特開 2024-48710 塗布装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024048710

(43)【公開日】2024-04-09

(54)【発明の名称】塗布装置

(51)【国際特許分類】

   B05C 9/12 20060101AFI20240402BHJP

   B05C 11/10 20060101ALI20240402BHJP

   B05C 5/02 20060101ALI20240402BHJP

【ＦＩ】

B05C9/12

B05C11/10

B05C5/02

【審査請求】未請求

【請求項の数】4

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022154778

(22)【出願日】2022-09-28

(71)【出願人】

【識別番号】000219314

【氏名又は名称】東レエンジニアリング株式会社

(72)【発明者】

【氏名】濱川 健史

(72)【発明者】

【氏名】田嶋 久容

(72)【発明者】

【氏名】伊藤 俊文

【テーマコード（参考）】

4F041

4F042

【Ｆターム（参考）】

4F041AA02

4F041AA05

4F041BA05

4F041BA12

4F041BA22

4F041BA34

4F041BA57

4F042AA02

4F042AA06

4F042AB00

4F042BA08

4F042BA19

4F042BA27

4F042DB26

4F042DD03

4F042DD33

4F042DD36

4F042DF09

4F042DF34

(57)【要約】

【課題】乾燥器によるエアの供給量のばらつきを抑えて塗布膜にムラが形成されるのを抑えることができる塗布装置を提供する。
【解決手段】基板を載置するステージと、ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ、ノズルから塗布液を吐出して基板に塗布膜を形成する塗布器と、を備える塗布装置であって、塗布器によって基板上に形成された塗布膜にエアを供給することにより塗布膜を乾燥させる乾燥器が設けられており、乾燥器は、エアが供給されるエア供給口には、エア供給口に局所的にエア供給量の強弱が形成されるのを抑える多孔質部材が設けられている構成とする。
【選択図】図５

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板を載置するステージと、
前記ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ、ノズルから塗布液を吐出して基板に塗布膜を形成する塗布器と、
を備える塗布装置であって、
前記塗布器によって基板上に形成された塗布膜にエアを供給することにより塗布膜を乾燥させる乾燥器が設けられており、
前記乾燥器は、エアが供給されるエア供給口には、前記エア供給口に局所的にエア供給量の強弱が形成されるのを抑える多孔質部材が設けられていることを特徴とする塗布装置。

【請求項2】

前記乾燥器は、前記塗布器に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。

【請求項3】

前記エア供給口には、前記多孔質部材が複数個並べて配置されており、隣接する前記多孔質部材間の継ぎ目は、前記塗布器が塗布膜を形成する際に移動する塗布方向に前記エア供給口を一直線状に横切るように形成されるのを回避して前記多孔質部材が配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布装置。

【請求項4】

前記エア供給口には、塗布方向と直交する幅方向に複数個の多孔質部材が並べて配置される多孔質配列部が設けられており、
前記多孔質配列部は、前記エア供給口に塗布方向に複数列設けられ、
隣接する前記多孔質部材間の継ぎ目は、隣接する前記多孔質配列部において、塗布方向に連続して配置されるのを回避されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板上に塗布液を塗布する塗布装置に関するものであり、特に、塗布液を吐出した直後から乾燥させる塗布装置に関するものである。

【背景技術】

【0002】

近年では、様々な用途に基板Ｗ上に均一な薄膜が形成されたもの（塗布基板という）が使用される。例えば、基板上に一様な膜厚の塗布膜を形成する場合には、スリット状のノズルを有する塗布装置によって形成されている。この塗布装置は、図６に示すように、基板Ｗを載置するステージ１００と、塗布液を吐出するスリット状のノズルを有する塗布器１０１とを有しており、ノズルのスリットから塗布液を吐出させながら、基板Ｗと塗布器１０１とを塗布方向（Ｘ軸方向）に相対的に移動させることにより、所定厚さの塗布膜Ｃが基板Ｗ上に形成されるようになっている。

