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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024033484
(43)【公開日】2024-03-13
(54)【発明の名称】漏れ試験方法及び装置
(51)【国際特許分類】
G01M 3/20 20060101AFI20240306BHJP
【ＦＩ】
G01M3/20 W
【審査請求】未請求
【請求項の数】5
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022137081
(22)【出願日】2022-08-30
(71)【出願人】
【識別番号】390019035
【氏名又は名称】株式会社フクダ
(74)【代理人】
【識別番号】110003340
【氏名又は名称】弁理士法人湧泉特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】渡邊 望
(72)【発明者】
【氏名】井元 宏行
(72)【発明者】
【氏名】猪股 順
(72)【発明者】
【氏名】増田 貞叔
(72)【発明者】
【氏名】尾形 直哉
(72)【発明者】
【氏名】樫村 勝義
【テーマコード（参考）】
2G067
【Ｆターム（参考）】
2G067AA21
2G067CC04
2G067DD17
(57)【要約】
【課題】チャンバー又は被検体からの低圧の被検ガスを略大気圧等の圧力下に置かれた検査成分センサに導入して検査成分を検知する漏れ試験における信頼性及び検知感度を高めるとともに試験時間を短縮する。
【解決手段】チャンバー１０に収容された被検体９の内部空間（第１室１１）に検査成分（Ｈ２）を含む検査ガスを導入する。チャンバー１０と被検体９との間のチャンバー内空間（第２室１２）を減圧する。往還路３１と第２室１２とからなる循環経路３０に沿って、第２室１２内の被検ガスｇを循環させる。その後、循環を停止するとともに、圧縮ガス供給路５３からの圧縮ガス（清浄空気）によって、被検ガスｇを循環経路３０から分岐されたセンサ導入路４９へ向けて圧縮する。圧縮された被検ガスｇを検査成分センサ４３へ導入する。
【選択図】 図１
【解決手段】チャンバー１０に収容された被検体９の内部空間（第１室１１）に検査成分（Ｈ２）を含む検査ガスを導入する。チャンバー１０と被検体９との間のチャンバー内空間（第２室１２）を減圧する。往還路３１と第２室１２とからなる循環経路３０に沿って、第２室１２内の被検ガスｇを循環させる。その後、循環を停止するとともに、圧縮ガス供給路５３からの圧縮ガス（清浄空気）によって、被検ガスｇを循環経路３０から分岐されたセンサ導入路４９へ向けて圧縮する。圧縮された被検ガスｇを検査成分センサ４３へ導入する。
【選択図】 図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
検査成分を含む検査ガスを用いて被検体を漏れ試験する漏れ試験方法であって、
チャンバーに収容された被検体の内部空間及び前記チャンバーと前記被検体との間のチャンバー内空間からなる第１室及び第２室のうち第１室に前記検査ガスを導入する工程と、
前記第２室を減圧する工程と、
両端が前記第２室に連なる往還路と前記減圧された第２室とからなる循環経路に沿って、前記第２室内の被検ガスを循環させる工程と、
前記循環を停止するとともに、圧縮ガスによって前記被検ガスを前記循環経路から分岐されたセンサ導入路へ向けて圧縮する工程と、
前記圧縮された被検ガスを前記センサ導入路から略大気圧ないしは前記第２室より高圧下の検査成分センサへ導入して前記検査成分の検知を行なう工程と
を備えたことを特徴とする漏れ試験方法。
チャンバーに収容された被検体の内部空間及び前記チャンバーと前記被検体との間のチャンバー内空間からなる第１室及び第２室のうち第１室に前記検査ガスを導入する工程と、
前記第２室を減圧する工程と、
両端が前記第２室に連なる往還路と前記減圧された第２室とからなる循環経路に沿って、前記第２室内の被検ガスを循環させる工程と、
前記循環を停止するとともに、圧縮ガスによって前記被検ガスを前記循環経路から分岐されたセンサ導入路へ向けて圧縮する工程と、
前記圧縮された被検ガスを前記センサ導入路から略大気圧ないしは前記第２室より高圧下の検査成分センサへ導入して前記検査成分の検知を行なう工程と
を備えたことを特徴とする漏れ試験方法。
【請求項2】
前記停止及び圧縮の工程では、前記往還路における前記センサ導入路への分岐部より下流側の一部分を遮断し、前記往還路の前記遮断された部分の下流側に前記圧縮ガスを供給することを特徴とする請求項１に記載の漏れ試験方法。
【請求項3】
検査成分を含む検査ガスを用いて被検体を漏れ試験する漏れ試験装置であって、
前記被検体を収容するチャンバーと、
前記被検体の内部空間及び前記チャンバーと前記被検体との間のチャンバー内空間からなる第１室及び第２室のうち第１室に接続された検査ガス導入路と、
前記第２室に接続された減圧ポンプと、
両端が前記第２室と連なり循環経路を構成する往還路と、
前記第２室の被検ガスを前記循環経路に沿って循環させる循環ポンプと、
前記循環経路から分岐されたセンサ導入路と、
前記循環後の被検ガスが前記センサ導入路へ向けて圧縮されるよう、前記循環経路に圧縮ガスを供給する圧縮ガス供給路と、
前記センサ導入路に連なるとともに、略大気圧ないしは前記第２室より高圧下に配置された検査成分センサと
を備えたことを特徴とする漏れ試験装置。
前記被検体を収容するチャンバーと、
前記被検体の内部空間及び前記チャンバーと前記被検体との間のチャンバー内空間からなる第１室及び第２室のうち第１室に接続された検査ガス導入路と、
前記第２室に接続された減圧ポンプと、
両端が前記第２室と連なり循環経路を構成する往還路と、
前記第２室の被検ガスを前記循環経路に沿って循環させる循環ポンプと、
前記循環経路から分岐されたセンサ導入路と、
前記循環後の被検ガスが前記センサ導入路へ向けて圧縮されるよう、前記循環経路に圧縮ガスを供給する圧縮ガス供給路と、
前記センサ導入路に連なるとともに、略大気圧ないしは前記第２室より高圧下に配置された検査成分センサと
を備えたことを特徴とする漏れ試験装置。
【請求項4】
前記往還路には、前記センサ導入路への分岐部と、前記循環ポンプと、前記圧縮ガス供給路との合流部とが、上流側から順次設けられていることを特徴とする請求項３に記載の漏れ試験装置。
【請求項5】
前記チャンバーが、前記循環経路に沿って上流側の壁部と下流側の壁部とを有し、これら壁部のうち少なくとも１の壁部が、
前記往還路の端部との接続ポートと、
前記接続ポートに連なるとともに前記１の壁部の面内方向に行き渡る壁内空間部と、
