特開 2024-42910 ガス溶存水溶液製造システム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024042910

(43)【公開日】2024-03-29

(54)【発明の名称】ガス溶存水溶液製造システム

(51)【国際特許分類】

   B01F 23/2373 20220101AFI20240322BHJP

   B01F 21/00 20220101ALI20240322BHJP

   B01F 23/231 20220101ALI20240322BHJP

   B01F 25/10 20220101ALI20240322BHJP

   B01F 25/40 20220101ALI20240322BHJP

   C02F 1/32 20230101ALI20240322BHJP

   C02F 1/68 20230101ALI20240322BHJP

   B01F 35/90 20220101ALI20240322BHJP

   B01F 27/80 20220101ALI20240322BHJP

   C25B 1/04 20210101ALI20240322BHJP

   C25B 9/00 20210101ALI20240322BHJP

   C25B 11/054 20210101ALI20240322BHJP

   C25B 11/065 20210101ALI20240322BHJP

   C25B 11/081 20210101ALI20240322BHJP

   B01F 101/44 20220101ALN20240322BHJP

【ＦＩ】

B01F23/2373

B01F21/00

B01F23/231

B01F25/10

B01F25/40

C02F1/32

C02F1/68 510A

C02F1/68 520B

C02F1/68 520G

C02F1/68 540B

C02F1/68 540C

C02F1/68 540Z

B01F35/90

B01F27/80

C25B1/04

C25B9/00 A

C25B11/054

C25B11/065

C25B11/081

B01F101:44

【審査請求】未請求

【請求項の数】13

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022147831

(22)【出願日】2022-09-16

(71)【出願人】

【識別番号】522369522

【氏名又は名称】株式会社アクア・ゼスト

(74)【代理人】

【識別番号】100108442

【弁理士】

【氏名又は名称】小林 義孝

(72)【発明者】

【氏名】亀井 一郎

【テーマコード（参考）】

4D037

4G035

4G037

4G078

4K011

4K021

【Ｆターム（参考）】

4D037AA01

4D037AB03

4D037BA18

4D037BB01

4D037BB02

4D037CA02

4D037CA15

4G035AA01

4G035AB04

4G035AB06

4G035AC01

4G035AC44

4G035AE15

4G037CA02

4G078AA30

4G078AB20

4G078BA05

4G078CA01

4G078EA20

4K011AA23

4K011AA30

4K011AA31

4K011BA07

4K011DA01

4K021AA01

4K021BA02

4K021BB02

4K021CA05

4K021CA09

4K021CA11

4K021CA12

4K021DB18

4K021DB28

4K021DB43

4K021DB53

4K021DC01

(57)【要約】

【課題】細胞のミトコンドリアの電子伝達系の活性を誘導することが可能なガス組成物が溶存したガス溶存水溶液を製造することができるガス溶存水溶液製造システムを提供する。
【解決手段】ガス溶存水溶液製造システム１０は、純水を電気分解して水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とから形成されたガス組成物を生成する電気分解装置１２と、純水を所定温度に冷却するチラー１３と、チラー１３によって所定温度に冷却された純水に電気分解装置１２によって生成されたガス組成物をウルトラファインバブルの状態で溶存させるウルトラファインバブル生成装置を備えてウルトラファインバブルのガス組成物が溶存したガス溶存水溶液を製造するガス溶存水溶液製造槽１５とを有する。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とから形成されて細胞のミトコンドリアを活性化させることが可能なガス組成物が溶存したガス溶存水溶液を製造するガス溶存水溶液製造システムにおいて、
前記ガス溶存水溶液製造システムが、水を電気分解して前記水素イオン（Ｈ₊）と前記酸素分子（Ｏ_２）とから形成された前記ガス組成物を生成する電気分解装置と、純水を所定温度に冷却するチラーと、前記チラーによって所定温度に冷却された純水に前記電気分解装置によって生成された前記ガス組成物をウルトラファインバブルの状態で溶存させるウルトラファインバブル生成装置を備えて前記ウルトラファインバブルのガス組成物が溶存したガス溶存水溶液を製造するガス溶存水溶液製造槽とを有することを特徴とするガス溶存水溶液製造システム。

【請求項2】

前記ガス溶存水溶液製造システムが、殺菌灯を有して前記ガス溶存水溶液製造槽によって製造された前記ガス溶存水溶液が流入する殺菌槽を含み、前記殺菌槽では、そこに流入した前記ガス溶存水溶液が前記殺菌灯によって殺菌される請求項1に記載のガス溶存水溶液製造システム。

【請求項3】

前記ガス溶存水溶液製造システムが、前記ガス溶存水溶液を前記ガス溶存水溶液製造槽から前記殺菌槽に流入させる第１水溶液管路と、前記ガス溶存水溶液を前記殺菌槽から前記ガス溶存水溶液製造槽に還流させるバイパス管路と、前記第１水溶液管路又は前記バイパス管路に設置された第１給水ポンプとを含み、前記ガス溶存水溶液製造システムでは、前記給水ポンプによって前記ガス溶存水溶液を前記殺菌槽から前記ガス溶存水溶液製造槽に還流させるとともに該ガス溶存水溶液製造槽から該殺菌槽に流入させることで、前記ガス溶存水溶液を前記殺菌槽と前記ガス溶存水溶液製造槽との間で複数回循環させ、前記複数回循環するガス溶存水溶液に前記ウルトラファインバブル生成装置が前記ガス組成物を溶存させる請求項２に記載のガス溶存水溶液製造システム。

【請求項4】

前記チラーが、前記バイパス管路から前記ガス溶存水溶液製造槽に還流したガス溶存水溶液を所定温度に冷却し、前記ウルトラファインバブル生成装置が、前記チラーによって所定温度に冷却されたガス溶存水溶液に前記ガス組成物を溶存させる請求項３に記載のガス溶存水溶液製造システム。

【請求項5】

前記ガス溶存水溶液製造槽及び前記殺菌槽を循環する前記ガス溶存水溶液が、前記第１給水ポンプによって所定の水圧に加圧され、前記ガス溶存水溶液製造槽及び前記殺菌槽を循環する前記ガス溶存水溶液の水圧が、０．５～０．７ＭＰａの範囲にある請求項４に記載のガス溶存水溶液製造システム。

【請求項6】

前記ガス溶存水溶液製造システムが、前記殺菌槽の下流側に設置された攪拌混入槽と、前記ガス溶存水溶液を前記殺菌槽から前記攪拌混入槽に流入させる第２水溶液管路と、前記第２水溶液管路に設置された第２給水ポンプと、前記ガス溶存水溶液を所定温度に冷却するチラーとを含み、前記攪拌混入槽では、前記殺菌槽によって殺菌された前記ガス溶存水溶液を前記チラーによって所定温度に冷却するとともに前記所定温度に冷却された該ガス溶存水溶液を攪拌しつつ該ガス溶存水溶液に所定の栄養素を溶解させる請求項２ないし請求項５いずれかに記載のガス溶存水溶液製造システム。

【請求項7】

前記攪拌混入槽に流入する前記ガス溶存水溶液が、前記第１給水ポンプによって所定の水圧に加圧され、前記攪拌混入槽に流入した前記ガス溶存水溶液の水圧が、０．５～０．７ＭＰａの範囲にある請求項６に記載のガス溶存水溶液製造システム。

【請求項8】

前記電気分解装置が、所定の電極に直流電流のプラスマイナスを交互に印加するパルスジェネレーターによって前記水を電気分解し、前記電極が、白金粉末を担持したナノカーボンから作られた薄板状電極である請求項１ないし請求項７いずれかに記載のガス溶存水溶液製造システム。

【請求項9】

前記ウルトラファインバブル生成装置が、スタティックミキサー式、旋回液流式、加圧溶解式のうちのいずれかである請求項１ないし請求項７いずれかに記載のガス溶存水溶液製造システム。

【請求項10】

前記ガス溶存水溶液製造槽では、前記純水に微量の炭酸ガスを溶存させた後、前記微量の炭酸ガスが溶存する純水又はガス溶存水溶液に前記ウルトラファインバブル生成装置が前記ガス組成物を溶存させる請求項３ないし請求項９いずれかに記載のガス溶存水溶液製造システム。

【請求項11】

前記ガス組成物における前記水素イオン（Ｈ₊）の濃度が、０．５～０．８０ｐｐｍの範囲にあり、前記ガス組成物における前記酸素分子（Ｏ_２）の濃度が、１２．５～１５．５ｐｐｍの範囲にあり、前記ガス組成物では、前記水素イオン（Ｈ₊）と前記酸素分子（Ｏ_２）とが非結合の分離した状態にある請求項１ないし請求項１０いずれかに記載のガス溶存水溶液製造システム。

【請求項12】

前記ガス組成物の粒径が、１００ｎｍ以下であり、前記ガス溶存水溶液では、該ガス溶存水溶液１ｃｃの中に５～１０臆個の前記ガス組成物のウルトラファインバブルが溶存している請求項１ないし請求項１１いずれかに記載のガス溶存水溶液製造システム。

【請求項13】

前記ガス溶存水溶液では、前記ウルトラファインバブルの表面に所定の電荷が帯電し、該ウルトラファインバブルの表面に前記水素イオン（Ｈ₊）と前記酸素分子（Ｏ_２）とのうちの少なくとも一方が電気的に結合している請求項１ないし請求項１２いずれかに記載のガス溶存水溶液製造システム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ガス溶存水溶液を製造するガス溶存水溶液製造システムに関する。

【背景技術】

【0002】

原水を貯留するための容器と、多孔の上側電極と多孔の下側電極との間で固体高分子電解質膜を挟持したガス発生部と、ガス発生部の上側電極及び下側電極のそれぞれに印加される直流電圧を制御する電源制御部と、上側電極及び下側電極のそれぞれと電源制御部とを連結する一対の導電部材とを備え、ガス発生部の高位部が水平方向に対して高位に位置するように、ガス発生部が水平方向に対して傾斜配置され、導電部材に連結されたガス発生部が、原水の貯留された容器の底部に設置されて、主生成ガスが上側電極の側で発生するとともに副生成ガスが下側電極の側で発生するガス溶存水生成装置が開示されている（特許文献１参照）。

【0003】

ガス溶存水生成装置は、上側電極側では多数の主生成ガスが微小な気泡の形態で上側電極と固体高分子電解質膜との界面で発生し、下側電極側では多数の副生成ガスが微小な気泡の形態で下側電極と固体高分子電解質膜との界面で発生する。上側電極側では、上方への遮蔽物が無いので、主生成ガスの微小な気泡が原水中を浮上する。その際、主生成ガスの微小な気泡では、原水に対するガスの単位体積当たりの気／液接触面積が大きく、浮上速度が遅いために原水との接触が長時間確保されるので、主生成ガスが高濃度で原水に溶存する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１６－０００３７６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

前記特許文献1に開示のガス溶存水生成装置は、高濃度の主生成ガス溶存水を効率的に生成することができる。しかし、このガス溶存水生成装置は、細胞のミトコンドリアを活性化させることが可能なガス組成物が溶存したガス溶存水溶液を製造することはできない。

【0006】

本発明の目的は、細胞のミトコンドリアの電子伝達系の活性を誘導することが可能なガス組成物が溶存したガス溶存水溶液を製造することができるガス溶存水溶液製造システムを提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0007】

前記課題を解決するための本発明の前提は、水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とから形成されて細胞のミトコンドリアを活性化させることが可能なガス組成物が溶存したガス溶存水溶液を製造するガス溶存水溶液製造システムである。

