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特開2024-43739アクティブマトリクス基板、液晶表示装置、自発光表示装置及び撮像装置
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024043739
(43)【公開日】2024-04-02
(54)【発明の名称】アクティブマトリクス基板、液晶表示装置、自発光表示装置及び撮像装置
(51)【国際特許分類】
G02F 1/1345 20060101AFI20240326BHJP
G02F 1/1368 20060101ALI20240326BHJP
G09F 9/30 20060101ALI20240326BHJP
G09F 9/00 20060101ALI20240326BHJP
G09F 9/35 20060101ALI20240326BHJP
H01L 27/146 20060101ALI20240326BHJP
H10K 50/10 20230101ALI20240326BHJP
H10K 59/10 20230101ALI20240326BHJP
H05B 33/02 20060101ALI20240326BHJP
H05B 33/06 20060101ALI20240326BHJP
【ＦＩ】
G02F1/1345
G02F1/1368
G09F9/30 338
G09F9/00 309A
G09F9/00 346D
G09F9/35
G09F9/30 365
G09F9/30 330
H01L27/146 C
H05B33/14 A
H01L27/32
H05B33/02
H05B33/06
【審査請求】未請求
【請求項の数】10
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022148897
(22)【出願日】2022-09-20
(71)【出願人】
【識別番号】303018827
【氏名又は名称】Ｔｉａｎｍａ Ｊａｐａｎ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100095407
【弁理士】
【氏名又は名称】木村 満
(74)【代理人】
【識別番号】100183955
【弁理士】
【氏名又は名称】齋藤 悟郎
(74)【代理人】
【識別番号】100132883
【弁理士】
【氏名又は名称】森川 泰司
(74)【代理人】
【識別番号】100180334
【弁理士】
【氏名又は名称】山本 洋美
(74)【代理人】
【識別番号】100177149
【弁理士】
【氏名又は名称】佐藤 浩義
(74)【代理人】
【識別番号】100174067
【弁理士】
【氏名又は名称】湯浅 夏樹
(74)【代理人】
【識別番号】100136342
【弁理士】
【氏名又は名称】中村 成美
(72)【発明者】
【氏名】菅谷 洋樹
(72)【発明者】
【氏名】田村 文識
(72)【発明者】
【氏名】石野 隆行
【テーマコード（参考）】
2H092
2H192
3K107
4M118
5C094
5G435
【Ｆターム（参考）】
2H092GA14
2H092GA33
2H092GA41
2H092GA44
2H092GA49
2H092GA51
2H092HA04
2H092JA24
2H092NA29
2H092PA01
2H092QA06
2H092QA07
2H192AA24
2H192BB01
2H192FA32
2H192FA72
2H192FB46
2H192FB72
2H192GD02
2H192JA06
2H192JA33
3K107AA01
3K107BB01
3K107CC43
3K107DD11
3K107DD38
3K107DD39
3K107EE03
3K107EE59
3K107EE61
3K107EE68
3K107FF04
3K107FF15
4M118AA10
4M118AB01
4M118BA05
4M118CA05
4M118CB06
4M118CB11
4M118CB14
4M118FB03
4M118FB09
4M118HA26
4M118HA27
5C094AA15
5C094BA03
5C094BA27
5C094BA43
5C094CA19
5C094DB03
5C094EA04
5C094FA01
5G435AA18
5G435BB05
5G435BB12
5G435CC09
5G435EE34
5G435EE40
5G435GG33
(57)【要約】
【課題】端子の配列幅がその端子に接続する画素配線の配列幅よりも広い場合に、端子を設けるために必要な画素配線の配列方向における幅を、画素配線の配列幅以下にできる、アクティブマトリクス基板、液晶表示装置、自発光表示装置及び撮像装置を提供する。
【解決手段】アクティブマトリクス基板３００は、複数の画素電極と、複数の画素電極のそれぞれに接続する複数のスイッチング素子と、複数のスイッチング素子のそれぞれに接続する複数の画素配線ＧＬと、複数の画素配線ＧＬのそれぞれに接続する複数の接続配線３３５と、複数の接続配線３３５のそれぞれに接続する複数の端子３３０と、を備える。画素配線ＧＬの配列方向と端子３３０の配列方向ＡＤ１が異なる。
【選択図】図３
【解決手段】アクティブマトリクス基板３００は、複数の画素電極と、複数の画素電極のそれぞれに接続する複数のスイッチング素子と、複数のスイッチング素子のそれぞれに接続する複数の画素配線ＧＬと、複数の画素配線ＧＬのそれぞれに接続する複数の接続配線３３５と、複数の接続配線３３５のそれぞれに接続する複数の端子３３０と、を備える。画素配線ＧＬの配列方向と端子３３０の配列方向ＡＤ１が異なる。
【選択図】図３
【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数の画素電極と、
前記複数の画素電極のそれぞれに接続する、複数のスイッチング素子と、
前記複数のスイッチング素子のそれぞれに接続する、複数の画素配線と、
前記複数の画素配線のそれぞれに接続する、複数の接続配線と
前記複数の接続配線のそれぞれに接続する、複数の端子と、を備え、
前記画素配線の配列方向と前記端子の配列方向が、異なる。
アクティブマトリクス基板。
前記複数の画素電極のそれぞれに接続する、複数のスイッチング素子と、
前記複数のスイッチング素子のそれぞれに接続する、複数の画素配線と、
前記複数の画素配線のそれぞれに接続する、複数の接続配線と
前記複数の接続配線のそれぞれに接続する、複数の端子と、を備え、
前記画素配線の配列方向と前記端子の配列方向が、異なる。
アクティブマトリクス基板。
【請求項2】
前記複数の端子の配列幅が、前記複数の画素配線の配列幅よりも広い、
請求項１に記載のアクティブマトリクス基板。
請求項１に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項3】
前記画素配線の配列方向と前記端子の配列方向が、垂直である、
請求項１又は２に記載のアクティブマトリクス基板。
請求項１又は２に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項4】
所定の湾曲軸の周りに湾曲し、
平面視した場合に、前記端子の配列方向と前記湾曲軸の方向が垂直でない、
請求項１又は２に記載のアクティブマトリクス基板。
平面視した場合に、前記端子の配列方向と前記湾曲軸の方向が垂直でない、
請求項１又は２に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項5】
前記複数の接続配線の抵抗値が、等しい、
請求項１又は２に記載のアクティブマトリクス基板。
請求項１又は２に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項6】
前記端子のそれぞれに接続される配線を有する基板が、前記複数の接続配線に重なる位置に配置され、
