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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024030334
(43)【公開日】2024-03-07
(54)【発明の名称】レベルシフト回路
(51)【国際特許分類】
   H03K 19/0185 20060101AFI20240229BHJP
【FI】
H03K19/0185 240
【審査請求】未請求
【請求項の数】9
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2022133149
(22)【出願日】2022-08-24
(71)【出願人】
【識別番号】000116024
【氏名又は名称】ローム株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001933
【氏名又は名称】弁理士法人 佐野特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】宮下 貴重
【テーマコード(参考)】
5J056
【Fターム(参考)】
5J056AA37
5J056BB02
5J056BB52
5J056CC01
5J056CC02
5J056CC11
5J056CC14
5J056CC21
5J056DD13
5J056DD28
5J056DD51
5J056DD55
5J056FF08
5J056GG06
5J056KK01
(57)【要約】
【課題】回路構成が複雑とならずに高速動作を実現するレベルシフト回路を提供する。
【解決手段】レベルシフト回路(10)は、入力信号(VIN)が入力されるように構成される低電圧側回路(1)と、前記入力信号をレベルシフトした出力信号(OUT1,OUT2)を出力するように構成される高電圧側回路(2)と、を備え、前記低電圧側回路は、前記入力信号のレベルに応じてオン状態とオフ状態とを切り替えるように構成されるスイッチングトランジスタ(M10,M11)と、前記高電圧側回路から前記スイッチングトランジスタを介して電流が流れる経路に接続されるキャパシタ(M12,M13)と、を有し、前記スイッチングトランジスタがオン状態に切り替わるときに、前記キャパシタによって前記経路を流れる過渡的な大電流である突入電流が生成されることで前記出力信号のレベルが切り替えられる。
【選択図】図2
【特許請求の範囲】
【請求項1】
入力信号が入力されるように構成される低電圧側回路と、
前記入力信号をレベルシフトした出力信号を出力するように構成される高電圧側回路と、
を備え、
前記低電圧側回路は、
前記入力信号のレベルに応じてオン状態とオフ状態とを切り替えるように構成されるスイッチングトランジスタと、
前記高電圧側回路から前記スイッチングトランジスタを介して電流が流れる経路に接続されるキャパシタと、
を有し、
前記スイッチングトランジスタがオン状態に切り替わるときに、前記キャパシタによって前記経路を流れる過渡的な大電流である突入電流が生成されることで前記出力信号のレベルが切り替えられる、レベルシフト回路。
【請求項2】
前記低電圧側回路は、前記スイッチングトランジスタに接続される第1カレントミラーと、前記第1カレントミラーと第1所定電圧の印加端との間に接続される抵抗と、を有する、請求項1に記載のレベルシフト回路。
【請求項3】
前記低電圧側回路は、前記キャパシタを放電するように構成される放電スイッチを有する、請求項1に記載のレベルシフト回路。
【請求項4】
前記低電圧側回路と前記高電圧側回路は、第1信号線および第2信号線により接続され、
前記スイッチングトランジスタは、前記第1信号線に接続される第1スイッチングトランジスタと、前記第2信号線に接続される第2スイッチングトランジスタと、を含み、
前記キャパシタは、前記第1スイッチングトランジスタに接続される第1キャパシタと、前記第2スイッチングトランジスタに接続される第2キャパシタと、を含む、請求項1に記載のレベルシフト回路。
【請求項5】
前記高電圧側回路は、
前記第1スイッチングトランジスタおよび前記第2スイッチングトランジスタに接続される第1ラッチ回路と、
第2所定電圧の印加端と前記第1スイッチングトランジスタとの間に接続される第1ダイオードと、
前記第2所定電圧の印加端と前記第2スイッチングトランジスタとの間に接続される第2ダイオードと、
を有する、請求項4に記載のレベルシフト回路。
【請求項6】
前記高電圧側回路は、
前記第1信号線に接続されるゲートと、前記第2所定電圧の印加端に接続されるソースと、を含む第1PMOSトランジスタと、
前記第2信号線に接続されるゲートと、前記第2所定電圧の印加端に接続されるソースと、を含む第2PMOSトランジスタと、
前記第1PMOSトランジスタのドレインに接続される入力側トランジスタと、前記第2PMOSトランジスタのドレインに接続される出力側トランジスタと、を含む第2カレントミラーと、
を有する、請求項5に記載のレベルシフト回路。
【請求項7】
前記高電圧側回路は、
