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特開2024-52541光学フィルム、並びに、前記光学フィルムを用いた偏光板、表面板、画像表示パネル及び画像表示装置、並びに、前記光学フィルムの製造方法、並びに、光学フィルムの選定方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024052541
(43)【公開日】2024-04-11
(54)【発明の名称】光学フィルム、並びに、前記光学フィルムを用いた偏光板、表面板、画像表示パネル及び画像表示装置、並びに、前記光学フィルムの製造方法、並びに、光学フィルムの選定方法
(51)【国際特許分類】
G02B 5/02 20060101AFI20240404BHJP
G02B 5/30 20060101ALI20240404BHJP
【ＦＩ】
G02B5/02 C
G02B5/30
【審査請求】未請求
【請求項の数】1
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023131864
(22)【出願日】2023-08-14
(62)【分割の表示】P 2022158197の分割
【原出願日】2022-09-30
(71)【出願人】
【識別番号】000002897
【氏名又は名称】大日本印刷株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002620
【氏名又は名称】弁理士法人大谷特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】辻本 淳
(72)【発明者】
【氏名】岩田 行光
(72)【発明者】
【氏名】竹井 理哲
(72)【発明者】
【氏名】田中 将史
(72)【発明者】
【氏名】池田 圭輔
(72)【発明者】
【氏名】古井 玄
【テーマコード（参考）】
2H042
2H149
【Ｆターム（参考）】
2H042BA02
2H042BA04
2H042BA12
2H042BA13
2H042BA15
2H042BA20
2H149AA02
2H149AA18
2H149AB01
2H149BA02
2H149FC05
(57)【要約】
【課題】防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムを提供する。
【解決手段】第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、前記第１面は凹凸形状を有し、前記第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、前記第１面が下記式１を満たす、光学フィルム。
Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００ （式１）
［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
【選択図】図１
【解決手段】第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、前記第１面は凹凸形状を有し、前記第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、前記第１面が下記式１を満たす、光学フィルム。
Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００ （式１）
［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第１面は凹凸形状を有し、
前記第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
前記第１面が下記式１を満たす、光学フィルム。
Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００ （式１）
［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第１面は凹凸形状を有し、
前記第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
前記第１面が下記式１を満たす、光学フィルム。
Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００ （式１）
［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、光学フィルム、並びに、前記光学フィルムを用いた偏光板、表面板、画像表示パネル及び画像表示装置、並びに、前記光学フィルムの製造方法、並びに、光学フィルムの選定方法に関する。
【背景技術】
【0002】
テレビ、ノートＰＣ、デスクトップＰＣのモニター等の画像表示装置の表面には、照明及び人物等の背景の映り込みを抑制したり、表面の反射を抑制したりするために、光学フィルムが設置される場合がある。
光学フィルムとしては、例えば、特許文献１～３等が提案されている。
光学フィルムとしては、例えば、特許文献１～３等が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】国際公開第２０１９／０２６４６６号
【特許文献2】国際公開第２０１９／０２６４７１号
【特許文献3】特開２０１９－８５４７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
特許文献１～２の光学フィルムは、表面に凹凸が形成された防眩層を有する防眩フィルムである。表面に凹凸形状を有する光学フィルムは、凹凸形状に指紋が入り込むことにより、指紋拭き取り性が低下する傾向がある。防眩フィルムは、防眩性を良好にするほど指紋拭き取り性が低下する傾向が高くなる。特許文献１～２の光学フィルムは、防汚性について何ら検討していない。
【0005】
特許文献３の光学フィルムは、オレイン酸の滑落角が３２°以下であるコートフィルムである。特許文献３のコートフィルムは、指紋を拭き取りやすくすることを課題としているが、指紋拭き取り性が良好とはいえないものであった。
光学フィルムに付着した指紋が十分に拭き取られない場合、指紋成分を有する箇所と、指紋成分を有さない箇所との光学特性のコントラストにより、光学フィルムの見栄えが低下してしまう。特に、反射防止層を有する光学フィルムの場合、指紋成分を有する箇所と、指紋成分を有さない箇所との反射率のコントラストが大きくなり、光学フィルムの見栄えが大きく低下してしまう。
光学フィルムに付着した指紋が十分に拭き取られない場合、指紋成分を有する箇所と、指紋成分を有さない箇所との光学特性のコントラストにより、光学フィルムの見栄えが低下してしまう。特に、反射防止層を有する光学フィルムの場合、指紋成分を有する箇所と、指紋成分を有さない箇所との反射率のコントラストが大きくなり、光学フィルムの見栄えが大きく低下してしまう。
【0006】
本開示は、表面に凹凸形状を有し、かつ、表面に反射防止層を有する光学フィルムにおいて、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムを提供することを課題とする。本開示は、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な偏光板、表面板、画像表示パネル及び画像表示装置を提供することを課題とする。本開示は、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムの製造方法を提供することを課題とする。本開示は、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムの選定方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本開示は、以下の［１］～［７］を提供する。
［１］ 第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第１面は凹凸形状を有し、
前記第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
前記第１面が下記式１を満たす、光学フィルム。
Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００ （式１）
［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
［２］ 偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第一の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第二の透明保護板とを有する偏光板であって、
前記第一の透明保護板及び前記第二の透明保護板の少なくとも一方が、［１］に記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記偏光子とが対向して配置された、偏光板。
［３］ 樹脂板又はガラス板上に保護フィルムを貼り合わせた画像表示装置用の表面板であって、前記保護フィルムが［１］に記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記樹脂板又は前記ガラス板とが対向して配置された、画像表示装置用の表面板。
［４］ 表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムを有する画像表示パネルであって、前記光学フィルムとして［１］に記載の光学フィルムを含む、画像表示パネル。
［５］ ［４］に記載の画像表示パネルを含む、画像表示装置。
［６］ ［１］に記載の光学フィルムの製造方法であって、
基材上に防眩層を形成する第１の工程と、前記防眩層上に反射防止層を形成する第２の工程とを有する、光学フィルム製造方法。
［７］ 下記の選定条件を満たす光学フィルムを選定する、光学フィルムの選定方法。
（光学フィルムの選定条件）
第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第１面は凹凸形状を有し、
前記第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
前記第１面が下記式１を満たす。
Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００ （式１）
［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
［１］ 第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第１面は凹凸形状を有し、
前記第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
前記第１面が下記式１を満たす、光学フィルム。
Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００ （式１）
［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
［２］ 偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第一の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第二の透明保護板とを有する偏光板であって、
前記第一の透明保護板及び前記第二の透明保護板の少なくとも一方が、［１］に記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記偏光子とが対向して配置された、偏光板。
［３］ 樹脂板又はガラス板上に保護フィルムを貼り合わせた画像表示装置用の表面板であって、前記保護フィルムが［１］に記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記樹脂板又は前記ガラス板とが対向して配置された、画像表示装置用の表面板。
［４］ 表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムを有する画像表示パネルであって、前記光学フィルムとして［１］に記載の光学フィルムを含む、画像表示パネル。
［５］ ［４］に記載の画像表示パネルを含む、画像表示装置。
［６］ ［１］に記載の光学フィルムの製造方法であって、
基材上に防眩層を形成する第１の工程と、前記防眩層上に反射防止層を形成する第２の工程とを有する、光学フィルム製造方法。
［７］ 下記の選定条件を満たす光学フィルムを選定する、光学フィルムの選定方法。
（光学フィルムの選定条件）
第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第１面は凹凸形状を有し、
前記第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
前記第１面が下記式１を満たす。
Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００ （式１）
［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
【発明の効果】
【0008】
本開示の光学フィルム、偏光板、表面板、画像表示パネル及び画像表示装置は、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性を良好にすることができる。本開示の光学フィルムの製造方法は、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムを、簡易に製造することができる。本開示の光学フィルムの選定方法は、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムを、効率よく選定することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1】本開示の光学フィルムの一実施形態を示す概略断面図である。
【図2】本開示の画像表示パネルの一実施形態を示す断面図である。
【図3】純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、本開示の実施形態を説明する。
［光学フィルム］
本開示の光学フィルムは、以下のものである。
第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第１面は凹凸形状を有し、
前記第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
前記第１面が下記式１を満たす、光学フィルム。
Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００ （式１）
［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
［光学フィルム］
本開示の光学フィルムは、以下のものである。
第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第１面は凹凸形状を有し、
前記第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
前記第１面が下記式１を満たす、光学フィルム。
Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００ （式１）
［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
【0011】
図１は、本開示の光学フィルム１００の断面形状の概略断面図である。
図１の光学フィルム１００は、凹凸形状を有する第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面を有している。図１では、上側の面が第１面、下側の面が第２面である。
図１の光学フィルムは、第１面から第２面に向けて、反射防止層３０、防眩層２０及び基材１０をこの順に有している。
図１は模式的な断面図である。すなわち、光学フィルム１００を構成する各層の縮尺、及び凹凸形状の縮尺は、図示しやすくするために模式化したものであり、実際の縮尺とは相違している。図２及び３も同様である。
図１の光学フィルム１００は、凹凸形状を有する第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面を有している。図１では、上側の面が第１面、下側の面が第２面である。
図１の光学フィルムは、第１面から第２面に向けて、反射防止層３０、防眩層２０及び基材１０をこの順に有している。
図１は模式的な断面図である。すなわち、光学フィルム１００を構成する各層の縮尺、及び凹凸形状の縮尺は、図示しやすくするために模式化したものであり、実際の縮尺とは相違している。図２及び３も同様である。
【0012】
本開示の光学フィルムは、図１の積層構成に限定されない。例えば、本開示の光学フィルムは、基材を有さない積層構成であってもよい。本開示の光学フィルムは、基材、防眩層及び反射防止層以外の層を有するものであってもよい。
【0013】
＜第１面＞
本開示の光学フィルムは第１面を有する。本開示の光学フィルムは、反射防止層の表面が第１面であることが好ましい。
本開示の光学フィルムは第１面を有する。本開示の光学フィルムは、反射防止層の表面が第１面であることが好ましい。
【0014】
光学フィルムの第１面は、凹凸形状を有し、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上である。第１面が凹凸形状を有さない場合、光学フィルムの防眩性を良好にすることができない。第１面が凹凸形状を有していても、Ｓａが０．０５μｍ未満の場合、光学フィルムの防眩性を良好にすることができない。
【0015】
第１面は、Ｓａが０．１０μｍ以上であることが好ましく、０．２０μｍ以上であることがより好ましく、０．３０μｍ以上であることがさらに好ましい。
第１面のＳａが大きすぎると、光学フィルムの耐擦傷性が低下する場合がある。このため、第１面のＳａは、０．８０μｍ以下であることが好ましく、０．６０μｍ以下であることがより好ましく、０．４５μｍ以下であることがさらに好ましい。
第１面のＳａが大きすぎると、光学フィルムの耐擦傷性が低下する場合がある。このため、第１面のＳａは、０．８０μｍ以下であることが好ましく、０．６０μｍ以下であることがより好ましく、０．４５μｍ以下であることがさらに好ましい。
【0016】
第１面のＳａの範囲の実施形態は、０．０５μｍ以上０．８０μｍ以下、０．０５μｍ以上０．６０μｍ以下、０．０５μｍ以上０．４５μｍ以下、０．１０μｍ以上０．８０μｍ以下、０．１０μｍ以上０．６０μｍ以下、０．１０μｍ以上０．４５μｍ以下、０．２０μｍ以上０．８０μｍ以下、０．２０μｍ以上０．６０μｍ以下、０．２０μｍ以上０．４５μｍ以下、０．３０μｍ以上０．８０μｍ以下、０．３０μｍ以上０．６０μｍ以下、０．３０μｍ以上０．４５μｍ以下が挙げられる。
【0017】
光学フィルムの第１面は、下記式１を満たす。
Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００ （式１）
［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００ （式１）
［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
【0018】
第１面のＳｗ×Ｖｍｐの値が２．００を超える場合、指紋拭き取り性を良好にすることができない。Ｓｗ×Ｖｍｐと、指紋拭き取り性との関係を以下に説明する。
Ｓｗは、第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。本明細書において、「３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）」のことを「純水降下傾斜角」と称する場合がある。指紋には多くの水分が含まれている。このため、第１面のＳｗが小さいほど、第１面と指紋との付着性が弱くなり、指紋を除去しやすくなる傾向がある。しかし、第１面のＳｗを小さくするだけでは、指紋拭き取り性を良好にできない場合があった。特に、光学フィルムの防眩性を良好にした場合、第１面のＳｗを小さくするだけでは、指紋拭き取り性を良好にすることは困難であった。
Ｖｍｐは、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）である。Ｖｍｐは、コア部よりも高さの高い突出した部分の体積を示すパラメータである。コア部は、凹凸形状の中で、平均的な高さを有する部分に相当する。Ｖｍｐが大きいほど、コア部よりも突出した部分の体積が大きいことを意味している。本明細書において、「コア部よりも突出した部分」のことを、「突出した凸部」と称する場合がある。ＳａとＶｍｐとは必ずしも相関しないが、防眩性を良好にするためにＳａを大きくすると、Ｖｍｐが大きくなる傾向がある。そして、Ｖｍｐが大きくなると、突出した凸部の間に指紋が入り込みやすくなるため、指紋拭き取り性が低下しやすくなる。突出した凸部の間に指紋が入り込むことを抑制するために、第１面のＶｍｐを小さくすると、光学フィルムの防眩性を良好にしにくくなる。また、第１面のＶｍｐを小さくするだけでは、光学フィルムの指紋拭き取り性を良好にすることは困難である。
上記のように、Ｓｗのみを調整すること、及び、Ｖｍｐのみを調整することでは、防眩性を有する光学フィルムの指紋拭き取り性を良好にすることは困難であった。そこで、本開示の光学フィルムは、Ｓｗ×Ｖｍｐを２．００以下とすることで、指紋拭き取り性を良好にしている。Ｓｗ×Ｖｍｐが２．００以下であることは、Ｓｗ及びＶｍｐが極端に大きくなく、かつ、Ｓｗ及びＶｍｐの少なくとも何れかが小さいことを意味している。このため、Ｓｗ×Ｖｍｐを２．００以下とすることで、光学フィルムの指紋拭き取り性を良好にすることができる。
Ｓｗは、第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。本明細書において、「３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）」のことを「純水降下傾斜角」と称する場合がある。指紋には多くの水分が含まれている。このため、第１面のＳｗが小さいほど、第１面と指紋との付着性が弱くなり、指紋を除去しやすくなる傾向がある。しかし、第１面のＳｗを小さくするだけでは、指紋拭き取り性を良好にできない場合があった。特に、光学フィルムの防眩性を良好にした場合、第１面のＳｗを小さくするだけでは、指紋拭き取り性を良好にすることは困難であった。
Ｖｍｐは、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）である。Ｖｍｐは、コア部よりも高さの高い突出した部分の体積を示すパラメータである。コア部は、凹凸形状の中で、平均的な高さを有する部分に相当する。Ｖｍｐが大きいほど、コア部よりも突出した部分の体積が大きいことを意味している。本明細書において、「コア部よりも突出した部分」のことを、「突出した凸部」と称する場合がある。ＳａとＶｍｐとは必ずしも相関しないが、防眩性を良好にするためにＳａを大きくすると、Ｖｍｐが大きくなる傾向がある。そして、Ｖｍｐが大きくなると、突出した凸部の間に指紋が入り込みやすくなるため、指紋拭き取り性が低下しやすくなる。突出した凸部の間に指紋が入り込むことを抑制するために、第１面のＶｍｐを小さくすると、光学フィルムの防眩性を良好にしにくくなる。また、第１面のＶｍｐを小さくするだけでは、光学フィルムの指紋拭き取り性を良好にすることは困難である。
上記のように、Ｓｗのみを調整すること、及び、Ｖｍｐのみを調整することでは、防眩性を有する光学フィルムの指紋拭き取り性を良好にすることは困難であった。そこで、本開示の光学フィルムは、Ｓｗ×Ｖｍｐを２．００以下とすることで、指紋拭き取り性を良好にしている。Ｓｗ×Ｖｍｐが２．００以下であることは、Ｓｗ及びＶｍｐが極端に大きくなく、かつ、Ｓｗ及びＶｍｐの少なくとも何れかが小さいことを意味している。このため、Ｓｗ×Ｖｍｐを２．００以下とすることで、光学フィルムの指紋拭き取り性を良好にすることができる。
【0019】
Ｓｗ×Ｖｍｐは、１．６０以下であることが好ましく、１．４０以下であることがより好ましく、１．２０以下であることがさらに好ましい。
Ｓｗ×Ｖｍｐが小さ過ぎることは、Ｓｗ及びＶｍｐの少なくとも何れかが小さ過ぎることを意味する。Ｓｗが小さ過ぎる場合、反射防止層中のフッ素系化合物及びシリコーン系化合物の含有量が増加し、光学フィルムの耐擦傷性が低下しやすくなる。Ｖｍｐが小さ過ぎる場合、Ｓａが小さくなり防眩性が低下しやすくなる。このため、Ｓｗ×Ｖｍｐは、０．１５以上であることが好ましく、０．２５以上であることがより好ましく、０．４０以上であることがより好ましく、０．６０以上であることがより好ましい。
Ｓｗ×Ｖｍｐが小さ過ぎることは、Ｓｗ及びＶｍｐの少なくとも何れかが小さ過ぎることを意味する。Ｓｗが小さ過ぎる場合、反射防止層中のフッ素系化合物及びシリコーン系化合物の含有量が増加し、光学フィルムの耐擦傷性が低下しやすくなる。Ｖｍｐが小さ過ぎる場合、Ｓａが小さくなり防眩性が低下しやすくなる。このため、Ｓｗ×Ｖｍｐは、０．１５以上であることが好ましく、０．２５以上であることがより好ましく、０．４０以上であることがより好ましく、０．６０以上であることがより好ましい。
【0020】
