特開 2024-39788 無アルカリガラス板

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024039788

(43)【公開日】2024-03-25

(54)【発明の名称】無アルカリガラス板

(51)【国際特許分類】

   C03C 3/085 20060101AFI20240315BHJP

   C03C 3/087 20060101ALI20240315BHJP

   C03C 3/091 20060101ALI20240315BHJP

【ＦＩ】

C03C3/085

C03C3/087

C03C3/091

【審査請求】未請求

【請求項の数】14

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022144406

(22)【出願日】2022-09-12

(71)【出願人】

【識別番号】000232243

【氏名又は名称】日本電気硝子株式会社

(72)【発明者】

【氏名】西宮 未侑

【テーマコード（参考）】

4G062

【Ｆターム（参考）】

4G062AA01

4G062BB01

4G062CC04

4G062CC10

4G062DA06

4G062DA07

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4G062DB04

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4G062DC02

4G062DC03

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4G062KK01

4G062KK03

4G062KK05

4G062KK07

4G062MM12

4G062NN29

4G062NN30

4G062NN32

4G062NN33

(57)【要約】

【課題】生産性に優れると共に、歪点とヤング率が十分に高い無アルカリガラス板を提供
することである。
【解決手段】本発明の無アルカリガラス板は、 ガラス組成として、ｍｏｌ％で、ＳｉＯ_２ ６０～７７％、Ａｌ_２Ｏ_３ ８～２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０～１０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０～０．５％、ＭｇＯ ０～１２％、ＣａＯ ０～１２％、ＳｒＯ ０～１２％、ＢａＯ ０～１２％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １０～２５％、ＭｏＯ_３ ０．１～１０００質量ｐｐｍであることを特徴とする。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

ガラス組成として、ｍｏｌ％で、ＳｉＯ_２ ６０～７７％、Ａｌ_２Ｏ_３ ８～２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０～１０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０～０．５％、ＭｇＯ ０～１２％、ＣａＯ ０～１２％、ＳｒＯ ０～１２％、ＢａＯ ０～１２％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １０～２５％を含有し、且つＭｏＯ_３を０．１～１０００質量ｐｐｍ含むことを特徴とする無アルカリガラス板。

【請求項2】

ガラス組成として、ｍｏｌ％で、ＳｉＯ_２ ６５～７７％、Ａｌ_２Ｏ_３ １０～１７％、Ｂ_２Ｏ_３ ０～９％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０～０．５％、ＭｇＯ ０～１２％、ＣａＯ ０～１２％、ＳｒＯ ０～１０％、ＢａＯ ０～１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １０～２５％を含有し、且つＭｏＯ_３を０．１～１０００質量ｐｐｍ含むことを特徴とする無アルカリガラス板。

【請求項3】

ガラス組成中に実質的にＡｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３を含有せず、更にＳｎＯ_２を０．００１～１ｍｏｌ％含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の無アルカリガラス板。

【請求項4】

ガラス組成として、ｍｏｌ％比で、Ｆｅ_２Ｏ_３／ＭｏＯ_３が０．００１～１．５であることを特徴とする請求項１又は２に記載の無アルカリガラス板。

【請求項5】

ガラス組成として、ｍｏｌ％比で、ＴｉＯ_２／ＭｏＯ_３が０．００１～１．５であることを特徴とする請求項１又は２に記載の無アルカリガラス板。

【請求項6】

ヤング率が７０ＧＰａ以上であり、歪点が６５０℃以上であり、且つ液相温度が１４００℃以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の無アルカリガラス板。

【請求項7】

歪点が７００℃以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の無アルカリガラス板。

【請求項8】

ヤング率が７５ＧＰａより高いことを特徴とする請求項１又は２に記載の無アルカリガラス板。

【請求項9】

比ヤング率が３０ＧＰａ／ｇ・ｃｍ―３以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の無アルカリガラス板。

【請求項10】

３０～３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数が３０×１０^－７～５０×１０^－７／℃であることを特徴とする請求項１又は２に記載の無アルカリガラス板。

【請求項11】

徐冷点が７３０℃以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の無アルカリガラス板。

【請求項12】

液相粘度が１０^３．３ｄＰａ・ｓ以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の無アルカリガラス板。

【請求項13】

有機ＥＬデバイスに用いることを特徴とする請求項１又は２に記載の無アルカリガラス板。

【請求項14】

磁気記録媒体に用いることを特徴とする請求項１又は２に記載の無アルカリガラス板。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、無アルカリガラス板に関し、特に有機ＥＬディスプレイ等に好適な無アルカリガラス板に関する。

【背景技術】

【0002】

有機ＥＬディスプレイ等の電子デバイスは、薄型で動画表示に優れると共に、消費電力も低いため、フレキシブルデバイスや携帯電話のディスプレイ等の用途に使用されている。

【0003】

有機ＥＬディスプレイの基板として、ガラス板が広く使用されている。この用途のガラス板には、特許文献１に記載されるように、主に以下の特性が要求される。
（１）熱処理工程で成膜された半導体物質中にアルカリイオンが拡散する事態を防止するため、アルカリ金属酸化物をほとんど含まないこと、つまり無アルカリガラス（ガラス組成中のアルカリ酸化物の含有量が０．５ｍｏｌ％以下となるガラス）であること、
（２）ガラス板を低廉化するため、表面品位を高め易いオーバーフローダウンドロー法で成形され、且つ生産性に優れること、特に溶融性や耐失透性に優れること、
（３）ＬＴＰＳ（ｌｏｗ ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ ｐｏｌｙ ｓｉｌｉｃｏｎ）プロセス、酸化物ＴＦＴプロセスにおいて、ガラス板の熱収縮を低減するため、歪点が高いこと。

【0004】

また、各種情報機器において、磁気ディスク、光ディスクなどの情報記録媒体が使用されている。

【0005】

情報記録媒体用の基板として、従来のアルミニウム合金基板に代わり、ガラス板が広く使用されている。近年では、更なる高記録密度化のニーズに応えるため、エネルギーアシスト磁気記録方式を用いた磁気記録媒体、つまりエネルギーアシスト磁気記録媒体が検討されている。エネルギーアシスト磁気記録媒体についても、ガラス板が使用されると共に、ガラス板の表面上に磁性層等が成膜される。エネルギーアシスト磁気記録媒体では、磁性層の磁性材料として大きな磁気異方性係数Ｋｕ（以下、「高Ｋｕ」と称する）を有する規則合金が用いられる。情報記録媒体用の基板に使用されるガラス板が特許文献２に開示される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】特開２０１２－１０６９１９号公報