前記第1信号線に接続されるゲートと、前記第2所定電圧の印加端に接続されるソースと、を含む第1PMOSトランジスタと、
前記第2信号線に接続されるゲートと、前記第2所定電圧の印加端に接続されるソースと、を含む第2PMOSトランジスタと、
前記第1PMOSトランジスタのドレインおよび前記第2PMOSトランジスタのドレインに接続される第2ラッチ回路と、
を有する、請求項5に記載のレベルシフト回路。
【請求項8】
前記第1ダイオードおよび前記第2ダイオードは、MOSダイオードを複数段直列に接続して構成される、請求項5から請求項7のいずれか1項に記載のレベルシフト回路。
【請求項9】
前記低電圧側回路は、
前記第1キャパシタを放電するように構成される第1放電スイッチと、
前記第2キャパシタを放電するように構成される第2放電スイッチと、
を有し、
前記第1放電スイッチは、前記第2スイッチングトランジスタを制御する信号によって制御されるように構成され、
前記第2放電スイッチは、前記第1スイッチングトランジスタを制御する信号によって制御されるように構成される、請求項4に記載のレベルシフト回路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、レベルシフト回路に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、論理レベルを低電位レベルから高電位レベルへ変換するレベルシフト回路が知られている(例えば、特許文献1)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開2017-169029号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
レベルシフト回路においては、低電圧側回路から高電圧側回路への信号伝送は電流によって行うことが多い。電流による信号伝送では、電流量を多くすることで回路の寄生容量を速く充放電できるので高速化を図ることができる。しかしながら、消費電流の増大を鑑み、状態遷移時にのみ電流を多くするなどの回路的な工夫が必要となり、回路構成が複雑になりやすい。
【0005】
上記状況に鑑み、本開示は、回路構成が複雑となることを回避しつつ、高速動作を実現するレベルシフト回路を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
例えば、本開示のレベルシフト回路は、
入力信号が入力されるように構成される低電圧側回路と、
前記入力信号をレベルシフトした出力信号を出力するように構成される高電圧側回路と、
を備え、
前記低電圧側回路は、
前記入力信号のレベルに応じてオン状態とオフ状態とを切り替えるように構成されるスイッチングトランジスタと、
前記高電圧側回路から前記スイッチングトランジスタを介して電流が流れる経路に接続されるキャパシタと、
を有し、
前記スイッチングトランジスタがオン状態に切り替わるときに、前記キャパシタによって前記経路を流れる過渡的な大電流である突入電流が生成されることで前記出力信号のレベルが切り替えられる構成としている。
【発明の効果】
【0007】
本開示の例示的なレベルシフト回路によれば、回路構成が複雑となることを回避しつつ、高速動作を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
図1図1は、比較例に係るレベルシフト回路の構成を示す図である。
図2図2は、本開示に係るレベルシフト回路の構成を示す図である。
図3A図3Aは、レベルシフト回路の第1状態遷移動作における各信号状態を示す図である。
図3B図3Bは、レベルシフト回路の第2状態遷移動作における各信号状態を示す図である。
図4A図4Aは、第1状態遷移動作における各電圧信号の波形例を示す図である。
図4B図4Bは、第2状態遷移動作における各電圧信号の波形例を示す図である。
図5図5は、本開示の変形例に係るレベルシフト回路の構成を示す図である。
図6図6は、図5に示す構成の変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、本開示の例示的な実施形態について、図面を参照して説明する。
【0010】
<比較例>
ここでは、本開示の実施形態について説明する前に、対比するための比較例について説明する。比較例について説明することで、解決すべき課題がより明らかになる。
【0011】
図1は、比較例に係るレベルシフト回路40の構成を示す図である。レベルシフト回路40は、低電位レベルの入力信号VINを高電位レベルの出力信号OUTに変換する回路であり、レベル変換部20と制御回路30とを備える。
【0012】
レベル変換部20は、入力信号VINを出力信号OUTに変換する回路構成部である。入力信号VINは、例えば0Vと5Vの間で変化し、出力信号OUTは、例えば12Vと17Vの間で変化する。
【0013】
レベル変換部20は、インバータIV20と、NMOSトランジスタM20~M25と、PMOSトランジスタM26,M27と、ダイオードD20と、シュミットトリガ(シュミットバッファ)201と、を有する。なお、NMOSトランジスタは、Nチャネル型MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistor)であり、PMOSトランジスタは、Pチャネル型MOSFETである。
