(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024042977
(43)【公開日】2024-03-29
(54)【発明の名称】水処理システムおよび水処理方法
(51)【国際特許分類】
C02F 1/00 20230101AFI20240322BHJP
C02F 1/20 20230101ALI20240322BHJP
C02F 1/32 20230101ALI20240322BHJP
C02F 1/72 20230101ALI20240322BHJP
【ＦＩ】
C02F1/00 D
C02F1/00 V
C02F1/20 Z
C02F1/32
C02F1/72 101
【審査請求】未請求
【請求項の数】10
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022147932
(22)【出願日】2022-09-16
(71)【出願人】
【識別番号】000004400
【氏名又は名称】オルガノ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100123788
【弁理士】
【氏名又は名称】宮崎 昭夫
(74)【代理人】
【識別番号】100127454
【弁理士】
【氏名又は名称】緒方 雅昭
(72)【発明者】
【氏名】高橋 悠介
(72)【発明者】
【氏名】中村 勇規
(72)【発明者】
【氏名】吉永 尚哉
(72)【発明者】
【氏名】高橋 一重
【テーマコード（参考）】
4D037
4D050
【Ｆターム（参考）】
4D037AA03
4D037AB02
4D037BA18
4D037BA23
4D037BB01
4D037BB02
4D037CA11
4D050AA05
4D050AB07
4D050BB06
4D050BB07
4D050BB09
4D050BB11
4D050BB13
4D050BC09
4D050BD08
4D050CA03
(57)【要約】
【課題】安定的に効率的なＴＯＣの除去を行う。
【解決手段】複数の水処理装置を備え、被処理水を処理する水処理設備と、複数の水処理装置のいずれかに供給される被処理水が供給される水処理管理装置１０と、水処理装置の運転条件を制御する制御装置３０とを有し、水処理管理装置１０は、水処理管理装置１０の通水ラインに通水されている水のＴＯＣ濃度を測定するＴＯＣ測定部１６と、水処理管理装置の通水ラインに通水されている水の特定有機物濃度を測定する特定有機物測定部１７とを有し、制御装置３０は、ＴＯＣ測定部１６が測定したＴＯＣ濃度と、特定有機物測定部１７が測定した特定有機物濃度とに基づいて、水処理装置の運転条件を制御する。
【選択図】図１
【解決手段】複数の水処理装置を備え、被処理水を処理する水処理設備と、複数の水処理装置のいずれかに供給される被処理水が供給される水処理管理装置１０と、水処理装置の運転条件を制御する制御装置３０とを有し、水処理管理装置１０は、水処理管理装置１０の通水ラインに通水されている水のＴＯＣ濃度を測定するＴＯＣ測定部１６と、水処理管理装置の通水ラインに通水されている水の特定有機物濃度を測定する特定有機物測定部１７とを有し、制御装置３０は、ＴＯＣ測定部１６が測定したＴＯＣ濃度と、特定有機物測定部１７が測定した特定有機物濃度とに基づいて、水処理装置の運転条件を制御する。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数の水処理装置を備え、被処理水を処理する水処理設備と、
前記複数の水処理装置のいずれかに供給される前記被処理水が供給される水処理管理装置と、
前記水処理装置の運転条件を制御する制御装置とを有し、
前記水処理管理装置は、
前記水処理管理装置の通水ラインに通水されている水のＴＯＣ濃度を測定する第１の測定部と、
前記水処理管理装置の通水ラインに通水されている水の特定有機物濃度を測定する第２の測定部とを有し、
前記制御装置は、前記第１の測定部が測定したＴＯＣ濃度と、前記第２の測定部が測定した特定有機物濃度とに基づいて、前記水処理装置の運転条件を制御する水処理システム。
前記複数の水処理装置のいずれかに供給される前記被処理水が供給される水処理管理装置と、
前記水処理装置の運転条件を制御する制御装置とを有し、
前記水処理管理装置は、
前記水処理管理装置の通水ラインに通水されている水のＴＯＣ濃度を測定する第１の測定部と、
前記水処理管理装置の通水ラインに通水されている水の特定有機物濃度を測定する第２の測定部とを有し、
前記制御装置は、前記第１の測定部が測定したＴＯＣ濃度と、前記第２の測定部が測定した特定有機物濃度とに基づいて、前記水処理装置の運転条件を制御する水処理システム。
【請求項2】
請求項１に記載の水処理システムにおいて、
前記水処理装置として紫外線照射装置を備え、
前記制御装置は、前記運転条件として前記紫外線照射装置の照射量を制御する水処理システム。
前記水処理装置として紫外線照射装置を備え、
前記制御装置は、前記運転条件として前記紫外線照射装置の照射量を制御する水処理システム。
【請求項3】
請求項２に記載の水処理システムにおいて、
前記制御装置は、前記紫外線照射装置のランプ点灯本数と、処理流量と、ランプ調光との少なくとも１つを制御する水処理システム。
前記制御装置は、前記紫外線照射装置のランプ点灯本数と、処理流量と、ランプ調光との少なくとも１つを制御する水処理システム。
【請求項4】
請求項２または請求項３に記載の水処理システムにおいて、
前記水処理装置として前記紫外線照射装置の前段に配置された脱気装置をさらに備え、
前記制御装置は、前記紫外線照射量と、前記紫外線照射装置の被処理水の溶存酸素濃度との少なくとも１つを制御する水処理システム。
前記水処理装置として前記紫外線照射装置の前段に配置された脱気装置をさらに備え、
前記制御装置は、前記紫外線照射量と、前記紫外線照射装置の被処理水の溶存酸素濃度との少なくとも１つを制御する水処理システム。
【請求項5】
請求項２または請求項３に記載の水処理システムにおいて、
前記紫外線照射装置に通水される前記被処理水に酸化剤を添加する酸化剤添加手段を有し、
前記制御装置は、前記第１の測定部が測定したＴＯＣ濃度と、前記第２の測定部が測定した特定有機物濃度とに基づいて、前記酸化剤添加手段が添加する酸化剤の添加量と前記紫外線照射装置の照射量との少なくとも１つを制御する水処理システム。
前記紫外線照射装置に通水される前記被処理水に酸化剤を添加する酸化剤添加手段を有し、
前記制御装置は、前記第１の測定部が測定したＴＯＣ濃度と、前記第２の測定部が測定した特定有機物濃度とに基づいて、前記酸化剤添加手段が添加する酸化剤の添加量と前記紫外線照射装置の照射量との少なくとも１つを制御する水処理システム。
【請求項6】
請求項５に記載の水処理システムにおいて、
前記酸化剤は、ペルオキシド基を含む硫黄化合物である水処理システム。
前記酸化剤は、ペルオキシド基を含む硫黄化合物である水処理システム。
【請求項7】
請求項２または請求項３に記載の水処理システムにおいて、
前記水処理装置として前記紫外線照射装置の前段または後段に配置された低圧紫外線照射装置をさらに備える水処理システム。
前記水処理装置として前記紫外線照射装置の前段または後段に配置された低圧紫外線照射装置をさらに備える水処理システム。
【請求項8】
請求項７に記載の水処理システムにおいて、
前記制御装置は、前記第１の測定部が測定したＴＯＣ濃度と、前記第２の測定部が測定した有機物濃度とに基づいて、前記低圧紫外線照射装置が照射する紫外線の照射量を制御する水処理システム。
前記制御装置は、前記第１の測定部が測定したＴＯＣ濃度と、前記第２の測定部が測定した有機物濃度とに基づいて、前記低圧紫外線照射装置が照射する紫外線の照射量を制御する水処理システム。
【請求項9】
複数の水処理装置を備え、被処理水を処理する水処理設備と、
前記複数の水処理装置のいずれかに供給される前記被処理水が供給される水処理管理装置と、
前記被処理水に酸化剤を添加する酸化剤添加手段と、
前記水処理装置の運転条件を制御する制御装置とを有し、
前記水処理管理装置は、前記水処理管理装置の通水ラインに通水されている水のＴＯＣ濃度を測定する測定部を有し、
前記制御装置は、前記測定部が測定したＴＯＣ濃度に基づいて、前記酸化剤添加手段が添加する酸化剤の添加量と、前記酸化剤添加手段が前記酸化剤を添加した被処理水に対する、前記複数の水処理装置のうちの紫外線照射装置の照射量との少なくとも１つを制御する水処理システム。
前記複数の水処理装置のいずれかに供給される前記被処理水が供給される水処理管理装置と、
前記被処理水に酸化剤を添加する酸化剤添加手段と、
前記水処理装置の運転条件を制御する制御装置とを有し、
前記水処理管理装置は、前記水処理管理装置の通水ラインに通水されている水のＴＯＣ濃度を測定する測定部を有し、
前記制御装置は、前記測定部が測定したＴＯＣ濃度に基づいて、前記酸化剤添加手段が添加する酸化剤の添加量と、前記酸化剤添加手段が前記酸化剤を添加した被処理水に対する、前記複数の水処理装置のうちの紫外線照射装置の照射量との少なくとも１つを制御する水処理システム。
【請求項10】
複数の水処理装置を用いて被処理水を処理する水処理設備の前記複数の水処理装置のいずれかに供給される前記被処理水が供給される水処理管理装置の通水ラインに通水されている水のＴＯＣ濃度を測定し、
前記水処理管理装置の通水ラインに通水されている水の特定有機物濃度を測定し、
前記測定したＴＯＣ濃度と、前記測定した特定有機物濃度とに基づいて、前記水処理装置の運転条件を制御する水処理方法。
前記水処理管理装置の通水ラインに通水されている水の特定有機物濃度を測定し、
前記測定したＴＯＣ濃度と、前記測定した特定有機物濃度とに基づいて、前記水処理装置の運転条件を制御する水処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、水処理システムおよび水処理方法に関する。
【背景技術】
【0002】
