特開 2024-49807 加熱処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024049807

(43)【公開日】2024-04-10

(54)【発明の名称】加熱処理装置

(51)【国際特許分類】

   F27B 5/14 20060101AFI20240403BHJP

   F27B 5/05 20060101ALI20240403BHJP

【ＦＩ】

F27B5/14

F27B5/05

【審査請求】未請求

【請求項の数】7

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022156267

(22)【出願日】2022-09-29

(71)【出願人】

【識別番号】000002428

【氏名又は名称】芝浦メカトロニクス株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100108062

【弁理士】

【氏名又は名称】日向寺 雅彦

(74)【代理人】

【識別番号】100168332

【弁理士】

【氏名又は名称】小崎 純一

(74)【代理人】

【識別番号】100146592

【弁理士】

【氏名又は名称】市川 浩

(72)【発明者】

【氏名】石原 淳司

(72)【発明者】

【氏名】磯 明典

(72)【発明者】

【氏名】増田 浩一

(72)【発明者】

【氏名】福田 丈二

【テーマコード（参考）】

4K061

【Ｆターム（参考）】

4K061AA01

4K061BA11

4K061DA05

4K061FA07

4K061FA12

(57)【要約】      （修正有）

【課題】ヒータのＯＮ／ＯＦＦ時に、ヒータが中心軸に沿った方向に伸縮しても、パーティクル発生を抑制できる加熱処理装置を提供する。
【解決手段】加熱処理装置は、ワークが収納されるチャンバと、チャンバ内に設けられる棒状の複数のヒータ３３と、チャンバ内にてヒータを支持する、第１の支持部３４、および第２の支持部のいずれかを備える。前記複数のヒータは、ヒータ中心軸交差方向に並び、前記第１の支持部は、前記ヒータの下方に設けられた第１のプレート３４ａ２と、前記ヒータと前記第１のプレートとの間に設けられ、前記ヒータと前記第１のプレートと接触し、前記ヒータ中心軸方向に移動可能な回動部３４ｂを有する。前記第２の支持部は、前記ヒータを保持する保持部と、前記保持部に接続され、前記ヒータの伸縮に応じ、前記ヒータの中心軸方向に弾性変形可能な第２のプレートと、を有する。
【選択図】図８

【特許請求の範囲】

【請求項1】

内部にワークが収納されるチャンバと、
前記チャンバの内部に設けられ、棒状を呈する複数のヒータと、
前記チャンバの内部において前記ヒータを支持する、第１の支持部、および第２の支持部の少なくともいずれかと、
を備え、
前記複数のヒータは、前記ヒータの中心軸と交差する方向に並び、
前記第１の支持部は、前記ヒータの下方に設けられた第１のプレートと、前記ヒータと前記第１のプレートとの間に設けられ、前記ヒータと前記第１のプレートと接触し、前記ヒータの中心軸に沿った方向に移動可能な回動部と、を有し、
前記第２の支持部は、前記ヒータを保持する保持部と、前記保持部に接続され、前記ヒータの伸縮に応じて、前記ヒータの中心軸に沿った方向に弾性変形可能な第２のプレートと、を有する加熱処理装置。

【請求項2】

前記回動部は、円柱状、または円筒状を呈し、前記ヒータの中心軸と交差する方向に延び、
前記ヒータの中心軸に交差する方向における、前記回動部の長さは、
前記ヒータの伸び量の２０倍以上の長さ、
および、
３つ以上の前記ヒータと接触する長さ、
の少なくともいずれかである請求項１記載の加熱処理装置。

【請求項3】

前記チャンバの内部を排気する排気部をさらに備え、
前記回動部、および前記保持部は、前記ヒータの端部の近傍における非加熱部に設けられている請求項１または２に記載の加熱処理装置。

【請求項4】

前記複数のヒータの温度制御は、前記ワークにおける複数の領域毎に行われ、
前記回動部は、前記複数の領域のそれぞれに１つ設けられている請求項１または２に記載の加熱処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明の実施形態は、加熱処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

ワークを加熱して、ワークの表面に膜などを形成したり、ワークの表面を処理したりする加熱処理装置がある。
例えば、内部にワークが保持されるチャンバと、チャンバの内部に設けられた板材および複数のヒータと、を有する加熱処理装置が提案されている。板材は、ワークの表面側及びワークの裏面側のそれぞれに対向するように設けられている。

【0003】

複数のヒータは、棒状を呈し、板材の、ワークの側とは反対側に並べて設けられている。複数のヒータの一方の端部側は、チャンバに固定されている。複数のヒータの他方の端部は、チャンバに固定された板状のブラケットに支持されている。

【0004】

ここで、ヒータへの電力の印加時（ＯＮ時）には、ヒータが高温になるため自身が膨張する。これによって、ヒータが主に中心軸に沿った方向に伸びる。ヒータへの電力の印加の停止時（ＯＦＦ時）には、ヒータが中心軸に沿った方向に縮む（元に戻る）。そのため、ヒータの端部がチャンバに固定された板状のブラケットに支持されていると、ヒータとブラケットとの接触部分に擦れが生じる。ヒータとブラケットとの接触部分に擦れが生じると、パーティクルが発生する場合がある。発生したパーティクルがワークに付着すると、ワークの品質が低下するおそれがある。
そこで、ヒータのＯＮ／ＯＦＦ時に、ヒータが伸縮したとしても、パーティクルが発生するのを抑制することができる加熱処理装置の開発が望まれていた。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２０１９－１８４２２９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

本発明が解決しようとする課題は、ヒータのＯＮ／ＯＦＦ時に、ヒータが伸縮したとしても、パーティクルが発生するのを抑制することができる加熱処理装置を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

実施形態に係る加熱処理装置は、内部にワークが収納されるチャンバと、前記チャンバの内部に設けられ、棒状を呈する複数のヒータと、前記チャンバの内部において前記ヒータを支持する、第１の支持部、および第２の支持部の少なくともいずれかと、を備えている。前記複数のヒータは、前記ヒータの中心軸と交差する方向に並んでいる。前記第１の支持部は、前記ヒータの下方に設けられた第１のプレートと、前記ヒータと前記第１のプレートとの間に設けられ、前記ヒータと前記第１のプレートと接触し、前記ヒータの中心軸に沿った方向に移動可能な回動部と、を有する。前記第２の支持部は、前記ヒータを保持する保持部と、前記保持部に接続され、前記ヒータの伸縮に応じて、前記ヒータの中心軸に沿った方向に弾性変形可能な第２のプレートと、を有する。

【発明の効果】

【0008】

本発明の実施形態によれば、ヒータのＯＮ／ＯＦＦ時に、ヒータが伸縮したとしても、パーティクルが発生するのを抑制することができる加熱処理装置が提供される。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】本実施の形態に係る加熱処理装置を例示するための模式正面図である。

【図2】図１における加熱処理装置のＡ－Ａ線方向の模式断面図である。

【図3】チャンバ、およびカセットラックの模式斜視図である。

【図4】カセットを例示するための模式斜視図である。

【図5】保持部によるヒータの保持を例示するための模式斜視図である。

【図6】比較例に係る支持部によるヒータの支持を例示するための模式斜視図である。

【図7】本実施の形態に係る支持部によるヒータの支持を例示するための模式図である。

【図8】支持部を例示するための模式斜視図である。

【図9】支持部の作用を例示するための模式図である。

【図10】他の実施形態に係る支持部によるヒータの支持を例示するための模式図である。

【図11】他の実施形態に係る支持部によるヒータの支持を例示するための模式図である。

【図12】他の実施形態に係るカセットを例示するための模式斜視図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