【0008】

前記前提における本発明の特徴は、ガス溶存水溶液製造システムが、水を電気分解して前記水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とから形成されたガス組成物を生成する電気分解装置と、純水を所定温度に冷却するチラーと、チラーによって所定温度に冷却された純水に電気分解装置によって生成されたガス組成物をウルトラファインバブルの状態で溶存させるウルトラファインバブル生成装置を備えてウルトラファインバブルのガス組成物が溶存したガス溶存水溶液を製造するガス溶存水溶液製造槽とを有することにある。

【0009】

本発明の一例としては、ガス溶存水溶液製造システムが、殺菌灯を有してガス溶存水溶液製造槽によって製造されたガス溶存水溶液が流入する殺菌槽を含み、殺菌槽では、そこに流入したガス溶存水溶液が殺菌灯によって殺菌される。

【0010】

本発明の他の一例としては、ガス溶存水溶液製造システムが、ガス溶存水溶液をガス溶存水溶液製造槽から殺菌槽に流入させる第１水溶液管路と、ガス溶存水溶液を殺菌槽からガス溶存水溶液製造槽に還流させるバイパス管路と、第１水溶液管路又はバイパス管路に設置された第１給水ポンプとを含み、ガス溶存水溶液製造システムでは、給水ポンプによってガス溶存水溶液を殺菌槽からガス溶存水溶液製造槽に還流させるとともにガス溶存水溶液製造槽から殺菌槽に流入させることで、ガス溶存水溶液を殺菌槽とガス溶存水溶液製造槽との間で複数回循環させ、複数回循環するガス溶存水溶液にウルトラファインバブル生成装置がガス組成物を溶存させる。

【0011】

本発明の他の一例としては、チラーが、バイパス管路からガス溶存水溶液製造槽に還流したガス溶存水溶液を所定温度に冷却し、ウルトラファインバブル生成装置が、チラーによって所定温度に冷却されたガス溶存水溶液にガス組成物を溶存させる。

【0012】

本発明の他の一例としては、ガス溶存水溶液製造槽及び殺菌槽を循環するガス溶存水溶液が、第１給水ポンプによって所定の水圧に加圧され、ガス溶存水溶液製造槽及び殺菌槽を循環するガス溶存水溶液の水圧が、０．５～０．７ＭＰａの範囲にある。

【0013】

本発明の他の一例としては、ガス溶存水溶液製造システムが、殺菌槽の下流側に設置された攪拌混入槽と、ガス溶存水溶液を殺菌槽から攪拌混入槽に流入させる第２水溶液管路と、第２水溶液管路に設置された第２給水ポンプと、ガス溶存水溶液を所定温度に冷却するチラーとを含み、攪拌混入槽では、殺菌槽によって殺菌されたガス溶存水溶液をチラーによって所定温度に冷却するとともに所定温度に冷却されたガス溶存水溶液を攪拌しつつガス溶存水溶液に所定の栄養素を溶解させる。

【0014】

本発明の他の一例としては、攪拌混入槽に流入するガス溶存水溶液が、第１給水ポンプによって所定の水圧に加圧され、攪拌混入槽に流入したガス溶存水溶液の水圧が、０．５～０．７ＭＰａの範囲にある。

【0015】

本発明の他の一例としては、電気分解装置が、所定の電極に直流電流のプラスマイナスを交互に印加するパルスジェネレーターによって水を電気分解し、電極が、白金粉末を担持したナノカーボンから作られた薄板状電極である。

【0016】

本発明の他の一例としては、ウルトラファインバブル生成装置が、スタティックミキサー式、旋回液流式、加圧溶解式のうちのいずれかである。

【0017】

本発明の他の一例として、ガス溶存水溶液製造槽では、純水に微量の炭酸ガスを溶存させた後、微量の炭酸ガスが溶存する純水又はガス溶存水溶液にウルトラファインバブル生成装置がガス組成物を溶存させる。

【0018】

本発明の他の一例としては、ガス組成物における水素イオン（Ｈ₊）の濃度が、０．５～０．８０ｐｐｍの範囲にあり、ガス組成物における酸素分子（Ｏ_２）の濃度が、１２．５～１５．５ｐｐｍの範囲にあり、ガス組成物では、水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とが非結合の分離した状態にある。

【0019】

本発明の他の一例としては、ガス組成物の粒径が、１００ｎｍ以下であり、ガス溶存水溶液では、ガス溶存水溶液１ｃｃの中に５～１０臆個のガス組成物のウルトラファインバブルが溶存している。

【0020】

本発明の他の一例として、ガス溶存水溶液では、ウルトラファインバブルの表面に所定の電荷が帯電し、ウルトラファインバブルの表面に水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とのうちの少なくとも一方が電気的に結合している。

【発明の効果】

【0021】

本発明に係るガス溶存水溶液製造システムによれば、それが水を電気分解して水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とから形成されたガス組成物を生成する電気分解装置と、純水を所定温度に冷却するチラーと、チラーによって所定温度に冷却された純水に電気分解装置によって生成されたガス組成物をウルトラファインバブルの状態で溶存させるウルトラファインバブル生成装置を備えてウルトラファインバブルのガス組成物が溶存したガス溶存水溶液を製造するガス溶存水溶液製造槽とから形成され、電気分解装置によって生成された水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）をウルトラファインバブル生成装置が純水に溶存させるから、細胞のミトコンドリアの電子伝達系の活性を誘導することが可能なガス組成物が溶存したガス溶存水溶液を製造することができる。ガス溶存水溶液製造システムは、ウルトラファインバブルの状態でガス溶存水溶液に溶存する水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とが細胞のミトコンドリアの外膜から内膜に進入し、水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）がミトコンドリアの電子伝達系の活性を誘導しつつＡＴＰの産生を誘導するから、ミトコンドリアを確実に活性化させることが可能なガス溶存水溶液を製造することができる。ガス溶存水溶液製造システムは、純水がチラーによって所定温度（０．５～１℃）に冷却されるから、純水を所定の低温に冷却することで純水に水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）を容易に溶存させることができる。

【0022】

殺菌灯を有してガス溶存水溶液製造槽によって製造されたガス溶存水溶液が流入する殺菌槽を含み、殺菌槽に流入したガス溶存水溶液が殺菌灯によって殺菌されるガス溶存水溶液製造システムは、殺菌槽に流入したガス溶存水溶液に雑菌やウイルスが含まれていた場合であっても、雑菌やウイルスが殺菌灯によって殺菌されるから、雑菌やウイルスが除去された清浄なガス溶存水溶液を製造することができる。

【0023】

給水ポンプによってガス溶存水溶液を殺菌槽からガス溶存水溶液製造槽に還流させるとともにガス溶存水溶液製造槽から殺菌槽に流入させることで、ガス溶存水溶液を殺菌槽とガス溶存水溶液製造槽との間で複数回循環させ、複数回循環するガス溶存水溶液にウルトラファインバブル生成装置がガス組成物を溶存させるガス溶存水溶液製造システムは、ガス溶存水溶液を殺菌槽とガス溶存水溶液製造槽との間で複数回循環させつつウルトラファインバブル生成装置によって溶存水溶液にガス組成物を溶存させるから、純水に水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）が高濃度で溶存するガス溶存水溶液を製造することができ、細胞のミトコンドリアの電子伝達系の活性を確実に誘導することが可能なガス組成物が高い濃度で溶存したガス溶存水溶液を製造することができる。

【0024】

チラーがバイパス管路からガス溶存水溶液製造槽に還流したガス溶存水溶液を所定温度に冷却し、ウルトラファインバブル生成装置がチラーによって所定温度に冷却されたガス溶存水溶液にガス組成物を溶存させるガス溶存水溶液製造システムは、溶存水溶液製造槽に還流したガス溶存水溶液がチラーによって所定温度（０．５～１℃）に冷却されるから、ガス溶存水溶液を所定の低温に冷却することで、ガス溶存水溶液からの水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）の抜けを防ぎつつ、ガス溶存水溶液に更に多くの水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）を溶存させることができる。

【0025】

ガス溶存水溶液製造槽及び殺菌槽を循環するガス溶存水溶液が第１給水ポンプによって所定の水圧に加圧され、ガス溶存水溶液製造槽及び殺菌槽を循環するガス溶存水溶液の水圧が０．５～０．７ＭＰａの範囲にあるガス溶存水溶液製造システムは、第１給水ポンプによってガス溶存水溶液の水圧が０．５～０．７ＭＰａの範囲に加圧されるから、ガス溶存水溶液の水圧を前記範囲にすることでガス溶存水溶液に水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）を容易に溶存させることができ、水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）が高濃度に溶存したガス溶存水溶液を製造することができる。ガス溶存水溶液製造システムは、ガス溶存水溶液がチラーによって所定温度（０．５～１℃）に冷却されるから、ガス溶存水溶液を所定の低温に冷却することでガス溶存水溶液に水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）を容易に溶存させることができる。

【0026】

殺菌槽の下流側に設置された攪拌混入槽と、ガス溶存水溶液を殺菌槽から攪拌混入槽に流入させる第２水溶液管路と、第２水溶液管路に設置された第２給水ポンプと、ガス溶存水溶液を所定温度に冷却するチラーとを含み、攪拌混入槽において、殺菌槽によって殺菌されたガス溶存水溶液をチラーによって所定温度に冷却するとともに所定温度に冷却されたガス溶存水溶液を攪拌しつつガス溶存水溶液に所定の栄養素を溶解（混入）させるガス溶存水溶液製造システムは、水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）が高濃度で溶存するガス溶存水溶液に攪拌混入槽を利用して所定の栄養素を溶解させることができ、例えば、炭素源(ブドウ糖等)、窒素源(アミノ酸)、ビタミン類(チアミン等)、無機塩類等の栄養素が混入したガス溶存水溶液を製造することができる。ガス溶存水溶液製造システムは、攪拌混入槽に流入したガス溶存水溶液がチラーによって所定温度（０．５～１℃）に冷却されるから、ガス溶存水溶液を所定の低温に冷却することで、ガス溶存水溶液からの水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）の抜けを防ぎつつ、ガス溶存水溶液に所定の栄養素を容易に溶解（混入）させることができる。

【0027】

攪拌混入槽に流入するガス溶存水溶液が第１給水ポンプによって所定の水圧に加圧され、攪拌混入槽に流入したガス溶存水溶液の水圧が０．５～０．７ＭＰａの範囲にあるガス溶存水溶液製造システムは、攪拌混入槽に流入するガス溶存水溶液の水圧が第２給水ポンプによって０．５～０．７ＭＰａの範囲に加圧されるから、ガス溶存水溶液の水圧を前記範囲にすることで水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）がガス溶存水溶液に高濃度で溶存した状態を維持しつつ、そのガス溶存水溶液に所定の栄養素を溶解（混入）させることができ、水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）が溶存するとともに所定の栄養素が溶解したガス溶存水溶液を製造することができる。

【0028】

電気分解装置が所定の電極に直流電流のプラスマイナスを交互に印加するパルスジェネレーターによって水を電気分解し、電極がナノカーボンから作られた薄板状電極であってナノカーボンが白金粉末を担持しているガス溶存水溶液製造システムは、白金粉末を担持したナノカーボンから作られた薄板状電極に直流電流のプラスマイナスを交互に印加するパルスジェネレーターによって水を電気分解するから、水を効率よく電気分解して水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とから形成されたガス組成物を確実に作ることができ、水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）が高濃度に溶存したガス溶存水溶液を製造することができる。