原水から超純水を生成する超純水製造システムなどの水処理システムでは、水処理システムに供給される原水の水質に関心を払う必要がある。例えば、超純水製造システムでは、原水に含まれる有機物質（ＴＯＣ：Ｔｏｔａｌ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃａｒｂｏｎ）を除去するために逆浸透膜（ＲＯ）処理や紫外線（ＵＶ）酸化処理が行われている。しかしながら、除去の対象となる有機物には、これらの処理によって除去しやすい成分とそうではない成分とが存在する。超純水製造システムに供給される原水としては、これまで、水道水や自来水、工業用水などが使用されてきた。近年では水資源の有効利用を図るため、生活で発生した下水等を処理して再利用する再生水や工場排水等を処理して再利用する回収水が原水として使用されるようになってきている。これらの再生水や回収水の水質は、工業用水などの水質と比較して、不安定となる傾向がある。また、再生水や回収水には、予期しない有機物が突発的に含まれることがある。除去しにくい有機物が原水に混入すると、超純水製造システムの出口から供給される処理水の水質に影響を及ぼすおそれがある。そのため、超純水製造システムにおける原水の水質を監視し、水質に応じて超純水製造システムの運転を適切に管理することの重要性がより高まってきている。
【0003】
また、純水水質への高度な要求が顕在化するに伴って、近年、純水中に含まれる微量の有機物を分解し除去する様々な方法の検討がなされている。そのような方法の代表的なものとして、紫外線酸化処理による有機物の分解除去工程を用いる方法が挙げられる。その中で、ペルオキシド基を含む硫黄化合物を被処理水に添加し、その後紫外線照射することで、被処理水中のＴＯＣを促進酸化する技術が考えられている。特許文献１には、メインシステムとは別に設けられたサブ超純水製造システムの処理水ＴＯＣ値に基づいて、メインシステムの紫外線照射装置の照射量を制御する技術が記載されている。また、特許文献２には、硫黄化合物を被処理水に添加し、紫外線処理する技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０１６－１０７２４９号公報
【特許文献2】特開２００８－２２９４１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
特許文献１に記載された技術において、メインシステムの紫外線酸化装置は低圧ＵＶ酸化装置であると推測される。低圧ＵＶで除去しやすいＴＯＣ成分のみを検出した場合にはこの手段は有効であるが、サブ超純水製造システムの被処理水にはＲＯまたは低圧ＵＶ酸化装置で除去し難い難分解性ＴＯＣが含まれるおそれがある。その際、サブ超純水製造システムの処理水ＴＯＣ値に基づいてメインシステムのＵＶ照射量を制御すると、その照射量が適当ではない（例えば、過剰な）量となってしまうことが考えられる。また、過剰照射しても低圧ＵＶで除去し難いＴＯＣ成分（例えば尿素など）は処理水にリークするため、水質低下を引き起こしてしまう。また、特許文献２には、照射量や過硫酸濃度を制御する記載はない。特許文献２に記載された方法では、被処理水中のＴＯＣに変動があった際にＴＯＣに対しての照射量、添加量に過剰、不足が生じ、安定的な処理が困難となってしまう。また、過剰な照射、添加量は消費電力増加につながるため、運用コストが高くなってしまう。
【0006】
このように、上述した技術においては、安定的に効率的なＴＯＣの除去を行うことができないという問題点がある。
【0007】
本発明の目的は、安定的に効率的なＴＯＣの除去を行うことができる水処理システムおよび水処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明の水処理システムは、
複数の水処理装置を備え、被処理水を処理する水処理設備と、
前記複数の水処理装置のいずれかに供給される前記被処理水が供給される水処理管理装置と、
前記水処理装置の運転条件を制御する制御装置とを有し、
前記水処理管理装置は、
前記水処理管理装置の通水ラインに通水されている水のＴＯＣ濃度を測定する第１の測定部と、
前記水処理管理装置の通水ラインに通水されている水の特定有機物濃度を測定する第２の測定部とを有し、
前記制御装置は、前記第１の測定部が測定したＴＯＣ濃度と、前記第２の測定部が測定した特定有機物濃度とに基づいて、前記水処理装置の運転条件を制御する。
複数の水処理装置を備え、被処理水を処理する水処理設備と、
前記複数の水処理装置のいずれかに供給される前記被処理水が供給される水処理管理装置と、
前記水処理装置の運転条件を制御する制御装置とを有し、
前記水処理管理装置は、
前記水処理管理装置の通水ラインに通水されている水のＴＯＣ濃度を測定する第１の測定部と、
前記水処理管理装置の通水ラインに通水されている水の特定有機物濃度を測定する第２の測定部とを有し、
前記制御装置は、前記第１の測定部が測定したＴＯＣ濃度と、前記第２の測定部が測定した特定有機物濃度とに基づいて、前記水処理装置の運転条件を制御する。
【0009】
また、本発明の水処理システムは、
複数の水処理装置を備え、被処理水を処理する水処理設備と、
前記複数の水処理装置のいずれかに供給される前記被処理水が供給される水処理管理装置と、
前記被処理水に酸化剤を添加する酸化剤添加手段と、
前記水処理装置の運転条件を制御する制御装置とを有し、
前記水処理管理装置は、前記水処理管理装置の通水ラインに通水されている水のＴＯＣ濃度を測定する測定部を有し、
前記制御装置は、前記測定部が測定したＴＯＣ濃度に基づいて、前記酸化剤添加手段が添加する酸化剤の添加量と、前記酸化剤添加手段が前記酸化剤を添加した被処理水に対する、前記複数の水処理装置のうちの紫外線照射装置の照射量との少なくとも１つを制御する。
複数の水処理装置を備え、被処理水を処理する水処理設備と、
前記複数の水処理装置のいずれかに供給される前記被処理水が供給される水処理管理装置と、
前記被処理水に酸化剤を添加する酸化剤添加手段と、
前記水処理装置の運転条件を制御する制御装置とを有し、
前記水処理管理装置は、前記水処理管理装置の通水ラインに通水されている水のＴＯＣ濃度を測定する測定部を有し、
前記制御装置は、前記測定部が測定したＴＯＣ濃度に基づいて、前記酸化剤添加手段が添加する酸化剤の添加量と、前記酸化剤添加手段が前記酸化剤を添加した被処理水に対する、前記複数の水処理装置のうちの紫外線照射装置の照射量との少なくとも１つを制御する。
【0010】
また、本発明の水処理方法は、
複数の水処理装置を用いて被処理水を処理する水処理設備の前記複数の水処理装置のいずれかに供給される前記被処理水が供給される水処理管理装置の通水ラインに通水されている水のＴＯＣ濃度を測定し、
前記水処理管理装置の通水ラインに通水されている水の特定有機物濃度を測定し、
前記測定したＴＯＣ濃度と、前記測定した特定有機物濃度とに基づいて、前記水処理装置の運転条件を制御する。
複数の水処理装置を用いて被処理水を処理する水処理設備の前記複数の水処理装置のいずれかに供給される前記被処理水が供給される水処理管理装置の通水ラインに通水されている水のＴＯＣ濃度を測定し、
前記水処理管理装置の通水ラインに通水されている水の特定有機物濃度を測定し、
前記測定したＴＯＣ濃度と、前記測定した特定有機物濃度とに基づいて、前記水処理装置の運転条件を制御する。
【発明の効果】
【0011】
本発明においては、安定的に効率的なＴＯＣの除去を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【図1】本発明の水処理システムの第１の実施の形態を示す図である。
【図3】本発明の水処理システムの第２の実施の形態を示す図である。
【図5】本発明の水処理システムの第３の実施の形態を示す図である。
【図7】本発明の水処理システムの第４の実施の形態を示す図である。
【図9】本発明の水処理システムの第５の実施の形態を示す図である。
【図11】本発明の水処理システムの第６の実施の形態を示す図である。
【図13】本発明の水処理システムの実施例１－１のための構成を示す図である。
【図14】実施例１－１と比較する比較例１－１のための構成を示す図である。
【図15】本発明の水処理システムの実施例１－２のための構成を示す図である。
【図16】実施例１－２と比較する比較例１－２のための構成を示す図である。
【図17】本発明の水処理システムの実施例２－１のための構成を示す図である。
【図18】本発明の水処理システムの実施例２－２のための構成を示す図である。
【図19】本発明の水処理システムの実施例３－１のための構成を示す図である。
【図20】本発明の水処理システムの実施例３－２のための構成を示す図である。
【図21】本発明の水処理システムの実施例４－１のための構成を示す図である。
【図22】本発明の水処理システムの実施例４－２のための構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0013】
以下に、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
（第１の実施の形態）
（第１の実施の形態）
【0014】
図１は、本発明の水処理システムの第１の実施の形態を示す図である。本形態における水処理システムは図１に示すように、尿素を除去する機能を持つ水処理装置２０と、紫外線照射装置であるＵＶ２１と、水処理装置２２とを備える水処理設備２３１を有している。水処理装置２０，２２は、例えば、ろ過装置、活性炭、脱イオン装置、逆浸透膜装置、脱気装置、紫外線照射装置等の対象液を処理するための装置（単元装置）の１つ、または複数が組み合わされて構成されている。例えば、水処理装置２０は、ろ過装置、活性炭、脱イオン装置および逆浸透膜装置を備え、水処理装置２２は、脱イオン装置、脱気装置および膜処理装置を備えている。水処理設備２３１（具体的には水処理装置２０）には、被処理水である原水が供給され、水処理装置２０、ＵＶ２１および水処理装置２２で順次処理されることにより、所定の水質の水（例えば、純水等）が製造される。製造された水は、水処理装置２２からユースポイントや他の水処理設備等へ供給される。図１に示した例では、水処理設備２３１を構成する複数の水処理装置が被処理水の通水ラインに沿って互いに直列に配置されているが、複数の水処理装置の一部または全てが互いに並列に配置されていても良い。これは、以下に説明する他の実施の形態についても同様である。本形態における水処理システムは、水処理設備２３１に供給される被処理水の少なくとも一部が供給される水処理管理装置１０を有する。水処理管理装置１０は、活性炭であるＡＣ１１と、逆浸透膜装置であるＲＯ１２と、電気再生式純水装置であるＥＤＩ１３と、紫外線照射装置であるＵＶ１４と、イオン交換樹脂充填装置であるＣＰ１５と、ＴＯＣ測定部１６と、特定有機物測定部１７とを有する。本形態では、ＡＣ１１と、ＲＯ１２と、ＥＤＩ１３と、ＵＶ１４と、ＣＰ１５とが被処理水の通水ラインに沿って直列に配置されており、水処理設備２３１に供給される被処理水の少なくとも一部がＡＣ１１、ＲＯ１２、ＥＤＩ１３、ＵＶ１４およびＣＰ１５へ順番に通水される。さらに、本形態における水処理システムは、制御装置３０を有する。