前記基板は、前記複数の接続配線に対向する面に、ノイズを遮断するシールド部を有する、
請求項１又は２に記載のアクティブマトリクス基板。
前記基板は、前記複数の接続配線に対向する面に、ノイズを遮断するシールド部を有する、
請求項１又は２に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項7】
前記端子のそれぞれに接続される配線を有する基板が、前記複数の接続配線に重なる位置に配置され、
前記配線に接続する複数のＩＣと前記複数のＩＣに信号を供給する回路が、前記基板に設けられている、
請求項１又は２に記載のアクティブマトリクス基板。
前記配線に接続する複数のＩＣと前記複数のＩＣに信号を供給する回路が、前記基板に設けられている、
請求項１又は２に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項8】
請求項１又は２に記載のアクティブマトリクス基板と、
前記アクティブマトリクス基板に対向する対向基板と、
前記アクティブマトリクス基板と前記対向基板に挟持される液晶と、を備える、
液晶表示装置。
前記アクティブマトリクス基板に対向する対向基板と、
前記アクティブマトリクス基板と前記対向基板に挟持される液晶と、を備える、
液晶表示装置。
【請求項9】
請求項１又は２に記載のアクティブマトリクス基板と、
前記画素電極の上に設けられる自発光部と、を備える、
自発光表示装置。
前記画素電極の上に設けられる自発光部と、を備える、
自発光表示装置。
【請求項10】
請求項１又は２に記載のアクティブマトリクス基板と、
前記画素電極の上に設けられる光電変換素子と、を備える、
撮像装置。
前記画素電極の上に設けられる光電変換素子と、を備える、
撮像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、アクティブマトリクス基板、液晶表示装置、自発光表示装置及び撮像装置に関する。
【背景技術】
【0002】
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を有するアクティブマトリクス基板が、表示装置、撮像装置等に用いられる。アクティブマトリクス基板には、ゲート配線（画素配線）に信号を供給するゲートドライバと、データ配線（画素配線）に信号を供給するデータドライバが、実装される。ゲートドライバはＴＦＴのゲート電極に接続し、データドライバはＴＦＴのソース電極に接続する。
【0003】
ゲートドライバとデータドライバは、ＣＯＦ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｆｉｌｍ）方式、ＣＯＧ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）方式等により、アクティブマトリクス基板の額縁領域に実装される。ＣＯＦ方式では、駆動ＩＣ（Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）を実装された、フレキシブル基板をアクティブマトリクス基板の端子に接続する。ＣＯＧ方式では、駆動ＩＣを、アクティブマトリクス基板の端子に直接接続する。アクティブマトリクス基板の端子と端子に接続する画素配線は同じ方向に配列され、アクティブマトリクス基板の端子の間隔は端子に接続する画素配線の間隔よりも狭い（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０２０－１６０３９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
特許文献１における端子と画素配線の構成では、表示装置、撮像装置等の高精細化に伴い、表示装置、撮像装置等の画素ピッチ（画素配線の間隔）が狭くなると、アクティブマトリクス基板の端子の間隔も狭くする必要がある。この場合、駆動ＩＣ又はフレキシブル基板をアクティブマトリクス基板に接続する工程の歩留まりが低下する、虞がある。また、使用可能なフレキシブル基板の選択肢が狭まる。
【0006】
一方、アクティブマトリクス基板の端子の間隔を端子に接続する画素配線の間隔よりも広くすると、１つの駆動ＩＣ又はフレキシブル基板に接続する端子の配列幅も広くなる。これにより、１つの駆動ＩＣ又はフレキシブル基板に接続する端子を設けるために必要な、画素配線の配列方向における幅も広くなる。
【0007】
本開示は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、端子の配列幅がその端子に接続する画素配線の配列幅よりも広い場合に、端子を設けるために必要な画素配線の配列方向における幅を、画素配線の配列幅以下にできる、アクティブマトリクス基板、液晶表示装置、自発光表示装置及び撮像装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
上記目的を達成するため、本開示の第１の観点に係るアクティブマトリクス基板は、
複数の画素電極と、
前記複数の画素電極のそれぞれに接続する、複数のスイッチング素子と、
前記複数のスイッチング素子のそれぞれに接続する、複数の画素配線と、
前記複数の画素配線のそれぞれに接続する、複数の接続配線と
前記複数の接続配線のそれぞれに接続する、複数の端子と、を備え、
前記画素配線の配列方向と前記端子の配列方向が、異なる。
複数の画素電極と、
前記複数の画素電極のそれぞれに接続する、複数のスイッチング素子と、
前記複数のスイッチング素子のそれぞれに接続する、複数の画素配線と、
前記複数の画素配線のそれぞれに接続する、複数の接続配線と
前記複数の接続配線のそれぞれに接続する、複数の端子と、を備え、
前記画素配線の配列方向と前記端子の配列方向が、異なる。
【0009】
本開示の第２の観点に係る液晶表示装置は、
上記のアクティブマトリクス基板と、
前記アクティブマトリクス基板に対向する対向基板と、
前記アクティブマトリクス基板と前記対向基板に挟持される液晶と、を備える。
上記のアクティブマトリクス基板と、
前記アクティブマトリクス基板に対向する対向基板と、
前記アクティブマトリクス基板と前記対向基板に挟持される液晶と、を備える。
【0010】
本開示の第３の観点に係る自発光表示装置は、
上記のアクティブマトリクス基板と、
前記画素電極の上に設けられる自発光部と、を備える。
上記のアクティブマトリクス基板と、
前記画素電極の上に設けられる自発光部と、を備える。
【0011】
本開示の第４の観点に係る撮像装置は、
上記のアクティブマトリクス基板と、
前記画素電極の上に設けられる光電変換素子と、を備える。
上記のアクティブマトリクス基板と、
前記画素電極の上に設けられる光電変換素子と、を備える。
【発明の効果】
【0012】
本開示によれば、画素配線の配列方向と画素配線に接続する端子の配列方向が異なるので、画素配線に接続する端子を設けるために必要な画素配線の配列方向における幅を、画素配線の配列幅以下にできる。
【図面の簡単な説明】
【0013】
【図1】実施形態１に係る液晶表示装置を示す平面図である。
【図2】実施形態１に係るアクティブマトリクス基板の表示領域を示す平面図である。
【図3】実施形態１に係るゲート端子とゲート接続配線とを示す平面図である。
【図4】比較例１に係るゲート端子とゲート接続配線とを示す平面図である。
【図5】実施形態１に係るデータ端子とデータ接続配線とを示す平面図である。
【図6】実施形態１に係るゲート駆動ＩＣとフレキシブル基板とを示す平面図である。
【図7】実施形態１に係るデータ駆動ＩＣとフレキシブル基板とを示す平面図である。
【図8】実施形態２に係るゲート端子とゲート接続配線とを示す平面図である。
【図9】実施形態２に係るゲート端子の配列方向を説明するための模式図である。
【図10】実施形態３に係る液晶表示装置を示す側面図である。
【図11】実施形態３に係るゲート端子とフレキシブル基板とを示す平面図である。