【0014】
インバータIV20の入力端は、入力信号VINの印加端に接続される。インバータIV20の出力端は、NMOSトランジスタM20のゲートに接続される。NMOSトランジスタM20のソースは、NMOSトランジスタM22のドレインに接続される。NMOSトランジスタM22のソースは、NMOSトランジスタM24のドレインに接続される。NMOSトランジスタM24のソースは、グランド電位の印加端に接続される。
【0015】
入力信号VINの印加端は、NMOSトランジスタM21のゲートに接続される。NMOSトランジスタM21のソースは、NMOSトランジスタM23のドレインに接続される。NMOSトランジスタM23のソースは、NMOSトランジスタM25のドレインに接続される。NMOSトランジスタM25のソースは、グランド電位の印加端に接続される。
【0016】
PMOSトランジスタM26,M27からカレントミラーが構成される。具体的には、PMOSトランジスタM26,M27のソースは、電源電圧VCCの印加端に接続される。PMOSトランジスタM26のゲートとドレインは短絡される。PMOSトランジスタM26のゲートとPMOSトランジスタM27のゲートは接続される。NMOSトランジスタM20のドレインは、PMOSトランジスタM26のドレインに接続される。PMOSトランジスタM27のドレインは、NMOSトランジスタM21のドレインに接続される。
【0017】
ダイオードD20のカソードは、PMOSトランジスタM27のソースに接続される。ダイオードD20のアノードは、PMOSトランジスタM27のドレインに接続される。シュミットトリガ201は、電源電圧VCCの印加端と電源電圧VPWRとの間に接続される。シュミットトリガ201は、入力されるドレイン電圧VD(PMOSトランジスタM27のドレイン電圧)に応じて出力信号OUTを出力する。
【0018】
例えば、電源電圧VCC=17V、電源電圧VPWR=12Vとして、NMOSトランジスタM20,M21=15V耐圧素子、NMOSトランジスタM22,M23=5V耐圧素子、NMOSトランジスタM24,M25=1.5V耐圧素子である。
【0019】
制御回路30は、定電流源301,302と、NMOSトランジスタM30~M32と、スイッチS30,S31と、を有する。
【0020】
NMOSトランジスタM30のドレインは、定電流源301に接続される。NMOSトランジスタM30のゲートとドレインは短絡される。NMOSトランジスタM30のゲートは、NMOSトランジスタM22,M23の各ゲートに接続される。NMOSトランジスタM30のソースは、NMOSトランジスタM31のドレインに接続される。NMOSトランジスタM31のゲートとドレインは短絡される。NMOSトランジスタM31のソースは、グランド電位の印加端に接続される。NMOSトランジスタM31のゲートは、スイッチS30を介してNMOSトランジスタM24,M25の各ゲートに接続される。
【0021】
NMOSトランジスタM32のドレインは、定電流源302に接続される。NMOSトランジスタM32のゲートとドレインは短絡される。NMOSトランジスタM32のソースは、グランド電位の印加端に接続される。NMOSトランジスタM32のゲートは、スイッチS31を介してNMOSトランジスタM24,M25の各ゲートに接続される。
【0022】
定電流源302は定常状態でレベル変換部20に電流を流すための構成であり、定電流源301は状態遷移時に過渡的にレベル変換部20に大電流を流すための構成である。例えば、定電流源302による定電流=5μA、定電流源301による定電流=30μAである。例えば、素子のサイズ比がM31:M24:M25=1:2:2であれば、定電流源301によりNMOSトランジスタM31に30μAの電流が流れるので、NMOSトランジスタM24,M25には過渡時に60μAの電流が流れる。また、例えば、M32:M24:M25=4:2:2であれば、定電流源302によりNMOSトランジスタM32に定常時に5μAの電流が流れるので、NMOSトランジスタM24,M25には定常時に2.5μAの電流が流れる。
【0023】
レベルシフト回路40の動作について説明する。入力信号VINを5V(ハイレベル)から0V(ローレベル)に切り替える場合、NMOSトランジスタM20のゲート電圧はローレベルからハイレベルに切り替わり、NMOSトランジスタM21のゲート電圧はハイレベルからローレベルに切り替わる。これにより、NMOSトランジスタM20はオン状態に切り替わり、NMOSトランジスタM21はオフ状態に切り替わる。
【0024】
このような状態遷移時に所定期間(例えば60ns)の間、スイッチS30をオン状態、スイッチS31をオフ状態とする。これにより、NMOSトランジスタM20,M22,M24を大電流が過渡的に流れる。このとき、カレントミラーを構成するPMOSトランジスタM26,M27の各ゲート電圧が低下し、PMOSトランジスタM27がオン状態となる。これにより、ドレイン電圧VD=17V(VCC)となり、シュミットトリガ201から17V(ハイレベル)の出力信号OUTが出力される。なお、上記所定期間の経過後はスイッチS30はオフ状態、スイッチS31はオン状態とされ、NMOSトランジスタM20,M22,M24には定常状態の電流が流れる。