【0015】
水処理管理装置１０は、図１に示すようなＡＣ１１、ＲＯ１２、ＵＶ１４や、イオン交換樹脂充填装置等のＴＯＣ成分を除去するための単位操作を実行する水処理装置が設けられており、メインの水処理設備２３１の構成と等価である必要はない。水処理管理装置１０は、被処理水に含まれるＴＯＣを検知する時間を早くするためにメインの水処理設備２３１と等価ではなく、簡易的に構成されていることが好ましい。イオン交換樹脂充填装置は、図１に示すようにＥＤＩ１３でもよい。また、ＣＰ１５は、ＥＤＩ１３でも良い。水処理管理装置１０内に設けられた水処理装置への通水順序に制限はないが、ＵＶの処理効率、イオン交換樹脂の寿命を考慮して、活性炭、ＲＯ、ＥＤＩ、ＵＶ、イオン交換樹脂充填装置とするのが好ましい。水処理管理装置１０には、処理性能を向上させるために脱気膜などの脱気装置を設けても良い。また、ＡＣ１１、ＲＯ１２、ＥＤＩ１３、ＵＶ１４およびＣＰ１５それぞれは多段でも良い。このことは、以下に説明する第２～６の実施の形態についても同じである。
【0016】
ＴＯＣ測定部１６は、水処理管理装置１０の通水ラインに通水されている水のＴＯＣ濃度を測定する第１の測定部（ＴＯＣ計）である。ＴＯＣ測定部１６は、測定したＴＯＣ濃度の値を制御装置３０へ出力する。なお、ＴＯＣ測定部１６は、ＣＰ１５を通水した水だけではなく、他の水処理装置が処理した水のＴＯＣ濃度を測定しても良い。
【0017】
特定有機物測定部１７は、ＴＯＣ測定部１６が測定するＴＯＣ以外の指標を用いて有機物濃度を測定する第２の測定部である。特定有機物測定部１７が有機物濃度を測定する測定ポイントは、ＴＯＣ測定部１６がＴＯＣ濃度を測定するポイントと同じポイントであっても良いし、異なるポイントであっても良い。例えば、ＴＯＣ測定部１６がＣＰ１５に限らず、水処理管理装置１０に設けられたいずれかの水処理装置が処理した水のＴＯＣ濃度を測定した場合、特定有機物測定部１７は、その水処理装置が処理した水についてＴＯＣ以外の指標を用いて有機物濃度を測定しても良い。または、例えば、ＴＯＣ測定部１６がＲＯ１２の前段の測定ポイントでＴＯＣ濃度を測定した場合、特定有機物測定部１７は、ＲＯ１２での特定有機物阻止率を考慮して、ＣＰ１５の処理水の特定有機物濃度を推測しても良い。または、例えば、ＴＯＣ測定部１６がＣＰ１５の処理水のＴＯＣ濃度を測定し、特定有機物測定部１７がＡＣ１１の前段またはＲＯ１２の前段の測定ポイントで特定有機物濃度を測定した場合、特定有機物測定部１７は、ＲＯ１２での特定有機物阻止率を考慮して、ＣＰ１５の処理水の特定有機物濃度を推測しても良い。特定有機物測定部１７は、例えば、尿素の濃度を測定する尿素計でも良い。特定有機物測定部１７は、測定した有機物濃度の値を制御装置３０へ出力する。また、特定有機物測定部１７は、ＣＰ１５の処理水の特定有機物濃度を推測した場合、推測した値を測定値として制御装置３０へ出力する。
【0018】
制御装置３０は、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ濃度の値（ＴＯＣ値）と、特定有機物測定部１７から出力されてきた特定有機物濃度の値とに基づいて、水処理設備２３１を構成する水処理装置の運転条件を制御する。本形態においては、制御装置３０は、ＵＶ２１が照射する紫外線照射量を制御する。ここで、制御装置３０が制御する紫外線照射量は、単位流量当たりの照射電力である。例えば、制御装置３０は、特定有機物測定部１７から出力されてきた特定有機物濃度の値をＴＯＣ値へ変換（換算）する。この変換は、有機物分子内の炭素の原子量と有機物（例えば、尿素）の分子量との比率を用いて行われる。制御装置３０は、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ値（第１のＴＯＣ値）と、特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値から換算されたＴＯＣ値（第２のＴＯＣ値）との差分や比率（第１のＴＯＣ値に対する第２のＴＯＣ値の比率。以下同じ。）に基づいて、ＵＶ２１が照射する紫外線照射量を算出しても良い。制御装置３０は、紫外線照射量を算出する際、第１のＴＯＣ値と第２のＴＯＣ値との差分や比率から紫外線照射量を算出するための所定の算出式や対応付けを用いても良いし、当該差分や比率とそのときの水処理装置２２からユースポイントへ供給される水の水質（例えば、ＴＯＣ値や溶存酸素濃度）とに基づいてあらかじめ算出された閾値（１つでも複数でも良い）との比較を用いても良い。制御装置３０は、紫外線照射量として、ＵＶ２１のランプ点灯本数と、処理流量と、ランプ調光との少なくとも１つを制御する。また、制御装置３０は、水処理装置２０，２２が具備するＵＶが照射する紫外線照射量を制御しても良い。また、制御装置３０は、第１のＴＯＣ値と第２のＴＯＣ値との差分や比率に基づいて、ＵＶ２１の運転を開始または停止させるものでも良い。例えば、差分が閾値よりも小さな値である場合、制御装置３０は、ＵＶ２１の運転を停止させ、差分が閾値以上である場合、制御装置３０は、ＵＶ２１の運転を開始させても良い。なお、水処理設備２３１を構成する水処理装置に、逆浸透膜装置を設け、制御装置３０が、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ濃度の値（ＴＯＣ値）と、特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値とに基づいて、逆浸透膜装置の回収率や水温等を制御しても良い。
【0019】
以下に、図１に示した制御装置３０における処理について説明する。図２は、図１に示した制御装置３０における処理の一例を説明するためのフローチャートである。ここでは、特定有機物測定部１７が尿素の濃度を測定する場合を例に挙げて説明する。
【0020】
まず、制御装置３０は、ＴＯＣ測定部１６が測定したＴＯＣ値を取得する（ステップＳ１）。また、制御装置３０は、特定有機物測定部１７が測定した尿素の濃度の値を取得する（ステップＳ２）。制御装置３０は、取得した尿素の濃度の値をＴＯＣ値に換算する。制御装置３０は、取得したＴＯＣ値と、尿素濃度から換算したＴＯＣ値とに基づいて、紫外線照射量を算出する（ステップＳ３）。そして、制御装置３０は、算出した紫外線照射量を照射するようにＵＶ２１を制御する（ステップＳ４）。
【0021】
このように本形態においては、水処理設備２３１に供給される被処理水の少なくとも一部が通水（供給）される水処理管理装置１０を設け、水処理管理装置１０の通水ライン上に通水されている水のＴＯＣ値と、特定有機物濃度とを測定器が測定する。制御装置３０が、測定されたＴＯＣ値と特定有機物濃度とに基づいて、水処理設備２３１に設けられた紫外線照射装置の紫外線照射量を制御する。特定有機物としては、例えば、逆浸透膜装置や紫外線照射装置で除去し難い尿素が挙げられる。尿素の処理は臭化物と次亜塩素酸とを用いた処理が一般的であるが、その処理時間が比較的長く、水処理管理装置に尿素処理装置を設けることが難しい。そのため、水処理管理装置で除去し難い尿素を考慮した測定値に基づいて、紫外線照射装置が照射する紫外線の照射量を制御することで効率よくＴＯＣの除去が可能となる。
（第２の実施の形態）
（第２の実施の形態）
【0022】
図３は、本発明の水処理システムの第２の実施の形態を示す図である。本形態における水処理システムは図３に示すように、水処理装置２０と、脱気装置であるＭＤ２３と、紫外線照射装置であるＵＶ２１と、水処理装置２２とを備える水処理設備２３２を有している。水処理設備２３２（具体的には水処理装置２０）には、被処理水である原水が供給され、水処理装置２０、ＭＤ２３、ＵＶ２１および水処理装置２２で順次処理されることにより、所定の水質の水（例えば、純水等）が製造される。製造された水は、水処理装置２２からユースポイントや他の水処理設備等へ供給される。また、本形態における水処理システムは、水処理設備２３２に供給される被処理水の少なくとも一部が供給される水処理管理装置１０を有する。水処理管理装置１０は、第１の実施の形態におけるものと同じものである。さらに、本形態における水処理システムは、制御装置３１を有する。
【0023】
