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特開2024-47678電子写真感光体、プロセスカートリッジ、および画像形成装置
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024047678
(43)【公開日】2024-04-08
(54)【発明の名称】電子写真感光体、プロセスカートリッジ、および画像形成装置
(51)【国際特許分類】
G03G 5/047 20060101AFI20240401BHJP
G03G 5/147 20060101ALI20240401BHJP
【ＦＩ】
G03G5/047
G03G5/147
【審査請求】未請求
【請求項の数】7
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022153305
(22)【出願日】2022-09-27
(71)【出願人】
【識別番号】000005496
【氏名又は名称】富士フイルムビジネスイノベーション株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001519
【氏名又は名称】弁理士法人太陽国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】河合 剛志
(72)【発明者】
【氏名】平方 昌記
(72)【発明者】
【氏名】溝口 聡
【テーマコード（参考）】
2H068
【Ｆターム（参考）】
2H068AA01
2H068AA28
2H068AA29
2H068FA11
(57)【要約】
【課題】感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する電子写真感光体を提供すること。
【解決手段】導電性基体と、前記導電性基体の上に設けられる下引層と、前記下引層の上に設けられる感光層と、前記感光層の上に設けられる表面保護層と、を備え、電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が１０Ｖ未満である、電子写真感光体。
【選択図】なし
【解決手段】導電性基体と、前記導電性基体の上に設けられる下引層と、前記下引層の上に設けられる感光層と、前記感光層の上に設けられる表面保護層と、を備え、電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が１０Ｖ未満である、電子写真感光体。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
導電性基体と、
前記導電性基体の上に設けられる下引層と、
前記下引層の上に設けられる感光層と、
前記感光層の上に設けられる表面保護層と、
を備え、
電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が１０Ｖ未満である、電子写真感光体。
前記導電性基体の上に設けられる下引層と、
前記下引層の上に設けられる感光層と、
前記感光層の上に設けられる表面保護層と、
を備え、
電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が１０Ｖ未満である、電子写真感光体。
【請求項2】
前記感光層の膜厚が１５μｍ未満である、請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項3】
前記感光層の膜厚が１１μｍ未満である、請求項２に記載の電子写真感光体。
【請求項4】
前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が７Ｖ以下である、請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項5】
前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が５Ｖ以下である、請求項４に記載の電子写真感光体。
【請求項6】
請求項１～請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【請求項7】
請求項１～請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、および画像形成装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、電子写真方式の画像形成装置としては、電子写真感光体を備え、帯電、静電潜像形成、現像、転写、クリーニング等の工程を順次行う装置が広く知られている。
【0003】
例えば、特許文献１には、「感光体と、前記感光体表面を一様に帯電する帯電手段とを備えた画像形成装置において、前記感光体は、導電性支持体と前記導電性支持体上に設けた感光層及び保護層を有し、前記保護層が電子線照射によって硬化された硬化性樹脂と導電性粒子とを含有し、前記感光体は、テーバー磨耗が０．１～１．０（ｍｇ／１０００回転）であり、前記帯電手段は、前記感光体表面に接触配置された帯電部材と、前記帯電部材に直流電圧と交流電圧とが重畳された帯電バイアスを印加して前記感光体表面を帯電する帯電バイアス印加電源と、前記帯電バイアスを交流電圧制御する制御手段とを有し、前記制御手段は、前記帯電バイアスの印加時間に基づいて、前記交流電圧制御を行う際の交流電圧値を決定する、ことを特徴とする画像形成装置。」が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２００４－２０５５８１公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
従来、導電性基体と、下引層と、感光層と、表面保護層とを備える感光体では、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラが生じる傾向にあった。そこで本開示では、感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が１０Ｖ以上である場合に比べて、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する感光体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記課題を解決するための手段は、次の態様を含む。
＜１＞ 導電性基体と、
前記導電性基体の上に設けられる下引層と、
前記下引層の上に設けられる感光層と、
前記感光層の上に設けられる表面保護層と、
を備え、
電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が１０Ｖ未満である、電子写真感光体。
＜２＞ 前記感光層の膜厚が１５μｍ未満である、前記＜１＞に記載の電子写真感光体。
＜３＞ 前記感光層の膜厚が１１μｍ未満である、前記＜２＞に記載の電子写真感光体。
＜４＞ 前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が７Ｖ以下である、前記＜１＞に記載の電子写真感光体。
＜５＞ 前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が５Ｖ以下である、前記＜４＞に記載の電子写真感光体。
＜６＞ 前記＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
＜７＞ 前記＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
＜１＞ 導電性基体と、
前記導電性基体の上に設けられる下引層と、
前記下引層の上に設けられる感光層と、
前記感光層の上に設けられる表面保護層と、
を備え、
電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が１０Ｖ未満である、電子写真感光体。
＜２＞ 前記感光層の膜厚が１５μｍ未満である、前記＜１＞に記載の電子写真感光体。
＜３＞ 前記感光層の膜厚が１１μｍ未満である、前記＜２＞に記載の電子写真感光体。
＜４＞ 前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が７Ｖ以下である、前記＜１＞に記載の電子写真感光体。
＜５＞ 前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が５Ｖ以下である、前記＜４＞に記載の電子写真感光体。
＜６＞ 前記＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
＜７＞ 前記＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の効果】
【0007】
＜１＞に係る発明によれば、電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が１０Ｖ以上である場合に比べて、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する電子写真感光体が提供される。
＜２＞に係る発明によれば、感光層の膜厚が１５μｍ以上である場合に比べて、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する電子写真感光体が提供される。
＜３＞に係る発明によれば、感光層の膜厚が１１μｍ以上である場合に比べて、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する電子写真感光体が提供される。
＜４＞に係る発明によれば、前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が７Ｖ超えである場合に比べて、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する電子写真感光体が提供される。