【0025】
一方、入力信号VINを0V(ローレベル)から5V(ハイレベル)に切り替える場合、NMOSトランジスタM20のゲート電圧はハイレベルからローレベルに切り替わり、NMOSトランジスタM21のゲート電圧はローレベルからハイレベルに切り替わる。これにより、NMOSトランジスタM20はオフ状態に切り替わり、NMOSトランジスタM21はオン状態に切り替わる。
【0026】
このような状態遷移時に上記と同様に、所定期間(例えば60ns)の間、スイッチS30をオン状態、スイッチS31をオフ状態とする。これにより、NMOSトランジスタM21,M23,M25を大電流が過渡的に流れる。このとき、PMOSトランジスタM27はオフ状態であり、ダイオードD20に大電流が流れる。これにより、ドレイン電圧VDがダイオードD20によってクランプされ、VD=17V-5V=12Vとなる(5VはダイオードD20のツェナー電圧)。従って、シュミットトリガ201から12V(ローレベル)の出力信号OUTが出力される。
【0027】
このように、レベルシフト回路40では、レベル変換部20における低電圧側回路から高電圧側回路への信号伝送を電流により行う。このとき、状態遷移時に大電流をレベル変換部20に過渡的に流すので、回路の寄生容量を速く充放電し、出力信号OUTを高速にレベル切り替えすることができる。
【0028】
しかしながら、上記のようなレベルシフト回路40の構成であると、高速動作を目的に過渡的に大電流を流すために制御回路30のような複雑な回路が必要である。また、レベルシフト回路40では、レベル変換部20において3種類の耐圧素子を使用するため、素子分離領域によりレイアウト面積が大きくなる課題もある。
【0029】
<レベルシフト回路の構成>
次に、本開示の例示的なレベルシフト回路について説明する。図2は、本開示に係るレベルシフト回路10の構成を示す図である。レベルシフト回路10は、低電位レベルの入力信号VINを高電位レベルの出力信号OUT1,OUT2に変換する回路であり、低電圧側回路1と高電圧側回路2とを備える。入力信号VINは、例えば0Vと5Vの間で変化し、出力信号OUT1,OUT2は、例えば12Vと17Vの間で変化する。
【0030】
低電圧側回路1は、インバータ11,12と、カレントミラー131,132と、スイッチングトランジスタM10,M11と、MOSキャパシタM12,M13と、放電スイッチM14,M15と、抵抗R1と、を有する。
【0031】
インバータ11は、内部電圧VREGの印加端とグランド電位の印加端との間に接続され、入力される入力信号VINを論理反転してインバータ12へ出力する。インバータ12は、内部電圧VREGの印加端とグランド電位の印加端との間に接続され、インバータ11の出力を論理反転して出力する。
【0032】
スイッチングトランジスタM10は、NMOSトランジスタにより構成される。スイッチングトランジスタM10のゲートは、インバータ12の出力端に接続される。カレントミラー131は、入力側トランジスタ13Aおよび出力側トランジスタ13Bを有する。入力側トランジスタ13Aおよび出力側トランジスタ13Bは、NMOSトランジスタにより構成される。入力側トランジスタ13Aのドレインは、抵抗R1を介して内部電圧VREGの印加端に接続される。入力側トランジスタ13Aのゲート・ドレイン間は短絡される。出力側トランジスタ13Bのドレインは、スイッチングトランジスタM10のソースに接続される。入力側トランジスタ13Aおよび出力側トランジスタ13Bの各ソースは、グランド電位の印加端に接続される。
【0033】
抵抗R1は、内部電圧VREGとともに後述する定常状態の電流を生成するために設けられる。このような電流は定電流源により生成することも可能であるが、抵抗R1を半導体チップにおけるランド間に配置することでスペースを有効活用できる。なお、抵抗R1は、半導体チップにおける素子配置領域上のフリースペース、デッドスペースに配置することも可能である。
【0034】
スイッチングトランジスタM11は、NMOSトランジスタにより構成される。スイッチングトランジスタM11のゲートは、インバータ11の出力端に接続される。カレントミラー132は、入力側トランジスタ13Aおよび出力側トランジスタ13Cを有する。すなわち、カレントミラー131,132で入力側トランジスタ13Aは共通である。出力側トランジスタ13Cは、NMOSトランジスタにより構成される。出力側トランジスタ13Cのドレインは、スイッチングトランジスタM11のソースに接続される。出力側トランジスタ13Cのソースは、グランド電位の印加端に接続される。
【0035】
MOSキャパシタM12,M13は、MOSトランジスタにより構成されるキャパシタである。なお、MOSキャパシタM12,M13は、NMOSキャパシタでもPMOSキャパシタでもよい。また、MOSキャパシタの代わりに、例えばMIM(Metal-Insulator-Metal)キャパシタを用いてもよい。
