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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024039377
(43)【公開日】2024-03-22
(54)【発明の名称】核酸吸着材及びその製造方法
(51)【国際特許分類】
B01J 20/26 20060101AFI20240314BHJP
B01J 20/24 20060101ALI20240314BHJP
B01J 20/30 20060101ALI20240314BHJP
C08F 251/00 20060101ALI20240314BHJP
C08B 11/145 20060101ALI20240314BHJP
C08B 11/10 20060101ALI20240314BHJP
【ＦＩ】
B01J20/26 H
B01J20/24 C
B01J20/30
C08F251/00
C08B11/145
C08B11/10
【審査請求】未請求
【請求項の数】10
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022143886
(22)【出願日】2022-09-09
(71)【出願人】
【識別番号】000001096
【氏名又は名称】倉敷紡績株式会社
(71)【出願人】
【識別番号】301032942
【氏名又は名称】国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
(74)【代理人】
【識別番号】110000040
【氏名又は名称】弁理士法人池内アンドパートナーズ
(72)【発明者】
【氏名】加地 恵
(72)【発明者】
【氏名】本田 拓也
(72)【発明者】
【氏名】植木 悠二
(72)【発明者】
【氏名】瀬古 典明
【テーマコード（参考）】
4C090
4G066
4J026
【Ｆターム（参考）】
4C090AA08
4C090BA34
4C090BB53
4C090BB62
4C090BB64
4C090BB65
4C090BB92
4C090BB94
4C090BD36
4C090CA36
4C090CA38
4C090DA05
4G066AB05B
4G066AB09B
4G066AB13B
4G066AB19B
4G066AC02B
4G066AC13B
4G066AC17B
4G066BA03
4G066BA20
4G066BA36
4G066CA56
4G066DA07
4G066FA03
4G066FA07
4G066FA12
4G066FA21
4G066FA31
4G066FA33
4G066FA38
4J026AA02
4J026BA24
4J026BB01
4J026DB02
4J026DB36
4J026GA01
4J026GA08
(57)【要約】
【課題】液中の核酸を吸着する核酸吸着性能が高い核酸吸着材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、基材と、基材に化学結合されているイオン性基を含み、イオン性基は、アミノポリオール基、リン酸基、及びピラゾール基からなる群から選ばれる一つ以上である核酸吸着材に関する。前記核酸吸着材は基材を放射線照射の前後にモノマーと接触させ、基材にモノマーをグラフト重合させてグラフト鎖を形成し、得られた基材及びグラフト鎖からなるグラフト重合体とイオン性基を有する化合物を反応させ、グラフト重合体のグラフト鎖にイオン性基を化学結合させることで作製してもよい。或いは、前記核酸吸着材は、基材を放射線照射の前後にイオン性基を有するモノマーと接触させることで、イオン性基が化学結合されたグラフト鎖を含むグラフト重合体を形成することで作製してもよい。
【選択図】なし
【解決手段】本発明は、基材と、基材に化学結合されているイオン性基を含み、イオン性基は、アミノポリオール基、リン酸基、及びピラゾール基からなる群から選ばれる一つ以上である核酸吸着材に関する。前記核酸吸着材は基材を放射線照射の前後にモノマーと接触させ、基材にモノマーをグラフト重合させてグラフト鎖を形成し、得られた基材及びグラフト鎖からなるグラフト重合体とイオン性基を有する化合物を反応させ、グラフト重合体のグラフト鎖にイオン性基を化学結合させることで作製してもよい。或いは、前記核酸吸着材は、基材を放射線照射の前後にイオン性基を有するモノマーと接触させることで、イオン性基が化学結合されたグラフト鎖を含むグラフト重合体を形成することで作製してもよい。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材と、前記基材に化学結合されているイオン性基を含み、
前記イオン性基は、アミノポリオール基、リン酸基、及びピラゾール基からなる群から選ばれる一つ以上である、核酸吸着材。
前記イオン性基は、アミノポリオール基、リン酸基、及びピラゾール基からなる群から選ばれる一つ以上である、核酸吸着材。
【請求項2】
前記アミノポリオール基は、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン基である、請求項１に記載の核酸吸着材。
【請求項3】
前記基材は、セルロースを主成分とする、請求項に１又は２に記載の核酸吸着材。
【請求項4】
前記基材は、ポリオレフィンを主成分とする、請求項１又は２に記載の核酸吸着材。
【請求項5】
前記核酸吸着材は、さらに前記基材にグラフト重合したグラフト鎖を含み、前記イオン性基が前記グラフト鎖を介して前記基材に化学結合されている、請求項１～４のいずれかに記載の核酸吸着材。
【請求項6】
前記グラフト鎖は、グリシジルメタクリレートで構成されている、請求項５に記載の核酸吸着材。
【請求項7】
前記グラフト重合体のグラフト率が１０～１００質量％である、請求項５又は６に記載の核酸吸着材。
【請求項8】
前記基材は、多孔質膜の形態を有する、請求項１～７のいずれかに記載の核酸吸着材。
【請求項9】
基材を放射線照射した後にモノマーと接触させる、或いは、基材をモノマーと接触させた後に放射線照射することで、基材にモノマーをグラフト重合させてグラフト鎖を形成する工程、及び
得られた基材及びグラフト鎖からなるグラフト重合体とイオン性基を有する化合物を反応させて、前記グラフト重合体のグラフト鎖にイオン性基を化学結合させる工程を含み、
前記イオン性基は、アミノポリオール基、リン酸基、及びピラゾール基からなる群から選ばれる一つ以上である、核酸吸着材の製造方法。
得られた基材及びグラフト鎖からなるグラフト重合体とイオン性基を有する化合物を反応させて、前記グラフト重合体のグラフト鎖にイオン性基を化学結合させる工程を含み、
前記イオン性基は、アミノポリオール基、リン酸基、及びピラゾール基からなる群から選ばれる一つ以上である、核酸吸着材の製造方法。