【0029】

ウルトラファインバブル生成装置がスタティックミキサー式、旋回液流式、加圧溶解式のうちのいずれかであるガス溶存水溶液製造システムは、スタティックミキサー式、旋回液流式、加圧溶解式のうちのいずれかのウルトラファインバブル生成装置を利用することで、電気分解装置によって生成されたガス組成物（水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２））を純水やガス溶存水溶液にウルトラファインバブルの状態で溶存させることができ、細胞のミトコンドリアの電子伝達系の活性を誘導することが可能なウルトラファインバブル状態のガス組成物（水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２））が溶存したガス溶存水溶液を製造することができる。

【0030】

ガス溶存水溶液製造槽において、純水に微量の炭酸ガスを溶存させた後、微量の炭酸ガスが溶存する純水又はガス溶存水溶液にウルトラファインバブル生成装置がガス組成物を溶存させるガス溶存水溶液製造システムは、純水に溶存させた微量の炭酸ガス分子がキャリアとなり、その炭酸ガス分子に水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）が結合することで、水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）を高い濃度でガス溶存水溶液に溶存させることができ、水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）が高濃度に溶存したガス溶存水溶液を製造することができる。

【0031】

ガス組成物における水素イオン（Ｈ₊）の濃度が０．５～０．８０ｐｐｍの範囲にあり、ガス組成物における酸素分子（Ｏ_２）の濃度が１２．５～１５．５ｐｐｍの範囲にあり、ガス組成物において水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とが非結合の分離した状態にあるガス溶存水溶液製造システムは、前記濃度の水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）がバランスよく溶存したガス溶存水溶液を製造することができるとともに、ウルトラファインバブルの状態でガス溶存水溶液に溶存する前記濃度の水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とが細胞のミトコンドリアの外膜から内膜に進入し、水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）がミトコンドリアの電子伝達系の活性を誘導しつつＡＴＰの産生を誘導するから、ミトコンドリアを確実に活性化させることが可能なガス溶存水溶液を製造することができる。

【0032】

ガス組成物の粒径が１００ｎｍ以下であり、ガス溶存水溶液において、ガス溶存水溶液１ｃｃの中に５～１０臆個のガス組成物のウルトラファインバブルが溶存しているガス溶存水溶液製造システムは、前記粒径のガス組成物のウルトラファインバブルがガス溶存水溶液１ｃｃの中に５～１０臆個溶存することで、ガス溶存水溶液におけるガス組成物（水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２））の上昇速度が遅く、ガス組成物を長時間留めることが可能なガス溶存水溶液を製造することができる。ガス溶存水溶液製造システムは、ウルトラファインバブルの状態でガス溶存水溶液に溶存する高濃度の水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とが細胞のミトコンドリアの外膜から内膜に進入し、水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）がミトコンドリアの電子伝達系の活性を誘導しつつＡＴＰの産生を誘導するから、ミトコンドリアを確実に活性化させることが可能なガス溶存水溶液を製造することができる。

【0033】

ウルトラファインバブルの表面に所定の電荷が帯電し、ウルトラファインバブルの表面に水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とのうちの少なくとも一方が電気的に結合しているガス溶存水溶液製造システムは、水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とのうちの少なくとも一方がウルトラファインバブルの表面に電気的に結合することで、水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）からなるウルトラファインバブルが高濃度に溶存するガス溶存水溶液を製造することができるとともに、ウルトラファインバブルの状態でガス溶存水溶液に溶存する高濃度の水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とが細胞のミトコンドリアの外膜から内膜に進入し、水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）がミトコンドリアの電子伝達系の活性を誘導しつつＡＴＰの産生を誘導するから、ミトコンドリアを確実に活性化させることが可能なガス溶存水溶液を製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【0034】

【図1】一例として示すガス溶存水溶液製造システムの構成図。

【図2】一例として示す電気分解装置の構成図。

【図3】ガス溶存水溶液製造槽の一例を示す構成図。

【図4】殺菌槽の一例を示す構成図。

【図5】攪拌混入槽の一例を示す構成図。

【図6】電気分解装置における電気分解の一例を説明する図。

【図7】ガス溶存水溶液製造システム（ガス溶存水溶液製造方法）によって行われるガス溶存水溶液製造を説明する図。

【発明を実施するための形態】

【0035】

一例として示すガス溶存水溶液製造システム１０の構成図である図１等の添付の図面を参照し、本発明に係るガス溶存水溶液製造システム及びガス溶存水溶液製造方法の詳細を説明すると、以下のとおりである。尚、図２は、一例として示す電気分解装置の構成図であり、図３は、ガス溶存水溶液製造槽の一例を示す構成図である。図４は、殺菌槽の一例を示す構成図である。図５は、攪拌混入槽の一例を示す構成図である。

【0036】

ガス溶存水溶液製造システム１０（ガス溶存水溶液製造方法）は、人の細胞や人以外の動物の細胞のミトコンドリアを活性化させることが可能なガス組成物が溶存したガス溶存水溶液を製造する。ガス組成物は、イオン化（電離）した水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とから形成されている。尚、ガス溶存水溶液の製造には、コントロールサーバ２２（制御用サーバ）が使用される。

【0037】

ガス溶存水溶液製造システム１０（ガス溶存水溶液製造方法）は、コントロールサーバ２２（制御用サーバ）と、純水生成装置１１（純水生成ユニット）と、電気分解装置１２（電気分解ユニット）と、第１チラー及び第２チラー１３，１４と、ガス溶存水溶液製造槽１５と、殺菌槽１６と、攪拌混入槽１７と、栄養素収容槽１８とから形成されている。

【0038】

コントロールサーバ２２は、各流量計３９，４４，５６，６１，６９，８１からの測定流量及び各圧力計及び各気圧計４０，４５，５７，６２，７０，８２からの測定圧力に基づいて各給水ポンプ２０，３８，４３，６８，８０や各給気ポンプ５８，６０の出力を調整（制御）するとともに、各電磁弁３７，４２，５５，５９，６７，７１，７９，８３の開閉を制御する。更に、純水生成装置１１の出力や電気分解装置１２の出力、第１及び第２チラー１３，１４の出力、ガス溶存水溶液製造槽１５の出力、殺菌槽１６の出力、攪拌混入槽１７の低速攪拌羽根７７（モーター）の出力（回転数）を調整（制御）する。装置１１やチラー１３，１４、各槽１５～１８、フィルターユニット２１，３６，４１，６６，７８、電磁弁３７，４２，５５，５９，６７，７１，７９，８３、流量計３９，４４，５６，６１，６９，８１、圧力計４０，４５，７０，８２、気圧計５７，６２、給水ポンプ２０，３８，４３，６８，８０、給気ポンプ５８，６０には、電源（図示せず）から電気が給電される。

【0039】

コントロールサーバ２２は、中央処理装置（ＣＰＵ又はＭＰＵ）と記憶装置（メインメモリ及びキャッシュメモリ）とを備え、物理的なＯＳ（オペレーティングシステム）や仮想ＯＳ（仮想オペレーティングシステム）によって動作するコンピュータであり、大容量記憶領域（ハードディスクや仮想ハードディスク等）を内蔵している。制御用サーバには、キーボードやマウス等の入力装置、ディスプレイやプリンタ等の出力装置がインターフェイス（無線又は有線）を介して接続されている。

【0040】

尚、コントロールサーバ２２がクラウドに構築されていてもよい（クラウドコンピューティング）。クラウドに構築されたコントロールサーバ２２は、仮想ＣＰＵ又は仮想ＭＰＵ（中央処理部）と仮想メインメモリ及び仮想キャッシュメモリ（メモリ）とを有して独立したオペレーティングシステム（仮想ＯＳ）によって動作する仮想サーバであり、大容量仮想記憶領域が形成されている。クラウドとしては、Infrastructure as a Service（IaaS）、Platform as a Service（PaaS）、Software as a Service（SaaS）を利用することができる。

【0041】

純水生成装置１１には、水道水（又は天然水）を純水生成装置１１に給水する水道管路１９が接続（連結）されている。純水生成装置１１には、それに接続（連結）された水道管路１９から水道水（又は天然水）が流入する。水道管路１９には、その上流側に水道給水ポンプ２０が設置され、水道給水ポンプ２０の下流側にろ材（フィルター）を備えた第１フィルターユニット２１（浄水器）が設置さている。ろ材（フィルター）には、ＨＥＰＡフィルタやＵＬＰＡフィルタが使用される（以下のフィルターユニット３６，４１，６６，７８（浄水器）やエアーフィルター５４も同様）。

【0042】

水道給水ポンプ２０は、水道水（又は天然水）を加圧して水道水（又は天然水）を純水生成装置１１に強制的に圧送する。水道給水ポンプ２０は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線（図示せず））を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停や出力がコントロールサーバ２２によって制御される。水道給水ポンプ２０の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によって水道給水ポンプ２０を稼働させるとともに、コントロールサーバ２２から送信された出力信号に従った出力で水道給水ポンプ２０を運転する。水道給水ポンプ２０の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によって水道給水ポンプ２０の稼働を停止させる。

【0043】

第１フィルターユニット２１（浄水器）は、水道管路１９を流動する水道水（又は天然水）に不純物（塵埃や殺菌、ウイルス）が含まれている場合、水道水（又は天然水）からその不純物を除去する。第１フィルターユニット２１は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停や出力がコントロールサーバ２２によって制御される。第１フィルターユニット２１の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によって第１フィルターユニット２１を稼働させるとともに、コントロールサーバ２２から送信された出力信号に従った出力で第１フィルターユニット２１を運転する。第１フィルターユニット２１の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によって第１フィルターユニット２１の稼働を停止させる。

【0044】

純水生成装置１１には、イオン交換樹脂純水装置が使用されている。純水生成装置１１は、カチオン交換樹脂及びアニオン交換樹脂を備え、水道水（又は天然水）に含まれる陽イオン及び陰イオンを除去し、水道水（又は天然水）から純水を生成する。純水生成装置１１は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停や出力がコントロールサーバ２２によって制御される。純水生成装置１１の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によって純水生成装置１１を稼働させるとともに、コントロールサーバ２２から送信された出力信号に従った出力で純水生成装置１１を運転する。純水生成装置１１の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によって純水生成装置１１の稼働を停止させる。

【0045】

純水生成装置１１と電気分解装置１２とは、純水を純水生成装置１１から電気分解装置１２に給水する第１純水管路２３を介して接続（連結）されている。純水生成装置１１とガス溶存水溶液製造槽１５とは、純水を純水生成装置１１からガス溶存水溶液製造槽１５に給水する第２純水管路２４を介して接続（連結）されている。純水生成装置１１によって生成された純水が第１純水管路２３を通って電気分解装置１２に流入し、純水生成装置１１によって生成された純水が第２純水管路２４を通ってガス溶存水溶液製造槽１５に流入する。

【0046】

電気分解装置１２は、純水（水）を電気分解して水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とから形成されたガス組成物を発生（生成）する。電気分解装置１２には電源２５が接続され、電気分解装置１２の制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停や出力がコントロールサーバ２２によって制御される。電気分解装置１２の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によって電気分解装置１２を稼働させるとともに、コントロールサーバ２２から送信された出力信号に従った出力で電気分解装置１２を運転する。電気分解装置１２の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によって電気分解装置１２の稼働を停止させる。

【0047】

電気分解装置１２は、図２に示すように、陽極２６（白金粉末を担持したナノカーボンから作られた薄板状電極）と、陰極２７（白金粉末を担持したナノカーボンから作られた薄板状電極）と、陽極２６及び陰極２７の間に位置（介在）する固体高分子電解質膜２８（電極接合体膜）（スルホン酸基を有するフッ素系イオン交換膜）と、陽極給電部材２９及び陰極給電部材３０と、陽極用貯水槽３１及び陰極用貯水槽３２と、陽極主電極３３及び陰極主電極３４とから形成されている。