＜５＞に係る発明によれば、前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が５Ｖ超えである場合に比べて、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する電子写真感光体が提供される。
＜６＞、又は＜７＞に係る発明によれば、導電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が１０Ｖ以上である電子写真感光体を備える場合に比べ、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制するプロセスカートリッジ、又は画像形成装置が提供される。
＜２＞に係る発明によれば、感光層の膜厚が１５μｍ以上である場合に比べて、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する電子写真感光体が提供される。
＜３＞に係る発明によれば、感光層の膜厚が１１μｍ以上である場合に比べて、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する電子写真感光体が提供される。
＜４＞に係る発明によれば、前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が７Ｖ超えである場合に比べて、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する電子写真感光体が提供される。
＜５＞に係る発明によれば、前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が５Ｖ超えである場合に比べて、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する電子写真感光体が提供される。
＜６＞、又は＜７＞に係る発明によれば、導電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が１０Ｖ以上である電子写真感光体を備える場合に比べ、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制するプロセスカートリッジ、又は画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【0008】
【図1】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の一例を示す模式断面図である。
【図2】本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【図3】本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、本発明の一例である実施形態について、詳細に説明する。
なお、本明細書において、段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。
また、数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する上記複数の物質の合計量を意味する。
「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
なお、本明細書において、段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。
また、数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する上記複数の物質の合計量を意味する。
「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
【0010】
本明細書では、「電子写真感光体」を「感光体」とも称する。
【0011】
＜電子写真感光体＞
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、前記導電性基体の上に設けられる下引層と、前記下引層の上に設けられる感光層と、前記感光層の上に設けられる表面保護層と、を備え、電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が１０Ｖ未満である。
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、前記導電性基体の上に設けられる下引層と、前記下引層の上に設けられる感光層と、前記感光層の上に設けられる表面保護層と、を備え、電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が１０Ｖ未満である。
【0012】
従来、導電性基体と、下引層と、感光層と、表面保護層とを備える感光体では、感光層における感光体周方向の乾燥ムラが生じる傾向にあった。これは、例えば、感光層形成用の塗布液を塗布して得た塗膜を乾燥する際に、感光層内で加熱ムラが生じることにより感光層に含まれる電荷輸送材料間距離にムラが生じることで発生する電荷移動度ムラに起因する。感光層における乾燥ムラが生じると、繰り返し画像を形成したときに、感光体周方向に画像濃度ムラが生じやすい。
【0013】
一方、本実施形態に係る感光体は、上記構成を有することにより、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する感光体が提供される。この作用機序は必ずしも明らかではないが以下のように推測される。
【0014】
本実施形態に係る感光体は、感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおいて、前記感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が１０Ｖ未満であり、感光体の外周面の電位ムラが小さい。その結果、乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラが抑制されると考えられる。
【0015】
（電子写真感光体の特性）
電子写真感光体は、電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が１０Ｖ未満であり、８Ｖ以下であることが好ましく、５Ｖ以下であることがより好ましい。
前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が上記範囲以下であると、乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラがより抑制される。
電子写真感光体は、電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が１０Ｖ未満であり、８Ｖ以下であることが好ましく、５Ｖ以下であることがより好ましい。
前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が上記範囲以下であると、乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラがより抑制される。
【0016】
前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅は以下のとおりにして求める。
電子写真感光体の外周面全域をトレック社製、Ｔｒｅｋ ３４４の表面電位計を用いて－４００Ｖで帯電させ、光量４ｍＪ／ｍ２で露光した後に前記外周面の全域を周方向１２点以上のサンプリングを行って表面電位の電位マッピングを得る。得られた電位マッピングについて、電子写真感光体の任意の領域における周方向の表面電位の値について、電子写真感光体の周長に相当する周波数成分をフーリエ変換解析し、周期と振幅とのスペクトルを得る。得られたスペクトルにおける振幅の値を、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅とする。
電子写真感光体の外周面全域をトレック社製、Ｔｒｅｋ ３４４の表面電位計を用いて－４００Ｖで帯電させ、光量４ｍＪ／ｍ２で露光した後に前記外周面の全域を周方向１２点以上のサンプリングを行って表面電位の電位マッピングを得る。得られた電位マッピングについて、電子写真感光体の任意の領域における周方向の表面電位の値について、電子写真感光体の周長に相当する周波数成分をフーリエ変換解析し、周期と振幅とのスペクトルを得る。得られたスペクトルにおける振幅の値を、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅とする。
【0017】
前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅を上記範囲内とする具体的な手法は特に制限されないが、例えば、乾燥炉内の温度・風量のムラを調整すること：感光層の厚みを薄く調整すること；感光層形成の際に塗膜を乾燥する温度を感光層に含まれる非晶性樹脂のガラス転移温度以上とすること；等が挙げられる。
【0018】
以下、本実施形態に係る電子写真感光体について図面を参照しつつ詳細に説明する。
図１は、本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の一例を示す模式断面図である。感光体１０７Ａは、導電性基体１０４上に、下引層１０１が設けられ、その上に電荷発生層１０２、電荷輸送層１０３、及び表面保護層１０６が順次形成された構造を有する。
図１では、感光体１０７Ａは電荷発生層１０２と電荷輸送層１０３とに機能が分離された積層型の感光層１０５を有しているが、感光層１０５は単層型感光層であってもよい。
図示はしないが、導電性基体１０４と下引層１０１との間には中間層をさらに有していてもよい。
図１は、本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の一例を示す模式断面図である。感光体１０７Ａは、導電性基体１０４上に、下引層１０１が設けられ、その上に電荷発生層１０２、電荷輸送層１０３、及び表面保護層１０６が順次形成された構造を有する。
