特開 2024-36075 光走査装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024036075

(43)【公開日】2024-03-15

(54)【発明の名称】光走査装置

(51)【国際特許分類】

   G02B 26/10 20060101AFI20240308BHJP

   G02B 26/12 20060101ALI20240308BHJP

   B41J 2/47 20060101ALI20240308BHJP

   H04N 1/113 20060101ALI20240308BHJP

【ＦＩ】

G02B26/10 F

G02B26/12

B41J2/47 101D

H04N1/113

【審査請求】未請求

【請求項の数】6

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022140793

(22)【出願日】2022-09-05

(71)【出願人】

【識別番号】000005267

【氏名又は名称】ブラザー工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100116034

【弁理士】

【氏名又は名称】小川 啓輔

(74)【代理人】

【識別番号】100144624

【弁理士】

【氏名又は名称】稲垣 達也

(72)【発明者】

【氏名】阿部 晃治

(72)【発明者】

【氏名】横井 淳一

(72)【発明者】

【氏名】東原 直也

【テーマコード（参考）】

2C362

2H045

5C072

【Ｆターム（参考）】

2C362AA10

2C362BA04

2C362BA50

2C362BA51

2C362BB03

2C362DA14

2H045AA01

2H045BA22

2H045BA34

2H045CA03

2H045CA63

2H045DA02

2H045DA04

5C072AA03

5C072BA20

5C072HA02

5C072HA06

5C072HA09

5C072HA13

5C072XA01

5C072XA05

(57)【要約】

【課題】突出部と後退部を有する湾曲した走査レンズを備える走査光学装置において、装置内に埃が入りにくくし、装置の大型化を抑制する。
【解決手段】光走査装置のフレームＦは、走査レンズ（第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋ）の主走査方向の中心からのビームを出射するスリット孔１１０Ｙ，１１０Ｍ，１１０Ｃ，１１０Ｋを有する。走査レンズは、突出部７１Ｙ，７１Ｍ，７１Ｃ，７１Ｋと、後退部７２Ｙ，７２Ｍ，７２Ｃ，７２Ｋとを有する。スリット孔は、第１部分１１１Ｙ，１１１Ｍ，１１１Ｃ，１１１Ｋと、第２部分１１２Ｙ，１１２Ｍ，１１２Ｃ，１１２Ｋとを有する。第１部分１１１Ｙ，１１１Ｍの副走査方向の開口幅Ｌ１は、第２部分１１２Ｙ，１１２Ｍ，１１２Ｃ，１１２Ｋの副走査方向の開口幅Ｌ２より大きい。第１部分１１１Ｃ，１１１Ｋの副走査方向の開口幅Ｌ３は、第２部分１１２Ｃ，１１２Ｋの副走査方向の開口幅Ｌ２より大きい。
【選択図】図９

【特許請求の範囲】

【請求項1】

ビームを出射する入射光学系と、
前記入射光学系から出射されたビームを偏向する偏向器と、
前記偏向器で偏向されたビームを像面に結像させる走査レンズを有する走査光学系と、
前記偏向器および前記走査光学系を収容するフレームであって、前記走査レンズからのビームを前記フレームの外部に出射するスリット孔を有するフレームと、を備え、
前記走査レンズは、副走査方向から見て、前記走査レンズの主走査方向の中心を通るビームの進行方向に突出した突出部と、前記突出部よりも前記走査レンズの主走査方向の中心を通るビームの進行方向に後退した後退部と、を有し、
前記スリット孔は、前記突出部に対応する第１部分と、前記第１部分と主走査方向に並んで位置し、前記後退部に対応する第２部分と、を有し、
前記第１部分の前記副走査方向の開口幅は、前記第２部分の前記副走査方向の開口幅より大きいことを特徴とする走査光学装置。

【請求項2】

前記突出部の一部は、前記第１部分の中に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。

【請求項3】

前記フレームは、前記スリット孔が形成された板状のカバープレートを有し、
前記走査レンズは、前記副走査方向における他方側の端部が前記副走査方向における一方側の端部よりも前記カバープレートから離れるように前記カバープレートに対して傾いて配置され、
前記第１部分は、前記第２部分よりも前記副走査方向の一方側に突出していることを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。

【請求項4】

前記フレームは、前記スリット孔が形成された板状のカバープレートを有し、
前記走査レンズの主走査方向の中心を通るビームの進行方向に沿って見て、前記後退部の一部は、前記カバープレートと重なることを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。

【請求項5】

前記フレームは、前記スリット孔を塞ぐレンズカバーであって、前記走査レンズを通過したビームが透過可能なレンズカバーをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。

【請求項6】

前記フレームは、
前記偏向器および前記走査光学系を収容するメインフレームと、
前記スリット孔が形成されたカバープレートと、を有し、
前記カバープレートは、前記メインフレームと異なる部材で構成されていることを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ポリゴンミラーを備えた走査光学装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、光源と、光源から出射されたビームを偏向する偏向器と、偏向器で偏向されたビームを像面に結像させる走査レンズと、を備えた走査光学装置が知られている（特許文献１参照）。この走査光学装置では、ビームを出射するスリット孔に走査レンズが近接して配置されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００７－２９８６８３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

走査レンズには、弓型に湾曲したものがある。弓型に湾曲した走査レンズは、ビームの進行方向に突出した突出部と、ビームの進行方向に後退した後退部を有する。このため、突出部が走査光学装置のフレームに干渉しないようにする必要がある。突出部がフレームと干渉しないようにするためには、スリット孔を副走査方向に大きくするか、走査レンズをフレームから所定距離離して配置することが考えられる。しかしながら、スリット孔を主走査方向の全幅にわたって副走査方向に大きくすると、埃などが走査光学装置内に入りやすくなってしまう。また、走査レンズをフレームから所定距離離して配置すると、走査光学装置が大型化してしまう。

【0005】

そこで、本発明は、突出部と後退部を有する湾曲した走査レンズを備える走査光学装置において、装置内に埃が入りにくくするとともに走査光学装置の大型化を抑制することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