【図12】実施形態３に係るデータ端子とフレキシブル基板とを示す平面図である。
【図13】実施形態４に係るゲート接続配線とフレキシブル基板とを示す平面図である。
【図15】実施形態５に係る自発光表示装置を示す平面図である。
【図16】実施形態５に係るアクティブマトリクス基板の表示領域を示す平面図である。
【図17】実施形態５に係る発光素子を示す断面図である。
【図18】実施形態６に係る撮像装置を示す平面図である。
【図19】実施形態５に係るアクティブマトリクス基板の撮像領域を示す平面図である。
【図20】実施形態５に係る光電変換素子を示す断面図である。
【図21】変形例に係るフレキシブル基板を示す平面図である。
【図22】変形例に係るゲート接続配線を示す平面図である。
【図23】変形例に係るゲート接続配線を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【0014】
以下、実施形態に係るアクティブマトリクス基板と、液晶表示装置、自発光表示装置及び撮像装置について、図面を参照して説明する。
【0015】
＜実施形態１＞
図１～図７を参照して、本実施形態に係る、アクティブマトリクス基板３００を備える液晶表示装置１０を説明する。液晶表示装置１０は、図１に示すように、液晶表示パネル１００と、ゲート駆動ＩＣ４００と、データ駆動ＩＣ５００とを備える。また、液晶表示装置１０は、駆動回路、バックライト等（図示せず）を備える。本明細書では、理解を容易にするため、図１における液晶表示装置１０の右方向（紙面の右方向）を＋Ｘ方向、上方向（紙面の上方向）を＋Ｙ方向と、＋Ｘ方向と＋Ｙ方向に垂直な方向（紙面の手前方向）を＋Ｚ方向として説明する。また、液晶表示装置１０の＋Ｚ側に観察者が位置するとして説明する。
図１～図７を参照して、本実施形態に係る、アクティブマトリクス基板３００を備える液晶表示装置１０を説明する。液晶表示装置１０は、図１に示すように、液晶表示パネル１００と、ゲート駆動ＩＣ４００と、データ駆動ＩＣ５００とを備える。また、液晶表示装置１０は、駆動回路、バックライト等（図示せず）を備える。本明細書では、理解を容易にするため、図１における液晶表示装置１０の右方向（紙面の右方向）を＋Ｘ方向、上方向（紙面の上方向）を＋Ｙ方向と、＋Ｘ方向と＋Ｙ方向に垂直な方向（紙面の手前方向）を＋Ｚ方向として説明する。また、液晶表示装置１０の＋Ｚ側に観察者が位置するとして説明する。
【0016】
液晶表示装置１０の液晶表示パネル１００は、対向基板２００とアクティブマトリクス基板３００と液晶ＬＣとを備える。また、液晶表示パネル１００は、図示しない偏光板を、対向基板２００の＋Ｚ側の面とアクティブマトリクス基板３００の－Ｚ側の面とに設けられている。本実施形態では、液晶表示パネル１００は、透過型液晶表示パネルである。液晶表示パネル１００は、例えば、公知の横電界モードで動作する。
【0017】
液晶表示パネル１００は、文字、画像等を表示可能な表示領域１１と、表示領域１１を囲む額縁領域１２とを有する。表示領域１１には、複数の画素ＰＸがマトリクス状に配列されている。額縁領域１２には、ゲート駆動ＩＣ４００とデータ駆動ＩＣ５００が実装される。額縁領域１２は、後述するように、アクティブマトリクス基板３００の額縁領域３０２から形成される。
【0018】
液晶表示パネル１００対向基板２００は、＋Ｚ側（観察者側）に位置し、アクティブマトリクス基板３００に対向している。対向基板２００は、図示しないシール材により、アクティブマトリクス基板３００に貼り合わされている。対向基板２００の外形寸法はアクティブマトリクス基板３００の外形寸法よりも小さく、対向基板２００は、対向基板２００の＋Ｘ側の辺とアクティブマトリクス基板３００の＋Ｘ側の辺と、対向基板２００の－Ｙ側の辺とアクティブマトリクス基板３００の－Ｙ側の辺とを揃えた状態で貼り合わされている。したがって、アクティブマトリクス基板３００の－Ｘ側の端部と＋Ｙ側の端部は、液晶表示パネル１００の額縁領域１２（アクティブマトリクス基板３００の額縁領域３０２）を形成している。
【0019】
対向基板２００は、例えば、ガラス基板である。対向基板２００のアクティブマトリクス基板３００に対向する面には、カラーフィルタ、ブラックマトリクス、液晶ＬＣを配向する配向膜等（いずれも図示せず）が設けられている。
【0020】
液晶表示パネル１００のアクティブマトリクス基板３００は、－Ｚ側に位置し、対向基板２００に対向している。アクティブマトリクス基板３００は、例えば、ガラス基板である。アクティブマトリクス基板３００の対向基板２００に対向する面３００ａには、図２に示すように、画素電極３１０、複数のゲート配線ＧＬ、複数のデータ配線ＤＬ、後述するゲート端子３３０、液晶ＬＣを配向する配向膜等が設けられる。
【0021】
まず、アクティブマトリクス基板３００の、液晶表示パネル１００の表示領域１１に対応する領域３０１（以下、アクティブマトリクス基板３００の表示領域３０１と記載）について説明する。画素電極３１０、スイッチング素子３２０、複数のゲート配線ＧＬ、複数のデータ配線ＤＬ等が、アクティブマトリクス基板３００の表示領域３０１に設けられる。なお、図２は、理解を容易にするために、アクティブマトリクス基板３００の表示領域３０１の一部を図示している。また、図２は、１つの画素ＰＸの画素電極３１０とスイッチング素子３２０のみを図示している。
【0022】
アクティブマトリクス基板３００のゲート配線ＧＬは、図２に示すように、Ｘ方向に延びＹ方向に配列されている。アクティブマトリクス基板３００のデータ配線ＤＬは、Ｙ方向に延びＸ方向に配列されている。ゲート配線ＧＬとデータ配線ＤＬは、画素ＰＸを形成する、１組の画素電極３１０と共通電極（図示せず）とスイッチング素子３２０を囲んでいる。ゲート配線ＧＬとデータ配線ＤＬは、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）等の金属から形成される。ゲート配線ＧＬとデータ配線ＤＬは画素配線に相当する。
【0023】
アクティブマトリクス基板３００の画素電極３１０は、Ｘ方向とＹ方向とにマトリクス状に配置されている。画素電極３１０は、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）から、櫛歯形状に形成される。アクティブマトリクス基板３００の共通電極も、ＩＴＯから櫛歯形状に形成される。画素電極３１０の櫛歯部と共通電極の櫛歯部は、交互に、互いに平行に配置される。これにより、アクティブマトリクス基板３００の面３００ａに平行な横電界が、画素電極３１０の櫛歯部と共通電極の櫛歯部との間に生じる。
【0024】
アクティブマトリクス基板３００のスイッチング素子３２０は、例えば、ＴＦＴ素子である。スイッチング素子３２０は、ゲート配線ＧＬとデータ配線ＤＬの交点付近に設けられる。スイッチング素子３２０は、ゲート電極とソース電極とドレイン電極と半導体層とを有する（いずれも図示せず）。スイッチング素子３２０のゲート電極はゲート配線ＧＬに接続し、スイッチング素子３２０のソース電極はデータ配線ＤＬに接続する。また、スイッチング素子３２０のドレイン電極は画素電極３１０に接続する。ゲート電極とソース電極とドレイン電極は、アルミニウム、モリブデン等の金属から形成される。スイッチング素子３２０の半導体層は、アモルファスシリコン、インジウム（Ｉｎ）とガリウム（Ｇａ）と亜鉛（Ｚｎ）とを含む酸化物等から形成される。
【0025】
スイッチング素子３２０は、ゲート電極に接続するゲート配線ＧＬを介して、ゲート駆動ＩＣ４００（ゲートドライバ）から供給される走査信号に基づいて、順次駆動される。スイッチング素子３２０が開状態になると、ソース電極に接続するデータ配線ＤＬを介して、データ駆動ＩＣ５００（データドライバ）から供給される画像信号（階調電圧）が、ドレイン電極に供給される。そして、アクティブマトリクス基板３００の面３００ａに平行な所定の横電界がドレイン電極に接続された画素電極３１０の櫛歯と、共通電極の櫛歯部との間に生じ、所定の横電界が液晶ＬＣに印加される。なお、共通電極は共通配線に接続され、共通電極の電位は所定の電位に制御されている。
