいＣ_１－６のアルキル基であり得る。

【0282】

ｎ８は、好ましくは１～３の整数である。

【0283】

一の態様において、上記溶媒は、Ｒ^７４Ｒ^７５Ｒ^７６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ８－Ｒ^７９である。

【0284】

一の態様において、上記溶媒は、（ＯＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ９である。（ＯＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ９は、複数のＯＳｉＲ^７７Ｒ^７８単位が環状に結合することにより形成される環状シロキサンである。

【0285】

Ｒ^７４～Ｒ^７９は、それぞれ独立して、水素原子、又はＣ_１－６のアルキル基、好ましくはＣ_１－６のアルキル基、より好ましくはＣ_１－３のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

【0286】

ｍ８は、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～５の整数であり、さらに好ましくは1～２であ。

【0287】

ｍ９は、好ましくは３～６の整数、より好ましくは３～５の整数である。

【0288】

好ましい態様において、上記溶媒は、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタエチルトリシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ヘキサエチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタエチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサンであり得る。

【0289】

本開示の組成物は、好ましくは表面処理剤である。

【0290】

本開示の表面処理剤は、溶媒、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、アミン化合物、アルコール類、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤等を含み得る。

【0291】

上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類；ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン等のシロキサン類；１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン、１，２－ジクロロ－１，１，２，２－テトラフルオロエタン、ジメチルスルホキシド、１，１－ジクロロ－１，２，２，３，３－ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、ゼオローラＨ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、ＨＦＥ７１００、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＨ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、（ＣＦ_３）_２ＣＨＯＨ等のフッ素含有溶媒等が挙げられる。あるいはこれらの２種以上の混合溶媒等が挙げられる。

【0292】

シリコーンオイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）：
Ｒ^１ａ－（ＳｉＲ^３ａ _２－Ｏ）_ａ１－ＳｉＲ^３ａ _２－Ｒ^１ａ ・・・（３）
［式中：
Ｒ^１ａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は炭化水素基であり、
Ｒ^３ａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は炭化水素基であり、
ａ１は、２～３０００である。］
で表される化合物が挙げられる。

【0293】

上記Ｒ^３ａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は炭化水素基である。かかる炭化水素基は、置換されていてもよい。

【0294】

Ｒ^３ａは、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくは非置換炭化水素基、又はハロゲン原子により置換されている炭化水素基である。かかるハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である。

【0295】

Ｒ^３ａは、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくはハロゲン原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキル基又はアリール基、より好ましくはＣ_１－６アルキル基又はアリール基である。

【0296】

上記Ｃ_１－６アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖
である。Ｃ_１－６アルキル基は、好ましくはＣ_１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。

【0297】

上記アリール基は、好ましくはフェニル基である。

【0298】

一の態様において、Ｒ^３ａは、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキル基、好ましくはＣ_１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。

【0299】

別の態様において、Ｒ^３ａは、フェニル基である。

【0300】

別の態様において、Ｒ^３ａは、メチル基又はフェニル基、好ましくはメチル基である。

【0301】

上記Ｒ^１ａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は炭化水素基であり、上記Ｒ^３ａと同意義である。

【0302】

Ｒ^１ａは、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくはハロゲン原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキル基又はアリール基、より好ましくはＣ_１－６アルキル基又はアリール基である。

【0303】

一の態様において、Ｒ^１ａは、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキル基、好ましくはＣ_１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。

【0304】

別の態様において、Ｒ^１ａは、フェニル基である。

【0305】

別の態様において、Ｒ^１ａは、メチル基又はフェニル基、好ましくはメチル基である。

【0306】

上記ａ１は、２～１５００である。ａ１は、好ましくは５以上、より好ましくは１０以上、さらに好ましくは１５以上、例えば３０以上、又は５０以上であり得る。ａ１は、好ましくは１０００以下、より好ましくは５００以下、さらに好ましくは２００以下、さらにより好ましくは１５０以下、例えば１００以下、又は８０以下であり得る。

【0307】

ａ１は、好ましくは５～１０００、より好ましくは１０～５００、さらに好ましくは１５～２００、さらにより好ましくは１５～１５０であり得る。

【0308】

上記シリコーンオイルは、５００～１０００００、好ましくは１０００～１００００の平均分子量を有していてよい。シリコーンオイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。

【0309】

上記シリコーンオイルとしては、例えば－（ＳｉＲ^３ａ _２－Ｏ）_ａ１－のａ１が３０以下の直鎖状又は環状のシリコーンオイルを用い得ることができる。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイル及び変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

【0310】

上記シリコーンオイルは、本開示の表面処理剤に対して、例えば０～５０質量％、好ましくは０．００１～３０質量％、より好ましくは０．１～５質量％含まれ得る。

【0311】

本開示の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示のシロキサン基含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～３００質量部、好ましくは５０～２００質量部で含まれ得る。

【0312】

シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

【0313】

上記アルコール類としては、例えば１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～６のアルコール、例えば、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＨ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、（ＣＦ_３）_２ＣＨＯＨが挙げられる。これらのアルコール類を表面処理剤に添加することにより、表面処理剤の安定性を向上させ、また、パーシロキサン基含有シラン化合物と溶媒の相溶性を改善させる。

【0314】

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、スルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｒ、Ｈｆ、Ｖ等）、分子構造内に非共有電子対を有する含硫黄化合物、または含窒素化合物（例えばスルホキシド化合物、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、リン酸アミド化合物、アミド化合物、尿素化合物）等が挙げられる。

【0315】

上記脂肪族アミン化合物としては、例えば、ジエチルアミン、トリエチルアミン等を挙げることができる。上記芳香族アミン化合物としては、例えば、アニリン、ピリジン等を挙げることができる。

【0316】

好ましい態様において、上記遷移金属は、Ｍ－Ｒ（式中、Ｍは、遷移金属原子であり、Ｒは加水分解性基である。）で表される遷移金属化合物として含まれる。遷移金属化合物を、遷移金属と加水分解性基とが結合した化合物とすることにより、より効率的に遷移金属原子を表面処理層に含ませることができ、表面処理層の摩擦耐久性および耐薬品性をさらに向上させることができる。

