(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024038817
(43)【公開日】2024-03-21
(54)【発明の名称】アクティブ除振システム、及びそのレベリング方法
(51)【国際特許分類】
F16F 15/02 20060101AFI20240313BHJP
【ＦＩ】
F16F15/02 M
F16F15/02 A
【審査請求】有
【請求項の数】7
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022143119
(22)【出願日】2022-09-08
(11)【特許番号】
(45)【特許公報発行日】2023-10-03
(71)【出願人】
【識別番号】000201869
【氏名又は名称】倉敷化工株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001427
【氏名又は名称】弁理士法人前田特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】藤原 靖也
(72)【発明者】
【氏名】太田 寛人
(72)【発明者】
【氏名】▲高▼橋 伸悟
【テーマコード（参考）】
3J048
【Ｆターム（参考）】
3J048AA01
3J048BC02
3J048CB09
3J048DA01
3J048EA13
(57)【要約】
【課題】収束性を損なうことなく、可能な限り精密かつバランスのよいレベリングを実現する。
【解決手段】コントローラ１００は、アクティブ除振システムＳの起動に先だって、前１変位ｚ１がそれぞれ所定の許容範囲Ｒ１に収まるよう、複数の定盤変位センサ５の検出信号に基づいて複数のレベリング機構４を順番に作動させるレベリング制御を実行し、コントローラ１００は、レベリング制御に際し、複数のレベリング機構３のうち、第１変位ｚ１と許容範囲Ｒ１とのずれＤ１が最大となる支持位置Ｐに対応したレベリング機構４を決定する第１工程と、ずれＤ１が低減されるように、第１工程によって決定されたレベリング機構４を作動させる第２工程と、を繰り返し実行する。
【選択図】図８
【解決手段】コントローラ１００は、アクティブ除振システムＳの起動に先だって、前１変位ｚ１がそれぞれ所定の許容範囲Ｒ１に収まるよう、複数の定盤変位センサ５の検出信号に基づいて複数のレベリング機構４を順番に作動させるレベリング制御を実行し、コントローラ１００は、レベリング制御に際し、複数のレベリング機構３のうち、第１変位ｚ１と許容範囲Ｒ１とのずれＤ１が最大となる支持位置Ｐに対応したレベリング機構４を決定する第１工程と、ずれＤ１が低減されるように、第１工程によって決定されたレベリング機構４を作動させる第２工程と、を繰り返し実行する。
【選択図】図８
【特許請求の範囲】
【請求項1】
所定面に設置された１つ又は複数のアクティブ除振装置と、前記１つ又は複数のアクティブ除振装置をそれぞれ制御するコントローラと、を備え、前記１つ又は複数のアクティブ除振装置によって被支持体を下方から支持するアクティブ除振システムであって、
前記１つ又は複数のアクティブ除振装置は、それぞれ、
前記被支持体が載置される定盤と、
互いに異なる複数の支持位置に配置され、各支持位置において前記定盤を下方から弾性的に支持する複数の弾性体と、
前記複数の弾性体の各々に対応するように配置され、それぞれに対応する弾性体を下方から支持すると共に、該弾性体を介して前記定盤を上下方向に変位させる複数のレベリング機構と、
前記複数の弾性体の各々に対応するように配置され、前記各支持位置における、前記所定面に対する前記定盤の変位を示す第１変位を検出する複数の定盤変位センサと、を備え、
前記コントローラは、前記アクティブ除振システムの起動に先だって、前記第１変位がそれぞれ所定の許容範囲に収まるよう、前記複数の定盤変位センサの検出信号に基づいて前記複数のレベリング機構を順番に作動させるレベリング制御を実行し、
前記コントローラは、前記レベリング制御に際し、
前記複数のレベリング機構のうち、前記第１変位と前記許容範囲とのずれが最大となる支持位置に対応したレベリング機構を決定する第１工程と、
前記ずれが低減されるように、前記第１工程によって決定された前記レベリング機構を作動させる第２工程と、を繰り返し実行する
ことを特徴とするアクティブ除振システム。
前記１つ又は複数のアクティブ除振装置は、それぞれ、
前記被支持体が載置される定盤と、
互いに異なる複数の支持位置に配置され、各支持位置において前記定盤を下方から弾性的に支持する複数の弾性体と、
前記複数の弾性体の各々に対応するように配置され、それぞれに対応する弾性体を下方から支持すると共に、該弾性体を介して前記定盤を上下方向に変位させる複数のレベリング機構と、
前記複数の弾性体の各々に対応するように配置され、前記各支持位置における、前記所定面に対する前記定盤の変位を示す第１変位を検出する複数の定盤変位センサと、を備え、
前記コントローラは、前記アクティブ除振システムの起動に先だって、前記第１変位がそれぞれ所定の許容範囲に収まるよう、前記複数の定盤変位センサの検出信号に基づいて前記複数のレベリング機構を順番に作動させるレベリング制御を実行し、
前記コントローラは、前記レベリング制御に際し、
前記複数のレベリング機構のうち、前記第１変位と前記許容範囲とのずれが最大となる支持位置に対応したレベリング機構を決定する第１工程と、
前記ずれが低減されるように、前記第１工程によって決定された前記レベリング機構を作動させる第２工程と、を繰り返し実行する
ことを特徴とするアクティブ除振システム。
【請求項2】
請求項１に記載のアクティブ除振システムにおいて、
前記コントローラは、前記第１工程及び前記第２工程によって構成された第２モードで前記レベリング制御を実行する前に、所定の第１モードで前記レベリング制御を実行するように構成され、
前記コントローラは、前記第１モードでの前記レベリング制御に際し、
前記複数のレベリング機構を全て作動させることで、全ての支持位置における前記第１変位を前記許容範囲外に調整した後、該許容範囲からのずれが低減されるように、前記複数のレベリング機構の全てを同時に作動させる第３工程を実行する
ことを特徴とするアクティブ除振システム。
前記コントローラは、前記第１工程及び前記第２工程によって構成された第２モードで前記レベリング制御を実行する前に、所定の第１モードで前記レベリング制御を実行するように構成され、
前記コントローラは、前記第１モードでの前記レベリング制御に際し、
前記複数のレベリング機構を全て作動させることで、全ての支持位置における前記第１変位を前記許容範囲外に調整した後、該許容範囲からのずれが低減されるように、前記複数のレベリング機構の全てを同時に作動させる第３工程を実行する
ことを特徴とするアクティブ除振システム。
【請求項3】
請求項１に記載のアクティブ除振システムにおいて、
前記コントローラは、前記第１工程及び前記第２工程によって構成された第２モードで前記レベリング制御を実行した後に、所定の第３モードで前記レベリング制御を実行するように構成され、
前記コントローラは、前記第３モードでの前記レベリング制御に際し、
前記第１工程と、
前記第２工程と、
前記第２工程を完了した後、前記第１工程に戻る前に、前記複数のレベリング機構の全てを非作動状態とした上で所定時間待機する第４工程と、を繰り返し実行する
ことを特徴とするアクティブ除振システム。
前記コントローラは、前記第１工程及び前記第２工程によって構成された第２モードで前記レベリング制御を実行した後に、所定の第３モードで前記レベリング制御を実行するように構成され、
前記コントローラは、前記第３モードでの前記レベリング制御に際し、
前記第１工程と、
前記第２工程と、
前記第２工程を完了した後、前記第１工程に戻る前に、前記複数のレベリング機構の全てを非作動状態とした上で所定時間待機する第４工程と、を繰り返し実行する
ことを特徴とするアクティブ除振システム。
【請求項4】
請求項３に記載のアクティブ除振システムにおいて、
前記コントローラは、前記複数のレベリング機構のうち、前記第１変位が前記許容範囲内に収まったレベリング機構の割合が所定割合以上となったときに、前記第２モードから前記第３モードに移行する
ことを特徴とするアクティブ除振システム。
前記コントローラは、前記複数のレベリング機構のうち、前記第１変位が前記許容範囲内に収まったレベリング機構の割合が所定割合以上となったときに、前記第２モードから前記第３モードに移行する
ことを特徴とするアクティブ除振システム。
【請求項5】
請求項１又は３に記載のアクティブ除振システムにおいて、
前記第１工程によって決定された前記レベリング機構を特定レベリング機構とし、該特定レベリング機構に対し、前記所定面上で隣接する２つのレベリング機構をそれぞれ隣接レベリング機構とすると、
前記コントローラは、
前記２つの隣接レベリング機構の間で前記第１変位の差分を算出し、
前記コントローラは、前記第２工程に際し、
前記差分が所定未満の場合には、前記特定レベリング機構のみを作動させる一方、前記差分が前記所定以上の場合には、前記２つの隣接レベリング機構のうち、前記第１変位の値が前記特定レベリング機構における前記第１変位の値に近接した一方の隣接レベリング機構を、前記特定レベリング機構と共に作動させる
ことを特徴とするアクティブ除振システム。
前記第１工程によって決定された前記レベリング機構を特定レベリング機構とし、該特定レベリング機構に対し、前記所定面上で隣接する２つのレベリング機構をそれぞれ隣接レベリング機構とすると、
前記コントローラは、
前記２つの隣接レベリング機構の間で前記第１変位の差分を算出し、
前記コントローラは、前記第２工程に際し、
前記差分が所定未満の場合には、前記特定レベリング機構のみを作動させる一方、前記差分が前記所定以上の場合には、前記２つの隣接レベリング機構のうち、前記第１変位の値が前記特定レベリング機構における前記第１変位の値に近接した一方の隣接レベリング機構を、前記特定レベリング機構と共に作動させる
ことを特徴とするアクティブ除振システム。
【請求項6】
請求項１に記載のアクティブ除振システムにおいて、
前記１つ又は複数のアクティブ除振装置は、それぞれ、
前記複数のレベリング機構の各々に設けられ、それぞれ前記弾性体を支持する複数のばね座と、
前記複数の弾性体の各々に対応するように配置されかつ、前記各支持位置における、前記所定面に対する前記ばね座の変位を示す第２変位を検出するばね変位センサをさらに備え、
前記コントローラは、前記アクティブ除振装置毎に、前記複数の弾性体の間で前記第２変位の大小関係を判定するとともに、該第２変位の差分が所定以上の場合には、該差分を低下させるように前記各レベリング機構を作動させるたわみ差解消処理を実行し、