前記壁内空間部にそれぞれ連なるとともに、前記壁部の面内方向に互いに分散して配置された複数の開口部と、
を備え、前記開口部が、前記壁内空間部から拡開されながら前記チャンバー内空間へ開口されていることを特徴とする請求項３又は４に記載の漏れ試験装置。
前記往還路の端部との接続ポートと、
前記接続ポートに連なるとともに前記１の壁部の面内方向に行き渡る壁内空間部と、
前記壁内空間部にそれぞれ連なるとともに、前記壁部の面内方向に互いに分散して配置された複数の開口部と、
を備え、前記開口部が、前記壁内空間部から拡開されながら前記チャンバー内空間へ開口されていることを特徴とする請求項３又は４に記載の漏れ試験装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、水素等の検査成分を含む検査ガスを用いて被検体（ワーク）の漏れ試験（リークテスト）を行なう方法及び装置に関し、特に、被検体又はそれを収容したチャンバーからの低圧の被検ガスを大気圧等の圧力下に置かれた検査成分センサに導入して検査成分を検知する漏れ試験方法及び装置に関する。
【背景技術】
【0002】
この種の漏れ試験として、例えば水素漏れ試験においては、被検体をチャンバーに入れ、被検体の内部に水素を含む検査ガスを導入するとともに、チャンバーの内壁と被検体との間のチャンバー内空間を減圧して、該チャンバー内空間の被検ガス中の水素を水素センサによって検知する（特許文献１、２等参照）。水素センサとしては、例えば半導体式水素センサが用いられている。半導体式水素センサの半導体の表面には空気中の酸素を吸着させておく。そこに水素が流入してくると、上記酸素と水素とが反応して酸素吸着量が減り、半導体の電気伝導度（電流）が変化することで、水素を検知できる。一方、半導体式水素センサは、空気中の酸素を必要とするため大気圧下に置かれている。減圧されたチャンバー内空間では被検ガス中の水素濃度が高かったとしても、その被検ガスを半導体式水素センサへ導入するとき、大気圧の空気が混ざると、水素濃度が薄まってしまい感度が低下する。
【0003】
特許文献１においては、空気又は窒素からなるキャリアガスで被検ガスを真空チャンバーから押し出すとともに、真空ポンプに引き込んで大気圧まで圧縮して吐き出すことによって、被検ガスを大気圧下の水素センサへ導入している。
特許文献２においては、小流量の清浄空気（キャリアガス）で被検ガスを真空チャンバーから押し出すとともに、大流量の清浄空気で被検ガスを圧縮して大気圧下の水素センサへ導入している。
特許文献２においては、小流量の清浄空気（キャリアガス）で被検ガスを真空チャンバーから押し出すとともに、大流量の清浄空気で被検ガスを圧縮して大気圧下の水素センサへ導入している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２００５－１６４５２５号公報
【特許文献2】特開２０１５－１６１５５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
特許文献１の方法は、真空ポンプを通過した後の被検ガスが水素検知されるため、真空ポンプのシール用の油に水素が溶け込んだり真空ポンプの脈動の影響を受けたりすることで、漏れ試験の信頼性を損ねるおそれがある。ドライポンプを用いればシール用の油が不要であるが、高価で製品価格が上昇してしまう。また、キャリアガスとの混合によって被検ガスの水素濃度が薄まり、感度が低下する。
特許文献２の方法でも、キャリアガスを用いるために被検ガスの希釈が懸念される。これを避けるには、真空チャンバーから水素センサへ延びる管路（圧縮路）を細長くして、圧縮工程時の被検ガスとキャリアガスとが混ざらないようにする必要があるが、そうすると、少流量のキャリアガスにより被検ガスを圧縮路に導くために時間がかかり、ひいては試験時間が長くなる。
本発明は、かかる事情に鑑み、被検体又はそれを収容したチャンバーからの低圧の被検ガスを大気圧等の圧力下に置かれた検査成分センサに導入して、水素等の検査成分を検知する漏れ試験における信頼性、検知感度を高め、試験時間を短縮することを目的とする。
特許文献２の方法でも、キャリアガスを用いるために被検ガスの希釈が懸念される。これを避けるには、真空チャンバーから水素センサへ延びる管路（圧縮路）を細長くして、圧縮工程時の被検ガスとキャリアガスとが混ざらないようにする必要があるが、そうすると、少流量のキャリアガスにより被検ガスを圧縮路に導くために時間がかかり、ひいては試験時間が長くなる。
本発明は、かかる事情に鑑み、被検体又はそれを収容したチャンバーからの低圧の被検ガスを大気圧等の圧力下に置かれた検査成分センサに導入して、水素等の検査成分を検知する漏れ試験における信頼性、検知感度を高め、試験時間を短縮することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
前記課題を解決するため、本発明方法は、検査成分を含む検査ガスを用いて被検体を漏れ試験する漏れ試験方法であって、
チャンバーに収容された被検体の内部空間及び前記チャンバーと前記被検体との間のチャンバー内空間からなる第１室及び第２室のうち第１室に前記検査ガスを導入する工程と、
前記第２室を減圧する工程と、
両端が前記第２室に連なる往還路と前記減圧された第２室とからなる循環経路に沿って、前記第２室内の被検ガスを循環させる工程と、
前記循環を停止するとともに、圧縮ガスによって前記被検ガスを前記循環経路から分岐されたセンサ導入路へ向けて圧縮する工程と、
前記圧縮された被検ガスを前記センサ導入路から略大気圧ないしは前記第２室より高圧下の検査成分センサへ導入して前記検査成分の検知を行なう工程と
を備えたことを特徴とする。
前記検査成分としては水素ガス（Ｈ２）が挙げられる。
前記検査成分センサとしては、半導体式水素センサが挙げられる。半導体式水素センサは、通常、略大気圧下に配置され、少なくとも前記第２室より高圧下に配置される。
加えて、被検体から漏れがあった場合、前記循環工程中、漏れた検査成分が循環中の被検ガスに蓄積され、被検ガスの検査成分濃度が高まる。
被検体に密封欠陥部が有った場合、第１室に導入した検査ガスが、前記密封欠陥部を通して第２室へ漏れる。
