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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024044123
(43)【公開日】2024-04-02
(54)【発明の名称】電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置
(51)【国際特許分類】
G03G 5/05 20060101AFI20240326BHJP
G03G 5/147 20060101ALI20240326BHJP
G03G 5/047 20060101ALI20240326BHJP
【ＦＩ】
G03G5/05 104B
G03G5/147 501
G03G5/047
G03G5/05 104A
【審査請求】未請求
【請求項の数】9
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022149474
(22)【出願日】2022-09-20
(71)【出願人】
【識別番号】000005496
【氏名又は名称】富士フイルムビジネスイノベーション株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001519
【氏名又は名称】弁理士法人太陽国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】木越 陽一
(72)【発明者】
【氏名】金子 諒太
(72)【発明者】
【氏名】是永 次郎
【テーマコード（参考）】
2H068
【Ｆターム（参考）】
2H068AA02
2H068AA14
2H068AA28
2H068BB03
2H068BB06
2H068BB31
2H068BB34
2H068CA06
2H068CA22
2H068CA60
2H068FA08
2H068FA27
(57)【要約】
【課題】無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体を提供すること。
【解決手段】導電性基体と、前記導電性基体の上に設けられた感光層と、前記感光層の上に設けられた無機保護層と、を有し、前記感光層は、前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°以上であり、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が０質量％又は２０質量％以下である、電子写真感光体。
【選択図】図１
【解決手段】導電性基体と、前記導電性基体の上に設けられた感光層と、前記感光層の上に設けられた無機保護層と、を有し、前記感光層は、前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°以上であり、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が０質量％又は２０質量％以下である、電子写真感光体。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
導電性基体と、
前記導電性基体の上に設けられた感光層と、
前記感光層の上に設けられた無機保護層と、
を有し、
前記感光層は、前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°以上であり、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が０質量％又は２０質量％以下である、電子写真感光体。
前記導電性基体の上に設けられた感光層と、
前記感光層の上に設けられた無機保護層と、
を有し、
前記感光層は、前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°以上であり、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が０質量％又は２０質量％以下である、電子写真感光体。
【請求項2】
前記感光層は、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０．０００１質量％以上含有する、請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項3】
前記潤滑油は、シリコーンオイル及びフッ素含有オイルの少なくとも一方を含む、請求項２に記載の電子写真感光体。
【請求項4】
前記潤滑油は、前記シリコーンオイルを含む、請求項３に記載の電子写真感光体。
【請求項5】
前記無機保護層は、酸素、水素及び第１３族元素を含む無機保護層である請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項6】
前記無機保護層は、前記酸素及び第１３族元素の元素組成比（酸素／第１３族元素）が１．１以上１．５以下である、請求項５に記載の電子写真感光体。
【請求項7】
導電性基体と、
前記導電性基体の上に設けられた感光層と、
前記感光層の上に設けられた無機保護層と、
を有し、
前記感光層は、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０．０００１質量％以上含有し、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が０質量％又は２０質量％以下である、電子写真感光体。
前記導電性基体の上に設けられた感光層と、
前記感光層の上に設けられた無機保護層と、
を有し、
前記感光層は、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０．０００１質量％以上含有し、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が０質量％又は２０質量％以下である、電子写真感光体。
【請求項8】
請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【請求項9】
請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献１には、「導電性基体上に、感光層と表面層とをこの順に積層して構成され、前記表面層を構成する元素のうち、第１３族元素、酸素及び水素の全元素量に対する各構成比の和が０．９５以上であり、かつ、前記酸素及び第１３族元素の元素組成比（酸素／第１３族元素）が１．１以上１．５以下であることを特徴とする電子写真感光体」が開示されている。
【0003】
特許文献２には、「導電性基体上に、有機感光層と、無機の表面保護層をこの順に積層した電子写真感光体であって、上記有機感光層の少なくとも表面保護層に接する最表面部が特定のジオキソテトラセンジオン誘導体を含有する電子写真感光体」が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２００８－２６８２６６号公報
【特許文献2】特開２００２－１１６５６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
従来、感光層の上に無機保護層が設けられている電子写真感光体を用いると、無機保護層が、前記無機保護層との界面側の感光層の表面から、剥離することがあった。
そこで本開示では、前記感光層が「潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０質量％あるいは０．０００１質量％未満で含有する場合」又は「前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°未満である場合」に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体を提供することを課題とする。
そこで本開示では、前記感光層が「潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０質量％あるいは０．０００１質量％未満で含有する場合」又は「前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°未満である場合」に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
前記課題を解決するための具体的手段には、下記の態様が含まれる。
【0007】
＜１＞ 導電性基体と、
前記導電性基体の上に設けられた感光層と、
前記感光層の上に設けられた無機保護層と、
を有し、
前記感光層は、前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°以上であり、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が０質量％又は２０質量％以下である、電子写真感光体。
＜２＞ 前記感光層は、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０．０００１質量％以上含有する、前記＜１＞に記載の電子写真感光体。
＜３＞ 前記潤滑油は、シリコーンオイル及びフッ素含有オイルの少なくとも一方を含む、前記＜１＞に記載の電子写真感光体。
＜４＞ 前記潤滑油は、前記シリコーンオイルを含む、前記＜３＞に記載の電子写真感光体。
＜５＞ 前記無機保護層は、酸素、水素及び第１３族元素を含む無機保護層である前記＜１＞に記載の電子写真感光体。
＜６＞ 前記無機保護層は、前記酸素及び第１３族元素の元素組成比（酸素／第１３族元素）が１．１以上１．５以下である、前記＜５＞に記載の電子写真感光体。
＜７＞ 導電性基体と、
前記導電性基体の上に設けられた感光層と、
前記感光層の上に設けられた無機保護層と、
を有し、
前記感光層は、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０．０００１質量％以上含有し、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が０質量％又は２０質量％以下である、電子写真感光体。
＜８＞ 前記＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
＜９＞ 前記＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
前記導電性基体の上に設けられた感光層と、
前記感光層の上に設けられた無機保護層と、
を有し、
前記感光層は、前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°以上であり、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が０質量％又は２０質量％以下である、電子写真感光体。
＜２＞ 前記感光層は、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０．０００１質量％以上含有する、前記＜１＞に記載の電子写真感光体。
＜３＞ 前記潤滑油は、シリコーンオイル及びフッ素含有オイルの少なくとも一方を含む、前記＜１＞に記載の電子写真感光体。
＜４＞ 前記潤滑油は、前記シリコーンオイルを含む、前記＜３＞に記載の電子写真感光体。
＜５＞ 前記無機保護層は、酸素、水素及び第１３族元素を含む無機保護層である前記＜１＞に記載の電子写真感光体。
＜６＞ 前記無機保護層は、前記酸素及び第１３族元素の元素組成比（酸素／第１３族元素）が１．１以上１．５以下である、前記＜５＞に記載の電子写真感光体。
＜７＞ 導電性基体と、
前記導電性基体の上に設けられた感光層と、
前記感光層の上に設けられた無機保護層と、
を有し、
前記感光層は、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０．０００１質量％以上含有し、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が０質量％又は２０質量％以下である、電子写真感光体。
＜８＞ 前記＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
＜９＞ 前記＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の効果】
【0008】
＜１＞、又は＜５＞に係る発明によれば、前記感光層が前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°未満である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
＜２＞に係る発明によれば、前記感光層が、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０．０００１質量％未満である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
＜３＞又は＜４＞に係る発明によれば、前記潤滑油が炭化水素系合成油の一種であるポリアルファオレフィン系潤滑油である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
＜６＞に係る発明によれば、前記無機保護層における、前記酸素及び第１３族元素の元素組成比（酸素／第１３族元素）が１．１未満又は１．５超えである場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
＜２＞に係る発明によれば、前記感光層が、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０．０００１質量％未満である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
＜３＞又は＜４＞に係る発明によれば、前記潤滑油が炭化水素系合成油の一種であるポリアルファオレフィン系潤滑油である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
＜６＞に係る発明によれば、前記無機保護層における、前記酸素及び第１３族元素の元素組成比（酸素／第１３族元素）が１．１未満又は１．５超えである場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
【0009】
＜７＞に係る発明によれば、前記感光層が潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０質量％あるいは０．０００１質量％未満で含有する場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
＜８＞又は＜９＞に係る発明によれば、前記感光層が「潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０質量％あるいは０．０００１質量％未満で含有する場合」又は「前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°未満である場合」に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ、画像形成装置が提供される。