【特許文献2】特開２０２１－０８６６４３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

有機ＥＬデバイスは、有機ＥＬテレビにも広く展開されている。有機ＥＬテレビには大型化、薄型化の要求が強く、また８Ｋ等の高解像度のディスプレイの需要が高まっている。よって、これらの用途のガラス板には、大型化、薄型化でありながら、高解像度の要求に耐え得る熱的寸法安定性が求められる。更に有機ＥＬテレビには、液晶ディスプレイとの価格差を低減するため、低コストが求められており、ガラス板も同様に低コストであることが求められている。しかし、ガラス板が大型化、薄型化すると、ガラス板が撓み易くなり、製造コストが高騰してしまう。

【0008】

ガラスメーカーで成形されたガラス板は、切断、徐冷、検査、洗浄等の工程を経由するが、これらの工程中、ガラス板は、複数段の棚が形成されたカセットに投入、搬出される。このカセットは、通常、左右の内側面に形成された棚に、ガラス板の相対する両辺を載置して水平方向に保持できるようになっているが、大型で薄いガラス板は撓み量が大きい。そのため、ガラス板をカセットに投入する際に、ガラス板の一部がカセットに接触して破損したり、搬出する際に、大きく揺動して不安定となり易い。このような形態のカセットは、電子デバイスメーカーでも使用されるため、同様の不具合が発生することになる。この問題を解決するために、ガラス板のヤング率を高めて、撓み量を低減する方法が有効である。

【0009】

また、上記のように、高解像度のディスプレイを得るためのＬＴＰＳや酸化物ＴＦＴプロセスにおいて、大型のガラス板の熱収縮を低減するため、ガラス板の歪点を高める必要がある。

【0010】

しかし、ガラス板のヤング率と歪点を高めようとすると、ガラス組成のバランスが崩れて、生産性が低下し、特に耐失透性が顕著に低下して、液相粘度が増加するためオーバーフローダウンドロー法で成形できなくなる。また、溶融性が低下したり、ガラスの成形温度が高くなって、成形体の寿命が短くなり易い。結果として、ガラス板の原板コストが高騰してしまう。

【0011】

また、磁気記録媒体用ガラス板には、高速回転時に大きな変形を起こさないために、高い剛性（ヤング率）を有することが求められる。詳述すると、ディスク状の磁気記録媒体では、媒体を中心軸の周りに高速回転させつつ、磁気ヘッドを半径方向に移動させながら、回転方向に沿って情報の書き込み、読み出しを行う。近年、この書き込み速度や読み出し速度を上げるための回転数は５４００ｒｐｍから７２００ｒｐｍ、更には１００００ｒｐｍと高速化の方向に進んでいるが、ディスク状の磁気記録媒体では、予め中心軸からの距離に応じて情報を記録するポジションが割り当てられる。このため、ガラス板が回転中に変形を起こすと、磁気ヘッドの位置ズレが起こり、正確な読み取りが困難になる。

【0012】

また、近年、磁気ヘッドにＤＦＨ（Ｄｙｎａｍｉｃ Ｆｌｙｉｎｇ Ｈｅｉｇｈｔ）機構を搭載させることで、磁気ヘッドの記録再生素子部と磁気記録媒体表面との間隙の大幅な狭小化（低浮上量化）を達成して、更なる高記録密度化を図ることが行われている。ＤＦＨ機構とは、磁気ヘッドの記録再生素子部の近傍に極小のヒーター等の加熱部を設けて、素子部周辺のみを媒体表面方向に向けて熱膨張させる機構である。このような機構を備えることにより、磁気ヘッドと媒体の磁性層との距離が近づくため、より小さい磁性粒子の信号を拾うことができるようになり、高記録密度化を達成することが可能となる。その一方で、磁気ヘッドの記録再生素子部と磁気記録媒体の表面との間隙が、例えば２ｎｍ以下と極めて小さくなるため、僅かな衝撃によっても磁気ヘッドが磁気記録媒体の表面に衝突する虞がある。この傾向は、高速回転になる程、顕著となる。よって、高速回転時には、この衝突の原因になるガラス板の撓みやバタツキ（フラッタリング）の発生を防ぐことが重要になる。

【0013】

さらに、磁性層の規則化の程度（規則度）を高めて高Ｋｕ化を図るため、磁性層の成膜時、或いは成膜前後に、ガラス板を含む基材を８００℃程度の高温で熱処理することがある。この熱処理温度は高記録密度になる程、より高温が必要になるため、従来の磁気記録媒体用ガラス板よりも更に高い耐熱性、つまり歪点が高いことが求められる。また、磁性層の成膜後に、ガラス板を含む基材に対して、レーザー照射を実行することもある。このような熱処理やレーザー照射は、ＦｅＰｔ系合金等を含む磁性層のアニール温度や保磁力を高めるという目的もある。

【0014】

しかし、上記の通り、ガラス板のヤング率と歪点を高めようとすると、ガラス組成のバランスが崩れて、生産性が低下し、特に耐失透性が顕著に低下して、液相粘度が増加するためオーバーフローダウンドロー法で成形できなくなる。また、溶融性が低下したり、ガラスの成形温度が高くなって、成形体の寿命が短くなり易い。結果として、ガラス板の原板コストが高騰してしまう。更に、原板コストを下げるために純度の低い原料を使用すると、一般的に紫外線透過率が低くなる傾向にある。そのため、ディスプレイや磁気記録媒体の製造工程の中でも特にレーザー剥離工程の歩留まりが低下しやすくなる。

【0015】

そこで、本発明は、上記事情に鑑み創案されたものであり、その技術的課題は、生産性に優れると共に、歪点とヤング率が十分に高い無アルカリガラス板を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0016】

本発明者は、種々の実験を繰り返した結果、無アルカリガラス板のガラス組成を厳密に規制することにより、上記技術的課題を解決できることを見出し、本発明として、提案するものである。

【0017】

（１）本発明の無アルカリガラス板は、ガラス組成として、ｍｏｌ％で、ＳｉＯ_２ ６０～７７％、Ａｌ_２Ｏ_３ ８～２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０～１０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０～０．５％、ＭｇＯ ０～１２％、ＣａＯ ０～１２％、ＳｒＯ ０～１２％、ＢａＯ ０～１２％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １０～２５％であり、且つ、ＭｏＯ_３ ０．１～１０００質量ｐｐｍであることを特徴とする。ここで、「Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ」は、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの合量を指す。「ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ」は、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯの合量を指す。