前記循環工程によって、第２室の被検ガスに流れを持たせることで、漏れた検査ガス中のＨ２等の検査成分が被検ガスの全域に混ざる。したがって、被検ガスの循環流れが整った後は、漏れが一定であれば、被検ガス中の検査成分濃度が一定となる。これによって、特許文献２のキャリアガスと同様の効果が得られるだけでなく、外からキャリアガスを導入しないから、検査成分濃度が希釈されることが無い。しかも、循環工程の期間中、漏れた検査成分が循環経路に蓄積され、検査成分濃度が高まる。これによって、検知感度を高めることができる。さらには、循環工程によって、第２室から往還路におけるセンサ導入路との分岐部までの、圧縮工程における圧縮路となる部分に被検ガスを流すことができる。また、循環工程で用いる循環ポンプの能力を上げることによって被検ガスの流速を高めることができる。この結果、検知工程において被検ガスを検査成分センサへ高速導入でき、キャリアガスの流速ないしは流量を大きくする必要が無い。これによって、検査工程における検知感度を損なうことなく試験時間を短縮できる。
ちなみに、特許文献１，２のようなキャリアガス法で被検ガスを短時間で圧縮路へ導くには、流速を早くするか流量を増やす必要がある。流速を早めるには通路を狭くする必要があるが、被検体の形状に合わせたチャンバーの製作はコストもかかり多品種への対応も困難である。そのため、流量を大きくする方法を取らざるを得ず、被検ガスの希釈を招く。
被検ガスを検査成分センサからの排気用の真空ポンプに通す前に、又は被検ガスを検査成分センサへの導入用の真空ポンプに通すことなく検知工程を行なうことができるから、前記真空ポンプの油による検査成分の吸収や真空ポンプの脈動に影響されることが無く、漏れ試験の信頼性が高まる。
チャンバーに収容された被検体の内部空間及び前記チャンバーと前記被検体との間のチャンバー内空間からなる第１室及び第２室のうち第１室に前記検査ガスを導入する工程と、
前記第２室を減圧する工程と、
両端が前記第２室に連なる往還路と前記減圧された第２室とからなる循環経路に沿って、前記第２室内の被検ガスを循環させる工程と、
前記循環を停止するとともに、圧縮ガスによって前記被検ガスを前記循環経路から分岐されたセンサ導入路へ向けて圧縮する工程と、
前記圧縮された被検ガスを前記センサ導入路から略大気圧ないしは前記第２室より高圧下の検査成分センサへ導入して前記検査成分の検知を行なう工程と
を備えたことを特徴とする。
前記検査成分としては水素ガス（Ｈ２）が挙げられる。
前記検査成分センサとしては、半導体式水素センサが挙げられる。半導体式水素センサは、通常、略大気圧下に配置され、少なくとも前記第２室より高圧下に配置される。
加えて、被検体から漏れがあった場合、前記循環工程中、漏れた検査成分が循環中の被検ガスに蓄積され、被検ガスの検査成分濃度が高まる。
被検体に密封欠陥部が有った場合、第１室に導入した検査ガスが、前記密封欠陥部を通して第２室へ漏れる。
前記循環工程によって、第２室の被検ガスに流れを持たせることで、漏れた検査ガス中のＨ２等の検査成分が被検ガスの全域に混ざる。したがって、被検ガスの循環流れが整った後は、漏れが一定であれば、被検ガス中の検査成分濃度が一定となる。これによって、特許文献２のキャリアガスと同様の効果が得られるだけでなく、外からキャリアガスを導入しないから、検査成分濃度が希釈されることが無い。しかも、循環工程の期間中、漏れた検査成分が循環経路に蓄積され、検査成分濃度が高まる。これによって、検知感度を高めることができる。さらには、循環工程によって、第２室から往還路におけるセンサ導入路との分岐部までの、圧縮工程における圧縮路となる部分に被検ガスを流すことができる。また、循環工程で用いる循環ポンプの能力を上げることによって被検ガスの流速を高めることができる。この結果、検知工程において被検ガスを検査成分センサへ高速導入でき、キャリアガスの流速ないしは流量を大きくする必要が無い。これによって、検査工程における検知感度を損なうことなく試験時間を短縮できる。
ちなみに、特許文献１，２のようなキャリアガス法で被検ガスを短時間で圧縮路へ導くには、流速を早くするか流量を増やす必要がある。流速を早めるには通路を狭くする必要があるが、被検体の形状に合わせたチャンバーの製作はコストもかかり多品種への対応も困難である。そのため、流量を大きくする方法を取らざるを得ず、被検ガスの希釈を招く。
被検ガスを検査成分センサからの排気用の真空ポンプに通す前に、又は被検ガスを検査成分センサへの導入用の真空ポンプに通すことなく検知工程を行なうことができるから、前記真空ポンプの油による検査成分の吸収や真空ポンプの脈動に影響されることが無く、漏れ試験の信頼性が高まる。
【0007】
好ましくは、前記停止及び圧縮の工程では、前記往還路における前記センサ導入路への分岐部より下流側の一部分を遮断し、前記往還路の前記遮断された部分の下流側に前記圧縮ガスを供給する。これによって、循環工程での被検ガスの流れ方向をそのまま維持しながら、被検ガスをセンサ導入路へ向けて圧縮できる。
【0008】
本発明装置は、検査成分を含む検査ガスを用いて被検体を漏れ試験する漏れ試験装置であって、
前記被検体を収容するチャンバーと、
前記被検体の内部空間及び前記チャンバーと前記被検体との間のチャンバー内空間からなる第１室及び第２室のうち第１室に接続された検査ガス導入路と、
前記第２室に接続された減圧ポンプと、
両端が前記第２室と連なり循環経路を構成する往還路と、
前記第２室の被検ガスを前記循環経路に沿って循環させる循環ポンプと、
前記循環経路から分岐されたセンサ導入路と、
前記循環後の被検ガスが前記センサ導入路へ向けて圧縮されるよう、前記循環経路に圧縮ガスを供給する圧縮ガス供給路と、
前記センサ導入路に連なるとともに、略大気圧ないしは前記第２室より高圧下に配置された検査成分センサと
を備えたことを特徴とする。
前記被検体を収容するチャンバーと、
前記被検体の内部空間及び前記チャンバーと前記被検体との間のチャンバー内空間からなる第１室及び第２室のうち第１室に接続された検査ガス導入路と、
前記第２室に接続された減圧ポンプと、
両端が前記第２室と連なり循環経路を構成する往還路と、
前記第２室の被検ガスを前記循環経路に沿って循環させる循環ポンプと、
前記循環経路から分岐されたセンサ導入路と、
前記循環後の被検ガスが前記センサ導入路へ向けて圧縮されるよう、前記循環経路に圧縮ガスを供給する圧縮ガス供給路と、
前記センサ導入路に連なるとともに、略大気圧ないしは前記第２室より高圧下に配置された検査成分センサと
を備えたことを特徴とする。
【0009】
好ましくは、前記往還路には、前記センサ導入路への分岐部と、前記循環ポンプと、前記圧縮ガス供給路との合流部とが、上流側から順次設けられている。
【0010】
好ましくは、前記チャンバーが、前記循環経路に沿って上流側の壁部と下流側の壁部とを有し、これら壁部のうち少なくとも１の壁部が、
前記往還路の端部との接続ポートと、
前記接続ポートに連なるとともに前記１の壁部の面内方向に行き渡る壁内空間部と、
前記壁内空間部にそれぞれ連なるとともに、前記壁部の面内方向に互いに分散して配置された複数の開口部と、
を備え、前記開口部が、前記壁内空間部から拡開されながら前記チャンバー内空間へ開口されている。
