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▶ ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシーの特許一覧
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024054160
(43)【公開日】2024-04-16
(54)【発明の名称】オレフィン重合活性化剤
(51)【国際特許分類】
C08F 4/76 20060101AFI20240409BHJP
【ＦＩ】
C08F4/76
【審査請求】有
【請求項の数】1
【出願形態】ＯＬ
【外国語出願】
(21)【出願番号】P 2024009763
(22)【出願日】2024-01-25
(62)【分割の表示】P 2020552345の分割
【原出願日】2019-03-26
(31)【優先権主張番号】62/650,412
(32)【優先日】2018-03-30
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(71)【出願人】
【識別番号】502141050
【氏名又は名称】ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー
(74)【代理人】
【識別番号】100092783
【弁理士】
【氏名又は名称】小林 浩
(74)【代理人】
【識別番号】100095360
【弁理士】
【氏名又は名称】片山 英二
(74)【代理人】
【識別番号】100120134
【弁理士】
【氏名又は名称】大森 規雄
(74)【代理人】
【識別番号】100128484
【弁理士】
【氏名又は名称】井口 司
(72)【発明者】
【氏名】キートン、リチャード ジェイ．
(72)【発明者】
【氏名】フアクジャ、ラファエル
(72)【発明者】
【氏名】ウィルソン、デイビット アール．
(72)【発明者】
【氏名】クロシン、イエジ．
(72)【発明者】
【氏名】パーソン、デヴィッド エム．
(72)【発明者】
【氏名】セネカル、トッド ディ．
(72)【発明者】
【氏名】ムコーパデャイ、スクリット
(72)【発明者】
【氏名】ウッドファード、ウィリアム エイチ．エイチ．
(57)【要約】 （修正有）
【課題】金属－配位子触媒を効率的に活性化し、容易に分解され、高温で良好に機能する活性化剤を使用した、オレフィンを重合するプロセスを提供する。
【解決手段】本開示の実施形態は、オレフィンを重合するプロセスを含み、本プロセスは、触媒系の存在下で、エチレンと（Ｃ３－Ｃ４０）アルファ－オレフィンコモノマーとを接触させることを含み、触媒系が、第ＩＶ族金属－配位子錯体と、イオン性金属活性化剤錯体とを含み、イオン性金属活性化剤錯体が、アニオンおよび対カチオンを含み、アニオンが、式（Ｉ）に従った構造を有する。
【選択図】なし
【解決手段】本開示の実施形態は、オレフィンを重合するプロセスを含み、本プロセスは、触媒系の存在下で、エチレンと（Ｃ３－Ｃ４０）アルファ－オレフィンコモノマーとを接触させることを含み、触媒系が、第ＩＶ族金属－配位子錯体と、イオン性金属活性化剤錯体とを含み、イオン性金属活性化剤錯体が、アニオンおよび対カチオンを含み、アニオンが、式（Ｉ）に従った構造を有する。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
オレフィンを重合するプロセスであって、触媒系の存在下で、エチレンと（Ｃ３－Ｃ
４０）アルファ－オレフィンコモノマーとを接触させて、エチレン系ポリマーを生成する
ことを含み、前記触媒系が、プロ触媒と、イオン性金属活性化剤錯体とを含み、前記イオ
ン性金属活性化剤錯体が、アニオンおよび対カチオンを含み、前記アニオンが、式（Ｉ）
に従った構造を有し、
式中、
Ｍが、アルミニウム、ホウ素、またはガリウムであり、
ｎが２、３、または４であり、
各Ｒが独立して、式（ＩＩ）を有するラジカル、および式（ＩＩＩ）を有するラジカ
ルからなる群から選択され、
各Ｙが独立して、炭素またはケイ素であり、
各Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、およびＲ２５が独立
して、（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、－ＯＲＣ、－Ｏ－、－Ｓ
ＲＣ、－Ｈ、または－Ｆから選択され、Ｒが、式（ＩＩＩ）に従ったラジカルであるとき
、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、またはＲ２５のうちの少なくとも１つが、ハロゲン
置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、または－Ｆで
あるが、
ただし、
各Ｒが式（ＩＩ）に従ったラジカルであり、Ｙが炭素であるとき、Ｒ１１、Ｒ１２
、もしくはＲ１３のうちの少なくとも１つが、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、
ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、もしくは－Ｆであるか、あるいは
Ｍがアルミニウムであり、ｎが４であり、各Ｒが式（ＩＩ）に従ったラジカルであ
り、各Ｙが炭素であるとき、
各Ｒのうちの各Ｒ１１、Ｒ１２、およびＲ１３が、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）
アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、もしくは－Ｆであるか、または
各ＲのうちのＲ１１、Ｒ１２、およびＲ１３のハロゲン原子の総数が、少なくとも
６であることを条件とし、
各Ｘが、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、ハロ
ゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、トリフラート、または
－Ｓ（Ｏ）３ＲＣから独立して選択された単座配位子であり、
任意選択的に、式（Ｉ）の２つの基Ｒが、共有結合しており、
各ＲＣが独立して、（Ｃ１－Ｃ３０）ヒドロカルビル、または－Ｈである、プロセス
。
４０）アルファ－オレフィンコモノマーとを接触させて、エチレン系ポリマーを生成する
ことを含み、前記触媒系が、プロ触媒と、イオン性金属活性化剤錯体とを含み、前記イオ
ン性金属活性化剤錯体が、アニオンおよび対カチオンを含み、前記アニオンが、式（Ｉ）
に従った構造を有し、
【化1】
Ｍが、アルミニウム、ホウ素、またはガリウムであり、
ｎが２、３、または４であり、
各Ｒが独立して、式（ＩＩ）を有するラジカル、および式（ＩＩＩ）を有するラジカ
ルからなる群から選択され、
【化2】
各Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、およびＲ２５が独立
して、（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、－ＯＲＣ、－Ｏ－、－Ｓ
ＲＣ、－Ｈ、または－Ｆから選択され、Ｒが、式（ＩＩＩ）に従ったラジカルであるとき
、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、またはＲ２５のうちの少なくとも１つが、ハロゲン
置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、または－Ｆで
あるが、
ただし、
各Ｒが式（ＩＩ）に従ったラジカルであり、Ｙが炭素であるとき、Ｒ１１、Ｒ１２
、もしくはＲ１３のうちの少なくとも１つが、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、
ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、もしくは－Ｆであるか、あるいは
Ｍがアルミニウムであり、ｎが４であり、各Ｒが式（ＩＩ）に従ったラジカルであ
り、各Ｙが炭素であるとき、
各Ｒのうちの各Ｒ１１、Ｒ１２、およびＲ１３が、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）
アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、もしくは－Ｆであるか、または
各ＲのうちのＲ１１、Ｒ１２、およびＲ１３のハロゲン原子の総数が、少なくとも
６であることを条件とし、
各Ｘが、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、ハロ
ゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、トリフラート、または
－Ｓ（Ｏ）３ＲＣから独立して選択された単座配位子であり、
任意選択的に、式（Ｉ）の２つの基Ｒが、共有結合しており、
各ＲＣが独立して、（Ｃ１－Ｃ３０）ヒドロカルビル、または－Ｈである、プロセス
。
【請求項2】
前記プロ触媒が、ビス（フェニルフェノキシ）金属－配位子錯体である、請求項１に
記載の重合プロセス。
記載の重合プロセス。
【請求項3】
ｎが４であり、各Ｒが独立して、－Ｃ（Ｈ）（ＣＦ３）２、－Ｃ６Ｆ５、または－Ｃ
（ＣＦ３）３である、請求項１または請求項２に記載の重合プロセス。
（ＣＦ３）３である、請求項１または請求項２に記載の重合プロセス。
【請求項4】
ｎが３であり、Ｘが、－ＯＨ、トリフラート（－ＯＴｆ）、メチル、またはハロゲン
から選択される、請求項１または請求項２に記載の重合プロセス。
から選択される、請求項１または請求項２に記載の重合プロセス。
【請求項5】
ｎが４であり、４つの基Ｒのうちの３つが、－Ｃ（ＣＦ３）３であり、４つの基Ｒの
うちの１つが、－Ｃ６Ｆ５である、請求項１または請求項２に記載の重合プロセス。
うちの１つが、－Ｃ６Ｆ５である、請求項１または請求項２に記載の重合プロセス。
【請求項6】
前記対カチオンが、正の１（＋１）の形式的変化を有する、請求項１～５のいずれか
一項に記載の重合プロセス。
一項に記載の重合プロセス。
【請求項7】
前記対カチオンが、＋Ｎ（Ｈ）ＲＮ
３であり、式中、各ＲＮが、（Ｃ１－Ｃ２０）ア
ルキル、または（Ｃ６－Ｃ２０）アリールから選択される、請求項１～６のいずれか一項
に記載の重合プロセス。
ルキル、または（Ｃ６－Ｃ２０）アリールから選択される、請求項１～６のいずれか一項
に記載の重合プロセス。
【請求項8】
前記対カチオンが、＋Ｎ（Ｈ）ＲＮ
３であり、式中、少なくとも２つのＲＮが、（Ｃ
１０－Ｃ２０）アルキルから選択される、請求項６に記載の重合プロセス。
１０－Ｃ２０）アルキルから選択される、請求項６に記載の重合プロセス。
【請求項9】
前記対カチオンが、＋Ｃ（Ｃ６Ｈ５）３である、請求項１～６のいずれか一項に記載
の重合プロセス。
の重合プロセス。
【請求項10】
前記対カチオンが、＋Ｃ（Ｃ６Ｈ４ＲＣ）３であり、式中、ＲＣが、（Ｃ１－Ｃ２０
）アルキルである、請求項１～６のいずれか一項に記載の重合プロセス。
）アルキルである、請求項１～６のいずれか一項に記載の重合プロセス。
【請求項11】
２つの基Ｒが、共有結合しており、前記アニオンが、式（ＩＶ）に従った構造を有し
、
式中、
ＭおよびＸが、式（Ｉ）で定義されたとおりであり、
ｎが１、または２であり、
Ｌが、共有結合している前記２つの基Ｒを表し、
各Ｌが独立して、（Ｃ２－Ｃ４０）アルキレン、（Ｃ２－Ｃ４０）ヘテロアルキレン
、またはまたは－（Ｓｉ（ＲＣ）２－Ｏ）ｚ－Ｓｉ（ＲＣ）２－から選択され、ｚが、０
、１、２、または３であり、ＲＣが独立して、（Ｃ１－Ｃ３０）ヒドロカルビルまたは－
Ｈであり、
ｎが１のとき、Ｘが、ハロゲン、ハロゲン化－（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、またはト
リフラートから独立して選択された単座配位子である、請求項１に記載の重合プロセス。
、
【化3】
ＭおよびＸが、式（Ｉ）で定義されたとおりであり、
ｎが１、または２であり、
Ｌが、共有結合している前記２つの基Ｒを表し、
各Ｌが独立して、（Ｃ２－Ｃ４０）アルキレン、（Ｃ２－Ｃ４０）ヘテロアルキレン
、またはまたは－（Ｓｉ（ＲＣ）２－Ｏ）ｚ－Ｓｉ（ＲＣ）２－から選択され、ｚが、０
、１、２、または３であり、ＲＣが独立して、（Ｃ１－Ｃ３０）ヒドロカルビルまたは－
Ｈであり、
ｎが１のとき、Ｘが、ハロゲン、ハロゲン化－（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、またはト
リフラートから独立して選択された単座配位子である、請求項１に記載の重合プロセス。
【請求項12】
高沸点完全飽和炭化水素溶液中に、２００マイクロモルの濃度のイオン性金属活性化
剤錯体および２０ミリモルの水を有する、高沸点完全飽和炭化水素溶液中の前記イオン性
金属活性化剤錯体が、炭化水素導電率試験によって測定すると、０．１以下の誘電正接パ
ーセントを有する、請求項１～１１のいずれか一項に記載の重合プロセス。
剤錯体および２０ミリモルの水を有する、高沸点完全飽和炭化水素溶液中の前記イオン性
金属活性化剤錯体が、炭化水素導電率試験によって測定すると、０．１以下の誘電正接パ
ーセントを有する、請求項１～１１のいずれか一項に記載の重合プロセス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
関連出願の相互参照
本出願は、２０１８年３月３０日出願の米国仮特許出願第６２／６５０，４１２号に
対する優先権を主張し、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
本出願は、２０１８年３月３０日出願の米国仮特許出願第６２／６５０，４１２号に
対する優先権を主張し、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
【0002】
本開示の実施形態は、一般に、オレフィン重合触媒系およびプロセス、より具体的に
は、第４族金属－配位子錯体と、核活性化剤または助触媒とを含むオレフィン重合触媒系
に関する。
は、第４族金属－配位子錯体と、核活性化剤または助触媒とを含むオレフィン重合触媒系
に関する。
【背景技術】
【0003】
α－オレフィン重合反応における触媒組成物の一部として、活性化剤は、α－オレフ
ィンポリマーの生成およびα－オレフィンポリマーを含む最終ポリマー組成物にとって有
益な特徴を有し得る。α－オレフィンポリマーの生成を増加させる活性化剤の特徴として
は、プロ触媒の迅速な活性化、高い触媒効率、高温能力、一貫したポリマー組成、および
選択的な失活が挙げられるが、これらに限定されない。
ィンポリマーの生成およびα－オレフィンポリマーを含む最終ポリマー組成物にとって有
益な特徴を有し得る。α－オレフィンポリマーの生成を増加させる活性化剤の特徴として
は、プロ触媒の迅速な活性化、高い触媒効率、高温能力、一貫したポリマー組成、および
選択的な失活が挙げられるが、これらに限定されない。
【0004】
エチレン系ポリマーおよびプロピレン系ポリマーなどのオレフィン系ポリマーは、様
々な触媒系を介して生成される。そのような触媒系の選択は、オレフィン系ポリマーの特
徴および特性に寄与する重要な要素であり得る。ポリエチレン系ポリマーを生成するため
の触媒系としては、クロム系触媒系、チーグラーナッタ触媒系、または分子（メタロセン
または非メタロセンのいずれかの）触媒系を挙げることができる。
々な触媒系を介して生成される。そのような触媒系の選択は、オレフィン系ポリマーの特
徴および特性に寄与する重要な要素であり得る。ポリエチレン系ポリマーを生成するため
の触媒系としては、クロム系触媒系、チーグラーナッタ触媒系、または分子（メタロセン
または非メタロセンのいずれかの）触媒系を挙げることができる。
【0005】
重合のための触媒活性種を生成するために、触媒系の一部としての分子重合プロ触媒
を活性化し、この活性化は、任意の多数の手段によって達成することができる。そのよう
な１つの方法は、ブレンステッド酸である活性化剤または助触媒を用いる。分子重合プロ
触媒、特に第ＩＶ族金属錯体を含むそのようなプロ触媒を活性化するために、一般的には
、弱く配位するアニオンを含有するブレンステッド酸塩が利用されている。完全にイオン
化しているブレンステッド酸塩は、プロトンを移動させて、そのような第ＩＶ族金属錯体
のカチオン誘導体を形成することが可能である。
を活性化し、この活性化は、任意の多数の手段によって達成することができる。そのよう
な１つの方法は、ブレンステッド酸である活性化剤または助触媒を用いる。分子重合プロ
触媒、特に第ＩＶ族金属錯体を含むそのようなプロ触媒を活性化するために、一般的には
、弱く配位するアニオンを含有するブレンステッド酸塩が利用されている。完全にイオン
化しているブレンステッド酸塩は、プロトンを移動させて、そのような第ＩＶ族金属錯体
のカチオン誘導体を形成することが可能である。
【0006】
ブレンステッド酸塩などの活性化剤では、カチオン成分としては、例えば、アンモニ
ウム、スルホニウム、もしくはホスホニウムなどの水素イオンを移動させることが可能な
カチオン、または例えばフェロセニウム、銀（Ｉ）、もしくは鉛（ＩＩ）カチオンなどの
酸化カチオン、または例えばカルボニウムもしくはシリリウムなどの高ルイス酸性カチオ
ンを挙げることができる。
ウム、スルホニウム、もしくはホスホニウムなどの水素イオンを移動させることが可能な
カチオン、または例えばフェロセニウム、銀（Ｉ）、もしくは鉛（ＩＩ）カチオンなどの
酸化カチオン、または例えばカルボニウムもしくはシリリウムなどの高ルイス酸性カチオ
ンを挙げることができる。
【0007】
しかしながら、活性化剤または助触媒のカチオンがプロ触媒を活性化すると、活性化
剤がポリマー組成物中に残留する場合がある。結果として、カチオンおよびアニオンが、
ポリマー組成に影響を与える場合がある。すべてのイオンが等しく拡散するわけではない
ため、異なるイオンがポリマー組成に異なる影響を与える。具体的には、イオンのサイズ
およびイオンの電荷、イオンと周囲の媒体との相互作用、ならびにイオンと利用可能な対
イオンとの解離エネルギーは、溶媒、ゲル、またはポリマー材料などの周囲の媒体を通じ
て拡散するイオンの能力に影響を与えるであろう。
剤がポリマー組成物中に残留する場合がある。結果として、カチオンおよびアニオンが、
ポリマー組成に影響を与える場合がある。すべてのイオンが等しく拡散するわけではない
ため、異なるイオンがポリマー組成に異なる影響を与える。具体的には、イオンのサイズ
およびイオンの電荷、イオンと周囲の媒体との相互作用、ならびにイオンと利用可能な対
イオンとの解離エネルギーは、溶媒、ゲル、またはポリマー材料などの周囲の媒体を通じ
て拡散するイオンの能力に影響を与えるであろう。
【0008】
従来のオレフィン重合活性化剤としては、弱配位性または非配位性アニオンが挙げら
れる。アニオンの配位が弱いことによって、カチオン触媒の触媒効率の増加がもたらされ
ることが示されている。しかしながら、非配位性アニオンの非求核特徴も拡散を増加させ
るため、生成されたポリマー中に残留する活性化剤アニオンは、ポリマーの電気抵抗を低
下させ、それにより電気損失を増加させ、それにより生成されたポリマーの適用性が減少
するであろう。
れる。アニオンの配位が弱いことによって、カチオン触媒の触媒効率の増加がもたらされ
ることが示されている。しかしながら、非配位性アニオンの非求核特徴も拡散を増加させ
るため、生成されたポリマー中に残留する活性化剤アニオンは、ポリマーの電気抵抗を低
下させ、それにより電気損失を増加させ、それにより生成されたポリマーの適用性が減少
するであろう。
【発明の概要】
【0009】
ポリマー系における活性化剤の望ましい特徴としては、α－オレフィンポリマーの生
成を増加させる能力、プロ触媒活性化の速度を増加させる能力、触媒の全体的な効率を増
加させて、触媒系を高温で作動可能にする能力、触媒系が一貫したポリマー組成を提供可
能にする能力、および活性化剤の選択的な失活を可能にする能力が挙げられる。非配位性
アニオンテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（－Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４）に由来
する活性化剤は、これらの望ましい特徴のうちの多くを獲得する。それにもかかわらず、
典型的な重合反応条件下では、－Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４アニオンは分解されず、最終ポリマー
中に損なわれずに残留し得る。最終ポリマー中に活性化剤が損なわれずに存在することは
、最終ポリマーの電気的特性に有害であり得る。
成を増加させる能力、プロ触媒活性化の速度を増加させる能力、触媒の全体的な効率を増
加させて、触媒系を高温で作動可能にする能力、触媒系が一貫したポリマー組成を提供可
能にする能力、および活性化剤の選択的な失活を可能にする能力が挙げられる。非配位性
アニオンテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（－Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４）に由来
する活性化剤は、これらの望ましい特徴のうちの多くを獲得する。それにもかかわらず、