前記課題を解決するため、本発明に係る光走査装置は、入射光学系と、偏向器と、走査光学系と、フレームと、を備える。
入射光学系は、ビームを出射する。偏向器は、入射光学系から出射されたビームを偏向する。走査光学系は、偏向器で偏向されたビームを像面に結像させる。フレームは、偏向器および走査光学系を収容する。フレームは、走査レンズからのビームをフレームの外部に出射するスリット孔を有する。
走査レンズは、副走査方向から見て、走査レンズの主走査方向の中心を通るビームの進行方向に突出した突出部と、突出部よりも走査レンズの主走査方向の中心を通るビームの進行方向に後退した後退部と、を有する。スリット孔は、突出部に対応する第１部分と、第１部分と主走査方向に並んで位置し、後退部に対応する第２部分と、を有する。第１部分の副走査方向の開口幅は、第２部分の副走査方向の開口幅より大きい。

【0007】

スリット孔を、第１部分の副走査方向の開口幅が第２部分の副走査方向の開口幅より大きい構成とすることにより、スリット孔の副走査方向の開口幅が、主走査方向の全幅にわたって大きくならないので、装置内に埃が入りにくい。また、突出部に対応する第１部分の副走査方向の開口幅が大きいので、走査レンズとフレームの干渉を抑制できる。このため、突出部と後退部を有する湾曲した走査レンズとフレームを近接して配置することができ、大型化を抑制できる。

【0008】

また、前記した走査光学装置において、突出部の一部は、第１部分の中に配置されている構成としてもよい。

【0009】

突出部の一部が第１部分の中に配置されていることで、走査レンズとフレームを近接して配置することが出来るので、走査光学装置の大型化を抑制できる。

【0010】

また、前記した走査光学装置において、フレームは、スリット孔が形成された板状のカバープレートを有し、走査レンズは、副走査方向における一方側の端部が副走査方向における他方側の端部よりもカバープレートから離れるようにカバープレートに対して傾いて配置され、第１部分は、第２部分よりも副走査方向の他方側に突出している構成としてもよい。

【0011】

走査レンズと干渉する部分にスリット孔の開口を広げることで、走査光学装置の大型化を抑制できる。

【0012】

また、前記した走査光学装置において、フレームは、スリット孔が形成された板状のカバープレートを有し、走査レンズの主走査方向の中心を通るビームの進行方向に沿って見て、後退部の一部は、カバープレートと重なる構成としてもよい。

【0013】

後退部の一部がカバープレートと重なることで、走査レンズとカバープレートの隙間を小さくすることができる。このため、フレームの内部に埃が侵入することを抑制できる。

【0014】

また、前記した走査光学装置において、フレームは、スリット孔を塞ぐレンズカバーであって、走査レンズを通過したビームが透過可能なレンズカバーをさらに有する構成としてもよい。

【0015】

レンズカバーを有することにより、埃がフレーム内へ侵入することを抑制できる。

【0016】

また、前記した走査光学装置において、フレームは、偏向器および走査光学系を収容するメインフレームと、スリット孔が形成されたカバープレートと、を有し、カバープレートは、メインフレームと異なる部材で構成されていてもよい。

【0017】

フレームがメインフレームとカバープレートから構成されることにより、メインフレームの剛性を高くすることができる。

【発明の効果】

【0018】

本発明によれば、突出部と後退部を有する湾曲した走査レンズを備える走査光学装置において、装置内に埃が入りにくくするとともに走査光学装置の大型化を抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】一実施形態に係る走査光学装置を第１方向の他方側から見た斜視図である。

【図2】カップリングレンズ周りの構造を示す斜視図である。

【図3】走査光学装置を第１方向の一方側から見た斜視図である。

【図4】図１のＩＶ－ＩＶ断面図である。

【図5】図１のＶ－Ｖ断面図である。

【図6】カバープレートを配置した走査光学装置を第１方向の一方側から見た斜視図である。

【図7】カバープレートを第１方向の一方側からみた図である。

【図8】入射面側から見た第２走査レンズ（ａ）と、出射面側から見た第２走査レンズ（ｂ）である。

【図9】図６のＸ－Ｘ断面における第２走査レンズとカバープレートを示す断面図（ａ）と、図６のＹ－Ｙ断面における第２走査レンズとカバープレートを示す断面図（ｂ）である。

【図10】図６のＺ－Ｚ断面の第２走査レンズとカバープレートを示す断面図（ａ）と、（ａ）の断面図に対応したスリット孔を第１方向の一方側から見た図である。

【図11】板金プレートを示す斜視図である。

【図12】スリット孔にレンズカバーを取り付けた形態を示す図である。

【図13】カバープレートの他の形態を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0020】

図１～図３に示すように、走査光学装置１は、フレームＦと、入射光学系Ｌｉと、偏向器５０と、走査光学系Ｌｏとを備える。走査光学装置１は、電子写真式の画像形成装置に適用される。以下の説明では、図３に示すポリゴンミラー５１の回転軸線Ｘ１に沿った方向を、「第１方向」と称する。また、第１方向に直交する方向であって、図３に示すポリゴンミラー５１と第１走査レンズ６０が並ぶ方向を、「第２方向」と称する。また、第１方向および第２方向に直交する方向を「第３方向」と称する。なお、第３方向は、走査光学系Ｌｏにおいては主走査方向に相当する。また、図面における各方向を示す矢印は、各方向における「一方側」を指すこととする。

【0021】

入射光学系Ｌｉは、ビームを出射する。図２に示すように、入射光学系Ｌｉは、４つの半導体レーザ１０と、４つのカップリングレンズ２０と、絞り板３０と、集光レンズ４０とを備える。半導体レーザ１０とカップリングレンズ２０は、光源の一例である。

【0022】

半導体レーザ１０は、光を出射する装置である。半導体レーザ１０は、走査光学装置１が走査露光する４つの感光ドラム２００（図５参照）に対応して４つ設けられている。各感光ドラム２００には、それぞれ異なる色のトナー像が形成される。

【0023】

なお、本実施形態では、第１色を「イエロー（Ｙ）」、第２色を「マゼンタ（Ｍ）」、第３色を「シアン（Ｃ）」、第４色を「ブラック（Ｋ）」とする。以下の説明では、第１色に対応した部品の名称の頭に「第１」を付し、第１色に対応した部品の符号の末尾に「Ｙ」を付して区別する場合がある。また、第２色、第３色、第４色に対応した部品についても同様に、名称の頭に「第２」、「第３」、「第４」を付し、符号の末尾に「Ｍ」、「Ｃ」、「Ｋ」を付して区別する場合がある。

【0024】

第１半導体レーザ１０Ｙは、第２半導体レーザ１０Ｍに対して第１方向に間隔を空けて並んでいる。第１半導体レーザ１０Ｙは、第２半導体レーザ１０Ｍに対して第１方向の一方側に位置する。