これによって、チャンバー内における被検ガスの滞留を防止でき、漏れ試験の信頼性が一層高まる。当該形態は、前記チャンバー内空間が前記第２室である場合に好適である。
前記往還路の端部との接続ポートと、
前記接続ポートに連なるとともに前記１の壁部の面内方向に行き渡る壁内空間部と、
前記壁内空間部にそれぞれ連なるとともに、前記壁部の面内方向に互いに分散して配置された複数の開口部と、
を備え、前記開口部が、前記壁内空間部から拡開されながら前記チャンバー内空間へ開口されている。
これによって、チャンバー内における被検ガスの滞留を防止でき、漏れ試験の信頼性が一層高まる。当該形態は、前記チャンバー内空間が前記第２室である場合に好適である。
【発明の効果】
【0011】
本発明によれば、チャンバー又は被検体からの低圧の被検ガスを略大気圧等の圧力下に置かれた検査成分センサに導入して検査成分を検知する漏れ試験における信頼性及び検知感度を高めるとともに試験時間を短縮することができる。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【発明を実施するための形態】
【0013】
以下、本発明の実施形態を図面にしたがって説明する。
＜第１実施形態（図１～図２）＞
図１は、検査ガスを用いて被検体９を漏れ試験する漏れ試験装置１を示す。被検体９としては、特に限定 が無く、機械要素、電子部品、微小デバイス等、種々の分野の部品ないしは製品に適用できる。
＜第１実施形態（図１～図２）＞
図１は、検査ガスを用いて被検体９を漏れ試験する漏れ試験装置１を示す。被検体９としては、特に限定 が無く、機械要素、電子部品、微小デバイス等、種々の分野の部品ないしは製品に適用できる。
【0014】
漏れ試験装置１は、チャンバー１０と、検査ガス導入系統２０と、往還路３１と、漏れ検知部４０とを備えている。チャンバー１０に被検体９が収容されている。被検体９は、好ましくは内部空間を有している。内部空間は密封空間であってもよく、開口されていてもよい。チャンバー１０の底面等によって、被検体９の前記開口を塞ぐことで前記内部空間を密封することにしてもよい。チャンバー１０の内面と被検体９との間のチャンバー内空間及び被検体９の内部空間のうち何れか一方が「第１室１１」を構成し、他方が「第２室１２」を構成する。ここでは、被検体９の内部空間が第１室１１を構成し、チャンバー内空間が第２室１２を構成している。２つの室１１ ，１２は、それぞれ密封されている。
【0015】
第１室１１に検査ガス導入系統２０が接続されている。検査ガス導入系統２０は、検査ガスを蓄えた検査ガス源２１と、検査ガス導入路２２を含む。検査ガスは、検査成分である水素（Ｈ２）と、希釈成分である窒素（Ｎ２）を含む。検査ガス中の水素濃度（Ｈ２／（Ｈ２＋Ｎ２））は、好ましくは数％程度、より好ましくは５％程度である。検査ガス源２１から検査ガス導入路２２が第１室１１へ延びている。検査ガス導入路２２には、検査ガス源２１から順次、レギュレータ（減圧弁）２３と、圧力計２４と、常閉の電磁開閉弁２５とが設けられている。
【0016】
電磁開閉弁２５より下流側の検査ガス導入路２２には、洗浄路３、開放路４、排気路５が合流されている。洗浄路３には、レギュレータ（減圧弁）３Ａと、圧力計３Ｂと、常閉の電磁開閉弁３Ｖが上流側から順次設けられている。開放路４には、常開の電磁開閉弁４Ｖが設けられている。排気路５には、常閉の電磁開閉弁５Ｖと、排気ポンプ５Ｐとが導入路２２との合流部側から順次設けられている。
【0017】
第２室１２には往還路３１の両端３１ａ，３１ｂが連なっている。好ましくは、往路端部３１ａ及び還路端部３１ｂは、チャンバー１０の互いに対向する壁部１３，１４に配置されており、より好ましくは、チャンバー１０の互いに対角をなす位置の近くに配置されている。第２室１２と往還路３１とによって循環経路３０が構成されている。
【0018】
往還路３１には、上流側（往路端部３１ａの側）から順次、圧力計３３、分岐部３１ｃ、常閉の電磁開閉弁３４、排気・循環ポンプ３５、電磁三方弁３６、合流部３１ｄ及び圧力計３７が設けられている。排気・循環ポンプ３５は、第２室１２に接続された「減圧ポンプ」及び循環経路３０に設けられた「循環ポンプ」を兼ねている。
【0019】
三方弁３６は、開通位置３６ａと排気位置３６ｂとに切り替え可能である。開通位置３６ａのときの三方弁３６は、該三方弁３６の両側の往還路３１を連通させる。排気位置３６ｂのときの三方弁３６は、排気・循環ポンプ３５の出口ポートを大気開放するとともに、三方弁３６より下流側の往還路３１における、三方弁３６との接続部を閉塞する。開閉弁３４を開き、かつ三方弁３６を開通位置３６ａとすることで、循環経路３０が開通される。開閉弁３４を閉じ、かつ三方弁３６を排気位置３６ｂにすることで、循環経路３０におけるこれら弁３４，３６どうし間の部分３０ｄ（分岐部３１ｃの下流側の一部分）が遮断される。好ましくは、実際の装置における弁３４，３６どうし間の前記遮断可能な部分３０ｄの路長は、できるだけ短く形成される。
【0020】
分岐部３１ｃから接続路３９が分岐されている。接続路３９に漏れ検知部４０が接続されている。
【0021】
漏れ検知部４０は、水素リークディテクターによって構成され、検知路４１と、空気供給路４２と、検査成分センサ４３と、二段の電磁三方弁４４，４５を含む。検知路４１の入口ポート４１ａに接続路３９の下流端が接続されている。検知路４１に検査成分センサ４３が設けられている。接続路３９と、入口ポート４１ａから検査成分センサ４３までの検知路４１とによって、センサ導入路４９が構成されている。第２室１２を含む循環経路３が、センサ導入路４９を介して、検査成分センサ４３と連なっている。
【0022】
検査成分センサ４３は、半導体式水素センサによって構成されている。検査成分センサ４３より下流側の検知路４１には、絞り４１ｃが設けられている。検知路４１の出口ポート４１ｂから排気路４６が延びている。排気路４６に排気ポンプ４７が接続されている。
【0023】
検知路４１における検査成分センサ４３の直近かつ上流側の部分には、電磁三方弁４５を介して空気供給路４２が合流されている。三方弁４５は、それより上流側の検知路４１と、空気供給路４２との一方を、選択的に検査成分センサ４３と連通させる。空気供給路４２には、上流側から絞り４２ａ及びフィルタ４２ｂが設けられるとともに逆流不能な逃がし路４２ｃが分岐されている。
【0024】
空気供給路４２の上流端に電磁三方弁４４が設けられている。三方弁４４は、校正路４８と、清浄空気路５０との一方を、選択的に空気供給路４２と連通させる。校正路４８の上流端には、水素濃度が厳密に調整された校正用検査ガス源４８ａが設けられている。
【0025】