典型的な重合反応条件下では、－Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４アニオンは分解されず、最終ポリマー
中に損なわれずに残留し得る。最終ポリマー中に活性化剤が損なわれずに存在することは
、最終ポリマーの電気的特性に有害であり得る。
【0010】
メチルアルモキサン（ＭＡＯ）または修飾メチルアルモキサン（ＭＭＡＯ）などの部
分的に加水分解された金属トリアルキルに基づく活性化剤は、例えば、－Ｂ（Ｃ６Ｆ５）
４アニオンよりも容易に分解されるが、最終ポリマーにおける貧弱な高温触媒効率および
より広い組成ドリフトを被る。
分的に加水分解された金属トリアルキルに基づく活性化剤は、例えば、－Ｂ（Ｃ６Ｆ５）
４アニオンよりも容易に分解されるが、最終ポリマーにおける貧弱な高温触媒効率および
より広い組成ドリフトを被る。
【0011】
金属－配位子触媒を効率的に活性化し、容易に分解され、高温で良好に機能する活性
化剤が、現在も必要とされている。本開示の触媒系としては、第ＩＶ族金属－配位子錯体
と活性化剤または助触媒との、そのような必要性に対処する組み合わせが挙げられる。具
体的には、ポリオレフィン樹脂の生成において、活性化剤が、第ＩＶ族金属－配位子錯体
と容易に反応し、第ＩＶ族金属－配位子錯体を活性化させると、ポリオレフィン樹脂は、
有用なポリマー組成および電気的特性を呈する。本開示の触媒系に含まれる活性化剤は、
α－オレフィンポリマーの生成を増加させる能力、プロ触媒活性化の速度を増加させる能
力、触媒の全体的な効率を増加させて、触媒系を高温で作動可能にする能力、触媒系が一
貫したポリマー組成を提供可能にする能力、および活性化剤の選択的な失活を可能にする
能力などの特徴を呈する。
化剤が、現在も必要とされている。本開示の触媒系としては、第ＩＶ族金属－配位子錯体
と活性化剤または助触媒との、そのような必要性に対処する組み合わせが挙げられる。具
体的には、ポリオレフィン樹脂の生成において、活性化剤が、第ＩＶ族金属－配位子錯体
と容易に反応し、第ＩＶ族金属－配位子錯体を活性化させると、ポリオレフィン樹脂は、
有用なポリマー組成および電気的特性を呈する。本開示の触媒系に含まれる活性化剤は、
α－オレフィンポリマーの生成を増加させる能力、プロ触媒活性化の速度を増加させる能
力、触媒の全体的な効率を増加させて、触媒系を高温で作動可能にする能力、触媒系が一
貫したポリマー組成を提供可能にする能力、および活性化剤の選択的な失活を可能にする
能力などの特徴を呈する。
【0012】
１つ以上の実施形態によれば、オレフィンを重合するプロセスは、第ＩＶ族金属－配
位子錯体と、イオン性金属活性化剤錯体とを含む触媒系の存在下で、エチレンと（Ｃ３－
Ｃ４０）α－オレフィンコモノマーとを接触させることを含む。イオン性金属活性化剤錯
体は、アニオンおよび対カチオンを含み、アニオンは、式（Ｉ）に従った構造を有する。
位子錯体と、イオン性金属活性化剤錯体とを含む触媒系の存在下で、エチレンと（Ｃ３－
Ｃ４０）α－オレフィンコモノマーとを接触させることを含む。イオン性金属活性化剤錯
体は、アニオンおよび対カチオンを含み、アニオンは、式（Ｉ）に従った構造を有する。
【化1】
【0013】
対カチオンは、＋１の形式電荷を有する任意のカチオンである。式（Ｉ）では、各Ｍ
は独立して、アルミニウム、ホウ素、またはガリウムであり、ｎは、２、３、または４で
ある。各Ｒは独立して、式（ＩＩ）を有するラジカル、および式（ＩＩＩ）を有するラジ
カルからなる群から選択される。
は独立して、アルミニウム、ホウ素、またはガリウムであり、ｎは、２、３、または４で
ある。各Ｒは独立して、式（ＩＩ）を有するラジカル、および式（ＩＩＩ）を有するラジ
カルからなる群から選択される。
【化2】
【0014】
式（ＩＩ）および（ＩＩＩ）では、各Ｙは独立して、炭素またはケイ素であり、例え
ば、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、およびＲ２５は、各々
独立して、（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、Ｈ、－ＯＲＣ、－Ｏ
－、またはハロゲンから選択され、Ｒが、式（ＩＩ）に従ったラジカルであるとき、Ｒ１
１、Ｒ１２、またはＲ１３のうちの少なくとも１つが、フッ素置換（Ｃ１－Ｃ４０）アル
キル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、または－Ｆであり、Ｒが、式（ＩＩＩ）
に従ったラジカルであるとき、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、およびＲ２５のうちの
少なくとも１つが、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４
０）アリール、または－Ｆである。さらに、Ｍがアルミニウムであり、ｎが４であり、各
Ｒが式（ＩＩ）に従ったラジカルであり、Ｙが炭素であるとき、各Ｒのうちの各Ｒ１１、
Ｒ１２、およびＲ１３は、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６
－Ｃ４０）アリール、または－Ｆであり、各ＲのうちのＲ１１、Ｒ１２、およびＲ１３の
フッ素原子の総数は、６超である。いくつかの実施形態では、対カチオンは、第三級カル
ボカチオン、アルキル置換アンモニウムイオン、アニリニウム、またはフェロセニウムか
ら選択することができる。
ば、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、およびＲ２５は、各々
独立して、（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、Ｈ、－ＯＲＣ、－Ｏ
－、またはハロゲンから選択され、Ｒが、式（ＩＩ）に従ったラジカルであるとき、Ｒ１
１、Ｒ１２、またはＲ１３のうちの少なくとも１つが、フッ素置換（Ｃ１－Ｃ４０）アル
キル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、または－Ｆであり、Ｒが、式（ＩＩＩ）
に従ったラジカルであるとき、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、およびＲ２５のうちの
少なくとも１つが、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４
０）アリール、または－Ｆである。さらに、Ｍがアルミニウムであり、ｎが４であり、各
Ｒが式（ＩＩ）に従ったラジカルであり、Ｙが炭素であるとき、各Ｒのうちの各Ｒ１１、
Ｒ１２、およびＲ１３は、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６
－Ｃ４０）アリール、または－Ｆであり、各ＲのうちのＲ１１、Ｒ１２、およびＲ１３の
フッ素原子の総数は、６超である。いくつかの実施形態では、対カチオンは、第三級カル
ボカチオン、アルキル置換アンモニウムイオン、アニリニウム、またはフェロセニウムか
ら選択することができる。
【0015】
式（Ｉ）では、各Ｘは、ハロゲン、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、（Ｃ１
－Ｃ２０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、（Ｃ６－Ｃ４０）アリー
ル、－Ｓ（Ｏ）２ＣＦ３、または－Ｓ（Ｏ）３ＲＣから独立して選択された単座配位子で
ある。任意選択的に、式（Ｉ）の２つのＲ基は、共有結合している。各ＲＣは独立して、
（Ｃ１－Ｃ３０）ヒドロカルビル、または－Ｈである。１つ以上の実施形態では、イオン
性金属活性化剤錯体は、炭化水素導電率試験によって測定すると、高沸点完全飽和炭化水
素溶液中に２００マイクロモルのイオン性金属活性化剤錯体および２０ミリモルの水の濃
度で、０．１以下の誘電正接を有する。
－Ｃ２０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、（Ｃ６－Ｃ４０）アリー
ル、－Ｓ（Ｏ）２ＣＦ３、または－Ｓ（Ｏ）３ＲＣから独立して選択された単座配位子で
ある。任意選択的に、式（Ｉ）の２つのＲ基は、共有結合している。各ＲＣは独立して、
（Ｃ１－Ｃ３０）ヒドロカルビル、または－Ｈである。１つ以上の実施形態では、イオン
性金属活性化剤錯体は、炭化水素導電率試験によって測定すると、高沸点完全飽和炭化水
素溶液中に２００マイクロモルのイオン性金属活性化剤錯体および２０ミリモルの水の濃
度で、０．１以下の誘電正接を有する。
【0016】
いくつかの実施形態では、触媒系中の１つ以上の金属－配位子錯体の総モル数対触媒
系中の１つ以上のイオン性金属活性化剤錯体の総モル数の比は、１：１０，０００～１０
０：１である。
系中の１つ以上のイオン性金属活性化剤錯体の総モル数の比は、１：１０，０００～１０
０：１である。
【0017】
１つ以上の実施形態では、特に２つのＲ基が共有結合しているとき、助触媒は、式（
ＩＶ）に従った構造を有する。
ＩＶ）に従った構造を有する。
【化3】
【0018】
式（ＩＶ）では、ＭおよびＸは、式（Ｉ）で定義されたとおりである。下付き文字ｎ
は、１または２である。２つの共有結合している基Ｒを表す各Ｌは独立して、（Ｃ２－Ｃ
４０）アルキレン、または（Ｃ２－Ｃ４０）ヘテロアルキレンから選択される。ｎが１の
とき、Ｘは、ハロゲン、ハロゲン化－（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、（Ｃ１－Ｃ２０）アル
キル、－Ｓ（Ｏ）３ＲＣ、または－Ｓ（Ｏ）２ＣＦ３（トリフラート）から独立して選択
された単座配位子であり、ＲＣが、（Ｃ１－Ｃ２０）アルキルである。
は、１または２である。２つの共有結合している基Ｒを表す各Ｌは独立して、（Ｃ２－Ｃ
４０）アルキレン、または（Ｃ２－Ｃ４０）ヘテロアルキレンから選択される。ｎが１の
とき、Ｘは、ハロゲン、ハロゲン化－（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、（Ｃ１－Ｃ２０）アル
キル、－Ｓ（Ｏ）３ＲＣ、または－Ｓ（Ｏ）２ＣＦ３（トリフラート）から独立して選択
された単座配位子であり、ＲＣが、（Ｃ１－Ｃ２０）アルキルである。
【図面の簡単な説明】
【0019】
【図1】本開示の例示的な実施形態である、２つの比較活性化剤および２つの活性化剤（活性化剤１および活性化剤８）の、温度と相関する分子量の熱勾配相互作用クロマトグラフィー（ＴＧＩＣ）スペクトルである。
【発明を実施するための形態】
【0020】
そこで、触媒系の具体的な実施形態を説明する。本開示の触媒系は、異なる形態で実
施されてもよく、本開示に記載される特定の実施形態に限定されると解釈されるべきでは
ないことを理解されたい。
施されてもよく、本開示に記載される特定の実施形態に限定されると解釈されるべきでは
ないことを理解されたい。
【0021】
一般的な略語を、以下に列記する。
【0022】
Ｒ、Ｙ、Ｍ、Ｌ、およびｎ；上記で定義したとおり、Ｍｅ：メチル、Ｅｔ：エチル、
Ｐｈ：フェニル、Ｂｎ：ベンジル、ｉ－Ｐｒ：イソ－プロピル、ｔ－Ｂｕ：ｔｅｒｔ－ブ
チル、ｔ－Ｏｃｔ：ｔｅｒｔ－オクチル（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）
、Ｔｆ：トリフルオロメタンスルホネート、ＯＴｆ：トリフラート、（ｔＢｕＦＯ）３Ａ
ｌ：Ａｌ（ＯＣ（ＣＦ３）３）３、ＴＨＦ：テトラヒドロフラン、Ｅｔ２Ｏ：ジエチルエ
ーテル、ＣＨ２Ｃｌ２：ジクロロメタン、ＣＶ：カラム容量（カラムクロマトグラフィー
で使用）、ＥｔＯＡｃ：酢酸エチル、Ｃ６Ｄ６：重水素化ベンゼンまたはベンゼン－ｄ６
、ＣＤＣｌ３：重水素化クロロホルム、Ｎａ２ＳＯ４：硫酸ナトリウム、ＭｇＳＯ４：硫
酸マグネシウム、ＨＣｌ：塩化水素、ｎ－ＢｕＬｉ：ブチルリチウム、ｔ－ＢｕＬｉ：ｔ
ｅｒｔ－ブチルリチウム、Ｎ，Ｎ’－ＤＭＥＤＡ：Ｎ，Ｎ’－ジメチルエチレンジアミン
、Ｋ３ＰＯ４：三塩基性リン酸カリウム、Ｐｄ（ＡｍＰｈｏｓ）Ｃｌ２：ビス（ジ－ｔｅ
ｒｔ－ブチル（４－ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）
、Ｐｄ（ｄｐｐｆ）Ｃｌ２：［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］二
塩化パラジウム（ＩＩ）、Ｋ２ＣＯ３：炭酸カリウム、Ｃｓ２ＣＯ３：炭酸セシウム、ｉ
－ＰｒＯＢＰｉｎ：２－イソプロポキシ－４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－
ジオキサボロラン、Ｎ２：窒素ガス、ＰｈＭｅ：トルエン、ＰＰＲ：並列重合反応器、Ｍ
ＡＯ：メチルアルミノキサン、ＭＭＡＯ：修飾メチルアルミノキサン、ＧＣ：ガスクロマ
トグラフィー、ＬＣ：液体クロマトグラフィー、ＮＭＲ：核磁気共鳴、ＭＳ：質量分析、
ｍｍｏｌ：ミリモル、ｍＬ：ミリリットル、Ｍ：モル、ｍｉｎまたはｍｉｎｓ：分、ｈま
たはｈｒｓ：時間、ｄ：日、Ｒｆ：滞留画分、ＴＬＣ：薄層クロマトグラフィー、ｒｐｍ
：１分あたりの回転数。
Ｐｈ：フェニル、Ｂｎ：ベンジル、ｉ－Ｐｒ：イソ－プロピル、ｔ－Ｂｕ：ｔｅｒｔ－ブ
チル、ｔ－Ｏｃｔ：ｔｅｒｔ－オクチル（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）
、Ｔｆ：トリフルオロメタンスルホネート、ＯＴｆ：トリフラート、（ｔＢｕＦＯ）３Ａ
ｌ：Ａｌ（ＯＣ（ＣＦ３）３）３、ＴＨＦ：テトラヒドロフラン、Ｅｔ２Ｏ：ジエチルエ
ーテル、ＣＨ２Ｃｌ２：ジクロロメタン、ＣＶ：カラム容量（カラムクロマトグラフィー
で使用）、ＥｔＯＡｃ：酢酸エチル、Ｃ６Ｄ６：重水素化ベンゼンまたはベンゼン－ｄ６
、ＣＤＣｌ３：重水素化クロロホルム、Ｎａ２ＳＯ４：硫酸ナトリウム、ＭｇＳＯ４：硫
酸マグネシウム、ＨＣｌ：塩化水素、ｎ－ＢｕＬｉ：ブチルリチウム、ｔ－ＢｕＬｉ：ｔ
ｅｒｔ－ブチルリチウム、Ｎ，Ｎ’－ＤＭＥＤＡ：Ｎ，Ｎ’－ジメチルエチレンジアミン
、Ｋ３ＰＯ４：三塩基性リン酸カリウム、Ｐｄ（ＡｍＰｈｏｓ）Ｃｌ２：ビス（ジ－ｔｅ
ｒｔ－ブチル（４－ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）
、Ｐｄ（ｄｐｐｆ）Ｃｌ２：［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］二
塩化パラジウム（ＩＩ）、Ｋ２ＣＯ３：炭酸カリウム、Ｃｓ２ＣＯ３：炭酸セシウム、ｉ
－ＰｒＯＢＰｉｎ：２－イソプロポキシ－４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－
ジオキサボロラン、Ｎ２：窒素ガス、ＰｈＭｅ：トルエン、ＰＰＲ：並列重合反応器、Ｍ
ＡＯ：メチルアルミノキサン、ＭＭＡＯ：修飾メチルアルミノキサン、ＧＣ：ガスクロマ
トグラフィー、ＬＣ：液体クロマトグラフィー、ＮＭＲ：核磁気共鳴、ＭＳ：質量分析、
ｍｍｏｌ：ミリモル、ｍＬ：ミリリットル、Ｍ：モル、ｍｉｎまたはｍｉｎｓ：分、ｈま
たはｈｒｓ：時間、ｄ：日、Ｒｆ：滞留画分、ＴＬＣ：薄層クロマトグラフィー、ｒｐｍ
：１分あたりの回転数。
【0023】
「独立して選択される」という用語は、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５などの
Ｒ基が、同一であっても異なっていてもよいこと（例えば、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、お
よびＲ５がすべて、置換アルキルであってもよいか、またはＲ１およびＲ２が、置換アル
キルであってもよく、Ｒ３が、アリールであってもよい、など）を示すために本明細書で
使用される。Ｒ基に関連する化学名は、化学名の化学構造に対応するものとして当該技術
分野で認識されている化学構造を伝えることを意図している。したがって、化学名は、当
業者に既知の構造的定義を補足および例示すことを意図しており、排除することを意図し
ていない。
Ｒ基が、同一であっても異なっていてもよいこと（例えば、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、お
よびＲ５がすべて、置換アルキルであってもよいか、またはＲ１およびＲ２が、置換アル
キルであってもよく、Ｒ３が、アリールであってもよい、など）を示すために本明細書で
使用される。Ｒ基に関連する化学名は、化学名の化学構造に対応するものとして当該技術
分野で認識されている化学構造を伝えることを意図している。したがって、化学名は、当
業者に既知の構造的定義を補足および例示すことを意図しており、排除することを意図し
ていない。
【0024】
「プロ触媒」という用語は、活性化剤と組み合わせたときに触媒活性を有する化合物
を指す。「活性化剤」という用語は、プロ触媒を触媒的に活性な触媒に転換するようにプ
ロ触媒と化学的に反応する化合物を指す。本明細書で使用されるとき、「助触媒」および
「活性化剤」という用語は交換可能な用語である。
を指す。「活性化剤」という用語は、プロ触媒を触媒的に活性な触媒に転換するようにプ
ロ触媒と化学的に反応する化合物を指す。本明細書で使用されるとき、「助触媒」および
「活性化剤」という用語は交換可能な用語である。
【0025】
ある特定の炭素原子含有化学基を記載するために使用される場合、「（Ｃｘ－Ｃｙ）
」の形態を有する括弧付きの表現は、化学基の非置換形態がｘおよびｙを含めてｘ個の炭
素原子からｙ個の炭素原子までを有することを意味する。例えば、（Ｃ１－Ｃ５０）アル
キルは、その非置換形態では１～５０個の炭素原子を有するアルキル基である。いくつか
の実施形態および一般構造において、ある特定の化学基は、ＲＳなどの１つ以上の置換基
によって置換されてもよい。括弧付きの「（Ｃｘ－Ｃｙ）」を使用して定義されるＲＳ置
換化学基は、任意の基ＲＳの同一性に従ってｙ個を超える炭素原子を含有することができ
る。例えば、「ＲＳがフェニル（－Ｃ６Ｈ５）である正確に１つの基ＲＳによって置換さ
れた（Ｃ１－Ｃ５０）アルキル」は、７～５６個の炭素原子を含有し得る。したがって、
一般に、括弧付きの「（Ｃｘ－Ｃｙ）」を使用して定義される化学基が１つ以上の炭素原
子含有置換基ＲＳによって置換されるとき、化学基の炭素原子の最小および最大合計数は
、ｘとｙとの両方に、すべての炭素原子含有置換基ＲＳ由来の炭素原子の合計数を加える
ことによって、決定される。
」の形態を有する括弧付きの表現は、化学基の非置換形態がｘおよびｙを含めてｘ個の炭
素原子からｙ個の炭素原子までを有することを意味する。例えば、（Ｃ１－Ｃ５０）アル
キルは、その非置換形態では１～５０個の炭素原子を有するアルキル基である。いくつか
の実施形態および一般構造において、ある特定の化学基は、ＲＳなどの１つ以上の置換基
によって置換されてもよい。括弧付きの「（Ｃｘ－Ｃｙ）」を使用して定義されるＲＳ置
換化学基は、任意の基ＲＳの同一性に従ってｙ個を超える炭素原子を含有することができ
る。例えば、「ＲＳがフェニル（－Ｃ６Ｈ５）である正確に１つの基ＲＳによって置換さ
れた（Ｃ１－Ｃ５０）アルキル」は、７～５６個の炭素原子を含有し得る。したがって、
一般に、括弧付きの「（Ｃｘ－Ｃｙ）」を使用して定義される化学基が１つ以上の炭素原
子含有置換基ＲＳによって置換されるとき、化学基の炭素原子の最小および最大合計数は
、ｘとｙとの両方に、すべての炭素原子含有置換基ＲＳ由来の炭素原子の合計数を加える
ことによって、決定される。
【0026】
「置換」という用語は、対応する非置換化合物の炭素原子もしくはヘテロ原子または
官能基に結合した少なくとも１個の水素原子（－Ｈ）が、置換基（例えばＲＳ）によって
置き換えられることを意味する。「－Ｈ」という用語は、別の原子に共有結合している水
素または水素ラジカルを意味する。「水素」および「－Ｈ」は、交換可能であり、明記さ
れていない限りは、同一の意味を有する。
官能基に結合した少なくとも１個の水素原子（－Ｈ）が、置換基（例えばＲＳ）によって
置き換えられることを意味する。「－Ｈ」という用語は、別の原子に共有結合している水
素または水素ラジカルを意味する。「水素」および「－Ｈ」は、交換可能であり、明記さ
れていない限りは、同一の意味を有する。
【0027】
「ハロゲン置換」という用語は、対応する非置換化合物の炭素原子もしくはヘテロ原
子または官能基に結合した少なくとも１個の水素原子（－Ｈ）が、ハロゲンによって置き
換えられることを意味する。「ハロゲン置換」および「ハロゲン化」という用語は、交換
可能である。「過ハロゲン化」という用語は、対応する非置換化合物の炭素原子もしくは
ヘテロ原子または官能基に結合したすべての水素原子（－Ｈ）が、ハロゲンによって置き
換えられることを意味する。「ハロゲン置換」という用語は、対応する非置換化合物の炭
素原子もしくはヘテロ原子または官能基に結合した少なくとも１個の水素原子（－Ｈ）が
、フッ素原子によって置き換えられることを意味する。
子または官能基に結合した少なくとも１個の水素原子（－Ｈ）が、ハロゲンによって置き
換えられることを意味する。「ハロゲン置換」および「ハロゲン化」という用語は、交換
可能である。「過ハロゲン化」という用語は、対応する非置換化合物の炭素原子もしくは
ヘテロ原子または官能基に結合したすべての水素原子（－Ｈ）が、ハロゲンによって置き
