特開 2024-35712 二流体吐出装置、基板処理装置および二流体ノズル制御方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024035712

(43)【公開日】2024-03-14

(54)【発明の名称】二流体吐出装置、基板処理装置および二流体ノズル制御方法

(51)【国際特許分類】

   B05B 7/04 20060101AFI20240307BHJP

   H01L 21/027 20060101ALI20240307BHJP

   B05B 12/02 20060101ALI20240307BHJP

   H01L 21/304 20060101ALI20240307BHJP

【ＦＩ】

B05B7/04

H01L21/30 569Z

H01L21/30 569F

B05B12/02

H01L21/304 643Z

H01L21/304 643C

H01L21/304 643A

【審査請求】未請求

【請求項の数】9

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022140344

(22)【出願日】2022-09-02

(71)【出願人】

【識別番号】000207551

【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス

(74)【代理人】

【識別番号】100108523

【弁理士】

【氏名又は名称】中川 雅博

(74)【代理人】

【識別番号】100125704

【弁理士】

【氏名又は名称】坂根 剛

(74)【代理人】

【識別番号】100187931

【弁理士】

【氏名又は名称】澤村 英幸

(72)【発明者】

【氏名】甲盛 諄

【テーマコード（参考）】

4F033

4F035

5F146

5F157

【Ｆターム（参考）】

4F033QA10

4F033QB02Y

4F033QB03X

4F033QB12Y

4F033QB17

4F033QD02

4F033QD15

4F033QD16

4F035BA02

5F146LA03

5F146LA04

5F146LA12

5F146LA14

5F157AA91

5F157AB02

5F157AB16

5F157AB33

5F157AB48

5F157AB90

5F157BB33

5F157BB37

5F157BB45

5F157CC03

5F157CC41

5F157CD06

5F157CF70

5F157CF74

5F157DA14

5F157DA41

5F157DB02

5F157DC90

(57)【要約】

【課題】 二流体ノズルからの液滴の落下を抑制した二流体吐出装置、基板処理装置および二流体ノズル制御方法を提供する。
【解決手段】 二流体吐出装置は、液体および気体が混合された混合液を吐出可能な二流体ノズルと、二流体ノズルに気体を供給する気体供給部１１ａと、二流体ノズルに液体を供給する液体供給部と、気体供給部１１ａおよび液体供給部を制御して、二流体ノズルからの混合液の吐出を停止する場合、液体の供給を停止した後に気体の供給を停止する制御部９０と、を備える。
【選択図】図１２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

液体および気体が混合された混合液を吐出可能な二流体ノズルと、
前記二流体ノズルに前記気体を供給する気体供給部と、
前記二流体ノズルに前記液体を供給する液体供給部と、
前記気体供給部および前記液体供給部を制御して、前記二流体ノズルからの前記混合液の吐出を停止する場合、前記液体の供給を停止した後に前記気体の供給を停止する制御部と、を備えた二流体吐出装置。

【請求項2】

前記二流体ノズルは、前記液体および前記気体が混合される混合部を含み、
前記液体の供給を停止してから前記気体の供給を停止するまでの時間は、前記混合部の体積に基づいて定められる、請求項１記載の二流体吐出装置。

【請求項3】

請求項１または２記載の前記二流体吐出装置を備えた、基板処理装置。

【請求項4】

基板を支持する基板支持部と、
前記基板支持部により支持された基板の外方に位置する待機位置と前記基板の上方に位置する吐出位置との間で前記二流体ノズルを移動可能に構成されたノズル駆動部と、をさらに備え、
前記制御部は、前記ノズル駆動部により前記二流体ノズルが移動される前に、前記二流体ノズルからの前記混合液の吐出を停止する場合、前記液体の供給を停止した後に前記気体の供給を停止する、請求項３記載の基板処理装置。

【請求項5】

前記二流体ノズルは、前記液体としての現像液と前記気体が混合された第１の混合液を吐出可能な第１の二流体ノズルと前記液体としてのリンス液と前記気体が混合された第２の混合液を吐出可能な第２の二流体ノズルとを含み、
前記制御部は、基板に前記現像液の供給を開始した後に前記リンス液を供給する現像処理において、前記第１の二流体ノズルから前記第１の混合液の吐出を停止する場合、前記現像液の供給を停止した後に前記気体の供給を停止する、請求項３記載の基板処理装置。

【請求項6】

液体および気体が混合された混合液を吐出可能な二流体ノズルを備えた基板処理装置を制御する二流体ノズル制御方法であって、
前記二流体ノズルに前記液体を供給するステップと、
前記二流体ノズルに前記気体を供給するステップと、
前記二流体ノズルからの前記混合液の吐出を停止する場合、前記液体の供給を停止した後に前記気体の供給を停止するステップと、を含む、二流体ノズル制御方法。

【請求項7】

前記液体の供給を停止してから前記気体の供給を停止するまでの時間は、前記二流体ノズルの前記液体および前記気体が混合される混合部の体積に基づいて定められる、請求項６記載の二流体ノズル制御方法。

【請求項8】

前記基板処理装置は、
基板を支持する基板支持部と、
前記基板支持部により支持された前記基板の外方に位置する待機位置と前記基板支持部により支持された前記基板の上方に位置する処理位置との間で前記二流体ノズルを移動させるノズル駆動部と、を備え、
前記気体の供給を停止するステップは、前記ノズル駆動部により前記二流体ノズルが移動される前に、前記二流体ノズルに前記液体の供給を停止した後に前記気体の供給を停止するステップを含む、請求項６または７記載の二流体ノズル制御方法。

【請求項9】

前記二流体ノズルは、現像液と前記気体が混合された第１の混合液を吐出可能な第１の二流体ノズルと、リンス液と前記気体が混合された第２の混合液を吐出可能な第２の二流体ノズルと、を含み、
前記気体の供給を停止するステップは、基板に前記現像液の供給を開始した後に前記リンス液を供給する現像処理において、前記第１の二流体ノズルから前記第１の混合液の吐出を停止する場合、前記現像液の供給を停止した後に前記気体の供給を停止するステップを含む、請求項６または７記載の二流体ノズル制御方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、二流体吐出装置、基板処理装置および二流体ノズル制御方法に関する。

【背景技術】

【0002】

基板処理装置においては、基板の上方の処理位置と基板の外方に配置される待機位置との間を、基板処理に用いられる処理液を基板に供給するために処理用ノズルを移動させる。処理用ノズルが処理位置と待機位置との間を移動する間は処理液の供給は停止される。処理用ノズルが移動する場合、その移動により処理用ノズルから処理液の液滴が落下する場合がある。そこで、処理用ノズルの移動途中で処理用ノズルからの処理液の落下を防止することが求められる。

【0003】

特許文献１には、二流体ノズルを移動させる前に液滴除去ノズルから二流体ノズルに気体を吹き付けることにより、二流体ノズルに付着していた液体を除去することが記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】国際公開第２００７／１３２６０９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、特許文献１においては、二流体ノズルの外部から気体を吹き付けることにより二流体ノズルの外部に付着した処理液は除去されるが、二流体ノズルに残存する処理液を十分に除去することが困難であった。このため、二流体ノズルの移動中に二流体ノズルから液滴が落下する場合がある。

【0006】

本発明の目的は、二流体ノズルからの液滴の落下を抑制した二流体吐出装置、基板処理装置、二流体ノズル制御方法および基板処理装置制御方法を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

（１）一態様に係る二流体吐出装置は、液体および気体が混合された混合液を吐出可能な二流体ノズルと、二流体ノズルに気体を供給する気体供給部と、二流体ノズルに液体を供給する液体供給部と、気体供給部および液体供給部を制御して、二流体ノズルからの混合液の吐出を停止する場合、液体の供給を停止した後に気体の供給を停止する制御部と、を備える。

【0008】

（２）他の態様に係る二流体ノズル制御方法は、液体および気体が混合された混合液を吐出可能な二流体ノズルを備えた基板処理装置を制御する二流体ノズル制御方法であって、二流体ノズルに液体を供給するステップと、二流体ノズルに気体を供給するステップと、二流体ノズルからの前記混合液の吐出を停止する場合、液体の供給を停止した後に気体の供給を停止するステップと、を含む。