【請求項10】
基材を放射線照射した後にイオン性基を有するモノマーと接触させる、或いは基材をイオン性基を有するモノマーと接触させた後に放射線照射することで、基材にイオン性基を有するモノマーをグラフト重合させて、イオン性基がグラフト鎖を介して基材に化学結合しているグラフト重合体を形成する工程を含み、
前記イオン性基は、アミノポリオール基、リン酸基、及びピラゾール基からなる群から選ばれる一つ以上である、核酸吸着材の製造方法。
前記イオン性基は、アミノポリオール基、リン酸基、及びピラゾール基からなる群から選ばれる一つ以上である、核酸吸着材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、液中の核酸を吸着することができる核酸吸着材及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
試料溶液や細胞培養液等から核酸を除去する技術として、従来核酸を分解することが行われていた。近年、イオン性基を備えた基材にて核酸を吸着することが行われている。例えば、特許文献１には、窒素原子を含むカチオン性基を有するセルロースファイバーを核酸吸着材として用いることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０２０－１５２７０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、特許文献１に記載の核酸吸着材は、核酸吸着性能が十分ではない場合があった。
【0005】
本発明は、前記従来の問題を解決するため、液中の核酸を吸着する核酸吸着性能が高い核酸吸着材及びその製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は、基材と、前記基材に化学結合されているイオン性基を含み、前記イオン性基は、アミノポリオール基、リン酸基、及びピラゾール基からなる群から選ばれる一つ以上である、核酸吸着材に関する。
【0007】
本発明は、核酸吸着材の製造方法であって、基材を放射線照射した後にモノマーと接触させる、或いは、基材をモノマーと接触させた後に放射線照射することで、基材にモノマーをグラフト重合させてグラフト鎖を形成する工程、及び得られたグラフト重合体とイオン性基を有する化合物を反応させて、前記グラフト重合体のグラフト鎖にイオン性基を化学結合させる工程を含み、前記イオン性基は、アミノポリオール基、リン酸基、及びピラゾール基からなる群から選ばれる一つ以上である核酸吸着材の製造方法に関する。
【0008】
本発明は、また、核酸吸着材の製造方法であって、基材を放射線照射した後にイオン性基を有するモノマーと接触させる、或いは基材をイオン性基を有するモノマーと接触させた後に放射線照射することで、基材にイオン性基を有するモノマーをグラフト重合させて、イオン性基が化学結合されているグラフト重合体を形成する工程を含み、前記イオン性基は、アミノポリオール基、リン酸基、及びピラゾール基からなる群から選ばれる一つ以上である核酸吸着材の製造方法に関する。
【発明の効果】
【0009】
本発明の核酸吸着材によれば、液中の核酸を効果的に吸着することができる。また、本発明の製造方法によれば、液中の核酸を吸着する核酸吸着性能が高い核酸吸着材を得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【0010】
本発明の発明者らは、上述した従来の問題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、基材にアミノポリオール基、リン酸基、及びピラゾール基からなる群から選ばれる一つ以上のイオン性基を化学結合させることで、液中のＤＮＡ及びＲＮＡ等の核酸を吸着する性能が格段に高まることを見出した。核酸はＤＮＡとＲＮＡを含む。
【0011】
核酸吸着材は、基材と、基材に化学結合されているイオン性基を含む。
【0012】
前記基材は、イオン性基が化学結合しやすい観点から、有機高分子を含む基材であることが好ましい。。前記有機高分子としては、特に限定されないが、例えば、石油系高分子、天然高分子などの種々の高分子化合物を採用し得る。石油系高分子化合物として、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸等の（メタ）アクリル酸系樹脂、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリフェニレンエーテル、ポリケトン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスリフィド、ポリアミド、ポリイミド、環状オレフィン系樹脂等が挙げられる。天然高分子としては、例えば、キチン、キトサン、セルロース、デンプン等が挙げられる。
【0013】
前記有機高分子としては、特に限定されないが、酸やアルカリ等に対する耐薬品性の観点から、セルロース、及びポリオレフィン系樹脂等が好ましい。ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン等を好適に用いることができる。ポリプロピレンは、プロピレンの単独重合体でもよく、プロピレンと他のα－オレフィン、例えばエチレン等との共重合体でもよい。ポリプロピレンが共重合体の場合、他のα－オレフィンの含有量は５重量％以下であってもよい。ポリエチレンは、エチレンの単独重合体でもよく、エチレンと他のα－オレフィン、例えばプロピレン、ブテンー１等との共重合体でもよい。ポリエチレンが共重合体の場合、他のα－オレフィンの含有量は５モル％以下であってもよい。
【0014】
前記基材は、特に限定されないが、例えば、タンパク質を吸着せず、核酸を選択的に吸着しやすい観点から、セルロースを主成分とすることが好ましい。本明細書において、「主成分」とは、基材におけるセルロースの含有量が５０質量％以上であり、好ましくは６０質量％以上、より好ましくは７０質量％以上であり、さらに好ましくは８０質量％以上であり、さらにより好ましくは９０質量％以上であり、１００質量％からなるものでもよい。
【0015】
前記基材は、特に限定されないが、例えば、タンパク質を吸着せず、核酸を選択的に吸着しやすい観点から、ポリオレフィン系樹脂を主成分とすることが好ましく、ポリエチレンを主成分とすることがより好ましい。本明細書において、「主成分」とは、基材におけるポリオレフィン又はポリエチレンの含有量が５０質量％以上であり、好ましくは６０質量％以上、より好ましくは７０質量％以上であり、さらに好ましくは８０質量％以上であり、さらにより好ましくは９０質量％以上であり、１００質量％からなるものでもよい。
【0016】