【0048】

電気分解装置１２は、陽極２６及び陰極２７に直流電流のプラスマイナスを交互に印加するパルスジェネレーターによって電気を通電し、陽極２６で酸化反応を起こすとともに陰極２７で還元反応を起こすことで純水（水）を化学分解する。電気分解装置１２では、陽極２６及び陰極２７、固体高分子電解質膜２８が厚み方向へ重なり合って一体化し、膜/電極接合体３５(Membrane Electrode Assembly, MEA)を構成し、膜/電極接合体３５を陽極給電部材２９と陰極給電部材３０とが挟み込んでいる。固体高分子電解質膜２８は、プロトン導電性があり、電子導電性がない。

【0049】

陽極給電部材２９は、陽極２６の外側に位置して陽極２６に密着し、陽極２６にプラスの電流を給電する。陽極用貯水槽３１は、陽極給電部材２９の外側に位置して陽極給電部材２９に密着している。陽極主電極３３は、陽極用貯水槽３１の外側に位置して陽極給電部材２９にプラスの電流を給電する。陰極給電部材３０は、陰極２７の外側に位置して陰極２７に密着し、陰極２７にマイナスの電流を給電する。陰極用貯水槽３２は、陰極給電部材３０の外側に位置して陰極給電部材３０に密着している。陰極主電極３４は、陰極用貯水槽３２の外側に位置して陰極給電部材３０にマイナスの電流を給電する。

【0050】

電気分解装置１２に使用する陽極２６及び陰極２７は、前面及び後面を有するとともに、所定の面積及び所定の厚み寸法を有し、その平面形状が四角形に成形されている。尚、陽極２６や陰極２７の平面形状に特に制限はなく、四角形の他に、その用途にあわせて円形や楕円形、多角形等の他のあらゆる平面形状に成形することができる。

【0051】

陽極２６及び陰極２７は、その厚み寸法Ｌ１が０．０３ｍｍ～０．３ｍｍの範囲、好ましくは、０．０５ｍｍ～０．１ｍｍの範囲にある。陽極２６及び陰極２７の厚み寸法が０．０３ｍｍ未満では、その強度が低下し、衝撃が加えられたときに陽極２６及び陰極２７が容易に破損又は損壊し、その形状を維持することができない場合がある。陽極２６及び陰極２７の厚み寸法Ｌ１が０．３ｍｍを超過すると、陽極２６及び陰極２７の電気抵抗が大きくなり、陽極２６及び陰極２７に電流がスムースに流れず、陽極２６及び陰極２７が電気分解装置１２に使用されたときに、電気分解装置１２において電気分解を効率よく行うことができず、純水（水）を短時間に水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とに分解することができない。

【0052】

陽極２６及び陰極２７は、その厚み寸法が０．０３ｍｍ～０．３ｍｍの範囲、好ましくは、０．０５ｍｍ～０．１ｍｍの範囲にあるから、陽極２６及び陰極２７が高い強度を有してその形状を維持することができ、陽極２６及び陰極２７に衝撃が加えられたときの陽極２６及び陰極２７の破損や損壊を防ぐことができる。更に、厚み寸法を前記範囲にすることで、陽極２６及び陰極２７の電気抵抗を小さくすることができ、陽極２６及び陰極２７に電流がスムースに流れ、陽極２６及び陰極２７が電気分解装置１２に使用されたときに、電気分解装置１２において電気分解を効率よく行うことができ、純水（水）を短時間に水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とに分解することができる。

【0053】

第１純水管路２３には、その上流側にろ材（フィルター）を備えた第２フィルターユニット３６（浄水器）が設置され、第２フィルターユニット３６（浄水器）の下流側（直後）に第１電磁弁３７が設置されているとともに、第１電磁弁３７の下流側（直後）に純水第１給水ポンプ３８が設置されている。更に、純水第１給水ポンプ３８の下流側（直後）に純水第１流量計３９が設置され、純水第１流量計３９の下流側（直後）に第1圧力計４０が設置されている。

【0054】

第２フィルターユニット３６（浄水器）は、純水生成装置１１によって生成されて第１純水管路２３を流動する純水に不純物が含まれている場合、純水からその不純物を除去する。第２フィルターユニット３６は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停や出力がコントロールサーバ２２によって制御される。第２フィルターユニット３６の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によって第２フィルターユニット３６を稼働させるとともに、コントロールサーバ２２から送信された出力信号に従った出力で第２フィルターユニット３６を運転する。第２フィルターユニット３６の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によって第２フィルターユニット３６の稼働を停止させる。

【0055】

第１電磁弁３７は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停がコントロールサーバ２２によって制御される。第１電磁弁３７の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によってバルブを開けて第１純水管路２３を開放し、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によってバルブを閉めて第１純水管路２３を閉鎖する。

【0056】

純水第１給水ポンプ３８は、純水生成装置１１によって生成された純水を加圧して純水を電気分解装置１２に強制的に圧送する。純水第１給水ポンプ３８は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停や出力がコントロールサーバ２２によって制御される。純水第１給水ポンプ３８の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によって純水第１給水ポンプ３８を稼働させるとともに、コントロールサーバ２２から送信された出力信号に従った出力で純水第１給水ポンプ３８を運転する。純水第１給水ポンプ３８の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によって純水第１給水ポンプ３８の稼働を停止させる。

【0057】

純水第１流量計３９及び第1圧力計４０は、インターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続されている。純水第１流量計３９は、第１純水管路２３を通流する純水の純水流量を計測し、計測した純水の流量をコントロールサーバ２２に送信する。第1圧力計４０は、第１純水管路２３を通流する純水の水圧を計測し、計測した純水の水圧をコントロールサーバ２２に送信する。尚、第１純水管路２３を通流する純水の流量及び水圧が設定値になるように、純水第１流量計３９から送信された純水の流量及び第1圧力計４０から送信された純水の水圧に基づいてコントロールサーバ２２が純水第１給水ポンプ３８の出力を調整（制御）する。

【0058】

第２純水管路２４には、その上流側にろ材（フィルター）を備えた第３フィルターユニット４１（浄水器）が設置され、第３フィルターユニット４１（浄水器）の下流側（直後）に第２電磁弁４２が設置されているとともに、第２電磁弁４２の下流側（直後）に純水第２給水ポンプ４３が設置されている。更に、純水第２給水ポンプ４３の下流側（直後）に純水第２流量計４４が設置され、純水第２流量計４４の下流側（直後）に第２圧力計４５が設置されている。尚、図示はしていないが、純水第２給水ポンプ４３とガス溶存水溶液製造槽１５との間に延びる第２純水管路２４には、ガス溶存水溶液製造槽１５からのガス溶存水溶液の逆流を防ぐ逆止弁が設置されている。

【0059】

第３フィルターユニット４１（浄水器）は、純水生成装置１１によって生成されて第２純水管路２４を流動する純水に不純物が含まれている場合、純水からその不純物を除去する。第３フィルターユニット４１は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停や出力がコントロールサーバ２２によって制御される。第３フィルターユニット４１の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によって第３フィルターユニット４１を稼働させるとともに、コントロールサーバ２２から送信された出力信号に従った出力で第３フィルターユニット４１を運転する。第３フィルターユニット４１の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によって第３フィルターユニット４１の稼働を停止させる。

【0060】

第２電磁弁４２は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停がコントロールサーバ２２によって制御される。第２電磁弁４２の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によってバルブを開けて第２純水管路２４を開放し、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によってバルブを閉めて第２純水管路２４を閉鎖する。

【0061】

純水第２給水ポンプ４３は、純水生成装置１１によって生成された純水を加圧して純水をガス溶存水溶液製造槽１５に強制的に圧送する。純水第２給水ポンプ４３は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停や出力がコントロールサーバ２２によって制御される。純水第２給水ポンプ４３の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によって純水第２給水ポンプ４３を稼働させるとともに、コントロールサーバ２２から送信された出力信号に従った出力で純水第２給水ポンプ４３を運転する。純水第２給水ポンプ４３の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によって純水第２給水ポンプ４３の稼働を停止させる。

【0062】

純水第２流量計４４及び第２圧力計４５は、インターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続されている。純水第２流量計４４は、第２純水管路２４を通流する純水の純水流量を計測し、計測した純水流量をコントロールサーバ２２に送信する。第２圧力計４５は、第２純水管路２４を通流する純水の水圧を計測し、計測した純水の水圧をコントロールサーバ２２に送信する。尚、第２純水管路２４を通流する純水の流量及び水圧が設定値になるように、純水第２流量計４４から送信された純水の流量及び第２圧力計４５から送信された純水の水圧に基づいてコントロールサーバ２２が純水第２給水ポンプ４３の出力を調整（制御）する。

【0063】

第１チラー１３とガス溶存水溶液製造槽１５とは、冷却行き管路４６及び冷却還り管路４７を介して接続（連結）されている。純水又はガス溶存水溶液製造槽１５によって製造されたガス溶存水溶液が冷却行き管路４６を通ってガス溶存水溶液製造槽１５から第１チラー１３に流入し、第１チラー１３によって冷却された純水又はガス溶存水溶液が冷却還り管路４７を通って第１チラー１３からガス溶存水溶液製造槽１５に流入する。ガス溶存水溶液製造槽１５には、注入管路４８を介して炭酸ガス収容槽４９が接続（連結）されている。炭酸ガス収容槽４９に収容された炭酸ガスが注入管路４８を通って炭酸ガス収容槽４９からガス溶存水溶液製造槽１５に給気される。尚、図示はしていないが、注入管路４８には、炭酸ガスを設定気圧に調節するレギュレータ（調整機構）が設置されている。

【0064】

第１チラー１３は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停や出力がコントロールサーバ２２によって制御される。第１チラー１３の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によって第１チラー１３を稼働させるとともに、コントロールサーバ２２から送信された出力信号に従った出力で第１チラー１３を運転する。第１チラー１３の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によって第１チラー１３の稼働を停止させる。

【0065】

電気分解装置１２とガス溶存水溶液製造槽１５とは、水素給気管路５０及び酸素給気管路５１を介して接続（連結）されている。電気分解装置１２によって発生した（生成された）水素イオン（Ｈ₊）が水素給気管路５０を通ってガス溶存水溶液製造槽１５に給気され、電気分解装置１２によって発生した（生成された）酸素分子（Ｏ_２）が酸素給気管路５１を通ってガス溶存水溶液製造槽１５に給気される。

【0066】

ガス溶存水溶液製造槽１５は、熱可塑性合成樹脂又はステンレスやアルミ、ジュラルミン、アルミ合金等の所定の金属から作られた所定容積のケーシングである。ガス溶存水溶液製造槽１５は、電気分解装置１２によって発生したガス組成物（水素イオン（Ｈ₊）（水素ガス）及び酸素分子ガス（Ｏ_２）（酸素ガス））を純水（水）に溶存させ、ガス組成物（水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２））が溶存したガス溶存水溶液を製造する。

【0067】

尚、図示はしていないが、ガス溶存水溶液製造槽１５には、その内部のガス組成物を大気に放出するガス逃し弁が設置されている。又、水素給気管路５０及び酸素給気管路５１には、水素イオン（Ｈ₊）（水素ガス）及び酸素分子ガス（Ｏ_２）（酸素ガス）を設定気圧に調節するレギュレータ（調整機構）が設置されている。

