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特開2024-32691透明な導電性基板およびそれを使用する両面フォトリソグラフィー法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024032691
(43)【公開日】2024-03-12
(54)【発明の名称】透明な導電性基板およびそれを使用する両面フォトリソグラフィー法
(51)【国際特許分類】
H05K 3/06 20060101AFI20240305BHJP
G03F 7/028 20060101ALI20240305BHJP
G03F 7/004 20060101ALI20240305BHJP
G03F 7/09 20060101ALI20240305BHJP
G03F 7/095 20060101ALI20240305BHJP
G03F 7/11 20060101ALI20240305BHJP
G03F 7/26 20060101ALI20240305BHJP
G03F 7/40 20060101ALI20240305BHJP
G03F 7/20 20060101ALI20240305BHJP
G06F 3/041 20060101ALI20240305BHJP
H01B 5/14 20060101ALI20240305BHJP
B32B 7/023 20190101ALI20240305BHJP
【ＦＩ】
H05K3/06 H
G03F7/028
G03F7/004 501
G03F7/09 501
G03F7/095
G03F7/11 503
G03F7/004 512
G03F7/26
G03F7/40 521
G03F7/20 501
G06F3/041 660
G06F3/041 495
H01B5/14 A
B32B7/023
【審査請求】未請求
【請求項の数】17
【出願形態】ＯＬ
【外国語出願】
(21)【出願番号】P 2023138488
(22)【出願日】2023-08-29
(31)【優先権主張番号】63/401,878
(32)【優先日】2022-08-29
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(71)【出願人】
【識別番号】519372065
【氏名又は名称】デュポン エレクトロニクス インコーポレイテッド
(74)【代理人】
【識別番号】110001243
【氏名又は名称】弁理士法人谷・阿部特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】イー－ティン チェン
【テーマコード（参考）】
2H196
2H197
2H225
4F100
5E339
5G307
【Ｆターム（参考）】
2H196AA26
2H196AA27
2H196AA30
2H196CA16
2H196CA17
2H196EA02
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2H196EA15
2H196HA13
2H196HA14
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2H197CA05
2H197CE01
2H197CE10
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2H197HA10
2H225AC33
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2H225AC63
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2H225AM13P
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2H225EA19P
4F100AA33B
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5E339AA01
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5G307FA01
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5G307FB01
5G307FC02
5G307FC09
5G307FC10
(57)【要約】
【課題】 透明な導電性基板およびそれを使用する両面フォトリソグラフィー法を提供する。
【解決手段】 本発明は、順次、第１のレジスト層と、第１の透明な導電性層と、透明なコアと、第２の透明な導電性層と、第２のレジスト層とを含む、透明な導電性基板であって；第１のレジスト層が、ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）で構成され；第２のレジスト層が、可視光感受性組成物（Ｃ２）で構成される基板を提供する。
本発明は、透明な導電性ラミネートを製造するための両面フォトリソグラフィー法を提供する。本発明の方法によって製造される透明な導電性ラミネートは、タッチパネルへ組み入れられ得る。
【選択図】 図１
【解決手段】 本発明は、順次、第１のレジスト層と、第１の透明な導電性層と、透明なコアと、第２の透明な導電性層と、第２のレジスト層とを含む、透明な導電性基板であって；第１のレジスト層が、ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）で構成され；第２のレジスト層が、可視光感受性組成物（Ｃ２）で構成される基板を提供する。
本発明は、透明な導電性ラミネートを製造するための両面フォトリソグラフィー法を提供する。本発明の方法によって製造される透明な導電性ラミネートは、タッチパネルへ組み入れられ得る。
【選択図】 図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第１のレジスト層と、第１の透明な導電性層と、透明なコアと、第２の透明な導電性層と、第２のレジスト層とをこの順に含む、透明な導電性ラミネートを製造するための透明な導電性基板であって、
前記透明な導電性基板が、４００ｎｍ～８００ｎｍの範囲において６０％以上の全透過率（Ｔ４００～８００）を有し；
前記第１のレジスト層が、ＵＶ線感受性組成物で構成され；
前記第２のレジスト層が、可視光感受性組成物で構成され；
前記ＵＶ線感受性組成物が、４００ｎｍ未満の波長の光線に露光することによって光重合を受け；
前記可視光感受性組成物が、４００ｎｍ～８００ｎｍの波長領域の光線に露光することによって光重合を受ける、
透明な導電性基板。
前記透明な導電性基板が、４００ｎｍ～８００ｎｍの範囲において６０％以上の全透過率（Ｔ４００～８００）を有し；
前記第１のレジスト層が、ＵＶ線感受性組成物で構成され；
前記第２のレジスト層が、可視光感受性組成物で構成され；
前記ＵＶ線感受性組成物が、４００ｎｍ未満の波長の光線に露光することによって光重合を受け；
前記可視光感受性組成物が、４００ｎｍ～８００ｎｍの波長領域の光線に露光することによって光重合を受ける、
透明な導電性基板。
【請求項2】
前記ＵＶ線感受性組成物は、
（ａ）３０～７０重量％のアルカリ可溶性コポリマーと；
（ｂ）１０～７０重量％の、エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物と；
（ｃ）０．１～２０重量％の光開始剤と；
（ｄ１）０～２０重量％の、ＵＶ線領域に最大吸収を有するＵＶ吸収増感剤と；
（ｅ）０～２０重量％の他の添加剤と；
（ｆ）０～２０重量％の、入射可視光エネルギーを吸収することによる可視光ブロッキング物質と
を含む、請求項１に記載の透明な導電性基板。
（ａ）３０～７０重量％のアルカリ可溶性コポリマーと；
（ｂ）１０～７０重量％の、エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物と；
（ｃ）０．１～２０重量％の光開始剤と；
（ｄ１）０～２０重量％の、ＵＶ線領域に最大吸収を有するＵＶ吸収増感剤と；
（ｅ）０～２０重量％の他の添加剤と；
（ｆ）０～２０重量％の、入射可視光エネルギーを吸収することによる可視光ブロッキング物質と
を含む、請求項１に記載の透明な導電性基板。
【請求項3】
前記可視光感受性組成物は、
（ａ）３０～７０重量％のアルカリ可溶性コポリマーと；
（ｂ）１０～７０重量％の、エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物と；
（ｃ）０．１～２０重量％の光開始剤と；
（ｄ２）０．０１～２０重量％の、可視光領域に最大吸収を有する可視光吸収増感剤と；
（ｅ）０～２０重量％の他の添加剤と；
（ｇ）０．０１～２０重量％の、入射ＵＶ線エネルギーを吸収することによるＵＶ線ブロッキング物質と
を含む、請求項１に記載の透明な導電性基板。
（ａ）３０～７０重量％のアルカリ可溶性コポリマーと；
（ｂ）１０～７０重量％の、エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物と；
（ｃ）０．１～２０重量％の光開始剤と；
（ｄ２）０．０１～２０重量％の、可視光領域に最大吸収を有する可視光吸収増感剤と；
（ｅ）０～２０重量％の他の添加剤と；
（ｇ）０．０１～２０重量％の、入射ＵＶ線エネルギーを吸収することによるＵＶ線ブロッキング物質と
を含む、請求項１に記載の透明な導電性基板。
【請求項4】
前記透明なコアは、ガラス、フレキシブルガラス、若しくは石英のシート；またはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、酢酸セルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ポリオレフィン、ポリ（メタ）アクリレートエステル、ポリアクリレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリ（エーテルスルホン）、ポリスルホン、またはそれらの組合せで構成されるポリマーフィルムである、請求項１に記載の透明な導電性基板。
【請求項5】
前記第１の透明な導電性層および前記第２の透明な導電性層のそれぞれは、独立的に、酸化インジウムスズ、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムガリウム亜鉛；カーボンナノチューブ；および銅、銀、白金、または金のナノワイヤーで構成されるものから選択される導電性材料を含有する、請求項１に記載の透明な導電性基板。
【請求項6】
前記透明なコアは、１μｍ～２００μｍの厚さを有し；前記第１の透明な導電性層および前記第２の透明な導電性層のそれぞれは、独立して、０．００１μｍ～１０μｍの厚さを有し；前記第１のレジスト層および前記第２のレジスト層のそれぞれは、独立して、０．１μｍ～５０μｍの厚さを有する、請求項１に記載の透明な導電性基板。
【請求項7】
前記第１のレジスト層と接触している第１のポリマーフィルムと、前記第２のレジスト層と接触している第２のポリマーフィルムとを更に含み、前記第１のポリマーフィルムおよび前記第２のポリマーフィルムが、それぞれ独立的に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、またはポリプロピレンで構成され；それぞれ独立的に、１μｍ～１００μｍの厚さを有する、請求項１に記載の透明な導電性基板。
【請求項8】
請求項１に記載の透明な導電性基板を製造するための方法であって、
（ｉ）透明なコアを提供する工程と；
（ｉｉ）第１の透明な導電性層を前記透明なコアの一方の表面上に形成する工程と；
（ｉｉｉ）第２の透明な導電性層を前記透明なコアの反対面上に形成する工程と；
（ｉｖ）請求項２に記載のＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）を前記第１の透明な導電性層上に塗布して第１のレジスト層を形成する工程と；
（ｖ）請求項３に記載の可視光感受性組成物（Ｃ２）を前記第２の透明な導電性層上に塗布して第２のレジスト層を形成する工程と
を含む方法。
（ｉ）透明なコアを提供する工程と；
（ｉｉ）第１の透明な導電性層を前記透明なコアの一方の表面上に形成する工程と；
（ｉｉｉ）第２の透明な導電性層を前記透明なコアの反対面上に形成する工程と；
（ｉｖ）請求項２に記載のＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）を前記第１の透明な導電性層上に塗布して第１のレジスト層を形成する工程と；
（ｖ）請求項３に記載の可視光感受性組成物（Ｃ２）を前記第２の透明な導電性層上に塗布して第２のレジスト層を形成する工程と
を含む方法。
【請求項9】
工程（ｉｉ）または工程（ｉｉｉ）は、独立的に、スピンコーティング、浸漬、および化学蒸着（ＣＶＤ）によって行われる、請求項８に記載の方法。
【請求項10】
ＵＶ線感受性ドライフィルム（ＤＦ１）と可視光感受性ドライフィルム（ＤＦ２）とを含む、請求項１に記載の透明な導電性基板を製造するためのドライフィルムのセットであって；
前記ＵＶ線感受性ドライフィルム（ＤＦ１）が、支持フィルムと、請求項２に記載のＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）で構成されるレジスト層と、任意選択的に保護フィルムとを含み；
前記可視光感受性ドライフィルム（ＤＦ２）が、支持フィルムと、請求項３に記載の可視光感受性組成物（Ｃ２）で構成されるレジスト層と、任意選択的に保護フィルムとを含み；
前記ＵＶ線感受性ドライフィルム（ＤＦ１）の前記支持フィルムおよび前記可視光感受性ドライフィルム（ＤＦ２）の前記支持フィルムのそれぞれが、独立して、１μｍ～１００μｍの厚さを有し；
前記ＵＶ線感受性ドライフィルム（ＤＦ１）の前記保護フィルムおよび前記可視光感受性ドライフィルム（ＤＦ２）の前記保護フィルムのそれぞれが、独立して、１μｍ～１００μｍの厚さを有する
ドライフィルムのセット。
前記ＵＶ線感受性ドライフィルム（ＤＦ１）が、支持フィルムと、請求項２に記載のＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）で構成されるレジスト層と、任意選択的に保護フィルムとを含み；
前記可視光感受性ドライフィルム（ＤＦ２）が、支持フィルムと、請求項３に記載の可視光感受性組成物（Ｃ２）で構成されるレジスト層と、任意選択的に保護フィルムとを含み；
前記ＵＶ線感受性ドライフィルム（ＤＦ１）の前記支持フィルムおよび前記可視光感受性ドライフィルム（ＤＦ２）の前記支持フィルムのそれぞれが、独立して、１μｍ～１００μｍの厚さを有し；
前記ＵＶ線感受性ドライフィルム（ＤＦ１）の前記保護フィルムおよび前記可視光感受性ドライフィルム（ＤＦ２）の前記保護フィルムのそれぞれが、独立して、１μｍ～１００μｍの厚さを有する
ドライフィルムのセット。
【請求項11】
請求項７に記載の透明な導電性基板を製造するための方法であって、
（Ｉ）透明なコアおよび請求項１０に記載のドライフィルムのセットを提供する工程と；
（ＩＩ）第１の透明な導電性層を、前記透明なコアの一方の表面上に形成する工程と；
（ＩＩＩ）第２の透明な導電性層を、前記透明なコアの反対面上に形成する工程と；
（ＩＶ）任意選択的に、存在する場合、前記第１の保護フィルムおよび前記第２の保護フィルムを、前記ドライフィルムのセットから除去する工程と；
（Ｖ）同時に前記ＵＶ線感受性ドライフィルムを前記第１の透明な導電性層上に積層し、および前記可視光感受性ドライフィルムを前記第２の透明な導電性層上に積層する工程と
を含む方法。
（Ｉ）透明なコアおよび請求項１０に記載のドライフィルムのセットを提供する工程と；
（ＩＩ）第１の透明な導電性層を、前記透明なコアの一方の表面上に形成する工程と；
（ＩＩＩ）第２の透明な導電性層を、前記透明なコアの反対面上に形成する工程と；
（ＩＶ）任意選択的に、存在する場合、前記第１の保護フィルムおよび前記第２の保護フィルムを、前記ドライフィルムのセットから除去する工程と；
（Ｖ）同時に前記ＵＶ線感受性ドライフィルムを前記第１の透明な導電性層上に積層し、および前記可視光感受性ドライフィルムを前記第２の透明な導電性層上に積層する工程と
を含む方法。
【請求項12】
工程（ＩＩ）または工程（ＩＩＩ）は、独立的に、スピンコーティング、浸漬および化学蒸着（ＣＶＤ）によって行われる、請求項１１に記載の方法。
【請求項13】
透明な導電性ラミネートを製造するための両面フォトリソグラフィー法であって、
（Ａ）請求項１または請求項７に記載の透明な導電性基板を提供する工程と；
（Ｂ）前記第１のレジスト層を第１の光源によって、および前記第２のレジスト層を第２の光源によって同時に露光する工程と；
（Ｃ）第１のレジストパターンおよび第２のレジストパターンを、前記それぞれのレジスト層の非露光部を除去することによって同時に現像する工程と；
（Ｄ）前記それぞれのレジストパターンによって保護されていない前記第１の透明な導電性層および前記第２の透明な導電性層の部分を同時にエッチングする工程と；
（Ｅ）前記第１のレジストパターンおよび前記第２のレジストパターンを同時に剥離して透明な導電性ラミネートを得る工程と
を含み；
前記透明な導電性ラミネートは、第１の導電回路および第２の導電回路を、透明なコアのそれぞれの面に含み、前記第１の導電回路および前記第２の導電回路の設計パターンは、互いに異なり；
前記第１の光源および前記第２の光源は、前記透明な導電性基板の反対側に配置され；
前記第１の光源は、４００ｎｍ未満の波長の光線を、前記第１のレジスト層のための標的露光エネルギーで照射し、その結果前記第２のレジスト層は、前記第１の光源によって実質的にパターン化されず；
前記第２の光源は、４００ｎｍ～７００ｎｍの波長の光線を、前記第２のレジスト層をパターン化するための標的露光エネルギーで照射し、その結果前記第１のレジスト層は、前記第２の光源により照射される光線によって実質的にパターン化されない
両面フォトリソグラフィー法。
（Ａ）請求項１または請求項７に記載の透明な導電性基板を提供する工程と；
（Ｂ）前記第１のレジスト層を第１の光源によって、および前記第２のレジスト層を第２の光源によって同時に露光する工程と；
（Ｃ）第１のレジストパターンおよび第２のレジストパターンを、前記それぞれのレジスト層の非露光部を除去することによって同時に現像する工程と；
（Ｄ）前記それぞれのレジストパターンによって保護されていない前記第１の透明な導電性層および前記第２の透明な導電性層の部分を同時にエッチングする工程と；