第１面のＳｗ×Ｖｍｐの範囲の実施形態は、０．１５以上２．００以下、０．１５以上１．６０以下、０．１５以上１．４０以下、０．１５以上１．２０以下、０．２５以上２．００以下、０．２５以上１．６０以下、０．２５以上１．４０以下、０．２５以上１．２０以下、０．４０以上２．００以下、０．４０以上１．６０以下、０．４０以上１．４０以下、０．４０以上１．２０以下、０．６０以上２．００以下、０．６０以上１．６０以下、０．６０以上１．４０以下、０．６０以上１．２０以下が挙げられる。
【0021】
第１面のＳｗは、Ｓｗ×Ｖｍｐを１．６０以下にしやすくするため、６５（度）以下であることが好ましく、４０（度）以下であることがより好ましく、３０（度）以下であることがさらに好ましい。
第１面のＳｗは、光学フィルムの耐擦傷性の低下を抑制するため、１０（度）以上であることが好ましく、１３（度）以上であることがより好ましく、１７（度）以上であることがより好ましい。
第１面のＳｗは、光学フィルムの耐擦傷性の低下を抑制するため、１０（度）以上であることが好ましく、１３（度）以上であることがより好ましく、１７（度）以上であることがより好ましい。
【0022】
第１面のＳｗの範囲の実施形態は、１０度以上６５度以下、１０度以上４０度以下、１０度以上３０度以下、１３度以上６５度以下、１３度以上４０度以下、１３度以上３０度以下、１７度以上６５度以下、１７度以上４０度以下、１７度以上３０度以下が挙げられる。
本開示の光学フィルムは、第１面の純水接触角が１００度以上１２０度以下であることが好ましく、１１０度以上１１５度以下であることがより好ましい。
純水接触角は、第１面側の表面に純水を１．０μＬ滴下し、着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法に従って計測することができる。
本開示の光学フィルムは、第１面の純水接触角が１００度以上１２０度以下であることが好ましく、１１０度以上１１５度以下であることがより好ましい。
純水接触角は、第１面側の表面に純水を１．０μＬ滴下し、着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法に従って計測することができる。
【0023】
第１面のＶｍｐは、Ｓｗ×Ｖｍｐを１．６０以下にしやすくするため、０．１００（ｍｌ／ｍ２）以下であることが好ましく、０．０８０（ｍｌ／ｍ２）以下であることがより好ましく、０．０６０（ｍｌ／ｍ２）以下であることがより好ましく、０．０４５（ｍｌ／ｍ２）以下であることがより好ましい。
第１面のＶｍｐは、防眩性を良好にしやすくするため、０．００５（ｍｌ／ｍ２）以上であることが好ましく、０．００７（ｍｌ／ｍ２）以上であることがより好ましく、０．０１０（ｍｌ／ｍ２）以上であることがより好ましく、０．０２０（ｍｌ／ｍ２）以上であることがより好ましい。
第１面のＶｍｐは、防眩性を良好にしやすくするため、０．００５（ｍｌ／ｍ２）以上であることが好ましく、０．００７（ｍｌ／ｍ２）以上であることがより好ましく、０．０１０（ｍｌ／ｍ２）以上であることがより好ましく、０．０２０（ｍｌ／ｍ２）以上であることがより好ましい。
【0024】
第１面のＶｍｐの範囲の実施形態は、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．０４５ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．０４５ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．０４５ｍｌ／ｍ２以下、０．０２０ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．０２０ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．０２０ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下、０．０２０ｍｌ／ｍ２以上０．０４５ｍｌ／ｍ２以下が挙げられる。
【0025】
本明細書において、光学フィルムの「純水降下傾斜角」は、例えば、下記（１）～（３）の手順で測定することができる。下記（１）～（３）の手順の測定は、例えば、協和界面科学社の「DropMaster」シリーズの品番「DMo-701」を用いて、付属品として「SA-301」を用いることにより測定できる。
純水は、汎用の純水を用いることができる。純水は、一般的には、比抵抗値が０．１ＭΩ・ｃｍ以上１５ＭΩ・ｃｍ以下である。
純水は、汎用の純水を用いることができる。純水は、一般的には、比抵抗値が０．１ＭΩ・ｃｍ以上１５ＭΩ・ｃｍ以下である。
【0026】
（１）光学フィルムから２ｃｍ×８ｃｍの大きさのサンプルを切り出す。サンプルの第２面側に両面テープを貼り付け、両面テープを介して、サンプルと、傾斜角が０度の水平な台とを固定する。両面テープの大きさは、長さ８ｃｍ以上、幅５ｍｍとする。サンプルと台とを固定する際には、サンプルに皺が生じないようにするとともに、サンプルと台との間に気泡が入らないようにする。
（２）サンプルの第１面に３０μｌの純水を滴下する。
（３）サンプルを設置した台を２°／１秒の速度で徐々に傾斜させる。液滴の先端が０．２８３５ｍｍ以上動いた時に、液滴が流れ落ちたと判定する。液滴が流れ落ちた時の台の角度を、「純水降下傾斜角」とする。「台の角度」は、水平面と台の平面との成す角を意味する。
（２）サンプルの第１面に３０μｌの純水を滴下する。
（３）サンプルを設置した台を２°／１秒の速度で徐々に傾斜させる。液滴の先端が０．２８３５ｍｍ以上動いた時に、液滴が流れ落ちたと判定する。液滴が流れ落ちた時の台の角度を、「純水降下傾斜角」とする。「台の角度」は、水平面と台の平面との成す角を意味する。
【0027】
図３は、純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）を説明するための図である。図３の「θ」は、台の角度に相当する。図３において、符号２００は水平面、符号３００は台の平面、符号４００は液滴を示す。図３では、台の平面３００と、液液４００との間に位置する光学フィルムを省略している。
【0028】
本明細書において、Ｖｍｐ、Ｖｖｃ及びＶｖｖは、コア部と突出山部を分離する負荷面積率を１０％、コア部と突出谷部を分離する負荷面積率を８０％、として算出したものである。
【0029】
本明細書において、Ｓａ、Ｖｍｐ、Ｖｖｖ、Ｖｖｃ及びＳａｌ等の表面形状は、共焦点レーザー顕微鏡を用いて測定することが好ましい。共焦点レーザー顕微鏡としては、キーエンス社の「ＶＫ－Ｘ」シリーズ等が挙げられる。また、前述の「ＶＫ－Ｘ」シリーズの「マルチファイル解析アプリケーション」を用いることにより、Ｓａ、Ｖｍｐ、Ｖｖｖ、Ｖｖｃ及びＳａｌを簡易に算出することができる。
前述の「ＶＫ－Ｘ」シリーズを用いて、Ｓａ、Ｖｍｐ、Ｖｖｖ、Ｖｖｃ及びＳａｌを測定する際の測定条件は、実施例に記載の条件に従うことが好ましい。例えば、Ｆ－オペレーションは平面傾き補正（領域指定）とすることが好ましい。測定領域は１辺が５０μｍ以上２００μｍ以下の長方形が好ましく、測定点は１辺あたりで５００点以上２０００点以下であることが好ましい。
前述の「ＶＫ－Ｘ」シリーズを用いて、Ｓａ、Ｖｍｐ、Ｖｖｖ、Ｖｖｃ及びＳａｌを測定する際の測定条件は、実施例に記載の条件に従うことが好ましい。例えば、Ｆ－オペレーションは平面傾き補正（領域指定）とすることが好ましい。測定領域は１辺が５０μｍ以上２００μｍ以下の長方形が好ましく、測定点は１辺あたりで５００点以上２０００点以下であることが好ましい。
【0030】
本明細書において、表面形状（Ｓａ、Ｖｍｐ、Ｖｖｖ、Ｖｖｃ及びＳａｌ）、純水の角度（純水降下傾斜角及び純水接触角）、元素比率（Ｆ／無機Ｓｉ、有機Ｓｉ／無機Ｓｉ、Ｆ／有機Ｓｉ等）、光学物性（ＲＳＣＩ、ヘイズ、全光線透過率、透過像鮮明度等）は、特に断りのない限り、１６箇所の測定値から最大値及び最小値を除いた１４の測定値の平均値を意味する。
本明細書において、１６の測定箇所は、測定サンプルの外縁から１ｃｍの領域を余白として除き、残りの領域に関して、縦方向及び横方向を５等分する線を引いた際の、交点の１６箇所を測定の中心とすることが好ましい。例えば、測定サンプルが長方形の場合、長方形の外縁から０．５ｃｍの領域を余白として除き、残りの領域を縦方向及び横方向に５等分した点線の交点の１６箇所を中心として測定を行う。そして、１６箇所の測定値から最大値及び最小値を除いた１４の測定値の平均値を、パラメータの値とすることが好ましい。測定サンプルが円形、楕円形、三角形、五角形等の長方形以外の形状の場合、これら形状に内接する長方形を描き、前記長方形に関して、上記手法により１６箇所の測定を行うことが好ましい。
本明細書において、１６の測定箇所は、測定サンプルの外縁から１ｃｍの領域を余白として除き、残りの領域に関して、縦方向及び横方向を５等分する線を引いた際の、交点の１６箇所を測定の中心とすることが好ましい。例えば、測定サンプルが長方形の場合、長方形の外縁から０．５ｃｍの領域を余白として除き、残りの領域を縦方向及び横方向に５等分した点線の交点の１６箇所を中心として測定を行う。そして、１６箇所の測定値から最大値及び最小値を除いた１４の測定値の平均値を、パラメータの値とすることが好ましい。測定サンプルが円形、楕円形、三角形、五角形等の長方形以外の形状の場合、これら形状に内接する長方形を描き、前記長方形に関して、上記手法により１６箇所の測定を行うことが好ましい。
【0031】
本明細書において、表面形状（Ｓａ、Ｖｍｐ、Ｖｖｖ、Ｖｖｃ及びＳａｌ）、純水の角度（純水降下傾斜角及び純水接触角）、元素比率（Ｆ／無機Ｓｉ、有機Ｓｉ／無機Ｓｉ、Ｆ／有機Ｓｉ等）、光学物性（ＲＳＣＩ、ヘイズ、全光線透過率、透過像鮮明度等）は、特に断りのない限り、温度２３±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下で測定したものとする。また、各測定の開始前に、対象サンプルを前記雰囲気に３０分以上６０分以下晒してから測定を行うものとする。
【0032】
本開示の光学フィルムは、第１面のＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出谷部空間体積であるＶｖｖが０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下であることが好ましい。Ｖｖｖは、コア部よりも深さの深い突出した部分の体積を示すパラメータである。Ｖｖｖを０．００５ｍｌ／ｍ２以上とすることにより、防眩性をより良好にしやすくできる。Ｖｖｖを０．１００ｍｌ／ｍ２以下とすることにより、指紋拭き取り性をより良好にしやすくできる。
Ｖｖｖの下限は、０．００７ｍｌ／ｍ２以上であることがより好ましく、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上であることがさらに好ましい。Ｖｖｖの上限は、０．０８０ｍｌ／ｍ２以下であることがより好ましく、０．０６０ｍｌ／ｍ２以下であることがさらに好ましい。
第１面のＶｖｖの範囲の実施形態は、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下が挙げられる。
Ｖｖｖの下限は、０．００７ｍｌ／ｍ２以上であることがより好ましく、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上であることがさらに好ましい。Ｖｖｖの上限は、０．０８０ｍｌ／ｍ２以下であることがより好ましく、０．０６０ｍｌ／ｍ２以下であることがさらに好ましい。
第１面のＶｖｖの範囲の実施形態は、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．００７ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．０８０ｍｌ／ｍ２以下、０．０１０ｍｌ／ｍ２以上０．０６０ｍｌ／ｍ２以下が挙げられる。
【0033】
本開示の光学フィルムの第１面は、Ｖｖｖと、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定されるコア部空間体積であるＶｖｃとの比（Ｖｖｖ／Ｖｖｃ）が、０．１０以下であることが好ましい。Ｖｖｖ／Ｖｖｃを０．１０以下とすることにより、指紋拭き取り性をより良好にしやすくできる。Ｖｖｖ／Ｖｖｃは、０．０９以下であることがより好ましく、０．０８以下であることがさらに好ましい。
【0034】
本開示の光学フィルムの第１面は、Ｖｍｐと、Ｖｖｃとの比（Ｖｍｐ／Ｖｖｃ）が、０．１０以下であることが好ましい。Ｖｍｐ／Ｖｖｃを０．１０以下とすることにより、指紋拭き取り性をより良好にしやすくできる。Ｖｖｖ／Ｖｖｃは、０．０９以下であることがより好ましく、０．０８以下であることがさらに好ましい。
【0035】
本開示の光学フィルムの第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される最小自己相関長さであるＳａｌが４．０μｍ以上１２．０μｍ以下であることが好ましい。
【0036】
Ｓａｌは、横方向に着目したパラメータである。Ｓａｌが小さいほど、第１面は、凹凸が密集している形状を有し、Ｓａｌが大きいほど、第１面は、凹凸の間隔が広い形状を有している。ＪＩＳ Ｂ０６０１に規定される「粗さ曲線要素の平均長ＲＳｍ」の値には、微細な凹凸は殆ど影響せず、大きな凹凸のみが影響する。一方、Ｓａｌの値には、大きな凹凸が影響するだけではなく、微細な凹凸も影響する点で、ＲＳｍと相違している。また、凹凸の間隔が広くても、凸部が小さかったり、凹凸形状が複雑であったりすると、Ｓａｌは小さくなる傾向がある。また、凸部が単調な形状であると、Ｓａｌが大きくなる傾向がある。
【0037】
Ｓａｌを４．０μｍ以上とすることにより、指紋拭き取り性をより良好にしやすくできる。Ｓａｌを１２．０μｍ以下とすることにより、防眩性をより良好にしやすくできる。
Ｓａｌの下限は、５．０μｍ以上であることがより好ましく、６．０μｍ以上であることがさらに好ましい。Ｓａｌの上限は、１１．０μｍ以下であることがより好ましく、１０．０μｍ以下であることがさらに好ましい。
第１面のＳａｌの範囲の実施形態は、４．０μｍ以上１２．０μｍ以下、４．０μｍ以上１１．０μｍ以下、４．０μｍ以上１０．０μｍ以下、５．０μｍ以上１２．０μｍ以下、５．０μｍ以上１１．０μｍ以下、５．０μｍ以上１０．０μｍ以下、６．０μｍ以上１２．０μｍ以下、６．０μｍ以上１１．０μｍ以下、６．０μｍ以上１０．０μｍ以下が挙げられる。
Ｓａｌの下限は、５．０μｍ以上であることがより好ましく、６．０μｍ以上であることがさらに好ましい。Ｓａｌの上限は、１１．０μｍ以下であることがより好ましく、１０．０μｍ以下であることがさらに好ましい。
第１面のＳａｌの範囲の実施形態は、４．０μｍ以上１２．０μｍ以下、４．０μｍ以上１１．０μｍ以下、４．０μｍ以上１０．０μｍ以下、５．０μｍ以上１２．０μｍ以下、５．０μｍ以上１１．０μｍ以下、５．０μｍ以上１０．０μｍ以下、６．０μｍ以上１２．０μｍ以下、６．０μｍ以上１１．０μｍ以下、６．０μｍ以上１０．０μｍ以下が挙げられる。
【0038】
本開示の光学フィルムは、第１面側の表面領域をＸ線光電子分光法により分析して得られる元素比率が、下記の式２～４を満たすことが好ましい。
３．５≦Ｆ／無機Ｓｉ≦１０．０ （式２）
０．０８≦有機Ｓｉ／無機Ｓｉ≦１．００ （式３）
５．０≦Ｆ／有機Ｓｉ≦５０．０ （式４）
［式２～４中、「Ｆ」はフッ素元素の比率であり、「無機Ｓｉ」は無機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率であり、「有機Ｓｉ」は有機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率である。］
３．５≦Ｆ／無機Ｓｉ≦１０．０ （式２）
０．０８≦有機Ｓｉ／無機Ｓｉ≦１．００ （式３）
５．０≦Ｆ／有機Ｓｉ≦５０．０ （式４）
［式２～４中、「Ｆ」はフッ素元素の比率であり、「無機Ｓｉ」は無機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率であり、「有機Ｓｉ」は有機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率である。］
【0039】
本明細書において「第１面側の表面領域」とは、第１面側の表面から深さ１０ｎｍまでの領域を表す。本明細書において、「Ｘ線光電子分光法」のことを、「ＸＰＳ」と称する場合がある。第１面側の表面領域の元素比率は、例えば、実施例に記載の手法により測定できる。
【0040】
光学フィルムの第１面の表面領域において、無機Ｓｉは、主にシリカ粒子に由来する。光学フィルムの第１面の表面領域において、有機Ｓｉ及びＦは、主にレベリング剤に由来する。
Ｓｉ２ｐ軌道のＸ線光電子スペクトルから、無機成分と有機成分とをピーク分離することにより、無機Ｓｉと有機Ｓｉとを分けることができる。
Ｓｉ２ｐ軌道のＸ線光電子スペクトルから、無機成分と有機成分とをピーク分離することにより、無機Ｓｉと有機Ｓｉとを分けることができる。
【0041】
光学フィルムの第１面の表面領域において、無機Ｓｉは、第１面の屈折率を低くすることができる一方で、指紋拭き取り性を悪化させる傾向がある。また、光学フィルムの第１面の表面領域において、無機Ｓｉに対して有機Ｓｉ及びＦを所定量以上含むことにより、指紋拭き取り性を良好にする傾向がある。さらに、光学フィルムの第１面の表面領域において、有機ＳｉとＦとをバランスよく含むことにより、指紋拭き取り性を良好にする傾向がある。したがって、Ｆ／無機Ｓｉを３．５以上、かつ、有機Ｓｉ／無機Ｓｉを０．０８以上、かつ、Ｆ／有機Ｓｉを５．０以上５０．０以下とすることにより、Ｓｗを小さくしやすくでき、式１を満たしやすくできる。
また、Ｆ／無機Ｓｉを１０．０以下、かつ、有機Ｓｉ／無機Ｓｉを１．００以下とすることにより、反射防止層の塗工性の低下を抑制しやすくできる。
また、Ｆ／無機Ｓｉを１０．０以下、かつ、有機Ｓｉ／無機Ｓｉを１．００以下とすることにより、反射防止層の塗工性の低下を抑制しやすくできる。
【0042】
Ｆ／無機Ｓｉは、下限が４．０以上であることがより好ましく、４．５以上であることがさらに好ましく、上限が９．０以下であることがより好ましく、８．０以下であることがさらに好ましい。
有機Ｓｉ／無機Ｓｉは、下限が０．１０以上であることがより好ましく、０．１５以上であることがさらに好ましく、上限が０．８０以下であることがより好ましく、０．５０以下であることがさらに好ましい。
Ｆ／有機Ｓｉは、下限が１０．０以上であることがより好ましく、１５．０以上であることがさらに好ましく、２２．０以上であることがよりさらに好ましく、上限が４０．０以下であることがより好ましく、３５．０以下であることがさらに好ましい。
有機Ｓｉ／無機Ｓｉは、下限が０．１０以上であることがより好ましく、０．１５以上であることがさらに好ましく、上限が０．８０以下であることがより好ましく、０．５０以下であることがさらに好ましい。
Ｆ／有機Ｓｉは、下限が１０．０以上であることがより好ましく、１５．０以上であることがさらに好ましく、２２．０以上であることがよりさらに好ましく、上限が４０．０以下であることがより好ましく、３５．０以下であることがさらに好ましい。
【0043】
Ｆ／無機Ｓｉの範囲の実施形態は、３．５以上１０．０以下、３．５以上９．０以下、３．５以上８．０以下、４．０以上１０．０以下、４．０以上９．０以下、４．０以上８．０以下、４．５以上１０．０以下、４．５以上９．０以下、４．５以上８．０以下が挙げられる。
有機Ｓｉ／無機Ｓｉの範囲の実施形態は、０．０８以上１．００以下、０．０８以上０．８０以下、０．０８以上０．５０以下、０．１０以上１．００以下、０．１０以上０．８０以下、０．１０以上０．５０以下、０．１５以上１．００以下、０．１５以上０．８０以下、０．１５以上０．５０以下が挙げられる。
Ｆ／有機Ｓｉの範囲の実施形態は、５．０以上５０．０以下、５．０以上４０．０以下、５．０以上３５．０以下、１０．０以上５０．０以下、１０．０以上４０．０以下、１０．０以上３５．０以下、１５．０以上５０．０以下、１５．０以上４０．０以下、１５．０以上３５．０以下、２２．０以上５０．０以下、２２．０以上４０．０以下、２２．０以上３５．０以下が挙げられる。
有機Ｓｉ／無機Ｓｉの範囲の実施形態は、０．０８以上１．００以下、０．０８以上０．８０以下、０．０８以上０．５０以下、０．１０以上１．００以下、０．１０以上０．８０以下、０．１０以上０．５０以下、０．１５以上１．００以下、０．１５以上０．８０以下、０．１５以上０．５０以下が挙げられる。
Ｆ／有機Ｓｉの範囲の実施形態は、５．０以上５０．０以下、５．０以上４０．０以下、５．０以上３５．０以下、１０．０以上５０．０以下、１０．０以上４０．０以下、１０．０以上３５．０以下、１５．０以上５０．０以下、１５．０以上４０．０以下、１５．０以上３５．０以下、２２．０以上５０．０以下、２２．０以上４０．０以下、２２．０以上３５．０以下が挙げられる。
【0044】
本開示の光学フィルムは、第１面側の表面領域をＸ線光電子分光法により分析して得られる元素比率に関して、全元素に対する無機Ｓｉの割合が２原子％以上２０原子％以下であることが好ましい。全元素に対する無機Ｓｉの割合を２原子％以上とすることにより、第１面の屈折率を低くしやすくできるため、光学フィルムの反射防止性を良好にしやすくできる。無機Ｓｉの割合を２０原子％以下とすることにより、Ｆ／無機Ｓｉを３．５以上、かつ、有機Ｓｉ／無機Ｓｉを０．０８以上にしやすくできる。
全元素に対する無機Ｓｉの割合は、下限が３原子％以上であることがより好ましく、４原子％以上であることがさらに好ましく、上限が１５原子％以下であることがより好ましく、１２原子％以下であることがさらに好ましい。
全元素に対する無機Ｓｉの割合の範囲の実施形態は、２原子％以上２０原子％以下、２原子％以上１５原子％以下、２原子％以上１２原子％以下、３原子％以上２０原子％以下、３原子％以上１５原子％以下、３原子％以上１２原子％以下、４原子％以上２０原子％以下、４原子％以上１５原子％以下、４原子％以上１２原子％以下が挙げられる。
全元素に対する無機Ｓｉの割合は、下限が３原子％以上であることがより好ましく、４原子％以上であることがさらに好ましく、上限が１５原子％以下であることがより好ましく、１２原子％以下であることがさらに好ましい。
全元素に対する無機Ｓｉの割合の範囲の実施形態は、２原子％以上２０原子％以下、２原子％以上１５原子％以下、２原子％以上１２原子％以下、３原子％以上２０原子％以下、３原子％以上１５原子％以下、３原子％以上１２原子％以下、４原子％以上２０原子％以下、４原子％以上１５原子％以下、４原子％以上１２原子％以下が挙げられる。
【0045】
＜積層構成＞
本開示の光学フィルムは、第１面から第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有する。光学フィルムの第１面側の最表面は反射防止層であることが好ましい。
本開示の光学フィルムは、反射防止層及び防眩層以外の層を有していてもよい。反射防止層及び防眩層以外の層としては、基材、帯電防止層、接着剤層等が挙げられる。
本開示の光学フィルムは、第１面から第２面に向けて、反射防止層、防眩層及び基材をこの順に有することが好ましい。
本開示の光学フィルムは、第１面から第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有する。光学フィルムの第１面側の最表面は反射防止層であることが好ましい。
本開示の光学フィルムは、反射防止層及び防眩層以外の層を有していてもよい。反射防止層及び防眩層以外の層としては、基材、帯電防止層、接着剤層等が挙げられる。
本開示の光学フィルムは、第１面から第２面に向けて、反射防止層、防眩層及び基材をこの順に有することが好ましい。
【0046】
《基材》
光学フィルムは、製造の容易性、及び、取り扱い性のため、基材を有することが好ましい。
光学フィルムは、製造の容易性、及び、取り扱い性のため、基材を有することが好ましい。
【0047】
基材としては、光透過性、平滑性及び耐熱性を備え、さらに機械的強度に優れたものが好ましい。このような基材としては、ポリエステル、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン及び非晶質オレフィン（Ｃｙｃｌｏ－Ｏｌｅｆｉｎ－Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）等のプラスチックフィルムが挙げられる。基材は、２枚以上のプラスチックフィルムを貼り合わせたものであってもよい。
プラスチックフィルムの中でも、機械的強度及び寸法安定性のため、延伸加工されたポリエステルフィルムが好ましく、二軸延伸加工されたポリエステルフィルムがより好ましい。ポリエステルフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等が挙げられる。ＴＡＣフィルム、アクリルフィルムは、光透過性及び光学的等方性を良好にしやすいため好適である。ＣＯＰフィルム、ポリエステルフィルムは耐候性に優れるため好適である。
プラスチックフィルムの中でも、機械的強度及び寸法安定性のため、延伸加工されたポリエステルフィルムが好ましく、二軸延伸加工されたポリエステルフィルムがより好ましい。ポリエステルフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等が挙げられる。ＴＡＣフィルム、アクリルフィルムは、光透過性及び光学的等方性を良好にしやすいため好適である。ＣＯＰフィルム、ポリエステルフィルムは耐候性に優れるため好適である。
【0048】
基材の厚みは、５μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以上２００μｍ以下であることがより好ましく、３０μｍ以上１２０μｍ以下であることがさらに好ましい。