【発明の効果】

【0009】

本発明によれば、二流体ノズルからの液滴の落下を抑制することが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】本発明の一実施の形態に係る現像装置の概略構成を説明するための模式的斜視図である。

【図2】液処理ユニットの一部の構成を説明するための模式的断面図である。

【図3】液処理ユニットの構成を説明するための第１の斜視図である。

【図4】液処理ユニットの構成を説明するための第２の斜視図である。

【図5】ノズルアームユニットの斜視図である。

【図6】ノズルアームユニットを所定の鉛直面で切断した縦断面図である。

【図7】ノズルの構成の一例を示す縦断面図である。

【図8】現像装置の制御部の構成を示すブロック図である。

【図9】現像装置による基板の現像処理時の基本動作を示すフローチャートである。

【図10】処理前ディスペンス処理を示すフローチャートである。

【図11】処理液供給処理を示すフローチャートである。

【図12】処理液供給処理における液体および気体の供給および停止を示すタイミングチャートである。

【図13】他の実施の形態に係るノズルの構成を説明するための図である。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下、本発明の実施の形態に係る基板処理装置について図面を参照しつつ説明する。以下の説明において、基板とは、液晶表示装置または有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等に用いられるＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、半導体基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板または太陽電池用基板等をいう。

【0012】

基板処理装置の一例として、現像装置を説明する。本実施の形態において現像処理の対象となる基板は、主面および裏面を有する。また、本実施の形態に係る現像装置においては、基板の主面が上方に向けられ、基板の裏面が下方に向けられた状態で、基板の裏面（下面）が保持され、基板の主面（上面）に現像処理が行われる。

【0013】

基板の主面の少なくとも中央部には露光処理後の感光性膜が形成されている。この感光性膜は、例えばネガ型の感光性ポリイミド膜である。露光されたネガ型の感光性ポリイミド膜を溶解する現像液として、シクロヘキサノンまたはシクロペンタノン等を含む有機溶剤が用いられる。また、リンス液として、イソプロピルアルコールまたはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）等を含む有機溶剤が用いられる。

【0014】

なお、本実施の形態において、「基板の現像処理」とは、基板の主面に形成された露光処理後の感光性膜に現像液を供給することにより、その感光性膜の一部を溶解することを意味する。

【0015】

（１）現像装置の構成
図１は、本発明の一実施の形態に係る現像装置の概略構成を説明するための模式的斜視図である。図１に示すように、現像装置１は、基本的に筐体ＣＡ内に２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢが収容された構成を有する。図１では、２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの概略形状が点線で示される。液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの構成の詳細については後述する。

【0016】

筐体ＣＡは、水平面内で一方向に延びる略直方体の箱形状を有する。具体的には、筐体ＣＡは、第１の側壁板１ｗ、第２の側壁板２ｗ、第３の側壁板３ｗ、第４の側壁板４ｗ、床板５ｗおよび天井板６ｗが図示しないフレームに取り付けられることにより形成される。以下の説明では、水平面内で筐体ＣＡが延びる方向に平行な方向を適宜第１の方向Ｄ１と呼び、水平面内で第１の方向Ｄ１に直交する方向を適宜第２の方向Ｄ２と呼ぶ。２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢは、筐体ＣＡ内で第１の方向Ｄ１に並ぶように床板５ｗ上に配置されている。

【0017】

第１および第２の側壁板１ｗ，２ｗは、矩形の板形状を有し、上下方向および第１の方向Ｄ１に平行でかつ互いに対向するように設けられている。第３および第４の側壁板３ｗ，４ｗは、矩形の板形状を有し、上下方向および第２の方向Ｄ２に平行でかつ互いに対向するように設けられている。

【0018】

第２の側壁板２ｗには、筐体ＣＡの内部と筐体ＣＡの外部との間で基板を搬送するための２つの搬入搬出口ｐｈが形成されている。２つの搬入搬出口ｐｈは、第２の側壁板２ｗのうち第２の方向Ｄ２において液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢに対向する２つの部分にそれぞれ形成されている。天井板６ｗには、第１の方向Ｄ１に並ぶように、２つの開口ｏｐ１が形成されている。天井板６ｗにおける２つの開口ｏｐ１の開口率は、筐体ＣＡの上端全体が上方に開放されている状態と同じ程度に十分に大きく設定されている。

【0019】

天井板６ｗの２つの開口ｏｐ１をそれぞれ塞ぐように、天井板６ｗの上方に２つのフィルタＦＬが設けられている。なお、２つのフィルタＦＬは、天井板６ｗの直下に設けられてもよい。図１では、２つのフィルタＦＬが太い一点鎖線で示される。２つのフィルタＦＬは、例えばＵＬＰＡ（Ultra Low Penetration Air）フィルタであり、筐体ＣＡを構成する図示しないフレームまたは天井板６ｗに取り付けられている。筐体ＣＡの天井板６ｗ上には、２つのフィルタＦＬを取り囲むように空気ガイドＡＧが設けられている。図１では、空気ガイドＡＧが二点鎖線で示される。

【0020】

筐体ＣＡの外部には、気体供給部１０が設けられている。気体供給部１０は、例えばエアーコントロールユニットであり、現像装置１の電源がオンされている間、予め定められた条件を満たすように温度および湿度等の空気の状態を調整する。また、気体供給部１０は、状態が調整された空気をダクトＤＵを通して空気ガイドＡＧに供給する。この場合、空気ガイドＡＧは、気体供給部１０から供給された空気を、２つのフィルタＦＬを通して天井板６ｗの２つの開口ｏｐ１に導く。それにより、温度および湿度等が調整された清浄な空気が筐体ＣＡ内に供給され、筐体ＣＡの内部空間ＳＰの全体に下降気流が発生する。

【0021】

筐体ＣＡの外部には、気体供給部１１ａおよび現像液供給部１１ｂおよびリンス液供給部１１ｃが設けられている。図１においては、気体供給部１１ａ、現像液供給部１１ｂおよびリンス液供給部１１ｃが液処理ユニットＬＰＢに接続される例が示されているが、液処理ユニットＬＰＡについても、別の気体供給部１１ａ、現像液供給部１１ｂおよびリンス液供給部１１ｃが接続されている。気体供給部１１ａは、気体供給源を含む。それにより、気体供給経路１２ａを通して液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢに気体が供給される。現像液供給部１１ｂは、現像液供給源を含む。それにより、現像液供給経路１２ｂを通して液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢに現像液が供給される。リンス液供給部１１ｃは、リンス液供給源を含む。それにより、リンス液供給経路１２ｃを通して液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢにリンス液が供給される。図１では、気体供給経路１２ａ、現像液供給経路１２ｂおよびリンス液供給経路１２ｃが一点鎖線で示される。なお、本実施の形態において、気体供給経路１２ａ、現像液供給経路１２ｂおよびリンス液供給経路１２ｃは、１または複数の配管およびバルブ等により構成される。

【0022】

現像装置１は、さらに制御部９０を有する。制御部９０は、例えばＣＰＵ（中央演算処理装置）およびメモリ、またはマイクロコンピュータを含み、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢおよびそれらにそれぞれ対応して設けられる気体供給部１１ａ、現像液供給部１１ｂおよびリンス液供給部１１ｃを制御する。制御部９０の詳細は後述する。

【0023】

（２）液処理ユニットの構成
（２－１）液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの構成の概略
図１の２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢは、一部の構成要素が第１の方向Ｄ１に直交する面（鉛直面）を基準として互いに対称となるように設けられる点を除いて、基本的に同じ構成を有する。したがって、以下の説明では特に言及しない限り２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢを代表して液処理ユニットＬＰＢの構成を説明する。

【0024】

図２は、図１の液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの一部の構成を説明するための模式的断面図である。図２に示すように、液処理ユニットＬＰＢは、区画板１００、筒部材２００、カップ４０、収容器５０および待機ポッド５００を含む。

【0025】

筐体ＣＡ内では、収容器５０が床板５ｗ（図１）上に固定される。収容器５０は、側壁部５１および底部５２を含む。側壁部５１は、円環形状の水平断面を有し、一定の内径および一定の外径で上下方向に延びるように形成されている。底部５２は、側壁部５１の下端を閉塞するように形成されている。