【0003】

そして、形成された塗布基板Ｗは、塗布装置から搬出された後、塗布装置とは別の乾燥装置１０２によって乾燥させられる（例えば、下記特許文献１参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１０－０３４３０９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかし、上記塗布装置では、形成された塗布膜Ｃの機能性が十分に発揮できないという問題があった。すなわち、近年では、材料の特性として、塗布膜Ｃとして塗布された後、すぐに乾燥させることにより安定して機能性を発揮するものがあり、例えば、ペロブスカイト太陽電池の材料には、そのような材料が使用されている。上記塗布装置では、塗布膜Ｃが形成された後、別の乾燥装置１０２に搬送される間、時間を要してしまうため、この時間が塗布膜Ｃの結晶状態に影響し、材料の機能性が安定して発揮されにくいという問題があった。

【0006】

そこで、塗布された直後の塗布膜Ｃに対し、エアを吹き付けて乾燥させることも考えられる。すなわち、図７（ａ）に示すように、塗布器１０１と同様に、幅方向に延びるスリット形状の吹出口を有する乾燥器１０３（エアブロー装置）を使用し、形成された塗布膜にエアを吹き付けることにより塗布膜が形成された直後から乾燥させることができる。すなわち、乾燥器１０３によりエアを吹き付けつつ、塗布方向に移動することにより塗布膜Ｃ全面にエアが供給され、乾燥させることができる。

【0007】

しかし、図７（ｂ）に示すように、このような乾燥器１０３では、長手方向に均一にエアを吹き出させることは困難であり、局所的にエア量にムラが存在する（図７（ｂ）２点鎖線部分）。そのため、塗布膜Ｃがエア量のムラの影響を受けることにより、塗布膜Ｃに塗布方向に沿った筋ムラが形成される虞があるという問題があった。

【0008】

本発明は、上記の問題点を鑑みてなされたものであり、乾燥器によるエアの供給量のばらつきを抑えて塗布膜にムラが形成されるのを抑えることができる塗布装置を提供することを目的としている。

【課題を解決するための手段】

【0009】

上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、基板を載置するステージと、前記ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ、ノズルから塗布液を吐出して基板に塗布膜を形成する塗布器と、を備える塗布装置であって、前記塗布器によって基板上に形成された塗布膜にエアを供給することにより塗布膜を乾燥させる乾燥器が設けられており、前記乾燥器は、エアが供給されるエア供給口には、前記エア供給口に局所的にエア供給量の強弱が形成されるのを抑える多孔質部材が設けられていることを特徴としている。

【0010】

上記塗布装置によれば、乾燥器のエア供給口に多孔質部材が設けられているため、エアが多孔質部材を通過し、エアの勢いが抑えられることにより、エア供給口から吐出されるエアがエア供給口全体に亘って均一化され、エア供給量の局所的な強弱を抑えることができる。これにより、従来エア供給量にばらつきが生じることが抑えられ、塗布膜にムラが形成される問題を回避することができる。

【0011】

また、前記乾燥器は、前記塗布器に設けられている構成にしてもよい。

【0012】

この構成によれば、塗布器から塗布液が吐出され、基板に着液された直後から乾燥を開始させることができる。

【0013】

また、前記エア供給口には、前記多孔質部材が複数個並べて配置されており、隣接する前記多孔質部材間の継ぎ目は、前記塗布器が塗布膜を形成する際に移動する塗布方向に前記エア供給口を一直線状に横切るように形成されるのを回避して前記多孔質部材が配置されている構成にしてもよい。

【0014】

この構成によれば、多孔質部材同士の間に形成される継ぎ目は、エアが供給されないため、多孔質部材直下の塗布膜領域に比べてエア供給量が少ない。そのため、乾燥器を塗布方向に移動させると、継ぎ目直下の塗布膜の乾燥状態が多孔質部材直下と異なり、筋ムラが生じるが、塗布方向に前記エア供給口を一直線状に横切るように形成されるのを回避されることにより、乾燥器が塗布方向に移動することにより、継ぎ目直下であった塗布膜上の位置に、必ず多孔質部材が通過するため、塗布膜に筋ムラが形成されるのを回避することができる。

【0015】

具体的な態様としては、前記エア供給口には、塗布方向と直交する幅方向に複数個の多孔質部材が並べて配置される多孔質配列部が設けられており、前記多孔質配列部は、前記エア供給口に塗布方向に複数列設けられ、隣接する前記多孔質部材間の継ぎ目は、隣接する前記多孔質配列部において、塗布方向に連続して配置されるのを回避されているように構成することにより、継ぎ目が塗布方向に常に通過する領域が塗布膜に形成されることが回避され、塗布膜に筋ムラが形成されるのを回避することができる。

