特開 2024-51401 粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024051401

(43)【公開日】2024-04-11

(54)【発明の名称】粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法

(51)【国際特許分類】

   B32B 27/00 20060101AFI20240404BHJP

   C09J 7/38 20180101ALI20240404BHJP

   B32B 37/00 20060101ALI20240404BHJP

【ＦＩ】

B32B27/00 M

C09J7/38

B32B37/00

【審査請求】未請求

【請求項の数】3

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022157550

(22)【出願日】2022-09-30

(71)【出願人】

【識別番号】000003964

【氏名又は名称】日東電工株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100103517

【弁理士】

【氏名又は名称】岡本 寛之

(74)【代理人】

【識別番号】100149607

【弁理士】

【氏名又は名称】宇田 新一

(72)【発明者】

【氏名】堤 清貴

(72)【発明者】

【氏名】道下 そら

(72)【発明者】

【氏名】山本 真也

【テーマコード（参考）】

4F100

4J004

【Ｆターム（参考）】

4F100AT00A

4F100AT00C

4F100BA03

4F100BA04

4F100BA06

4F100BA07

4F100BA10A

4F100BA10C

4F100BA10D

4F100CB05B

4F100EJ30

4F100EJ91D

4F100EJ94

4F100GB41

4J004AA10

4J004AA14

4J004AA16

4J004AB01

4J004FA01

(57)【要約】

【課題】軟質な粘着剤層を有する積層フィルムを効率よく製造するのに適した積層フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】積層フィルムの製造方法は、用意工程と、外形加工工程とを含む。用意工程では、フィルム層１０と、粘着剤層２０と、フィルム層３０とを厚さ方向Ｈにこの順で備える長尺のワークフィルムＷを用意する。粘着剤層２０は、２５℃において１００ｋＰａ以下のせん断貯蔵弾性率を有する。外形加工工程では、ワークフィルムＷを加工ステージ１１０上で外形加工する。加工ステージ１１０は、ワークフィルムＷを吸引可能である。外形加工工程では、加工ステージ１１０によってワークフィルムＷのフィルム層１０側を吸引しつつ、ワークフィルムＷを長さ方向に加工ステージ１１０上をスライド走行させ、ワークフィルムＷに対してフィルム層３０側からレーザー光Ｌを照射して、フィルム層１０上で粘着剤層２０およびフィルム層３０を切断する。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

粘着剤層を有する積層フィルムのロールトゥロール方式の製造方法であって、
第１フィルム層と、粘着剤層と、第２フィルム層とを厚さ方向にこの順で備える長尺のワークフィルムを用意する用意工程と、
前記ワークフィルムを加工ステージ上で外形加工する外形加工工程とを含み、
前記粘着剤層は、２５℃において１００ｋＰａ以下のせん断貯蔵弾性率を有し、
前記加工ステージは、前記ワークフィルムを吸引可能であり、
前記外形加工工程では、前記加工ステージによって前記ワークフィルムの前記第１フィルム層側を吸引しつつ、当該ワークフィルムを長さ方向に前記加工ステージ上をスライド走行させ、当該ワークフィルムに対して前記第２フィルム層側からレーザー光を照射して、前記第１フィルム層上で前記粘着剤層および前記第２フィルム層を切断する、粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法。

【請求項2】

前記用意工程で用意される前記ワークフィルムは、キャリアフィルムと、前記第１フィルム層と、前記粘着剤層と、前記第２フィルム層とを厚さ方向にこの順で備え、
前記外形加工工程において、前記加工ステージは前記ワークフィルムの前記キャリアフィルム側を吸引する、請求項１に記載の粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法。

【請求項3】

前記外形加工工程の前および／または後に前記ワークフィルムを弛ませることを含まない、請求項１または２に記載の粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

ディスプレイパネルは、例えば、画素パネル、偏光フィルム、タッチパネルおよびカバーフィルムなどの要素を含む積層構造を有する。そのようなディスプレイパネルの製造過程では、積層構造に含まれる要素どうしの接合のために、例えば、光学的に透明な粘着シート（光学粘着シート）が用いられる。光学粘着シートは、同シートの両面がはく離ライナーで被覆された形態（粘着剤層を有する積層フィルムの形態）で製造される。

【0003】

一方、例えばスマートフォン用およびタブレット端末用に、繰り返し折り曲げ可能（フォルダブル）なディスプレイパネルの開発が進んでいる。フォルダブルディスプレイパネルは、具体的には、屈曲形状とフラットな非屈曲形状との間で、繰り返し変形可能である。このようなフォルダブルディスプレイパネルでは、積層構造中の各要素が、繰り返し折り曲げ可能に作製されており、そのような要素間の接合に薄い光学粘着シートが用いられている。フォルダブルディスプレイパネルなどフレキシブルデバイス用の光学粘着シートについては、例えば下記の特許文献１に記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１８－１１１７５４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

ディスプレイパネル用の光学粘着シートは、従来、例えば次のようにして製造される。

【0006】

まず、図６Ａに示すように、長尺の原反シートとしての積層シート９０を用意する。積層シート９０は、はく離ライナー９１と、粘着剤層９２と、はく離ライナー９３とを、厚さ方向Ｈにこの順で有する。はく離ライナー９１は、粘着剤層９２の一方面に剥離可能に接している。はく離ライナー９３は、粘着剤層９２の他方面に剥離可能に接している。このような積層シート９０が、例えばキャリアフィルム（図示略）上に支持された状態で、製造ラインを流される。

【0007】

次に、図６Ｂに示すように、積層シート９０の粘着剤層９２に対するプレス加工により、複数の枚葉状の光学粘着シート９２Ａを形成する（外形加工工程）。この工程では、図７に示すように、積層シート９０に対して、刃型１００の刃１０１を、はく離ライナー９３側からはく離ライナー９１に至るまで押し入れる。これにより、所定の平面視形状の光学粘着シート９２Ａを形成する。本工程では、粘着剤層９２における光学粘着シート９２Ａまわりに、周囲部９２ａが生ずる。はく離ライナー９３もプレス加工されて、光学粘着シート９２Ａと同一の平面視形状のはく離ライナー９３Ａが形成され、はく離ライナー９３Ａまわりに周囲部９３ａが生ずる。本工程では、図８に示すように、積層シート９０において切断溝９５が形成される。切断溝９５は、粘着剤層９２およびはく離ライナー９３に押し入る刃１０１（図７）が、粘着剤層９２およびはく離ライナー９３を面方向Ｄに押圧することより、形成される。はく離ライナー９１上で隣り合う光学粘着シート９２Ａおよび周囲部９２ａの端縁部Ｔ,Ｔは、互いに対向する。

【0008】

図９は、従来の外形加工工程の一例を表す。図９に示す外形加工工程では、製造ラインを流れる積層シート９０が、一対のニップローラ２０１,２０１間と、プレス加工機２０２と、一対のニップローラ２０３,２０３間とを、この順で通過する。プレス加工機２０２は、間欠送り装置と、加工ステージと、同ステージの上方に配置された刃型とを備える（いずれも図示略）。一対のニップローラ２０１,２０１とプレス加工機２０２との間では、積層シート９０は弛ませられる。プレス加工機２０２と一対のニップローラ２０３,２０３との間では、積層シート９０は弛ませられる。ニップローラ２０１,２０１とニップローラ２０３,２０３との間では、積層シート９０は、プレス加工機２０２の間欠送り装置によって間欠的に送られる。これにより、積層シート９０における未加工領域が、プレス加工機２０２の加工ステージ上に間欠的に供給される。加工ステージ上では、間欠的に供給される積層シート９０の未加工領域ごとに、刃型によるプレス加工が実施される。