図１では、感光体１０７Ａは電荷発生層１０２と電荷輸送層１０３とに機能が分離された積層型の感光層１０５を有しているが、感光層１０５は単層型感光層であってもよい。
図示はしないが、導電性基体１０４と下引層１０１との間には中間層をさらに有していてもよい。
【0019】
以下、本実施形態に係る電子写真感光体の各層について詳細に説明する。なお、符号は省略して説明する。
【0020】
〔感光層〕
先述の図１を参照した説明のとおり、感光層は、電荷発生層と電荷輸送層とに機能が分離された積層型の感光層であっても、単層型の感光層であってもよい。
感光層は、積層型の感光層であることが好ましい。積層型の感光層であると、乾燥ムラがより抑制されやすく、電荷発生能及び電荷輸送能を担保しながらも電荷移動度ムラもより抑制されやすい。その結果、感光体周方向の画像濃度ムラもより抑制されやすい。
先述の図１を参照した説明のとおり、感光層は、電荷発生層と電荷輸送層とに機能が分離された積層型の感光層であっても、単層型の感光層であってもよい。
感光層は、積層型の感光層であることが好ましい。積層型の感光層であると、乾燥ムラがより抑制されやすく、電荷発生能及び電荷輸送能を担保しながらも電荷移動度ムラもより抑制されやすい。その結果、感光体周方向の画像濃度ムラもより抑制されやすい。
【0021】
以下、積層型感光層及び単層型感光層に共通する感光層の特性について説明する。
【0022】
感光層の膜厚（より好ましくは積層型感光層における電荷輸送層の膜厚）は１５μｍ未満であることが好ましく、１１μｍ未満であることがより好ましく、２μｍ以上８μｍ以下であることがさらに好ましい。
感光層の膜厚（より好ましくは積層型感光層における電荷輸送層の膜厚）が上記範囲内であると、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が上記範囲に調整され易くなる。その結果、感光層における乾燥ムラがより抑制され、これに起因する感光体周方向の画像濃度ムラもより抑制される。
感光層の膜厚（より好ましくは積層型感光層における電荷輸送層の膜厚）が上記範囲内であると、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が上記範囲に調整され易くなる。その結果、感光層における乾燥ムラがより抑制され、これに起因する感光体周方向の画像濃度ムラもより抑制される。
【0023】
感光層は結着樹脂及び電荷輸送材料を含んで構成されていることが好ましい。
電荷輸送材料の種類としては、後述する電荷輸送層及び単層型感光層にて挙げられるとおりである。
結着樹脂の種類としては、後述する電荷発生層、電荷輸送層及び単層型感光層にて挙げられるとおりである。
電荷輸送材料の種類としては、後述する電荷輸送層及び単層型感光層にて挙げられるとおりである。
結着樹脂の種類としては、後述する電荷発生層、電荷輸送層及び単層型感光層にて挙げられるとおりである。
【0024】
結着樹脂は、非晶性樹脂を含むことが好ましい。非晶性樹脂は１種単独であっても２種以上の併用であってもよい。
結着樹脂が非晶性樹脂を含むと、例えば、感光層を塗布法により形成する際に、塗膜乾燥における乾燥温度を非晶性樹脂のガラス転移温度以上とすることで、感光層内における電荷輸送材料の距離感にムラが生じることが抑制される。その結果、乾燥ムラがより抑制され、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が上記範囲に調整され易くなる。
結着樹脂が非晶性樹脂を含むと、例えば、感光層を塗布法により形成する際に、塗膜乾燥における乾燥温度を非晶性樹脂のガラス転移温度以上とすることで、感光層内における電荷輸送材料の距離感にムラが生じることが抑制される。その結果、乾燥ムラがより抑制され、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が上記範囲に調整され易くなる。
【0025】
樹脂の「結晶性」とは、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）において、階段状の吸熱量変化ではなく、明確な吸熱ピークを有することを指し、具体的には、昇温速度１０（℃／ｍｉｎ）で測定した際の吸熱ピークの半値幅が１０℃以内であることを指す。
一方、樹脂の「非晶性」とは、半値幅が１０℃を超えること、階段状の吸熱量変化を示すこと、又は明確な吸熱ピークが認められないことを指す。
一方、樹脂の「非晶性」とは、半値幅が１０℃を超えること、階段状の吸熱量変化を示すこと、又は明確な吸熱ピークが認められないことを指す。
【0026】
（電荷発生層）
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈ
ｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ－Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈ
ｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ－Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。
【0027】
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。
【0028】
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、ヒドロキシガリウムフタロシアニン；クロロガリウムフタロシアニン；ジクロロスズフタロシアニン；チタニルフタロシアニンがより好ましい。
【0029】
一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；チオインジゴ系顔料；ポルフィラジン化合物；酸化亜鉛；三方晶系セレン；ビスアゾ顔料等が好ましい。
【0030】
４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下に発光の中心波長があるＬＥＤ，有機ＥＬイメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合にも、上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点より、感光層を２０μｍ以下の薄膜で用いるときには、感光層中の電界強度が高くなり、基体からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒点と呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。これは、三方晶系セレン、フタロシアニン顔料等のｐ－型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いたときに顕著となる。
【0031】
これに対し、電荷発生材料として、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料等のｎ－型半導体を用いた場合、暗電流を生じ難く、薄膜にしても黒点と呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。
なお、ｎ－型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをｎ－型とする。
なお、ｎ－型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをｎ－型とする。
【0032】
電荷発生層に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、結着樹脂としては、ポリ－Ｎ－ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。
これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。
これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
【0033】
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが好ましい。
【0034】
電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【0035】
電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。なお、電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行っ
てもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。
てもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。
【0036】
電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ－ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いる。
【0037】
電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液－液衝突や液－壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
【0038】
電荷発生層形成用塗布液を下引層上（又は中間層上）に塗布する方法としては、例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【0039】
電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、より好ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内に設定される。
【0040】
（電荷輸送層）