（Ｅ）前記第１のレジストパターンおよび前記第２のレジストパターンを同時に剥離して透明な導電性ラミネートを得る工程と
を含み；
前記透明な導電性ラミネートは、第１の導電回路および第２の導電回路を、透明なコアのそれぞれの面に含み、前記第１の導電回路および前記第２の導電回路の設計パターンは、互いに異なり；
前記第１の光源および前記第２の光源は、前記透明な導電性基板の反対側に配置され；
前記第１の光源は、４００ｎｍ未満の波長の光線を、前記第１のレジスト層のための標的露光エネルギーで照射し、その結果前記第２のレジスト層は、前記第１の光源によって実質的にパターン化されず；
前記第２の光源は、４００ｎｍ～７００ｎｍの波長の光線を、前記第２のレジスト層をパターン化するための標的露光エネルギーで照射し、その結果前記第１のレジスト層は、前記第２の光源により照射される光線によって実質的にパターン化されない
両面フォトリソグラフィー法。
【請求項14】
前記第１の光源は、３６５ｎｍの波長の光線を照射し、前記第２の光源は、４０５ｎｍまたは４３８ｎｍの波長の光線を照射する、請求項１３に記載の両面フォトリソグラフィー法。
【請求項15】
請求項１３に記載の両面フォトリソグラフィー法によって製造される、透明な導電性ラミネート。
【請求項16】
請求項１５に記載の透明な導電性ラミネートを含むタッチパネルであって、入力装置として電子ディスプレイ上に取り付けられる、タッチパネル。
【請求項17】
請求項１６に記載のタッチパネルを含む物品であって、娯楽機器、携帯機器、または電子デバイスである物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、透明な導電性基板および透明導電性基板の両面上に導電性パターンを同時に形成するための両面法に関する。
【背景技術】
【0002】
感光性組成物は、プリント回路の製造において、フォトリソグラフィープリント板の形成において、および防水加工用途において使用されることがよく知られている。様々な用途に関係なく、感光性組成物の主な機能は、レジストパターンを形成することである。ネガ型感光性組成物からレジストパターンを形成する一般的なプロセスの一つは、典型的には、ｉ）感光性組成物を基板上へ塗布する工程と、ｉｉ）活性光線に像様露光する工程と、ｉｉｉ）現像してレジストパターンを形成する工程とを含む。導電性パターンを形成するためのエッチングまたはめっき処理後に、硬化したレジストパターンは、一般に、処理された基板から剥離される。生産効率を向上させるために、２つのユニークなレジストパターンが、両面フォトリソグラフィー法によって不透明な基板の各面上に同時に形成され得る。両面フォトリソグラフィー法は、順次または同時に基板の各面上にレジスト層を形成する工程と、引き続き像様露光する工程、現像する工程、エッチングまたは剥離する工程と、同時に剥離する工程とを含む。
【0003】
最近、タッチパネル（すなわち、タッチセンサー付きのディスプレーデバイス）は、携帯電話、携帯情報端末（ＰＤＡ）、ナビゲーション機器等などの様々な電子デバイスに広く適用されている。公知のタッチセンサーは、抵抗型または静電容量型に類別され得る。特に、静電容量方式タッチセンサーは、マルチタッチを受信することができ、携帯デバイスなどの使用のために広く用いられている。静電容量方式タッチセンサーの基本的な技術は、個別にエッチングされた導電性材料の層によって生み出される静電界にオフオン作動して（ｗｏｒｋｓ ｏｆｆ ｏｎ）ｘ－ｙ導電グリッドを形成する。
【0004】
タッチパネル用途向けに、タッチセンサーは、透明なコアの両面上に異なるパターンの回路の精密アラインメントを必要とし、回路パターンは、フォトリソグラフィー法によって順次形成され得る。しかしながら、基板並びに酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などのある種の透明な導体材料の光学的に透明な特質を考えると、両面フォトリソグラフィー法は適用できない。なぜならば、透明なコアおよび／または透明な導電性層の一面上のレジストを露光するために使用される活性光線はまた、透明なコアの反対側上のフォトレジストを不可避的に露光するであろうからである。結果として、同じパターンが透明なコアの両面上に不可避的に形成されるであろう。しかしながら、タッチパネル用途向けに、それは、透明なコアの両面上に異なる回路パターン（すなわち、ｘ－ｙ導電グリッド）を有することを要求する。
【0005】
（特許文献１）においてＨ．Ｋｏｂａｙａｓｈｉは、紫外線吸収剤を含有する透明なコアを用いることまたは紫外線を吸収する接着剤層を２つの透明なコア間に塗布することによって透明な導電性ラミネートを製造するための方法を開示している。この方法の欠点には、それから製造された透明な導電性ラミネートの透明性および厚さ、並びに機械的強度、耐化学薬品性、および導電性の変化が含まれる。
【0006】
Ｒ．Ｐｅｔｃａｖｉｃｈらはまた、透明なコアの両面上に回路を形成するための方法を（特許文献２）に開示している。タッチセンサーを製造するための方法は、ＵＶ吸収層を透明なコアの一つの面に塗布する工程と；次いで第１のフォトレジスト層を一つの面上のＵＶ吸収層上に、および第２のフォトレジスト層を直接に透明なコアの反対側上に塗布する工程と；ＵＶ放射線を使用して両方のフォトレジスト層をフォトパターン化する工程と；導電回路を透明なコアの２つの面上に形成する工程とを含む。この方法の一つの明らかな不利点は、ＵＶ吸収層（すなわち、１０～１５ミクロン）を加えることによって、それから製造されたタッチセンサーが増加した全厚さを有するであろう。言うまでもなく、これらのタッチセンサーは、可視性の低下という問題を有し得る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】米国特許出願公開第２０１１０１５１２１５ Ａ１号明細書
【特許文献2】米国特許出願公開第２０２１０３１８７６９ Ａ１号明細書
【特許文献3】米国特許第５，６６２，７０７号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
本発明は、光感受性に関する優れた同調性を有する、且つ同時に異なる光線へ露光することによって光硬化させ得る感光性組成物、およびそれから製造されたドライフィルムを提供することによって上述の問題に対処する。その結果として、両面フォトリソグラフィー法は、余分な層または光ブロッキング／吸収物質を結果として生じるラミネートに導入することなく透明な導電性ラミネートを製造するために適用できるようになる。更に、導電性基板の透明性、機械的強度、耐化学薬品性、および導電性は、変化なしに保たれる。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明の第１の態様は、順次、第１のレジスト層と、第１の透明な導電性層と、透明なコアと、第２の透明な導電性層と、第２のレジスト層とを含む、透明な導電性ラミネートを製造するための透明な導電性基板
であって、
透明なコアが、６０％以上である４００ｎｍ～８００ｎｍの範囲での全透過率（Ｔ４００～８００）を有し；
第１のレジスト層が、ＵＶ線感受性組成物で構成され；
第２のレジスト層が、可視光感受性組成物で構成され；
ＵＶ線感受性組成物が、４００ｎｍ未満の波長の光線に露光することによって光重合を受け；
可視光感受性組成物が、４００ｎｍ～８００ｎｍの波長領域の光線に露光することによって光重合を受ける
基板である。
であって、
透明なコアが、６０％以上である４００ｎｍ～８００ｎｍの範囲での全透過率（Ｔ４００～８００）を有し；
第１のレジスト層が、ＵＶ線感受性組成物で構成され；
第２のレジスト層が、可視光感受性組成物で構成され；
ＵＶ線感受性組成物が、４００ｎｍ未満の波長の光線に露光することによって光重合を受け；
可視光感受性組成物が、４００ｎｍ～８００ｎｍの波長領域の光線に露光することによって光重合を受ける
基板である。
【0010】
本発明の第２の態様は、透明な導電性基板を製造するための方法であって、
（ｉ）透明なコアを提供する工程と；
（ｉｉ）第１の透明な導電性層を透明なコアの一つの表面上に形成する工程と；
（ｉｉｉ）第２の透明な導電性層を透明なコアの反対面上に形成する工程と；
（ｉｖ）ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）を第１の透明な導電性層上に塗布して第１のレジスト層を形成する工程と；
（ｖ）可視光感受性組成物（Ｃ２）を第２の透明な導電性層上に塗布して第２のレジスト層を形成する工程と
を含む方法である。
（ｉ）透明なコアを提供する工程と；
（ｉｉ）第１の透明な導電性層を透明なコアの一つの表面上に形成する工程と；
（ｉｉｉ）第２の透明な導電性層を透明なコアの反対面上に形成する工程と；
（ｉｖ）ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）を第１の透明な導電性層上に塗布して第１のレジスト層を形成する工程と；
（ｖ）可視光感受性組成物（Ｃ２）を第２の透明な導電性層上に塗布して第２のレジスト層を形成する工程と
を含む方法である。
【0011】
本発明の第３の態様は、透明な導電性ラミネートを製造するための両面フォトリソグラフィー法であって、
（Ａ）本発明の透明な導電性基板を提供する工程と；
（Ｂ）第１のレジスト層を第１の光源によって、および第２のレジスト層を第２の光源によって同時に露光する工程と；
（Ｃ）第１のレジストパターンおよび第２のレジストパターンを、それぞれのレジスト層の非露光部を除去することによって同時に現像する工程と；
（Ｄ）同時にそれぞれのレジストパターンによって保護されていない第１の透明な導電性層および第２の透明な導電性層の部分をエッチングする工程と；
（Ｅ）同時に第１のレジストパターンおよび第２のレジストパターンを剥離して透明な導電性ラミネートを得る工程と
を含み；
ここで、
透明な導電性ラミネートは、第１の導電回路および第２の導電回路を、透明なコアの各面上に含み、第１の導電回路および第２の導電回路の設計パターンは、互いに異なり；
第１の光源および第２の光源は、透明な導電性基板の反対側上に配置され；
第１の光源は、４００ｎｍ未満の波長のおよび第１のレジスト層をパターン化するための標的露光エネルギーでの光線を照射し、その結果第２のレジスト層は、第１の光源によってパターン化されることを実質的に含まず；
第２の光源は、４００ｎｍ～８００ｎｍの波長のおよび第２のレジスト層のための標的露光エネルギーでの光線を照射し、その結果第１のレジスト層は、第２の光源により照射される光線によってパターン化されることを実質的に含まない方法である。
（Ａ）本発明の透明な導電性基板を提供する工程と；
（Ｂ）第１のレジスト層を第１の光源によって、および第２のレジスト層を第２の光源によって同時に露光する工程と；
（Ｃ）第１のレジストパターンおよび第２のレジストパターンを、それぞれのレジスト層の非露光部を除去することによって同時に現像する工程と；
（Ｄ）同時にそれぞれのレジストパターンによって保護されていない第１の透明な導電性層および第２の透明な導電性層の部分をエッチングする工程と；
（Ｅ）同時に第１のレジストパターンおよび第２のレジストパターンを剥離して透明な導電性ラミネートを得る工程と
を含み；
ここで、
透明な導電性ラミネートは、第１の導電回路および第２の導電回路を、透明なコアの各面上に含み、第１の導電回路および第２の導電回路の設計パターンは、互いに異なり；
第１の光源および第２の光源は、透明な導電性基板の反対側上に配置され；
第１の光源は、４００ｎｍ未満の波長のおよび第１のレジスト層をパターン化するための標的露光エネルギーでの光線を照射し、その結果第２のレジスト層は、第１の光源によってパターン化されることを実質的に含まず；
第２の光源は、４００ｎｍ～８００ｎｍの波長のおよび第２のレジスト層のための標的露光エネルギーでの光線を照射し、その結果第１のレジスト層は、第２の光源により照射される光線によってパターン化されることを実質的に含まない方法である。
【0012】
本開示の実施形態は、例としておよび類似の参照記号が類似の要素を示す添付図面の数字の制限なしに例示される。
【図面の簡単な説明】
【0013】
【図1】本発明のいくつかの実施形態による透明な導電性基板を例示する側面図である。
【図2】本発明のいくつかの実施形態による透明な導電性基板を例示する側面図である。
【図3】本発明の実施形態による透明な導電性ラミネートを製造するための両面フォトリソグラフィー法のある例の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【0014】
本明細書で言及される全ての刊行物、特許出願、特許および他の参考文献は、特に明記しない場合、あたかも完全に明記されているかのように、あらゆる目的のためにそれらの全体を本明細書に参照により明確に援用される。
【0015】
特に定義しない限り、本明細書で用いられる全ての技術用語および科学用語は、本発明が属する技術分野の当業者によって一般的に理解されるものと同じ意味を有する。不一致の場合、定義を含めて、本明細書が優先されるであろう。
【0016】
特に明記しない限り、全ての百分率、部、比等は、重量による。
【0017】
本明細書で用いる場合、用語「から生成される」は、「含む」と同義語である。本明細書で用いる場合、用語「含む」、「含んでいる」、「包含する」、「包含している」、「有する」、「有している」、「含有する」若しくは「含有している」、またはそれらの任意の他の変形は、非排他的包含を網羅することを意図する。例えば、要素のリストを含む組成物、プロセス、方法、物品、若しくは装置は、それらの要素のみに必ずしも限定されず、明確に列挙されていないか、またはそのような組成物、プロセス、方法、物品、若しくは装置に固有の他の要素を包含し得る。
【0018】
移行句「からなる」は、明記されていないいかなる要素、工程、または原料も排除する。請求項における場合、そのような語句は、それらと通常関係がある不純物を除いて、列挙されるもの以外の材料の包含を請求項から排除するであろう。語句「からなる」が、前文の直後よりもむしろ、請求項の本体の条項に現れる場合、それは、その条項に明記される要素のみを限定し；他の要素は、全体として請求項から排除されない。
【0019】
移行句「から本質的になる」は、文字通りに考察されるものに加えて、材料、工程、特徴、構成要素、または要素を含む組成物、方法または装置を定義するために用いられ、但し、これらの追加の材料、工程、特徴、構成要素、または要素は、本特許請求される発明の基本的および新規な特徴に実質的に影響を及ぼさないことを条件とする。用語「から本質的になる」は、「含む」と「からなる」との間の中間領域を占める。
【0020】
用語「含む」は、用語「から本質的になる」および「からなる」によって包含される実施形態を含むことを意図する。同様に、用語「から本質的になる」は、用語「からなる」によって包含される実施形態を含むことを意図する。
【0021】
量、濃度、または他の値若しくはパラメータが、範囲、好ましい範囲または上方の好ましい値および下方の好ましい値のリストのいずれかとして与えられる場合、これは、範囲が別々に開示されているかどうかにかかわらず、任意の上方の範囲限界または好ましい値と、任意の下方の範囲限界または好ましい値との任意の対から形成される全ての範囲を具体的に開示しているとして理解されるべきである。例えば、「１～５」の範囲が列挙される場合、列挙れた範囲は、範囲「１～４」、「１～３」、「１～２」、「１～２および４～５」、「１～３および５」等を含むとして解釈されるべきである。数値の範囲が本明細書に列挙される場合、特に明記しない限り、その範囲は、それの終点、並びにその範囲内の全ての整数および分数を含むことを意図する。
【0022】
本明細書で用いる場合、用語「１つの（ａ）」および「１つの（ａｎ）」は、「少なくとも１つ」および「１つまたは２つ以上」の概念を含む。特に明記しない限り、全ての百分率、部、比等は、重量による。
【0023】
用語「約」が値または範囲の端点を記載するのに用いられる場合、本開示は、言及される特定の値または端点を含むと理解されるべきである。
【0024】
更に、それとは反対を明確に述べない限り、「または」は、包括的な「または」を指し、排他的な「または」を指さない。例えば、条件Ａ「または」Ｂは、以下：Ａが真であり（または存在し）、且つＢが偽である（または存在しない）、Ａが偽であり（または存在せず）、且つＢが真である（または存在する）、並びにＡおよびＢが両方とも真である（または存在する）のいずれか１つによって満たされる。
【0025】
用語「実質的に含まない」は、パターン化されつつあるレジストの５％未満、または３％未満、または１％未満を指す。
【0026】
用語「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸またはメタクリル酸を意味し、用語「（メタ）アクリレート」は、アクリレートまたはそれに対応するメタクリレートを意味する。同様に、用語「（メタ）アクリロイルオキシ基」は、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基を意味する。用語「（ポリ）エチレンオキシ」は、２つ以上のエチレン基がエーテル結合を介して結合しているエチレンオキシ基またはポリエチレンオキシ基の少なくとも１つを意味する。エチレンオキシ基は、（－ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－）によって表される基であり、「オキシエチレン基」または「エチレンオキシド」とも言われる。本明細書で用いられるような用語「（ポリ）プロピレンオキシ基」は、２つ以上のプロピレン基がエーテル結合を介して結合しているプロピレンオキシ基またはポリプロピレンオキシ基の少なくとも１つを意味する。プロピレンオキシ基は、（－ＣＨＣＨ３ＣＨ２－Ｏ－）によって表される基、（－ＣＨ２ＣＨＣＨ３－Ｏ－）によって表される基、または（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－）によって表される基であり、「オキシプロピレン基」または「プロピレンオキシド」とも言われる。用語「ＥＯ修飾」化合物は、（ポリ）エチレンオキシ基を有する化合物を意味し；「ＰＯ修飾」化合物は、（ポリ）プロピレンオキシ基を有する化合物を意味し；「ＥＯ、ＰＯ修飾」化合物は、（ポリ）エチレンオキシ基および（ポリ）プロピレンオキシ基の両方を有する化合物を意味する。
【0027】
用語「シート」、「層」および「フィルム」は、それらの広い意味で交換可能に用いられる。
【0028】