【0009】

このような外形加工工程の後、図６Ｃに示すように、はく離ライナー９１上から周囲部９２ａ,９３ａを除去する（除去工程）。この後、図６Ｄに示すように、長尺のはく離ライナー９１が枚葉状のはく離ライナー９１Ａに切断される。これにより、粘着剤層を有する枚葉状の積層フィルム（はく離ライナー９１Ａ／光学粘着シート９２Ａ／はく離ライナー９３Ａ）が得られる。

【0010】

フレキシブルデバイス用の光学粘着シートには、デバイス屈曲時の被着体への充分な追従性と、優れた応力緩和性とを有するように、高度に軟質であることが求められる。しかしながら、上述の従来の製造方法では、粘着剤層９２が軟質なほど、外形加工工程（図６Ｂ）後に、はく離ライナー９１上で隣り合う光学粘着シート９２Ａおよび周囲部９２ａの端縁部Ｔ,Ｔが、図８において一点鎖線で示すように、それぞれ外方に膨らむように変形しやすい。具体的には、プレス加工時の刃１０１の押し入りによって間が開いた端縁部Ｔ,Ｔは、元の位置に復帰するように変形しやすい（復帰的変形）。

【0011】

加えて、従来の製造方法では、プレス加工機２０２を経た積層シート９０が一対のニップローラ２０３,２０３（図９）によって挟まれる時、積層シート９０に対して厚さ方向Ｈに圧力が作用して、端縁部Ｔ,Ｔ（図８）が外方に膨らむように変形しやすい。

【0012】

このような端縁部Ｔの変形は、隣り合う端縁部Ｔ,Ｔどうしが接触して付着すること（ブロッキング）の原因となる。端縁部Ｔ,Ｔ間にブロッキングが生じると、除去工程（図６Ｃ）において、周囲部９２ａ,９３ａを適切に除去できない。端縁部Ｔ,Ｔ間のブロッキングは、粘着剤層を有する積層フィルムの製造歩留まりを低下させる。

【0013】

また、上述の従来の製造方法では、加工ステージ上に間欠的に送られてくる、積層シート９０の未加工領域ごとに、外形加工工程が実施される。すなわち、積層シート９０の外形加工のために、積層シート９０の搬送と搬送停止とが交互に繰り返される。このような間欠送りを実現するためには、間欠送り装置が必要であり、且つ、同装置を制御する必要がある。このような従来の製造方法は、粘着剤層を有する積層フィルムの製造効率の観点から好ましくない。

【0014】

本発明は、軟質な粘着剤層を有する積層フィルムを効率よく製造するのに適した積層フィルムの製造方法を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0015】

本発明［１］は、粘着剤層を有する積層フィルムのロールトゥロール方式の製造方法であって、第１フィルム層と、粘着剤層と、第２フィルム層とを厚さ方向にこの順で備える長尺のワークフィルムを用意する用意工程と、前記ワークフィルムを加工ステージ上で外形加工する外形加工工程とを含み、前記粘着剤層は、２５℃において１００ｋＰａ以下のせん断貯蔵弾性率を有し、前記加工ステージは、前記ワークフィルムを吸引可能であり、前記外形加工工程では、前記加工ステージによって前記ワークフィルムの前記第１フィルム層側を吸引しつつ、当該ワークフィルムを長さ方向に前記加工ステージ上をスライド走行させ、当該ワークフィルムに対して前記第２フィルム層側からレーザー光を照射して、前記第１フィルム層上で前記粘着剤層および前記第２フィルム層を切断する、粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法を含む。

【0016】

本製造方法の外形加工工程においては、上記のように、２５℃でのせん断貯蔵弾性率が１００ｋＰａ以下の柔らかい粘着剤層に対してレーザー光が照射されることにより、粘着剤層が切断される。粘着剤層に対してレーザー光が照射された部分では、粘着剤層の材料が蒸発して除去される。すなわち、外形加工工程では、粘着剤層の部分的除去により、当該粘着剤層において、個片化された粘着剤層とその周りの周囲部とが、隔てられて形成される。粘着剤層はプレス刃の押し入りによって粘着剤層とその周囲部とに切断されるのではないので、粘着剤層と周囲部の上述の復帰的変形が生じない。このような外形加工工程は、軟質であるために変形しやすい粘着剤層と周囲部との間で上述のブロッキングが生じるのを抑制するのに適する。

【0017】

また、本製造方法の外形加工工程では、上記のように、加工ステージによってワークフィルムを吸引しつつ、当該ワークフィルムを長さ方向に加工ステージ上をスライド走行させ、当該ワークフィルムに対してレーザー加工を実施する。レーザー加工は、ワークフィルムを連続的に流しながら粘着剤層を連続的に外形加工するのに適する。すなわち、本製造方法では、粘着剤層の外形加工のためにワークフィルムを間欠的に送る必要がない。また、ワークフィルムが加工ステージに吸引されることは、レーザー加工時にワークフィルムのバタつきを抑制または防止して、ワークフィルムに対してレーザー光の焦点を高精度に合わせるのに適し、従って、ワークフィルムを高精度にレーザー加工するのに適する。

【0018】

以上のように、本製造方法は、軟質な粘着剤層を有する積層フィルムを効率よく製造するのに適する。

【0019】

本発明［２］は、前記用意工程で用意される前記ワークフィルムは、キャリアフィルムと、前記第１フィルム層と、前記粘着剤層と、前記第２フィルム層とを厚さ方向にこの順で備え、前記外形加工工程において、前記加工ステージは前記ワークフィルムの前記キャリアフィルム側を吸引する、上記［１］に記載の粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法を含む。

【0020】

このような構成によると、ワークフィルムを加工ステージ上でスライド走行させつつも、製品（具体的には第１フィルム層）に傷が付くのを回避できる。また、当該構成によると、外形加工工程後においても、外形加工品をキャリアフィルム上に保持可能であり、従ってロール搬送することが可能である。

【0021】

本発明［３］は、前記外形加工工程の前および／または後に前記ワークフィルムを弛ませることを含まない、上記［１］または［２］に記載の粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法を含む。

【0022】

このような製造方法は、製造ラインにおいてワークフィルムを弛ませるための調整・制御が不要であり、粘着剤層を有する積層フィルムを効率よく製造するのに好ましい。外形加工工程後にワークフィルムを弛ませることを含まないことは、製造ラインにおいてワークフィルムが比較的大きな曲率半径で湾曲することを回避するのに適し、粘着剤層とその周囲部との間で上述のブロッキングが生じるのを抑制するのに適する（ワークフィルムの湾曲は、粘着剤層とその周囲部との間の離隔距離を縮めて、ブロッキングが生ずる可能性を高める）。

【図面の簡単な説明】

【0023】

【図1】本発明の粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法の一実施形態の工程を表す。図１Ａは積層フィルムを用意する工程を表し、図１Ｂは外形加工工程を表し、図１Ｃは除去工程を表し、図１Ｄは切断工程を表す。