前記コントローラは、前記レベリング制御よりも優先して前記たわみ差解消処理を実行する
ことを特徴とするアクティブ除振システム。
前記１つ又は複数のアクティブ除振装置は、それぞれ、
前記複数のレベリング機構の各々に設けられ、それぞれ前記弾性体を支持する複数のばね座と、
前記複数の弾性体の各々に対応するように配置されかつ、前記各支持位置における、前記所定面に対する前記ばね座の変位を示す第２変位を検出するばね変位センサをさらに備え、
前記コントローラは、前記アクティブ除振装置毎に、前記複数の弾性体の間で前記第２変位の大小関係を判定するとともに、該第２変位の差分が所定以上の場合には、該差分を低下させるように前記各レベリング機構を作動させるたわみ差解消処理を実行し、
前記コントローラは、前記レベリング制御よりも優先して前記たわみ差解消処理を実行する
ことを特徴とするアクティブ除振システム。
【請求項7】
所定面に設置された１つ又は複数のアクティブ除振装置と、前記１つ又は複数のアクティブ除振装置をそれぞれ制御するコントローラと、を備え、前記１つ又は複数のアクティブ除振装置によって被支持体を下方から支持するアクティブ除振システムのレベリング方法であって、
前記１つ又は複数のアクティブ除振装置は、それぞれ、
前記被支持体が載置される定盤と、
互いに異なる複数の支持位置に配置され、各支持位置において前記定盤を下方から弾性的に支持する複数の弾性体と、
前記複数の弾性体の各々に対応するように配置され、それぞれに対応する弾性体を下方から支持すると共に、該弾性体を介して前記定盤を上下方向に変位させる複数のレベリング機構と、
前記複数の弾性体の各々に対応するように配置され、前記各支持位置における、前記所定面に対する前記定盤の変位を示す第１変位を検出する複数の定盤変位センサと、を備え、
前記コントローラは、前記アクティブ除振システムの起動に先だって、前記第１変位がそれぞれ所定の許容範囲に収まるよう、前記複数の定盤変位センサの検出信号に基づいて前記複数のレベリング機構を順番に作動させるレベリング制御を実行し、
前記レベリング制御に際し、
前記複数のレベリング機構のうち、前記第１変位と前記許容範囲とのずれが最大となる支持位置に対応したレベリング機構を決定する第１工程と、
前記ずれが低減されるように、前記第１工程によって決定された前記レベリング機構を作動させる第２工程と、を前記コントローラが繰り返し実行する
ことを特徴とするアクティブ除振システムのレベリング方法。
前記１つ又は複数のアクティブ除振装置は、それぞれ、
前記被支持体が載置される定盤と、
互いに異なる複数の支持位置に配置され、各支持位置において前記定盤を下方から弾性的に支持する複数の弾性体と、
前記複数の弾性体の各々に対応するように配置され、それぞれに対応する弾性体を下方から支持すると共に、該弾性体を介して前記定盤を上下方向に変位させる複数のレベリング機構と、
前記複数の弾性体の各々に対応するように配置され、前記各支持位置における、前記所定面に対する前記定盤の変位を示す第１変位を検出する複数の定盤変位センサと、を備え、
前記コントローラは、前記アクティブ除振システムの起動に先だって、前記第１変位がそれぞれ所定の許容範囲に収まるよう、前記複数の定盤変位センサの検出信号に基づいて前記複数のレベリング機構を順番に作動させるレベリング制御を実行し、
前記レベリング制御に際し、
前記複数のレベリング機構のうち、前記第１変位と前記許容範囲とのずれが最大となる支持位置に対応したレベリング機構を決定する第１工程と、
前記ずれが低減されるように、前記第１工程によって決定された前記レベリング機構を作動させる第２工程と、を前記コントローラが繰り返し実行する
ことを特徴とするアクティブ除振システムのレベリング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、アクティブ除振システム、及びそのレベリング方法に関する。
【背景技術】
【0002】
例えば特許文献１には、レベリング機構としての高さ調整機構を備えたアクティブ防振装置が開示されている。具体的に、このアクティブ防振装置は、ケースの４隅に配置される高さ調整機構と、この高さ調整機構を介して配置される４つのコイルばねと、これらのコイルばねによって４隅を支持された定盤と、各高さ調整機構を作動させるコントローラと、を備えている。
【0003】
前記特許文献１によれば、コントローラが各高さ調整機構を制御することで、各コイルばねの下端を上下に変位させる。このコントローラは、各コイルばねの下端を変位させることで、定盤の高さ位置を調整する。
【0004】
また、特許文献２には、レベリング機構としての防振兼レベリング装置が開示されている。具体的に、この装置は、テーブルの下部の所定位置に、テーブルを支持するように複数配置されて使用されるものである。
【0005】
前記特許文献２によれば、一箇所に配置された調整装置から各装置に作動流体を送り込むことができるため、オペレータは、一箇所から複数の防振兼レベリング装置を調整することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特開２０１０－１２７３９１号公報
【特許文献2】特開２００５－０５４８０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
ところで、一般的なアクティブ除振装置においては、その定盤に搭載される被支持体の振動を抑制するための制御（以下、「除振制御」ともいう）を行うのに先立って、前記定盤の高さ調整（レベリング）を行うことが考えられる。
【0008】
この場合、より適切な除振制御を実現するためには、可能な限り精密かつバランスよくレベリングすることが求められる。そうした要求を満足するレベリング機構としては、前記特許文献１に開示されている高さ調整機構が考えられる。
【0009】
ここで、前記特許文献１に開示されている機構を用いる場合において、さらに可能な限り短時間でレベリングを完了するために、各レベリング機構を同時に動作させることも検討される。
【0010】
しかしながら、前記特許文献１に開示されているように、各コイルばねの下端を上下に変位させることで定盤の高さを調整するように構成した場合、そのコイルばねに作用する荷重の大きさに応じて、定盤の高さを最適化するようなコイルばねの下端位置は変わり得る。
【0011】
例えば、コイルばねに大きな荷重が作用している場合には、コイルばねのたわみも大きくなるため、より小さな荷重が作用している場合に比べて、そのコイルばねの下端位置を、より上方に持ち上げる必要がある。
【0012】
一方、複数のレベリング機構を同時に動作させた場合、一のレベリング機構を動作させたことで被支持体から定盤への荷重分布が変化してしまい、他のレベリング機構に付随したコイルばねに作用する荷重が、一のレベリング機構の動作に連動して変化する可能性がある。
【0013】
この場合、前記他のレベリング機構に付随したコイルばねでは、荷重の変化に伴って最適な下端位置が刻々と変化してしまい、そのレベリング機構（他のレベリング機構）におけるレベリングの収束性、ひいては複数のレベリング機構全体の収束性に支障を来す可能性がある。
【0014】
すなわち、一のレベリング機構と、他のレベリング機構とがそれぞれのレベリング動作に影響を及ぼし合ってしまい、双方のレベリング動作が収束しないような事態が懸念される。
【0015】
本開示は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、収束性を損なうことなく、可能な限り精密かつバランスのよいレベリングを実現することにある。
【課題を解決するための手段】
【0016】
本開示の第１の態様は、所定面に設置された１つ又は複数のアクティブ除振装置と、前記１つ又は複数のアクティブ除振装置をそれぞれ制御するコントローラと、を備え、前記１つ又は複数のアクティブ除振装置によって搭載物を下方から支持するアクティブ除振システムに係る。このアクティブ除振システムにおいて、前記１つ又は複数のアクティブ除振装置は、それぞれ、前記被支持体が載置される定盤と、互いに異なる複数の支持位置に配置され、各支持位置において前記定盤を下方から弾性的に支持する複数の弾性体と、前記複数の弾性体の各々に対応するように配置され、それぞれに対応する弾性体を下方から支持すると共に、該弾性体を介して前記定盤を上下方向に変位させる複数のレベリング機構と、前記複数の弾性体の各々に対応するように配置され、前記各支持位置における、前記所定面に対する前記定盤の変位を示す第１変位を検出する複数の定盤変位センサと、を備える。
【0017】
そして、本開示の第１の態様によれば、前記コントローラは、前記アクティブ除振システムの起動に先だって、前記第１変位がそれぞれ所定の許容範囲に収まるよう、前記複数の定盤変位センサの検出信号に基づいて前記複数のレベリング機構を順番に作動させるレベリング制御を実行し、前記コントローラは、前記レベリング制御に際し、前記複数のレベリング機構のうち、前記第１変位と前記許容範囲とのずれが最大となる支持位置に対応したレベリング機構を決定する第１工程と、前記ずれが低減されるように、前記第１工程によって決定された前記レベリング機構を作動させる第２工程と、を繰り返し実行する。
【0018】
前記第１の態様によると、各レベリング機構を順番に動作させることで、一のレベリング機構の動作が他のレベリング機構の動作に及ぼす影響を可能な限り抑制することができる。これにより、レベリング制御の収束性を損なうことなく、可能な限り精密かつバランスのよいレベリングを実現することができる。また、レベリング制御におけるハンチングを抑制することで、結果的に、より迅速にレベリング制御を完了することもできる。
【0019】
また、本開示の第２の態様によると、前記コントローラは、前記第１工程及び前記第２工程によって構成された第２モードで前記レベリング制御を実行する前に、所定の第１モードで前記レベリング制御を実行するように構成され、前記コントローラは、前記第１モードでの前記レベリング制御に際し、前記複数のレベリング機構を全て作動させることで、全ての支持位置における前記第１変位を前記許容範囲外に調整した後、該許容範囲からのずれが低減されるように、前記複数のレベリング機構の全てを同時に作動させる第３工程を実行する、としてもよい。
【0020】
前記第２の態様によると、レベリング制御の開始直後など、比較的粗い制御でも堪えうる状況下では第１モードでのレベリング制御を実行し、その後、所定以上の精度が求められる状況下では、第２モードでのレベリング制御を実行する。
【0021】
このように、レベリング制御の進行状況に応じて制御モードを使い分けることで、可能な限り迅速なレベリングと、可能な限り精密なレベリングと、を両立することができる。これにより、レベリング制御の性能が著しく向上する。