本発明の実施形態は、本明細書に記載される任意の実施形態を含み、任意の様式で組み合わせられ得、実施形態における変数の記載は、本発明の感光性組成物にのみならず、それから作製された感光性ドライフィルムにも関する。
【0029】
本発明は、本明細書で以下に詳細に説明される。
【0030】
（透明な導電性基板）
図１は、本発明のいくつかの実施形態による透明な導電性基板の側面図である。透明な導電性基板１００は、順次、第１のレジスト層３１と、第１の透明な導電性層２１と、透明なコア１０と、第２の透明な導電性層２２と、第２のレジスト層３２とを含む。
図１は、本発明のいくつかの実施形態による透明な導電性基板の側面図である。透明な導電性基板１００は、順次、第１のレジスト層３１と、第１の透明な導電性層２１と、透明なコア１０と、第２の透明な導電性層２２と、第２のレジスト層３２とを含む。
【0031】
透明な導電性基板に関して、「透明な」は、基板を通して可視光の実質的な部分を伝達できることを指し得る。いくつかの用途において、「透明な」は、６０％以上、または７０％以上である４００ｎｍ～８００ｎｍの範囲における全透過率（Ｔ４００～８００）を有する基板を指し得る。しかしながら、タッチセンサー用途に関しては７５％以上などの他の透過率値が望ましいかもしれない。
【0032】
多種多様の透明なコアが、本発明の透明な導電性基板に使用され得る。例えば、透明なコアは、ガラス、フレキシブルガラス、若しくは石英のシート；またはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、酢酸セルロース、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、環状ポリオレフィン、ポリ（メタ）アクリレートエステル、ポリアクリレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリ（エーテルスルホン）、ポリスルホン、若しくはそれらの組合せで構成されるポリマーフィルムであり得る。
【0033】
透明なコア１０は、一般に、１μｍ～２００μｍ、または５μｍ～１００μｍ、または１０μｍ～５０μｍの厚さを有する。
【0034】
第１の透明な導電性層２１および第２の透明な導電性層２２は、それぞれ独立して、１０オームから１５０オームの範囲の抵抗値を一般に有する導電性材料を含有する。
【0035】
導電性材料は、特に限定されないが、それの例には、酸化亜鉛、酸化バリウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化インジウムガリウム亜鉛（ＩＧＺＯ）、酸化ジルコニウム、酸化イッテルビウム、酸化イットリウム、酸化タンタル、酸化アルミニウム、酸化セリウム、および酸化チタンなどの金属酸化物の微粒子が含まれる。それらの中で、ＩＴＯ、ＩＺＯ、およびＩＧＺＯが、高い透明性および導電性の両方を達成するという観点から特に好ましい。典型的には、金属酸化物の微粒子は、好ましくは、１０μｍ以下、または１．０μｍ以下、または５０ｎｍ～１５０ｎｍの粒径を有する。
【0036】
他の適切な導電性材料には、カーボンナノチューブ、およびワイヤー様の導電性金属である、金属ナノワイヤーが含まれる。金属ナノワイヤーのための金属の具体的な例には、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、カドミウム、オスミウム、イリジウム、白金、および金が含まれる。銅、銀、白金、および金のナノワイヤーが、導電性を考慮して好ましい。金属ナノワイヤーのそれぞれは、５００ｎｍ未満、または２００ｎｍ未満、または１００ｎｍ未満の少なくとも１つの断面寸法を有する。金属ナノワイヤーのそれぞれは、１０超、または５０超、または１００超のアスペクト比を有する。各金属ナノワイヤーの形状およびサイズは、走査電子顕微鏡または透過型電子顕微鏡を使って測定され得る。
【0037】
本発明の一実施形態では、第１の透明な導電性層および第２の透明な導電性層のそれぞれは、独立して、酸化インジウムスズ、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムガリウム亜鉛；カーボンナノチューブ；および銅、銀、白金、または金のナノワイヤーで構成されるものから選択される導電性材料を含有する。
【0038】
第１の透明な導電性層２１および第２の透明な導電性層２２を構成する導電性材料は、同じものであってもまたは異なってもよい。透明な導電性層２１および２２を構成する導電性材料が同じものである場合、透明な導電性層２１および２２は、同時に透明なコア１０の両面上に形成され得る。本発明の第１の導電性層２１および第２の透明な導電性層２２は、導電性材料を含有する分散系を、スピンコーティング、浸漬、または化学蒸着（ＣＶＤ）によって透明なコア１０の一つのまたは両方の表面上に適用することによって形成され得る。
【0039】
各透明な導電性層２１または２２は、０．００１μｍ～１０μｍ、または０．０１μｍ～７μｍ、または０．１μｍ～５μｍの厚さを有する。
【0040】
（レジスト層）
第１のレジスト層３１は、ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）で構成され、Ｃ１は、４００ｎｍ未満の波長を有する光線に露光することによってパターン化される。第２のレジスト層３２は、可視光感受性組成物（Ｃ２）で構成され、Ｃ２は、４００ｎｍ～８００ｎｍの波長領域の光線に露光することによってパターン化される。
第１のレジスト層３１は、ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）で構成され、Ｃ１は、４００ｎｍ未満の波長を有する光線に露光することによってパターン化される。第２のレジスト層３２は、可視光感受性組成物（Ｃ２）で構成され、Ｃ２は、４００ｎｍ～８００ｎｍの波長領域の光線に露光することによってパターン化される。
【0041】
ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）は、
（ａ）３０～７０重量％のアルカリ可溶性ポリマーと；
（ｂ）１０～７０重量％の、エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物と；
（ｃ）０．１～２０重量％の光開始剤と；
（ｄ１）０～２０重量％の、ＵＶ線領域に最大吸収を有するＵＶ吸収増感剤と；
（ｅ）０～２０重量％の他の添加剤と；
（ｆ）０～２０重量％の、入射可視光エネルギーを吸収することによる可視光ブロッキング物質と
を含む。
（ａ）３０～７０重量％のアルカリ可溶性ポリマーと；
（ｂ）１０～７０重量％の、エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物と；
（ｃ）０．１～２０重量％の光開始剤と；
（ｄ１）０～２０重量％の、ＵＶ線領域に最大吸収を有するＵＶ吸収増感剤と；
（ｅ）０～２０重量％の他の添加剤と；
（ｆ）０～２０重量％の、入射可視光エネルギーを吸収することによる可視光ブロッキング物質と
を含む。
【0042】
可視光感受性組成物（Ｃ２）は、
（ａ）３０～７０重量％のアルカリ可溶性ポリマーと；
（ｂ）１０～７０重量％の、エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物と；
（ｃ）０．１～２０重量％の光開始剤と；
（ｄ２）０．０１～２０重量％の、可視光領域に最大吸収を有する可視光吸収増感剤と；
（ｅ）０～２０重量％の他の添加剤と；
（ｇ）０．０１～２０重量％の、入射ＵＶ線エネルギーを吸収することによるＵＶ線ブロッキング物質と
を含む。
（ａ）３０～７０重量％のアルカリ可溶性ポリマーと；
（ｂ）１０～７０重量％の、エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物と；
（ｃ）０．１～２０重量％の光開始剤と；
（ｄ２）０．０１～２０重量％の、可視光領域に最大吸収を有する可視光吸収増感剤と；
（ｅ）０～２０重量％の他の添加剤と；
（ｇ）０．０１～２０重量％の、入射ＵＶ線エネルギーを吸収することによるＵＶ線ブロッキング物質と
を含む。
【0043】
本明細書では以下、本開示のＵＶ線感受性組成物および／または可視光感受性組成物中に含まれる各成分が説明される。
【0044】
（アルカリ可溶性コポリマー（ａ））
成分（ａ）として、アルカリ可溶性ポリマーは、一般に、酸性基（例えば、カルボン酸基、スルホン酸基、またはリン酸基）を有するポリマーである。好ましくは、アルカリ可溶性ポリマーは、カルボン酸基を含有する重合性前駆体から誘導される。カルボン酸基を含有する重合性前駆体の例には、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、α－シアノ桂皮酸、プロピオル酸；無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸等が含まれる。費用および溶解性を考慮して、（メタ）アクリル酸が好ましい。
成分（ａ）として、アルカリ可溶性ポリマーは、一般に、酸性基（例えば、カルボン酸基、スルホン酸基、またはリン酸基）を有するポリマーである。好ましくは、アルカリ可溶性ポリマーは、カルボン酸基を含有する重合性前駆体から誘導される。カルボン酸基を含有する重合性前駆体の例には、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、α－シアノ桂皮酸、プロピオル酸；無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸等が含まれる。費用および溶解性を考慮して、（メタ）アクリル酸が好ましい。
【0045】
アルカリ可溶性ポリマー（ａ）はまた、カルボン酸基を持たない重合性前駆体から誘導される構造単位を含み得る。
【0046】
カルボン酸基を持たない重合性前駆体の例には、（メタ）アクリル酸エステル、クロトン酸エステル、ビニルエステル、マレイン酸ジエステル、フマル酸ジエステル、シトラコン酸ジエステル、（メタ）アクリルアミド、ビニルエーテル、ビニルアルコールのエステル、スチレン、置換スチレン、（メタ）アクリロニトリル、ビニル置換複素環化合物、Ｎ－ビニルアミド、ビニル基を有するスルホン酸、ビニル基を有するリン酸エステル、ビニル基を有するウレタン、ビニル基を有する尿素、ビニル基を有するスルホンアミド、ビニル基を有するフェノール、およびビニル基を有するイミドが含まれる。
【0047】
（メタ）アクリレートエステルの例には、アルキル（メタ）アクリレート、シクロアルキル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等が含まれる。アルキル（メタ）アクリレートは、好ましくは、１～５個の炭素原子を有するアルキル基のエステルである。アルキル（メタ）アクリレートの例には、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、およびそれらの混合物が含まれる。
【0048】
他の（メタ）アクリレートエステルの例には、フルフリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イオボルニルオキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルオキシエチル（メタ）アクリレート、アダマンチルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシプロピルオキシエチル（メタ）アクリレート等が含まれる。
【0049】
一実施形態では、アルカリ可溶性ポリマー（ａ）は、アルカリ可溶性ポリマー（ａ）を構成するための重合性前駆体の総重量を基準として、１５～５０重量％のスチレンまたは置換スチレン；１５～３５重量％の（メタ）アクリル酸；および１０～７０重量％の１種以上の（メタ）アクリレートエステルで構成される混合物から誘導される。
【0050】
別の実施形態では、アルカリ可溶性ポリマー（ａ）は、アルカリ可溶性ポリマー（ａ）を構成するための重合性前駆体の総重量を基準として、１５～４５重量％のスチレンまたは置換スチレン、２０～３０重量％の（メタ）アクリル酸、および１５～６５重量％の１種以上の（メタ）アクリレートエステルで構成される混合物から誘導される。
【0051】
その上別の実施形態では、アルカリ可溶性ポリマー（ａ）は、アルカリ可溶性ポリマー（ａ）を構成するための重合性前駆体の総重量を基準として、１０～４５重量％のスチレンまたは置換スチレン、２０～３０重量％の（メタ）アクリル酸、１０～６０重量％のベンジル（メタ）アクリレートおよび１０～５０重量％のアルキル（メタ）アクリレートエステルで構成される混合物から誘導される。
【0052】
アルカリ可溶性ポリマー（ａ）は、例えば、通常の方法を用いて、スチレンまたはα－メチルスチレン、（メタ）アクリル酸、１種以上の（メタ）アクリレートエステル、および任意選択の他の重合性前駆体で構成される混合物のラジカル重合によって得られ得る。
【0053】
ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定されるポリマーバインダーの重量平均分子量（Ｍｗ）（ポリスチレン標準を使用して作成された検量線に基づいて計算される）は、好ましくは２５，０００～１００，０００、より好ましくは３０，０００～８０，０００、最も好ましくは４０，０００～６０，０００である。
【0054】
アルカリ可溶性ポリマー（ａ）の分散度（重量平均分子量／数平均分子量、Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは３．０以下、より好ましくは２．８以下、更により好ましくは２．５以下である。
【0055】
アルカリ可溶性ポリマー（ａ）の酸価は、好ましくは９０ｍｇＫＯＨ／ｇ～２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは１００ｍｇＫＯＨ／ｇ～２４０ｍｇＫＯＨ／ｇ、更により好ましくは１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ～２３５ｍｇＫＯＨ／ｇである。
【0056】
ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）または可視光感受性組成物（Ｃ２）中のアルカリ可溶性ポリマー（ａ）の量は、それぞれの組成物の総重量を基準として、典型的には３０～７０重量％、好ましくは３５～６５重量％、より好ましくは４０～６０重量％である。
【0057】
（重合性化合物（ｂ））
ＵＶ線感受性組成物または可視光感受性組成物は、それぞれ、フリーラジカル開始重合および／または架橋を受けることができる成分（ｂ）として重合性化合物を含む。そのような化合物は、当技術分野でよく知られており、本明細書では以下「モノマー」と言われ得る。モノマーは、少なくとも１つのエチレン性不飽和結合を有し、それが光重合性化合物である限り特に限定されない。どの適切なモノマーも、唯一のモノマーとしてまたは他のものと組み合わせて使用され得る。
ＵＶ線感受性組成物または可視光感受性組成物は、それぞれ、フリーラジカル開始重合および／または架橋を受けることができる成分（ｂ）として重合性化合物を含む。そのような化合物は、当技術分野でよく知られており、本明細書では以下「モノマー」と言われ得る。モノマーは、少なくとも１つのエチレン性不飽和結合を有し、それが光重合性化合物である限り特に限定されない。どの適切なモノマーも、唯一のモノマーとしてまたは他のものと組み合わせて使用され得る。
【0058】
重合性化合物（ｂ）は、ブチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２－エトキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－プロピルヘプチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、アルコキシル化フェノール（メタ）アクリレート、アルコキシル化ノニルフェノール（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、環状トリメチロールプロパンホルマール（メタ）アクリレート、ジヒドロジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、カプロラクトン（メタ）アクリレート、２－フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ－フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、モノメトキシトリ（プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリプロポキシル化プロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、モノメトキシネオペンチルグリコールプロポキシレートモノ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、２－（２－エトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、アセトアセトキシエチル（メタ）アクリレート、シクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、９－アントラセニルメチル（メタ）アクリレート、１－ピレニルメチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、およびそれらの組合せからなる群から選択される（メタ）アクリレート化合物であり得る。
【0059】