【図2】外形加工工程を表す斜視図である。

【図3】外形加工工程を表す断面図である。

【図4】レーザー加工ユニットの内部構成の模式図である。

【図5】ガルバノスキャナの一例の斜視図である。

【図6】従来の粘着剤層を有する積層フィルムの製造方法の一例を表す。図６Ａは積層シートを用意する工程を表し、図６Ｂはプレス加工工程を表し、図６Ｃは除去工程を表し、図６Ｄは切断工程を表す。

【図7】刃型によるプレス加工工程を表す。

【図8】プレス加工工程後の切断箇所の部分拡大断面模式図である。

【図9】従来のプレス加工工程の一例を表す。

【発明を実施するための形態】

【0024】

本発明の一実施形態の積層フィルムの製造方法は、粘着剤層を有する枚葉状の積層フィルムのロールトゥロール方式での製造方法である。本製造方法は、図１Ａから図１Ｄに示すように、用意工程（図１Ａ）と、外形加工工程（図１Ｂ）と、除去工程（図１Ｃ）と、切断工程（図１Ｄ）とを含む。

【0025】

用意工程では、図１Ａに示すように、長尺の原反フィルムとしての積層フィルムＸを用意する。積層フィルムＸは、フィルム層１０（第１フィルム層）と、粘着剤層２０と、フィルム層３０（第２フィルム層）とを、厚さ方向Ｈにこの順で備える。粘着剤層２０は、第１面２０ａと、当該第１面２０ａとは反対の第２面２０ｂとを有する。フィルム層１０は第１面２０ａに接している。フィルム層３０は第２面２０ｂに接している。積層フィルムＸは、厚さ方向Ｈと直交する面方向に広がる。

【0026】

本製造方法を実施する製造ラインにおいて、積層フィルムＸは、好ましくは、図１に示すようにキャリアフィルムＣ上に用意される。すなわち、本製造方法を実施する製造ラインを流されるワークフィルムＷは、好ましくは、キャリアフィルムＣと、フィルム層１０と、粘着剤層２０と、フィルム層３０とを厚さ方向Ｈにこの順で備える。

【0027】

キャリアフィルムＣは、厚さ方向Ｈの一方側に粘着面を有する片面粘着フィルムである。ワークフィルムＷにおいて、キャリアフィルムＣの粘着面が積層フィルムＸのフィルム層１０側に貼り合わせられている。また、キャリアフィルムＣは、本実施形態では、ワークフィルムＷの流れ方向Ｄ１（図２）と直交する幅方向Ｄ２（図２,図３）において、積層フィルムＸよりも幅広である。積層フィルムＸは、キャリアフィルムＣ上において、幅方向Ｄ２の中央位置に配置される。積層フィルムＸの幅（幅方向Ｄ２の長さ）は、例えば２００ｍｍ以上、好ましくは２８０ｍｍ以上、より好ましくは４００ｍｍ以上であり、また、例えば１２００ｍｍ以下、好ましくは１０００ｍｍ以下、より好ましくは８００ｍｍ以下である。このようなワークフィルムＷが、製造ラインを流される。

【0028】

フィルム層１０は、例えば、はく離ライナー、機能性光学フィルム、または基材フィルム（支持フィルム）である。

【0029】

はく離ライナーの材料としては、例えば、ポリエステル、ポリオレフィン、およびポリカーボネートが挙げられる。ポリエステルとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、およびポリブチレンテレフタレートが挙げられる。ポリオレフィンとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、およびシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）が挙げられる。はく離ライナーとしてのフィルム層１０は、粘着剤層２０の第１面２０ａに剥離可能に接している。そのようなフィルム層１０の表面（粘着剤層２０側の表面）は、好ましくは剥離処理されている。剥離処理としては、例えば、シリコーン剥離処理およびフッ素剥離処理が挙げられる。はく離ライナーの厚さは、粘着剤層に対する保護機能を確保する観点から、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上、更に好ましくは３０μｍ以上である。はく離ライナーの厚さは、積層フィルムＸの薄型化の観点から、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１５０μｍ以下、更に好ましくは１００μｍ以下である。

【0030】

機能性光学フィルムとしては、例えば、偏光フィルムおよび位相差フィルムが挙げられる。機能性光学フィルムは、パネル補強材などの他の光学フィルムであってもよい。フィルム層１０が機能性光学フィルムである場合、そのようなフィルム層１０に対し、粘着剤層２０の第１面２０ａは接合している。機能性光学フィルムとしてのフィルム層１０と、粘着剤層２０とは、粘着剤層付き機能性光学フィルムを形成する。

【0031】

偏光フィルムとしては、例えば、二色性物質による染色処理とその後の延伸処理とを経た親水性高分子フィルムが挙げられる。二色性物質としては、例えば、ヨウ素および二色性染料が挙げられる。親水性高分子フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡフィルム、および、エチレン・酢酸ビニル共重合体の部分ケン化フィルムが挙げられる。偏光フィルムとしては、ポリエン配向フィルムも挙げられる。ポリエン配向フィルムの材料としては、例えば、ＰＶＡの脱水処理物、および、ポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物が挙げられる。偏光フィルムは、厚さ方向の一方面および／または他方面に、接着剤を介して接合された保護フィルムを有していてもよい。偏光フィルムの厚さは、偏光フィルムの機能、強度および耐久性確保する観点から、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上である。偏光フィルムの厚さは、積層フィルムＸの薄型化の観点から、好ましくは５００μｍ以下、より好ましくは３００μｍ以下である。

【0032】

位相差フィルムとしては、例えば、λ／２波長フィルムおよびλ／４波長フィルム、および視野角補償フィルムが挙げられる。位相差フィルムの材料としては、例えば、延伸処理によって複屈折化された高分子フィルムが挙げられる。高分子フィルムとしては、例えば、セルロースフィルムおよびポリエステルフィルムが挙げられる。セルロースフィルムとしては、例えばトリアセチルセルロースフィルムが挙げられる。ポリエステルフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、およびポリブチレンテレフタレートフィルムが挙げられる。位相差フィルムとしては、セルロースフィルムなどの基材と、当該基材上の液晶性ポリマーなど液晶化合物の配向層とを備えるフィルムも挙げられる。位相差フィルムの厚さは、位相差フィルムの機能および強度を確保する観点から、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは２μｍ以上である。位相差フィルムの厚さは、積層フィルムＸの薄型化の観点から、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは８０μｍ以下である。

【0033】

基材フィルムの材料としては、例えば、はく離ライナーの材料として上記した材料が挙げられる。フィルム層１０が基材フィルムである場合、そのようなフィルム層１０に対し、粘着剤層２０の第１面２０ａは接合している。基材フィルムとしてのフィルム層１０と、粘着剤層２０とは、片面粘着シートを形成する。基材フィルムの厚さは、基材としての強度を確保する観点から、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上、更に好ましくは３０μｍ以上である。基材フィルムの厚さは、積層フィルムＸの薄型化の観点から、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１５０μｍ以下、更に好ましくは１００μｍ以下である。

【0034】

粘着剤層２０は、粘着剤組成物から形成されている。粘着剤組成物は、ベースポリマーを含む。ベースポリマーは、粘着性を発現させる粘着成分である。ベースポリマーとしては、例えば、アクリルポリマー、ポリウレタンポリマー、ポリアミドポリマー、およびポリビニルエーテルポリマーが挙げられる。ベースポリマーは、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。粘着剤層２０における良好な透明性および粘着性を確保する観点から、ベースポリマーとしては、好ましくはアクリルポリマーが用いられる。

