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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024050521
(43)【公開日】2024-04-10
(54)【発明の名称】表面処理剤
(51)【国際特許分類】
C03C 17/30 20060101AFI20240403BHJP
C09K 3/18 20060101ALN20240403BHJP
C07F 7/18 20060101ALN20240403BHJP
【ＦＩ】
C03C17/30 A
C09K3/18 104
C07F7/18 Z
【審査請求】有
【請求項の数】6
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023169482
(22)【出願日】2023-09-29
(31)【優先権主張番号】P 2022156805
(32)【優先日】2022-09-29
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000002853
【氏名又は名称】ダイキン工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100129791
【弁理士】
【氏名又は名称】川本 真由美
(74)【代理人】
【識別番号】100221501
【弁理士】
【氏名又は名称】式見 真行
(72)【発明者】
【氏名】木村 真理
(72)【発明者】
【氏名】野村 孝史
(72)【発明者】
【氏名】高野 真也
【テーマコード（参考）】
4G059
4H020
4H049
【Ｆターム（参考）】
4G059AA01
4G059AA08
4G059AC22
4G059AC30
4G059FA05
4G059FA22
4G059FB01
4H020BA31
4H049VN01
4H049VP10
4H049VQ79
4H049VR22
4H049VR42
4H049VU28
(57)【要約】
【課題】摩擦耐久性に優れた処理表面を有する処理基材の提供。
【解決手段】ガラス基材と、該ガラス基材の表面を式（１）（式中、各記号は明細書中の記載と同意義である。）で表される化合物で処理して形成されるシロキサン層と、を含む物品。
【選択図】なし
【解決手段】ガラス基材と、該ガラス基材の表面を式（１）（式中、各記号は明細書中の記載と同意義である。）で表される化合物で処理して形成されるシロキサン層と、を含む物品。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ガラス基材と、該ガラス基材の表面を式（１）：
［式中：
Ｒ１は、ＣｍＨ２ｍ＋１であり、
ｍは、１以上の整数であり、
Ｒ２は、ＣｎＨ２ｎ＋１であり、
ｎは、１以上の整数であり、
ｍとｎの少なくとも一方は、４以上である。］
で表される化合物で処理して形成されるシロキサン層と、を含む物品。
【化1】
Ｒ１は、ＣｍＨ２ｍ＋１であり、
ｍは、１以上の整数であり、
Ｒ２は、ＣｎＨ２ｎ＋１であり、
ｎは、１以上の整数であり、
ｍとｎの少なくとも一方は、４以上である。］
で表される化合物で処理して形成されるシロキサン層と、を含む物品。
【請求項2】
前記シロキサン層は、
［式中：
Ｒ１は、ＣｍＨ２ｍ＋１であり、
ｍは、１以上の整数であり、
Ｒ２は、ＣｎＨ２ｎ＋１であり、
ｎは、１以上の整数であり、
ｍとｎの少なくとも一方は、４以上である。］
で表される末端構造を有するポリマーの層である、請求項１に記載の物品。
【化2】
Ｒ１は、ＣｍＨ２ｍ＋１であり、
ｍは、１以上の整数であり、
Ｒ２は、ＣｎＨ２ｎ＋１であり、
ｎは、１以上の整数であり、
ｍとｎの少なくとも一方は、４以上である。］
で表される末端構造を有するポリマーの層である、請求項１に記載の物品。
【請求項3】
前記シロキサン層は、
［式中：