【0036】
MOSキャパシタM12,M13は、後述するように、状態遷移時に過渡的に大電流を発生させるために用いられる。MOSキャパシタM12は、スイッチングトランジスタM10のソースとグランド電位の印加端との間に接続される。MOSキャパシタM13は、スイッチングトランジスタM11のソースとグランド電位の印加端との間に接続される。
【0037】
放電スイッチM14,M15は、NMOSトランジスタにより構成され、後述するようにMOSキャパシタM12,M13を放電させるために用いられる。放電スイッチM14は、MOSキャパシタM12とグランド電位の印加端との間に接続される。放電スイッチM15は、MOSキャパシタM13とグランド電位の印加端との間に接続される。
【0038】
高電圧側回路2は、ラッチ回路21と、MOSダイオード22,23と、PMOSトランジスタ24,25と、カレントミラー26と、インバータ27と、を有する。
【0039】
ラッチ回路21は、PMOSトランジスタ211,212を有する。PMOSトランジスタ211,212の各ソースは、ハイサイド電圧VHSDの印加端に接続される。ハイサイド電圧VHSDは、電源電圧VPWRよりも高い電圧である。PMOSトランジスタ211のドレインは、PMOSトランジスタ212のゲートに接続される。PMOSトランジスタ212のドレインは、PMOSトランジスタ211のゲートに接続される。スイッチングトランジスタM10のドレインは、信号線LN1を介してPMOSトランジスタ211のドレインに接続される。スイッチングトランジスタM11のドレインは、信号線LN2を介してPMOSトランジスタ212のドレインに接続される。すなわち、低電圧側回路1と高電圧側回路2は、2本の信号線LN1,LN2により接続される。
【0040】
MOSダイオード22は、ダイオード接続されたPMOSトランジスタにより構成され、ハイサイド電圧VHSDの印加端とPMOSトランジスタ211のドレインとの間に接続される。MOSダイオード23は、ダイオード接続されたPMOSトランジスタにより構成され、ハイサイド電圧VHSDの印加端とPMOSトランジスタ212のドレインとの間に接続される。
【0041】
PMOSトランジスタ24のゲートは、PMOSトランジスタ211のドレインに接続される。PMOSトランジスタ24のソースは、ハイサイド電圧VHSDの印加端に接続される。MOSダイオード22とPMOSトランジスタ24によりカレントミラーが構成される。
【0042】
カレントミラー26は、入力側トランジスタ261および出力側トランジスタ262を有する。入力側トランジスタ261および出力側トランジスタ262は、NMOSトランジスタにより構成される。入力側トランジスタ261のドレインは、PMOSトランジスタ24のドレインに接続される。入力側トランジスタ261のゲート・ドレイン間は短絡される。入力側トランジスタ261と出力側トランジスタ262のゲート同士は接続される。入力側トランジスタ261および出力側トランジスタ262の各ソースは、電源電圧VPWRの印加端に接続される。
【0043】
PMOSトランジスタ25のゲートは、PMOSトランジスタ212のドレインに接続される。PMOSトランジスタ25のソースは、ハイサイド電圧VHSDの印加端に接続される。MOSダイオード23とPMOSトランジスタ25によりカレントミラーが構成される。出力側トランジスタ262のドレインとPMOSトランジスタ25のドレインは、ノードNd1で接続される。ノードNd1から出力信号OUT2が出力される。
【0044】
出力側トランジスタ262のドレインとPMOSトランジスタ25のドレインとが接続されるノードNd2は、インバータ27の入力端に接続される。インバータ27は、ハイサイド電圧VHSDの印加端と電源電圧VPWRの印加端との間に接続される。インバータ27の出力端から出力信号OUT1が出力される。
【0045】
例えば、ハイサイド電圧VHSD=17V、電源電圧VPWR=12V、内部電圧VREG=5Vとして、スイッチングトランジスタM10,M11は、高耐圧素子としての20V耐圧素子により構成される。低電圧側回路1におけるインバータ11,12を構成するMOSトランジスタ、NMOSトランジスタ13A,13B,13C、MOSキャパシタM12,M13、および放電スイッチM14,M15には、例えば5V耐圧素子として低耐圧素子を用いることができる。従って、低電圧側回路1において2種類の耐圧素子を用いればよいので、レイアウト面積を削減できる。また、高耐圧素子は2個(スイッチングトランジスタM10,M11)で済むため、省レイアウト面積化が可能となる。
【0046】
<第1状態遷移動作>
次に、このような構成のレベルシフト回路10における状態遷移時の動作について説明する。なお、以下の説明における具体的な電圧値は、あくまで一例に過ぎない。まず、入力信号VINが0V(ローレベル)から5V(ハイレベル)に切り替わった場合の動作(第1状態遷移動作)について図3Aおよび図4Aを参照して説明する。