以下、図面を参照しつつ、実施の形態について例示をする。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
以下においては、一例として、大気圧よりも減圧された雰囲気においてワークを加熱して、ワークの表面に有機膜を形成する加熱処理装置を説明する。しかしながら、本発明は、これに限定されるわけではない。例えば、本発明は、ワークを加熱して、ワークの表面に無機膜などを形成したり、ワークの表面を処理したりする加熱処理装置にも適用することができる。

【0011】

また、加熱前のワークは、例えば、基板と、基板の表面に塗布された溶液とを有するものであってもよいし、基板のみであってもよい。以下においては、一例として、加熱前のワークが、基板と、基板の表面に塗布された溶液とを有する場合を説明する。

【0012】

本実施の形態に係る加熱処理装置１により加熱処理される前のワーク１００は、基板と、基板の表面に塗布された溶液とを有する。基板は、例えば、ガラス基板や半導体ウェーハなどである。ただし、基板は、例示をしたものに限定されるわけではない。溶液は、例えば、有機材料と溶剤を含んでいる。有機材料は、溶剤により溶解が可能なものであれば特に限定はない。溶液は、例えば、ポリアミド酸を含むワニスなどとすることができる。ただし、溶液は、例示をしたものに限定されるわけではない。また、溶液は、液体が仮焼成されて半硬化状態（流れない状態）となっているものであってもよい。

【0013】

図１は、本実施の形態に係る加熱処理装置１を例示するための模式正面図である。
なお、図１においては、煩雑となるのを避けるために、カセット５０を１つのみ描いている。
図２は、図１における加熱処理装置１のＡ－Ａ線方向の模式断面図である。
なお、図２においては、煩雑となるのを避けるために、カセット５０を省いて描いている。
図３は、チャンバ１０、およびカセットラック６０の模式斜視図である。
なお、各図中のＸ方向、Ｙ方向、およびＺ方向は、互いに直交する三方向を表している。例えば、Ｘ方向、およびＹ方向は、水平方向である。例えば、Ｚ方向は、上下方向（鉛直方向）である。

【0014】

図１、および図２に示すように、加熱処理装置１には、例えば、チャンバ１０、排気部２０、加熱部３０、冷却部４０、カセット５０、カセットラック６０、およびコントローラ７０が設けられている。

【0015】

コントローラ７０は、例えば、ＣＰＵ（Central Processing Unit）などの演算部と、メモリなどの記憶部とを備えている。コントローラ７０は、例えば、コンピュータなどである。コントローラ７０は、例えば、記憶部に格納されている制御プログラムに基づいて、加熱処理装置１に設けられた各要素の動作を制御する。

【0016】

図１～図３に示すように、チャンバ１０は、箱状を呈している。チャンバ１０は、大気圧よりも減圧された雰囲気を維持可能な気密構造を有している。チャンバ１０の外観形状には特に限定はない。チャンバ１０の外観形状は、例えば、直方体や円筒とすることができる。チャンバ１０は、例えば、ステンレスなどの金属から形成される。

【0017】

例えば、Ｙ方向におけるチャンバ１０の両端には開口が設けられている。Ｙ方向におけるチャンバ１０の一方の端部には、フランジ１１が設けられている。フランジ１１には、Ｏリングなどのシール材１２が設けられている。チャンバ１０の、フランジ１１が設けられた側には開閉扉１３が設けられている。開閉扉１３を閉めた際には、シール材１２により、チャンバ１０の開口が気密になるように閉鎖される。開閉扉１３を開けた際には、チャンバ１０の開口を介した、カセット５０の内部へのワーク１００の搬入または搬出を行うことができる。すなわち、チャンバ１０の内部にはワーク１００が収納される。

【0018】

例えば、Ｙ方向におけるチャンバ１０の他方の端部には、フランジ１４が設けられている。フランジ１４には、シール材１２が設けられている。チャンバ１０の、フランジ１４が設けられた側には蓋１５が設けられている。例えば、蓋１５は、ネジなどの締結部材を用いて、フランジ１４に着脱可能に設けられる。蓋１５を取り付けた際には、シール材１２により、チャンバ１０の開口が気密になるように閉鎖される。着脱可能な蓋１５が設けられていれば、加熱処理装置１の、フランジ１４が設けられた側からのメンテナンスが容易となる。また、メンテナンスのために蓋１５を開けた際には、ワーク１００を加熱する処理空間を有するカセット５０が、チャンバ１０の開口を介して、チャンバ１０の内部に搬入される。または、カセット５０が、チャンバ１０の開口を介して、チャンバ１０の外部に搬出される。

【0019】

また、チャンバ１０の外壁には図示しない冷却装置を設けることができる。冷却装置は、例えば、ウォータージャケット（Water Jacket）とすることができる。冷却装置が設けられていれば、チャンバ１０の外壁温度が所定の温度よりも高くなるのを抑制することができる。

【0020】

排気部２０は、チャンバ１０の内部を排気する。
図１に示すように、排気部２０は、第１の排気部２１、および第２の排気部２２を有する。第１の排気部２１、および第２の排気部２２は、チャンバ１０の底面に設けられた排気口１６に接続されている。

【0021】

第１の排気部２１は、排気ポンプ２１ａと、圧力制御部２１ｂを有する。
排気ポンプ２１ａは、大気圧から所定の圧力まで粗引き排気を行う排気ポンプとすることができる。そのため、排気ポンプ２１ａは、後述する排気ポンプ２２ａよりも排気量が多い。排気ポンプ２１ａは、例えば、ドライ真空ポンプなどとすることができる。

【0022】

圧力制御部２１ｂは、排気口１６と排気ポンプ２１ａとの間に設けられている。圧力制御部２１ｂは、チャンバ１０の内圧を検出する図示しない真空計などの出力に基づいて、チャンバ１０の内圧が所定の圧力となるように制御する。圧力制御部２１ｂは、例えば、ＡＰＣ（Auto Pressure Controller）などとすることができる。

【0023】

第２の排気部２２は、排気ポンプ２２ａと、圧力制御部２２ｂを有する。
排気ポンプ２２ａは、排気ポンプ２１ａによる粗引き排気の後、さらに低い所定の圧力まで排気を行う。排気ポンプ２２ａは、例えば、高真空の分子流領域まで排気可能な排気能力を有する。例えば、排気ポンプ２２ａは、ターボ分子ポンプ（ＴＭＰ：Turbo Molecular Pump）などとすることができる。

【0024】

圧力制御部２２ｂは、排気口１６と排気ポンプ２２ａとの間に設けられている。圧力制御部２２ｂは、チャンバ１０の内圧を検出する図示しない真空計などの出力に基づいて、チャンバ１０の内圧が所定の圧力となるように制御する。圧力制御部２２ｂは、例えば、ＡＰＣなどとすることができる。

【0025】

チャンバ１０の内部空間の圧力が減圧されれば、チャンバ１０の外部に放出される熱を少なくすることができる。そのため、加熱効率と蓄熱効率を向上させることができるので、後述するヒータ３３に印加する電力を低減できる。ヒータ３３に印加する電力を低減できれば、ヒータ３３の負荷が高くなるのを抑制できる。そのため、ヒータ３３の寿命を長くすることができる。

【0026】

加熱部３０は、例えば、第１の加熱部３１、および第２の加熱部３２を有する。第１の加熱部３１、および第２の加熱部３２は、チャンバ１０の内部に設けられている。
第１の加熱部３１は、カセット５０の上方に設けられている。
第２の加熱部３２は、カセット５０の下方に設けられている。第２の加熱部３２は、第１の加熱部３１と対向している。

【0027】

後述するように、カセット５０の内部にはワーク１００が支持される。そのため、第１の加熱部３１は、カセット５０の内部に支持されたワーク１００の表面（上面）を加熱する。第２の加熱部３２は、カセット５０の内部に支持されたワーク１００の裏面（下面）を加熱する。