重合性化合物（ｂ）は、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，８－オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリブタジエンジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリ（エチレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、テトラ（エチレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、ジ（プロピレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、トリ（プロピレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、テトラ（プロピレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、グリセリルエトキシレートジ（メタ）アクリレート、グリセリルプロポキシレートジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールエトキシレートジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールプロポキシレートジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエトキシレートジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡプロポキシレートジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエトキシレートプロポキシレートジ（メタ）アクリレート、およびそれらの組合せからなる群から選択されるジ（メタ）アクリレート化合物であり得る。
【0060】
重合性化合物（ｂ）は、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシレートトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロポキシレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリルトリ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリレート、グリセリルエトキシレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリルプロポキシレートトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシレートテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールプロポキシレートテトラ（メタ）アクリレート、ジ－トリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジ－トリメチロールプロパンエトキシレートテトラ（メタ）アクリレート、ジ－トリメチロール－プロパンプロポキシレートテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールエトキシレートペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、およびそれらの組合せからなる群から選択されるポリ（メタ）アクリレート化合物であり得る。
【0061】
好ましい重合性化合物には、ポリプロポキシル化プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ポリエトキシル化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、およびそれらの混合物が含まれる。
【0062】
他の好ましい重合性化合物には、ビスフェノールＡ型（メタ）アクリレートが含まれ、２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロイルオキシポリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロイルオキシポリプロポキシ）－フェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロイルオキシポリブトキシ）フェニル）プロパン、および２，２－ビス（４－（（メタ）－アクリロイルオキシポリエトキシポリプロポキシ）フェニル）プロパンが含まれる。それらの中で、２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロイルオキシポリエトキシ）フェニル）プロパンが、解像度および剥離特性を更に改善するという観点から好ましい。
【0063】
一実施形態では、成分（ｂ）は、２つ以上のメタクリロイル基を１つの分子中に有する重合性化合物を含む。
【0064】
別の実施形態では、成分（ｂ）は、ポリエトキシル化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ポリプロポキシル化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ポリエトキシル化－ポリプロポキシル化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、またはそれらの組合せを含む。
【0065】
市販のビスフェノールＡ型（メタ）アクリレートには、例えば、ＢＰＥ－２００およびＢＰＥ－５００（新中村化学工業株式会社によって製造される）、並びにＢＰＥ－９００（Ｓａｒｔｏｍｅｒによって製造される）が含まれる。
【0066】
市販の重合性化合物の例には、ポリエトキシル化ビスフェノールＡ型（メタ）アクリレート（例えば、新中村化学工業株式会社によって製造される「ＢＰＥ－２００」および「ＢＰＥ－５００」）、または日立化成株式会社によって製造される「ＦＡ－３２４Ｍ」）；ヒドロキシル基含有アルキルアクリレート（例えば、新中村化学工業株式会社によって製造される「７０１Ａ」）；トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（例えば、新中村化学工業株式会社によって製造される「Ａ－ＤＣＰ」）；ポリプロピレングリコールジアクリレート（例えば、新中村化学工業株式会社によって製造される「９ＰＧ」）；ポリエチレングリコールメタクリレート（例えば、新中村化学工業株式会社によって製造される「１４Ｇ」）；２，２－ビス（４－（メタクリオキシ－ポリエトキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン（例えば、日立化成株式会社によって製造される「ＦＡ－３２００ＭＹ」）；テトラメチロールメタントリアクリレート（例えば、新中村化学工業株式会社によって製造される「Ａ－ＴＭＭ－３」）；ポリエトキシル化トリメチロールプロパントリメタクリレート（例えば、日立化成株式会社によって製造される「ＴＭＰＴ２１Ｅ」、「ＴＭＰＴ３０Ｅ」）；ペンタエリスリトールトリアクリレート（例えば、Ｓａｒｔｏｍｅｒによって製造される「ＳＲ４４４」）；ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（例えば。新中村化学工業株式会社によって製造される「Ａ－ＤＰＨ」）；並びにポリエトキシル化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（例えば、新中村化学工業株式会社によって製造される「ＡＴＭ－３５Ｅ」）が含まれる。
【0067】
ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）または可視光感受性組成物（Ｃ２）中の重合性化合物（ｂ）の量は、それぞれの組成物の総重量を基準として、典型的には１０～７０重量％、好ましくは２０～６０重量％、より好ましくは３０～５０重量％である。
【0068】
（光開始剤（ｃ））
成分（ｃ）として、光開始剤（ｃ）は、特に限定されず、従来用いられている光開始剤から適切に選択される。
成分（ｃ）として、光開始剤（ｃ）は、特に限定されず、従来用いられている光開始剤から適切に選択される。
【0069】
そのような光開始剤の例には、特に限定されないが、２，２－ジエトキシアセトフェノン、２－メチル－１－［４’－（メチルチオ）－２－モルホリノプロピオフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、４－（２－ヒドロキシ－エトキシ）フェニル－２－ヒドロキシ－２－プロピルケトン、１－（４－ドデシルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－１－プロパノン、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルホリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－１－ブタノン、２－ジメチルアミノ－２－（４－メチル－ベンジル）－１－（４－モルホリン－４－イル－フェニル）－ブタン－１－オンなどのアセトフェノン化合物；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノンなどのベンゾイン化合物；２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール（ｏ－Ｃｌ－ＨＡＢＩ）、２，２’，４－トリス（２－クロロフェニル）－５－（３，４－ジメトキシフェニル）－４’，５’－ジフェニル－１，１’－ビイミダゾール（ＴＣＤＭ－ＨＡＢＩ）、および２，２’－ビス（２－エトキシ－フェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－２Ｈ－１，２’－ビイミダゾールなどの、「ＨＡＢＩ」と略記される、ヘキサアリール－ビイミダゾール化合物；ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド、およびフェニルビス（２，４，６－トリメチル－ベンゾイル）ホスフィンオキシドなどのベンゾイルホスフィンオキシド化合物；１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタンジオン ２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン １－（Ｏ－アセチルオキシム）（Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０２）、および３－シクロペンチル－１－［９－エチル－６－（２－メチル－ベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－１－プロパノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）などのオキシムエステル化合物が含まれる。
【0070】
これらの光重合開始剤は、単独でまたは２つ以上の組合せで使用され得る。
【0071】
一実施形態では、光開始剤（ｃ）は、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ベンゾイルホスフィンオキシド化合物、オキシムエステル化合物、またはそれらの組合せを含む。
【0072】
別の実施形態では、光開始剤（ｃ）は、ｏ－Ｃｌ－ＨＡＢＩ、ＴＣＤＭ－ＨＡＢＩ、およびそれらの混合物を含む。
【0073】
適切な光開始剤は、市販されており、例えば、ｏ－Ｃｌ－ＨＡＢＩおよびＴＣＤＭ－ＨＡＢＩは、Ｈａｍｐｆｏｒｄ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｉｎｃ．から；ベンゾイルホスフィンオキシド化合物は、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ ＵＳＡ Ｉｎｃ．から；オキシムエステル化合物は、Ｃｈａｎｇｚｈｏｕ Ｔｒｏｎｌｙ Ｎｅｗ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．から購入され得る。
【0074】
ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）または可視光感受性組成物（Ｃ２）中の光開始剤（ｃ）の量は、それぞれの組成物の総重量を基準として、典型的には０．１～２０重量％、好ましくは０．５～１０重量％、より好ましくは１～５重量％である。
【0075】
（ＵＶ吸収増感剤（ｄ１））
ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）中に使用するのに適した増感剤として、ＵＶ吸収増感剤（ｄ１）は、ＵＶ線領域、すなわち、４００ｎｍ未満；好ましくは、３００ｎｍ～４００ｎｍに最大吸収を有して追加の吸収をＵＶ線領域において提供する。
ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）中に使用するのに適した増感剤として、ＵＶ吸収増感剤（ｄ１）は、ＵＶ線領域、すなわち、４００ｎｍ未満；好ましくは、３００ｎｍ～４００ｎｍに最大吸収を有して追加の吸収をＵＶ線領域において提供する。
【0076】
適切なＵＶ吸収増感剤（ｄ１）には、ベンゾフェノン、４－アミノベンゾフェノン、４，４’－ジアミノベンゾフェノン、４，４’－ジメトキシベンゾフェノン、（４－（ジメチルアミノ）フェニル）フェニルメタノン、（４－（ジエチルアミノ）フェニル）－フェニルメタノン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチル－４，４’－ジアミノベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラエチル－４，４’－ジアミノベンゾフェノン、４－メトキシ－４’－ジメチルアミノ－ベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチル－ジフェニルスルフィドなどの芳香族ケトン；９－フェニルアクリジン、および１，７－ビス（９，９’－アクリジニル）ヘプタンなどのアクリジン化合物；スルホニルジベンゼン、４，４’－スルホニルビス（Ｎ，Ｎ－ジメチル－ベンゼンアミン）、４，４’－スルホニルビス（Ｎ，Ｎ－ジフェニルベンゼンアミン）、および９，９’－（スルホニルジ－４，１－フェニレン）ビス－９Ｈ－カルバゾールなどの芳香族スルホン化合物が含まれる。
【0077】
ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）中のＵＶ吸収増感剤（ｄ１）の量は、ＵＶ線感受性組成物の総重量を基準として、０～２０重量％、または０．０１～１０重量％、または０．１～５重量％である。
【0078】
（可視光吸収増感剤（ｄ２））
可視光感受性組成物（Ｃ２）中に使用するのに適切な増感剤として、可視光吸収増感剤（ｄ２）は、光開始剤（ｃ）のスペクトル応答を、および好ましくは４００ｎｍ～７００ｎｍの可視光領域に最大吸収波長を持って拡張することが期待される。
可視光感受性組成物（Ｃ２）中に使用するのに適切な増感剤として、可視光吸収増感剤（ｄ２）は、光開始剤（ｃ）のスペクトル応答を、および好ましくは４００ｎｍ～７００ｎｍの可視光領域に最大吸収波長を持って拡張することが期待される。
【0079】
可視光吸収増感剤（ｄ２）の例には、ケトン類、クマリン類、キサントン類、オキサゾール類、ベンゾオキサゾール類、チアゾール類、ベンゾチアゾール類、トリアゾール類、スチルベン類、トリアジン類、チオフェン類、ナフタルイミド化合物、ビス（ｐ－ジアルキルアミノベンジリデン）ケトン類およびアリーリデンアリールケトン類が含まれる。
【0080】
好ましい可視光吸収増感剤（ｄ２）には、１，３－ビス（１，３－ジヒドロ－１，３，３－トリメチル－２Ｈ－インドール－２－イリデン）－２－プロパノン（Ｂｉｓ－Ｆｉｓｃｈｅｒ’ｓ Ｂａｓｅ Ｋｅｔｏｎｅ、ＢＦＢＫ）、３－ベンゾイル－７－（ジエチルアミノ）－２Ｈ－１－ベンゾピラン－２－オン、３－ベンゾイル－７－ジエチルアミノクマリン、７－（ジエチルアミノ）－３－（７－（ジエチルアミノ）－２－オキソクロマン－３－カルボニル）－２Ｈ－クロメン－２－オン、３－（２－Ｎ－メチルベンズイミダゾリル）－７－Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノクマリン、３－（２－ベンゾチアゾリル）－７－（ジエチルアミノ）クマリン、３－（２－ベンゾオキサゾリル）－７－（ジエチルアミノ）クマリン、（Ｅ）－１－フェニル－３－（２，３，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ，５Ｈ－ベンゾ［ｉｊ］キノリジン－９－イル）－２－プロペン－１－オン（ジュロリジンカルコン）、４－（ジメチルアミノ）カルコン、（２Ｅ，５Ｅ）－２，５－ビス［４－（ジメチルアミノ）ベンジリデン］－シクロペンタノン、（２Ｅ，５Ｅ）－２，５－ビス［４－（ジエチルアミノ）ベンジリデン］－シクロペンタノン、およびケトシアニン染料が含まれる。
【0081】
適切な可視光吸収増感剤（ｄ２）は、市販されており、例えば、Ｂｉｓ－Ｆｉｓｃｈｅｒ’ｓ Ｂａｓｅ Ｋｅｔｏｎｅは、Ｈａｍｐｆｏｒｄ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｉｎｃから購入され得；３－ベンゾイル－７－（ジエチルアミノ）－２Ｈ－１－ベンゾピラン－２－オンは、Ｃｈａｎｇｚｈｏｕ Ｔｒｏｎｌｙ Ｎｅｗ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄから購入され得る。
【0082】
可視光感受性組成物（Ｃ２）中の可視光吸収増感剤（ｄ２）の量は、可視光感受性組成物（Ｃ２）の総重量を基準として、０．０１～２０重量％、または０．０５～１０重量％、または０．１～５重量％である。
【0083】
（他の添加剤（ｅ））
感光性組成物に従来添加された他の化合物も、ＵＶ線感受性組成物または可視光感受性組成物中に存在し得る。そのような添加剤には、水素供与体、接着性改質剤、着色物質、レベリング剤、可塑剤、界面活性剤、安定剤、酸化防止剤、重合防止剤、架橋剤等が含まれる。
感光性組成物に従来添加された他の化合物も、ＵＶ線感受性組成物または可視光感受性組成物中に存在し得る。そのような添加剤には、水素供与体、接着性改質剤、着色物質、レベリング剤、可塑剤、界面活性剤、安定剤、酸化防止剤、重合防止剤、架橋剤等が含まれる。
【0084】
水素供与体は、感度および活性光線への露光後の感光性組成物の露光エリアと非露光エリアとの間のコントラストを改善するために添加され得る。水素供与体が上述の特性を有する限り、特定の化学種は、特に限定されず、アミン化合物、カルボン酸化合物、メルカプト含有化合物、アルコール化合物等から選択され得るが、それらに限定されない。
【0085】