前記核酸吸着材は、さらに前記基材にグラフト重合されたグラフト鎖を含み、前記イオン性基がグラフト鎖を介して前記基材に化学結合していることが好ましい。この場合、イオン性基がグラフト鎖を介して基材に結合するため、イオン性基が基材に直接結合した場合に比べて、基材とイオン性基の結合部位が増え、単位面積あたりのイオン性基密度を高めることができる。
【0017】
前記基材とグラフト鎖からなるグラフト重合体において、グラフト鎖を構成するモノマーは、グラフト重合可能な基（以下、グラフト重合性反応基という。）を有し、かつ、アミノポリオール基、リン酸基、及びピラゾール基からなる群から選ばれる一つ以上のイオン性基を含む化合物と反応することが可能な基（以下、導入化合物反応基という。）を有するモノマーであることが好ましい。
【0018】
前記グラフト重合性反応基は、特に限定されず、好ましくは不飽和基であり、より好ましくはアリル基、ビニル基、（メタ）アクリル基等が挙げられる。
【0019】
前記導入化合物反応基としては、特に限定されないが、好ましくはエポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテル含有基、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素というハロゲン基、水酸基、アルコキシ基等が挙げられ、より好ましくはエポキシ基である。
【0020】
前記グラフト重合性反応基及び導入化合物反応基を有するモノマーとしては、特に限定されず、例えば、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルソルベート、グリシジルイタコレート、グリシジルマエレート、グリシジルリノレート、グリシジルオレエート、メタクリル酸（３－エチルオキセタン－３－イル）、及びクロロメチルスチレン等が挙げられ、立体障害が少ない観点から、グリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）が好ましい。
【0021】
グラフト重合体がグラフト重合性反応基及び導入化合物反応基を有するモノマーで構成されたグラフト鎖を有する場合、基材にイオン性基を簡単かつ効率的に化学結合（導入）することができる。
【0022】
グラフト重合体において、グラフト鎖を構成するモノマーとして、アミノポリオール基、リン酸基、及びピラゾール基からなる群から選ばれる一つ以上のイオン性基を有するビニルモノマー類を用いることで、イオン性基を有するグラフト重合体で形成された核酸吸着材を得ることができる。このようなモノマーとしては、例えば、Ｎ－アクリロイルトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン、モノ（２－ヒドロキシエチルメタクリレート)ホスフェート等を挙げることができる。このようなモノマーを使用すると、核酸吸着材の製造時に、グラフト鎖へのイオン性基導入工程を省略することができる。
【0023】
グラフト重合体のグラフト率（グラフト鎖の結合率）は特に限定されないが、核酸吸着性を高める観点から、好ましくは１～１００質量％である、より好ましくは１０～１００重量％である。グラフト率を上記範囲内とすることで、基材の形態及び形状を保持しつつ、イオン性基の固定化率を大きくすることができる。よって、核酸吸着材の核酸吸着性を向上させることができる。本明細書において、グラフト率は実施例に記載のとおりに測定することができる。
【0024】
前記イオン性基は、アミノポリオール基、リン酸基、及びピラゾール基からなる群から選ばれる一つ以上である。吸着率の観点から、前記イオン性基は、アミノポリオール基、及びリン酸基からなる群から選ばれる一つ以上であることが好ましく、アミノポリオール基であることがより好ましい。
【0025】
アミノポリオール基は、アミノ基及び多価アルコール基を含む基であればよく、特に限定されないが、例えば、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン基、Ｄ－グルカミン基、Ｄ－ガラクタミン基、Ｄ－マンノサミン基、Ｄ－アラビチルアミン基等のアミノ糖類基が挙げられる。核酸吸着性がより高いという観点から、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン基及びＤ－グルカミン基からなる群から選ばれる一つ以上が好ましく、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン基が特に好ましい。
【0026】
リン酸基としては、例えば、オルトリン酸基、亜リン酸基、次亜リン酸基、ポリリン酸基（二リン酸基（ピロリン酸基とも称される）、三リン酸基等）、及びメタリン酸基等が挙げられ、これらのうち、オルトリン酸基が特に好ましい。
【0027】
ピラゾール基としては、例えば、１－メチルピラゾール基、３－メチルピラゾール基、４－メチルピラゾール基、４－クロロピラゾール基、３，５－ジメチルピラゾール基等の誘導体を用いてもよい。
【0028】
前記核酸吸着材において、特に限定されないが、例えば、核酸吸着性を高める観点から、イオン性基の導入率は、１０～１００％であることが好ましく、より好ましくは５０～１００％であり、さらに好ましくは８０～１００％である。本明細書において、イオン性基の導入率は実施例に記載のとおりに測定することができる。
【0029】
前記核酸吸着材が、セルロース基材、セルロース基材にグラフト重合されたグラフト鎖、及びイオン性基を含み、グラフト鎖がＧＭＡで構成され、イオン性基がＮ－メチル－Ｄ－グルカミン基又はリン酸基である場合、イオン性基は、下記化学式１～３に示すようにＧＭＡで構成されたグラフト鎖を介してセルロース基材に化学結合することができる。なお、グラフト鎖は、ＧＭＡ以外のモノマーで構成されてもよい。
【0030】
【化1】
【0031】
【化2】
【0032】
【化3】
【0033】
前記核酸吸着材が、ポリエチレン基材、ポリエチレン基材にグラフト重合されたグラフト鎖、及びイオン性基を含み、グラフト鎖がＧＭＡで構成され、イオン性基がＮ－メチル－Ｄ－グルカミン基又はリン酸基である場合、イオン性基は、下記化学式４～６に示すようにグラフト鎖を介してポリエチレン基材に化学結合することができる。なお、グラフト鎖は、ＧＭＡ以外のモノマーで構成されてもよい。
【0034】
【化4】
【0035】
【化5】
【0036】
【化6】
【0037】
前記基材の形態は特に限定されず、繊維や多孔質膜のいずれでもよいが、核酸を効果的に吸着しつつ、液を通過しやすい観点から、多孔質膜であることが好ましい。前記多孔質膜としては、例えば、平膜、中空糸膜、モノリス、キャピラリー、円板又は円筒状等が挙げられる