Ｒ１１は、ＣｓＨ２ｓ＋１であり、
ｓは、１以上の整数であり、
Ｒ１２は、ＣｔＨ２ｔ＋１であり、
ｔは、１以上の整数であり、
Ｒ１３は、Ｃ１－１８アルキル基又はアリール基である。］
で表される末端構造を有するポリマーの層である、請求項１に記載の物品。
【化3】
Ｒ１１は、ＣｓＨ２ｓ＋１であり、
ｓは、１以上の整数であり、
Ｒ１２は、ＣｔＨ２ｔ＋１であり、
ｔは、１以上の整数であり、
Ｒ１３は、Ｃ１－１８アルキル基又はアリール基である。］
で表される末端構造を有するポリマーの層である、請求項１に記載の物品。
【請求項4】
ｍは、１～２４の整数であり、ｎは、１～２４の整数である、請求項１に記載の物品。
【請求項5】
ｍは、１であり、ｎは、５～１２の整数である、請求項１に記載の物品。
【請求項6】
前記シロキサン層の厚みは、４ｎｍ以上である、請求項１に記載の物品。
【請求項7】
前記基材と前記シロキサン層との間に酸化ケイ素を含む中間層を含む、請求項１に記載の物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、表面処理された物品に関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献１には、アルキルクロロシランおよび溶剤を含有する撥水処理剤が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０１０－１５９３３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
特許文献１に記載の撥水処理剤での処理により得られる処理基材は、摩擦耐久性が十分とは言えない。
【0005】
本開示は、摩擦耐久性に優れた処理表面を有する処理基材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示は、下記の態様を含む。
［１］ ガラス基材と、該ガラス基材の表面を式（１）：
［式中：
Ｒ１は、ＣｍＨ２ｍ＋１であり、
ｍは、１以上の整数であり、
Ｒ２は、ＣｎＨ２ｎ＋１であり、
ｎは、１以上の整数であり、
ｍとｎの少なくとも一方は、４以上である。］
で表される化合物で処理して形成されるシロキサン層と、を含む物品。
［２］ 前記シロキサン層は、
［式中：
Ｒ１は、ＣｍＨ２ｍ＋１であり、
ｍは、１以上の整数であり、
Ｒ２は、ＣｎＨ２ｎ＋１であり、
ｎは、１以上の整数であり、
ｍとｎの少なくとも一方は、４以上である。］
で表される末端構造を有するポリマーの層である、上記［１］に記載の物品。
［３］ 前記シロキサン層は、
［式中：
Ｒ１１は、ＣｓＨ２ｓ＋１であり、
ｓは、１以上の整数であり、
Ｒ１２は、ＣｔＨ２ｔ＋１であり、
ｔは、１以上の整数であり、
Ｒ１３は、Ｃ１－１８アルキル基又はアリール基である。］
で表される末端構造を有するポリマーの層である、上記［１］に記載の物品。
［４］ ｍは、１～２４の整数であり、ｎは、１～２４の整数である、上記［１］～［３］のいずれか１項に記載の物品。
［５］ ｍは、１であり、ｎは、５～１２の整数である、上記［１］～［４］のいずれか１項に記載の物品。
［６］ 前記シロキサン層の厚みは、４ｎｍ以上である、上記［１］～［５］のいずれか１項に記載の物品。
［７］ 前記基材と前記層との間に酸化ケイ素を含む中間層を含む、上記［１］～［６］のいずれか１項に記載の物品。
［１］ ガラス基材と、該ガラス基材の表面を式（１）：
【化1】
Ｒ１は、ＣｍＨ２ｍ＋１であり、
ｍは、１以上の整数であり、
Ｒ２は、ＣｎＨ２ｎ＋１であり、
ｎは、１以上の整数であり、
ｍとｎの少なくとも一方は、４以上である。］
で表される化合物で処理して形成されるシロキサン層と、を含む物品。
［２］ 前記シロキサン層は、
【化2】
Ｒ１は、ＣｍＨ２ｍ＋１であり、
ｍは、１以上の整数であり、
Ｒ２は、ＣｎＨ２ｎ＋１であり、
ｎは、１以上の整数であり、
ｍとｎの少なくとも一方は、４以上である。］