【0068】

ガス溶存水溶液製造槽１５の内部には、図３に示すように、第１ウルトラファインバブル生成装置５２（第１ウルトラファインバブル発生ノズル）及び第２ウルトラファインバブル生成装置５３（第２ウルトラファインバブル発生ノズル）が設置されている。ガス溶存水溶液製造槽１５の内部には、第１チラー１３から延びる冷却行き管路４６及び冷却還り管路４７が延在し、殺菌槽１６へ延びる第１水溶液管路６３が延在している。第１ウルトラファインバブル生成装置５２（第１ウルトラファインバブル発生ノズル）や第２ウルトラファインバブル生成装置５３（第２ウルトラファインバブル発生ノズル）には、スタティックミキサー式、旋回液流式、加圧溶解式のうちのいずれかが使用されている。

【0069】

第１ウルトラファインバブル生成装置５２（第１ウルトラファインバブル発生ノズル）は、電気分解装置１２によって発生した（生成された）水素イオン（Ｈ₊）をウルトラファインバブル（ナノバブル）の状態にし、水素イオン（ガス組成物）をナノサイズのウルトラファインバブルの状態で純水又は還流するガス溶存水溶液に溶存させる。第１ウルトラファインバブル生成装置５２には、水素給気管路５０及び第２純水管路２４並びにバイパス管路６４が接続（連結）されている。第１ウルトラファインバブル生成装置５２には、電気分解装置１２によって発生した水素イオン（Ｈ₊）が水素給気管路５０から給気され、純水生成装置１１によって生成された純水が第２純水管路２４から給水されるとともに、ガス溶存水溶液がバイパス管路６４から給水される。

【0070】

第２ウルトラファインバブル生成装置５３（第２ウルトラファインバブル発生ノズル）は、電気分解装置１２によって発生した（生成された）酸素分子（Ｏ_２）をウルトラファインバブル（ナノバブル）の状態にし、酸素分子（ガス組成物）をナノサイズのウルトラファインバブルの状態で純水又は還流するガス溶存水溶液に溶存させる。第２ウルトラファインバブル生成装置５３には、酸素給気管路５１及び第２純水管路２４並びにバイパス管路６４が接続（連結）されている。第２ウルトラファインバブル生成装置５３には、電気分解装置１２によって発生した酸素分子（Ｏ_２）が酸素給気管路５１から給気され、純水生成装置１１によって生成された純水が第２純水管路２４から給水されるとともに、ガス溶存水溶液がバイパス管路６４から給水される。

【0071】

水素給気管路５０には、その上流側にエアーフィルター５４が設置され、エアーフィルター５４の下流側（直後）に第３電磁弁５５が設置されているとともに、第３電磁弁５５の下流側（直後）に水素流量計５６が設置されている。更に、水素流量計５６の下流側（直後）に水素気圧計５７が設置され、水素気圧計５７の下流側（直後）に第１給気ポンプ５８が設置されている。尚、図示はしていないが、第１給気ポンプ５８とガス溶存水溶液製造槽１５との間に延びる水素給気管路５０には、ガス溶存水溶液製造槽１５からの水素イオン（Ｈ₊）の逆流を防ぐ逆止弁が設置されている。

【0072】

エアーフィルター５４は、水素給気管路５０を通気する水素イオン（Ｈ₊）に不純物（塵埃や殺菌、ウイルス）が含まれている場合、水素イオン（Ｈ₊）からその不純物を除去する。第３電磁弁５５は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停がコントロールサーバ２２によって制御される。第３電磁弁５５の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によってバルブを開けて水素給気管路５０を開放し、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によってバルブを閉めて水素給気管路５０を閉鎖する。

【0073】

水素流量計５６及び水素気圧計５７は、インターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続されている。水素流量計５６は、水素給気管路５０を通気する水素イオン（Ｈ₊）の流量を計測し、計測した水素イオン（Ｈ₊）の流量をコントロールサーバ２２に送信する。水素気圧計５７は、水素給気管路５０を通気する水素イオン（Ｈ₊）の気圧を計測し、計測した水素イオン（Ｈ₊）の気圧をコントロールサーバ２２に送信する。尚、水素給気管路５０を通気する水素イオン（Ｈ₊）の流量及び気圧が設定値になるように、水素流量計５６から送信された水素イオン（Ｈ₊）の流量及び水素気圧計５７から送信された水素イオン（Ｈ₊）の気圧に基づいてコントロールサーバ２２が第１給気ポンプ５８の出力を調整（制御）する。

【0074】

第１給気ポンプ５８は、電気分解装置１２によって発生した水素イオン（Ｈ₊）をガス溶存水溶液製造槽１５の第１ウルトラファインバブル生成装置５２に強制的に給気する。第１給気ポンプ５８は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停や出力がコントロールサーバ２２によって制御される。第１給気ポンプ５８の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によって第１給気ポンプ５８を稼働させるとともに、コントロールサーバ２２から送信された出力信号に従った出力で第１給気ポンプ５８を運転する。第１給気ポンプ５８の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によって第１給気ポンプ５８の稼働を停止させる。

【0075】

酸素給気管路５１には、その上流側にエアーフィルター５４が設置され、エアーフィルター５４の下流側（直後）に第４電磁弁５９が設置されているとともに、第４電磁弁５９の下流側（直後）に第２給気ポンプ６０が設置されている。更に、第２給気ポンプ６０の下流側（直後）に酸素流量計６１が設置され、酸素流量計６１の下流側（直後）に酸素気圧計６２が設置されている。尚、図示はしていないが、第２給気ポンプ６０とガス溶存水溶液製造槽１５との間に延びる酸素給気管路５１には、ガス溶存水溶液製造槽１５からの酸素分子（Ｏ_２）の逆流を防ぐ逆止弁が設置されている。

【0076】

エアーフィルター５４は、酸素給気管路５１を通気する酸素分子（Ｏ_２）に不純物（塵埃や殺菌、ウイルス）が含まれている場合、酸素分子（Ｏ_２）からその不純物を除去する。第４電磁弁５９は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停がコントロールサーバ２２によって制御される。第４電磁弁５９の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によってバルブを開けて酸素給気管路５１を開放し、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によってバルブを閉めて酸素給気管路５１を閉鎖する。

【0077】

第２給気ポンプ６０は、電気分解装置１２によって発生した酸素分子（Ｏ_２）をガス溶存水溶液製造槽１５の第２ウルトラファインバブル生成装置５３に強制的に給気する。第２給気ポンプ６０は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停や出力がコントロールサーバ２２によって制御される。第２給気ポンプ６０の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によって第２給気ポンプ６０を稼働させるとともに、コントロールサーバ２２から送信された出力信号に従った出力で第２給気ポンプ６０を運転する。第２給気ポンプ６０の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によって第２給気ポンプ６０の稼働を停止させる。

【0078】

酸素流量計６１及び酸素気圧計６２は、インターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続されている。酸素流量計６１は、酸素給気管路５１を通気する酸素分子（Ｏ_２）の流量を計測し、計測した酸素分子（Ｏ_２）の流量をコントロールサーバ２２に送信する。酸素気圧計６２は、酸素給気管路５１を通気する酸素分子（Ｏ_２）の気圧を計測し、計測した酸素分子（Ｏ_２）の気圧をコントロールサーバ２２に送信する。尚、酸素給気管路５１を通気する酸素分子（Ｏ_２）の流量及び気圧が設定値になるように、酸素流量計６１から送信された酸素分子（Ｏ_２）の流量及び酸素気圧計６２から送信された酸素分子（Ｏ_２）の気圧に基づいてコントロールサーバ２２が第２給気ポンプ６０の出力を調整（制御）する。

【0079】

ガス溶存水溶液製造槽１５と殺菌槽１６とは、第１水溶液管路６３を介して接続（連結）されているとともに、バイパス管路６４を介して接続（連結）されている。ガス溶存水溶液製造槽１５によって製造されたガス溶存水溶液が第１水溶液管路６３を通ってガス溶存水溶液製造槽１５から殺菌槽１６に流入し、殺菌槽１６によって殺菌されたガス溶存水溶液がバイパス管路６４を通って殺菌槽１６からガス溶存水溶液製造槽１５に流入（還流）する。

【0080】

殺菌槽１６は、熱可塑性合成樹脂又はステンレスやアルミ、ジュラルミン、アルミ合金等の所定の金属から作られた所定容積のケーシングである。殺菌槽１６は、ガス溶存水溶液製造槽１５によって製造されたガス溶存水溶液に菌（雑菌やウイルス）が含まれている場合、その菌を殺菌し、ガス溶存水溶液を清浄化する。殺菌槽１６の内部には、２本の殺菌灯６５が収容されている。尚、図示はしていないが、殺菌槽１６には、その内部のガス組成物を大気に放出するガス逃し弁が設置されている。

【0081】

それら殺菌灯６５には、電源から電気が給電される。殺菌灯６５は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停がコントロールサーバ２２によって制御される。殺菌灯６５の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によって殺菌灯６５を点灯させ、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によって殺菌灯６５を消灯させる。殺菌灯６５から殺菌槽１６の内部に紫外線が照射されることで、殺菌槽１６の内部に流入したガス溶存水溶液が殺菌される。

【0082】

第１水溶液管路６３には、その上流側にろ材（フィルター）を備えた第４フィルターユニット６６（浄水器）が設置され、第４フィルターユニット６６（浄水器）の下流側（直後）に第５電磁弁６７が設置されているとともに、第５電磁弁６７の下流側（直後）にガス溶存水溶液第１給水ポンプ６８が設置されている。更に、ガス溶存水溶液第１給水ポンプ６８の下流側（直後）にガス溶存水溶液第１流量計６９が設置され、ガス溶存水溶液第１流量計６９の下流側（直後）に第３圧力計７０が設置されている。バイパス管路６４には、第６電磁弁７１が設置されている。尚、図示はしていないが、ガス溶存水溶液第１給水ポンプ６８と殺菌槽１６との間に延びる第１水溶液管路６３には、殺菌槽１６からのガス溶存水溶液の逆流を防ぐ逆止弁が設置されている。

【0083】

第４フィルターユニット６６（浄水器）は、ガス溶存水溶液製造槽１５によって製造されて第１水溶液管路６３を流動するガス溶存水溶液に不純物が含まれている場合、ガス溶存水溶液からその不純物を除去する。第４フィルターユニット６６は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停や出力がコントロールサーバ２２によって制御される。第４フィルターユニット６６の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によって第４フィルターユニット６６を稼働させるとともに、コントロールサーバ２２から送信された出力信号に従った出力で第４フィルターユニット６６を運転する。第４フィルターユニット６６の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によって第４フィルターユニット６６の稼働を停止させる。

【0084】

第５電磁弁６７は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停がコントロールサーバ２２によって制御される。第５電磁弁６７の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によってバルブを開けて第１水溶液管路６３を開放し、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によってバルブを閉めて第１水溶液管路６３を閉鎖する。

【0085】

ガス溶存水溶液第１給水ポンプ６８は、ガス溶存水溶液製造槽１５によって製造されたガス溶存水溶液を加圧してガス溶存水溶液を殺菌槽１６に強制的に圧送する。ガス溶存水溶液第１給水ポンプ６８は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停や出力がコントロールサーバ２２によって制御される。ガス溶存水溶液第１給水ポンプ６８の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によってガス溶存水溶液第１給水ポンプ６８を稼働させるとともに、コントロールサーバ２２から送信された出力信号に従った出力でガス溶存水溶液第１給水ポンプ６８を運転する。ガス溶存水溶液第１給水ポンプ６８の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によってガス溶存水溶液第１給水ポンプ６８の稼働を停止させる。