【0018】

（２）本発明の無アルカリガラス板は、ガラス組成として、ｍｏｌ％で、ＳｉＯ_２ ６５～７７％、Ａｌ_２Ｏ_３ １０～１７％、Ｂ_２Ｏ_３ ０～９％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０～０．５％、ＭｇＯ ０～１２％、ＣａＯ ０～１２％、ＳｒＯ ０～１０％、ＢａＯ ０～１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １０～２５％であり、且つ、ＭｏＯ_３ ０．１～１０００質量ｐｐｍであることを特徴とする。

【0019】

（３）上記（１）又は（２）の構成において、ガラス組成中に実質的にＡｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３を含有せず、更にＳｎＯ_２を０．００１～１ｍｏｌ％含むことが好ましい。ここで、「実質的にＡｓ_２Ｏ_３を含まない」とは、Ａｓ_２Ｏ_３の含有量が０．０５ｍｏｌ％以下の場合を指す。「実質的にＳｂ_２Ｏ_３を含まない」とは、Ｓｂ_２Ｏ_３の含有量が０．０５ｍｏｌ％以下の場合を指す。

【0020】

（４）上記（１）～（３）の構成において、ガラス組成として、ｍｏｌ％比で、Ｆｅ_２Ｏ_３／ＭｏＯ_３ ０．００１～１．５であることが好ましい。

【0021】

（５）上記（１）～（４）の構成において、ガラス組成として、ｍｏｌ％比で、ＴｉＯ_２／ＭｏＯ_３ ０．００１～１．５であることが好ましい。

【0022】

（６）上記（１）～（５）の構成において、ヤング率７０ＧＰａ以上であり、歪点が６５０℃以上であり、且つ液相温度が１４００℃以下であることが好ましい。ここで、「ヤング率」は、曲げ共振法により測定した値を指す。なお、１ＧＰａは、約１０１．９Ｋｇｆ／ｍｍ^２に相当する。「歪点」は、ＡＳＴＭ Ｃ３３６の方法に基づいて測定した値を指す。「液相温度」は、標準篩３０メッシュ（５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れて、温度勾配炉中に２４時間保持した後、結晶が析出する温度を指す。

【0023】

（７）上記（１）～（６）の構成において、歪点が７００℃以上であることが好ましい。

【0024】

（８）上記（１）～（７）の構成において、ヤング率が７５ＧＰａより高いことが好ましい。

【0025】

（９）上記（１）～（８）の構成において、比ヤング率が３０ＧＰａ／ｇ・ｃｍ^―３以上であることが好ましい。ここで、「比ヤング率」は、ヤング率を密度で除した値である。

【0026】

（１０）上記（１）～（９）の構成において、３０～３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数が３０×１０^－７～５０×１０^－７／℃であることが好ましい。ここで、「３０～３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数」は、ディラトメーターで測定可能である。

【0027】

（１１）上記（１）～（１０）の構成において、徐冷点が７３０℃以上であることが好ましい。ここで、「徐冷点」は、ＡＳＴＭ Ｃ３３６の方法に基づいて測定した値を指す。

【0028】

（１２）上記（１）～（１１）の構成において、液相粘度が１０^３．５ｄＰａ・ｓ以上であることが好ましい。ここで、「液相粘度」は、液相温度におけるガラスの粘度を指し、白金球引き上げ法で測定可能である。

【0029】

（１３）上記（１）～（１２）の構成の無アルカリガラス板は、有機ＥＬデバイスに用いることが好ましい。

【0030】

（１４）上記（１）～（１２）の構成の無アルカリガラス板は、磁気記録媒体に用いることが好ましい。

【発明の効果】

【0031】

上記の構成により、生産性に優れると共に、歪点とヤング率が十分に高い無アルカリガラス板を提供することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【0032】

【図1】磁気記録媒体用ガラス基板の形状の一例を示すための上方斜視図である。

【発明を実施するための形態】

【0033】

本発明の無アルカリガラス板は、ガラス組成として、ＳｉＯ_２ ６０～７７％、Ａｌ_２Ｏ_３ ８～２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０～１０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０～０．５％、ＭｇＯ ０～１２％、ＣａＯ ０～１２％、ＳｒＯ ０～１２％、ＢａＯ ０～１２％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １０～２５％、ＭｏＯ_３ ０．１～１０００質量ｐｐｍであることを特徴とする。上記のように各成分の含有量を限定した理由を以下に示す。なお、各成分の含有量の説明において、％表示は、特に断りがある場合を除き、ｍｏｌ％を表す。また、特に断りがある場合を除き、「Ｘ～Ｙ％」は、Ｘ％以上、Ｙ％以下を表す。

【0034】

ＳｉＯ_２は、ガラスの骨格を形成する成分である。ＳｉＯ_２の含有量が少な過ぎると、熱膨張係数が高くなり、密度が増加する。よって、ＳｉＯ_２の下限量は、好ましくは６０％、より好ましくは６１％、更に好ましくは６１．５％、更に好ましくは６２％、更に好ましくは６２．５％、更に好ましくは６３％、更に好ましくは６３．５％、更に好ましくは６４％、更に好ましくは６４．５％、更に好ましくは６５％、更に好ましくは６５．５％、更に好ましくは６６％、更に好ましくは６６．５％、更に好ましくは６６．８％、更に好ましくは６７％、更に好ましくは６７．３％、特に好ましくは６７．５％である。一方、ＳｉＯ_２の含有量が多過ぎると、ヤング率が低下し、更に高温粘度が高くなり、溶融時に必要な熱量が多くなり、溶融コストが高騰すると共に、ＳｉＯ_２の導入原料の溶け残りが発生して、歩留まり低下の原因になる虞がある。また、クリストバライト等の失透結晶が析出し易くなって、液相粘度が低下し易くなる。よって、ＳｉＯ_２の上限量は、好ましくは７７％、より好ましくは７６．５％、更に好ましくは７６％、更に好ましくは７５．５％、更に好ましくは７５％、更に好ましくは７４．５％、更に好ましくは７４％、更に好ましくは７３．５％、更に好ましくは７３％、更に好ましくは７２．５％、更に好ましくは７２％、更に好ましくは７１．５％、更に好ましくは７１％、更に好ましくは７０．５％、特に好ましくは７０％である。

【0035】

Ａｌ_２Ｏ_３は、ガラスの骨格を形成する成分であり、またヤング率を高める成分であり、更に歪点を上昇させる成分である。Ａｌ_２Ｏ_３の含有量が少な過ぎると、ヤング率が低下し易くなり、また歪点が低下し易くなる。よって、Ａｌ_２Ｏ_３の下限量は、好ましくは８％、より好ましくは８．５％、更に好ましくは９％、更に好ましくは９．５％、更に好ましくは１０％、更に好ましくは１０．５％、更に好ましくは１１％、更に好ましくは１１．５％、特に好ましくは１２％である。一方、Ａｌ_２Ｏ_３の含有量が多過ぎると、ムライト等の失透結晶が析出し易くなって、液相粘度が低下し易くなる。よって、Ａｌ_２Ｏ_３の上限量は、好ましくは２０％、より好ましくは１９％、更に好ましくは１８．５％、更に好ましくは１８％、更に好ましくは１７．５％、更に好ましくは１７％、更に好ましくは１６．５％、更に好ましくは１６％、更に好ましくは１５．５％、特に好ましくは１５％である。