【0026】
次に、アクティブマトリクス基板３００の額縁領域３０２について、説明する。アクティブマトリクス基板３００の額縁領域３０２は、アクティブマトリクス基板３００の表示領域３０１を囲む。本実施形態では、図１に示すように、フレキシブル基板４１０を用いたＣＯＦ方式により、ゲート駆動ＩＣ４００が額縁領域３０２の－Ｘ側の端部に実装される。また、フレキシブル基板５１０を用いたＣＯＦ方式により、データ駆動ＩＣ５００が額縁領域３０２の＋Ｙ側の端部に実装される。
【0027】
アクティブマトリクス基板３００の額縁領域３０２の－Ｘ側の端部には、図３に示すように、ゲート端子３３０とゲート接続配線３３５が設けられる。ゲート端子３３０は、ゲート配線ＧＬをアクティブマトリクス基板３００の外部に接続するための端子である。ゲート接続配線３３５は、ゲート配線ＧＬとゲート端子３３０とを接続する。なお、アクティブマトリクス基板３００の外部とは、アクティブマトリクス基板３００以外の装置、部材、駆動回路等を指す。本実施形態では、フレキシブル基板４１０、５１０が外部に相当する。また、図３では、理解を容易にするために、アクティブマトリクス基板３００の額縁領域３０２の一部を図示している。
【0028】
本実施形態では、隣接する複数のゲート配線ＧＬが、同数のゲート端子３３０を介して、１つのゲート駆動ＩＣ４００に接続される。本明細書では、理解を容易にするために、隣接する５つのゲート配線ＧＬが５つのゲート端子３３０を介して１つのゲート駆動ＩＣ４００に接続する構成（図３）を例に、ゲート端子３３０とゲート接続配線３３５を説明する。また、データ端子３４０とデータ接続配線３４５についても、ゲート端子３３０とゲート接続配線３３５と同様に、説明する。
【0029】
ゲート端子３３０は、ゲート配線ＧＬが延びる方向（Ｘ方向）に垂直なＹ方向に長い、矩形形状を有している。５つのゲート端子３３０は、ゲート配線ＧＬの配列方向（Ｙ方向）に垂直なＸ方向に配列される。ゲート端子３３０がゲート配線ＧＬの配列方向に垂直なＸ方向に配列されるので、図３に示すように、ゲート端子３３０の間隔Ｐ１をフレキシブル基板４１０への接続が容易な間隔に設定することにより、ゲート端子３３０の配列幅Ｄ１がゲート配線ＧＬの配列幅Ｄ２よりも広い場合であっても、ゲート端子３３０の配列をゲート配線ＧＬの配列幅Ｄ２内に収めることができる。すなわち、ゲート配線ＧＬの配列方向とゲート端子３３０の配列方向ＡＤ１が垂直であるので、ゲート端子３３０の配列をゲート配線ＧＬの配列幅Ｄ２内に収めると共に、ゲート端子３３０の間隔Ｐ１を、ゲート配線ＧＬの間隔Ｐ２（画素ＰＸの画素ピッチ）に依らず、フレキシブル基板４１０への接続が容易な間隔に設定できる。これにより、フレキシブル基板４１０をゲート端子３３０に接続する工程の歩留まりを向上できる。また、使用可能なフレキシブル基板４１０の選択肢を増やすことができる。さらに、液晶表示装置１０の製造コストを低減できる。
【0030】
ゲート接続配線３３５はゲート配線ＧＬとゲート端子３３０とを接続する。ゲート接続配線３３５のそれぞれは、第１部分３３５ａと第２部分３３５ｂと第３部分３３５ｃとを有する。第１部分３３５ａはゲート端子３３０から－Ｙ方向に延び、第２部分３３５ｂは第１部分３３５ａから＋Ｘ方向に延びる。第３部分３３５ｃは、第２部分３３５ｂからゲート配線ＧＬの端部に延びる。ゲート接続配線３３５のそれぞれが－Ｙ方向に延びた後＋Ｘ方向に延びるので、Ｘ方向に延び、画素電極３１０とスイッチング素子３２０を挟む必要がない第２部分３３５ｂの間隔Ｐ３を、ゲート配線ＧＬの間隔Ｐ２に比べて極めて狭くでき、Ｙ方向に延びる第１部分３３５ａの長さＬ１を短くできる。
【0031】
本実施形態では、前述のように、ゲート端子３３０の配列方向ＡＤ１とゲート配線ＧＬの配列方向が垂直であるので、ゲート端子３３０の配列幅Ｄ１がゲート配線ＧＬの配列幅Ｄ２よりも広い場合であっても、ゲート端子３３０の配列をゲート配線ＧＬの配列幅Ｄ２内に収めることができる。また、ゲート端子３３０はフレキシブル基板４１０に電気的に接続する電極に過ぎないので、ゲート端子３３０のフレキシブル基板４１０への接続方向（Ｙ方向）の長さＬ２を極めて短くできる。さらに、上述のように、ゲート配線ＧＬの配列方向（Ｙ方向）に延びる、ゲート接続配線３３５の第１部分３３５ａの長さＬ１も短くできる。これらにより、図３に示すように、ゲート端子３３０の配列幅Ｄ１がゲート配線ＧＬの配列幅Ｄ２よりも広い場合であっても、ゲート端子３３０を設けるために必要なゲート配線ＧＬの配列方向（Ｙ方向）の幅Ｄ３を、ゲート配線ＧＬの配列幅Ｄ２以下にできる。ゲート端子３３０を設けるために必要なゲート配線ＧＬの配列方向（Ｙ方向）の幅Ｄ３は、ゲート端子３３０が設けられる領域のゲート配線ＧＬの配列方向の幅（本実施形態では、ゲート端子３３０のＹ方向の長さＬ２）と、ゲート配線ＧＬとゲート端子３３０とを接続ために必要な領域のゲート配線ＧＬの配列方向の幅（本実施形態では、第１部分３３５ａの長さＬ１のうちの最も長い長さ）との和である。
【0032】
一方、ゲート端子３３０がゲート配線ＧＬの配列方向（Ｙ方向）と同じ方向に配列され、ゲート端子３３０の配列幅Ｄ１がゲート配線ＧＬの配列幅Ｄ２よりも広い場合（以下、比較例と記載）、図４に示すように、ゲート端子３３０を設けるために必要なゲート配線ＧＬの配列方向の幅Ｄ３は、ゲート配線ＧＬの配列幅Ｄ２よりも広くなる。すなわち、比較例では、ゲート端子３３０の間隔Ｐ１をフレキシブル基板４１０への接続が容易な間隔に設定することにより、ゲート端子３３０の配列幅Ｄ１を広くすると、ゲート端子３３０を設けるために必要なゲート配線ＧＬの配列方向の幅Ｄ３がゲート配線ＧＬの配列幅Ｄ２よりも広くなる。
【0033】
アクティブマトリクス基板３００の額縁領域３０２の＋Ｙ側の端部には、図５に示すように、データ端子３４０とデータ接続配線３４５が設けられる。データ端子３４０は、データ配線ＤＬをアクティブマトリクス基板３００の外部（フレキシブル基板５１０）に接続するための端子である。データ接続配線３４５は、データ配線ＤＬとデータ端子３４０とを接続する。なお、図５では、理解を容易にするために、アクティブマトリクス基板３００の額縁領域３０２の一部を図示している。以下では、データ端子３４０とゲート端子３３０とを、端子と総称する場合がある。また、ゲート接続配線３３５とデータ接続配線３４５とを、接続配線と総称する場合がある。
【0034】
本実施形態では、隣接する複数のデータ配線ＤＬが、同数のデータ端子３４０を介して、１つのデータ駆動ＩＣ５００に接続される。ゲート端子３３０とゲート接続配線３３５と同様に、隣接する５つのデータ配線ＤＬが５つのデータ端子３４０を介して１つのデータ駆動ＩＣ５００に接続する構成（図５）を例に、データ端子３４０とデータ接続配線３４５を説明する。
【0035】
データ端子３４０は、データ配線ＤＬが延びる方向（Ｙ方向）に垂直なＸ方向に長い、矩形形状を有している。５つのデータ端子３４０は、データ配線ＤＬの配列方向（Ｘ方向）に垂直なＹ方向に配列される。データ配線ＤＬの配列方向とデータ端子３４０の配列方向ＡＤ２が垂直であるので、ゲート端子３３０と同様に、データ端子３４０の配列幅Ｄ５がデータ配線ＤＬの配列幅Ｄ６よりも広い場合であっても、データ端子３４０の配列をデータ配線ＤＬの配列幅Ｄ６内に収めることができ、データ端子３４０の間隔Ｐ５を、データ配線ＤＬの間隔Ｐ６（画素ＰＸの画素ピッチ）に依らず、フレキシブル基板５１０への接続が容易な間隔に設定できる。これにより、フレキシブル基板５１０をデータ端子３４０に接続する工程の歩留まりを向上できる。また、使用可能なフレキシブル基板５１０の選択肢を増やすことができ、さらに、液晶表示装置１０の製造コストを低減できる。
【0036】