【0086】

ガス溶存水溶液第１流量計６９及び第３圧力計７０は、インターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続されている。ガス溶存水溶液第１流量計６９は、第１水溶液管路６３を通流するガス溶存水溶液の流量を計測し、計測したガス溶存水溶液の流量をコントロールサーバ２２に送信する。第３圧力計７０は、第１水溶液管路６３を通流するガス溶存水溶液の水圧を計測し、計測したガス溶存水溶液の水圧をコントロールサーバ２２に送信する。尚、第１水溶液管路６３を通流するガス溶存水溶液の流量及び水圧が設定値になるように、ガス溶存水溶液第１流量計６９から送信されたガス溶存水溶液の流量及び第３圧力計７０から送信されたガス溶存水溶液の水圧に基づいてコントロールサーバ２２がガス溶存水溶液第１給水ポンプ６８の出力を調整（制御）する。

【0087】

第６電磁弁７１は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停がコントロールサーバ２２によって制御される。第６電磁弁７１の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によってバルブを開けてバイパス管路６４を開放し、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によってバルブを閉めてバイパス管路６４を閉鎖する。

【0088】

殺菌槽１６と攪拌混入槽１７とは、第２水溶液管路７２を介して接続（連結）されている。殺菌槽１６によって殺菌されたガス溶存水溶液が第２水溶液管路７２を通って殺菌槽１６から攪拌混入槽１７に流入する。攪拌混入槽１７と栄養素収容槽１８とは、注入管路７３を介して接続（連結）されている。栄養素収容槽１８に収容された栄養素（ミネラル）が注入管路７３を通って栄養素収容槽１８から攪拌混入槽１７に流入する。

【0089】

攪拌混入槽１７と第２チラー１４とは、冷却行き管路７４及び冷却還り管路７５を介して接続（連結）されている。ガス溶存水溶液又は攪拌混入槽１７によって栄養素が溶解（混入）されたガス溶存水溶液が冷却行き管路７４を通って攪拌混入槽１７から第２チラー１４に流入し、第２チラー１４によって冷却されたガス溶存水溶液が冷却還り管路７５を通って第２チラー１４から攪拌混入槽１７に流入する。攪拌混入槽１７には、抽出管路７６が接続（連結）されている。攪拌混入槽１７によって栄養素が溶解されたガス溶存水溶液が抽出管路７６を通って所定の収容容器（図示せず）に収容される。

【0090】

第２チラー１４は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停や出力がコントロールサーバ２２によって制御される。第２チラー１４の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によって第２チラー１４を稼働させるとともに、コントロールサーバ２２から送信された出力信号に従った出力で第２チラー１４を運転する。第２チラー１４の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によって第２チラー１４の稼働を停止させる。

【0091】

攪拌混入槽１７は、熱可塑性合成樹脂又はステンレスやアルミ、ジュラルミン、アルミ合金等の所定の金属から作られた所定容積のケーシングであり、図５に示すように、その内部に低速攪拌羽根７７が設置されている。低速攪拌羽根７７には、図示はしていないが、モーターと減速器とが連結されている。攪拌混入槽１７は、殺菌槽１６によって殺菌されたガス溶存水溶液を第２チラー１４によって所定温度に冷却するとともに所定温度に冷却されたガス溶存水溶液を低速攪拌羽根７７によってゆっくりと攪拌しつつガス溶存水溶液に所定の栄養素を溶解（混入）させる。尚、図示はしていないが、攪拌混入槽１７には、その内部のガス組成物を大気に放出するガス逃し弁が設置されている。

【0092】

栄養素としては、炭素源(ブドウ糖等)と窒素源(アミノ酸)とビタミン類(チアミン等)と無機塩類とが使用される。尚、栄養素として炭素源と窒素源とビタミン類と無機塩類とのうちの少なくとも炭素源を使用することができる。

【0093】

第２水溶液管路７２には、その上流側にろ材（フィルター）を備えた第５フィルターユニット７８（浄水器）が設置され、第５フィルターユニット７８（浄水器）の下流側（直後）に第７電磁弁７９が設置されているとともに、第７電磁弁７９の下流側（直後）にガス溶存水溶液第２給水ポンプ８０が設置されている。更に、ガス溶存水溶液第２給水ポンプ８０の下流側（直後）にガス溶存水溶液第２流量計８１が設置され、ガス溶存水溶液第２流量計８１の下流側（直後）に第４圧力計８２が設置されている。注入管路７３には、第８電磁弁８３が設置されている。尚、図示はしていないが、ガス溶存水溶液第２給水ポンプ８０と攪拌混入槽１７との間に延びる第２水溶液管路７２には、攪拌混入槽１７からのガス溶存水溶液の逆流を防ぐ逆止弁が設置されている。

【0094】

第５フィルターユニット７８（浄水器）は、殺菌槽１６によって殺菌されて第２水溶液管路７２を通流するガス溶存水溶液に不純物が含まれている場合、ガス溶存水溶液からその不純物を除去する。第５フィルターユニット７８は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停や出力がコントロールサーバ２２によって制御される。第５フィルターユニット７８の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によって第５フィルターユニット７８を稼働させるとともに、コントロールサーバ２２から送信された出力信号に従った出力で第５フィルターユニット７８を運転する。第５フィルターユニット７８の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によって第５フィルターユニット７８の稼働を停止させる。

【0095】

第７電磁弁７９は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停がコントロールサーバ２２によって制御される。第７電磁弁７９の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によってバルブを開けて第２水溶液管路７２を開放し、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によってバルブを閉めて第２水溶液管路７２を閉鎖する。

【0096】

ガス溶存水溶液第２給水ポンプ８０は、殺菌槽１６によって殺菌されたガス溶存水溶液を加圧してガス溶存水溶液を攪拌混入槽１７に強制的に圧送する。ガス溶存水溶液第２給水ポンプ８０は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停や出力がコントロールサーバ２２によって制御される。ガス溶存水溶液第２給水ポンプ８０の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によってガス溶存水溶液第２給水ポンプ８０を稼働させるとともに、コントロールサーバ２２から送信された出力信号に従った出力でガス溶存水溶液第２給水ポンプ８０を運転する。ガス溶存水溶液第２給水ポンプ８０の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によってガス溶存水溶液第２給水ポンプ８０の稼働を停止させる。

【0097】

ガス溶存水溶液第２流量計８１及び第４圧力計８２は、インターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続されている。ガス溶存水溶液第２流量計８１は、第２水溶液管路７２を通流するガス溶存水溶液の流量を計測し、計測したガス溶存水溶液の流量をコントロールサーバ２２に送信する。第４圧力計８２は、第２水溶液管路７２を通流するガス溶存水溶液の水圧を計測し、計測したガス溶存水溶液の水圧をコントロールサーバ２２に送信する。尚、第４水溶液管路７２を通流するガス溶存水溶液の流量及び水圧が設定値になるように、ガス溶存水溶液第２流量計８１から送信されたガス溶存水溶液の流量及び第４圧力計８２から送信されたガス溶存水溶液の水圧に基づいてコントロールサーバ２２がガス溶存水溶液第２給水ポンプ８０の出力を調整（制御）する。

【0098】

第８電磁弁８３は、その制御部がインターフェイス（無線又は有線）を介してコントロールサーバ２２に接続され、その発停がコントロールサーバ２２によって制御される。第８電磁弁８３の制御部は、コントロールサーバ２２から送信されたＯＮ信号によってバルブを開けて注入管路７３を開放し、コントロールサーバ２２から送信されたＯＦＦ信号によってバルブを閉めて注入管路７３を閉鎖する。

【0099】

図６は、電気分解装置１２における電気分解の一例を説明する図であり、図７は、ガス溶存水溶液製造システム１０（ガス溶存水溶液製造方法）によって行われるガス溶存水溶液製造を説明する図である。ガス溶存水溶液製造システム１０が起動すると、コントロールサーバ２２が稼働し、純水生成装置１１（純水生成ユニット）、電気分解装置１２（電気分解ユニット）、第１及び第２チラー１３，１４、ガス溶存水溶液製造槽１５、殺菌槽１６、攪拌混入槽１７、栄養素収容槽１８、フィルターユニット２１，３６，４１，６６，７８、電磁弁３７，４２，５５，５９，６７，７１，７９，８３、流量計３９，４４，５６，６１，６９，８１、圧力計４０，４５，７０，８２、気圧計５７，６２、給水ポンプ２０，３８，４３，６８，８０、給気ポンプ５８，６０が待機状態で起動する。

【0100】

コントロールサーバ２２は、水道給水ポンプ２０の制御部にＯＮ信号を送信し、水道給水ポンプ２０の制御部が水道給水ポンプ２０を稼働させる。図７に矢印Ｌ１で示すように、水道給水ポンプ２０によって圧送された水道水（又は天然水）が水道管路１９を通って第１フィルターユニット２１を通流した後、純水生成装置１１に流入する。純水生成装置１１では、水道水（又は天然水）に含まれる陽イオン及び陰イオンを除去し、水道水（又は天然水）から純水を生成する（純水生成工程）。

【0101】

水道給水ポンプ２０が起動してから所定時間経過後にコントロールサーバ２２は、第１及び第２電磁弁３７，４２の制御部にＯＮ信号を送信するとともに、純水第１及び第２流量計３９，４４と第１及び第２圧力計４０，４５とに計測信号を送信する。第１電磁弁３７の制御部が第１電磁弁３７のバルブを開けて第１純水管路２３を開放し、第２電磁弁４２の制御部が第２電磁弁４２のバルブを開けて第２純水管路２４を開放する。稼働した純水第１及び第２流量計３９，４４が純水の流量計測を開始し、稼働した第１及び第２圧力計４０，４５が純水の圧力計測を開始する。

【0102】

更に、コントロールサーバ２２は、純水第１及び第２給水ポンプ３８，４３の制御部にＯＮ信号を送信し、純水第１給水ポンプ３８の制御部が純水第１給水ポンプ３８を稼働させるとともに、純水第２給水ポンプ４３の制御部が純水第２給水ポンプ４３を稼働させる。コントロールサーバ２２は、第１及び第２給気ポンプ５８，６０の制御部にＯＮ信号を送信し、第１給気ポンプ５８の制御部が第１給気ポンプ５８を稼働させるとともに、第２給気ポンプ６０の制御部が第２給気ポンプ６０を稼働させる。

【0103】

コントロールサーバ２２は、第３及び第４電磁弁５５，５９の制御部にＯＮ信号を送信する。第３電磁弁５５の制御部が第３電磁弁５５のバルブを開けて水素給気管路５０を開放し、第４電磁弁５９の制御部が第４電磁弁５９のバルブを開けて酸素給気管路５１を開放する。コントロールサーバ２２は、第１チラー１３の制御部にＯＮ信号を送信し、第１チラー１３の制御部が第１チラー１３を稼働させる。コントロールサーバ２２は、炭酸ガス収容槽４９に収容された炭酸ガス（又は炭酸水）をガス溶存水溶液製造槽１５に給気（又は給水）する。

【0104】

コントロールサーバ２２は、水素流量計５６や水素気圧計５７、酸素流量計６１、酸素気圧計６２に計測信号を送信する。稼働した水素流量計５６が水素給気管路５０を通流する水素イオン（Ｈ₊）の流量計測を開始し、稼働した水素気圧計５７が水素給気管路５０を通流する水素イオン（Ｈ₊）の気圧計測を開始する。稼働した酸素流量計６１が酸素給気管路５１を通流する酸素分子（Ｏ_２）の流量計測を開始し、稼働した酸素気圧計６２が酸素給気管路５１を通流する酸素分子（Ｏ_２）の気圧計測を開始する。