光学フィルムを薄膜化したい場合は、基材の厚みの好ましい上限は１００μｍ以下であり、より好ましい上限は８０μｍ以下である。また、基材がポリエステル、ＣＯＰ、アクリル等の低透湿性基材の場合には、薄膜化のための基材の厚さの好ましい上限は６０μｍ以下であり、より好ましい上限は４０μｍ以下である。大画面の場合であっても、基材の厚みの上限が前述した範囲であれば、歪みを生じにくくさせることができる点でも好適である。
基材の厚みは、例えば、膜厚測定器で測定できる。膜厚測定器としては、ミツトヨ社のデジマチック標準外側マイクロメーター（品番：ＭＤＣ－２５ＳＸ）等が挙げられる。基材の厚みは、任意の１０点を測定した平均値が上記数値であればよい。
光学フィルムを薄膜化したい場合は、基材の厚みの好ましい上限は１００μｍ以下であり、より好ましい上限は８０μｍ以下である。また、基材がポリエステル、ＣＯＰ、アクリル等の低透湿性基材の場合には、薄膜化のための基材の厚さの好ましい上限は６０μｍ以下であり、より好ましい上限は４０μｍ以下である。大画面の場合であっても、基材の厚みの上限が前述した範囲であれば、歪みを生じにくくさせることができる点でも好適である。
基材の厚みは、例えば、膜厚測定器で測定できる。膜厚測定器としては、ミツトヨ社のデジマチック標準外側マイクロメーター（品番：ＭＤＣ－２５ＳＸ）等が挙げられる。基材の厚みは、任意の１０点を測定した平均値が上記数値であればよい。
【0049】
基材は、ＪＩＳ Ｋ７３６１－１：１９９７の全光線透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、８５％以上であることがさらに好ましい。
基材は、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが１０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましく、３％以下であることがさらに好ましい。
基材は、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが１０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましく、３％以下であることがさらに好ましい。
【0050】
基材の表面には、接着性向上のために、コロナ放電処理等の物理的な処理を施したり、化学的な処理を施したりしてもよい。また、基材は、表面に易接着層を有するものであってもよい。
【0051】
《防眩層》
防眩層は、防眩性の中心を担う層である。
防眩層は、例えば、（Ａ）エンボスロールを用いた方法、（Ｂ）エッチング処理、（Ｃ）型による成型、（Ｄ）塗布による塗膜の形成等により形成できる。安定した表面形状を得やすくするためには（Ｃ）の型による成型が好適であり、生産性及び多品種対応のためには（Ｄ）の塗布による塗膜の形成が好適である。
防眩層は、防眩性の中心を担う層である。
防眩層は、例えば、（Ａ）エンボスロールを用いた方法、（Ｂ）エッチング処理、（Ｃ）型による成型、（Ｄ）塗布による塗膜の形成等により形成できる。安定した表面形状を得やすくするためには（Ｃ）の型による成型が好適であり、生産性及び多品種対応のためには（Ｄ）の塗布による塗膜の形成が好適である。
【0052】
（Ｃ）の手段では、例えば、型に樹脂を流し込み、成形した樹脂を型から取り出すことにより、防眩層を形成することができる。型から取り出した成形した樹脂は、基材上に配置してもよい。型は、防眩層の表面形状を反転した型を用いる。このような型は、例えば、下記の（ｃ１-１）～（ｃ１-２）、あるいは、下記の（ｃ２）の手法で作製することができる。
（ｃ１-１）Ｓａ及びＶｍｐ等が所定の範囲となる形状をシミュレーションで作成する。さらに、シミュレーションした形状を反転する。
（ｃ１－２）反転した形状が反映されるように、金属の表面をレーザー光で彫刻したり、金属の表面をフォトリソグラフィにより加工したりすることにより、型を得る。
（ｃ１-１）Ｓａ及びＶｍｐ等が所定の範囲となる形状をシミュレーションで作成する。さらに、シミュレーションした形状を反転する。
（ｃ１－２）反転した形状が反映されるように、金属の表面をレーザー光で彫刻したり、金属の表面をフォトリソグラフィにより加工したりすることにより、型を得る。
【0053】
（ｃ２）汎用の電気鋳造法により、（Ｄ）で作製した防眩層の形状を反転した型を得る。
【0054】
（Ｄ）により防眩層を形成する場合、例えば、下記の（ｄ１）及び（ｄ２）の手段が挙げられる。（ｄ１）は、（ｄ２）よりもＳａ及びＶｍｐ等の表面形状の範囲を調整しやすい点で好ましい。
（ｄ１）バインダー樹脂及び粒子を含む塗布液を塗布、乾燥し、粒子に基づく凹凸を有する防眩層を形成する手段。
（ｄ２）任意の樹脂と、前記樹脂と相溶性の悪い樹脂を含む塗布液を塗布して、樹脂を相分離させて凹凸を形成する手段。
（ｄ１）バインダー樹脂及び粒子を含む塗布液を塗布、乾燥し、粒子に基づく凹凸を有する防眩層を形成する手段。
（ｄ２）任意の樹脂と、前記樹脂と相溶性の悪い樹脂を含む塗布液を塗布して、樹脂を相分離させて凹凸を形成する手段。
【0055】
－厚み－
防眩層の厚みＴは、カール抑制、機械的強度、硬度及び靭性とのバランスのため、２．０μｍ以上１０．０μｍ以下であることが好ましく、３．０μｍ以上８．０μｍ以下であることがより好ましく、４．０μｍ以上６．０μｍ以下であることがさらに好ましい。
防眩層の厚みは、例えば、走査型透過電子顕微鏡による光学フィルムの断面写真の任意の箇所を２０点選び、その平均値により算出できる。ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ以上３０ｋＶ以下、ＳＴＥＭの倍率は１０００倍以上７０００倍以下とすることが好ましい。
防眩層の厚みＴは、カール抑制、機械的強度、硬度及び靭性とのバランスのため、２．０μｍ以上１０．０μｍ以下であることが好ましく、３．０μｍ以上８．０μｍ以下であることがより好ましく、４．０μｍ以上６．０μｍ以下であることがさらに好ましい。
防眩層の厚みは、例えば、走査型透過電子顕微鏡による光学フィルムの断面写真の任意の箇所を２０点選び、その平均値により算出できる。ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ以上３０ｋＶ以下、ＳＴＥＭの倍率は１０００倍以上７０００倍以下とすることが好ましい。
【0056】
－成分－
防眩層は、主として樹脂成分を含むことが好ましい。さらに、防眩層は、必要に応じて、有機粒子及び無機粒子等の粒子、ナノメートル単位の微粒子、屈折率調整剤、帯電防止剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、粘度調整剤及び熱重合開始剤等の添加剤を含むことが好ましい。
防眩層は、主として樹脂成分を含むことが好ましい。さらに、防眩層は、必要に応じて、有機粒子及び無機粒子等の粒子、ナノメートル単位の微粒子、屈折率調整剤、帯電防止剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、粘度調整剤及び熱重合開始剤等の添加剤を含むことが好ましい。
【0057】
防眩層は、バインダー樹脂及び粒子を含むことが好ましい。
粒子は有機粒子及び無機粒子が挙げられ、無機粒子が好ましい。すなわち、防眩層は、バインダー樹脂及び無機粒子を含むことが好ましい。また、防眩層は、バインダー樹脂、無機粒子及び有機粒子を含むことがより好ましい。
粒子は有機粒子及び無機粒子が挙げられ、無機粒子が好ましい。すなわち、防眩層は、バインダー樹脂及び無機粒子を含むことが好ましい。また、防眩層は、バインダー樹脂、無機粒子及び有機粒子を含むことがより好ましい。
【0058】
―粒子―
無機粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等が挙げられ、シリカが好ましい。無機粒子の中でも、不定形無機粒子が好ましく、不定形シリカがより好ましい。
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル－スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン－メラミン－ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン、フッ素系樹脂及びポリエステル系樹脂等から選ばれる１種以上の樹脂を含む粒子が挙げられる。
無機粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等が挙げられ、シリカが好ましい。無機粒子の中でも、不定形無機粒子が好ましく、不定形シリカがより好ましい。
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル－スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン－メラミン－ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン、フッ素系樹脂及びポリエステル系樹脂等から選ばれる１種以上の樹脂を含む粒子が挙げられる。
【0059】
不定形無機粒子とは、大粒径の無機粒子を粉砕した後、分級して得られた特定の形状を持たない無機粒子のことを意味する。
【0060】
粒子としては、無機粒子を含むことが好ましい。また、粒子として、不定形無機粒子を含むことがより好ましく、不定形無機粒子及び有機粒子を含むことがさらに好ましい。不定形無機粒子としては、不定形シリカが好ましい。
【0061】
不定形無機粒子は、球形の粒子に比べて、Ｓａを大きくしやすく、Ｓａｌを小さくしやすい傾向がある。しかし、不定形無機粒子の粒子径分布が広すぎると、Ｖｍｐが大きくなりやすくなるため、式１を満たしにくくなる。特に、不定形無機粒子が凝集すると、Ｖｍｐはより大きくなり、式１をより満たしにくくなる。一方、不定形無機粒子の粒子径分布が狭すぎると、塗布適性が低下しやすい。このため、不定形無機粒子は、粒子径の体積基準の累積分布が後述する範囲であることが好ましい。しかし、無機粒子は単独で使用すると凝集しやすい。したがって、Ｓａ及び式１を満たしやすくするためには、不定形粒子の粒子径分布を後述する範囲として、かつ、有機粒子を併用することが好ましい。
【0062】
不定形無機粒子等の無機粒子は、粒子径の体積基準の累積分布ｄ１０と、粒子径の体積基準の累積分布ｄ５０と、粒子径の体積基準の累積分布ｄ９０とが、下記（１）及び（２）の関係を満たす、ことが好ましい。
１．５≦ｄ５０／ｄ１０≦４．０ （１）
１．０≦ｄ９０／ｄ５０≦３．０ （２）
１．５≦ｄ５０／ｄ１０≦４．０ （１）
１．０≦ｄ９０／ｄ５０≦３．０ （２）
【0063】
ｄ５０／ｄ１０が１．５以上であることは、粒子径が平均以下の領域における無機粒子の粒度分布が広いことを意味している。ｄ５０／ｄ１０を１．５以上とすることにより、凹凸表面に細かい凹凸が付与されやすくなるため、Ｓａｌを小さくしやすくできる。ｄ５０／ｄ１０を４．０以下とすることにより、防眩層に埋没する無機粒子の量が増えることを抑制し、無機粒子の添加効率を上げることができる。
ｄ９０／ｄ５０が１．０以上であることは、粒子径が平均以上の領域における無機粒子の粒度分布が広いことを意味している。ｄ９０／ｄ５０を１．０以上とすることにより、Ｖｍｐを大きくしやすく、かつ、Ｓａｌを大きくしやすくできる。ｄ９０／ｄ５０を３．０以下とすることにより、Ｖｍｐが大きくなり過ぎること、及び、Ｓａｌが大きくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
ｄ９０／ｄ５０が１．０以上であることは、粒子径が平均以上の領域における無機粒子の粒度分布が広いことを意味している。ｄ９０／ｄ５０を１．０以上とすることにより、Ｖｍｐを大きくしやすく、かつ、Ｓａｌを大きくしやすくできる。ｄ９０／ｄ５０を３．０以下とすることにより、Ｖｍｐが大きくなり過ぎること、及び、Ｓａｌが大きくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
【0064】
ｄ５０／ｄ１０は、下限は２．０以上であることより好ましく、２．３以上であることがさらに好ましく、上限は３．５以下であることより好ましく、３．２以下であることがさらに好ましい。
ｄ９０／ｄ５０は、下限は１．３以上であることより好ましく、１．５以上であることがさらに好ましく、上限は２．５以下であることより好ましく、２．０以下であることがさらに好ましい。
不定形無機粒子等の無機粒子のｄ１０、ｄ５０及びｄ９０は、レーザー回折法により測定することができる。
ｄ９０／ｄ５０は、下限は１．３以上であることより好ましく、１．５以上であることがさらに好ましく、上限は２．５以下であることより好ましく、２．０以下であることがさらに好ましい。
不定形無機粒子等の無機粒子のｄ１０、ｄ５０及びｄ９０は、レーザー回折法により測定することができる。
【0065】
不定形無機粒子等の無機粒子は、粒子径の体積基準の累積分布ｄ５０が、２．５μｍ以上５．５μｍ以下であることが好ましく、３．０μｍ以上５．０μｍ以下であることがより好ましく、３．３μｍ以上４．７μｍ以下であることがさらに好ましい。
ｄ５０を２．５μｍ以上とすることにより、無機粒子の個数が増え過ぎることを抑制できるため、Ｓａｌが小さくなり過ぎることを抑制しやすくできる。ｄ５０を５．５μｍ以下とすることにより、無機粒子の個数が減り過ぎることを抑制できるため、Ｓａｌが大きくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
ｄ５０を２．５μｍ以上とすることにより、無機粒子の個数が増え過ぎることを抑制できるため、Ｓａｌが小さくなり過ぎることを抑制しやすくできる。ｄ５０を５．５μｍ以下とすることにより、無機粒子の個数が減り過ぎることを抑制できるため、Ｓａｌが大きくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
【0066】
防眩層の厚みＴと、不定形無機粒子等の無機粒子のｄ５０とは、ｄ５０／Ｔが０．５５以上１．００以下であることが好ましく、０．６０以上０．９５以下であることがより好ましく、０．７０以上０．９０以下であることがさらに好ましい。
ｄ５０／Ｔを０．５５以上とすることにより、Ｓａｌを大きくしやすくできる。ｄ５０／Ｔを１．００以下とすることにより、Ｓａｌを小さくしやすくできる。
ｄ５０／Ｔを０．５５以上とすることにより、Ｓａｌを大きくしやすくできる。ｄ５０／Ｔを１．００以下とすることにより、Ｓａｌを小さくしやすくできる。
【0067】
防眩層の厚みＴと、不定形無機粒子等の無機粒子のｄ９０とは、ｄ９０／Ｔが１．００以上１．５０以下であることが好ましく、１．０８以上１．４５以下であることがより好ましく、１．２０以上１．４０以下であることがさらに好ましい。
ｄ９０／Ｔを１．００以上とすることにより、Ｖｍｐを大きくしやすくできる。ｄ９０／Ｔを１．５０以下とすることにより、Ｖｍｐを小さくしやすくできる。
ｄ９０／Ｔを１．００以上とすることにより、Ｖｍｐを大きくしやすくできる。ｄ９０／Ｔを１．５０以下とすることにより、Ｖｍｐを小さくしやすくできる。
【0068】
不定形無機粒子等の無機粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して、８質量部以上４０質量部以下であることが好ましく、１２質量部以上３０質量部以下であることがより好ましく、１５質量部以上２８質量部以下であることがさらに好ましい。
不定形無機粒子等の無機粒子の含有量を８質量部以上とすることにより、無機粒子の個数が減り過ぎることを抑制できるため、無機粒子が緻密に配置され、無機粒子の間に谷が形成される。このため、Ｖｖｖが所定の値以上となり、さらに、Ｓａｌが大きくなり過ぎないため、防眩性を良好にしやすくできる。
不定形無機粒子等の無機粒子の含有量を４０質量部以下とすることにより、無機粒子の個数が増え過ぎることを抑制できるため、Ｓａｌが小さくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
不定形無機粒子等の無機粒子の含有量を８質量部以上とすることにより、無機粒子の個数が減り過ぎることを抑制できるため、無機粒子が緻密に配置され、無機粒子の間に谷が形成される。このため、Ｖｖｖが所定の値以上となり、さらに、Ｓａｌが大きくなり過ぎないため、防眩性を良好にしやすくできる。
不定形無機粒子等の無機粒子の含有量を４０質量部以下とすることにより、無機粒子の個数が増え過ぎることを抑制できるため、Ｓａｌが小さくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
【0069】
有機粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して、１質量部以上２５質量部以下であることが好ましく、３量部以上１８質量部以下であることがより好ましく、８質量部以上１４質量部以下であることがさらに好ましい。
有機粒子の含有量を１質量部以上とすることにより、無機粒子の凝集を抑制しやすくできる。また、有機粒子の含有量を１質量部以上とすることにより、有機粒子の個数が減り過ぎることを抑制できるため、Ｖｍｐが大きくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
有機粒子は粒子径分布が比較的均一であるため、有機粒子の含有量が増加すると、Ｓａｌが小さくなる傾向が強くなる。このため、有機粒子の含有量を２５質量部以下とすることにより、Ｓａｌが小さくなり過ぎることを抑制し、指紋拭き取り性を良好にしやすくできる。
有機粒子の含有量を１質量部以上とすることにより、無機粒子の凝集を抑制しやすくできる。また、有機粒子の含有量を１質量部以上とすることにより、有機粒子の個数が減り過ぎることを抑制できるため、Ｖｍｐが大きくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
有機粒子は粒子径分布が比較的均一であるため、有機粒子の含有量が増加すると、Ｓａｌが小さくなる傾向が強くなる。このため、有機粒子の含有量を２５質量部以下とすることにより、Ｓａｌが小さくなり過ぎることを抑制し、指紋拭き取り性を良好にしやすくできる。
【0070】
有機粒子の平均粒子径は、１．０μｍ以上５．０μｍ以下であることが好ましく、１．２μｍ以上３．０μｍ以下であることがより好ましく、１．３μｍ以上２．５μｍ以下であることがさらに好ましい。
有機粒子の平均粒子径を１．０μｍ以上とすることにより、有機粒子の個数が増え過ぎることを抑制できるため、Ｓａｌが小さくなり過ぎることを抑制しやすくできる。このため、有機粒子の平均粒子径を１．０μｍ以上とすることにより、指紋拭き取り性を良好にしやすくできる。有機粒子の平均粒子径を５．０μｍ以下とすることにより、有機粒子の個数が減り過ぎることを抑制できるため、Ｖｍｐが大きくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
本明細書において、有機粒子の平均粒子径は、レーザー回折法における体積平均値ｄ５０として求められる値を意味する。
有機粒子の平均粒子径を１．０μｍ以上とすることにより、有機粒子の個数が増え過ぎることを抑制できるため、Ｓａｌが小さくなり過ぎることを抑制しやすくできる。このため、有機粒子の平均粒子径を１．０μｍ以上とすることにより、指紋拭き取り性を良好にしやすくできる。有機粒子の平均粒子径を５．０μｍ以下とすることにより、有機粒子の個数が減り過ぎることを抑制できるため、Ｖｍｐが大きくなり過ぎることを抑制しやすくできる。
本明細書において、有機粒子の平均粒子径は、レーザー回折法における体積平均値ｄ５０として求められる値を意味する。
【0071】
有機粒子は、粒度分布が狭いものが好ましい。具体的には、有機粒子は、平均粒子径の±０．５μｍの範囲内の粒子の割合が、有機粒子の全量の８０体積％以上であることが好ましく、８５体積％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。不定形無機粒子等の無機粒子の粒度分布を広くする一方で、有機粒子の粒度分布を狭くすることで、Ｖｍｐを小さくして式１を満たしやすくできる。
有機粒子の形状としては、球状、円盤状、ラグビーボール状、不定形等が挙げられる。これらの形状の中でも、粒度分布を制御しやすいため、球状の有機粒子が好ましい。
有機粒子の形状としては、球状、円盤状、ラグビーボール状、不定形等が挙げられる。これらの形状の中でも、粒度分布を制御しやすいため、球状の有機粒子が好ましい。
【0072】
防眩層の厚みに対する有機粒子の平均粒子径（有機粒子の平均粒子径／防眩層の厚み）は、０．２０以上０．７０以下であることが好ましく、０．２３以上０．５０以下であることがより好ましく、０．２５以上０．３５以下であることがさらに好ましい。有機粒子の平均粒子径／防眩層の厚みを前記範囲とすることにより、Ｖｍｐ、Ｓａ及びＳａｌを上述した範囲にしやすくできる。
【0073】
―無機微粒子―
防眩層は、バインダー樹脂及び粒子に加えて、さらに無機微粒子を含んでいてもよい。本明細書において、無機微粒子と上述した粒子とは、平均粒子径で区別できる。
防眩層が無機微粒子を含むことにより、粒子の屈折率と、防眩層の粒子以外の組成物の屈折率との差が小さくなり、内部ヘイズを小さくしやすくできる。
防眩層は、バインダー樹脂及び粒子に加えて、さらに無機微粒子を含んでいてもよい。本明細書において、無機微粒子と上述した粒子とは、平均粒子径で区別できる。
防眩層が無機微粒子を含むことにより、粒子の屈折率と、防眩層の粒子以外の組成物の屈折率との差が小さくなり、内部ヘイズを小さくしやすくできる。
【0074】
無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等からなる微粒子が挙げられる。これらの中でも、内部ヘイズの発生を抑制しやすいシリカが好適である。
【0075】
無機微粒子の平均粒子径は、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、２ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
【0076】
―バインダー樹脂―
バインダー樹脂は、耐擦傷性を良好にしやすくするため、熱硬化性樹脂組成物の硬化物又は電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物等の硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましく、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがより好ましい。
バインダー樹脂は、本開示の効果を阻害しない範囲で、熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。
バインダー樹脂は、耐擦傷性を良好にしやすくするため、熱硬化性樹脂組成物の硬化物又は電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物等の硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましく、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがより好ましい。
バインダー樹脂は、本開示の効果を阻害しない範囲で、熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。
【0077】
バインダー樹脂の全量に対する硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は、耐擦傷性を良好にしやすくするため、８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましく、１００質量％であることがさらに好ましい。
【0078】
熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
【0079】
電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物（以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう）を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する、多官能（メタ）アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能（メタ）アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
【0080】
多官能（メタ）アクリレート系化合物のうち、２官能（メタ）アクリレート系モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールＡテトラプロポキシジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。
３官能以上の（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
上記（メタ）アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよい。例えば、上記（メタ）アクリレート系モノマーは、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等により、分子骨格の一部を変性したものも使用することができる。
３官能以上の（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
上記（メタ）アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよい。例えば、上記（メタ）アクリレート系モノマーは、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等により、分子骨格の一部を変性したものも使用することができる。