【0026】

底部５２には、２つの貫通孔が形成されている。底部５２の一方の貫通孔の形成部分に排気管６１が接続されている。排気管６１は、筐体ＣＡ内の雰囲気を、筐体ＣＡの外部に設けられる図示しない排気装置に導く。収容器５０において、排気管６１の端部（開口端）は底部５２よりも上方に位置する。

【0027】

また、底部５２には、他方の貫通孔の形成部分に排液管６２がさらに接続されている。排液管６２は、基板Ｗの現像処理時に、カップ４０から収容器５０の底部に流れる液体（現像液およびリンス液）を筐体ＣＡの外部に設けられる図示しない排液装置に導く。収容器５０において、排液管６２の端部（開口端）は排気管６１の端部よりも下方に位置する。

【0028】

収容器５０内には、基板保持装置７０の少なくとも下部が収容される。具体的には、基板保持装置７０は、吸着保持部７１、スピンモータ７２およびモータカバー７９を含む。スピンモータ７２は、平面視で収容器５０の中央に位置するように底部５２上に固定されている。スピンモータ７２には、上方に向かって延びるように回転軸７３が設けられている。回転軸７３の上端に吸着保持部７１が設けられている。吸着保持部７１は、収容器５０の上端よりも上方に突出している。

【0029】

収容器５０の外部には、図示しない吸引装置が設けられている。吸着保持部７１は、吸引装置が動作することにより基板Ｗの裏面中央部を吸着可能に構成されている。吸着保持部７１が基板Ｗの裏面中央部を吸着することにより、基板Ｗが収容器５０の上方の位置で水平姿勢で保持される。また、基板Ｗが吸着保持部７１により吸着保持された状態でスピンモータ７２が動作することにより、基板Ｗが水平姿勢で回転する。

【0030】

モータカバー７９は、略椀形状を有し、開放された径大部分が下方を向くように収容器５０に固定されている。モータカバー７９は、そのモータカバー７９の上端中央部の貫通孔に回転軸７３が挿入された状態で、回転軸７３を除くスピンモータ７２の上端部分と水平面内でスピンモータ７２を取り囲む一定幅の空間とを上方から覆っている。モータカバー７９の外周端部と側壁部５１の内周面との間には、一定幅の隙間が形成されている。

【0031】

ここで、上記の排気管６１の端部は、平面視でモータカバー７９の内側に位置し、側面視でモータカバー７９の下端よりも上方に位置する。それにより、基板Ｗの現像処理時に、収容器５０の上方から落下する液体（現像液およびリンス液）が排気管６１の内部に進入することが防止される。

【0032】

収容器５０内には、基板保持装置７０の下部に加えて、カップ４０の少なくとも下端が収容される。ここで、カップ４０は、収容器５０内で上下方向に移動可能に構成されている。また、カップ４０は、筒状壁部４１および液受け部４２を含む。筒状壁部４１および液受け部４２の各々は、円環形状の水平断面を有し、少なくとも上下方向に延びるように設けられている。カップ４０は、平面視で基板保持装置７０を取り囲むように構成されている。

【0033】

液受け部４２の外径および内径は、液受け部４２の上端から下方に向かうにつれて漸次拡大されている。液受け部４２の下端の外径（液受け部４２の最大外径）は、収容器５０の側壁部５１の内径よりも小さい。そのため、液受け部４２の外周端部と側壁部５１の内周面との間には、一定幅の隙間が形成されている。筒状壁部４１は、一定の内径および一定の外径で、液受け部４２の上端から上方に向かって延びるように形成されている。

【0034】

筒部材２００は、円筒形状を有し、図示しないブラケットを介して筐体ＣＡの一部に固定されている。筒部材２００の内径は、カップ４０の筒状壁部４１の外径よりも大きい。区画板１００は、略円板形状を有し、筒部材２００の上端部近傍でかつ筒部材２００の内周面全体に接するように、筒部材２００に取り付けられている。区画板１００の略中央部には、第１の方向Ｄ１に延びる長方形のノズル開口１１０が形成されている。ノズル開口１１０は、基板Ｗの現像処理時に、基板保持装置７０により保持される基板Ｗの中央部分に対向する。区画板１００には、複数の貫通孔（図示せず）がノズル開口１１０を除く区画板１００の全体に渡って分散するように形成されている。

【0035】

筐体ＣＡ内で収容器５０の近傍には昇降駆動部（図示せず）が設けられている。昇降駆動部は、モータまたはエアシリンダ等の駆動機構を含み、カップ４０を支持するとともにカップ４０を上下動させることにより、カップ４０を第１の状態と第２の状態とに移行させる。ここで、第１の状態とは、カップ４０が収容器５０の内部の位置まで下降した状態を示す。第２の状態とは、カップ４０の上端が筒部材２００の下端よりも上方の位置まで上昇した状態を示す（図２の状態）。

【0036】

現像装置１においては、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢに対する基板Ｗの搬入搬出時に、カップ４０が第１の状態で維持される。それにより、現像装置１の外部から搬入される基板Ｗを液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの吸着保持部７１上に載置することができる。また、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの吸着保持部７１上に載置された基板Ｗを取り出し、現像装置１の外部に搬出することができる。

【0037】

カップ４０が第２の状態においてカップ４０の液受け部４２の内周面は、基板保持装置７０により保持される基板Ｗを水平面内で取り囲む。それにより、基板Ｗの現像処理時に複数のノズル３１０から基板Ｗに供給される現像液およびリンス液の大部分は、液受け部４２の内周面により受け止められて、収容器５０へ導かれる。

【0038】

一方、基板保持装置７０により保持される基板Ｗの現像処理時に、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの各々において、カップ４０が第２の状態で維持されカバー部材３３０が区画板１００のノズル開口１１０を覆う。それにより、筐体ＣＡの内部空間ＳＰが、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの区画板１００、筒部材２００、カバー部材３３０、カップ４０および収容器５０により、処理空間ＳＰａと非処理空間ＳＰｂとに区画される。処理空間ＳＰａは基板保持装置７０により保持される基板Ｗを含む空間であり、非処理空間ＳＰｂは処理空間ＳＰａを取り囲む空間である。

【0039】

図３は、図１の液処理ユニットＬＰＢの構成を説明するための第１の斜視図である。図３に示すように、図１の筐体ＣＡ内では、ノズル駆動部４００が第１の方向Ｄ１において収容器５０に隣り合うように設けられている。ノズル駆動部４００は、回転軸４０１を有するモータとアクチュエータとを含む。アクチュエータは、エアシリンダ、液圧シリンダまたはモータ等を含み、回転軸４０１を有するモータが上下方向に移動可能となるように、当該モータを床板５ｗ（図１）上に支持する。回転軸４０１は、ノズル駆動部４００の上端部に位置する。

【0040】

図１の筐体ＣＡ内では、床板５ｗ（図１）上に待機ポッド５００がさらに設けられている。ノズル駆動部４００および待機ポッド５００は、収容器５０の側方の位置で間隔をおいて第２の方向Ｄ２に並ぶ。待機ポッド５００は、第２の方向Ｄ２に一定長さ延びる箱形状を有する。待機ポッド５００の上面には、後述する複数のノズル３１０の噴射部３１０ｄを収容するための複数の待機孔５１０が形成されている。

【0041】

ノズル駆動部４００の回転軸４０１の上端部に、ノズルアームユニット３００が取り付けられている。ノズルアームユニット３００は、回転軸４０１の上端部に取り付けられた状態で、回転軸４０１とは異なる方向に直線状に延びる長手形状を有する。

【0042】

ノズル駆動部４００のモータが上下方向に移動すると、ノズルアームユニット３００は上下方向に移動する。また、ノズル駆動部４００のモータが動作すると、ノズルアームユニット３００は回転軸４０１を中心として水平面内で回転する。本実施の形態では、図３に示すように、複数のノズル３１０は、基板Ｗに対する現像処理が行われる間、基板保持装置７０により保持される基板Ｗの上方の処理位置Ｐ２で保持される。複数のノズル３１０が処理位置Ｐ２に位置する状態において、平面視で複数のノズル３１は基板Ｗと重なる。図３においては、複数のノズル３１０が処理位置Ｐ２に位置する状態が示される。なお、図３には、待機位置Ｐ１および処理位置Ｐ２がそれぞれ白抜きの矢印で示されている。