【0028】

図１に示すように、チャンバ１０の内部において、複数のカセット５０が、Ｚ方向（鉛直方向）に並べて設けられている場合には、上側のカセット５０の下方に設けられた第２の加熱部３２を、下側のカセット５０の上方に設けられた第１の加熱部３１とすることができる。すなわち、カセット５０とカセット５０との間に設けられた第１の加熱部３１または第２の加熱部３２は、兼用することができる。
なお、便宜上、一つのカセット５０に着目したときに、そのカセット５０から見て上側を第１の加熱部３１、下側を第２の加熱部３２としているが、全てのカセット５０の上下のそれぞれに加熱部（ヒータ３３）が設けられる。

【0029】

この場合、上側のカセット５０の内部に支持されたワーク１００の裏面は、兼用される第１の加熱部３１または第２の加熱部３２により加熱される。下側のカセット５０の内部に支持されたワーク１００の表面は、兼用される第１の加熱部３１または第２の加熱部３２により加熱される。
この様にすれば、第１の加熱部３１または第２の加熱部３２の数を減らすことができる。そのため、消費電力の低減、製造コストの低減、省スペース化などを図ることができる。

【0030】

第１の加熱部３１、および第２の加熱部３２は、例えば、ヒータ３３、支持部３４（第１の支持部の一例に相当する）、および保持部３５を有する。ヒータ３３は、少なくとも１つ設けられている。支持部３４は、例えば、１つのヒータ３３に対して１つ、または、複数のヒータ３３に対して１つ設けられている。保持部３５は、例えば、１つのヒータ３３に対して１つ、または、複数のヒータ３３に対して１つ設けられている。

【0031】

図１、および図２に例示をした第１の加熱部３１、および第２の加熱部３２のそれぞれは、複数のヒータ３３を有している。複数のヒータ３３は、例えば、Ｘ方向に延び、Ｙ方向に並んでいる。なお、複数のヒータ３３は、Ｙ方向に延び、Ｘ方向に並んでいてもよい。すなわち、複数のヒータ３３は、ヒータ３３の中心軸と交差する方向に並んでいる。複数のヒータ３３は、等間隔に並べてもよいし、ワーク１００の温度の面内分布などに応じて間隔を変化させてもよい。また、第２の加熱部３２に設けられるヒータ３３の仕様、数、間隔などは、第１の加熱部３１に設けられるヒータ３３の仕様、数、間隔などと同じであってもよいし、異なっていてもよい。ヒータ３３の仕様、数、間隔などは、加熱する溶液の組成（溶液の加熱温度）、ワーク１００の大きさなどに応じて適宜変更することができる。ヒータ３３の仕様、数、間隔などは、シミュレーションや実験などを行うことで適宜決定することができる。

【0032】

ヒータ３３は、一方向に延びる棒状のヒータとすることができる。ヒータ３３は、棒状のヒータであれば特に限定はない。ヒータ３３は、例えば、シーズヒータ、セラミックヒータ、カートリッジヒータなどとすることができる。ヒータ３３は、例えば、石英カバーを有するものであってもよい。
なお、本明細書においては、石英カバーで覆われたヒータをも含めて「棒状のヒータ」と称する。また、「棒状」の外観形状には限定がなく、例えば、円柱状や角柱状などとすることができる。

【0033】

また、ヒータ３３は、大気圧よりも減圧された雰囲気においてワーク１００を加熱できれば、前述したものに限定されない。すなわち、ヒータ３３は、棒状を呈し、放射による熱エネルギーを利用するものであればよい。

【0034】

後述する図５に示すように、ヒータ３３の、端子３３ａ側の端部の近傍は、チャンバ１０の外側において、保持部３５により着脱可能に保持されている。
ヒータ３３の、端子３３ａ側とは反対側の端部の近傍は、チャンバ１０の内部において、支持部３４により支持されている。
なお、保持部３５によるヒータ３３の保持、および、支持部３４によるヒータ３３の支持に関する詳細は後述する。

【0035】

冷却部４０は、後述するカセット５０に設けられた冷却部５７と協働してカセット５０に冷却ガスを供給する。後述する様に、カセット５０に供給された冷却ガスは、カセット５０の内部に支持されているワーク１００に供給される。また、カセット５０に供給された冷却ガスは、後述するカセット５０の均熱板（上部均熱板５２、下部均熱板５３、側部均熱板５４、側部均熱板５５）にも供給される。

【0036】

冷却ガスがワーク１００に供給されることで、高温状態にあるワーク１００が直接冷却される。また、ワーク１００に供給された冷却ガスがカセット５０の均熱板に供給されることで、カセット５０も冷却される。カセット５０が冷却されることで、カセット５０の熱がワーク１００に伝わるのを抑制することができる。そのため、ワーク１００がカセット５０によって間接的に冷却される。

【0037】

冷却部４０が設けられていれば、ワーク１００の冷却時間を短縮することができる。また、ワーク１００の冷却の際に、カセット５０からの熱で、ワーク１００の面内において温度分布のばらつきが生じるのを抑制することができる。

【0038】

冷却部４０は、例えば、ジョイント４１、ガス源４２、およびガス制御部４３を有する。ジョイント４１、ガス源４２、およびガス制御部４３は、配管４４により接続されている。

【0039】

ジョイント４１は、例えば、カセット５０に設けられた冷却部５７の、図示しないジョイントに、着脱自在に接続される。
ガス源４２は、ガス制御部４３を介して、カセット５０の冷却部５７に冷却ガスを供給する。ガス源４２は、例えば、高圧ガスボンベ、工場配管などとすることができる。
冷却ガスは、加熱されたワーク１００と反応し難いガスであれば特に限定がない。冷却ガスは、例えば、窒素ガス、希ガスなどである。希ガスは、例えば、アルゴンガスやヘリウムガスなどである。冷却ガスの温度は、例えば、室温（例えば、２５℃）以下とすることができる。

【0040】

ガス制御部４３は、ジョイント４１とガス源４２との間に設けられている。ガス制御部４３は、例えば、冷却ガスの供給と、供給の停止と、冷却ガスの流速および流量の少なくともいずれかの制御と、を行うことができる。

【0041】

図１に示すように、カセット５０は、チャンバ１０の内部に設けられたカセットラック６０の、一対の受け部材６２に着脱自在に設けられる。この場合、カセット５０は、第１の加熱部３１と第２の加熱部３２との間に着脱自在に設けられる。

【0042】

図４は、カセット５０を例示するための模式斜視図である。
図４に示すように、カセット５０は、箱状を呈し、内部にワーク１００が支持される処理空間を有している。カセット５０の外観形状には特に限定はない。カセット５０の外観形状は、例えば、直方体とすることができる。

【0043】

カセット５０は、例えば、カセットフレーム５１、上部均熱板５２、下部均熱板５３、側部均熱板５４、側部均熱板５５、ワーク支持部５６、冷却部５７、および、カセット支持部５８を有する。

【0044】

カセットフレーム５１は、ワーク１００を加熱する処理空間を画する。本実施の形態においては、カセットフレーム５１は、上部均熱板５２、下部均熱板５３、側部均熱板５４、および側部均熱板５５により囲まれた空間を画する。カセットフレーム５１は、例えば、細長い板材や形鋼などを用いた骨組み構造を有する。または、カセットフレーム５１は、板金加工などで形成された枠体などであってもよい。カセットフレーム５１の外観形状には特に限定はない。カセットフレーム５１の外観形状は、例えば、直方体である。

【0045】

上部均熱板５２は、板状を呈し、カセットフレーム５１の上部に設けられる。上部均熱板５２は、カセットフレーム５１の上部に着脱自在に設けることができる。上部均熱板５２は、少なくとも１つ設けることができる。図４に例示をしたカセット５０には７個の上部均熱板５２が設けられている。上部均熱板５２の平面形状は、例えば、四角形とすることができる。上部均熱板５２の数と平面形状は、カセットフレーム５１の上部の大きさと形状に応じて適宜変更することができる。