制御装置３１は、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ濃度の値（ＴＯＣ値）と、特定有機物測定部１７から出力されてきた特定有機物濃度の値とに基づいて、水処理設備２３２を構成する水処理装置の運転条件を制御する。本形態においては、制御装置３１は、ＭＤ２３を制御して、ＵＶ２１の被処理水の溶存酸素濃度を制御する。水処理管理装置１０にて測定された値に基づいて、制御装置３１が水処理設備２３２のＵＶ２１の被処理水の溶存酸素濃度を設定し、水処理設備２３２の溶存酸素計の値が設定値となるように、溶存酸素濃度を制御することができる。例えば、ＭＤ２３とＵＶ２１との間に溶存酸素計を設けることができる。ＭＤ２３として、例えば、真空脱気装置、膜脱気装置および窒素脱気装置が挙げられる。その他の脱気装置として、水素を添加した上でＰｄ触媒を用いて酸素を水素と反応させて水とすることにより酸素を除去するものを用いることができる。ＭＤ２３として真空脱気装置を用いる場合、制御装置３１は、真空ポンプ等を用いて真空度を調整して溶存酸素濃度を制御する。このとき、制御装置３１は、インバータを用いて制御することができる。例えば、制御装置３１は、特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値をＴＯＣ値へ変換（換算）する。この変換は、有機物分子内の炭素の原子量と有機物（例えば、尿素）の分子量との比率を用いて行われる。制御装置３１は、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ値と、特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値から換算されたＴＯＣ値との差分や比率に基づいて、ＭＤ２３が制御するＵＶ２１の被処理水の溶存酸素濃度を算出しても良い。制御装置３１は、溶存酸素濃度を算出する際、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ値と特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値から換算されたＴＯＣ値との差分や比率から溶存酸素濃度を算出するための所定の算出式や対応付けを用いても良いし、当該差分や比率とそのときの水処理装置２２からユースポイントへ供給される水の水質（例えば、ＴＯＣ値や溶存酸素濃度）とに基づいてあらかじめ算出された閾値（１つでも複数でも良い）との比較を用いても良い。また、制御装置３１は、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ値と特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値から換算されたＴＯＣ値との差分や比率に基づいて、ＭＤ２３の運転を開始または停止させるものでも良い。例えば、差分が閾値（１つでも複数でも良い）よりも小さな値である場合、制御装置３１は、ＭＤ２３の運転を停止させ、差分が閾値以上である場合、制御装置３１は、ＭＤ２３の運転を開始させても良い。なお、制御装置３１は、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ値と、特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値から換算されたＴＯＣ値との差分や比率に基づいて、ＵＶ２１が照射する紫外線照射量とＵＶ２１の被処理水の溶存酸素濃度とを算出しても良い。この場合、制御装置３１は、算出した紫外線照射量の紫外線をＵＶ２１が照射するように制御し、被処理水の溶存酸素濃度が算出した溶存酸素濃度になるようにＭＤ２３を制御する。また、制御装置３１は、ＵＶ２１の動作とＭＤ２３の動作との組み合わせにより、算出した紫外線照射量の照射または算出した溶存酸素濃度を得るような制御を行っても良い。なお、制御装置３１が紫外線照射量の照射と溶存酸素濃度とのどちらを優先して制御するかは、処理性能の他、運用コストや後段に配置された水処理装置への負荷を考慮して決定しても良い。
【0024】
以下に、図３に示した制御装置３１における処理について説明する。図４は、図３に示した制御装置３１における処理の一例を説明するためのフローチャートである。ここでは、特定有機物測定部１７が尿素の濃度を測定する場合を例に挙げて説明する。
【0025】
まず、制御装置３１は、ＴＯＣ測定部１６が測定したＴＯＣ値を取得する（ステップＳ１１）。また、制御装置３１は、特定有機物測定部１７が測定した尿素の濃度の値を取得する（ステップＳ１２）。制御装置３１は、取得した尿素の濃度の値をＴＯＣ値に換算する。制御装置３１は、取得したＴＯＣ値と、尿素濃度から換算したＴＯＣ値とに基づいて、溶存酸素濃度を算出する（ステップＳ１３）。そして、制御装置３１は、被処理水の溶存酸素濃度が算出した溶存酸素濃度になるようにＭＤ２３を制御する（ステップＳ１４）。
【0026】
このように本形態においては、水処理設備２３２に供給される被処理水の少なくとも一部が通水（供給）される水処理管理装置１０を設け、水処理管理装置１０の通水ライン上に通水されている水のＴＯＣ値と、特定有機物濃度とを測定器が測定する。制御装置３１が、測定されたＴＯＣ値と特定有機物濃度とに基づいて、水処理設備２３２に設けられた脱気装置を制御する。水処理管理装置で除去し難い尿素を考慮した測定値に基づいて、溶存酸素濃度を制御することで効率よくＴＯＣの除去が可能となる。
（第３の実施の形態）
（第３の実施の形態）
【0027】
図５は、本発明の水処理システムの第３の実施の形態を示す図である。本形態における水処理システムは図５に示すように、水処理装置２０と、紫外線照射装置であるＵＶ２１と、水処理装置２２とを備える水処理設備２３３を有している。水処理設備２３３（具体的には水処理装置２０）には、被処理水である原水が供給され、水処理装置２０、ＵＶ２１および水処理装置２２で順次処理されることにより、所定の水質の水（例えば、純水等）が製造される。製造された水は、水処理装置２２からユースポイントや他の水処理設備等へ供給される。また、本形態における水処理システムは、水処理設備２３３に供給される被処理水の少なくとも一部が供給される水処理管理装置１０を有する。水処理管理装置１０は、第１の実施の形態におけるものと同じものである。さらに、本形態における水処理システムは、制御装置３２と、酸化剤添加手段である硫黄化合物添加部２４とを有する。硫黄化合物添加部２４は、水処理設備２３３に含まれていても良い。
【0028】
硫黄化合物添加部２４は、制御装置３２の制御に基づいて、ＵＶ２１に通水される被処理水に酸化剤を添加する。硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤は、過酸化水素、ハロゲンオキソ酸、過マンガン酸塩、ペルオキシド基を含む硫黄化合物などの一般的な酸化剤であっても良い。硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤は、除去性能の観点でペルオキシド基を含む硫黄化合物であることが好ましい。ペルオキシド基を含む硫黄化合物としては、例えば、ペルオキソ二硫酸アンモニウムやペルオキソ二硫酸ナトリウム、ペルオキソ二硫酸カリウム等が挙げられる。これらの硫黄化合物は、単独でまたは組み合わせで使用される。なお、本形態におけるＵＶ２１は、内部の圧力が所定の圧力の範囲である（第１の圧力以上であり、第２の圧力未満である）中圧紫外線照射装置または内部の圧力が所定の圧力（第２の圧力）以上である高圧紫外線照射装置である。ＵＶ２１は、硫黄化合物添加部２４から酸化剤が添加された被処理水に紫外線を照射する。ＵＶ２１は、内部の圧力が所定の圧力（第１の圧力）未満である低圧紫外線照射装置でも良いが、紫外線ランプ１本当たりの照射電力が高い中圧紫外線照射装置や、高圧紫外線照射装置を用いる方が装置をコンパクトにできる点で好ましい。なお、ＵＶ２１の後段に、還元手段を設けても良い。
【0029】
制御装置３２は、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ濃度の値（ＴＯＣ値）と、特定有機物測定部１７から出力されてきた特定有機物濃度の値とに基づいて、水処理設備２３３を構成する水処理装置の運転条件を制御する。本形態においては、制御装置３２は、硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤の添加量を制御する。こうすることで、制御装置３２は、ＵＶ２１の被処理水の酸化剤濃度を制御することができる（以下の説明についても同様）。例えば、制御装置３２は、特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値をＴＯＣ値へ変換（換算）する。この変換は、有機物分子内の炭素の原子量と有機物（例えば、尿素）の分子量との比率を用いて行われる。制御装置３２は、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ値と、特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値から換算されたＴＯＣ値との差分や比率に基づいて、硫黄化合物添加部２４から添加する酸化剤の添加量を算出しても良い。制御装置３２は、酸化剤の添加量を算出する際、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ値と特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値から換算されたＴＯＣ値との差分や比率から酸化剤の添加量を算出するための所定の算出式や対応付けを用いても良いし、当該差分や比率とそのときの水処理装置２２からユースポイントへ供給される水の水質（例えば、ＴＯＣ値や溶存酸素濃度）とに基づいてあらかじめ算出された閾値（１つでも複数でも良い）との比較を用いても良い。なお、制御装置３２は、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ値と、特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値から換算されたＴＯＣ値との差分や比率に基づいて、ＵＶ２１が照射する紫外線照射量と硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤の添加量とを算出しても良い。この場合、制御装置３２は、算出した紫外線照射量の紫外線をＵＶ２１が照射するように制御し、算出した濃度の酸化剤を添加するように硫黄化合物添加部２４を制御する。また、制御装置３２は、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ値と特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値から換算されたＴＯＣ値との差分や比率に基づいて、ＵＶ２１の運転および硫黄化合物添加部２４からの酸化剤の添加を開始または停止させるものでも良い。例えば、差分が閾値よりも小さな値である場合、制御装置３２は、ＵＶ２１の運転および硫黄化合物添加部２４からの酸化剤の添加を停止させ、差分が閾値以上である場合、制御装置３２は、ＵＶ２１の運転および硫黄化合物添加部２４からの酸化剤の添加を開始させても良い。
【0030】
以下に、図５に示した制御装置３２における処理について説明する。図６は、図５に示した制御装置３２における処理の一例を説明するためのフローチャートである。ここでは、特定有機物測定部１７が尿素の濃度を測定する場合を例に挙げて説明する。
【0031】