【0317】

上記加水分解性基とは、上記シロキサン基含有シラン化合物に関する加水分解性基と同様に、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、遷移金属原子から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、－ＯＲ^ｍ、－ＯＣＯＲ^ｍ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｍ _２、－ＮＲ^ｍ _２、－ＮＨＲ^ｍ、－ＮＣＯ、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ｍは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）などが挙げられる。

【0318】

好ましい態様において、上記加水分解性基とは、－ＯＲ^ｍであり、好ましくはメトキシまたはエトキシである。加水分解性基としてアルコキシ基を用いることにより、より効率的に遷移金属原子を表面処理層に含ませることができ、表面処理層の摩擦耐久性および耐薬品性をさらに向上させることができる。

【0319】

一の態様において、上記加水分解性基は、上記したシロキサン基含有シラン化合物に含まれる加水分解性基と同じであってもよい。シロキサン基含有シラン化合物と遷移金属化合物における加水分解性基を同じ基とすることにより、かかる加水分解性基が相互に交換された場合であっても、その影響を小さくすることができる。

【0320】

別の態様において、上記加水分解性基は、上記したシロキサン基含有シラン化合物に含まれる加水分解性基と異なっていてもよい。シロキサン基含有シラン化合物と遷移金属化合物における加水分解性基を異なるものとすることにより、加水分解の反応性を制御することができる。

【0321】

一の態様において、上記加水分解性基と、上記シロキサン基含有シラン化合物に含まれる加水分解性基は、表面処理剤中において、相互に入れ替わっていてもよい。

【0322】

好ましい態様において、上記遷移金属化合物は、Ｔａ（ＯＲ^ｍ）_５であり、好ましくはＴａ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_５であり得る。

【0323】

上記触媒は、表面処理剤全体に対して、例えば、０．０００２質量％以上含まれ得る。上記触媒は、表面処理剤全体に対して、０．０２質量％以上含まれることが好ましく、０．０４質量％以上含まれることがより好ましい。上記触媒は、表面処理剤全体に対して、例えば、１０質量％以下含まれてもよく、特に１質量％以下含まれる。本開示の表面処理剤は、上記触媒が、上記のような濃度含むことによって、より耐久性の良好な表面処理層の形成に寄与し得る。

【0324】

上記触媒の含有量は、本開示のシロキサン基含有シラン化合物に対して０～１０質量％が好ましく、０～５質量％がより好ましく、０～１質量％が特に好ましい。

【0325】

触媒は、本開示のシロキサン基含有シラン化合物の加水分解及び脱水縮合を促進し、本開示の表面処理剤により形成される層の形成を促進する。

【0326】

他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

【0327】

本開示の表面処理剤は、上記した成分に加え、不純物として、例えばＰｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、１，３－ジビニルテトラメチルジシロキサン、トリフェニルホスフィン、ＮａＣｌ、ＫＣｌ、シランの縮合物などを微量含み得る。

【0328】

本開示の表面処理剤は、基材を処理した場合に、水とｎ－ヘキサデカンの接触角から算出した表面自由エネルギーが１８～３５ｍＮ／ｍである表面を与える。

【0329】

上記表面自由エネルギーは、好ましくは２０ｍＮ／ｍ以上、より好ましくは２２ｍＮ／ｍ以上、さらに好ましくは２４ｍＮ／ｍ以上であり、好ましくは３３ｍＮ／ｍ以下、より好ましくは３０ｍＮ／ｍ以下、さらに好ましくは２８ｍＮ／ｍ以下、さらにより好ましくは２６ｍＮ／ｍ以下である。

【0330】

上記表面自由エネルギーは、水及びｎ－ヘキサデカンを用いて接触角計により、基材表面のそれぞれの接触角（θ１及びθ２）を測定し、次いで、下記式に前記接触角の値と水及びｎ－ヘキサデカンの表面自由エネルギーの値とを代入し、得られた２つの式からなる連立方程式を解いてγＳｄ及びγＳｐを求める。そして、γＳｄとγＳｐの和が基材表面の表面自由エネルギーγＳである。
{（１＋ｃｏｓθ）・γＬ}／２＝（γＳｄ・γＬｄ）^１／２＋（γＳｐ・γＬｐ）^１／２
［式中、
γＬは液体の表面自由エネルギーであり、γＬｄ及びγＬｐは、それぞれ分散項及び極性項であって、γＬ＝γＬｄ＋γＬｐである。］
水の表面自由エネルギーγＬ＝７２．８ｍＮ／ｍ
水の表面自由エネルギー分散項γＬｄ＝２１．８ｍＮ／ｍ
水の表面自由エネルギー極性項γＬｐ＝５１．０ｍＮ／ｍ
ｎ－ヘキサデカンの表面自由エネルギーγＬ＝２７．６ｍＮ／ｍ
ｎ－ヘキサデカンの表面自由エネルギー分散項γＬｄ＝２７．６ｍＮ／ｍ
ｎ－ヘキサデカンの表面自由エネルギー極性項γＬｐ＝０ｍＮ／ｍ

【0331】

一の態様において、本開示の表面処理剤は、乾燥被覆法、好ましくは真空上着用である。

【0332】

一の態様において、本開示の表面処理剤は、湿潤被覆法、好ましくは浸漬コーティング用である。

【0333】

本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

【0334】

以下、本開示の物品について説明する。

【0335】

本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。

【0336】

本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然又は合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、衛生用品、任意の適切な材料で構成され得る。

【0337】

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラス又は透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（又は膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層及び多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｔａ_３Ｏ_５，Ｎｂ_２Ｏ_５、ＨｆＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、又はこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２及び／又はＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、及び液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

【0338】

上記基材の形状は、特に限定されず、例えば、板状、フィルム、その他の形態であってよい。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途及び具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

【0339】

一の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜又は熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入又は増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素－炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

【0340】

別の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ－Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

【0341】

好ましい態様において、上記基材はガラスである。かかるガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、及び化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。

【0342】

本開示の物品は、上記基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成することにより製造することができる。

【0343】

本開示の表面処理剤の層形成は、上記表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法及び乾燥被覆法を使用できる。

【0344】

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、ワイプコーティング、スキージーコート法、ダイコート、インクジェット、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法及び類似の方法が挙げられる。

【0345】

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビーム及び類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。

【0346】

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

【0347】

湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の組成物の安定性及び溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基及びアルキル基は直鎖又は分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタエチルトリシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ヘキサエチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタエチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン等のシロキサン類など。これらの溶媒は、単独で、又は、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）及び／又はパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）、シロキサン類が特に好ましく、さらには、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、又はデカメチルシクロペンタシロキサンがより好ましい。