【発明の効果】

【0016】

本発明の塗布装置によれば、乾燥器によるエアの供給量のばらつきを抑えて塗布膜にムラが形成されるのを抑えることができる。

【図面の簡単な説明】

【0017】

【図1】本発明の実施形態に係る塗布装置を示す斜視図である。

【図2】塗布ユニットの脚部付近を示す概略図である。

【図3】乾燥器が設けられた塗布器の断面図である。

【図4】上記塗布器から塗布液を吐出した状態を示す図である。

【図5】上記乾燥器のエア供給口を示す図であり、（ａ）は、多孔質プレートが敷き詰められた状態を示す図、（ｂ）は、多孔質プレートの継ぎ目が一直線状に連結された状態を示す図、（ｃ）は、（ｂ）の状態でエアを吐出させた状態を示す図である。

【図6】従来の塗布装置と乾燥装置を示す図である。

【図7】従来の乾燥器からエアを吐出させた状態を示す図であり、（ａ）は塗布方向と直交する方向から見た図、（ｂ）は塗布方向から見た図である。

【発明を実施するための形態】

【0018】

本発明に係る実施の形態について図面を用いて説明する。

【0019】

図１は、本発明の一実施形態における塗布装置を概略的に示す斜視図であり、図２は、塗布ユニットの脚部付近を示す図であり、図３は、乾燥器が設けられた塗布器を示す図である。

【0020】

図１～図３に示すように、塗布装置は、基板Ｗ上に薬液やレジスト液等の液状物（以下、塗布液と称す）の塗布膜を形成するものであり、基台２と、基板Ｗを載置するためのステージ２１と、このステージ２１に対し特定方向に移動可能に構成される塗布ユニット３０とを備えている。

【0021】

なお、以下の説明では、塗布ユニット３０が移動する方向をＸ軸方向、これと水平面上で直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸およびＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向として説明を進めることとする。

【0022】

前記基台２には、その中央部分にステージ２１が配置されている。このステージ２１は、搬入された基板Ｗを載置するものである。このステージ２１には、基板Ｗを載置する基板載置面２１ａと、図示しない基板保持手段が設けられており、この基板保持手段により基板Ｗが保持されるようになっている。具体的には、ステージ２１の基板載置面２１ａに形成された複数の吸引孔が形成されており、この吸引孔に吸引力を発生させることにより基板Ｗを基板載置面２１ａに吸着させて保持できるようになっている。

【0023】

また、ステージ２１には、基板Ｗを昇降動作させる基板昇降機構が設けられている。具体的には、ステージ２１の表面には複数のピン孔が形成されており、このピン孔にはＺ軸方向に昇降動作可能なリフトピン（不図示）が埋設されている。すなわち、ステージ２１の表面からリフトピンを突出させた状態で基板Ｗが搬入されるとリフトピンの先端部分が基板Ｗに当接して基板Ｗを保持することができる。そして、その状態からリフトピンを下降させてピン孔に収容させることにより、基板Ｗを基板載置面２１ａに載置することができるようになっている。

【0024】

また、塗布ユニット３０は、基板Ｗ上に塗布液を吐出して塗布膜Ｃを形成するものである。この塗布ユニット３０は、図１、図２に示すように、基台２と連結される脚部３１とＹ軸方向に延びる塗布器３４とを有しており、基台２上をＹ軸方向に跨いだ状態でＸ軸方向に移動可能に取り付けられている。具体的には、基台２のＹ軸方向両端部分にはそれぞれＸ軸方向に延びるレール２２が設置されており、脚部３１がこのレール２２にスライド自在に取り付けられている。そして、脚部３１にはリニアモータが取り付けられており、このリニアモータを駆動制御することにより、塗布ユニット３０がＸ軸方向に移動し、任意の位置で停止できるようになっている。