【0035】

アクリルポリマーは、(メタ)アクリル酸エステルを５０質量％以上の割合で含むモノマー成分の共重合体である。「(メタ)アクリル」は、アクリルおよび／またはメタクリルを意味する。(メタ)アクリル酸エステルとしては、好ましくは、(メタ)アクリル酸アルキルエステルが用いられ、より好ましくは、アルキル基の炭素数が１～２０である(メタ)アクリル酸アルキルエステルが用いられる。

【0036】

(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ｎ－ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸ｎ－ヘキシル、(メタ)アクリル酸ヘプチル、(メタ)アクリル酸２－エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ｎ－オクチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸イソデシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル、(メタ)アクリル酸ドデシル（即ちラウリル(メタ)アクリレート）、(メタ)アクリル酸イソトリデシル、および(メタ)アクリル酸テトラデシルが挙げられる。(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、好ましくは、アクリル酸２－エチルヘキシル（２ＥＨＡ）と、ラウリルアクリレート（ＬＡ）と、アクリル酸ｎ－ブチルとからなる群より選択される少なくとも一つである。モノマー成分における(メタ)アクリル酸アルキルエステルの割合は、粘着剤層２０において粘着性等の基本特性を適切に発現させる観点から、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは７０質量％以上、更に好ましくは９０質量％以上であり、また、例えば９９質量％以下である。

【0037】

モノマー成分は、(メタ)アクリル酸アルキルエステルと共重合可能な共重合性モノマーを含んでもよい。共重合性モノマーとしては、例えば、極性基を有するモノマーが挙げられる。極性基含有モノマーとしては、例えば、ヒドロキシ基含有モノマー、カルボキシ基含有モノマー、および窒素原子含有環を有するモノマーが挙げられる。極性基含有モノマーは、アクリルポリマーへの架橋点の導入、アクリルポリマーの凝集力の確保など、アクリルポリマーの改質に役立つ。

【0038】

ヒドロキシ基含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸２－ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸２－ヒドロキシプロピル、および(メタ)アクリル酸４－ヒドロキシブチルが挙げられる。ヒドロキシ基含有モノマーとしては、好ましくは、(メタ)アクリル酸２－ヒドロキシエチルおよび(メタ)アクリル酸４－ヒドロキシブチルからなる群より選択される少なくとも一つが用いられる。モノマー成分におけるヒドロキシ基含有モノマーの割合は、アクリルポリマーへの架橋構造の導入、および、粘着剤層２０における凝集力の確保の観点から、好ましくは１質量％以上、より好ましくは２質量％以上、更に好ましくは３質量％以上である。同割合は、アクリルポリマーの極性（粘着剤層２０における各種添加剤成分とアクリルポリマーとの相溶性に関わる）の調整の観点から、好ましくは２０質量％以下、より好ましくは１０質量％以下である。

【0039】

窒素原子含有環を有するモノマーとしては、例えば、Ｎ－ビニル－２－ピロリドン、Ｎ－メチルビニルピロリドン、Ｎ－ビニルピリジン、Ｎ－ビニルピペリドン、Ｎ－ビニルピリミジン、Ｎ－ビニルピペラジン、Ｎ－ビニルピロール、Ｎ－ビニルイミダゾール、およびＮ－(メタ)アクリロイル－２－ピロリドンが挙げられる。窒素原子含有環を有するモノマーとしては、好ましくは、Ｎ－ビニル－２－ピロリドンが用いられる。モノマー成分における、窒素原子含有環を有するモノマーの割合は、粘着剤層２０における凝集力の確保、および、粘着剤層２０における対被着体密着力の確保の観点から、好ましくは０.１質量％以上、より好ましくは０.５質量％以上、更に好ましくは１質量％以上である。同割合は、アクリルポリマーのガラス転移温度の調整、および、アクリルポリマーの極性（粘着剤層２０における各種添加剤成分とアクリルポリマーとの相溶性に関わる）の調整の観点から、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下である。

【0040】

ベースポリマーは、好ましくは、架橋構造を有する。ベースポリマーへの架橋構造の導入方法としては、架橋剤と反応可能な官能基を有するベースポリマーと架橋剤とを粘着剤組成物に配合し、ベースポリマーと架橋剤とを粘着剤層中で反応させる方法（第１の方法）、および、ベースポリマーを形成するモノマー成分に架橋剤としての多官能モノマーを含め、当該モノマー成分の重合により、ポリマー鎖に分枝構造（架橋構造）が導入されたベースポリマーを形成する方法（第２の方法）が、挙げられる。これら方法は、併用されてもよい。

【0041】

上記第１の方法で用いられる架橋剤としては、例えば、ベースポリマーに含まれる官能基（ヒドロキシ基およびカルボキシ基など）と反応する化合物が挙げられる。そのような架橋剤としては、例えば、イソシアネート架橋剤、過酸化物架橋剤、およびエポキシ架橋剤が挙げられる。架橋剤は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。

【0042】

上記第２の方法では、モノマー成分（架橋構造を導入するための多官能モノマーと他のモノマーとを含む）は、一度で重合させてもよいし、多段階で重合させてもよい。多段階重合の方法では、まず、ベースポリマーを形成するための単官能モノマーを重合させ（予備重合）、これによって部分重合物（低重合度の重合物と未反応のモノマーとの混合物）を含有するプレポリマー組成物を調製する。次に、プレポリマー組成物に架橋剤としての多官能モノマーを添加した後、部分重合物と多官能モノマーとを重合させる（本重合）。多官能モノマーとしては、例えば、エチレン性不飽和二重結合を１分子中に２個以上含有する多官能(メタ)アクリレートが挙げられる。多官能モノマーとしては、活性エネルギー線重合（光重合）によって架橋構造を導入可能な観点から、多官能アクリレートが好ましい。多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、１,６－ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、および、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが挙げられる。多官能(メタ)アクリレートとしては、好ましくは、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）が用いられる。

【0043】

アクリルポリマーは、上述のモノマー成分を重合させることによって形成できる。重合方法としては、例えば、溶液重合、無溶剤での光重合（例えばＵＶ重合）、塊状重合、および乳化重合が挙げられる。溶液重合の溶媒としては、例えば、酢酸エチルおよびトルエンが用いられる。また、重合の開始剤としては、例えば、熱重合開始剤および光重合開始剤が用いられる。

【0044】

ベースポリマーの重量平均分子量は、粘着剤層２０における凝集力の確保の観点から、好ましくは１０万以上、より好ましくは３０万以上、更に好ましくは５０万以上である。同重量平均分子量は、好ましくは５００万以下、より好ましくは３００万以下、更に好ましくは２００万以下である。ベースポリマーの重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフ（ＧＰＣ）によって測定してポリスチレン換算により算出される。

【0045】

ベースポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）は、粘着剤層２０の柔らかさを確保する観点から、好ましくは０℃以下、より好ましくは－１０℃以下、更に好ましくは－２０℃以下である。同ガラス転移温度は、例えば－８０℃以上である。