アミン化合物には、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、ｎ－ブチルアミン等の脂肪族アミン化合物；４－ジメチルアミノ安息香酸メチル、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチル－アミノ安息香酸イソアミル、４－（ジメチル－アミノ）－安息香酸２－エチルヘキシル、４－（ジメチル－アミノ）安息香酸２－ブトキシエチル、安息香酸２－ジメチルアミノエチル、Ｎ－ジメチル－ｐ－トルイジン、４，４’－ビス（ジメチル－アミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジエチル－アミノ）ベンゾフェノン（Ｍｉｃｈｌｅｒのケトン）等の芳香族アミン化合物が含まれるが、それらに限定されない。
【0086】
カルボン酸化合物には、（フェニルチオール）酢酸、メチルフェニルチオ酢酸、エチルフェニルチオ酢酸、メチルエチルフェニルチオ酢酸、ジメチルフェニルチオ酢酸、メトキシフェニルチオ酢酸、ジメトキシフェニルチオ酢酸、クロロフェニルチオ酢酸、ジクロロフェニルチオ酢酸、Ｎ－フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、Ｎ－ナフチルグリシン、ナフチルオキシ酢酸等などの芳香族ヘテロ酢酸が含まれるが、それらに限定されない。
【0087】
メルカプト含有化合物には、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－メルカプトベンズイミダゾール、ドデシルメルカプタン、オクタンジオールビス（３－メルカプトブチラート）、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチラート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチラート）、ジペンタエリスリトールヘキサ（３－メルカプトブチラート）；エチレングリコールビス（２－メルカプトプロピオネート）、プロピレングリコールビス（２－メルカプトプロピオネート）、プロピレングリコールビス（２－メルカプトプロピオネート）、プロピレングリコールビス（２－メルカプトプロピオネート）等が含まれるが、それらに限定されない。
【0088】
アルコール化合物には、メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール、２－ブタノール、ネオペンチルアルコール、ｎ－ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、１，２－プロパンジオール、１，２，３－プロパントリオール、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等が含まれるが、それらに限定されない。
【0089】
水素供与体の量は、ＵＶ線感受性組成物または可視光感受性組成物．の１００重量部中、０～２０重量部、好ましくは０．０１～１０重量部であり得る。水素供与体の量が上記の範囲内である場合、感光性樹脂組成物の感度を制御することが有利である。
【0090】
接着性改質剤は、基板へのコーティングの接着性を改善するおよびまたは処理中の残渣の形成を防止するために添加され得る。適切な接着性改質剤には、ベンゾトリアゾール、５－クロロ－１Ｈ－ベンゾトリアゾール、１－クロロ－１Ｈ－ベンゾトリアゾール、４－および５－カルボキシ－１Ｈ－ベンゾトリアゾール、１－ヒドロキシ－１Ｈ－ベンゾトリアゾール、２－メルカプトベンゾオキサゾ－ル、１Ｈ－１，２，４－トリアゾール－３－チオール、５－アミノ－１，３，４－チオジアゾール－２－チオール、２－メルカプトベンズイミダゾール等などの複素環式キレート成分が含まれる。クエン酸は、このように、すなわち、コーティングの接着性を改善するおよびまたは残渣の形成を防止するために効果的である非複素環式キレート化合物の例である。
【0091】
着色物質の例には、フクシン、フタロシアニングリーン、オーラミンベース、パラマジエンタ、ロイコクリスタルバイオレット（ＬＣＶ）、メチルオレンジ、ナイルブルー２Ｂ、ビクトリアブルー、マラカイトグリーン塩化物塩（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ）、ベーシックブルー２０、ダイヤモンドグリーン（保土谷化学工業株式会社）等が含まれる。
【0092】
レベリング剤の例には、フッ素ベースの化合物、シリコーンベースの化合物、およびアクリル化合物が含まれる。
【0093】
可塑剤の例には、ジメチルフタレートおよびジエチルフタレートなどのフタル酸エステル、トリス（２－エチルヘキシル）トリメリテートなどのトリメリット酸エステル；ジメチルアジペートおよびジブチルアジペートなどの脂肪族二塩基酸エステル；トリブチルホスフェートおよびトリフェニルホスフェートなどのオルトリン酸エステル；並びにグリセリルトリアセテートおよび２－エチルヘキシルアセテートなどの酢酸エステルが含まれる。
【0094】
界面活性剤は、感光性組成物のコーティング特性を改善するために添加され得る。界面活性剤の例には、とりわけ、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、Ｆ１７１、Ｆ１７２、およびＦ１７３（大日本インキ化学工業株式会社、日本から入手可能な）、ＦＣ４３０およびＦＣ４３１（Ｓｕｍｉｔｏｍｏ ３Ｍ Ｌｔｄ．、日本から入手可能な）、ＫＰ３４１（信越化学工業株式会社、日本から入手可能な）が含まれる。
【0095】
安定剤の例には、ヒンダードアミンベースの化合物、およびベンゾエート－ベースの化合物が含まれる。酸化防止剤の例には、フェノールベースの化合物が含まれる。重合防止剤の例には、メトキノン、メチルヒドロキノン、およびヒドロキノンが含まれる。架橋剤の例には、ポリイソシアネート、およびメラミン化合物が含まれる。
【0096】
他の添加剤（ｅ）は、本発明の感光性組成物の機能特性を妨げないように、一般に少量（すなわち、１０重量％未満）で存在する。
【0097】
（可視光ブロッキング物質（ｆ））
成分（ｆ）は、可視光を吸収するおよびＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）に添加され得る可視光ブロッキング物質である。可視光吸収物質には、染料または顔料などの有機物質；金属酸化物粒子などの無機物質、および有機物質の金属錯体が含まれる。そのような可視光吸収物質の例には、Ｄ．Ｌ．Ｊｉｎｋｅｒｓｏｎ、（特許文献３）に開示されているものが含まれるが、それらに限定されない。
成分（ｆ）は、可視光を吸収するおよびＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）に添加され得る可視光ブロッキング物質である。可視光吸収物質には、染料または顔料などの有機物質；金属酸化物粒子などの無機物質、および有機物質の金属錯体が含まれる。そのような可視光吸収物質の例には、Ｄ．Ｌ．Ｊｉｎｋｅｒｓｏｎ、（特許文献３）に開示されているものが含まれるが、それらに限定されない。
【0098】
適切な可視光吸収物質には、Ｅａｓｔｍａｎ Ｙｅｌｌｏｗ ０３５－ＭＡ（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ）などの、メチン化合物、ケチミド化合物、ナフトイルアジアアミン、ニトロジフェニルアミン化合物、アミノケトン化合物、ニトロ化合物、アントラキノン化合物、キノリン化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンズイミダゾール化合物、ベンズアントラセン化合物；およびアゾ金属錯化合物が含まれるが、それらに限定されない。
【0099】
金属酸化物粒子の例には、ＴｉＯ２、ＣｏＯおよびＦｅ２Ｏ３のナノ粒子が含まれる。ナノ粒子の直径は、一般に、可視光吸収性質を持った２０ｎｍ～５０ｎｍの範囲である。
【0100】
市販の可視光ブロッキング物質の例には、アゾイエロー顔料（例えば、Ｃｌａｒｉａｎｔによって製造されるＨａｎｓａ Ｙｅｌｌｏｗ １０Ｇ）、ナフトールイエロー顔料（例えば、Ｃｌａｒｉａｎｔによって製造されるＰｅｒｍａｎｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ）、ベンズイミダゾロンイエロー顔料（例えば、Ａｒｉｃｈｅｍｉｅ ＧｍｂＨによって製造されるＣ．Ｉ． Ｙｅｌｌｏｗ １５４）、アゾ縮合イエロー顔料（例えば、ＢＡＳＦによって製造されるＣｒｏｍｏｐｈｔａｌ Ｙｅｌｌｏｗ ３Ｇ）等が含まれる。
【0101】
他の市販の可視光ブロッキング物質には、Ｅｕｓｏｒｂ ＵＶ１９９０、Ｅｕｓｏｒｂ ＵＶ－１９９５、およびＥｕｓｏｒｂ ＵＶ－４０００などの染料が含まれ、Ｅｕｔｅｃ ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．によって製造され；ＡＮＳＯＲＢ－４６０、ＡＮＳＯＲＢ－４７５およびＡＮＳＯＲＢ－９３０は、Ａｎｃｈｅｍ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎによって製造される。
【0102】
可視光ブロッキング物質は、２個以上の物質を含有し得る。複数の可視光吸収物質を成分（ｆ）として添加することによって、ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）は、４００ｎｍ～８００ｎｍの可視光露光による光重合を禁止される。
【0103】
（ＵＶ線ブロッキング物質（ｇ））
成分（ｇ）は、ＵＶ線を吸収するおよび可視光感受性組成物（Ｃ２）に添加されるＵＶ線ブロッキング物質である。例えば、ＵＶ線ブロッキング物質は、電磁スペクトルのＵＶ領域、およそ２００ｎｍ～４００ｎｍにおける光線をブロックするために調整され得る。
成分（ｇ）は、ＵＶ線を吸収するおよび可視光感受性組成物（Ｃ２）に添加されるＵＶ線ブロッキング物質である。例えば、ＵＶ線ブロッキング物質は、電磁スペクトルのＵＶ領域、およそ２００ｎｍ～４００ｎｍにおける光線をブロックするために調整され得る。
【0104】
適切なＵＶ線物質（ｇ）には、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、トリアジン化合物、重合性部分を持った化合物、およびナノ粒子が含まれる。
【0105】
ベンゾフェノン化合物の例には、２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－ｎ－（オクチルオキシ）ベンゾフェノン、２，２’，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－，４，４’－ジメトキシベンゾフェノン等が含まれるが、それらに限定されない。
【0106】
ベンゾトリアゾール化合物の例には、オクチル－３－［３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェニル］プロピオネート、２－エチルヘキシル－３－［３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェニル］プロピオネート、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４，６－ビス（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール、２－（２’－ヒドロキシ－５’－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－ベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－オクチル－フェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ペンチルフェノール、２－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２－ヒドロキシフェニル）－５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、２－［２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル］－４，６－ビス（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール、２－（２’－ヒドロキシ－３’，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－アミル－２－ヒドロキシフェニル）－ベンゾトリアゾール等が含まれるが、それらに限定されない。
【0107】
トリアジン化合物の例には、２－［４－［２－ヒドロキシ－３－トリデシルオキシプロピル］オキシ］－２－ヒドロキシフェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－［４－［２－ヒドロキシ－３－ジデシルオキシプロピル］オキシ］－２－ヒドロキシフェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－ヘキシルオキシ－フェノール、２－（４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（３－（（２－エチルヘキシル）オキシ）－２－ヒドロキシプロポキシ）－フェノール等が含まれるが、それらに限定されない。
【0108】
ＵＶ線ブロッキング物質（ｇ）にはまた、それらの化学構造にビニル、アクリレート、またはメタクリレート官能性などの重合性部分を持った化合物が含まれる。
【0109】
重合性部分を持った化合物の例には、２－ヒドロキシ－５－メトキシ－３－（５－（トリフルオロメチル）－２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）ベンジルメタクリレート、３－（５－フルオロ－２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）－２－ヒドロキシ－５－メトキシベンジルメタクリレート、３－（２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）－２－ヒドロキシ－５－メトキシベンジルメタクリレート、３－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）－２－ヒドロキシ－５－メトキシベンジルメタクリレート、２－ヒドロキシ－５－メトキシ－３－（５－メトキシ－２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）ベンジルメタクリレート、２－ヒドロキシ－５－メトキシ－３－（５－メチル－２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）ベンジルメタクリレート；並びに２－ヒドロキシ－５－メチル－３－（５－（トリフルオロメチル）－２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）ベンジルメタクリレート、２－（３－（３－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）－４－ヒドロキシ－５－メトキシフェニル）－プロピルチオ）エチルメタクリレート、および３－（４－ヒドロキシ－３－メトキシ－５－（５－（トリフルオロメチル）－２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）フェニル）プロピルメタクリレート；４－アリル－２－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）－６－メトキシフェノール、４－アリル－２－メトキシ－６－（５－（トリフルオロ－メチル）－２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）フェノール、および３－（４－ヒドロキシ－３－メトキシ－５－（５－（トリフルオロ－メチル）－２Ｈ－ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール－２－イル）フェニル）プロピルメタクリレート等が含まれるが、それらに限定されない。
【0110】
市販のＵＶ線ブロッキング物質の例には、新中村化学工業株式会社によって製造されるＶＡＮＡＲＥＳＩＮ ＵＶＡ－５０８０、ＵＶＡ－７０７５、ＵＶＡ－５５Ｔ、ＵＶＡ－７３Ｔ、ＵＶＲ－８００１Ｅ、ＵＶＲ－９００１、ＮＥＷＣＯＡＴ ＵＶＡ－１０１、ＮＥＷＣＯＡＴ ＵＶＡ－１０２、ＮＥＷＣＯＡＴ ＵＶＡ－１０３、ＮＥＷＣＯＡＴ ＵＶＡ－１０４などの紫外吸収ポリマー；Ｅｖｅｒｌｉｇｈｔによって製造される２，２’，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノンが含まれる。
【0111】
ＵＶ線ブロッキング物質（ｇ）の量は、可視光感受性組成物（Ｃ２）の総量を基準として、約０．０１～２０．０重量％、または約０．０５～１５重量％、または約０．１～１０重量％である。成分（ｇ）の量がこの範囲内である場合、良くバランスのとれたやり方でドライフィルムレジストの良好なＵＶ線ブロッキング能力および解像度および接着性を提供することが容易である。
【0112】
（ドライフィルム（ＤＦ１）および（ＤＦ２）のセット）
ドライフィルムは、一般に、感光性組成物を支持フィルム上に塗布して非硬化状態での感光性層を形成することによって調製され、次いでそれがロール形態で貯蔵される場合には保護フィルムで覆われる。感光性層は、同じ意味で、「フォトレジスト」、「レジスト」または「ドライフィルムレジスト」と言われ得る。
ドライフィルムは、一般に、感光性組成物を支持フィルム上に塗布して非硬化状態での感光性層を形成することによって調製され、次いでそれがロール形態で貯蔵される場合には保護フィルムで覆われる。感光性層は、同じ意味で、「フォトレジスト」、「レジスト」または「ドライフィルムレジスト」と言われ得る。
【0113】
本発明の透明な導電性基板は、第１のレジスト層と第２のレジスト層とを含み、ここで、第１のレジスト層は、ＵＶ線感受性組成物で構成され、第２のレジスト層は、可視光感受性組成物で構成される。その結果として、ＤＦ１がＵＶ線感受性ドライフィルムであり、ＤＦ２が可視光感受性ドライフィルムである、一連のドライフィルムＤＦ１およびＤＦ２が提供される。一連のドライフィルム（すなわち、ＤＦ１およびＤＦ２）は、透明な導電性ラミネートを製造するための両面フォトリソグラフィー法を受ける本発明の透明な導電性基板を製造するのに適切である。
【0114】