電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料と結着樹脂とを含む層である。電荷輸送層は、高分子電荷輸送材料を含む層であってもよい。
電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料と結着樹脂とを含む層である。電荷輸送層は、高分子電荷輸送材料を含む層であってもよい。
【0041】
電荷輸送材料としては、ｐ－ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７－トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物；キサントン系化合物；ベンゾフェノン系化合物；シアノビニル系化合物；エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。電荷輸送材料としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物も挙げられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。
【0042】
電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ－１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式（ａ－２）で示されるベンジジン誘導体が好ましい。
【0043】
【化4】
【0044】
構造式（ａ－１）中、ＡｒＴ１、ＡｒＴ２、及びＡｒＴ３は、各々独立に置換若しくは無置換のアリール基、－Ｃ６Ｈ４－Ｃ（ＲＴ４）＝Ｃ（ＲＴ５）（ＲＴ６）、又は－Ｃ６Ｈ４－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）を示す。ＲＴ４、ＲＴ５、ＲＴ６、ＲＴ７、及びＲＴ８は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【0045】
【化5】
【0046】
構造式（ａ－２）中、ＲＴ９１及びＲＴ９２は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を示す。ＲＴ１０１、ＲＴ１０２、ＲＴ１１１及びＲＴ１１２は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、－Ｃ（ＲＴ１２）＝Ｃ（ＲＴ１３）（ＲＴ１４）、又は－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）を示
し、ＲＴ１２、ＲＴ１３、ＲＴ１４、ＲＴ１５及びＲＴ１６は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Ｔｍ１、Ｔｍ２、Ｔｎ１及びＴｎ２は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
し、ＲＴ１２、ＲＴ１３、ＲＴ１４、ＲＴ１５及びＲＴ１６は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Ｔｍ１、Ｔｍ２、Ｔｎ１及びＴｎ２は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【0047】
ここで、構造式（ａ－１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び前記構造式（ａ－２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「－Ｃ６Ｈ４－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度の観点で好ましい。
【0048】
高分子電荷輸送材料としては、ポリ－Ｎ－ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、ポリエステル系の高分子電荷輸送材は好ましい。なお、高分子電荷輸送材料は、単独で使用してよいが、結着樹脂と併用してもよい。
【0049】
電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン－ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン－アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル－酢酸ビニル－無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール－ホルムアルデヒド樹脂、スチレン－アルキッド樹脂、ポリ－Ｎ－ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの中でも、結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好適である。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上で用いる。
【0050】
なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で１０：１から１：５までが好ましい。
【0051】
電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
特に、電荷輸送層には、界面活性剤を含むのがよい。
界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤等が挙げられる。
特に、電荷輸送層には、界面活性剤を含むのがよい。
界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤等が挙げられる。
【0052】
電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
【0053】
電荷輸送層形成用塗布液を塗布して得られる塗膜の乾燥温度は、特に制限されないが、例えば、前記塗布液に含まれる非晶性樹脂のガラス転移温度以上の温度で加熱乾燥することが好ましい。これにより、塗膜の加熱乾燥の際に塗膜の乾燥ムラが抑制されやすく、感光体周方向の画像濃度ムラがより抑制される。
【0054】
電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、２－ブタノン等のケトン類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
【0055】
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【0056】
電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下の範囲内に設定される。
【0057】
電荷輸送層の膜厚は、乾燥ムラをより抑制する観点からは、１５μｍ未満であることが好ましく、１１μｍ未満であることがより好ましく、２μｍ以上８μｍ以下であることがさらに好ましい。
【0058】
以下、単層型感光層について、詳細を説明する。
【0059】
（単層型感光層）
単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）は、例えば、結着樹脂と電荷発生材料と電荷輸送材料と、必要に応じて、その他周知の添加剤と、を含む層である。なお、これら材料は、電荷発生層及び電荷輸送層で説明した材料と同様である。
そして、単層型感光層中、電荷発生材料の含有量は、全固形分に対して０．１質量％以上１０質量％以下がよく、好ましくは０．８質量％以上５質量％以下である。また、単層型感光層中、電荷輸送材料の含有量は、全固形分に対して５質量％以上５０質量％以下がよい。
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。
単層型感光層の膜厚は、例えば、５μｍ以上５０μｍ以下がよく、好ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下である。
単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）は、例えば、結着樹脂と電荷発生材料と電荷輸送材料と、必要に応じて、その他周知の添加剤と、を含む層である。なお、これら材料は、電荷発生層及び電荷輸送層で説明した材料と同様である。
そして、単層型感光層中、電荷発生材料の含有量は、全固形分に対して０．１質量％以上１０質量％以下がよく、好ましくは０．８質量％以上５質量％以下である。また、単層型感光層中、電荷輸送材料の含有量は、全固形分に対して５質量％以上５０質量％以下がよい。
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。
単層型感光層の膜厚は、例えば、５μｍ以上５０μｍ以下がよく、好ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下である。
【0060】
単層型感光層の膜厚は、単層型感光層における乾燥ムラをより抑制する観点からは、１５μｍ未満であることが好ましく、１１μｍ未満であることがより好ましく、２μｍ以上８μｍ以下であることがさらに好ましい。
【0061】
〔導電性基体〕
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属ドラムが挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
導電性基体の形状は、金属ドラム、つまり、円筒状を採用することがよい。円筒状の導電性基体を採用しても、気泡を抑制し、色点を抑制できる。
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属ドラムが挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
導電性基体の形状は、金属ドラム、つまり、円筒状を採用することがよい。円筒状の導電性基体を採用しても、気泡を抑制し、色点を抑制できる。
【0062】