清浄空気路５０の上流端には清浄空気導入部５０ａが設けられている。清浄空気路５０には、清浄空気導入部５０ａの側から順次、レギュレータ（圧力調整弁）５１及び圧力計５２が設けられている。レギュレータ５１の二次圧は大気圧より少し高圧の、例えば５０ｋＰａ（ゲージ圧）程度に設定されている。ひいては、検査成分センサ４３が、略大気圧下に配置され、少なくとも減圧時の第２室１２より高圧下に配置されている。ここで、略大気圧とは、標準大気圧（１０１．３ｋＰａ（絶対圧））の０．８倍～１．２倍程度の範囲を言う。
【0026】
圧力計５２より下流側の清浄空気路５０から、空気供給路４２への連通路５０ｂと、圧縮ガス供給路５３とが分岐されている。圧縮ガス供給路５３は、循環経路３０へ延びている。圧縮ガス供給路５３には、可変絞り５４と、二段の常閉の電磁開閉弁５５，５７と、圧縮ガスタンク５６が設けられている。可変絞り５４の下流側に開閉弁５５，５７が配置されている。開閉弁５５，５７どうしの間に圧縮ガスタンク５６が介在されている。圧縮ガス供給路５３の下流端が、循環経路３０における分岐部３１ｃの下流側の一部分３０ｄより下流側の合流部３１ｄに接続されている。
【0027】
＜漏れ試験方法＞
漏れ試験装置１が次のように動作されることによって、被検体９の漏れ試験が行われる。
チャンバー１０に被検体９を収容する（収容工程）。
図２のチャートに示すように、漏れ検知部４０の電磁三方弁４４，４５は消磁（ソレノイド・オフ）しておくことで、清浄空気導入部５０ａからの清浄空気が、清浄空気路５０、連通路５０ｂ、空気供給路４２を順次経て、途中、絞り４２ａによって流量が絞られるとともに、余分な流量分が逃がし路４２ｃへ逃がされたうえで、検査成分センサ４３に供給される（空気供給工程）。これによって、検査成分センサ４３が常時、略大気圧下に配置される。検査成分センサ４３の半導体の表面には清浄空気中の酸素が常時吸着される。検査成分センサ４３を通過後の清浄空気は、前記逃がし後の流量を決める絞り４１ｃを経て、排気路４６へ導出され、排気ポンプ４７によって排気される。
なお、図２における横軸は、工程順に等間隔で区別けしたものであり、長さが経過時間を表すものではない。
漏れ試験装置１が次のように動作されることによって、被検体９の漏れ試験が行われる。
チャンバー１０に被検体９を収容する（収容工程）。
図２のチャートに示すように、漏れ検知部４０の電磁三方弁４４，４５は消磁（ソレノイド・オフ）しておくことで、清浄空気導入部５０ａからの清浄空気が、清浄空気路５０、連通路５０ｂ、空気供給路４２を順次経て、途中、絞り４２ａによって流量が絞られるとともに、余分な流量分が逃がし路４２ｃへ逃がされたうえで、検査成分センサ４３に供給される（空気供給工程）。これによって、検査成分センサ４３が常時、略大気圧下に配置される。検査成分センサ４３の半導体の表面には清浄空気中の酸素が常時吸着される。検査成分センサ４３を通過後の清浄空気は、前記逃がし後の流量を決める絞り４１ｃを経て、排気路４６へ導出され、排気ポンプ４７によって排気される。
なお、図２における横軸は、工程順に等間隔で区別けしたものであり、長さが経過時間を表すものではない。
【0028】
次に、開放路４の開閉弁４Ｖを閉じ、排気路５の開閉弁５Ｖを開くことで、第１室１１（被検体９の内部空間）のガスを排気ポンプ５Ｐによって吸引して排気する（第１室排気工程）。
併行して、往還路３１の開閉弁３４を開き、三方弁３６は排気位置３６ｂとし、第２室１２（チャンバー内空間）のガスを排気・循環ポンプ３５によって真空引きして排気する。これによって、第２室１２が減圧される（第２室減圧工程）。
さらに、開閉弁５５を開き、タンク５６に清浄空気からなる圧縮ガスを蓄積しておく（圧縮ガス蓄積工程）。
併行して、往還路３１の開閉弁３４を開き、三方弁３６は排気位置３６ｂとし、第２室１２（チャンバー内空間）のガスを排気・循環ポンプ３５によって真空引きして排気する。これによって、第２室１２が減圧される（第２室減圧工程）。
さらに、開閉弁５５を開き、タンク５６に清浄空気からなる圧縮ガスを蓄積しておく（圧縮ガス蓄積工程）。
【0029】
その後、開閉弁５Ｖを閉じて真空ポンプ５Ｐと第１室１１とを遮断するとともに、検査ガス導入路２２の開閉弁２５を開くことで、検査ガス源２１の検査ガスを第１室１１（被検体９の内部空間）へ導入する（検査ガス導入工程）。第１室１１は第２室１２より高圧になる。被検体９に密封欠陥部が有った場合、その密封欠陥部を通して、検査ガスが低圧の第２室１２（チャンバー内空間）へ漏れる。このため、第２室１２における被検ガスｇに検査ガスが混ざる。つまり、被検ガスｇは、減圧工程後も第２室１２に残留している空気と、検査ガスの特に検査成分（Ｈ２）とを含む。
【0030】
続いて、電磁開閉弁３４の開状態を維持しながら電磁三方弁３６を開通位置３６ａとすることによって、往還路３１を開通させる。ひいては、循環経路３０を開通させる。これによって、第２室１２（チャンバー内空間）を含む循環経路３０内の被検ガスｇが、排気・循環ポンプ３５によって循環経路３０に沿って循環される（循環工程）。
【0031】
すなわち、減圧工程後の前記残留空気が流れを持つことでキャリアガスの役目を果たし、漏れた検査成分（Ｈ２）が循環経路３０の全域に拡散される。したがって、循環工程によって被検ガスｇの循環流れが整った後は、漏れが一定であれば、被検ガスｇ中の検査成分（Ｈ２）濃度が一定となる。さらには、第２室１２から往還路３１の分岐部３１ｃまでの部分（後記圧縮工程における圧縮路３２）に被検ガスｇを流しておくことができる。循環ポンプ３５の能力を上げることで、被検ガスｇの流速を高めることができる。流速を高めるためにキャリアガスの流速ないしは流量を大きくする必要が無い。
減圧によって前記残留空気量を減らしておくことで、被検ガスｇ中の検査成分の濃度を高めることができる。加えて、外部からキャリアガスを別途導入しないから、漏れた検査成分（Ｈ２）が薄められることが無く、漏れた分だけ循環経路３０に堆積させて濃度を高めることができる。
減圧によって前記残留空気量を減らしておくことで、被検ガスｇ中の検査成分の濃度を高めることができる。加えて、外部からキャリアガスを別途導入しないから、漏れた検査成分（Ｈ２）が薄められることが無く、漏れた分だけ循環経路３０に堆積させて濃度を高めることができる。
【0032】
循環工程のための所定時間経過後、開閉弁３４を閉じるとともに、三方弁３６を排気位置３６ｂとする。これによって、往還路３１における弁３４，３６どうし間の部分３０ｄが遮断されることで、被検ガスｇの循環が停止される（循環停止工程）。
また、検査ガス導入路２２の開閉弁２５を閉じ、第１室１１（被検体９の内部空間）への検査ガス導入工程を終了する。
かつ、圧縮ガス供給路５３の開閉弁５５を閉じるとともに開閉弁５７を開く。