【0081】
多官能（メタ）アクリレート系オリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等のアクリレート系重合体等が挙げられる。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
【0082】
多官能（メタ）アクリレート系オリゴマーの重量平均分子量は、５００以上３０００以下であることが好ましく、７００以上２５００以下であることがより好ましい。
本明細書において、重量平均分子量は、ＧＰＣ分析によって測定され、かつ標準ポリスチレンで換算された平均分子量である。
本明細書において、重量平均分子量は、ＧＰＣ分析によって測定され、かつ標準ポリスチレンで換算された平均分子量である。
【0083】
また、防眩層塗布液の粘度を調整するなどの目的で、電離放射線硬化性化合物として、単官能（メタ）アクリレートを併用してもよい。単官能（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート及びイソボルニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
上記電離放射線硬化性化合物は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
上記電離放射線硬化性化合物は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【0084】
電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合には、電離放射線硬化性組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α－ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α－アシルオキシムエステル、チオキサントン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものである。促進剤としては、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等が挙げられる。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α－ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α－アシルオキシムエステル、チオキサントン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものである。促進剤としては、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等が挙げられる。
【0085】
バインダー樹脂が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含む場合、電離放射線硬化性樹脂組成物は、多官能（メタ）アクリレートモノマー及び多官能（メタ）アクリレートオリゴマーを含むことが好ましい。
多官能（メタ）アクリレートモノマーと多官能（メタ）アクリレートオリゴマーとの質量比は、５：９５～６０：４０であることが好ましく、２０：８０～６０：４０であることがより好ましく、４０：６０～６０：４０であることがさらに好ましい。
多官能（メタ）アクリレートモノマーを所定の割合以上とすることにより、防眩層の耐擦傷性を良好にしやすくできる。
多官能（メタ）アクリレートオリゴマーを所定の割合以上とすることにより、防眩層用塗布液の粘度を高め、防眩層の下方に粒子が沈むことを抑制しやすくできるとともに、粒子に基づく凸部の間にバインダー樹脂が流れ落ちることを抑制しやすくできる。このため、Ｓａ及びＶｖｖを所定の値以上にしやすく、かつＳａｌを所定の値以下にしやすくできる。一方、多官能（メタ）アクリレートオリゴマーの割合が多くなり過ぎると、防眩層の強度が低下する場合がある。また、防眩層用塗布液の粘度が高すぎると、Ｖｍｐが大きくなり過ぎたり、Ｓａｌが小さくなり過ぎたりする場合がある。このため、電離放射線硬化性樹脂組成物は、所定量の多官能（メタ）アクリレートオリゴマーと、所定量の多官能（メタ）アクリレートモノマーとを含むことが好ましい。
多官能（メタ）アクリレートモノマーと多官能（メタ）アクリレートオリゴマーとの質量比は、５：９５～６０：４０であることが好ましく、２０：８０～６０：４０であることがより好ましく、４０：６０～６０：４０であることがさらに好ましい。
多官能（メタ）アクリレートモノマーを所定の割合以上とすることにより、防眩層の耐擦傷性を良好にしやすくできる。
多官能（メタ）アクリレートオリゴマーを所定の割合以上とすることにより、防眩層用塗布液の粘度を高め、防眩層の下方に粒子が沈むことを抑制しやすくできるとともに、粒子に基づく凸部の間にバインダー樹脂が流れ落ちることを抑制しやすくできる。このため、Ｓａ及びＶｖｖを所定の値以上にしやすく、かつＳａｌを所定の値以下にしやすくできる。一方、多官能（メタ）アクリレートオリゴマーの割合が多くなり過ぎると、防眩層の強度が低下する場合がある。また、防眩層用塗布液の粘度が高すぎると、Ｖｍｐが大きくなり過ぎたり、Ｓａｌが小さくなり過ぎたりする場合がある。このため、電離放射線硬化性樹脂組成物は、所定量の多官能（メタ）アクリレートオリゴマーと、所定量の多官能（メタ）アクリレートモノマーとを含むことが好ましい。
【0086】
―溶剤、乾燥条件―
防眩層塗布液は、粘度を調節したり、各成分を溶解または分散可能としたりするために溶剤を含むことが好ましい。溶剤の種類によって、塗布、乾燥した後の防眩層の表面形状が異なるため、溶剤の飽和蒸気圧、基材への溶剤の浸透性等を考慮して溶剤を選定することが好ましい。
具体的には、溶剤は、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、アルコール類（イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、グリコールエーテル類（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合物であってもよい。
防眩層塗布液は、粘度を調節したり、各成分を溶解または分散可能としたりするために溶剤を含むことが好ましい。溶剤の種類によって、塗布、乾燥した後の防眩層の表面形状が異なるため、溶剤の飽和蒸気圧、基材への溶剤の浸透性等を考慮して溶剤を選定することが好ましい。
具体的には、溶剤は、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、アルコール類（イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、グリコールエーテル類（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合物であってもよい。
【0087】
防眩層塗布液中の溶剤は、蒸発速度が速い溶剤を主成分とすることが好ましい。溶剤の蒸発速度を速くすることにより、粒子が防眩層の下部に沈むことを抑制し、さらには、粒子に基づく凸部の間にバインダー樹脂が流れ落ちることを抑制しやすくできる。このため、Ｓａ及びＶｖｖを所定の値以上にしやすく、かつＳａｌを所定の値以下にしやすくできる。
主成分とは、溶剤の全量の５０質量％以上であることを意味し、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上、さらに好ましくは９７質量％以上である。
本明細書において、蒸発速度が速い溶剤は、酢酸ブチルの蒸発速度を１００とした際に、蒸発速度が１００以上の溶剤を意味する。蒸発速度が速い溶剤の蒸発速度は、１２０以上３００以下であることがより好ましく、１５０以上２２０以下であることがさらに好ましい。
蒸発速度が速い溶剤としては、例えば、メチルイソブチルケトン（蒸発速度１６０）、トルエン（蒸発速度２００）、メチルエチルケトン（蒸発速度３７０）が挙げられる。
一方、蒸発速度が１００未満の蒸発速度が遅い溶剤としては、シクロヘキサノン（蒸発速度３２）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（蒸発速度４４）が挙げられる。
主成分とは、溶剤の全量の５０質量％以上であることを意味し、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上、さらに好ましくは９７質量％以上である。
本明細書において、蒸発速度が速い溶剤は、酢酸ブチルの蒸発速度を１００とした際に、蒸発速度が１００以上の溶剤を意味する。蒸発速度が速い溶剤の蒸発速度は、１２０以上３００以下であることがより好ましく、１５０以上２２０以下であることがさらに好ましい。
蒸発速度が速い溶剤としては、例えば、メチルイソブチルケトン（蒸発速度１６０）、トルエン（蒸発速度２００）、メチルエチルケトン（蒸発速度３７０）が挙げられる。
一方、蒸発速度が１００未満の蒸発速度が遅い溶剤としては、シクロヘキサノン（蒸発速度３２）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（蒸発速度４４）が挙げられる。
【0088】
また、防眩層塗布液から防眩層を形成する際には、乾燥条件を制御することが好ましい。
乾燥条件は、乾燥温度及び乾燥機内の風速により制御することができる。乾燥温度は３０℃以上１２０℃以下が好ましく、乾燥風速は０．２ｍ／ｓ以上５０ｍ／ｓ以下が好ましい。また、乾燥により防眩層の表面形状を制御するために、電離放射線の照射は塗布液の乾燥後に行うことが好適である。
乾燥条件は、上記の温度範囲及び風速範囲において、２段階の乾燥を実施することが好ましい。そして、１段階目の乾燥に比べて、２段階目の乾燥を、乾燥温度を高温として、かつ、風速を強くすることが好ましい。１段階目にゆっくり乾燥させることで、不定形無機粒子の表面をバインダー樹脂が覆った際に、バインダー樹脂の表面に不定形無機粒子の形状を反映させやすくできる。また、１段階目の乾燥より２段階目の乾燥温度を高温として、風速を強くすることにより、有機粒子の凝集を抑制しやすくできる。したがって、２段階の乾燥とすることにより、Ｖｍｐが大きくなり過ぎることを抑制しやすく、かつＳａｌを所定の値以下にしやすくできる。
１段階目の乾燥は、乾燥温度を３０℃以上６０℃未満、乾燥風速を０．２ｍ／ｓ以上７ｍ／ｓ未満とすることが好ましい。２段階目の乾燥は、乾燥温度を６０℃以上１２０℃以下、乾燥風速を７ｍ／ｓ以上５０ｍ／ｓ以下とすることが好ましい。
乾燥条件は、乾燥温度及び乾燥機内の風速により制御することができる。乾燥温度は３０℃以上１２０℃以下が好ましく、乾燥風速は０．２ｍ／ｓ以上５０ｍ／ｓ以下が好ましい。また、乾燥により防眩層の表面形状を制御するために、電離放射線の照射は塗布液の乾燥後に行うことが好適である。
乾燥条件は、上記の温度範囲及び風速範囲において、２段階の乾燥を実施することが好ましい。そして、１段階目の乾燥に比べて、２段階目の乾燥を、乾燥温度を高温として、かつ、風速を強くすることが好ましい。１段階目にゆっくり乾燥させることで、不定形無機粒子の表面をバインダー樹脂が覆った際に、バインダー樹脂の表面に不定形無機粒子の形状を反映させやすくできる。また、１段階目の乾燥より２段階目の乾燥温度を高温として、風速を強くすることにより、有機粒子の凝集を抑制しやすくできる。したがって、２段階の乾燥とすることにより、Ｖｍｐが大きくなり過ぎることを抑制しやすく、かつＳａｌを所定の値以下にしやすくできる。
１段階目の乾燥は、乾燥温度を３０℃以上６０℃未満、乾燥風速を０．２ｍ／ｓ以上７ｍ／ｓ未満とすることが好ましい。２段階目の乾燥は、乾燥温度を６０℃以上１２０℃以下、乾燥風速を７ｍ／ｓ以上５０ｍ／ｓ以下とすることが好ましい。
【0089】
《反射防止層》
反射防止層は、第１面側の最表面に位置することが好ましい。
反射防止層は、例えば、低屈折率層の単層構造；高屈折率層と低屈折率層の２層構造；３層構造以上の多層構造；が挙げられる。低屈折率層及び高屈折率層は、汎用のウェット法又はドライ法等により形成することができる。ウェット法の場合は前記単層構造又は２層構造が好ましく、ドライ法の場合は前記多層構造が好ましい。
ウェット法は、生産効率及び耐薬品性の点で、ドライ法よりも優れている。
本開示の光学フィルムでは、防眩層の凹凸形状を維持しやすくするため、反射防止層は低屈折率層の単層構造であることが好ましい。
反射防止層は、第１面側の最表面に位置することが好ましい。
反射防止層は、例えば、低屈折率層の単層構造；高屈折率層と低屈折率層の２層構造；３層構造以上の多層構造；が挙げられる。低屈折率層及び高屈折率層は、汎用のウェット法又はドライ法等により形成することができる。ウェット法の場合は前記単層構造又は２層構造が好ましく、ドライ法の場合は前記多層構造が好ましい。
ウェット法は、生産効率及び耐薬品性の点で、ドライ法よりも優れている。
本開示の光学フィルムでは、防眩層の凹凸形状を維持しやすくするため、反射防止層は低屈折率層の単層構造であることが好ましい。
【0090】
―単層構造又は２層構造の場合―
単層構造は低屈折率層の単層であり、２層構造は高屈折率層及び低屈折率層から形成される。単層構造又は２層構造は、ウェット法により好ましく形成される。
ウェット法により反射防止層を形成する方法としては、金属アルコキシド等を用いてゾルゲル法により形成する手法、フッ素樹脂のような低屈折率の樹脂を塗工して形成する手法、バインダー樹脂組成物に低屈折率粒子又は高屈折率粒子を含有させた塗布液を塗工して形成する手法が挙げられる。
ウェット法の中でも、密着性及び耐擦傷性のために、バインダー樹脂組成物に低屈折率粒子又は高屈折率粒子塗布液により、反射防止層を形成することが好ましい。すなわち、低屈折率層は、バインダー樹脂及び低屈折率粒子を含むことが好ましい。また、高屈折率層は、バインダー樹脂及び高屈折率粒子を含むことが好ましい。
単層構造は低屈折率層の単層であり、２層構造は高屈折率層及び低屈折率層から形成される。単層構造又は２層構造は、ウェット法により好ましく形成される。
ウェット法により反射防止層を形成する方法としては、金属アルコキシド等を用いてゾルゲル法により形成する手法、フッ素樹脂のような低屈折率の樹脂を塗工して形成する手法、バインダー樹脂組成物に低屈折率粒子又は高屈折率粒子を含有させた塗布液を塗工して形成する手法が挙げられる。
ウェット法の中でも、密着性及び耐擦傷性のために、バインダー樹脂組成物に低屈折率粒子又は高屈折率粒子塗布液により、反射防止層を形成することが好ましい。すなわち、低屈折率層は、バインダー樹脂及び低屈折率粒子を含むことが好ましい。また、高屈折率層は、バインダー樹脂及び高屈折率粒子を含むことが好ましい。
【0091】
低屈折率層の屈折率は、下限は、１．１０以上が好ましく、１．２０以上がより好ましく、１．２６以上がより好ましく、１．２８以上がより好ましく、１．３０以上がより好ましく、上限は、１．４８以下が好ましく、１．４５以下がより好ましく、１．４０以下がより好ましく、１．３８以下がより好ましく、１．３２以下がより好ましい。
本明細書において、屈折率は、波長５５０ｎｍにおける値を意味するものとする。
本明細書において、屈折率は、波長５５０ｎｍにおける値を意味するものとする。
【0092】
低屈折率層の厚みは、下限は、８０ｎｍ以上が好ましく、８５ｎｍ以上がより好ましく、９０ｎｍ以上がより好ましく、上限は、１５０ｎｍ以下が好ましく、１１０ｎｍ以下がより好ましく、１０５ｎｍ以下がより好ましい。
【0093】
低屈折率層のバインダー樹脂は、耐擦傷性をより良くするため、熱硬化性樹脂組成物の硬化物又は電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物等の硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましく、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがより好ましい。
低屈折率層のバインダー樹脂は、本開示の効果を阻害しない範囲で、熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。
低屈折率層のバインダー樹脂は、本開示の効果を阻害しない範囲で、熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。
【0094】
低屈折率層の硬化性樹脂組成物の硬化物としては、防眩層で例示した硬化性樹脂組成物の硬化物と同様のものが挙げられる。
低屈折率層のバインダー樹脂の全量に対する硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましく、９７質量％以上であることがさらに好ましい。
低屈折率層のバインダー樹脂の全量に対する硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましく、９７質量％以上であることがさらに好ましい。
【0095】
低屈折率層のバインダー樹脂は、熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。バインダー樹脂として熱可塑性樹脂を含むことにより、低屈折率層用塗布液の粘度を高め、低屈折率層用塗布液が防眩層の凸部の間に流れ落ちにくくなる。このため、バインダー樹脂として熱可塑性樹脂を含むことにより、Ｓａ及びＶｖｖを所定の値以上にしやすく、かつ、Ｓａｌを所定の値以下にしやすくできる。さらに、第１面の表面近傍に有機Ｓｉ及びフッ素を残存させやすくなるため、式２～４の元素比率を満たしやすくできる。一方、低屈折率層用塗布液の粘度が高くなり過ぎると、反射防止層用塗布液の塗布時に防眩層の表面に欠陥が生じる場合がある。
熱可塑性樹脂の含有量は、上述した作用及び塗膜強度のため、バインダー樹脂の全量の０．１質量％以上３．０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０．２質量％以上１．５質量％以下、さらに好ましくは０．３質量％以上０．７質量％以下である。
熱可塑性樹脂の含有量は、上述した作用及び塗膜強度のため、バインダー樹脂の全量の０．１質量％以上３．０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０．２質量％以上１．５質量％以下、さらに好ましくは０．３質量％以上０．７質量％以下である。
【0096】
熱可塑性樹脂としては、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ＡＢＳ樹脂（耐熱ＡＢＳ樹脂を含む）、ＡＳ樹脂、ＡＮ樹脂、ポリフェニレンオキサイド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリブチレンテフタレート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、およびポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられ、透明性の観点からアクリル系樹脂が好ましい。
熱可塑性樹脂の重量平均分子量は、２万以上２０万以下であることが好ましく、３万以上１５万以下であることがより好ましく、５万以上１０万以下であることがさらに好ましい。
熱可塑性樹脂の重量平均分子量は、２万以上２０万以下であることが好ましく、３万以上１５万以下であることがより好ましく、５万以上１０万以下であることがさらに好ましい。
【0097】
低屈折率粒子は、中空粒子及び中実粒子が挙げられる。低屈折率粒子としては、中空粒子及び中実粒子の何れか一方のみを含んでいてもよいが、屈折率を低くするため、中空粒子を含むことが好ましい。低屈折率層の塗膜強度の低下を抑制するためには、中空粒子に加えて、さらに中実粒子を含んでいてもよい。なお、中実粒子を含まず、中空粒子のみを含むことにより、本開示の効果を発揮しやすくできる。
中空粒子及び中実粒子の材質は、シリカ及びフッ化マグネシウム等の無機化合物、有機化合物のいずれであってもよいが、低屈折率化及び強度のためにシリカが好ましい。すなわち、低屈折率層は、中空シリカ粒子を含むことが好ましい。また、低屈折率層は、中空シリカ粒子に加えて、さらに中実シリカ粒子を含むことも好ましい。
中空粒子及び中実粒子の材質は、シリカ及びフッ化マグネシウム等の無機化合物、有機化合物のいずれであってもよいが、低屈折率化及び強度のためにシリカが好ましい。すなわち、低屈折率層は、中空シリカ粒子を含むことが好ましい。また、低屈折率層は、中空シリカ粒子に加えて、さらに中実シリカ粒子を含むことも好ましい。
【0098】
中空粒子の平均一次粒子径は、低屈折率層の厚みより小さいものが好ましく、例えば、１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下が挙げられる。中空粒子の平均一次粒子径は、３５ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることがより好ましく、６０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
中実粒子の平均一次粒子径は、低屈折率層の厚みより小さいものが好ましく、例えば、０．５ｎｍ以上１００ｎｍ以下が挙げられる。中実粒子の平均一次粒子径は、１ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることが好ましく、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
中実粒子の平均一次粒子径は、低屈折率層の厚みより小さいものが好ましく、例えば、０．５ｎｍ以上１００ｎｍ以下が挙げられる。中実粒子の平均一次粒子径は、１ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることが好ましく、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
【0099】
中空粒子及び後述する中実粒子、並びに、後述する高屈折粒子の平均一次粒子径は、以下の（Ａ１）～（Ａ３）の作業により算出できる。
（Ａ１）反射防止部材の断面をＴＥＭ又はＳＴＥＭで撮像する。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ～３０ｋＶ、倍率は５万～３０万倍とすることが好ましい。
（Ａ２）観察画像から任意の１０個の粒子を抽出し、個々の粒子の粒子径を算出する。粒子径は、粒子の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、該２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
（Ａ３）同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を粒子の平均一次粒子径とする。
（Ａ１）反射防止部材の断面をＴＥＭ又はＳＴＥＭで撮像する。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ～３０ｋＶ、倍率は５万～３０万倍とすることが好ましい。
（Ａ２）観察画像から任意の１０個の粒子を抽出し、個々の粒子の粒子径を算出する。粒子径は、粒子の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、該２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
（Ａ３）同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を粒子の平均一次粒子径とする。
【0100】
中空粒子の含有量が多くなるほど、バインダー樹脂中の中空粒子の充填率が高くなり、低屈折率層の屈折率が低下する。このため、中空粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して１００質量部以上であることが好ましく、１５０質量部以上であることがより好ましい。
一方で、中空粒子の含有量が多すぎると、中空粒子が損傷したり、脱落したりしやすくなって、低屈折率層の耐擦傷性等の機械的強度が低下する傾向がある。また、中空粒子の含有量が多すぎると、上記式２及び３を満たしにくくなる場合がある。このため、中空粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して３００質量部以下であることが好ましく、２５０質量部以下であることがより好ましい。
一方で、中空粒子の含有量が多すぎると、中空粒子が損傷したり、脱落したりしやすくなって、低屈折率層の耐擦傷性等の機械的強度が低下する傾向がある。また、中空粒子の含有量が多すぎると、上記式２及び３を満たしにくくなる場合がある。このため、中空粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して３００質量部以下であることが好ましく、２５０質量部以下であることがより好ましい。
【0101】
中実粒子の含有量は、低屈折率層の耐擦傷性を良好にするために、バインダー樹脂１００質量部に対して２０質量部以上であることが好ましく、４０質量部以上であることがより好ましい。
一方で、中実粒子の含有量が多すぎると、中実粒子が凝集しやすくなる。また、中実粒子の含有量が多すぎると、上記式２及び３を満たしにくくなる場合がある。このため、中実粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して１００質量部以下であることが好ましく、６０質量部以下であることがより好ましい。