ＤＦ１は、支持フィルムと、上述のＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）で構成されるレジスト層と、任意選択的に保護フィルムとを含む。ＤＦ２は、支持フィルムと、上述の可視光感受性組成物（Ｃ２）で構成されるレジスト層と、任意選択的に保護フィルムとを含む。
【0115】
支持フィルムは、一般に、ポリマーフィルムであり、好ましくは、３５０ｎｍ～４２０ｎｍ領域の光線に関して９０％超の透過率と共に高い寸法安定性を有する。
【0116】
支持フィルムは、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリエステル、ビニルポリマー、およびセルロースエステルで構成され得る。特に適切な支持フィルムは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、またはポリプロピレンで構成されるポリマーフィルムである。支持フィルムの厚さは、１μｍ～１００μｍ、好ましくは５μｍ～５０μｍ、より好ましくは１０μｍ～３０μｍである。
【0117】
保護フィルムは、上記の、支持フィルムに関して記載されたポリマーフィルムの同じ群から選択され得、同じ幅広い範囲の厚さを有し得る。しかしながら、保護フィルムは、支持フィルムへのレジスト層の接着性と比べてレジスト層へのより低い接着性を有することが好ましい。特に適切な保護フィルムは、ポリエチレン、ポリプロピレン、またはポリエチレンテレフタレートで構成されるポリマーフィルムである。保護フィルムの厚さは、１μｍ～１００μｍ、好ましくは５μｍ～５０μｍ、より好ましくは１０μｍ～３０μｍである。
【0118】
市販のポリマーフィルムの例には、帝人株式会社によって製造されるＰＳシリーズのおよび東レ株式会社によって製造されるＦＢシリーズのポリエチレンテレフタレートフィルム；王子製紙株式会社によって製造されるＡＬＰＨＡＮ ＭＡ－４１０およびＥ－２００などのポリエチレンフィルム；並びに信越フィルム株式会社によって製造されるポリプロピレンフィルムが含まれる。
【0119】
ＵＶ線感受性感光性組成物または可視光感受性組成物が、適切な粘度の液体形態にある場合、それは、対応するレジスト層を形成するために直接に支持フィルム上へ塗布され得る。好ましくは、ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）および可視光感受性組成物（Ｃ２）は、それぞれ、粘度を下げ、一様な厚さのそれぞれのレジスト層の形成を可能にするために有機溶媒に溶解させられる。
【0120】
適切な溶媒の例には、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等などのアルコール；テトラヒドロフランなどのエーテル；アセトンおよびメチルエチルケトンなどのケトン；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、およびプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル；トルエンなどの芳香族炭化水素溶媒；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドなどの非プロトン性極性溶媒；並びにそれらの混合物が含まれる。溶媒は、感光性組成物の溶解性に応じて適切に選択され得る。
【0121】
本開示によるＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）および可視光感受性組成物（Ｃ２）を調製するための方法は、特に限定されず、これらの組成物は、それぞれの組成物中に含有される個々の成分を公知の方法によって混合することによって得られ得る。
【0122】
加えて、異物を除去するまたは欠陥を減らすために濾過がフィルターを通して実施され得る。任意のフィルターが、濾過等のために従来使用されてきている限り特に制限なしに使用され得る。
【0123】
一実施形態では、ＵＶ線感受性ドライフィルム（ＤＦ１）および可視光感受性ドライフィルム（ＤＦ２）は、それぞれの組成物を含有するコーティング溶液を支持フィルムに塗布する；および得られたものを乾燥させてレジスト層を形成することによって製造され得る。
【0124】
それぞれの組成物を含有するコーティング溶液の固形分は、塗布方法およびツールに応じて適切に選択され得る。例えば、有機溶媒は、約１５重量％～約６０重量％の固形分の溶液を得るために使用され得る。
【0125】
コーティング溶液は、ロールコーティング、コンマコーティング、グラビアコーティング、エアナイフコーティング、ダイコーティング、またはバーコーティングなどの公知の方法によって支持フィルムに塗布され得る。
【0126】
乾燥は、好ましくは、２５℃～１２０℃で約５分～約６０分間実施される。乾燥後の感光性層中の残留溶媒の量は、好ましくは、２重量％以下である。
【0127】
ドライフィルム（ＤＦ１およびＤＦ２）の厚さは、意図される使用に応じて適切に選択され得る。レジスト層の乾燥後の厚さは、０．１μｍ～５０μｍ；または０．２μｍ～３０μｍ；または０．３μｍ～２５μｍである。
【0128】
結果として生じるドライフィルムの形状は、特に限定されない。ドライフィルムは、シート形態であり得るか、またはコアの周りにロール形状に巻かれ得る。ドライフィルムがロール形状に巻かれる場合、支持フィルムは外側に面することが好ましい。
【0129】
本実施形態による一連のドライフィルム（ＤＦ１およびＤＦ２）は、例えば、以下に記載されるような透明な導電性基板を製造するための方法において使用され得る。
【0130】
（透明な導電性基板を製造するための方法）
本発明の前に記載されたＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）および可視光感受性組成物（Ｃ２）、並びに一連のドライフィルム（ＤＦ１およびＤＦ２）は、透明な導電性基板を形成するために使用され得る。
本発明の前に記載されたＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）および可視光感受性組成物（Ｃ２）、並びに一連のドライフィルム（ＤＦ１およびＤＦ２）は、透明な導電性基板を形成するために使用され得る。
【0131】
一実施形態では、本発明の透明な導電性基板１００は、
（ｉ）透明なコアを提供する工程と；
（ｉｉ）第１の透明な導電性層を透明なコアの一つの表面上に形成する工程と；
（ｉｉｉ）第２の透明な導電性層を透明なコアの反対面上に形成する工程と；
（ｉｖ）ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）を第１の透明な導電性層上に塗布して第１のレジスト層を形成する工程と；
（ｖ）可視光感受性組成物（Ｃ２）を第２の透明な導電性層上に塗布して第２のレジスト層を形成する工程と
を含む方法によって製造される。
（ｉ）透明なコアを提供する工程と；
（ｉｉ）第１の透明な導電性層を透明なコアの一つの表面上に形成する工程と；
（ｉｉｉ）第２の透明な導電性層を透明なコアの反対面上に形成する工程と；
（ｉｖ）ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）を第１の透明な導電性層上に塗布して第１のレジスト層を形成する工程と；
（ｖ）可視光感受性組成物（Ｃ２）を第２の透明な導電性層上に塗布して第２のレジスト層を形成する工程と
を含む方法によって製造される。
【0132】
前に述べられたように、本発明の透明な導電性基板（図１を参照されたい）の第１の導電性層２１および第２の透明な導電性層２２は、導電性材料を含有する分散系を、スピンコーティング、浸漬、または化学蒸着（ＣＶＤ）によって透明なコア１０の一つのまたは両方の表面上に適用することによって形成され得る。
【0133】
第１のレジスト層３１または第２のレジスト層３２の形成は、ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）または視光感受性組成物（Ｃ２）を、前に記載されたような適切な溶媒中で、第１の透明な導電性層２１または第２の透明な導電性層２２のそれぞれの表面上にコーティングすることによって行われ得る。
【0134】
或いはまた、第１のまたは第２のレジスト層は、一連のドライフィルム（すなわち、ＤＦ１およびＤＦ２）を、それぞれの透明な導電性層上に積層することによって形成され得る。カバーシートが一連のドライフィルム中に存在する場合、それは、除去され得、レジスト層の覆われていない表面が、例えば、従来のホットロール積層装置を使って、熱および／または圧力を使用して透明な導電性層の事前にきれいにされた表面上へ積層される。温度、圧力、および継続時間を含む積層パラメータは、当業者によって必要に応じて適切に選択され得る。
【0135】
ここで留意すべきは、ＤＦ１およびＤＦ２を積層した後に、結果として生じた透明な導電性基板が、ドライフィルムＤＦ１およびＤＦ２の支持フィルムに由来する２つの追加のポリマーフィルムを含むことである。図２に示されるように、透明な導電性基板２００は、第１のポリマーフィルム４１、第１のレジスト層３１、第１の透明な導電性層２１、透明なコア１０、第２の透明な導電性層２２、第２のレジスト層３２、および第２のポリマーフィルム４２の順の構造を有する。
【0136】
ポリマーフィルム４１および４２は、保護シートとして機能し、透明な導電性基板２００は、ポリマーフィルムを通った光線に露光され得る。いくつかの場合には、ポリマーフィルムは、解像度および他のそのような特性を改善するために照射前に除去され得る。
【0137】
一実施形態では、本発明の透明な導電性基板２００は、
（Ｉ）透明なコアと、ＵＶ線感受性ドライフィルム（ＤＦ１）および可視光感受性ドライフィルム（ＤＦ２）からなる一連のドライフィルムとを提供する工程と；
（ＩＩ）第１の透明な導電性層を透明なコアの一つの表面上に形成する工程と；
（ＩＩＩ）第２の透明な導電性層を透明なコアの反対面上に形成する工程と；
（ＩＶ）任意選択的に、存在する場合、第１のおよび第２の保護フィルムを一連のドライフィルムから除去する工程と；
（Ｖ）同時にＵＶ線感受性ドライフィルムを第１の透明な導電性層上に、および可視光感受性ドライフィルムを第２の透明な導電性層上に積層する工程と
を含む方法
であって、
ＵＶ線感受性ドライフィルム（ＤＦ１）が、支持フィルムと、ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）で構成されるレジスト層と、任意選択的に保護フィルムとを含み、
可視光感受性ドライフィルム（ＤＦ２）が、支持フィルムと、可視光感受性組成物（Ｃ２）で構成されるレジスト層と、任意選択的に保護フィルムとを含む
方法によって製造される。
（Ｉ）透明なコアと、ＵＶ線感受性ドライフィルム（ＤＦ１）および可視光感受性ドライフィルム（ＤＦ２）からなる一連のドライフィルムとを提供する工程と；
（ＩＩ）第１の透明な導電性層を透明なコアの一つの表面上に形成する工程と；
（ＩＩＩ）第２の透明な導電性層を透明なコアの反対面上に形成する工程と；
（ＩＶ）任意選択的に、存在する場合、第１のおよび第２の保護フィルムを一連のドライフィルムから除去する工程と；
（Ｖ）同時にＵＶ線感受性ドライフィルムを第１の透明な導電性層上に、および可視光感受性ドライフィルムを第２の透明な導電性層上に積層する工程と
を含む方法
であって、
ＵＶ線感受性ドライフィルム（ＤＦ１）が、支持フィルムと、ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）で構成されるレジスト層と、任意選択的に保護フィルムとを含み、
可視光感受性ドライフィルム（ＤＦ２）が、支持フィルムと、可視光感受性組成物（Ｃ２）で構成されるレジスト層と、任意選択的に保護フィルムとを含む
方法によって製造される。
【0138】
透明な導電性ラミネートを製造するための方法
本発明はまた、透明な導電性ラミネートを製造するための両面フォトリソグラフィー法であって、
（Ａ）本発明の透明な導電性基板を提供する工程と；
（Ｂ）第１のレジスト層を第１の光源によって、および第２のレジスト層を第２の光源によって同時に露光する工程と；
同時に（Ｃ）第１のレジストパターンおよび第２のレジストパターンを、それぞれのレジスト層の非露光部を除去することによって現像する工程と；
（Ｄ）同時にそれぞれのレジストパターンによって保護されていない第１の透明な導電性層および第２の透明な導電性層の部分をエッチングする工程と；
（Ｅ）同時に第１のレジストパターンおよび第２のレジストパターンを剥離して透明な導電性ラミネートを提供する工程とを含み；
ここで、
透明な導電性ラミネートは、第１の導電回路と第２の導電回路とを透明なコアの各面に含み、第１の導電回路および第２の導電回路の設計パターンは、互いに異なり；
第１の光源および第２の光源は、透明な導電性基板の反対側上に配置され；
第１の光源は、４００ｎｍ未満の波長のおよび第１のレジスト層のための標的露光エネルギーでの光線を照射し、その結果第２のレジスト層は、第１の光源によってパターン化されることを実質的に含まず；
第２の光源は、４００ｎｍ～８００ｎｍの波長のおよび第２のレジスト層をパターン化するための標的露光エネルギーでの光線を照射し、その結果第１のレジスト層は、第２の光源によって照射される光線によってパターン化されることを実質的に含まない
方法を提供する。
本発明はまた、透明な導電性ラミネートを製造するための両面フォトリソグラフィー法であって、
（Ａ）本発明の透明な導電性基板を提供する工程と；
（Ｂ）第１のレジスト層を第１の光源によって、および第２のレジスト層を第２の光源によって同時に露光する工程と；
同時に（Ｃ）第１のレジストパターンおよび第２のレジストパターンを、それぞれのレジスト層の非露光部を除去することによって現像する工程と；
（Ｄ）同時にそれぞれのレジストパターンによって保護されていない第１の透明な導電性層および第２の透明な導電性層の部分をエッチングする工程と；
（Ｅ）同時に第１のレジストパターンおよび第２のレジストパターンを剥離して透明な導電性ラミネートを提供する工程とを含み；
ここで、
透明な導電性ラミネートは、第１の導電回路と第２の導電回路とを透明なコアの各面に含み、第１の導電回路および第２の導電回路の設計パターンは、互いに異なり；
第１の光源および第２の光源は、透明な導電性基板の反対側上に配置され；
第１の光源は、４００ｎｍ未満の波長のおよび第１のレジスト層のための標的露光エネルギーでの光線を照射し、その結果第２のレジスト層は、第１の光源によってパターン化されることを実質的に含まず；
第２の光源は、４００ｎｍ～８００ｎｍの波長のおよび第２のレジスト層をパターン化するための標的露光エネルギーでの光線を照射し、その結果第１のレジスト層は、第２の光源によって照射される光線によってパターン化されることを実質的に含まない
方法を提供する。
【0139】
図３は、透明な導電性ラミネートを製造するための本発明の両面フォトリソグラフィー法の各工程を示す。
【0140】
【0141】
図３Ａに言及すると、第１のレジスト層３１が第１の光源１１０に面し、第２のレジスト層３２が第２の光源１２０に面しているように、本発明の透明な導電性基板は、透明な導電性基板の反対側上配置されている２つの光源間に置かれる。
【0142】
本発明の方法における第２の工程は、（Ｂ）第１のレジスト層を第１の光源によって、第２のレジスト層を第２の光源によって同時に露光することである（図３Ａを参照されたい）。
【0143】
露光方法の例には、マスク露光法と言われる、ネガ型またはポジ型パターン（すなわち、フォトマスク）を通して光線を像様照射する方法が含まれる。或いはまた、ＬＤＩ（レーザー直接画像化）露光法またはＤＬＰ（デジタルライトプロセッシング）露光法などの直接書き込み露光法によって光線を像様照射する方法が使用され得る。
【0144】
例えば、ＵＶ線感受性フォトレジストである第１のレジスト層に関しては、３５５ｎｍおよび３７５ｎｍレーザー光のＬＤＩ機が選択され得；可視光感受性フォトレジストである第２のレジスト層に関しては、４０５ｎｍおよび４３８ｎｍレーザー光のＬＤＩ機が選択され得る。
【0145】
光開始剤および／または増感剤の吸収帯と重なるスペクトルの領域における波長を提供する活性光線の任意の便利な光源を使用して光重合反応を活性化し得る。従来の光源には、カーボンアークランプ、水銀蒸気アークランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、またはアルゴンレーザーなどのガスレーザー；ＹＡＧレーザーなどの固体レーザー；半導体レーザー；窒化ガリウム系のバイオレットレーザーなどの紫外線；並びに可視光を効率よく放つランプが含まれる。
【0146】
同時露光工程（Ｂ）中に、第１のレジスト層は、ＵＶ光線（４００ｎｍ未満）の第１の光源によって、および第２のレジスト層は、可視光線（４００ｎｍ～８００ｎｍ）の第２の光源によって照射される。透明な導電性基板は「透明」であるから、多層を通過する入射光線が存在し、反対側上のレジスト層に達する。
【0147】
本方法の一つの決定的因子は、それぞれが異なる波長の光線に対して異なる感度を有する第１のレジスト層および第２のレジスト層に依存している。別の決定的因子は、特定のレジスト層の活性光線が通過するおよび透明な導電性基板の反対側上にあるレジスト層に達するのをブロックするドライフィルムレジストの能力である。
【0148】
例えば、ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）で構成される、第１のレジスト層３１は、４００ｎｍ以下の、好ましくは、３６５ｎｍでの波長のＵＶ－光線に露光することによって光硬化させられる。ＵＶ線感受性組成物（Ｃ１）は、ＵＶ吸収増感剤（ｄ１）および／または可視光ブロッキング物質（ｆ）を含有するので、第１のレジスト層３１は、第２のレジスト層を露光するために使用される入射可視光線に反応しない（またはに対して感受性が少ない）。同様に、第２のレジスト層は、４００ｎｍ～８００ｎｍの波長の可視光線に露光することによって光硬化させられ、そして可視光感受性組成物（Ｃ２）中の可視光吸収増感剤（ｄ２）およびＵＶ線ブロッキング物質（ｇ）の存在のために、第２のレジストは、４００ｎｍ未満の入射光線に反応しない。その結果として、本方法は、同時に第１のレジスト層および第２のレジスト層を像様露光して異なるまたは独特のレジストパターンを透明な導電性基板の両面上に形成し得る。
【0149】
本発明の方法の第３の工程は、（Ｃ）同時に第１のレジストパターン３３および第２のレジストパターン３４を、それぞれのレジスト層の非露光部を除去することによって現像する工程である（図３Ｂを参照されたい）。