【0022】
また、本開示の第３の態様によれば、前記コントローラは、前記第１工程及び前記第２工程によって構成された第２モードで前記レベリング制御を実行した後に、所定の第３モードで前記レベリング制御を実行するように構成され、前記コントローラは、前記第３モードでの前記レベリング制御に際し、前記第１工程と、前記第２工程と、前記第２工程を完了した後、前記第１工程に戻る前に、前記複数のレベリング機構の全てを非作動状態とした上で所定時間待機する第４工程と、を繰り返し実行する、としてもよい。
【0023】
前記第３の態様によると、レベリング制御の中盤では第２モードでのレベリング制御を実行し、レベリング制御の終盤では第３モードでのレベリング制御を実行する。第３モードを行うことで、各レベリング機構の動作に伴う慣性力の影響を、可能な限り抑制することができる。第３モードは、第２モードよりもさらに精密なレベリングを提供する。
【0024】
このように、レベリング制御の進行状況に応じて制御モードを使い分けることで、第２モードによる相対的に迅速なレベリングと、第３モードによる相対的に精密なレベリングと、を両立することができる。これにより、レベリング制御の性能が著しく向上する。
【0025】
また、本開示の第４の態様によれば、前記コントローラは、前記複数のレベリング機構のうち、前記第１変位が前記許容範囲内に収まったレベリング機構の割合が所定割合以上となったときに、前記第２モードから前記第３モードに移行する、としてもよい。
【0026】
前記第４の態様によると、レベリング制御の進行状況に応じて、第２モードから第３モードへとスムースに移行させることができる。
【0027】
また、本開示の第５の態様によれば、前記第１工程によって決定された前記レベリング機構を特定レベリング機構とし、該特定レベリング機構に対し、前記所定面上で隣接する２つのレベリング機構をそれぞれ隣接レベリング機構とすると、前記コントローラは、前記２つの隣接レベリング機構の間で前記第１変位の差分を算出し、前記コントローラは、前記第２工程に際し、前記差分が所定未満の場合には、前記特定レベリング機構のみを作動させる一方、前記差分が前記所定以上の場合には、前記２つの隣接レベリング機構のうち、前記第１変位の値が前記特定レベリング機構における前記第１変位の値に近接した一方の隣接レベリング機構を、前記特定レベリング機構と共に作動させる、としてもよい。
【0028】
前記第５の態様によると、特定レベリング機構に加えて隣接レベリング機構を同時に動作させるように構成することで、特定レベリング機構に係る弾性体のストローク（変位代）を抑制することができる。各アクティブ除振装置において、弾性体間のたわみ差を抑制することができる。
【0029】
なお、前述のように複数のレベリング機構を同時に作動させてしまうと、ハンチングの発生が懸念される。しかしながら、本開示の場合、特定レベリング機構については１つずつ順番に作動させることになるため、ハンチングの発生は、無作為に選択されたレベリング機構を同時に作動させるような構成と比較して抑制される。
【0030】
また、隣接レベリング機構については特定レベリング機構と同時に作動させることになるものの、各除振装置において非隣接位置（例えば対角位置）に位置するレベリング機構については、同時に作動させないように構成されている。このことも、ハンチングの発生を抑制する上で有効に作用する。
【0031】
また、本開示の第６の態様によれば、前記１つ又は複数のアクティブ除振装置は、それぞれ、前記複数のレベリング機構の各々に設けられ、それぞれ前記弾性体を支持する複数のばね座と、前記複数の弾性体の各々に対応するように配置されかつ、前記各支持位置における、前記所定面に対する前記ばね座の変位を示す第２変位を検出するばね変位センサをさらに備え、前記コントローラは、前記アクティブ除振装置毎に、前記複数の弾性体の間で前記第２変位の大小関係を判定するとともに、該第２変位の差分が所定以上の場合には、該差分を低下させるように前記各レベリング機構を作動させるたわみ差解消処理を実行し、前記コントローラは、前記レベリング制御よりも優先して前記たわみ差解消処理を実行する、としてもよい。
【0032】
前記第６の態様によると、第１変位に加えて、第２変位に基づいた制御を行うことで、各弾性体におけるたわみ差を抑制することができる。たわみ差の抑制は、被支持体の荷重分布に対応したバランスのよいレベリングを実現したり、各弾性体の耐久性を確保したりする上で有用である。
【0033】
本開示の第７の態様は、所定面に設置された１つ又は複数のアクティブ除振装置と、前記１つ又は複数のアクティブ除振装置をそれぞれ制御するコントローラと、を備え、前記１つ又は複数のアクティブ除振装置によって被支持体を下方から支持するアクティブ除振システムのレベリング方法に係る。このレベリング方法において、前記１つ又は複数のアクティブ除振装置は、それぞれ、前記被支持体が載置される定盤と、互いに異なる複数の支持位置に配置され、各支持位置において前記定盤を下方から弾性的に支持する複数の弾性体と、前記複数の弾性体の各々に対応するように配置され、それぞれに対応する弾性体を下方から支持すると共に、該弾性体を介して前記定盤を上下方向に変位させる複数のレベリング機構と、前記複数の弾性体の各々に対応するように配置され、前記各支持位置における、前記所定面に対する前記定盤の変位を示す第１変位を検出する複数の定盤変位センサと、を備え、前記コントローラは、前記アクティブ除振システムの起動に先だって、前記第１変位がそれぞれ所定の許容範囲に収まるよう、前記複数の定盤変位センサの検出信号に基づいて前記複数のレベリング機構を順番に作動させるレベリング制御を実行する。
【0034】
そして、前記第７の態様によれば、前記レベリング方法は、前記レベリング制御に際し、前記複数のレベリング機構のうち、前記第１変位と前記許容範囲とのずれが最大となる支持位置に対応したレベリング機構を決定する第１工程と、前記ずれが低減されるように、前記第１工程によって決定された前記レベリング機構を作動させる第２工程と、を前記コントローラが繰り返し実行する。
【0035】
前記第７の態様によると、各レベリング機構を順番に動作させることで、一のレベリング機構の動作が他のレベリング機構の動作に及ぼす影響を可能な限り抑制することができる。これにより、レベリング制御の収束性を損なうことなく、可能な限り精密かつバランスのよいレベリングを実現することができる。また、レベリング制御におけるハンチングを抑制することで、結果的に、より迅速にレベリング制御を完了することもできる。
【発明の効果】
【0036】
以上説明したように、本開示によれば、収束性を損なうことなく、可能な限り精密かつバランスのよいレベリングを実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【0037】
【発明を実施するための形態】
【0038】
以下、本開示の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、以下の説明は例示である。
【0039】
（アクティブ除振システムの全体構成）
図１は、本実施形態に係るアクティブ除振システムＳ（以下、単に「除振システム」ともいう）の概略構成を例示する図である。また、図２は、各アクティブ除振装置１の内部構造を例示する図である。
図１は、本実施形態に係るアクティブ除振システムＳ（以下、単に「除振システム」ともいう）の概略構成を例示する図である。また、図２は、各アクティブ除振装置１の内部構造を例示する図である。
【0040】
除振システムＳは、所定面に設置された１つ又は複数のアクティブ除振装置１（以下、単に「除振装置」ともいう）と、１つ又は複数の除振装置１をそれぞれ制御するコントローラ１００と、を備えている。除振システムＳは、これら１つ又は複数の除振装置１によって、被支持体としての搭載物３００を下方（後述のＺ方向に沿った一方向）から支持している。
【0041】
１つ又は複数の除振装置１は、図例では４つ設けられている。４つの除振装置１は、それぞれ、所定面としての設置面Ｆに設置されている。本実施形態における設置面Ｆは、略水平方向に沿って延びている。以下、設置面Ｆに沿って延びかつ互いに直交する水平２方向をそれぞれＸ方向及びＹ方向と呼称し、この設置面Ｆに対して直交する鉛直方向をＺ方向と呼称する。Ｚ方向は、高さ方向、上下方向という場合もある。
【0042】
４つの除振装置１は、いずれもアクティブタイプの除振装置であり、各装置のアクチュエータを適宜作動させることで、設置面Ｆから搭載物３００への振動の伝達を遮断することができる。各除振装置１は、後述の除振フィードバック制御及び除振フィードフォワード制御からなる、いわゆるアクティブ除振制御を実行することができる。
【0043】
また、４つの除振装置１は、設置面Ｆに対して搭載物３００を弾性的に支持することで、パッシブタイプの除振装置としても機能するようになっている。
【0044】
本実施形態における搭載物３００は、半導体製造装置、電子顕微鏡等、振動の影響を避けることが好都合な精密機器３０１と、精密機器３０１が載置されるテーブル３０２と、を有している。テーブル３０２は、４つの脚部を有している。テーブル３０２の各脚部は、除振装置１によって下方から支持されている。
【0045】
なお、搭載物３００の構成は、この例に限定されない。例えば、テーブル３０２の代わりにプレート状の部材を用いてもよい。あるいは、テーブル３０２、プレート状の部材を介さずに、直方状の機器を、４つの除振装置１によって直に支持してもよい。
【0046】
４つの除振装置１は、搭載物３００を支持するための“マウント”としても機能する。そこで、４つの除振装置１を区別する際には、各除振装置１を、「第１マウント１Ａ」、「第２マウント１Ｂ」、「第３マウント１Ｃ」及び「第４マウント１Ｄ」という場合がある。
【0047】
４つの除振装置１は、搭載物３００をバランスよく支持するために、互いに同タイプ（同寸法、同性能）とされている。４つの除振装置１は、それぞれ、ＸＹ方向に比してＺ方向の寸法が短い矩形薄箱状に構成されている。各除振装置１は、薄箱の底壁を形成するロアプレート１１と、薄箱の側壁を形成するサイドプレート１２と、薄箱の天井を形成するアッパープレート１３と、を有している。ロアプレート１１は、設置面Ｆによって下方から支持されている。
【0048】
このうち、アッパープレート１３は、平坦な薄板状に形成されており、搭載物３００が載置される定盤として機能する。アッパープレート１３は、基本的には、４つの角部を有する略正方形状を有している。
【0049】