＜８＞又は＜９＞に係る発明によれば、前記感光層が「潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０質量％あるいは０．０００１質量％未満で含有する場合」又は「前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°未満である場合」に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ、画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【図1】本実施形態の電子写真感光体の層構成の一例を示す模式断面図である。
【図2】本実施形態の電子写真感光体の無機保護層の形成に用いる成膜装置の一例を示す概略模式図である。
【図3】本実施形態の電子写真感光体の無機保護層の形成に用いるプラズマ発生装置の例を示す概略模式図である。
【図4】本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【図5】本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下に、本発明の実施形態について説明する。これらの説明及び実施例は実施形態を例示するものであり、実施形態の範囲を制限するものではない。
【0012】
本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
【0013】
本明細書において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。
本明細書において組成物中の各成分の量について言及する場合、組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合には、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計量を意味する。
本明細書において組成物中の各成分の量について言及する場合、組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合には、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計量を意味する。
【0014】
＜電子写真感光体＞
第一の実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、前記導電性基体の上に設けられた下引層と、前記下引層の上に設けられた感光層と、前記感光層の上に設けられた無機保護層と、を有し、前記感光層は、前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°以上であり、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が０質量％又は２０質量％以下である。
第一の実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、前記導電性基体の上に設けられた下引層と、前記下引層の上に設けられた感光層と、前記感光層の上に設けられた無機保護層と、を有し、前記感光層は、前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°以上であり、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が０質量％又は２０質量％以下である。
【0015】
第二の実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、前記導電性基体の上に設けられた下引層と、前記下引層の上に設けられた電荷発生層と、前記下引層の上に設けられた感光層と、前記感光層の上に設けられた無機保護層と、を有し、前記感光層は、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０．０００１質量％以上含有し、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が０質量％又は２０質量％以下である。
【0016】
本明細書中において、第一の実施形態及び第二の実施形態に共通する事項については、「本実施形態」と総称して説明する。
【0017】
従来の無機保護層を有する電子写真感光体では、前記無機保護層との界面側の感光層の表面から、無機保護層が剥離することがあった。これは、例えば、感光層と無機保護層との界面における、感光層の濡れ性が局所的に低い部位が生じ、その濡れ性の低い部位から剥離が生じるものと考えられる。これは、感光層にシリカ粒子の含有量が２０質量％以下である場合に特に顕著である。
【0018】
他方、本実施形態に係る電子写真感光体は、上記構成を有することにより、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される。この要因は必ずしも明らかではないか、以下のように推測される。
【0019】
第一の実施形態に係る電子写真感光体は、上記構成の中でも特に、無機保護層との界面側の表面における、感光層の水接触角が８２°以上である。つまり、無機保護層と接触する側の感光層の面は、無機保護層に対する濡れ性が高い。そのため、感光層と無機保護層との接着性が高く、無機保護層の剥離が抑制されると考えられる。
【0020】
第二の実施形態に係る電子写真感光体は、上記構成の中でも特に、感光層が潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０．０００１質量％以上含有する。そのため、感光層の表面に疎水性が付与される。その結果、感光層と無機保護層との接着性が高く、無機保護層の剥離が抑制されると考えられる。
【0021】
以下、本実施形態に係る電子写真感光体の一例について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。
図１は、本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の一例を示す模式断面図である。感光体１０７Ａは、導電性基体１０４上に、下引層１０１が設けられ、その上に電荷発生層１０２、電荷輸送層１０３、及び無機保護層１０６が順次形成された構造を有する。
図１では、感光体１０７Ａは電荷発生層１０２と電荷輸送層１０３とに機能が分離された積層型の感光層１０５を有しているが、感光層１０５は単層型感光層であってもよい。
図示はしないが、導電性基体１０４と下引層１０１との間、又は下引層１０１と感光層１０５との間には中間層をさらに有していてもよい。
図１は、本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の一例を示す模式断面図である。感光体１０７Ａは、導電性基体１０４上に、下引層１０１が設けられ、その上に電荷発生層１０２、電荷輸送層１０３、及び無機保護層１０６が順次形成された構造を有する。
図１では、感光体１０７Ａは電荷発生層１０２と電荷輸送層１０３とに機能が分離された積層型の感光層１０５を有しているが、感光層１０５は単層型感光層であってもよい。
図示はしないが、導電性基体１０４と下引層１０１との間、又は下引層１０１と感光層１０５との間には中間層をさらに有していてもよい。
【0022】
以下、電子写真感光体を構成する各要素について説明する。なお、符号は省略して説明する場合がある。
【0023】
〔感光層〕
以下、積層型感光層及び単層型感光層に共通する感光層の特性について説明する。
以下、積層型感光層及び単層型感光層に共通する感光層の特性について説明する。
【0024】
本実施形態に係る感光層は、感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が０質量％又は２０質量％以下であり、０質量％又は１５質量％以下であることが好ましい。
本実施形態によれば、感光層におけるシリカ粒子の含有量が上記範囲以下であっても、感光層と無機保護層との接着性が高く維持されやすく、無機保護層の剥離が抑制される。
本実施形態によれば、感光層におけるシリカ粒子の含有量が上記範囲以下であっても、感光層と無機保護層との接着性が高く維持されやすく、無機保護層の剥離が抑制される。
【0025】
本実施形態に係る感光層は、感光層の全固形分に対する無機粒子の含有量が０質量％又は２０質量％以下であり、０質量％又は１５質量％以下であることが好ましい。
本実施形態によれば、感光層における無機粒子の含有量が上記範囲であっても、感光層と無機保護層との接着性が高く維持されやすく、無機保護層の剥離が抑制される。
本実施形態によれば、感光層における無機粒子の含有量が上記範囲であっても、感光層と無機保護層との接着性が高く維持されやすく、無機保護層の剥離が抑制される。
【0026】
第一の実施形態では、感光層は、前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°以上であり、８４°以上であることが好ましく、８４°以上１００°以下であることがより好ましい。
第二の実施形態では、感光層は、前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°以上であることが好ましく、８４°以上であることがより好ましく、８４°以上１００°以下であることがさらに好ましい。
第二の実施形態では、感光層は、前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°以上であることが好ましく、８４°以上であることがより好ましく、８４°以上１００°以下であることがさらに好ましい。
【0027】
水接触角が上記範囲内であると、無機保護層の形成の際に、無機保護層と接触する側の感光層の面が、無機保護層形成用の原料ガスに対する濡れ性が高くなりやすい。そのため、感光層と無機保護層との接着性が高く、無機保護層の剥離がより抑制される。
【0028】
水接触角は、撥水性を示す指標であり、以下のとおり測定する。
温度２５℃湿度５０％の環境下で、接触角計（協和界面科学（株）製、型番：ＣＡ－Ｘ－ＦＡＣＥ）を用いて、測定対象物の表面に、純水を３μＬ滴下し、滴下してから３秒後の液滴を光学顕微鏡により撮影する。そして、得られた撮像写真から、θ／２法に基づき、水接触角θを求める。
温度２５℃湿度５０％の環境下で、接触角計（協和界面科学（株）製、型番：ＣＡ－Ｘ－ＦＡＣＥ）を用いて、測定対象物の表面に、純水を３μＬ滴下し、滴下してから３秒後の液滴を光学顕微鏡により撮影する。そして、得られた撮像写真から、θ／２法に基づき、水接触角θを求める。
【0029】
水接触角を上記範囲内に調整する手法は特に制限されないが、例えば、感光層に潤滑油を含有させる手法が挙げられる。
【0030】
第一実施形態では、感光層は、潤滑油を含有することが好ましい。
第二実施形態では、感光層は、潤滑油を含有する。
感光層が潤滑油を含有すると、無機保護層と接触する側の感光層の面における濡れ性が高くなりやすい。そのため、感光層と無機保護層との接着性が高く、無機保護層の剥離がより抑制される。
第二実施形態では、感光層は、潤滑油を含有する。
感光層が潤滑油を含有すると、無機保護層と接触する側の感光層の面における濡れ性が高くなりやすい。そのため、感光層と無機保護層との接着性が高く、無機保護層の剥離がより抑制される。
【0031】
潤滑油の種類は、特に制限されないが、例えば、
潤滑油としては、例えば、シリコーンオイル、フッ素含有オイル、炭化水素系オイル（例えばポリアルファオレフィン等）、鉱物油、植物油、ポリアルキレングリコール、アルキレングリコールエーテル、アルカンジオール、溶融ワックス、界面活性剤等が挙げられる。
フッ素含有オイルとは、少なくともフッ素原子を分子構造中に含む樹脂を表す。
炭化水素系オイルとは、炭化水素を主成分として含む室温（２３℃）でオイル状の化合物を表す。
潤滑油としては、例えば、シリコーンオイル、フッ素含有オイル、炭化水素系オイル（例えばポリアルファオレフィン等）、鉱物油、植物油、ポリアルキレングリコール、アルキレングリコールエーテル、アルカンジオール、溶融ワックス、界面活性剤等が挙げられる。
フッ素含有オイルとは、少なくともフッ素原子を分子構造中に含む樹脂を表す。
炭化水素系オイルとは、炭化水素を主成分として含む室温（２３℃）でオイル状の化合物を表す。
【0032】
潤滑油は、シリコーンオイル及びフッ素含有オイルの少なくとも一方を含むことが好ましく、シリコーンオイルを含むことがより好ましい。
潤滑油がシリコーンオイル及びフッ素含有オイルの少なくとも一方を含む（より好ましくはシリコーンオイルを含む）と、無機保護層と接触する側の感光層の面における水接触角の値が先述の範囲に調節されやすく、これにより濡れ性が高くなりやすい。そのため、感光層と無機保護層との接着性が高く、無機保護層の剥離がより抑制される。
潤滑油がシリコーンオイル及びフッ素含有オイルの少なくとも一方を含む（より好ましくはシリコーンオイルを含む）と、無機保護層と接触する側の感光層の面における水接触角の値が先述の範囲に調節されやすく、これにより濡れ性が高くなりやすい。そのため、感光層と無機保護層との接着性が高く、無機保護層の剥離がより抑制される。
【0033】
シリコーンオイルとしては、例えば、
ジメチルポリシロキサン、ジメチルシリコーンオイル、環状ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、ジフェニルシリコーンオイル等のストレートシリコーンオイル；
カルピノール変性シリコーンオイル、フェニル変性シリコーンオイル、アラルキル変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、フルオロ変性シリコーンオイル、フルオロアルキル変性シリコーンオイル、ポリオール変性シリコーンオイル、ポリエステル変性シリコーンオイル、脂肪酸エステル変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アクリル変性シリコーンオイル、ハイドロジェン変性シリコーンオイル（例えばメチルハイドロジェン変性シリコーンオイル）等の変性シリコーンオイル；などが挙げられる。
ジメチルポリシロキサン、ジメチルシリコーンオイル、環状ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、ジフェニルシリコーンオイル等のストレートシリコーンオイル；
カルピノール変性シリコーンオイル、フェニル変性シリコーンオイル、アラルキル変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、フルオロ変性シリコーンオイル、フルオロアルキル変性シリコーンオイル、ポリオール変性シリコーンオイル、ポリエステル変性シリコーンオイル、脂肪酸エステル変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アクリル変性シリコーンオイル、ハイドロジェン変性シリコーンオイル（例えばメチルハイドロジェン変性シリコーンオイル）等の変性シリコーンオイル；などが挙げられる。
【0034】
フッ素系オイルとしては、パーフルオロポリエーテル、クロロトリフルオロエチレン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ素含有アクリルポリマー等が挙げられる。
【0035】
第一実施形態では、感光層は、潤滑油を感光層の全固形分に対して０．０００１質量％以上含有することが好ましく、０．０００２質量％以上１質量％以下で含有することがより好ましく、０．０００２質量％以上０．１質量％以下で含有することがさらに好ましい。
第二実施形態では、感光層は、潤滑油を感光層の全固形分に対して０．０００１質量％以上含有し、０．０００２質量％以上１質量％以下で含有することが好ましく、０．０００２質量％以上０．１質量％以下で含有することがより好ましい。