【0025】

また、塗布ユニット３０の脚部３１には、図２に示すように、塗布液を塗布する塗布器３４が取り付けられている。具体的には、この脚部３１にはＺ軸方向に延びるレール３７と、このレール３７に沿ってスライドするスライダ３５が設けられており、これらのスライダ３５と塗布器３４とが連結されている。そして、スライダ３５にはサーボモータにより駆動されるボールねじ機構が取り付けられており、このサーボモータを駆動制御することにより、スライダ３５がＺ軸方向に移動するとともに、任意の位置で停止できるようになっている。すなわち、塗布器３４が、ステージ２１に保持された基板Ｗに対して接離可能に支持されている。

【0026】

また、図１～３に示すように、塗布器３４は、塗布液を吐出して基板Ｗ上に塗布膜Ｃを形成するものである。この塗布器３４は、一方向に延びる形状を有する柱状部材であり、塗布ユニット３０の走行方向とほぼ直交するように設けられている。この塗布器３４は、鉛直方向に延びる側面部３４ｂを有しており、この側面部３４ｂから傾斜状に形成される斜面部３４ｃを経て基板Ｗと対向する基板対向面３４ｄを有している。そして、基板対向面３４ｄには、スリットノズル３４ａが形成されており、スリットノズル３４ａから塗布液が吐出されるようになっている。すなわち、塗布器３４の基板対向面３４ｄには、スリットノズル３４ａが長手方向に延びるように形成されており、塗布器３４に供給された塗布液がスリットノズル３４ａから長手方向に亘って一様に吐出されるようになっている。したがって、このスリットノズル３４ａから塗布液を吐出させた状態で塗布ユニット３０をＸ軸方向に走行させることにより、スリットノズル３４ａの長手方向に亘って基板Ｗ上に一定厚さの塗布膜Ｃが形成されるようになっている。なお、塗布液を塗布するために、スリットノズル３４ａから塗布液を吐出させた状態で塗布ユニット３０を移動させる方向を本実施形態では塗布方向と呼び、塗布方向側を塗布進行側と呼ぶことにする。

【0027】

また、塗布器３４には、乾燥器４０が設けられている。この乾燥器４０は、基板Ｗ上に形成された塗布膜Ｃを乾燥させるものである。ここで、乾燥とは、完全乾燥の意味だけでなく、半乾き状態の乾燥、及び、大気に放置して乾燥させる場合よりも材料の結晶化が促進される程度の乾燥も含まれるものとする。

【0028】

乾燥器４０は、本実施形態では、塗布器３４において、塗布進行側と反対側に隣接するように一体的に取り付けられている。すなわち、塗布器３４が塗布液を吐出しつつ塗布進行方向に移動すると、乾燥器４０が塗布器３４と一体的に移動しつつ、基板Ｗ上に塗布膜Ｃが形成された直後から、乾燥器４０により塗布膜Ｃが乾燥されるようになっている。

【0029】

乾燥器４０は、塗布器３４の長手方向に沿って設けられており、エアを供給する送風部４１を有している。本実施形態では、塗布器３４に隣接するように送風部４１が配置され構成されている。

【0030】

送風部４１は、基板Ｗ上に形成された塗布膜Ｃにエアを供給するものである。本実施形態では、送風本体部４１１と、エア吐出部４２とを有しており、送風本体部４１１で貯留されたエアがエア吐出部４２を通じてエアが吹き出されるようになっている。

【0031】

送風本体部４１１は、ボックス形状を有しており、塗布器３４の側面部３４ｂに沿って長手方向に延びる形状に形成されている。本実施形態では、スリットノズル３４ａの長手方向寸法よりも長い寸法を有するように形成されている。また、送風本体部４１１には、塗布膜Ｃに供給するためのエアを溜めるキャビティ４１ｂが設けられており、図示しないエア供給源から供給されたエアがキャビティ４１ｂで一時的に貯留できるようになっている。キャビティ４１ｂは、長手方向に延びる形状に形成されており、キャビティ４１ｂより狭く形成された連通流路４３によりエア吐出部４２と連通して接続されている。したがって、エアがキャビティ４１ｂに供給されるとキャビティ４１ｂ全体に広がって一時的に貯留され、狭い連通流路４３を通過することにより、エア吐出部４２に対して長手方向に渡って一様にエアが供給されるようになっている。