【0150】
ポリマーフィルムが第１のレジスト層および第２のレジスト層上に残っている場合、支持フィルムは剥離され、次いでそれぞれのレジスト層の非露光エリアが除去される（現像される）。現像プロセスの例には、湿式現像および乾式現像が含まれ、湿式現像が広く使用されている。
【0151】
現像液（すなわち現像剤）は、一般に、０．０１重量％～５重量％の水溶性塩基の水溶液である。適切な水溶性塩基には、水酸化リチウム、ナトリウムおよびカリウムなどのアルカリ金属水酸化物；炭酸および重炭酸リチウム、ナトリウムおよびカリウムなどの弱酸の塩基反応性アルカリ金属塩；水酸化アンモニウム並びに水酸化テトラメチルおよびテトラフェニルアンモニウムなどの四置換アンモニウム水酸化物；水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩および硫化物を含むスルホニウム塩；ナトリウムおよびカリウムの三リン酸塩およびピロリン酸塩などのアルカリ金属リン酸塩およびピロリン酸塩；水酸化テトラメチルホスホニウムなどの四置換ホスホニウム、アルソニウム、およびスチボニウム水酸化物が含まれる。好ましい現像剤は、０．１～３重量％の炭酸ナトリウム水溶液である。
【0152】
現像剤はまた、界面活性剤を含有し得る。しかしながら、全有機物含有量は、１０重量％未満、好ましくは５重量％未満である必要がある。
【0153】
レジストパターン現像は、浸漬または噴霧などの、任意の従来の技法を用いて回分または連続プロセスとして同時に第１のレジスト層および第２のレジスト層に関して実施され得る。現像は、室温で行われ得るかまたは約５０℃までの温度に加熱され得る。多くの商用処理装置が現像のために利用可能である。
【0154】
本発明の方法の第４の工程は、（Ｄ）それぞれのレジストパターンによって保護されていない第１の透明な導電性層および第２の透明な導電性層の部分をエッチングすることである（図３Ｃを参照されたい）。
【0155】
エッチング方法は、除去される透明な導電性層の構成材料に応じて適切に選択され得る。エッチング方法は、同時に第１の透明な導電性層および第２の透明な導電性層に関して実施され得る。
【0156】
エッチング液の例には、銀含有導電性層をエッチングするための溶液が含まれ、硝酸イオンの含有量は、エッチング液の総量に関して約１６．０重量％～約３５．０重量％である。
【0157】
硝酸イオンのイオン源は、それが水に溶解して硝酸イオンを生成し得る限り、特に限定されない。硝酸イオン源の例には、硝酸、硝酸カリウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム、硝酸ウラニル、硝酸カルシウム、硝酸銀、硝酸鉄（ＩＩ）、硝酸鉄（ＩＩＩ）、および硝酸鉛（ＩＩ）、硝酸バリウム、硝酸コバルト（ＩＩ）、硝酸ビスマス（ＩＩＩ）、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸カルシウム、硝酸ジアンモニウムセリウム（ＩＶ）、硝酸パラジウム（ＩＩ）、硝酸銅（ＩＩ）、硝酸カドミウム、硝酸タリム（ＩＩＩ）、硝酸セリウム（ＩＩＩ）、硝酸亜鉛、硝酸ニッケル（ＩＩ）、硝酸ジルコニル、硝酸アルミニウム、硝酸リチウム、硝酸水銀（ＩＩ）、硝酸セシウム、硝酸ガドリウム（ＩＩＩ）、硝酸エルビウム（ＩＩＩ）、硝酸ユーロピウム（ＩＩＩ）、硝酸ルテチウム（ＩＩＩ）、硝酸インジウム（ＩＩＩ）、硝酸イットリウム（ＩＩＩ）、硝酸ガリウム、硝酸サマリウム（ＩＩＩ）、または硝酸イッテルビウム（ＩＩＩ）が含まれる。
【0158】
より容易にエッチング速度を増大させるという観点から、硝酸イオンのイオン源は、好ましくは、硝酸、硝酸鉄（ＩＩ）および硝酸鉄（ＩＩＩ）からなる群から選択される１種以上を含有する。鉄（ＩＩＩ）は、酸化還元電位の観点から硝酸が銀を酸化するための有効な触媒として機能する。それ故に、より容易にエッチング速度を増大させるという観点から、硝酸イオンのイオン源は、より好ましくは、硝酸鉄（ＩＩＩ）を含有している。
【0159】
本発明の方法の第５の工程は、（Ｅ）同時に第１のレジストパターンおよび第２のレジストパターンを剥離して、２つの導電回路２３および２４を透明なコア１０の両面上に有する透明な導電性ラミネートを提供する工程である（図３Ｄを参照されたい）。
【0160】
第１のレジストパターンおよび第２のレジストパターンがそれらの機能を実行するとすぐに、レジストパターンは次いで、剥離速度を改善するためにかまたは金属攻撃若しくは汚染を最小限にするために、有機アミンまたは溶媒を含有し得る水性剥離溶液によって一般に除去され得る。水性剥離溶液は、典型的には、レジストパターンの現像に使用される水性現像液のそれよりも強いアルカリ度を有する。水性剥離溶液は、１～１０重量％の水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムの水溶液であり得る。
【0161】
レジストパターン剥離方法の例には、浸漬および噴霧が含まれ、これらの方法は、単独でまたはそれらの組合せで使用される。剥離方法は、同時に第１の透明な導電性層および第２の透明な導電性層に関して実施され得る。
【0162】
更なる詳述なしに、先行の記載を用いる当業者は、本発明をその最大限まで利用し得ると考えられる。以下の実施例は、それ故に、単に例証的なものと解釈され、本開示を決して限定するものではないと解釈されるべきである。
【実施例0163】
（原材料）
（アルカリ可溶性コポリマー（ａ）：）
Ａ－１：メチルメタクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／スチレン（３２／１８／２５／２５）で構成されるコポリマー、５５，０００のＭｗ、２．２の分散性および１６２．８ｍｇＫＯＨ／ｇの酸価。
（重合性化合物（ｂ））
Ｂ－１：ポリエトキシル化ビスフェノールＡジメタクリレート、全１７ＥＯ、ＣＡＳ番号４１６３７－３８－１、Ｓａｒｔｏｍｅｒから購入、商品名：ＢＰＥ９００。
Ｂ－２：トリメチロールプロパントリメタクリレート、ＣＡＳ番号３２９０－９２－４、Ｓａｒｔｏｍｅｒから購入、商品名：ＳＲ３５０ＮＳ。
（光開始剤（ｃ））
Ｃ－１：ｏ－Ｃｌ－ＨＡＢＩ、２－（２－クロロフェニル）－１－［２－（２－クロロフェニル）－４，５－ジフェニル－２Ｈ－イミダゾール－２－イル］－４，５－ジフェニル－１Ｈ－イミダゾール、ＣＡＳ番号７１８９－８２－４、Ｈａｍｐｆｏｒｄ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｉｎｃから購入。
Ｃ－２：ＴＣＤＭ－ＨＡＢＩ、２，２’，４－トリス（２－クロロフェニル）－５－（３，４－ジメトキシフェニル）－４’，５’－ジフェニル－１，１’－ビ－１Ｈ－イミダゾール、ＣＡＳ番号１００４８６－９７－３、Ｈａｍｐｆｏｒｄ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｉｎｃから購入。
Ｃ－３：ＯＭＮＩＲＡＤ ３６９、２－（ジメチルアミノ）－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－２－（フェニルメチル）－１－ブタノン、ＣＡＳ番号１１９３１３－１２－１、ＩＧＭ ｒｅｓｉｎｓから購入。
Ｃ－４：３－シクロペンチル－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－１－プロパノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）、ＣＡＳ番号１２２７３７５－９０－７、Ｃｈａｎｇｚｈｏｕ Ｔｒｏｎｌｙ Ｎｅｗ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．から購入、製品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３０４。
（増感剤（ｄ））
Ｄ１－１：４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ＣＡＳ番号９０－９３－７、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈから購入。
Ｄ１－２：４－（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、ＣＡＳ番号５３０－４４－９、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈから購入。
Ｄ２－１：ＢＦＢＫ、１，３－ビス（１，３－ジヒドロ－１，３，３－トリメチル－２Ｈ－インドール－２－イリデン）－２－プロパノン、ＣＡＳ番号２４２９３－９３－４、Ｈａｍｐｆｏｒｄ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｉｎｃから購入。
Ｄ２－２：３－ベンゾイル－７－（ジエチルアミノ）－２Ｈ－ベンゾピラン－２－オン、ＣＡＳ番号７７０１６－７８－５、Ｃｈａｎｇｚｈｏｕ Ｔｒｏｎｌｙ Ｎｅｗ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．から購入、製品名：ＴＲ－ＰＳＳ－２０２。
（他の添加剤（ｅ））
Ｅ－１：ＬＣＶ、ロイコクリスタルバイオレット、ＣＡＳ番号６０３－４８－５、Ｃｈａｎｇｚｈｏｕ Ｔｒｏｎｌｙ Ｎｅｗ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｃｏ，Ｌｔｄ．から購入、製品名：ＴＲ－ＬＣＶ。
Ｅ－２：５－カルボキシ－１Ｈ－ベンゾトリアゾール、ＣＡＳ番号６０９３２－５８－３、ＰＭＣ Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ Ｇｒｏｕｐ ＵＳＡから購入。
Ｅ－３：５－クロロ－１Ｈ－ベンゾトリアゾール、ＣＡＳ番号９４－９７－３、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈから購入。
Ｅ－４：マラカイトグリーン、塩化物塩、ＣＡＳ番号５６９－６４－２、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈから購入。
Ｅ－５：４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ＣＡＳ番号９８－２９－３、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈから購入。
（可視光ブロッキング物質（ｆ））
Ｆ－１：Ｅｕｓｏｒｂ ＵＶ－１９９５、４３１ｎｍでピーク吸収（ＰＭＭＡポリマー中に０．２重量％ドープされた、および２５ｍｍフィルムにコーティングされる）、Ｅｕｔｅｃ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄから購入。
（ＵＶ線ブロッキング物質（ｇ））
Ｇ－１：２，２’，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、ＣＡＳ番号１３１－５５－５、３６０ｎｍでピーク吸収（ＰＭＭＡポリマー中に０．２重量％ドープされた、および２５ｍｍフィルムにコーティングされる）、Ｅｖｅｒｌｉｇｈｔ Ｃｈｅｍｉｃａｌから購入、製品名：Ｅｖｅｒｓｏｒｂ ５１。
（アルカリ可溶性コポリマー（ａ）：）
Ａ－１：メチルメタクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／スチレン（３２／１８／２５／２５）で構成されるコポリマー、５５，０００のＭｗ、２．２の分散性および１６２．８ｍｇＫＯＨ／ｇの酸価。
（重合性化合物（ｂ））
Ｂ－１：ポリエトキシル化ビスフェノールＡジメタクリレート、全１７ＥＯ、ＣＡＳ番号４１６３７－３８－１、Ｓａｒｔｏｍｅｒから購入、商品名：ＢＰＥ９００。
Ｂ－２：トリメチロールプロパントリメタクリレート、ＣＡＳ番号３２９０－９２－４、Ｓａｒｔｏｍｅｒから購入、商品名：ＳＲ３５０ＮＳ。
（光開始剤（ｃ））
Ｃ－１：ｏ－Ｃｌ－ＨＡＢＩ、２－（２－クロロフェニル）－１－［２－（２－クロロフェニル）－４，５－ジフェニル－２Ｈ－イミダゾール－２－イル］－４，５－ジフェニル－１Ｈ－イミダゾール、ＣＡＳ番号７１８９－８２－４、Ｈａｍｐｆｏｒｄ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｉｎｃから購入。
Ｃ－２：ＴＣＤＭ－ＨＡＢＩ、２，２’，４－トリス（２－クロロフェニル）－５－（３，４－ジメトキシフェニル）－４’，５’－ジフェニル－１，１’－ビ－１Ｈ－イミダゾール、ＣＡＳ番号１００４８６－９７－３、Ｈａｍｐｆｏｒｄ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｉｎｃから購入。
Ｃ－３：ＯＭＮＩＲＡＤ ３６９、２－（ジメチルアミノ）－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－２－（フェニルメチル）－１－ブタノン、ＣＡＳ番号１１９３１３－１２－１、ＩＧＭ ｒｅｓｉｎｓから購入。
Ｃ－４：３－シクロペンチル－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－１－プロパノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）、ＣＡＳ番号１２２７３７５－９０－７、Ｃｈａｎｇｚｈｏｕ Ｔｒｏｎｌｙ Ｎｅｗ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．から購入、製品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３０４。
（増感剤（ｄ））
Ｄ１－１：４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ＣＡＳ番号９０－９３－７、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈから購入。
Ｄ１－２：４－（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、ＣＡＳ番号５３０－４４－９、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈから購入。
Ｄ２－１：ＢＦＢＫ、１，３－ビス（１，３－ジヒドロ－１，３，３－トリメチル－２Ｈ－インドール－２－イリデン）－２－プロパノン、ＣＡＳ番号２４２９３－９３－４、Ｈａｍｐｆｏｒｄ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｉｎｃから購入。
Ｄ２－２：３－ベンゾイル－７－（ジエチルアミノ）－２Ｈ－ベンゾピラン－２－オン、ＣＡＳ番号７７０１６－７８－５、Ｃｈａｎｇｚｈｏｕ Ｔｒｏｎｌｙ Ｎｅｗ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．から購入、製品名：ＴＲ－ＰＳＳ－２０２。
（他の添加剤（ｅ））
Ｅ－１：ＬＣＶ、ロイコクリスタルバイオレット、ＣＡＳ番号６０３－４８－５、Ｃｈａｎｇｚｈｏｕ Ｔｒｏｎｌｙ Ｎｅｗ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｃｏ，Ｌｔｄ．から購入、製品名：ＴＲ－ＬＣＶ。
Ｅ－２：５－カルボキシ－１Ｈ－ベンゾトリアゾール、ＣＡＳ番号６０９３２－５８－３、ＰＭＣ Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ Ｇｒｏｕｐ ＵＳＡから購入。
Ｅ－３：５－クロロ－１Ｈ－ベンゾトリアゾール、ＣＡＳ番号９４－９７－３、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈから購入。
Ｅ－４：マラカイトグリーン、塩化物塩、ＣＡＳ番号５６９－６４－２、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈから購入。
Ｅ－５：４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ＣＡＳ番号９８－２９－３、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈから購入。
（可視光ブロッキング物質（ｆ））
Ｆ－１：Ｅｕｓｏｒｂ ＵＶ－１９９５、４３１ｎｍでピーク吸収（ＰＭＭＡポリマー中に０．２重量％ドープされた、および２５ｍｍフィルムにコーティングされる）、Ｅｕｔｅｃ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄから購入。
（ＵＶ線ブロッキング物質（ｇ））
Ｇ－１：２，２’，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、ＣＡＳ番号１３１－５５－５、３６０ｎｍでピーク吸収（ＰＭＭＡポリマー中に０．２重量％ドープされた、および２５ｍｍフィルムにコーティングされる）、Ｅｖｅｒｌｉｇｈｔ Ｃｈｅｍｉｃａｌから購入、製品名：Ｅｖｅｒｓｏｒｂ ５１。
【0164】
（ドライフィルムサンプル（Ｍ１～Ｍ１１）の調製）
ドライフィルムサンプルを形成するための感光性組成物を、表１に列挙されるような重量部で各原料を秤量し、次いでアセトンとメタノールとの溶媒混合物（９０：１０）に原料を添加して、約３０％の固形分を有するコーティング溶液を形成することによって調製した。コーティング溶液を、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（すなわち、１６μｍ厚さの支持フィルム、東レ株式会社によって製造される）上へキャストし、室温で乾燥させて、ＰＥＴフィルム上に厚さ約１５μｍのレジスト層を含有するドライフィルムサンプルを形成した。
ドライフィルムサンプルを形成するための感光性組成物を、表１に列挙されるような重量部で各原料を秤量し、次いでアセトンとメタノールとの溶媒混合物（９０：１０）に原料を添加して、約３０％の固形分を有するコーティング溶液を形成することによって調製した。コーティング溶液を、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（すなわち、１６μｍ厚さの支持フィルム、東レ株式会社によって製造される）上へキャストし、室温で乾燥させて、ＰＥＴフィルム上に厚さ約１５μｍのレジスト層を含有するドライフィルムサンプルを形成した。
【0165】
【表1】
【0166】
（露光エネルギーの評価）