第二実施形態では、感光層は、潤滑油を感光層の全固形分に対して０．０００１質量％以上含有し、０．０００２質量％以上１質量％以下で含有することが好ましく、０．０００２質量％以上０．１質量％以下で含有することがより好ましい。
【0036】
潤滑油の含有量が０．０００１質量％以上であると、無機保護層と接触する側の感光層の面における濡れ性が高くなりやすい。そのため、感光層と無機保護層との接着性が高く、無機保護層の剥離がより抑制される。
潤滑油の含有量が潤滑油を感光層の全固形分に対して１質量％以下であると、感光層の電気的特性が低下することが抑制される。
潤滑油の含有量が潤滑油を感光層の全固形分に対して１質量％以下であると、感光層の電気的特性が低下することが抑制される。
【0037】
以下、電荷発生層と電荷輸送層とに機能が分離された積層型感光層について、層別に詳細を説明する。感光層が積層型感光層である場合、潤滑油は、無機保護層との界面側の表面における水接触角を調整する観点から、電荷輸送層に含まれることが好ましい。
【0038】
（電荷発生層）
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。
また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ－Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。電荷輸送層は、必要に応じて潤滑油をさらに含んでいてもよい。潤滑油の詳細は、先述の通りである。
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。
また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ－Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。電荷輸送層は、必要に応じて潤滑油をさらに含んでいてもよい。潤滑油の詳細は、先述の通りである。
【0039】
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。
【0040】
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、ヒドロキシガリウムフタロシアニン；クロロガリウムフタロシアニン；ジクロロスズフタロシアニン；チタニルフタロシアニンがより好ましい。
【0041】
一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；チオインジゴ系顔料；ポルフィラジン化合物；酸化亜鉛；三方晶系セレン；ビスアゾ顔料等が好ましい。
【0042】
４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下に発光の中心波長があるＬＥＤ，有機ＥＬイメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合にも、上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点より、感光層を２０μｍ以下の薄膜で用いるときには、感光層中の電界強度が高くなり、基体からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒点と呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。これは、三方晶系セレン、フタロシアニン顔料等のｐ－型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いたときに顕著となる。
【0043】
これに対し、電荷発生材料として、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料等のｎ－型半導体を用いた場合、暗電流を生じ難く、薄膜にしても黒点と呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。
なお、ｎ－型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをｎ－型とする。
なお、ｎ－型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをｎ－型とする。
【0044】
電荷発生層に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、結着樹脂としては、ポリ－Ｎ－ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。
これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。
これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
【0045】
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが好ましい。
【0046】
電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【0047】
電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。なお、電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。
【0048】
電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ－ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いる。
【0049】
電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液－液衝突や液－壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
【0050】
電荷発生層形成用塗布液を下引層上（又は中間層上）に塗布する方法としては、例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【0051】
電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、より好ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内に設定される。
【0052】
（電荷輸送層）
電荷輸送層は、例えば、潤滑油と電荷輸送材料と結着樹脂とを含む層である。電荷輸送層は、潤滑油と高分子電荷輸送材料を含む層であってもよい。潤滑油の詳細は、先述の通りである。
電荷輸送層は、例えば、潤滑油と電荷輸送材料と結着樹脂とを含む層である。電荷輸送層は、潤滑油と高分子電荷輸送材料を含む層であってもよい。潤滑油の詳細は、先述の通りである。
【0053】
電荷輸送材料としては、ｐ－ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７－トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物；キサントン系化合物；ベンゾフェノン系化合物；シアノビニル系化合物；エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。電荷輸送材料としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物も挙げられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。
【0054】
電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ－１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式（ａ－２）で示されるベンジジン誘導体が好ましい。
【0055】
【化1】
【0056】
構造式（ａ－１）中、ＡｒＴ１、ＡｒＴ２、及びＡｒＴ３は、各々独立に置換若しくは無置換のアリール基、－Ｃ６Ｈ４－Ｃ（ＲＴ４）＝Ｃ（ＲＴ５）（ＲＴ６）、又は－Ｃ６Ｈ４－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）を示す。ＲＴ４、ＲＴ５、ＲＴ６、ＲＴ７、及びＲＴ８は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【0057】
【化1】
【0058】
構造式（ａ－２）中、ＲＴ９１及びＲＴ９２は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を示す。ＲＴ１０１、ＲＴ１０２、ＲＴ１１１及びＲＴ１１２は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、－Ｃ（ＲＴ１２）＝Ｃ（ＲＴ１３）（ＲＴ１４）、又は－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）を示し、ＲＴ１２、ＲＴ１３、ＲＴ１４、ＲＴ１５及びＲＴ１６は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Ｔｍ１、Ｔｍ２、Ｔｎ１及びＴｎ２は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【0059】
ここで、構造式（ａ－１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び前記構造式（ａ－２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「－Ｃ６Ｈ４－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度の観点で好ましい。
【0060】
高分子電荷輸送材料としては、ポリ－Ｎ－ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、ポリエステル系の高分子電荷輸送材は特に好ましい。なお、高分子電荷輸送材料は、単独で使用してよいが、結着樹脂と併用してもよい。
【0061】
電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン－ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン－アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル－酢酸ビニル－無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール－ホルムアルデヒド樹脂、スチレン－アルキッド樹脂、ポリ－Ｎ－ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの中でも、結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好適である。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上で用いる。
なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で１０：１から１：５までが好ましい。
なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で１０：１から１：５までが好ましい。
【0062】
電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【0063】
電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
【0064】
電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、２－ブタノン等のケトン類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
【0065】
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【0066】
電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下の範囲内に設定される。
【0067】
以下、単層型感光層について、詳細を説明する。
【0068】
（単層型感光層）
単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）は、例えば、潤滑油と電荷発生材料と電荷輸送材料と、必要に応じて、結着樹脂、及びその他周知の添加剤と、を含む層である。なお、これら材料は、電荷発生層及び電荷輸送層で説明した材料と同様である。
そして、単層型感光層中、電荷発生材料の含有量は、全固形分に対して０．１質量％以上１０質量％以下がよく、好ましくは０．８質量％以上５質量％以下である。また、単層型感光層中、電荷輸送材料の含有量は、全固形分に対して５質量％以上５０質量％以下がよい。
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。
単層型感光層の膜厚は、例えば、５μｍ以上５０μｍ以下がよく、好ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下である。
単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）は、例えば、潤滑油と電荷発生材料と電荷輸送材料と、必要に応じて、結着樹脂、及びその他周知の添加剤と、を含む層である。なお、これら材料は、電荷発生層及び電荷輸送層で説明した材料と同様である。
そして、単層型感光層中、電荷発生材料の含有量は、全固形分に対して０．１質量％以上１０質量％以下がよく、好ましくは０．８質量％以上５質量％以下である。また、単層型感光層中、電荷輸送材料の含有量は、全固形分に対して５質量％以上５０質量％以下がよい。
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。
単層型感光層の膜厚は、例えば、５μｍ以上５０μｍ以下がよく、好ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下である。
【0069】
〔無機保護層〕
－無機保護層の組成－
無機保護層は、無機材料を含んで構成された層である。
無機材料としては、保護層としての機械的強度、透光性を有するという観点から、例えば、酸化物系、窒化物系、炭素系、珪素系の無機材料が挙げられる。
酸化物系の無機材料としては、例えば、酸化ガリウム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、酸化錫、酸化ホウ素等の金属酸化物、又はこれらの混晶が挙げられる。
窒化物系の無機材料としては、例えば、窒化ガリウム、窒化アルミニウム、窒化亜鉛、窒化チタン、窒化インジウム、窒化錫、窒化ホウ素等の金属窒化物、又はこれらの混晶が挙げられる。