で表される末端構造を有するポリマーの層である、上記［１］に記載の物品。
［３］ 前記シロキサン層は、
【化3】
Ｒ１１は、ＣｓＨ２ｓ＋１であり、
ｓは、１以上の整数であり、
Ｒ１２は、ＣｔＨ２ｔ＋１であり、
ｔは、１以上の整数であり、
Ｒ１３は、Ｃ１－１８アルキル基又はアリール基である。］
で表される末端構造を有するポリマーの層である、上記［１］に記載の物品。
［４］ ｍは、１～２４の整数であり、ｎは、１～２４の整数である、上記［１］～［３］のいずれか１項に記載の物品。
［５］ ｍは、１であり、ｎは、５～１２の整数である、上記［１］～［４］のいずれか１項に記載の物品。
［６］ 前記シロキサン層の厚みは、４ｎｍ以上である、上記［１］～［５］のいずれか１項に記載の物品。
［７］ 前記基材と前記層との間に酸化ケイ素を含む中間層を含む、上記［１］～［６］のいずれか１項に記載の物品。
【発明の効果】
【0007】
本開示によれば、摩擦耐久性に優れた処理表面を有する処理基材が提供される。
【発明を実施するための形態】
【0008】
本開示の物品は、ガラス基材と、該ガラス基材の表面を式（１）：
［式中：
Ｒ１は、ＣｍＨ２ｍ＋１であり、
ｍは、１以上の整数であり、
Ｒ２は、ＣｎＨ２ｎ＋１であり、
ｎは、１以上の整数であり、
ｍとｎの少なくとも一方は、４以上である。］
で表される化合物で処理して形成されるシロキサン層と、を含む。
【化4】
Ｒ１は、ＣｍＨ２ｍ＋１であり、
ｍは、１以上の整数であり、
Ｒ２は、ＣｎＨ２ｎ＋１であり、
ｎは、１以上の整数であり、
ｍとｎの少なくとも一方は、４以上である。］
で表される化合物で処理して形成されるシロキサン層と、を含む。
【0009】
＜基材＞
本開示の物品における基材は、ガラス基材である。ガラス基材は、特に限定されず、種々のガラス基材を用いることができる。
本開示の物品における基材は、ガラス基材である。ガラス基材は、特に限定されず、種々のガラス基材を用いることができる。
【0010】
上記ガラスとしては、例えば、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、及び化学結合したホウ珪酸ガラスが挙げられる。なかでも、Ｓｉを含むガラス、例えばソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、及び化学結合したホウ珪酸ガラスが好ましい。
【0011】
一の態様において、本開示の物品は、ガラスとシロキサン層との間に、酸化ケイ素を含む中間層を含んでいてもよい。かかる中間層を設けることにより、ガラスとシロキサン層との密着性が向上し、耐久性が向上する。
【0012】
例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料であってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（又は膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層及び多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、Ｔａ３Ｏ５，Ｎｂ２Ｏ５、ＨｆＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、ＷＯ３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、又はこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ２及び／又はＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、及び液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
【0013】