【0032】

エア吐出部４２は、送風本体部４１１に供給されたエアを塗布膜Ｃに導くためのものである。エア吐出部４２は、エアが吐出されるエア供給口４１ｃを有しており、エア供給口４１ｃの高さ位置は、スリットノズル３４ａ付近まで延びて形成されている。図３の例では、スリットノズル３４ａの高さ位置よりもわずかに高い位置、すなわち、基板Ｗに形成される塗布膜Ｃに当接しない高さ位置まで延びて形成されている。そして、エア吐出部４２は、連通流路４３により、送風本体部４１１のキャビティ４１ｂと、エア供給口４１ｃとが接続されている。すなわち、エア吐出部４２は、エア供給源を作動させると、連通流路４３を通じてキャビティ４１ｂのエアをエア供給口４１ｃまで導くことができるようになっている。

【0033】

また、エア吐出部４２は、複数の多孔質プレート５１が収容されて形成されている。この多孔質プレート５１は、多孔質部材を平板形状に形成したものである。本実施形態では、図５（ａ）に示すように、矩形状に形成されたエア供給口４１ｃに矩形状の多孔質プレート５１が複数並べて配列されることによって形成されている。具体的には、エア供給口４１ｃの長手方向に延びる多孔質配列部５が３列設けられており、多孔質配列部５に複数の多孔質プレート５１が長手方向に並べて配置されて形成されいる。そして、これらの多孔質プレート５１同士は、例えば、接着部材で連結されており、多孔質配列部５に複数の多孔質プレート５１が長手方向に並べて配置されて形成されいる。すなわち、エア供給口４１ｃは、複数の多孔質プレート５１が隙間が形成されることなく敷き詰められて形成されている。

【0034】

これにより、キャビティ４１ｂから連通流路４３を通過して供給されるエアは、エア供給口４１ｃにおいて、多孔質プレート５１を通過するため、エアの供給量が均一化される。すなわち、多孔質プレート５１は、ランダムに形成される多数の細孔が形成されており、供給されたエアは、その細孔を通過しつつ基板Ｗ側に通過する。そのため、供給されたエアがエア供給口４１ｃを直線的に通過することが抑えられるため、基板Ｗに直接的にエアが吐出されることを抑え、エア供給口４１ｃの長手方向に亘って局所的にエア供給量の強弱が形成されるのを抑えることができる。

【0035】

また、送風部４１は、塗布器３４と昇降部材４９と接続されており、塗布器３４に対してＺ方向に高さ調節ができるようになっている。すなわち、形成された塗布膜Ｃに対してエア供給口４１ｃを接離可能に変位させることができ、塗布膜Ｃとエア供給口４１Ｃとの距離を調節できるようになっている。これにより、多孔質プレート５１から吐出されるエアは、指向性がない静圧膜に近いエアになるため、このエアを塗布膜Ｃに作用させるように昇降部材４９により送風部４１の高さ位置を調節することができる。

【0036】

また、多孔質配列部５を構成する多孔質プレート５１は、隣接する多孔質プレート５１同士で形成される継ぎ目５１ａが、塗布方向にエア供給口４１ｃを一直線状に横切ることのないように配列されている。すなわち、隣接する多孔質プレート５１同士の間には継ぎ目５１ａが形成されるが、この継ぎ目５１ａは、接着部材、多孔質部材を保持する枠体等、多孔質部材で形成されていない部分が存在するか、又は、多孔質部材で形成されていた場合でも多孔質部材の均一性が中央部分に比べて粗く形成されている。その継ぎ目５１ａが、図５（ｂ）の２点鎖線で示すように、エア供給口４１ｃにおいて、塗布方向に一直線状に配列されると、エアが十分に供給されない領域が直線状に形成されてしまう。すなわち、図５（ｃ）に示すように、継ぎ目５１ａ部分は、他の多孔質プレート５１と比べてエアの供給量が少ないため、この継ぎ目５１ａ部分が塗布方向に移動すると、継ぎ目５１ａ部分に対応する塗布膜Ｃの領域は、他の領域に比べて乾燥しにくい。そのため、継ぎ目５１ａ部分が塗布方向に移動すると、乾燥しにくい領域が塗布方向に直線状に形成されてしまい、塗布膜Ｃに筋ムラが形成されるという問題が生じる。したがって、本実施形態では、多孔質プレート５１の配置は、継ぎ目５１ａがエア供給口４１ｃを一直線状に横切ることのないように構成される。