換えられることを意味する。「ハロゲン置換」という用語は、対応する非置換化合物の炭
素原子もしくはヘテロ原子または官能基に結合した少なくとも１個の水素原子（－Ｈ）が
、フッ素原子によって置き換えられることを意味する。
【0028】
本開示では、「ハロゲン原子」または「ハロゲン」という用語は、フッ素原子（Ｆ）
または塩素原子（Ｃｌ）のラジカルを意味する。「ハロゲン化物」という用語は、ハロゲ
ン原子のアニオン形態、例えば、フッ化物（－）または塩化物（Ｃｌ－）を意味する。
または塩素原子（Ｃｌ）のラジカルを意味する。「ハロゲン化物」という用語は、ハロゲ
ン原子のアニオン形態、例えば、フッ化物（－）または塩化物（Ｃｌ－）を意味する。
【0029】
「（Ｃ１－Ｃ５０）ヒドロカルビル」という用語は、１～５０個の炭素原子を有する
炭化水素ラジカルを意味し、「（Ｃ１－Ｃ５０）ヒドロカルビレン」という用語は、１～
５０個の炭素原子を有する炭化水素ジラジカルを意味し、そこで、各炭化水素ラジカルお
よび各炭化水素ジラジカルは、芳香族または非芳香族、飽和または不飽和、直鎖または分
岐鎖、環式（３個以上の炭素を有し、単環式および多環式、縮合および非縮合の多環式、
ならびに二環式を含む）または非環式であり、１つ以上のＲＳによって置換されているか
、または置換されていない。
炭化水素ラジカルを意味し、「（Ｃ１－Ｃ５０）ヒドロカルビレン」という用語は、１～
５０個の炭素原子を有する炭化水素ジラジカルを意味し、そこで、各炭化水素ラジカルお
よび各炭化水素ジラジカルは、芳香族または非芳香族、飽和または不飽和、直鎖または分
岐鎖、環式（３個以上の炭素を有し、単環式および多環式、縮合および非縮合の多環式、
ならびに二環式を含む）または非環式であり、１つ以上のＲＳによって置換されているか
、または置換されていない。
【0030】
本開示において、（Ｃ１－Ｃ５０）ヒドロカルビルは、非置換またはは置換（Ｃ１－
Ｃ５０）アルキル、（Ｃ３－Ｃ５０）シクロアルキル、（Ｃ３－Ｃ２０）シクロアルキル
－（Ｃ１－Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、または（Ｃ６－Ｃ２０）ア
リール－（Ｃ１－Ｃ２０）アルキレン（ベンジル（－ＣＨ２－Ｃ６Ｈ５）など）であり得
る。
Ｃ５０）アルキル、（Ｃ３－Ｃ５０）シクロアルキル、（Ｃ３－Ｃ２０）シクロアルキル
－（Ｃ１－Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、または（Ｃ６－Ｃ２０）ア
リール－（Ｃ１－Ｃ２０）アルキレン（ベンジル（－ＣＨ２－Ｃ６Ｈ５）など）であり得
る。
【0031】
「（Ｃ１－Ｃ５０）アルキル」および「（Ｃ１－Ｃ１８）アルキル」という用語は、
非置換または１つ以上のＲＳによって置換されている、それぞれ、１～５０個の炭素原子
を有する飽和直鎖または分岐炭化水素ラジカルおよび１～１８個の炭素原子を有する飽和
直鎖または分岐炭化水素ラジカルを意味する。非置換（Ｃ１－Ｃ５０）アルキルの例は、
非置換（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、非置換（Ｃ１－Ｃ１０）アルキル、非置換（Ｃ１－Ｃ
５）アルキル、メチル、エチル、１－プロピル、２－プロピル、１－ブチル、２－ブチル
、２－メチルプロピル、１，１－ジメチルエチル、１－ペンチル、１－ヘキシル、１－ヘ
プチル、１－ノニル、および１－デシルである。置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキルの例は、
置換（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、置換（Ｃ１－Ｃ１０）アルキル、トリフルオロメチル、
および［Ｃ４５］アルキルである。「［Ｃ４５］アルキル」という用語は、置換基を含む
ラジカル中に最大４５個の炭素原子が存在することを意味し、例えば、それぞれ、（Ｃ１
－Ｃ５）アルキルである１つのＲＳによって置換されている（Ｃ２７－Ｃ４０）アルキル
である。より広義には、「［Ｃｚ］アルキル」という用語は、置換基を含めて、ラジカル
中に最大ｚ個の炭素原子が存在することを意味し、ｚは正の整数である。各（Ｃ１－Ｃ５
）アルキルは、メチル、トリフルオロメチル、エチル、１－プロピル、１－メチルエチル
、または１，１－ジメチルエチルであることができる。
非置換または１つ以上のＲＳによって置換されている、それぞれ、１～５０個の炭素原子
を有する飽和直鎖または分岐炭化水素ラジカルおよび１～１８個の炭素原子を有する飽和
直鎖または分岐炭化水素ラジカルを意味する。非置換（Ｃ１－Ｃ５０）アルキルの例は、
非置換（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、非置換（Ｃ１－Ｃ１０）アルキル、非置換（Ｃ１－Ｃ
５）アルキル、メチル、エチル、１－プロピル、２－プロピル、１－ブチル、２－ブチル
、２－メチルプロピル、１，１－ジメチルエチル、１－ペンチル、１－ヘキシル、１－ヘ
プチル、１－ノニル、および１－デシルである。置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキルの例は、
置換（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、置換（Ｃ１－Ｃ１０）アルキル、トリフルオロメチル、
および［Ｃ４５］アルキルである。「［Ｃ４５］アルキル」という用語は、置換基を含む
ラジカル中に最大４５個の炭素原子が存在することを意味し、例えば、それぞれ、（Ｃ１
－Ｃ５）アルキルである１つのＲＳによって置換されている（Ｃ２７－Ｃ４０）アルキル
である。より広義には、「［Ｃｚ］アルキル」という用語は、置換基を含めて、ラジカル
中に最大ｚ個の炭素原子が存在することを意味し、ｚは正の整数である。各（Ｃ１－Ｃ５
）アルキルは、メチル、トリフルオロメチル、エチル、１－プロピル、１－メチルエチル
、または１，１－ジメチルエチルであることができる。
【0032】
「（Ｃ６－Ｃ５０）アリール」という用語は、６～４０個の炭素原子の非置換または
（１つ以上のＲＳによって）置換された単環式、二環式、または三環式芳香族炭化水素ラ
ジカルを意味し、炭素原子のうちの少なくとも６～１４個は芳香環炭素原子である。単環
式芳香族炭化水素ラジカルは、１つの芳香環を含み、二環式芳香族炭化水素ラジカルは２
つの環を有し、三環式芳香族炭化水素ラジカルは３つの環を有する。二環式または三環式
芳香族炭化水素ラジカルが存在するとき、そのラジカルの環のうちの少なくとも１つは芳
香族である。芳香族ラジカルの他の１つまたは複数の環は独立して、縮合または非縮合の
芳香族または非芳香族であり得る。非置換（Ｃ６－Ｃ５０）アリールの例としては、非置
換（Ｃ６－Ｃ２０）アリール、非置換（Ｃ６－Ｃ１８）アリール、２－（Ｃ１－Ｃ５）ア
ルキル－フェニル、フェニル、フルオレニル、テトラヒドロフルオレニル、インダセニル
、ヘキサヒドロインダセニル、インデニル、ジヒドロインデニル、ナフチル、テトラヒド
ロナフチル、およびフェナントレンが挙げられる。置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリールの例と
しては、置換（Ｃ１－Ｃ２０）アリール、置換（Ｃ６－Ｃ１８）アリール、２，４－ビス
（［Ｃ２０］アルキル）－フェニル、ポリフルオロフェニル、ペンタフルオロフェニル、
フルオレン－９－オン－１－イル、およびビフェニルが挙げられる。
（１つ以上のＲＳによって）置換された単環式、二環式、または三環式芳香族炭化水素ラ
ジカルを意味し、炭素原子のうちの少なくとも６～１４個は芳香環炭素原子である。単環
式芳香族炭化水素ラジカルは、１つの芳香環を含み、二環式芳香族炭化水素ラジカルは２
つの環を有し、三環式芳香族炭化水素ラジカルは３つの環を有する。二環式または三環式
芳香族炭化水素ラジカルが存在するとき、そのラジカルの環のうちの少なくとも１つは芳
香族である。芳香族ラジカルの他の１つまたは複数の環は独立して、縮合または非縮合の
芳香族または非芳香族であり得る。非置換（Ｃ６－Ｃ５０）アリールの例としては、非置
換（Ｃ６－Ｃ２０）アリール、非置換（Ｃ６－Ｃ１８）アリール、２－（Ｃ１－Ｃ５）ア
ルキル－フェニル、フェニル、フルオレニル、テトラヒドロフルオレニル、インダセニル
、ヘキサヒドロインダセニル、インデニル、ジヒドロインデニル、ナフチル、テトラヒド
ロナフチル、およびフェナントレンが挙げられる。置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリールの例と
しては、置換（Ｃ１－Ｃ２０）アリール、置換（Ｃ６－Ｃ１８）アリール、２，４－ビス
（［Ｃ２０］アルキル）－フェニル、ポリフルオロフェニル、ペンタフルオロフェニル、
フルオレン－９－オン－１－イル、およびビフェニルが挙げられる。
【0033】
「（Ｃ３－Ｃ５０）シクロアルキル」という用語は、非置換であるかまたは１つ以上
のＲＳによって置換されている、３～５０個の炭素原子を有する飽和環式炭化水素ラジカ
ルを意味する。他のシクロアルキル基（例えば（Ｃｘ－Ｃｙ）シクロアルキル）は、ｘ～
ｙ個の炭素原子を有し、非置換であるか、または１つ以上のＲＳによって置換されている
かのいずれかであると同様な様式で定義される。非置換（Ｃ３－Ｃ４０）シクロアルキル
の例は、非置換（Ｃ３－Ｃ２０）シクロアルキル、非置換（Ｃ３－Ｃ１０）シクロアルキ
ル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル
、シクロオクチル、シクロノニル、およびシクロデシルである。置換（Ｃ３－Ｃ４０）シ
クロアルキルの例は、置換（Ｃ３－Ｃ２０）シクロアルキル、置換（Ｃ３－Ｃ１０）シク
ロアルキル、および１－フルオロシクロヘキシルである。
のＲＳによって置換されている、３～５０個の炭素原子を有する飽和環式炭化水素ラジカ
ルを意味する。他のシクロアルキル基（例えば（Ｃｘ－Ｃｙ）シクロアルキル）は、ｘ～
ｙ個の炭素原子を有し、非置換であるか、または１つ以上のＲＳによって置換されている
かのいずれかであると同様な様式で定義される。非置換（Ｃ３－Ｃ４０）シクロアルキル
の例は、非置換（Ｃ３－Ｃ２０）シクロアルキル、非置換（Ｃ３－Ｃ１０）シクロアルキ
ル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル
、シクロオクチル、シクロノニル、およびシクロデシルである。置換（Ｃ３－Ｃ４０）シ
クロアルキルの例は、置換（Ｃ３－Ｃ２０）シクロアルキル、置換（Ｃ３－Ｃ１０）シク
ロアルキル、および１－フルオロシクロヘキシルである。
【0034】
（Ｃ１－Ｃ５０）ヒドロカルビレンの例としては、非置換または置換（Ｃ６－Ｃ５０
）アリーレン、（Ｃ３－Ｃ５０）シクロアルキレン、および（Ｃ１－Ｃ５０）アルキレン
（例えば、（Ｃ１－Ｃ２０）アルキレン）が挙げられる。ジラジカルは、同じ炭素原子上
（例えば－ＣＨ２－）もしくは隣接する炭素原子（すなわち１，２－ジラジカル）上にあ
ってもよく、または１個、２個、もしくは３個以上の介在炭素原子によって離間されてい
る（例えば１，３－ジラジカル、１，４－ジラジカルなど）。いくつかのジラジカルとし
ては、１，２－、１，３－、１，４－、またはα，ω－ジラジカルが挙げられる。α，ω
－ジラジカルは、ラジカル炭素間に最大の炭素骨格間隔を有するジラジカルである。（Ｃ
２－Ｃ２０）アルキレンα，ω－ジラジカルのいくつかの例としては、エタン－１，２－
ジイル（すなわち、－ＣＨ２ＣＨ２－）、プロパン－１，３－ジイル（すなわち、－ＣＨ
２ＣＨ２ＣＨ２－）、２－メチルプロパン－１，３－ジイル（すなわち、－ＣＨ２ＣＨ（
ＣＨ３）ＣＨ２－）が挙げられる。（Ｃ６－Ｃ５０）アリーレンα，ω－ジラジカルのい
くつかの例としては、フェニル－１，４－ジイル、ナフタレン－２，６－ジイル、または
ナフタレン－３，７－ジイルが挙げられる。
）アリーレン、（Ｃ３－Ｃ５０）シクロアルキレン、および（Ｃ１－Ｃ５０）アルキレン
（例えば、（Ｃ１－Ｃ２０）アルキレン）が挙げられる。ジラジカルは、同じ炭素原子上
（例えば－ＣＨ２－）もしくは隣接する炭素原子（すなわち１，２－ジラジカル）上にあ
ってもよく、または１個、２個、もしくは３個以上の介在炭素原子によって離間されてい
る（例えば１，３－ジラジカル、１，４－ジラジカルなど）。いくつかのジラジカルとし
ては、１，２－、１，３－、１，４－、またはα，ω－ジラジカルが挙げられる。α，ω
－ジラジカルは、ラジカル炭素間に最大の炭素骨格間隔を有するジラジカルである。（Ｃ
２－Ｃ２０）アルキレンα，ω－ジラジカルのいくつかの例としては、エタン－１，２－
ジイル（すなわち、－ＣＨ２ＣＨ２－）、プロパン－１，３－ジイル（すなわち、－ＣＨ
２ＣＨ２ＣＨ２－）、２－メチルプロパン－１，３－ジイル（すなわち、－ＣＨ２ＣＨ（
ＣＨ３）ＣＨ２－）が挙げられる。（Ｃ６－Ｃ５０）アリーレンα，ω－ジラジカルのい
くつかの例としては、フェニル－１，４－ジイル、ナフタレン－２，６－ジイル、または
ナフタレン－３，７－ジイルが挙げられる。
【0035】
「（Ｃ１－Ｃ５０）アルキレン」という用語は、非置換または１つ以上のＲＳによっ
て置換されている１～５０個の炭素原子を有する飽和直鎖または分岐鎖のジラジカル（す
なわち、ラジカルが環原子上にない）を意味する。非置換（Ｃ１－Ｃ５０）アルキレンの
例は、非置換（Ｃ１－Ｃ２０）アルキレンであり、非置換－ＣＨ２ＣＨ２－、－（ＣＨ２
）３－、－（ＣＨ２）４－、－（ＣＨ２）５－、－（ＣＨ２）６－、－（ＣＨ２）７－、
－（ＣＨ２）８－、－ＣＨ２Ｃ＊ＨＣＨ３、および－（ＣＨ２）４Ｃ＊（Ｈ）ＣＨ３を含
み、「Ｃ＊」は、水素原子が、第二級もしくは第三級アルキルラジカルを形成するために
除去される炭素原子を表す。置換（Ｃ１－Ｃ５０）アルキレンの例は、置換（Ｃ１－Ｃ２
０）アルキレン、－ＣＦ２－、－Ｃ（Ｏ）－、および－（ＣＨ２）１４Ｃ（ＣＨ３）２（
ＣＨ２）５－（すなわち、６，６－ジメチル置換ノルマル－１，２０－エイコシレン）で
ある。前述のように、２つのＲＳが一緒になって（Ｃ１－Ｃ１８）アルキレンを形成する
ことができるため、置換（Ｃ１－Ｃ５０）アルキレンの例としてはまた、１，２－ビス（
メチレン）シクロペンタン、１，２－ビス（メチレン）シクロヘキサン、２，３－ビス（
メチレン）－７，７－ジメチル－ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、および２，３－ビス
（メチレン）ビシクロ［２．２．２］オクタンが挙げられる。
て置換されている１～５０個の炭素原子を有する飽和直鎖または分岐鎖のジラジカル（す
なわち、ラジカルが環原子上にない）を意味する。非置換（Ｃ１－Ｃ５０）アルキレンの
例は、非置換（Ｃ１－Ｃ２０）アルキレンであり、非置換－ＣＨ２ＣＨ２－、－（ＣＨ２
）３－、－（ＣＨ２）４－、－（ＣＨ２）５－、－（ＣＨ２）６－、－（ＣＨ２）７－、
－（ＣＨ２）８－、－ＣＨ２Ｃ＊ＨＣＨ３、および－（ＣＨ２）４Ｃ＊（Ｈ）ＣＨ３を含
み、「Ｃ＊」は、水素原子が、第二級もしくは第三級アルキルラジカルを形成するために
除去される炭素原子を表す。置換（Ｃ１－Ｃ５０）アルキレンの例は、置換（Ｃ１－Ｃ２
０）アルキレン、－ＣＦ２－、－Ｃ（Ｏ）－、および－（ＣＨ２）１４Ｃ（ＣＨ３）２（
ＣＨ２）５－（すなわち、６，６－ジメチル置換ノルマル－１，２０－エイコシレン）で
ある。前述のように、２つのＲＳが一緒になって（Ｃ１－Ｃ１８）アルキレンを形成する
ことができるため、置換（Ｃ１－Ｃ５０）アルキレンの例としてはまた、１，２－ビス（
メチレン）シクロペンタン、１，２－ビス（メチレン）シクロヘキサン、２，３－ビス（
メチレン）－７，７－ジメチル－ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、および２，３－ビス
（メチレン）ビシクロ［２．２．２］オクタンが挙げられる。
【0036】
「（Ｃ３－Ｃ５０）シクロアルキレン」という用語は、３～５０個の炭素原子を有す
る、非置換または１つ以上のＲＳによって置換されている、環式ジラジカル（すなわち、
ラジカルが環原子上にある）を意味する。
る、非置換または１つ以上のＲＳによって置換されている、環式ジラジカル（すなわち、
ラジカルが環原子上にある）を意味する。
【0037】
「ヘテロ原子」という用語は、水素または炭素以外の原子を指す。１個または２個以
上のヘテロ原子を含有する基の例としては、Ｏ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ）２、Ｓｉ（ＲＣ
）２、Ｐ（ＲＰ）、Ｎ（ＲＮ）、－Ｎ＝Ｃ（ＲＣ）２、－Ｇｅ（ＲＣ）２－、または－Ｓ
ｉ（ＲＣ）－が挙げられ、各ＲＣおよび各ＲＰは、非置換（Ｃ１－Ｃ１８）ヒドロカルビ
ルまたは－Ｈであり、各ＲＮは非置換（Ｃ１－Ｃ１８）ヒドロカルビルである。「ヘテロ
炭化水素」という用語は、炭化水素の１個以上の炭素原子がヘテロ原子で置き換えられて
いる分子または分子骨格を指す。「（Ｃ１－Ｃ５０）ヘテロヒドロカルビル」という用語
は、１～５０個の炭素原子を有するヘテロ炭化水素ラジカルを意味し、「（Ｃ１－Ｃ５０
）ヘテロヒドロカルビレン」という用語は、１～５０個の炭素原子を有するヘテロ炭化水
素ジラジカルを意味する。（Ｃ１－Ｃ５０）ヘテロヒドロカルビルまたは（Ｃ１－Ｃ５０
）ヘテロヒドロカルビレンのヘテロ炭化水素ジラジカルは、１個以上のヘテロ原子を有す
る。ヘテロヒドロカルビルのラジカルは、炭素原子上またはヘテロ原子上に存在すること
ができる。ヘテロヒドロカルビレンの２つの基は、単一の炭素原子上または単一のヘテロ
原子上に存在することができる。加えて、ジラジカルの２つのラジカルのうちの１つは炭
素原子上に存在することができ、他方のラジカルは異なる炭素原子上に存在することがで
き、２つのラジカルのうちの１つは炭素原子上に存在することができ、他方はヘテロ原子
上に存在することができるか、または２つのラジカルのうちの１つはヘテロ原子上に存在
することができ、他方のラジカルは異なるヘテロ原子上に存在することができる。各（Ｃ
１－Ｃ５０）ヘテロヒドロカルビルおよび（Ｃ１－Ｃ５０）ヘテロヒドロカルビレンは、
非置換または（１つ以上のＲＳによって）置換、芳香族または非芳香族、飽和または不飽
和、直鎖または分岐鎖、環式（単環式および多環式、縮合多環式および非縮合多環式を含
む）または非環式であってもよい。
上のヘテロ原子を含有する基の例としては、Ｏ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ）２、Ｓｉ（ＲＣ
）２、Ｐ（ＲＰ）、Ｎ（ＲＮ）、－Ｎ＝Ｃ（ＲＣ）２、－Ｇｅ（ＲＣ）２－、または－Ｓ
ｉ（ＲＣ）－が挙げられ、各ＲＣおよび各ＲＰは、非置換（Ｃ１－Ｃ１８）ヒドロカルビ
ルまたは－Ｈであり、各ＲＮは非置換（Ｃ１－Ｃ１８）ヒドロカルビルである。「ヘテロ
炭化水素」という用語は、炭化水素の１個以上の炭素原子がヘテロ原子で置き換えられて
いる分子または分子骨格を指す。「（Ｃ１－Ｃ５０）ヘテロヒドロカルビル」という用語
は、１～５０個の炭素原子を有するヘテロ炭化水素ラジカルを意味し、「（Ｃ１－Ｃ５０
）ヘテロヒドロカルビレン」という用語は、１～５０個の炭素原子を有するヘテロ炭化水
素ジラジカルを意味する。（Ｃ１－Ｃ５０）ヘテロヒドロカルビルまたは（Ｃ１－Ｃ５０
）ヘテロヒドロカルビレンのヘテロ炭化水素ジラジカルは、１個以上のヘテロ原子を有す
る。ヘテロヒドロカルビルのラジカルは、炭素原子上またはヘテロ原子上に存在すること
ができる。ヘテロヒドロカルビレンの２つの基は、単一の炭素原子上または単一のヘテロ
原子上に存在することができる。加えて、ジラジカルの２つのラジカルのうちの１つは炭
素原子上に存在することができ、他方のラジカルは異なる炭素原子上に存在することがで
き、２つのラジカルのうちの１つは炭素原子上に存在することができ、他方はヘテロ原子
上に存在することができるか、または２つのラジカルのうちの１つはヘテロ原子上に存在
することができ、他方のラジカルは異なるヘテロ原子上に存在することができる。各（Ｃ
１－Ｃ５０）ヘテロヒドロカルビルおよび（Ｃ１－Ｃ５０）ヘテロヒドロカルビレンは、
非置換または（１つ以上のＲＳによって）置換、芳香族または非芳香族、飽和または不飽
和、直鎖または分岐鎖、環式（単環式および多環式、縮合多環式および非縮合多環式を含
む）または非環式であってもよい。
【0038】
（Ｃ１－Ｃ５０）ヘテロヒドロカルビルは、非置換または置換されてもよい。（Ｃ１
－Ｃ５０）ヘテロヒドロカルビルの非限定的な例としては、（Ｃ１－Ｃ５０）ヘテロアル
キル、（Ｃ１－Ｃ５０）ヒドロカルビル－Ｏ－、（Ｃ１－Ｃ５０）ヒドロカルビル－Ｓ－
、（Ｃ１－Ｃ５０）ヒドロカルビル－Ｓ（Ｏ）－、（Ｃ１－Ｃ５０）ヒドロカルビル－Ｓ
（Ｏ）２－、（Ｃ１－Ｃ５０）ヒドロカルビル－Ｓｉ（ＲＣ）２－、（Ｃ１－Ｃ５０）ヒ
ドロカルビル－Ｎ（ＲＮ）－、（Ｃ１－Ｃ５０）ヒドロカルビル－Ｐ（ＲＰ）－、（Ｃ２
－Ｃ５０）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ２－Ｃ１９）ヘテロシクロアルキル－（Ｃ１－Ｃ
２０）アルキレン、（Ｃ３－Ｃ２０）シクロアルキル－（Ｃ１－Ｃ１９）ヘテロアルキレ
ン、（Ｃ２－Ｃ１９）ヘテロシクロアルキル－（Ｃ１－Ｃ２０）ヘテロアルキレン、（Ｃ
１－Ｃ５０）ヘテロアリール、（Ｃ１－Ｃ１９）ヘテロアリール－（Ｃ１－Ｃ２０）アル
キレン、（Ｃ６－Ｃ２０）アリール－（Ｃ１－Ｃ１９）ヘテロアルキレン、または（Ｃ１
－Ｃ１９）ヘテロアリール－（Ｃ１－Ｃ２０）ヘテロアルキレンが挙げられる。