【0348】

乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、又は、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

【0349】

表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解及び脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

【0350】

触媒には、任意の適切な酸又は塩基、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｂ等）、分子構造内に非共有電子対を有する含硫黄化合物、または含窒素化合物（例えばスルホキシド化合物、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、リン酸アミド化合物、アミド化合物、尿素化合物）等を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、ジエチルアミン等の有機アミン類などを使用できる。遷移金属、脂肪族アミン化合物、及び芳香族アミン化合物は、上記と同様のものが挙げられる。

【0351】

本開示の物品に含まれる表面処理層は、高い摩耗耐久性の双方を有する。また、上記表面処理層は、高い摩耗耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（又は潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）、耐薬品性などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

【0352】

従って、本開示はさらに、上記表面処理層を最外層に有する光学材料にも関する。

【0353】

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

【0354】

本開示の物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。

【0355】

また、本開示の物品は、医療機器又は医療材料であってもよい。また、本開示によって得られる層を有する物品は、自動車内外装部材であってもよい。外装材の例には、次のものが挙げられる：ウィンドウ、ライトカバー、社外カメラカバー。内装材の例には、次のものが挙げられる：インパネカバー、ナビゲーションシステムタッチパネル、加飾内装材。

【0356】

上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１～５０ｎｍ、１～３０ｎｍ、好ましくは１～１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、摩耗耐久性及び防汚性の点から好ましい。

【0357】

以上、本開示の化合物、組成物、及び物品について詳述した。なお、本開示の化合物、組成物、及び物品などは、上記で例示したものに限定されない。

【実施例0358】

以下、本開示について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。

【0359】

合成例１
Ｒ－ＣＯＯＨ（１０ｇ）、２，２－ジアリル－４－ペンテン－１－アミン（１．７１ｇ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（１．９８ｇ）、トリエチルアミン（１．４４ｍＬ）、４－ジメチルアミノピリジン（８４ｍｇ）、及びジクロロメタン（３０ｍＬ）を混合し、室温で終夜撹拌した。混合液をジクロロメタンで希釈し、塩酸及び水で洗浄した後、減圧濃縮することにより、Ｒ－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３（８．８８ｇ）を得た。
Ｒは、（ＣＨ_３）_３Ｓｉ－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－（ＣＨ_２）_１０－である。繰り返し単位数ｎの平均値は、１９である。

【0360】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.20-0.25 (m), 1.45-1.59 (m, 2H), 1.20-1.48 (m, 14H), 1.53-1.65 (m, 2H), 2.03 (d, 2H, 7.6Hz), 2.16 (t, 2H, 7.6Hz), 3.20 (d, 2H, 6.4Hz), 5.05-5.14 (m, 6H), 5.51-5.60 (m, 1H), 5.80-5.93 (m, 3H).
¹³C NMR (CDCl₃, 133 MHz) δ[ppm]: 0.2, 1.0, 1.8, 18.3, 23.2, 29.3, 29.4, 29.6, 30.3, 33.5, 37.1, 40.0, 40.1, 45.0, 118.1, 134.2, 172.9.

【0361】

実施例１
合成例１で得られたＲ－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３（２ｇ）、トルエン（１０ｍＬ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、０．２９ｍＬ）、アニリン（４６ｍｇ）、及びトリメトキシシラン（１．４３ｍＬ）を混合した。混合物を、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮することにより、Ｒ－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２Ｃ｛ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３｝_３（２．２１ｇ）を得た。
Ｒは、（ＣＨ_３）_３Ｓｉ－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－（ＣＨ_２）_１０－である。繰り返し単位数ｎの平均値は、１９である。

【0362】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.2-0.21 (m), 0.41-0.65 (m, 8H), 1.10-1.50 (m, 26H), 1.55-1.65 (m, 2H), 2.14 (t, 2H, 7.2 Hz), 3.09 (d, 2H, 6.0 Hz), 3.45-3.62 (m, 27H), 5.67-5.75 (m, 1H)
¹³C NMR (CDCl₃, 133 MHz) δ[ppm]: 0.1, 1.0, 1.7, 9.5, 16.1, 18.2, 23.2, 26.0, 29.4, 29.4, 29.6, 30.2, 33.4, 37.0, 38.1, 39.1, 43.6, 50.4, 173.0.

【0363】

合成例２
Ｒ－ＣＯＯＨ（１０ｇ）、ジアリルアミン（２．０１ｇ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（１．９８ｇ）、４－ジメチルアミノピリジン（８４ｍｇ）、およびジクロロメタン（３０ｍＬ）を混合し、室温で終夜撹拌した。ジクロロメタンで希釈し、塩酸および水で洗浄した後、減圧濃縮することで、Ｒ－ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（９．００ｇ）を得た。
Ｒは、（ＣＨ_３）_３Ｓｉ－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－（ＣＨ_２）_１０－である。繰り返し単位数ｎの平均値は、１９である。

【0364】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.25-0.30 (m), 1.45-1.59 (m, 2H), 1.20-1.40 (m, 14H), 1.55-1.68 (m, 2H), 2.30 (t, 2H, 7.2Hz), 3.86 (d, 2H, 5.2Hz), 3.98 (d, 2H, 6.0Hz), 5.05-5.23 (m, 4H), 5.68-5.84 (m, 2H).
¹³C NMR (CDCl₃, 133 MHz) δ[ppm]: 0.2, 1.0, 1.8, 18.3, 23.2, 25.4, 29.4, 29.5, 29.6, 33.1, 33.5, 47.8, 49.1, 116.5, 117.0, 133.0, 133.5, 173.2.