【0025】

第３半導体レーザ１０Ｃは、第２半導体レーザ１０Ｍに対して第２方向に間隔を空けて並んでいる。第３半導体レーザ１０Ｃは、第２半導体レーザ１０Ｍに対して第２方向の他方側に位置する。第４半導体レーザ１０Ｋは、第１方向において第３半導体レーザ１０Ｃと間隔を空けて並び、かつ、第２方向において第１半導体レーザ１０Ｙと間隔を空けて並んでいる。

【0026】

カップリングレンズ２０は、半導体レーザ１０からの光をビームに変換するレンズである。各色に対応したカップリングレンズ２０Ｙ，２０Ｍ，２０Ｃ，２０Ｋは、対応する半導体レーザ１０Ｙ，１０Ｍ，１０Ｃ，１０Ｋと対向する位置に配置されている。

【0027】

図１に示すように、絞り板３０は、カップリングレンズ２０からのビームが通過する開口絞り３１を有する部位であり、フレームＦに一体に形成されている。絞り板３０は、カップリングレンズ２０と集光レンズ４０の間に位置している。

【0028】

集光レンズ４０は、カップリングレンズ２０からのビームを副走査方向においてポリゴンミラー５１に集光するレンズである。集光レンズ４０は、絞り板３０に対してカップリングレンズ２０とは反対側に位置している。

【0029】

図３に示すように、偏向器５０は、ポリゴンミラー５１と、モータ５２とを有する。ポリゴンミラー５１は、光源から出射されたビームを偏向する。具体的には、ポリゴンミラー５１は、集光レンズ４０を通過したビームを主走査方向に偏向する。ポリゴンミラー５１は、回転軸線Ｘ１から等距離に設けられた５つのミラー面を有している。モータ５２は、第１方向に延びる回転軸線Ｘ１を中心にポリゴンミラー５１を回転させるモータである。モータ５２は、フレームＦに固定されている。

【0030】

走査光学系Ｌｏは、偏向器５０に偏向されたビームを、像面としての感光ドラム２００の表面に結像する光学系である。走査光学系Ｌｏは、フレームＦに固定されている。図５に示すように、走査光学系Ｌｏは、イエローに対応した第１走査光学系ＬｏＹと、マゼンタに対応した第２走査光学系ＬｏＭと、シアンに対応した第３走査光学系ＬｏＣと、ブラックに対応した第４走査光学系ＬｏＫとを有する。

【0031】

第１走査光学系ＬｏＹおよび第２走査光学系ＬｏＭは、第２方向において、ポリゴンミラー５１の一方側に配置されている。第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫは、第２方向において、ポリゴンミラー５１の他方側に配置されている。各走査光学系ＬｏＹ，ＬｏＭ，ＬｏＣ，ＬｏＫには、ポリゴンミラー５１によって主走査方向に偏向されたビームが入射する。

【0032】

第１走査光学系ＬｏＹ、第２走査光学系ＬｏＭ、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫは、ポリゴンミラー５１で偏向されたビームが通る第１走査レンズと、第１走査レンズを通過したビームを反射する少なくとも１つの反射ミラーと、反射ミラーに反射されたビームを副走査方向に集光する第２走査レンズと、をそれぞれ有する。
本実施形態では、第１走査光学系ＬｏＹの第１走査レンズと、第２走査光学系ＬｏＭの第１走査レンズとは共通の１つのレンズ６０ＹＭである。同様に、第３走査光学系ＬｏＣの第１走査レンズと、第４走査光学系ＬｏＫの第１走査レンズとは共通の１つのレンズ６０ＣＫである。
また、本実施形態では、第１走査光学系ＬｏＹおよび第４走査光学系ＬｏＫは、それぞれ、反射ミラーを１つ有する。また、第２走査光学系ＬｏＭおよび第３走査光学系ＬｏＣは、それぞれ、反射ミラーを２つ有する。

【0033】

第１走査光学系ＬｏＹは、ポリゴンミラー５１で偏向されたビームＢＹを第１感光ドラム２００Ｙの第１像面に向けて出射する。第１走査光学系ＬｏＹは、第１走査レンズ６０ＹＭと、第２走査レンズ７０Ｙと、第１反射ミラー８１Ｙとを有する。

【0034】

第１走査レンズ６０ＹＭは、偏向器５０で偏向されたビームＢＹを主走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。また、第１走査レンズ６０ＹＭは、偏向器５０によって等角速度で走査された光を、像面において等速度となるようにするｆθ特性を有する。第１走査レンズ６０ＹＭは、第１走査光学系ＬｏＹのうちポリゴンミラー５１に最も近い走査レンズである。

【0035】

第１反射ミラー８１Ｙは、第１走査レンズ６０ＹＭからのビームＢＹを、第２走査レンズ７０Ｙに向けて反射するミラーである。第２走査レンズ７０Ｙは、第１反射ミラー８１Ｙで反射されたビームＢＹを副走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。第１反射ミラー８１Ｙは、第２走査レンズ７０Ｙと第１方向から見て重なる。第２走査レンズ７０Ｙは、ポリゴンミラー５１に対して第１方向の一方側に配置されている。第２走査レンズ７０Ｙは、第１走査光学系ＬｏＹのうち像面に最も近い走査レンズである。

【0036】

第２走査光学系ＬｏＭは、ポリゴンミラー５１で偏向されたビームＢＭを第２感光ドラム２００Ｍの第２像面に向けて出射する。第２走査光学系ＬｏＭは、第２方向において、第１走査光学系ＬｏＹのビームＢＹよりポリゴンミラー５１に近い位置でビームＢＭを第２感光ドラム２００Ｍの第２像面に向けて出射する。第２走査光学系ＬｏＭは、第１走査レンズ６０ＹＭと、第２走査レンズ７０Ｍと、第１反射ミラー８１Ｍと、第２反射ミラー８２Ｍとを有する。

【0037】

第２走査光学系ＬｏＭの第１走査レンズ６０ＹＭは、第１反射ミラー８１Ｍから第２走査レンズ７０Ｍへ向けて進むビームＢＭとポリゴンミラー５１との間に位置する。

【0038】

第２反射ミラー８２Ｍは、第１走査レンズ６０ＹＭからのビームを、第１反射ミラー８１Ｍに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｍは、第２反射ミラー８２ＭからのビームＢＭを第２走査レンズ７０Ｍに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｍは、第２走査レンズ７０Ｍと第１方向から見て重なる。第２走査レンズ７０Ｍは、第１反射ミラー８１Ｙで反射されたビームを副走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。第２走査光学系ＬｏＭにおいて、第１走査レンズ６０ＹＭと第２走査レンズ７０Ｍは、第１方向から見て重なる。第２走査レンズ７０Ｍは、ポリゴンミラー５１に対して第１方向の一方側に配置されている。第２走査レンズ７０Ｍは、第２走査光学系ＬｏＭのうち像面に最も近い走査レンズである。