一方で、中実粒子の含有量が多すぎると、中実粒子が凝集しやすくなる。また、中実粒子の含有量が多すぎると、上記式２及び３を満たしにくくなる場合がある。このため、中実粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して１００質量部以下であることが好ましく、６０質量部以下であることがより好ましい。
【0102】
低屈折率層は、第１表面が上記式２～４の元素比率を満たしやすくするため、有機Ｓｉ及びフッ素を含むレベリング剤を含むことが好ましい。有機Ｓｉ及びフッ素を含むレベリング剤は、分子内に有機Ｓｉ及びフッ素を含む化合物であってもよい。また、有機Ｓｉ及びフッ素を含むレベリング剤は、分子内に有機Ｓｉを含む化合物と、分子内にフッ素を含む化合物とを併用してもよい。バインダー樹脂との相溶性を良くしやすくするため、低屈折率層は、レベリング剤として、１つの分子内に有機Ｓｉ及びフッ素を含む化合物を含むことが好ましい。レベリング剤は、分子内にバインダー樹脂と反応性を有する官能基を有することが好ましい。
上記式２～４の元素比率は、主に、レベリング剤の含有量、及び、レベリング剤内の有機Ｓｉ及びフッ素の割合により調整できる。しかし、レベリング剤の含有量、及び、レベリング剤内の有機Ｓｉ及びフッ素の割合だけでは、防眩層の凸部の間に流れ落ちる低屈折率層用塗布液の量をコントロールすることは難しい。上記式２～４の元素比率を満たしやすくするためには、低屈折率層用塗布液の粘度を高くしたり、低屈折率層用塗布液の乾燥条件を制御したりして、防眩層の凸部の間に流れ落ちる低屈折率層用塗布液の量を少なくすることが好ましい。
上記式２～４の元素比率は、主に、レベリング剤の含有量、及び、レベリング剤内の有機Ｓｉ及びフッ素の割合により調整できる。しかし、レベリング剤の含有量、及び、レベリング剤内の有機Ｓｉ及びフッ素の割合だけでは、防眩層の凸部の間に流れ落ちる低屈折率層用塗布液の量をコントロールすることは難しい。上記式２～４の元素比率を満たしやすくするためには、低屈折率層用塗布液の粘度を高くしたり、低屈折率層用塗布液の乾燥条件を制御したりして、防眩層の凸部の間に流れ落ちる低屈折率層用塗布液の量を少なくすることが好ましい。
【0103】
レベリング剤の好ましい含有量は、レベリング剤内の有機Ｓｉ及びフッ素の割合に応じて、上記式２～４の元素比率を満たすように調整することが好ましい。
本開示の一実施形態では、低屈折率層の全固形分に対するレベリング剤の含有量は、１０質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以上４０質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以上４０質量％以下であることがさらに好ましい。
本開示の一実施形態では、低屈折率層の全固形分に対するレベリング剤の含有量は、１０質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以上４０質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以上４０質量％以下であることがさらに好ましい。
【0104】
高屈折率層は、低屈折率層よりも防眩層側に配置することが好ましい。
高屈折率層の屈折率は、下限は、１．５３以上が好ましく、１．５４以上がより好ましく、１．５５以上がより好ましく、１．５６以上がより好ましく、上限は、１．８５以下が好ましく、１．８０以下がより好ましく、１．７５以下がより好ましく、１．７０以下がより好ましい。
高屈折率層の屈折率は、下限は、１．５３以上が好ましく、１．５４以上がより好ましく、１．５５以上がより好ましく、１．５６以上がより好ましく、上限は、１．８５以下が好ましく、１．８０以下がより好ましく、１．７５以下がより好ましく、１．７０以下がより好ましい。
【0105】
高屈折率層の厚みは、上限は、２００ｎｍ以下が好ましく、１８０ｎｍ以下がより好ましく、１５０ｎｍ以下がさらに好ましく、下限は、５０ｎｍ以上が好ましく、７０ｎｍ以上がより好ましい。
【0106】
高屈折率層のバインダー樹脂としては、低屈折率層のバインダー樹脂と同様のものが挙げられる。
【0107】
高屈折率粒子としては、五酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、スズドープ酸化インジウム、アンチモンドープ酸化スズ、酸化イットリウム及び酸化ジルコニウム等が挙げられる。
高屈折率粒子の平均一次粒子径は、２ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上がより好ましく、１０ｎｍ以上がさらに好ましい。また、高屈折率粒子の平均一次粒子径は、白化抑制及び透明性の観点から、２００ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましく、８０ｎｍ以下がより好ましく、６０ｎｍ以下がより好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましい。
高屈折率粒子の含有量は、高屈折率層の屈折率が上述した範囲となるような含有量とすればよい。
高屈折率粒子の平均一次粒子径は、２ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上がより好ましく、１０ｎｍ以上がさらに好ましい。また、高屈折率粒子の平均一次粒子径は、白化抑制及び透明性の観点から、２００ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましく、８０ｎｍ以下がより好ましく、６０ｎｍ以下がより好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましい。
高屈折率粒子の含有量は、高屈折率層の屈折率が上述した範囲となるような含有量とすればよい。
【0108】
低屈折率層及び高屈折率層等の反射防止層をウェット法により形成する場合、反射防止層用塗布液の粘度を高くすることが好ましい。反射防止層用塗布液の粘度を高くすることにより、反射防止層用塗布液が防眩層の凸部の間に流れ落ちにくくなるため、防眩層上に反射防止層を形成しても、防眩層の表面形状を維持しやすくできる。このため、反射防止層用塗布液の粘度を適度に高くすることにより、Ｓａ及びＶｖｖを所定の値以上にしやすく、かつ、Ｓａｌを所定の値以下にしやすくできる。さらに、第１面の表面近傍に有機Ｓｉ及びフッ素を残存させやすくなるため、式２～４の元素比率を満たしやすくできる。例えば、バインダー樹脂として熱可塑性樹脂を添加したり、電離放射線硬化性樹脂組成物としてオリゴマーの割合を増やしたり、溶剤として粘度の高い溶剤を選択したりすることなどにより、反射防止層用塗布液の粘度を高くすることができる。
一方、反射防止層用塗布液の粘度を高くし過ぎると、反射防止層用塗布液の塗布時に防眩層の表面に欠陥が生じる場合がある。
このため、反射防止層用塗布液の２３℃の粘度は、０．１ｍＰａ・ｓ以上５．０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。
一方、反射防止層用塗布液の粘度を高くし過ぎると、反射防止層用塗布液の塗布時に防眩層の表面に欠陥が生じる場合がある。
このため、反射防止層用塗布液の２３℃の粘度は、０．１ｍＰａ・ｓ以上５．０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。
【0109】
反射防止層用塗布液の溶剤としては、防眩層用塗布液の溶剤として例示したものと同様のものが挙げられる。
【0110】
反射防止層塗布液から防眩層を形成する際には、乾燥条件を制御することが好ましい。
乾燥条件は、乾燥温度及び乾燥機内の風速により制御することができる。乾燥温度は３０℃以上７０℃以下が好ましく、乾燥風速は１０ｍ／ｓ以上３０ｍ／ｓ以下が好ましい。乾燥温度を低温とすることにより、反射防止層用塗布液の粘度を高くしやすくできる。また、風速を強くすることにより、反射防止層用塗布液の粘度を速やかに上げることができる。したがって、反射防止層用塗布液を比較的低温、かつ、強い風速で乾燥することにより、反射防止層用塗布液が防眩層の凸部の間に流れ落ちにくくすることができる。すなわち、反射防止層用塗布液を比較的低温、かつ、強い風速で乾燥することにより、第１面のＳａ等の表面形状を上述した範囲にしやすくでき、かつ、式１～４を満たしやすくできる。
電離放射線の照射は反射防止層用塗布液の乾燥後に行うことが好適である。
乾燥条件は、乾燥温度及び乾燥機内の風速により制御することができる。乾燥温度は３０℃以上７０℃以下が好ましく、乾燥風速は１０ｍ／ｓ以上３０ｍ／ｓ以下が好ましい。乾燥温度を低温とすることにより、反射防止層用塗布液の粘度を高くしやすくできる。また、風速を強くすることにより、反射防止層用塗布液の粘度を速やかに上げることができる。したがって、反射防止層用塗布液を比較的低温、かつ、強い風速で乾燥することにより、反射防止層用塗布液が防眩層の凸部の間に流れ落ちにくくすることができる。すなわち、反射防止層用塗布液を比較的低温、かつ、強い風速で乾燥することにより、第１面のＳａ等の表面形状を上述した範囲にしやすくでき、かつ、式１～４を満たしやすくできる。
電離放射線の照射は反射防止層用塗布液の乾燥後に行うことが好適である。
【0111】
―３層構造以上の多層構造の場合―
ドライ法により好ましく形成される多層構造は、高屈折率層と低屈折率層とを交互に合計３層以上積層された構成である。多層構造においても、低屈折率層は、光学フィルムの最表面に配置することが好ましい。
ドライ法により好ましく形成される多層構造は、高屈折率層と低屈折率層とを交互に合計３層以上積層された構成である。多層構造においても、低屈折率層は、光学フィルムの最表面に配置することが好ましい。
【0112】
高屈折率層は、厚みは１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、屈折率は２．１０以上２．４０以下であることが好ましい。高屈折率層の厚みは２０ｎｍ以上７０ｎｍ以下であることがより好ましい。
低屈折率層は、厚みは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、屈折率は１．３３以上１．５３以下であることが好ましい。低屈折率層の厚みは２０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下であることがより好ましい。
低屈折率層は、厚みは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、屈折率は１．３３以上１．５３以下であることが好ましい。低屈折率層の厚みは２０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【0113】
＜光学特性＞
光学フィルムは、下記の手法により測定される全光線反射率であるＲＳＣＩが３．０％以下であることが好ましい。
［全光線反射率（ＲＳＣＩ）の測定］
前記光学フィルムの前記第２面側に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記光学フィルム側を光入射面として全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定する。
光学フィルムは、下記の手法により測定される全光線反射率であるＲＳＣＩが３．０％以下であることが好ましい。
［全光線反射率（ＲＳＣＩ）の測定］
前記光学フィルムの前記第２面側に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記光学フィルム側を光入射面として全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定する。
【0114】
ＲＳＣＩを３．０％以下とすることにより、照度が強い光が第１面に入射しない環境において、黒表示部の黒味を高めやすくできるため、コントラストを良好にしやすくできる。光学フィルムのＲＳＣＩは、２．５％以下であることがより好ましく、２．０％以下であることがさらに好ましい。光学フィルムのＲＳＣＩの下限は特に制限されないが、通常は０．１％以上である。
【0115】
通常、ＲＳＣＩを３．０％以下とした場合、指紋成分を有する箇所と、指紋成分を有さない箇所との反射率のコントラストが大きくなり、光学フィルムの見栄えが大きく低下しやすくなる。しかし、本開示の光学フィルムは、式１を満たすことにより指紋拭き取り性が良好であるため、ＲＳＣＩを３．０％以下としても、光学フィルムの見栄えが低下することを抑制しやすくできる。
【0116】
ＲＳＣＩは、積分球を用いてサンプル表面にあらゆる方向から光を与え、正反射方向に相当するライトトラップを閉じて測定される反射光である。
代表的なＲＳＣＩの測定装置は、ＪＩＳ Ｚ８７２２：２００９の幾何条件ｃに準拠した構成となっている。より具体的には、代表的なＲＳＣＩの測定装置は、積分球分光光度計の光源としてＤ６５を用い、受光器の位置はサンプルの法線に対して＋８度であり、受光器の開口角は１０度であり、ライトトラップの位置はサンプルの法線に対して－８度であり、視野角は２度又は１０度である。本明細書では視野角を２度としている。
上記条件を満たす測定装置としては、例えば、コニカミノルタ社製の積分球分光光度計（商品名：ＣＭ－２００２）が挙げられる。
代表的なＲＳＣＩの測定装置は、ＪＩＳ Ｚ８７２２：２００９の幾何条件ｃに準拠した構成となっている。より具体的には、代表的なＲＳＣＩの測定装置は、積分球分光光度計の光源としてＤ６５を用い、受光器の位置はサンプルの法線に対して＋８度であり、受光器の開口角は１０度であり、ライトトラップの位置はサンプルの法線に対して－８度であり、視野角は２度又は１０度である。本明細書では視野角を２度としている。
上記条件を満たす測定装置としては、例えば、コニカミノルタ社製の積分球分光光度計（商品名：ＣＭ－２００２）が挙げられる。
【0117】
サンプルの透明粘着剤の屈折率と、光学フィルムの第２面側の層の屈折率との差は、０．０５以内であることが好ましく、０．０３以内であることがより好ましく、０．０１以内であることがさらに好ましい。サンプルの透明粘着剤の屈折率と、黒色板のバインダー樹脂の屈折率との差は、０．０５以内であることが好ましく、０．０３以内であることがより好ましく、０．０１以内であることがさらに好ましい。
【0118】
光学フィルムは、ＪＩＳ Ｋ７３６１－１：１９９７の全光線透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。
全光線透過率及びヘイズを測定する際の光入射面は、光学フィルムの第２面側とする。
全光線透過率及びヘイズを測定する際の光入射面は、光学フィルムの第２面側とする。
【0119】
光学フィルムは、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが２０％以上７５％以下であることが好ましい。ヘイズは、下限は３０％以上であることがより好ましく、４０％以上であることがさらに好ましく、５０％以上であることがよりさらに好ましく、上限は７０％以下であることがより好ましく、６５％以下であることがさらに好ましい。
ヘイズを２０％以上とすることにより、防眩性を良好にしやすくできる。また、ヘイズを７５％以下とすることにより、映像の解像度の低下を抑制しやすくできる。
光学フィルムのヘイズの実施形態は、２０％以上７５％以下、２０％以上７０％以下、２０％以上６５％以下、３０％以上７５％以下、３０％以上７０％以下、３０％以上６５％以下、４０％以上７５％以下、４０％以上７０％以下、４０％以上６５％以下、５０％以上７５％以下、５０％以上７０％以下、５０％以上６５％以下が挙げられる。
ヘイズを２０％以上とすることにより、防眩性を良好にしやすくできる。また、ヘイズを７５％以下とすることにより、映像の解像度の低下を抑制しやすくできる。
光学フィルムのヘイズの実施形態は、２０％以上７５％以下、２０％以上７０％以下、２０％以上６５％以下、３０％以上７５％以下、３０％以上７０％以下、３０％以上６５％以下、４０％以上７５％以下、４０％以上７０％以下、４０％以上６５％以下、５０％以上７５％以下、５０％以上７０％以下、５０％以上６５％以下が挙げられる。
【0120】
光学フィルムは、映像の解像度及びコントラストを良好にしやすくするために、内部ヘイズが２０％以下であることが好ましく、１５％以下であることがより好ましく、１０％以下であることがさらに好ましい。
内部ヘイズは汎用の手法で測定することができ、例えば、光学フィルムの第１表面上に透明粘着剤層を介して透明シートを貼り合わせるなどして、第１表面の凹凸を潰すことにより測定することができる。
内部ヘイズは汎用の手法で測定することができ、例えば、光学フィルムの第１表面上に透明粘着剤層を介して透明シートを貼り合わせるなどして、第１表面の凹凸を潰すことにより測定することができる。
【0121】
光学フィルムは、ＪＩＳ Ｋ７３７４：２００７に準拠して測定した透過像鮮明度に関して、光学櫛の幅が０．１２５ｍｍの透過像鮮明度をＣ0.125、光学櫛の幅が０．２５ｍｍの透過像鮮明度をＣ0.25、光学櫛の幅が０．５ｍｍの透過像鮮明度をＣ0.5、光学櫛の幅が１．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ1.0、光学櫛の幅が２．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ2.0と定義した際に、Ｃ0.125、Ｃ0.25、Ｃ0.5、Ｃ1.0及びＣ2.0の値が下記の範囲であることが好ましい。
Ｃ0.125は、防眩性を良好にするため、５０％以下が好ましく、４０％以下がより好ましく、３０％以下がより好ましく、２０％以下がより好ましい。Ｃ0.125は、解像度を良好にするため、１．０％以上が好ましい。Ｃ0.125の範囲としては、１．０％以上５０％以下、１．０％以上４０％以下、１．０％以上３０％以下、１．０％以上２０％以下が挙げられる。
Ｃ0.25は、防眩性を良好にするため、５０％以下が好ましく、４０％以下がより好ましく、３０％以下がより好ましく、２０％以下がより好ましい。Ｃ0.25は、解像度を良好にするため、１．０％以上が好ましい。Ｃ0.25の範囲としては、１．０％以上５０％以下、１．０％以上４０％以下、１．０％以上３０％以下、１．０％以上２０％以下が挙げられる。
Ｃ0.5は、防眩性を良好にするため、５０％以下が好ましく、４０％以下がより好ましく、３０％以下がより好ましく、２０％以下がより好ましい。Ｃ0.5は、解像度を良好にするため、１．０％以上が好ましい。Ｃ0.5の範囲としては、１．０％以上５０％以下、１．０％以上４０％以下、１．０％以上３０％以下、１．０％以上２０％以下が挙げられる。
Ｃ1.0は、防眩性を良好にするため、５０％以下が好ましく、４０％以下がより好ましく、３０％以下がより好ましく、２０％以下がより好ましい。Ｃ1.0は、解像度を良好にするため、１．０％以上が好ましい。Ｃ1.0の範囲としては、１．０％以上５０％以下、１．０％以上４０％以下、１．０％以上３０％以下、１．０％以上２０％以下が挙げられる。
Ｃ2.0は、防眩性を良好にするため、５０％以下が好ましく、４０％以下がより好ましく、３０％以下がより好ましく、２０％以下がより好ましい。Ｃ2.0は、解像度を良好にするため、５．０％以上が好ましい。Ｃ2.0の範囲としては、５．０％以上５０％以下、５．０％以上４０％以下、５．０％以上３０％以下、５．０％以上２０％以下が挙げられる。
Ｃ0.125は、防眩性を良好にするため、５０％以下が好ましく、４０％以下がより好ましく、３０％以下がより好ましく、２０％以下がより好ましい。Ｃ0.125は、解像度を良好にするため、１．０％以上が好ましい。Ｃ0.125の範囲としては、１．０％以上５０％以下、１．０％以上４０％以下、１．０％以上３０％以下、１．０％以上２０％以下が挙げられる。
Ｃ0.25は、防眩性を良好にするため、５０％以下が好ましく、４０％以下がより好ましく、３０％以下がより好ましく、２０％以下がより好ましい。Ｃ0.25は、解像度を良好にするため、１．０％以上が好ましい。Ｃ0.25の範囲としては、１．０％以上５０％以下、１．０％以上４０％以下、１．０％以上３０％以下、１．０％以上２０％以下が挙げられる。
Ｃ0.5は、防眩性を良好にするため、５０％以下が好ましく、４０％以下がより好ましく、３０％以下がより好ましく、２０％以下がより好ましい。Ｃ0.5は、解像度を良好にするため、１．０％以上が好ましい。Ｃ0.5の範囲としては、１．０％以上５０％以下、１．０％以上４０％以下、１．０％以上３０％以下、１．０％以上２０％以下が挙げられる。
Ｃ1.0は、防眩性を良好にするため、５０％以下が好ましく、４０％以下がより好ましく、３０％以下がより好ましく、２０％以下がより好ましい。Ｃ1.0は、解像度を良好にするため、１．０％以上が好ましい。Ｃ1.0の範囲としては、１．０％以上５０％以下、１．０％以上４０％以下、１．０％以上３０％以下、１．０％以上２０％以下が挙げられる。
Ｃ2.0は、防眩性を良好にするため、５０％以下が好ましく、４０％以下がより好ましく、３０％以下がより好ましく、２０％以下がより好ましい。Ｃ2.0は、解像度を良好にするため、５．０％以上が好ましい。Ｃ2.0の範囲としては、５．０％以上５０％以下、５．０％以上４０％以下、５．０％以上３０％以下、５．０％以上２０％以下が挙げられる。
【0122】
光学フィルムは、防眩性を良好にするため、Ｃ0.125、Ｃ0.5、Ｃ1.0及びＣ2.0の合計が、２００％以下が好ましく、１５０％以下がより好ましく、１００％以下がより好ましく、８０％以下がより好ましい。前記合計は、解像度を良好にするため、１０．０％以上が好ましい。前記合計の範囲としては、１０．０％以上２００％以下、１０．０％以上１５０％以下、１０．０％以上１００％以下、１０．０％以上８０％以下が挙げられる。
【0123】
＜大きさ、形状等＞
光学フィルムは、所定の大きさにカットした枚葉状の形態でもよいし、長尺シートをロール状に巻き取ったロール状の形態であってもよい。枚葉の大きさは特に限定されないが、最大径が２インチ以上５００インチ以下程度である。「最大径」とは、光学フィルムの任意の２点を結んだ際の最大長さをいうものとする。例えば、光学フィルムが長方形の場合は、該領域の対角線が最大径となる。光学フィルムが円形の場合は、円の直径が最大径となる。
ロール状の幅及び長さは特に限定されないが、一般的には、幅は５００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下、長さは５００ｍ以上５０００ｍ以下程度である。ロール状の形態の光学フィルムは、画像表示装置等の大きさに合わせて、枚葉状にカットして用いることができる。カットする際、物性が安定しないロール端部は除外することが好ましい。
枚葉の形状も特に限定されず、例えば、三角形、四角形、五角形等の多角形、円形、ランダムな不定形等の形状が挙げられる。より具体的には、光学フィルムが四角形状である場合には、縦横比は表示画面として問題がなければ特に限定されない。例えば、横：縦＝１：１、４：３、１６：１０、１６：９、２：１等が挙げられるが、デザイン性に富む車載用途やデジタルサイネージにおいては、このような縦横比に限定されない。
光学フィルムは、所定の大きさにカットした枚葉状の形態でもよいし、長尺シートをロール状に巻き取ったロール状の形態であってもよい。枚葉の大きさは特に限定されないが、最大径が２インチ以上５００インチ以下程度である。「最大径」とは、光学フィルムの任意の２点を結んだ際の最大長さをいうものとする。例えば、光学フィルムが長方形の場合は、該領域の対角線が最大径となる。光学フィルムが円形の場合は、円の直径が最大径となる。
ロール状の幅及び長さは特に限定されないが、一般的には、幅は５００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下、長さは５００ｍ以上５０００ｍ以下程度である。ロール状の形態の光学フィルムは、画像表示装置等の大きさに合わせて、枚葉状にカットして用いることができる。カットする際、物性が安定しないロール端部は除外することが好ましい。
枚葉の形状も特に限定されず、例えば、三角形、四角形、五角形等の多角形、円形、ランダムな不定形等の形状が挙げられる。より具体的には、光学フィルムが四角形状である場合には、縦横比は表示画面として問題がなければ特に限定されない。例えば、横：縦＝１：１、４：３、１６：１０、１６：９、２：１等が挙げられるが、デザイン性に富む車載用途やデジタルサイネージにおいては、このような縦横比に限定されない。
【0124】
光学フィルムの第２表面の表面形状は特に限定されないが、略平滑であることが好ましい。略平滑とは、カットオフ値０．８ｍｍにおける、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の算術平均粗さＲａが０．０３μｍ未満であることを意味し、好ましくは０．０２μｍ以下である。
【0125】
［光学フィルムの製造方法］
本開示の光学フィルムの製造方法は、上述した本開示の光学フィルムの製造方法であって、基材上に防眩層を形成する第１の工程と、前記防眩層上に反射防止層を形成する第２の工程とを有するものである。
本開示の光学フィルムの製造方法は、上述した本開示の光学フィルムの製造方法であって、基材上に防眩層を形成する第１の工程と、前記防眩層上に反射防止層を形成する第２の工程とを有するものである。
【0126】
基材上に防眩層を形成する手段としては、上述した、（Ａ）エンボスロールを用いた方法、（Ｂ）エッチング処理、（Ｃ）型による成型、（Ｄ）塗布による塗膜の形成、が挙げられる。
（Ａ）の方法の場合、例えば、基材上に樹脂層を形成し、樹脂層側からエンボスロールを用いて賦型することにより、基材上に防眩層を形成できる。
（Ｂ）の方法の場合、例えば、基材上に光硬化性樹脂の層を形成し、フォトエッチングすることにより、基材上に防眩層を形成できる。