【0043】

図４は、図１の液処理ユニットＬＰＢの構成を説明するための第２の斜視図である。図４に示すように、ノズルアームユニット３００の複数のノズル３１０は、基板Ｗに対する現像処理が行われない間、基板保持装置７０により保持される基板Ｗの外方の待機位置Ｐ１で保持される。複数のノズル３１０が待機位置Ｐ１に位置する状態において、平面視で複数のノズル３１は基板Ｗと重ならない。なお、図４には、待機位置Ｐ１および処理位置Ｐ２がそれぞれ白抜きの矢印で示されている。ノズル３１０が待機位置Ｐ１で保持されている間、ノズル３１０が待機ポッド５００の待機孔５１０に収容される。本実施の形態においては、ノズル３１０内に滞留する液体を吐出する動作が行われる。以下、この動作を処理前ディスペンス処理と呼ぶ。処理前ディスペンス処理の詳細については、後述する。

【0044】

待機ポッド５００には、ノズルアームユニット３００が待機位置Ｐ１に位置する状態において、複数のノズル３１０から噴射された液体または落下した液体を筐体ＣＡの外部に排出する排液管（図示せず）が接続されている。また、待機ポッド５００には、当該待機ポッド５００内部の雰囲気を筐体ＣＡの外部に排出する排気管（図示せず）が接続されている。

【0045】

（２－２）ノズルアームユニット３００
ノズルアームユニット３００は、主として、複数（本例では６個）のノズル３１０、支持体３２０およびカバー部材３３０から構成される。図５は、ノズルアームユニット３００の斜視図であり、図６は、ノズルアームユニット３００を所定の鉛直面（ノズルアームユニット３００が延びる方向に平行な鉛直面）で切断した縦断面図である。図５では、ノズルアームユニット３００の内部構造が理解しやすいように、カバー部材３３０が他の構成要素から分離された状態で示される。同様に、後述する配管ＰＰの各構成要素への接続の図示が省略される。

【0046】

支持体３２０は、例えば所定形状に切り抜き加工またはレーザ加工された一枚の金属板を適宜折り曲げ加工することにより作製される。また、支持体３２０は、一方向に延びるように形成され、一端部３２１および他端部３２２を有する。また、支持体３２０は、一端部３２１の近傍から他端部３２２に向かって延びるノズル固定部３２３を有する。ノズル３１０は、基板Ｗに現像液を供給するための３つの現像液用ノズル３１１と、基板Ｗにリンス液を供給するための３つのリンス液用ノズル３１２と、を含む。ノズル固定部３２３には、３つの現像液用ノズル３１１が所定間隔で配され、３つのリンス液用ノズル３１２が所定間隔で配置される。さらに、支持体３２０は、配管固定部３２４および２つのカバー取り付け部３２５を有する。配管固定部３２４は、他端部３２２の近傍に位置する。

【0047】

複数のノズル３１０各々は、液体および気体の混合液を噴射可能な二流体ノズルである。現像液用ノズル３１１は、当該現像液用ノズル３１１内に現像液を導入するための液体導入部３１１ａ、当該現像液用ノズル３１１内に気体を導入するための気体導入部３１１ｂ，３１１ｃおよび混合液を噴射する噴射部３１１ｄを有する。同様に、リンス液用ノズル３１２は、当該リンス液用ノズル３１２内にリンス液を導入するための液体導入部３１２ａ、当該リンス液用ノズル３１２内に気体を導入するための気体導入部３１２ｂ，３１２ｃおよび混合液を噴射する噴射部３１２ｄを有する。

【0048】

現像液用ノズル３１１の液体導入部３１１ａには、当該現像液用ノズル３１１に現像液を供給するための配管ＰＰの一端が接続される。また、現像液用ノズル３１１の気体導入部３１１ｂ，３１１ｃには、当該現像液用ノズル３１１に気体（本例では、窒素ガス）を供給するための配管ＰＰの一端が接続される。同様に、リンス液用ノズル３１２の液体導入部３１２ａには、当該リンス液用ノズル３１２にリンス液を供給するための配管ＰＰの一端が接続される。また、リンス液用ノズル３１２の気体導入部３１２ｂ，３１２ｃには、当該リンス液用ノズル３１２に気体を供給するための配管ＰＰの一端が接続される。

【0049】

配管ＰＰは、柔軟性を有する樹脂材料で形成される。このような樹脂材料としては、例えばＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）、ＰＰＳ（ポリフェニレンサルファイド）、ＰＦＡ（テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体）等がある。

【0050】

複数の配管ＰＰの各々の一部は、現像液用ノズル３１１の液体導入部３１１ａおよび気体導入部３１１ｂ，３１１ｃから配管固定部３２４に向かって延びるように設けられ、リンス液用ノズル３１２が有する液体導入部３１２ａおよび気体導入部３１２ｂ，３１２ｃから配管固定部３２４に向かって延びるように設けられる。

【0051】

配管固定部３２４においては、複数の配管ＰＰが束ねられる。図５においては、配管固定部３２４の配管ＰＰの断面が示されている。これにより、複数の配管ＰＰが支持体３２０の他端部３２２近傍で固定される。複数の配管ＰＰのうち配管固定部３２４から支持体３２０の外方に延びる部分は、束ねられた状態で筒状結束部材３９１の内部に収容される。筒状結束部材３９１は、例えばゴムまたは樹脂で形成され、柔軟性を有する。

【0052】

カバー部材３３０は、下方が開放された箱形状を有する。カバー部材３３０の上面部３３１においては、支持体３２０の２つのカバー取り付け部３２５に対応する２つの部分に貫通孔３３１ｈが形成されている。

【0053】

支持体３２０に複数の現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２が取り付けられかつ複数の現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２に複数の配管ＰＰが接続されかつ複数の配管ＰＰが固定された状態で、支持体３２０にカバー部材３３０が取り付けられる。図５では、支持体３２０に取り付けられた場合のカバー部材３３０の状態が二点鎖線で示される。

【0054】

ここで、支持体３２０において、配管固定部３２４は、支持体３２０の他端部３２２とカバー部材３３０の他方端面部３３３との間に位置する。配管固定片３２９は、カバー部材３３０から引き出される複数の配管ＰＰが他方端面部３３３の切り欠き３３３Ｎの内縁に接触しないように、複数の配管ＰＰを束ね、配管固定部３２４に固定する。

【0055】

図６に示すように、支持体３２０にカバー部材３３０が取り付けられた状態で、液体導入部３１１ａ，３１２ａおよび気体導入部３１１ｂ，３１１ｃ，３１２ｂ，３１２ｃを除く複数のノズル３１０の大部分は、カバー部材３３０の下方に突出している。

【0056】

（２－３）現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２の構成
現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２は、同じ構成を有する。以下の現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２の説明については、現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２を代表して現像液用ノズル３１１の構成を説明する。図７は、現像液用ノズル３１１の構成の一例を示す縦断面図である。現像液用ノズル３１１は、本体部３１１Ａを含む。本体部３１１Ａは、液体導入部３１１ａおよび２つの気体導入部３１１ｂ，３１１ｃを有する。液体導入部３１１ａは、円筒形状の円筒部３Ａと、円筒部３Ａの下端に設けられかつ円筒部３Ａの軸に垂直な衝突面３ｂを有する底部３Ｂと、を有する。図７の例では、液体導入部３１０ａは、円筒部３Ａの軸が本体部３１１Ａの軸ＡＸと一致するように本体部３１１Ａに取り付けられる。円筒部３Ａには、軸ＡＸに平行な方向に沿った流路ＦＰａが形成されており、底部３Ｂには、円筒部３Ａの軸ＡＸに垂直な方向に沿った複数の流路が形成されている。ここでは、４つの流路が形成されており、４つの流路それぞれは二流体混合空間ＭＳＰに連通する開口部ＯＰ１を有する。