炭素系及び珪素系の無機材料としては、例えば、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）、アモルファスカーボン（ａ－Ｃ）、水素化アモルファスカーボン（ａ－Ｃ：Ｈ）、水素・フッ素化アモルファスカーボン（ａ－Ｃ：Ｈ）、アモルファスシリコンカーバイト（ａ－ＳｉＣ）、水素化アモルファスシリコンカーバイト（ａ－ＳｉＣ：Ｈ）アモルファスシリコン（ａ－Ｓｉ）、水素化アモルファスシリコン（ａ－Ｓｉ：Ｈ）等が挙げられる。 なお、無機材料は、酸化物系及び窒化物系の無機材料の混晶であってもよい。
－無機保護層の組成－
無機保護層は、無機材料を含んで構成された層である。
無機材料としては、保護層としての機械的強度、透光性を有するという観点から、例えば、酸化物系、窒化物系、炭素系、珪素系の無機材料が挙げられる。
酸化物系の無機材料としては、例えば、酸化ガリウム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、酸化錫、酸化ホウ素等の金属酸化物、又はこれらの混晶が挙げられる。
窒化物系の無機材料としては、例えば、窒化ガリウム、窒化アルミニウム、窒化亜鉛、窒化チタン、窒化インジウム、窒化錫、窒化ホウ素等の金属窒化物、又はこれらの混晶が挙げられる。
炭素系及び珪素系の無機材料としては、例えば、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）、アモルファスカーボン（ａ－Ｃ）、水素化アモルファスカーボン（ａ－Ｃ：Ｈ）、水素・フッ素化アモルファスカーボン（ａ－Ｃ：Ｈ）、アモルファスシリコンカーバイト（ａ－ＳｉＣ）、水素化アモルファスシリコンカーバイト（ａ－ＳｉＣ：Ｈ）アモルファスシリコン（ａ－Ｓｉ）、水素化アモルファスシリコン（ａ－Ｓｉ：Ｈ）等が挙げられる。 なお、無機材料は、酸化物系及び窒化物系の無機材料の混晶であってもよい。
【0070】
上記の中でも、無機材料としては、機械的強度、透光性に優れ、特にｎ型導電性を有し、その導電制御性に優れるという観点から、金属酸化物、特に、第１３族元素の酸化物を含むことが好ましく、ガリウム元素の酸化物を含むことがより好ましく、酸化ガリウムを含むことがさらに好ましい。
【0071】
無機保護層には、上記無機材料の他、導電型の制御のために、例えば、ｎ型の場合、Ｃ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎから選ばれる１つ以上の元素をさらに含んでいてもよい。
無機保護層には、上記無機材料の他、導電型の制御のために、例えば、ｐ型の場合、Ｎ、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒから選ばれる１つ以上の元素をさらに含んでいてもよい。
無機保護層には、上記無機材料の他、導電型の制御のために、例えば、ｐ型の場合、Ｎ、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒから選ばれる１つ以上の元素をさらに含んでいてもよい。
【0072】
本実施形態では、無機保護層は、酸素及び第１３族元素を含む無機保護層であることが好ましく、酸素、水素及び第１３族元素を含む無機保護層であることがより好ましく、酸素、水素及びガリウム元素を含む無機保護層であることがさらに好ましい。
無機保護層は、第１３族元素及び酸素を含むことで、撥水性が高まる。この撥水性の高さにより、クリーニングブレードによるクリーニング性が良好となる。
無機保護層が、酸素、水素及び第１３族元素を含むことで、無機保護層の諸物性が容易に制御され易くなる。
無機保護層は、第１３族元素及び酸素を含むことで、撥水性が高まる。この撥水性の高さにより、クリーニングブレードによるクリーニング性が良好となる。
無機保護層が、酸素、水素及び第１３族元素を含むことで、無機保護層の諸物性が容易に制御され易くなる。
【0073】
・元素組成比
酸素及び第１３族元素の元素組成比（酸素／第１３族元素）は１．０以上１．５未満であることが好ましく、１．１以上１．５以下がより好ましく、１．０５以上１．４５以下がさらに好ましく、１．１０以上１．４０以下が特に好ましい。
酸素及び第１３族元素の元素組成比（酸素／第１３族元素）が上記範囲内であると、第１３族元素と大気中の水分とが反応して水酸化物（例えば水酸化ガリウム）等の被膜が、無機保護層と感光層との界面における無機保護層の面に形成されることが抑制される。その結果、感光層からの無機保護層の剥離がより抑制される。
酸素及び第１３族元素の元素組成比（酸素／第１３族元素）は１．０以上１．５未満であることが好ましく、１．１以上１．５以下がより好ましく、１．０５以上１．４５以下がさらに好ましく、１．１０以上１．４０以下が特に好ましい。
酸素及び第１３族元素の元素組成比（酸素／第１３族元素）が上記範囲内であると、第１３族元素と大気中の水分とが反応して水酸化物（例えば水酸化ガリウム）等の被膜が、無機保護層と感光層との界面における無機保護層の面に形成されることが抑制される。その結果、感光層からの無機保護層の剥離がより抑制される。
【0074】
・元素構成比率の和
無機表面層を構成する全元素に対する、第１３族元素（特にガリウム）及び酸素の元素構成比率の和は、０．７０原子％以上が好ましく、０．７５原子％以上がより好ましく、０．８０原子％以上がさらに好ましく、０．８５原子％以上が特に好ましい
上記第１３族元素（特にガリウム）及び酸素の元素構成比率の和が上記範囲内であると、例えば、Ｎ，Ｐ，Ａｓなどの１５族元素などが混入した場合、前記混入物が第１３族元素（特にガリウム）と結合する影響などが抑制され、無機表面層の硬度又は電気特性を向上させ得る酸素及び第１３族元素（特にガリウム）組成比（酸素／第１３族元素（特にガリウム））の適正範囲を実現し易くなる。
無機表面層を構成する全元素に対する、第１３族元素（特にガリウム）及び酸素の元素構成比率の和は、０．７０原子％以上が好ましく、０．７５原子％以上がより好ましく、０．８０原子％以上がさらに好ましく、０．８５原子％以上が特に好ましい
上記第１３族元素（特にガリウム）及び酸素の元素構成比率の和が上記範囲内であると、例えば、Ｎ，Ｐ，Ａｓなどの１５族元素などが混入した場合、前記混入物が第１３族元素（特にガリウム）と結合する影響などが抑制され、無機表面層の硬度又は電気特性を向上させ得る酸素及び第１３族元素（特にガリウム）組成比（酸素／第１３族元素（特にガリウム））の適正範囲を実現し易くなる。
【0075】
無機表面層は、無機表面層を構成する全元素に対する、第１３族元素、酸素及び水素の元素構成比率の和が９０原子％以上であることが好ましく、９５原子％以上がより好ましく、９６原子％以上がさらに好ましく、９７原子％以上が特に好ましい。
上記第１３族元素、酸素、及び水素の元素構成比率の和が上記範囲内であると、例えばＮ，Ｐ，Ａｓなどの１５族元素などが混入した場合に、前記混入物が第１３族元素（特にガリウム）と結合する影響などが抑制され、無機表面層の硬度や電気特性を向上させ得る酸素及び第１３族元素（特にガリウム）組成比（酸素／第１３族元素（特にガリウム））の適正範囲を見出しやすくなる。
上記第１３族元素、酸素、及び水素の元素構成比率の和が上記範囲内であると、例えばＮ，Ｐ，Ａｓなどの１５族元素などが混入した場合に、前記混入物が第１３族元素（特にガリウム）と結合する影響などが抑制され、無機表面層の硬度や電気特性を向上させ得る酸素及び第１３族元素（特にガリウム）組成比（酸素／第１３族元素（特にガリウム））の適正範囲を見出しやすくなる。
【0076】
・元素構成比率
無機保護層が、ガリウムと酸素と必要に応じて水素とを含んで構成された場合、機械的強度、透光性、柔軟性に優れ、その導電制御性に優れるという観点から、好適な元素構成比率は以下の通りである。
ガリウムの元素構成比率は、無機保護層の全構成元素に対して、１５原子％以上５０原子％以下であることがよく、望ましくは２０原子％以上４０原子％以下、より望ましくは２０原子％以上３０原子％以下である。
酸素の元素構成比率は、例えば、無機保護層の全構成元素に対して、３０原子％以上７０原子％以下であることがよく、望ましくは４０原子％以上６０原子％以下、より望ましくは４５原子％以上５５原子％以下である。
水素の元素構成比率は、例えば、無機保護層の全構成元素に対して、１０原子％以上４０原子％以下であることがよく、望ましくは１５原子％以上３５原子％以下、より望ましくは２０原子％以上３０原子％以下である。
一方で、原子数比〔酸素／ガリウム〕は、１．００を超え２．００以下であることがよく、望ましくは１．１０以上１．９０以下である。
無機保護層が、ガリウムと酸素と必要に応じて水素とを含んで構成された場合、機械的強度、透光性、柔軟性に優れ、その導電制御性に優れるという観点から、好適な元素構成比率は以下の通りである。
ガリウムの元素構成比率は、無機保護層の全構成元素に対して、１５原子％以上５０原子％以下であることがよく、望ましくは２０原子％以上４０原子％以下、より望ましくは２０原子％以上３０原子％以下である。
酸素の元素構成比率は、例えば、無機保護層の全構成元素に対して、３０原子％以上７０原子％以下であることがよく、望ましくは４０原子％以上６０原子％以下、より望ましくは４５原子％以上５５原子％以下である。
水素の元素構成比率は、例えば、無機保護層の全構成元素に対して、１０原子％以上４０原子％以下であることがよく、望ましくは１５原子％以上３５原子％以下、より望ましくは２０原子％以上３０原子％以下である。
一方で、原子数比〔酸素／ガリウム〕は、１．００を超え２．００以下であることがよく、望ましくは１．１０以上１．９０以下である。
【0077】
ここで、無機保護層における各元素の元素構成比率、原子数比等は、厚み方向の分布も含めてラザフォードバックスキャタリング（以下、「ＲＢＳ」と称する）により求められる
なお、ＲＢＳでは、加速器としてＮＥＣ社 ３ＳＤＨ Ｐｅｌｌｅｔｒｏｎ、エンドステーションとしてＣＥ＆Ａ社 ＲＢＳ－４００、システムとして３Ｓ－Ｒ１０を用いる。解析にはＣＥ＆Ａ社のＨＹＰＲＡプログラム等を用いる。
なお、ＲＢＳの測定条件は、Ｈｅ＋＋イオンビームエネルギーは２．２７５ｅＶ、検出角度１６０°、入射ビームに対してＧｒａｚｉｎｇ Ａｎｇｌｅは約１０９°とする。
なお、ＲＢＳでは、加速器としてＮＥＣ社 ３ＳＤＨ Ｐｅｌｌｅｔｒｏｎ、エンドステーションとしてＣＥ＆Ａ社 ＲＢＳ－４００、システムとして３Ｓ－Ｒ１０を用いる。解析にはＣＥ＆Ａ社のＨＹＰＲＡプログラム等を用いる。
なお、ＲＢＳの測定条件は、Ｈｅ＋＋イオンビームエネルギーは２．２７５ｅＶ、検出角度１６０°、入射ビームに対してＧｒａｚｉｎｇ Ａｎｇｌｅは約１０９°とする。
【0078】
ＲＢＳ測定は、具体的には以下のように行う
まず、Ｈｅ＋＋イオンビームを試料に対して垂直に入射し、検出器をイオンビームに対して、１６０°にセットし、後方散乱されたＨｅのシグナルを測定する。検出したＨｅのエネルギーと強度から組成比と膜厚を決定する。組成比及び膜厚を求める精度を向上させるために二つの検出角度でスペクトルを測定してもよい。深さ方向分解能や後方散乱力学の異なる二つの検出角度で測定しクロスチェックすることにより精度が向上する。
ターゲット原子によって後方散乱されるＨｅ原子の数は、１）ターゲット原子の原子番号、２）散乱前のＨｅ原子のエネルギー、３）散乱角度の３つの要素のみにより決まる。
測定された組成から密度を計算によって仮定して、これを用いて厚みを算出する。密度の誤差は２０％以内である。
まず、Ｈｅ＋＋イオンビームを試料に対して垂直に入射し、検出器をイオンビームに対して、１６０°にセットし、後方散乱されたＨｅのシグナルを測定する。検出したＨｅのエネルギーと強度から組成比と膜厚を決定する。組成比及び膜厚を求める精度を向上させるために二つの検出角度でスペクトルを測定してもよい。深さ方向分解能や後方散乱力学の異なる二つの検出角度で測定しクロスチェックすることにより精度が向上する。
ターゲット原子によって後方散乱されるＨｅ原子の数は、１）ターゲット原子の原子番号、２）散乱前のＨｅ原子のエネルギー、３）散乱角度の３つの要素のみにより決まる。
測定された組成から密度を計算によって仮定して、これを用いて厚みを算出する。密度の誤差は２０％以内である。
【0079】
なお、水素の元素構成比率は、ハイドロジェンフォワードスキャタリング（以下、「ＨＦＳ」と称する）により求められる。
ＨＦＳ測定では、加速器としてＮＥＣ社 ３ＳＤＨ Ｐｅｌｌｅｔｒｏｎ、エンドステーションとしてＣＥ＆Ａ社 ＲＢＳ－４００を用い、システムとして３Ｓ－Ｒ１０を用いる。解析にはＣＥ＆Ａ社のＨＹＰＲＡプログラムを用いる。そして、ＨＦＳの測定条件は、以下の通りである。
・Ｈｅ＋＋イオンビームエネルギー：２．２７５ｅＶ
・検出角度：１６０°入射ビームに対してＧｒａｚｉｎｇ Ａｎｇｌｅ３０°
ＨＦＳ測定では、加速器としてＮＥＣ社 ３ＳＤＨ Ｐｅｌｌｅｔｒｏｎ、エンドステーションとしてＣＥ＆Ａ社 ＲＢＳ－４００を用い、システムとして３Ｓ－Ｒ１０を用いる。解析にはＣＥ＆Ａ社のＨＹＰＲＡプログラムを用いる。そして、ＨＦＳの測定条件は、以下の通りである。
・Ｈｅ＋＋イオンビームエネルギー：２．２７５ｅＶ
・検出角度：１６０°入射ビームに対してＧｒａｚｉｎｇ Ａｎｇｌｅ３０°
【0080】
ＨＦＳ測定は、Ｈｅ＋＋イオンビームに対して検出器が３０°に、試料が法線から７５°になるようにセットすることにより、試料の前方に散乱する水素のシグナルを拾う。この時検出器をアルミ箔で覆い、水素とともに散乱するＨｅ原子を取り除くことがよい。定量は参照用試料と被測定試料との水素のカウントを阻止能で規格化した後に比較することによって行う。参照用試料としてＳｉ中にＨをイオン注入した試料と白雲母を使用する。
白雲母は水素濃度が６．５原子％であることが知られている。
最表面に吸着しているＨは、例えば、清浄なＳｉ表面に吸着しているＨ量を差し引くことによって補正を行う。
白雲母は水素濃度が６．５原子％であることが知られている。
最表面に吸着しているＨは、例えば、清浄なＳｉ表面に吸着しているＨ量を差し引くことによって補正を行う。
【0081】
なお、無機表面層は、目的に応じて、厚み方向に組成比に分布を有していてもよいし、
多層構成からなるものであってもよい。
多層構成からなるものであってもよい。
【0082】
－無機保護層の特性－
無機表面層は、微結晶膜、多結晶膜、非晶質膜などの非単結晶膜であることが望ましい。これらの中でも、非晶質は表面の平滑性で特に望ましいが、微結晶膜は硬度の点でより望ましい。
無機表面層の成長断面は、柱状構造をとっていてもよいが、滑り性の観点からは平坦性の高い構造が望ましく、非晶質が望ましい。
なお、結晶性、非晶質性は、ＲＨＥＥＤ（反射高速電子線回折）測定により得られた回折像の点や線の有無により判別される。
無機表面層は、微結晶膜、多結晶膜、非晶質膜などの非単結晶膜であることが望ましい。これらの中でも、非晶質は表面の平滑性で特に望ましいが、微結晶膜は硬度の点でより望ましい。
無機表面層の成長断面は、柱状構造をとっていてもよいが、滑り性の観点からは平坦性の高い構造が望ましく、非晶質が望ましい。
なお、結晶性、非晶質性は、ＲＨＥＥＤ（反射高速電子線回折）測定により得られた回折像の点や線の有無により判別される。
【0083】
無機保護層の体積抵抗率は、１０６Ω・ｃｍ以上であることがよく、望ましくは１０８Ω・ｃｍ以上である。
この体積抵抗率を上記範囲とすると、電荷が面内方向に流れることが抑制され、良好な静電潜像形成が実現され易くなる。
この体積抵抗率は、ｎＦ社製ＬＣＲメーターＺＭ２３７１を用いて、周波数１ｋＨｚ、電圧１Ｖの条件にて測定した抵抗値から、電極面積、試料厚みに基づき算出して求められる。
なお、測定試料は、測定対象となる無機保護層の成膜時の同条件でアルミ基体上に成膜し、その成膜物上に真空蒸着により金電極を形成し得られた試料であってもよいし、又は作製後の電子写真感光体から無機保護層を剥離し、一部エッチングして、これを一対の電極で挟み込んだ試料であってもよい。