また、各除振装置１は、４つの弾性体３と、４つのレベリング機構４と、４つの定盤変位センサ５と、４つのばね変位センサ６と、６つのアクチュエータ２と、第１の振動検出手段としての３つ（図２では１つのみ示す）の基礎側振動センサ７（ＦＦセンサ）と、第２の振動検出手段としての６つの搭載物側振動センサ８（ＦＢセンサ）と、各除振装置１に１つの固有コントローラ９と、を備えている。このうち、固有コントローラ９は、各除振装置１に固有の制御手段である。これらの部材は、ロアプレート１１、サイドプレート１２及びアッパープレート１３によって区画される内部空間に収容されている。
【0050】
以下、各除振装置１の構成について詳細に説明する。なお、以下の説明は、特段の記載を除き、４つの除振装置１の間で共通である。
【0051】
（各アクティブ除振装置の詳細）
４つの弾性体３は、互いに異なる複数（本実施形態では弾性体３と同数）の支持位置Ｐに配置される。４つの弾性体３は、それぞれ、各支持位置Ｐにおいて、アッパープレート１３を下方から弾性的に支持する。
４つの弾性体３は、互いに異なる複数（本実施形態では弾性体３と同数）の支持位置Ｐに配置される。４つの弾性体３は、それぞれ、各支持位置Ｐにおいて、アッパープレート１３を下方から弾性的に支持する。
【0052】
本実施形態における複数の支持位置Ｐとは、ロアプレート１１とアッパープレート１３との間のスペースの４隅に相当する。一の弾性体３は、一の支持位置Ｐに配置されている。
【0053】
詳しくは、４つの弾性体３は、ロアプレート１１とアッパープレート１３との間（より詳細には、ロアプレート１１の上面とアッパープレート１３の下面との間）に介在しており、それぞれ、Ｚ方向に伸縮する。各弾性体３は、ロアプレート１１に対してアッパープレート１３及び搭載物３００を弾性的に支持する。
【0054】
本実施形態に係る各弾性体３は、図３に例示するようにコイルばねによって構成されている。コイルばねによって構成された各弾性体３は、その伸縮方向とＺ方向とが略平行になるように配置されている。
【0055】
詳しくは、各弾性体３は、本実施形態では不等ピッチスプリングによって構成されている。この場合、各弾性体３は、搭載物３００の重量による荷重の増大に略比例して、そのばね定数が高くなるプログレッシブ特性を有する。このため、精密機器３０１が別の機器に変更されて搭載物３００の重量が変化したとしても、ばね系統の固有振動数は概ね一定に保たれる。これにより、機器の変更によらず、アクティブ除振制御によって高い除振効果を得ることができる。なお、各弾性体３は、等ピッチスプリングによって構成してもよい。
【0056】
図３は、各レベリング機構３の構成を例示する縦断面図である。４つのレベリング機構４は、４つの弾性体３の各々に対応するように配置されている。ここで、一のレベリング機構４は、一の弾性体３及び一の支持位置Ｐに対応している。４つのレベリング機構４は、それぞれに対応する弾性体３を下方から支持すると共に、その弾性体３を介してアッパープレート１３をＺ方向に変位させる。
【0057】
【0058】
詳しくは、ねじ軸４１は、ロアプレート１１から上方に向かって延びており、Ｚ軸まわりに回転自在に配置されている。ばね座４２は、ねじ軸４１に螺合されていると共に、弾性体３の下端部（より一般には、伸縮方向における弾性体３の一端部）を保持している。被動ギヤ４３は、ばね座４２の下方に配置されており、ねじ軸４１に対して回転一体に固定されている。中間ギヤ４４は、被動ギヤ４３と歯合している。電動モータ４５は、ピニオンが固定された回転軸（不図示）を有している。電動モータ４５のピニオンは、中間ギヤ４４と動力伝達可能に連結されている。
【0059】
電動モータ４５は、コントローラ１００と電気的に接続されており、コントローラ１００からの制御信号を受けて作動する。電動モータ４５は、その作動時に回転軸を回転させる。電動モータ４５が回転軸を回転させると、その回転が中間ギヤ４４を介して被動ギヤ４３を回転させる。被動ギヤ４３の回転に伴って、ねじ軸４１も一体的に回転する。ねじ軸４１が回転することで、ばね座４２が上下動する。
【0060】
例えば、４つのばね座４２のうちの１つを上方向に変位させると、そのばね座４２によって保持されている弾性体３を、上方向に持ち上げたり、上下方向に圧縮させたりすることができる。搭載物３００の荷重に抗して弾性体３を持ち上げることで、その弾性体３に対応した支持位置Ｐにおいて、アッパープレート１３を上方向に変位させることができる。
【0061】
同様に、４つのばね座４２のうちの１つを下方向に変位させると、そのばね座４２によって保持されている弾性体３を、下方向に降ろしたり、上下方向に伸張させたりすることができる。下方向に弾性体３を降ろすことで、その弾性体３に対応した支持位置Ｐにおいて、アッパープレート１３を下方向に変位させることができる。
【0062】
なお、図示は省略したが、各レベリング機構４は、上下方向におけるばね座４２のスライドを案内するスライダをさらに有している。
【0063】
４つの定盤変位センサ５は、４つの弾性体３の各々に対応するように配置されている。ここで、一の定盤変位センサ５は、一の弾性体３、一の支持位置Ｐ、及び一のレベリング機構４に対応している。４つの定盤変位センサ５は、それぞれ、各支持位置Ｐにおける、設置面Ｆに対するアッパープレート１３の変位（具体的には、Ｚ方向の変位）を検出する。４つの定盤変位センサ５は、それぞれコントローラ１００と電気的に接続されており、その検出結果に対応した電気信号をコントローラ１００に入力する。
【0064】
詳しくは、各定盤変位センサ５は、磁石ホール素子センサによって構成されている。ホール素子センサを構成する磁石は、アッパープレート１３に配置されている。各定盤変位センサ５は、アッパープレート１３と一体的に磁石が上下動したときに、その上下動に伴って生じた磁力の変化を検出する。磁力の変化に対応した電気信号は、設置面Ｆに対するアッパープレート１３の変位（以下、単に「アッパープレート１３の変位」と呼称したり、「第１変位」と呼称したりする）を示している。第１変位については、図３の符号ｚ１に例示する。
【0065】
なお、ここでいう「第１変位」とは、検出対象が上方に位置しているか、あるいは、下方に位置しているかを区別できるよう、符号を有する値として定義されている。後述の「第２変位」についても同様である。
【0066】
搭載物３００の重量が変化すると、アッパープレート１３の変位と、上下方向における設置面Ｆに対するばね座４２の変位（以下、単に「ばね座４２の変位」と呼称したり、第２変位と呼称したりする）との対応関係も変化する。搭載物３００の重量が変化したときに、アッパープレート１３の変位が一定に保たれていたとしても、それを実現するばね座４２の変位も一定に保たれるとは限らない。第２変位については、図３の符号ｚ２に例示する。
【0067】
例えば、搭載物３００が重いときには、それが軽いときに比べて弾性体３がより圧縮されることになるため、ばね座４２の高さ位置を相対的に上側に設定し、弾性体３を上方に持ち上げる必要がある。
【0068】
そのため、各レベリング機構４をより適切に動作させるためには、アッパープレート１３の変位に基づいた制御に加え、ばね座４２の変位に基づいた制御を行うことが考えられる。
【0069】
４つのばね変位センサ６は、４つの弾性体３の各々に対応するように配置されている。ここで、一のばね変位センサ６は、一の弾性体３、一の支持位置Ｐ、一のレベリング機構４、及び一の定盤変位センサ５に対応している。４つのばね変位センサ６は、それぞれ、各支持位置Ｐにおける、設置面Ｆに対するばね座４２の変位（具体的には、Ｚ方向の変位）を検出する。４つのばね変位センサ６は、それぞれコントローラ１００と電気的に接続されており、その検出結果に対応した電気信号をコントローラ１００に入力する。各ばね変位センサ６は、例えばポテンショメータによって構成してもよい。
【0070】
各除振装置１では、一の弾性体３と、一のレベリング機構４と、一の定盤変位センサ５と、一のばね変位センサ６と、一の支持位置Ｐと、が対応付いている。
【0071】
言い換えると、各除振装置１は、一の弾性体３と、一のレベリング機構４と、一の定盤変位センサ５と、一のばね変位センサ６と、を４つの支持位置Ｐの各々にて関連付けた４つの変位モジュールＭ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４を備えているとみなすことができる。
【0072】
以下、図２の紙面左下の隅部から時計周り方向に向かって、これらを第１変位モジュールＭ１、第２変位モジュールＭ２、第３変位モジュールＭ３及び第４変位モジュールＭ４ともいう。
【0073】
例えば、第１変位モジュールＭ１は、対応する支持位置Ｐ（図２の紙面左下の隅部）においてアッパープレート１３を下方から支持するとともに、当該支持位置Ｐにおいてアッパープレート１３の高さ調整を行うものである。
【0074】
一方、６つのアクチュエータ２は、それぞれ、アッパープレート１３を介して搭載物３００に制御力を付加する。各アクチュエータ２は、例えばリニアモータによって構成することができる。
【0075】
詳しくは、６つのアクチュエータ２は、対応する除振装置１の中心Ｏ（アッパープレート１３の対角線が交わる交点）に対し、周方向に沿って取り囲むように配置されている。６つのアクチェータ２は、制御力の作用線が互いに平行に延びる２つのアクチュエータ２からなる３つのアクチュエータ対（図２の符号Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３を参照）を構成している。
【0076】
詳細な図示は省略するが、各アクチュエータ２の制御力の作用線は、ロアプレート１１、サイドプレート１２及びアッパープレート１３の三者に対して傾斜するようにレイアウトされている。
【0077】
３つのＦＦセンサ７は、その検出方向が設置面Ｆに対して傾斜した状態で、ロアプレート１１上に配置されている。各アクチュエータ２の作用方向の傾斜角度は、各ＦＦセンサ７の検出方向の傾斜角度に等しい。
【0078】
ＦＦセンサ７は、加速度センサである。ＦＦセンサ７は、設置面Ｆの振動状態としての振動加速度を検出する。３つのＦＦセンサ７は、各々がその検出方向における設置面Ｆの振動加速度を検出することによって、結果的に、設置面Ｆにおける鉛直方向及び水平方向を含む並進３方向（Ｘ，Ｙ，Ｚ方向）、並びに、各並進軸回りの回転３方向（θｘ，θｙ、θｚ方向）において、振動加速度を検出する。
【0079】
６つのＦＢセンサ８は、それぞれ、各アクチュエータ２の作用方向と同様に、その検出方向が設定面Ｆに対して傾斜した状態で配置されている。アクチュエータ２の作用方向の傾斜角度は、ＦＢセンサ８の検出方向の傾斜角度に等しい。各ＦＢセンサ８は、対応するアクチュエータ２と一体的に設けてもよい。
【0080】