データ接続配線３４５はデータ配線ＤＬとデータ端子３４０とを接続する。データ接続配線３４５のそれぞれは、第５部分３４５ａと第６部分３４５ｂと第７部分３４５ｃとを有する。第５部分３４５ａはデータ端子３４０から－Ｘ方向に延び、第６部分３４５ｂは第５部分３４５ａから－Ｙ方向に延びる。第７部分３４５ｃは、第６部分３４５ｂからデータ配線ＤＬの端部に延びる。データ接続配線３４５のそれぞれが－Ｘ方向に延びた後－Ｙ方向に延びるので、ゲート接続配線３３５と同様に、第６部分３４５ｂの間隔Ｐ７をデータ配線ＤＬの間隔Ｐ６に比べて極めて狭くでき、Ｘ方向に延びる第５部分３４５ａの長さＬ５を短くできる。
【0037】
本実施形態では、データ端子３４０の配列幅Ｄ５がデータ配線ＤＬの配列幅Ｄ６よりも広い場合であっても、データ端子３４０の配列をデータ配線ＤＬの配列幅Ｄ６内に収めることができる。また、データ端子３４０はフレキシブル基板５１０に電気的に接続する電極に過ぎないので、データ端子３４０のフレキシブル基板５１０への接続方向（Ｘ方向）の長さＬ６を極めて短くできる。さらに、データ配線ＤＬの配列方向に延びるデータ接続配線３４５の第５部分３４５ａの長さＬ５も短くできる。これらにより、図５に示すように、データ端子３４０の配列幅Ｄ５がデータ配線ＤＬの配列幅Ｄ６よりも広い場合であっても、データ端子３４０を設けるために必要なデータ配線ＤＬの配列方向の幅Ｄ７をデータ配線ＤＬの配列幅Ｄ６以下にできる。
【0038】
液晶表示パネル１００の液晶ＬＣは、ネマチック液晶である。液晶ＬＣは、対向基板２００の配向膜とアクティブマトリクス基板３００の配向膜により、ホモジニアス配向されている。液晶ＬＣは、画素電極３１０と共通電極との電位差から生じる横電界により、アクティブマトリクス基板３００の面３００ａに平行な面内で回転する。これにより、画素ＰＸの透過光量が画素ＰＸ毎に制御される。
【0039】
液晶表示装置１０のゲート駆動ＩＣ４００は、駆動回路からの信号に基づいて、液晶表示パネル１００のゲート配線ＧＬに走査信号を順次に供給することにより、ゲート配線ＧＬに接続するスイッチング素子３２０を有する画素ＰＸを順次に駆動する。ゲート駆動ＩＣ４００は、図６に示すように、フレキシブル基板４１０を介してゲート端子３３０に接続される（ＣＯＦ方式）。ゲート駆動ＩＣ４００を実装されたフレキシブル基板４１０は、ゲート駆動ＩＣ４００とゲート端子３３０とを接続する配線を有し、異方性導電フィルム（ＡＣＦ：Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ Ｆｉｌｍ）を用いた熱圧着により、複数のゲート端子３３０に接続される。また、フレキシブル基板４１０は、駆動回路に接続している。なお、図６では、フレキシブル基板４１０の配線、ゲート接続配線３３５等を省略している。
【0040】
液晶表示装置１０のデータ駆動ＩＣ５００は、駆動回路からの信号に基づいて、液晶表示パネル１００のデータ配線ＤＬのそれぞれに画像信号（階調電圧）を供給する。データ駆動ＩＣ５００は、図７に示すように、フレキシブル基板５１０を介してデータ端子３４０に接続される。フレキシブル基板５１０の構成は、フレキシブル基板４１０の構成と同様である。なお、図７では、フレキシブル基板５１０の配線、データ接続配線３４５等を省略している。
【0041】
以上のように、ゲート端子３３０は、ゲート端子３３０に接続するゲート配線ＧＬの配列方向（Ｘ方向）に垂直な方向（Ｙ方向）に配列し、データ端子３４０は、データ端子３４０に接続するデータ配線ＤＬの配列方向（Ｙ方向）に垂直な方向（Ｘ方向）に配列する。これにより、端子の間隔（ゲート端子３３０の間隔Ｐ１、データ端子３４０の間隔Ｐ５）を画素ＰＸの画素ピッチ（ゲート配線ＧＬの間隔Ｐ２、データ配線ＤＬの間隔Ｐ６）に依らず、フレキシブル基板４１０、５１０への接続が容易な間隔に設定できる。さらに、端子の配列幅（ゲート端子３３０の配列幅Ｄ１、データ端子３４０の配列幅Ｄ５）が画素配線の配列幅（ゲート配線ＧＬの配列幅Ｄ２、データ配線の配列幅Ｄ６）よりも広い場合であっても、端子を設けるために必要な画素配線の配列方向の幅（ゲート配線ＧＬの配列方向の幅Ｄ３、データ配線ＤＬの配列方向の幅Ｄ７）を、画素配線の配列幅以下にできる。
【0042】
＜実施形態２＞
実施形態１では、端子（ゲート端子３３０、データ端子３４０）は、端子に接続する画素配線（ゲート配線ＧＬ、データ配線ＤＬ）の配列方向に垂直な方向に配列している。端子の配列方向と画素配線の配列方向は、異なっていればよい。
実施形態１では、端子（ゲート端子３３０、データ端子３４０）は、端子に接続する画素配線（ゲート配線ＧＬ、データ配線ＤＬ）の配列方向に垂直な方向に配列している。端子の配列方向と画素配線の配列方向は、異なっていればよい。
【0043】
本実施形態では、ゲート配線ＧＬとゲート端子３３０とを例に、端子の配列方向と画素配線の配列方向とを説明する。本実施形態の液晶表示装置１０の構成は、ゲート端子３３０の構成を除き、実施形態１の液晶表示装置１０の構成と同様である。
【0044】
図８に示すように、本実施形態のゲート端子３３０の配列方向ＡＤ１は、ゲート配線ＧＬの配列方向である＋Ｙ方向に対して、時計回りに鋭角（角度θ）に回転している。すなわち、ゲート配線ＧＬの配列方向とゲート端子３３０の配列方向ＡＤ１は、異なっている。
【0045】
図８に示すように、ゲート配線ＧＬの配列方向とゲート端子３３０の配列方向ＡＤ１が異なることにより、ゲート端子３３０の配列幅Ｄ１がゲート配線ＧＬの配列幅Ｄ２よりも広い場合であっても、ゲート端子３３０の配列をゲート配線ＧＬの配列幅Ｄ２内に収めることができる。さらに、実施形態１と同様に、ゲート端子３３０のフレキシブル基板４１０への接続方向の長さＬ２を極めて短くでき、Ｙ方向に延びるゲート接続配線３３５の第１部分３３５ａの長さＬ１を短くできる。これらにより、ゲート端子３３０の配列幅Ｄ１がゲート配線ＧＬの配列幅Ｄ２よりも広い場合であっても、ゲート端子３３０を設けるために必要なゲート配線ＧＬの配列方向の幅Ｄ３を、ゲート配線ＧＬの配列幅Ｄ２よりも狭くできる。
【0046】
また、実施形態１と同様に、ゲート端子３３０の間隔Ｐ１を、フレキシブル基板４１０への接続が容易な間隔に設定できる。これにより、フレキシブル基板４１０をゲート端子３３０に接続する工程の歩留まりを向上でき、使用可能なフレキシブル基板４１０の選択肢を増やすことができる。また、液晶表示装置１０の製造コストを低減できる。さらに、ゲート接続配線３３５とデータ接続配線３４５の長さを短くできる。
【0047】
なお、図９に示すように、ゲート配線ＧＬの配列幅Ｄ２の全長に渡ってゲート端子３３０が配置される構成を仮定すると、ゲート端子３３０を設けるために必要なゲート配線ＧＬの配列方向の幅Ｄ３は、下記の式（１）により表される。したがって、ゲート端子３３０の配列方向ＡＤ１と＋Ｙ方向とのなす角θは、下記の式（２）を満たすことが好ましい。
【0048】
【数1】
【数2】
【0049】
＜実施形態３＞
液晶表示装置１０の液晶表示パネル１００（アクティブマトリクス基板３００）は、湾曲してもよい。また、ゲート端子３３０とデータ端子３４０の一方が、接続する画素配線の配列方向に垂直な方向に配列していればよい。本実施形態のゲート駆動ＩＣ４００とデータ駆動ＩＣ５００の構成は実施形態１と同様である。ここでは、本実施形態の液晶表示パネル１００を説明する。
液晶表示装置１０の液晶表示パネル１００（アクティブマトリクス基板３００）は、湾曲してもよい。また、ゲート端子３３０とデータ端子３４０の一方が、接続する画素配線の配列方向に垂直な方向に配列していればよい。本実施形態のゲート駆動ＩＣ４００とデータ駆動ＩＣ５００の構成は実施形態１と同様である。ここでは、本実施形態の液晶表示パネル１００を説明する。
【0050】