【0047】
図3Aは、レベルシフト回路10の第1状態遷移動作における各信号状態を示す図である。なお、図3Aにおいて、電圧信号の上向き矢印は電圧上昇を示し、下向き矢印は電圧低下を示し、後述する図3Bでも同様である。また、図4Aは、第1状態遷移動作における各電圧信号の波形例を示す図である。なお、図4Aにおいて、上段から順に、入力信号VIN、信号線LN1の電圧V1B、信号線LN2の電圧V2B、出力信号OUT1,OUT2の各波形例を示し、後述する図4Bでも同様である。
【0048】
入力信号VINがローレベル(0V)からハイレベル(5V)に切り替わると、スイッチングトランジスタM10のゲート電圧V1Aはローレベルからハイレベルに切り替わり、スイッチングトランジスタM11のゲート電圧V1Bはハイレベルからローレベルに切り替わる。これにより、スイッチングトランジスタM10はオン状態に切り替わり、スイッチングトランジスタM11はオフ状態に切り替わる。
【0049】
ここで、放電スイッチM14のゲートは、ゲート電圧V2Aにより制御され、放電スイッチM15のゲートは、ゲート電圧V1Aにより制御される。入力信号VINがローレベルからハイレベルに切り替わるときには、事前に放電スイッチM14によりMOSキャパシタM12は放電されている。従って、スイッチングトランジスタM10がオン状態に切り替わったときに、MOSキャパシタM12は充電されていない状態(ゼロチャージ状態)であるため、MOSダイオード22、信号線LN1、およびスイッチングトランジスタM10を介して突入電流I1(大電流)がMOSキャパシタM12に流れ込む。
【0050】
これにより、MOSダイオード22のVds(ドレイン・ソース間電圧)が大きく開き、信号線LN1の電圧V1Bがハイサイド電圧VHSD(17V)から大きく低下する。すると、ラッチ回路21においてPMOSトランジスタ212がオフ状態からオン状態に高速に切り替わり、PMOSトランジスタ211がオン状態からオフ状態に高速に切り替わる。このとき、信号線LN2の電圧V2Bは、ハイサイド電圧VHSD(17V)へ上昇し、PMOSトランジスタ25はオフ状態に切り替わる。
【0051】
電圧V1Bの低下により、PMOSトランジスタ24に電流が流れ、カレントミラー26により上記電流がミラーリングされる。これにより、出力電圧OUT1はローレベル(VPWR=12V)からハイレベル(VHSD=17V)に切り替わり、出力電圧OUT2はハイレベル(VHSD=17V)からローレベル(VPWR=12V)に切り替わる。
【0052】
突入電流I1が流れた後、内部電圧VREGと抵抗R1により生成される電流がカレントミラー131によりミラーリングされ、スイッチングトランジスタM10に定常状態の電流が流れる。例えば、突入電流が数百μAであり、定常状態の電流は数μAである。定常状態において電圧V1Bは、MOSダイオード22によりクランプされる。また、定常状態においては、MOSキャパシタM12の電圧は、スイッチングトランジスタM10によってクランプされる(VREG-Vth(Vth:M10のVth)でクランプ)。このように定常状態では、突入電流よりも電流が抑えられるので、低消費電流化を図ることができる。
【0053】
<第2状態遷移動作>
一方、入力信号VINがハイレベル(5V)からローレベル(0V)に切り替わった場合の動作(第2状態遷移動作)について図3Bおよび図4Bを参照して説明する。図3Bは、レベルシフト回路10の第2状態遷移動作における各信号状態を示す図である。図4Bは、第2状態遷移動作における各電圧信号の波形例を示す図である。
【0054】
入力信号VINがハイレベルからローレベルに切り替わると、スイッチングトランジスタM10のゲート電圧V1Aはハイレベルからローレベルに切り替わり、スイッチングトランジスタM11のゲート電圧V1Bはローレベルからハイレベルに切り替わる。これにより、スイッチングトランジスタM10はオフ状態に切り替わり、スイッチングトランジスタM11はオン状態に切り替わる。
【0055】
このとき、事前に放電スイッチM15によりMOSキャパシタM13は放電されている。従って、スイッチングトランジスタM11がオン状態に切り替わったときに、MOSキャパシタM13は充電されていない状態(ゼロチャージ状態)であるため、MOSダイオード23、信号線LN2、およびスイッチングトランジスタM11を介して突入電流I2(大電流)がMOSキャパシタM13に流れ込む。
【0056】
これにより、MOSダイオード23のVdsが大きく開き、信号線LN2の電圧V2Bがハイサイド電圧VHSD(17V)から大きく低下する。すると、ラッチ回路21においてPMOSトランジスタ211がオフ状態からオン状態に高速に切り替わり、PMOSトランジスタ212がオン状態からオフ状態に高速に切り替わる。このとき、信号線LN1の電圧V1Bは、ハイサイド電圧VHSD(17V)へ上昇し、PMOSトランジスタ24はオフ状態に切り替わる。
【0057】
電圧V2Bの低下により、PMOSトランジスタ25に電流が流れ、出力電圧OUT1はハイレベル(VHSD=17V)からローレベル(VPWR=12V)に切り替わり、出力電圧OUT2はローレベル(VPWR=12V)からハイレベル(VHSD=17V)に切り替わる。