【0039】

第３走査光学系ＬｏＣは、ポリゴンミラー５１で偏向されたビームを第３感光ドラム２００Ｃの第３像面に向けて出射する。第３走査光学系ＬｏＣは、第１走査レンズ６０ＣＫと、第２走査レンズ７０Ｃと、第１反射ミラー８１Ｃと、第２反射ミラー８２Ｃとを有する。

【0040】

第１走査レンズ６０ＣＫは、偏向器５０で偏向されたビームを主走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。また、第１走査レンズ６０ＣＫは、偏向器５０によって等角速度で走査された光を、像面において等速度となるようにするｆθ特性を有する。第１走査レンズ６０ＣＫは、第３走査光学系ＬｏＣのうちポリゴンミラー５１に最も近い走査レンズである。第３走査光学系ＬｏＣの第１走査レンズ６０ＣＫは、第１反射ミラー８１Ｃから第２走査レンズ７０Ｃへ向けて進むビームＢＣとポリゴンミラー５１との間に位置する。

【0041】

第２反射ミラー８２Ｃは、第１走査レンズ６０ＣＫからのビームを第１反射ミラー８１Ｃに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｃは、第２反射ミラー８２ＣからのビームＢＣを第２走査レンズ７０Ｃに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｃは、第２走査レンズ７０Ｃと第１方向から見て重なる。第２走査レンズ７０Ｃは、第１反射ミラー８１Ｃで反射されたビームを副走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。第２走査レンズ７０Ｃは、ポリゴンミラー５１に対して第１方向の他方側に配置されている。第２走査レンズ７０Ｃは、第３走査光学系ＬｏＣのうち像面に最も近い走査レンズである。

【0042】

第４走査光学系ＬｏＫは、ポリゴンミラー５１で偏向されたビームを第４感光ドラム２００Ｋの第４像面に向けて出射する。第４走査光学系ＬｏＫは、第２方向において、第４走査光学系ＬｏＫのビームＢＫよりポリゴンミラー５１に遠い位置でビームＢＫを第４感光ドラム２００Ｋの第４像面に向けて出射する。第４走査光学系ＬｏＫは、第１走査レンズ６０ＣＫと、第２走査レンズ７０Ｋと、第１反射ミラー８１Ｋを有する。

【0043】

第１走査レンズ６０ＣＫは、偏向器５０で偏向されたビームＢＫを主走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。また、第１走査レンズ６０ＣＫは、偏向器５０によって等角速度で走査された光を、像面において等速度となるようにするｆθ特性を有する。第１走査レンズ６０ＣＫは、第４走査光学系ＬｏＫのうちポリゴンミラー５１に最も近い走査レンズである。

【0044】

第１反射ミラー８１Ｋは、第１走査レンズ６０ＣＫからのビームＢＫを、第２走査レンズ７０Ｋに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｋは、第２走査レンズ７０Ｋと第１方向から見て重なる。第２走査レンズ７０Ｋは、第１反射ミラー８１Ｋで反射されたビームＢＫを副走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。第２走査レンズ７０Ｋは、ポリゴンミラー５１に対して第１方向の他方側に配置されている。第２走査レンズ７０Ｋは、第４走査光学系ＬｏＫのうち像面に最も近い走査レンズである。

【0045】

第１走査光学系ＬｏＹ、第２走査光学系ＬｏＭ、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫの第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋのそれぞれは、第２方向に直線状に並んでいる。別の言い方をすれば、各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋは、第２方向から見て、互いに、少なくとも一部が重なるように配置されている。各走査光学系Ｌｏにおける第２走査レンズ７０は、本願にいう「走査レンズ」の一例である。

【0046】

図８（ａ）、（ｂ）に示すように、第２走査レンズ７０は、主走査方向に長いレンズ部７３と、レンズ部７３の副走査方向の両側に形成されたリブ７４と、レンズ部７３及びリブ７４の主走査方向の両側に形成されたフランジ７５と、被位置決め部７６とを有している。なお、各色に対応する第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋは、共通の形状を有する。

【0047】

レンズ部７３は、偏向器５０からのビームが入射する入射面７３Ａと、レンズ部７３を通過したビームを出射する出射面７３Ｂとを有する。第２走査レンズ７７０の入射面７３Ａは凹面であり、出射面７３Ｂは凸面である。詳しくは、入射面７３Ａは、主走査方向の中央に近づくにつれて主走査方向中心を通るビームの進行方向の下流側に位置するように凹む形状の凹面である。また、出射面７３Ｂは、主走査方向の中央に近づくにつれて主走査方向中心を通るビームの進行方向の下流側に位置するように突出する形状の凸面である。以下の説明では、主走査方向中心を通るビームの進行方向を、単に「ビームの進行方向」と記載する。

【0048】

リブ７４は、入射面７３Ａおよび出射面７３Ｂの湾曲に倣って湾曲している。リブ７４は、入射面７３Ａおよび出射面７３Ｂのそれぞれから、ビームの進行方向に略一定の高さで突出している。

【0049】

上述のような入射面７３Ａおよび出射面７３Ｂの湾曲形状により、第２走査レンズ７０は、全体としてビームの進行方向に凸となるような弓形に湾曲している。第２走査レンズ７０は、ビームの出射側の形状として、副走査方向から見て第２走査レンズ７０を通るビームの進行方向に最も突出した部分を含む突出部７１と、突出部７１よりも第２走査レンズ７０を通るビームの進行方向に最も後退した部分を含む後退部７２とを有する。突出部７１は、第２走査レンズ７０の主走査方向における中央部を含む範囲である。後退部７２は、第２走査レンズ７０の主走査方向における端部を含む範囲である。

【0050】

フランジ７５は、第２走査レンズ７０をフレームＦに固定するための部分である。被位置決め部７６は、第２走査レンズ７０を、フレームＦに対して主走査方向に位置決めするための突起である。