【0037】

具体的には、図５（ａ）に示すように、隣接する多孔質配列部５の多孔質プレート５１同士の継ぎ目５１ａが塗布方向に直線状に並ぶことがないように多孔質プレート５１の大きさを調節し、配列される。これにより乾燥器４０が塗布方向に移動しつつエアを供給した場合に、塗布膜Ｃには必ずいずれかの多孔質配列部５の多孔質プレート５１からのエアが供給されることになるため、エアが全く供給されない領域が形成されることにより筋ムラが形成される問題を回避することができる。

【0038】

なお、隣接する多孔質プレート５１の継ぎ目５１ａは、エア供給口４１ｃを端から端まで塗布方向に一直線状に横切るように設けることを回避していればよく、継ぎ目５１ａが直線状に連結されていても、塗布方向に部分的に連続している状態であれば他の多孔質プレート５１からエアが供給されるため許容される。

【0039】

このように、上記塗布装置によれば、乾燥器４０のエア供給口４１ｃに多孔質部材が設けられているため、エアが多孔質部材を通過し、エアの勢いが抑えられることにより、エア供給口から吐出されるエアがエア供給口全体に亘って均一化され、エア供給量の局所的な強弱を抑えることができる。これにより、従来エア供給量にばらつきが生じることが抑えられ、塗布膜にムラが形成される問題を回避することができる。

【0040】

また、上記実施形態では、乾燥器４０が塗布器３４に取り付けられる例について説明したが、塗布ユニット３０とは独立した状態で塗布器３４を設け、塗布ユニット３０が走行して基板Ｗ上に塗布膜Ｃが形成された直後から乾燥器４０を駆動させ、塗布膜Ｃを乾燥させる構成であってもよい。

【0041】

また、上記実施形態では、多孔質配列部５が３列設けられる例について説明したが、多孔質配列部５が３列以上のものであってもよい。隣接するの多孔質配列部５同士における多孔質プレート５１の継ぎ目５１ａがエア供給口４１ｃを端から端まで塗布方向に一直線状に横切ることのないように、多孔質配列部５は２列以上設けることが好ましい。

【0042】

また、上記実施形態では、送風部４１から供給されるエアは、エア供給源の温度（塗布装置が設置される空間の温度）である例について説明したが、エア供給源と送風部４１との間にヒータを設け、ヒータにより加熱されたエアを供給するものであってもよい。例えば、塗布装置が設置される空間の温度よりも少し高い３５℃～４５℃程度に設定することにより、エア供給源のエアをそのまま使用する場合に比べて塗布膜Ｃの乾燥を促進させることができる。

【0043】

また、上記実施形態では、１つの送風部４１におけるエア供給口４１ｃに多孔質配列部５が塗布方向に複数列配置される例について説明したが、送風部４１を塗布方向に複数配列されることにより、多孔質配列部５が複数列配置されるように構成してもよい。このように複数の送風部４１を用いた場合、それぞれの送風部４１に設ける多孔質配列部５は、１つであっても複数であってもよく、これらを組み合わせて構成されるものであってもよい。

【0044】

また、上記実施形態では、塗布器３４がスリットノズル３４ａを有する例について説明したが、一方向に移動し、塗布膜Ｃを形成した直後から乾燥が必要な塗布器（例えば、インクジェット）であればよく、吐出方式は特に限定されない。

【0045】

また、上記実施形態では、ステージ２１に基板Ｗを固定して載置する塗布装置に適用する例について説明したが、ステージ２１から基板Ｗを浮上させた状態でステージ２１上に基板Ｗを載置する塗布装置に適用するものであってもよい。

【符号の説明】

【0046】

５ 多孔質配列部
２１ ステージ
３０ 塗布ユニット
３４ 塗布器
４０ 乾燥器
４１Ｃ エア供給口
５１ 多孔質プレート
５１ａ 継ぎ目
Ｃ 塗布膜
Ｗ 基板

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】