まず、制御装置３２は、ＴＯＣ測定部１６が測定したＴＯＣ値を取得する（ステップＳ２１）。また、制御装置３２は、特定有機物測定部１７が測定した尿素の濃度の値を取得する（ステップＳ２２）。制御装置３２は、取得した尿素の濃度の値をＴＯＣ値に換算する。制御装置３２は、取得したＴＯＣ値と、尿素濃度から換算したＴＯＣ値とに基づいて、硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤の添加量を算出する（ステップＳ２３）。そして、制御装置３２は、算出した濃度の酸化剤が添加されるように硫黄化合物添加部２４を制御する（ステップＳ２４）。
【0032】
このように本形態においては、水処理設備２３３に供給される被処理水の少なくとも一部が通水（供給）される水処理管理装置１０を設け、水処理管理装置１０の通水ライン上に通水されている水のＴＯＣ値と、特定有機物濃度とを測定器が測定する。制御装置３２が、測定されたＴＯＣ値と特定有機物濃度とに基づいて、水処理設備２３３に設けられた紫外線照射装置に通水される被処理水に添加される酸化剤の添加量を制御する。水処理管理装置１０で除去し難い尿素を考慮した測定値に基づいて、添加される酸化剤の添加量または紫外線の照射量を制御することで、安定的に効率の良いＴＯＣの除去が可能となる。また、水処理設備２３３に設けられた紫外線照射装置の前段に酸化剤添加手段を設けてＴＯＣを処理することで、ＴＯＣ除去性能が向上する効果が得られる。なお、制御装置３２が被処理水に添加される酸化剤の添加量と紫外線照射装置が照射する紫外線の照射量とのどちらを優先して制御するかは、処理性能の他、運用コストや後段に配置された水処理装置への負荷を考慮して決定しても良い。
（第４の実施の形態）
（第４の実施の形態）
【0033】
図７は、本発明の水処理システムの第４の実施の形態を示す図である。本形態における水処理システムは図７に示すように、水処理装置２０と、紫外線照射装置であるＵＶ２１と、水処理装置２２と、内部の圧力が所定の圧力（第１の圧力）未満である紫外線照射装置である低圧ＵＶ２５と、水処理装置２６とを備える水処理設備２３４を有している。水処理設備２３４（具体的には水処理装置２０）には、被処理水である原水が供給され、水処理装置２０、ＵＶ２１、水処理装置２２、低圧ＵＶ２５および水処理装置２６で順次処理されることにより、所定の水質の水（例えば、純水等）が製造される。製造された水は、水処理装置２６からユースポイントや他の水処理設備等へ供給される。また、本形態における水処理システムは、水処理設備２３４に供給される被処理水の少なくとも一部が供給される水処理管理装置１０を有する。水処理管理装置１０は、第１の実施の形態におけるものと同じものである。さらに、本形態における水処理システムは、制御装置３３と、酸化剤添加手段である硫黄化合物添加部２４とを有する。硫黄化合物添加部２４は、第３の実施の形態におけるものと同じものである。硫黄化合物添加部２４は、水処理設備２３４に含まれていても良い。
【0034】
制御装置３３は、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ濃度の値（ＴＯＣ値）と、特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値とに基づいて、水処理設備２３４を構成する水処理装置の運転条件を制御する。本形態においては、制御装置３３は、ＵＶ２１が照射する紫外線照射量と、低圧ＵＶ２５が照射する紫外線照射量と、硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤の添加量との少なくとも１つを制御する。例えば、制御装置３３は、特定有機物測定部１７から出力されてきた特定有機物濃度の値をＴＯＣ値へ変換（換算）する。この変換は、有機物分子内の炭素の原子量と有機物（例えば、尿素）の分子量との比率を用いて行われる。制御装置３３は、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ値と、特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値から換算されたＴＯＣ値との差分や比率に基づいて、ＵＶ２１が照射する紫外線照射量と、低圧ＵＶ２５が照射する紫外線照射量と、硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤の添加量との少なくとも１つを算出しても良い。制御装置３３は、これらの照射量や濃度を算出する際、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ値と特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値から換算されたＴＯＣ値との差分や比率から照射量や濃度を算出するための所定の算出式や対応付けを用いても良いし、当該差分や比率とそのときの水処理装置２２からユースポイントへ供給される水の水質（例えば、ＴＯＣ値や溶存酸素濃度）とに基づいてあらかじめ算出された閾値（１つでも複数でも良い）との比較を用いても良い。また、制御装置３３は、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ値と特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値から換算されたＴＯＣ値との差分や比率に基づいて、ＵＶ２１の運転および硫黄化合物添加部２４からの酸化剤の添加を開始または停止させるものでも良い。例えば、差分が閾値よりも小さな値である場合、制御装置３３は、ＵＶ２１の運転および硫黄化合物添加部２４からの酸化剤の添加を停止させ、差分が閾値以上である場合、制御装置３３は、ＵＶ２１の運転および硫黄化合物添加部２４からの酸化剤の添加を開始させても良い。
【0035】
以下に、図７に示した制御装置３３における処理について説明する。図８は、図７に示した制御装置３３における処理の一例を説明するためのフローチャートである。ここでは、特定有機物測定部１７が尿素の濃度を測定する場合を例に挙げて説明する。また、制御装置３３が、低圧ＵＶ２５が照射する紫外線の照射量を制御する場合を例に挙げて説明する。
【0036】
まず、制御装置３３は、ＴＯＣ測定部１６が測定したＴＯＣ値を取得する（ステップＳ３１）。また、制御装置３３は、特定有機物測定部１７が測定した尿素の濃度の値を取得する（ステップＳ３２）。制御装置３３は、取得した尿素の濃度の値をＴＯＣ値に換算する。制御装置３３は、取得したＴＯＣ値と、尿素濃度から換算したＴＯＣ値とに基づいて、低圧ＵＶ２５が照射する紫外線の照射量を算出する（ステップＳ３３）。そして、制御装置３３は、算出した照射量の紫外線を低圧ＵＶ２５が照射するように低圧ＵＶ２５を制御する（ステップＳ３４）。
【0037】
このように本形態においては、水処理設備２３４に供給される被処理水の少なくとも一部が通水（供給）される水処理管理装置１０を設け、水処理管理装置１０の通水ライン上に通水されている水のＴＯＣ値と、特定有機物濃度とを測定器が測定する。制御装置３３が、測定されたＴＯＣ値と特定有機物濃度とに基づいて、水処理設備２３４に設けられた紫外線照射装置の紫外線照射量と、低圧紫外線照射装置の紫外線照射量と、紫外線照射装置に通水される被処理水に添加される酸化剤の添加量との少なくとも１つを制御する。水処理管理装置で除去し難い尿素を考慮した測定値に基づいて、紫外線の照射量や添加される酸化剤の添加量を制御することで効率よくＴＯＣの除去が可能となる。なお、図７に示した形態では、低圧ＵＶ２５がＵＶ２１の後段に配置されている形態を示しているが、低圧ＵＶ２５がＵＶ２１の前段に配置されていても良い。
【0038】
本形態のように紫外線照射装置としてＵＶ２１とは別の低圧ＵＶ２５を配置することで、硫黄化合物添加部２４から酸化剤（硫黄化合物）が添加された被処理水に紫外線を照射するＵＶ２１を常時運転する必要がない。また、低圧ＵＶ２５は、低濃度、低照射量で運転することができるため、被処理水中のＴＯＣを効率良く除去することができる。例えば、特定有機物が尿素である場合、ＴＯＣに対する尿素の比率が所定の閾値よりも高くなった場合のみ、硫黄化合物の添加と紫外線の照射とを用いた制御を行うことで、ＴＯＣを効率良く除去することができる。一般的に、硫黄化合物によるＵＶ処理は中圧ＵＶまたは高圧ＵＶが用いられる。中圧ＵＶおよび高圧ＵＶは消費電力が大きいため、低圧ＵＶを用いることで消費電力を低減することができる。
【0039】
また、本形態のように紫外線照射装置としてＵＶ２１とは別の低圧ＵＶ２５を配置する場合、ＴＯＣ測定部１６が測定したＴＯＣ値と特定有機物測定部１７が測定した尿素の濃度の値とに基づいて、低圧ＵＶ２５が照射する紫外線照射量および硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤の添加量を制御することで、ＴＯＣをより効率良く除去することができる。また、硫黄化合物添加部２４から酸化剤が添加された被処理水に紫外線を照射する運用時は、低圧ＵＶ２５からの紫外線照射量を少なく制御しても良い。例えば、特定有機物が難分解の尿素である場合、ＴＯＣ測定部１６が測定したＴＯＣ値に対する特定有機物測定部１７が測定した尿素の濃度のＴＯＣ換算値の比率を用いて２つの閾値（閾値Ａ＞閾値Ｂ）をあらかじめ設定し、測定時の比率が閾値Ａ以上である場合、制御装置３３は、当該比率に基づいて、硫黄化合物添加部２４およびＵＶ２１の運転の開始または停止を含めて、硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤の添加量およびＵＶ２１が照射する紫外線照射量を制御し、測定時の比率が閾値Ｂ以下である場合、制御装置３３は、当該比率に基づいて、低圧ＵＶ２５の運転の開始または停止を含めて、低圧ＵＶ２５が照射する紫外線の照射量を制御しても良い。
【0040】