【0036】

Ｂ_２Ｏ_３は、耐チッピング性を高める成分であり、また溶融性や耐失透性を高める効果を享受し得る。よって、Ｂ_２Ｏ_３の下限量は、好ましくは０％、より好ましくは０％超、更に好ましくは０．１％、更に好ましくは０．２％、更に好ましくは０．３％、更に好ましくは０．４％、更に好ましくは０．５％、更に好ましくは０．６％、更に好ましくは０．８％、更に好ましくは０．９％、更に好ましくは１％、更に好ましくは１．２％、更に好ましくは１．５％、更に好ましくは１．８％、更に好ましくは２％、特に好ましくは２超％である。一方、Ｂ_２Ｏ_３の含有量が多過ぎると、ヤング率や歪点が低下し易くなる。よって、Ｂ_２Ｏ_３の上限量は、好ましくは１０％、より好ましくは９．５％、更に好ましくは９％、更に好ましくは８．５％、更に好ましくは８％、更に好ましくは７．５％、更に好ましくは７％、更に好ましくは６．５％、更に好ましくは６％、特に好ましくは５．５％である。

【0037】

Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏは、ガラス原料から不可避的に混入する成分であり、その合量は０～０．５％であり、好ましくは０～０．１％、より好ましくは０～０．０９％、更に好ましくは０．００５～０．０８％、更に好ましくは０．００８～０．０６％、特に好ましくは０．０１～０．０５％である。Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの合量が多過ぎると、熱処理工程で成膜された半導体物質中にアルカリイオンが拡散する事態を招く虞がある。なお、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの個別含有量は、それぞれ好ましくは０～０．３％、より好ましくは０～０．１％、更に好ましくは０～０．０８％、更に好ましくは０～０．０７％、更に好ましくは０～０．０５％、特に好ましくは０．００１～０．０４％である。

【0038】

ＭｇＯは、アルカリ土類金属酸化物の中では、ヤング率を顕著に高める成分である。ＭｇＯの含有量が少な過ぎると、溶融性やヤング率が低下し易くなる。よって、ＭｇＯの下限量は、好ましくは０％、より好ましくは０．５％、更に好ましくは１％、更に好ましくは１．５％、更に好ましくは２％、更に好ましくは２．５％、更に好ましくは３％、特に好ましくは３．５％である。一方、ＭｇＯの含有量が多過ぎると、ムライト等の失透結晶が析出し易くなって、液相粘度が低下し易くなる。よって、ＭｇＯの上限量は、好ましくは１２％、より好ましくは１１．５％、更に好ましくは１１％、更に好ましくは１０．５％、更に好ましくは１０％、更に好ましくは９．８％、更に好ましくは９．５％、更に好ましくは９．３％、更に好ましくは９％、更に好ましくは８．８％、更に好ましくは８．５％、更に好ましくは８．３％、更に好ましくは８％、更に好ましくは７．８％、更に好ましくは７．５％、更に好ましくは７．３％、更に好ましくは７％、特に好ましくは６．８％である。

【0039】

ＣａＯは、歪点を低下させずに、高温粘性を下げて、溶融性を顕著に高める成分である。またヤング率を高める成分である。ＣａＯの含有量が少な過ぎると、溶融性が低下し易くなる。よって、ＣａＯの下限量は、好ましくは０％、より好ましくは０．５％、更に好ましくは１％、更に好ましくは１．５％、更に好ましくは２％、更に好ましくは２．５％、更に好ましくは３％、特に好ましくは３．５％である。一方、ＣａＯの含有量が多過ぎると、液相温度が高くなる。よって、ＣａＯの上限量は、好ましくは１２％、より好ましくは１１．５％、更に好ましくは１１％、更に好ましくは１０．５％、更に好ましくは１０％、更に好ましくは９．８％、更に好ましくは９．５％、更に好ましくは９．３％、更に好ましくは９％、更に好ましくは８．８％、更に好ましくは８．５％、更に好ましくは８．３％、更に好ましくは８％、更に好ましくは７．８％、更に好ましくは７．５％、更に好ましくは７．３％、更に好ましくは７％、特に好ましくは６．８％である。

【0040】

ＳｒＯは、耐失透性を高め、更に歪点を低下させずに、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分である。また液相粘度の低下を抑制する成分である。よって、ＳｒＯの下限量は、好ましくは０％、より好ましくは０．５％、更に好ましくは１％、更に好ましくは１．５％、更に好ましくは２％、更に好ましくは２．５％、更に好ましくは３％、特に好ましくは３．５％である。一方、ＳｒＯの含有量が多過ぎると、熱膨張係数と密度が増加し易くなる。よって、ＳｒＯの上限量は、好ましくは１２％、より好ましくは１１％、更に好ましくは１０％、更に好ましくは９％、更に好ましくは８％、更に好ましくは７％、更に好ましくは６％、更に好ましくは５．５％、更に好ましくは５．３％、更に好ましくは５％、更に好ましくは４．８％、更に好ましくは４．５％、更に好ましくは４．３％、特に好ましくは４％である。

【0041】

ＢａＯは、耐失透性を高める成分である。よって、ＢａＯの下限量は、好ましくは０％、より好ましくは０．５％、更に好ましくは１％、更に好ましくは１．５％、更に好ましくは２％、更に好ましくは２．５％、更に好ましくは３％、特に好ましくは３．５％である。一方、ＢａＯの含有量が多過ぎると、ヤング率が低下し易くなり、また密度が増加し易くなる。結果として、比ヤング率が上昇して、ガラス板が撓み易くなる。よって、ＢａＯの上限量は、好ましくは１２％、より好ましくは１１％、更に好ましくは１０％、更に好ましくは９％、更に好ましくは８％、更に好ましくは７％、更に好ましくは６％、更に好ましくは５．５％、更に好ましくは５．３％、更に好ましくは５％、更に好ましくは４．８％、更に好ましくは４．５％、更に好ましくは４．３％、特に好ましくは４％である。