【0046】

下部均熱板５３は、板状を呈し、カセットフレーム５１の下部に設けられる。下部均熱板５３は、上部均熱板５２と同様に、カセットフレーム５１の下部に着脱自在に設けることができる。下部均熱板５３は、上部均熱板５２と対向している。下部均熱板５３は、少なくとも１つ設けることができる。下部均熱板５３の数と平面形状は、上部均熱板５２の数と平面形状と同じとすることもできるし、異なるものとすることもできる。

【0047】

側部均熱板５４は、板状を呈している。側部均熱板５４は、一対設けることができる。一方の側部均熱板５４は、例えば、カセットフレーム５１の、互いに対向する一方の側部に設けられる。

【0048】

ワーク１００は、カセットフレーム５１の側部に設けられた開口を介して、カセット５０の内部に搬入される。あるいは、ワーク１００は、カセットフレーム５１の側部に設けられた開口を介して、カセット５０の内部から搬出される。そのため、カセットフレーム５１の、側部均熱板５４が設けられる側部とは反対側の側部は、開口している。

【0049】

カセットフレーム５１の開口は、他方の側部均熱板５４により開閉される。例えば、前述したチャンバ１０の開閉扉１３に側部均熱板５４を設け、開閉扉１３が閉じた際にカセットフレーム５１の開口が側部均熱板５４により閉鎖される様にすることができる。また、カセットフレーム５１の側部に開閉自在に側部均熱板５４を設け、開閉自在な側部均熱板５４により、カセットフレーム５１の開口が閉鎖される様にすることもできる。

【0050】

側部均熱板５５は、板状を呈しカセットフレーム５１の内部に一対設けられる。一対の側部均熱板５５は、互いに対向し、一対の側部均熱板５４の間を延びている。一対の側部均熱板５５の一方は、カセットフレーム５１の、一方の側部の近傍に設けられる。一対の側部均熱板５５の他方は、カセットフレーム５１の、他方の側部の近傍に設けられる。

【0051】

上部均熱板５２、下部均熱板５３、側部均熱板５４、および側部均熱板５５により囲まれた空間が、ワーク１００を加熱する処理空間となる。カセット５０の内部の処理空間と、チャンバ１０の内部空間とは、例えば、均熱板同士の間の隙間（均熱板間に存在するカセットの梁と均熱板との隙間）などを介して繋がっている。そのため、チャンバ１０の内部空間の圧力が減圧されると、カセット５０の内部の空間の圧力も減圧される。

【0052】

ここで、前述したように、棒状を呈する複数のヒータ３３は、所定の間隔を空けて並べて設けられている。ヒータ３３が棒状である場合、ヒータ３３の中心軸を中心として放射状に熱が放射される。そのため、ヒータ３３の中心軸と、ワーク１００の加熱される部分との間の距離が短くなるほど加熱される部分の温度が高くなる。すなわち、棒状を呈する複数のヒータ３３を用いてワーク１００を直接加熱すると、加熱されたワーク１００の面内において温度分布にばらつきが生じる。

【0053】

ワーク１００の面内において温度分布にばらつきが生じると、形成された有機膜の品質が低下するおそれがある。例えば、温度が高くなった部分において、泡が発生したり、有機膜の組成が変化したりするおそれがある。

【0054】

上部均熱板５２、および下部均熱板５３が設けられていれば、複数のヒータ３３から放射された熱は、上部均熱板５２および下部均熱板５３に入射する。上部均熱板５２および下部均熱板５３に入射した熱は、これらの内部を面方向に伝搬しながらワーク１００に向けて放射される。そのため、ワーク１００の面内において温度分布にばらつきが生じるのを抑制することができる。その結果、形成される有機膜の品質を向上させることができる。

【0055】

上部均熱板５２、下部均熱板５３、および側部均熱板５４、５５は、例えば、アルミニウム、銅、ステンレスなどの金属から形成することができる。

【0056】

ワーク支持部５６は、カセット５０の内部に複数設けられている。複数のワーク支持部５６は、ワーク１００を加熱する処理空間においてワーク１００の裏面を支持する。複数のワーク支持部５６は、ワーク１００が、上部均熱板５２および下部均熱板５３と対向するようにワーク１００を支持する。

【0057】

ワーク支持部５６は、棒状体とすることができる。ワーク支持部５６は、例えば、ステンレスなどから形成される。ワーク支持部５６の数、配置、間隔などは、ワーク１００の大きさや剛性（撓み）などに応じて適宜変更することができる。

【0058】

冷却部５７は、前述した冷却部４０から供給される冷却ガスをカセット５０内のワーク１００に供給する。冷却部５７は、例えば、カセットフレーム５１の側面に設けることができる。

【0059】

冷却部５７は、例えば、いずれも図示しない配管、ノズル、およびジョイントを有する。配管は、前述した冷却部４０から供給された冷却ガスをノズルに供給する。配管は、例えば、カセット５０（カセットフレーム５１）の外部に設けられる。配管は、少なくとも１つ設けることができる。また、配管の先端を分岐させて、複数の先端を有するようにしてもよい。

【0060】

ノズルは、カセット５０（カセットフレーム５１）の内部に設けられる。ノズルは、例えば、配管の先端に取り付けられる。例えば、ノズルは、カセット５０の処理空間に支持されたワーク１００の裏面に冷却ガスを供給する。ノズルは、少なくとも１つ設けることができる。
ジョイントは、前述した冷却部４０と配管とを着脱自在に接続する。

【0061】

カセット支持部５８は、カセットフレーム５１の、側部均熱板５４が設けられる側面と交差する側面に設けられている。カセット支持部５８は、一対設けられている。カセット支持部５８は、カセットフレーム５１の側面から外部に向けて突出し、側部均熱板５４が設けられる側面と直交する方向に延びている。

【0062】

カセット支持部５８は、カセット５０の、互いに対向する一対の側面のそれぞれに設けられる。カセット支持部５８は、後述するカセットラック６０の受け部材６２に支持される。すなわち、カセット５０は、カセット支持部５８、および受け部材６２により、チャンバ１０（カセットラック６０）の内部に着脱自在に設けられる。カセット５０がチャンバ１０の内部に着脱自在に設けられていれば、メンテナンスの容易化を図ることができる。

【0063】

カセットラック６０は、チャンバ１０の内部に設けられている。カセットラック６０は、ヒータ３３およびカセット５０をチャンバ１０の内部において、所定の位置に保持する。

【0064】

カセットラック６０は、フレーム６１、受け部材６２、および反射板６３を有する。
フレーム６１は、例えば、細長い部材を用いて構成された骨組み構造を有している。フレーム６１の外観形状には特に限定はない。フレーム６１の外観形状は、例えば、直方体や円筒とすることができる。

【0065】

フレーム６１の内部には、少なくとも一対の受け部材６２が設けられている（図３参照）。一対の受け部材６２は、チャンバ１０の内部において、カセット５０のカセット支持部５８を支持する。Ｚ方向において、一対の受け部材６２は、第１の加熱部３１と第２の加熱部３２との間に設けられる。一対の受け部材６２の上には、１つのカセット５０が載置される。そのため、一対の受け部材６２は、カセット５０毎に設けられる。例えば、フレーム６１の内部に１４個のカセット５０を収納可能とする場合には、一対の受け部材６２がフレーム６１の内部に１４組設けられる。

【0066】

一対の受け部材６２のそれぞれは、例えば、Ｘ方向において、フレーム６１の、互いに対向する内壁に設けられる。一対の受け部材６２は、Ｙ方向に延びている。一対の受け部材６２を複数組設ける場合には、一対の受け部材６２をＺ方向に並べて設けることができる。