【0057】

２つの気体導入部３１１ｂ，３１１ｃは、軸方向に延びる円筒形状であり、それぞれの軸が、液体導入部３１１ａの円筒部３Ａの軸ＡＸと平行となるように本体部３１１Ａの上面から本体部３１１Ａに取り付けられる。液体導入部３１１ａは、２つの気体導入部３１１ｂ，３１１ｃの間に配置される。気体導入部３１１ｂ，３１１ｃの各々には、気体導入部３１１ｂ，３１１ｃの軸に平行な方向に沿った流路ＦＰｂ，ＦＰｃが形成されている。

【0058】

本体部３１１Ａの内部には、気体滞留空間ＧＳＰおよび二流体混合空間ＭＳＰが上方からこの順に形成されている。気体滞留空間ＧＳＰは、液体導入部３１１ａの円筒部３Ａの周りを取り囲む空間であり、上方で２つの気体導入部３１１ｂ，３１１ｃの流路ＦＰｂ，ＦＰｃと接続され、下方で二流体混合空間ＭＳＰと接続される。

【0059】

二流体混合空間ＭＳＰは、二流体衝突空間ＭＳＰ１および二流体導出空間ＭＳＰ２を含む。二流体衝突空間ＭＳＰ１は、気体滞留空間ＧＳＰと二流体導出空間ＭＳＰ２との間に位置する。二流体衝突空間ＭＳＰ１は、液体導入部３１１ａの底部３Ｂを取り囲む空間を含み、上方で気体滞留空間ＧＳＰと接続され、下方で二流体導出空間ＭＳＰ２と接続される。二流体導出空間ＭＳＰ２は、内径が下方に向かって漸次減少する円錐台形状の空間である。二流体導出空間ＭＳＰ２の下端は、噴射部３１０ｄと接続される。噴射部３１０ｄは、二流体導出空間ＭＳＰ２を本体部３１１Ａの外部に開放する開口を有する。

【0060】

液体導入部３１１ａに導入される液体は、円筒部３Ａに形成された流路ＦＰａを上方から下方に進み、底部３Ｂに形成された衝突面３ｂに衝突する。衝突面３ｂに衝突した液体は、底部３Ｂに形成された複数の流路のいずれかを通って液体導入部３１０ａの開口部ＯＰ１から二流体混合空間ＭＳＰに排出される。

【0061】

一方、気体導入部３１１ｂ，３１１ｃそれぞれに導入される気体は、気体導入部３１１ｂ，３１１ｃに形成された流路ＦＰｂ，ＦＰｃを上方から下方に進み、気体滞留空間ＧＳＰに排出される。ここで、気体滞留空間ＧＳＰ内部の圧力が上昇することにより、気体滞留空間ＧＳＰ内部の気体が二流体混合空間ＭＳＰに排出される。二流体混合空間ＭＳＰの二流体衝突空間ＭＳＰ１において、液体と気体とが混合され、混合液が生成される。混合液は、二流体導出空間ＭＳＰ２を通って、噴射部３１０ｄから本体部３１１Ａの外部に噴射される。

【0062】

（３）現像装置１の制御部の構成
図８は、図１の現像装置１の制御部９０の構成を示すブロック図である。図８に示すように、制御部９０は、第１の昇降制御部９１、気体制御部９２ａ、液体制御部９２ｂ、第１の回転制御部９３、吸引制御部９４、第２の昇降制御部９５および第２の回転制御部９６を含む。図８の制御部９０の各部の機能は、例えばＣＰＵがメモリに記憶された所定のプログラムを実行することにより実現される。

【0063】

第１の昇降制御部９１は、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの昇降駆動部の動作を制御する。それにより、各液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのカップ４０が第１の状態と第２の状態とに移行する。気体制御部９２ａは、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのそれぞれに対応する気体供給部１１ａの動作を制御する。液体制御部９２ｂは、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのそれぞれに対応する現像液供給部１１ｂおよびリンス液供給部１１ｃの動作を制御する。それにより、各液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢ内で複数のノズル３１０のうち３つの現像液用ノズル３１１から現像液と気体とを混合した混合液が噴射され、複数のノズル３１０のうち３つのリンス液用ノズル３１２からリンス液と気体とを混合した混合液が噴射される。

【0064】

第１の回転制御部９３は、図１の液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのスピンモータ７２の動作を制御する。また、吸引制御部９４は、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの吸引装置（図示なし）の動作を制御する。それにより、各基板保持装置７０において基板Ｗが水平姿勢で吸着保持され、回転される。

【0065】

第２の昇降制御部９５および第２の回転制御部９６は、図１の液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのノズル駆動部４００の動作を制御する。具体的には、第２の昇降制御部９５は、各ノズル駆動部４００のアクチュエータの動作を制御する。第２の回転制御部９６は、各ノズル駆動部４００の回転軸４０１を有するモータの動作を制御する。

【0066】

（４）現像装置１の基本動作
現像装置１の基本動作について説明する。現像装置１の基本動作は、制御部９０がメモリに記憶された所定のプログラムを実行することにより、制御部９０により実行される。図９は、現像装置１による基板Ｗの現像処理時の基本動作を示すフローチャートである。

【0067】

初期状態においては、気体供給部１０から現像装置１に温度および湿度等が調整された空気が供給されている。また、筐体ＣＡ内の雰囲気は、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの排気管６１から図示しない排気装置に導かれている。筐体ＣＡ内には清浄な下降気流が形成されている。さらに、初期状態においては、カップ４０は、第１の状態で保持されているものとする。また、ノズルアームユニット３００は、待機位置Ｐ１に保持されているものとする。

【0068】

基板Ｗの現像処理の開始前には、まず、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢに処理対象となる基板Ｗが搬入される。また、基板保持装置７０の吸着保持部７１上に基板Ｗが載置される。基板Ｗの現像処理が開始されると、図８の吸引制御部９４は、基板保持装置７０の吸着保持部７１により基板Ｗが吸着されるように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの吸引装置７８を制御する（ステップＳ１）。

【0069】

次に、図８の第１の昇降制御部９１は、カップ４０が第１の状態から第２の状態へ移行するように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの昇降駆動部４９を制御する（ステップＳ２）。ここで、待機位置Ｐ１において、待機ポッド５００の待機孔５１０に複数のノズル３１０が収容された状態で、処理前ディスペンス処理が行われる（ステップＳ３）。処理前ディスペンス処理については、後述する。

【0070】

次に、図８の第２の昇降制御部９５および第２の回転制御部９６は、ノズルアームユニット３００が待機位置Ｐ１から処理位置Ｐ２に移動するように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのノズル駆動部４００を制御する（ステップＳ４）。次に、図８の第１の回転制御部９３は、基板Ｗが回転軸７３の周りで回転するように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのスピンモータ７２を制御する（ステップＳ５）。

【0071】

次に、図８の気体制御部９２ａおよび液体制御部９２ｂは、処理液供給処理を実行する（ステップＳ６）。処理液供給処理の詳細は後述するが、現像液と気体とを混合した第１の混合液およびリンス液と気体とを混合した第２の混合液を基板Ｗに供給する処理である。次に、図８の第１の回転制御部９３は、基板Ｗの回転を継続させることにより基板Ｗを乾燥させる。また、図８の第１の回転制御部９３は、処理液供給処理の終了から一定時間経過後に基板Ｗの回転が停止するように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのスピンモータ７２を制御する（ステップＳ７）。

【0072】

次に、図８の第２の昇降制御部９５および第２の回転制御部９６は、複数のノズル３１０が処理位置Ｐ２から待機位置Ｐ１に移動するように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのノズル駆動部４００を制御する（ステップＳ８）。それにより、ノズル３１０が待機ポッド５００の待機孔５１０に収容される。

【0073】

次に、図８の第１の昇降制御部９１は、カップ４０が第２の状態から第１の状態へ移行するように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの昇降駆動部４９を制御する（ステップＳ９）。最後に、図８の吸引制御部９４は、基板保持装置７０の吸着保持部７１による基板Ｗの吸着が解除されるように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの吸引装置７８を制御する（ステップＳ１０）。それにより、基板Ｗの現像処理が終了する。現像処理後の基板Ｗは、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢから搬出される。