本実施形態の液晶表示パネル１００（アクティブマトリクス基板３００）は、図１０に示すように、Ｘ軸に平行な湾曲軸の周りに、－Ｚ側に凸状に湾曲している。対向基板２００と、アクティブマトリクス基板３００の画素電極３１０とスイッチング素子３２０とゲート配線ＧＬとデータ配線ＤＬの構成は、実施形態１と同様である。ここでは、ゲート端子３３０とゲート接続配線３３５と、データ端子３４０とデータ接続配線３４５とを説明する。
【0051】
本実施形態のゲート端子３３０は、実施形態１のゲート端子３３０と同様に、矩形形状を有し、ゲート配線ＧＬの配列方向（Ｙ方向）に垂直なＸ方向に配列される（図３）。また、本実施形態のゲート接続配線３３５は、実施形態１のゲート接続配線３３５と同様に、ゲート配線ＧＬとゲート端子３３０とを接続する。
【0052】
本実施形態では、ゲート端子３３０がＸ方向に配列されているので、図１１に示すように、アクティブマトリクス基板３００を平面視した場合、ゲート端子３３０の配列方向ＡＤ１とアクティブマトリクス基板３００の湾曲軸ＢＤは平行である。これにより、ゲート駆動ＩＣ４００の実装において、ゲート端子３３０とフレキシブル基板４１０に掛かるアクティブマトリクス基板３００の湾曲による応力を、緩和できる。
【0053】
本実施形態のデータ端子３４０は、図１２に示すように、矩形形状を有し、データ配線ＤＬの配列方向（Ｘ方向）と同じ方向（平行な方向）に配列される。本実施形態では、データ端子３４０の配列幅Ｄ５は、データ配線ＤＬの配列幅Ｄ６よりも狭い。本実施形態のデータ接続配線３４５は、データ端子３４０とデータ配線ＤＬとを直線状に接続する。
【0054】
データ端子はＸ方向に配列されているので、アクティブマトリクス基板３００を平面視した場合、データ端子３４０の配列方向ＡＤ２とアクティブマトリクス基板３００の湾曲軸ＢＤも平行である。したがって、データ駆動ＩＣ５００の実装においても、データ端子３４０とフレキシブル基板５１０に掛かるアクティブマトリクス基板３００の湾曲による応力を、緩和できる。
【0055】
本実施形態では、端子の配列方向（ゲート端子３３０の配列方向ＡＤ１、データ端子３４０の配列方向ＡＤ２）とアクティブマトリクス基板３００の湾曲軸ＢＤが平行であるので、端子（ゲート端子３３０、データ端子３４０）とフレキシブル基板４１０、５１０に掛かるアクティブマトリクス基板３００の湾曲による応力を、緩和できる。さらに、ゲート端子３３０の配列方向ＡＤとゲート配線ＧＬの配列方向が垂直であるので、実施形態１と同様に、ゲート端子３３０の間隔Ｐ１を画素ＰＸの画素ピッチに依らず、フレキシブル基板４１０への接続が容易な間隔に設定できる。さらに、ゲート端子３３０の配列幅Ｄ１がゲート配線ＧＬの配列幅Ｄ２よりも広い場合であっても、ゲート端子３３０を設けるために必要なゲート配線ＧＬの配列方向の幅Ｄ３を、ゲート配線ＧＬの配列幅Ｄ２以下にできる。
【0056】
＜実施形態４＞
実施形態１では、フレキシブル基板４１０は、接続するゲート端子３３０から＋Ｙ側に延び、ゲート端子３３０に接続するゲート接続配線３３５に重ならない。また、フレキシブル基板５１０は、接続するデータ端子３４０から＋Ｘ側に延び、データ端子３４０に接続するデータ接続配線３４５に重ならない。フレキシブル基板４１０はゲート接続配線３３５に重なってもよく、フレキシブル基板５１０はデータ接続配線３４５に重なってもよい。ここでは、フレキシブル基板４１０とゲート端子３３０とゲート接続配線３３５を例に、フレキシブル基板４１０を説明する。
実施形態１では、フレキシブル基板４１０は、接続するゲート端子３３０から＋Ｙ側に延び、ゲート端子３３０に接続するゲート接続配線３３５に重ならない。また、フレキシブル基板５１０は、接続するデータ端子３４０から＋Ｘ側に延び、データ端子３４０に接続するデータ接続配線３４５に重ならない。フレキシブル基板４１０はゲート接続配線３３５に重なってもよく、フレキシブル基板５１０はデータ接続配線３４５に重なってもよい。ここでは、フレキシブル基板４１０とゲート端子３３０とゲート接続配線３３５を例に、フレキシブル基板４１０を説明する。
【0057】
ゲート駆動ＩＣ４００を実装されたフレキシブル基板４１０は、異方性導電フィルムＡＣＦを用いた熱圧着により、ゲート端子３３０に接続される。本実施形態では、フレキシブル基板４１０は、図１３に示すように、ゲート端子３３０から－Ｙ側に延びて、ゲート端子３３０とゲート配線ＧＬとを接続するゲート接続配線３３５に重なっている。
【0058】
また、フレキシブル基板４１０は、図１３と図１４に示すように、ゲート接続配線３３５（アクティブマトリクス基板３００）に対向する面４１０ａに、シールド部４１２を有する。シールド部４１２は、フレキシブル基板４１０の配線とゲート接続配線３３５との間のノイズを遮蔽する。シールド部４１２は、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）等から薄膜状に形成される。
【0059】
本実施形態では、フレキシブル基板４１０がゲート接続配線３３５に重なる位置に配置されるので、フレキシブル基板４１０を配置するスペースを少なくできる。また、フレキシブル基板４１０がゲート接続配線３３５に対向する面４１０ａにシールド部４１２を有するので、フレキシブル基板４１０の配線とゲート接続配線３３５との間のノイズを遮蔽できる。
【0060】
＜実施形態５＞
実施形態１～実施形態４では、アクティブマトリクス基板３００は液晶表示装置１０に用いられる。アクティブマトリクス基板３００は他の装置に用いられてもよい。本実施形態では、アクティブマトリクス基板３００を備える自発光表示装置２０を説明する。
実施形態１～実施形態４では、アクティブマトリクス基板３００は液晶表示装置１０に用いられる。アクティブマトリクス基板３００は他の装置に用いられてもよい。本実施形態では、アクティブマトリクス基板３００を備える自発光表示装置２０を説明する。
【0061】
自発光表示装置２０は、例えば、ＯＬＥＤ（Ｏｒａｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ：有機発光ダイオード）表示装置である。自発光表示装置２０は、図１５に示すように、ＯＬＥＤ表示パネル１２０と、ゲート駆動ＩＣ４００と、データ駆動ＩＣ５００とを備える。また、自発光表示装置２０は、図示しない駆動回路を備える。ゲート駆動ＩＣ４００とデータ駆動ＩＣ５００の構成は実施形態１と同様であるので、ＯＬＥＤ表示パネル１２０を説明する。
【0062】
ＯＬＥＤ表示パネル１２０は、封止基板２２０とアクティブマトリクス基板３００とを備える。ＯＬＥＤ表示パネル１２０は、文字、画像等を表示可能な表示領域２１と、表示領域２１を囲む額縁領域２２とを有する。表示領域２１には、実施形態１の液晶表示パネル１００と同様に、複数の画素ＰＸがマトリクス状に配列されている。また、額縁領域２２には、ゲート駆動ＩＣ４００とデータ駆動ＩＣ５００が実装される。
【0063】
ＯＬＥＤ表示パネル１２０の封止基板２２０は、ガラスフリットによりアクティブマトリクス基板３００に接合される。封止基板２２０は、アクティブマトリクス基板３００の表示領域３０１を密封する。乾燥空気が、封止基板２２０とアクティブマトリクス基板３００との間に封入される。
【0064】
ＯＬＥＤ表示パネル１２０のアクティブマトリクス基板３００は、例えば、ガラス基板である。アクティブマトリクス基板３００の表示領域３０１（面３００ａ）には、図１６に示すように、スイッチング素子３２２、発光素子Ｅ１、ゲート配線ＧＬ、データ配線ＤＬ等が設けられる。
【0065】
本実施形態のゲート配線ＧＬとデータ配線ＤＬの構成は、実施形態１のゲート配線ＧＬとデータ配線ＤＬの構成と同様である。本実施形態では、ゲート配線ＧＬとデータ配線ＤＬは、画素ＰＸを形成する、スイッチング素子３２２、３２４と保持容量Ｃ１と発光素子Ｅ１とを囲んでいる。
【0066】
アクティブマトリクス基板３００のスイッチング素子３２２、３２４と保持容量Ｃ１は、画素回路を形成する。画素回路は発光素子Ｅ１の発光を制御する。画素回路は、ゲート配線ＧＬとデータ配線ＤＬを介して、ゲート駆動ＩＣ４００とデータ駆動ＩＣ５００に接続している。