－Ｃ５０）ヘテロヒドロカルビルの非限定的な例としては、（Ｃ１－Ｃ５０）ヘテロアル
キル、（Ｃ１－Ｃ５０）ヒドロカルビル－Ｏ－、（Ｃ１－Ｃ５０）ヒドロカルビル－Ｓ－
、（Ｃ１－Ｃ５０）ヒドロカルビル－Ｓ（Ｏ）－、（Ｃ１－Ｃ５０）ヒドロカルビル－Ｓ
（Ｏ）２－、（Ｃ１－Ｃ５０）ヒドロカルビル－Ｓｉ（ＲＣ）２－、（Ｃ１－Ｃ５０）ヒ
ドロカルビル－Ｎ（ＲＮ）－、（Ｃ１－Ｃ５０）ヒドロカルビル－Ｐ（ＲＰ）－、（Ｃ２
－Ｃ５０）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ２－Ｃ１９）ヘテロシクロアルキル－（Ｃ１－Ｃ
２０）アルキレン、（Ｃ３－Ｃ２０）シクロアルキル－（Ｃ１－Ｃ１９）ヘテロアルキレ
ン、（Ｃ２－Ｃ１９）ヘテロシクロアルキル－（Ｃ１－Ｃ２０）ヘテロアルキレン、（Ｃ
１－Ｃ５０）ヘテロアリール、（Ｃ１－Ｃ１９）ヘテロアリール－（Ｃ１－Ｃ２０）アル
キレン、（Ｃ６－Ｃ２０）アリール－（Ｃ１－Ｃ１９）ヘテロアルキレン、または（Ｃ１
－Ｃ１９）ヘテロアリール－（Ｃ１－Ｃ２０）ヘテロアルキレンが挙げられる。
【0039】
「（Ｃ４－Ｃ５０）ヘテロアリール」という用語は、合計４～５０個の炭素原子およ
び１～１０個のヘテロ原子の、非置換または（１つ以上のＲＳによって）置換された単環
式、二環式、または三環式ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルを意味する。単環式ヘテロ芳香
族炭化水素ラジカルは、１つのヘテロ芳香環を含み、二環式ヘテロ芳香族炭化水素ラジカ
ルは、２つの環を有し、三環式ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルは、３つの環を有する。二
環式または三環式ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルが存在する場合、ラジカルにおける環の
うちの少なくとも１つは、ヘテロ芳香族である。ヘテロ芳香族ラジカルの他の１つまたは
複数の環は独立して、縮合または非縮合および芳香族または非芳香族であることができる
。他のヘテロアリール基（例えば、一般に（Ｃｘ－Ｃｙ）ヘテロアリール、（Ｃ４－Ｃ１
２）ヘテロアリールなど）は、ｘ～ｙ個の炭素原子（４～１２個の炭素原子など）を有し
、かつ非置換または１つもしくは２つ以上のＲＳによって置換されているものと同様な様
式で定義される。単環式ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルは、５員環または６員環である。
び１～１０個のヘテロ原子の、非置換または（１つ以上のＲＳによって）置換された単環
式、二環式、または三環式ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルを意味する。単環式ヘテロ芳香
族炭化水素ラジカルは、１つのヘテロ芳香環を含み、二環式ヘテロ芳香族炭化水素ラジカ
ルは、２つの環を有し、三環式ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルは、３つの環を有する。二
環式または三環式ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルが存在する場合、ラジカルにおける環の
うちの少なくとも１つは、ヘテロ芳香族である。ヘテロ芳香族ラジカルの他の１つまたは
複数の環は独立して、縮合または非縮合および芳香族または非芳香族であることができる
。他のヘテロアリール基（例えば、一般に（Ｃｘ－Ｃｙ）ヘテロアリール、（Ｃ４－Ｃ１
２）ヘテロアリールなど）は、ｘ～ｙ個の炭素原子（４～１２個の炭素原子など）を有し
、かつ非置換または１つもしくは２つ以上のＲＳによって置換されているものと同様な様
式で定義される。単環式ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルは、５員環または６員環である。
【0040】
５員環単環式ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルは、５マイナスｈ個の炭素原子を有し、
ｈは、ヘテロ原子の数であり、１、２、３、または４つであり得、各ヘテロ原子は、Ｏ、
Ｓ、Ｎ、またはＰであり得る。５員環ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルの例としては、ピロ
ール－１－イル、ピロール－２－イル、フラン－３－イル、チオフェン－２－イル、ピラ
ゾール－１－イル、イソキサゾール－２－イル、イソチアゾール－５－イル、イミダゾー
ル－２－イル、オキサゾール－４－イル、チアゾール－２－イル、１，２，４－トリアゾ
ール－１－イル、１，３，４－オキサジアゾール－２－イル、１，３，４－チアジアゾー
ル－２－イル、テトラゾール－１－イル、テトラゾール－２－イル、およびテトラゾール
－５－イルが挙げられる。
ｈは、ヘテロ原子の数であり、１、２、３、または４つであり得、各ヘテロ原子は、Ｏ、
Ｓ、Ｎ、またはＰであり得る。５員環ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルの例としては、ピロ
ール－１－イル、ピロール－２－イル、フラン－３－イル、チオフェン－２－イル、ピラ
ゾール－１－イル、イソキサゾール－２－イル、イソチアゾール－５－イル、イミダゾー
ル－２－イル、オキサゾール－４－イル、チアゾール－２－イル、１，２，４－トリアゾ
ール－１－イル、１，３，４－オキサジアゾール－２－イル、１，３，４－チアジアゾー
ル－２－イル、テトラゾール－１－イル、テトラゾール－２－イル、およびテトラゾール
－５－イルが挙げられる。
【0041】
６員環単環式ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルは、６マイナスｈ個の炭素原子を有し、
ｈは、ヘテロ原子の数であり、１または２であり得、ヘテロ原子は、ＮまたはＰであり得
る。６員環ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルの例としては、ピリジン－２－イル、ピリミジ
ン－２－イル、およびピラジン－２－イルが挙げられる。
ｈは、ヘテロ原子の数であり、１または２であり得、ヘテロ原子は、ＮまたはＰであり得
る。６員環ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルの例としては、ピリジン－２－イル、ピリミジ
ン－２－イル、およびピラジン－２－イルが挙げられる。
【0042】
二環式ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルは、縮合５，６－または６，６－環系であり得
る。縮合５，６－環系二環式ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルの例としては、インドール－
１－イル、およびベンズイミダゾール－１－イルが挙げられる。縮合６，６－環系二環式
ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルの例としては、キノリン－２－イル、およびイソキノリン
－１－イルが挙げられる。三環式ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルは縮合５，６，５－、５
，６，６－、６，５，６－、または６，６，６－環系であり得る。縮合５，６，５－環系
の例としては、１，７－ジヒドロピロロ［３，２－ｆ］インドール－１－イルが挙げられ
る。縮合５，６，６－環系の例としては、１Ｈ－ベンゾ［ｆ］インドール－１－イルが挙
げられる。縮合６，５，６－環系の例は、９Ｈ－カルバゾール－９－イルである。縮合６
，６，６－環系の例としては、アクリジン－９－イルである。
る。縮合５，６－環系二環式ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルの例としては、インドール－
１－イル、およびベンズイミダゾール－１－イルが挙げられる。縮合６，６－環系二環式
ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルの例としては、キノリン－２－イル、およびイソキノリン
－１－イルが挙げられる。三環式ヘテロ芳香族炭化水素ラジカルは縮合５，６，５－、５
，６，６－、６，５，６－、または６，６，６－環系であり得る。縮合５，６，５－環系
の例としては、１，７－ジヒドロピロロ［３，２－ｆ］インドール－１－イルが挙げられ
る。縮合５，６，６－環系の例としては、１Ｈ－ベンゾ［ｆ］インドール－１－イルが挙
げられる。縮合６，５，６－環系の例は、９Ｈ－カルバゾール－９－イルである。縮合６
，６，６－環系の例としては、アクリジン－９－イルである。
【0043】
（Ｃ１－Ｃ５０）ヘテロアルキルという用語は、１～５０個の炭素原子および１個以
上のヘテロ原子を含有する飽和直鎖または分岐鎖ラジカルを意味する。「（Ｃ１－Ｃ５０
）ヘテロアルキレン」という用語は、１～５０個の炭素原子および１個または２個以上の
ヘテロ原子を含有する飽和直鎖または分岐鎖ジラジカルを意味する。ヘテロアルキルまた
はヘテロアルキレンのヘテロ原子としては、Ｓｉ（ＲＣ）３、Ｇｅ（ＲＣ）３、Ｓｉ（Ｒ
Ｃ）２、Ｇｅ（ＲＣ）２、Ｐ（ＲＰ）２、Ｐ（ＲＰ）、Ｎ（ＲＮ）２、Ｎ（ＲＮ）、Ｎ、
Ｏ、ＯＲＣ、Ｓ、ＳＲＣ、Ｓ（Ｏ）、およびＳ（Ｏ）２が挙げられ得、ヘテロアルキルお
よびヘテロアルキレンの各々は、非置換または１つ以上のＲＳによって置換されている
上のヘテロ原子を含有する飽和直鎖または分岐鎖ラジカルを意味する。「（Ｃ１－Ｃ５０
）ヘテロアルキレン」という用語は、１～５０個の炭素原子および１個または２個以上の
ヘテロ原子を含有する飽和直鎖または分岐鎖ジラジカルを意味する。ヘテロアルキルまた
はヘテロアルキレンのヘテロ原子としては、Ｓｉ（ＲＣ）３、Ｇｅ（ＲＣ）３、Ｓｉ（Ｒ
Ｃ）２、Ｇｅ（ＲＣ）２、Ｐ（ＲＰ）２、Ｐ（ＲＰ）、Ｎ（ＲＮ）２、Ｎ（ＲＮ）、Ｎ、
Ｏ、ＯＲＣ、Ｓ、ＳＲＣ、Ｓ（Ｏ）、およびＳ（Ｏ）２が挙げられ得、ヘテロアルキルお
よびヘテロアルキレンの各々は、非置換または１つ以上のＲＳによって置換されている
【0044】
非置換（Ｃ２－Ｃ４０）ヘテロシクロアルキルの例としては、非置換（Ｃ２－Ｃ２０
）ヘテロシクロアルキル、非置換（Ｃ２－Ｃ１０）ヘテロシクロアルキル、アジリジン－
１－イル、オキセタン－２－イル、テトラヒドロフラン－３－イル、ピロリジン－１－イ
ル、テトラヒドロチオフェン－Ｓ，Ｓ－ジオキシド－２－イル、モルホリン－４－イル、
１，４－ジオキサン－２－イル、ヘキサヒドロアゼピン－４－イル、３－オキサ－シクロ
オクチル、５－チオ－シクロノニル、および２－アザ－シクロデシルが挙げられる。
）ヘテロシクロアルキル、非置換（Ｃ２－Ｃ１０）ヘテロシクロアルキル、アジリジン－
１－イル、オキセタン－２－イル、テトラヒドロフラン－３－イル、ピロリジン－１－イ
ル、テトラヒドロチオフェン－Ｓ，Ｓ－ジオキシド－２－イル、モルホリン－４－イル、
１，４－ジオキサン－２－イル、ヘキサヒドロアゼピン－４－イル、３－オキサ－シクロ
オクチル、５－チオ－シクロノニル、および２－アザ－シクロデシルが挙げられる。
【0045】
「飽和」という用語は、炭素－炭素二重結合、炭素－炭素三重結合、ならびに（ヘテ
ロ原子含有基において）炭素－窒素、炭素－リン、および炭素－ケイ素二重結合を欠くこ
とを意味する。飽和化学基が１つ以上の置換基ＲＳによって置換されている場合、１つ以
上の二重結合および／または三重結合は、任意に、置換基ＲＳ中に存在していてもよい。
「不飽和」という用語は、１つ以上の炭素－炭素二重結合もしくは炭素－炭素三重結合、
または（ヘテロ原子含有基における）１つ以上の炭素－窒素二重結合、炭素－リン二重結
合、もしくは炭素－ケイ素二重結合を含有し、置換基ＲＳ（存在する場合）、または芳香
環もしくはヘテロ芳香環（存在する場合）に存在し得る二重結合を含まないことを意味す
る。
ロ原子含有基において）炭素－窒素、炭素－リン、および炭素－ケイ素二重結合を欠くこ
とを意味する。飽和化学基が１つ以上の置換基ＲＳによって置換されている場合、１つ以
上の二重結合および／または三重結合は、任意に、置換基ＲＳ中に存在していてもよい。
「不飽和」という用語は、１つ以上の炭素－炭素二重結合もしくは炭素－炭素三重結合、
または（ヘテロ原子含有基における）１つ以上の炭素－窒素二重結合、炭素－リン二重結
合、もしくは炭素－ケイ素二重結合を含有し、置換基ＲＳ（存在する場合）、または芳香
環もしくはヘテロ芳香環（存在する場合）に存在し得る二重結合を含まないことを意味す
る。
【0046】
本開示の実施形態は、オレフィンを重合するためのプロセスを含み、プロセスは、エ
チレン、１つ以上の（Ｃ３－Ｃ４０）アルファ－オレフィンコモノマー、触媒、およびイ
オン性金属活性化剤錯体を一緒に接触させることを含む。イオン性金属活性化剤錯体は、
アニオンおよび対カチオンを含む。アニオンは、式（Ｉ）に従った構造を有する。
チレン、１つ以上の（Ｃ３－Ｃ４０）アルファ－オレフィンコモノマー、触媒、およびイ
オン性金属活性化剤錯体を一緒に接触させることを含む。イオン性金属活性化剤錯体は、
アニオンおよび対カチオンを含む。アニオンは、式（Ｉ）に従った構造を有する。
【化4】
【0047】
式（Ｉ）では、各Ｘは、ハロゲン、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、（Ｃ１
－Ｃ２０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、（Ｃ６－Ｃ４０）アリー
ル、または－Ｓ（Ｏ）３ＲＣから独立して選択された単座配位子である。
－Ｃ２０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、（Ｃ６－Ｃ４０）アリー
ル、または－Ｓ（Ｏ）３ＲＣから独立して選択された単座配位子である。
【0048】
式（Ｉ）では、各Ｍは独立して、アルミニウム、ホウ素、またはガリウムであり、下
付き文字ｎは、２、３、または４である。各Ｒは独立して、式（ＩＩ）を有するラジカル
、および式（ＩＩＩ）を有するラジカルからなる群から選択される。
付き文字ｎは、２、３、または４である。各Ｒは独立して、式（ＩＩ）を有するラジカル
、および式（ＩＩＩ）を有するラジカルからなる群から選択される。
【化5】
【0049】
式（ＩＩ）では、各Ｙは独立して、炭素またはケイ素であり、各Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ
１３は独立して、（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、－Ｈ、－ＮＲ
Ｎ ２、－ＯＲＣ、－ＳＲＣ、またはハロゲンから選択される。式（Ｉ）のいくつかの実施
形態では、各Ｒが式（ＩＩ）に従ったラジカルであり、Ｙが炭素であるとき、Ｒ１１、Ｒ
１２、またはＲ１３のうちの少なくとも１つは、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル
、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、または－Ｆである。式（Ｉ）の他の実施形態
では、Ｍがアルミニウムであり、ｎが４であり、各Ｒが式（ＩＩ）に従ったラジカルであ
り、各Ｙが炭素であるとき、（１）各Ｒのうちの各Ｒ１１、Ｒ１２、およびＲ１３は、ハ
ロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、もしく
は－Ｆであるか、または（２）各ＲのうちのＲ１１、Ｒ１２、およびＲ１３のフッ素原子
の総数は、少なくとも６である。
１３は独立して、（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、－Ｈ、－ＮＲ
Ｎ ２、－ＯＲＣ、－ＳＲＣ、またはハロゲンから選択される。式（Ｉ）のいくつかの実施
形態では、各Ｒが式（ＩＩ）に従ったラジカルであり、Ｙが炭素であるとき、Ｒ１１、Ｒ
１２、またはＲ１３のうちの少なくとも１つは、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル
、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、または－Ｆである。式（Ｉ）の他の実施形態
では、Ｍがアルミニウムであり、ｎが４であり、各Ｒが式（ＩＩ）に従ったラジカルであ
り、各Ｙが炭素であるとき、（１）各Ｒのうちの各Ｒ１１、Ｒ１２、およびＲ１３は、ハ
ロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、もしく
は－Ｆであるか、または（２）各ＲのうちのＲ１１、Ｒ１２、およびＲ１３のフッ素原子
の総数は、少なくとも６である。
【0050】
式（ＩＩＩ）では、各Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、およびＲ２５は独立して、
（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、－Ｈ、－ＮＲＮ ２、－ＯＲＣ、
－ＳＲＣ、またはハロゲンから選択される。Ｒが式（ＩＩＩ）に従ったラジカルであると
き、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、またはＲ２５のうちの少なくとも１つは、ハロゲ
ン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、または－Ｆ
である。
（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、－Ｈ、－ＮＲＮ ２、－ＯＲＣ、
－ＳＲＣ、またはハロゲンから選択される。Ｒが式（ＩＩＩ）に従ったラジカルであると
き、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、またはＲ２５のうちの少なくとも１つは、ハロゲ
ン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、または－Ｆ
である。
【0051】
式（Ｉ）のアニオンの１つ以上の実施形態では、下付き文字ｎは４であり、各Ｒ基は
独立して、－Ｃ（Ｈ）（ＣＦ３）２、－Ｃ６Ｆ５、または－Ｃ（ＣＦ３）３である。他の
実施形態では、下付き文字ｎは４であり、４つのＲ基のうちの３つは、－Ｃ（ＣＦ３）３
であり、４つのＲ基のうちの１つは、－Ｃ６Ｆ５である。いくつかの実施形態では、ｎは
３であり、Ｘは－ＯＨ、トリフラート（－ＯＴｆ）、メチル、またはハロゲンから選択さ
れる。
独立して、－Ｃ（Ｈ）（ＣＦ３）２、－Ｃ６Ｆ５、または－Ｃ（ＣＦ３）３である。他の
実施形態では、下付き文字ｎは４であり、４つのＲ基のうちの３つは、－Ｃ（ＣＦ３）３
であり、４つのＲ基のうちの１つは、－Ｃ６Ｆ５である。いくつかの実施形態では、ｎは
３であり、Ｘは－ＯＨ、トリフラート（－ＯＴｆ）、メチル、またはハロゲンから選択さ
れる。
【0052】
触媒系の１つ以上の実施形態では、式（Ｉ）のアニオンの２つのＸ基は共有結合して
おり、アニオンは式（ＩＶ）に従った構造を有する。
おり、アニオンは式（ＩＶ）に従った構造を有する。
【化6】
【0053】
式（ＩＶ）では、ＭおよびＸは、式（Ｉ）で定義されたとおりであり、下付き文字ｎ
は、１または２である。Ｌは、共有結合している２つの基Ｒを表し、各Ｌは独立して、（
Ｃ２－Ｃ４０）アルキレン、（Ｃ２－Ｃ４０）ヘテロアルキレン、または－（Ｓｉ（ＲＣ
）２－Ｏ）ｚ－Ｓｉ（ＲＣ）２－（式中、下付き文字ｚが、０、１、２、または３である
）から選択され、ＲＣは独立して、（Ｃ１－Ｃ３０）ヒドロカルビル、または－Ｈである
。式（ＩＶ）では、ｎは１であり、Ｘは、ハロゲン化－（Ｃ１－Ｃ２０）アルキルから独
立して選択された単座配位子である。
は、１または２である。Ｌは、共有結合している２つの基Ｒを表し、各Ｌは独立して、（
Ｃ２－Ｃ４０）アルキレン、（Ｃ２－Ｃ４０）ヘテロアルキレン、または－（Ｓｉ（ＲＣ
）２－Ｏ）ｚ－Ｓｉ（ＲＣ）２－（式中、下付き文字ｚが、０、１、２、または３である
）から選択され、ＲＣは独立して、（Ｃ１－Ｃ３０）ヒドロカルビル、または－Ｈである
。式（ＩＶ）では、ｎは１であり、Ｘは、ハロゲン化－（Ｃ１－Ｃ２０）アルキルから独
立して選択された単座配位子である。
【0054】
式（ＩＶ）のアニオンを含む触媒系の１つ以上の実施形態では、Ｌは、ハロゲン化ビ
フェニルジラジカルイオン、またはハロゲン化ナフタレンジイルである。ハロゲン化ビフ
ェニルジラジカルイオンは、各々のフェニル環上に単一のラジカルを有し得る。ハロゲン
化ナフタレンジイル上のジラジカルは、ナフタレンの４個以上の炭素原子によって分離さ
れていてもよい。
フェニルジラジカルイオン、またはハロゲン化ナフタレンジイルである。ハロゲン化ビフ
ェニルジラジカルイオンは、各々のフェニル環上に単一のラジカルを有し得る。ハロゲン
化ナフタレンジイル上のジラジカルは、ナフタレンの４個以上の炭素原子によって分離さ
れていてもよい。
【0055】
１つ以上の実施形態では、イオン性金属活性化剤錯体は、式（Ｉ）または（ＩＶ）に
従ったアニオン、および＋１の形式電荷を有する対カチオンを含む。金属イオン錯体のい
くつかの実施形態では、対カチオンは、プロトン化トリ［（Ｃ１－Ｃ４０）ヒドロカルビ