上記基材の形状は、特に限定されず、例えば、板状、フィルム、その他の形態であってよい。また、シロキサン層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途及び具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
【0014】
一の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入又は増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素－炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。
【0015】
＜式（１）で表される化合物＞
ｍは、１以上の整数であり、ｎは、１以上の整数であり、ｍとｎの少なくとも一方は、４以上である。
ｍは、１以上の整数であり、ｎは、１以上の整数であり、ｍとｎの少なくとも一方は、４以上である。
【0016】
一の態様において、ｍは、１～２４の整数であり、ｎは、１～２４の整数である。
【0017】
ｍとｎの和は、５以上であり、好ましくは７以上、より好ましくは１０以上、さらに好ましくは１２以上であり得る。ｍとｎの和は、好ましくは２６以下、より好ましくは２０以下、さらに好ましくは１６以下であり得る。
【0018】
ｍとｎの和は、例えば、５～２６、６～２０、６～１６、８～１６、１０～１６、又は１２～１６であり得る。
【0019】
好ましい態様において、ｍは、１～３、好ましくは１又は２、より好ましくは１であり、ｎは、４～２４、好ましくは５～１８、より好ましくは５～１２、さらに好ましくは６～１２、さらにより好ましくは８～１２であり得る。
【0020】
上記ＣｍＨ２ｍ＋１は、炭素数ｍ個のアルキル基である。上記ＣｎＨ２ｎ＋１は、炭素数ｎ個のアルキル基である。
【0021】
上記アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。一の態様において、上記アルキル基は、直鎖である。別の態様において、上記アルキル基は、分枝鎖である。また、Ｒ１とＲ２の一方が直鎖で、他方が分枝鎖であってもよい。
【0022】
式（１）で表される化合物としては、例えば、ジクロロジブチルシラン、ジクロロジペンチルシラン、ジクロロジヘキシルシラン、ジクロロジ－ｎ－オクチルシラン、ジクロロブチルメチルシラン、ジクロロペンチルメチルシラン、ジクロロヘキシルメチルシラン、ジクロロ（メチル）ｎ－オクチルシラン、ジクロロデシルメチルシラン、ジクロロドデシルメチルシラン、ジクロロメチルテトラデシルシラン、ジクロロメチルヘキサデシルシラン、ジクロロメチルオクタデシルシラン等が挙げられる。式（１）で表される化合物は、好ましくはジクロロ（メチル）ｎ－オクチルシラン、ジクロロデシルメチルシラン、又はジクロロドデシルメチルシラン、より好ましくはジクロロデシルメチルシラン、又はジクロロドデシルメチルシランであり得る。
【0023】
上記シロキサン層は、上記基材表面を上記式（１）で表される化合物で処理することにより得られる層である。上記シロキサン層は、－Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ－構造を含む層を意味する。上記シロキサン層は、ガラス基材に結合した複数のシロキサン鎖がガラス基材表面を覆うことにより形成され得る。これらのシロキサン鎖は、互いに独立していても、連結していてもよい。上記シロキサン層が主に式（１）で表される化合物から形成される場合、式（１）で表される化合物は二官能性であることから、ガラス基材から直線上に形成されたシロキサン鎖が独立して存在し得る。
【0024】
典型的には、上記シロキサン層は、下記構造を含む。
【化5】
【0025】
一の態様において、上記シロキサン層は、
［式中：
Ｒ１は、ＣｍＨ２ｍ＋１であり、
ｍは、１以上の整数であり、
Ｒ２は、ＣｎＨ２ｎ＋１であり、