各ＦＢセンサ８は、加速度センサである。ＦＢセンサ８は、搭載物３００の振動状態としての振動加速度を検出する。６つのＦＢセンサ８は、各々がその検出方向における搭載物３００の振動加速度を検出することによって、結果的に、搭載物３００における鉛直方向及び水平方向を含む並進３方向（Ｘ，Ｙ，Ｚ方向）、並びに、各並進軸回りの回転３方向（θｘ，θｙ、θｚ方向）において、振動加速度を検出する。
【0081】
固有コントローラ９は、例えばアッパープレート１３の下面中央に配置されている。固有コントローラ９には、３つのＦＦセンサ７及び６つのＦＢセンサ８が入力される。固有コントローラ９は、これらの検出信号に基づいて各アクチュエータ２を制御する。
【0082】
具体的に、固有コントローラ９は、各ＦＢセンサ８から入力された信号、すなわち、各ＦＢセンサ８の検出した搭載物３００の振動加速度に基づいて、各アクチュエータ２に制御信号を出力し、搭載物３００の振動を減殺するための制御力を搭載物３００に対して付加するように、各アクチュエータ２をフィードバック制御する。固有コントローラ９は、いわゆる除振フィードバック制御を実行する。
【0083】
例えば、固有コントローラ９は、振動加速度の積分値にフィルタ処理を施し、フィードバックゲインを乗算し、それを足し合せた後に反転して、各アクチュエータ２への制御入力とする。
【0084】
固有コントローラ９は、各ＦＦセンサ７から入力された信号、すなわち、各ＦＦセンサ７の検出した設置面Ｆの振動加速度に基づいて、各アクチュエータ２に制御信号を出力し、設置面Ｆから搭載物３００に伝達される振動を減殺するための制御力を搭載物３００に対して付加するように、各アクチュエータ２をフィードフォワード制御する。固有コントローラ９は、いわゆる除振フィードフォワード制御を実行する。
【0085】
例えば、固有コントローラ９は、設置面Ｆからの振動に対してフィルタ処理を施し、フィードフォワードゲインを乗算して、アクチュエータ２への制御入力に足し合わせる。
【0086】
固有コントローラ９が行う処理のうち、少なくとも除振フィードバック制御及び除振フィードフォワード制御に関する処理は、除振装置１の間で独立したものとなっている。固有コントローラ９は、少なくともこれらの制御に関する電気信号を、除振装置１間で送受しないようになっている。
【0087】
（コントローラ）
図４は、コントローラ１００と各除振装置１との電気的な接続を例示する図である。
図４は、コントローラ１００と各除振装置１との電気的な接続を例示する図である。
【0088】
コントローラ１００は、前記固有コントローラ９とは異なり、４つの除振装置１で共有化されている。コントローラ１００は、ＣＰＵ、メモリ、入出力バスを備えている。コントローラ１００は、少なくとも除振装置１と同数のケーブル類２００を介して、各除振装置１と電気的に接続されている。図例では、簡潔化のため１本のケーブルとして例示したが、各ケーブル類２００は、入力用の電気ケーブルと、出力用の電気ケーブルとの２経路で構成してもよい。
一本又は複数本の電気ケーブルによって構成してもよい。
一本又は複数本の電気ケーブルによって構成してもよい。
【0089】
ケーブル類２００を介して電気的に接続することで、コントローラ１００と各除振装置１との間で電気信号を送受することが可能になる。この場合の通信プロトコルとしては、例えばＣＡＮ（Controller Area Network）を用いることができる。有線で通信する代わりに、無線通信を実装してもよい。その場合、いわゆる無線ＬＡＮを用いることができる。
【0090】
各除振装置１は、前述のように４つの変位モジュールＭ１～Ｍ４を有している。アクティブ除振システムＳ全体では、計１６個の変位モジュールが存在することになる。コントロ－ラ１００は、これらの変位モジュールに異なるＩＤ（図例では、計１６通りのＩＤ）を付与する。
【0091】
コントロ－ラ１００は、除振装置１毎に異なるＩＤを付与することで、後述のレベリング制御に際し、異なる除振装置１間で変位モジュールの動作を協調させることができる。
【0092】
このように構成することで、例えば、第１マウント１Ａの第１変位モジュールＭ１を動作させた影響を、第３マウント１Ｃの第２変位モジュールＭ２の動作に影響させることができる。
【0093】
これにより、各アッパープレート１３の上面を、異なる除振装置１間で同じ高さに設定することができるようになる。こうした設定は、アクティブ除振制御に先だって、事前に行われるべきものである。
【0094】
以下、計１６個の変位モジュールＭ１～Ｍ４に付されるＩＤを、「チャンネル」ともいう。各チャンネルには、一の弾性体３と、一のレベリング機構４と、一の定盤変位センサ５と、一のばね変位センサ６と、一の支持位置Ｐと、が紐付いている。
【0095】
コントロ－ラ１００は、様々な制御信号を出力する際にチャンネルを指定することで、そのチャンネルに紐付いた支持位置Ｐにおいてレベリング機構４を作動させることができる。コントロ－ラ１００は、様々な検出信号が入力される際に入力元のチャンネルを取得することで、その検出信号が得られた支持位置Ｐを把握することができる。
【0096】
図４に示す例では、第１マウント１Ａの第１変位モジュールＭ１にチャンネル「ｃｈＡ１」が付与されており、第１マウント１Ａの第２変位モジュールＭ２にチャンネル「ｃｈＡ２」が付与されており、第１マウント１Ａの第３変位モジュールＭ３にチャンネル「ｃｈＡ３」が付与されており、第１マウント１Ａの第４変位モジュールＭ４にチャンネル「ｃｈＡ４」が付与されている。
【0097】
同様に、第２マウント１Ｂの第１変位モジュールＭ１にチャンネル「ｃｈＢ１」が付与されており、第２マウント１Ｂの第２変位モジュールＭ２にチャンネル「ｃｈＢ２」が付与されており、第２マウント１Ｂの第３変位モジュールＭ３にチャンネル「ｃｈＢ３」が付与されており、第２マウント１Ｂの第４変位モジュールＭ４にチャンネル「ｃｈＢ４」が付与されている。
【0098】
同様に、第３マウント１Ｃの第１変位モジュールＭ１にチャンネル「ｃｈＣ１」が付与されており、第３マウント１Ｃの第２変位モジュールＭ２にチャンネル「ｃｈＣ２」が付与されており、第３マウント１Ｃの第３変位モジュールＭ３にチャンネル「ｃｈＣ３」が付与されており、第３マウント１Ｃの第４変位モジュールＭ４にチャンネル「ｃｈＣ４」が付与されている。
【0099】
同様に、第４マウント１Ｄの第１変位モジュールＭ１にチャンネル「ｃｈＤ１」が付与されており、第４マウント１Ｄの第２変位モジュールＭ２にチャンネル「ｃｈＤ２」が付与されており、第４マウント１Ｄの第３変位モジュールＭ３にチャンネル「ｃｈＤ３」が付与されており、第４マウント１Ｄの第４変位モジュールＭ４にチャンネル「ｃｈＤ４」が付与されている。
【0100】
コントロ－ラ１００は、前記ケーブル類２００を介したコントロ－ラ１００と各除振装置１との信号送受に基づいて、これらのチャンネルを初期設定することができる（チャンネル付与処理）。このチャンネル付与処理を行う場合、ケーブル類２００の本数は、除振装置１の台数以上に設定してもよい。
【0101】
チャンネル付与処理に際し、コントロ－ラ１００は、複数のケーブル類２００のうちの一を選択し、そのケーブル類２００を介して電気信号を出力する。その電気信号に対応した信号がコントロ－ラ１００に戻ってきた場合、コントロ－ラ１００は、そのケーブル類２００には除振装置１が接続されていると判定する。コントロ－ラ１００は、ケーブル類２００の選択順に対応するようにチャンネルを設定する。
【0102】
本実施形態の場合、コントロ－ラ１００は、１番目に選択されたケーブル類２００に接続されていた除振装置１を第１マウント１Ａと判断し、マウント識別ＩＤ「ｃｈＡ」を設定する。そして、第１マウント１Ａと判断された除振装置１が具備する４つの変位モジュールＭ１～Ｍ４に対し、チャンネル「ｃｈＡ１」、「ｃｈＡ２」、「ｃｈＡ３」及び「ｃｈＡ４」を付与する。
【0103】
続いて、コントロ－ラ１００は、２番目に選択されたケーブル類２００に接続されていた除振装置１を第２マウント１Ｂと判断し、マウント識別ＩＤ「ｃｈＢ」を設定する。そして、第２マウント１Ｂと判断された除振装置１が具備する４つの変位モジュールＭ１～Ｍ４に対し、チャンネル「ｃｈＢ１」、「ｃｈＢ２」、「ｃｈＢ３」及び「ｃｈＢ４」を付与する。
【0104】
第３マウント１Ｃ及び第４マウント１Ｄについても同様である。
【0105】
その後、コントロ－ラ１００は、５番目に選択されたケーブル類２００を介して電気信号を出力する。本実施形態のように４つの除振装置１を用いた場合、コントロ－ラ１００に信号は戻らない。この場合、コントローラ１００は、５番目の除振装置１は存在しないと判定し、チャンネル総数を４×４＝１６と判断する。チャンネル総数の算出は、後述のレベリング処理において有用である。
【0106】
なお、コントロ－ラ１００は、各除振装置１が具備する変位モジュールＭ１～Ｍ４の数（本実施形態では４つ）と、変位モジュールＭ１～Ｍ４間の相対的な位置関係と、を事前に記憶している。変位モジュールＭ１～Ｍ４間の相対的な位置関係には、各除振装置１において、所定の変位モジュールに対し、どの変位モジュールが隣接しているかを示す情報（例えば、第１変位モジュールＭ１には、第２変位モジュールＭ２と第４変位モジュールＭ４とが隣接していること）が含まれる。
【0107】
そして、コントローラ１００は、アクティブ除振システムＳの起動に際し、所定のレベリング制御を実行する。このレベリング制御とは、設置面Ｆに対するアッパープレート１３の変位がそれぞれ所定の許容範囲に収まるよう、複数の定盤変位センサ５の検出信号に基づいて複数のレベリング機構４を順番に作動させるものである。
【0108】
なお、ここでいう「アクティブ除振システムＳの起動」とは、前述の除振フィードバック制御及び除振フィードフォワード制御を開始可能な状態に整えることをいう。
【0109】
また、ここでいう「許容範囲」とは、所定の閾値（第１閾値）をＴ１とすると、Ｒ１＝Ｔ１±ΔＴ１のように、その第１閾値に基づいた数値範囲を指す。設置面Ｆに対するアッパープレート１３の変位（第１変位）を例えばｚ１とすると、Ｔ１－ΔＴ１≦ｚ１≦Ｔ１＋ΔＴ１が満足されたときに、コントローラ１００は、第１変位ｚ１が許容範囲Ｒ１に収まったと判定する。第１閾値Ｔ１については、第１変位ｚ１と同様に、図３に例示する。
【0110】
許容範囲の大きさは、事前にコントローラ１００に記憶されている。許容範囲の大きさは、４つの除振装置１で共通である。
【0111】
このレベリング制御は、除振フィードバック制御及び除振フィードフォワード制御からなるアクティブ除振制御の開始前に行われるものである。以下、アクティブ除振制御における性能要求と、その要求を満足するためのレベリング制御の構成について、詳細に説明する。
【0112】
（レベリング制御に係る問題）