【0042】

ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯは、密度と熱膨張係数を高める成分である。ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量が少な過ぎると、熱膨張係数が低下し易くなる。よって、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの下限量は、好ましくは１０％、より好ましくは１０．２％、更に好ましくは１０．５％、更に好ましくは１０．８％、更に好ましくは１１％、更に好ましくは１１．３％、更に好ましくは１１．５％、更に好ましくは１１．８％、特に好ましくは１２％である。一方、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量が多過ぎると、密度が増加し易くなる。よって、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの上限量は、好ましくは２５％、より好ましくは２４．５％、更に好ましくは２４％、更に好ましくは２３．５％、更に好ましくは２３％、更に好ましくは２２．５％、特に好ましくは２２％である。

【0043】

ＭоＯ_３は、紫外線（波長２００～３００ｎｍの光）を吸収する成分である。また、ＭｏＯ_３は、ガラス中の水分量を低減させる成分である。特に原料バッチを電気溶融加熱により溶融するとともに、ＭｏＯ_３を含ませることで、ガラス中の水分量をより低減することができる。ガラス中の水分量が減少すると、液相粘度及び歪点が上昇し、ガラスの耐失透性及び耐熱性を高めることができる。ＭｏＯ_３の下限量は、好ましくは０．１質量ｐｐｍ、より好ましくは０．４質量ｐｐｍ、更に好ましくは０．８質量ｐｐｍ、更に好ましくは１質量ｐｐｍ、更に好ましくは２質量ｐｐｍ、更に好ましくは３質量ｐｐｍ、更に好ましくは５質量ｐｐｍ、更に好ましくは７質量ｐｐｍ、更に好ましくは９質量ｐｐｍ、更に好ましくは１０質量ｐｐｍ、更に好ましくは１２質量ｐｐｍ、更に好ましくは１５質量ｐｐｍ、更に好ましくは１７質量ｐｐｍ、更に好ましくは１８質量ｐｐｍ、更に好ましくは１９質量ｐｐｍ、更に好ましくは２０質量ｐｐｍ、更に好ましくは２１質量ｐｐｍ、更に好ましくは２２質量ｐｐｍ、特に好ましくは２５質量ｐｐｍである。一方、ＭｏＯ_３の含有量が多過ぎると、紫外線の透過率を低下させ、ディスプレイ製造工程の中でも特にレーザー剥離工程の歩留まりが低下しやすくなる。よって、ＭｏＯ_３の上限量は、好ましくは１０００質量ｐｐｍ、より好ましくは９００質量ｐｐｍ、更に好ましくは８００質量ｐｐｍ、更に好ましくは７００質量ｐｐｍ、更に好ましくは６００質量ｐｐｍ、更に好ましくは５００質量ｐｐｍ、更に好ましくは４５０質量ｐｐｍ、更に好ましくは４３０質量ｐｐｍ、更に好ましくは４００質量ｐｐｍ、更に好ましくは３８０質量ｐｐｍ、更に好ましくは３５０質量ｐｐｍ、更に好ましくは３３０質量ｐｐｍ、更に好ましくは３００質量ｐｐｍ、更に好ましくは２８０質量ｐｐｍ、特に好ましくは２５０質量ｐｐｍである。

【0044】

各成分の好適な含有範囲を適宜組み合わせて、好適なガラス組成範囲とすることができるが、その中でも、本願発明の効果を最適化するために、ガラス組成として、ｍｏｌ％で、ＳｉＯ_２ ６５～７７％、Ａｌ_２Ｏ_３ １０～１７％、Ｂ_２Ｏ_３ ０～９％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０～０．５％、ＭｇＯ ０～１２％、ＣａＯ ０～１２％、ＳｒＯ ０～１０％、ＢａＯ ０～１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １０～２５％、ＭｏＯ_３ １～１０００質量ｐｐｍであることが特に好ましい。

【0045】

上記成分以外にも、例えば、任意成分として、以下の成分を添加してもよい。なお、上記成分以外の他の成分の含有量は、本発明の効果を的確に享受する観点から、合量で１０％以下、特に５％以下が好ましい。

【0046】

Ｐ_２Ｏ_５は、歪点を高める成分であると共に、アノーサイト等のアルカリ土類アルミノシリケート系の失透結晶の析出を顕著に抑制し得る成分である。但し、Ｐ_２Ｏ_５を多量に含有させると、ガラスが分相し易くなる。Ｐ_２Ｏ_５の含有量は、好ましくは０～２．５％、より好ましくは０～１．５％、更に好ましくは０～０．５％、更に好ましくは０～０．３％、特に好ましくは０～０．１％未満である。

【0047】

Ｆｅ_２Ｏ_３は、ガラス原料から不可避的に混入する成分であり、また電気抵抗率を低下させる成分である。Ｆｅ_２Ｏ_３の含有量は、好ましくは０～０．１ｍｏｌ％、０．０００１～０．０９ｍｏｌ％、特に０．００１～０．０８ｍｏｌ％である。Ｆｅ_２Ｏ_３の含有量が少な過ぎると、原料コストが高騰し易くなる。一方、Ｆｅ_２Ｏ_３の含有量が多過ぎると、溶融ガラスの電気抵抗率が上昇して、電気溶融を行い難くなる。

【0048】

ｍｏｌ％比Ｆｅ_２Ｏ_３／ＭｏＯ_３は、透過率と歪点に関する組成比である。小さいほど歪点が下がり易く、大きいほど可視光線から紫外線の透過率が低下しやすい。ｍｏｌ％比Ｆｅ_２Ｏ_３／ＭｏＯ_３は好ましくは０．００１～１．５、より好ましくは０．００５～１．４、更に好ましくは０．０１～１．３、更に好ましくは０．０１５～１．２５である。

【0049】

ＺｎＯは、ヤング率を高める成分である。しかし、ＺｎＯを多量に含有させると、ガラスが失透し易くなり、また歪点が低下し易くなる。ＺｎＯの含有量は好ましくは０～３％、より好ましくは０～２％、更に好ましくは０～１％、更に好ましくは０～０．８％、更に好ましくは０～０．５％、特に好ましくは０～０．５％未満である。

【0050】

ＴｉＯ_２は、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分であると共に、ソラリゼーションを抑制する成分であるが、ＴｉＯ_２を多量に含有させると、ガラスが着色して、透過率が低下し易くなる。ＴｉＯ_２の含有量は、好ましくは０～２．５％、より好ましくは０．０００５～１％、更に好ましくは０．００１～０．５％、特に好ましくは０．００５～０．１％である。

【0051】

ｍｏｌ％比ＴｉＯ_２／ＭｏＯ_３は、透過率と歪点に関する組成比である。小さいほど歪点が下がり易く、大きいほど可視光線から紫外線の透過率が低下しやすい。ｍｏｌ％比Ｆｅ_２Ｏ_３／ＭｏＯ_３は好ましくは０．００１～１．５、より好ましくは０．００５～１．４、更に好ましくは０．０１～１．３、特に好ましくは０．０１５～１．２５である。