【0067】

反射板６３は、ヒータ３３側から入射した熱を、カセット５０側に反射する。反射板６３が設けられていれば、カセット５０の内部空間（処理空間）における蓄熱性を向上させることができる。反射板６３は、板状を呈し、フレーム６１の外周に設けられる。なお、煩雑さを避けるため、図１および図２には反射板６３は描かれていない。また、図３において、フレーム６１の、受け部材６２が取り付けられた側面に取り付けられる反射板６３のみを描いている。

【0068】

次に、保持部３５によるヒータ３３の保持、および、支持部３４によるヒータ３３の支持についてさらに説明する。
図５は、保持部３５によるヒータ３３の保持を例示するための模式斜視図である。
図５に示すように、保持部３５は、例えば、ネジなどの締結部材を用いて、チャンバ１０の外側面に設けることができる。保持部３５は、ヒータ３３の、端子３３ａ側の端部の近傍を、着脱自在に保持する。保持部３５は、例えば、挿入されたヒータ３３を締め付ける割締め機構を有する。保持部３５により、ヒータ３３の、端子３３ａ側の端部の近傍を保持した際には、ヒータ３３の端子３３ａがチャンバ１０の外側に露出する様になっている。

【0069】

ヒータ３３の端子３３ａがチャンバ１０の外側に露出していれば、ヒータ３３のメンテナンスが容易となる。また、ワーク１００に電力を印加する際に、ヒータ３３の端子３３ａにおいて、真空放電が生じるのを抑制することができる。

【0070】

保持部３５は、例えば、１つのヒータ３３に対して１つ、または、複数のヒータ３３に対して１つ設けられている。図５に例示をした保持部３５は、１つのヒータ３３に対して１つ設けられている。

【0071】

図６は、比較例に係る支持部１３４によるヒータ３３の支持を例示するための模式斜視図である。
図６に示すように、支持部１３４は、ヒータ３３の下方に設けられている。支持部１３４は、取付プレート１３４ａ、プレート１３４ｂ、および支持プレート１３４ｃを有する。

【0072】

取付プレート１３４ａは、カセットラック６０のフレーム６１に設けられている。
プレート１３４ｂは、Ｘ方向において、取付プレート１３４ａと支持プレート１３４ｃとの間に設けられている。

【0073】

支持プレート１３４ｃは、厚み方向を貫通し、ヒータ３３を挿入可能な切欠き１３４ｃ１を有する。切欠き１３４ｃ１は、Ｕ字状の孔とすることができる。

【0074】

ヒータ３３を切欠き１３４ｃ１の内部に挿入した際には、Ｚ方向における切欠き１３４ｃ１の内壁（切欠き１３４ｃ１の下側の内壁）にヒータ３３が接触する。そのため、ヒータ３３の、端子３３ａ側とは反対側の端部の近傍が、支持部１３４により支持される。

【0075】

ここで、ヒータ３３への電力の印加時（ＯＮ時）には、発生した熱によりヒータ３３が加熱されるので、熱膨張によりヒータ３３が主に中心軸に沿った方向に伸びる。また、ヒータ３３への電力の印加の停止時（ＯＦＦ時）には、加熱されたヒータ３３が冷却されるので、ヒータ３３が中心軸に沿った方向に縮む。すなわち、ヒータ３３への電力の印加時（ＯＮ時）、または、ヒータ３３への電力の印加の停止時（ＯＦＦ時）には、ヒータ３３が中心軸に沿った方向に伸縮する。なお、ヒータ３３の端子３３ａ側の一端は保持部３５により固定されているため、ヒータ３３の熱膨張による伸縮は、端子３３ａ側の一端が起点となる。

【0076】

この場合、ヒータ３３の、端子３３ａ側とは反対側の端部の近傍は、重力により、切欠き１３４ｃ１の下側の内壁に載置されているだけであるため、ヒータ３３が中心軸に沿った方向に伸縮したとしても、ヒータ３３が拘束されることが無い。そのため、ヒータ３３が中心軸に沿った方向に伸縮した際に、ヒータ３３が変形するのを抑制することができる。

【0077】

ところが、重力により、ヒータ３３が切欠き１３４ｃ１の下側の内壁に載置されていると、ヒータ３３が中心軸に沿った方向に伸縮した際に、ヒータ３３と切欠き１３４ｃ１の内壁とが擦れることになる。ヒータ３３と切欠き１３４ｃ１の内壁とが擦れると、パーティクルが発生する場合がある。発生したパーティクルがワーク１００に付着すると、ワーク１００の品質が低下するおそれがある。

【0078】

図７は、本実施の形態に係る支持部３４によるヒータ３３の支持を例示するための模式図である。
図８は、支持部３４を例示するための模式斜視図である。
図７、および図８に示すように、支持部３４は、ガイド部３４ａ、および回動部３４ｂを有する。
ガイド部３４ａは、ヒータ３３の下方に設けられている。ガイド部３４ａは、例えば、取付プレート３４ａ１、プレート３４ａ２（第１のプレートの一例に相当する）、およびガイドプレート３４ａ３を有する。取付プレート３４ａ１、プレート３４ａ２、およびガイドプレート３４ａ３は、例えば、板材を折り曲げることで一体に形成することができる。

【0079】

取付プレート３４ａ１は、カセットラック６０のフレーム６１に設けられている。
プレート３４ａ２は、Ｘ方向において、取付プレート３４ａ１とガイドプレート３４ａ３との間に設けられている。Ｘ方向におけるプレート３４ａ１の一方の端部は、Ｚ方向における取付プレート３４ａ１の上側の端部に接続されている。Ｘ方向におけるプレート３４ａ２の他方の端部は、Ｚ方向におけるガイドプレート３４ａ３の下側の端部に接続されている。
また、プレート３４ａ２は、ヒータ３３の下方に所定の間隔を空けて設けられている。例えば、プレート３４ａ２は、ヒータ３３と対向し、ヒータ３３と平行となるように設けることができる。

【0080】

ガイドプレート３４ａ３は、Ｘ方向およびＺ方向において、取付プレート３４ａ１とは異なる位置に設けられている。この場合、ガイドプレート３４ａ３は、取付プレート３４ａ１よりも上側に設けられている。ガイドプレート３４ａ３は、Ｙ方向において、取付プレート３４ａ１と同じ位置に設けられている。ガイドプレート３４ａ３は、取付プレート３４ａ１と平行となるように設けられている。

【0081】

ガイドプレート３４ａ３は、厚み方向を貫通し、ヒータ３３を挿入可能な切欠き３４ａ３ａを有する。切欠き３４ａ３ａは、Ｚ方向におけるガイドプレート３４ａ３の上側の端部に開口している。切欠き３４ａ３ａは、Ｕ字状の切欠きとすることができる。

【0082】

図８に示すように、ヒータ３３を切欠き３４ａ３ａの内部に挿入した際には、切欠き３４ａ３ａの内壁と、ヒータ３３との間に隙間が設けられる。ガイド部３４ａ（ガイドプレート３４ａ３）は、Ｙ方向におけるヒータ３３の位置がズレるのを抑制するが、支持部１３４（支持プレート１３４ｃ）のようにヒータ３３を支持しているわけではない。

【0083】

回動部３４ｂは、ガイド部３４ａのプレート３４ａ２と、ヒータ３３との間に設けられている。回動部３４ｂは、ヒータ３３とプレート３４ａ２と接触する。回動部３４ｂがヒータ３３と接触した状態では、Ｚ方向におけるガイドプレート３４ａ３の切欠き３４ａ３ａの内壁（切欠き３４ａ３ａの下側の内壁）と、ヒータ３３とは接触しない。Ｙ方向におけるガイドプレート３４ａ３の切欠き３４ａ３ａの一方の内壁（切欠き３４ａ３ａの一方の側壁）と、ヒータ３３とは接触する場合がある。しかしながら、ヒータ３３は、重力により、切欠き３４ａ３ａの側壁に押し付けられるわけではない。
支持部３４（回動部３４ｂ）の作用については後述する。