また、検査ガス導入路２２の開閉弁２５を閉じ、第１室１１（被検体９の内部空間）への検査ガス導入工程を終了する。
かつ、圧縮ガス供給路５３の開閉弁５５を閉じるとともに開閉弁５７を開く。
【0033】
これによって、圧縮ガスタンク５６の清浄空気からなる圧縮ガスが、遮断された部分３０ｄの下流側の合流部３１ｄに導入される。装置周辺の空気を圧縮ガスとして取り込むのではなく、清浄空気導入部５０ａ由来の清浄空気を圧縮ガスタンク５６に溜めておいて、それを圧縮ガスとして用いることで、装置周辺の空気中の検査成分（水素）のバックグラウンド濃度が繰り返し検査等によって上昇していたとしても、検査結果に影響が及ぶのを回避できる。清浄空気導入部５０ａ由来の清浄空気は、待機中の検査成分センサ４３にも供給されているから、漏れが無い状態の第２室１２と検査成分センサ４３とにおける検査成分濃度を同レベルにできる。
【0034】
前記圧縮ガスは、合流部３１ｄから往還路３１の下流側部分３１ｅへ流れ、還路端部３１ｂから第２室１２へ流入して、更に第２室１２内を往路端部３１ａへ流れる。該圧縮ガスによって、被検ガスｇが圧縮される（圧縮工程）。具体的には、往還路３１の合流部３１ｄから還路端部３１ｂまでの下流側部分３１ｅと、第２室１２と、往還路３１の往路端部３１ａから分岐部３１ｃまでの部分（圧縮路３２）に在った被検ガスｇが、センサ導入路４９へ向けて圧縮される。循環工程での被検ガスｇの流れ方向をそのまま維持しながら、流れ方向の後方から被検ガスｇを圧縮することで、被検ガスｇと圧縮ガスとの混合を抑制でき、混合による検査成分濃度の希釈を防止できる。
【0035】
圧縮工程によって圧縮路３２の圧力が高まる。該圧縮路３２の圧力計３３の検知圧力が所定値を超えたら、三方弁４５を励磁（ソレノイド・オン）して、空気供給路４２を遮断するとともに、検知路４１を開通させる。これによって、センサ導入路４９が検査成分センサ４３と連通し、センサ導入路４９の圧縮された被検ガスが、検査成分センサ４３へ導入される。言い換えると、被検ガスを圧縮して略大気圧まで昇圧させたうえで、略大気圧下の検査成分センサ４３に供給できる。
【0036】
これによって、検査成分センサ４３において、被検ガス中の検査成分（Ｈ２）濃度が検知される（検知工程）。前述した循環工程においてキャリアガスを外部から導入することなく検査成分（Ｈ２）を堆積でき、かつ被検ガス中の検査成分濃度を均一化できるから、検知感度を十分に高めるとともに検知の信頼性を高めることができる。
循環工程において被検ガスｇに流れを持たせ、更に循環ポンプ３５の能力を上げて被検ガスｇの流速を高めておくことで、検知工程において被検ガスを検査成分センサへ高速導入できる。高速化のためにキャリアガスの流速ないしは流量を大きくする必要が無く、水素濃度が希釈される心配がない。これによって、検知感度を損なうことなく試験時間を短縮できる。
検知結果に応じて、被検体９からの漏れを判定でき、被検体９の良否判定を行なうことができる。
循環工程において被検ガスｇに流れを持たせ、更に循環ポンプ３５の能力を上げて被検ガスｇの流速を高めておくことで、検知工程において被検ガスを検査成分センサへ高速導入できる。高速化のためにキャリアガスの流速ないしは流量を大きくする必要が無く、水素濃度が希釈される心配がない。これによって、検知感度を損なうことなく試験時間を短縮できる。
検知結果に応じて、被検体９からの漏れを判定でき、被検体９の良否判定を行なうことができる。
【0037】
検査成分センサ４３を通過後の被検ガスは、排気ポンプ４７に吸引されて排気される（排気工程）。被検ガスを排気用の真空ポンプ４７に通す前に検知工程を行なうことができる。又は、被検ガスを検査成分センサ４３への導入用の真空ポンプに通すことなく検知工程を行なうことができる。したがって、真空ポンプのシール用油による検査成分の吸収や真空ポンプの脈動によって検知結果が影響されることが無い。これによって、漏れ試験の信頼性が高まる。
【0038】
検知工程後、三方弁４５を消磁（ソレノイド・オフ）して、検知路４１を遮断するとともに、空気供給路４２を開通させ、検査成分センサ４３に清浄空気を供給する。
また、路３～５の開閉弁３Ｖ～５Ｖの開閉操作によって、被検体９の内部（第１室１１）を洗浄するとともに（洗浄工程）、往還路３１の開閉弁３４を開いて、第２室１２を洗浄する（洗浄工程）。その後、被検体９をチャンバー１０から取り出す（取り出し工程）。
また、路３～５の開閉弁３Ｖ～５Ｖの開閉操作によって、被検体９の内部（第１室１１）を洗浄するとともに（洗浄工程）、往還路３１の開閉弁３４を開いて、第２室１２を洗浄する（洗浄工程）。その後、被検体９をチャンバー１０から取り出す（取り出し工程）。
【0039】
次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において既述の形態と重複する構成に関しては、図面に同一符号を付して説明を省略する。
＜第２実施形態（図３～図４）＞
図３に示すように、第２実施形態に係る漏れ試験装置１Ｂにおいては、第１実施形態の漏れ試験装置１に対して、バイパス路６０が付加されている。バイパス路６０の上流端は、接続路３９から分岐されている。バイパス路６０の下流端は、排気路４６における、排気ポンプ４７Ｂより上流側（漏れ試験装置１Ｂの出口ポート４１ｂ側）の部分と合流している。バイパス路６０に常閉の電磁開閉弁６１が設けられている。
好ましくは、第２実施形態における排気ポンプ４７Ｂとしては、高真空度を出せるロータリーポンプが用いられている。
＜第２実施形態（図３～図４）＞
図３に示すように、第２実施形態に係る漏れ試験装置１Ｂにおいては、第１実施形態の漏れ試験装置１に対して、バイパス路６０が付加されている。バイパス路６０の上流端は、接続路３９から分岐されている。バイパス路６０の下流端は、排気路４６における、排気ポンプ４７Ｂより上流側（漏れ試験装置１Ｂの出口ポート４１ｂ側）の部分と合流している。バイパス路６０に常閉の電磁開閉弁６１が設けられている。
好ましくは、第２実施形態における排気ポンプ４７Ｂとしては、高真空度を出せるロータリーポンプが用いられている。
【0040】
図４のチャートに示すように、第２実施形態においては、第２室減圧工程の際、バイパス路６０に開閉弁６１を開く。これによって、第２室１２のガスをロータリーポンプ４７Ｂによって真空引きでき、第２室１２の真空度を高めることができる。同時に、往還路３１の開閉弁３４を開いてもよい。そうすることで、排気・循環ポンプ３５によっても第２室１２のガスを吸引でき、第２室１２の減圧速度を高めて、第２室減圧工程を短縮できる。
【0041】