【0051】

図３に示すように、第２走査レンズ７０は、主走査方向を第３方向に向け、出射面７３Ｂを、およそ第１方向に向けた状態でフレームＦに固定される。詳細には、図５に示すように、第２走査レンズ７０は、図５の断面における光軸（図示省略）が、通過するビームと平行になるように配置される。そのため、第２走査レンズ７０は、副走査方向における一方側が、他方側に対して、第１方向の一方側に位置するように、フレームＦに対して傾いている。第２走査レンズ７０において、主走査方向は、第３方向に対応し、副走査方向は、第２方向に沿った方向で第２方向と角度をなし、ビームＢの進行方向は、第１方向に沿った方向で第２方向と角度をなしている。

【0052】

ポリゴンミラー５１に反射されたビームは、ポリゴンミラー５１におけるビームの反射点を通る平面ＨＭであって、第１方向に直交する平面ＨＭに対して斜めに進行する。第１走査光学系ＬｏＹおよび第４走査光学系ＬｏＫでは、ポリゴンミラー５１に反射されたビームは、平面ＨＭに対して第１方向の他方側（図５における上側）に斜めに進行する。第２走査光学系ＬｏＭおよび第３走査光学系ＬｏＣでは、ポリゴンミラー５１に反射されたビームは、平面ＨＭに対して第１方向の一方側（図５における下側）に斜めに進行する。
第１走査光学系ＬｏＹ、第２走査光学系ＬｏＭ、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫの各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋの光学面は、副走査方向に関して対称である。

【0053】

図４に示すように、各半導体レーザ１０Ｙ～１０Ｋから出射された光は、各カップリングレンズ２０Ｙ～２０Ｋを通ることでビームＢＹ～ＢＫに変換される。ビームＢＹ～ＢＫは、絞り板３０の対応する開口絞り３１Ｙ～３１Ｋを通った後、集光レンズ４０を通って、ポリゴンミラー５１に入射される。集光レンズ４０は、ビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫが共通して通過するレンズであり、入射面が円筒面、出射面が平面で構成される。

【0054】

図５に示すように、ポリゴンミラー５１は、ビームＢＹ～ＢＫを、対応する走査光学系ＬｏＹ～ＬｏＫに向けて偏向する。第１走査光学系ＬｏＹに向かうビームＢＹは、第１走査レンズ６０ＹＭを通った後、第１反射ミラー８１Ｙで反射され、第２走査レンズ７０Ｙを通って第１方向の一方側の像面に向けて出射される。ビームＢＹは、第１方向と所定の角度をなして第２走査レンズ７０Ｙから出射される。ビームＢＹは、第１感光ドラム２００Ｙに結像され主走査方向に走査される。

【0055】

第２走査光学系ＬｏＭに向かうビームＢＭは、第１走査レンズ６０ＹＭを通った後、第２反射ミラー８２Ｍおよび第１反射ミラー８１Ｍで反射され、第２走査レンズ７０Ｍを通って第１方向の一方側の像面に向けて出射される。ビームＢＭは、第１方向と所定の角度をなして第２走査レンズ７０Ｍから出射される。ビームＢＭは、第２感光ドラム２００Ｍに結像され主走査方向に走査される。なお、ビームＢＣ，ＢＫも、同様に、対応する走査光学系ＬｏＣ，ＬｏＫによって、第１方向の一方側の像面に向けて出射されて、対応する感光ドラム２００Ｃ，２００Ｋに結像され主走査方向に走査される。

【0056】

図５に示すように、フレームＦは、メインフレームＭＦと、カバープレート１００を有する。すなわち、本実施形態では、カバープレート１００は、メインフレームＭＦと異なる部材で構成されている。

【0057】

メインフレームＭＦは、偏向器５０および走査光学系Ｌｏを収容するフレームである。具体的には、メインフレームＭＦは、ポリゴンミラー５１、モータ５２、第１走査光学系ＬｏＹ、第２走査光学系ＬｏＭ、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫが固定されている。メインフレームＭＦは、樹脂製であり、１つの部品として成形されている。メインフレームＭＦは、図３に示す第１凹部ＣＰ１と、図１に示す第２凹部ＣＰ２とを有する。第１凹部ＣＰ１は、第１方向の一方側に開口する。第２凹部ＣＰ２は、第１方向の他方側に開口する。図５に示すように、第１凹部ＣＰ１内には、偏向器５０と、走査光学系Ｌｏの一部とが配置されている。具体的には、走査光学系Ｌｏのうち各第１反射ミラー８１を除く部材が、第１凹部ＣＰ１内に配置されている。図２に示すように、第２凹部ＣＰ２内には、カップリングレンズ２０、絞り板３０および集光レンズ４０（図１参照）が配置されている。

【0058】

図５、図６に示すように、カバープレート１００は、偏向器５０および第１ベース壁Ｆｂ１を、第１方向の一方側から覆うプレート状のカバーであり、メインフレームＭＦにネジおよびスナップフィットで固定されている。詳しくは、カバープレート１００は、第１凹部ＣＰ１の開口を覆う。第１走査レンズ６０ＹＭ，６０ＣＫおよび第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋは、第１ベース壁Ｆｂ１とカバープレート１００との間に配置され、第１凹部ＣＰ１に収容されている。

【0059】

図６、図７に示すように、カバープレート１００は、スリット孔１１０を有する。スリット孔１１０は、各色に対応して計４つ設けられている、各スリット孔１１０は、第２走査レンズ７０からのビームをフレームＦの外部に出射する孔である。４つのスリット孔１１０Ｙ，１１０Ｍ，１１０Ｃ，１１０Ｋは、第２方向に並んでいる。

【0060】

図９に示すように、第２走査レンズ７０は、副走査方向における他方側の端部が副走査方向における一方側の端部よりもカバープレート１００から離れるようにカバープレート１００に対して傾いて配置されている。詳しくは、カバープレート１００のメインフレームＭＦに対向する面は第２方向に沿った面であり、第２走査レンズ７０は、第２方向における他方側の端部が第２方向における一方側の端部よりもカバープレート１００から離れている。

【0061】

図７に示すように、各スリット孔１１０は、第２走査レンズ７０からのビームが通過する範囲において、第１部分１１１と、第２部分１１２とを有する。

【0062】

第１部分１１１は、第２走査レンズ７０の突出部７１に対応する部分である。第１部分は、スリット孔１１０の第３方向の中央部に位置する。第２部分１１２は、第２走査レンズ７０の後退部７２に対応する部分であり、スリット孔１１０の第３方向の両端部に位置する。なお、図７では、各第１部分１１１（１１１Ｙ，１１１Ｍ，１１１Ｃ，１１１Ｋ）に、便宜上ドットハッチを付して示す。