【0067】
スイッチング素子３２２は、画素ＰＸを選択するＴＦＴ素子である。スイッチング素子３２２のゲート電極は、ゲート配線ＧＬに接続される。スイッチング素子３２２のソース電極は、データ配線ＤＬに接続される。スイッチング素子３２２のドレイン電極は、スイッチング素子３２４のゲート電極に接続される。
【0068】
スイッチング素子３２４は、発光素子Ｅ１を駆動するＴＦＴ素子である。スイッチング素子３２４のゲート電極はスイッチング素子３２２のドレイン電極に接続され、スイッチング素子３２４のソース電極は電源線Ｖｄｄに接続する。スイッチング素子３２４のドレイン電極は、後述する発光素子Ｅ１のアノード電極６０２に接続する。なお、発光素子Ｅ１のカソード電極はカソード配線３２５に接続している。本実施形態では、発光素子Ｅ１のアノード電極６０２が画素電極に相当する。
【0069】
保持容量Ｃ１は、発光素子Ｅ１のアノード電極６０２とスイッチング素子３２４のゲート電極との間に形成される。
【0070】
画素回路は、以下のように、動作する。ゲート駆動ＩＣ４００がゲート配線ＧＬに走査信号を出力して、スイッチング素子３２２を開状態にさせる。スイッチング素子３２２が開状態になると、データ駆動ＩＣ５００とデータ配線ＤＬを介して供給される階調電圧が保持容量Ｃ１に保持される。保持容量Ｃ１に保持された電圧により、スイッチング素子３２４の開閉状態が変化して、発光素子Ｅ１の階調に応じた電流が電源線Ｖｄｄから発光素子Ｅ１に供給される。そして、発光素子Ｅ１が発光し、文字、画像等が表示領域２１に表示される。
【0071】
発光素子Ｅ１は、図１７に示すように、アノード電極（画素電極）６０２と自発光部６０４とカソード電極６０６から形成される。アノード電極６０２は、スイッチング素子３２４のドレイン電極に接続する。アノード電極６０２は、例えば、ＩＴＯとアルミニウム合金又は銀合金とＩＴＯとの３層により構成される。自発光部６０４は、アノード電極６０２の上に設けられる。自発光部６０４は、例えば、正孔注入層と正孔輸送層と有機発光層と電子輸送層と電子注入層とから形成される。カソード電極６０６は、自発光部６０４の上に設けられ、カソード配線３２５に接続する。カソード電極６０６、リチウム（Ｌｉ）、アルミニウム、マグネシウム（Ｍｇ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、これらの合金等から形成される。
【0072】
アクティブマトリクス基板３００のゲート端子３３０とデータ端子３４０の構成は、実施形態１と同様である（図３、図５）。本実施形態においても、ゲート端子３３０とデータ端子３４０とゲート接続配線３３５とデータ接続配線３４５が、アクティブマトリクス基板３００の額縁領域３０２（面３００ａ）に設けられる。ゲート配線ＧＬに接続するゲート端子３３０は、ゲート配線ＧＬの配列方向に垂直な方向に配列される。データ配線ＤＬに接続するデータ端子３４０は、データ配線ＤＬの配列方向に垂直な方向に配列される。ゲート端子３３０とゲート配線ＧＬはゲート接続配線３３５により接続され、データ端子３４０とデータ配線ＤＬはデータ接続配線３４５により接続される。
【0073】
以上のように、本実施形態のアクティブマトリクス基板３００は、自発光表示装置２０に用いられる。
【0074】
＜実施形態６＞
実施形態１～実施形態４では、アクティブマトリクス基板３００は液晶表示装置１０に用いられる。アクティブマトリクス基板３００は撮像装置３０に用いられてもよい。
実施形態１～実施形態４では、アクティブマトリクス基板３００は液晶表示装置１０に用いられる。アクティブマトリクス基板３００は撮像装置３０に用いられてもよい。
【0075】
撮像装置３０は、例えば、Ｘ線画像を撮像する。撮像装置３０は、図１８に示すように、シンチレータ基板２４０と、アクティブマトリクス基板３００と、ゲート駆動ＩＣ４００と、データ読み出しＩＣ５０５とを備える。また、撮像装置３０は、駆動回路、画像処理回路等（図示せず）を備える。
【0076】
撮像装置３０は、Ｘ線画像を撮像可能な撮像領域３１と、撮像領域３１を囲む額縁領域３２とを有する。撮像領域３１には、複数の画素ＰＸがマトリクス状に配列されている。額縁領域３２には、ゲート駆動ＩＣ４００とデータ読み出しＩＣ５０５が実装される。額縁領域３２は、実施形態１と同様に、アクティブマトリクス基板３００の額縁領域３０２から形成される。
【0077】
撮像装置３０のシンチレータ基板２４０は、＋Ｚ側（撮像対象側）に位置し、アクティブマトリクス基板３００に対向している。シンチレータ基板２４０は、図示しないシール材により、アクティブマトリクス基板３００に貼り合わされている。シンチレータ基板２４０は、アクティブマトリクス基板３００に対向する面にシンチレータ層を形成された、ガラス基板または樹脂フィルムである。シンチレータ層は、蛍光体から形成され、Ｘ線を可視光に変換する。シンチレータ基板２４０は、シンチレータとして機能する。
【0078】
撮像装置３０のアクティブマトリクス基板３００は、－Ｚ側に位置し、シンチレータ基板２４０に対向している。アクティブマトリクス基板３００は、例えば、ガラス基板である。
【0079】
アクティブマトリクス基板３００の撮像領域３０１（面３００ａ）には、図１９に示すように、スイッチング素子３２６と光電変換素子Ｅ２とゲート配線ＧＬとデータ配線ＤＬが設けられる。光電変換素子Ｅ２は、例えば、フォトダイオードである。
【0080】
ゲート配線ＧＬとデータ配線ＤＬの構成は、実施形態１のゲート配線ＧＬとデータ配線ＤＬの構成と同様である。本実施形態では、ゲート配線ＧＬとデータ配線ＤＬは、画素ＰＸを形成する、スイッチング素子３２６と光電変換素子Ｅ２とを囲んでいる。
【0081】
スイッチング素子３２６は、例えば、ＴＦＴ素子である。スイッチング素子３２６のゲート電極はゲート配線ＧＬに接続する。スイッチング素子３２６のソース電極は、後述する第１電極６１２（フォトダイオードのカソード端子）に接続する。スイッチング素子３２６のドレイン電極はデータ配線ＤＬに接続する。本実施形態では、第１電極６１２が画素電極に相当する。
【0082】
本実施形態の光電変換素子Ｅ２は、ＰＩＮフォトダイオードである。光電変換素子（ＰＩＮフォトダイオード）Ｅ２は、シンチレータ基板２４０によってＸ線から変換された可視光の光量に応じて、信号電荷を蓄積する。
【0083】
光電変換素子Ｅ２は、図２０に示すように、ｎ型アモルファスシリコン層６１３と、真性アモルファスシリコン層６１４と、ｐ型アモルファスシリコン層６１５とを有する。ｎ型アモルファスシリコン層６１３は第１電極６１２の上に形成され、真性アモルファスシリコン層６１４はｎ型アモルファスシリコン層６１３の上に形成されている。ｐ型アモルファスシリコン層６１５は、真性アモルファスシリコン層６１４の上に形成されている。また、第２電極（アノード端子）６１６がｐ型アモルファスシリコン層６１５の上に形成されている。第２電極６１６は、バイアス電圧を供給するバイアス配線ＢＬに接続している。なお、第１電極６１２はクロム（Ｃｒ）モリブデン、アルミニウム等から形成され、第２電極６１６はＩＴＯから形成される。
【0084】
アクティブマトリクス基板３００の額縁領域３０２（面３００ａ）には、実施形態１と同様に、ゲート端子３３０とデータ端子３４０とゲート接続配線３３５とデータ接続配線３４５が設けられる。ゲート端子３３０とデータ端子３４０の構成は、実施形態１と同様である（図３、図５）。本実施形態においても、ゲート端子３３０は、ゲート配線ＧＬの配列方向に垂直な方向に配列される。データ端子３４０は、データ配線ＤＬの配列方向に垂直な方向に配列される。ゲート端子３３０とゲート配線ＧＬはゲート接続配線３３５により接続され、データ端子３４０とデータ配線ＤＬはデータ接続配線３４５により接続される。
【0085】