【0084】

また、回動部３４ｂは、ヒータ３３と接触した状態で、ヒータ３３の伸縮に応じて（追従して）、ヒータ３３の中心軸に沿った方向（Ｘ方向）に移動可能となっている。回動部３４ｂは、例えば、円柱状（中実）、または円筒状（中空）を呈し、ヒータ３３の中心軸と交差する方向に延びている。

【0085】

回動部３４ｂは、ヒータ３３に接触するので、耐熱性を有する材料から形成される。また、回動部３４ｂは、ヒータ３３が延びる方向に移動可能となっているので、移動してもパーティクルが発生しにくい材料から形成することが好ましい。回動部３４ｂは、例えば、ステンレスなどの金属から形成することができる。

【0086】

次に、支持部３４の作用について説明する。
図９は、支持部３４の作用を例示するための模式図である。
図９において実線で示すように、ヒータ３３への電力の印加時（ＯＮ時）には、発生した熱によりヒータ３３が加熱されるので、ヒータ３３が中心軸に沿った方向に伸びる。
図９において一点鎖線で示すように、ヒータ３３への電力の印加の停止時（ＯＦＦ時）には、加熱されたヒータ３３が冷却されるので、ヒータ３３が中心軸に沿った方向に縮む。

【0087】

前述した様に、回動部３４ｂは、ヒータ３３を支持した状態で移動が可能となっている。そのため、図９に示すように、回動部３４ｂは、ヒータ３３の中心軸に沿った方向の伸縮に応じて移動する。この場合、回動部３４ｂは、回転移動するので、回動部３４ｂとヒータ３３との間、回動部３４ｂとプレート３４ａ２との間に擦れが生じるのを抑制することができる。

【0088】

また、回動部３４ｂがヒータ３３を支持するので、前述した様に、ガイドプレート３４ａ３の切欠き３４ａ３ａの下側の内壁と、ヒータ３３とは接触しない。そのため、ヒータ３３が中心軸に沿った方向の伸縮した際に、切欠き３４ａ３ａの下側の内壁と、ヒータ３３との間に擦れが生じることがない。

【0089】

回動部３４ｂとヒータ３３との間、回動部３４ｂとプレート３４ａ２との間、および、切欠き３４ａ３ａの下側の内壁と、ヒータ３３との間に擦れが生じ無ければ、パーティクルが発生するのを抑制することができる。

【0090】

なお、前述した様に、ガイドプレート３４ａ３の切欠き３４ａ３ａの一方の側壁と、ヒータ３３とは接触し得るが、ヒータ３３は、切欠き３４ａ３ａの側壁に押し付けられるわけではない。そのため、ヒータ３３と、切欠き３４ａ３ａの側壁との間に擦れが生じたとしても、パーティクルの発生量は大幅に少なくなる。

【0091】

そのため、本実施の形態に係る支持部３４とすれば、ヒータ３３のＯＮ／ＯＦＦ時に、ヒータ３３が中心軸に沿った方向に伸縮したとしても、パーティクルが発生するのを抑制することができる。

【0092】

また、回動部３４ｂが円筒状（中空）であれば、回動部３４ｂの軽量化を図ることができる。回動部３４ｂの軽量化を図ることができれば、回動部３４ｂの取り付けや取り外しが容易となったり、回動部３４ｂの回転移動が容易となったりする。

【0093】

また、回動部３４ｂ直径寸法を小さくすれば、回動部３４ｂの回転移動が容易となる。例えば、回動部３４ｂ直径寸法は、ヒータ３３の直径寸法と同等か、それよりも小さくすることができる。この様にすれば、回動部３４ｂが回転移動するために必要になる力が小さくてすむため、回動部３４ｂの回転移動をさらに容易とすることができる。小さい力で回動部３４ｂが回転移動できると、ヒータ３３の伸びに応じて回動部３４ｂがスムーズに追従して移動するため、ヒータ３３と回動部３４ｂとがこすれ合うことをより確実に防止できる。

【0094】

回動部３４ｂは、１つのヒータ３３に対して１つ設けることもできるし、複数のヒータ３３に対して１つ設けることもできる。この場合、回動部３４ｂが、複数のヒータ３３に対して１つ設けられていれば、ヒータ３３の中心軸に沿った方向と交差する方向に回動部３４ｂが移動するのを抑制することができる。回動部３４ｂが、ヒータ３３の中心軸に沿った方向と交差する方向に移動しなければ、回動部３４ｂとヒータ３３との間、および回動部３４ｂとプレート３４ａ２との間の擦れが生じるのを抑制することができる。

【0095】

例えば、ヒータ３３の中心軸に交差する方向における、回動部３４ｂの長さ（回動部３４ｂの軸方向の長さ）は、３つ以上のヒータ３３と接触する長さとすることができる。この様にすれば、ヒータ３３の中心軸に沿った方向と交差する方向に回動部３４ｂが移動するのを効果的に抑制することができる。
ここで、回動部３４ｂに対してヒータ３３の中心軸に沿った方向と交差する方向に力が働くと、回動部３４ｂの中心軸は次第にヒータ３３の中心軸と直交する方向から大幅にずれてしまう。回動部３４ｂの中心軸がヒータ３３の中心軸と直交する方向から大幅にずれると、ヒータ３３と回動部３４ｂとの接触面積が大きくなり、両者がこすれ合う面積が大きくなってしまい、パーティクルが生じる原因となる。
そのため、回動部３４ｂの長さを３つ以上のヒータ３３と接触する長さとすれば、回動部３４ｂの上に３つ分以上のヒータ３３の荷重をかけることができる。そのため、回動部３４ｂの長手方向の中央から外れた部分において、中央部分よりも荷重がかかるのを防止できるので、ヒータ３３の中心軸に沿った方向と交差する方向に力が働くことを防止することができる。

【0096】

また、ヒータ３３の中心軸に交差する方向における、回動部３４ｂの長さ（回動部３４ｂの軸方向の長さ）は、ヒータ３３の伸び量の２０倍以上の長さとすることができる。例えば、ヒータ３３の伸び量が２０ｍｍ程度の場合には、回動部３４ｂの軸方向の長さは、４００ｍｍ以上とすることができる。回動部３４ｂの軸方向の長さをこの様にすれば、ヒータ３３の中心軸に沿った方向と交差する方向に回動部３４ｂが移動するのを効果的に抑制することができる。この場合にも、回動部３４ｂの中心軸がヒータ３３の中心軸と直交する方向から大幅にずれることを防止することができるので、パーティクルの発生をより効果的に防止することができる。

【0097】

なお、図８に示すように、カセットフレーム６１と取付プレート３４ａ１との間に遮熱板６５を設けることができる。遮熱板６５は、ヒータ３３の熱がチャンバ１０の外部へ伝わるのを妨げ、チャンバ１０内における加熱効率と蓄熱効率を向上させるために設けられる。図９に示すように、遮熱板６５にも切欠きが設けられている。遮熱板６５に切欠きが設けられていれば、ヒータ３３が膨張して、ヒータ３３の端部が遮熱板６５の位置まで到達した場合に、ヒータ３３の端部と遮熱板６５とがこすれ合ってパーティクルが発生するのを防止することができる。後述するとおり、ヒータ３３の端部は非加熱領域となるので、遮熱板６５に切欠きが設けられていても、ヒータ３３の、回動部３４より内側部分から放射的にフレーム６１に向かって拡がる熱を十分に遮熱することができる。