【0046】

ベースポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）については、下記のＦｏｘの式に基づき求められるガラス転移温度（理論値）を用いることができる。Ｆｏｘの式は、ポリマーのガラス転移温度Ｔｇと、当該ポリマーを構成するモノマーのホモポリマーのガラス転移温度Ｔｇｉとの関係式である。下記のＦｏｘの式において、Ｔｇはポリマーのガラス転移温度（℃）を表し、Ｗｉは当該ポリマーを構成するモノマーｉの重量分率を表し、Ｔｇｉは、モノマーｉから形成されるホモポリマーのガラス転移温度（℃）を示す。ホモポリマーのガラス転移温度については文献値を用いることができる。例えば、「Polymer Handbook」（第４版，John Wiley & Sons, Inc., 1999年）および「新高分子文庫７ 塗料用合成樹脂入門」（北岡協三著，高分子刊行会，1995年）には、各種のホモポリマーのガラス転移温度が挙げられている。一方、モノマーのホモポリマーのガラス転移温度については、特開２００７－５１２７１号公報に具体的に記載されている方法によって求めることも可能である。

【0047】

Ｆｏｘの式 １／（２７３＋Ｔｇ）＝Σ［Ｗｉ／（２７３＋Ｔｇｉ）］

【0048】

粘着剤組成物は、必要に応じて他の成分を含有してもよい。他の成分としては、例えば、溶剤、シランカップリング剤、紫外線吸収剤、粘着付与剤、軟化剤、および酸化防止剤が挙げられる。溶剤としては、例えば、アクリルポリマーの重合時に必要に応じて用いられる重合溶媒、および、重合後に重合反応溶液に添加される溶剤が、挙げられる。当該溶剤としては、例えば、酢酸エチルおよびトルエンが用いられる。

【0049】

粘着剤層２０のヘイズは、好ましくは３％以下、より好ましくは２％以下、更に好ましくは１％以下である。粘着剤層２０のヘイズは、ＪＩＳ Ｋ７１３６（２０００年）に準拠して、ヘイズメーターを使用して測定できる。ヘイズメーターとしては、例えば、日本電色工業社製の「ＮＤＨ２０００」、および、村上色彩技術研究所社製の「ＨＭ-１５０型」が挙げられる。

【0050】

粘着剤層２０の２５℃でのせん断貯蔵弾性率は、粘着剤層２０の凝集力を確保する観点から、好ましくは１０ｋＰａ以上、より好ましくは１５ｋＰａ以上、更に好ましくは２０ｋＰａ以上、特に好ましくは２５ｋＰａ以上である。粘着剤層２０の２５℃でのせん断貯蔵弾性率は、フレキシブルディスプレイパネル用途の光学粘着シートに求められる柔らかさを粘着剤層２０において実現する観点から、１００ｋＰａ以下であり、好ましくは８０ｋＰａ以下、より好ましくは７０ｋＰａ以下、更に好ましくは６０ｋＰａ以下、特に好ましくは５０ｋＰａ以下である。せん断貯蔵弾性率の調整方法としては、例えば、粘着剤層２０におけるベースポリマーの種類の選択、分子量の調整、配合量の調整、ガラス転移温度の調整、および架橋度の調整が挙げられる。せん断貯蔵弾性率の調整方法としては、粘着剤層２０におけるベースポリマー以外の成分の選択および配合量の調整も挙げられる。粘着剤層のせん断貯蔵弾性率は、動的粘弾性測定によって求められる。同測定は、Rheometric Scientific社製の動的粘弾性測定装置「Advanced Rheometric Expansion System (ARES)」によって実施できる。同測定では、測定モードをせん断モードとし、測定温度範囲を－４０℃～１００℃とし、昇温速度を５℃/分とし、周波数を１Ｈｚとする。

【0051】

フィルム層３０は、本実施形態では、はく離ライナーである。はく離ライナーの材料としては、例えば、ポリエステル、ポリオレフィン、およびポリカーボネートが挙げられる。具体的には、フィルム層１０に関して上記したはく離ライナーの材料が挙げられる。はく離ライナーとしてのフィルム層３０は、粘着剤層２０の第２面２０ｂに剥離可能に接している。そのようなフィルム層３０の表面（粘着剤層２０側の表面）は、好ましくは剥離処理されている。剥離処理としては、例えば、シリコーン剥離処理およびフッ素剥離処理が挙げられる。フィルム層３０の厚さは、例えば１０μｍ以上であり、また、例えば２００μｍ以下である。

【0052】

積層フィルムＸは、例えば次のようにして製造できる。まず、上述の粘着剤組成物をフィルム層１０上に塗布して塗膜を形成する。次に、フィルム層１０上の塗膜の上にフィルム層３０を貼り合わせる。次に、フィルム層１０,３０間の塗膜を乾燥させ、且つ、必要に応じて塗膜に対して光照射する。これにより、フィルム層１０,３０間に粘着剤層２０を形成する。粘着剤組成物の塗布方法としては、例えば、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、およびダイコートが挙げられる。塗膜の乾燥温度は、例えば５０℃～２００℃である。乾燥時間は、例えば５秒～２０分である。

【0053】

外形加工工程では、図１Ｂに示すように、ワークフィルムＷに対するレーザー加工を実施する。具体的には、レーザー加工装置により、ワークフィルムＷに対してフィルム層３０側からレーザー光Ｌを照射して、フィルム層１０上で粘着剤層２０およびフィルム層３０を切断する。これにより、粘着剤層２０において、個片化された粘着剤層２１と、粘着剤層２１まわりの周囲部２２とが形成される。また、フィルム層３０において、粘着剤層２１上のフィルム３１と、フィルム３１まわりの周囲部３２とが形成される。フィルム層１０には、ハーフカット溝１０ａが形成される。ハーフカット溝１０ａは、粘着剤層２１の端縁２１ａに沿って形成される。本実施形態では、レーザー加工装置として、図２および図３に示すようにレーザー加工装置１００を用いる。

【0054】

レーザー加工装置１００は、本実施形態では、加工ステージ１１０と、レーザー加工ユニット１２０と、制御部（図示略）とを備える。図２および図３は、レーザー加工装置１００が１台のレーザー加工ユニット１２０を備える場合を例示的に図示する。

【0055】

加工ステージ１１０は、製造ラインを流れるワークフィルムＷを支持するステージである。加工ステージ１１０は、図３に示すように、支持テーブル１１１と、吸引路１１２とを有する。支持テーブル１１１は、加工ステージ１１０において、ワークフィルムＷに対する支持面を形成する。支持テーブル１１１は、当該支持テーブル１１１を厚さ方向に貫通する複数の吸引孔１１１ａを有する。吸引路１１２は、加工ステージ１１０内に形成された空間である。吸引路１１２は、支持テーブル１１１の下方に位置する。支持テーブル１１１の各吸引孔１１１ａは、吸引路１１２と連通する。吸引路１１２は、減圧ポンプ（図示略）の吸引路と連結されている。減圧ポンプの稼働により、吸引路１１２は減圧される。減圧ポンプは、制御部による制御に従って、稼働状態と非稼働状態とを選択可能である。支持テーブル１１１上にワークフィルムＷがある場合、吸引路１１２が減圧されることにより、ワークフィルムＷは加工ステージ１１０の支持テーブル１１１に対して吸引される。外形加工工程において、加工ステージ１１０は、具体的にはワークフィルムＷのキャリアフィルムＣ側を吸引する。