ｎは、１以上の整数であり、
ｍとｎの少なくとも一方は、４以上である。］
で表される末端構造を有するポリマーの層であり得る。ＯＨ末端は、例えば、Ｃｌ末端が水と反応することにより生成し得る。
【化6】
Ｒ１は、ＣｍＨ２ｍ＋１であり、
ｍは、１以上の整数であり、
Ｒ２は、ＣｎＨ２ｎ＋１であり、
ｎは、１以上の整数であり、
ｍとｎの少なくとも一方は、４以上である。］
で表される末端構造を有するポリマーの層であり得る。ＯＨ末端は、例えば、Ｃｌ末端が水と反応することにより生成し得る。
【0026】
一の態様において、上記シロキサン層は、
［式中：
Ｒ１１は、ＣｓＨ２ｓ＋１であり、
ｓは、１以上の整数であり、
Ｒ１２は、ＣｔＨ２ｔ＋１であり、
ｔは、１以上の整数であり、
Ｒ１３は、Ｃ１－１８アルキル基又はアリール基である。］
で表される末端構造を有するポリマーの層であり得る。
【化7】
Ｒ１１は、ＣｓＨ２ｓ＋１であり、
ｓは、１以上の整数であり、
Ｒ１２は、ＣｔＨ２ｔ＋１であり、
ｔは、１以上の整数であり、
Ｒ１３は、Ｃ１－１８アルキル基又はアリール基である。］
で表される末端構造を有するポリマーの層であり得る。
【0027】
上記ＣｓＨ２ｓ＋１は、炭素数ｓ個のアルキル基である。上記ＣｔＨ２ｔ＋１は、炭素数ｔ個のアルキル基である。
【0028】
ｓは、好ましくは１～２４、より好ましくは１～１８、さらに好ましくは１～１２、さらにより好ましくは１～６、特に好ましくは１～３であり得る。
【0029】
ｔは、好ましくは１～２４、より好ましくは１～１８、さらに好ましくは１～１２、さらにより好ましくは１～６、特に好ましくは１～３であり得る。
【0030】
一の態様において、ｓとｔは、同じ整数であり得る。
【0031】
Ｒ１１及びＲ１２におけるアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。
【0032】
Ｒ１３におけるＣ１－１８アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。
【0033】
上記Ｃ１－１８アルキル基は、好ましくはＣ１－１２アルキル基、より好ましくはＣ１－６アルキル基、例えばＣ１－４アルキル基、Ｃ４－６アルキル基等であり得る。具体的な、Ｃ１－６アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、３－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、２－メチルペンタン、３－メチルペンタン、２，２－ジメチルブタン、及び２，３－ジメチルブタンが挙げられる。
【0034】
上記末端構造は、好ましくは、下記の基であり得る。
【化8】
【0035】
上記Ｃ１－１８アルキル基は、１個又はそれ以上のハロゲンにより置換されていてもよい。
【0036】
上記アリール基は、好ましくはＣ６－１２アリール基であり、より好ましくはフェニル基、又はナフチル基、さらに好ましくはフェニル基であり得る。
【0037】
上記アリール基は、１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。かかる置換基としては、ハロゲン、又はＣ１－６アルキル等が挙げられる。好ましくは、上記アリール基は、非置換である。
【0038】
上記シロキサン層の厚みは、好ましくは２ｎｍ以上、より好ましくは４ｎｍ以上、さらに好ましくは６ｎｍ以上、さらにより好ましくは１０ｎｍ以上であり得る。上記シロキサン層の厚みは、好ましくは３００ｎｍ以下、より好ましくは１００ｎｍ以下、さらに好ましくは５０ｎｍ以下であり得る。
【0039】
一の態様において、上記シロキサン層の厚みは、好ましくは２～３００ｎｍ、より好ましくは４～１００ｎｍ、さらに好ましくは４～５０ｎｍであり得る。
【0040】
上記シロキサン層の厚みは、エリプソメーター（J.A.Woollam社製）による分光エリプソメトリー法により測定することができる。