【0038】
前記多孔質膜の厚さは、特に限定されないが、例えば、１～１０００μｍであることが好ましく、より好ましくは１～５００μｍであり、さらに好ましくは１～１００μｍである。多孔質膜の厚さが上述した範囲内であると、洗浄しやすい上、耐久性も良好である。
【0039】
前記多孔質膜の平均孔径は、特に限定されないが、例えば、１～１００μｍであることが好ましく、より好ましくは１～５０μｍであり、さらに好ましくは１～３０μｍである。多孔質膜の平均孔径が上述した範囲内であると、核酸を吸着するのに十分な表面積が得られる上、目つまりも抑制することができる。本明細書において、多孔質膜の平均孔径は、バブルポイントにて測定することができる。
【0040】
（核酸吸着材の製造方法）
前記核酸吸着材は、特に限定されないが、例えば、下記製造方法１～４のいずれかの方法を用いて製造することができる。中でも、高いグラフト率、かつ、高いイオン性基の導入率を実現可能な製造方法１は、より高い核酸吸着性を有する核酸吸着材を製造可能であるといった観点からより好ましいが、製造方法２～４であっても良い。
前記核酸吸着材は、特に限定されないが、例えば、下記製造方法１～４のいずれかの方法を用いて製造することができる。中でも、高いグラフト率、かつ、高いイオン性基の導入率を実現可能な製造方法１は、より高い核酸吸着性を有する核酸吸着材を製造可能であるといった観点からより好ましいが、製造方法２～４であっても良い。
【0041】
（製造方法１）
製造方法１は、下記の工程を含むことが好ましい。
（ｉ）基材を放射線で照射する工程
（ｉｉ-ａ）活性化された基材にモノマーを接触させてグラフト重合させる工程
（ｉｉｉ）基材及びグラフト鎖からなるグラフト重合体にイオン性基を導入する工程
製造方法１は、下記の工程を含むことが好ましい。
（ｉ）基材を放射線で照射する工程
（ｉｉ-ａ）活性化された基材にモノマーを接触させてグラフト重合させる工程
（ｉｉｉ）基材及びグラフト鎖からなるグラフト重合体にイオン性基を導入する工程
【0042】
（製造方法２）
製造方法２は、下記の工程を含むことが好ましい。
（ｉ）基材を放射線で照射する工程
（ｉｉ－ｂ）活性化された基材に対して、イオン性基を有するモノマーを接触させてグラフト重合させる工程
製造方法２は、下記の工程を含むことが好ましい。
（ｉ）基材を放射線で照射する工程
（ｉｉ－ｂ）活性化された基材に対して、イオン性基を有するモノマーを接触させてグラフト重合させる工程
【0043】
（製造方法３）
製造方法３は、下記の工程を含むことが好ましい。
（ｉｖ－ａ）基材にモノマーを塗布する工程
（ｖ）前記モノマーを塗布した基材に放射線を照射してグラフト重合させる工程
（ｉｉｉ）基材及びグラフト鎖からなるグラフト重合体にイオン性基を導入する工程
製造方法３は、下記の工程を含むことが好ましい。
（ｉｖ－ａ）基材にモノマーを塗布する工程
（ｖ）前記モノマーを塗布した基材に放射線を照射してグラフト重合させる工程
（ｉｉｉ）基材及びグラフト鎖からなるグラフト重合体にイオン性基を導入する工程
【0044】
（製造方法４）
製造方法４は、下記の工程を含むことが好ましい。
（ｉｖ－ｂ）基材にイオン性基を有するモノマーを塗布する工程
（ｖ）前記モノマーを塗布した基材に放射線を照射してグラフト重合させる工程
製造方法４は、下記の工程を含むことが好ましい。
（ｉｖ－ｂ）基材にイオン性基を有するモノマーを塗布する工程
（ｖ）前記モノマーを塗布した基材に放射線を照射してグラフト重合させる工程
【0045】
工程（ｉ）において、基材を放射線で照射することで、基材が活性化され、グラフト重合が可能なラジカル等の活性化点が生成される。
【0046】
放射線としてはα線、β線、γ線、Ｘ線、電子線、可視光線、紫外線、及び赤外線等が挙げらる。これらの放射線のうち、γ線、Ｘ線、電子線、可視光線、又は紫外線であることが好ましく、照射線量をコントロールしやすく、生産性が良いことから、γ線又は電子線がより好ましく、電子線がさらに好ましい。
【0047】
照射線量としては、活性化点を生成させるのに十分な線量であればよく、特に限定されるものではない。例えば、γ線、Ｘ線及び電子線等を照射させる場合には、照射線量は、通常１～２００ｋＧｙであってもよく、好ましくは５～１００ｋＧｙ、より好ましくは１０～５０ｋＧｙである。照射線量を大きくすることで、グラフト率を向上させることができる。電子線の加速電圧は、特に限定されないが、例えば、１００～１０００ｋＶの範囲のものとすればよい。雰囲気条件は、窒素雰囲気下や不活性ガス雰囲気下で照射を行うことが好ましく、また透過力があるため、基材の片面に照射するだけでよい。
【0048】
また、照射の条件としては、例えば、予め窒素置換した空間で照射することが好ましく、室温又は冷却下で照射を行うことが好ましい。
【0049】
工程（ｉｉ－ａ）において、前記活性化された基材に対して、モノマーをグラフト重合させる方法は、特に限定されず、公知の方法を適宜用いることができる。ここで、モノマーとしては、上記で説明したグラフト重合性反応基及び導入化合物反応基を有するモノマーを適宜用いることができる。モノマーは、直接又は溶媒に溶解させて接触させてもよく、またモノマー溶液のエマルションを形成させて接触させることでもよい。モノマー溶液のエマルションを形成させることで、基材の活性点付近のモノマー濃度が高まり、グラフト重合体のグラフト率を向上させることができる。界面活性剤が核酸分離に悪影響を及ぼす恐れがあることから、モノマーは界面活性剤を用いたエマルション系ではなく、直接又は溶媒に溶解させて用いることが望ましい。
【0050】
溶液中のモノマー濃度は特に限定されないが、好ましくは０．１～３０質量％であり、より好ましくは１～１０質量％である。溶液中のモノマー濃度を高くすることで、グラフト率を向上させることができる。
【0051】
前記溶媒としては、特に限定されず、上記モノマーを溶解することができるものを適宜用いることができる。具体的には、水、メタノール、及びエタノール等のアルコール溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン、及びヘキサクロロエタン等のハロゲン系溶媒、メチルエチルケトン、及びフェニルメチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。水は、蒸留水、イオン交換水、純水、及び超純水のいずれでもよい。
【0052】