（Ｃ）の方法の場合、例えば、型に樹脂を流し込み、成形した樹脂を型から取り出すとともに、基材上に配置することにより、基材上に防眩層を形成することができる。
（Ｄ）の方法の場合、例えば、基材上に、上述した（ｄ１）又は（ｄ２）の手法により塗膜を形成することにより、基材上に防眩層を形成することができる。
（Ａ）の方法の場合、例えば、基材上に樹脂層を形成し、樹脂層側からエンボスロールを用いて賦型することにより、基材上に防眩層を形成できる。
（Ｂ）の方法の場合、例えば、基材上に光硬化性樹脂の層を形成し、フォトエッチングすることにより、基材上に防眩層を形成できる。
（Ｃ）の方法の場合、例えば、型に樹脂を流し込み、成形した樹脂を型から取り出すとともに、基材上に配置することにより、基材上に防眩層を形成することができる。
（Ｄ）の方法の場合、例えば、基材上に、上述した（ｄ１）又は（ｄ２）の手法により塗膜を形成することにより、基材上に防眩層を形成することができる。
【0127】
防眩層上に反射防止層を形成する手段としては、例えば、上述した、ウェット法又はドライ法が挙げられる。
【0128】
［偏光板］
本開示の偏光板は、偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第一の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第二の透明保護板とを有する偏光板であって、
前記第一の透明保護板及び前記第二の透明保護板の少なくとも一方が、上述した本開示の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記偏光子とが対向して配置されたものである。
本開示の偏光板は、偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第一の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第二の透明保護板とを有する偏光板であって、
前記第一の透明保護板及び前記第二の透明保護板の少なくとも一方が、上述した本開示の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記偏光子とが対向して配置されたものである。
【0129】
＜偏光子＞
偏光子としては、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン－酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等のシート型偏光子、平行に並べられた多数の金属ワイヤからなるワイヤーグリッド型偏光子、リオトロピック液晶や二色性ゲスト－ホスト材料を塗布した塗布型偏光子、多層薄膜型偏光子等が挙げられる。これらの偏光子は、透過しない偏光成分を反射する機能を備えた反射型偏光子であってもよい。
偏光子としては、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン－酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等のシート型偏光子、平行に並べられた多数の金属ワイヤからなるワイヤーグリッド型偏光子、リオトロピック液晶や二色性ゲスト－ホスト材料を塗布した塗布型偏光子、多層薄膜型偏光子等が挙げられる。これらの偏光子は、透過しない偏光成分を反射する機能を備えた反射型偏光子であってもよい。
【0130】
＜透明保護板＞
偏光子の一方の側には第一の透明保護板、他方の側には第二の透明保護板が配置される。第一の透明保護板及び第二の透明保護板の少なくとも一方は、上述した本開示の光学フィルムである。
本開示の偏光板は、第一の透明保護板及び第二の透明保護板の一方が上述した本開示の光学フィルムであってもよいし、第一の透明保護板及び第二の透明保護板の両方が上述した本開示の光学フィルムであってもよい。
偏光子の一方の側には第一の透明保護板、他方の側には第二の透明保護板が配置される。第一の透明保護板及び第二の透明保護板の少なくとも一方は、上述した本開示の光学フィルムである。
本開示の偏光板は、第一の透明保護板及び第二の透明保護板の一方が上述した本開示の光学フィルムであってもよいし、第一の透明保護板及び第二の透明保護板の両方が上述した本開示の光学フィルムであってもよい。
【0131】
第一の透明保護板及び第二の透明保護板のうち、本開示の光学フィルムではない透明保護板としては、汎用のプラスチックフィルム及びガラス等を用いることができる。
【0132】
偏光子と透明保護板とは、接着剤を介して貼り合わせることが好ましい。接着剤は汎用の接着剤を用いることができ、ＰＶＡ系接着剤が好ましい。
【0133】
［画像表示装置用の表面板］
本開示の画像表示装置用の表面板は、樹脂板又はガラス板上に保護フィルムを貼り合わせた画像表示装置用の表面板であって、前記保護フィルムが上述した本開示の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記樹脂板又は前記ガラス板とが対向して配置されたものである。
本開示の画像表示装置用の表面板は、樹脂板又はガラス板上に保護フィルムを貼り合わせた画像表示装置用の表面板であって、前記保護フィルムが上述した本開示の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記樹脂板又は前記ガラス板とが対向して配置されたものである。
【0134】
樹脂板又はガラス板としては、画像表示装置の表面板として汎用的に使用されている樹脂板又はガラス板を用いることができる。
【0135】
樹脂板又はガラス板の厚みは、強度を良好にするため、１０μｍ以上であることが好ましい。樹脂板又はガラス板の厚みの上限は、通常は５０００μｍ以下である。薄型化のためには、樹脂板又はガラス板の厚みの上限は、１０００μｍ以下であることが好ましく、５００μｍ以下であることがより好ましく、１００μｍ以下であることがさらに好ましい。
樹脂板又はガラス板の厚みの範囲の実施形態は、１０μｍ以上５０００μｍ以下、１０μｍ以上１０００μｍ以下、１０μｍ以上５００μｍ以下、１０μｍ以上１００μｍ以下が挙げられる。
樹脂板又はガラス板の厚みの範囲の実施形態は、１０μｍ以上５０００μｍ以下、１０μｍ以上１０００μｍ以下、１０μｍ以上５００μｍ以下、１０μｍ以上１００μｍ以下が挙げられる。
【0136】
［画像表示パネル］
本開示の画像表示パネルは、表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムを有する画像表示パネルであって、前記光学フィルムとして上述した本開示の光学フィルムを含むものである（図２参照）。
本開示の画像表示パネルは、表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムを有する画像表示パネルであって、前記光学フィルムとして上述した本開示の光学フィルムを含むものである（図２参照）。
【0137】
画像表示パネル内において、本開示の光学フィルムは、第２面側が表示素子側を向くように配置することが好ましい。
画像表示パネル内において、本開示の光学フィルムは、表示素子の光出射面側の最表面に配置することが好ましい。
画像表示パネル内において、本開示の光学フィルムは、表示素子の光出射面側の最表面に配置することが好ましい。
【0138】
表示素子としては、液晶表示素子、ＥＬ表示素子（有機ＥＬ表示素子、無機ＥＬ表示素子）、プラズマ表示素子等が挙げられ、さらには、マイクロＬＥＤ表示素子等のＬＥＤ表示素子が挙げられる。これら表示素子は、表示素子の内部にタッチパネル機能を有していてもよい。
液晶表示素子の液晶の表示方式としては、ＩＰＳ方式、ＶＡ方式、マルチドメイン方式、ＯＣＢ方式、ＳＴＮ方式、ＴＳＴＮ方式等が挙げられる。
液晶表示素子の液晶の表示方式としては、ＩＰＳ方式、ＶＡ方式、マルチドメイン方式、ＯＣＢ方式、ＳＴＮ方式、ＴＳＴＮ方式等が挙げられる。
【0139】
また、本開示の画像表示パネルは、表示素子と光学フィルムとの間にタッチパネルを有するタッチパネル付きの画像表示パネルであってもよい。
【0140】
画像表示パネルの大きさは特に限定されないが、最大径が２インチ以上５００インチ以下程度である。最大径とは、画像表示パネルの面内の任意の２点を結んだ際の最大長さを意味する。
【0141】
［画像表示装置］
本開示の画像表示装置は、本開示の画像表示パネルを含むものである。
本開示の画像表示装置は、本開示の画像表示パネルを含むものである。
【0142】
本開示の画像表示装置は、本開示の画像表示パネルを含むものであれば特に限定されない。本開示の画像表示装置は、本開示の画像表示パネルと、前記画像表示パネルに電気的に接続された駆動制御部と、これらを収容する筐体とを備えることが好ましい。
表示素子が液晶表示素子である場合、本開示の画像表示装置にはバックライトが必要である。バックライトは、液晶表示素子の光出射面側とは反対側に配置される。
表示素子が液晶表示素子である場合、本開示の画像表示装置にはバックライトが必要である。バックライトは、液晶表示素子の光出射面側とは反対側に配置される。
【0143】
画像表示装置の大きさは特に限定されないが、有効表示領域の最大径が２インチ以上５００インチ以下程度である。
画像表示装置の有効表示領域とは、画像を表示し得る領域である。例えば、画像表示装置が表示素子を囲う筐体を有する場合、筐体の内側の領域が有効画像領域となる。
なお、有効画像領域の最大径とは、有効画像領域内の任意の２点を結んだ際の最大長さをいうものとする。例えば、有効画像領域が長方形の場合は、該領域の対角線が最大径となる。また、有効画像領域が円形の場合は、該領域の直径が最大径となる。
画像表示装置の有効表示領域とは、画像を表示し得る領域である。例えば、画像表示装置が表示素子を囲う筐体を有する場合、筐体の内側の領域が有効画像領域となる。
なお、有効画像領域の最大径とは、有効画像領域内の任意の２点を結んだ際の最大長さをいうものとする。例えば、有効画像領域が長方形の場合は、該領域の対角線が最大径となる。また、有効画像領域が円形の場合は、該領域の直径が最大径となる。
【0144】
［光学フィルムの選定方法］
本開示の光学フィルムの選定方法は、下記の選定条件を満たす光学フィルムを選定するものである。
（光学フィルムの選定条件）
第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第１面は凹凸形状を有し、
前記第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
前記第１面が下記式１を満たす。
Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００ （式１）
［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
本開示の光学フィルムの選定方法は、下記の選定条件を満たす光学フィルムを選定するものである。
（光学フィルムの選定条件）
第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第１面は凹凸形状を有し、
前記第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
前記第１面が下記式１を満たす。
Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００ （式１）
［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
【0145】
本開示の光学フィルムの選定方法では、追加の選定条件を有していてもよい。追加の選定条件としては、光学フィルムの好適な実施形態が挙げられる。追加の選定条件としては、例えば、下記Ａ～Ｄが挙げられる。
Ａ：Ｖｍｐが０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下。
Ｂ：前記光学フィルムが、前記第１面から前記第２面に向けて、前記反射防止層、前記防眩層及び基材をこの順に有する。
Ｃ：元素比率が、下記の式２～４を満たす。
３．５≦Ｆ／無機Ｓｉ≦１０．０ （式２）
０．０８≦有機Ｓｉ／無機Ｓｉ≦１．００ （式３）
５．０≦Ｆ／有機Ｓｉ≦５０．０ （式４）
Ｄ：下記の手法により測定される全光線反射率であるＲＳＣＩが３．０％以下。
［全光線反射率（ＲＳＣＩ）の測定］
前記光学フィルムの前記第２面側に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記光学フィルム側を光入射面として全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定する。
Ａ：Ｖｍｐが０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下。
Ｂ：前記光学フィルムが、前記第１面から前記第２面に向けて、前記反射防止層、前記防眩層及び基材をこの順に有する。
Ｃ：元素比率が、下記の式２～４を満たす。
３．５≦Ｆ／無機Ｓｉ≦１０．０ （式２）
０．０８≦有機Ｓｉ／無機Ｓｉ≦１．００ （式３）
５．０≦Ｆ／有機Ｓｉ≦５０．０ （式４）
Ｄ：下記の手法により測定される全光線反射率であるＲＳＣＩが３．０％以下。
［全光線反射率（ＲＳＣＩ）の測定］
前記光学フィルムの前記第２面側に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記光学フィルム側を光入射面として全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定する。
【0146】
本開示の光学フィルムの選定方法によれば、防眩性に優れ、かつ、指紋拭き取り性が良好な光学フィルムを、効率よく選定することができる。
【0147】
本開示は、以下の［１］～［１７］を含む。
［１］ 第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第１面は凹凸形状を有し、
前記第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
前記第１面が下記式１を満たす、光学フィルム。
Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００ （式１）
［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
［２］ 前記第１面は、Ｖｍｐが０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下である、［１］に記載の光学フィルム。
［３］ 前記第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出谷部空間体積であるＶｖｖが０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下である、［１］又は［２］に記載の光学フィルム。
［４］ 前記第１面は、Ｖｖｖと、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定されるコア部空間体積であるＶｖｃとの比（Ｖｖｖ／Ｖｖｃ）が、０．１０以下である、［３］に記載の光学フィルム。
［５］ 前記第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される最小自己相関長さであるＳａｌが４．０μｍ以上１２．０μｍ以下である、［１］～［４］の何れかに記載の光学フィルム。
［６］ 前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、前記反射防止層、前記防眩層及び基材をこの順に有する、［１］～［５］の何れかに記載の光学フィルム。
［７］ 前記防眩層が、バインダー樹脂及び粒子を含む、［１］～［６］の何れかに記載の光学フィルム。
［８］ 前記光学フィルムは、前記第１面側の表面領域をＸ線光電子分光法により分析して得られる元素比率が、下記の式２～４を満たす、［１］～［６］の何れかに記載の光学フィルム。
３．５≦Ｆ／無機Ｓｉ≦１０．０ （式２）
０．０８≦有機Ｓｉ／無機Ｓｉ≦１．００ （式３）
５．０≦Ｆ／有機Ｓｉ≦５０．０ （式４）
［式２～４中、「Ｆ」はフッ素元素の比率であり、「無機Ｓｉ」は無機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率であり、「有機Ｓｉ」は有機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率である。］
［９］ 前記Ｘ線光電子分光法により分析して得られる元素比率に関して、全元素に対する無機Ｓｉの割合が２原子％以上２０原子％以下である、［８］に記載の光学フィルム。
［１０］ 前記光学フィルムは、下記の手法により測定される全光線反射率であるＲＳＣＩが３．０％以下である、［１］～［９］の何れかに記載の光学フィルム。
［全光線反射率（ＲＳＣＩ）の測定］
前記光学フィルムの前記第２面側に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記光学フィルム側を光入射面として全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定する。
［１１］ ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが２０％以上７５％以下である、［１］～［１０］の何れかに記載の光学フィルム。
［１２］ 偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第一の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第二の透明保護板とを有する偏光板であって、
前記第一の透明保護板及び前記第二の透明保護板の少なくとも一方が、［１］～［１１］の何れかに記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記偏光子とが対向して配置された、偏光板。
［１３］ 樹脂板又はガラス板上に保護フィルムを貼り合わせた画像表示装置用の表面板であって、前記保護フィルムが［１］～［１１］の何れかに記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記樹脂板又は前記ガラス板とが対向して配置された、画像表示装置用の表面板。
［１４］ 表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムを有する画像表示パネルであって、前記光学フィルムとして［１］～［１１］の何れかに記載の光学フィルムを含む、画像表示パネル。
［１５］ ［１４］に記載の画像表示パネルを含む、画像表示装置。
［１６］ ［１］～［１１］の何れかに記載の光学フィルムの製造方法であって、
基材上に防眩層を形成する第１の工程と、前記防眩層上に反射防止層を形成する第２の工程とを有する、光学フィルム製造方法。
［１７］ 下記の選定条件を満たす光学フィルムを選定する、光学フィルムの選定方法。
（光学フィルムの選定条件）
第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第１面は凹凸形状を有し、
前記第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
前記第１面が下記式１を満たす。
Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００ （式１）
［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
［１］ 第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第１面は凹凸形状を有し、
前記第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
前記第１面が下記式１を満たす、光学フィルム。
Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００ （式１）
［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
［２］ 前記第１面は、Ｖｍｐが０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下である、［１］に記載の光学フィルム。
［３］ 前記第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出谷部空間体積であるＶｖｖが０．００５ｍｌ／ｍ２以上０．１００ｍｌ／ｍ２以下である、［１］又は［２］に記載の光学フィルム。
［４］ 前記第１面は、Ｖｖｖと、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定されるコア部空間体積であるＶｖｃとの比（Ｖｖｖ／Ｖｖｃ）が、０．１０以下である、［３］に記載の光学フィルム。
［５］ 前記第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される最小自己相関長さであるＳａｌが４．０μｍ以上１２．０μｍ以下である、［１］～［４］の何れかに記載の光学フィルム。
［６］ 前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、前記反射防止層、前記防眩層及び基材をこの順に有する、［１］～［５］の何れかに記載の光学フィルム。
［７］ 前記防眩層が、バインダー樹脂及び粒子を含む、［１］～［６］の何れかに記載の光学フィルム。
［８］ 前記光学フィルムは、前記第１面側の表面領域をＸ線光電子分光法により分析して得られる元素比率が、下記の式２～４を満たす、［１］～［６］の何れかに記載の光学フィルム。
３．５≦Ｆ／無機Ｓｉ≦１０．０ （式２）
０．０８≦有機Ｓｉ／無機Ｓｉ≦１．００ （式３）
５．０≦Ｆ／有機Ｓｉ≦５０．０ （式４）
［式２～４中、「Ｆ」はフッ素元素の比率であり、「無機Ｓｉ」は無機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率であり、「有機Ｓｉ」は有機ケイ素化合物に帰属するケイ素元素の比率である。］
［９］ 前記Ｘ線光電子分光法により分析して得られる元素比率に関して、全元素に対する無機Ｓｉの割合が２原子％以上２０原子％以下である、［８］に記載の光学フィルム。
［１０］ 前記光学フィルムは、下記の手法により測定される全光線反射率であるＲＳＣＩが３．０％以下である、［１］～［９］の何れかに記載の光学フィルム。
［全光線反射率（ＲＳＣＩ）の測定］
前記光学フィルムの前記第２面側に、透明粘着剤を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製する。前記サンプルの前記光学フィルム側を光入射面として全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定する。
［１１］ ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが２０％以上７５％以下である、［１］～［１０］の何れかに記載の光学フィルム。
［１２］ 偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置された第一の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置された第二の透明保護板とを有する偏光板であって、
前記第一の透明保護板及び前記第二の透明保護板の少なくとも一方が、［１］～［１１］の何れかに記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記偏光子とが対向して配置された、偏光板。
［１３］ 樹脂板又はガラス板上に保護フィルムを貼り合わせた画像表示装置用の表面板であって、前記保護フィルムが［１］～［１１］の何れかに記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの前記第２面と前記樹脂板又は前記ガラス板とが対向して配置された、画像表示装置用の表面板。
［１４］ 表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムを有する画像表示パネルであって、前記光学フィルムとして［１］～［１１］の何れかに記載の光学フィルムを含む、画像表示パネル。
［１５］ ［１４］に記載の画像表示パネルを含む、画像表示装置。
［１６］ ［１］～［１１］の何れかに記載の光学フィルムの製造方法であって、
基材上に防眩層を形成する第１の工程と、前記防眩層上に反射防止層を形成する第２の工程とを有する、光学フィルム製造方法。
［１７］ 下記の選定条件を満たす光学フィルムを選定する、光学フィルムの選定方法。
（光学フィルムの選定条件）
第１面と、前記第１面とは反対側の面である第２面とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記第１面から前記第２面に向けて、反射防止層及び防眩層をこの順に有し、
前記第１面は凹凸形状を有し、
前記第１面は、ＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される算術平均高さであるＳａが０．０５μｍ以上であり、
前記第１面が下記式１を満たす。
Ｓｗ×Ｖｍｐ≦２．００ （式１）
［式１中、「Ｓｗ」は、前記第１面において、３０μｌの純水の液滴が流れ落ちる時の傾斜角（度）である。式１中、「Ｖｍｐ」は、前記第１面のＩＳＯ ２５１７８－２：２０１２に規定される突出山部実体体積（ｍｌ／ｍ２）の値である。］
【実施例0148】