【0365】

実施例２
Ｒ－ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（２ｇ）、トルエン（１０ｍＬ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、０．２０ｍＬ）、アニリン（３２ｍｇ）、およびトリメトキシシラン（１．００ｍＬ）を混合し、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮することで、Ｒ－ＣＯＮ｛ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３｝_２（２．２３ｇ）を得た。
Ｒは、（ＣＨ_３）_３Ｓｉ－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－（ＣＨ_２）_１０－である。繰り返し単位数ｎの平均値は、１９である。

【0366】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.20-0.31 (m), 0.42-0.65 (m, 6H), 1.10-1.40 (m, 14H), 1.63-1.71 (m, 6H), 2.26 (t, 2H, 7.2 Hz), 3.19 (t, 2H, 7.6 Hz), 3.27 (t, 2H, 7.6 Hz), 3.45-3.65 (m, 18H).
¹³C NMR (CDCl₃, 133 MHz) δ[ppm]:0.2, 1.0, 1.7, 6.3, 6.4, 18.2, 20.8, 22.3, 23.2, 25.6, 29.4, 29.5, 29.6, 33.2, 33.4, 48.2, 50.2, 50.48, 50.53, 172.8

【0367】

合成例３
Ｒ－（ＣＯＯＨ）_２（１０ｇ，信越化学社製、Ｘ－２２－１６２Ｃ）、２，２－ジアリル－４－ペンテン－１－アミン（１．０５ｇ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（１．２ｇ）、４－ジメチルアミノピリジン（５２ｍｇ）、及びジクロロメタン（３３ｍＬ）を混合し、室温で終夜撹拌した。混合液をジクロロメタンで希釈し、塩酸及び水で洗浄した後、減圧濃縮することにより、Ｒ－（ＣＯＮＨ－ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３）_２（７．３ｇ）を得た。なお、Ｒは、―ＣＨ_２ＣＨ_２－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり、繰り返し単位数ｎの平均値は、３１である。

【0368】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.20-0.30 (m), 0.81-0.85 (m, 4H), 2.03 (d, 12H), 2.17-2.22 (m, 4H), 3.19 (d, 4H), 5.07-5.15 (m, 12H), 5.63 (2H, brt), 5.83-5.90 (m, 6H).

【0369】

実施例３
合成例３で得られたＲ－（ＣＯＮＨ－ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３）_２（２ｇ）、トルエン（９．５ｍＬ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、０．１９ｍＬ）、アニリン（０．０３ｍＬ）、及びトリメトキシシラン（０．９２ｍＬ）を混合した。混合物を、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮することにより、Ｒ－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２Ｃ｛ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３｝_３（２ｇ）を得た。なお、Ｒは、―ＣＨ_２ＣＨ_２－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり、繰り返し単位数ｎの平均値は、３１である。

【0370】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.20-0.30 (m), 0.57-0.70 (m, 12H), 0.81-0.87 (m, 4H), 1.17-1.37 (m, 12H), 1.27-139 (m, 12H), 2.13-2.23 (m, 4H), 3.09 (d, 4H), 3.54-3.65 (m, 54H), 5.88 (2H, brt).

【0371】

合成例４
Ｒ－ＣＨ_２ＯＨ（２０１ｇ，信越化学社、Ｘ－２２－１７０ＤＸ）、アセトン（４００ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１００ｍＬ）を混合し、氷水で０℃に冷却した。混合液を０℃で撹拌しながら、臭化カリウム（１．０２ｇ）、ＴＥＭＰＯ（０．２１０ｇ）を加えた。１０分撹拌後トリクロロイソシアヌル酸（１９．９ｇ）を加えた。なりゆきで室温まで昇温し終夜撹拌した。混合液にイソプロピルアルコール（２００ｍＬ）を加え、揮発成分を減圧濃縮した。濃縮液に水（３００ｍＬ）を加え、ジクロロメタンで抽出し、乾燥したのちに溶媒を減圧留去することで、Ｒ－ＣＯＯＨ（１８０ｇ）を得た。
Ｒは、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－（ＣＨ_２）_３－ＯＣＨ_２－である。繰り返し単位数ｎの平均値は、５７である。

【0372】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.11-0.27 (m) , 0.52-0.58 (m, 4H), 0.89 (t, J = 7.1 Hz, 3H), 1.28-1.33 (m, 4H), 1.66-1.70 (m, 2H), 3.54 (t, J = 6.9 Hz, 2H), 4.11 (s, 2H)

【0373】

合成例５
合成例４で得られたＲ－ＣＯＯＨ（１０ｇ）、２，２－ジアリル－４－ペンテン－１－アミン（１．７１ｇ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（１．９８ｇ）、４－ジメチルアミノピリジン（８４ｍｇ）、及びジクロロメタン（３０ｍＬ）を混合し、室温で終夜撹拌した。混合液をジクロロメタンで希釈し、塩酸及び水で洗浄した後、減圧濃縮することにより、Ｒ－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３（８．８８ｇ）を得た。なお、Ｒは、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－（ＣＨ_２）_３－ＯＣＨ_２－であり、繰り返し単位数ｎの平均値は、５７である。

【0374】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.10-0.30 (m), 0.52-0.59 (m, 4H), 0.88 (t, J = 6.9 Hz, 3H), 1.26-1.33 (m, 4H), 1.61-1.69 (m, 2H), 2.05 (d, J = 7.3 Hz, 6H), 3.22 (d, J = 6.4 Hz, 2H), 3.47 (t, J = 6.6 Hz, 2H), 3.93 (s, 2H), 5.08-5.13 (m, 6H), 5.82-5.92 (m, 3H), 6.75 (brs, 1H)

【0375】

実施例４
合成例５で得られたＲ－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３（５ｇ）、トルエン（５ｍＬ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、０．２４ｍＬ）、アニリン（３８ｍｇ）、及びトリメトキシシラン（１．１９ｍＬ）を混合した。混合物を、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮することにより、Ｒ－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２Ｃ｛ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３｝_３（４．８ｇ）を得た。なお、Ｒは、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－（ＣＨ_２）_３－ＯＣＨ_２－であり、繰り返し単位数ｎの平均値は、５７である。

【0376】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.13-0.32 (m), 0.54-0.63 (m, 10H), 0.90 (t, J = 7.1 Hz, 3H), 1.23-1.37 (m, 16H), 1.62-1.69 (m, 2H), 3.17 (d, J = 5.9 Hz, 2H), 3.47-3.50 (m, 2H), 3.56-3.63 (m, 27H), 3.94 (s, 2H), 6.54 (brs, 1H)

【0377】

実施例５
合成例５で得られたＲ－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３（１ｇ）、トルエン（５ｍＬ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、９４μＬ）、（ＣＨ_３ＣＯＯ）_３ＳｉＣＨ_３（３．６ｍｇ）、及びトリクロロシシラン（０．２５ｍＬ）を混合した。混合物を、６０℃で４時間撹拌した後、減圧濃縮することにより、Ｒ－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２Ｃ｛ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣｌ_３｝_３（０．９ｇ）を得た。Ｒは、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－（ＣＨ_２）_３－ＯＣＨ_２－であり、繰り返し単位数ｎの平均値は、５７である。