導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。
【0063】
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて導電性基体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。
【0064】
粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。
【0065】
陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
【0066】
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
【0067】
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
【0068】
ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【0069】
導電性基体の基材厚みは、１ｍｍ以上であることが好ましく、２ｍｍ以上がより好ましい。
導電性基体の基材厚みが厚いと、電荷輸送層形成時に塗布液に気泡が拡散し易く、色点が発生し易い。導電性基体の基材厚みを１ｍｍ以上であっても、気泡を抑制し、色点を抑制できる。
なお、導電性基体の基材厚みの上限は、例えば、２.５ｍｍ以下とする。
導電性基体の基材厚みが厚いと、電荷輸送層形成時に塗布液に気泡が拡散し易く、色点が発生し易い。導電性基体の基材厚みを１ｍｍ以上であっても、気泡を抑制し、色点を抑制できる。
なお、導電性基体の基材厚みの上限は、例えば、２.５ｍｍ以下とする。
【0070】
〔下引層〕
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
【0071】
無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ωｃｍ以上１０１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
【0072】
無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
【0073】
無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
【0074】
無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。
【0075】
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。
【0076】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３－アミノプロピルトリエ
トキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス（２－ヒドロキシエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
トキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス（２－ヒドロキシエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0077】
シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３－メタクリルオキシプロピル－トリス（２－メトキシエトキシ）シラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス（２－ヒドロキシエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0078】
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。
【0079】
表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。
【0080】
ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。
【0081】
電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７－トリニトロフルオレノン、２，４，５，７－テトラニトロ－９－フルオレノン等のフルオレノン化合物；２－（４－ビフェニル）－５－（４－ｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール、２，５－ビス（４－ナフチル）－１，３，４－オキサジアゾール、２，５－ビス（４－ジエチルアミノフェニル）－１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ－ｔ－ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、１－ヒドロキシアントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、１－ヒドロキシアントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
【0082】
電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。
【0083】
電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。
【0084】
乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得
られる温度、時間であれば特に制限されない。
られる温度、時間であれば特に制限されない。
【0085】
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。
【0086】
なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。
【0087】
電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。
【0088】
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル－無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン－アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール－ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
【0089】
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール－ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【0090】
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
【0091】
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３－メタクリルオキシプロピル－トリス（２－メトキシエトキシ）シラン、２－（３，４
－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス（２－ヒドロキシエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス（２－ヒドロキシエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【0092】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【0093】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２－エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【0094】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【0095】
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【0096】
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／（４ｎ）（ｎは上層の屈折率）から１／２までに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／（４ｎ）（ｎは上層の屈折率）から１／２までに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
【0097】
下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。
【0098】
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ｎ－ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ｎ－ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
【0099】
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
【0100】
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【0101】
下引層の平均厚さは、１５μｍ以上７０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以上５０μｍ以下がより好ましい。