次に、本開示を実施例により更に詳細に説明するが、本開示はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、「部」及び「％」は特に断りのない限り質量基準とする。
【0149】
１．測定及び評価
以下のように、実施例及び比較例の光学フィルムの測定及び評価を行った。各測定及び評価時の雰囲気は、温度２３±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下とした。また、各測定及び評価の開始前に、対象サンプルを前記雰囲気に３０分以上６０分以下晒してから測定及び評価を行った。結果を表１又は２に示す。
以下のように、実施例及び比較例の光学フィルムの測定及び評価を行った。各測定及び評価時の雰囲気は、温度２３±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下とした。また、各測定及び評価の開始前に、対象サンプルを前記雰囲気に３０分以上６０分以下晒してから測定及び評価を行った。結果を表１又は２に示す。
【0150】
１－１．表面形状の測定
実施例及び比較例の防眩フィルムを１０ｃｍ×１０ｃｍに切断した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。切断した防眩フィルムの基材側をパナック社の光学透明粘着シート（商品名：パナクリーンPD-S1、厚み２５μｍ）を介して、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの大きさのガラス板（厚み２．０ｍｍ）に貼り合わせたサンプル１を作製した。
共焦点レーザー顕微鏡（ＶＫ－Ｘ２５０(制御部)、ＶＫ－Ｘ２６０(測定部)）を用いて、計測ステージにサンプル１が固定かつ密着した状態となるようにセットしたのち、以下の測定条件１、画像処理条件１及び解析条件１にて、各サンプルの第１面の表面形状の測定及び解析を行った。なお、測定・解析ソフトにはマルチファイル解析アプリケーション（バージョン１．３．１．１２０）を用いた。
実施例及び比較例の防眩フィルムを１０ｃｍ×１０ｃｍに切断した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。切断した防眩フィルムの基材側をパナック社の光学透明粘着シート（商品名：パナクリーンPD-S1、厚み２５μｍ）を介して、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの大きさのガラス板（厚み２．０ｍｍ）に貼り合わせたサンプル１を作製した。
共焦点レーザー顕微鏡（ＶＫ－Ｘ２５０(制御部)、ＶＫ－Ｘ２６０(測定部)）を用いて、計測ステージにサンプル１が固定かつ密着した状態となるようにセットしたのち、以下の測定条件１、画像処理条件１及び解析条件１にて、各サンプルの第１面の表面形状の測定及び解析を行った。なお、測定・解析ソフトにはマルチファイル解析アプリケーション（バージョン１．３．１．１２０）を用いた。
【0151】
（測定条件１）
レーザー波長：４０８ｎｍ
測定用光学系：共焦点光学系
対物レンズ：１５０倍
Ｚｏｏｍ：１倍
測定領域：９３．９５μｍ×７０．４４μｍ
測定点の数：１０２４×７６８点
測定条件：透明体表面形状／高精度／ダブルスキャンあり
レーザー波長：４０８ｎｍ
測定用光学系：共焦点光学系
対物レンズ：１５０倍
Ｚｏｏｍ：１倍
測定領域：９３．９５μｍ×７０．４４μｍ
測定点の数：１０２４×７６８点
測定条件：透明体表面形状／高精度／ダブルスキャンあり
【0152】
（画像処理条件１）
・ＤＣＬ／ＢＣＬ：ＤＣＬ＝１３０００，ＢＣＬ＝６５５３５，処理方法：周囲の画素から補完する
・高さカットレベル：強
（解析条件１）
・領域：全領域
・フィルター種別：ガウシアン
・Ｓ－フィルター：０．２５μｍ
・Ｆ－オペレーション：平面傾き補正（領域指定）
・Ｌ－フィルター：なし
・終端効果の補正：ＯＮ
・Ｓａｌ算出時のｓ：ｓ＝０．２０
・ＤＣＬ／ＢＣＬ：ＤＣＬ＝１３０００，ＢＣＬ＝６５５３５，処理方法：周囲の画素から補完する
・高さカットレベル：強
（解析条件１）
・領域：全領域
・フィルター種別：ガウシアン
・Ｓ－フィルター：０．２５μｍ
・Ｆ－オペレーション：平面傾き補正（領域指定）
・Ｌ－フィルター：なし
・終端効果の補正：ＯＮ
・Ｓａｌ算出時のｓ：ｓ＝０．２０
【0153】
解析ソフトから、各測定領域の「Ｓａ」、「Ｖｍｐ」、「Ｖｖｖ」、「Ｖｖｃ」、「Ｓａｌ」を表示させて、測定値とした。
【0154】
１－２．接触角
＜通常の接触角＞
実施例及び比較例の光学フィルムを１０ｃｍ四方に切断した。切断した光学フィルムの基材側を、透明粘着シートを介して、ガラス板（縦１０ｃｍ×横１０ｃｍ、厚み２．０ｍｍ）に貼り合わせて測定用のサンプルを作製した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、光学フィルムのランダムな部位から選択した。光学フィルムとガラス板とを貼り合わせる際には、光学フィルムに皺が生じないようにするとともに、光学フィルムとガラス板との間に気泡が入らないようにした。
接触角計（ＤＭ－３００、協和界面科学社）を用いて、各サンプルの第１面側の表面に純水を１．０μＬ滴下し、着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法に従って計測した。純水を滴下する際には、シリンジの針部がフッ素樹脂コートされたシリンジを用いた。
＜純水降下傾斜角＞
明細書本文の（１）～（３）の手順に従い、各サンプルの純水降下傾斜角Ｓｗを測定した。測定装置は、接触角計（協和界面科学社の「DropMaster」シリーズの品番「DMo-701」。付属品として「SA-301」を使用）を用いた。
＜通常の接触角＞
実施例及び比較例の光学フィルムを１０ｃｍ四方に切断した。切断した光学フィルムの基材側を、透明粘着シートを介して、ガラス板（縦１０ｃｍ×横１０ｃｍ、厚み２．０ｍｍ）に貼り合わせて測定用のサンプルを作製した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、光学フィルムのランダムな部位から選択した。光学フィルムとガラス板とを貼り合わせる際には、光学フィルムに皺が生じないようにするとともに、光学フィルムとガラス板との間に気泡が入らないようにした。
接触角計（ＤＭ－３００、協和界面科学社）を用いて、各サンプルの第１面側の表面に純水を１．０μＬ滴下し、着滴１０秒後の静的接触角をθ／２法に従って計測した。純水を滴下する際には、シリンジの針部がフッ素樹脂コートされたシリンジを用いた。
＜純水降下傾斜角＞
明細書本文の（１）～（３）の手順に従い、各サンプルの純水降下傾斜角Ｓｗを測定した。測定装置は、接触角計（協和界面科学社の「DropMaster」シリーズの品番「DMo-701」。付属品として「SA-301」を使用）を用いた。
【0155】
１－３．元素比率
実施例及び比較例の光学フィルムから測定用片を切り出した。Ｘ線光電子分光分析装置を用いて、以下に記載する条件で、各測定用片の第１面側の表面領域のＣ１ｓ軌道、Ｏ１ｓ軌道、Ｓｉ２ｐ軌道、及び、Ｆ１ｓ軌道のＸ線光電子スペクトルを測定した。各Ｘ線光電子スペクトルについてピーク分離を行い、Ｆ元素及びＳｉ元素等の比率を求めた。また、Ｓｉ２ｐ軌道のＸ線光電子スペクトルから、無機ケイ素化合物に帰属するＳｉ元素（無機Ｓｉ）、及び、有機ケイ素化合物に帰属するＳｉ元素（有機Ｓｉ）、の割合を求めた。
＜測定＞
装置：島津製作所社製の商品名「Kratos Nova」
Ｘ線源：ＡｌＫα
Ｘ線出力：１５０Ｗ
エミッション電流：１０ｍＡ
加速電圧：１５ｋＶ
測定領域：３００×７００μｍ
帯電中和機構：ON
パスエネルギー(ナロースペクトル測定時)：40eV
実施例及び比較例の光学フィルムから測定用片を切り出した。Ｘ線光電子分光分析装置を用いて、以下に記載する条件で、各測定用片の第１面側の表面領域のＣ１ｓ軌道、Ｏ１ｓ軌道、Ｓｉ２ｐ軌道、及び、Ｆ１ｓ軌道のＸ線光電子スペクトルを測定した。各Ｘ線光電子スペクトルについてピーク分離を行い、Ｆ元素及びＳｉ元素等の比率を求めた。また、Ｓｉ２ｐ軌道のＸ線光電子スペクトルから、無機ケイ素化合物に帰属するＳｉ元素（無機Ｓｉ）、及び、有機ケイ素化合物に帰属するＳｉ元素（有機Ｓｉ）、の割合を求めた。
＜測定＞
装置：島津製作所社製の商品名「Kratos Nova」
Ｘ線源：ＡｌＫα
Ｘ線出力：１５０Ｗ
エミッション電流：１０ｍＡ
加速電圧：１５ｋＶ
測定領域：３００×７００μｍ
帯電中和機構：ON
パスエネルギー(ナロースペクトル測定時)：40eV
【0156】
１－４．全光線反射率（ＲＳＣＩ）
実施例及び比較例の光学フィルムを１０ｃｍ×１０ｃｍに切断した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。切断した光学フィルムの基材側をパナック社の光学透明粘着シート（商品名：パナクリーンPD-S1）を介して、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの大きさの黒色板（クラレ社、商品名：コモグラス ＤＦＡ２ＣＧ ５０２Ｋ（黒）系、厚み２ｍｍ）に貼り合わせたサンプル２を作製した。
積分球分光光度計（コニカミノルタ株式会社製、商品名：ＣＭ－２００２）を用い、サンプル２の第１面側から、全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定した。積分球分光光度計の光源はＤ６５、受光器の位置はサンプルの法線に対して＋８度であり、受光器の開口角は１０度であり、ライトトラップの位置はサンプルの法線に対して－８度であり、視野角は２度であった。
実施例及び比較例の光学フィルムを１０ｃｍ×１０ｃｍに切断した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。切断した光学フィルムの基材側をパナック社の光学透明粘着シート（商品名：パナクリーンPD-S1）を介して、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの大きさの黒色板（クラレ社、商品名：コモグラス ＤＦＡ２ＣＧ ５０２Ｋ（黒）系、厚み２ｍｍ）に貼り合わせたサンプル２を作製した。
積分球分光光度計（コニカミノルタ株式会社製、商品名：ＣＭ－２００２）を用い、サンプル２の第１面側から、全光線反射率（ＲＳＣＩ）を測定した。積分球分光光度計の光源はＤ６５、受光器の位置はサンプルの法線に対して＋８度であり、受光器の開口角は１０度であり、ライトトラップの位置はサンプルの法線に対して－８度であり、視野角は２度であった。
【0157】
１－５．ヘイズ（Ｈｚ）
実施例及び比較例の光学フィルムを１０ｃｍ四方に切断した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。ヘイズメーター（ＨＭ－１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、各サンプルのＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズを測定した。
光源が安定するよう事前に装置の電源スイッチをＯＮにしてから１５分以上待ち、入口開口に何もセットせずに校正を行い、その後に入口開口に測定サンプルをセットして測定した。光入射面は基材側とした。
なお、実施例及び比較例の光学フィルムは、何れも全光線透過率が９０％以上であった。
実施例及び比較例の光学フィルムを１０ｃｍ四方に切断した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。ヘイズメーター（ＨＭ－１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、各サンプルのＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズを測定した。
光源が安定するよう事前に装置の電源スイッチをＯＮにしてから１５分以上待ち、入口開口に何もセットせずに校正を行い、その後に入口開口に測定サンプルをセットして測定した。光入射面は基材側とした。
なお、実施例及び比較例の光学フィルムは、何れも全光線透過率が９０％以上であった。
【0158】
１－６．透過像鮮明度
実施例及び比較例の光学フィルムを１０ｃｍ四方に切断した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。スガ試験機社製の写像性測定器（商品名：ＩＣＭ－１Ｔ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７３７４：２００７に準拠して、サンプルの透過像鮮明度を測定した。光学櫛の幅は０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ、２．０ｍｍの５つとした。測定時の光入射面は基材側とした。Ｃ0.125、Ｃ0.25、Ｃ0.5、Ｃ1.0及びＣ2.0の値と、Ｃ0.125、Ｃ0.5、Ｃ1.0及びＣ2.0の合計値を表２に示す。
実施例及び比較例の光学フィルムを１０ｃｍ四方に切断した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。スガ試験機社製の写像性測定器（商品名：ＩＣＭ－１Ｔ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７３７４：２００７に準拠して、サンプルの透過像鮮明度を測定した。光学櫛の幅は０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ、２．０ｍｍの５つとした。測定時の光入射面は基材側とした。Ｃ0.125、Ｃ0.25、Ｃ0.5、Ｃ1.0及びＣ2.0の値と、Ｃ0.125、Ｃ0.5、Ｃ1.0及びＣ2.0の合計値を表２に示す。
【0159】
１－７．黒味
サンプルは、１－４で作製したサンプル２を用いた。観測者の目線を床から１６０ｃｍ前後に変更した以外は、１－４と同様にして、サンプルを観察した。
下記評価ポイントに基づき、２０人の被験者が評価した。２０人の被験者は、２０歳台～５０歳台の各年代で５名ずつとした。２０人の評価の平均点を算出し、下記基準によりランク付けした。下記基準のランクが高いほど、黒表示部の黒味が良好であるといえる。
＜評価ポイント＞
（１）白さが感じられず十分に黒く感じられるもの：３点
（２）黒いがやや白さが感じられるもの：２点
（３）白さが気になるもの：１点
＜評価基準＞
Ａ：平均点が２．５以上
Ｂ：平均点が２．０以上２．５未満
Ｃ：平均点が１．５以上２．０未満
Ｄ：平均点が１．５未満
サンプルは、１－４で作製したサンプル２を用いた。観測者の目線を床から１６０ｃｍ前後に変更した以外は、１－４と同様にして、サンプルを観察した。
下記評価ポイントに基づき、２０人の被験者が評価した。２０人の被験者は、２０歳台～５０歳台の各年代で５名ずつとした。２０人の評価の平均点を算出し、下記基準によりランク付けした。下記基準のランクが高いほど、黒表示部の黒味が良好であるといえる。
＜評価ポイント＞
（１）白さが感じられず十分に黒く感じられるもの：３点
（２）黒いがやや白さが感じられるもの：２点
（３）白さが気になるもの：１点
＜評価基準＞
Ａ：平均点が２．５以上
Ｂ：平均点が２．０以上２．５未満
Ｃ：平均点が１．５以上２．０未満
Ｄ：平均点が１．５未満
【0160】
１－８．防眩性
明室環境下で、高さ７０ｃｍの水平な台に、１－４で作製したサンプル２の凹凸表面が上になるように設置した。その際、照明光の概ね真下になるようにサンプルを設置した。サンプルを正面から観察して（ただし、観察者が照明光を遮らないようにした）、下記の評価基準で凹凸表面への照明光の映り込みを評価した。
照明は、Ｈｆ３２形の直管三波長形昼白色蛍光灯を用い、照明の位置は水平台から鉛直方向２ｍ上方の高さとした。サンプルの凹凸表面上の照度が５００ｌｕｘ以上１０００ｌｕｘ以下となる範囲で評価した。観測者の目線は床から１２０ｃｍ前後とした。観測者は、視力０．７以上の健康な３０歳台の人とした。
＜評価基準＞
Ａ：照明の輪郭がなく、位置も分からない
Ｂ：照明の輪郭はないが、位置がぼんやりと分かる
Ｃ：照明の輪郭と位置がぼんやりと分かる
Ｄ：照明の輪郭のぼやけが弱く、位置もはっきりと分かる
明室環境下で、高さ７０ｃｍの水平な台に、１－４で作製したサンプル２の凹凸表面が上になるように設置した。その際、照明光の概ね真下になるようにサンプルを設置した。サンプルを正面から観察して（ただし、観察者が照明光を遮らないようにした）、下記の評価基準で凹凸表面への照明光の映り込みを評価した。
照明は、Ｈｆ３２形の直管三波長形昼白色蛍光灯を用い、照明の位置は水平台から鉛直方向２ｍ上方の高さとした。サンプルの凹凸表面上の照度が５００ｌｕｘ以上１０００ｌｕｘ以下となる範囲で評価した。観測者の目線は床から１２０ｃｍ前後とした。観測者は、視力０．７以上の健康な３０歳台の人とした。
＜評価基準＞
Ａ：照明の輪郭がなく、位置も分からない
Ｂ：照明の輪郭はないが、位置がぼんやりと分かる
Ｃ：照明の輪郭と位置がぼんやりと分かる
Ｄ：照明の輪郭のぼやけが弱く、位置もはっきりと分かる
【0161】
１－９．指紋拭き取り性
下記の人工垢０．１ｍｌをウエスに染み込ませた。染み込ませる時間は１０秒とした。ウエスは、日本製紙クレシア社の商品名「キムタオル ワイパー」を用いた。
ウエスに染み込ませた人工垢を、ゴムの表面に３００ｇ／ｃｍ２の荷重で転写した。ゴムの形状は、直径１２ｍｍの円柱形状とした。転写時間は５秒とした。ゴムの表面に転写した人工垢を、３００ｇ／ｃｍ２の荷重でサンプル２の第１面に転写した。転写時間は５秒とした。分光測色計（コニカミノルタ株式会社製、商品名：ＣＭ－６００ｄ）を用い、サンプル２の第１面側から、人工垢が転写した箇所の全光線反射ＳＣＩのＬ＊値、ａ＊値及びｂ＊値を測定した。得られたＬ＊値、ａ＊値及びｂ＊値を、Ｌ１、ａ１及びｂ１とする。
次いで、人工垢を転写したサンプル２の黒色板側を、学振摩耗試験機（テスター産業（株）製、商品名「ＡＢ－３０１」）の土台に貼り合わせた。前記試験機の摩擦子にウエスを取り付け、下記の拭き取り条件でサンプル２の第１面に転写した人工垢を拭き取った。ウエスは、アズワン社の商品名「ASPURE PROPREA II」を用いた。分光測色計（コニカミノルタ株式会社製、商品名：ＣＭ－６００ｄ）を用い、サンプル２の第１面側から、人工垢を拭き取った箇所の全光線反射ＳＣＩのＬ＊値、ａ＊値及びｂ＊値を測定した。得られたＬ＊値、ａ＊値及びｂ＊値を、Ｌ２、ａ２及びｂ２とする。
下記式により、色差（ΔＥ）を算出し、色差の値により下記基準によりランク付けした。下記基準のランクが高いほど、指紋拭き取り性が良好であるといえる。
ΔＥ＝｛（Ｌ１－Ｌ２）２＋（ａ１－ａ２）２＋（ｂ１－ｂ２）２｝１／２
＜人工垢＞
オレイン酸を約４５質量％、トリオレインを約２５質量％、オレイン酸コレステロールを約２０質量％、流動パラフィンを約４％、スクアレンを約４％、コレステロールを約２％含む液体（伊勢久社製の人工垢（ＪＩＳ Ｃ９６０６：２００７の汚染液に準拠））。
＜拭き取り条件＞
・移動速度：１００ｍｍ／秒
・荷重：１５０ｇ／ｃｍ２
・拭き取り回数：片道１回
＜評価基準＞
Ａ：色差が２以下
Ｂ：色差が２超４以下
Ｃ：色差が４超７以下
Ｄ：色差が７超
下記の人工垢０．１ｍｌをウエスに染み込ませた。染み込ませる時間は１０秒とした。ウエスは、日本製紙クレシア社の商品名「キムタオル ワイパー」を用いた。
ウエスに染み込ませた人工垢を、ゴムの表面に３００ｇ／ｃｍ２の荷重で転写した。ゴムの形状は、直径１２ｍｍの円柱形状とした。転写時間は５秒とした。ゴムの表面に転写した人工垢を、３００ｇ／ｃｍ２の荷重でサンプル２の第１面に転写した。転写時間は５秒とした。分光測色計（コニカミノルタ株式会社製、商品名：ＣＭ－６００ｄ）を用い、サンプル２の第１面側から、人工垢が転写した箇所の全光線反射ＳＣＩのＬ＊値、ａ＊値及びｂ＊値を測定した。得られたＬ＊値、ａ＊値及びｂ＊値を、Ｌ１、ａ１及びｂ１とする。
次いで、人工垢を転写したサンプル２の黒色板側を、学振摩耗試験機（テスター産業（株）製、商品名「ＡＢ－３０１」）の土台に貼り合わせた。前記試験機の摩擦子にウエスを取り付け、下記の拭き取り条件でサンプル２の第１面に転写した人工垢を拭き取った。ウエスは、アズワン社の商品名「ASPURE PROPREA II」を用いた。分光測色計（コニカミノルタ株式会社製、商品名：ＣＭ－６００ｄ）を用い、サンプル２の第１面側から、人工垢を拭き取った箇所の全光線反射ＳＣＩのＬ＊値、ａ＊値及びｂ＊値を測定した。得られたＬ＊値、ａ＊値及びｂ＊値を、Ｌ２、ａ２及びｂ２とする。
下記式により、色差（ΔＥ）を算出し、色差の値により下記基準によりランク付けした。下記基準のランクが高いほど、指紋拭き取り性が良好であるといえる。
ΔＥ＝｛（Ｌ１－Ｌ２）２＋（ａ１－ａ２）２＋（ｂ１－ｂ２）２｝１／２
＜人工垢＞
オレイン酸を約４５質量％、トリオレインを約２５質量％、オレイン酸コレステロールを約２０質量％、流動パラフィンを約４％、スクアレンを約４％、コレステロールを約２％含む液体（伊勢久社製の人工垢（ＪＩＳ Ｃ９６０６：２００７の汚染液に準拠））。
＜拭き取り条件＞
・移動速度：１００ｍｍ／秒
・荷重：１５０ｇ／ｃｍ２
・拭き取り回数：片道１回
＜評価基準＞
Ａ：色差が２以下
Ｂ：色差が２超４以下
Ｃ：色差が４超７以下
Ｄ：色差が７超
【0162】
１－１０．総合評価
防眩性及び指紋拭き取り性の２つの評価を元に、下記の基準で総合評価を行った。
＜評価基準＞
Ａ：２つの評価の全てがＡであるもの。
Ｂ：２つの評価のうち、１つがＡであり、１つがＢであるもの。
Ｃ：２つの評価のうち、２つともＢであるもの。
Ｄ：２つの評価の中に、１つでもＣ又はＤがあるもの。
防眩性及び指紋拭き取り性の２つの評価を元に、下記の基準で総合評価を行った。
＜評価基準＞
Ａ：２つの評価の全てがＡであるもの。
Ｂ：２つの評価のうち、１つがＡであり、１つがＢであるもの。
Ｃ：２つの評価のうち、２つともＢであるもの。
Ｄ：２つの評価の中に、１つでもＣ又はＤがあるもの。
【0163】
２．光学フィルムの作製
［実施例１］
基材（厚み８０μｍのトリアセチルセルロース樹脂フィルム、富士フイルム社）上に、下記の防眩層塗布液１を塗布した。次いで、５０℃、風速２ｍ／ｓで４０秒間乾燥し、さらに、７０℃風速１５ｍ／ｓで４５秒間乾燥した。次いで、酸素濃度２００ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下にて積算光量が５０ｍＪ／ｃｍ２になるように紫外線を照射して、厚み５．５μｍの防眩層を形成した。
次いで、防眩層上に、下記の低屈折率層塗布液１を塗布した。次いで、４０℃、風速２０ｍ／ｓで１５秒間乾燥し、さらに、７０℃風速１５ｍ／ｓで３０秒間乾燥した。次いで、酸素濃度２００ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下にて積算光量が１５０ｍＪ／ｃｍ２になるように紫外線を照射して、厚み０．１０μｍの低屈折率層を形成し、実施例１の光学フィルムを得た。低屈折率層の屈折率は１．３１であった。
［実施例１］
基材（厚み８０μｍのトリアセチルセルロース樹脂フィルム、富士フイルム社）上に、下記の防眩層塗布液１を塗布した。次いで、５０℃、風速２ｍ／ｓで４０秒間乾燥し、さらに、７０℃風速１５ｍ／ｓで４５秒間乾燥した。次いで、酸素濃度２００ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下にて積算光量が５０ｍＪ／ｃｍ２になるように紫外線を照射して、厚み５．５μｍの防眩層を形成した。
次いで、防眩層上に、下記の低屈折率層塗布液１を塗布した。次いで、４０℃、風速２０ｍ／ｓで１５秒間乾燥し、さらに、７０℃風速１５ｍ／ｓで３０秒間乾燥した。次いで、酸素濃度２００ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下にて積算光量が１５０ｍＪ／ｃｍ２になるように紫外線を照射して、厚み０．１０μｍの低屈折率層を形成し、実施例１の光学フィルムを得た。低屈折率層の屈折率は１．３１であった。
【0164】
＜防眩層塗布液１＞
・ウレタンアクリレートＡ ５０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１１００Ｈ：分子量８００、官能基数６）
・ウレタンアクリレートＢ １０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ４０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子 ２３部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．２μｍ、ｄ５０：３．８μｍ、ｄ９０：６．５μｍ）
・有機粒子Ｂ ８部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤 ５．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤 １．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン） １９５部
・溶剤（シクロヘキサノン） ５部
・溶剤（メチルイソブチルケトン） １５部
・ウレタンアクリレートＡ ５０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１１００Ｈ：分子量８００、官能基数６）
・ウレタンアクリレートＢ １０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ４０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子 ２３部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．２μｍ、ｄ５０：３．８μｍ、ｄ９０：６．５μｍ）