【0098】

ここで、例えば、ワーク１００の端部の近傍は、ワーク１００の中央よりも熱が外部に逃げやすい。そのため、ワーク１００の面内温度のバラツキを小さくするために、ワーク１００の温度制御（ヒータ３３の制御）を複数の領域に分けて行う場合がある。例えばワーク１００の両端部近傍の２つの領域と、ワーク１００の中央の１つの領域の、３つの領域に分けてヒータ３３の制御を行うと、領域毎にヒータ３３の温度設定やＯＮ／ＯＦＦのタイミングが異なる場合がある。例えば、熱が外部に逃げやすい両端部の２つの領域は中央の領域よりも温度設定を高くすることが考えられる。領域毎にヒータ３３の温度設定が異なると、領域毎にヒータ３３の伸縮量が異なる場合がある。ワーク１００の面内温度を均一に加熱するためにヒータ３３の温度設定やＯＮ／ＯＦＦのタイミングを制御するため、結果として周辺の温度も均一となり、ヒータ３３の膨張も概ね同じスピードとなることが考えられるが、正確にはこれらの温度制御によって領域毎にヒータの伸縮量が異なってしまうことがある。あるいは、熱が外部へ逃げやすい両端部の２つの領域においてヒータ３３同士の間隔を中央の領域よりも密にすることが考えられる。そうすると、回動部３４ｂのＹ方向の位置によって支持するヒータ３３の本数が変わり、回動部３４ｂの回転移動の容易さに差異が生じることがある。

【0099】

この場合、ワーク１００の温度制御（ヒータ３３の制御）を行う複数の領域に対して１つの回動部３４ｂを設けたり、複数の領域を跨いで１つの回動部３４ｂを設けたりすると、回動部３４ｂとヒータ３３との間、および回動部３４ｂとプレート３４ａ２との間の擦れが生じる場合がある。擦れが生じると、パーティクルが発生する。あるいは支持するヒータ３３の本数が異なる場合には、多くのヒータ３３を支持している領域とそうでない領域とで回動部３４ｂの回転移動の容易さが異なるため、先に述べたような回動部３４ｂの中心軸がヒータ３３の中心軸と直交する方向から大幅にずれてしまうことがある。そうすると、ヒータ３３と回動部３４ｂとの接触面積が増大し、両者がこすれ合う面積が大きくなるため、パーティクルが生じる原因となる。

【0100】

そこで、回動部３４ｂは、例えば、ワーク１００の温度制御（ヒータ３３の制御）を行う複数の領域のそれぞれに対して、１つ設けることが好ましい。ワーク１００の温度制御（ヒータ３３の制御）を行う１つの領域においては、ヒータ３３の伸縮量がほぼ同じとなる。そのため、回動部３４ｂが、ワーク１００の温度制御（ヒータ３３の制御）を行う複数の領域のそれぞれに対して、１つ設けられていれば、ヒータ３３の伸縮量の違いに起因する擦れ、ひいてはパーティクルの発生を抑制することができる。

【0101】

すなわち、複数のヒータ３３の温度制御が、ワーク１００における複数の領域毎に行われる場合には、回動部３４ｂは、複数の領域のそれぞれに１つ設けることが好ましい。
例えば、ワーク１００の温度制御（ヒータ３３の制御）を複数の領域に分けて行う場合には、温度制御を行う領域毎に温度センサが設けられる場合が多い。そのため、回動部３４ｂは、１つの温度センサに対して１つ設けることもできる。なお、このようにＹ方向において複数の回動部３４ｂを設ける場合においては、複数の回動部３４ｂ同士の接触を避けるため、位置決め用の僅かな突起を取付プレート３４ａ１に設けるようにしても良い。

【0102】

温度制御の差異に基づく複数の領域それぞれに回動部３４ｂを設けるほかに、全体を単に２つの領域に分け、この領域毎に回動部３４ｂを設けることも可能である（つまり、回動部３４ｂをＹ方向において２つ設ける）。このように回動部３４ｂがＹ方向において２つに分けて設けられる場合には、一方を開閉扉１３側、他方を蓋１５側から取り出すことができ、メンテナンス等を行う際、効率的に取り外しをすることができる。

【0103】

図１０、および図１１は、他の実施形態に係る支持部３６（第２の支持部の一例に相当する）によるヒータ３３の支持を例示するための模式図である。
図１０、および図１１に示すように、支持部３６は、取付プレート３６ａ、プレート３６ｂ（第２のプレートの一例に相当する）、および保持部３６ｃを有する。

【0104】

取付プレート３６ａは、板状を呈している。取付プレート３６ａは、例えば、ネジなどの締結部材を用いて、カセットラック６０に設けられた梁６４などに取り付けられる（図４参照）。

【0105】

プレート３６ｂは、板状を呈し、ヒータ３３側に延びている。プレート３６ｂの一方の端部は、取付プレート３６ａと接続されている。取付プレート３６ａ、およびプレート３６ｂは、例えば、板材を折り曲げることで一体に形成することができる。

【0106】

保持部３６ｃは、バンド状を呈し、ネジなどの締結部材を用いて、ヒータ３３を保持する。プレート３６ｂの、取付プレート３６ａ側とは反対側の端部は、例えば、ネジなどの締結部材を用いて、保持部３６ｃと接続されている。

【0107】

支持部３６（取付プレート３６ａ、プレート３６ｂ、および保持部３６ｃ）は、耐熱性を有し、パーティクルが発生しにくく、且つ、弾性変形する材料から形成される。支持部３６は、例えば、厚みが０．５ｍｍ程度のステンレスの板材から形成することができる。

【0108】

ヒータ３３のＯＮ／ＯＦＦ時に、ヒータ３３が中心軸に沿った方向に伸縮した場合には、保持部３６ｃを介して、プレート３６ｂに曲げ応力が働く。プレート３６ｂは、弾性変形する材料から形成されているので、板バネとして機能する。すなわち、プレート３６ｂは、保持部３６ｃに接続され、ヒータ３３の伸縮に応じて、ヒータ３３の中心軸に沿った方向に弾性変形する。

【0109】

プレート３６ｂがヒータ３３の中心軸に沿った方向に弾性変形すれば、ヒータ３３が伸縮したとしても、支持部３６（保持部３６ｃ）と、ヒータ３３との間に擦れが生じるのを抑制することができる。
そのため、ヒータ３３のＯＮ／ＯＦＦ時に、ヒータ３３が中心軸に沿った方向に伸縮したとしても、パーティクルが発生するのを抑制することができる。

【0110】

なお、以上においては、支持部３４、または保持部３６ｃを、ヒータ３３の軸方向の端部の近傍に設ける場合を例示した。しかしながら、１つのヒータ３３に複数の支持部３４設けたり、１つのヒータ３３に複数の支持部３６設けたり、１つのヒータ３３に支持部３４および保持部３６ｃを設けたり、前述した温度制御を行う領域毎に支持部３４と支持部３６を使い分けたりすることもできる。
すなわち、支持部３４、および保持部３６ｃの少なくともいずれかを設けることができる。

【0111】

また、一般的には、ヒータ３３の軸方向の端部の近傍は、非加熱領域となっている。また、ワーク１００に上方や下方に、支持部３４や支持部３６を設けると、ワーク１００の温度の面内分布がばらつくおそれがある。
そのため、支持部３４、および保持部３６ｃは、ヒータ３３の端部の近傍における非加熱部に設けることが好ましい。また、非加熱部に支持部３４および保持部３６ｃが設けられることにより、チャンバ１０内が真空下でワーク１００の加熱処理をおこなっているときには特に、ヒータ３３の輻射を妨げることがなく、ワーク１００の加熱処理を均一におこなうことができる。