【0052】

ＺｒＯ_２は、ヤング率を高める成分である。しかし、ＺｒＯ_２を多量に含有させると、ガラスが失透し易くなる。ＺｒＯ_２の含有量は好ましくは０～２．５％、より好ましくは０．０００５～１％、更に好ましくは０．００１～０．５％、特に好ましくは０．００５～０．１％である。

【0053】

Ｙ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｌａ_２Ｏ_３には、歪点、ヤング率等を高める働きがある。これらの成分の合量及び個別含有量は、好ましくは０～５％、より好ましくは０～１％、更に好ましくは０～０．５％、特に好ましくは０超～０．５％未満である。Ｙ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｌａ_２Ｏ_３の合量及び個別含有量が多過ぎると、密度や原料コストが増加し易くなる。

【0054】

ＳｎＯ_２は、高温域で良好な清澄作用を有する成分であると共に、歪点を高める成分であり、また高温粘性を低下させる成分である。ＳｎＯ_２の含有量は０～１％、０．００１～１％、０．０１～０．５％、特に０．０５～０．３％が好ましい。ＳｎＯ_２の含有量が多過ぎると、ＳｎＯ_２の失透結晶が析出し易くなる。なお、ＳｎＯ_２の含有量が０．００１％より少ないと、上記効果を享受し難くなる。

【0055】

上記の通り、ＳｎＯ_２は、清澄剤として好適であるが、ガラス特性が損なわれない限り、清澄剤として、ＳｎＯ_２に代えて、或いはＳｎＯ_２と共に、Ｆ、ＳＯ_３、Ｃ、或いはＡｌ、Ｓｉ等の金属粉末を各々５％まで（好ましくは１％まで、特に０．５％まで）添加することができる。また、清澄剤として、ＣｅＯ_２、Ｆ等も各々５％まで（好ましくは１％まで、特に０．５％まで）添加することができる。

【0056】

清澄剤として、Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３も有効である。しかし、Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３は、環境負荷を増大させる成分である。またＡｓ_２Ｏ_３は、耐ソラリゼーション性が低下させる成分である。よって、本発明の無アルカリガラス板は、これらの成分を実質的に含有しないことが好ましい。

【0057】

Ｃｌは、ガラスバッチの初期溶融を促進させる成分である。また、Ｃｌを添加すれば、清澄剤の作用を促進することができる。これらの結果として、溶融コストを低廉化しつつ、ガラス製造窯の長寿命化を図ることができる。しかし、Ｃｌの含有量が多過ぎると、歪点が低下し易くなる。よって、Ｃｌの含有量は、好ましくは０～３％、より好ましくは０．０００５～１％、特に好ましくは０．００１～０．５％である。なお、Ｃｌの導入原料として、塩化ストロンチウム等のアルカリ土類金属酸化物の塩化物、或いは塩化アルミニウム等の原料を使用することができる。

【0058】

本発明の無アルカリガラス板は、以下の特性を有することが好ましい。

【0059】

３０～３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数は、好ましくは３０×１０^－７～５０×１０^－７／℃、より好ましくは３２×１０^－７～４８×１０^－７／℃、更に好ましくは３３×１０^－７～４５×１０^－７／℃、更に好ましくは３４×１０^－７～４４×１０^－７／℃、特に好ましくは３５×１０^－７～４３×１０^－７／℃である。このようにすれば、ＴＦＴに使用されるＳｉの熱膨張係数に整合し易くなる。

【0060】

ヤング率は、好ましくは７０ＧＰａ以上、より好ましくは７１ＧＰａ以上、更に好ましくは７１．５ＧＰａ以上、更に好ましくは７２ＧＰａ以上、更に好ましくは７２．５ＧＰａ以上、更に好ましくは７３ＧＰａ以上、更に好ましくは７３．５ＧＰａ以上、更に好ましくは７４ＧＰａ以上、更に好ましくは７４．５ＧＰａ以上、特に好ましくは７５ＧＰａ以上である。ヤング率が低過ぎると、ガラス板の撓みに起因した不具合が発生し易くなる。一方、その上限は例えば１２０ＧＰａ以下である。

【0061】

比ヤング率は、好ましくは２９ＧＰａ／ｇ・ｃｍ^―３以上、より好ましくは２９．５ＧＰａ／ｇ・ｃｍ^―３以上、更に好ましくは３０ＧＰａ／ｇ・ｃｍ^―３以上、更に好ましくは３０．５ＧＰａ／ｇ・ｃｍ^―３以上、更に好ましくは３１ＧＰａ／ｇ・ｃｍ^―３以上、更に好ましくは３１．３ＧＰａ／ｇ・ｃｍ^―３以上、更に好ましくは３１．５ＧＰａ／ｇ・ｃｍ^―３以上、更に好ましくは３１．８ＧＰａ／ｇ・ｃｍ^―３以上、更に好ましくは３２ＧＰａ／ｇ・ｃｍ^―３以上、更に好ましくは３２．３ＧＰａ／ｇ・ｃｍ^―３以上、特に好ましくは３２．５ＧＰａ／ｇ・ｃｍ^―３以上である。比ヤング率が低過ぎると、ガラス板の撓みに起因した不具合が発生し易くなる。一方、その上限は例えば３７ＧＰａ／ｇ・ｃｍ^―３以下である。

【0062】

歪点は、好ましくは６５０℃以上、より好ましくは６６０℃以上、更に好ましくは６７０℃以上、更に好ましくは６８０℃以上、更に好ましくは６８５℃以上、更に好ましくは６９０℃以上、特に好ましくは７００℃以上である。このようにすれば、ＬＴＰＳプロセスにおいて、ガラス板の熱収縮を抑制することができる。一方、その上限は例えば８２０℃以下である。

【0063】

徐冷点は、好ましくは６８０℃以上、より好ましくは６９０℃以上、更に好ましくは７００℃以上、更に好ましくは７１０℃以上、更に好ましくは７２０℃以上、更に好ましくは７３０℃以上、更に好ましくは７３５℃以上、更に好ましくは７４０℃以上、特に好ましくは７５０℃以上である。このようにすれば、ＬＴＰＳプロセスにおいて、ガラス板の熱収縮を抑制することができる。一方、その上限は例えば９００℃以下である。