この体積抵抗率を上記範囲とすると、電荷が面内方向に流れることが抑制され、良好な静電潜像形成が実現され易くなる。
この体積抵抗率は、ｎＦ社製ＬＣＲメーターＺＭ２３７１を用いて、周波数１ｋＨｚ、電圧１Ｖの条件にて測定した抵抗値から、電極面積、試料厚みに基づき算出して求められる。
なお、測定試料は、測定対象となる無機保護層の成膜時の同条件でアルミ基体上に成膜し、その成膜物上に真空蒸着により金電極を形成し得られた試料であってもよいし、又は作製後の電子写真感光体から無機保護層を剥離し、一部エッチングして、これを一対の電極で挟み込んだ試料であってもよい。
【0084】
無機保護層の弾性率は３０ＧＰａ以上８０ＧＰａ以下であることがよく、望ましくは４０ＧＰａ以上６５ＧＰａ以下である。
この弾性率を上記範囲とすると、無機保護層における凹部の発生、剥れや割れが抑制され易くなる。
この弾性率は、ＭＴＳシステムズ社製 Ｎａｎｏ Ｉｎｄｅｎｔｅｒ ＳＡ２を用いて、連続剛性法（ＣＳＭ）（米国特許４８４８１４１）により深さプロファイルを得て、その押込み深さ３０ｎｍから１００ｎｍの測定値から得た平均値を用いる。下記は測定条件である。
・測定環境：２３℃、５５％ＲＨ
・使用圧子：ダイヤモンド製正三角錐圧子（Ｂｅｒｋｏｖｉｃ圧子）三角錐圧子
・試験モード：ＣＳＭモード
なお、測定試料は、測定対象となる無機保護層の成膜時の同条件で基体上に成膜した試料であってもよいし、又は作製後の電子写真感光体から無機保護層を剥離し、一部エッチングした試料であってもよい。
この弾性率を上記範囲とすると、無機保護層における凹部の発生、剥れや割れが抑制され易くなる。
この弾性率は、ＭＴＳシステムズ社製 Ｎａｎｏ Ｉｎｄｅｎｔｅｒ ＳＡ２を用いて、連続剛性法（ＣＳＭ）（米国特許４８４８１４１）により深さプロファイルを得て、その押込み深さ３０ｎｍから１００ｎｍの測定値から得た平均値を用いる。下記は測定条件である。
・測定環境：２３℃、５５％ＲＨ
・使用圧子：ダイヤモンド製正三角錐圧子（Ｂｅｒｋｏｖｉｃ圧子）三角錐圧子
・試験モード：ＣＳＭモード
なお、測定試料は、測定対象となる無機保護層の成膜時の同条件で基体上に成膜した試料であってもよいし、又は作製後の電子写真感光体から無機保護層を剥離し、一部エッチングした試料であってもよい。
【0085】
無機保護層の膜厚は、例えば、０．２μｍ以上１０．０μｍ以下であることがよく、望ましくは０．４μｍ以上５．０μｍ以下である。
この膜厚を上記範囲とすると、無機保護層における凹部の発生、剥れや割れが抑制され易くなる。
この膜厚を上記範囲とすると、無機保護層における凹部の発生、剥れや割れが抑制され易くなる。
【0086】
－無機保護層の形成－
保護層の形成には、例えば、プラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、有機金属気相成長法、分子線エキタピシー法、蒸着、スパッタリング等の公知の気相成膜法が利用される。
保護層の形成には、例えば、プラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、有機金属気相成長法、分子線エキタピシー法、蒸着、スパッタリング等の公知の気相成膜法が利用される。
【0087】
以下、無機保護層の形成について、成膜装置の一例を図面に示しつつ具体例を挙げて説明する。なお、以下の説明は、ガリウム、酸素、及び水素を含んで構成された無機保護層の形成方法について示すが、これに限られず、目的とする無機保護層の組成に応じて、周知の形成方法を適用すればよい。
【0088】
図２は、本実施形態に係る電子写真感光体の無機保護層の形成に用いる成膜装置の一例を示す概略模式図であり、図２（Ａ）は、成膜装置を側面から見た場合の模式断面図を表し、図２（Ｂ）は、図２（Ａ）に示す成膜装置のＡ１－Ａ２間における模式断面図を表す。図２中、２１０は成膜室、２１１は排気口、２１２は基体回転部、２１３は基体支持部材、２１４は基体、２１５はガス導入管、２１６はガス導入管２１５から導入したガスを噴射する開口を有するシャワーノズル、２１７はプラズマ拡散部、２１８は高周波電力供給部、２１９は平板電極、２２０はガス導入管、２２１は高周波放電管部である。
【0089】
図２に示す成膜装置において、成膜室２１０の一端には、不図示の真空排気装置に接続された排気口２１１が設けられており、成膜室２１０の排気口２１１が設けられた側と反対側に、高周波電力供給部２１８、平板電極２１９及び高周波放電管部２２１からなるプラズマ発生装置が設けられている。
このプラズマ発生装置は、高周波放電管部２２１と、高周波放電管部２２１内に配置され、放電面が排気口２１１側に設けられた平板電極２１９と、高周波放電管部２２１外に配置され、平板電極２１９の放電面と反対側の面に接続された高周波電力供給部２１８とから構成されたものである。なお、高周波放電管部２２１には、高周波放電管部２２１内にガスを供給するためのガス導入管２２０が接続されており、このガス導入管２２０のもう一方の端は、不図示の第１のガス供給源に接続されている。
このプラズマ発生装置は、高周波放電管部２２１と、高周波放電管部２２１内に配置され、放電面が排気口２１１側に設けられた平板電極２１９と、高周波放電管部２２１外に配置され、平板電極２１９の放電面と反対側の面に接続された高周波電力供給部２１８とから構成されたものである。なお、高周波放電管部２２１には、高周波放電管部２２１内にガスを供給するためのガス導入管２２０が接続されており、このガス導入管２２０のもう一方の端は、不図示の第１のガス供給源に接続されている。
【0090】
なお、図２に示す成膜装置に設けられたプラズマ発生装置の代わりに、図３に示すプラズマ発生装置を用いてもよい。図３は、図２に示す成膜装置において利用されるプラズマ発生装置の他の例を示す概略模式図であり、プラズマ発生装置の側面図である。図３中、２２２が高周波コイル、２２３が石英管を表し、２２０は、図２中に示すものと同様である。このプラズマ発生装置は、石英管２２３と、石英管２２３の外周面沿って設けられた高周波コイル２２２とからなり、石英管２２３の一方の端は成膜室２１０（図３中、不図示）と接続されている。また、石英管２２３のもう一方の端には、石英管２２３内にガスを導入するためのガス導入管２２０が接続されている。
【0091】
図２において、平板電極２１９の放電面側には、放電面に沿って延びる棒状のシャワーノズル２１６が接続されており、シャワーノズル２１６の一端は、ガス導入管２１５と接続されており、このガス導入管２１５は成膜室２１０外に設けられた不図示の第２のガス供給源と接続されている。
また、成膜室２１０内には、基体回転部２１２が設けられており、円筒状の基体２１４が、シャワーノズル２１６の長手方向と基体２１４の軸方向とが沿って対面するように基体支持部材２１３を介して基体回転部２１２に取りつけられるようになっている。成膜に際しては、基体回転部２１２が回転することによって、基体２１４が周方向に回転する。なお、基体２１４としては、例えば、予め有機感光層まで積層された感光体等が用いられる。
また、成膜室２１０内には、基体回転部２１２が設けられており、円筒状の基体２１４が、シャワーノズル２１６の長手方向と基体２１４の軸方向とが沿って対面するように基体支持部材２１３を介して基体回転部２１２に取りつけられるようになっている。成膜に際しては、基体回転部２１２が回転することによって、基体２１４が周方向に回転する。なお、基体２１４としては、例えば、予め有機感光層まで積層された感光体等が用いられる。
【0092】
無機保護層の形成は、例えば、以下のように実施する。
まず、酸素ガス（又は、ヘリウム（Ｈｅ）希釈酸素ガス）、ヘリウム（Ｈｅ）ガス、及び必要に応じ水素（Ｈ２）ガスを、ガス導入管２２０から高周波放電管部２２１内に導入すると共に、高周波電力供給部２１８から平板電極２１９に、１３．５６ＭＨｚのラジオ波を供給する。この際、平板電極２１９の放電面側から排気口２１１側へと放射状に広がるようにプラズマ拡散部２１７が形成される。ここで、ガス導入管２２０から導入されたガスは成膜室２１０を平板電極２１９側から排気口２１１側へと流れる。平板電極２１９は電極の周りをアースシールドで囲んだものでもよい。
まず、酸素ガス（又は、ヘリウム（Ｈｅ）希釈酸素ガス）、ヘリウム（Ｈｅ）ガス、及び必要に応じ水素（Ｈ２）ガスを、ガス導入管２２０から高周波放電管部２２１内に導入すると共に、高周波電力供給部２１８から平板電極２１９に、１３．５６ＭＨｚのラジオ波を供給する。この際、平板電極２１９の放電面側から排気口２１１側へと放射状に広がるようにプラズマ拡散部２１７が形成される。ここで、ガス導入管２２０から導入されたガスは成膜室２１０を平板電極２１９側から排気口２１１側へと流れる。平板電極２１９は電極の周りをアースシールドで囲んだものでもよい。
【0093】
次に、トリメチルガリウムガスをガス導入管２１５、活性化手段である平板電極２１９の下流側に位置するシャワーノズル２１６を介して成膜室２１０に導入することによって、基体２１４表面にガリウムと酸素と水素とを含む非単結晶膜を成膜する。
基体２１４としては、例えば、有機感光層が形成された基体を用いる。
基体２１４としては、例えば、有機感光層が形成された基体を用いる。
【0094】
無機保護層の成膜時の基体２１４表面の温度は、有機感光層を有する有機感光体を用いるので、１５０℃以下が望ましく、１００℃以下がより望ましく、３０℃以上１００℃以下が特に望ましい。
基体２１４表面の温度が成膜開始当初は１５０℃以下であっても、プラズマの影響で１５０℃より高くなる場合には有機感光層が熱で損傷を受ける場合があるため、この影響を考慮して基体２１４の表面温度を制御することが望ましい。
基体２１４表面の温度は加熱及び／又は冷却手段（図中、不図示）によって制御してもよいし、放電時の自然な温度の上昇に任せてもよい。基体２１４を加熱する場合にはヒータを基体２１４の外側や内側に設置してもよい。基体２１４を冷却する場合には基体２１４の内側に冷却用の気体又は液体を循環させてもよい。
放電による基体２１４表面の温度の上昇を避けたい場合には、基体２１４表面に当たる高エネルギーの気体流を調節することが効果的である。この場合、ガス流量や放電出力、圧力などの条件を所要温度となるように調整する。
基体２１４表面の温度が成膜開始当初は１５０℃以下であっても、プラズマの影響で１５０℃より高くなる場合には有機感光層が熱で損傷を受ける場合があるため、この影響を考慮して基体２１４の表面温度を制御することが望ましい。
基体２１４表面の温度は加熱及び／又は冷却手段（図中、不図示）によって制御してもよいし、放電時の自然な温度の上昇に任せてもよい。基体２１４を加熱する場合にはヒータを基体２１４の外側や内側に設置してもよい。基体２１４を冷却する場合には基体２１４の内側に冷却用の気体又は液体を循環させてもよい。
放電による基体２１４表面の温度の上昇を避けたい場合には、基体２１４表面に当たる高エネルギーの気体流を調節することが効果的である。この場合、ガス流量や放電出力、圧力などの条件を所要温度となるように調整する。
【0095】
また、トリメチルガリウムガスの代わりにアルミニウムを含む有機金属化合物やジボラン等の水素化物を用いることもでき、これらを２種類以上混合してもよい。
例えば、無機保護層の形成の初期において、トリメチルインジウムをガス導入管２１５、シャワーノズル２１６を介して成膜室２１０内に導入することにより、基体２１４上に窒素とインジウムとを含む膜を成膜すれば、この膜が、継続して成膜する場合に発生し、有機感光層を劣化させる紫外線を吸収する。このため、成膜時の紫外線の発生による有機感光層へのダメージが抑制される。
例えば、無機保護層の形成の初期において、トリメチルインジウムをガス導入管２１５、シャワーノズル２１６を介して成膜室２１０内に導入することにより、基体２１４上に窒素とインジウムとを含む膜を成膜すれば、この膜が、継続して成膜する場合に発生し、有機感光層を劣化させる紫外線を吸収する。このため、成膜時の紫外線の発生による有機感光層へのダメージが抑制される。
【0096】
また、成膜時におけるドーパントのドーピングの方法としては、ｎ型用としてはＳｉＨ３，ＳｎＨ４を、ｐ型用としては、ビスシクロペンタジエニルマグネシウム、ジメチルカルシウム、ジメチルストロンチウム、などをガス状態で使用する。また、ドーパント元素を表面層中にドーピングするには、熱拡散法、イオン注入法等の公知の方法を採用してもよい。
具体的には、例えば、少なくとも一つ以上のドーパント元素を含むガスをガス導入管２１５、シャワーノズル２１６を介して成膜室２１０内に導入することによって、ｎ型、ｐ型等の導電型の無機保護層を得る。
具体的には、例えば、少なくとも一つ以上のドーパント元素を含むガスをガス導入管２１５、シャワーノズル２１６を介して成膜室２１０内に導入することによって、ｎ型、ｐ型等の導電型の無機保護層を得る。
【0097】
図２及び図３を用いて説明した成膜装置では、放電エネルギーにより形成される活性窒素又は活性水素を、活性装置を複数設けて独立に制御してもよいし、ＮＨ３など、窒素原子と水素原子を同時に含むガスを用いてもよい。更にＨ２を加えてもよい。また、有機金属化合物から活性水素が遊離生成する条件を用いてもよい。
このようにすることで、基体２１４表面上には、活性化された、炭素原子、ガリウム原子、窒素原子、水素原子、等が制御された状態で存在する。そして、活性化された水素原子が、有機金属化合物を構成するメチル基やエチル基等の炭化水素基の水素を分子として脱離させる効果を有する。
このため、三次元的な結合を構成する硬質膜（無機保護層）が形成される。
このようにすることで、基体２１４表面上には、活性化された、炭素原子、ガリウム原子、窒素原子、水素原子、等が制御された状態で存在する。そして、活性化された水素原子が、有機金属化合物を構成するメチル基やエチル基等の炭化水素基の水素を分子として脱離させる効果を有する。
このため、三次元的な結合を構成する硬質膜（無機保護層）が形成される。
【0098】
図２及び図３に示す成膜装置のプラズマ発生手段は、高周波発振装置を用いたものであるが、これに限定されるものではなく、例えば、マイクロ波発振装置を用いてもよいし、エレクトロサイクロトロン共鳴方式やヘリコンプラズマ方式の装置を用いてもよい。また、高周波発振装置の場合は、誘導型でも容量型でもよい。
更に、これらの装置を２種類以上組み合わせて用いてもよく、或いは、同種の装置を２つ以上用いてもよい。プラズマの照射によって基体２１４表面の温度上昇を抑制するためには高周波発振装置が望ましいが、熱の照射を抑制する装置を設けてもよい。
更に、これらの装置を２種類以上組み合わせて用いてもよく、或いは、同種の装置を２つ以上用いてもよい。プラズマの照射によって基体２１４表面の温度上昇を抑制するためには高周波発振装置が望ましいが、熱の照射を抑制する装置を設けてもよい。
【0099】
２種類以上の異なるプラズマ発生装置（プラズマ発生手段）を用いる場合には、同じ圧力で同時に放電が生起されるようにすることが望ましい。また、放電する領域と、成膜する領域（基体が設置された部分）とに圧力差を設けてもよい。これらの装置は、成膜装置内をガスが導入される部分から排出される部分へと形成されるガス流に対して直列に配置してもよいし、いずれの装置も基体の成膜面に対向するように配置してもよい。
【0100】
例えば、２種類のプラズマ発生手段をガス流に対して直列に設置する場合、図２に示す成膜装置を例に上げれば、シャワーノズル２１６を電極として成膜室２１０内に放電を起こさせる第２のプラズマ発生装置として利用される。この場合、例えば、ガス導入管２１５を介して、シャワーノズル２１６に高周波電圧を印加して、シャワーノズル２１６を電極として成膜室２１０内に放電を起こさせる。或いは、シャワーノズル２１６を電極として利用する代わりに、成膜室２１０内の基体２１４と平板電極２１９との間に円筒状の電極を設けて、この円筒状電極を利用して、成膜室２１０内に放電を起こさせる。