露光感度を評価するために、各ドライフィルムサンプルＭ１～Ｍ１１を含有する検体を調製した。検体は、５ｋｇ／ｃｍ２のプレス圧力および２ｍ／分の速度下にホットロール積層装置（ＨＲＬ－２４、ＤｕＰｏｎｔ Ｃｏ．，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，Ｄｅｌ．）を使用して１２０℃でドライフィルムサンプル（Ｍ１～Ｍ１１）をＰＥＴフィルム（１６μｍ厚さ、東レ株式会社によって製造される）に積層することによって調製し、次いで１時間で室温に冷却して露光エネルギー評価のための検体を得た。各検体を、ＰＥＴフィルム（１６μｍ）／レジスト層（１５μｍ）／ＰＥＴフィルム（１６μｍ）の構造を有する正方形片（サイズ：１５×１５ｃｍ２）にカットした。ＰＥＴ ｆｉｌｍ （１６ μｍ）／Ｒｅｓｉｓｔ ｌａｙｅｒ （１５ μｍ）／ＰＥＴ ｆｉｌｍ （１６ μｍ）．
露光感度を評価するために、各ドライフィルムサンプルＭ１～Ｍ１１を含有する検体を調製した。検体は、５ｋｇ／ｃｍ２のプレス圧力および２ｍ／分の速度下にホットロール積層装置（ＨＲＬ－２４、ＤｕＰｏｎｔ Ｃｏ．，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，Ｄｅｌ．）を使用して１２０℃でドライフィルムサンプル（Ｍ１～Ｍ１１）をＰＥＴフィルム（１６μｍ厚さ、東レ株式会社によって製造される）に積層することによって調製し、次いで１時間で室温に冷却して露光エネルギー評価のための検体を得た。各検体を、ＰＥＴフィルム（１６μｍ）／レジスト層（１５μｍ）／ＰＥＴフィルム（１６μｍ）の構造を有する正方形片（サイズ：１５×１５ｃｍ２）にカットした。ＰＥＴ ｆｉｌｍ （１６ μｍ）／Ｒｅｓｉｓｔ ｌａｙｅｒ （１５ μｍ）／ＰＥＴ ｆｉｌｍ （１６ μｍ）．
【0167】
各検体に、高圧水銀ランプを備えたおよび３５５～３９０ｎｍ（ＵＶ線）の範囲での露光のための狭帯域－通過フィルターかまたは４００ｎｍ以上（可視光）での露光のためのロング－パスフィルタかのどちらかであるフォトマスクを装着したＭＡ８接触式アライナ（ＳＵＳＳ ＭｉｃｒｏＴｅｃｈによって製造される）を用いることによって照射した。次いで、ステップウェッジ（４１ステップ、Ｓｔｏｕｆｆｅｒによって製造される）をＰＥＴフィルム上に置き、あらかじめ設定した露光エネルギー（例えば、１００、１５０、１０００ｍＪ／ｃｍ２まで）で照射した。
【0168】
露光および１５分超室温で置いた後、ＰＥＴフィルムを剥離した。検体を、現像時間の２倍である継続時間の間３０℃において０．２ＭＰａの圧力で１％炭酸ナトリウム水溶液を噴霧することによって現像した。脱イオン水でリンスし、乾燥させた後、Ｓｔｏｕｆｆｅｒ ４１ Ｓｔｅｐ Ｗｅｄｇｅと比べて検体に関して保持される露光エネルギーの結果生じたステップの数を記録した。ドライフィルムレジストのそれぞれに関してＳｔｏｕｆｆｅｒ ４１ Ｓｔｅｐ Ｗｅｄｇｅ上に保持される１２ステップを得るために必要とされる露光エネルギー（ｍＪ）（ＥＳＳＴ１２）を表２に列挙した。保持される同じ数のステップをもたらすためのより大きい露光エネルギーは、レジスト層が選択された露光波長でより低い感度を有することを意味した。
【0169】
（トリガーエネルギーの計算）
Ｓｔｏｕｆｆｅｒ ４１ Ｓｔｅｐ Ｗｅｄｇｅ上に保持される０－ステップを得るための各ドライフィルムサンプルの露光エネルギー（ＥＳＳＴ０）をトリガーエネルギー（ＥＳＳＴ０）として報告した。トリガーエネルギーは、以下の方程式によって計算され得る：
ＥＳＳＴ０＝ＥＳＳＴ１２／４ （方程式１）
Ｓｔｏｕｆｆｅｒ ４１ Ｓｔｅｐ Ｗｅｄｇｅ上に保持される０－ステップを得るための各ドライフィルムサンプルの露光エネルギー（ＥＳＳＴ０）をトリガーエネルギー（ＥＳＳＴ０）として報告した。トリガーエネルギーは、以下の方程式によって計算され得る：
ＥＳＳＴ０＝ＥＳＳＴ１２／４ （方程式１）
【0170】
ドライフィルムサンプルＭ１～Ｍ１１の計算されたＥＳＳＴ０データを表２に列挙した。
【0171】
（ドライフィルムレジスト透過率の測定）
各ドライフィルムサンプルの透過率を、Ｌａｍｂｄａ ３５－ＵＶ／ＶＩＳ分光計（Ｐｅｒｌｉｎ Ｅｌｍｅｒによって製造される。測定条件 波長範囲：２００ｎｍ～８００ｎｍ、走査速度：３００ｎｍ／分、走査間隔：０．５０ｎｍ）を用いて測定した。ベースライン測定は、ドライフィルムサンプルの支持フィルムとして使用された１６μｍ厚さのＰＥＴフィルムに関して行った。３６５ｎｍおよび４０５ｎｍでの透過率を記録し、表２に列挙した。
各ドライフィルムサンプルの透過率を、Ｌａｍｂｄａ ３５－ＵＶ／ＶＩＳ分光計（Ｐｅｒｌｉｎ Ｅｌｍｅｒによって製造される。測定条件 波長範囲：２００ｎｍ～８００ｎｍ、走査速度：３００ｎｍ／分、走査間隔：０．５０ｎｍ）を用いて測定した。ベースライン測定は、ドライフィルムサンプルの支持フィルムとして使用された１６μｍ厚さのＰＥＴフィルムに関して行った。３６５ｎｍおよび４０５ｎｍでの透過率を記録し、表２に列挙した。
【0172】
（入射露光エネルギーの計算）
前述のようにおよび図３Ａへの言及のように、本発明の両面フォトリソグラフィー法は、透明な導電性基板の反対側上に配置される２つの光源を使用する。第１のレジスト（ＤＦ１）が、ＥＳＳＴ１２の露光エネルギーのＵＶ光線（例えば、３６５ｎｍでの）の第１の光源によって照射されると仮定すると、入射ＵＶ光線の露光エネルギー（Ｉｎｃ．Ｅ３６５）は、第２のレジスト（ＤＦ２）に達し得、ＤＦ１の３６５ｎｍでの透過率（Ｔ３６５）および露光エネルギー（ＥＳＳＴ１２）によって計算される。
前述のようにおよび図３Ａへの言及のように、本発明の両面フォトリソグラフィー法は、透明な導電性基板の反対側上に配置される２つの光源を使用する。第１のレジスト（ＤＦ１）が、ＥＳＳＴ１２の露光エネルギーのＵＶ光線（例えば、３６５ｎｍでの）の第１の光源によって照射されると仮定すると、入射ＵＶ光線の露光エネルギー（Ｉｎｃ．Ｅ３６５）は、第２のレジスト（ＤＦ２）に達し得、ＤＦ１の３６５ｎｍでの透過率（Ｔ３６５）および露光エネルギー（ＥＳＳＴ１２）によって計算される。
【0173】
同様に、ＥＳＳＴ１２の露光エネルギーの可視光線（例えば、４０５ｎｍでの）の第２の光源によって照射される第２のレジスト（ＤＦ２）に関して、入射可視光線の露光エネルギー（Ｉｎｃ．Ｅ４０５）は、第１のレジスト（ＤＦ１）に達し得、ＤＦ２の４０５ｎｍでの透過率（Ｔ４０５）および４０５ｎｍでの露光エネルギー（ＥＳＳＴ１２）によって計算される。各ドライフィルムサンプルＭ１～Ｍ１１の入射ＵＶ光線（Ｉｎｃ．Ｅ３６５）および入射可視光線（Ｉｎｃ．Ｅ４０５）の計算された露光エネルギーを表２に列挙した。
【0174】
（ドライフィルムサンプルＭ１～Ｍ１１の解像度評価）
ドライフィルムサンプルＭ１～Ｍ１１の解像度を、明記されたドライフィルムサンプルと透明な導電性ベースとを含有するラミネートに関して評価した。透明な導電性ベースは、ＰＥＴフィルム（すなわち、透明なコア１０、サイズ：１５ｃｍ×１５ｃｍ×５０ｍｍ）で構成され、ＰＥＴフィルムの各面上を銀ナノワイヤーの薄層（すなわち、第１のおよび第２の透明な導電性層２１および２２）でコーティングされた。ドライフィルムサンプルを透明な導電性ベース上に置いてプレフォームを得た。
ドライフィルムサンプルＭ１～Ｍ１１の解像度を、明記されたドライフィルムサンプルと透明な導電性ベースとを含有するラミネートに関して評価した。透明な導電性ベースは、ＰＥＴフィルム（すなわち、透明なコア１０、サイズ：１５ｃｍ×１５ｃｍ×５０ｍｍ）で構成され、ＰＥＴフィルムの各面上を銀ナノワイヤーの薄層（すなわち、第１のおよび第２の透明な導電性層２１および２２）でコーティングされた。ドライフィルムサンプルを透明な導電性ベース上に置いてプレフォームを得た。
【0175】
構造：［ドライフィルムサンプル／ＡｇＮＷ／ＰＥＴ／ＡｇＮＷ］を有するプレフォームを、５ｋｇ／ｃｍ２のプレス圧力および２ｍ／分の速度下にホットロール積層装置（ＨＲＬ－２４、ＤｕＰｏｎｔ Ｃｏ．，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，Ｄｅｌ．）を使用して１２０℃で積層し、次いで１５分間で室温に冷却した。
【0176】
結果として生じたラミネートを、１：１である露光部分対非露光部分のＬ／Ｓ比を有するラインマスク（クロムガラスマスク）によってＳｔｏｕｆｆｅｒ ４１ Ｓｔｅｐ Ｗｅｄｇｅ上に保持される１２ステップを得るための露光エネルギー（ＥＳＳＴ１２）で露光した。ライン幅は、５μｍ～３０μｍの範囲であった。現像を最小現像時間の２倍の現像時間で行い、普通は形成された硬化フォトレジストラインの最小マスクライン幅を、解像度（μｍ単位）と見なし、次のとおり分類した：
◎：解像度は、１０μｍ以下である。
○：解像度は、１０μｍ～１５μｍである。
×：解像度は、１５μｍ～３０μｍである。
◎：解像度は、１０μｍ以下である。
○：解像度は、１０μｍ～１５μｍである。
×：解像度は、１５μｍ～３０μｍである。
【0177】
各ドライフィルムサンプルの解像度を表２に示した。
【0178】
【表2】
【0179】
（実施例１の透明な導電性基板の調製）
次に、ドライフィルムサンプルＭ２およびＭ１０を、それぞれ、ＤＦ１およびＤＦ２として表３に従って透明な導電性ベースの両面上に置いた。透明な導電性ベースは、ＰＥＴフィルム（すなわち、透明なコア１０、サイズ：１５ｃｍ×１５ｃｍ×５０ｍｍ）で構成され、ＰＥＴフィルムの各面上を銀ナノワイヤーの薄層（すなわち、第１のおよび第２の透明な導電性層２１および２２）でコーティングされた。
次に、ドライフィルムサンプルＭ２およびＭ１０を、それぞれ、ＤＦ１およびＤＦ２として表３に従って透明な導電性ベースの両面上に置いた。透明な導電性ベースは、ＰＥＴフィルム（すなわち、透明なコア１０、サイズ：１５ｃｍ×１５ｃｍ×５０ｍｍ）で構成され、ＰＥＴフィルムの各面上を銀ナノワイヤーの薄層（すなわち、第１のおよび第２の透明な導電性層２１および２２）でコーティングされた。
【0180】
ＰＥＴ／Ｍ２／ＡｇＮＷ／ＰＥＴ／ＡｇＮＷ／Ｍ１０／ＰＥＴの構造を有する積み重ねプレフォームを、５ｋｇ／ｃｍ２のプレス圧力および２ｍ／分の速度下にホットロール積層装置（ＨＲＬ－２４、ＤｕＰｏｎｔ Ｃｏ．，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，Ｄｅｌ．）を使用して１２０℃で積層し、次いで１時間で室温に冷却して実施例１の透明な導電性基板を得た。
【0181】
（実施例２～８および比較例１～７の透明な導電性基板の調製）
全ての実施例（Ｅ２～Ｅ８）および比較例（ＣＥ１～ＣＥ７）を、実施例１に関して上で記載されたものと同じ手順によって調製した。各実施例（Ｅ２～Ｅ８）および比較例で使用された一連のドライフィルムサンプルを表３に列挙した。
全ての実施例（Ｅ２～Ｅ８）および比較例（ＣＥ１～ＣＥ７）を、実施例１に関して上で記載されたものと同じ手順によって調製した。各実施例（Ｅ２～Ｅ８）および比較例で使用された一連のドライフィルムサンプルを表３に列挙した。
【0182】
（実施例（Ｅ１～Ｅ８）および比較例（ＣＥ１～ＣＥ７）の性能）
一連の指定ＤＦ１およびＤＦ２を含有する透明な導電性基板の性能を、両面フォトリソグラフィー法にかけた後で評価した。［ＰＥＴ／第１のレジスト］／ＡｇＮＷ／ＰＥＴ／ＡｇＮＷ／［第２のレジスト／ＰＥＴ］の構造を有する実施例１～８および比較例ＣＥ１～ＣＥ７の調製された透明な導電性基板を、入射光露光によりパターン化することによって評価した。
一連の指定ＤＦ１およびＤＦ２を含有する透明な導電性基板の性能を、両面フォトリソグラフィー法にかけた後で評価した。［ＰＥＴ／第１のレジスト］／ＡｇＮＷ／ＰＥＴ／ＡｇＮＷ／［第２のレジスト／ＰＥＴ］の構造を有する実施例１～８および比較例ＣＥ１～ＣＥ７の調製された透明な導電性基板を、入射光露光によりパターン化することによって評価した。
【0183】
透明な導電性基板を、Ｌ／Ｓ＝１５ｍｍ／１５ｍｍ平行線パターンを有するラインマスク（クロムガラスマスク）によって露光した。第１のレジスト層３１を、高圧水銀ランプによっておよび３５５～３９０ｎｍ（ＵＶ線）の範囲での露光のための水平線パターンのフォトマスクを備えて照射し；第２のレジスト層３２を、高圧水銀ランプによっておよび４００ｎｍ以上の波長での可視光線での露光のための垂直線パターンのフォトマスクを備えて照射した。
【0184】
現像後に、得られた透明な導電性ラミネートの両表面上のパターンを、光学顕微鏡によって視覚的にチェックした。一つの表面上のパターン形状を他の表面上のパターン形状に反映させ、評価し、表３に記録した。
【0185】
３６５ｎｍでの入射ＵＶ光線によるＤＦ２の光硬化を避けるために、適切なＤＦ２は、入射露光エネルギーよりも少なくとも高い３６５ｎｍでのトリガーエネルギー（ＥＳＳＴ０）を持たなければならない。４０５ｎｍでの入射可視光線によるＤＦ１の光硬化を避けるために、適切なＤＦ１は、入射露光エネルギー（Ｉｎｃ．Ｅ４０５）よりも少なくとも高い４０５ｎｍでのトリガーエネルギー（ＥＳＳＴ０）を持たなければならない。例えば、ドライフィルムＭ３がＤＦ１として使用される場合、ＤＦ２として使用される潜在的に適切なドライフィルムサンプルは、表３によればＭ８～Ｍ１１を含む。
【0186】
透明な導電性基板の画像性能を、現像後の処理された透明な導電性基板上に残された残留レジストの量によって評価し、表３に記録した。
【0187】
透明な導電性基板の画像性能を以下のとおり類別した。
◎：水平線と垂直線との間の交差領域は、レジスト残渣を全く示さなかった（図４Ａを参照されたい）
○：水平線と垂直線との間の交差領域は、わずかなレジスト残渣を示した（図４Ｂを参照されたい）
×：水平線と垂直線との間の交差領域は、著しいレジストパターンを示した（図４Ｃを参照されたい）
◎：水平線と垂直線との間の交差領域は、レジスト残渣を全く示さなかった（図４Ａを参照されたい）
○：水平線と垂直線との間の交差領域は、わずかなレジスト残渣を示した（図４Ｂを参照されたい）
×：水平線と垂直線との間の交差領域は、著しいレジストパターンを示した（図４Ｃを参照されたい）
【0188】
【表3】
【0189】
表３に列挙される結果から、以下が明らかである。
【0190】
実施例Ｅ１～Ｅ８の透明な導電性基板は、比較例（ＣＥ１～ＣＥ７）のそれらと比べて、剥離後に各透明な導電性基板の両面上の結果として生じたきれいなレジストパターンによって評価される良好な～優れた画像性能を実証した。言い換えれば、反対光源からの入射光線によって引き起こされるレジスト層の予期されない重合は全くない。
【0191】
第１のレジスト層および第２のレジスト層が異なる波長領域の光線（すなわち、ＵＶ光線または可視光線）によって光硬化させられるために、適切な感光性組成物は、ＵＶ光線かまたは可視光線かのどちらかを吸収するように設計されている開始剤および／または増感剤を持たなければならない。透明な導電性基板が、同じものであるレジスト層を両面上に有する場合、本発明の両面リソグラフィー法を用いることによって、結果として生じた透明な導電性ラミネートは許容できない画像性能を示すであろうことが予期される。上記所説は、ＣＥ１およびＣＥ２に関して見出された結果によって支持される。
【0192】
表３におけるＣＥ１のデータを検討すると、ドライフィルムＭ１であるＤＦ２からＤＦ１への入射光エネルギー（Ｉｎｃ．Ｅ４０５）は、ＤＦ１としてのドライフィルムＭ１の可視光によるトリガーエネルギー（４０５ｎｍでのＥＳＳＴ０）（すなわち、１４８ｍＪ）よりもはるかに高い４８０ｍＪである。加えて、ドライフィルムＭ１であるＤＦ１からＤＦ２への入射光エネルギー（Ｉｎｃ．Ｅ３６５）は、ＤＦ２としてのドライフィルムＭ１のＵＶ線によるトリガーエネルギー（３６５ｎｍでのＥＳＳＴ０）（すなわち、３９ｍＪ）よりもまた高い７４ｍＪである。それ故に、第１のレジスト層および第２のレジスト層の両方とも、反対側から透明なコアを通って伝達される入射光線によって不可避的にパターン化された。
【0193】
Ｅ１（すなわち、ドライフィルムＭ２／Ｍ１０で構成される）とＣＥ７（すなわち、ドライフィルムＭ１／Ｍ１０で構成される）とを比較して、Ｅ１は、第１のレジスト層としてドライフィルムＭ２を使用し、一方、ＣＥ７は、第１のレジスト層としてドライフィルムＭ１を使用した。ドライフィルムＭ１およびＭ２は両方とも、それぞれ異なる増感剤を含有するけれども、それらは、ＵＶ光線による類似のＥＳＳＴ１２（１５５ｍＪ対１８５ｍＪ）を有する。しかしながら、それぞれのトリガーエネルギー（４０５ｎｍでのＥＳＳＴ０は、Ｍ２に関して２６７ｍＪ、Ｍ１に関して１４８ｍＪである）によって判断するように、ドライフィルムＭ２がドライフィルムＭ１のそれよりも低い可視光感受性を有するために、Ｅ１においてＭ２で構成される第１のレジスト層は、ドライフィルムＭ１０で構成される同じ第２のレジスト層を通過した入射可視光エネルギー（すなわち、２２６ｍＪ）によってパターン化されなかった。
【0194】
Ｅ７（Ｍ７／Ｍ１０）とＥ１（Ｍ２／Ｍ１０）とを比較して、ドライフィルムＭ７における可視光ブロッキング物質（ｆ）の添加は、４０５ｎｍでのＥＳＳＴ０（Ｍ７に関して２８３ｍＪ対Ｍ２に関して２６７ｍＪ）によって判断するところでは、Ｍ７の入射可視光の感度を一見したところ低くした。
【0195】
本発明は典型的な実施形態において例示されおよび記載されてきたが、様々な修正および置換が本発明の主旨から逸脱することなく可能であるので、示された詳細に限定されることは意図されない。したがって、本明細書に開示される発明の修正および同等物は、ただのルーチンにすぎない実験を用いて当業者に思い当たり得、全てのそのような修正および同等物は、以下の特許請求の範囲によって定義されるような本発明の主旨および範囲内にあると考えられる。
【符号の説明】
【0196】
１０ 透明なコア
２１ 第１の透明な導電性層
２２ 第２の透明な導電性層
２３ 導電回路
２４ 導電回路
３１ 第１のレジスト層
３２ 第２のレジスト層
３３ 第１のレジストパターン
３４ 第２のレジストパターン
４１ 第１のポリマーフィルム
４２ 第２のポリマーフィルム
１００ 透明な導電性基板
１１０ 第１の光源
１２０ 第２の光源
２００ 透明な導電性基板
２１ 第１の透明な導電性層
２２ 第２の透明な導電性層
２３ 導電回路
２４ 導電回路
３１ 第１のレジスト層
３２ 第２のレジスト層
３３ 第１のレジストパターン
３４ 第２のレジストパターン
４１ 第１のポリマーフィルム
４２ 第２のポリマーフィルム
１００ 透明な導電性基板
１１０ 第１の光源
１２０ 第２の光源
２００ 透明な導電性基板
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【外国語明細書】