【0074】

（５）処理前ディスペンス処理
ノズル３１０の噴射部３１０ｄ付近に滞留している液体については、空気と接触する。ノズル３１０内の液体が揮発性の成分が揮発することにより、濃度が変化する場合がある。そこで、気体制御部９２ａおよび液体制御部９２ｂが液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの気体供給部１１ａ、現像液供給部１１ｂおよびリンス液供給部１１ｃを制御することにより、処理前ディスペンス処理が行われる。

【0075】

図１０は、処理前ディスペンス処理を示すフローチャートである。図１０の処理前ディスペンス処理においては、まず、複数のノズル３１０のうち３つの現像液用ノズル３１１から気体を含まない現像液が待機ポッド５００内に吐出されるとともに、複数のノズル３１０のうち３つのリンス液用ノズル３１２それぞれから気体を含まないリンス液が待機ポッド５００内に吐出される（ステップＳ３１）。次に、現像液およびリンス液の供給が停止される（ステップＳ３２）。具体的には、現像液供給部１１ｂが３つの現像液用ノズル３１１への現像液の供給を停止し、リンス液供給部１１ｃが３つのリンス液用ノズル３１２へのリンス液の供給を停止する。

【0076】

次に、３つの現像液用ノズル３１１および３つのリンス液用ノズル３１２に、気体が供給される（ステップＳ３３）。続けて、制御部９０は、予め定められた時間が経過した否かを判定する（ステップＳ３４）。なお、予め定められた時間は、後述する液体吐出期間Ｔ２に設定されてもよい。予め定められた時間が経過すると、気体供給部１１ａが現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２への気体の供給を停止する（ステップＳ３５）。それにより、３つの現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２内に現像液およびリンス液が滞留することが抑制される。その結果、現像液の濃度、リンス液の濃度を適切な状態にすることができる。

【0077】

また、現像液用ノズル３１１から現像液の吐出が終了した後の液体吐出期間Ｔ２の間、現像液用ノズル３１１に気体が供給されるので、現像液用ノズル３１１に蓄積された現像液が外部に排出される。同様に、リンス液用ノズル３１２からリンス液の吐出が終了した後の液体吐出期間Ｔ２の間、リンス液用ノズル３１２に気体が供給されるので、リンス液用ノズル３１２に蓄積されたリンス液が外部に排出される。したがって、ノズルが待機位置Ｐ1から処理位置Ｐ２に移動する間に、現像液用ノズル３１１から現像液の液滴の落下が抑制されるとともに、リンス液用ノズル３１２からリンス液の液滴の落下が防止される。

【0078】

（６）処理液供給処理
気体制御部９２ａおよび液体制御部９２ｂが液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの気体供給部１１ａ、現像液供給部１１ｂおよびリンス液供給部１１ｃを制御することにより、処理液供給処理が行われる。

【0079】

図１１は、処理液供給処理を示すフローチャートである。図１２は、処理液供給処理における液体および気体の供給および停止を示すタイミングチャートである。図１２の第１段目に現像液用ノズル３１１に対する気体供給部１１ａからの気体の供給および停止のタイミングが示され、および第２段目に現像液用ノズル３１１に対する現像液供給部１１ｂからの現像液の供給および停止のタイミングが示される。図１１の第３段目に、リンス液用ノズル３１２に対する気体供給部１１ａからの気体の供給および停止のタイミングが示され、第４段目にリンス液用ノズル３１２に対するリンス液供給部１１ｃからの現像液の供給および停止のタイミングが示される。以下、図１１および図１２を用いて処理液供給処理を説明する。

【0080】

処理液供給処理は、基板Ｗが回転している状態で実行される。図１２においては、処理液供給処理が開始する時点が時刻ｔ１として示される。まず、時刻ｔ１において、気体供給部１１ａおよび現像液供給部１１ｂがオンされる。それにより、ノズル３１０のうち３つの現像液用ノズル３１１から現像液と気体とを混合した第１の混合液が噴射される（ステップＳ６１）。

【0081】

続いて、時刻ｔ１より後の時刻ｔ２において、気体供給部１１ａおよびリンス液供給部１１ｃがオンされる。それにより、３つのリンス液用ノズル３１２からリンス液と気体とを混合した第２の混合液が噴射される（ステップＳ６２）。時刻ｔ２以降は、第１の混合液と第２の混合液とが基板に供給される。以下、基板Ｗに対してリンス液と気体とを混合した第２の混合液が噴射される期間をリンス液供給期間Ｔ１と呼ぶ。本実施の形態において、リンス液供給期間Ｔ１は予め定められている。

【0082】

次に、時刻ｔ２より後の時刻ｔ３において、現像液供給部１１ｂがオフされる（ステップＳ６３）。それにより、３つの現像液用ノズル３１１内には、気体のみが供給される。その結果、３つの現像液用ノズル３１１内（現像液用ノズル３１１の二流体混合空間ＭＳＰ（図７参照））に滞留した現像液が現像液用ノズル３１１の外部に吐出される。

【0083】

制御部９０は、時刻ｔ３から液体吐出期間Ｔ２が経過したか否かを判定する（ステップＳ６４）。時刻ｔ３から液体吐出期間Ｔ２が経過していない場合、液体吐出動作が行われ続ける。時刻ｔ３から液体吐出期間Ｔ２が経過した時刻ｔ４において現像液用ノズル３１１に対する気体供給部１１ａがオフされる（ステップＳ６５）。

【0084】

液体吐出期間Ｔ２は、予め定められた期間である。以下、現像液用ノズル３１１が現像液と気体とを混合した第１の混合液を吐出している状態において現像液用ノズル３１１に現像液の供給を停止してから現像液用ノズル３１１に気体の供給を停止するまでの動作を滞留現像液吐出動作という。

【0085】

ここで、制御部９０は、時刻ｔ２からリンス液供給期間Ｔ１が経過したか否かを判定する（ステップＳ６６）。時刻ｔ２からリンス液供給期間Ｔ１が経過していない場合、基板Ｗに３つのリンス液用ノズル３１２からリンス液と気体とを混合した混合液が噴射され続ける。時刻ｔ２からリンス液供給期間Ｔ１が経過した時刻ｔ５において、リンス液供給部１１ｃがオフされる（ステップＳ６７）。それにより、リンス液用ノズル３１２内には、気体のみが供給される。その結果、３つのリンス液用ノズル３１２の二流体混合空間ＭＳＰ（図７参照））に滞留したリンス液がリンス液用ノズル３１２の外部に吐出される。

【0086】

制御部９０は、時刻ｔ５から液体吐出期間Ｔ２が経過したか否かを判定する（ステップＳ６８）。時刻ｔ５から液体吐出期間Ｔ２が経過していない場合、液体吐出動作が行われ続ける。時刻ｔ５から液体吐出期間Ｔ２が経過した時刻ｔ６で気体供給部１１ａがオフされる（ステップＳ６９）。上述した、ステップＳ６１～ステップＳ６９の動作を経て処理液供給処理が終了する。

【0087】

本実施の形態においては、液体吐出期間Ｔ２は、現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２それぞれが有する二流体混合空間ＭＳＰ（図７参照）の体積に基づいて定められる。また、液体吐出期間Ｔ２は、現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２に供給される気体の流量に基づいて定められてもよい。液体吐出期間Ｔ２は、例えば、０．１秒より大きく１．０秒より小さく設定されることが好ましい。液体吐出期間Ｔ２は、０．５秒に設定されることがより好ましい。

【0088】

上述したように、本実施の形態では、リンス液供給期間Ｔ１に、基板Ｗにリンス液用ノズル３１２からリンス液と気体とを混合した第２の混合液が供給される。リンス液供給期間Ｔ１の間に滞留現像液吐出動作が行われる。それにより、リンス液供給期間Ｔ１のうち滞留現像液吐出動作が終了した後の期間において基板Ｗに現像液用ノズル３１１から現像液の液滴の落下を抑制することが可能になる。その結果、基板Ｗへの現像液の液滴の落下を抑制しつつ、基板Ｗの清浄度を維持することが可能になる。