また、異なる２種類のプラズマ発生装置を同一の圧力下で利用する場合、例えば、マイクロ波発振装置と高周波発振装置とを用いる場合、励起種の励起エネルギーを大きく変えることができ、膜質の制御に有効である。また、放電は大気圧近傍（７００００Ｐａ以上１１００００Ｐａ以下）で行ってもよい。大気圧近傍で放電を行う場合にはキャリアガスとしてＨｅを使用することが望ましい。
また、異なる２種類のプラズマ発生装置を同一の圧力下で利用する場合、例えば、マイクロ波発振装置と高周波発振装置とを用いる場合、励起種の励起エネルギーを大きく変えることができ、膜質の制御に有効である。また、放電は大気圧近傍（７００００Ｐａ以上１１００００Ｐａ以下）で行ってもよい。大気圧近傍で放電を行う場合にはキャリアガスとしてＨｅを使用することが望ましい。
【0101】
無機保護層の形成は、例えば、成膜室２１０に基体上に有機感光層を形成した基体２１４を設置し、各々組成の異なる混合ガスを導入して、無機保護層を形成する。
【0102】
また、成膜条件としては、例えば高周波放電により放電する場合、低温で良質な成膜を行うには、周波数として１０ｋＨｚ以上５０ＭＨｚ以下の範囲とすることが望ましい。また、出力は基体２１４の大きさに依存するが、基体の表面積に対して０．０１Ｗ／ｃｍ２以上２Ｗ／ｃｍ２以下の範囲とすることが望ましい。基体２１４の回転速度は０．１ｒｐｍ以上１０００ｒｐｍ以下の範囲が望ましい。
【0103】
〔導電性基体〕
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【0104】
導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。
【0105】
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて導電性基体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。
【0106】
粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。
【0107】
陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
【0108】
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
【0109】
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
【0110】
ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【0111】
〔下引層〕
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
【0112】
無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ωｃｍ以上１０１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
【0113】
無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
【0114】
無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
【0115】
無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。
【0116】
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。
【0117】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス（２－ヒドロキシエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0118】
シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３－メタクリルオキシプロピル－トリス（２－メトキシエトキシ）シラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス（２－ヒドロキシエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0119】
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。
【0120】
表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。
【0121】
ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。
【0122】
電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７－トリニトロフルオレノン、２，４，５，７－テトラニトロ－９－フルオレノン等のフルオレノン化合物；２－（４－ビフェニル）－５－（４－ｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール、２，５－ビス（４－ナフチル）－１，３，４－オキサジアゾール、２，５－ビス（４－ジエチルアミノフェニル）－１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ－ｔ－ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
【0123】
電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。
【0124】
電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。
【0125】
乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。
【0126】
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。
【0127】
なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。
【0128】
電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。
【0129】
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル－無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン－アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール－ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
【0130】
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール－ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【0131】
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
【0132】
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３－メタクリルオキシプロピル－トリス（２－メトキシエトキシ）シラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス（２－ヒドロキシエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【0133】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【0134】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２－エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【0135】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【0136】
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【0137】
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／（４ｎ）（ｎは上層の屈折率）から１／２までに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／（４ｎ）（ｎは上層の屈折率）から１／２までに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
【0138】
下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。
【0139】
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
【0140】
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
【0141】
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【0142】
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。
【0143】
〔中間層〕
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル－無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン－アルキッド樹脂、フェノール－ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル－無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン－アルキッド樹脂、フェノール－ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【0144】
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。
【0145】
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【0146】
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。
【0147】
＜画像形成装置（及びプロセスカートリッジ）＞
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
【0148】
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に電子写真感光体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
【0149】
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
【0150】
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
【0151】
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して着脱されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。
【0152】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。
【0153】
図４は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図４に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。なお、画像形成装置１００において、制御装置６０（制御手段の一例）は、画像形成装置１００内の各装置及び各部材の動作を制御する装置であり、各装置及び各部材と接続されて配置されている。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図４に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。なお、画像形成装置１００において、制御装置６０（制御手段の一例）は、画像形成装置１００内の各装置及び各部材の動作を制御する装置であり、各装置及び各部材と接続されて配置されている。
【0154】
図４におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。
【0155】
なお、図４には、画像形成装置として、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。
【0156】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。
【0157】
－帯電装置－
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【0158】
－露光装置－
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【0159】
－現像装置－
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。
中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。
中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
【0160】
現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。
【0161】
－クリーニング装置－
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
【0162】
－転写装置－
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【0163】
－中間転写体－
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
【0164】
－制御装置－
制御装置６０は、装置全体の制御及び各種演算を行うコンピュータとして構成されている。具体的には、制御装置６０は、例えば、ＣＰＵ（中央処理装置； Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）、各種プログラムを記憶したＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）、プログラムの実行時にワークエリアとして使用されるＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）、各種情報を記憶する不揮発性メモリ、及び入出力インターフェース（Ｉ／Ｏ）を備えている。ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、不揮発性メモリ、及びＩ／Ｏの各々は、バスを介して接続されている。そして、Ｉ／Ｏには、電子写真感光体７（駆動モータ３０を含む）、帯電装置８、露光装置９、現像装置１１、転写装置４０等の画像形成装置１００の各部が接続されている。