【0041】
上記シロキサン層の対水接触角は、好ましくは９５°以上、より好ましくは１００°以上であり得る。
【0042】
対水接触角は、水平に置いた基板にマイクロシリンジから水を２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより求めることができる。例えば、対水接触角は、全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いて測定することができる。
【0043】
＜処理基材の製造方法＞
次に、本開示の物品の製造方法について説明する。
次に、本開示の物品の製造方法について説明する。
【0044】
まず、ガラス基材を準備する。ガラス基材は、前処理することが好ましい。
【0045】
ガラス基材の前処理としては、ＵＶ処理、Ｏ３処理などが挙げられる。
【0046】
次いで、ガラス基材を、式（１）で表される化合物での飽和蒸気処理に付す。
【0047】
飽和蒸気処理は、例えば、密閉容器内にガラス基材と式（１）で表される化合物を封入し、式（１）で表される化合物を気化させ、密閉容器内をその蒸気で飽和させて、ガラス基材を一定時間静置することにより行われる。
【0048】
飽和蒸気処理の温度は、特に限定されないが、室温～式（１）で表される化合物の沸点±２０℃であり得、好ましくは２０～１５０℃、好ましくは４０～１００℃、例えば５０～８０℃であり得る。
【0049】
飽和蒸気処理の処理時間は、特に限定されないが、好ましくは１０分～２４時間、好ましくは３０分～１６時間、例えば３０分～６時間、３０分～３時間、又は３０分～９０分であり得る。
【0050】
飽和蒸気処理の後に、後処理を行ってもよい。後処理としては、例えば加熱処理が挙げられる。
【0051】
加熱処理の温度は、特に限定されないが、好ましくは５０～３００℃、好ましくは１００～２００℃であり得る。
【0052】
加熱処理の処理時間は、特に限定されないが、好ましくは１０秒～１時間、好ましくは３０秒～１０分、例えば１分～３分であり得る。
【0053】
さらに、シロキサン層におけるシロキサン化合物の末端をキャップする処理を行ってもよい。上記キャップ処理は、反応性の一官能性の化合物での処理、次いで、所望により加熱処理により行うことができる。
【0054】
反応性の一官能性の化合物は、例えば、下記式：
［式中：
Ｒ１１は、ＣｓＨ２ｓ＋１であり、
ｓは、１以上の整数であり、
Ｒ１２は、ＣｔＨ２ｔ＋１であり、
ｔは、１以上の整数であり、
Ｒ１３は、Ｃ１－１８アルキル基又はアリール基である。］
で表される化合物が挙げられる。一官能性の化合物は、好ましくは、クロロトリメチルシランであり得る。
【化9】
Ｒ１１は、ＣｓＨ２ｓ＋１であり、
ｓは、１以上の整数であり、
Ｒ１２は、ＣｔＨ２ｔ＋１であり、
ｔは、１以上の整数であり、
Ｒ１３は、Ｃ１－１８アルキル基又はアリール基である。］
で表される化合物が挙げられる。一官能性の化合物は、好ましくは、クロロトリメチルシランであり得る。
【0055】
上記一官能性の化合物での処理は、例えば、ガラス基材を、一官能性の化合物での飽和蒸気処理に付すことにより行うことができる。別法として、上記一官能性の化合物での処理は、化合物の塗布、例えば化合物それ自体、又は希釈液を、スピンコート、浸漬、スプレー塗布することにより行うことができる。
【0056】
薬剤処理の後に、後処理を行ってもよい。後処理としては、例えば加熱処理が挙げられる。
【0057】
加熱処理の温度は、特に限定されないが、好ましくは５０～３００℃、好ましくは１００～２００℃であり得る。
【0058】
加熱処理の処理時間は、特に限定されないが、好ましくは１０秒～１時間、好ましくは１分～６０分、例えば１０～３０分であり得る。
【0059】
以上、本開示の物品について詳述した。なお、本開示の物品は、上記で例示したものに限定されない。