【0089】

また、現像液用ノズル３１１から現像液の吐出が終了した後の液体吐出期間Ｔ２の間、現像液用ノズル３１１に気体が供給されるので、現像液用ノズル３１１に蓄積された現像液が外部に排出される。同様に、リンス液用ノズル３１２からリンス液の吐出が終了した後の液体吐出期間Ｔ２の間、リンス液用ノズル３１２に気体が供給されるので、リンス液用ノズル３１２に蓄積されたリンス液が外部に排出される。したがって、ノズルが処理位置Ｐ２から待機位置Ｐ１に移動する間に、現像液用ノズル３１１から現像液の液滴の落下が抑制されるとともに、リンス液用ノズル３１２からリンス液の液滴の落下が防止される。

【0090】

（７）実施の形態の効果
上記実施の形態によれば、液体吐出動作により現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２に対して、液体の供給が停止した後に気体の供給が停止する。この場合、液体の供給の停止により、吐出されなかった液体が現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２に残存する。この状態で、現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２に気体が供給されるので、現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２に残存した液体が現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２から離脱する。その結果、現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２において残存した液体が現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２から落下することが抑制される。

【0091】

また、液体吐出期間Ｔ２が二流体混合空間ＭＳＰの体積に基づいて定められるので、より正確に、現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２において残存した液体を排出することが可能になる。

【0092】

また、処理前ディスペンス処理および処理液供給処理において、現像液用ノズル３１１に現像液の供給が停止した後の液体吐出期間Ｔ２の間、現像液用ノズル３１１に気体が供給され、リンス液用ノズル３１２にリンス液の供給が停止した後の液体吐出期間Ｔ２の間、リンス液用ノズル３１２に気体が供給される。このため、３つの現像液用ノズル３１１および３つのリンス液用ノズル３１２が待機位置Ｐ１と処理位置Ｐ２との間を移動する間に、現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２において残存した液体が現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２から基板Ｗ上に落下することが抑制される。

【0093】

（８）他の実施の形態
（８－１）上記実施の形態においては、現像液用ノズル３１１（リンス液用ノズル３１２）内に気体を導くための気体導入部３１１ｂ，３１１ｃ（３１２ｂ，３１２ｃ）を有するが、本発明はこれに限定されない。現像液用ノズル３１１内に気体を導くための単一の気体導入部を有してもよい。また、図７の例では、気体導入部３１１ｂ，３１１ｃは、現像液用ノズル３１１内の気体滞留空間ＧＳＰに接続されているが、気体と液体とが混合される二流体混合空間ＭＳＰに接続されていてもよい。さらに、図７の例においては、現像液用ノズル３１１に二流体混合空間ＭＳＰが形成されているが、本発明はこれに限定されない。

【0094】

図１３は、他の実施の形態に係る現像液用ノズル３１１の構成を説明するための図である。図１３に示すように、他の実施の形態に係る現像液用ノズル３１１は、図７に示した現像液用ノズル３１１が有する二流体混合空間ＭＳＰが形成されず、現像液用ノズル３１１の外部で気体と液体とが混合される。

【0095】

具体的には、他の実施の形態に係る現像液用ノズル３１１は、液体導入部３１１ａと、気体導入部材３１１Ｂとを含む。液体導入部３１１ａの軸ＡＸに沿って流路ＦＰａが形成されている。液体導入部３１１ａの下端には、流路ＦＰａを外部に開放する液体吐出口ａ３が形成されている。

【0096】

液体導入部３１１ａは、気体導入部材３１１Ｂ内に挿入されている。気体導入部材３１１Ｂは、気体導入部材３１１Ｂの内壁と気体導入部３１１ａの外壁とで液体導入部３１１ａの一部の周囲を囲む気体滞留空間ＧＳＰが形成されている。気体導入部材３１１Ｂの下端には、気体滞留空間ＧＳＰを外部に開放する気体吐出口ｂ３が形成されている。気体吐出口ｂ３は、液体吐出口ａ３の周辺を囲む。気体滞留空間ＧＳＰは、気体吐出口ｂ３近傍において、下方に向かうにつれて径小となっている。本体部３１１Ａの周壁には、気体滞留空間ＧＳＰに連通する気体導入部３１１ｂが設けられている。

【0097】

気体導入部３１１ｂに流路ＦＰｂを介して進入する窒素ガス等の気体は、気体滞留空間ＧＳＰに進入し、気体吐出口ｂ３近傍において流速が加速され、気体吐出口ｂ３より吐出される。

【0098】

図１３の現像液用ノズル３１１では、液体吐出口ａ３から吐出された液体と気体吐出口ｂ３から吐出された気体とが現像液用ノズル３１１の下端近傍の外部で混合されることにより混合液が生成され、当該混合液が噴射される。

【0099】

図１３の現像液用ノズル３１１に対して気体および液体の供給が停止した場合、液体吐出口ａ３付近に表面張力による液滴が残存する。そこで、気体吐出口ｂ３から気体が吐出されることにより、液体吐出口ａ３付近に残存する液滴が現像液用ノズル３１１から離脱する。

【0100】

（８－２）上記実施の形態の図１２に示される処理液供給処理においては、時刻ｔ２において、リンス液用ノズル３１２に対して気体を供給する気体供給部１１ａおよびリンス液を供給するリンス液供給部１１ｃがオンされるが、本発明はこれに限定されない。気体供給部１１ａおよびリンス液供給部１１ｃは、例えば、現像液用ノズル３１１に対して現像液の供給が停止する時点を示す時刻ｔ３にオンされてもよい。この場合、処理液供給処理において、基板Ｗに供給される液体を、現像液からリンス液に直ちに切り替える場合に、リンス液を供給している最中に現像液が基板Ｗに供給される時間をできるだけ短くすることができる。このため、現像装置１のスループットを向上することが可能になる。

【0101】

（８）請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明する。上記実施の形態では、現像液用ノズル３１１およびリンス液用ノズル３１２が二流体ノズルの例であり、現像液供給部１１ｂおよびリンス液供給部１１ｃが液体供給部の例であり、二流体混合空間ＭＳＰが混合部の例であり、吸着保持部７１が基板支持部の例であり、現像液用ノズル３１１が第１の二流体ノズルの例であり、リンス液用ノズル３１２が第２の二流体ノズルの例である。

【0102】

（９）実施の形態の総括
（第１項）一態様に係る二流体吐出装置は、
液体および気体が混合された混合液を吐出可能な二流体ノズルと、
前記二流体ノズルに前記気体を供給する気体供給部と、
前記二流体ノズルに前記液体を供給する液体供給部と、
前記気体供給部および前記液体供給部を制御して、前記二流体ノズルからの前記混合液の吐出を停止する場合、前記液体の供給を停止した後に前記気体の供給を停止する制御部と、を備える。

【0103】

第１項に記載の二流体吐出装置によれば、二流体ノズルに対して、液体の供給が停止した後に気体の供給が停止する。この場合、液体の供給の停止により、二流体ノズルから吐出されなかった液体が残存する。この状態で、二流体ノズルに気体が供給されるので、二流体ノズルに残存した液体が二流体ノズルから離脱する。その結果、二流体ノズルにおいて残存した液体が二流体ノズルから落下するのを抑制することが可能になる。

【0104】

（第２項）第１項に記載の二流体吐出装置において、
前記二流体ノズルは、前記液体および前記気体が混合される混合部を含み、
前記液体の供給を停止してから前記気体の供給を停止するまでの時間は、前記混合部の体積に基づいて定められてもよい。

【0105】

第２項に記載の二流体吐出装置によれば、液体の供給を停止してから気体の供給を停止するまでの時間が混合部の体積に基づいて定められるので、より正確に、二流体ノズルにおいて残存した液体を排出することが可能になる。

【0106】

（第３項）他の態様に係る基板処理装置は、
第１項または第２項記載の前記二流体吐出装置を備える。

【0107】

第３項に記載の基板処理装置においては、二流体ノズルからの混合液の吐出が停止する際、二流体ノズルに残存した液体を排出することができるので、基板への液滴の落下を抑制することが可能になる。

【0108】

（第４項）第３項に記載の基板処理装置は、
基板を支持する基板支持部と、
前記基板支持部により支持された基板の外方に位置する待機位置と前記基板の上方に位置する吐出位置との間で前記二流体ノズルを移動可能に構成されたノズル駆動部と、をさらに備え、
前記制御部は、前記ノズル駆動部により前記二流体ノズルが移動される前に、前記二流体ノズルからの前記混合液の吐出を停止する場合、前記液体の供給を停止した後に前記気体の供給を停止してもよい。