【0064】

液相温度は、好ましくは１４００℃以下、より好ましくは１３８０℃以下、更に好ましくは１３５０℃以下、更に好ましくは１３００℃以下、更に好ましくは１２９０℃以下、更に好ましくは１２８５℃以下、更に好ましくは１２８０℃以下、更に好ましくは１２７５℃以下、更に好ましくは１２７０℃以下である。また、液相温度は、好ましくは１１６０℃以上、より好ましくは１１７０℃以上である。液相温度の特に好ましい範囲は、１２６０～１１８０℃である。このようにすれば、ガラス製造時に失透結晶が発生して、生産性低下する事態を防止し易くなる。更にオーバーフローダウンドロー法で成形し易くなるため、ガラス板の表面品位を高め易くなると共に、ガラス板の製造コストを低廉化することができる。なお、液相温度は、耐失透性の指標であり、液相温度が低い程、耐失透性に優れる。

【0065】

液相粘度は、好ましくは１０^３．３ｄＰａ・ｓ以上、より好ましくは１０^３．４ｄＰａ・ｓ以上、更に好ましくは１０^３．５ｄＰａ・ｓ以上、更に好ましくは１０^３．６ｄＰａ・ｓ以上、更に好ましくは１０^３．７ｄＰａ・ｓ以上、更に好ましくは１０^３．８ｄＰａ・ｓ以上、更に好ましくは１０^３．９ｄＰａ・ｓ以上、更に好ましくは１０^４．０ｄＰａ・ｓ以上、更に好ましくは１０^４．１ｄＰａ・ｓ以上、更に好ましくは１０^４．２ｄＰａ・ｓ以上、更に好ましくは１０^４．３ｄＰａ・ｓ以上である。また液相粘度は、好ましくは１０^７．４ｄＰａ・ｓ以下、より好ましくは１０^７．２ｄＰａ・ｓ以下である。液相粘度の特に好ましい範囲は１０^４．５～１０^７．０ｄＰａ・ｓである。このようにすれば、成形時に失透が生じ難くなるため、オーバーフローダウンドロー法で成形し易くなり、結果として、ガラス板の表面品位を高めることが可能になり、またガラス板の製造コストを低廉化することができる。なお、液相粘度は、耐失透性と成形性の指標であり、液相粘度が高い程、耐失透性と成形性が向上する。

【0066】

高温粘度１０^２．５ｄＰａ・ｓにおける温度は、好ましくは１７５０℃以下、より好ましくは１７３０℃以下、更に好ましくは１７１０℃以下、特に好ましくは１６００℃以下である。高温粘度１０^２．５ｄＰａ・ｓにおける温度が高過ぎると、ガラスバッチを溶解し難くなって、ガラス板の製造コストが高騰する。一方、その下限は例えば１６８０℃以上である。なお、高温粘度１０^２．５ｄＰａ・ｓにおける温度は、溶融温度に相当し、この温度が低い程、溶融性が向上する。

【0067】

β－ＯＨ値は、ガラス中の水分量を示す指標であり、β－ＯＨ値を低下させると、歪点を高めることができる。また、ガラス組成が同じ場合でも、β―ＯＨ値が小さい方が、歪点以下温度での熱収縮率が小さくなる。β－ＯＨ値は、好ましくは０．３５／ｍｍ以下、より好ましくは０．３０／ｍｍ以下、更に好ましくは０．２８／ｍｍ以下、更に好ましくは０．２５／ｍｍ以下、更に好ましくは０．２２／ｍｍ以下、更に好ましくは０．２０／ｍｍ以下、更に好ましくは０．１９／ｍｍ以下、更に好ましくは０．１８／ｍｍ以下、更に好ましくは０．１７／ｍｍ以下、更に好ましくは０．１６／ｍｍ以下、特に好ましくは０．１５／ｍｍ以下である。なお、β－ＯＨ値が小さ過ぎると、溶融性が低下し易くなる。よって、β－ＯＨ値は、好ましくは０．０１／ｍｍ以上、より好ましくは０．０３／ｍｍ以上、更に好ましくは０．０５／ｍｍ以上、特に好ましくは０．０７／ｍｍ以上である。

【0068】

β－ＯＨ値を低下させる方法として、以下の方法が挙げられる。（１）含水量の低い原料を選択する。（２）ガラス中にβ－ＯＨ値を低下させる成分（ＭｏＯ_３、Ｃｌ、ＳＯ_３等）を添加する。（３）炉内雰囲気中の水分量を低下させる。（４）溶融ガラス中でＮ_２バブリングを行う。（５）小型溶融炉を採用する。（６）溶融ガラスの流量を多くする。（７）電気溶融法を採用する。

【0069】

ここで、「β－ＯＨ値」は、ＦＴ－ＩＲを用いてガラスの透過率を測定し、下記の数式１を用いて求めた値を指す。

【0070】

[数１]
β－ＯＨ値＝（１／Ｘ）ｌｏｇ（Ｔ_１／Ｔ_２）
Ｘ：板厚（ｍｍ）
Ｔ_１：参照波長３８４６ｃｍ^－１における透過率（％）
Ｔ_２：水酸基吸収波長３６００ｃｍ^－１付近における最小透過率（％）

【0071】

本発明の無アルカリガラス板は、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。オーバーフローダウンドロー法は、耐熱性の樋状構造物の両側から溶融ガラスを溢れさせて、溢れた溶融ガラスを樋状構造物の下端で合流させながら、下方に延伸成形してガラス板を製造する方法である。オーバーフローダウンドロー法では、ガラス板の表面となるべき面は樋状耐火物に接触せず、自由表面の状態で成形される。このため、未研磨で表面品位が良好なガラス板を安価に製造することができ、薄型化も容易である。

【0072】

本発明の無アルカリガラス板は、フロート法で成形されてなることも好ましい。大型のガラス板を安価に製造することができる。

【0073】

本発明の無アルカリガラス板は、情報記録媒体に用いる場合、表面が研磨面であることが好ましい。ガラス表面を研磨すると、全体板厚偏差ＴＴＶを低減することができる。その結果、磁性膜が適正に形成し得るため、磁気記録媒体の基板に好適になる。一方、有機ＥＬデバイスに用いる場合、表面はオーバーフローダウンドロー法で成形されてなる火造り面（未研磨面）であることが好ましい。

【0074】

本発明の無アルカリガラス板において、板厚は、特に限定されるものではないが、有機ＥＬデバイスに用いる場合、０．７ｍｍ未満、０．６ｍｍ以下、０．６ｍｍ未満、特に０．５ｍｍ以下が好ましい。板厚が薄くなる程、有機ＥＬデバイスの軽量化が可能となる。一方、その下限は例えば０．０５ｍｍ以上である。板厚は、ガラス製造時の流量や板引き速度等で調整可能である。一方、磁気記録媒体に用いる場合、板厚は、好ましくは１．５ｍｍ以下、１．２ｍｍ以下、０．２～１．０ｍｍ、特に０．３～０．９ｍｍである。板厚が厚過ぎると、所望の板厚までエッチングしなければならず、加工コストが高騰する虞がある。