ル］アンモニウムカチオンから選択される。いくつかの実施形態では、対カチオンは、ア
ンモニウムカチオン上に１つまたは２つの（Ｃ１４－Ｃ２０）アルキル基を含有する、プ
ロトン化トリアルキルアンモニウムカチオンである。１つ以上の実施形態では、対カチオ
ンは、＋Ｎ（ＣＨ３）ＨＲＮ ２であり、式中、ＲＮが、（Ｃ１６－Ｃ１８）アルキルであ
る。他の実施形態では、対カチオンは、＋Ｎ（Ｈ）ＲＮ ３であり、式中、各ＲＮが、（Ｃ
１－Ｃ２０）アルキル、または（Ｃ６－Ｃ２０）アリールから選択される。１つ以上の実
施形態では、対カチオンは、＋Ｎ（Ｈ）ＲＮ ３であり、式中、少なくとも２つのＲＮが、
（Ｃ１０－Ｃ２０）アルキルから選択される。１つ以上の実施形態では、対カチオンは、
＋Ｎ（Ｈ）ＲＮ ３であり、式中、ＲＮが、（Ｃ１６－Ｃ１８）アルキルである。いくつか
の実施形態では、対カチオンは、メチルジ（オクタデシル）アンモニウムカチオン、メチ
ル（オクタデシル）（ヘキサデシル）アンモニウムカチオン、メチルジ（ヘキサデシル）
アンモニウムカチオン、またはメチルジ（テトラデシル）アンモニウムカチオンから選択
される。メチルジ（オクタデシル）アンモニウムカチオン、メチル（オクタデシル）（ヘ
キサデシル）アンモニウムカチオン、メチルジ（ヘキサデシル）アンモニウムカチオン、
またはメチルジ（テトラデシル）アンモニウムカチオンは、本明細書ではまとめてアーメ
ーニウム（ａｒｍｅｅｎｉｕｍ）カチオンと称される。アーメーニウムカチオンを有する
イオン性化合物は、Ａｋｚｏ－ＮｏｂｅｌからＡｒｍｅｅｎ（商標）の商品名で入手可能
な例えばＡｒｍｅｅｎ（商標）Ｍ２ＨＴである、メチルジ（オクタデシル）アミン、メチ
ル（オクタデシル）（ヘキサデシル）アミン、メチルジ（ヘキサデシル）アミン、または
メチルジ（テトラデシル）アミンを、（例えば、エーテル中の無水ＨＣｌで）プロトン化
することによって容易に形成される。他の実施形態では、対カチオンは、トリチルフェニ
ルメチルカルボカチオン（＋Ｃ（Ｃ６Ｈ５）３）であり、トリチルとも称される。１つ以
上の実施形態では、対カチオンは、＋Ｃ（Ｃ６Ｈ４ＲＣ）３などのトリス－置換－トリフ
ェニルメチルカルボカチオンであり、式中、各ＲＣが独立して、（Ｃ１－Ｃ３０）アルキ
ルから選択される。他の実施形態では、対カチオンは、アニリニウム、フェロセニウム、
またはアルミノセニウムから選択される。アニリニウムカチオンは、［ＨＮ（ＲＳ）（Ｒ
Ｎ）２］＋などのプロトン化窒素カチオンであり、式中、ＲＮが、（Ｃ１－Ｃ２０）アル
キル、またはＨであり、ＲＳが、（Ｃ６－Ｃ２０）アリールから選択され、各アルキルま
たはアリールは、－ＯＲＣ、例えばＣ６Ｈ５ＮＭｅ２Ｈ＋、または［Ｈ３Ｎ（Ｃ６Ｈ５）
］＋でさらに置換されていてもよい。アルミノセニウムは、ＲＳ ２Ａｌ（Ｈ）（ＴＨＦ）
２ ＋、またはＲＳＡｌ（Ｈ）（ＴＨＦ）２ ＋などのプロトン化アルミニウムカチオンであ
り、式中、ＲＳが、（Ｃ１－Ｃ３０）アルキルから選択される。
従ったアニオン、および＋１の形式電荷を有する対カチオンを含む。金属イオン錯体のい
くつかの実施形態では、対カチオンは、プロトン化トリ［（Ｃ１－Ｃ４０）ヒドロカルビ
ル］アンモニウムカチオンから選択される。いくつかの実施形態では、対カチオンは、ア
ンモニウムカチオン上に１つまたは２つの（Ｃ１４－Ｃ２０）アルキル基を含有する、プ
ロトン化トリアルキルアンモニウムカチオンである。１つ以上の実施形態では、対カチオ
ンは、＋Ｎ（ＣＨ３）ＨＲＮ ２であり、式中、ＲＮが、（Ｃ１６－Ｃ１８）アルキルであ
る。他の実施形態では、対カチオンは、＋Ｎ（Ｈ）ＲＮ ３であり、式中、各ＲＮが、（Ｃ
１－Ｃ２０）アルキル、または（Ｃ６－Ｃ２０）アリールから選択される。１つ以上の実
施形態では、対カチオンは、＋Ｎ（Ｈ）ＲＮ ３であり、式中、少なくとも２つのＲＮが、
（Ｃ１０－Ｃ２０）アルキルから選択される。１つ以上の実施形態では、対カチオンは、
＋Ｎ（Ｈ）ＲＮ ３であり、式中、ＲＮが、（Ｃ１６－Ｃ１８）アルキルである。いくつか
の実施形態では、対カチオンは、メチルジ（オクタデシル）アンモニウムカチオン、メチ
ル（オクタデシル）（ヘキサデシル）アンモニウムカチオン、メチルジ（ヘキサデシル）
アンモニウムカチオン、またはメチルジ（テトラデシル）アンモニウムカチオンから選択
される。メチルジ（オクタデシル）アンモニウムカチオン、メチル（オクタデシル）（ヘ
キサデシル）アンモニウムカチオン、メチルジ（ヘキサデシル）アンモニウムカチオン、
またはメチルジ（テトラデシル）アンモニウムカチオンは、本明細書ではまとめてアーメ
ーニウム（ａｒｍｅｅｎｉｕｍ）カチオンと称される。アーメーニウムカチオンを有する
イオン性化合物は、Ａｋｚｏ－ＮｏｂｅｌからＡｒｍｅｅｎ（商標）の商品名で入手可能
な例えばＡｒｍｅｅｎ（商標）Ｍ２ＨＴである、メチルジ（オクタデシル）アミン、メチ
ル（オクタデシル）（ヘキサデシル）アミン、メチルジ（ヘキサデシル）アミン、または
メチルジ（テトラデシル）アミンを、（例えば、エーテル中の無水ＨＣｌで）プロトン化
することによって容易に形成される。他の実施形態では、対カチオンは、トリチルフェニ
ルメチルカルボカチオン（＋Ｃ（Ｃ６Ｈ５）３）であり、トリチルとも称される。１つ以
上の実施形態では、対カチオンは、＋Ｃ（Ｃ６Ｈ４ＲＣ）３などのトリス－置換－トリフ
ェニルメチルカルボカチオンであり、式中、各ＲＣが独立して、（Ｃ１－Ｃ３０）アルキ
ルから選択される。他の実施形態では、対カチオンは、アニリニウム、フェロセニウム、
またはアルミノセニウムから選択される。アニリニウムカチオンは、［ＨＮ（ＲＳ）（Ｒ
Ｎ）２］＋などのプロトン化窒素カチオンであり、式中、ＲＮが、（Ｃ１－Ｃ２０）アル
キル、またはＨであり、ＲＳが、（Ｃ６－Ｃ２０）アリールから選択され、各アルキルま
たはアリールは、－ＯＲＣ、例えばＣ６Ｈ５ＮＭｅ２Ｈ＋、または［Ｈ３Ｎ（Ｃ６Ｈ５）
］＋でさらに置換されていてもよい。アルミノセニウムは、ＲＳ ２Ａｌ（Ｈ）（ＴＨＦ）
２ ＋、またはＲＳＡｌ（Ｈ）（ＴＨＦ）２ ＋などのプロトン化アルミニウムカチオンであ
り、式中、ＲＳが、（Ｃ１－Ｃ３０）アルキルから選択される。
【0056】
１つ以上の実施形態では、高沸点完全飽和炭化水素中に、２００マイクロモルの濃度
の金属活性化剤錯体および１８ミリモルの水を含有する、高沸点完全飽和炭化水素溶液中
のイオン性金属活性化剤錯体は、炭化水素導電率試験によって測定すると、０．１以下の
誘電正接を有する。いくつかの実施形態では、同じ様式で測定された金属活性化剤錯体の
誘電正接は、０．０５以下、０．０３以下、または０．０２５以下の誘電正接を有する。
高沸点完全飽和炭化水素溶液（「炭化水素溶液」）は、高沸点完全飽和炭化水素溶媒、水
、およびイオン性金属活性化剤錯体を含む。高沸点完全飽和炭化水素溶媒としては、約１
５０℃～約１９０℃の沸点を有する溶媒を上げることができる。そのような高沸点完全飽
和炭化水素溶媒の例としては、例えば、スクアラン、ドデカン、エイコサン、またはトリ
アコンタンが挙げられる。
の金属活性化剤錯体および１８ミリモルの水を含有する、高沸点完全飽和炭化水素溶液中
のイオン性金属活性化剤錯体は、炭化水素導電率試験によって測定すると、０．１以下の
誘電正接を有する。いくつかの実施形態では、同じ様式で測定された金属活性化剤錯体の
誘電正接は、０．０５以下、０．０３以下、または０．０２５以下の誘電正接を有する。
高沸点完全飽和炭化水素溶液（「炭化水素溶液」）は、高沸点完全飽和炭化水素溶媒、水
、およびイオン性金属活性化剤錯体を含む。高沸点完全飽和炭化水素溶媒としては、約１
５０℃～約１９０℃の沸点を有する溶媒を上げることができる。そのような高沸点完全飽
和炭化水素溶媒の例としては、例えば、スクアラン、ドデカン、エイコサン、またはトリ
アコンタンが挙げられる。
【0057】
本開示に従った重合プロセスによって生成されたポリオレフィンエラストマー、特に
式（Ｉ）に従ったイオン性金属活性化剤錯体によって生成されたポリオレフィンエラスト
マーの電気的特性は、炭化水素導電率（ＨＣ）試験によって、他のポリオレフィンエラス
トマーの電気的特性と比較して評価することができる。ＨＣ試験は、メチルジ（（Ｃ１４
－Ｃ２０）アルキル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなど
の比較活性化剤によって生成されるポリオレフィンエラストマーと、本開示のイオン性金
属活性化剤イオン錯体によって生成されるポリオレフィンエラストマーとの間の電気的特
性の違いを模擬実験する。ＨＣ試験では、活性化剤を高沸点完全飽和炭化水素溶媒中に室
温で溶解させる。（室温は、およそ２２．０±２．５℃である。）
式（Ｉ）に従ったイオン性金属活性化剤錯体によって生成されたポリオレフィンエラスト
マーの電気的特性は、炭化水素導電率（ＨＣ）試験によって、他のポリオレフィンエラス
トマーの電気的特性と比較して評価することができる。ＨＣ試験は、メチルジ（（Ｃ１４
－Ｃ２０）アルキル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなど
の比較活性化剤によって生成されるポリオレフィンエラストマーと、本開示のイオン性金
属活性化剤イオン錯体によって生成されるポリオレフィンエラストマーとの間の電気的特
性の違いを模擬実験する。ＨＣ試験では、活性化剤を高沸点完全飽和炭化水素溶媒中に室
温で溶解させる。（室温は、およそ２２．０±２．５℃である。）
【0058】
ＨＣ試験では、炭化水素試料の誘電正接（６０Ｈｚ）および導電率を測定する。Ｎｏ
ｖｏｃｏｎｔｒｏｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓの広帯域誘電分光計（Ａｌｐｈａ－Ａ）
を使用する標準的な方法を使用して、炭化水素試料の各々を測定する。すべての試料調製
ステップおよび測定は、穏やかな加熱以外、室温で実施した。
ｖｏｃｏｎｔｒｏｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓの広帯域誘電分光計（Ａｌｐｈａ－Ａ）
を使用する標準的な方法を使用して、炭化水素試料の各々を測定する。すべての試料調製
ステップおよび測定は、穏やかな加熱以外、室温で実施した。
【0059】
ＨＣ試験用の炭化水素試料を調製するために、およそ１０ｍＬの炭化水素溶媒に一定
量の活性化剤を添加して、溶液中およそ２００μＭの活性化剤の濃度を有する試料を作り
出す。含水炭化水素試料では、脱イオン水を添加して、およそ２０ｍＭの濃度を得、一定
量の活性化剤を添加して、２００μＭの活性化剤炭化水素溶液を得る。すべての試料を２
５０℃まで穏やかに加熱して、水および残留する低沸点の溶媒を除去する。誘電正接およ
び導電率を測定する。
量の活性化剤を添加して、溶液中およそ２００μＭの活性化剤の濃度を有する試料を作り
出す。含水炭化水素試料では、脱イオン水を添加して、およそ２０ｍＭの濃度を得、一定
量の活性化剤を添加して、２００μＭの活性化剤炭化水素溶液を得る。すべての試料を２
５０℃まで穏やかに加熱して、水および残留する低沸点の溶媒を除去する。誘電正接およ
び導電率を測定する。
【0060】
触媒系中の１つ以上の第ＩＶ族金属－配位子錯体の総モル数対触媒系中の１つ以上の
イオン性金属活性化剤錯体の総モル数の比は、１：１０，０００～１００：１である。
イオン性金属活性化剤錯体の総モル数の比は、１：１０，０００～１００：１である。
【0061】
例示的な実施形態では、触媒系は、アニオンおよび対カチオンを含むイオン性金属活
性化剤錯体を含み得、アニオンは式（Ｉ）に従う。例示的な実施形態は、本開示に記載の
対カチオンと錯体を形成したアニオン構造を含み、次の構造を有する。
性化剤錯体を含み得、アニオンは式（Ｉ）に従う。例示的な実施形態は、本開示に記載の
対カチオンと錯体を形成したアニオン構造を含み、次の構造を有する。
【化7】
【0062】
ポリマーの電気的特性
ポリマー材料などの媒体の電気絶縁効率は、媒体の電気抵抗および媒体の電気損失を
考慮して評価することができる。電気損失は、電場の存在下で、絶縁媒体が電気的に絶縁
する効率を低下させる。抵抗は、電力または電気損失に逆相関するため、絶縁媒体の抵抗
は、交流（ＡＣ）システムと直流（ＤＣ）システムとの両方で可能な限り高くする必要が
ある。
ポリマー材料などの媒体の電気絶縁効率は、媒体の電気抵抗および媒体の電気損失を
考慮して評価することができる。電気損失は、電場の存在下で、絶縁媒体が電気的に絶縁
する効率を低下させる。抵抗は、電力または電気損失に逆相関するため、絶縁媒体の抵抗
は、交流（ＡＣ）システムと直流（ＤＣ）システムとの両方で可能な限り高くする必要が
ある。
【0063】
ポリマー材料などの絶縁媒体に封入された光起電デバイスなどのＤＣシステムでは、
電気損失は、封入されたデバイスから封入剤を通って外部環境への漏れ電流として現れる
。この電流（Ｉ）は、絶縁媒体の電圧（Ｖ）に相関し、等式Ｉ＝Ｖ×Ｒ－１に従って、絶
縁媒体の抵抗（Ｒ）に逆相関する。したがって、抵抗が高いほど、電流および漏れ電流は
少なくなる。
電気損失は、封入されたデバイスから封入剤を通って外部環境への漏れ電流として現れる
。この電流（Ｉ）は、絶縁媒体の電圧（Ｖ）に相関し、等式Ｉ＝Ｖ×Ｒ－１に従って、絶
縁媒体の抵抗（Ｒ）に逆相関する。したがって、抵抗が高いほど、電流および漏れ電流は
少なくなる。
【0064】
ケーブル絶縁体などの絶縁媒体を含むＡＣシステムでは、電気損失は、電場の存在下
での絶縁媒体によるエネルギーの吸収として現れる。電力（Ｐ）で測定するこの損失は、
等式Ｐ＝Ｖ２×ω×Ｃ×ε′×ｔａｎδによって決定され、式中、ωが角周波数であり、
ε’が、比誘電率であり、Ｃが、キャパシタンスであり、ｔａｎδが、誘電正接であり、
ｔａｎδ＝（Ｃ×Ｒ×ω）－１であり、等式Ｐ＝Ｖ２×ε′×Ｒ－１を生じる。抵抗は電
力損失に逆相関するため、抵抗が高いほど電力損失は低くなる。
での絶縁媒体によるエネルギーの吸収として現れる。電力（Ｐ）で測定するこの損失は、
等式Ｐ＝Ｖ２×ω×Ｃ×ε′×ｔａｎδによって決定され、式中、ωが角周波数であり、
ε’が、比誘電率であり、Ｃが、キャパシタンスであり、ｔａｎδが、誘電正接であり、
ｔａｎδ＝（Ｃ×Ｒ×ω）－１であり、等式Ｐ＝Ｖ２×ε′×Ｒ－１を生じる。抵抗は電
力損失に逆相関するため、抵抗が高いほど電力損失は低くなる。
【0065】
媒体の電気抵抗は、一般に、外部電場によって引き起こされるイオン拡散の結果とし
て減少する。イオン拡散が電気的応答よりも優勢であるシステムでは、抵抗は、等式Ｒ＝
６×π×ε′×ε０×η×ｒ×Ｃ－１×ｑ－２×Ｎ－１に従ってイオン拡散に相関し、式
中、ε０が、真空誘電率（８．８５４×１０－１２Ｆ・ｍ－１）であり、ηが、媒体の動
粘度であり、ｒがイオンの流体力学的半径であり、ｑが、イオンの電荷であり、Ｎが、イ
オンの濃度である。抵抗の増加はエネルギー損失を減少させ、イオン濃度の減少は抵抗を
増加させるため、媒体を通じて拡散するイオンの濃度の低減は、エネルギー損失を減少さ
せる。
て減少する。イオン拡散が電気的応答よりも優勢であるシステムでは、抵抗は、等式Ｒ＝
６×π×ε′×ε０×η×ｒ×Ｃ－１×ｑ－２×Ｎ－１に従ってイオン拡散に相関し、式
中、ε０が、真空誘電率（８．８５４×１０－１２Ｆ・ｍ－１）であり、ηが、媒体の動
粘度であり、ｒがイオンの流体力学的半径であり、ｑが、イオンの電荷であり、Ｎが、イ
オンの濃度である。抵抗の増加はエネルギー損失を減少させ、イオン濃度の減少は抵抗を
増加させるため、媒体を通じて拡散するイオンの濃度の低減は、エネルギー損失を減少さ
せる。
【0066】
所与の媒体を通じて拡散するイオンの能力は、イオンのサイズ、イオンの電荷、イオ
ンと周囲の媒体との相互作用、および利用可能な対イオンとのイオンの解離エネルギーに
よって影響を受ける。すべてのイオンが所与の媒体を通じて等しく拡散するわけではない
ため、媒体がポリマーであると、イオンの拡散率は、一般にポリマーの絶縁能力に影響を
与える。理論によって束縛されることを意図するわけではないが、式（Ｉ）のイオン性金
属活性化剤錯体のアニオンが、生成されたポリマーを通じて拡散する能力が低いため、本
開示の触媒系から生成されたポリマーは、電気損失の減少などの望ましい電気的特性を有
すると考えられる。
ンと周囲の媒体との相互作用、および利用可能な対イオンとのイオンの解離エネルギーに
よって影響を受ける。すべてのイオンが所与の媒体を通じて等しく拡散するわけではない
ため、媒体がポリマーであると、イオンの拡散率は、一般にポリマーの絶縁能力に影響を
与える。理論によって束縛されることを意図するわけではないが、式（Ｉ）のイオン性金
属活性化剤錯体のアニオンが、生成されたポリマーを通じて拡散する能力が低いため、本
開示の触媒系から生成されたポリマーは、電気損失の減少などの望ましい電気的特性を有
すると考えられる。
【0067】
触媒系成分
触媒系としては、プロ触媒を挙げることができる。プロ触媒は、式（Ｉ）のアニオン
および対カチオンを有する金属活性化剤に錯体を接触させるか、または金属活性化剤と錯
体を組み合わせることによって、触媒的に活性になることができる。プロ触媒は、チタン
（Ｔｉ）金属－配位子錯体、ジルコニウム（Ｚｒ）金属－配位子錯体、またはハフニウム
（Ｈｆ）金属－配位子錯体などの、第ＩＶ属金属（ＣＡＳに従った第ＩＶＢ族、またはＩ
ＵＰＡＣ命名規則に従った第４族）－配位子錯体から選択することができる。プロ触媒の
非限定的な例としては、触媒、プロ触媒、またはエチレン系ポリマーを重合するための触
媒活性化合物が挙げられ、ＵＳ８３７２９２７、ＷＯ２０１０／０２２２２８、ＷＯ２０
１１／１０２９８９、ＵＳ６９５３７６４、ＵＳ６９００３２１、ＷＯ２０１７／１７３
０８０、ＵＳ７６５０９３０、ＵＳ６７７７５０９、ＷＯ９９／４１２９４、ＵＳ６８６
９９０４、またはＷＯ２００７／１３６４９６のうちの１つ以上に開示されており、これ
らの文書はすべて、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
触媒系としては、プロ触媒を挙げることができる。プロ触媒は、式（Ｉ）のアニオン
および対カチオンを有する金属活性化剤に錯体を接触させるか、または金属活性化剤と錯
体を組み合わせることによって、触媒的に活性になることができる。プロ触媒は、チタン
（Ｔｉ）金属－配位子錯体、ジルコニウム（Ｚｒ）金属－配位子錯体、またはハフニウム
（Ｈｆ）金属－配位子錯体などの、第ＩＶ属金属（ＣＡＳに従った第ＩＶＢ族、またはＩ
ＵＰＡＣ命名規則に従った第４族）－配位子錯体から選択することができる。プロ触媒の
非限定的な例としては、触媒、プロ触媒、またはエチレン系ポリマーを重合するための触
媒活性化合物が挙げられ、ＵＳ８３７２９２７、ＷＯ２０１０／０２２２２８、ＷＯ２０
１１／１０２９８９、ＵＳ６９５３７６４、ＵＳ６９００３２１、ＷＯ２０１７／１７３
０８０、ＵＳ７６５０９３０、ＵＳ６７７７５０９、ＷＯ９９／４１２９４、ＵＳ６８６
９９０４、またはＷＯ２００７／１３６４９６のうちの１つ以上に開示されており、これ
らの文書はすべて、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
【0068】
１つ以上の実施形態では、第ＩＶ族金属－配位子プロ触媒錯体としては、ビス（フェ
ニルフェノキシ）第ＩＶ族金属－配位子錯体、または拘束された形状の第ＩＶ族金属－配
位子錯体が挙げられる。
ニルフェノキシ）第ＩＶ族金属－配位子錯体、または拘束された形状の第ＩＶ族金属－配
位子錯体が挙げられる。
【0069】
いくつかの実施形態によれば、第ＩＶ族金属－配位子プロ触媒錯体は、式（Ｘ）に従
ったビス（フェニルフェノキシ）構造を含み得る。
ったビス（フェニルフェノキシ）構造を含み得る。
【化8】
【0070】
式（Ｘ）では、Ｍは、チタン、ジルコニウム、またはハフニウムから選択された金属
であり、金属が、＋２、＋３、または＋４の形式的酸化状態にある。（Ｘ）ｎの下付き文
字ｎは、０、１、または２である。下付き文字ｎが１のとき、Ｘは、単座配位子または二
座配位子であり、下付き文字ｎが２のとき、各Ｘは、単座配位子である。Ｌは、（Ｃ１－
Ｃ４０）ヒドロカルビレン、（Ｃ１－Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン、－Ｓｉ（ＲＣ）
２－、－Ｓｉ（ＲＣ）２ＯＳｉ（ＲＣ）２－、－Ｓｉ（ＲＣ）２Ｃ（ＲＣ）２－、－Ｓｉ
（ＲＣ）２Ｓｉ（ＲＣ）２－、－Ｓｉ（ＲＣ）２Ｃ（ＲＣ）２Ｓｉ（ＲＣ）２－、－Ｃ（
ＲＣ）２Ｓｉ（ＲＣ）２Ｃ（ＲＣ）２－、－Ｎ（ＲＮ）Ｃ（ＲＣ）２－、－Ｎ（ＲＮ）Ｎ
（ＲＮ）－、－Ｃ（ＲＣ）２Ｎ（ＲＮ）Ｃ（ＲＣ）２－、－Ｇｅ（ＲＣ）２－、－Ｐ（Ｒ
Ｐ）－、－Ｎ（ＲＮ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）２－、－Ｎ＝Ｃ（
ＲＣ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）－、および－Ｎ（ＲＣ
）Ｃ（Ｏ）－からなる群から選択された、ジラジカルである。各Ｚは独立して、－Ｏ－、
－Ｓ－、－Ｎ（ＲＮ）－、または－Ｐ（ＲＰ）－から選択され、Ｒ２－Ｒ４、Ｒ５－Ｒ－
８、Ｒ９－Ｒ１２、およびＲ１３－Ｒ１５は独立して、－Ｈ、（Ｃ１－Ｃ４０）ヒドロカ
ルビル、（Ｃ１－Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル、－Ｓｉ（ＲＣ）３、－Ｇｅ（ＲＣ）３
、－Ｐ（ＲＰ）２、－Ｎ（ＲＮ）２、－ＯＲＣ、－ＳＲＣ、－ＮＯ２、－ＣＮ、－ＣＦ３