【0058】
突入電流I2が流れた後、内部電圧VREGと抵抗R1により生成される電流がカレントミラー132によりミラーリングされ、スイッチングトランジスタM11に定常状態の電流が流れる。定常状態において電圧V2Bは、MOSダイオード23によりクランプされる。また、定常状態においては、MOSキャパシタM13の電圧は、スイッチングトランジスタM11によってクランプされる(VREG-Vth(Vth:M11のVth)でクランプ)。このように定常状態では、突入電流よりも電流が抑えられるので、低消費電流化を図ることができる。
【0059】
このように本実施形態に係るレベルシフト回路10では、低電圧側回路1から高電圧側回路2への信号伝送を電流により行う。ゼロチャージ状態のMOSキャパシタが大電流を引き込む性質を利用して、状態遷移時にMOSキャパシタM12,M13を用いて突入電流を生成し、回路の寄生容量を速く充放電することで、出力信号OUT1,OUT2のレベルを高速に切り替えることができる。例えば、信号の立上り時間Trおよび立ち下がり時間Tfともに1ns以下とすることができる。過渡的に突入電流が流れた後は、定常状態が維持される。定常状態での消費電流は抑制される。なお、突入電流は、MOSキャパシタの容量、スイッチングトランジスタのオン抵抗、MOSダイオードのインピーダンスなどにより制限される。
【0060】
このように過渡的に大電流を生成するための構成をMOSキャパシタにより簡易化することができ、上記比較例のような複雑な構成の制御回路が不要となる。また、突入電流を高電圧側回路2におけるMOSダイオード22,23に流すことで、過渡的に高速に信号伝送(I/V変換)を行うことができる。
【0061】
<変形例>
図5は、本開示の変形例に係るレベルシフト回路10の構成を示す図である。本変形例においては、高電圧側回路2において、先述したカレントミラー26の代わりにラッチ回路28を用いている。ラッチ回路28は、NMOSトランジスタ281,282を有する。具体的には、NMOSトランジスタ281のゲートは、NMOSトランジスタ282のドレインに接続される。NMOSトランジスタ282のゲートは、NMOSトランジスタ281のドレインに接続される。NMOSトランジスタ281,282の各ソースは、電源電圧VPWRの印加端に接続される。NMOSトランジスタ281のドレインは、PMOSトランジスタ24のドレインに接続される。NMOSトランジスタ282のドレインは、PMOSトランジスタ25のドレインに接続される。
【0062】
例えば図3Aに示す構成では、定常時においてMOSダイオード22およびPMOSトランジスタ24から構成されるカレントミラーによりPMOSトランジスタ24から入力側トランジスタ261へ数μAの電流が流れる。これに対し、図5に示す構成であれば、ハイサイド電圧VHSD側から電源電圧VPWR側への電流経路はなく、定常時に電流が流れることが抑制され、より低消費電流となる。
【0063】
図6は、図5に示す構成の変形例を示す図である。図6では、MOSダイオード22,23を複数段直列に接続した構成としている。これにより、突入電流発生時において、ラッチ回路28を駆動するPMOSトランジスタ24,25のゲート電圧V1B,V2Bの変動を大きくし、より高速な動作が実現できる。
【0064】
なお、図2に示す構成においても、上記と同様にMOSダイオード22,23を複数段直列に接続した構成としてもよい。これにより、より高速な動作を実現可能となる。
【0065】
<その他>
なお、本明細書中に開示されている種々の技術的特徴は、上記実施形態のほか、その技術的創作の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更を加えることが可能である。すなわち、上記実施形態は、全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきであり、本発明の技術的範囲は、上記実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内に属する全ての変更が含まれると理解されるべきである。
【0066】
<付記>
以上のように、本開示の一態様に係るレベルシフト回路(10)は、
入力信号(VIN)が入力されるように構成される低電圧側回路(1)と、
前記入力信号をレベルシフトした出力信号(OUT1,OUT2)を出力するように構成される高電圧側回路(2)と、
を備え、
前記低電圧側回路は、
前記入力信号のレベルに応じてオン状態とオフ状態とを切り替えるように構成されるスイッチングトランジスタ(M10,M11)と、
前記高電圧側回路から前記スイッチングトランジスタを介して電流が流れる経路に接続されるキャパシタ(M12,M13)と、
を有し、
前記スイッチングトランジスタがオン状態に切り替わるときに、前記キャパシタによって前記経路を流れる過渡的な大電流である突入電流が生成されることで前記出力信号のレベルが切り替えられる構成としている(第1の構成)。