第２実施形態において、ロータリーポンプ４７Ｂだけで第２室１２を減圧することにしてもよい。そうすることで、ポンプ３５は、専ら循環工程で被検ガスｇを循環させるためのポンプとして用いることができる。つまり、第２室減圧工程用のポンプと、循環工程用のポンプを分けることができる。
【0042】
＜第３実施形態（図５～図６）＞
図５に示すように、第３実施形態の漏れ試験装置においては、チャンバー１０における、循環経路３０に沿って互いに対向する上流側壁部１３及び下流側壁部１４にそれぞれ接続ポート１５と整流部７０が設けられている。接続ポート１５は、各壁部１３，１４の外周の一側部（図５において下側部）に配置されている。上流側壁部１３の接続ポート１５には、往還路３１の還路端部３１ｂが接続されている。下流側壁部１４の接続ポート１５には、往路端部３１ａが接続されている。
なお、図６に示すように、第３実施形態のチャンバー１０の外周の断面形状は、円形であるが、これに限らず四角形等の多角形であってもよい。
図５に示すように、第３実施形態の漏れ試験装置においては、チャンバー１０における、循環経路３０に沿って互いに対向する上流側壁部１３及び下流側壁部１４にそれぞれ接続ポート１５と整流部７０が設けられている。接続ポート１５は、各壁部１３，１４の外周の一側部（図５において下側部）に配置されている。上流側壁部１３の接続ポート１５には、往還路３１の還路端部３１ｂが接続されている。下流側壁部１４の接続ポート１５には、往路端部３１ａが接続されている。
なお、図６に示すように、第３実施形態のチャンバー１０の外周の断面形状は、円形であるが、これに限らず四角形等の多角形であってもよい。
【0043】
整流部７０は、壁内空間部７１と、多数（複数）の開口部７２とを含む。壁内空間部７１は、接続ポート１５と連なるとともに壁部１３，１４の面内方向に行き渡っている。好ましくは、壁内空間部７１は、接続ポート１５とは反対側（図５において上側）へ向かうにしたがって流路断面積が小さくなっている。
【0044】
図５及び図６に示すように、多数（複数）の開口部７２は、壁部１３，１４の面内方向に互いに分散して配置されている。各開口部７２は、連通部７２ｃを通して壁内空間部７１に連なるとともに、拡開されながらチャンバー内空間１２へ開口されている。
【0045】
詳しくは、壁部１３，１４の外周側部分より内側部分に配置された開口部７２Ａは、チャンバー内空間１２側から見て四角形状になっている。開口部７２Ａは、四角錐形状であってもよく、連通部７２ｃでは円形断面であった開口部７２Ａが、チャンバー内空間１２へ向かうにしたがって四角形断面に変形されながら拡開されていてもよい。
壁部１３，１４の外周側部分に配置された開口部７２Ｅは、チャンバー内空間１２側から見て部分的又は全体的に円形ないしは扁円形になっている。
開口部７２が円錐形状であってもよい。
壁部１３，１４の外周側部分に配置された開口部７２Ｅは、チャンバー内空間１２側から見て部分的又は全体的に円形ないしは扁円形になっている。
開口部７２が円錐形状であってもよい。
【0046】
図５に示すように、好ましくは、各壁部１３，１４は、壁本体１７と、板状の整流部材７３とを含む。壁本体１７におけるチャンバー内空間１２側の面に整流部材７３が重ねられている。壁本体１７と整流部材７３との間に、壁内空間部７１が画成されている。整流部材７３に開口部７２が形成されている。
【0047】
第３実施形態によれば、循環工程において、被検ガスｇが、往還路３１の還路端部３１ｂから上流側壁部１３の接続ポート１５から壁部１３の壁内空間部７１に導入されて、該壁内空間部７１に沿って壁部１３の面内方向へ広がるように流れるとともに、壁部１３の各開口部７２から拡散されながらチャンバー内空間１２へ流入される。すなわち、壁部１３のほぼ全面から被検ガスｇがチャンバー内空間１２へ流入される。
【0048】
チャンバー内空間１２内を下流側（図５において右側）へ流れた被検ガスｇは、下流側壁部１４のほぼ全面から該壁部１４の各開口部７２内へ導かれる。そして、各開口部７２から壁部１４の壁内空間部７１に導かれて壁部１４の接続ポート１５に集められ、往路端部３１ａから往還路３１へ導出される。
【0049】
これによって、チャンバー内空間１２内の流路断面の全域において被検ガスｇの流れを形成でき、チャンバー内空間１２内に被検ガスｇの滞留部が形成されるのを防止できる。特に、チャンバー内空間１２の隅部において被検ガスｇが滞留するのを防止できる。
圧縮工程における圧縮ガスの流れについても前記被検ガスｇと同様であり、チャンバー内空間１２内の流路断面の全域において圧縮ガスの流れを形成できる。
圧縮工程における圧縮ガスの流れについても前記被検ガスｇと同様であり、チャンバー内空間１２内の流路断面の全域において圧縮ガスの流れを形成できる。
【0050】
したがって、第３実施形態によれば、被検体９から検査成分（Ｈ２）の漏れが有った場合、その検査成分がチャンバー内空間１２内の特定箇所に滞留するのを防止でき、被検ガスｇの検査成分濃度を確実に均一化できる。これによって、検知結果を安定させることができる。また、検知後、第２室１２内の特定箇所に検査成分が残留してバックグラウンドになるのを防止できるから、複数の被検体９を順次漏れ試験する場合、前記バックグラウンドが蓄積して検知結果に影響を及ぼすのを回避できる。この結果、漏れ試験の信頼性を高めることができる。
【0051】
多数（複数）の開口部７２を壁部１３，１４の面内方向に並べることで、整流部７０をコンパクトにでき、壁部１３、１４の壁厚が過度に大きくなるのを防止できる。また、開口部７２の内部空間が小さいためにチャンバー内容積の増大を抑えることができ、検知感度の低下を防止できる。
【0052】
仮に、単一の開口部が、小断面積の接続ポート１５から壁部１３，１４のチャンバー内空間と面する内面へ向かって、該壁部１３，１４の内面の面積と同じ断面積になるまでテーパ状に拡開される構造にした場合、前記単一の開口部の軸長を相当に大きくする必要があり、設備の大型化を招くだけでなく、前記単一の開口部の内部空間がチャンバー内空間に加算されることでチャンバー内容積が増大し、検知感度が低下してしまう。
【0053】
＜第４実施形態（図７～図８）＞
図７に示すように、本発明の第４実施形態は、前記第３実施形態（図５～図６）の変形態様であり、チャンバー１０が四角形の断面形状に形成されている。第４実施形態の整流部７０は、内張り板７４と、複数の開口部材７５を含む。各壁部１３，１４の壁本体１７におけるチャンバー内空間を向く内面に内張り板７４が重ねられている。
図７に示すように、本発明の第４実施形態は、前記第３実施形態（図５～図６）の変形態様であり、チャンバー１０が四角形の断面形状に形成されている。第４実施形態の整流部７０は、内張り板７４と、複数の開口部材７５を含む。各壁部１３，１４の壁本体１７におけるチャンバー内空間を向く内面に内張り板７４が重ねられている。