【0063】

具体的に、第１走査光学系ＬｏＹに対応するスリット孔１１０Ｙは、第１部分１１１Ｙと第２部分１１２Ｙを有している。第１部分１１１Ｙは、第２部分１１２Ｙよりも第２方向の一方側に突出している。第２部分１１２Ｙは、第１部分１１１Ｙと第３方向に並んで位置し、第１部分１１１Ｙの第３方向における両端から第３方向に延びている。

【0064】

第１部分１１１Ｙは、第３方向に延びている。第１部分１１１Ｙの第２方向の寸法Ｄ１は、第２部分１１２Ｙの第２方向の寸法Ｄ２より大きい。また、第２走査レンズ７０Ｙに対応させたとき、第１部分１１１Ｙの副走査方向の開口幅Ｌ１は、第２部分１１２Ｙの副走査方向の開口幅Ｌ２より大きい（図９（ａ），（ｂ）参照）。

【0065】

また、第２走査光学系ＬｏＭに対応するスリット孔１１０Ｍは、第１部分１１１Ｍと第２部分１１２Ｍを有している。第１部分１１１Ｍは、第２部分１１２Ｍよりも第２方向の一方側に突出している。第２部分１１２Ｍは、第１部分１１１Ｍと第３方向に並んで位置し、第１部分１１１Ｍの第３方向における両端から第３方向に延びている。

【0066】

第１部分１１１Ｍは、第３方向に延びている。本実施形態では、第１部分１１１Ｍの第２方向の寸法は、第１部分１１１Ｙの第２方向の寸法Ｄ１と同じである。第２部分１１２Ｍの第２方向の寸法は、第２部分１１２Ｙの第２方向の寸法Ｄ２と同じである。すなわち、第１部分１１１Ｍの第２方向の寸法Ｄ１は、第２部分１１２Ｍの第２方向の寸法Ｄ２より大きい。また、第２走査レンズ７０Ｍに対応させたとき、第１部分１１１Ｍの副走査方向の開口幅Ｌ１は、第２部分１１２Ｍの副走査方向の開口幅Ｌ２より大きい（図９（ａ），（ｂ）参照）。

【0067】

また、第３走査光学系ＬｏＣに対応するスリット孔１１０Ｃは、第１部分１１１Ｃと第２部分１１２Ｃを有している。第１部分１１１Ｃは、第２部分１１２Ｃよりも第２方向の一方側に突出している。第２部分１１２Ｃは、第１部分１１１Ｃと第３方向に並んで位置し、第１部分１１１Ｃの第３方向における両端から第３方向に延びている。

【0068】

第１部分１１１Ｃは、第３方向に延びている。本実施形態では、第１部分１１１Ｃの第２方向の寸法Ｄ３は、第１部分１１１Ｙの第２方向の寸法Ｄ１より小さい。第２部分１１２Ｃの第２方向の寸法は、第２部分１１２Ｙの第２方向の寸法Ｄ２と同じである。第１部分１１１Ｃの第２方向の寸法Ｄ３は、第２部分１１２Ｃの第２方向の寸法Ｄ２より大きい。また、第２走査レンズ７０Ｃに対応させたとき、第１部分１１１Ｃの副走査方向の開口幅Ｌ３は、第２部分１１２Ｃの副走査方向の開口幅Ｌ２より大きい（図９（ａ），（ｂ）参照）。

【0069】

また、第４走査光学系ＬｏＫに対応するスリット孔１１０Ｋは、第１部分１１１Ｋと第２部分１１２Ｋを有している。第１部分１１１Ｋは、第２部分１１２Ｋよりも第２方向の一方側に突出している。第２部分１１２Ｋは、第１部分１１１Ｋと第３方向に並んで位置し、第１部分１１１Ｋの第３方向における両端から第３方向に延びている。

【0070】

第１部分１１１Ｋは、第３方向に延びている。本実施形態では、第１部分１１１Ｋの第２方向の寸法は、第１部分１１１Ｃの第２方向の寸法Ｄ３と同じである。第２部分１１２Ｋの第２方向の寸法は、第２部分１１１Ｙの第２方向の寸法Ｄ２と同じである。第１部分１１１Ｋの第２方向の寸法Ｄ３は、第２部分１１２Ｋの第２方向の寸法Ｄ２より大きい。また、第２走査レンズ７０Ｋに対応させたとき、第１部分１１１Ｋの副走査方向の開口幅Ｌ３は、第２部分１１２Ｋの副走査方向の開口幅Ｌ２より大きい（図９（ａ），（ｂ）参照）。

【0071】

図９（ａ）、図１０に示すように、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋの突出部７１Ｙ，７１Ｍ，７１Ｃ，７１Ｋの一部は、スリット孔１１０Ｙ，１１０Ｍ，１１０Ｃ，１１０Ｋに入り込んでいる。突出部７１Ｙ，７１Ｍ，７１Ｃ，７１Ｋの一部は、第１部分１１１Ｙ，１１１Ｍ，１１１Ｃ，１１１Ｋの中に配置されている。

【0072】

図９（ａ）に示すように、第２走査レンズ７０Ｙの突出部７１Ｙの一部は、スリット孔１１０Ｙに入り込んでいる。詳しくは、イエローに対応する第２走査レンズ７０Ｙのリブ７４Ｙの一部と、出射面７３Ｂの一部がスリット孔１１０Ｙに入り込んでいる。第２走査レンズ７０Ｙは、カバープレート１００のメインフレームＭＦに対向する面に対して傾いて配置されているので、特に、第２走査レンズ７０Ｙの突出部７１Ｙのうち、第２方向の一方側に位置する、第１方向の一方側に突出した部分のみが、スリット孔１１０Ｙに入り込んでいる。

【0073】

第２走査レンズ７０Ｍの突出部７１Ｍの一部は、スリット孔１１０Ｍに入り込んでいる。詳しくは、マゼンタに対応する第２走査レンズ７０Ｍのリブ７４Ｍの一部と、出射面７３Ｂの一部がスリット孔１１０Ｙに入り込んでいる。第２走査レンズ７０Ｍは、カバープレート１００のメインフレームＭＦに対向する面に対して傾いて配置されているので、特に、第２走査レンズ７０Ｍの突出部７１Ｍのうち、第２方向の一方側に位置する、第１方向の一方側に突出した部分のみが、スリット孔１１０Ｍに入り込んでいる。