また、メインの水処理設備２３４に尿素を処理するための装置が設けられている場合、ＴＯＣ測定部１６が測定したＴＯＣ値に対する特定有機物測定部１７が測定した尿素の濃度のＴＯＣ換算値の比率を用いて２つの閾値（閾値Ｃ＜閾値Ｄ）をあらかじめ設定し、測定時の比率が閾値Ｃ以下である場合、制御装置３３は、硫黄化合物添加部２４の運転の開始または停止を含めて、硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤の添加量を制御し、測定時の比率が閾値Ｄ以上である場合、制御装置３３は、当該比率に基づいて、低圧ＵＶ２５の運転の開始または停止を含めて、低圧ＵＶ２５が照射する紫外線の照射量を制御しても良い。制御装置３３は、このような比率を用いても良いし、ＴＯＣ測定部１６が測定したＴＯＣ値と、特定有機物測定部１７が測定した尿素の濃度のＴＯＣ換算値との差分や比率を用いても良い。こうすることで、尿素以外の難分解性の有機物が混入時も安定した処理が可能となる。
（第５の実施の形態）
（第５の実施の形態）
【0041】
図９は、本発明の水処理システムの第５の実施の形態を示す図である。本形態における水処理システムは図９に示すように、水処理装置２０と、紫外線照射装置であるＵＶ２１と、水処理装置２２と、脱気装置であるＭＤ２７と、内部の圧力が所定の圧力（第１の圧力）未満である紫外線照射装置である低圧ＵＶ２５と、水処理装置２６とを備える水処理設備２３５を有している。水処理設備２３５（具体的には水処理装置２０）には、被処理水である原水が供給され、水処理装置２０、ＵＶ２１、水処理装置２２、ＭＤ２７、低圧ＵＶ２５および水処理装置２６で順次処理されることにより、所定の水質の水（例えば、純水等）が製造される。製造された水は、水処理装置２６からユースポイントや他の水処理設備等へ供給される。また、本形態における水処理システムは、水処理設備２３５に供給される被処理水の少なくとも一部が供給される水処理管理装置１０を有する。水処理管理装置１０は、第１の実施の形態におけるものと同じものである。さらに、本形態における水処理システムは、制御装置３４と、酸化剤添加手段である硫黄化合物添加部２４とを有する。硫黄化合物添加部２４は、第３の実施の形態におけるものと同じものである。硫黄化合物添加部２４は、水処理設備２３５に含まれていても良い。
【0042】
制御装置３４は、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ濃度の値（ＴＯＣ値）と、特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値とに基づいて、水処理設備２３５を構成する水処理装置の運転条件を制御する。本形態においては、制御装置３４は、ＵＶ２１が照射する紫外線照射量と、ＭＤ２７が制御するＵＶ２１の被処理水の溶存酸素濃度と、硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤の添加量との少なくとも１つを制御する。例えば、制御装置３４は、特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値をＴＯＣ値へ変換（換算）する。この変換は、有機物分子内の炭素の原子量と有機物（例えば、尿素）の分子量との比率を用いて行われる。制御装置３４は、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ値と、特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値から換算されたＴＯＣ値との差分や比率に基づいて、ＵＶ２１が照射する紫外線照射量と、ＭＤ２７が制御するＵＶ２１の被処理水の溶存酸素濃度と、硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤の添加量との少なくとも１つを算出しても良い。制御装置３４は、これらの照射量や溶存酸素濃度、酸化剤の添加量を算出する際、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ値と特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値から換算されたＴＯＣ値との差分や比率から照射量や溶存酸素濃度、酸化剤の添加量を算出するための所定の算出式や対応付けを用いても良いし、当該差分や比率とそのときの水処理装置２６からユースポイントへ供給される水の水質（例えば、ＴＯＣ値や溶存酸素濃度）とに基づいてあらかじめ算出された閾値（１つでも複数でも良い）との比較を用いても良い。また、制御装置３４は、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ値と特定有機物測定部１７から出力されてきた有機物濃度の値から換算されたＴＯＣ値との差分や比率に基づいて、ＵＶ２１の運転および硫黄化合物添加部２４からの酸化剤の添加を開始または停止させるものでも良い。例えば、差分が閾値よりも小さな値である場合、制御装置３４は、ＵＶ２１の運転および硫黄化合物添加部２４からの酸化剤の添加を停止させ、差分が閾値以上である場合、制御装置３４は、ＵＶ２１の運転および硫黄化合物添加部２４からの酸化剤の添加を開始させても良い。
【0043】
以下に、図９に示した制御装置３４における処理について説明する。図１０は、図９に示した制御装置３４における処理の一例を説明するためのフローチャートである。ここでは、特定有機物測定部１７が尿素の濃度を測定する場合を例に挙げて説明する。また、制御装置３４が、ＵＶ２１が照射する紫外線照射量または被処理水の溶存酸素濃度を制御する場合を例に挙げて説明する。
【0044】
まず、制御装置３４は、ＴＯＣ測定部１６が測定したＴＯＣ値を取得する（ステップＳ４１）。また、制御装置３４は、特定有機物測定部１７が測定した尿素の濃度の値を取得する（ステップＳ４２）。制御装置３４は、取得した尿素の濃度の値をＴＯＣ値に換算する。制御装置３４は、取得したＴＯＣ値と、尿素濃度から換算したＴＯＣ値とに基づいて、ＵＶ２１が照射する紫外線照射量、またはＭＤ２７が制御するＵＶ２１の被処理水の溶存酸素濃度とを算出する（ステップＳ４３）。そして、制御装置３４は、算出した照射量の紫外線をＵＶ２１が照射するようにＵＶ２１を制御する、または被処理水の溶存酸素濃度が算出した溶存酸素濃度になるようにＭＤ２７を制御する（ステップＳ４４）。
【0045】
このように本形態においては、水処理設備２３５に供給される被処理水の少なくとも一部が通水（供給）される水処理管理装置１０を設け、水処理管理装置１０の通水ライン上に通水されている水のＴＯＣ値と、特定有機物濃度とを測定器が測定する。制御装置３４が、測定されたＴＯＣ値と有機物濃度とに基づいて、水処理設備２３５に設けられた紫外線照射装置の紫外線照射量と、脱気装置が制御する紫外線照射装置の被処理水の溶存酸素濃度と、紫外線照射装置に通水される被処理水に添加される酸化剤の添加量との少なくとも１つを制御する。水処理管理装置で除去し難い尿素を考慮した測定値に基づいて、紫外線の照射量や、被処理水の溶存酸素濃度、添加される酸化剤の添加量を制御することで効率よくＴＯＣの除去が可能となる。
【0046】
また、本形態のように紫外線照射装置としてＵＶ２１とは別の低圧ＵＶ２５を配置する場合、ＴＯＣ測定部１６が測定したＴＯＣ値と特定有機物測定部１７が測定した尿素の濃度の値とに基づいて、低圧ＵＶ２５の前段に設けられたＭＤ２７が制御する低圧ＵＶ２５の被処理水の溶存酸素濃度および硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤の添加量を制御することで、ＴＯＣをより効率良く除去することができる。また、硫黄化合物添加部２４から酸化剤が添加された被処理水に紫外線を照射する運用時は、低圧ＵＶ２５からの紫外線照射量を少なく制御しても良い。例えば、特定有機物が難分解の尿素である場合、ＴＯＣ測定部１６が測定したＴＯＣ値に対する特定有機物測定部１７が測定した尿素の濃度のＴＯＣ換算値の比率を用いて２つの閾値（閾値Ａ＞閾値Ｂ）をあらかじめ設定し、測定時の比率が閾値Ａ以上である場合、制御装置３４は、当該比率に基づいて、硫黄化合物添加部２４の運転の開始または停止を含めて、硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤の添加量を制御し、測定時の比率が閾値Ｂ以下である場合、制御装置３４は、当該比率に基づいて、低圧ＵＶ２５の運転の開始または停止を含めて、低圧ＵＶ２５が照射する紫外線の照射量を制御しても良い。
【0047】
また、メインの水処理設備２３５に尿素を処理するための装置が設けられている場合、ＴＯＣ測定部１６が測定したＴＯＣ値に対する特定有機物測定部１７が測定した尿素の濃度のＴＯＣ換算値の比率を用いて２つの閾値（閾値Ｃ＜閾値Ｄ）をあらかじめ設定し、測定時の比率が閾値Ｃ以下である場合、制御装置３４は、硫黄化合物添加部２４の運転の開始または停止を含めて、硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤の添加量を制御し、測定時の比率が閾値Ｄ以上である場合、制御装置３４は、当該比率に基づいて、低圧ＵＶ２５の運転の開始または停止を含めて、低圧ＵＶ２５が照射する紫外線の照射量を制御しても良い。制御装置３４は、このような比率を用いても良いし、ＴＯＣ測定部１６が測定したＴＯＣ値と、特定有機物測定部１７が測定した尿素の濃度のＴＯＣ換算値との差分や比率を用いても良い。こうすることで、尿素以外の難分解性の有機物が混入時も安定した処理が可能となる。
（第６の実施の形態）
（第６の実施の形態）
【0048】
図１１は、本発明の水処理システムの第６の実施の形態を示す図である。本形態における水処理システムは図１１に示すように、水処理装置２０と、紫外線照射装置であるＵＶ２１と、水処理装置２２とを備える水処理設備２３６を有している。水処理設備２３６（具体的には水処理装置２０）には、被処理水である原水が供給され、水処理装置２０、ＵＶ２１および水処理装置２２で順次処理されることにより、所定の水質の水（例えば、純水等）が製造される。製造された水は、水処理装置２２からユースポイントや他の水処理設備等へ供給される。また、本形態における水処理システムは、水処理設備２３６に供給される被処理水の少なくとも一部が供給される水処理管理装置１８を有する。水処理管理装置１８は、第１の実施の形態における水処理管理装置１０の構成要素から特定有機物測定部１７が除かれたものである。さらに、本形態における水処理システムは、制御装置３５と、酸化剤添加手段である硫黄化合物添加部２４とを有する。硫黄化合物添加部２４は、第３の実施の形態におけるものと同じものである。硫黄化合物添加部２４は、水処理設備２３６に含まれていても良い。