さらに、エマルションを形成させる場合は、界面活性剤を用いることが好ましい。界面活性剤としては、特に限定されないが、好ましくは陰イオン系界面活性剤、陽イオン系界面活性剤、両性イオン系界面活性剤、非イオン系界面活性剤が挙げられる。陰イオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、好ましくはアルキルベンゼン系、アルコール系、オレフィン系、リン酸系、アミド系の界面活性剤等が挙げられ、より好ましくはドデシル硫酸ナトリウム等が挙げられる。陽イオン系界面活性剤は、特に限定はされないが、好ましくはオクタデシルアミン酢酸塩、トリメチルアンモニウムクロライド等が挙げられる。非イオン系界面活性剤は、特に限定されないが、好ましくはエトキシル化脂肪アルコール、脂肪酸エステル等が挙げられ、より好ましくはポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノラウリレート（Ｔｗｅｅｎ２０、登録商標）等が挙げられる。両性イオン系界面活性剤は、特に限定されないが、好ましくはベタイン系両性界面活性剤を主成分とするアンヒトール（登録商標）等が挙げられる。上記界面活性剤の中でも、より好ましくはポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノラウリレートである。
【0053】
界面活性剤の濃度は、特に限定されないが、上記モノマーの種類、濃度に依存して適宜決定することができる。界面活性剤の濃度は、溶媒の全質量を基準として、好ましくは通常０．０１～１０質量％であり、より好ましくは０．１～２質量％である。
【0054】
グラフト重合反応温度は、上記モノマーの反応性によって設定すればよく、好ましくは１０～６０℃であり、より好ましくは３０～４５℃である。また、グラフト重合反応時間は好ましくは５分～６時間であり、より好ましくは３０分～２時間である。目的のグラフト率に応じて、グラフト重合反応温度や反応時間等を適宜設定することができる。また、グラフト重合反応において、系中の酸素は少ない方がよく、脱気、窒素置換してから反応させることが好ましい。
【0055】
気相グラフト重合法の場合、基材を放射線照射によって活性化した後、モノマーの蒸気に直接接触させる。グラフト重合反応温度（接触温度）は、上記モノマーの反応性によって設定すればよく、好ましくは１０～１００℃であり、より好ましくは３０～６０℃である。また、グラフト重合反応時間は好ましくは５分～６時間であり、より好ましくは３０分～２時間である。目的のグラフト率に応じて、グラフト重合反応温度や反応時間等を適宜設定することができる。また、グラフト重合反応において、系中の酸素は少ない方がよく、脱気してから反応させることが好ましい。
【0056】
工程（ｉｉｉ）において、グラフト重合体にイオン性基を導入するために用いる化合物は、上記で説明したイオン性基を有する化合物であれば、特に限定されるものではない。具体的には、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン、Ｄ－グルカミン、Ｄ－ガラクタミン、Ｄ－マンノサミン、Ｄ－アラビチルアミン等のアミノ糖類、リン酸、ポリリン酸及びメタリン酸から選択される１種以上の化合物が好ましく、より好ましくはＮ－メチル－Ｄ－グルカミンである。
【0057】
反応方法としては特に限定されないが、例えばグラフト重合体を、イオン性基を有する化合物と接触させることにより反応させることができる。接触の方法は無溶媒もしくは溶媒に溶解させて接触させることもできる。
【0058】
溶媒としては前記イオン性基を有する化合物が溶解する溶媒であれば、特に限定されず、好ましくは、水、メタノール、エタノール、１－プロパノール、１－ブタノール、オクタノール、及び２－エチルヘキサノール等のアルコール溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン、及びヘキサクロロエタン等のハロゲン系溶媒、メチルエチルケトン、及びフェニルメチルケトン等のケトン系溶媒、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等が挙げられ、より好ましくは水、もしくは、メタノール、エタノール、１－プロパノール、及び１－ブタノール等のアルコール溶媒である。
【0059】
前記イオン性基を有する化合物を反応させる温度としては、特に限定されないが、好ましくは１０～１００℃である。温度の下限値としては、より好ましくは２０℃以上であり、さらに好ましくは４０℃以上である。温度の上限値としては、より好ましくは９０℃以下であり、さらに好ましくは８０℃以下である。
【0060】
反応時間としては、特に限定されないが、好ましくは１～４８時間である。反応時間の下限値としては、より好ましくは1時間以上であり、さらに好ましくは４時間以上である。反応時間の上限値としては、より好ましくは３６時間以下であり、さらに好ましくは２４時間以下である。
【0061】
目的とするイオン性基の導入率に応じて、反応温度や反応時間を適宜設定することができる。
【0062】
工程（ｉｉ－ｂ）において、イオン性基を有するモノマーとしては、特に限定されないが、好ましくはグラフト重合性反応基を有し、前記アミノポリオール基及びリン酸基が結合した構造のモノマーである。具体的には、Ｎ－アクリロイルトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン、モノ（２－ヒドロキシエチルメタクリレート）ホスフェート等が挙げられる。また、グラフト重合の反応方法としては、上記工程（ｉｉ－ａ）と同様の条件で反応させることができる。
【0063】
工程（ｉｖ－ａ）において、モノマーを基材に塗布する方法としては、特に限定されないが、例えば前記モノマー溶液に基材を浸漬する方法、前記モノマー溶液のミストを基材に噴霧する方法、前記モノマー溶液を気体状態として基材に供給する方法等が挙げられる。また、モノマー溶液の組成等は、工程（ｉｉ－ａ）と同様の条件で調製することができる。目的のグラフト率に応じて、モノマーの塗布量等を適宜設定することができる。
【0064】
工程（ｖ）における、放射線照射方法としては、工程（ｉ）等と同様の条件で放射線照射させることができる。
【0065】
工程（ｉｖ－ｂ）において、イオン性基を有するモノマーを基材に塗布する方法としては、特に限定されないが、工程（ｉｖ－ａ）と同様の方法で塗布することができる。
【0066】
前記核酸吸着材は、基材が多孔質膜の形態を有する場合、ろ過膜として使用し、ろ液中の核酸を吸着することができる。例えば、カラム内に多孔質膜をろ過膜として設置し、核酸（ＤＮＡやＲＮＡ）を含む液をカラムに投入し、多孔質膜を通過させることで、多孔質膜にて核酸を吸着することができる。核酸を含む液は、特に限定されず、細胞粉砕液でもよい。また、核酸を吸着した核酸吸着材から、核酸を回収してもよい。
【実施例0067】
以下実施例を用いて本発明を具体的に説明する。なお、本発明は下記の実施例に限定さ
れるものではない。
れるものではない。