下引層の平均厚さが厚いと、浸漬塗布時に、浸漬側の下引層の端部に荒れが生じた場合、深い凹部が生じやすく、電荷輸送層形成用塗布液への気泡が混入し易い。
しかし、引層の平均厚さを上記範囲としても、気泡を抑制し、色点を抑制できる。
下引層の平均厚さは、渦電流膜厚計により、導電性基材の軸方向中央部の３個所の下引層の厚さを測定し、その平均値とする。
下引層の平均厚さが厚いと、浸漬塗布時に、浸漬側の下引層の端部に荒れが生じた場合、深い凹部が生じやすく、電荷輸送層形成用塗布液への気泡が混入し易い。
しかし、引層の平均厚さを上記範囲としても、気泡を抑制し、色点を抑制できる。
下引層の平均厚さは、渦電流膜厚計により、導電性基材の軸方向中央部の３個所の下引層の厚さを測定し、その平均値とする。
【0102】
〔中間層〕
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル－無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン－アルキッド樹脂、フェノール－ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル－無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン－アルキッド樹脂、フェノール－ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【0103】
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。
【0104】
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【0105】
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。
【0106】
〔表面保護層〕
本実施形態では、感光層上に表面保護層（以下、「保護層」とも称す）を設ける。
保護層は、例えば、帯電時の感光層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善したりする。
保護層は、硬化膜（架橋膜）で構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、下記１）又は２）に示す層が挙げられる。
本実施形態では、感光層上に表面保護層（以下、「保護層」とも称す）を設ける。
保護層は、例えば、帯電時の感光層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善したりする。
保護層は、硬化膜（架橋膜）で構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、下記１）又は２）に示す層が挙げられる。
【0107】
１）反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に有する反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり当該反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層）
２）非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を有する反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層）
２）非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を有する反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層）
【0108】
反応性基含有電荷輸送材料の反応性基としては、連鎖重合性基、エポキシ基、－ＯＨ、－ＯＲ［但し、Ｒはアルキル基を示す］、－ＮＨ２、－ＳＨ、－ＣＯＯＨ、－ＳｉＲＱ１
３－Ｑｎ（ＯＲＱ２）Ｑｎ［但し、ＲＱ１は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、ＲＱ２は水素原子、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。Ｑｎは１～３の整数を表す］等の周知の反応性基が挙げられる。
【0109】
連鎖重合性基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基（ビニルフェニル基）、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性基としては、ビニル基、スチリル基（ビニルフェニル基）、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基であることが好ましい。
【0110】
反応性基含有電荷輸送材料の電荷輸送性骨格としては、電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が好ましい。
【0111】
これら反応性基及び電荷輸送性骨格を有する反応性基含有電荷輸送材料、非反応性の電荷輸送材料、反応性基含有非電荷輸送材料は、周知の材料から選択すればよい。
【0112】
保護層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【0113】
保護層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた保護層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱等の硬化処理することで行う。
【0114】
保護層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
エーテル系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶剤；イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
なお、保護層形成用塗布液は、無溶剤の塗布液であってもよい。
エーテル系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶剤；イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
なお、保護層形成用塗布液は、無溶剤の塗布液であってもよい。
【0115】
保護層形成用塗布液を感光層（例えば電荷輸送層）上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【0116】
保護層の膜厚は、例えば、好ましくは１μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上１０μｍ以下の範囲内に設定される。
【0117】
＜画像形成装置（及びプロセスカートリッジ）＞
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
【0118】
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に電子写真感光体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
【0119】
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
【0120】
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
【0121】
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して着脱されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。
【0122】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。
【0123】
図２は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図２に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置
４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図２に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置
４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
【0124】
図２におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。
【0125】
なお、図２には、画像形成装置として、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。
【0126】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。
【0127】
－帯電装置－
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【0128】
－露光装置－
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【0129】
－現像装置－
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
【0130】
現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。
【0131】
－クリーニング装置－
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード
方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード
方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
【0132】
－転写装置－
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【0133】
－中間転写体－
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
【0134】
図３は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図３に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
図３に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【実施例0135】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、「部」又は「％」は、特に断りがない限り、質量基準である。
【0136】
＜実施例１＞
－下引層の作製－
酸化亜鉛：（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ２／ｇ）１００質量部をテトラヒドロフラン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ５０３：信越化学工業社製）１．３質量部を添加し、２時間攪拌した。その後、テトラヒドロフランを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
－下引層の作製－
酸化亜鉛：（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ２／ｇ）１００質量部をテトラヒドロフラン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ５０３：信越化学工業社製）１．３質量部を添加し、２時間攪拌した。その後、テトラヒドロフランを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
【0137】
前記シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子４４．６質量部と、電子受容性化合物として１－ヒドロキシアントラキノン０．４５質量部と、硬化剤としてブロック化イソシアネート（スミジュール３１７３、住友バイエルンウレタン社製）１０．２質量部と、ブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＭ－１、積水化学工業社製）３．５質量部と、触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５質量部と、メチルエチルケトン４１．３質量部とを混合し、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い、分散液を得た。
【0138】
得られた分散液に、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）３．６質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。下引層形成用塗布液の塗布温度２４℃における粘度は２３５ｍＰａ・ｓであった。上記の下引層形成用塗布液を用いて、浸漬塗布法にて塗布速度２２０ｍｍ／ｍｉｎで、導電性基体（アルミニウム基材、直径３０ｍｍ、長さ３６５ｍｍ、肉厚１．０ｍｍ）上に塗布し、１９０℃、２４分の乾燥硬化を行い、厚さ１９μｍの下引層を得た。
【0139】
－感光層の作製－
・電荷発生層の作製
電荷発生材料としてのヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料：Ｃｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３°、１６．０°、２４．９°、２８．０°の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、ｎ－酢酸ブチル２００質量部からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にｎ－酢酸ブチル１７５質量部、メチルエチルケトン１８０質量部を添加し、攪拌して電荷発生層形成用の塗布液を得た。この電荷発生層形成用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、常温（２５℃）で乾燥して、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
・電荷発生層の作製
電荷発生材料としてのヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料：Ｃｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３°、１６．０°、２４．９°、２８．０°の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、ｎ－酢酸ブチル２００質量部からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にｎ－酢酸ブチル１７５質量部、メチルエチルケトン１８０質量部を添加し、攪拌して電荷発生層形成用の塗布液を得た。この電荷発生層形成用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、常温（２５℃）で乾燥して、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【0140】
・電荷輸送層の作製
次に、下記構造式（ＣＴ１Ａ）で示される電荷輸送材料１２質量部、下記構造式（ＣＴ２Ａ）で示される電荷輸送材料２８質量部、界面活性剤（信越化学工業（株）製ＫＰ３４０）０．０１質量部、及びビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（分子量５万）６０質量部を、テトラヒドロフラン３４０重量部に加えて溶解し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。得られた電荷輸送層形成用塗布液を、電荷発生層上に浸漬塗布し、塗布速度を調整することで表１に示す膜厚の電荷輸送層を成形した。また、温度１３５℃及び時間３５分で加熱乾燥を行った。
次に、下記構造式（ＣＴ１Ａ）で示される電荷輸送材料１２質量部、下記構造式（ＣＴ２Ａ）で示される電荷輸送材料２８質量部、界面活性剤（信越化学工業（株）製ＫＰ３４０）０．０１質量部、及びビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（分子量５万）６０質量部を、テトラヒドロフラン３４０重量部に加えて溶解し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。得られた電荷輸送層形成用塗布液を、電荷発生層上に浸漬塗布し、塗布速度を調整することで表１に示す膜厚の電荷輸送層を成形した。また、温度１３５℃及び時間３５分で加熱乾燥を行った。
【0141】
【化4】
【0142】
【化5】
【0143】
－表面保護層の作製－
反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に有する反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の熱硬化膜で構成される表面保護層を以下のようにして形成した。
下記に示す反応性基含有電荷輸送材料である構造式で表される化合物（２）７０質量部、下記に示す反応性基含有電荷輸送材料である構造式で表される化合物（３）１５質量部、及び反応性基含有非電荷輸送材料である硬化性樹脂：ベンゾグアナミン樹脂（三和ケミカル社製ニカラックＢＬ－６０；既述の（Ｈ）－１７）４．４質量部を、２－プロパノール２２０質量部に加え、混合して溶解させた後、硬化触媒としてＮＡＣＵＲＥ５２２５（キングインダストリー社製）０．１部質量を加えて、表面保護層形成用塗布液を得た。
この表面保護層形成用塗布液を電荷輸送層の上に浸漬塗布し、室温（２５℃）で３０分風乾した後、窒素気流下、酸素濃度１１０ｐｐｍで、室温から１５５℃まで加熱し、加熱時間３５分間（保持時間）で保持して加熱処理し、硬化させた。そして、膜厚が７μｍの表面保護層を形成した。
反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に有する反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の熱硬化膜で構成される表面保護層を以下のようにして形成した。
下記に示す反応性基含有電荷輸送材料である構造式で表される化合物（２）７０質量部、下記に示す反応性基含有電荷輸送材料である構造式で表される化合物（３）１５質量部、及び反応性基含有非電荷輸送材料である硬化性樹脂：ベンゾグアナミン樹脂（三和ケミカル社製ニカラックＢＬ－６０；既述の（Ｈ）－１７）４．４質量部を、２－プロパノール２２０質量部に加え、混合して溶解させた後、硬化触媒としてＮＡＣＵＲＥ５２２５（キングインダストリー社製）０．１部質量を加えて、表面保護層形成用塗布液を得た。
この表面保護層形成用塗布液を電荷輸送層の上に浸漬塗布し、室温（２５℃）で３０分風乾した後、窒素気流下、酸素濃度１１０ｐｐｍで、室温から１５５℃まで加熱し、加熱時間３５分間（保持時間）で保持して加熱処理し、硬化させた。そして、膜厚が７μｍの表面保護層を形成した。
【0144】
【化10】
【0145】
以上の工程を経て、実施例１の電子写真感光体を作製した。
実施例１の電子写真感光体について、先述の方法により、電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおける、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅を求めた。結果を表１に示す。