【0105】

純水生成装置１１によって生成された純水が純水生成装置１１から第１純水管路２３及び第２純水管路２４に流入する。第１純水管路２３に流入した純水は、純水第１給水ポンプ３８によって圧送され、図７に矢印Ｌ２で示すように、第２フィルターユニット３６を通流するとともに第１電磁弁３７を通って電気分解装置１２に流入する。第２純水管路２４に流入した純水は、純水第２給水ポンプ４３によって圧送され、図７に矢印Ｌ３で示すように、第３フィルターユニット４１を通流するとともに第２電磁弁４２を通ってガス溶存水溶液製造槽１５の第１ウルトラファインバブル生成装置５２及び第２ウルトラファインバブル生成装置５３に流入する。

【0106】

電気分解装置１２では、純水が電気分解され、水素イオン（Ｈ₊）が発生するとともに酸素分子（Ｏ_２）が発生する（電気分解工程）。電気分解装置１２における水の電気分解では、図６に矢印で示すように、陽極用貯水槽３１及び陰極用貯水槽３２に純水（Ｈ_２Ｏ）が給水され、陽極主電極３３に電源からプラスの電流がパルスジェネレーターによって給電されるとともに、陰極主電極３４に電源からマイナスの電流がパルスジェネレーターによって給電される。陽極主電極３３に給電されたプラスの電流が陽極給電部材２９から陽極２６（アノード）に給電され、陰極主電極３４に給電されたマイナスの電流が陰極給電部材３０から陰極２７（カソード）に給電される。

【0107】

陽極２６（白金粉末を担持したナノカーボンから作られた薄板状電極）では、２Ｈ_２Ｏ→４Ｈ^＋＋４ｅ^－＋Ｏ_２の陽極反応（触媒作用）によって酸素が生成され、陰極２７（白金粉末を担持したナノカーボンから作られた薄板状電極）では、４Ｈ^＋＋４ｅ^－→２Ｈ_２の陰極反応（触媒作用）によって水素が生成される。プロトン（水素イオン：Ｈ^＋）は、固体高分子電解質膜２８内を通って陽極２６から陰極２７（電極）へ移動する。固体高分子電解質膜２８には、陽極２６で生成されたプロトンが通流する。

【0108】

ガス溶存水溶液製造システム１０（ガス溶存水溶液製造方法）は、白金粉末を担持したナノカーボンから作られた薄板状電極（陽極２６及び陰極２７）に直流電流のプラスマイナスを交互に印加するパルスジェネレーターによって電気が給電されることで純水（水）を電気分解するから、純水（水）を効率よく電気分解して水素イオン（Ｈ₊）（水素ガス）と酸素分子（Ｏ_２）（酸素ガス）とから形成されたガス組成物を確実に作ることができ、水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）が高濃度に溶存したガス溶存水溶液を製造することができる。

【0109】

電気分解装置１２において発生した水素イオン（Ｈ₊）は、第１給気ポンプ５８によって圧送され、図７に矢印Ｌ４で示すように、エアーフィルター５４を通流するとともに第３電磁弁５５を通ってガス溶存水溶液製造槽１５の第１ウルトラファインバブル生成装置５２に流入する。電気分解装置１２において発生した酸素分子（Ｏ_２）は、第２給気ポンプ６０によって圧送され、図７に矢印Ｌ５で示すように、エアーフィルター５４を通流するとともに第４電磁弁５９を通ってガス溶存水溶液製造槽１５の第２ウルトラファインバブル生成装置５３に流入する。

【0110】

第１ウルトラファインバブル生成装置５２では、スタティックミキサー式、旋回液流式、加圧溶解式のうちのいずれかにより、水素イオン（Ｈ₊）をウルトラファインバブルの状態にしつつ、水素イオン（Ｈ₊）をナノサイズのウルトラファインバブル（ナノバブル）の状態で純水に溶存させる（水素イオン第１溶存工程）。第２ウルトラファインバブル生成装置５３では、スタティックミキサー式、旋回液流式、加圧溶解式のうちのいずれかにより、酸素分子（Ｏ_２）をウルトラファインバブルの状態にしつつ、酸素分子（Ｏ_２）をナノサイズのウルトラファインバブル（ナノバブル）の状態で純水に溶存させる（酸素分子第１溶存工程）。

【0111】

尚、炭酸ガス収容槽４９に収容された炭酸ガス（又は炭酸水）がガス溶存水溶液製造槽１５に給気（又は給水）され、微量の炭酸ガス（又は炭酸水）が純水又はガス溶存水溶液に溶存する。又、第１チラーによって純水又はガス溶存水溶液が所定温度（０．５～１℃）に冷却される。尚、純水又はガス溶存水溶液に微量の炭酸ガス（炭酸水）を加えることなく、炭酸ガスを純水又はガス溶存水溶液に溶存させない場合もある。ガス溶存水溶液製造槽１５に貯水された純水又はガス溶存水溶液の全水量に対する炭酸ガス（炭酸水）の濃度は、０．００５～０．００９ｐｐｍである。

【0112】

ガス溶存水溶液製造システム１０（ガス溶存水溶液製造方法）は、純水に溶存させた微量の炭酸ガス分子がキャリアとなり、その炭酸ガス分子に水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）が結合することで、水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）を高い濃度でガス溶存水溶液に溶存させることができ、水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）が高濃度に溶存したガス溶存水溶液を製造することができる。更に、純水又はガス溶存水溶液が第１チラー１３によって所定温度（０．５～１℃）に冷却されるから、純水又はガス溶存水溶液を所定の低温に冷却することで純水又はガス溶存水溶液に水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）を容易に溶存させることができる。

【0113】

ガス溶存水溶液製造槽１５の内部に設定量のガス溶存水溶液が貯水された後、コントロールサーバ２２は、純水第２給水ポンプ４３の制御部にＯＦＦ信号を送信し、純水第２給水ポンプ４３の制御部が純水第２給水ポンプ４３の稼働を停止させる。コントロールサーバ２２は、第２電磁弁４２の制御部にＯＦＦ信号を送信し、第２電磁弁４２の制御部が第２電磁弁４２のバルブを閉めて第２純水管路２４を閉鎖する。

【0114】

コントロールサーバ２２は、第５電磁弁６７の制御部にＯＮ信号を送信するとともに、第６電磁弁７１の制御部にＯＮ信号を送信し、第５電磁弁６７の制御部が第５電磁弁６７のバルブを開けて第１水溶液管路６３を開放し、第６電磁弁７１の制御部が第６電磁弁７１のバルブを開けてバイパス管路６４を開放する。コントロールサーバ２２は、ガス溶存水溶液第１給水ポンプ６８の制御部にＯＮ信号を送信し、ガス溶存水溶液第１給水ポンプ６８の制御部がガス溶存水溶液第１給水ポンプ６８を稼働させる。

【0115】

更に、コントロールサーバ２２は、ガス溶存水溶液第１流量計６９及び第３圧力計７０に計測信号を送信し、稼働したガス溶存水溶液第１流量計６９が第１水溶液管路６３を通流するガス溶存水溶液の流量計測を開始し、稼働した第３圧力計７０が第１水溶液管路６３を通流するガス溶存水溶液の水圧計測を開始する。コントロールサーバ２２は、殺菌灯６５の制御部にＯＮ信号を送信し、殺菌灯６５の制御部が殺菌灯６５を点灯させる。尚、第７電磁弁７９のバルブが閉められ、第２水溶液管路７２が閉鎖されている。

【0116】

ガス溶存水溶液製造槽１５によって製造されたガス溶存水溶液は、ガス溶存水溶液第１給水ポンプ６８によって圧送され、図７に矢印Ｌ６に示すように、ガス溶存水溶液製造槽１５から第１水溶液管路６３に流入し、第４フィルターユニット６６を通流しつつ第５電磁弁６７を通って殺菌槽１６に流入する。殺菌槽１６では、そこに流入したガス溶存水溶液が殺菌灯６５によって殺菌される（殺菌工程）。

【0117】

殺菌槽１６によって殺菌されたガス溶存水溶液は、バイパス管路６４に流入し、第６電磁弁７１を通ってガス溶存水溶液製造槽１５の第１ウルトラファインバブル生成装置５２に流入するとともに、第２ウルトラファインバブル生成装置５３に流入する。ガス溶存水溶液製造システム１０（ガス溶存水溶液製造方法）では、ガス溶存水溶液製造槽１５及び殺菌槽１６を循環するガス溶存水溶液がガス溶存水溶液第１給水ポンプ６８によって０．５～０．７ＭＰａの水圧に加圧され、前記水圧のガス溶存水溶液が第１及び第２ウルトラファインバブル生成装置５２，５３に流入する。

【0118】

第１ウルトラファインバブル生成装置５２では、水素イオン（Ｈ₊）をウルトラファインバブルの状態にしつつ、水素イオン（Ｈ₊）をナノサイズのウルトラファインバブル（ナノバブル）の状態で殺菌槽１６から還流したガス溶存水溶液に溶存させる（水素イオン第２溶存工程）。第２ウルトラファインバブル生成装置５３では、酸素分子（Ｏ_２）をウルトラファインバブルの状態にしつつ、酸素分子（Ｏ_２）をナノサイズのウルトラファインバブル（ナノバブル）の状態で殺菌槽１６から還流したガス溶存水溶液に溶存させる（酸素分子第２溶存工程）。

【0119】

ガス溶存水溶液製造システム１０（ガス溶存水溶液製造方法）では、ガス溶存水溶液を殺菌槽１６からガス溶存水溶液製造槽１５に還流させるとともにガス溶存水溶液製造槽１５から殺菌槽１６に流入させる手順を繰り返す。例えば、ガス溶存水溶液製造槽１５に収容されたガス溶存水溶液が殺菌槽１６とガス溶存水溶液製造槽１５とを少なくとも２回以上往復（循環）する。好ましくは、ガス溶存水溶液製造槽１５に収容されたガス溶存水溶液が殺菌槽１６とガス溶存水溶液製造槽１５とを３回～５回往復（循環）する。

【0120】

ガス溶存水溶液製造システム１０（ガス溶存水溶液製造方法）は、ガス溶存水溶液第１給水ポンプ６８（第１給水ポンプ）によってガス溶存水溶液を殺菌槽１６からガス溶存水溶液製造槽１５に還流させるとともにガス溶存水溶液製造槽１５から殺菌槽１６に流入させることで、ガス溶存水溶液を殺菌槽１６とガス溶存水溶液製造槽１５との間で複数回循環させ、複数回循環するガス溶存水溶液に第１ウルトラファインバブル生成装置５２が水素イオン（Ｈ₊）をナノサイズのウルトラファインバブルの状態で溶存させ、複数回循環するガス溶存水溶液に第２ウルトラファインバブル生成装置５３が酸素分子（Ｏ_２）をナノサイズのウルトラファインバブルの状態で溶存させるから、純水に水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）が高濃度で溶存するガス溶存水溶液を製造することができ、細胞のミトコンドリアの電子伝達系の活性を確実に誘導することが可能なガス組成物が高い濃度で溶存したガス溶存水溶液を製造することができる。

【0121】

ガス溶存水溶液製造システム１０（ガス溶存水溶液製造方法）は、ガス溶存水溶液第１給水ポンプ６８（第１給水ポンプ）によってガス溶存水溶液の水圧が０．５～０．７ＭＰａの範囲に加圧されるから、ガス溶存水溶液の水圧を前記範囲にすることでガス溶存水溶液に水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）を容易に溶存させることができ、水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）が高濃度に溶存したガス溶存水溶液を製造することができる。

【0122】

ガス溶存水溶液を殺菌槽１６とガス溶存水溶液製造槽１５との間で複数回（設定回数）循環させた後、コントロールサーバ２２は、第６電磁弁７１の制御部にＯＦＦ信号を送信し、第６電磁弁７１の制御部が第６電磁弁７１のバルブを閉めてバイパス管路６４を閉鎖する。コントロールサーバ２２は、第７電磁弁７９の制御部にＯＮ信号を送信し、第７電磁弁７９の制御部が第７電磁弁７９のバルブを開けて第２水溶液管路７２を開放する。コントロールサーバ２２は、第２チラー１４の制御部にＯＮ信号を送信し、第２チラー１４の制御部が第２チラー１４を稼働させる。