【0378】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.14-0.33 (m), 0.57-0.64 (m, 4H), 0.96 (t, J = 6.9 Hz, 3H), 1.24-1.42 (m, 16H), 1.48-1.58 (m, 6H), 1.68-1.72 (m, 2H), 3.22 (d, J = 6.4 Hz, 2H), 3.50 (t, J = 7.1 Hz, 2H), 4.05 (s, 2H), 6.68 (brs, 1H)

【0379】

合成例６
Ｒ－ＣＨ＝ＣＨ_２（５ｇ，Ｇｅｌｅｓｔ社、ＭＣＲ－Ｖ２１）、トルエン（５ｇ）、トリクロロシラン（０．３１ｇ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、３２μＬ）を混合し、６０℃で４時間撹拌した。室温に放冷し、溶媒を減圧留去したのちにテトラヒドロフラン（５ｇ）に溶解させ、氷冷下アリルマグネシウムクロリド（１．０ｍｏｌ／Ｌ、４．４ｍＬ）を加えた。なりゆきで室温まで昇温し１７時間撹拌したのちに飽和塩化ナトリウム水溶液を加えた。不溶物をセライトパッドで濾過し、ろ液をジクロロメタンで抽出した。溶媒を減圧留去しＲ－ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３（４．７ｇ）を得た。なお、Ｒは、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－であり、繰り返し単位数ｎの平均値は、５７である。

【0380】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.07 (s), 0.42-0.62 (4H, m), 0.89 (3H, t), 1.26-1.35 (4H, m), 1.60 (6H, d), 4.84-5.17 (6H, m), 5.80 (3H, tdd)。

【0381】

実施例６
合成例６で得られたＲ－ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３（２．５ｇ）、トルエン（２．５ｍＬ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、０．１０ｍＬ）、アニリン（１６ｍｇ）、及びトリメトキシシシラン（０．５２ｍＬ）を混合した。混合物を、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮することにより、Ｒ－ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_３（２．５ｇ）を得た。なお、Ｒは、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－であり、繰り返し単位数ｎの平均値は、５７である。

【0382】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.08 (s), 0. 41-0.74 (12H, m), 0.89 (3H, t), 1.23-1.33 (4H, m), 1.42-1.63 (6H, m), 3.57 (27H, s)。

【0383】

合成例７
Ｒ－ＣＨ＝ＣＨ_２（５ｇ，Ｇｅｌｅｓｔ社、ＭＣＲ－Ｖ２５）、トルエン（５ｇ）、トリクロロシラン（０．２７ｇ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、７６μＬ）を混合し、６０℃で４時間撹拌した。室温に放冷し、溶媒を減圧留去したのちにテトラヒドロフラン（５ｇ）に溶解させ、氷冷下アリルマグネシウムクロリド（１．０ｍｏｌ/Ｌ、２．２ｍＬ）を加えた。なりゆきで室温まで昇温し１７時間撹拌したのちに飽和塩化ナトリウム水溶液を加えた。不溶物をセライトパッドで濾過し、ろ液をジクロロメタンで抽出した。溶媒を減圧留去しＲ－ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＣＨ_２ＣＨ=ＣＨ_２）_３（４．２ｇ）を得た。なお、Ｒは、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－であり、繰り返し単位数ｎの平均値は、２００である。

【0384】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.09 (s), 0.40-0.62 (4H, m), 0.90 (3H, t), 1.20-1.32 (4H, m), 1.62 (6H, d), 4.85-5.15 (6H, m), 5.82 (3H, tdd)。

【0385】

実施例７
合成例７で得られたＲ－ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３（３．６ｇ）、トルエン（４ｍＬ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、５４μＬ）、アニリン（９ｍｇ）、及びトリメトキシシシラン（０．２７ｍＬ）を混合した。混合物を、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮することにより、Ｒ－ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_３（３．３ｇ）を得た。なお、Ｒは、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－であり、繰り返し単位数ｎの平均値は、２００である。

【0386】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.08 (s), 0. 39-0.73 (12H, m), 0.85 (3H, t), 1.21-1.32 (4H, m), 1.420-1.65 (6H, m), 3.55 (27H, s)。

【0387】

合成例８
Ｒ（－ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（５ｇ，Ｇｅｌｅｓｔ社、ＤＭＳ－Ｖ２１）、トルエン（１０ｇ）、トリクロロシラン（１．４８ｇ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、０．４１ｍＬ）を混合し、６０℃で４時間撹拌した。室温に放冷し、溶媒を減圧留去したのちにテトラヒドロフラン（１０ｇ）に溶解させ、氷冷下アリルマグネシウムクロリド（１．０ｍｏｌ／Ｌ、１２．１ｍＬ）を加えた。なりゆきで室温まで昇温し１７時間撹拌したのちに飽和塩化ナトリウム水溶液を加えた。不溶物をセライトパッドで濾過し、ろ液をジクロロメタンで抽出した。溶媒を減圧留去しＲ－［ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ｛ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２｝_３］_２（４．４ｇ）を得た。なお、Ｒは、－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－であり、繰り返し単位数ｎの平均値は、５２である。

【0388】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.08 (s), 0.38-0.63 (4H, m), 1.65 (6H, d), 4.81-5.13 (6H, m), 5.80 (3H, tdd)。

【0389】

実施例８
合成例８で得られたＲ－［ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ｛ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２｝_３］_２（３ｇ）、トルエン（６ｍＬ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、０．２５ｍＬ）、アニリン（４１ｍｇ）、及びトリメトキシシシラン（１．２５ｍＬ）を混合した。混合物を、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮することにより、Ｒ－［ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ｛ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３｝_３］_２（２．７ｇ）を得た。なお、Ｒは、－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－であり、繰り返し単位数ｎの平均値は、５２である。

【0390】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.10 (s), 0. 33-0.75 (16H, m), 1.45-1.68 (12H, m), 3.52 (27H, s)。

【0391】

合成例９
２，２－ジアリル－４－ペンテン－１－アミン（２ｇ）、トリエチレングリコール２－ブロモエチルメチルエーテル（８．９ｇ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン（５．０ｇ）をシクロペンチルメチルエーテル（６ｍＬ）に溶解させ、８０℃で６時間撹拌した。室温程度に冷却した後、炭酸水素ナトリウム水溶液と水で洗浄し、減圧濃縮して、ＰＧ－ＮＨＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３（２．９ｇ）を得た。なお、ＰＧは、ＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_４－である。

【0392】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 2.05 (d, J =7.3 Hz, 6H), 2.41-2.47 (m, 2H), 2.76-2.81 (m, 2H), 3.37 (s, 3H), 3.59-3.65 (m, 14H), 5.00-5.10 (m, 6H), 5.77-5.88 (m, 3H).