【0068】
実施例及び比較例で用いた測定・評価方法は、下記のとおりである。
【0069】
（グラフト率）
グラフト率は、グラフト重合前後の基材質量より、下記数式１により算出した。
［数式１］
グラフト率（％）＝１００×（Ｂ－Ａ）／Ａ
但し、数式１中、Ａはグラフト重合前の基材の質量、Ｂはグラフト重合後のグラフト重合体の質量を表す。
例えば、グラフト率２００％はグラフト重合に供した基材の質量の２倍量のグラフト鎖が導入されていることを示す。
グラフト率は、グラフト重合前後の基材質量より、下記数式１により算出した。
［数式１］
グラフト率（％）＝１００×（Ｂ－Ａ）／Ａ
但し、数式１中、Ａはグラフト重合前の基材の質量、Ｂはグラフト重合後のグラフト重合体の質量を表す。
例えば、グラフト率２００％はグラフト重合に供した基材の質量の２倍量のグラフト鎖が導入されていることを示す。
【0070】
（イオン性基の導入率）
イオン性基の導入率とは、グラフト重合体に導入されたモノマーのモル数に対する、イオン性基含有化合物の反応モル数の割合によって、算出される値であり、下記数式２より算出した。
［数式２］
イオン性基の導入率（％）＝｛Ｄ×［（Ｃ-Ａ）／（Ｂ－Ａ）］－Ｄ｝／Ｅ×１００
但し、数式２中、Ａはグラフト重合前の基材の質量、Ｂはグラフト重合後のグラフト重合体の質量、Ｃはイオン性基導入後のグラフト重合体の質量（核酸吸着材の質量）、Ｄはグラフト重合に用いるモノマーの分子量（例えば、ＧＭＡを用いた場合の分子量は１４２．１５ｇ／ｍｏｌである。）、Ｅはイオン性基含有化合物の分子量（例えば、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミンを用いた場合の分子量は１９５．２１ｇ／ｍｏｌである。）を表す。
イオン性基の導入率とは、グラフト重合体に導入されたモノマーのモル数に対する、イオン性基含有化合物の反応モル数の割合によって、算出される値であり、下記数式２より算出した。
［数式２］
イオン性基の導入率（％）＝｛Ｄ×［（Ｃ-Ａ）／（Ｂ－Ａ）］－Ｄ｝／Ｅ×１００
但し、数式２中、Ａはグラフト重合前の基材の質量、Ｂはグラフト重合後のグラフト重合体の質量、Ｃはイオン性基導入後のグラフト重合体の質量（核酸吸着材の質量）、Ｄはグラフト重合に用いるモノマーの分子量（例えば、ＧＭＡを用いた場合の分子量は１４２．１５ｇ／ｍｏｌである。）、Ｅはイオン性基含有化合物の分子量（例えば、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミンを用いた場合の分子量は１９５．２１ｇ／ｍｏｌである。）を表す。
【0071】
（核酸吸着率）
（１）ＤＮＡの前処理
０．０５μｇ／μＬのＤＮＡ水溶液２０００μＬ、３００μＬのタンパク質分解酵素、及び溶解試薬２５００μＬを、５６℃で５分間以上撹拌した後、エタノール２５００μＬを加え、さらに１５秒以上撹拌し、ＤＮＡの前処理液を得た。ＤＮＡとしてはナカライテスク社製のデオキシリボ核酸を用い、タンパク質分解酵素としては倉敷紡績株式会社製のＥＤＢを用い、溶解試薬としては倉敷紡績株式会社製のＬＤＢを用いた。
（２）ＤＮＡの前処理液をカラム内に投入し、ＱｕｉｃｋＧｅｎｅにて圧力をかけ、多孔質膜を通過させることで、多孔質膜でＤＮＡを捕捉した。次に、カラム内に膜洗浄液（倉敷紡績株式会社製「ＷＤＢ」）を７５００μＬ投入し、ＱｕｉｃｋＧｅｎｅにて圧力をかけ、多孔質膜を通過させることで、多孔質膜内の不純物を除去した。該段階でカラムを通過した液は廃液容器に廃液として収集した。
（３）ＤＮＡの前処理液、及び廃液におけるＤＮＡ量をＱｕｂｉｔ（登録商標）アッセイキット（サーモフィッシャーサイエンティフィック ライフテクノロジーズジャパン製）を用いた蛍光分析で測定し、下記数式３にてＤＮＡの吸着率を算出した。
［数式３］
ＤＮＡ吸着率（％）＝（Ｔ０－Ｔ１）／Ｔ０×１００
但し、数式３中、Ｔ０はＤＮＡの前処理液のＤＮＡ量を表し、Ｔ１は廃液のＤＮＡ量を表す。
（１）ＤＮＡの前処理
０．０５μｇ／μＬのＤＮＡ水溶液２０００μＬ、３００μＬのタンパク質分解酵素、及び溶解試薬２５００μＬを、５６℃で５分間以上撹拌した後、エタノール２５００μＬを加え、さらに１５秒以上撹拌し、ＤＮＡの前処理液を得た。ＤＮＡとしてはナカライテスク社製のデオキシリボ核酸を用い、タンパク質分解酵素としては倉敷紡績株式会社製のＥＤＢを用い、溶解試薬としては倉敷紡績株式会社製のＬＤＢを用いた。
（２）ＤＮＡの前処理液をカラム内に投入し、ＱｕｉｃｋＧｅｎｅにて圧力をかけ、多孔質膜を通過させることで、多孔質膜でＤＮＡを捕捉した。次に、カラム内に膜洗浄液（倉敷紡績株式会社製「ＷＤＢ」）を７５００μＬ投入し、ＱｕｉｃｋＧｅｎｅにて圧力をかけ、多孔質膜を通過させることで、多孔質膜内の不純物を除去した。該段階でカラムを通過した液は廃液容器に廃液として収集した。
（３）ＤＮＡの前処理液、及び廃液におけるＤＮＡ量をＱｕｂｉｔ（登録商標）アッセイキット（サーモフィッシャーサイエンティフィック ライフテクノロジーズジャパン製）を用いた蛍光分析で測定し、下記数式３にてＤＮＡの吸着率を算出した。
［数式３］
ＤＮＡ吸着率（％）＝（Ｔ０－Ｔ１）／Ｔ０×１００
但し、数式３中、Ｔ０はＤＮＡの前処理液のＤＮＡ量を表し、Ｔ１は廃液のＤＮＡ量を表す。
【0072】
（実施例１）
（グラフト鎖導入工程）
セルロース多孔質膜（平均孔径５μｍ、厚さ１００μｍ、平膜）を窒素雰囲気下で電子線照射（加速電圧２５０ｋＶ、照射線量１０ｋＧｙ）を行った。次に、電子線照射後のセルロース多孔質膜を、予め調液し窒素置換（窒素バブリング）したモノマー溶液に浸漬し、３５℃に保持しながら、グラフト重合を１時間行った。使用したモノマー溶液は、溶液全体重量基準で、グリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）２質量％を含む純水溶液である。グラフト重合反応終了後には、水、メタノールの順で十分に洗浄した。
グラフト率を上述したとおりに測定したところ、ＧＭＡグラフト率は約１００％であった。
（Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン基導入工程）
Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミンを１，４-ジオキサン及び純水の混合溶媒（１，４-ジオキサン：純水の質量比８：１）に溶解し作製した濃度１０質量％のＮ－メチル－Ｄ－グルカミン溶液中に上記で得られたＧＭＡグラフト重合セルロース多孔質膜を浸漬し、８０℃で４時間加熱してＮ－メチル－Ｄ－グルカミン基の導入を行った。基材を取り出し純水で洗浄、乾燥することにより、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン型基材を得た。