【0056】

加工ステージ１１０の製造ライン上流側には、図２に示すように、一対のニップローラＮ１,Ｎ１が配置されている。一対のニップローラＮ１,Ｎ１によってワークフィルムＷを挟んだ状態で各ニップローラＮ１を一定速度で回転させることにより、ワークフィルムＷを引っ張って加工ステージ１１０に向けて送る。一対のニップローラＮ１,Ｎ１とレーザー加工装置１００ないし加工ステージ１１０との間（即ち、外形加工工程の前）において、好ましくは、ワークフィルムＷを弛ませることを含まない。一方、加工ステージ１１０の製造ライン下流側には、一対のニップローラＮ２,Ｎ２が配置されている。一対のニップローラＮ２,Ｎ２によってワークフィルムＷを挟んだ状態で各ニップローラＮ２を一定速度で回転させることにより、ワークフィルムＷを引っ張ってニップローラＮ２,Ｎ２より下流側に向けて送る。本実施形態では、ニップローラＮ１,Ｎ１とニップローラＮ２,Ｎ２とにより、ワークフィルムＷは、加工ステージ１１０の支持ステージ１１１上を同フィルムの長さ方向（流れ方向Ｄ１）に流される。この状態において加工ステージ１１０の吸引路１１２が減圧されることにより、ワークフィルムＷは、加工ステージ１１０に吸引されつつ、加工ステージ１１０上をスライド走行する。レーザー加工装置１００ないし加工ステージ１１０と一対のニップローラＮ２,Ｎ２との間（即ち、外形加工工程の後）において、好ましくは、ワークフィルムＷを弛ませることを含まない。

【0057】

レーザー加工ユニット１２０は、図４に模式的に示すように、筐体１２１と、レーザー光源１２２と、ビームエキスパンダ１２３と、可動レンズ１２４と、集光レンズ１２５と、ガルバノスキャナＳとを備える。レーザー光源１２２、ビームエキスパンダ１２３、可動レンズ１２４、集光レンズ１２５、およびガルバノスキャナＳは、筐体１２１内に収容されている。筐体１２１はレーザー光出射口（図示略）を有する。

【0058】

レーザー光源１２２は、レーザー光Ｌを発振する。レーザー光源１２２としては、例えば、気体レーザー光源、固体レーザー光源、および半導体レーザー光源が挙げられる。気体レーザー光源としては、例えば、赤外域の波長を有するレーザー光をパルス発振するレーザー光源が挙げられる。そのようなレーザー光源としては、例えば、ＣＯレーザー光源（５μｍ）およびＣＯ_２レーザー光源（９.３～１０.６μｍ）が挙げられる（括弧内の数値はレーザー光源からのレーザー光の波長を表す。レーザー光源に関して以下同じ）。気体レーザー光源としては、エキシマレーザー光源も挙げられる。エキシマレーザー光源としては、例えば、Ｆ_２エキシマレーザー光源（１５７ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザー光源（１９３ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザー光源（２４８ｎｍ）、およびＸｅＣｌエキシマレーザー光源（３０８ｎｍ）が挙げられる。固体レーザー光源としては、例えば、Ｎｄ:ＹＡＧレーザー光源（１０６４ｎｍ）が挙げられる。半導体レーザー光源としては、例えば、波長４０５ｎｍの半導体レーザー光源が挙げられる。レーザー光源としては、材質および光学特性（吸光度など）の異なる粘着剤層２０とフィルム層３０とを共に適切に切断する観点から、ＣＯ_２レーザー光源が好ましい。すなわち、レーザー光Ｌとしては、ＣＯ_２レーザーが好ましい。

【0059】

ビームエキスパンダ１２３は、レーザー光Ｌのビームサイズを調整する光学部品である。ビームエキスパンダ１２３と可動レンズ１２４との間には、他の光学部品が配置されてもよい。他の光学部品としては、例えば、コリメータレンズおよびホモジナイザが挙げられる。

【0060】

可動レンズ１２４は、レーザー光Ｌの光軸方向に変位可能なレンズである。可動レンズ１２４が光軸方向に変位することにより、集光レンズ１２５で集光されるレーザー光Ｌの焦点の位置（ワークフィルムＷでの焦点の位置）が変動する。可動レンズ１２４は、制御部による制御に従って、光軸方向の位置を調節可能である（可動レンズ１２４の位置制御）。

【0061】

集光レンズ１２５を通過したレーザー光Ｌは、ガルバノスキャナＳで反射される。ガルバノスキャナＳは、図５に示すように、ガルバノミラー１２６（第１ガルバノミラー）と、ガルバノモータ１２７（第１ガルバノモータ）と、ガルバノミラー１２８（第２ガルバノミラー）と、ガルバノモータ１２９（第２ガルバノモータ）とを備える。

【0062】

ガルバノミラー１２６は、レーザー光Ｌを反射可能なミラー面１２６ａを有する。ガルバノモータ１２７は、ガルバノミラー１２６に連結されたモータ軸芯１２７ａを有する。モータ軸芯１２７ａは、第１方向に延びる。第１方向は、好ましくは、ワークフィルムＷの流れ方向Ｄ１および幅方向Ｄ２のそれぞれと直交する方向である。ガルバノモータ１２７は、ガルバノミラー１２６のミラー面１２６ａが向く方向（第１ミラー面方向）を、モータ軸芯１２７ａに沿って延びる回転軸まわりに揺動させることができる。ガルバノモータ１２７は、制御部による制御に従って、ガルバノミラー１２６における第１ミラー面方向を制御可能である。

【0063】

ガルバノミラー１２８は、レーザー光Ｌを反射可能なミラー面１２８ａを有する。ガルバノモータ１２９は、ガルバノミラー１２８に連結されたモータ軸芯１２９ａを有する。モータ軸芯１２９ａは、第２方向に延びる。第２方向は、第１方向と交差する。第２方向は、好ましくは、第１方向と直交する。第２方向は、好ましくは、幅方向Ｄ２である。ガルバノモータ１２９は、ガルバノミラー１２８のミラー面１２８ａが向く方向（第２ミラー面方向）を、モータ軸芯１２９ａに沿って延びる回転軸まわりに揺動させることができる。ガルバノモータ１２９は、制御部による制御に従って、ガルバノミラー１２８における第２ミラー面方向を制御可能である。

【0064】

ガルバノスキャナＳにおいて、レーザー光Ｌは、ガルバノミラー１２６のミラー面１２６ａと、ガルバノミラー１２８のミラー面１２８ａとで順次に反射される。このレーザー光Ｌは、筐体１２１のレーザー光出射口を通過した後、加工ステージ１１０上のワークフィルムＷに照射される。

【0065】

レーザー加工ユニット１２０において、レーザー光Ｌは、ガルバノモータ１２７,１２９の第１・第２ミラー面方向の制御により、ワークフィルムＷに対して走査される。具体的には、レーザー加工ユニット１２０からのレーザー光ＬのワークフィルムＷ上の照射スポットが、ワークフィルムＷにおける切断予定ラインをたどるように、ガルバノモータ１２７,１２９の第１・第２ミラー面方向の制御により、流れ方向Ｄ１および面方向Ｄ２に走査される。レーザー加工ユニット１２０において、レーザー光Ｌは、ガルバノスキャナＳの実質的に直下を中心とする所定の範囲（走査エリア）内を走査される。また、走査されるレーザー光Ｌにおいて、ワークフィルムＷに対する入射角（同フィルムの表面の法線方向と、レーザー光Ｌの光軸方向とが形成する角度）の変化に関わらず照射スポットのサイズ（スポット径）が同じになるように、第１・第２ミラー面方向に応じて可動レンズ１２４は位置制御される。加えて、レーザー光Ｌの走査においては、ワークフィルムＷの搬送速度（ベクトル）とレーザー光Ｌの走査速度（ベクトル）との合成速度（ベクトル）によって定まる照射スポットの位置が、ワークフィルムＷにおける切断予定ラインをたどるように、制御部によってガルバノスキャナＳ（ガルバノモータ１２７,１２９）が制御される。