【0393】

合成例１０
合成例４で得られたＲ－ＣＯＯＨ（３ｇ）、ＰＧ－ＮＨＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３（０．３４ｇ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（０．１８ｇ）、４－ジメチルアミノピリジン（７．８ｍｇ）、及びジクロロメタン（３ｍＬ）を混合し、室温で終夜撹拌した。混合液をジクロロメタンで希釈し、塩酸及び水で洗浄した後、減圧濃縮することにより、Ｒ－ＣＯＮ（ＰＧ）－ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３（２．５ｇ）を得た。なお、Ｒは、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－（ＣＨ_２）_３－ＯＣＨ_２－であり、ＰＧは、ＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_４－であり、繰り返し単位数ｎの平均値は、５７である。

【0394】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.12-0.31 (m), 0.50-0.58 (m, 4H), 0.89 (t, J = 6.9 Hz, 3H), 1.24-1.34 (m, 4H), 1.60-1.67 (m, 2H), 2.02 (d, J = 7.3 Hz, 6H), 3.25 (s, 2H), 3.37 (s, 3H) , 3.49 (t, J = 6.6 Hz, 2H), 3.56-3.65 (m, 16H), 3.98 (s, 2H), 5.05-5.16 (m, 6H), 5.80-5.94 (m, 3H).

【0395】

実施例９
合成例１０で得られたＲ－ＣＯＮ（ＰＧ）－ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３（１．７ｇ）、トルエン（４ｍＬ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、０．０７８ｍＬ）、アニリン（１２ｍｇ）、及びトリメトキシシラン（０．３９ｍＬ）を混合した。混合物を、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮することにより、Ｒ－ＣＯＮ（ＰＧ）－ＣＨ_２Ｃ｛ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３｝_３（１．５ｇ）を得た。なお、Ｒは、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－（ＣＨ_２）_３－ＯＣＨ_２－であり、ＰＧは、ＣＨ_３（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_４－であり、繰り返し単位数ｎの平均値は、５７である。

【0396】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.11-0.31 (m), 0.52-0.64 (m, 10H), 0.93 (t, J = 7.1 Hz, 3H), 1.22-1.36 (m, 16H), 1.64-1.68 (m, 2H), 3.15 (s, 2H) , 3.35 (s, 3H), 3.46-3.49 (m, 2H), 3.55-3.68 (m, 43H), 3.95 (s, 2H).

【0397】

合成例１１
１，３－ジアリル－イソシアヌル酸（３．０ｇ）をジメチルアセトアミド（１４ｍＬ）に溶解させた。炭酸カリウム（１．５ｇ）を加え、攪拌しながら加熱した。ジメチルアセトアミドに溶解したＲ－ＯＳＯ_２ＣＦ_３（６．０ｇ）を加え更に加熱、撹拌を続けた。反応の終点を^１Ｈ－ＮＭＲで確認し、反応液を純水で洗浄し、減圧濃縮することで、下記の化合物を得た。なお、Ｒ－ＯＳＯ_２ＣＦ_３（６．０ｇ）は、信越化学工業の末端アルコール（Ｘ－２２－１７０ＤＸ）から変換した。Ｒは、ＣＨ_３（ＣＨ_２）_３－（Ｓｉ（ＣＨ_３）Ｏ）_ｎ－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_３－Ｏ－（ＣＨ_２）_２－である。繰り返し単位数ｎの平均値は、７８である。

【0398】

【化24】

【0399】

実施例１０
合成例１１で得られた化合物（５ｇ）、トルエン（３０ｍＬ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、０．１７ｍＬ）、アニリン（２９ｍｇ）、およびトリメトキシシラン（０．９ｍＬ）を混合し、室温で終夜攪拌した後、減圧濃縮することで、下記の化合物を得た。繰り返し単位数ｎの平均値は、７８である。

【0400】

【化25】

【0401】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.33-0.36 (m), 0.4-0.6 (m, 4H), 0.85-0.92 (m, 7H), 1.26-1.32 (m, 4H), 1.54-1.64 (m, 2H), 1.71-1.79 (m, 4H), 3.42 (t, 2H, 6.8 Hz), 3.54-3.60 (m, 18H) 3.64 (d, 2H, 6.0 Hz), 3.85 (d, 4H, 7.2 Hz), 4.09 (d, 2H, 6.0 Hz)

【0402】

合成例１２
Ｒ－（ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（５ｇ）、トルエン（１０ｇ）、トリクロロシラン（０．６５ｇ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、０．１８ｍＬ）を混合し、６０℃で４時間撹拌した。室温に放冷し、溶媒を減圧留去したのちにテトラヒドロフラン（１０ｇ）に溶解させ、氷冷下アリルマグネシウムクロリド（１．０ｍｏｌ／Ｌ、５．３ｍＬ）を加えた。なりゆきで室温まで昇温し１７時間撹拌したのちに飽和塩化ナトリウム水溶液を加えた。不溶物をセライトパッドで濾過し、ろ液をジクロロメタンで抽出した。溶媒を減圧留去しＲ－（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３）_２（４．４ｇ）を得た。なお、Ｒは、―ＳｉＰｈ_２（ＯＳｉＰｈ_２）_ｍ－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－であり、繰り返し単位数ｍ、ｎの平均値は、それぞれ２６、８７である。

【0403】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.18-0.16 (m), 0.38-0.63 (4H, m), 1.65 (6H, d), 4.81-5.13 (6H, m), 5.80 (3H, tdd), 7.12-7.48 (m), 7.50-7.74 (m)

【0404】

実施例１１
合成例１２で得られたＲ－（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３）_２（３ｇ）、トルエン（６ｍＬ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、０．１１ｍＬ）、アニリン（１８ｍｇ）、及びトリメトキシシシラン（０．５５ｍＬ）を混合した。混合物を、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮することにより、Ｒ－［ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ｛ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３｝_３］_２（２．８ｇ）を得た。なお、Ｒは、―ＳｉＰｈ_２（ＯＳｉＰｈ_２）_ｍ－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－であり、繰り返し単位数ｍ、ｎの平均値は、それぞれ２６、８７である。