、ＲＣＳ（Ｏ）－、ＲＣＳ（Ｏ）２－、－Ｎ＝Ｃ（ＲＣ）２、ＲＣＣ（Ｏ）Ｏ－、ＲＣＯ
Ｃ（Ｏ）－、ＲＣＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）－、（ＲＣ）２ＮＣ（Ｏ）－、およびハロゲンからな
る群から選択される。Ｒ１およびＲ１６は、式（ＸＩ）を有するラジカル、式（ＸＩＩ）
を有するラジカル、および式（ＸＩＩＩ）を有するラジカルから選択される。
であり、金属が、＋２、＋３、または＋４の形式的酸化状態にある。（Ｘ）ｎの下付き文
字ｎは、０、１、または２である。下付き文字ｎが１のとき、Ｘは、単座配位子または二
座配位子であり、下付き文字ｎが２のとき、各Ｘは、単座配位子である。Ｌは、（Ｃ１－
Ｃ４０）ヒドロカルビレン、（Ｃ１－Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン、－Ｓｉ（ＲＣ）
２－、－Ｓｉ（ＲＣ）２ＯＳｉ（ＲＣ）２－、－Ｓｉ（ＲＣ）２Ｃ（ＲＣ）２－、－Ｓｉ
（ＲＣ）２Ｓｉ（ＲＣ）２－、－Ｓｉ（ＲＣ）２Ｃ（ＲＣ）２Ｓｉ（ＲＣ）２－、－Ｃ（
ＲＣ）２Ｓｉ（ＲＣ）２Ｃ（ＲＣ）２－、－Ｎ（ＲＮ）Ｃ（ＲＣ）２－、－Ｎ（ＲＮ）Ｎ
（ＲＮ）－、－Ｃ（ＲＣ）２Ｎ（ＲＮ）Ｃ（ＲＣ）２－、－Ｇｅ（ＲＣ）２－、－Ｐ（Ｒ
Ｐ）－、－Ｎ（ＲＮ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）２－、－Ｎ＝Ｃ（
ＲＣ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）－、および－Ｎ（ＲＣ
）Ｃ（Ｏ）－からなる群から選択された、ジラジカルである。各Ｚは独立して、－Ｏ－、
－Ｓ－、－Ｎ（ＲＮ）－、または－Ｐ（ＲＰ）－から選択され、Ｒ２－Ｒ４、Ｒ５－Ｒ－
８、Ｒ９－Ｒ１２、およびＲ１３－Ｒ１５は独立して、－Ｈ、（Ｃ１－Ｃ４０）ヒドロカ
ルビル、（Ｃ１－Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル、－Ｓｉ（ＲＣ）３、－Ｇｅ（ＲＣ）３
、－Ｐ（ＲＰ）２、－Ｎ（ＲＮ）２、－ＯＲＣ、－ＳＲＣ、－ＮＯ２、－ＣＮ、－ＣＦ３
、ＲＣＳ（Ｏ）－、ＲＣＳ（Ｏ）２－、－Ｎ＝Ｃ（ＲＣ）２、ＲＣＣ（Ｏ）Ｏ－、ＲＣＯ
Ｃ（Ｏ）－、ＲＣＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）－、（ＲＣ）２ＮＣ（Ｏ）－、およびハロゲンからな
る群から選択される。Ｒ１およびＲ１６は、式（ＸＩ）を有するラジカル、式（ＸＩＩ）
を有するラジカル、および式（ＸＩＩＩ）を有するラジカルから選択される。
【化9】
【0071】
式（ＸＩ）、（ＸＩＩ）、および（ＸＩＩＩ）では、Ｒ３１－Ｒ３５、Ｒ４１－Ｒ４
８、およびＲ５１－Ｒ５９の各々は独立して、－Ｈ、（Ｃ１－Ｃ４０）ヒドロカルビル、
（Ｃ１－Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル、－Ｓｉ（ＲＣ）３、－Ｇｅ（ＲＣ）３、－Ｐ（
ＲＰ）２、－Ｎ（ＲＮ）２、－ＯＲＣ、－ＳＲＣ、－ＮＯ２、－ＣＮ、－ＣＦ３、ＲＣＳ
（Ｏ）－、ＲＣＳ（Ｏ）２－、（ＲＣ）２Ｃ＝Ｎ－、ＲＣＣ（Ｏ）Ｏ－、ＲＣＯＣ（Ｏ）
－、ＲＣＣ（Ｏ）Ｎ（ＲＮ）－、（ＲＣ）２ＮＣ（Ｏ）－、またはハロゲンから選択され
る。
８、およびＲ５１－Ｒ５９の各々は独立して、－Ｈ、（Ｃ１－Ｃ４０）ヒドロカルビル、
（Ｃ１－Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル、－Ｓｉ（ＲＣ）３、－Ｇｅ（ＲＣ）３、－Ｐ（
ＲＰ）２、－Ｎ（ＲＮ）２、－ＯＲＣ、－ＳＲＣ、－ＮＯ２、－ＣＮ、－ＣＦ３、ＲＣＳ
（Ｏ）－、ＲＣＳ（Ｏ）２－、（ＲＣ）２Ｃ＝Ｎ－、ＲＣＣ（Ｏ）Ｏ－、ＲＣＯＣ（Ｏ）
－、ＲＣＣ（Ｏ）Ｎ（ＲＮ）－、（ＲＣ）２ＮＣ（Ｏ）－、またはハロゲンから選択され
る。
【0072】
１つ以上の実施形態では、各Ｘは、任意の他の配位子Ｘから独立して、ハロゲン、非
置換（Ｃ１－Ｃ２０）ヒドロカルビル、非置換（Ｃ１－Ｃ２０）ヒドロカルビルＣ（Ｏ）
Ｏ－、またはＲＫＲＬＮ－である単座配位子であり得、式中、ＲＫおよびＲＬの各々が独
立して、非置換（Ｃ１－Ｃ２０）ヒドロカルビルである。
置換（Ｃ１－Ｃ２０）ヒドロカルビル、非置換（Ｃ１－Ｃ２０）ヒドロカルビルＣ（Ｏ）
Ｏ－、またはＲＫＲＬＮ－である単座配位子であり得、式中、ＲＫおよびＲＬの各々が独
立して、非置換（Ｃ１－Ｃ２０）ヒドロカルビルである。
【0073】
式（Ｘ）に従った例示的なビス（フェニルフェノキシ）金属－配位子錯体としては、
例えば、
例えば、
【0074】
（２’，２”－（プロパン－１，３－ジイルビス（オキシ））ビス（５’－クロロ
－３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－オクチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－メ
チル－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジ
メチル－ハフニウム；
－３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－オクチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－メ
チル－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジ
メチル－ハフニウム；
【0075】
（２’，２”－（プロパン－１，３－ジイルビス（オキシ））ビス（３－（３，６－
ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－クロロ－５－（２，４
，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチル－ハフニウム
；
ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－クロロ－５－（２，４
，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチル－ハフニウム
；
【0076】
（２’，２”－（プロパン－１，３－ジイルビス（オキシ））ビス（３’－クロロ－
３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－５’－フルオ
ロ－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメ
チル－ハフニウム；
３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－５’－フルオ
ロ－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメ
チル－ハフニウム；
【0077】
（２’，２”－（プロパン－１，３－ジイルビス（オキシ））ビス（３－（３，６－
ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－メチル－５－（２，４
，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチル－ハフニウム
；
ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－メチル－５－（２，４
，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチル－ハフニウム
；
【0078】
（２’，２”－（プロパン－１，３－ジイルビス（オキシ））ビス（５’－シアノ－
３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－メチル
－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチ
ル－ハフニウム；
３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－メチル
－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチ
ル－ハフニウム；
【0079】
（２’，２”－（プロパン－１，３－ジイルビス（オキシ））ビス（５’－ジメチル
アミノ－３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’
－メチル－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール
）ジメチル－ハフニウム；
アミノ－３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’
－メチル－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール
）ジメチル－ハフニウム；
【0080】
（２’，２”－（プロパン－１，３－ジイルビス（オキシ））ビス（３’，５’－ジ
メチル－３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－５－
（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチル－ハ
フニウム；
メチル－３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－５－
（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチル－ハ
フニウム；
【0081】
（２’，２”－（プロパン－１，３－ジイルビス（オキシ））ビス（５’－クロロ－
３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－エチル
－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチ
ル－ハフニウム；
３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－エチル
－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチ
ル－ハフニウム；
【0082】
（２’，２”－（プロパン－１，３－ジイルビス（オキシ））ビス（３－（３，６－
ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－メチル－５’－ｔｅｒ
ｔ－ブチル－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オー
ル）ジメチル－ハフニウム；
ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－メチル－５’－ｔｅｒ
ｔ－ブチル－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オー
ル）ジメチル－ハフニウム；
【0083】
（２’，２”－（プロパン－１，３－ジイルビス（オキシ））ビス（３－（３，６－
ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－５’－フルオロ－３’－メチ
ル－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメ
チル－ハフニウム；
ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－５’－フルオロ－３’－メチ
ル－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメ
チル－ハフニウム；
【0084】
（２’，２”－（プロパン－１，３－ジイルビス（オキシ））ビス（３－（９Ｈ－カ
ルバゾール－９－イル）－５’－クロロ－３’－メチル－５－（２，４，４－トリメチル
ペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチル－ハフニウム；
ルバゾール－９－イル）－５’－クロロ－３’－メチル－５－（２，４，４－トリメチル
ペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチル－ハフニウム；
【0085】
（２’，２”－（プロパン－１，３－ジイルビス（オキシ））ビス（３－（３，６－
ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－メチル－５’－トリフ
ルオロメチル－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オ
ール）ジメチル－ハフニウム；
ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－メチル－５’－トリフ
ルオロメチル－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オ
ール）ジメチル－ハフニウム；
【0086】
（２’，２”－（２，２－ジメチル－２－シラプロパン－１，３－ジイルビス（オキ
シ））ビス（３’，５’－ジクロロ－３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カル
バゾール－９－イル）－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル
－２－オール）ジメチル－ハフニウム；
シ））ビス（３’，５’－ジクロロ－３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カル
バゾール－９－イル）－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル
－２－オール）ジメチル－ハフニウム；
【0087】
（２’２”－（２，２－ジメチル－２－シラプロパン－１－ジイルビス（オキシ））
ビス（５’－クロロ－３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９－カルバゾール－９－イ
ル）－３’－メチル－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－
２－オール）ジメチル－ハフニウム；
ビス（５’－クロロ－３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９－カルバゾール－９－イ
ル）－３’－メチル－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－
２－オール）ジメチル－ハフニウム；
【0088】
（２’，２”－（プロパン－１，３－ジイルビス（オキシ））ビス（３’－ブロモ－
５’－クロロ－３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）
－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチ
ル－ハフニウム；
５’－クロロ－３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）
－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチ
ル－ハフニウム；
【0089】
（２’，２”－（プロパン－１，３－ジイルビス（オキシ））－（５’－クロロ－３
－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－フルオロ
－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）－（３
”，５”－ジクロロ－３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－
イル）－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）
ジメチル－ハフニウム；
－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－フルオロ
－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）－（３
”，５”－ジクロロ－３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－
イル）－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）
ジメチル－ハフニウム；
【0090】
（２’，２”－（プロパン－１，３－ジイルビス（オキシ））ビス（３－（３，６－
ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－５’－フルオロ－３’－トリ
フルオロメチル－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－
オール）ジメチル－ハフニウム；
ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－５’－フルオロ－３’－トリ
フルオロメチル－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－
オール）ジメチル－ハフニウム；
【0091】
（２’，２”－（ブタン－１，４－ジイルビス（オキシ））ビス（５’－クロロ－３
－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－メチル－
５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチル
－ハフニウム；
－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－メチル－
５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチル
－ハフニウム；
【0092】
（２’，２”－（エタン－１，２－ジイルビス（オキシ））ビス（５’－クロロ－３
－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－メチル－
５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチル
－ハフニウム；
－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－メチル－
５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチル
－ハフニウム；
【0093】
（２’，２”－（プロパン－１，３－ジイルビス（オキシ））ビス（５’－クロロ－
３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－メチル
－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチ
ル－ジルコニウム；
３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－メチル
－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチ
ル－ジルコニウム；
【0094】
（２’，２”－（プロパン－１，３－ジイルビス（オキシ））ビス（３－（３，６－
ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’，５’－ジクロロ－５－
（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチル－チ
タン；および
ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’，５’－ジクロロ－５－
（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチル－チ
タン；および
【0095】
（２’，２”－（プロパン－１，３－ジイルビス（オキシ））ビス（５’－クロロ－
３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－メチル
－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチ
ル－チタンが挙げられる。
３－（３，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－３’－メチル
－５－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）ビフェニル－２－オール）ジメチ
ル－チタンが挙げられる。
【0096】
本開示の触媒系において、金属活性化剤と組み合わせて使用することができる他のビ
ス（フェニルフェノキシ）金属－配位子錯体は、当業者には明らかであろう。
ス（フェニルフェノキシ）金属－配位子錯体は、当業者には明らかであろう。
【0097】
いくつかの実施形態によれば、第ＩＶ族金属－配位子錯体は、式（ＸＩＶ）に従った
シクロペンタジエニルプロ触媒を含み得る。
シクロペンタジエニルプロ触媒を含み得る。
【0098】
ＬｐｉＭＸｍＸ’ｎＸ”ｐ、または（ＸＩＶ）の二量体。