【0075】

本発明の無アルカリガラス板において、表面の平均表面粗さＲａは、好ましくは１．０ｎｍ以下、０．５ｎｍ以下、特に０．２ｎｍ以下である。表面の平均表面粗さＲａが大きいと、ディスプレイの製造工程において、電極等の正確なパターニングを行うことが困難となり、その結果、回路電極が断線、ショートする確率が上昇し、ディスプレイ等の信頼性を担保し難くなる。ここで、「表面の平均表面粗さＲａ」は、端面を除く主表面（両表面）の平均表面粗さＲａを指し、例えば、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定することができる。

【0076】

また、本発明の無アルカリガラス板を有機ＥＬテレビ用ディスプレイパネルの基板、有機ＥＬディスプレイパネルの製造用キャリアとして用いる場合は、形状は矩形状であることが好ましい。また、本発明の無アルカリガラス板を、情報記録媒体、特にエネルギーアシスト磁気記録媒体用の基板に用いることが好ましい。磁性層の規則化の程度（規則度）を高めて高Ｋｕ化を図るため、基板への磁性層の成膜時、或いは成膜前後に、ガラス基板を含む基材を８００℃程度の高温で熱処理することに加え、磁気記録媒体の高回転に伴う基板への衝撃にも耐えうる。本発明の無アルカリガラス板は、切断等の加工を行うことにより、図１に示すような、ディスク基板１に加工される。このように磁気記録媒体用ガラス基板に用いる場合、ディスク基板１は、ディスク形状を有することが好ましく、中心部に円形の開口部Ｃが形成されていることが更に好ましい。

【実施例0077】

以下、本発明を実施例に基づいて説明する。なお、以下の実施例は単なる例示である。本発明は、以下の実施例に何ら限定されない。

【0078】

表１～２２は、本発明の実施例（試料Ｎｏ．１～３３０）を表している。

【0079】

【表1】

【0080】

【表2】

【0081】

【表3】

【0082】

【表4】

【0083】

【表5】

【0084】

【表6】

【0085】

【表7】

【0086】

【表8】

【0087】

【表9】

【0088】

【表10】

【0089】

【表11】

【0090】

【表12】

【0091】

【表13】

【0092】

【表14】

【0093】

【表15】

【0094】

【表16】

【0095】

【表17】

【0096】

【表18】

【0097】

【表19】

【0098】

【表20】

【0099】

【表21】

【0100】

【表22】

【0101】

まず表中のガラス組成になるように、ガラス原料を調合したガラスバッチを白金坩堝に入れ、１５５０～１６８０℃で２４時間溶融した。ガラスバッチの溶解に際しては、白金スターラーを用いて攪拌し、均質化を行った。次いで、溶融ガラスをカーボン板上に流し出し、板状に成形した後、徐冷点付近の温度で３０分間徐冷した。得られた各試料について、３０～３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数ＣＴＥ、密度ρ、ヤング率Ｅ、比ヤング率Ｅ／ρ、歪点Ｐｓ、徐冷点Ｔａ、軟化点Ｔｓ、高温粘度１０^４ｄＰａ・ｓにおける温度、高温粘度１０^３ｄＰａ・ｓにおける温度、高温粘度１０^２．５ｄＰａ・ｓにおける温度、液相温度ＴＬ、及び液相温度ＴＬにおける粘度ｌｏｇ_１０ηＴＬを評価した。

【0102】

３０～３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数ＣＴＥは、ディラトメーターで測定した値である。

【0103】

密度ρは、周知のアルキメデス法によって測定した値である。

【0104】

ヤング率Ｅは、周知の共振法で測定した値を指す。

【0105】

比ヤング率Ｅ／ρは、ヤング率を密度で除した値である。

【0106】

歪点Ｐｓ、徐冷点Ｔａ、軟化点Ｔｓは、ＡＳＴＭ Ｃ３３６及びＣ３３８の方法に基づいて測定した値である。

【0107】

高温粘度１０^４ｄＰａ・ｓ、１０^３ｄＰａ・ｓ、１０^２．５ｄＰａ・ｓにおける温度は、白金球引き上げ法で測定した値である。

【0108】

液相温度ＴＬは、標準篩３０メッシュ（５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れて、温度勾配炉中に２４時間保持した後、結晶が析出する温度である。

【0109】

液相粘度ｌｏｇ_１０ηＴＬは、液相温度ＴＬにおけるガラスの粘度を白金球引き上げ法で測定した値である。

【0110】

３２０ｎｍにおける透過率Ｔ％（３２０ｎｍ）は、板厚０．５ｍｍのガラスを作製し、島津製作所製ＵＶ３１００で測定した値である。

【0111】

表から明らかなように、試料Ｎｏ．１～３３０は、ガラス組成が所定範囲内に規制されているため、ヤング率が７２ＧＰａ以上、歪点が６５１℃以上、液相温度が１３８８℃以下、液相粘度が１０^３．３ｄＰａ・ｓ以上である。よって、試料Ｎｏ．１～３３０は、生産性に優れると共に、歪点とヤング率が十分に高いため、有機ＥＬデバイスの基板に好適である。

【産業上の利用可能性】

【0112】

本発明の無アルカリガラス板は、有機ＥＬデバイス、特に有機ＥＬテレビ用ディスプレイパネルの基板、有機ＥＬディスプレイパネルの製造用キャリアとして好適であり、それ以外にも、液晶ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ基板電荷結合素子（ＣＣＤ）、等倍近接型固体撮像素子（ＣＩＳ）等のイメージセンサー用のカバーガラス、太陽電池用の基板及びカバーガラス、有機ＥＬ照明用基板等にも好適である。

【0113】

また、本発明の無アルカリガラス板は、歪点とヤング率が十分に高いため、磁気記録媒体用ガラス基板としても好適である。歪点が高いと、熱アシスト等の高温での熱処理やレーザー照射を実行しても、ガラス板の変形が生じ難くなる。結果として、高Ｋｕ化を図る際に、より高い熱処理温度を採用し得るため、高記録密度の磁気記録装置を作製し易くなる。また、ヤング率が高いと、高速回転時に、ガラス基板の撓みやバタツキ（フラッタリング）が発生し難くなるため、情報記録媒体と磁気ヘッドの衝突を防止することができる。

【符号の説明】

【0114】

１ディスク基板（磁気記録媒体用ガラス基板）

【図1】