前述のようなアクティブ除振制御をより適切に行うためには、前述の如く構成されたレベリング機構４を用いることで、可能な限り精密かつバランスよくレベリングすることが考えられる。
前述のようなアクティブ除振制御をより適切に行うためには、前述の如く構成されたレベリング機構４を用いることで、可能な限り精密かつバランスよくレベリングすることが考えられる。
【0113】
例えば、アッパープレート１３に搭載物３００が載置された状態で、アッパープレート１３の上面を水平面に一致させたり、４つの除振装置１それぞれのアッパープレート１３を同じ高さに設定したりすることが求められる場合がある。こうした設定は、アクティブ除振制御に先だって、事前に行われるべきものである。
【0114】
アッパープレート１３の位置等の事前調整は、前述のレベリング制御によって行うことができる。レベリング制御を行うことで、各弾性体３の高さ位置（Ｚ方向で見た位置）、特に各弾性体３の下端が上下に変位する。この変位によって、アッパープレート１３の初期高さを調整することができる。レベリング制御による高さ調整は、支持位置Ｐ毎に、対応するレベリング機構４（４つの変位モジュールＭ１～Ｍ４のうちの１つ）を作動させることで実現されるようになっている。
【0115】
この場合、作動させた弾性体３に作用する荷重の大きさに応じて、アッパープレート１３の高さを最適化するような弾性体３の下端位置は変わり得る。
【0116】
前述のように、弾性体３に大きな荷重が作用している場合には、その弾性体３はより大きく伸縮することになるため、相対的に小さな荷重が作用している場合に比べて、その弾性体３の下端位置を、より上方に持ち上げる必要がある。
【0117】
一方、複数のレベリング機構４を同時に動作させた場合、一のレベリング機構４を動作させたことで搭載物３００からアッパープレート１３への荷重分布が変化してしまい、他のレベリング機構４に付随した弾性体３に作用する荷重が、一のレベリング機構４の動作に連動して変化する可能性がある。
【0118】
この場合、他のレベリング機構４に付随した弾性体３では、荷重の変化に伴って最適な下端位置が刻々と変化してしまい、そのレベリング機構４（他のレベリング機構）におけるレベリングの収束性、ひいては４つのレベリング機構４全体の収束性に支障を来す可能性がある。
【0119】
すなわち、一のレベリング機構４と、他のレベリング機構４とがそれぞれのレベリング動作に影響を及ぼし合ってしまい、双方のレベリング動作が収束しないような事態が懸念される。こうした影響は、各除振装置１において対角に位置するレベリング機構４の間（例えば、図２の第１変位モジュールＭ１と第３変位モジュールＭ３の間、及び、第２変位モジュールＭ２と第４変位モジュール）で取り分け懸念される。
【0120】
そこで、本願発明者らは、レベリング制御の構成に工夫を凝らし、上述の如き懸念を払拭するに至った。具体的に、本実施形態に係るコントローラ１００は、レベリング制御に際し、所定の第１工程と第２工程とを繰り返し実行する。
【0121】
第１工程において、コントロ－ラ１００は、複数（図例では１６個）のレベリング機構４のうち、第１変位ｚ１と許容範囲Ｒ１とのずれが最大となる支持位置Ｐに対応したレベリング機構（以下、これを「特定レベリング機構」ともいう）４を決定する。
【0122】
なお、コントローラ１００は、第１変位ｚ１と許容範囲Ｒ１とのずれを示す指標として、例えば、前記第１閾値Ｔ１と第１変位ｚ１との差分（Ｄ１＝｜Ｔ１－ｚ１｜）を用いることができる。ずれＤ１については、図３に例示する。
【0123】
第１工程において、コントロ－ラ１００は、除振装置１毎に一のレベリング機構４を決定する代わりに、アクティブ除振システムＳ全体から一のレベリング機構４を決定する。
【0124】
続く第２工程において、コントロ－ラ１００は、ずれＤ１が低減されるように、第１工程によって決定されたレベリング機構４を変位させる。
【0125】
なお、コントローラ１００が「第１工程と第２工程とを繰り返し実行する」とは、各レベリング機構４を同時に動作させるのではなく、各レベリング機構４を順番に動作させることを意味する。
【0126】
各レベリング機構４を順番に動作させることで、一のレベリング機構４の動作が他のレベリング機構４の動作に及ぼす影響を可能な限り抑制することができる。これにより、レベリング制御の収束性を損なうことなく、可能な限り精密かつバランスのよいレベリングを実現することができる。また、レベリング制御におけるハンチングを抑制することで、結果的に、より迅速にレベリング制御を完了することもできる。
【0127】
その他、本実施形態では、前記レベリング制御の性能をさらに高めるような制御をさらに行うことができる。上記第１及び第２工程によって構成された制御モードを「第２モード」と呼称すると、本実施形態に係るコントローラ１００は、第２モードの前に実行される制御モードである「第１モード」と、第２モードの後に実行される制御モードである「第３モード」と、を行うように構成されている。
【0128】
これらの制御モードの名称は、各モードの順番に対応して設定されたものであり、その重要度に対応して設定されたものではない。例えば、第１モード及び第３モードは、省略してもよい。
【0129】
以下、各制御モードの詳細について、順番に説明する。
【0130】
（レベリング制御の詳細）
図５は、レベリング制御の概略を例示するフローチャートである。前述のように、コントローラ１００は、第１モード、第２モード及び第３モードの順番で、レベリング制御に係る処理を実行する。
図５は、レベリング制御の概略を例示するフローチャートである。前述のように、コントローラ１００は、第１モード、第２モード及び第３モードの順番で、レベリング制御に係る処理を実行する。
【0131】
まず、ステップＳ１において、コントローラ１００は、ケーブル類２００と各除振装置１との接続等、セットアップを実行する。このセットアップに際し、前述のチャンネル付与処理が実行される。チャンネル付与処理を行うことで、アクティブ除振システムＳを構成する全１６個の変位モジュールＭ１～Ｍ４に、互いに異なる１６通りのＩＤが付与される。
【0132】
続くステップＳ２において、コントローラ１００は、レベリング制御の第１モードを実行する。第１モードでのレベリング制御に際し、コントローラ１００は、図６のステップＳ１１に示す第３工程を実行する。
【0133】
－第１モードの詳細－
図６は、第１モードに関連した処理を例示するフローチャートである。
図６は、第１モードに関連した処理を例示するフローチャートである。
【0134】
まず、図６のステップＳ１１に先立って、コントローラ１００は、全てのレベリング機構４を作動させることで、全ての支持位置Ｐにおける第１変位ｚ１を、許容範囲Ｒ１外に調整する（初期調整）。
【0135】
その後、コントローラ１００は、許容範囲Ｒ１からのずれが低減される方向に、全てのレベリング機構４を同時に作動させる。具体的に、ステップＳ１１においてまず、コントローラ１００は、計１６個のレベリング機構４を全て作動させることで、各支持位置Ｐにおいて、第１変位ｚ１が許容範囲Ｒ１外となるまで各弾性体３の下端を上昇させた状態から下降させるか、あるいは、第１変位ｚ１が許容範囲Ｒ１外となるまで各弾性体３の下端を下降させた状態から上昇させるかする。この例では、後者の構成が採用されているが、ステップＳ１１に先立つ処理の内容に応じて、前者の構成を採用することもできる。
【0136】
さらに、ステップＳ１１において、コントローラ１００は、ばね変位センサ６の検出信号に基づいて、１６個の全てのチャンネルにおいて、第２変位ｚ２が所定の第２閾値Ｔ２以上であるか否かを判定する（ｚ２≧Ｔ２？）。この判定がＮＯの場合、コントローラ１００は制御プロセスをステップＳ１２に進め、全レベリング機構４の作動を継続させる。
【0137】
一方、ステップＳ１１の判定がＹＥＳの場合、コントローラ１００は、制御プロセスをステップＳ１３に進める。このステップＳ１３において、コントローラ１００は、１つ以上のチャンネルにおいて、第１変位ｚ１が許容範囲Ｒ１を通り過ぎたか否かを判定する。
【0138】
ステップＳ１３の判定は、前述のように各弾性体３の下端を上昇させた場合には、第１変位ｚ１の大きさが許容範囲Ｒ１を超えたとき（ｚ１＞Ｔ１＋ΔＴ１）にＹＥＳとなる。一方、各弾性体３の下端を下降させるように構成した場合には、第１変位ｚ１の大きさが許容範囲Ｒ１を下まわったとき（ｚ１＜Ｔ１－ΔＴ１）にＹＥＳとなる。
【0139】
ステップＳ１３の判定がＹＥＳの場合、コントローラ１００は制御プロセスをステップＳ１４へ進め、第１モードが完了したことを示すフラグを０から１に変更する。その後、制御プロセスは、ステップＳ１５に進む。
【0140】
ステップＳ１３の判定がＮＯの場合、コントローラ１００は、ステップＳ１４をスキップし、第１モードが完了したことを示すフラグを０に保持したまま、制御プロセスをステップＳ１５に進める。
【0141】
ステップＳ１５において、コントローラ１００は、前記フラグが１か否かを判定する。この判定がＹＥＳの場合、コントローラ１００は、制御プロセスをステップＳ１７へ進める。この場合、コントローラ１００は第２閾値Ｔ２を初期値にリセットし、図６に示す制御プロセスを完了する。
【0142】
一方、ステップＳ１５の判定がＮＯの場合、コントローラ１００は、制御プロセスをステップＳ１６へ進める。このステップＳ１６において、コントローラ１００は、第２閾値Ｔ２を変更し、制御プロセスをステップＳ１１に戻す。つまり、コントローラ１００は、ステップＳ１３の判定がＹＥＳになるまで、第２閾値Ｔ２を変更しながら全レベリング機構４の作動を継続する。
【0143】
【0144】
図６に係る制御プロセスが完了すると、コントローラ１００は、図５のステップＳ２からステップＳ３に制御プロセスを進める。このステップＳ３において、コントローラ１００は、第２モードでレベリング制御を実行する。
【0145】
【0146】
まず、図７のステップＳ２１において、コントローラ１００は、４つの除振装置１（マウント）の各々において、４つの弾性体３の間で第２変位ｚ２の大小関係を判定する。この判定は、ばね変位センサ６の検出信号に基づいて、４つの変位モジュールＭ１～Ｍ４のうちから、第２変位ｚ２が最大となるものと、第２変位ｚ２が最小となるものとを選択することで行うことができる。
【0147】
同じくステップＳ２１において、コントローラ１００は、４つの除振装置１の各々において、第２変位ｚ２の最大値と最小値との差分を算出する。これにより、除振装置１と同数の差分が得られる。
【0148】