【0405】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.10 (s), 0. 31-0.77 (m, 32H), 1.43-1.70 (m, 12H), 3.50-3.61 (s, 54H)。

【0406】

合成例１３
合成例４で得たＲ－ＣＯＯＨ（２．１１ｇ）、ジアリルアミン（１８ｍＬ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（０．１４ｇ）、４－ジメチルアミノピリジン（６ｍｇ）、およびジクロロメタン（４．０ｇ）を混合し、室温で終夜撹拌した。ジクロロメタンで希釈し、塩酸および水で洗浄した後、減圧濃縮することで、Ｒ－ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（１．８８ｇ）を得た。なお、Ｒは、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－（ＣＨ_２）_３－ＯＣＨ_２－である。繰り返し単位数ｎの平均値は、５７である。

【0407】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.04-0.09 (m), 0.51-0.56 (m), 0.86-0.90 (t), 1.25-1.35 (m), 1.60-1.67 (m), 3.45-3.49 (t), 3.91-3.99 (dd), 4.14 (s), 5.12-5.21 (m), 5.70-5.81 (m).

【0408】

実施例１２
合成例１３で得られたＲ－ＣＯＮ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_２（１．７ｇ）、トルエン（１．７ｇ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、０．２０ｍＬ）、ピリジン（１０ｍｇ）、およびトリメトキシシラン（０．３２ｍＬ）を混合し、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮することで、Ｒ－ＣＯＮ｛ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３｝_２（１．９７ｇ）を得た。なお、Ｒは、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－（ＣＨ_２）_３－ＯＣＨ_２－である。繰り返し単位数ｎの平均値は、５７である。

【0409】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.08-0.08 (m), 0.51-0.55 (m), 0.86-0.88 (t), 1.25-1.32 (m), 1.60-1.66 (m), 3.56-3.64 (m).

【0410】

合成例１４
１０－ウンデセン酸メチル（５．０２ｇ）、トルエン（１．７ｇ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、０．３ｍＬ）、ピリジン（０．１ｍＬ）をそれぞれ加えた後、氷浴で５℃以下まで冷却し、１,１,１,３,３－ペンタメチルジシロキサン（２０ｍＬ）を加えて、６０℃で３時間攪拌した。その後およびトリメトキシシラン（０．３２ｍＬ）を混合し、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮することで（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ（ＣＨ_３）_２Ｓｉ（ＣＨ_２）_１０ＣＯＯＭｅ（８．６２ｇ）を得た。

【0411】

合成例１５
Ｒ－ＣＯＯＭｅ（３．０ｇ）、トルエン（８．７ｍＬ）、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エン（０．１４０ｇ）、２，２－ジアリル－４－ペンテン－１－アミン（０．７５ｇ）をそれぞれ加えた後、７５℃で２４時間攪拌した。混合液をトルエンで希釈し、塩酸及び水で洗浄した後、減圧濃縮することにより、Ｒ－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３（２．７４ｇ）を得た。
Ｒは、（ＣＨ_３）_３Ｓｉ－ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_１０－である。

【0412】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.01-0.04 (m), 0.45-0.49 (m), 1.23-1.26 (m), 1.56-1.64 (m), 2.05 (s), 2.15-2.19 (t), 3.22 (s), 3.82-3.85 (m), 5.05-5.16 (m), 5.75-5.84 (m), 6.24 (s)

【0413】

実施例１３
合成例１４で得られたＲ－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３（２．０７ｇ）、トルエン（２ｇ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、０．２ｍＬ）、ピリジン（０．１ｍＬ）、及びトリメトキシシラン（０．５ｍＬ）を混合した。混合物を、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮することにより、Ｒ－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２Ｃ｛ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３｝_３（２．５３ｇ）を得た。
Ｒは、（ＣＨ_３）_３Ｓｉ－ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_１０－である。

【0414】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.14-0.05 (m), 0.46-0.50 (t), 0.54-0.63 (m), 1.25-1.27 (m), 1.57-1.66 (m), 2.12-2.16 (t), 3.17 (s), 3.56 (s), 6.54 (s).

【0415】

比較例１
特開２０１９－４４１７９号に記載の方法に従い、下記化合物を合成した。
ＣＨ_３Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ－１ＣＨ_２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２Ｃ｛ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３｝_３
繰り返し単位数ｎの平均値は、２２である。

【0416】

合成例１６
Ｒ－ＣＯＯＨ（５ｇ）、アリルアミン（０．５９ｇ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（０．９９ｇ）、４－ジメチルアミノピリジン（４２ｍｇ）、およびジクロロメタン（１５ｍＬ）を混合し、室温で終夜撹拌した。ジクロロメタンで希釈し、塩酸および水で洗浄した後、減圧濃縮することで、Ｒ－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２（３．８２ｇ）を得た。
Ｒは、（ＣＨ_３）_３Ｓｉ－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－（ＣＨ_２）_１０－である。繰り返し単位数ｎの平均値は、１９である。

【0417】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.20-0.30 (m), 0.48-0.56 (m, 2H), 1.18-1.37 (m, 14H), 1.58-1.69 (m, 2H), 2.19 (t,2H, 7.6 Hz), 3.87-3.90 (m, 2H), 5.11-5.20 (m, 2H), 5.49 (brs, 1H), 5.77-5.89 (m, 1H)

【0418】

比較例２
Ｒ－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２（２ｇ）、トルエン（５ｍＬ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、０．１０ｍＬ）、アニリン（１６ｍｇ）、およびトリメトキシシラン（０．５ｍＬ）を混合し、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮することで、Ｒ－ＣＯＮ－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３（２．１１ｇ）を得た。
Ｒは、（ＣＨ_３）_３Ｓｉ－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－（ＣＨ_２）_１０－である。繰り返し単位数ｎの平均値は、１９である。

【0419】

比較例３
特開２０１４－８４４０５号に記載の方法に従い、上記合成例１３で得た（ＣＨ_３）_３Ｓｉ－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－（ＣＨ_２）_１０－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２（繰り返し単位数ｎの平均値は１９である）を用いて、下記化合物を合成した。

【化26】

Ｒは、（ＣＨ_３）_３Ｓｉ－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｎ－（ＣＨ_２）_１０－である。繰り返し単位数ｎの平均値は１９である。