【0099】
式（ＸＩＶ）では、Ｌｐは、最大５０個の非水素原子を含有する、Ｍに結合している
アニオン性の非局在化したπ結合基である。式（ＸＩＶ）のいくつかの実施形態では、２
つのＬｐ基が、一緒に結合して架橋構造を形成してもよく、さらに任意選択的に１つのＬ
ｐが、Ｘに結合してもよい。
アニオン性の非局在化したπ結合基である。式（ＸＩＶ）のいくつかの実施形態では、２
つのＬｐ基が、一緒に結合して架橋構造を形成してもよく、さらに任意選択的に１つのＬ
ｐが、Ｘに結合してもよい。
【0100】
式（ＸＩＶ）では、Ｍは、＋２、＋３、または＋４の形式的酸化状態にある、元素周
期表の第４族金属である。Ｘは、Ｍを含むメタロサイクルをＬｐと一緒に形成する、任意
選択的な最大５０個の非水素原子の二価の置換基である。Ｘ’は、最大２０個の非水素原
子を有する、任意選択的な中性配位子であり、各Ｘ”は独立して、最大４０個の非水素原
子を有する一価のアニオン部分である。任意選択的に、２つのＸ”基が一緒に共有結合し
て、両方の原子価がＭに結合している２価のジアニオン部分を形成してもよいか、または
任意選択的に、２つのＸ”基が一緒に共有結合して、Ｍが＋２の酸化状態にあるＭにπ結
合している中性の、共役もしくは非共役ジエンを形成してもよい。他の実施形態では、１
つ以上のＸ”基および１つ以上のＸ’基は、一緒に結合してもよく、それにより、Ｍに共
有結合し、かつルイス塩基官能基によってＭに配位している部分を形成する。Ｌｐｉの下
付き文字ｉは、０、１、または２であり、Ｘ’ｎの下付き文字ｎは、０、１、２、または
３であり、Ｘｍの下付き文字ｍは、０または１であり、Ｘ”ｐの下付き文字ｐは、０、１
、２、または３である。ｉ＋ｍ＋ｐの合計は、Ｍの式の形式的酸化状態に等しい。
期表の第４族金属である。Ｘは、Ｍを含むメタロサイクルをＬｐと一緒に形成する、任意
選択的な最大５０個の非水素原子の二価の置換基である。Ｘ’は、最大２０個の非水素原
子を有する、任意選択的な中性配位子であり、各Ｘ”は独立して、最大４０個の非水素原
子を有する一価のアニオン部分である。任意選択的に、２つのＸ”基が一緒に共有結合し
て、両方の原子価がＭに結合している２価のジアニオン部分を形成してもよいか、または
任意選択的に、２つのＸ”基が一緒に共有結合して、Ｍが＋２の酸化状態にあるＭにπ結
合している中性の、共役もしくは非共役ジエンを形成してもよい。他の実施形態では、１
つ以上のＸ”基および１つ以上のＸ’基は、一緒に結合してもよく、それにより、Ｍに共
有結合し、かつルイス塩基官能基によってＭに配位している部分を形成する。Ｌｐｉの下
付き文字ｉは、０、１、または２であり、Ｘ’ｎの下付き文字ｎは、０、１、２、または
３であり、Ｘｍの下付き文字ｍは、０または１であり、Ｘ”ｐの下付き文字ｐは、０、１
、２、または３である。ｉ＋ｍ＋ｐの合計は、Ｍの式の形式的酸化状態に等しい。
【0101】
例示的な第ＩＶ族金属－配位子錯体としては、シクロペンタジエニルプロ触媒を挙げ
ることができ、これは、本発明の実施において用いることができ、
ることができ、これは、本発明の実施において用いることができ、
【0102】
シクロペンタジエニルチタントリメチル；
【0103】
シクロペンタジエニルチタントリエチル；
【0104】
シクロペンタジエニルチタントリイソプロピル；
【0105】
シクロペンタジエニルチタントリフェニル；
【0106】
シクロペンタジエニルチタントリベンジル；
【0107】
シクロペンタジエニルチタン－２，４－ジメチルペンタジエニル；
【0108】
シクロペンタジエニルチタン－２，４－ジメチルペンタジエニル・トリエチルホスフ
ィン；
ィン；
【0109】
シクロペンタジエニルチタン－２，４－ジメチルペンタジエニル・トリメチルホスフ
ィン；
ィン；
【0110】
シクロペンタジエニルチタンジメチルメトキシド；
【0111】
シクロペンタジエニルチタンジメチルクロリド；
【0112】
ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリメチル；
【0113】
インデニルチタントリメチル；
【0114】
インデニルチタントリエチル；
【0115】
インデニルチタントリプロピル；
【0116】
インデニルチタントリフェニル；
【0117】
テトラヒドロインデニルチタントリベンジル；
【0118】
ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリイソプロピル；
【0119】
ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリベンジル；
【0120】
ペンタメチルシクロペンタジエニルチタンジメチルメトキシド；
【0121】
ペンタメチルシクロペンタジエニルチタンジメチルクロリド；
【0122】
ビス（η５－２，４－ジメチルペンタジエニル）チタン；
【0123】
ビス（η５－２，４－ジメチルペンタジエニル）チタン・トリメチルホスフィン；
【0124】
ビス（η５－２，４－ジメチルペンタジエニル）チタン・トリエチルホスフィン；
【0125】
オクタヒドロフルオレニルチタントリメチル；
【0126】
テトラヒドロインデニルチタントリメチル；
【0127】
テトラヒドロフルオレニルチタントリメチル；
【0128】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（１，１－ジメチル－２，３，４，９，１０－η－１，
４，５，６，７，８－ヘキサヒドロナフタレニル）ジメチルシランチタンジメチル；
４，５，６，７，８－ヘキサヒドロナフタレニル）ジメチルシランチタンジメチル；
【0129】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（１，１，２，３－テトラメチル－２，３，４，９，１
０－η－１，４，５，６，７，８－ヘキサヒドロナフタレニル）ジメチルシランチタンジ
メチル；
０－η－１，４，５，６，７，８－ヘキサヒドロナフタレニル）ジメチルシランチタンジ
メチル；
【0130】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチル－η５－シクロペンタジエニル）ジメチ
ルシランチタンジベンジル；
ルシランチタンジベンジル；
【0131】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチル－η５－シクロペンタジエニル）ジメチ
ルシランチタンジメチル；
ルシランチタンジメチル；
【0132】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチル－η５－シクロペンタジエニル）－１，
２－エタンジイルチタンジメチル；
２－エタンジイルチタンジメチル；
【0133】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチル－η５－インデニル）ジメチルシランチ
タンジメチル；
タンジメチル；
【0134】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチル－η５－シクロペンタジエニル）ジメチ
ルシランチタン（ＩＩＩ）２－（ジメチルアミノ）ベンジル、
ルシランチタン（ＩＩＩ）２－（ジメチルアミノ）ベンジル、
【0135】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチル－η５－シクロペンタジエニル）ジメチ
ルシランチタン（ＩＩＩ）アリル；
ルシランチタン（ＩＩＩ）アリル；
【0136】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチル－η５－シクロペンタジエニル）ジメチ
ルシランチタン（ＩＩＩ）２，４－ジメチルペンタジエニル；
ルシランチタン（ＩＩＩ）２，４－ジメチルペンタジエニル；
【0137】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチル－η５－シクロペンタジエニル）ジメチ
ルシランチタン（ＩＩ）１，４－ジフェニル－１，３－ブタジエン；
ルシランチタン（ＩＩ）１，４－ジフェニル－１，３－ブタジエン；
【0138】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチル－η５－シクロペンタジエニル）ジメチ
ルシランチタン（ＩＩ）１，３－ペンタジエン；
ルシランチタン（ＩＩ）１，３－ペンタジエン；
【0139】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（２－メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ
）１，４－ジフェニル－１，３－ブタジエン；
）１，４－ジフェニル－１，３－ブタジエン；
【0140】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（２－メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ
）２，４－ヘキサジエン；
）２，４－ヘキサジエン；
【0141】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（２－メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ
）２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン；
）２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン；
【0142】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（２－メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ
）イソプレン；
）イソプレン；
【0143】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（２－メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ
）１，３－ブタジエン；
）１，３－ブタジエン；
【0144】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（２，３－ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン
（ＩＶ）２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン；
（ＩＶ）２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン；
【0145】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（２，３－ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン
（ＩＶ）イソプレン；
（ＩＶ）イソプレン；
【0146】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（２，３－ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン
（ＩＶ）ジメチル；
（ＩＶ）ジメチル；
【0147】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（２，３－ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン
（ＩＶ）ジベンジル；
（ＩＶ）ジベンジル；
【0148】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（２，３－ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン
（ＩＶ）１，３－ブタジエン；
（ＩＶ）１，３－ブタジエン；
【0149】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（２，３－ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン
（ＩＩ）１，３－ペンタジエン；
（ＩＩ）１，３－ペンタジエン；
【0150】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（２，３－ジメチルインデニル）ジメチルシランチタン
（ＩＩ）１，４－ジフェニル－１，３－ブタジエン；
（ＩＩ）１，４－ジフェニル－１，３－ブタジエン；
【0151】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（２－メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＩ
）１，３－ペンタジエン；
）１，３－ペンタジエン；
【0152】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（２－メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ
）ジメチル；
）ジメチル；
【0153】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（２－メチルインデニル）ジメチルシランチタン（ＩＶ
）ジベンジル；
）ジベンジル；
【0154】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（２－メチル－４－フェニルインデニル）ジメチルシラ
ンチタン（ＩＩ）１，４－ジフェニル－１，３－ブタジエン；
ンチタン（ＩＩ）１，４－ジフェニル－１，３－ブタジエン；
【0155】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（２－メチル－４－フェニルインデニル）ジメチルシラ
ンチタン（ＩＩ）１，３－ペンタジエン；
ンチタン（ＩＩ）１，３－ペンタジエン；
【0156】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（２－メチル－４－フェニルインデニル）ジメチルシラ
ンチタン（ＩＩ）２，４－ヘキサジエン；
ンチタン（ＩＩ）２，４－ヘキサジエン；
【0157】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチル－η５－シクロペンタジエニル）ジメチ
ル－シランチタン（ＩＶ）１，３－ブタジエン；
ル－シランチタン（ＩＶ）１，３－ブタジエン；
【0158】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチル－η５－シクロペンタジエニル）ジメチ
ルシランチタン（ＩＶ）２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン；
ルシランチタン（ＩＶ）２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン；
【0159】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチル－η５－シクロペンタジエニル）ジメチ
ルシランチタン（ＩＶ）イソプレン；
ルシランチタン（ＩＶ）イソプレン；
【0160】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチル－η５－シクロペンタジエニル）ジメチ
ル－シランチタン（ＩＩ）１，４－ジベンジル－１，３－ブタジエン；
ル－シランチタン（ＩＩ）１，４－ジベンジル－１，３－ブタジエン；
【0161】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチル－η５－シクロペンタジエニル）ジメチ
ルシランチタン（ＩＩ）２，４－ヘキサジエン；
ルシランチタン（ＩＩ）２，４－ヘキサジエン；
【0162】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチル－η５－シクロペンタジエニル）ジメチ
ル－シランチタン（ＩＩ）３－メチル－１，３－ペンタジエン；
ル－シランチタン（ＩＩ）３－メチル－１，３－ペンタジエン；
【0163】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（２，４－ジメチルペンタジエン－３－イル）ジメチル
シランチタンジメチル；
シランチタンジメチル；
【0164】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（６，６－ジメチルシクロヘキサジエニル）ジメチルシ
ランチタンジメチル；
ランチタンジメチル；
【0165】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（１，１－ジメチル－２，３，４，９，１０－η－１，
４，５，６，７，８－ヘキサヒドロナフタレン－４－イル）ジメチルシランチタンジメチ
ル；
４，５，６，７，８－ヘキサヒドロナフタレン－４－イル）ジメチルシランチタンジメチ
ル；
【0166】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（１，１，２，３－テトラメチル－２，３，４，９，１
０－η－１，４，５，６，７，８－ヘキサヒドロナフタレン－４－イル）ジメチルシラン
チタンジメチル；
０－η－１，４，５，６，７，８－ヘキサヒドロナフタレン－４－イル）ジメチルシラン
チタンジメチル；
【0167】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチル－η５－シクロペンタジエニルメチルフ
ェニルシランチタン（ＩＶ）ジメチル；
ェニルシランチタン（ＩＶ）ジメチル；
【0168】
（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）（テトラメチル－η５－シクロペンタジエニルメチルフ
ェニルシランチタン（ＩＩ）１，４－ジフェニル－１，３－ブタジエン；
ェニルシランチタン（ＩＩ）１，４－ジフェニル－１，３－ブタジエン；
【0169】
１－（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）－２－（テトラメチル－η５－シクロペンタジエニ
ル）エタンジイルチタン（ＩＶ）ジメチル；
ル）エタンジイルチタン（ＩＶ）ジメチル；
【0170】
１－（ｔｅｒｔ－ブチルアミド）－２－（テトラメチル－η５－シクロペンタジエニ
ル）エタンジイル－チタン（ＩＩ）１，４－ジフェニル－１，３－ブタジエンが挙げられ
る。
ル）エタンジイル－チタン（ＩＩ）１，４－ジフェニル－１，３－ブタジエンが挙げられ
る。
【0171】
例示的なシクロペンタジエニルプロ触媒の各々は、シクロペンタジエニルプロ触媒の
チタン金属中心の代わりにジルコニウムまたはハフニウムを含んでもよい。
チタン金属中心の代わりにジルコニウムまたはハフニウムを含んでもよい。
【0172】
他のプロ触媒、具体的には他の第ＩＶ族金属－配位子錯体を含有するプロ触媒は、当
業者には明らかであろう。
業者には明らかであろう。
【0173】
本開示の触媒系は、式（Ｉ）のアニオンおよび対カチオンを有するイオン性金属活性
化剤錯体に加えて、助触媒または活性化剤を含み得る。そのような追加の助触媒としては
、例えば、各ヒドロカルビル基に１～１０個の炭素を有するトリ（ヒドロカルビル）アル
ミニウム化合物、オリゴマーもしくはポリマーのアルモキサン化合物、各ヒドロカルビル
もしくはヒドロカルビルオキシ基に１～２０個の炭素を有するジ（ヒドロカルビル）（ヒ
ドロカルビルオキシ）アルミニウム化合物、または前述の化合物の混合物を挙げることが
できる。重合混合物から酸素、水、アルデヒドなどの不純物を捕捉する有益な能力として
、通常、これらのアルミニウム化合物を用いることが有用である。
化剤錯体に加えて、助触媒または活性化剤を含み得る。そのような追加の助触媒としては
、例えば、各ヒドロカルビル基に１～１０個の炭素を有するトリ（ヒドロカルビル）アル
ミニウム化合物、オリゴマーもしくはポリマーのアルモキサン化合物、各ヒドロカルビル
もしくはヒドロカルビルオキシ基に１～２０個の炭素を有するジ（ヒドロカルビル）（ヒ
ドロカルビルオキシ）アルミニウム化合物、または前述の化合物の混合物を挙げることが
できる。重合混合物から酸素、水、アルデヒドなどの不純物を捕捉する有益な能力として
、通常、これらのアルミニウム化合物を用いることが有用である。
【0174】
本開示に記載の活性化剤と併せて使用することができるジ（ヒドロカルビル）（ヒド
ロカルビルオキシ）アルミニウム化合物は、式Ｔ１ ２ＡｌＯＴ２、またはＴ１ １Ａｌ（Ｏ
Ｔ２）２に対応し、式中、Ｔ１が、イソプロピル、イソブチル、またはｔｅｒｔ－ブチル
などの第二級もしくは第三級（Ｃ３－Ｃ６）アルキルであり、Ｔ２が、２，６－ジ（ｔｅ
ｒｔ－ブチル）－４－メチルフェニル、２，６－ジ（ｔｅｒｔ－ブチル）－４－メチルフ
ェニル、２，６－ジ（ｔｅｒｔ－ブチル）－４－メチルトリル、または４－（３’、５’