制御装置６０は、装置全体の制御及び各種演算を行うコンピュータとして構成されている。具体的には、制御装置６０は、例えば、ＣＰＵ（中央処理装置； Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）、各種プログラムを記憶したＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）、プログラムの実行時にワークエリアとして使用されるＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）、各種情報を記憶する不揮発性メモリ、及び入出力インターフェース（Ｉ／Ｏ）を備えている。ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、不揮発性メモリ、及びＩ／Ｏの各々は、バスを介して接続されている。そして、Ｉ／Ｏには、電子写真感光体７（駆動モータ３０を含む）、帯電装置８、露光装置９、現像装置１１、転写装置４０等の画像形成装置１００の各部が接続されている。
【0165】
なお、ＣＰＵは、例えば、ＲＯＭや不揮発性メモリに記憶されているプログラム（例えば、画像形成シーケンスや回復シーケンス等）の制御プログラム）実行し、画像形成装置１００の各部の動作を制御する。ＲＡＭは、ワークメモリとして使用される。ＲＯＭや不揮発性メモリには、例えば、ＣＰＵが実行するプログラムやＣＰＵの処理に必要なデータ等が記憶されている。なお、制御プログラムや各種データは、記憶部等の他の記憶装置に記憶されていてもよいし、通信部を介して外部から取得されてもよい。
【0166】
また、制御装置６０には、各種ドライブが接続されていてもよい。各種ドライブとしては、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、ＣＤ－ＲＯＭ、ＤＶＤ－ＲＯＭ、ＵＳＢ（Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ Ｓｅｒｉａｌ Ｂｕｓ）メモリなどのコンピュータ読み取り可能な可搬性の記録媒体からデータを読み込んだり、記録媒体に対してデータを書き込んだりする装置が挙げられる。各種ドライブを備える場合には、可搬性の記録媒体に制御プログラムを記録しておいて、これを対応するドライブで読み込んで実行してもよい。
【0167】
図５は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図５に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
図５に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【0168】
なお、本実施形態に係る画像形成装置１００は、上記構成に限られず、例えば、電子写真感光体７の周囲であって、転写装置４０よりも電子写真感光体７の回転方向下流側でクリーニング装置１３よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、残留したトナーの極性を揃え、クリーニングブラシで除去しやすくするための第１除電装置を設けた形態であってもよいし、クリーニング装置１３よりも電子写真感光体の回転方向下流側で帯電装置８よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、電子写真感光体７の表面を除電する第２除電装置を設けた形態であってもよい。
【0169】
また、本実施形態に係る画像形成装置１００は、上記構成に限られず、周知の構成、例えば、電子写真感光体７に形成したトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の画像形成装置を採用してもよい。
【実施例0170】
以下、本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明は下記実施例により限定されるものではない。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理手順等は、本開示の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。なお、特に断りがない限り「部」は「質量部」を意味する。
【0171】
［実施例１］
－下引層の作製－
酸化亜鉛：（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ２／ｇ）１００質量部をテトラヒドロフラン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ５０３：信越化学工業社製）１．３質量部を添加し、２時間攪拌した。その後、テトラヒドロフランを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
－下引層の作製－
酸化亜鉛：（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ２／ｇ）１００質量部をテトラヒドロフラン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ５０３：信越化学工業社製）１．３質量部を添加し、２時間攪拌した。その後、テトラヒドロフランを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
【0172】
前記表面処理を施した酸化亜鉛（シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛）１１０質量部を５００質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン０．６質量部を５０質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに６０℃で減圧乾燥を行い、アリザリン付与酸化亜鉛を得た。
【0173】
このアリザリン付与酸化亜鉛６０質量部と、硬化剤（ブロック化イソシアネート スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（エスレックＢＭ－１、積水化学工業社製）１５質量部と、メチルエチルケトン８５質量部と、を混合した混合液を得た。この混合液３８質量部と、メチルエチルケトン２５質量部と、を混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い、分散液を得た。
【0174】
得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部と、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）：４０質量部と、を添加し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径６０ｍｍ、長さ３５７ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基体上に塗布し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い、厚さ１９μｍの下引層を得た。
【0175】
－電荷発生層の作製－
電荷発生物質としてのＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３°、１６．０°、２４．９°、２８．０°の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、ｎ－酢酸ブチル２００質量部からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にｎ－酢酸ブチル１７５質量部、メチルエチルケトン１８０質量部を添加し、攪拌して電荷発生層形成用の塗布液を得た。この電荷発生層形成用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、常温（２５℃）で乾燥して、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
電荷発生物質としてのＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３°、１６．０°、２４．９°、２８．０°の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、ｎ－酢酸ブチル２００質量部からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にｎ－酢酸ブチル１７５質量部、メチルエチルケトン１８０質量部を添加し、攪拌して電荷発生層形成用の塗布液を得た。この電荷発生層形成用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、常温（２５℃）で乾燥して、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【0176】
－電荷輸送層の作製－
表１に示す種類及び量の無機粒子に、テトラヒドロフラン２５０質量部を入れ、２０℃の液温に保ちながら電荷輸送材料として４－（２，２－ジフェニルエチル）－４’，４’’－ジメチル－トリフェニルアミン２５質量部と、結着樹脂としてビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：３００００）２５質量部と、表１に示す種類の潤滑油と、を加え、１２時間攪拌混合し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。なお、潤滑油は、感光層の全固形分に対して表１に示す量となるように配合した。
そして、この電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層上に塗布して１３５℃で４０分間乾燥し、膜厚が３０μｍの電荷輸送層を形成した。
表１に示す種類及び量の無機粒子に、テトラヒドロフラン２５０質量部を入れ、２０℃の液温に保ちながら電荷輸送材料として４－（２，２－ジフェニルエチル）－４’，４’’－ジメチル－トリフェニルアミン２５質量部と、結着樹脂としてビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：３００００）２５質量部と、表１に示す種類の潤滑油と、を加え、１２時間攪拌混合し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。なお、潤滑油は、感光層の全固形分に対して表１に示す量となるように配合した。
そして、この電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層上に塗布して１３５℃で４０分間乾燥し、膜厚が３０μｍの電荷輸送層を形成した。
【0177】
－無機保護層の形成－
前記電荷輸送層の表面へ、水素を含む酸化ガリウムで構成された無機保護層を形成した。この無機保護層の形成は、図２に示す構成を有する成膜装置を用いて行った。
前記電荷輸送層の表面へ、水素を含む酸化ガリウムで構成された無機保護層を形成した。この無機保護層の形成は、図２に示す構成を有する成膜装置を用いて行った。
【0178】
まず、有機感光体を成膜装置の成膜室２１０内の基体支持部材２１３に載せ、排気口２１１を介して成膜室２１０内を圧力が０．１Ｐａになるまで真空排気した。
次に、Ｈｅ希釈４０％酸素ガス（流量１．８ｓｃｃｍ）と水素ガス（流量５０ｓｃｃｍ）とを、ガス導入管２２０から直径８５ｍｍの平板電極２１９が設けられた高周波放電管部２２１内に導入し、高周波電力供給部２１８及びマッチング回路（図４中不図示）により、１３．５６ＭＨｚのラジオ波を出力１５０Ｗにセットしチューナでマッチングを取り平板電極２１９から放電を行った。この時の反射波は０Ｗであった。
次に、トリメチルガリウムガス（流量１．９ｓｃｃｍ）を、ガス導入管２１５を介してシャワーノズル２１６から成膜室２１０内のプラズマ拡散部２１７に導入した。この時、バラトロン真空計で測定した成膜室２１０内の反応圧力は５．３Ｐａであった。
この状態で、有機感光体を５００ｒｐｍの速度で回転させながら９００分間成膜し、有機感光体の電荷輸送層表面に膜厚３．０μｍの無機保護層を形成した。無機保護層の外周面における表面粗さＲａは、１．９ｎｍであった。無機保護層における、酸素とガリウムとの元素組成比（酸素／ガリウム）は１．３であった。
次に、Ｈｅ希釈４０％酸素ガス（流量１．８ｓｃｃｍ）と水素ガス（流量５０ｓｃｃｍ）とを、ガス導入管２２０から直径８５ｍｍの平板電極２１９が設けられた高周波放電管部２２１内に導入し、高周波電力供給部２１８及びマッチング回路（図４中不図示）により、１３．５６ＭＨｚのラジオ波を出力１５０Ｗにセットしチューナでマッチングを取り平板電極２１９から放電を行った。この時の反射波は０Ｗであった。
次に、トリメチルガリウムガス（流量１．９ｓｃｃｍ）を、ガス導入管２１５を介してシャワーノズル２１６から成膜室２１０内のプラズマ拡散部２１７に導入した。この時、バラトロン真空計で測定した成膜室２１０内の反応圧力は５．３Ｐａであった。
この状態で、有機感光体を５００ｒｐｍの速度で回転させながら９００分間成膜し、有機感光体の電荷輸送層表面に膜厚３．０μｍの無機保護層を形成した。無機保護層の外周面における表面粗さＲａは、１．９ｎｍであった。無機保護層における、酸素とガリウムとの元素組成比（酸素／ガリウム）は１．３であった。
【0179】
以上の工程を経て、導電性基体上に、下引層、電荷発生層、電荷輸送層、無機保護層が順次形成された、実施例１の電子写真感光体を得た。
【0180】
［実施例２～１２及び比較例１～比較例２］
無機粒子の種類と量、感光層に含まれる潤滑油の種類と量、無機保護層における酸素/ガリウムの元素組成比を表１に示す仕様とした以外は、実施例１と同様の手法により各例の電子写真感光体を得た。
無機粒子の種類と量、感光層に含まれる潤滑油の種類と量、無機保護層における酸素/ガリウムの元素組成比を表１に示す仕様とした以外は、実施例１と同様の手法により各例の電子写真感光体を得た。
【0181】
各例で使用した各材料の詳細を下記に示す。
（１）無機粒子の材料
・シリカ粒子：ＲＸ５０、日本アエロジル株式会社製
（２）潤滑油の材料
・シリコーンオイル：ジメチルポリシロキサンのトルエン溶液、ＫＰ－３４０、信越シリコーン株式会社製
・シリコーンオイル：メチルフェニルポリシロキサン、ＫＦ－５０、信越シリコーン株式会社製
・シリコーンオイル：アクリル変性シリコーンオイル、ＫＰ－５４１、信越シリコーン株式会社製
・フッ素含有オイル：フッ素含有アクリルポリマー、Ｓ－６５１、ＡＧＣ株式会社製
・フッ素含有オイル：フッ素含有アクリルポリマー、ＬＥ－６０４、共栄化学社製
・シリコーンオイル：フッ素含有オイル以外の潤滑剤：ポリアルファオレフィン、ＰＡＯ２０１、日鉄ケミカル＆マテリアル社製
・シリコーンオイル：カルビノール変性シリコーンオイル、ＫＦ－６０００、信越シリコーン株式会社製