【0420】

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.20-0.30 (m), 0.38-0.68 (m, 16H), 1.20-1.38 (m, 14H), 1.46-1.68 (m, 4H), 2.10-2.23 (m, 2H), 3.18-3.26 (m, 1H), 3.44-3.65 (m, 19H)

【0421】

＜表面処理層の形成＞
[スピンコート処理]
上記実施例１～５及び１０、ならびに比較例１の化合物をそれぞれ１．５ｗｔ％イソプロパノール溶液となるよう希釈し、表面処理剤１～７を得た。表面処理剤１～７を、５０ｍｍ×５０ｍｍのガラス基板に１０分間ＵＶ／Ｏ_３処理を行ってドライ洗浄を行った後、３０００ｒｐｍで３０秒間スピンコートを行った。その後、オーブンで１００℃、２時間の加熱処理を行うことにより、表面処理層を得た。

【0422】

＜評価＞
[接触角の測定]
接触角の測定は、２５℃環境下において、全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いた。具体的には、測定対象の表面処理層を有する基材を水平に静置し、その表面にマイクロシリンジから水を滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより静的接触角を測定した。静的接触角は、基材の表面処理層の異なる５点において測定し、その平均値を算出した値を用いた。オレイン酸の接触角は、液量２μＬで着液４秒後に測定した。

【0423】

【表1】

【0424】

＜表面処理層の形成＞
上記実施例１、３、４、６～１３、ならびに比較例２～３の化合物をそれぞれ２０ｗｔ％の１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン溶液となるよう希釈し、表面処理剤５～９を得た。上記で調製した表面処理剤８～１８を、化学強化ガラス（コーニング社製、ゴリラガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。
具体的には、真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに表面処理剤０．１ｇを充填し、真空蒸着装置内を圧力３．０×１０^－３Ｐａ以下に排気した。その後、電子線蒸着方式により二酸化ケイ素を７ｎｍの厚さで蒸着させて二酸化ケイ素膜を形成し、続いて抵抗加熱方式によりボートを加熱することで表面処理層を形成した。

【0425】

＜評価＞
[耐摩耗性評価]
耐摩耗性試験後の評価サンプルについて、上記インク除去性の評価試験を実施して、同様の評価基準にて指紋除去性を評価した。耐摩擦試験後の指紋除去性に優れる程、摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。
（初期評価）
初期評価（摩擦回数０回）として、表面処理層の形成後、表面上の余剰分を拭き上げたのちに、水の静的接触角を測定した。
（耐摩耗性試験後の評価） 形成された表面処理層に対して、ラビングテスター（井元製作所社製）を用いて、下記条件で３０００回（または６０００回）往復させた。
摩擦子：ベンコット Ｍ－３ＩＩ（製品名、旭化成社製）
移動距離（片道）：６０ｍｍ
移動速度：８，４００ｍｍ／分
荷重：１００ｇ／３ｃｍ^２

【0426】

[インク除去性評価]
表面処理層の形成後、表面上の余剰分を拭き上げて評価サンプルとした。摩耗回数０回、３０００回、６０００回後に実施した。評価サンプルの表面層に油性のフェルトペン（マッキー極太黒色：製品名、ゼブラ社製）で線を引いた後、ベンコットＭ－３ＩＩを摩耗子として、移動速度：７０ｒｐｍ、荷重：１００ｇ／３ｃｍ^２の条件で５０回摩耗した後の、油性インク（線）の付着状態を目視で観察し、インク除去性（初期のインク除去性）を以下の基準にしたがって評価した。
◎（優良）：油性インクの除去率が９０％以上である。
○（良好）：油性インクの除去率が６０％以上９０％未満である。
△（可） ：油性インクの除去率が３０％以上６０％未満である。
×（不良）：油性インクの除去率が３０％未満である。

【0427】

【表2】

【0428】

＜処理剤溶液の調製＞
実施例１および４の化合物を、１０ｗｔ％となるよう、表３に示す溶媒（Ｓ）で希釈し、表面処理剤１～１３を得た。

【0429】

＜相溶性試験＞
上記で調製した表面処理剤１～１３を、２３～２７℃の実験室内に１０分間静置し、表面処理剤の状態を目視で観察し、以下の基準に従って評価した。

【0430】

〇（良好）：均一に混和し透明な溶液である。
×（不良）：不均一であり、二相に分離する。

【0431】

＜保存安定性試験＞
上記で調製した表面処理剤１～１３を、２３～２７℃、遮光下で７日間静置したのちに、表面処理剤の状態を目視で観察し、以下の基準に従って評価した。

【0432】

◎（優良）：溶液が均一であり、濁りがなく固形成分を生成していない。
〇（良好）：薬液内に固形成分が生成していないものの、液面に固形分がみられる。
△（可） ：薬液内に固形成分が確認できるものの、流動性がある。
×（不良）：ゲル化し流動性がない。

【0433】

【表3】

【0434】

＜指紋拭き取り性評価＞
表面処理剤５、６、及び１１～１３を用いて、上記＜表面処理層の形成＞に記載の方法で表面処理層を形成した後、基材表面上の余剰分を拭き上げて評価サンプルとした。評価サンプルに２７Ｎの力で皮脂を付着した。次いで、評価サンプルの表層面の指紋跡を１ｋｇの円柱状の重りにベンコートＭ－３ＩＩを取り付け、以下の条件で一方向に１０回往復することで、表層の指紋をふき取った後の指紋付着状態をＨａｚｅメーターで測定した。結果を下記表４に示す。

【0435】

拭き取り布：ベンコット Ｍ－３ＩＩ（製品名、旭化成社製）
移動距離（片道）：６０ｍｍ
移動速度：８，４００ｍｍ／分
荷重：１０００ｇ／３ｃｍ^２

◎（優良）：指紋跡がほとんど見えない
〇（良好）：指紋がわずかに見える
△（可） ：指紋が薄いがはっきり見える。
×（不良）：はっきり見える。

【0436】

＜ヘイズ測定＞
上記の指紋拭き取り評価を行った後の評価試料をヘイズメーター（日本電色工業株式会社製 ＮＤＨ－７０００）を用いてヘイズ値を測定した。結果を下記表４に示す。

【0437】

【表4】

【産業上の利用可能性】

【0438】

本開示の表面処理剤は、種々多様な用途に好適に利用され得る。