【0066】

以上のような外形加工工程において、レーザー光Ｌのスポット径（Ｄ）は、レーザー加工後の粘着剤層２１と周囲部２２との間の離隔距離を確保する観点から、好ましくは５０μｍ以上、より好ましくは７０μｍ以上、更に好ましくは８０μｍ以上、特に好ましくは１００μｍ以上である。スポット径（Ｄ）は、外形加工工程でのハーフカットによって除去される部分の幅（エッジ幅）が大きくなりすぎないようにする観点、および、切断端部の加熱による変質（物性の変化）を抑制する観点から、好ましくは７００μｍ以下、より好ましくは５００μｍ以下、更に好ましくは３００μｍ以下である。外形加工工程で形成される切断端部（エッジ）は、エッジアライメントに利用できる。エッジ幅の抑制は、エッジアライメントにおけるアライメントエラーの抑制の観点から好ましい。

【0067】

レーザー光Ｌによる切断速度（Ｒ）は、製造される積層フィルムＹの生産性向上（生産コスト削減に役立つ）の観点から、好ましくは３００ｍｍ/秒以上、より好ましくは４００ｍｍ/秒以上、更に好ましくは５００ｍｍ/秒以上である。レーザー光Ｌによる切断速度（Ｒ）は、切断精度の向上（積層フィルムＹの寸法精度の確保に役立つ）、および、積層フィルムＹの端部品位の確保の観点から、好ましくは３０００ｍｍ/秒以下、より好ましくは２５００ｍｍ/秒以下、更に好ましくは２０００ｍｍ/秒以下である。レーザー光Ｌによる切断速度（Ｒ）とは、ワークフィルムＷないし積層フィルムＸの搬送速度（ベクトル）と、当該フィルムに対するレーザー光Ｌの照射スポットの走査速度（ベクトル）との、合成速度である。外形加工工程では、積層フィルムＸに対するレーザー光Ｌの照射スポットの走査速度は、好ましくは、レーザー光Ｌによる切断速度（Ｒ）が一定となるように制御される（即ち、前記合成速度が一定となるように、積層フィルムＸにおけるレーザー切断の方向に応じて前記走査速度が調整される）。

【0068】

レーザー光Ｌの出力は、切断速度の確保、および、パス数（スキャン回数，理想は１パス）の低減の観点から、好ましくは２Ｗ以上、より好ましくは１０Ｗ以上、更に好ましくは２０Ｗ以上である。高い切断速度の確保、および、パス数の低減は、積層フィルムＹの生産性の向上に役立つ。レーザー光Ｌの出力は、切断端部の加熱による変質を抑制する観点から、好ましくは５００Ｗ以下、より好ましくは４００Ｗ以下、更に好ましくは３５０Ｗ以下である。

【0069】

レーザー光Ｌのパルスの周波数（Ｆ）は、製造される積層フィルムＹの端部品位と生産性との両立の観点から、好ましくは１０ｋＨｚ上、より好ましくは２０ｋＨｚ以上、更に好ましくは３０ｋＨｚ以上である（レーザー光Ｌによる切断速度を高めて生産性を高めるほど、切断不良を回避して品位を確保するためには、照射パルスの周波数を上げるのが好ましい）。レーザー光Ｌのパルスの周波数（Ｆ）は、切断端部の加熱による変質を抑制する観点から、好ましくは１ＧＨｚ以下、より好ましくは９００ＭＨｚ以下、更に好ましくは８００ＭＨｚ以下である（照射パルスが重なりすぎると熱影響が過大となり、エッジ幅が広がる傾向にある）。

【0070】

レーザー光Ｌの照射におけるパルスエネルギーは、良好な切断の実現の観点から、例えば３００μＪ以上であり、また、例えば２００００μＪ以下である。レーザー光Ｌのパルスエネルギーは、レーザー光Ｌの出力をレーザー光Ｌのパルス周波数で除した値として、算出される。

【0071】

レーザー光Ｌの照射におけるトータルエネルギー（Ｅ）は、良好な切断の実現の観点から、例えば３００００μＪ/ｍｍ以上であり、また、例えば１００００００μＪ/ｍｍ以下である。レーザー光Ｌのトータルエネルギーは、レーザー光Ｌの出力をレーザー光Ｌによる切断速度で除した値と、スキャン回数（パス数）との積として、算出される。

【0072】

レーザー加工における切断深さ（Ｌ）は、ワークフィルムＷの厚さに応じて、例えば５０μｍ以上であり、また、例えば５００μｍ以下である。ワークフィルムＷの厚さに対する切断深さ（Ｌ）は、例えば０.１以上であり、また、例えば０.９以下である。

【0073】

トータルエネルギーをＥ（μＪ/ｍｍ）とし、スポット径をＤ（μｍ）とし、ワークフィルムに対する切断深さをＬ（μｍ）とするとき、Ｅ／（Ｌ×Ｄ）の値は、好ましくは１以上、より好ましくは２以上、更に好ましくは３以上であり、また、好ましくは２０以下、より好ましくは１５以下、更に好ましくは１０以下、特に好ましくは７以下である。このような構成は、適度な切断深さを実現するうえで好ましい。切断深さが浅すぎると、切断不良のリスクが高まり、切断深さが深すぎると、はく離ライナーの剥離時に剥離エラー（具体的には、はく離ライナーの不意の切断）のリスクが高まる。

【0074】

レーザー光Ｌによる切断速度をＲ（ｍｍ/秒）とし、レーザー光Ｌのパルスの周波数をＦ（ｋＨｚ）とし、スポット径をＤ（μｍ）とするとき、Ｒ／（Ｆ×Ｄ）の値は、好ましくは１以下、より好ましくは０.５以下、更に好ましくは０.２以下、特に好ましくは０.１７以下である。このような構成は、積層フィルムＹにおいて良好な切断端部品位を確保するうえで好ましい。Ｒ／（Ｆ×Ｄ）の値が小さすぎる場合、隣り合う照射パルスの重なりが過少であり、切断不良が生じやすい。そのような切断不良が生じると、外形加工工程（図１Ｂ）の後に適切に除去工程（図１Ｃ）を実施できないリスクが高まる。Ｒ／（Ｆ×Ｄ）の値は、好ましくは０.００５以上、より好ましくは０.０１以上、更に好ましくは０.０２以上である。このような構成は、積層フィルムＹにおいて良好な切断端部品位を確保するうえで好ましく、また、加熱による変質（物性の変化）を抑制するのに好ましい。Ｒ／（Ｆ×Ｄ）の値が大きすぎる場合、隣り合う照射パルスの重なりが過大であり、積層フィルムＸが熱影響を受けて溶けてしまうリスクが高まる。

【0075】

外形加工工程のライン速度Ｒ’（外形加工工程中のワークフィルムＷの搬送速度）は、生産効率の確保の観点から、好ましくは５ｍ/秒以上、より好ましくは１０ｍ/秒以上であり、また、切断精度の確保の観点から、好ましくは１００ｍ/秒以下、より好ましくは８０ｍ/秒以下である。

【0076】

次に、除去工程では、図１Ｃに示すように、フィルム層１０上から周囲部２２,３２を除去する。

【0077】

次に、切断工程では、図１Ｄに示すように、フィルム層１０が、枚葉状のフィルム１１に切断される。切断方法としては、例えば、レーザー加工による切断、および、プレス加工による切断が挙げられる。