撮像装置３０のゲート駆動ＩＣ４００は、駆動回路からの信号に基づいて、ゲート配線ＧＬに走査信号を順次に供給することにより、ゲート配線ＧＬに接続されているスイッチング素子３２６を順次に開状態とする。ゲート駆動ＩＣ４００は、実施形態１のゲート駆動ＩＣ４００と同様に、フレキシブル基板４１０を介してゲート端子３３０に接続される。
【0086】
撮像装置３０のデータ読み出しＩＣ５０５は、データ配線ＤＬを介して、光電変換素子Ｅ２に蓄積された信号電荷を読み出し、読み出した信号電荷に応じた電圧値を画像処理回路に出力する。データ読み出しＩＣ５０５は、実施形態１のデータ駆動ＩＣ５００と同様に、フレキシブル基板５１０を介してデータ端子３４０に接続される。
【0087】
ここで、信号電荷の読み出しについて説明する。光電変換素子Ｅ２のアノード端子はバイアス配線ＢＬに接続されており、バイアス電位が光電変換素子Ｅ２のアノード端子に印加されている。一方、データ配線ＤＬには、リファレンス電位が印加される。したがって、スイッチング素子３２６が開状態になると、バイアス電位とリファレンス電位との差分電圧が光電変換素子Ｅ２に充電される。本実施形態では、差分電圧は、アノード電位に対しカソード電位の方が高い、逆バイアス電圧に設定されている。光電変換素子Ｅ２を逆バイアス電圧まで再充電するために必要な電荷は、光電変換素子Ｅ２に照射された可視光の光量に依存する。データ読み出しＩＣ５０５は、光電変換素子Ｅ２が逆バイアスまで再充電される際に流れる電流を積分することにより、信号電荷を読み出す。
【0088】
撮像装置３０は、Ｘ線の照射量（Ｘ線から変換された可視光の光量）に応じて光電変換素子Ｅ２に蓄積された信号電荷を、スイッチング素子３２６を開状態にすることにより、読み出す。撮像装置３０は、画素ＰＸのそれぞれから、光電変換素子Ｅ２に蓄積された信号電荷を読み出すことにより、Ｘ線画像を撮像する。
【0089】
以上のように、本実施形態のアクティブマトリクス基板３００は、撮像装置３０に用いられる。
【0090】
＜変形例＞
以上、実施形態を説明したが、本開示は、要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
以上、実施形態を説明したが、本開示は、要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
【0091】
端子（ゲート端子３３０、データ端子３４０）に接続される対象は、フレキシブル基板４１０、５１０に限られない。例えば、ゲート駆動ＩＣ４００が、ゲート端子３３０に、直接、接続してもよい。
【0092】
実施形態１では、画素電極３１０とスイッチング素子３２０と共通電極が、アクティブマトリクス基板３００に設けられている。共通電極はアクティブマトリクス基板３００に設けられなくともよい。例えば、液晶表示パネル１００がＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードで動作する場合、共通電極は対向基板２００に設けられる。
【0093】
実施形態２のアクティブマトリクス基板３００では、端子の配列方向と画素配線の配列方向が、異なる。実施形態５と実施形態６のアクティブマトリクス基板３００においても、端子の配列方向と画素配線の配列方向が、異なっていればよい。
【0094】
実施形態３では、端子の配列方向とアクティブマトリクス基板３００の湾曲軸ＢＤが平行である。端子の配列方向とアクティブマトリクス基板３００の湾曲軸ＢＤは、平面視した場合に、垂直でなければよい。これにより、端子とフレキシブル基板４１０、５１０に掛かるアクティブマトリクス基板３００の湾曲による応力を、緩和できる。
【0095】
実施形態５の自発光表示装置２０はＯＬＥＤ表示装置であるが、自発光表示装置２０はＯＬＥＤ表示装置に限られない。自発光表示装置２０は、例えば、マイクロＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ）表示装置であってもよい。自発光表示装置２０がマイクロＬＥＤ表示装置である場合、ＬＥＤチップが、自発光部６０４として、アクティブマトリクス基板３００の画素電極６０２の上に設けられる。
【0096】
実施形態５の撮像装置３０はＸ線画像を撮像するが、撮像装置３０に撮像される画像はＸ線画像に限れない。例えば、撮像装置３０は可視光画像を撮像してもよい。
【0097】
実施形態１～実施形態６では、１つのゲート駆動ＩＣ４００が１つのフレキシブル基板４１０に実装されて、ゲート端子３３０に接続している。図２１に示すように、複数のゲート駆動ＩＣ４００が、１つのフレキシブル基板４１５に実装されて、ゲート端子３３０に接続されてもよい。これにより、ゲート駆動ＩＣ４００をアクティブマトリクス基板３００に実装する工程の回数を減らすことができ、製造の歩留まりを向上させることができる。さらに、駆動回路がフレキシブル基板４１５に設けられていてもよい。なお、図２１では、理解を容易にするために、ゲート端子３３０とゲート接続配線３３５を省略している。また、データ駆動ＩＣ５００とデータ読みだしＩＣ５０５についても、複数のデータ駆動ＩＣ５００又はデータ読みだしＩＣ５０５が、１つのフレキシブル基板に実装されていてもよい。
【0098】
本開示では、接続配線（ゲート接続配線３３５又はデータ接続配線３４５）のそれぞれの抵抗値が等しいこと、が好ましい。例えば、図２２に示すように、ゲート接続配線３３５を折り曲げて、ゲート接続配線３３５のそれぞれの長さＬ３を等しくすることにより、ゲート接続配線３３５のそれぞれの抵抗値を等しくできる。また、図２３に示すように、ゲート接続配線３３５の幅Ｄ８を調整することにより、ゲート接続配線３３５のそれぞれの抵抗値を等しくできる。本開示では、画素配線の配列方向と端子の配列方向が異なるので、接続配線のそれぞれの長さ又は幅を調整できるスペースを容易に確保できる。
【0099】
以上、好ましい実施形態について説明したが、本開示は係る特定の実施形態に限定されるものではなく、本開示には、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲が含まれる。
【符号の説明】
【0100】
１０ 液晶表示装置、１１ 表示領域、１２ 額縁領域、２０ 自発光表示装置、２１ 表示領域、２２ 額縁領域、３０ 撮像装置、３１ 撮像領域、３２ 額縁領域、１００ 液晶表示パネル、１２０ ＯＬＥＤ表示パネル、２００ 対向基板、２２０ 封止基板、２４０ シンチレータ基板、３００ アクティブマトリクス基板、３００ａ 面、３０１ 表示領域，撮像領域、３０２ 額縁領域、３１０ 画素電極、３２０、３２２、３２４、３２６ スイッチング素子、３２５ カソード配線、３３０ ゲート端子、３３５ ゲート接続配線、３３５ａ 第１部分、３３５ｂ 第２部分、３３５ｃ 第３部分、３４０ データ端子、３４５ データ接続配線、３４５ａ 第５部分、３４５ｂ 第６部分、３４５ｃ 第７部分、４００ ゲート駆動ＩＣ、４１０，４１５ フレキシブル基板、４１０ａ 面、４１２ シールド部、５００ データ駆動ＩＣ、５０５ データ読み出しＩＣ、５１０ フレキシブル基板、６０２ アノード電極（画素電極）、６０４ 自発光部、６０６ カソード電極、６１２ 第１電極（画素電極）、６１３ ｎ型アモルファスシリコン層、６１４ 真性アモルファスシリコン層、６１５ ｐ型アモルファスシリコン層、６１６ 第２電極、ＡＤ１，ＡＤ２ 配列方向、ＡＣＦ 異方性導電フィルム、ＢＤ 湾曲軸、ＢＬ バイアス配線、Ｃ１ 保持容量、ＤＬ データ配線、Ｅ１ 発光素子、Ｅ２ 光電変換素子、ＧＬ ゲート配線、ＬＣ 液晶、Ｐ１～Ｐ３，Ｐ５～Ｐ７ 間隔、ＰＸ 画素、Ｖｄｄ 電源線、Ｄ１～Ｄ３，Ｄ５～Ｄ７ 配列幅、Ｄ８ 幅、Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３，Ｌ５，Ｌ６ 長さ、θ 角度
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】