（１）無機粒子の材料
・シリカ粒子：ＲＸ５０、日本アエロジル株式会社製
（２）潤滑油の材料
・シリコーンオイル：ジメチルポリシロキサンのトルエン溶液、ＫＰ－３４０、信越シリコーン株式会社製
・シリコーンオイル：メチルフェニルポリシロキサン、ＫＦ－５０、信越シリコーン株式会社製
・シリコーンオイル：アクリル変性シリコーンオイル、ＫＰ－５４１、信越シリコーン株式会社製
・フッ素含有オイル：フッ素含有アクリルポリマー、Ｓ－６５１、ＡＧＣ株式会社製
・フッ素含有オイル：フッ素含有アクリルポリマー、ＬＥ－６０４、共栄化学社製
・シリコーンオイル：フッ素含有オイル以外の潤滑剤：ポリアルファオレフィン、ＰＡＯ２０１、日鉄ケミカル＆マテリアル社製
・シリコーンオイル：カルビノール変性シリコーンオイル、ＫＦ－６０００、信越シリコーン株式会社製
【0182】
各例の電子写真感光体について、先述の測定方法により測定した酸素及び第１３族元素の元素組成比（酸素／第１３族元素）の値を表１に示す。
【0183】
表１中、各項目における「－」は、各項目の材料が含まれないことを意味する。
表１中、無機粒子の項目における「質量％」とは、感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量を意味する。
表１中、感光層の項目における「水接触角」とは、無機保護層との界面側の表面における水接触角の値を意味する。
表１中、無機粒子の項目における「質量％」とは、感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量を意味する。
表１中、感光層の項目における「水接触角」とは、無機保護層との界面側の表面における水接触角の値を意味する。
【0184】
＜剥離性の評価＞
各例の電子写真感光体を備えた評価用画像形成装置（Ｖｅｒｓａｎｔｅ１８００ Ｐｒｅｓｓ、富士フイルムビジネスイノベーション株式会社製）について、高温・高湿度環境下（２８℃／８５％）にて３日間静置保管し、保管後の表面状態を目視判定することで剥離性を評価した。評価結果を表１に示す。なお、許容できるのはＡ～Ｂである。
－評価基準－
Ａ：剥離しない。
Ｂ：一部の領域に浮きがみられるが剥離せず、許容できる範囲。
Ｃ：一部の領域から剥離している。
Ｄ：複数の領域から剥離している。
各例の電子写真感光体を備えた評価用画像形成装置（Ｖｅｒｓａｎｔｅ１８００ Ｐｒｅｓｓ、富士フイルムビジネスイノベーション株式会社製）について、高温・高湿度環境下（２８℃／８５％）にて３日間静置保管し、保管後の表面状態を目視判定することで剥離性を評価した。評価結果を表１に示す。なお、許容できるのはＡ～Ｂである。
－評価基準－
Ａ：剥離しない。
Ｂ：一部の領域に浮きがみられるが剥離せず、許容できる範囲。
Ｃ：一部の領域から剥離している。
Ｄ：複数の領域から剥離している。
【0185】
【表1】
【0186】
表１に示すように、実施例の電子写真感光体は、比較例の電子写真感光体に比べて、無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制されることがわかった。
【0187】
（（（１））） 導電性基体と、
前記導電性基体の上に設けられた感光層と、
前記感光層の上に設けられた無機保護層と、
を有し、
前記感光層は、前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°以上であり、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が０質量％又は２０質量％以下である、電子写真感光体。
（（（２））） 前記感光層は、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０．０００１質量％以上含有する、前記（（（１）））に記載の電子写真感光体。
（（（３））） 前記潤滑油は、シリコーンオイル及びフッ素含有オイルの少なくとも一方を含む、前記（（（２）））に記載の電子写真感光体。
（（（４））） 前記潤滑油は、前記シリコーンオイルを含む、前記（（（３）））に記載の電子写真感光体。
（（（５））） 前記無機保護層は、酸素、水素及び第１３族元素を含む無機保護層である前記（（（１）））～（（（４）））のいずれか１つに記載の電子写真感光体。
（（（６））） 前記無機保護層は、前記酸素及び第１３族元素の元素組成比（酸素／第１３族元素）が１．１以上１．５以下である、前記（（（５）））に記載の電子写真感光体。
（（（７））） 導電性基体と、
前記導電性基体の上に設けられた感光層と、
前記感光層の上に設けられた無機保護層と、
を有し、
前記感光層は、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０．０００１質量％以上含有し、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が０質量％又は２０質量％以下である、電子写真感光体。
（（（８））） 前記（（（１）））～（（（７）））のいずれか１つに記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
（（（９））） 前記（（（１）））～（（（７）））のいずれか１つに記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
前記導電性基体の上に設けられた感光層と、
前記感光層の上に設けられた無機保護層と、
を有し、
前記感光層は、前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°以上であり、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が０質量％又は２０質量％以下である、電子写真感光体。
（（（２））） 前記感光層は、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０．０００１質量％以上含有する、前記（（（１）））に記載の電子写真感光体。
（（（３））） 前記潤滑油は、シリコーンオイル及びフッ素含有オイルの少なくとも一方を含む、前記（（（２）））に記載の電子写真感光体。
（（（４））） 前記潤滑油は、前記シリコーンオイルを含む、前記（（（３）））に記載の電子写真感光体。
（（（５））） 前記無機保護層は、酸素、水素及び第１３族元素を含む無機保護層である前記（（（１）））～（（（４）））のいずれか１つに記載の電子写真感光体。
（（（６））） 前記無機保護層は、前記酸素及び第１３族元素の元素組成比（酸素／第１３族元素）が１．１以上１．５以下である、前記（（（５）））に記載の電子写真感光体。
（（（７））） 導電性基体と、
前記導電性基体の上に設けられた感光層と、
前記感光層の上に設けられた無機保護層と、
を有し、
前記感光層は、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０．０００１質量％以上含有し、且つ、前記感光層の全固形分に対するシリカ粒子の含有量が０質量％又は２０質量％以下である、電子写真感光体。
（（（８））） 前記（（（１）））～（（（７）））のいずれか１つに記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
（（（９））） 前記（（（１）））～（（（７）））のいずれか１つに記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【0188】
（（（１）））、又は（（（５）））に係る発明によれば、前記感光層が前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°未満である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
（（（２）））に係る発明によれば、前記感光層が、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０．０００１質量％未満である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
（（（３）））又は（（（４）））に係る発明によれば、前記潤滑油が○○○である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
（（（６）））に係る発明によれば、前記無機保護層における、前記酸素及び第１３族元素の元素組成比（酸素／第１３族元素）が１．１未満又は１．５超えである場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
（（（２）））に係る発明によれば、前記感光層が、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０．０００１質量％未満である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
（（（３）））又は（（（４）））に係る発明によれば、前記潤滑油が○○○である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
（（（６）））に係る発明によれば、前記無機保護層における、前記酸素及び第１３族元素の元素組成比（酸素／第１３族元素）が１．１未満又は１．５超えである場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
【0189】
（（（７）））に係る発明によれば、前記感光層が潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０質量％あるいは０．０００１質量％未満で含有する場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
（（（８）））又は（（（９）））に係る発明によれば、前記感光層が「潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０質量％あるいは０．０００１質量％未満で含有する場合」又は「前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°未満である場合」に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ、画像形成装置が提供される。
（（（８）））又は（（（９）））に係る発明によれば、前記感光層が「潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０質量％あるいは０．０００１質量％未満で含有する場合」又は「前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°未満である場合」に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ、画像形成装置が提供される。
【0190】
（（（１）））、又は（（（５）））に係る発明によれば、前記感光層が前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°未満である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
（（（２）））に係る発明によれば、前記感光層が、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０．０００１質量％未満である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
（（（３）））又は（（（４）））に係る発明によれば、前記潤滑油が炭化水素系合成油の一種であるポリアルファオレフィン系潤滑油である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
（（（６）））に係る発明によれば、前記無機保護層における、前記酸素及び第１３族元素の元素組成比（酸素／第１３族元素）が１．１未満又は１．５超えである場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
（（（２）））に係る発明によれば、前記感光層が、潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０．０００１質量％未満である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
（（（３）））又は（（（４）））に係る発明によれば、前記潤滑油が炭化水素系合成油の一種であるポリアルファオレフィン系潤滑油である場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
（（（６）））に係る発明によれば、前記無機保護層における、前記酸素及び第１３族元素の元素組成比（酸素／第１３族元素）が１．１未満又は１．５超えである場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
【0191】
（（（７）））に係る発明によれば、前記感光層が潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０質量％あるいは０．０００１質量％未満で含有する場合に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体が提供される。
（（（８）））又は（（（９）））に係る発明によれば、前記感光層が「潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０質量％あるいは０．０００１質量％未満で含有する場合」又は「前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°未満である場合」に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ、画像形成装置が提供される。
（（（８）））又は（（（９）））に係る発明によれば、前記感光層が「潤滑油を前記感光層の全固形分に対して０質量％あるいは０．０００１質量％未満で含有する場合」又は「前記無機保護層との界面側の表面における水接触角が８２°未満である場合」に比べて、前記無機保護層との界面側の感光層の表面からの、無機保護層の剥離が抑制される電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ、画像形成装置が提供される。
【符号の説明】
【0192】
１０１ 下引層、１０２ 電荷発生層、１０３ 電荷輸送層、１０４ 導電性基体、１０５ 有機感光層、１０６ 無機保護層、１０７Ａ，７ 電子写真感光体（感光体）、８ 帯電装置、９ 露光装置、１１ 現像装置、１３ クリーニング装置、１４ 潤滑材、３０ 駆動モータ、４０ 転写装置、５０ 中間転写体、６０ 制御装置、１００ 画像形成装置、１２０ 画像形成装置、１３１ クリーニングブレード、１３２ 繊維状部材（ロール状）、１３３ 繊維状部材（平ブラシ状）、３００ プロセスカートリッジ、２１０ 成膜室、２１１ 排気口、２１２ 基体回転部、２１３ 基体支持部材、２１４ 基体、２１５、２２０ ガス導入管、２１６ シャワーノズル、２１７ プラズマ拡散部、２１８ 高周波電力供給部、２１９ 平板電極、２２１ 高周波放電管部、２２２ 高周波コイル、２２３ 石英管
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