【実施例0060】
以下、本開示について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。
【0061】
［飽和蒸気処理］
薬液を密閉容器内で気化させ、飽和蒸気としたのちに一定時間静置し、その蒸気によって、同包された基材の表面を処理した。
薬液を密閉容器内で気化させ、飽和蒸気としたのちに一定時間静置し、その蒸気によって、同包された基材の表面を処理した。
【0062】
実施例１
［飽和蒸気処理］
化学強化ガラス（コーニング社製、ゴリラガラス、厚さ０．７ｍｍ）をＵＶ／Ｏ３処理した後、ジクロロ（メチル）ｎ－オクチルシラン０．１ｍＬを用いて、５０℃で１時間飽和蒸気処理した。その後、ホットプレート上で１５０℃、１分間加熱し、表面処理層を得た。
［飽和蒸気処理］
化学強化ガラス（コーニング社製、ゴリラガラス、厚さ０．７ｍｍ）をＵＶ／Ｏ３処理した後、ジクロロ（メチル）ｎ－オクチルシラン０．１ｍＬを用いて、５０℃で１時間飽和蒸気処理した。その後、ホットプレート上で１５０℃、１分間加熱し、表面処理層を得た。
【0063】
実施例２
［飽和蒸気処理］
飽和蒸気処理時間を２時間とした以外は、実施例１と同様の条件で成膜し、表面処理層を得た。
［飽和蒸気処理］
飽和蒸気処理時間を２時間とした以外は、実施例１と同様の条件で成膜し、表面処理層を得た。
【0064】
実施例３
［飽和蒸気処理］
ジクロロ（メチル）ｎ－オクチルシランの代わりにジクロロメチルドデシルシランを用いた以外は、実施例１と同様の条件で成膜し、表面処理層を得た。
［飽和蒸気処理］
ジクロロ（メチル）ｎ－オクチルシランの代わりにジクロロメチルドデシルシランを用いた以外は、実施例１と同様の条件で成膜し、表面処理層を得た。
【0065】
実施例４
［飽和蒸気処理］
飽和蒸気処理時間を４５分とした以外は、実施例３と同様の条件で成膜し、表面処理層を得た。
［飽和蒸気処理］
飽和蒸気処理時間を４５分とした以外は、実施例３と同様の条件で成膜し、表面処理層を得た。
【0066】
実施例５
［飽和蒸気処理］
飽和蒸気処理時間を３０分とした以外は、実施例３と同様の条件で成膜し、表面処理層を得た。
［飽和蒸気処理］
飽和蒸気処理時間を３０分とした以外は、実施例３と同様の条件で成膜し、表面処理層を得た。
【0067】
比較例１
［飽和蒸気処理］
実施例１の飽和処理条件を２５℃、１６時間、ジクロロ（メチル）ｎ－オクチルシランの代わりにジクロロジメチルシランを用いた以外は同様の条件で成膜し、表面処理層を得た。
［飽和蒸気処理］
実施例１の飽和処理条件を２５℃、１６時間、ジクロロ（メチル）ｎ－オクチルシランの代わりにジクロロジメチルシランを用いた以外は同様の条件で成膜し、表面処理層を得た。
【0068】
比較例２
［薬液の塗布］
特開２０１０－１５９３３８号に記載の方法に従い、デシルトリクロロシラン（Ｃ１０Ｈ２１ＳｉＣｌ３）３質量部およびイソオクタン（沸点９９℃）９７質量部を配合して、均一に混合することにより、撥水処理剤を調製した。
次いで、化学強化ガラス（コーニング社製、ゴリラガラス、厚さ０．７ｍｍ）の表面に撥水処理剤を塗布し、続いて、５分経過後に、清浄なタオル
でガラス板の表面を拭き上げた。
その後、ガラス板を、常温で３０分放置した。その後、ガラス板の表面を、水を含浸さ
せたスポンジで洗浄することにより、ガラス板を撥水処理した。
［薬液の塗布］
特開２０１０－１５９３３８号に記載の方法に従い、デシルトリクロロシラン（Ｃ１０Ｈ２１ＳｉＣｌ３）３質量部およびイソオクタン（沸点９９℃）９７質量部を配合して、均一に混合することにより、撥水処理剤を調製した。
次いで、化学強化ガラス（コーニング社製、ゴリラガラス、厚さ０．７ｍｍ）の表面に撥水処理剤を塗布し、続いて、５分経過後に、清浄なタオル
でガラス板の表面を拭き上げた。
その後、ガラス板を、常温で３０分放置した。その後、ガラス板の表面を、水を含浸さ
せたスポンジで洗浄することにより、ガラス板を撥水処理した。