イオン性基の導入率を上述したとおりに測定したところ、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン基の導入率は約１００％であった。
（グラフト鎖導入工程）
セルロース多孔質膜（平均孔径５μｍ、厚さ１００μｍ、平膜）を窒素雰囲気下で電子線照射（加速電圧２５０ｋＶ、照射線量１０ｋＧｙ）を行った。次に、電子線照射後のセルロース多孔質膜を、予め調液し窒素置換（窒素バブリング）したモノマー溶液に浸漬し、３５℃に保持しながら、グラフト重合を１時間行った。使用したモノマー溶液は、溶液全体重量基準で、グリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）２質量％を含む純水溶液である。グラフト重合反応終了後には、水、メタノールの順で十分に洗浄した。
グラフト率を上述したとおりに測定したところ、ＧＭＡグラフト率は約１００％であった。
（Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン基導入工程）
Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミンを１，４-ジオキサン及び純水の混合溶媒（１，４-ジオキサン：純水の質量比８：１）に溶解し作製した濃度１０質量％のＮ－メチル－Ｄ－グルカミン溶液中に上記で得られたＧＭＡグラフト重合セルロース多孔質膜を浸漬し、８０℃で４時間加熱してＮ－メチル－Ｄ－グルカミン基の導入を行った。基材を取り出し純水で洗浄、乾燥することにより、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン型基材を得た。
イオン性基の導入率を上述したとおりに測定したところ、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン基の導入率は約１００％であった。
【0073】
（実施例２）
（グラフト鎖導入工程）
電子線照射の照射線量３ｋＧｙとした以外は、実施例１と同様にしてセルロース多孔質膜にグラフト鎖を導入した。ＧＭＡグラフト重合セルロース多孔質膜のグラフト率を上述したとおりに測定したところ、ＧＭＡグラフト率は約２５％であった。
（Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン基導入工程）
実施例１と同様にして、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン型基材を得た。イオン性基の導入率を上述したとおりに測定したところ、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン基の導入率は約１００％であった。
（グラフト鎖導入工程）
電子線照射の照射線量３ｋＧｙとした以外は、実施例１と同様にしてセルロース多孔質膜にグラフト鎖を導入した。ＧＭＡグラフト重合セルロース多孔質膜のグラフト率を上述したとおりに測定したところ、ＧＭＡグラフト率は約２５％であった。
（Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン基導入工程）
実施例１と同様にして、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン型基材を得た。イオン性基の導入率を上述したとおりに測定したところ、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン基の導入率は約１００％であった。
【0074】
（実施例３）
（グラフト鎖導入工程）
電子線照射の照射線量１．５ｋＧｙとした以外は、実施例１と同様にしてセルロース多孔質膜にグラフト鎖を導入した。ＧＭＡグラフト重合セルロース多孔質膜のグラフト率を上述したとおりに測定したところ、ＧＭＡグラフト率は約１０％であった。
（Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン基導入工程）
実施例１と同様にして、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン型基材を得た。イオン性基の導入率を上述したとおりに測定したところ、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン基の導入率は約１００％であった。
（グラフト鎖導入工程）
電子線照射の照射線量１．５ｋＧｙとした以外は、実施例１と同様にしてセルロース多孔質膜にグラフト鎖を導入した。ＧＭＡグラフト重合セルロース多孔質膜のグラフト率を上述したとおりに測定したところ、ＧＭＡグラフト率は約１０％であった。
（Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン基導入工程）
実施例１と同様にして、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン型基材を得た。イオン性基の導入率を上述したとおりに測定したところ、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン基の導入率は約１００％であった。
【0075】
（実施例４）
Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン基導入工程において、１，４－ジオキサン及び純水の混合溶媒の１，４－ジオキサンと純水の質量比を１対８に変更したこと、及び浸漬時間を４５分とした以外は、実施例１と同様にして、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン型基材を得た。イオン性基の導入率を上述したとおりに測定したところ、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン基の導入率は約５０％であった。
Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン基導入工程において、１，４－ジオキサン及び純水の混合溶媒の１，４－ジオキサンと純水の質量比を１対８に変更したこと、及び浸漬時間を４５分とした以外は、実施例１と同様にして、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン型基材を得た。イオン性基の導入率を上述したとおりに測定したところ、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン基の導入率は約５０％であった。
【0076】
（実施例５）
（グラフト鎖導入工程）