【0054】
図７及び図８に示すように、内張り板７４には、１つのヘッダ路７４ａと、複数の枝路７４ｂが形成されている。ヘッダ路７４ａは、内張り板７４の内部の幅方向（図８において左右）の中央部において上下へまっすぐに延びている。壁本体１７の中央部に設けられた接続ポート１５が、ヘッダ路７４ａの長手方向の中央部に連通している。
【0055】
枝路７４ｂは、内張り板７４におけるチャンバー内空間を向く面７４ｄに溝状に形成され、幅方向（図８において左右）へ延びている。枝路７４ｂの長手方向の中央部（一箇所）が、ヘッダ路７４ａと交差するように連通している。複数の枝路７４ｂが、ヘッダ路７４ａの延び方向に互いに間隔を置いて配置されている。
ヘッダ路７４ａ及び枝路７４ｂによって、壁内空間部７１が構成されている。
ヘッダ路７４ａ及び枝路７４ｂによって、壁内空間部７１が構成されている。
【0056】
内張り板７４におけるチャンバー内空間を向く側面７４ｄに、複数の開口部材７５が設けられている。各開口部材７５は、例えば二等辺三角形の断面形状に形成され、幅方向（図８において左右）に延びている。なお、上下両端の開口部材７５は、前記二等辺三角形を半分にした直角三角形の断面形状になっている。各開口部材７５における、前記二等辺三角形ないしは直角三角形の底辺に当たる面７５ｂが、内張り板７４の側面７４ｄに宛がわれて、ボルト締め等（図示省略）によって接合されている。上下両端を除く各開口部材７５は、内張り板７４における上下に隣接する２つの枝路７４ｂの間に配置されている。
【0057】
上下に隣接する２つの開口部材７５どうしの間に、開口部７２が形成されている。第４実施形態の開口部７２は、チャンバー内空間１２へ向かって拡開された三角形断面をなして幅方向（図８において左右）へ延びる三角溝状に形成されている。複数の開口部７２が、上下に並んで配置されている。
【0058】
前記上下に隣接する２つの開口部材７５における、底辺相当面７５ｂと斜面７５ａとで作るコーナー７５ｃどうし間には、連通隙間７５ｄが形成されている。連通隙間７５ｄは、幅方向（図８において左右）へ延びるスリット状になっている。該連通隙間７５ｄを介して、枝路７４ｂと開口部７２とが連通している。
第４実施形態によれば、壁内空間部７１及び開口部７２からなる整流部７０を容易に作製することができる。
第４実施形態によれば、壁内空間部７１及び開口部７２からなる整流部７０を容易に作製することができる。
【0059】
本発明は、前記実施形態に限らず発明の趣旨に反しない範囲内で種々の改変をなすことができる。
例えば、被検体９の内部空間が第２室１２を構成し、チャンバ内空間が第１室１１を構成していてもよい。
分岐部がチャンバーに設けられていてもよい。合流部がチャンバーに設けられていてもよい。
第３、第４実施形態（図５～図８）において、上流側の壁部１３及び下流側の壁部１４のうち一方だけが整流部７０を有していてもよい。
例えば、被検体９の内部空間が第２室１２を構成し、チャンバ内空間が第１室１１を構成していてもよい。
分岐部がチャンバーに設けられていてもよい。合流部がチャンバーに設けられていてもよい。
第３、第４実施形態（図５～図８）において、上流側の壁部１３及び下流側の壁部１４のうち一方だけが整流部７０を有していてもよい。
【産業上の利用可能性】
【0060】
本発明は、例えば、電子部品や自動車部品などの工業製品を良否判定するための漏れ試験 技術に適用可能である。
【符号の説明】
【0061】
１，１Ｂ 漏れ試験装置
９ 被検体
１０ チャンバー
１１ 被検体の内部空間（第１室）
１２ チャンバ内空間（第２室）
１３ 上流側の壁部
１４ 下流側の壁部
１５ 接続ポート
１７ 壁本体
２０ 検査ガス導入手段
２１ 検査ガス源
２２ 検査ガス導入路
２３ レギュレータ
２４ 圧力計
２５ 電磁開閉弁
３０ 循環経路
３０ｄ 循環経路における分岐部の下流側の一部分
３１ 往還路
３１ａ 往路端部（端部）
３１ｂ 還路端部（端部）
３１ｃ 分岐部
３１ｄ 合流部
３２ 圧縮路
３３ 圧力計
３４ 電磁開閉弁
３５ 排気・循環ポンプ（循環ポンプ）
３６ 電磁三方弁
３６ａ 開通位置
３６ｂ 排気位置
３７ 圧力計
３９ 接続路
４０ 漏れ検知部（水素リークディテクター）
４１ 検知路
４１ａ 入口ポート
４２ 空気供給路
４３ 検査成分センサ
４７，４７Ｂ 排気ポンプ
４９ センサ導入路
５０ 清浄空気路
５０ａ 清浄空気導入部
５０ｂ 空気供給路への連通路
５１ レギュレータ
５２ 圧力計
５３ 圧縮ガス供給路
５４ 可変絞り
５５ 電磁開閉弁
５６ 圧縮ガスタンク
５７ 電磁開閉弁
５９ 圧縮路
６０ バイパス路
６１ 電磁開閉弁
７０ 整流部
７１ 壁内空間部
７２ 開口部
７３ 整流部材
７４ 内張り板
７４ａ ヘッダ路
７４ｂ 枝路
７５ 開口部材
７５ａ 斜面
７５ｃ コーナー
７５ｄ 連通隙間
ｇ 被検ガス
９ 被検体
１０ チャンバー
１１ 被検体の内部空間（第１室）
１２ チャンバ内空間（第２室）
１３ 上流側の壁部
１４ 下流側の壁部
１５ 接続ポート
１７ 壁本体
２０ 検査ガス導入手段
２１ 検査ガス源
２２ 検査ガス導入路
２３ レギュレータ
２４ 圧力計
２５ 電磁開閉弁
３０ 循環経路
３０ｄ 循環経路における分岐部の下流側の一部分
３１ 往還路
３１ａ 往路端部（端部）
３１ｂ 還路端部（端部）
３１ｃ 分岐部
３１ｄ 合流部
３２ 圧縮路
３３ 圧力計
３４ 電磁開閉弁
３５ 排気・循環ポンプ（循環ポンプ）
３６ 電磁三方弁
３６ａ 開通位置
３６ｂ 排気位置
３７ 圧力計
３９ 接続路
４０ 漏れ検知部（水素リークディテクター）
４１ 検知路
４１ａ 入口ポート
４２ 空気供給路
４３ 検査成分センサ
４７，４７Ｂ 排気ポンプ
４９ センサ導入路
５０ 清浄空気路
５０ａ 清浄空気導入部
５０ｂ 空気供給路への連通路
５１ レギュレータ
５２ 圧力計
５３ 圧縮ガス供給路
５４ 可変絞り
５５ 電磁開閉弁
５６ 圧縮ガスタンク
５７ 電磁開閉弁
５９ 圧縮路
６０ バイパス路
６１ 電磁開閉弁
７０ 整流部
７１ 壁内空間部
７２ 開口部
７３ 整流部材
７４ 内張り板
７４ａ ヘッダ路
７４ｂ 枝路
７５ 開口部材
７５ａ 斜面
７５ｃ コーナー
７５ｄ 連通隙間
ｇ 被検ガス
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【手続補正書】
【提出日】2022-09-05
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図1】
【手続補正2】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図3】