【0074】

第２走査レンズ７０Ｃの突出部７１Ｃの一部は、スリット孔１１０Ｃに入り込んでいる。詳しくは、シアンに対応する第２走査レンズ７０Ｃのリブ７４Ｃの一部がスリット孔１１０Ｃに入り込んでいる。第２走査レンズ７０Ｃは、カバープレート１００のメインフレームＭＦに対向する面に対して傾いて配置されているので、特に、第２走査レンズ７０Ｃの突出部７１Ｃのうち、第２方向の一方側に位置する、第１方向の一方側に突出した部分のみが、スリット孔１１０Ｃに入り込んでいる。

【0075】

第２走査レンズ７０Ｋの突出部７１Ｋの一部は、スリット孔１１０Ｋに入り込んでいる。詳しくは、ブラックに対応する第２走査レンズ７０Ｋのリブ７４Ｋの一部がスリット孔１１０Ｋに入り込んでいる。第２走査レンズ７０Ｋは、カバープレート１００のメインフレームＭＦに対向する面に対して傾いて配置されているので、特に、第２走査レンズ７０Ｋの突出部７１Ｋのうち、第２方向の一方側に位置する、第１方向の一方側に突出した部分のみが、スリット孔１１０Ｋに入り込んでいる。

【0076】

図９（ｂ）、図１０に示すように、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋの後退部７２Ｙ，７２Ｍ，７２Ｃ，７２Ｋは、その全体がスリット孔１１０Ｙ，１１０Ｍ，１１０Ｃ，１１０Ｋに入り込んでいない。つまり、後退部７２Ｙ，７２Ｍ，７２Ｃ，７２Ｋは、それぞれ対応する第２部分１１２Ｙ，１１２Ｍ，１１２Ｃ，１１２Ｋの中に配置されていない。

【0077】

図９（ｂ）に示すように、第２走査レンズ７０Ｙの後退部７２Ｙは、リブ７４Ｙを含め、スリット孔１１０Ｙに入り込んでいない。二点鎖線の矢印で示す第２走査レンズ７０Ｙを通るビームの進行方向に沿って見て、後退部７２Ｙは、カバープレート１００と重なる。つまり、第２走査レンズ７０Ｙの突出部７１Ｙのうち、第２方向の一方側の端部は、スリット孔１１０Ｙに入り込み、ビームの進行方向に沿って見てカバープレート１００と重なっていなかったが、後退部７２Ｙのうち、第２方向の一方側の端部は、ビームの進行方向に沿って見てカバープレート１００と重なっている。

【0078】

第２走査レンズ７０Ｍの後退部７２Ｍは、リブ７４Ｍを含め、スリット孔１１０Ｍに入り込んでいない。二点鎖線の矢印で示す第２走査レンズ７０Ｍを通るビームの進行方向に沿って見て、後退部７２Ｍは、カバープレート１００と重なる。つまり、第２走査レンズ７０Ｍの突出部７１Ｍのうち、第２方向の一方側の端部は、スリット孔１１０Ｍに入り込み、ビームの進行方向に沿って見てカバープレート１００と重なっていなかったが、後退部７２Ｍのうち、第２方向の一方側の端部は、ビームの進行方向に沿って見てカバープレート１００と重なっている。

【0079】

第２走査レンズ７０Ｃの後退部７２Ｃは、リブ７４Ｃを含め、スリット孔１１０Ｃに入り込んでいない。二点鎖線の矢印で示す第２走査レンズ７０Ｃを通るビームの進行方向に沿って見て、後退部７２Ｃは、カバープレート１００と重なる。つまり、第２走査レンズ７０Ｃの突出部７１Ｃのうち、第２方向の一方側の端部は、スリット孔１１０Ｃに入り込み、ビームの進行方向に沿って見てカバープレート１００と重なっていなかったが、後退部７２Ｃのうち、第２方向の一方側の端部は、ビームの進行方向に沿って見てカバープレート１００と重なっている。

【0080】

第２走査レンズ７０Ｋの後退部７２Ｋは、リブ７４Ｋを含め、スリット孔１１０Ｋに入り込んでいない。二点鎖線の矢印で示す第２走査レンズ７０Ｋを通るビームの進行方向に沿って見て、後退部７２Ｋは、カバープレート１００と重なる。つまり、第２走査レンズ７０Ｋの突出部７１Ｋのうち、第２方向の一方側の端部は、スリット孔１１０Ｋに入り込み、ビームの進行方向に沿って見てカバープレート１００と重なっていなかったが、後退部７２Ｋのうち、第２方向の一方側の端部は、ビームの進行方向に沿って見てカバープレート１００と重なっている。

【0081】

図５に示すように、走査光学装置１は、板金プレート３００に取り付けられている。図１１に示すように、板金プレート３００は、金属の板で形成されている。板金プレート３００は、４つの長穴３１０Ｙ，３１０Ｍ，３１０Ｃ，３１０Ｋを有している。

【0082】

図５に示すように、長穴３１０Ｙ，３１０Ｍ，３１０Ｃ，３１０Ｋは、各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋからのビームが通過する。長穴３１０Ｙ，３１０Ｍ，３１０Ｃ，３１０Ｋは、第２走査レンズ７０からのビームが通過する範囲において第２方向の寸法が一定である。長穴３１０Ｙ，３１０Ｍ，３１０Ｃ，３１０Ｋは、カバープレート１００のスリット孔１１０Ｙ，１１０Ｍ，１１０Ｃ，１１０Ｋの第２部分１１２Ｙ，１１２Ｍ，１１２Ｃ，１１２Ｋよりも第２方向の寸法が小さい。