実施例２と同様にしてセルロース多孔質膜にグラフト鎖を導入し、ＧＭＡグラフト率が約２５％のＧＭＡグラフト重合セルロース多孔質膜を得た。
（ピラゾール基導入工程）
ピラゾールを純水に溶解し作製した濃度１ｍｏｌ／Ｌのピラゾール水溶液中に上記で得られたＧＭＡグラフト重合セルロース多孔質膜を浸漬し、８０℃で２４時間加熱してピラゾール基の導入を行った。基材を取り出し純水で洗浄、乾燥することにより、ピラゾール型基材を得た。
イオン性基の導入率を上述したとおりに測定したところ、ピラゾール基の導入率は約１００％であった。
（グラフト鎖導入工程）
実施例２と同様にしてセルロース多孔質膜にグラフト鎖を導入し、ＧＭＡグラフト率が約２５％のＧＭＡグラフト重合セルロース多孔質膜を得た。
（ピラゾール基導入工程）
ピラゾールを純水に溶解し作製した濃度１ｍｏｌ／Ｌのピラゾール水溶液中に上記で得られたＧＭＡグラフト重合セルロース多孔質膜を浸漬し、８０℃で２４時間加熱してピラゾール基の導入を行った。基材を取り出し純水で洗浄、乾燥することにより、ピラゾール型基材を得た。
イオン性基の導入率を上述したとおりに測定したところ、ピラゾール基の導入率は約１００％であった。
【0077】
（実施例６）
（グラフト鎖導入工程）
ポリエチレン多孔質膜（平均孔径が５μｍ、厚さ１０００μｍ、平膜）の片面に対して、電子線を窒素雰囲気下、加速電圧２ＭＶ、照射線量１００ｋＧｙで照射した。次に、電子線照射後のポリエチレン多孔質膜を、予め調液し窒素置換（窒素バブリング）したモノマー溶液に浸漬し、４０℃に保持しながら、グラフト重合を３時間行った。使用したモノマー溶液は、溶液全体重量基準で、グリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）５質量％、メタノール４７．５質量％、及び純水４７．５％を含む溶液である。ＧＭＡグラフト重合ポリエチレン多孔質膜のグラフト率を上述したとおりに測定したところ、ＧＭＡグラフト率は約６０％であった。
（リン酸基導入工程）
濃度８５質量％のリン酸溶液中に上記で得られたＧＭＡグラフト重合ポリエチレン多孔質膜を浸漬し、８０℃で２４時間加熱してリン酸基の導入を行った。基材を取り出し純水で洗浄、乾燥することにより、リン酸型膜を得た。イオン性基の導入率を上述したとおりに測定したところ、リン酸基の導入率は４０％であった。
（グラフト鎖導入工程）
ポリエチレン多孔質膜（平均孔径が５μｍ、厚さ１０００μｍ、平膜）の片面に対して、電子線を窒素雰囲気下、加速電圧２ＭＶ、照射線量１００ｋＧｙで照射した。次に、電子線照射後のポリエチレン多孔質膜を、予め調液し窒素置換（窒素バブリング）したモノマー溶液に浸漬し、４０℃に保持しながら、グラフト重合を３時間行った。使用したモノマー溶液は、溶液全体重量基準で、グリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）５質量％、メタノール４７．５質量％、及び純水４７．５％を含む溶液である。ＧＭＡグラフト重合ポリエチレン多孔質膜のグラフト率を上述したとおりに測定したところ、ＧＭＡグラフト率は約６０％であった。
（リン酸基導入工程）
濃度８５質量％のリン酸溶液中に上記で得られたＧＭＡグラフト重合ポリエチレン多孔質膜を浸漬し、８０℃で２４時間加熱してリン酸基の導入を行った。基材を取り出し純水で洗浄、乾燥することにより、リン酸型膜を得た。イオン性基の導入率を上述したとおりに測定したところ、リン酸基の導入率は４０％であった。
【0078】
（比較例１）
セルロース多孔質膜（平均孔径５μｍ、厚さ１００μｍ、平膜）を比較例１とした。
セルロース多孔質膜（平均孔径５μｍ、厚さ１００μｍ、平膜）を比較例１とした。
【0079】
（比較例２）
（グラフト鎖導入工程）
実施例２と同様にしてセルロース多孔質膜にグラフト鎖を導入し、ＧＭＡグラフト率が約２５％のＧＭＡグラフト重合基材を得た。
（エチレンジアミン基導入工程）
エチレンジアミンを２－プロパノールに溶解し作製した濃度７０体積％のエチレンジアミン溶液中に上記で得られたＧＭＡグラフト重合セルロース多孔質膜を浸漬し、６０℃で２４時間加熱してエチレンジアミン基の導入を行った。基材を取り出し純水で洗浄、乾燥することにより、エチレンジアミン基型基材を得た。イオン性基の導入率を上述したとおりに測定したところ、エチレンジアミン基の導入率は約１００％であった。
（グラフト鎖導入工程）
実施例２と同様にしてセルロース多孔質膜にグラフト鎖を導入し、ＧＭＡグラフト率が約２５％のＧＭＡグラフト重合基材を得た。
（エチレンジアミン基導入工程）
エチレンジアミンを２－プロパノールに溶解し作製した濃度７０体積％のエチレンジアミン溶液中に上記で得られたＧＭＡグラフト重合セルロース多孔質膜を浸漬し、６０℃で２４時間加熱してエチレンジアミン基の導入を行った。基材を取り出し純水で洗浄、乾燥することにより、エチレンジアミン基型基材を得た。イオン性基の導入率を上述したとおりに測定したところ、エチレンジアミン基の導入率は約１００％であった。
【0080】
（比較例３）
（グラフト鎖導入工程）
実施例１と同様にしてセルロース多孔質膜にグラフト鎖を導入し、ＧＭＡグラフト率が約１００％のＧＭＡグラフト重合セルロース多孔質膜を得た。
（エチレンジアミン基導入工程）
比較例２と同様にして、エチレンジアミン基型基材を得た。イオン性基の導入率を上述したとおりに測定したところ、エチレンジアミン基の導入率は約８５％であった。
（グラフト鎖導入工程）
実施例１と同様にしてセルロース多孔質膜にグラフト鎖を導入し、ＧＭＡグラフト率が約１００％のＧＭＡグラフト重合セルロース多孔質膜を得た。
（エチレンジアミン基導入工程）
比較例２と同様にして、エチレンジアミン基型基材を得た。イオン性基の導入率を上述したとおりに測定したところ、エチレンジアミン基の導入率は約８５％であった。
【0081】
（比較例４）
ポリエチレン多孔質膜（平均孔径が５μｍ、厚さ１０００μｍ、平膜）を比較例４とした。
ポリエチレン多孔質膜（平均孔径が５μｍ、厚さ１０００μｍ、平膜）を比較例４とした。
【0082】
実施例及び比較例で得られたイオン基が化学結合している基材の核酸吸着率を上述したとおりに測定し、その結果を下記表１に示した。
【0083】
【表1】
【0084】
上記表１の結果から分かるように、基材及びグラフト鎖からなるグラフト重合体のグラフト鎖にアミノポリオール基、リン酸基、及びピラゾール基からなる群から選ばれる一つ以上のイオン性基が化学結合している実施例の核酸吸着材は、核酸吸着率が５０％を超えており、核酸吸着性能が高かった。
【0085】
一方、イオン性基を有しない比較例１、４、及びイオン性基としてエチレンジアミン基を有する比較例２～３の基材の場合、核酸吸着率が４０％未満しかなく、核酸吸着性能が低かった。