【0049】
制御装置３５は、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ濃度の値（ＴＯＣ値）に基づいて、水処理設備２３６を構成する水処理装置の運転条件を制御する。本形態においては、制御装置３５は、ＵＶ２１が照射する紫外線照射量と、硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤の添加量との少なくとも１つを制御する。例えば、制御装置３５は、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ値に基づいて、ＵＶ２１が照射する紫外線照射量と、硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤の添加量との少なくとも１つを算出しても良い。制御装置３５は、紫外線照射量や酸化剤の添加量を算出する際、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ値から紫外線照射量や酸化剤の添加量を算出するための所定の算出式や対応付けを用いても良いし、当該ＴＯＣ値とそのときの水処理装置２２からユースポイントへ供給される水の水質（例えば、ＴＯＣ値や溶存酸素濃度）とに基づいてあらかじめ算出された閾値（１つでも複数でも良い）との比較を用いても良い。制御装置３５は、算出した紫外線照射量の紫外線をＵＶ２１が照射するように制御し、算出した濃度の酸化剤を添加するように硫黄化合物添加部２４を制御する。また、制御装置３５は、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ値に基づいて、ＵＶ２１の運転および硫黄化合物添加部２４からの酸化剤の添加を開始または停止させるものでも良い。例えば、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ値が閾値よりも小さな値である場合、制御装置３５は、ＵＶ２１の運転および硫黄化合物添加部２４からの酸化剤の添加を停止させ、ＴＯＣ測定部１６から出力されてきたＴＯＣ値が閾値以上である場合、制御装置３５は、ＵＶ２１の運転および硫黄化合物添加部２４からの酸化剤の添加を開始させても良い。
【0050】
以下に、図１１に示した制御装置３５における処理について説明する。図１２は、図１１に示した制御装置３５における処理の一例を説明するためのフローチャートである。ここでは、制御装置３５が、ＵＶ２１が照射する紫外線の照射量または硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤の量を制御する場合を例に挙げて説明する。
【0051】
まず、制御装置３５は、ＴＯＣ測定部１６が測定したＴＯＣ値を取得する（ステップＳ５１）。すると、制御装置３５は、取得したＴＯＣ値に基づいて、ＵＶ２１が照射する紫外線の照射量または硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤の添加量を算出する（ステップＳ５２）。制御装置３５は、ステップＳ５２にてＵＶ２１が照射する紫外線の照射量を算出した場合、算出した照射量の紫外線がＵＶ２１から照射されるようにＵＶ２１を制御する。または、制御装置３５は、ステップＳ５２にて硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤の添加量を算出した場合、算出した濃度の酸化剤が添加されるように硫黄化合物添加部２４を制御する（ステップＳ５３）。
【0052】
このように本形態においては、水処理設備２３６に供給される被処理水の少なくとも一部が通水（供給）される水処理管理装置１８を設け、水処理管理装置１８の通水ライン上に通水されている水のＴＯＣ値を測定器が測定する。制御装置３５が、測定されたＴＯＣ値に基づいて、水処理設備２３６に設けられた紫外線照射装置の紫外線照射量と、紫外線照射装置に通水される被処理水に添加される酸化剤の添加量との少なくとも１つを制御する。これにより、安定的に効率の良いＴＯＣの除去が可能となる。また、紫外線照射装置の前段に酸化剤添加手段を設けてＴＯＣを処理することで、ＴＯＣ除去性能が向上する効果が得られる。
【0053】
上述した第１～６の実施の形態において、水処理管理装置１０，１８に通水される被処理水は、原水に限らず、水処理システム内のいずれかの処理水であっても良いし、原水が再生水や回収水であれば、その再生水や回収水を製造するシステム内の水処理装置のいずれかの処理水であっても良い。また、被処理水に応じて水処理管理装置１０，１８を複数設けても良い。また、水処理管理装置における処理水の測定値に加えて、水処理管理装置における紫外線の照射量や溶存酸素濃度に基づいて、水処理システムの紫外線の照射量を制御しても良い。
（実施例）
＜実施例１－１＞
（実施例）
＜実施例１－１＞
【0054】
図１３は、本発明の水処理システムの実施例１－１のための構成を示す図である。図１３に示すように、前処理を行う水処理装置２０１と紫外線照射装置（ＵＶ）２０２とイオン交換樹脂充填装置（ＣＰ）２０３とから構成された水処理設備２００に、並列で水処理管理装置１０を設置し、ＴＯＣ含有水を通水処理した。ＣＰ２０３の処理水をＴＯＣ測定部２０４が測定した。水処理装置２０１は、ＴＯＣ含有水から尿素を除去する機能を持つ。水処理管理装置１０は、上述した実施の形態におけるものである。水処理管理装置１０の処理水ラインにＴＯＣ測定部１６と特定有機物測定部１７とを設けた。水処理管理装置１０より得られた測定値（ＴＯＣ測定部１６が測定した測定値と特定有機物測定部１７が測定した尿素測定値のＴＯＣ換算値との差分）に基づいて、ＵＶ２０２が照射する紫外線の照射量を制御装置３０が設定して制御した。
＜比較例１－１＞
＜比較例１－１＞
【0055】
図１４は、実施例１－１と比較する比較例１－１のための構成を示す図である。図１４に示すように、図１３に示した水処理設備２００と同じ水処理設備２００に、並列で水処理管理装置５０を設置し、ＴＯＣ含有水を通水処理した。ＣＰ２０３の処理水をＴＯＣ測定部２０４が測定した。水処理管理装置５０は、図１３に示した水処理管理装置１０から特定有機物測定部１７が除外された構成を持つ。水処理管理装置５０より得られた測定値（ＴＯＣ測定部１６が測定した測定値）に基づいて、ＵＶ２０２が照射する紫外線の照射量を、制御装置４０が実施例１－１と同じ測定値と照射量との関係性で設定して制御した。
＜実施例１－２＞
＜実施例１－２＞
【0056】
図１５は、本発明の水処理システムの実施例１－２のための構成を示す図である。図１５に示すように、図１３に示した実施例１－１のための構成に含まれるＵＶ２０２の前段に脱気装置であるＭＤ２０５を配置した水処理設備２１０を設置し、同様にＴＯＣ含有水を通水処理した。ＣＰ２０３の処理水をＴＯＣ測定部２０４が測定した。水処理管理装置１０は、図１３に示した実施例１－１のための構成におけるものである。ＭＤ２０５として脱気膜と真空ポンプとを用いた真空脱気膜を用いて、水処理管理装置１０より得られた測定値（ＴＯＣ測定部１６が測定した測定値と特定有機物測定部１７が測定した尿素測定値のＴＯＣ換算値との差分）に基づいて、制御装置３１がＵＶ被処理水の溶存酸素濃度（ＤＯ濃度）を設定し、溶存酸素計の測定値がその設定値となるようにＭＤ２０５の真空度を調整して制御した。なお、溶存酸素計はＭＤ２０５とＵＶ２０２との間に設けた。
＜比較例１－２＞
＜比較例１－２＞
【0057】
図１６は、実施例１－２と比較する比較例１－２のための構成を示す図である。図１６に示すように、図１５に示した水処理設備２１０と同じ水処理設備２１０に、並列で水処理管理装置５０を設置し、ＴＯＣ含有水を通水処理した。ＣＰ２０３の処理水をＴＯＣ測定部２０４が測定した。水処理管理装置５０は、図１５に示した水処理管理装置１０から特定有機物測定部１７が除外された構成を持つ。水処理管理装置５０より得られた測定値（ＴＯＣ測定部１６が測定した測定値）に基づいて、溶存酸素濃度（ＤＯ濃度）を、制御装置４１が実施例１－２と同じ測定値と溶存酸素濃度との関係性で設定して制御した。
【0058】
実施例１－１，１－２および比較例１－１，１－２の詳細試験条件を以下に示す。
紫外線照射装置：低圧ＵＶ酸化装置 （株）日本フォトサイエンス社製
イオン交換樹脂充填装置：強酸カチオン交換樹脂AMBERJET 1024 H型（オルガノ（株）製）、強塩基アニオン交換樹脂AMBERJET 4002 OH型（オルガノ（株）製） 混床充填
特定有機物(尿素)測定手段：オルガノ製ORUREA
水処理装置：尿素除去装置、ろ過装置、活性炭、イオン交換樹脂充填装置、逆浸透膜装置で構成
ＴＯＣ含有水のＴＯＣ濃度：５００～７００ｐｐｂ－Ｃ
ＴＯＣ計：Sievers製M500e
水処理管理装置の逆浸透膜装置：２段処理
照射量制御：点灯ランプ本数で制御
脱気装置：真空脱気膜
溶存酸素制御：インバータを用いて脱気装置の真空度を調整
被処理水ＤＯ濃度：１ｐｐｍ
尿素除去装置：次亜塩素酸ナトリウムおよび臭化ナトリウムが添加された滞留槽
紫外線照射装置：低圧ＵＶ酸化装置 （株）日本フォトサイエンス社製
イオン交換樹脂充填装置：強酸カチオン交換樹脂AMBERJET 1024 H型（オルガノ（株）製）、強塩基アニオン交換樹脂AMBERJET 4002 OH型（オルガノ（株）製） 混床充填
特定有機物(尿素)測定手段：オルガノ製ORUREA
水処理装置：尿素除去装置、ろ過装置、活性炭、イオン交換樹脂充填装置、逆浸透膜装置で構成
ＴＯＣ含有水のＴＯＣ濃度：５００～７００ｐｐｂ－Ｃ
ＴＯＣ計：Sievers製M500e
水処理管理装置の逆浸透膜装置：２段処理
照射量制御：点灯ランプ本数で制御
脱気装置：真空脱気膜
溶存酸素制御：インバータを用いて脱気装置の真空度を調整
被処理水ＤＯ濃度：１ｐｐｍ
尿素除去装置：次亜塩素酸ナトリウムおよび臭化ナトリウムが添加された滞留槽
【0059】
実施例１－１，１－２および比較例１－１，１－２の結果を表１および表２に示す。なお、表１および表２における「尿素－ＴＯＣ換算値」は、特定有機物測定部１７が測定した尿素の濃度をＴＯＣ値に換算した値である（以下についても同じ）。
【0060】
【表1】
【0061】
【表2】
【0062】