その後、同じくステップＳ２１において、コントローラ１００は、算出された４つの差分が、それぞれ、事前に設定された所定範囲内にあるか否かを判定する。この判定は、４つの除振装置１の各々にて行われる。ここで、ある除振装置１においてＹＥＳと判定された場合、その除振装置１では、各弾性体３がバランスよくたわんでいる（同程度にたわんでいる）と判断される。この場合、コントローラ１００は、たわみ差の解消は不要と判断し、制御プロセスをステップＳ２２に進める。
【0149】
一方、ステップＳ２１の判定がＮＯの場合、コントローラ１００は、前記差分が所定以上であると判定する。この場合、コントローラ１００は、当該差分を低下させるように各レベリング機構４を作動させるたわみ差解消処理を実行する。
【0150】
詳しくは、ある除振装置１においてステップＳ２１がＮＯと判定された場合、その除振装置１では、各弾性体３がバランスよくたわんでいない（弾性体３毎に、たわみ量が大きく相違する）と判断される。そこで、コントローラ１００は、弾性体３のたわみを解消すべく制御プロセスをステップＳ２３に進める。
【0151】
ステップＳ２３において、コントローラ１００は、弾性体３のたわみ解消が必要であると判断された除振装置１に対し、たわみ差解消処理を実行する。
【0152】
ステップＳ２３の詳細は、図１１に例示する通りである。まず、ステップＳ２３１において、コントローラ１００は、第２変位ｚ２の最大値と最小値とに対応するチャンネルを読み込む。
【0153】
続くステップＳ２３２において、コントローラ１００は、第２変位ｚ２が最大値となったチャンネルにおいて、その第２変位ｚ２を小さくする方向に、対応するレベリング機構４を作動させる。それに併せて、コントローラ１００は、第２変位ｚ２が最小値となったチャンネルにおいて、その第２変位ｚ２を大きくする方向に、対応するレベリング機構４を作動させる。
【0154】
続くステップＳ２３３に例示するように、ステップＳ２３２の処理は、最大値と最小値との間の差分が所定範囲内に収まるまで行われるようになっている。
【0155】
図示は省略したが、ステップＳ２３１～ステップＳ２３３において、コントローラ１００は、第２変位ｚ２が最大値又は最小値となったチャンネルについて、第１変位ｚ１が前記許容範囲Ｒ１内に収まっているか否かも判定する。コントローラ１００は、第１変位ｚ１が許容範囲Ｒ１内に収まっているチャンネルについてはレベリング機構４を作動させず、第１変位ｚ１が許容範囲Ｒ１内に収まっていないチャンネルについてのみレベリング機構４を作動させる。
【0156】
第２変位ｚ２が最大値又は最小値となったチャンネルの双方において、第１変位ｚ１が許容範囲Ｒ１内に収まっていた場合、コントローラ１００は、ステップＳ２３２をスキップしてリターンしてもよい。
【0157】
ステップＳ２１の判定がＹＥＳの場合、コントローラ１００は、レベリング処理を実行する（ステップＳ２２）。この処理は、前述の第１及び第２工程を含むものである。ステップＳ２２の詳細は、図８に示す通りである。なお、ステップＳ２２とステップＳ２１及びステップＳ２３との前後関係に示すように、本実施形態に係るコントローラ１００は、レベリング制御（特に、第２モードでのレベリング制御）よりも優先してたわみ差解消処理を実行するようになっている。
【0158】
まず、図８のステップＳ１０１において、コントローラ１００は、各種センサの検出信号を読み込む。ここで読み込まれる検出信号には、各定盤変位センサ５の検出信号が含まれる。
【0159】
続くステップＳ１０２において、コントローラ１００は、前述の第１工程を実行する。コントローラ１００は、アクティブ除振システムＳの全チャンネルのうち、第１変位ｚ１と許容範囲Ｒ１とのずれＤ１が最大となる支持位置Ｐに対応したチャンネルを決定する。これにより、そのチャンネルに紐付いたレベリング機構４も決定される。なお、ここでのずれＤ１は、前述のように、第１閾値Ｔ１を用いて計算すればよい（Ｄ１＝｜Ｔ１－ｚ１｜）。
【0160】
以下、説明を明瞭にすべく、このステップＳ１０２で決定されるチャンネルを特定チャンネル（特定Ｃｈ）ともいう。例えば、第２マウント１Ｂの第３変位モジュールＭ３においてずれＤ１が最大となった場合、図４の「ｃｈＢ３」が特定チャンネルになる。また、この特定チャンネルに紐付いたレベリング機構４を特定レベリング機構４ともいう。
【0161】
また、特定チャンネルに対し、設定面Ｆ上で隣接する（言い換えると、ＸＹ平面上で隣接する）２つのチャンネルを、それぞれ隣接チャンネル（隣接Ｃｈ）ともいう。例えば、前述のように「ｃｈＢ３」を特定チャンネルに設定した場合、コントローラ１００は、２つの隣接チャンネルとして、図４の「ｃｈＢ２」と「ｃｈＢ４」とを選択する。また、これらの隣接チャンネルに紐付いたレベリング機構４を、それぞれ隣接レベリング機構４ともいう。２つの隣接レベリング機構４は、双方とも設定面Ｆ上で特定レベリング機構４に隣接する。どの機構に対してどの機構が隣接しているかを示す情報は、事前に設定した上で、コントローラ１００によって適宜読み込まれるようになっている。
【0162】
隣接チャンネルは、第１工程で決定された特定チャンネルと同じ除振装置１に属するチャンネルから選ばれるようになっている。特定レベリング機構４及び隣接レベリング機構４についても同様である。
【0163】
ステップＳ１０２から続くステップＳ１０３において、コントローラ１００は、所定の指令周期が経過したか否かを判定する。この判定がＹＥＳの場合、コントローラ１００は、制御プロセスをステップＳ１０４へ進める。この判定がＮＯの場合、コントローラ１００は、制御プロセスをステップＳ１０８へ進める。ここでいう「指令周期」とは、コントローラ１００からの駆動指令の出力間隔を示す。ここでいう「駆動指令」とは、コントローラ１００から出力されて各電動モータ４５に入力される電気信号であって、特に、各電動モータ４５の駆動を開始させるための信号である。なお、ステップＳ１０３の判定は、省略してもよい。
【0164】
ステップＳ１０３から続くステップＳ１０４では、第２工程に関する処理が行われる。具体的に、コントローラ１００は、特定レベリング機構４に対応した２つの隣接レベリング機構４，４を選択する。コントローラ１００はまた、２つの隣接レベリング機構４，４の間で第１変位ｚ１の差分を算出する。
【0165】
ここで、ステップＳ１０４における「差分」とは、各チャンネルに対応した支持位置Ｐにおける第１変位ｚ１の差分を指す。２つの隣接チャンネルの第１変位をそれぞれｚ１’，ｚ１”とし、ここでいうところの差分をＤａとすると、コントローラ１００は、例えば、Ｄａ＝｜ｚ１’－ｚ１”｜に相当する演算を実行する。
【0166】
その後、ステップＳ１０５～ステップＳ１０６において、コントローラ１００は、特定チャンネルに係るずれＤ１が低減されるように特定レベリング機構４を作動させる第２工程を実行する。
【0167】
この第２工程に際し、コントローラ１００は、前述のように求めた差分Ｄａが所定の第３閾値以上であるか否かを判定する（ステップＳ１０４）。ステップＳ１０４の判定がＮＯの場合（差分Ｄａが所定未満の場合）、コントローラ１００は、制御プロセスをステップＳ１０６に進める。ステップＳ１０６において、コントローラ１００は、全１６個のレベリング機構４のうち、特定レベリング機構４のみを作動させる。この場合、コントローラ１００は、特定レベリング機構４の電動モータ４５のみに駆動指令を入力する。
【0168】
一方、ステップＳ１０４の判定がＹＥＳの場合（差分Ｄａが所定以上の場合）、コントローラ１００は、制御プロセスをステップＳ１０５に進める。ステップＳ１０５において、コントローラ１００は、全１６個のレベリング機構４のうち、特定レベリング機構４と、２つの隣接レベリング機構４のうちの一方と、を同時に（共に）作動させる（電動モータ４５：駆動）。ここで、一方の隣接レベリング機構４とは、第１変位ｚ１の値が、特定レベリング機構４における第１変位ｚ１の値に近接したものとすることができる。この場合、他方の隣接レベリング機構４については、その電動モータ４５を駆動しない（電動モータ４５：非駆動）。この場合、コントローラ１００は、特定レベリング機構４の電動モータ４５と、作動対象となった隣接レベリング機構４の電動モータ４５と、に対して駆動指令を入力する。
【0169】
なお、前述のように複数のレベリング機構４を同時に作動させてしまうと、ハンチングの発生が懸念される。しかしながら、本実施形態の場合、特定レベリング機構４については、１つずつ順番に作動させることになるため、ハンチングの発生は、無作為に選択されたレベリング機構４を同時に作動させるような構成と比較して抑制される。
【0170】
また、隣接レベリング機構４については特定レベリング機構４と同時に作動させることになるものの、各除振装置１において非隣接位置（例えば対角位置）に位置するレベリング機構４については、同時に作動させないように構成されている。このことも、ハンチングの発生を抑制する上で有効に作用する。
【0171】
続くステップＳ１０７において、ステップＳ１０５又はステップＳ１０６において駆動指令が入力された電動モータ４５が、所定の最低駆動時間にわたって駆動する。この最低駆動時間は、前述の指令周期よりも短時間となるように設定されている。その際、コントローラ１００は、最低駆動時間が経過した電動モータ４５に停止指令を入力することで、その電動モータ４５の駆動を停止してもよい。ここでいう「停止指令」とは、コントローラ１００から出力されて各電動モータ４５に入力される電気信号であって、特に、各電動モータ４５の駆動を停止させるための信号である。
【0172】
つまり、本実施形態に係るコントローラ１００は、特定レベリング機構４又は隣接レベリング機構４を構成する各電動モータ４５を、最低駆動時間刻みで例えば複数回にわたって駆動させる。第１変位ｚ１が許容範囲Ｒ１に収まるまで駆動させ続ける（一度の機会で駆動させる）のではなく、小刻みに駆動させるようにしたことで、各チャンネルを偏りなく徐々に許容範囲Ｒ１に近づけていくことが可能になる。そのことで、弾性体３のストロークを抑制する上で有利になる。
【0173】
その後、コントローラ１００は、制御プロセスをステップＳ１０７からステップＳ１０８に進める。ステップＳ１０８において、コントローラ１００は、現在の制御モードが第２モードか否かを判定する。
【0174】
【0175】
ステップＳ２４において、コントローラ１００は、全１６個のチャンネル（レベリング機構４）のうち、第１変位ｚ１が許容範囲Ｒ１内に収まったチャンネル（レベリング機構４）の割合が所定割合以上となったか否かを判定する。所定割合は、事前に設定されるパラメータである。この所定割合は、６０％以上９０％以下とすることが好ましく、７０％以上８０％以下とすることがさらに好ましい。所定割合の値は、手動入力または自動処理に基づいて変更可能としてもよい。
【0176】