・有機粒子Ｂ ８部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤 ５．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤 １．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン） １９５部
・溶剤（シクロヘキサノン） ５部
・溶剤（メチルイソブチルケトン） １５部
【0165】
＜低屈折率層塗布液１＞
・多官能アクリレート １００部
（東亜合成社製、商品名「アロニックス Ｍ－４００」）
・アクリルポリマー ０．５部（重量平均分子量：４０，０００）
・中空シリカ粒子 １８０部
（平均一次粒子径７５ｎｍ、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる粒子）
・反応性官能基を有するフッ素系シリコーン系レベリング剤 ６００部
（信越化学社、商品名「ＫＹ１２０３」、固形分：２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・光重合開始剤 ５．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」）
・溶剤（メチルイソブチルケトン） １１，０００部
・溶剤（１－メトキシ－２－プロピルアセテート） １，３００部
・多官能アクリレート １００部
（東亜合成社製、商品名「アロニックス Ｍ－４００」）
・アクリルポリマー ０．５部（重量平均分子量：４０，０００）
・中空シリカ粒子 １８０部
（平均一次粒子径７５ｎｍ、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる粒子）
・反応性官能基を有するフッ素系シリコーン系レベリング剤 ６００部
（信越化学社、商品名「ＫＹ１２０３」、固形分：２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・光重合開始剤 ５．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」）
・溶剤（メチルイソブチルケトン） １１，０００部
・溶剤（１－メトキシ－２－プロピルアセテート） １，３００部
【0166】
［実施例２，３，５，６］
防眩層塗布液１を下記の防眩層塗布液２～５に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２，３，５，６の光学フィルムを得た。
防眩層塗布液１を下記の防眩層塗布液２～５に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２，３，５，６の光学フィルムを得た。
【0167】
［実施例４］
防眩層塗布液１を下記の防眩層塗布液２に変更し、低屈折率層塗布液１を下記の低屈折率層塗布液２に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例４の光学フィルムを得た。
防眩層塗布液１を下記の防眩層塗布液２に変更し、低屈折率層塗布液１を下記の低屈折率層塗布液２に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例４の光学フィルムを得た。
【0168】
［実施例７］
防眩層塗布液１を下記の防眩層塗布液６に変更し、防眩層の厚みを４．８μｍとした以外は、実施例１と同様にして、実施例７の光学フィルムを得た。
防眩層塗布液１を下記の防眩層塗布液６に変更し、防眩層の厚みを４．８μｍとした以外は、実施例１と同様にして、実施例７の光学フィルムを得た。
【0169】
［実施例８］
防眩層塗布液１を下記の防眩層塗布液２に変更し、低屈折率層塗布液１を下記の低屈折率層塗布液３に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例８の光学フィルムを得た。低屈折率層の屈折率は１．３６であった。
防眩層塗布液１を下記の防眩層塗布液２に変更し、低屈折率層塗布液１を下記の低屈折率層塗布液３に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例８の光学フィルムを得た。低屈折率層の屈折率は１．３６であった。
【0170】
［比較例１］
低屈折率層塗布液１を下記の低屈折率層塗布液４に変更した以外は、実施例１と同様にして、比較例１の光学フィルムを得た。
低屈折率層塗布液１を下記の低屈折率層塗布液４に変更した以外は、実施例１と同様にして、比較例１の光学フィルムを得た。
【0171】
［比較例２～３］
防眩層塗布液１を下記の防眩層塗布液２～３に変更した以外は、比較例１と同様にして、比較例２～３の光学フィルムを得た。
防眩層塗布液１を下記の防眩層塗布液２～３に変更した以外は、比較例１と同様にして、比較例２～３の光学フィルムを得た。
【0172】
［比較例４］
防眩層塗布液１を下記の防眩層塗布液７に変更し、防眩層の厚みを５．０μｍとした以外は、実施例１と同様にして、比較例４の光学フィルムを得た。
防眩層塗布液１を下記の防眩層塗布液７に変更し、防眩層の厚みを５．０μｍとした以外は、実施例１と同様にして、比較例４の光学フィルムを得た。
【0173】
＜防眩層塗布液２＞
・ウレタンアクリレートＡ ５０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１１００Ｈ：分子量８００、官能基数６）
・ウレタンアクリレートＢ １０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ４０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子 ２１部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．２μｍ、ｄ５０：３．８μｍ、ｄ９０：６．５μｍ）
・有機粒子Ｂ １０部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤 ５．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤 １．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン） １８５部
・溶剤（シクロヘキサノン） １５部
・溶剤（メチルイソブチルケトン） １５部
・ウレタンアクリレートＡ ５０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１１００Ｈ：分子量８００、官能基数６）
・ウレタンアクリレートＢ １０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ４０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子 ２１部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．２μｍ、ｄ５０：３．８μｍ、ｄ９０：６．５μｍ）
・有機粒子Ｂ １０部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤 ５．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤 １．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン） １８５部
・溶剤（シクロヘキサノン） １５部
・溶剤（メチルイソブチルケトン） １５部
【0174】
＜防眩層塗布液３＞
・ウレタンアクリレートＡ ５０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１１００Ｈ：分子量８００、官能基数６）
・ウレタンアクリレートＢ １０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ４０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子 １９部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．２μｍ、ｄ５０：３．８μｍ、ｄ９０：６．５μｍ）
・有機粒子Ａ ３部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５１５）
・有機粒子Ｂ ５部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤 ５．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤 １．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン） １６５部
・溶剤（シクロヘキサノン） ２０部
・溶剤（メチルイソブチルケトン） ３０部
・ウレタンアクリレートＡ ５０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１１００Ｈ：分子量８００、官能基数６）
・ウレタンアクリレートＢ １０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ４０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子 １９部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．２μｍ、ｄ５０：３．８μｍ、ｄ９０：６．５μｍ）
・有機粒子Ａ ３部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５１５）
・有機粒子Ｂ ５部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤 ５．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤 １．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン） １６５部
・溶剤（シクロヘキサノン） ２０部
・溶剤（メチルイソブチルケトン） ３０部
【0175】
＜防眩層塗布液４＞
・ウレタンアクリレートＡ ５０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１１００Ｈ：分子量８００、官能基数６）
・ウレタンアクリレートＢ １０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ４０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子 ２０部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．２μｍ、ｄ５０：３．８μｍ、ｄ９０：６．５μｍ）
・有機粒子Ａ ８部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５１５）
・有機粒子Ｂ ２部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤 ５．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤 １．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン） １９０部
・溶剤（シクロヘキサノン） １０部
・溶剤（メチルイソブチルケトン） １５部
・ウレタンアクリレートＡ ５０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１１００Ｈ：分子量８００、官能基数６）
・ウレタンアクリレートＢ １０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ４０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子 ２０部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．２μｍ、ｄ５０：３．８μｍ、ｄ９０：６．５μｍ）
・有機粒子Ａ ８部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５１５）
・有機粒子Ｂ ２部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤 ５．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤 １．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン） １９０部
・溶剤（シクロヘキサノン） １０部
・溶剤（メチルイソブチルケトン） １５部
【0176】
＜防眩層塗布液５＞
・ウレタンアクリレートＡ ５０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１１００Ｈ：分子量８００、官能基数６）
・ウレタンアクリレートＢ １０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ４０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子 １０部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．０μｍ、ｄ５０：３．０μｍ、ｄ９０：４．８μｍ）
・有機粒子Ａ ５部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５１５）
・有機粒子Ｂ ５部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤 ５．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤 １．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン） １７０部
・溶剤（シクロヘキサノン） ４０部
・溶剤（メチルイソブチルケトン） ５部
・ウレタンアクリレートＡ ５０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１１００Ｈ：分子量８００、官能基数６）
・ウレタンアクリレートＢ １０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ４０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子 １０部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．０μｍ、ｄ５０：３．０μｍ、ｄ９０：４．８μｍ）
・有機粒子Ａ ５部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５１５）
・有機粒子Ｂ ５部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤 ５．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤 １．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン） １７０部
・溶剤（シクロヘキサノン） ４０部
・溶剤（メチルイソブチルケトン） ５部
【0177】
＜防眩層塗布液６＞
・ウレタンアクリレートＣ ５０部
（三菱ケミカル社、商品名：Ｕ－１７００Ｂ：分子量２，０００、官能基数１０）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ５０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・有機粒子Ｃ １１部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径３．０μｍ、屈折率１．５９５）
・無機超微粒子 ７０部
（表面に反応性官能基が導入されたシリカ、溶剤：ＭＩＢＫ、固形分：３０％）
（平均一次粒子径１２ｎｍ）
・光重合開始剤 ５．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤 １．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン） １７０部
・溶剤（シクロヘキサノン） ２５部
・ウレタンアクリレートＣ ５０部
（三菱ケミカル社、商品名：Ｕ－１７００Ｂ：分子量２，０００、官能基数１０）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ５０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・有機粒子Ｃ １１部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径３．０μｍ、屈折率１．５９５）
・無機超微粒子 ７０部
（表面に反応性官能基が導入されたシリカ、溶剤：ＭＩＢＫ、固形分：３０％）
（平均一次粒子径１２ｎｍ）
・光重合開始剤 ５．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤 １．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン） １７０部
・溶剤（シクロヘキサノン） ２５部
【0178】
＜防眩層塗布液７＞
・ウレタンアクリレートＡ ３０部
（三菱ケミカル社、商品名：Ｕ－１７００Ｂ：分子量２，０００、官能基数１０）
・ウレタンアクリレートＢ １０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ６０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子 ３部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．０μｍ、ｄ５０：３．０μｍ、ｄ９０：４．８μｍ）
・有機粒子Ｂ ０．５部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤 ５．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤 １．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン） １８０部
・溶剤（シクロヘキサノン） ５部
・溶剤（メチルイソブチルケトン） ２５部
・ウレタンアクリレートＡ ３０部
（三菱ケミカル社、商品名：Ｕ－１７００Ｂ：分子量２，０００、官能基数１０）
・ウレタンアクリレートＢ １０部
（新中村化学工業社、商品名：Ｕ－１５ＨＡ：分子量２，３００、官能基数１５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ６０部
（東亜合成社、商品名：Ｍ－３０５）
・シリカ粒子 ３部
（表面処理不定形シリカ、ｄ１０：１．０μｍ、ｄ５０：３．０μｍ、ｄ９０：４．８μｍ）
・有機粒子Ｂ ０．５部
（球状ポリアクリル－スチレン共重合体、平均粒子径１．５μｍ、屈折率１．５９５）
・光重合開始剤 ５．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・光重合開始剤 １．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ９０７）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社、商品名：ＴＳＦ４４６０）
・溶剤（トルエン） １８０部
・溶剤（シクロヘキサノン） ５部
・溶剤（メチルイソブチルケトン） ２５部
【0179】
＜低屈折率層塗布液２＞
・多官能アクリレート １８０部
（東亜合成社製、商品名「アロニックス Ｍ－４００」）
・中空シリカ粒子 １００部
（平均一次粒子径７５ｎｍ、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる粒子）
・反応性官能基を有するフッ素系シリコーン系レベリング剤 ６００部
（信越化学社、商品名「ＫＹ１２０３」、固形分：２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・光重合開始剤 ５部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」）
・溶剤（メチルイソブチルケトン） １１，０００部
・溶剤（１－メトキシ－２－プロピルアセテート） １，３００部
・多官能アクリレート １８０部
（東亜合成社製、商品名「アロニックス Ｍ－４００」）
・中空シリカ粒子 １００部
（平均一次粒子径７５ｎｍ、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる粒子）
・反応性官能基を有するフッ素系シリコーン系レベリング剤 ６００部
（信越化学社、商品名「ＫＹ１２０３」、固形分：２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・光重合開始剤 ５部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」）
・溶剤（メチルイソブチルケトン） １１，０００部
・溶剤（１－メトキシ－２－プロピルアセテート） １，３００部
【0180】
＜低屈折率層塗布液３＞
・多官能アクリレート １００部
（東亜合成社製、商品名「アロニックス Ｍ－４００」）
・中空シリカ粒子 １００部
（平均一次粒子径７５ｎｍ、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる粒子）
・アクリルポリマー ０．５部（重量平均分子量：４０，０００）
・反応性官能基を有するフッ素系シリコーン系レベリング剤 ２５０部
（信越化学社、商品名「ＫＹ１２０３」、固形分：２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・光重合開始剤 ５部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」）
・溶剤（メチルイソブチルケトン） １１，０００部
・溶剤（１－メトキシ－２－プロピルアセテート） １，３００部
・多官能アクリレート １００部
（東亜合成社製、商品名「アロニックス Ｍ－４００」）
・中空シリカ粒子 １００部
（平均一次粒子径７５ｎｍ、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる粒子）
・アクリルポリマー ０．５部（重量平均分子量：４０，０００）
・反応性官能基を有するフッ素系シリコーン系レベリング剤 ２５０部
（信越化学社、商品名「ＫＹ１２０３」、固形分：２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・光重合開始剤 ５部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」）
・溶剤（メチルイソブチルケトン） １１，０００部
・溶剤（１－メトキシ－２－プロピルアセテート） １，３００部
【0181】
＜低屈折率層塗布液４＞
・多官能アクリレート １００部
（東亜合成社製、商品名「アロニックス Ｍ－４００」）
・アクリルポリマー ０．５部（重量平均分子量：４０，０００）
・中空シリカ粒子 １８０部
（平均一次粒子径７５ｎｍ、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる粒子）
・反応性官能基を有するフッ素系シリコーン系レベリング剤 １５０部
（信越化学社、商品名「ＫＹ１２０３」、固形分：２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・光重合開始剤 ５．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」）
・溶剤（メチルイソブチルケトン） １１，０００部
・溶剤（１－メトキシ－２－プロピルアセテート） １，３００部
・多官能アクリレート １００部
（東亜合成社製、商品名「アロニックス Ｍ－４００」）
・アクリルポリマー ０．５部（重量平均分子量：４０，０００）
・中空シリカ粒子 １８０部
（平均一次粒子径７５ｎｍ、メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されてなる粒子）
・反応性官能基を有するフッ素系シリコーン系レベリング剤 １５０部
（信越化学社、商品名「ＫＹ１２０３」、固形分：２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・光重合開始剤 ５．０部
（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」）
・溶剤（メチルイソブチルケトン） １１，０００部
・溶剤（１－メトキシ－２－プロピルアセテート） １，３００部
【0182】
【表1】
【0183】
【表2】
【0184】
表１の結果から、実施例の光学フィルムは、防眩性及び指紋拭き取り性を良好にし得ることが確認できる。
【符号の説明】
【0185】
１０：基材
２０：防眩層
３０：反射防止層
１００：光学フィルム
１１０：表示素子
１２０：画像表示パネル
２００：水平面
３００：台の平面
４００：液滴
２０：防眩層
３０：反射防止層
１００：光学フィルム
１１０：表示素子
１２０：画像表示パネル
２００：水平面
３００：台の平面
４００：液滴
【図1】
【図2】
【図3】