【0112】

図１２は、他の実施形態に係るカセット５０ａを例示するための模式斜視図である。
図１２に示すように、カセット５０ａは、前述したカセット５０と同様に、カセットフレーム５１、上部均熱板５２、下部均熱板５３、側部均熱板５４、側部均熱板５５、ワーク支持部５６、冷却部５７、および、カセット支持部５８を有している。
また、カセット５０ａは、一対のヒータ３３をさらに備えている、なお、ヒータ３３の径寸法や長さは、カセットフレーム５１の大きさに応じて適宜変更することができる。ヒータ３３は、ワーク１００が支持される領域の外側に設けることができる。

【0113】

カセット５０ａ（カセットフレーム５１）の内部にヒータ３３を設ける場合にも、前述したものと同様に、ヒータ３３を支持する支持部３４、および保持部３６ｃの少なくともいずれかを設けることができる。
例えば、カセット５０ａのＸ方向両端において、カセット５０ａの内部にヒータ３３を設けることができる。この場合にも、図１２の紙面手前側に開閉扉１３が設けられているが、ヒータ３３はＹ方向に延びるように設けられるため、開閉扉１３側のヒータ３３端部に支持部３４ａ、回動部３４ｂを設けることができない。そこで図１０、図１１に示した支持部３６を採用することが好ましい。

【0114】

この様にすれば、ヒータ３３のＯＮ／ＯＦＦ時に、ヒータ３３が中心軸に沿った方向に伸縮したとしても、カセット５０ａ（カセットフレーム５１）の内部において、パーティクルが発生するのを抑制することができる。

【0115】

以上、実施の形態について例示をした。しかし、本発明はこれらの記述に限定されるものではない。
前述の実施の形態に関して、当業者が適宜設計変更を加えたものも、本発明の特徴を備えている限り、本発明の範囲に包含される。
例えば、加熱処理装置１の形状、寸法、配置などは、例示をしたものに限定されるわけではなく適宜変更することができる。

【0116】

また、前述した各実施の形態が備える各要素は、可能な限りにおいて組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。

【符号の説明】

【0117】

１ 加熱処理装置、１０ チャンバ、２０ 排気部、３０ 加熱部、３３ ヒータ、３３ａ 端子、３４ 支持部、３４ａ ガイド部、３４ａ１ 取付プレート、３４ａ２ プレート、３４ａ３ ガイドプレート、３４ａ３ａ 切欠き、３４ｂ 回動部、３６ 支持部、３６ａ 取付プレート、３６ｂ プレート、３６ｃ 保持部、５０ カセット、５０ａ カセット、６０ カセットラック、６１ フレーム、６２ 受け部材、１００ ワーク

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【手続補正書】

【提出日】2023-07-19

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

内部にワークが収納されるチャンバと、
前記チャンバの内部に設けられ、棒状を呈する複数のヒータと、
前記チャンバの内部において前記ヒータを支持する、第１の支持部、および第２の支持部の少なくともいずれかと、
を備え、
前記複数のヒータは、前記ヒータの中心軸と交差する方向に並び、
前記第１の支持部は、前記ヒータの下方に、前記複数のヒータと平行となるように設けられた第１のプレートと、前記ヒータと前記第１のプレートとの間に設けられ、前記ヒータと前記第１のプレートと接触し、前記ヒータの中心軸に沿った方向に移動可能な回動部と、を有し、
前記第２の支持部は、前記ヒータを保持する保持部と、前記保持部に接続され、前記ヒータの伸縮に応じて、前記ヒータの中心軸に沿った方向に弾性変形可能な第２のプレートと、を有する加熱処理装置。

【請求項2】

前記第１のプレートの前記チャンバの中央側の一端側に設けられ、前記第１のプレートから前記ヒータに近づく方向に立ち上がるように設けられるガイドプレートをさらに有することを特徴とする請求項１記載の加熱処理装置。

【請求項3】

前記ガイドプレートは、前記ヒータを挿入可能な切欠きを有し、
前記切欠きは、前記ヒータの中心軸と交差する方向において、前記ヒータの位置ずれを抑制することを特徴とする請求項２記載の加熱処理装置。

【請求項4】

前記チャンバ内に設けられ、前記ワークを収納するカセットをさらに有し、
前記カセットは、板状物と前記板状物を支える梁とを有し、
前記第２のプレートの、前記保持部とは反対側の端部は前記カセットの前記梁に取り付けられることを特徴とする請求項１記載の加熱処理装置。

【請求項5】

前記回動部は、円柱状、または円筒状を呈し、前記ヒータの中心軸と交差する方向に延び、
前記ヒータの中心軸に交差する方向における、前記回動部の長さは、
前記ヒータの伸び量の２０倍以上の長さ、
および、
３つ以上の前記ヒータと接触する長さ、
の少なくともいずれかである請求項１乃至３のいずれかに記載の加熱処理装置。

【請求項6】

前記チャンバの内部を排気する排気部をさらに備え、
前記回動部、および前記保持部は、前記ヒータの端部の近傍における非加熱部に設けられている請求項１乃至４のいずれかに記載の加熱処理装置。

【請求項7】

前記複数のヒータの温度制御は、前記ワークにおける複数の領域毎に行われ、
前記回動部は、前記複数の領域のそれぞれに１つ設けられている請求項１乃至４のいずれかに記載の加熱処理装置。

【手続補正2】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００７

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0007】

実施形態に係る加熱処理装置は、内部にワークが収納されるチャンバと、前記チャンバの内部に設けられ、棒状を呈する複数のヒータと、前記チャンバの内部において前記ヒータを支持する、第１の支持部、および第２の支持部の少なくともいずれかと、を備え、前記複数のヒータは、前記ヒータの中心軸と交差する方向に並び、前記第１の支持部は、前記ヒータの下方に、前記複数のヒータと平行となるように設けられた第１のプレートと、前記ヒータと前記第１のプレートとの間に設けられ、前記ヒータと前記第１のプレートと接触し、前記ヒータの中心軸に沿った方向に移動可能な回動部と、を有し、前記第２の支持部は、前記ヒータを保持する保持部と、前記保持部に接続され、前記ヒータの伸縮に応じて、前記ヒータの中心軸に沿った方向に弾性変形可能な第２のプレートと、を有する。

【手続補正3】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００４３

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0043】

カセット５０は、例えば、カセットフレーム５１、上部均熱板５２、下部均熱板５３、側部均熱板５４、側部均熱板５５、ワーク支持部５６、冷却部５７（図１、図２参照）、および、カセット支持部５８を有する。

【手続補正4】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５８

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0058】

図１に戻って、冷却部５７は、前述した冷却部４０から供給される冷却ガスをカセット５０内のワーク１００に供給する。冷却部５７は、例えば、カセットフレーム５１の側面に設けることができる。

【手続補正5】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００８８

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0088】

また、回動部３４ｂがヒータ３３を支持するので、前述した様に、ガイドプレート３４ａ３の切欠き３４ａ３ａの下側の内壁と、ヒータ３３とは接触しない。そのため、ヒータ３３が中心軸に沿った方向に伸縮した際に、切欠き３４ａ３ａの下側の内壁と、ヒータ３３との間に擦れが生じることがない。

【手続補正6】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０１１２

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0112】

図１２は、他の実施形態に係るカセット５０ａを例示するための模式斜視図である。
図１２に示すように、カセット５０ａは、前述したカセット５０と同様に、カセットフレーム５１、上部均熱板５２、下部均熱板５３、側部均熱板５４、側部均熱板５５、ワーク支持部５６、冷却部５７、および、カセット支持部５８を有している。
また、カセット５０ａは、一対のヒータ３３をさらに備えている。なお、ヒータ３３の径寸法や長さは、カセットフレーム５１の大きさに応じて適宜変更することができる。ヒータ３３は、ワーク１００が支持される領域の外側に設けることができる。

【手続補正7】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図４

【補正方法】変更

【補正の内容】

【図4】

【手続補正8】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図１２

【補正方法】変更

【補正の内容】

【図12】