【0123】

更に、コントロールサーバ２２は、ガス溶存水溶液第２給水ポンプ８０の制御部にＯＮ信号を送信し、ガス溶存水溶液第２給水ポンプ８０の制御部がガス溶存水溶液第２給水ポンプ８０を稼働させる。コントロールサーバ２２は、ガス溶存水溶液第２流量計８１と第４圧力計８２とに計測信号を送信するとともに、第８電磁弁８３の制御部にＯＮ信号を送信する。稼働したガス溶存水溶液第２流量計８１がガス溶存水溶液の流量計測を開始し、稼働した第４圧力計８２がガス溶存水溶液の圧力計測を開始する。第８電磁弁８３の制御部が第８電磁弁８３のバルブを開けて注水管路７３を開放する。

【0124】

殺菌槽１６からガス溶存水溶液製造槽１５に複数回還流したガス溶存水溶液は、第２水溶液管路７２に流入し、ガス溶存水溶液第２給水ポンプ８０によって圧送され、図７に矢印Ｌ８で示すように、第５フィルターユニット７８を通流するとともに第７電磁弁７９を通って攪拌混入槽１７に流入する。ガス溶存水溶液製造システム１０（ガス溶存水溶液製造方法）では、第２水溶液管路７２を通流するガス溶存水溶液がガス溶存水溶液第２給水ポンプ８０によって０．５～０．７ＭＰａの水圧に加圧され、前記水圧のガス溶存水溶液が攪拌混入槽１７に流入する。

【0125】

攪拌混入槽１７では、低速攪拌羽根７７が所定の回転数で回転し、栄養素収容槽１８に収容された栄養素（ミネラル）が注入管路７３を通って攪拌混入槽１７に流入するとともに、ガス溶存水溶液が攪拌混入槽１７に流入し、ガス溶存水溶液と栄養素とが低速攪拌羽根７７によって攪拌混合され、ガス溶存水溶液に栄養素が溶解（混入）したガス溶存水溶液が作られる（栄養素混合工程）。

【0126】

ガス溶存水溶液又は栄養素が溶解（混入）されたガス溶存水溶液が冷却行き管路７４を通って第２チラー１４に流入し、第２チラー１４によって冷却されたガス溶存水溶液が冷却還り管路７５を通って攪拌混入槽１７に流入する。尚、攪拌混入槽１７においてガス溶存水溶液に栄養素を混入しない場合もある。攪拌混入槽１７によって栄養素が溶解されたガス溶存水溶液又は栄養素を混入しないガス溶存水溶液は、抽出管路７６から所定の収容容器に収容される。収容容器に収容されたガス溶存水溶液は、冷蔵庫において約１～４℃で冷蔵保存される。

【0127】

ガス溶存水溶液製造システム（ガス溶存水溶液製造方法）は、攪拌混入槽１７に流入するガス溶存水溶液の水圧がガス溶存水溶液第２給水ポンプ８０（第２給水ポンプ）によって０．５～０．７ＭＰａの範囲に加圧されるから、ガス溶存水溶液の水圧を前記範囲にすることで水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）がガス溶存水溶液に高濃度で溶存した状態を維持しつつ、そのガス溶存水溶液に所定の栄養素を溶解（混入）させることができ、水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）が溶存するとともに所定の栄養素が溶解したガス溶存水溶液を製造することができる。

【0128】

ガス溶存水溶液製造システム（ガス溶存水溶液製造方法）は、攪拌混入槽１７に流入したガス溶存水溶液が第２チラー１４（チラー）によって所定温度（０．５～１℃）に冷却されるから、ガス溶存水溶液を所定の低温に冷却することで、ガス溶存水溶液からの水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）の抜けを防ぎつつ、ガス溶存水溶液に所定の栄養素を容易に溶解（混入）させることができる。

【0129】

攪拌混入槽１７の内部に栄養素が溶解（混入）したガス溶存水溶液又は栄養素を混入しないガス溶存水溶液の設定料が貯水された後、コントロールサーバ２２は、ガス溶存水溶液第２給水ポンプ８０の制御部にＯＦＦ信号を送信し、ガス溶存水溶液第２給水ポンプ８０の制御部がガス溶存水溶液第２給水ポンプ８０の稼働を停止させる。コントロールサーバ２２は、第７電磁弁７９及び第８電磁弁８３の制御部にＯＦＦ信号を送信し、第７電磁弁７９の制御部が第７電磁弁７９のバルブを閉めて第２水溶液管路７２を閉鎖し、第８電磁弁８３の制御部が第８電磁弁８３のバルブを閉めて注入管路７３を閉鎖する。

【0130】

ガス溶存水溶液製造システム１０（ガス溶存水溶液製造方法）によって製造されたガス溶存水溶液では、ウルトラファインバブルの表面に所定の電荷が帯電し、ウルトラファインバブルの表面に水素イオン（Ｈ₊）（水素ガス）と酸素分子（Ｏ_２）（酸素ガス）とのうちの少なくとも一方が電気的に結合している。

【0131】

ガス溶存水溶液製造システム１０（ガス溶存水溶液製造方法）によって製造されたガス溶存水溶液は、ガス組成物の全ガス量（全質量）に対する水素イオン（Ｈ₊）（水素ガス）の濃度が０．５～０．８０ｐｐｍの範囲にあり、ガス組成物の全ガス量（全質量）に対する酸素分子（Ｏ_２）（酸素ガス）の濃度が１２．５～１５．５ｐｐｍの範囲にある。ガス組成物では、水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とが非結合の分離した状態にある。

【0132】

ガス組成物における水素イオン（Ｈ₊）の濃度が０．５ｐｐｍ未満であり、ガス組成物における酸素分子（Ｏ_２）の濃度が１２．５ｐｐｍ未満の場合、細胞のミトコンドリアを活性化させることができない。しかし、ガス溶存水溶液製造システム１０（ガス溶存水溶液製造方法）によって製造されたガス溶存水溶液は、ガス組成物の全ガス量（全質量）に対する水素イオン（Ｈ₊）の濃度が前記範囲にあり、ガス組成物の全ガス量（全質量）に対する酸素分子（Ｏ_２）の濃度が前記範囲にあり、ガス組成物（水素イオン、酸素分子）がナノサイズのウルトラファインバブルの状態でガス溶存水溶液に溶存しているから、ナノバブルの状態でガス溶存水溶液に溶存する水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とがミトコンドリアの外膜から内膜に容易に進入し、水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）がミトコンドリアの電子伝達系の活性を誘導しつつＡＴＰの産生を誘導し、ミトコンドリアを確実に活性化させることができる。

【0133】

ガス溶存水溶液製造システム１０（ガス溶存水溶液製造方法）によって製造されたガス溶存水溶液は、ガス組成物の粒径が１００ｎｍ以下であり、ガス溶存水溶液１ｃｃの中に５～１０臆個のガス組成物のウルトラファインバブルが溶存している。ガス組成物の粒径が１００ｎｍを超過し、ガス溶存水溶液１ｃｃの中に溶存するガス組成物のウルトラファインバブルの個数が５臆個未満では、ガス溶存水溶液におけるガス組成物（水素イオン、酸素分子）の上昇速度が速くなり、ガス組成物がガス溶存水溶液内に長時間留まることはなく、ガス組成物の水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）を長時間利用することができない。

【0134】

ガス溶存水溶液製造システム１０（ガス溶存水溶液製造方法）によって製造されたガス溶存水溶液は、前記粒径のガス組成物のウルトラファインバブルがガス溶存水溶液の１ｃｃの中に５～１０臆個溶存するから、ガス溶存水溶液におけるガス組成物（水素イオン、酸素分子）の上昇速度が遅く、ガス組成物がガス溶存水溶液内に長時間留まり、そのガス組成物の水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）を長時間利用することができる。

【0135】

ガス溶存水溶液製造システム１０（ガス溶存水溶液製造方法）は、電気分解装置１２が純水（水）を電気分解して水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とから形成されたガス組成物を生成し、第１及び第２ウルトラファインバブル生成装置５２，５３が第１チラー１３によって所定温度に冷却された純水に電気分解装置１２によって生成された水素イオン（Ｈ₊）（水素ガス）及び酸素分子（Ｏ_２）（酸素ガス）をウルトラファインバブルの状態で溶存させるから、細胞のミトコンドリアの電子伝達系の活性を誘導することが可能なガス組成物が溶存したガス溶存水溶液を製造することができる。

【0136】

ガス溶存水溶液製造システム１０（ガス溶存水溶液製造方法）は、ウルトラファインバブルの状態でガス溶存水溶液に溶存する水素イオン（Ｈ₊）と酸素分子（Ｏ_２）とが細胞のミトコンドリアの外膜から内膜に進入し、水素イオン（Ｈ₊）及び酸素分子（Ｏ_２）がミトコンドリアの電子伝達系の活性を誘導しつつＡＴＰの産生を誘導するから、ミトコンドリアを確実に活性化させることが可能なガス溶存水溶液を製造することができる。

【符号の説明】

【0137】

１０ ガス溶存水溶液製造システム
１１ 純水生成装置
１２ 電気分解装置
１３ 第１チラー
１４ 第２チラー
１５ ガス溶存水溶液製造槽
１６ 殺菌槽
１７ 攪拌混入槽
１８ 栄養素収容槽
１９ 水道管路
２０ 水道給水ポンプ
２１ 第１フィルターユニット
２２ コントロールサーバ
２３ 第１純水管路
２４ 第２純水管路
２５ 電源
２６ 陽極
２７ 陰極
２８ 固体高分子電解質膜
２９ 陽極給電部材
３０ 陰極給電部材
３１ 陽極用貯水槽
３２ 陰極用貯水槽
３３ 陽極主電極
３４ 陰極主電極
３５ 膜/電極接合体
３６ 第２フィルターユニット
３７ 第１電磁弁
３８ 純水第１給水ポンプ
３９ 純水第１流量計
４０ 第1圧力計
４１ 第３フィルターユニット
４２ 第２電磁弁
４３ 純水第２給水ポンプ
４４ 純水第２流量計
４５ 第２圧力計
４６ 冷却行き管路
４７ 冷却還り管路
４８ 注入管路
４９ 炭酸ガス収容槽
５０ 水素給気管路
５１ 酸素給気管路
５２ 第１ウルトラファインバブル生成装置
５３ 第２ウルトラファインバブル生成装置
５４ エアーフィルター
５５ 第３電磁弁
５６ 水素流量計
５７ 水素気圧計
５８ 第１給気ポンプ
５９ 第４電磁弁
６０ 第２給気ポンプ
６１ 酸素流量計
６２ 酸素気圧計
６３ 第１水溶液管路
６４ バイパス管路
６５ 殺菌灯
６６ 第４フィルターユニット
６７ 第５電磁弁
６８ ガス溶存水溶液第１給水ポンプ
６９ ガス溶存水溶液第１流量計
７０ 第３圧力計
７１ 第６電磁弁
７２ 第２水溶液管路
７３ 注入管路
７４ 冷却行き管路
７５ 冷却還り管路
７６ 抽出管路
７７ 低速攪拌羽根
７８ 第５フィルターユニット
７９ 第７電磁弁
８０ ガス溶存水溶液第２給水ポンプ
８１ ガス溶存水溶液第２流量計
８２ 第４圧力計
８３ 第８電磁弁

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】