【0083】

以上によれば、本実施形態において以下のような効果を得ることができる。
本実施形態における走査光学装置１の第２走査レンズ７０は、弓型に湾曲しており、突出部７１と後退部７２を有する。そして、スリット孔１１０は、突出部７１に対応する第１部分１１１と、後退部７２に対応する第２部分１１２とを有している。イエローとマゼンタに対応する第１部分１１１Ｙ，１１１Ｍの副走査方向の開口幅Ｌ１は、第２部分１１２Ｙ，１１２Ｍの副走査方向の開口幅Ｌ２より大きい。また、シアンとブラックに対応する第１部分１１１Ｃ，１１１Ｋの副走査方向の開口幅Ｌ３は、第２部分１１２Ｃ，１１２Ｋの副走査方向の開口幅Ｌ２より大きい。このため、スリット孔１１０Ｙ，１１０Ｍ，１１０Ｃ，１１０Ｋの副走査方向の開口幅が主走査方向の全幅にわたって大きくならないので、走査光学装置１の装置内に埃が入りにくい。また、第１部分１１１Ｙ，１１１Ｍの副走査方向の開口幅Ｌ１が第２部分１１２Ｙ，１１２Ｍの副走査方向の開口幅Ｌ２より大きく、第１部分１１１Ｃ，１１１Ｋの副走査方向の開口幅Ｌ３が第２部分１１２Ｃ，１１２Ｋの副走査方向の開口幅Ｌ２より大きいので、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０ＫとフレームＦの干渉を抑制できる。このため、突出部７１Ｙ，７１Ｍ，７１Ｃ，７１Ｋと後退部７２Ｙ，７２Ｍ，７２Ｃ，７２Ｋを有する湾曲した走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０ＫとフレームＦを近接して配置することができ、大型化を抑制できる。

【0084】

また、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋの突出部７１Ｙ，７１Ｍ，７１Ｃ，７１Ｋの一部がそれぞれ第１部分１１１Ｙ，１１１Ｍ，１１１Ｃ，１１１Ｋの中に配置されていることで、走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０ＫとフレームＦを近接して配置することが出来る。このため、走査光学装置１の大型化を抑制できる。

【0085】

また、走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋは、第２方向における他方側の端部が第２方向における一方側の端部よりもカバープレート１００から離れるようにカバープレート１００に対して傾いて配置され、各第１部分１１１Ｙ，１１１Ｍ，１１１Ｃ，１１１Ｋは、それぞれ対応する第２部分１１２Ｙ，１１２Ｍ，１１２Ｃ，１１２Ｋよりも第２方向の一方側に突出している。このため、走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋと干渉する部分に開口を広げることができ、走査光学装置１の大型化を抑制できる。

【0086】

また、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋの主走査方向の中心を通るビームの進行方向に沿って見て、後退部７２Ｙ，７２Ｍ，７２Ｃ，７２Ｋの一部は、カバープレート１００と重なる。このため、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋとカバープレート１００の隙間を小さくすることができる。このため、フレームＦの内部に埃が侵入することを抑制できる。

【0087】

また、カバープレート１００は、メインフレームＭＦと異なる部材で構成されている。このため、メインフレームＭＦの剛性を高くすることができる。カバープレート１００をメインフレームＭＦよりも剛性の低い部材で構成することで、メインフレームＭＦにカバープレート１００を組みつけた場合にメインフレームＭＦの変形を抑制することができる。

【0088】

なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、以下に例示するように様々な形態で利用できる。

【0089】

例えば、図１２に示すように、走査光学装置１Ａは、カバープレート１００Ａが、スリット孔１１０Ｙ，１１０Ｍ，１１０Ｃ，１１０Ｋを塞ぐレンズカバー１２０Ｙ，１２０Ｍ，１２０Ｃ，１２０Ｋを有していてもよい。レンズカバー１２０Ｙ，１２０Ｍ，１２０Ｃ，１２０Ｋは、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋを通過したビームが透過可能である。
レンズカバー１２０Ｙ，１２０Ｍ，１２０Ｃ，１２０Ｋがカバープレート１００Ａに配置されることによって、前記した実施形態よりも、埃がフレームＦ内へ侵入することをさらに抑制できる。

【0090】

前記した実施形態では、スリット孔１１０Ｙ，１１０Ｍ，１１０Ｃ，１１０Ｋのそれぞれが、第１部分１１１Ｙ，１１１Ｍ，１１１Ｃ，１１１Ｋと、第２部分１１２Ｙ，１１２Ｍ，１１２Ｃ，１１２Ｋとを有していたが、本発明はこれに限定されない。
例えば、図１３に示すカバープレート１００Ｂでは、スリット孔１１０Ｙ，１１０Ｍは、第１部分１１１Ｙ，１１１Ｍと、第２部分１１２Ｙ，１１２Ｍとを有しているが、スリット孔１１０Ｃ，１１０Ｋは、第１部分と、第２部分とを有していない。スリット孔１１０Ｃ，１１０Ｋは、第２方向に一定寸法の幅となっている。対応するスリット孔１１０Ｃ，１１０Ｋの第２方向の寸法Ｄ５は、寸法Ｄ２と同じでもよいし、異なっていてもよい。

【0091】

前記実施形態では、第２走査レンズ７０の突出部７１Ｙ，７１Ｍ，７１Ｃ，７１Ｋの一部が第１部分１１１の中に配置されている構成であったが、突出部７１Ｙ，７１Ｍ，７１Ｃ，７１Ｋの全部が第１部分の中に配置される構成であってもよい。

【0092】

前記実施形態では、スリット孔１１０Ｙ，１１０Ｍの第１部分１１１Ｙ，１１１Ｍの第２方向における寸法が、それぞれ寸法Ｄ１であり、スリット孔１１０Ｃ，１１０Ｋの第１部分１１１Ｃ，１１１Ｋの第２方向における寸法が、それぞれ寸法Ｄ３であったが、スリット孔１１０Ｙと１１０Ｍの寸法が異なっていてもよく、スリット孔１１０Ｃとスリット孔１１０Ｋの寸法が異なっていてもよい。
同様に、スリット孔１１０の第２部分１１２の第２方向における寸法は、いずれもＤ２であったが、色ごとに異なる寸法であってもよい。

【0093】

前記実施形態では、第１部分１１１の第２方向における寸法がＤ１、第２部分１１２の第２方向における寸法がＤ２でそれぞれ一定であったが、第１部分１１１と第２部分１１２の寸法は連続的に変化する構成であってもよい。

【0094】

前記した実施形態および変形例で説明した各要素を、任意に組み合わせて実施してもよい。

【符号の説明】

【0095】

１ 走査光学装置
７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋ 第２走査レンズ
７１Ｙ，７１Ｍ，７１Ｃ，７１Ｋ 突出部
７２Ｙ，７２Ｍ，７２Ｃ，７２Ｋ 後退部
１００ カバープレート
１１０Ｙ，１１０Ｍ，１１０Ｃ，１１０Ｋ スリット孔
１１１Ｙ，１１１Ｍ，１１１Ｃ，１１１Ｋ 第１部分
１１２Ｙ，１１２Ｍ，１１２Ｃ，１１２Ｋ 第２部分
Ｆ フレーム
ＭＦ メインフレーム

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】