【0069】
＜評価＞
［耐摩耗性評価］
耐摩耗試験後の水の静的接触角が高いほど、摩擦による性能の低下が小さく、耐摩耗性に優れる。
（初期評価）
初期評価（摩擦回数０回）として、表面処理層の形成後、表面上の余剰分を拭き上げたのちに、水の静的接触角を測定した。
（耐摩耗性試験後の評価）
形成された表面処理層に対して、ラビングテスター（井元製作所社製）を用いて、下記条件で摩擦子を往復させた。所定の摩擦回数において、水の静的接触角を測定した。結果は下記表に示す。
［耐摩耗性評価］
耐摩耗試験後の水の静的接触角が高いほど、摩擦による性能の低下が小さく、耐摩耗性に優れる。
（初期評価）
初期評価（摩擦回数０回）として、表面処理層の形成後、表面上の余剰分を拭き上げたのちに、水の静的接触角を測定した。
（耐摩耗性試験後の評価）
形成された表面処理層に対して、ラビングテスター（井元製作所社製）を用いて、下記条件で摩擦子を往復させた。所定の摩擦回数において、水の静的接触角を測定した。結果は下記表に示す。
【0070】
摩擦子：Ｒｕｂｂｅｒ Ｅｒａｓｅｒ（Ｍｉｎｏａｎ社製）
接地面積：６ｍｍφ
移動距離（片道）：３０ｍｍ
移動速度：２，４００ｍｍ／分
荷重：１ｋｇ／６ｍｍφ
接地面積：６ｍｍφ
移動距離（片道）：３０ｍｍ
移動速度：２，４００ｍｍ／分
荷重：１ｋｇ／６ｍｍφ
【0071】
【表1】
【産業上の利用可能性】
【0072】
本開示の物品は、種々多様な用途に好適に利用され得る。
【手続補正書】
【提出日】2024-03-14
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ガラス基材と、該ガラス基材の表面を式（１）：
［式中：
Ｒ１は、ＣｍＨ２ｍ＋１であり、
ｍは、１以上の整数であり、
Ｒ２は、ＣｎＨ２ｎ＋１であり、
ｎは、１以上の整数であり、
ｍとｎの少なくとも一方は、４以上である。］
で表される化合物で処理して形成されるシロキサン層と、を含み、
前記シロキサン層の厚みは、４ｎｍ以上である、物品。
【化1】
Ｒ１は、ＣｍＨ２ｍ＋１であり、
ｍは、１以上の整数であり、
Ｒ２は、ＣｎＨ２ｎ＋１であり、
ｎは、１以上の整数であり、
ｍとｎの少なくとも一方は、４以上である。］
で表される化合物で処理して形成されるシロキサン層と、を含み、
前記シロキサン層の厚みは、４ｎｍ以上である、物品。
【請求項2】
前記シロキサン層は、
［式中：
Ｒ１は、ＣｍＨ２ｍ＋１であり、
ｍは、１以上の整数であり、
Ｒ２は、ＣｎＨ２ｎ＋１であり、
ｎは、１以上の整数であり、
ｍとｎの少なくとも一方は、４以上である。］
で表される末端構造を有するポリマーの層である、請求項１に記載の物品。
【化2】
Ｒ１は、ＣｍＨ２ｍ＋１であり、
ｍは、１以上の整数であり、
Ｒ２は、ＣｎＨ２ｎ＋１であり、
ｎは、１以上の整数であり、
ｍとｎの少なくとも一方は、４以上である。］
で表される末端構造を有するポリマーの層である、請求項１に記載の物品。
【請求項3】
前記シロキサン層は、
［式中：
Ｒ１１は、ＣｓＨ２ｓ＋１であり、
ｓは、１以上の整数であり、
Ｒ１２は、ＣｔＨ２ｔ＋１であり、
ｔは、１以上の整数であり、
Ｒ１３は、Ｃ１－１８アルキル基又はアリール基である。］
で表される末端構造を有するポリマーの層である、請求項１に記載の物品。
【化3】
Ｒ１１は、ＣｓＨ２ｓ＋１であり、
ｓは、１以上の整数であり、
Ｒ１２は、ＣｔＨ２ｔ＋１であり、
ｔは、１以上の整数であり、
Ｒ１３は、Ｃ１－１８アルキル基又はアリール基である。］
で表される末端構造を有するポリマーの層である、請求項１に記載の物品。
【請求項4】
ｍは、１～２４の整数であり、ｎは、１～２４の整数である、請求項１に記載の物品。
【請求項5】
ｍは、１であり、ｎは、５～１２の整数である、請求項１に記載の物品。
【請求項6】
前記基材と前記シロキサン層との間に酸化ケイ素を含む中間層を含む、請求項１に記載の物品。