さらに詳細には、ステップＳ２４において、コントローラ１００は、全１６個のチャンネルの各々において、各チャンネルにおける第１変位ｚ１が許容範囲Ｒ１に収まったか否か（Ｔ１－ΔＴ１≦ｚ１≦Ｔ１＋ΔＴ１）を判定する。コントローラ１００は、その判定結果に基づいて、前記所定割合に係る判定を実行する。
【0177】
なお、図７のフローは例示に過ぎない。ステップＳ２４に係る処理をステップＳ２１よりも早いタイミングに移動させてもよいし、ステップＳ２１とステップＳ２２との間のタイミングに移動させてもよい。その場合、第１変位ｚ１が許容範囲Ｒ１に収まったか否か（Ｔ１－ΔＴ１≦ｚ１≦Ｔ１＋ΔＴ１）の判定を、前記ステップＳ１０２の判定に流用することができる。後述の図９に係るフローにおいても同様である。
【0178】
本実施形態では、前記所定割合は、７５％に設定されている。この場合、ステップＳ２４の判定は、第１変位ｚ１が許容範囲Ｒ１内に収まったチャンネル（レベリング機構４）が１２個以上となったときにＹＥＳとなり、１１個未満のときにＮＯとなる。
【0179】
ステップＳ２４の判定がＮＯの場合、コントローラ１００は、制御プロセスをステップＳ２１に戻す。レベリング処理（特に、第２工程）を通じて弾性体３のたわみが変化すると想定されるため、ステップＳ２１の判定、及び、ステップＳ２３の処理まで制御プロセスを戻す。
【0180】
一方、ステップＳ２４の判定がＹＥＳの場合、コントローラ１００は、図７に係る制御プロセスを終了する。この場合、コントローラ１００は、制御プロセスを、図５のステップＳ３からステップＳ４へ進める。このステップＳ４において、コントローラ１００は、第３モードでレベリング制御を実行する。
【0181】
【0182】
図７と図９との比較から見て取れるように、第３モードに係る処理は、ステップＳ３４の判定を除き、第２モードに係る処理を同じである。図９のステップＳ３１は、図７のステップＳ２１と共通であり、図９のステップＳ３２は、図７のステップＳ２２と共通であり、図９のステップＳ３３は、図７のステップＳ２３と共通である。なお、ステップＳ３２とステップＳ３１及びステップＳ３３との前後関係に示すように、本実施形態に係るコントローラ１００は、レベリング制御（特に、第３モードでのレベリング制御）よりも優先してたわみ差解消処理を実行するようになっている。
【0183】
【0184】
第２モードとの主たる相違点として、第３モードでのレベリング制御に際し、コントローラ１００は、図８のステップＳ１０７において、ＮＯと判定する。コントローラ１００は、制御プロセスをステップＳ１０８に進め、第３モードに固有の処理（第３モード固有処理）を実行する。
【0185】
第３モード固有処理の詳細は、図１０に示す通りである。コントローラ１００はまず、ステップＳ１０９において、全ての電動モータ４５を駆動停止する（より一般には、全てのレベリング機構４を非作動状態にする）。
【0186】
続くステップＳ１１０において、コントローラ１００は、全ての電動モータ４５を駆動停止させてから所定時間が経過したか否かを判定する。この判定がＮＯの場合、制御プロセスはステップＳ１０９に戻る。コントローラ１１０は、所定時間が経過するまでステップ１０９を継続する。
【0187】
つまり、コントローラ１００は、第３モードでのレベリング制御に際し、前述の第１工程及び第２工程を行うのに加えて、図８のステップＳ１０５～Ｓ１０７６等を通じて第２工程を完了した後に、全レベリング機構４を停止させた状態で所定時間待機する工程（第４工程）を実行するように構成されている。ここでの所定時間は、事前に設定されるパラメータである。この所定時間は、４秒以下とすることが好ましく、２秒以下とすることがさらに好ましい。所定時間の値は、手動入力または自動処理に基づいて変更可能としてもよい。
【0188】
【0189】
ステップＳ３４において、コントローラ１００は、全てのチャンネル（レベリング機構４）において、第１変位ｚ１が許容範囲Ｒ１内に収まったか否かを判定する。
【0190】
ステップＳ３４の判定がＮＯの場合、コントローラ１００は、制御プロセスをステップＳ３１に戻す。レベリング処理（特に、第２工程）を通じて弾性体３のたわみが変化すると想定されるため、ステップＳ３１の判定、及び、ステップＳ３３の処理まで制御プロセスを戻す。
【0191】
一方、ステップＳ３４の判定がＹＥＳの場合、コントローラ１００は、図９に係る制御プロセスを終了する。この場合、コントローラ１００は、制御プロセスを、図５のステップＳ４からステップＳ５へ進める。このステップＳ５において、コントローラ１００は、除振装置１を起動する。この起動によって、各除振装置１は、アクティブ除振制御を実行可能な状態となる。
【0192】
（まとめ）
以上説明したように、本実施形態によると、図８を用いて説明したように、各レベリング機構４を順番に動作させることで、一のレベリング機構４の動作が他のレベリング機構４の動作に及ぼす影響を可能な限り抑制することができる。これにより、レベリング制御の収束性を損なうことなく、可能な限り精密かつバランスのよいレベリングを実現することができる。また、レベリング制御におけるハンチングを抑制することで、結果的に、より迅速にレベリング制御を完了することもできる。
以上説明したように、本実施形態によると、図８を用いて説明したように、各レベリング機構４を順番に動作させることで、一のレベリング機構４の動作が他のレベリング機構４の動作に及ぼす影響を可能な限り抑制することができる。これにより、レベリング制御の収束性を損なうことなく、可能な限り精密かつバランスのよいレベリングを実現することができる。また、レベリング制御におけるハンチングを抑制することで、結果的に、より迅速にレベリング制御を完了することもできる。
【0193】
また、図５～図８を用いて説明したように、レベリング制御の開始直後など、比較的粗い制御でも堪えうる状況下では第１モードでのレベリング制御を実行し、その後、所定以上の精度が求められる状況下では、第２モードでのレベリング制御を実行する。
【0194】
このように、レベリング制御の進行状況に応じて制御モードを使い分けることで、可能な限り迅速なレベリングと、可能な限り精密なレベリングと、を両立することができる。これにより、レベリング制御の性能が著しく向上する。
【0195】
また、本実施形態に係るアクティブ除振システム１は、2015年9月の国連サミットで加盟国の全会一致で採択された「持続可能な開発のための2030アジェンダ」に記載された、2030年までに持続可能でよりよい世界を目指す国際目標である持続可能な開発目標（SDGs：Sustainable Development Goals）のうち、目標９「産業と技術革新の基盤をつくろう」の達成に貢献できる。
【0196】
また、図５、及び、図７～図１０を用いて説明したように、レベリング制御の中盤では第２モードでのレベリング制御を実行し、レベリング制御の終盤では第３モードでのレベリング制御を実行する。第３モードを行うことで、各レベリング機構４の動作に伴う慣性力の影響を、可能な限り抑制することができる。第３モードは、第２モードよりもさらに精密なレベリングを提供する。
【0197】
例えば、各レベリング機構４を前述のように電動モータ４５によって構成するととともに、いずれかの電動モータ４５に停止指令が入力された状況を考える。この場合、停止指令が入力されたモータは、その入力後のわずかな期間（本実施形態の場合、数百ｍｓ程度）、慣性力で回転を持続することになる。
【0198】
そうすると、いずれかの支持位置Ｐにおいて、所定の電動モータ４５に停止指令が入力されたタイミングで第１変位ｚ１が許容範囲Ｒ１内に収まっていたとしても、慣性力に起因した回転の影響を受けて、その第１変位ｚ１が許容範囲Ｒ１外に逸脱してしまう可能性がある。この可能性は、停止指令の入力対象となった支持位置Ｐに加え、それに隣接する他の支持位置Ｐにおいても想定されるものである。それとは反対に、いずれかの支持位置Ｐにおいて第１変位ｚ１が許容範囲Ｒ１外に逸脱していたとしても、慣性力に起因した回転の影響を受けて、その第１変位ｚ１が意図せずして許容範囲Ｒ１内に収まってしまう可能性もある。これらの可能性は、搭載物３００の荷重分布が均等でない場合には、それが均等である場合と比べて、より顕著になると考えられる。この問題に対し、本実施形態のように第３モードでのレベリング制御を実行することで、前述の如き慣性力の影響を可能な限り抑制することができる。
【0199】
このように、レベリング制御の進行状況に応じて制御モードを使い分けることで、第２モードによる相対的に迅速なレベリングと、第３モードによる相対的に精密なレベリングと、を両立することができる。これにより、レベリング制御の性能が著しく向上する。
【0200】
また、図７のステップＳ２４に例示したように、所定条件を満足したレベリング機構４の割合に基づいて第２モードから第３モードに移行させることで、レベリング制御の進行状況に応じて、第２モードから第３モードへとスムースに移行させることができる。
【0201】
また、図８のステップＳ１０４～ステップＳ１０６を用いて説明したように、特定レベリング機構４に加えて隣接レベリング機構４を同時に動作させるように構成することで、特定レベリング機構４に係る弾性体３のストローク（変位代）を抑制することができる。各アクティブ除振装置１において、弾性体間のたわみ差を抑制することができる。
【0202】
また対角位置ではなく、隣接するレベリング機構４を同時に動作させるように構成したことで、一のレベリング機構４が他のレベリング機構４の動作に及ぼす影響を、最小限に抑えることが出来る。このことは、略正方形状のアッパープレート１３を具備する除振装置１において、取り分け有効となる。
【0203】
また、図７のステップＳ２１及びステップＳ２３等に例示したように、第２変位ｚ２に基づいた制御を行うことで、各弾性体３におけるたわみ差を抑制することができる。たわみ差の抑制は、搭載物３００の荷重分布に対応したバランスのよいレベリングを実現したり、各弾性体３の耐久性を確保したりする上で有用である。
【符号の説明】
【0204】
Ｓ アクティブ除振システム
Ｆ 設定面（所定面）
Ｐ 支持位置
１ アクティブ除振装置
３ 弾性体
４ レベリング機構
４２ ばね座
５ 定盤変位センサ
６ ばね変位センサ
１３ アッパープレート（定盤）
１００ コントローラ
３００ 搭載物（被支持体）
ｚ１ 第１変位
ｚ２ 第２変位
Ｔ１ 第１閾値
Ｄ１ ずれ
Ｆ 設定面（所定面）
Ｐ 支持位置
１ アクティブ除振装置
３ 弾性体
４ レベリング機構
４２ ばね座
５ 定盤変位センサ
６ ばね変位センサ
１３ アッパープレート（定盤）
１００ コントローラ
３００ 搭載物（被支持体）
ｚ１ 第１変位
ｚ２ 第２変位
Ｔ１ 第１閾値
Ｄ１ ずれ
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】