【0078】

以上のようにして、積層フィルムＹ（粘着剤層を有する積層フィルム）を製造できる。フィルム３１を粘着剤層２１から剥離した後、粘着剤層２１に他のフィルムを貼り合わせてもよい。

【0079】

本製造方法の外形加工工程（図１Ｂ）においては、上述のように、２５℃でのせん断貯蔵弾性率が１００ｋＰａ以下の柔らかい粘着剤層２０に対してレーザー光Ｌが照射されることにより、粘着剤層２０が切断される。粘着剤層２０に対してレーザー光Ｌが照射された部分では、粘着剤層２０の材料が蒸発して除去される。すなわち、外形加工工程では、粘着剤層２０の部分的除去により、粘着剤層２０において、個片化された粘着剤層２１とその周りの周囲部２２とが、隔てられて形成される。粘着剤層２０はプレス刃の押し入りによって粘着剤層２１とその周囲部２２とに切断されるのではないので、粘着剤層２１と周囲部２２の上述の復帰的変形が生じない。このような外形加工工程は、軟質であるために変形しやすい粘着剤層２１と周囲部２２との間で上述のブロッキングが生じるのを抑制するのに適する。

【0080】

また、本製造方法の外形加工工程（図１Ｂ）では、上述のように、加工ステージ１１０によってワークフィルムＷを吸引しつつ、ワークフィルムＷを長さ方向に加工ステージ１１０上をスライド走行させ、ワークフィルムＷに対してレーザー加工を実施する。レーザー加工は、ワークフィルムＷを連続的に流しながら粘着剤層２０を連続的に外形加工するのに適する。すなわち、本製造方法では、粘着剤層２０の外形加工のためにワークフィルムＷを間欠的に送る必要がない。また、ワークフィルムＷが加工ステージ１１０に吸引されることは、レーザー加工時にワークフィルムＷのバタつきを抑制または防止して、ワークフィルムＷに対してレーザー光Ｌの焦点を高精度に合わせるのに適し、従って、ワークフィルムＷを高精度にレーザー加工するのに適する。

【0081】

以上のように、本製造方法は、軟質な粘着剤層２１を有する積層フィルムＹを効率よく製造するのに適する。

【0082】

外形加工工程では、上述のように、製造ラインを連続的に流れるワークフィルムＷは、加工ステージ１１０に吸引されつつ、加工ステージ１１０上をスライド走行される。このことは、外形加工工程において、ワークフィルムＷの粘着剤層２０に対してレーザー光Ｌの焦点を高精度に合わせるのに好ましく、従って、ワークフィルムＷを効率的かつ高精度に切断するのに好ましい。

【0083】

ワークフィルムＷは、上述のように、キャリアフィルムＣと、フィルム層１０と、粘着剤層２０と、フィルム層３０とを厚さ方向Ｈにこの順で備えるのが好ましい。このような構成によると、ワークフィルムＷを加工ステージ１１０上で上述のようにスライド走行させつつも、製品（具体的にはフィルム層１０）に傷が付くのを回避できる。

【0084】

本製造方法では、好ましくは、外形加工工程の前および／または後にワークフィルムＷを弛ませることを含まない。このような製造方法は、製造ラインにおいてワークフィルムＷを弛ませるための調整・制御が不要であり、粘着剤層２１を有する積層フィルムＹを効率よく製造するのに好ましい。外形加工工程後にワークフィルムＷを弛ませることを含まないことは、製造ラインにおいてワークフィルムＷが比較的大きな曲率半径で湾曲することを回避するのに適し、粘着剤層２１とその周囲部２２との間で上述のブロッキングが生じるのを抑制するのに適する（ワークフィルムＷの湾曲は、粘着剤層２１とその周囲部２２との間の離隔距離を縮めて、ブロッキングが生ずる可能性を高める）。

【0085】

本製造方法において、レーザー加工装置１００におけるレーザー加工ユニット１２０の数は１に限らない。すなわち、レーザー加工装置１００が備えるガルバノスキャナＳの数は１に限らない。レーザー加工装置１００におけるレーザー加工ユニット１２０の数は、２、３、または、４以上であってもよい。すなわち、レーザー加工装置１００が備えるガルバノスキャナＳの数は、２、３、または、４以上であってもよい。ワークフィルムＷには、ワークフィルムＷの幅方向Ｄ２に連なるように、ガルバノスキャナＳと同数（２、３、または、４以上）の走査領域が設定される。

【0086】

レーザー加工ユニット１２０は、レーザー光ＬがガルバノスキャナＳの後に通過する位置に、テレセントリックタイプのｆθレンズを備えてもよい（レーザー加工ユニット１２０は、テレセントリックタイプのｆθレンズを備える場合、集光レンズ１２５を備えない）。当該ｆθレンズは、レーザー光ＬのワークフィルムＷに対する入射角の変化に関わらずレーザー光Ｌの照射スポットのスポット径が同じになるようにするのに役立つ。レーザー加工ユニット１２０は、そのようなｆθレンズを備える場合、必ずしも可動レンズ１２４を備えなくてもよい。レーザー加工ユニット１２０に割り当てられる走査領域Ｒの幅（幅方向Ｄ２の長さ）よりも直径が大きなテレセントリックタイプfθレンズを用いることができる場合、そのようなfθレンズを用いることが好ましい。また、レーザー加工ユニット１２０においては、テレセントリックタイプfθレンズと上述の可動レンズ１２４とを併用してもよい。

【0087】

レーザー加工時のワークフィルムＷのバタつきを抑制または防止するためには、加工ステージ１１０による吸引機能を利用するのに代えて、次のような方法も考えられる。一対のニップローラＮ１,Ｎ１と一対のニップローラＮ２,Ｎ２との間において、ワークフィルムＷに、そのバタつきを抑制・防止するための十分な張力（長さ方向の張力）が生じるように、一対のニップローラＮ１,Ｎ１の回転速度と一対のニップローラＮ２,Ｎ２の回転速度とを同期させて制御する。

【0088】

レーザー加工時のワークフィルムＷのバタつきを抑制または防止するためには、製造ラインにおける加工ステージ１１０の直前に第１サンクションロールを配置し、加工ステージ１１０の直後に第２サンクションロールを配置する（サンクションロールはワークフィルムＷを吸引可能であり、ワークフィルムＷはサンクションロールに吸引されつつ、当該ロール周表面をスライド走行可能である）。そして、第１サンクションローラと第２サンクションローラとの間で、ワークフィルムＷのバタつきを抑制・防止するための十分な張力（長さ方向の張力）がワークフィルムＷに生じるように、ワークフィルムＷを、第１および第２サンクションロールによって吸引しつつ走行させる。

【符号の説明】

【0089】

Ｗ ワークフィルム
Ｘ 積層フィルム
Ｃ キャリアフィルム
Ｈ 厚さ方向
Ｄ１ 流れ方向
Ｄ２ 幅方向
１０ フィルム層（第１フィルム層）
１１ フィルム
２０，２１ 粘着剤層
２２ 周囲部
３０ フィルム層（第２フィルム層）
３１ フィルム
３２ 周囲部
１００ レーザー加工装置
１１０ 加工ステージ
１１１ 支持テーブル
１１１ａ 吸引孔
１１２ 吸引路
１２０ レーザー加工ユニット
Ｓ ガルバノスキャナ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】