【0067】
また、上記第1の構成において、前記低電圧側回路(1)は、前記スイッチングトランジスタ(M10,M11)に接続される第1カレントミラー(131,132)と、前記第1カレントミラーと第1所定電圧(VREG)の印加端との間に接続される抵抗(R1)と、を有する構成としてもよい(第2の構成)。
【0068】
また、上記第1または第2の構成において、前記低電圧側回路(1)は、前記キャパシタ(M12,M13)を放電するように構成される放電スイッチ(M14,M15)を有する構成としてもよい(第3の構成)。
【0069】
また、上記第1から第3のいずれかの構成において、前記低電圧側回路(1)と前記高電圧側回路(2)は、第1信号線(LN1)および第2信号線(LN2)により接続され、
前記スイッチングトランジスタは、前記第1信号線に接続される第1スイッチングトランジスタ(M10)と、前記第2信号線に接続される第2スイッチングトランジスタ(M11)と、を含み、
前記キャパシタは、前記第1スイッチングトランジスタに接続される第1キャパシタ(M12)と、前記第2スイッチングトランジスタに接続される第2キャパシタ(M13)と、を含む構成としてもよい(第4の構成)。
【0070】
また、上記第4の構成において、前記高電圧側回路(2)は、
前記第1スイッチングトランジスタ(M10)および前記第2スイッチングトランジスタ(M11)に接続される第1ラッチ回路(21)と、
第2所定電圧(VHSD)の印加端と前記第1スイッチングトランジスタとの間に接続される第1ダイオード(22)と、
前記第2所定電圧の印加端と前記第2スイッチングトランジスタとの間に接続される第2ダイオード(23)と、を有する構成としてもよい(第5の構成)。
【0071】
また、上記第5の構成において、前記高電圧側回路(2)は、
前記第1信号線(LN1)に接続されるゲートと、前記第2所定電圧(VHSD)の印加端に接続されるソースと、を含む第1PMOSトランジスタ(24)と、
前記第2信号線(LN2)に接続されるゲートと、前記第2所定電圧の印加端に接続されるソースと、を含む第2PMOSトランジスタ(25)と、
前記第1PMOSトランジスタのドレインに接続される入力側トランジスタ(261)と、前記第2PMOSトランジスタのドレインに接続される出力側トランジスタ(262)と、を含む第2カレントミラー(26)と、を有する構成としてもよい(第6の構成)。
【0072】
また、上記第5の構成において、前記高電圧側回路(2)は、
前記第1信号線(LN1)に接続されるゲートと、前記第2所定電圧(VHSD)の印加端に接続されるソースと、を含む第1PMOSトランジスタ(24)と、
前記第2信号線(LN2)に接続されるゲートと、前記第2所定電圧の印加端に接続されるソースと、を含む第2PMOSトランジスタ(25)と、
前記第1PMOSトランジスタのドレインおよび前記第2PMOSトランジスタのドレインに接続される第2ラッチ回路(28)と、を有する構成としてもよい(第7の構成)。
【0073】
また、上記第5から第7のいずれかの構成において、前記第1ダイオード(22)および前記第2ダイオード(23)は、MOSダイオードを複数段直列に接続して構成されることとしてもよい(第8の構成)。
【0074】
また、上記第4から第8のいずれかの構成において、前記低電圧側回路(1)は、
前記第1キャパシタ(M12)を放電するように構成される第1放電スイッチ(M14)と、
前記第2キャパシタ(M13)を放電するように構成される第2放電スイッチ(M15)と、
を有し、
前記第1放電スイッチは、前記第2スイッチングトランジスタ(M11)を制御する信号(V2A)によって制御されるように構成され、
前記第2放電スイッチは、前記第1スイッチングトランジスタ(M10)を制御する信号(V1A)によって制御されるように構成される構成としてもよい(第9の構成)。
【産業上の利用可能性】
【0075】
本開示は、例えば、各種用途のレベルシフト回路に利用できる。
【符号の説明】
【0076】
1 低電圧側回路
2 高電圧側回路
10 レベルシフト回路
11,12 インバータ
13A 入力側トランジスタ
13B 出力側トランジスタ
13C 出力側トランジスタ
20 レベル変換部
21 ラッチ回路
22,23 MOSダイオード
24,25 PMOSトランジスタ
26 カレントミラー
27 インバータ
28 ラッチ回路
30 制御回路
40 レベルシフト回路
131,132 カレントミラー
201 シュミットトリガ
211,212 PMOSトランジスタ
261 入力側トランジスタ
262 出力側トランジスタ
281,282 NMOSトランジスタ
301,302 定電流源
D20 ダイオード
IV20 インバータ
LN1,LN2 信号線
M10,M11 スイッチングトランジスタ
M12,M13 MOSキャパシタ
M14,M15 放電スイッチ
M20~M25 NMOSトランジス
M26,M27 PMOSトランジスタ
M30~M32 NMOSトランジスタ
Nd1,Nd2 ノード
R1 抵抗
S30,S31 スイッチ
図1
図2
図3A
図3B
図4A
図4B
図5
図6