表１に示すように、実施例１－１と比較例１－１とで、ＴＯＣ測定部２０４が測定した値は、どちらも０．５ｐｐｂ未満で維持されているものの、実施例１－１におけるＵＶ２０２が照射する紫外線の照射量は０．１ｋＷｈ／ｍ3である一方で、比較例１－１におけるＵＶ２０２が照射する紫外線の照射量は０．２～０．３ｋＷｈ／ｍ3に増加し制御される結果となった。これは、比較例１－１では紫外線処理で除去し難い尿素由来のＴＯＣも含んだ測定値を用いて紫外線の照射量を制御しているためである。そのため、尿素以外のＴＯＣに対して過剰な照射量となっている。したがって、尿素測定値（ＴＯＣ換算値）を除外したＴＯＣ測定値を用いて紫外線の照射量を制御することで、過剰な照射量とならずに制御可能である結果が得られた。また、表２に示すように、実施例１－２と比較例１－２とでも同様に尿素測定値（ＴＯＣ換算値）を除外したＴＯＣ測定値を用いて溶存酸素濃度を制御することで、過剰に溶存酸素濃度を低減することなく制御可能である結果が得られた。
＜実施例２－１＞
＜実施例２－１＞
【0063】
図１７は、本発明の水処理システムの実施例２－１のための構成を示す図である。図１７に示すように、前処理を行う水処理装置２０１と中圧ＵＶ装置である紫外線照射装置（ＵＶ）２０６とイオン交換樹脂充填装置（ＣＰ）２０３とから構成された水処理設備２００に、並列で水処理管理装置１０を設置し、ＴＯＣ含有水を通水処理した。水処理管理装置１０は、上述した実施の形態におけるものである。水処理管理装置１０の処理水ラインにＴＯＣ測定部１６と特定有機物測定部１７とを設けた。また、ＵＶ２０６に通水される被処理水に酸化剤を添加する硫黄化合物添加部２４を設けた。硫黄化合物添加部２４は、水処理設備２００に含まれていても良い。水処理管理装置１０より得られた測定値（ＴＯＣ測定部１６が測定した測定値と特定有機物測定部１７が測定した尿素測定値のＴＯＣ換算値との差分）に基づいて、硫黄化合物添加部２４が添加する酸化剤の添加量を制御装置３２が設定して制御した。その結果を表３に示す。実施例１－１，１－２と同様に、ＴＯＣ測定部２０４が測定した値は０．５ｐｐｂ未満となり、安定的に処理可能である結果が得られた。
【0064】
【表3】
【0065】
図１８は、本発明の水処理システムの実施例２－２のための構成を示す図である。図１８に示すように、実施例２－２のための構成は図１７に示した構成と同じであり、制御装置３２が、水処理管理装置１０より得られた測定値（ＴＯＣ測定部１６が測定した測定値と特定有機物測定部１７が測定した尿素測定値のＴＯＣ換算値との差分）に基づいて、ＵＶ２０６が照射する紫外線の照射量を設定して制御した。その結果を表４に示す。実施例１－１，１－２と同様に、ＴＯＣ測定部２０４が測定した値は０．５ｐｐｂ未満となり、安定的に処理可能である結果が得られた。
【0066】
【表4】
【0067】
図１９は、本発明の水処理システムの実施例３－１のための構成を示す図である。図１９に示すように、前処理を行う水処理装置２０１と紫外線照射装置（ＵＶ）２０６とイオン交換樹脂充填装置（ＣＰ）２０３と脱気装置（ＭＤ）２０５と低圧の紫外線照射装置（ＵＶ）２０７とイオン交換樹脂充填装置（ＣＰ）２０８とから構成された水処理設備２２０に、並列で水処理管理装置１０を設置し、ＴＯＣ含有水を通水処理した。水処理管理装置１０は、上述した実施の形態におけるものである。水処理管理装置１０の処理水ラインにＴＯＣ測定部１６と特定有機物測定部１７とを設けた。水処理管理装置１０より得られた測定値（ＴＯＣ測定部１６が測定した測定値と特定有機物測定部１７が測定した尿素測定値のＴＯＣ換算値との差分）に基づいて、ＵＶ２０６，２０７それぞれが照射する紫外線の照射量を制御装置３３が設定して制御した。このとき、２つの閾値（閾値Ｅ＞閾値Ｆ）をあらかじめ設定し、ＴＯＣ測定部１６が測定した測定値と特定有機物測定部１７が測定した尿素測定値のＴＯＣ換算値との差分が閾値Ｅ以上である場合、制御装置３３はＵＶ２０６から照射される紫外線の照射量を制御した。また、ＴＯＣ測定部１６が測定した測定値と特定有機物測定部１７が測定した尿素測定値のＴＯＣ換算値との差分が閾値Ｅ未満であり、かつ閾値Ｆ以上である場合、制御装置３３はＵＶ２０６，２０７それぞれから照射される紫外線の照射量を一定値で制御した。また、ＴＯＣ測定部１６が測定した測定値と特定有機物測定部１７が測定した尿素測定値のＴＯＣ換算値との差分が閾値Ｆ未満である場合、制御装置３３はＵＶ２０７から照射される紫外線の照射量を制御した。その結果を表５に示す。ＴＯＣ測定部２０４が測定した値は０．５ｐｐｂ未満となり、安定的に処理可能である結果が得られた。硫黄化合物添加部２４は、水処理設備２２０に含まれていても良い。
【0068】
【表5】
【0069】
図２０は、本発明の水処理システムの実施例３－２のための構成を示す図である。図２０に示すように、実施例３－２のための構成は図１９に示した構成と同じであり、制御装置３４が、水処理管理装置１０より得られた測定値（ＴＯＣ測定部１６が測定した測定値と特定有機物測定部１７が測定した尿素測定値のＴＯＣ換算値との差分）に基づいて、ＵＶ２０６が照射する紫外線の照射量およびＵＶ被処理水の溶存酸素濃度を設定し、その設定値となるようにＭＤ２０５の真空度を調整して制御した。このとき、２つの閾値（閾値Ｇ＞閾値Ｈ）をあらかじめ設定し、ＴＯＣ測定部１６が測定した測定値と特定有機物測定部１７が測定した尿素測定値のＴＯＣ換算値との差分が閾値Ｇ以上である場合、制御装置３４はＵＶ２０６から照射される紫外線の照射量を制御した。また、ＴＯＣ測定部１６が測定した測定値と特定有機物測定部１７が測定した尿素測定値のＴＯＣ換算値との差分が閾値Ｇ未満であり、かつ閾値Ｈ以上である場合、制御装置３４はＵＶ２０６の照射量とＵＶ被処理水の溶存酸素濃度とが一定値となるように制御した。また、ＴＯＣ測定部１６が測定した測定値と特定有機物測定部１７が測定した尿素測定値のＴＯＣ換算値との差分が閾値Ｈ未満である場合、制御装置３４はＵＶ被処理水の溶存酸素濃度を設定し、その設定値となるようにＭＤ２０５の真空度を調整して制御した。その結果を表６に示す。ＴＯＣ測定部２０４が測定した値は０．５ｐｐｂ未満となり、安定的に処理可能である結果が得られた。
【0070】
【表6】
【0071】
図２１は、本発明の水処理システムの実施例４－１のための構成を示す図である。図２１に示すように、前処理を行う水処理装置２０１と中圧ＵＶ装置である紫外線照射装置（ＵＶ）２０６とイオン交換樹脂充填装置（ＣＰ）２０３とから構成された水処理設備２００に、並列で水処理管理装置１８を設置し、ＴＯＣ含有水を通水処理した。水処理管理装置１８は、上述した実施の形態におけるものである。水処理管理装置１８の処理水ラインにＴＯＣ測定部１６を設けた。また、ＵＶ２０６に通水される被処理水に酸化剤を添加する硫黄化合物添加部２４を設けた。硫黄化合物添加部２４は、水処理設備２００に含まれていても良い。また、水処理装置２０１には尿素除去機能を設けていない。水処理管理装置１８より得られた測定値（ＴＯＣ測定部１６が測定した測定値）に基づいて、硫黄化合物添加部２４が添加する過硫酸の濃度を制御装置３５が設定して制御した。その結果を表７に示す。表７に示した比較例２の結果は、図１４に示した水処理装置２０１に尿素除去機能を設けず、ＵＶ２０６が中圧ＵＶ装置である構成における測定結果である。また、ＴＯＣ測定部１６と並列に尿素計を設置し、尿素計を用いて尿素濃度を測定した。図２１に示した構成にて、表７に示すように、ＴＯＣ測定部２０４が測定した値は０．５ｐｐｂ未満となり、安定的に処理可能である結果が得られた。また、比較例２では尿素が除去されず、ＴＯＣ測定部２０４が測定した値が１ｐｐｂを超える結果が得られた。
【0072】
【表7】
【0073】
図２２は、本発明の水処理システムの実施例４－２のための構成を示す図である。図２２に示すように、前処理を行う水処理装置２０１と中圧ＵＶ装置である紫外線照射装置（ＵＶ）２０６とイオン交換樹脂充填装置（ＣＰ）２０３とから構成された水処理設備２００に、並列で水処理管理装置１８を設置し、ＴＯＣ含有水を通水処理した。水処理管理装置１８は、上述した実施の形態におけるものである。水処理管理装置１８の処理水ラインにＴＯＣ測定部１６を設けた。また、ＵＶ２０６に通水される被処理水に酸化剤を添加する硫黄化合物添加部２４を設けた。硫黄化合物添加部２４は、水処理設備２００に含まれていても良い。また、水処理装置２０１には尿素除去機能を設けていない。水処理管理装置１８より得られた測定値（ＴＯＣ測定部１６が測定した測定値）に基づいて、ＵＶ２０６が照射する紫外線の照射量を制御装置３５が設定して制御した。その結果を表８に示す。表８に示した比較例２の結果は、図１４に示した水処理装置２０１に尿素除去機能を設けず、ＵＶ２０６が中圧ＵＶ装置である構成における測定結果である。また、ＴＯＣ測定部１６と並列に尿素計を設置し、尿素計を用いて尿素濃度を測定した。図２２に示した構成にて、表８に示すように、ＴＯＣ測定部２０４が測定した値は０．５ｐｐｂ未満となり、安定的に処理可能である結果が得られた。また、比較例２では尿素が除去されず、ＴＯＣ測定部２０４が測定した値が１ｐｐｂを超える結果が得られた。
【0074】
【表8】
【符号の説明】
【0075】
１０，１８，５０ 水処理管理装置
１１ 活性炭
１２ 逆浸透膜装置
１３ 電気再生式純水装置
１４，２１，２０２，２０６，２０７ 紫外線照射装置
１５，２０３，２０８ イオン交換樹脂充填装置
１６，２０４ ＴＯＣ測定部
１７ 特定有機物測定部
２０，２２，２６，２０１ 水処理装置
２３，２７，２０５ 脱気装置
２４ 硫黄化合物添加部
２５ 低圧紫外線照射装置
３０～３５，４０，４１ 制御装置
２００，２１０，２２０，２３１～２３６ 水処理設備
１１ 活性炭
１２ 逆浸透膜装置
１３ 電気再生式純水装置
１４，２１，２０２，２０６，２０７ 紫外線照射装置
１５，２０３，２０８ イオン交換樹脂充填装置
１６，２０４ ＴＯＣ測定部
１７ 特定有機物測定部
２０，２２，２６，２０１ 水処理装置
２３，２７，２０５ 脱気装置
２４ 硫黄化合物添加部
２５ 低圧紫外線照射装置
３０～３５，４０，４１ 制御装置
２００，２１０，２２０，２３１～２３６ 水処理設備
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】