【0109】

第４項に記載の基板処理装置においては、二流体ノズルが移動する前に、液体の供給が停止された後に気体の供給が停止される。そのため、二流体ノズルにおいては、液体の供給が停止された後に気体が供給されるので、二流体ノズルに残存する余分な現像液が除去される。その結果、ノズル移動中に液体の落下を抑制することができる。

【0110】

（第５項）第３項に記載の基板処理装置は、
前記二流体ノズルは、前記液体としての現像液と前記気体が混合された第１の混合液を吐出可能な第１の二流体ノズルと前記液体としてのリンス液と前記気体が混合された第２の混合液を吐出可能な第２の二流体ノズルとを含み、
前記制御部は、基板に現像液の供給を開始した後にリンス液を供給する現像処理において、前記第１の二流体ノズルから前記第１の混合液の吐出を停止する場合、前記現像液の供給を停止した後に前記気体の供給を停止してもよい。

【0111】

第５項に記載の基板処理装置においては、基板の現像処理において、第１の二流体ノズルから第１の混合液の吐出が停止される場合、現像液の供給が停止された後に気体の供給が停止される。それにより、基板にリンス液が供給されている間に、第１の二流体ノズルに残存する余分な現像液が除去される。このため、基板への現像液の付着を回避することができる。その結果、効率的に現像処理を実行することができる。

【0112】

（第６項）他の態様に係る二流体ノズル制御方法は、
液体および気体が混合された混合液を吐出可能な二流体ノズルを備えた基板処理装置を制御する二流体ノズル制御方法であって、
前記二流体ノズルに前記液体を供給するステップと、
前記二流体ノズルに前記気体を供給するステップと、
前記二流体ノズルからの前記混合液の吐出を停止する場合、液体の供給を停止した後に前記気体の供給を停止するステップと、を含む。

【0113】

第６項に記載の二流体ノズル制御方法によれば、二流体ノズルに対して、液体の供給が停止した後に気体の供給が停止する。この場合、液体の供給の停止により、二流体ノズルから吐出されなかった液体が残存する。この状態で、二流体ノズルに気体が供給されるので、二流体ノズルに残存した液体が二流体ノズルから離脱する。その結果、二流体ノズルにおいて残存した液体が二流体ノズルから落下するのを抑制することが可能になる。

【0114】

（第７項）第６項に記載の二流体ノズル制御方法は、
前記液体の供給を停止してから前記気体の供給を停止するまでの時間は、前記二流体ノズルの前記液体および前記気体が混合される混合部の体積に基づいて定められてもよい。

【0115】

第７項に記載の二流体ノズル制御方法によれば、液体の供給を停止してから気体の供給を停止するまでの時間が混合部の体積に基づいて定められるので、より正確に、二流体ノズルにおいて残存した液体を排出することが可能になる。

【0116】

（第８項）第６項または第７項に記載の二流体ノズル制御方法において、
前記基板処理装置は、
基板を支持する基板支持部と、
前記基板支持部により支持された前記基板の外方に位置する待機位置と前記基板支持部により支持された前記基板の上方に位置する処理位置との間で前記二流体ノズルを移動させるノズル駆動部と、を備え、
前記気体の供給を停止するステップは、前記ノズル駆動部により前記二流体ノズルが移動される前に、前記二流体ノズルに前記液体の供給を停止した後に前記気体の供給を停止するステップを、含む。

【0117】

第８項に記載の二流体ノズル制御方法によれば、二流体ノズルが移動する前に、液体の供給が停止された後に気体の供給が停止される。そのため、二流体ノズルにおいては、液体の供給が停止された後に気体が供給されるので、二流体ノズルに残存する余分な現像液が除去される。その結果、ノズル移動中に液体の落下を抑制することができる。

【0118】

（第９項）第６項または第７項に記載の二流体ノズル制御方法において、
前記二流体ノズルは、現像液と前記気体が混合された第１の混合液を吐出可能な第１の二流体ノズルと、リンス液と前記気体が混合された第２の混合液を吐出可能な第２の二流体ノズルとを含み、
前記気体の供給を停止するステップは、基板に前記現像液の供給を開始した後に前記リンス液を供給する現像処理において、前記第１の二流体ノズルから前記第１の混合液の吐出を停止する場合、前記現像液の供給を停止した後に前記気体の供給を停止するステップを含む。

【0119】

第９項に記載の二流体ノズル制御方法によれば、基板の現像処理において、第１の二流体ノズルから第１の混合液の吐出が停止される場合、現像液の供給が停止された後に気体の供給が停止される。それにより、基板にリンス液が供給されている間に、第１の二流体ノズルに残存する余分な現像液が除去される。このため、基板への現像液の付着を回避することができる。その結果、効率的に現像処理を実行することができる。

【0120】

上記一連の実施形態に係る二流体吐出装置、基板処理装置および二流体ノズル制御方法によれば、二流体ノズルからの液滴の落下が抑制されるので、液滴の揮発による大気汚染を抑制することができる。それにより、地球環境の汚染の低減に寄与することができる。

【符号の説明】

【0121】

１…現像装置，１ｗ…第１の側壁板，２ｗ…第２の側壁板，３Ａ…円筒部，３Ｂ…底部，３ｂ…衝突面，３ｗ…第３の側壁板，４ｗ…第４の側壁板，５ｗ…床板，６ｗ…天井板，１０…気体供給部，１１ａ…気体供給部，１１ｂ…現像液供給部，１１ｃ…リンス液供給部，１２ａ…気体供給経路，１２ｂ…現像液供給経路，１２ｃ…リンス液供給経路，３１…ノズル，４０…カップ，４１…筒状壁部，４２…液受け部，４９…昇降駆動部，５０…収容器，５１…側壁部，５２…底部，６１…排気管，６２…排液管，７０…基板保持装置，７１…吸着保持部，７２…スピンモータ，７３…回転軸，７８…吸引装置，７９…モータカバー，９０…制御部，９１…第１の昇降制御部，９２ａ…気体制御部，９２ｂ…液体制御部，９３…第１の回転制御部，９４…吸引制御部，９５…第２の昇降制御部，９６…第２の回転制御部，１００…区画板，１１０…ノズル開口，２００…筒部材，３００…ノズルアームユニット，３１０…ノズル，３１０ａ…液体導入部，３１０ｄ…噴射部，３１１…現像液用ノズル，３１１Ａ…本体部，３１１Ｂ…気体導入部材，３１１ａ…液体導入部，３１１ｂ，３１１ｃ…気体導入部，３１１ｄ…噴射部，３１２…リンス液用ノズル，３１２ａ…液体導入部，３１２ｂ，３１２ｃ…気体導入部，３１２ｄ…噴射部，３２０…支持体，３２１…一端部，３２２…他端部，３２３…ノズル固定部，３２４…配管固定部，３２５…カバー取り付け部，３２９…配管固定片，３３０…カバー部材，３３１…上面部，３３１ｈ…貫通孔，３３３…他方端面部，３３３Ｎ…切り欠き，３９１…筒状結束部材，４００…ノズル駆動部，４０１…回転軸，５００…待機ポッド，５１０…待機孔，ＡＧ…空気ガイド，ＡＸ…軸，ＣＡ…筐体，Ｄ１…第１の方向，Ｄ２…第２の方向，ＤＵ…ダクト，ＦＬ…フィルタ，ＦＰａ，ＦＰｂ，ＦＰｃ…流路，ＧＳＰ…気体滞留空間，ＬＰＡ…液処理ユニット，ＬＰＢ…液処理ユニット，ＭＳＰ…二流体混合空間，ＭＳＰ１…二流体衝突空間，ＭＳＰ２…二流体導出空間，ＯＰ１…開口部，Ｐ１…処理位置，Ｐ２…待機位置，ＰＰ…配管，ＳＰ…内部空間，ＳＰａ…処理空間，ＳＰｂ…非処理空間，Ｔ１…リンス液供給期間，Ｔ２…液体吐出期間，Ｗ …基板，ａ３…液体吐出口，ｂ３…気体吐出口，ｏｐ１…開口，ｐｈ…搬入搬出口

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】