実施例１の電子写真感光体について、先述の方法により、電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおける、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅を求めた。結果を表１に示す。
【0146】
＜実施例２～実施例５、比較例１～比較例２＞
電荷輸送層の作製において、「電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおける、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅」、及び、膜厚を表１に示す仕様とした以外は、実施例１と同様の仕様とし、各例の電子写真感光体を得た。
電荷輸送層の作製において、「電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおける、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅」、及び、膜厚を表１に示す仕様とした以外は、実施例１と同様の仕様とし、各例の電子写真感光体を得た。
【0147】
表１中、「周波数成分の振幅」とは、電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおける、電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅を指す。
表１中、「膜厚」とは、電荷輸送層の膜厚を指す。
表１中、「膜厚」とは、電荷輸送層の膜厚を指す。
【0148】
＜画像濃度ムラの評価＞
各例の電子写真感光体を、富士フイルムビジネスイノベーション（株）製「Apeos C6570」に装着し、評価用の画像形成装置とした。各例の評価用画像形成装置を用いて、Ａ３サイズの用紙に画像濃度６０％のハーフトーン５枚を出力した。得られたハーフトーン画像を目視で観察し、以下の評価基準に従って、画像濃度ムラの評価を行った。
－評価基準－
Ａ：画像濃度ムラは目視で確認できない。
Ｂ：画像濃度ムラは目視で確認できるが、許容できる。
Ｃ：画像濃度ムラは目視で確認でき、許容できない。
各例の電子写真感光体を、富士フイルムビジネスイノベーション（株）製「Apeos C6570」に装着し、評価用の画像形成装置とした。各例の評価用画像形成装置を用いて、Ａ３サイズの用紙に画像濃度６０％のハーフトーン５枚を出力した。得られたハーフトーン画像を目視で観察し、以下の評価基準に従って、画像濃度ムラの評価を行った。
－評価基準－
Ａ：画像濃度ムラは目視で確認できない。
Ｂ：画像濃度ムラは目視で確認できるが、許容できる。
Ｃ：画像濃度ムラは目視で確認でき、許容できない。
【0149】
【表1】
【0150】
上記結果から、実施例の電子写真感光体は、比較例の電子写真感光体に比べ、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラが抑制されることがわかった。
【0151】
（（（１））） 導電性基体と、
前記導電性基体の上に設けられる下引層と、
前記下引層の上に設けられる感光層と、
前記感光層の上に設けられる表面保護層と、
を備え、
電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が１０Ｖ未満である、電子写真感光体。
（（（２））） 前記感光層の膜厚が１５μｍ未満である、前記（（（１）））に記載の電子写真感光体。
（（（３））） 前記感光層の膜厚が１１μｍ未満である、前記（（（２）））に記載の電子写真感光体。
（（（４））） 前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が７Ｖ以下である、前記（（（１）））～（（（３）））のいずれか１つに記載の電子写真感光体。
（（（５））） 前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が５Ｖ以下である、前記（（（４）））に記載の電子写真感光体。
（（（６））） 前記（（（１）））～（（（５）））のいずれか１つに記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
（（（７））） 前記（（（１）））～（（（５）））のいずれか１つに記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
前記導電性基体の上に設けられる下引層と、
前記下引層の上に設けられる感光層と、
前記感光層の上に設けられる表面保護層と、
を備え、
電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が１０Ｖ未満である、電子写真感光体。
（（（２））） 前記感光層の膜厚が１５μｍ未満である、前記（（（１）））に記載の電子写真感光体。
（（（３））） 前記感光層の膜厚が１１μｍ未満である、前記（（（２）））に記載の電子写真感光体。
（（（４））） 前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が７Ｖ以下である、前記（（（１）））～（（（３）））のいずれか１つに記載の電子写真感光体。
（（（５））） 前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が５Ｖ以下である、前記（（（４）））に記載の電子写真感光体。
（（（６））） 前記（（（１）））～（（（５）））のいずれか１つに記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
（（（７））） 前記（（（１）））～（（（５）））のいずれか１つに記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【0152】
（（（１）））に係る発明によれば、電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が１０Ｖ以上である場合に比べて、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する電子写真感光体が提供される。
（（（２）））に係る発明によれば、感光層の膜厚が１５μｍ以上である場合に比べて、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する電子写真感光体が提供される。
（（（３）））に係る発明によれば、感光層の膜厚が１１μｍ以上である場合に比べて、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する電子写真感光体が提供される。
（（（４）））に係る発明によれば、前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が７Ｖ超えである場合に比べて、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する電子写真感光体が提供される。
（（（５）））に係る発明によれば、前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が５Ｖ超えである場合に比べて、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する電子写真感光体が提供される。
（（（６）））、又は（（（７）））に係る発明によれば、導電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が１０Ｖ以上である電子写真感光体を備える場合に比べ、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制するプロセスカートリッジ、又は画像形成装置が提供される。
（（（２）））に係る発明によれば、感光層の膜厚が１５μｍ以上である場合に比べて、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する電子写真感光体が提供される。
（（（３）））に係る発明によれば、感光層の膜厚が１１μｍ以上である場合に比べて、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する電子写真感光体が提供される。
（（（４）））に係る発明によれば、前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が７Ｖ超えである場合に比べて、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する電子写真感光体が提供される。
（（（５）））に係る発明によれば、前記スペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が５Ｖ超えである場合に比べて、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制する電子写真感光体が提供される。
（（（６）））、又は（（（７）））に係る発明によれば、導電子写真感光体の外周面を帯電、露光したときの表面電位を高速フーリエ変換して得た周期と振幅とのスペクトルにおいて、前記電子写真感光体の周長に相当する周波数成分の振幅が１０Ｖ以上である電子写真感光体を備える場合に比べ、感光層における乾燥ムラに起因する感光体周方向の画像濃度ムラを抑制するプロセスカートリッジ、又は画像形成装置が提供される。
【符号の説明】
【0153】
１０１ 下引層、１０２ 電荷発生層、１０３ 電荷輸送層、１０４ 導電性基体、１０５ 有機感光層、１０６ 無機保護層、１０７Ａ 電子写真感光体、７ 電子写真感光体、８ 帯電装置、９ 露光装置、１１ 現像装置、１３ クリーニング装置、１４ 潤滑剤、４０ 転写装置、５０ 中間転写体、１００ 画像形成装置、１２０ 画像形成装置、１３１ クリーニングブレード、１３２ 繊維状部材（ロール状）、１３３ 繊維状部材（平ブラシ状）、３００ プロセスカートリッジ
【図1】
【図2】
【図3】