－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルトリル）－２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルなどのアルキ
ル置換（Ｃ６－Ｃ３０）アリールラジカル、またはアリール置換（Ｃ１－Ｃ３０）アルキ
ルラジカルである。
ロカルビルオキシ）アルミニウム化合物は、式Ｔ１ ２ＡｌＯＴ２、またはＴ１ １Ａｌ（Ｏ
Ｔ２）２に対応し、式中、Ｔ１が、イソプロピル、イソブチル、またはｔｅｒｔ－ブチル
などの第二級もしくは第三級（Ｃ３－Ｃ６）アルキルであり、Ｔ２が、２，６－ジ（ｔｅ
ｒｔ－ブチル）－４－メチルフェニル、２，６－ジ（ｔｅｒｔ－ブチル）－４－メチルフ
ェニル、２，６－ジ（ｔｅｒｔ－ブチル）－４－メチルトリル、または４－（３’、５’
－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルトリル）－２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルなどのアルキ
ル置換（Ｃ６－Ｃ３０）アリールラジカル、またはアリール置換（Ｃ１－Ｃ３０）アルキ
ルラジカルである。
【0175】
アルミニウム化合物の追加の例としては、［Ｃ６］トリアルキルアルミニウム化合物
、具体的には、アルキル基がエチル、プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル
、ペンチル、ネオペンチル、またはイソペンチルであるもの、アルキル基に１～６つの炭
素、およびアリール基に６～１８個の炭素を含有するジアルキル（アリールオキシ）アル
ミニウム化合物（具体的には、（３，５－ジ（ｔ－ブチル）－４－メチルフェノキシ）ジ
イソブチルアルミニウム）、メチルアルモキサン、修飾メチルアルモキサン、およびジイ
ソブチルアルモキサンが挙げられる。
、具体的には、アルキル基がエチル、プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル
、ペンチル、ネオペンチル、またはイソペンチルであるもの、アルキル基に１～６つの炭
素、およびアリール基に６～１８個の炭素を含有するジアルキル（アリールオキシ）アル
ミニウム化合物（具体的には、（３，５－ジ（ｔ－ブチル）－４－メチルフェノキシ）ジ
イソブチルアルミニウム）、メチルアルモキサン、修飾メチルアルモキサン、およびジイ
ソブチルアルモキサンが挙げられる。
【0176】
本開示の実施形態に従った触媒系では、イオン性金属活性化剤錯体対第ＩＶ族金属－
配位子錯体のモル比は、例えば１：５０００～１００：１、１：１００～１００：１、１
：１０～１０：１、１：５～１：１、または１．２５：１～１：１などの１：１０，００
０～１０００：１であり得る。触媒系は、本開示に記載の１つ以上のイオン性金属活性化
剤錯体の組み合わせを含み得る。
配位子錯体のモル比は、例えば１：５０００～１００：１、１：１００～１００：１、１
：１０～１０：１、１：５～１：１、または１．２５：１～１：１などの１：１０，００
０～１０００：１であり得る。触媒系は、本開示に記載の１つ以上のイオン性金属活性化
剤錯体の組み合わせを含み得る。
【0177】
ポリオレフィン
前の段落に記載される触媒系は、オレフィン、主にエチレンおよびプロピレンの重合
に利用される。いくつかの実施形態では、重合スキーム中に単一種類のオレフィンまたは
α－オレフィンのみが存在し、ホモポリマーを生成する。しかしながら、追加のα－オレ
フィンを重合手順に組み込んでもよい。追加のα－オレフィンコモノマーは、典型的には
、２０個以下の炭素原子を有する。例えば、α－オレフィンコモノマーは、３～１０個の
炭素原子、または３～８個の炭素原子を有し得る。例示的なα－オレフィンコモノマーと
しては、プロピレン、１－ブテン、１－ペンテン、１－ヘキセン、１－ヘプテン、１－オ
クテン、１－ノネン、１－デセン、４－メチル－１－ペンテン、５－エチリデン－２－ノ
ルボルネン、および５－ビニル－２－ノルボルネンが挙げられるが、これらに限定されな
い。例えば、１つ以上のα－オレフィンコモノマーは、プロピレン、１－ブテン、１－ヘ
キセン、および１－オクテンからなる群から、または代替的に１－ヘキセンおよび１－オ
クテンからなる群から選択され得る。
前の段落に記載される触媒系は、オレフィン、主にエチレンおよびプロピレンの重合
に利用される。いくつかの実施形態では、重合スキーム中に単一種類のオレフィンまたは
α－オレフィンのみが存在し、ホモポリマーを生成する。しかしながら、追加のα－オレ
フィンを重合手順に組み込んでもよい。追加のα－オレフィンコモノマーは、典型的には
、２０個以下の炭素原子を有する。例えば、α－オレフィンコモノマーは、３～１０個の
炭素原子、または３～８個の炭素原子を有し得る。例示的なα－オレフィンコモノマーと
しては、プロピレン、１－ブテン、１－ペンテン、１－ヘキセン、１－ヘプテン、１－オ
クテン、１－ノネン、１－デセン、４－メチル－１－ペンテン、５－エチリデン－２－ノ
ルボルネン、および５－ビニル－２－ノルボルネンが挙げられるが、これらに限定されな
い。例えば、１つ以上のα－オレフィンコモノマーは、プロピレン、１－ブテン、１－ヘ
キセン、および１－オクテンからなる群から、または代替的に１－ヘキセンおよび１－オ
クテンからなる群から選択され得る。
【0178】
エチレン系ポリマー、例えば、エチレンのホモポリマーおよび／またはエチレンと任
意選択的にα－オレフィンなどの１つ以上のコモノマーとのインターポリマー（コポリマ
ーを含む）は、エチレンに由来するモノマー単位を少なくとも５０モルパーセント（モル
％）含み得る。「少なくとも５０モル％から」に包含されるすべての個々の値および部分
範囲は、別個の実施形態として本明細書に開示されており、例えば、エチレン系ポリマー
、エチレンのホモポリマー、および／またはエチレンと任意選択的にα－オレフィンなど
の１つ以上のコモノマーとのインターポリマー（コポリマーを含む）は、エチレンに由来
するモノマー単位を少なくとも６０モル％、エチレンに由来するモノマー単位を少なくと
も７０モル％、エチレンに由来するモノマー単位を少なくとも８０モル％、またはエチレ
ンに由来するモノマー単位を５０～１００モル％、またはエチレンに由来する単位を８０
～１００モル％含み得る。
意選択的にα－オレフィンなどの１つ以上のコモノマーとのインターポリマー（コポリマ
ーを含む）は、エチレンに由来するモノマー単位を少なくとも５０モルパーセント（モル
％）含み得る。「少なくとも５０モル％から」に包含されるすべての個々の値および部分
範囲は、別個の実施形態として本明細書に開示されており、例えば、エチレン系ポリマー
、エチレンのホモポリマー、および／またはエチレンと任意選択的にα－オレフィンなど
の１つ以上のコモノマーとのインターポリマー（コポリマーを含む）は、エチレンに由来
するモノマー単位を少なくとも６０モル％、エチレンに由来するモノマー単位を少なくと
も７０モル％、エチレンに由来するモノマー単位を少なくとも８０モル％、またはエチレ
ンに由来するモノマー単位を５０～１００モル％、またはエチレンに由来する単位を８０
～１００モル％含み得る。
【0179】
いくつかの実施形態では、エチレン系ポリマーは、エチレン由来の単位を少なくとも
９０モルパーセント含み得る。少なくとも９０モルパーセントからのすべての個々の値お
よび部分範囲は本明細書に含まれ、別個の実施形態として本明細書に開示される。例えば
、エチレン系ポリマーは、エチレン由来の単位を少なくとも９３モルパーセント、単位を
少なくとも９６モルパーセント、エチレン由来の単位を少なくとも９７モルパーセント、
または代替的に、エチレン由来の単位を９０～１００モルパーセント、エチレン由来の単
位を９０～９９．５モルパーセント、もしくはエチレン由来の単位を９７～９９．５モル
パーセントを含み得る。
９０モルパーセント含み得る。少なくとも９０モルパーセントからのすべての個々の値お
よび部分範囲は本明細書に含まれ、別個の実施形態として本明細書に開示される。例えば
、エチレン系ポリマーは、エチレン由来の単位を少なくとも９３モルパーセント、単位を
少なくとも９６モルパーセント、エチレン由来の単位を少なくとも９７モルパーセント、
または代替的に、エチレン由来の単位を９０～１００モルパーセント、エチレン由来の単
位を９０～９９．５モルパーセント、もしくはエチレン由来の単位を９７～９９．５モル
パーセントを含み得る。
【0180】
エチレン系ポリマーのいくつかの実施形態では、エチレン系ポリマーは、一定量の（
Ｃ３－Ｃ２０）α－オレフィンを含み得る。（Ｃ３－Ｃ２０）α－オレフィンの量は、５
０モル％未満である。いくつかの実施形態では、エチレン系ポリマーは、少なくとも０．
５モル％～２５モル％の（Ｃ３－Ｃ２０）α－オレフィンを含み得、さらなる実施形態で
は、エチレン系ポリマーは、少なくとも５モル％～１０モル％含み得る。いくつかの実施
形態では、追加のα－オレフィンは１－オクテンである。
Ｃ３－Ｃ２０）α－オレフィンを含み得る。（Ｃ３－Ｃ２０）α－オレフィンの量は、５
０モル％未満である。いくつかの実施形態では、エチレン系ポリマーは、少なくとも０．
５モル％～２５モル％の（Ｃ３－Ｃ２０）α－オレフィンを含み得、さらなる実施形態で
は、エチレン系ポリマーは、少なくとも５モル％～１０モル％含み得る。いくつかの実施
形態では、追加のα－オレフィンは１－オクテンである。
【0181】
本開示の実施形態に従った触媒系と組み合わせた任意の従来の重合プロセスを使用し
て、エチレン系ポリマーを生成することができる。そのような従来の重合プロセスとして
は、例えば、並列、直列、またはそれらの任意の組み合わせのループ反応器、等温反応器
、流動床気相反応器、撹拌槽反応器、バッチ式反応器などの１つ以上の従来の反応器を使
用する、溶液重合プロセス、気相重合プロセス、スラリー相重合プロセス、およびそれら
の組み合わせが挙げられるが、これらに限定されない。
て、エチレン系ポリマーを生成することができる。そのような従来の重合プロセスとして
は、例えば、並列、直列、またはそれらの任意の組み合わせのループ反応器、等温反応器
、流動床気相反応器、撹拌槽反応器、バッチ式反応器などの１つ以上の従来の反応器を使
用する、溶液重合プロセス、気相重合プロセス、スラリー相重合プロセス、およびそれら
の組み合わせが挙げられるが、これらに限定されない。
【0182】
一実施形態では、エチレン系ポリマーは、エチレンおよび任意選択的に１つ以上のα
－オレフィンが、本明細書に記載の触媒系および任意選択的に１つ以上の助触媒の存在下
で重合される、二重反応器システム、例えば、二重ループ反応器システムでの溶液重合を
介して生成することができる。別の実施形態では、エチレン系ポリマーは、エチレンおよ
び任意選択的に１つ以上のα－オレフィンが、本開示の本明細書に記載の触媒系および任
意選択的に１つ以上の他の触媒の存在下で重合される、二重反応器システム、例えば、二
重ループ反応器システムでの溶液重合を介して生成することができる。本明細書に記載の
触媒系は、任意に１つ以上の他の触媒と組み合わせて、第１の反応器または第２の反応器
において使用することができる。一実施形態では、エチレン系ポリマーは、エチレンおよ
び任意選択的に１つ以上のα－オレフィンが、本明細書に記載の触媒系の存在下で重合さ
れる、二重反応器システム、例えば、二重ループ反応器システムの両方の反応器での溶液
重合を介して生成することができる。
－オレフィンが、本明細書に記載の触媒系および任意選択的に１つ以上の助触媒の存在下
で重合される、二重反応器システム、例えば、二重ループ反応器システムでの溶液重合を
介して生成することができる。別の実施形態では、エチレン系ポリマーは、エチレンおよ
び任意選択的に１つ以上のα－オレフィンが、本開示の本明細書に記載の触媒系および任
意選択的に１つ以上の他の触媒の存在下で重合される、二重反応器システム、例えば、二
重ループ反応器システムでの溶液重合を介して生成することができる。本明細書に記載の
触媒系は、任意に１つ以上の他の触媒と組み合わせて、第１の反応器または第２の反応器
において使用することができる。一実施形態では、エチレン系ポリマーは、エチレンおよ
び任意選択的に１つ以上のα－オレフィンが、本明細書に記載の触媒系の存在下で重合さ
れる、二重反応器システム、例えば、二重ループ反応器システムの両方の反応器での溶液
重合を介して生成することができる。
【0183】
別の実施形態では、エチレン系ポリマーは、エチレンおよび任意選択的に１つ以上の
α－オレフィンが、本開示内に記載の触媒系の存在下で重合される、単一反応器システム
、例えば、単一ループ反応器システムでの溶液重合を介して生成することができる。
α－オレフィンが、本開示内に記載の触媒系の存在下で重合される、単一反応器システム
、例えば、単一ループ反応器システムでの溶液重合を介して生成することができる。
【0184】
ポリマープロセスは、１つ以上の添加剤を組み込むことをさらに含み得る。そのよう
な添加剤としては、帯電防止剤、色増強剤、染料、潤滑剤、顔料、一次酸化防止剤、二次
酸化防止剤、加工助剤、紫外線安定剤、およびそれらの組み合わせが挙げられるが、これ
らに限定されない。エチレン系ポリマーは、任意の量の添加剤を含んでもよい。エチレン
系ポリマーは、エチレン系ポリマーおよび１つ以上の添加剤の重量に基づいて、約０～約
１０重量パーセントのそのような添加剤の総量を含み得る。エチレン系ポリマーは、充填
剤をさらに含んでもよく、その充填剤としては、有機または無機充填剤を挙げることがで
きるが、これらに限定されない。エチレン系ポリマーは、エチレン系ポリマーとすべての
添加剤または充填剤の合計重量に基づいて、例えば炭酸カルシウム、タルク、またはＭｇ
（ＯＨ）２などの約０～約２０重量パーセントの充填剤を含んでもよい。エチレン系ポリ
マーは、１つ以上のポリマーとさらに配合されてブレンドを形成することができる。
な添加剤としては、帯電防止剤、色増強剤、染料、潤滑剤、顔料、一次酸化防止剤、二次
酸化防止剤、加工助剤、紫外線安定剤、およびそれらの組み合わせが挙げられるが、これ
らに限定されない。エチレン系ポリマーは、任意の量の添加剤を含んでもよい。エチレン
系ポリマーは、エチレン系ポリマーおよび１つ以上の添加剤の重量に基づいて、約０～約
１０重量パーセントのそのような添加剤の総量を含み得る。エチレン系ポリマーは、充填
剤をさらに含んでもよく、その充填剤としては、有機または無機充填剤を挙げることがで
きるが、これらに限定されない。エチレン系ポリマーは、エチレン系ポリマーとすべての
添加剤または充填剤の合計重量に基づいて、例えば炭酸カルシウム、タルク、またはＭｇ
（ＯＨ）２などの約０～約２０重量パーセントの充填剤を含んでもよい。エチレン系ポリ
マーは、１つ以上のポリマーとさらに配合されてブレンドを形成することができる。
【0185】
いくつかの実施形態では、エチレン系ポリマーを生成するための重合プロセスは、触
媒系の存在下でエチレンおよび少なくとも１つの追加のα－オレフィンを重合することを
含み得、触媒系が、少なくとも１つの金属－配位子錯体と、イオン性金属活性化剤錯体と
、任意選択的に捕捉剤とを組み込む。金属－配位子錯体とイオン性金属活性化剤錯体とを
組み込むそのような触媒系から得られるポリマーは、ＡＳＴＭ Ｄ７９２（参照によりそ
の全体が本明細書に組み込まれる）に従って、例えば、０．８５０ｇ／ｃｍ３～０．９５
０ｇ／ｃｍ３、０．８７０ｇ／ｃｍ３～０．９２０ｇ／ｃｍ３、０．８７０ｇ／ｃｍ３～
０．９１０ｇ／ｃｍ３、または０．８７０ｇ／ｃｍ３～０．９００ｇ／ｃｍ３の密度を有
し得る。
媒系の存在下でエチレンおよび少なくとも１つの追加のα－オレフィンを重合することを
含み得、触媒系が、少なくとも１つの金属－配位子錯体と、イオン性金属活性化剤錯体と
、任意選択的に捕捉剤とを組み込む。金属－配位子錯体とイオン性金属活性化剤錯体とを
組み込むそのような触媒系から得られるポリマーは、ＡＳＴＭ Ｄ７９２（参照によりそ
の全体が本明細書に組み込まれる）に従って、例えば、０．８５０ｇ／ｃｍ３～０．９５
０ｇ／ｃｍ３、０．８７０ｇ／ｃｍ３～０．９２０ｇ／ｃｍ３、０．８７０ｇ／ｃｍ３～
０．９１０ｇ／ｃｍ３、または０．８７０ｇ／ｃｍ３～０．９００ｇ／ｃｍ３の密度を有
し得る。
【0186】
別の実施形態では、金属－配位子錯体とイオン性金属活性化剤錯体とを含む触媒系か
ら得られるポリマーは、５～１５のメルトフロー比（Ｉ１０／Ｉ２）を有し、メルトイン
デックスＩ２が、ＡＳＴＭ Ｄ１２３８（参照によりその全体が本明細書に組み込まれる
）に従って、１９０℃および２．１６ｋｇの荷重で測定され、メルトインデックスＩ１０
が、ＡＳＴＭ Ｄ１２３８に従って、１９０℃および１０ｋｇの荷重で測定される。他の
実施形態では、メルトフロー比（Ｉ１０／Ｉ２）は５～１０であり、他では、メルトフロ
ー比は５～９である。
ら得られるポリマーは、５～１５のメルトフロー比（Ｉ１０／Ｉ２）を有し、メルトイン
デックスＩ２が、ＡＳＴＭ Ｄ１２３８（参照によりその全体が本明細書に組み込まれる
）に従って、１９０℃および２．１６ｋｇの荷重で測定され、メルトインデックスＩ１０
が、ＡＳＴＭ Ｄ１２３８に従って、１９０℃および１０ｋｇの荷重で測定される。他の
実施形態では、メルトフロー比（Ｉ１０／Ｉ２）は５～１０であり、他では、メルトフロ
ー比は５～９である。
【0187】
いくつかの実施形態では、金属－配位子錯体とイオン性金属活性化剤錯体とを含む触
媒系から得られるポリマーは、１～２５の分子量分布（ＭＷＤ）を有し、ＭＷＤが、Ｍｗ
／Ｍｎとして定義され、Ｍｗが、重量平均分子量であり、Ｍｎが、数平均分子量である。
他の実施形態では、触媒系から生じるポリマーは、１～６のＭＷＤを有する。別の実施形
態は、１～３のＭＷＤを含み、他の実施形態は、１．５～２．５のＭＷＤを含む。
媒系から得られるポリマーは、１～２５の分子量分布（ＭＷＤ）を有し、ＭＷＤが、Ｍｗ
／Ｍｎとして定義され、Ｍｗが、重量平均分子量であり、Ｍｎが、数平均分子量である。
他の実施形態では、触媒系から生じるポリマーは、１～６のＭＷＤを有する。別の実施形
態は、１～３のＭＷＤを含み、他の実施形態は、１．５～２．５のＭＷＤを含む。
【0188】
バッチ式反応器手順
バッチ式反応器の実験は、１ガロンの連続撹拌槽反応器で実施する。Ｉｓｏｐａｒ－
Ｅ炭化水素溶媒、水素、および適切な量のオクテンコモノマーを反応器に充填した後、特
定の温度に加熱し、エチレンと共に４５０ｐｓｉに加圧する。反応器が圧力下にあるとき
に、プロ触媒、イオン性金属活性化剤錯体、溶媒、およびトリエチルアルミニウム捕捉剤
を含む触媒カクテルを添加することによって、重合を開始する。反応器の温度および圧力
を維持しながら、重合を１０分間進行させる。反応が完了した後、ポリマーを収集し、真
空オーブンで一晩乾燥させた後分析する。
バッチ式反応器の実験は、１ガロンの連続撹拌槽反応器で実施する。Ｉｓｏｐａｒ－
Ｅ炭化水素溶媒、水素、および適切な量のオクテンコモノマーを反応器に充填した後、特
定の温度に加熱し、エチレンと共に４５０ｐｓｉに加圧する。反応器が圧力下にあるとき
に、プロ触媒、イオン性金属活性化剤錯体、溶媒、およびトリエチルアルミニウム捕捉剤
を含む触媒カクテルを添加することによって、重合を開始する。反応器の温度および圧力
を維持しながら、重合を１０分間進行させる。反応が完了した後、ポリマーを収集し、真
空オーブンで一晩乾燥させた後分析する。
【0189】
ポリオクテンスクリーニング手順
未希釈の１－オクテン（１１ｍＬ）を、撹拌棒を備えた４０ｍＬバイアルに添加する
。それ自体が磁気撹拌プレート上に位置するポリウレタン絶縁ブロックに、バイアルを置
く。撹拌溶液に活性化剤を添加する。撹拌溶液にプロ触媒の溶液を添加する。バイアルを
すぐにセプタムスクリューキャップの蓋でキャップし、プローブの先端が１－オクテン溶
液に浸るように温度計プローブをバイアルに挿入する。温度計プローブをデジタルレコー
ダに接続し、時間および温度を５秒間隔で記録する。バイアル内の溶液を継続的に撹拌し
、１０分間監視する。
未希釈の１－オクテン（１１ｍＬ）を、撹拌棒を備えた４０ｍＬバイアルに添加する
。それ自体が磁気撹拌プレート上に位置するポリウレタン絶縁ブロックに、バイアルを置
く。撹拌溶液に活性化剤を添加する。撹拌溶液にプロ触媒の溶液を添加する。バイアルを
すぐにセプタムスクリューキャップの蓋でキャップし、プローブの先端が１－オクテン溶
液に浸るように温度計プローブをバイアルに挿入する。温度計プローブをデジタルレコー
ダに接続し、時間および温度を５秒間隔で記録する。バイアル内の溶液を継続的に撹拌し
、１０分間監視する。
【0190】
連続重合
原材料（エチレン、１－オクテン）およびプロセス溶媒（ＥｘｘｏｎＭｏｂｉｌ Ｃ
ｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから商標ＩＳＯＰＡＲ Ｅで市販されている狭い沸点範囲の高純度
イソパラフィン溶媒）を分子ふるいで精製した後、反応環境に導入する。高純度グレード
の、さらなる精製が必要ない水素を、加圧シリンダに供給する。反応器モノマー供給（エ
チレン）ストリームを、機械的圧縮機を介して５２５ｐｓｉｇの反応圧力より高い圧力ま
で加圧する。機械的容積式ポンプを介して、溶媒およびコモノマー（１ーオクテン）供給
物を５２５ｐｓｉｇよりも高い反応圧力まで加圧する。不純物捕捉剤として、ＡｋｚｏＮ
ｏｂｅｌから市販のトリエチルアルミニウムを使用する。個々の触媒成分（プロ触媒／活
性化剤／捕捉剤）を、精製溶媒（ＩＳＯＰＡＲ Ｅ）で特定の成分濃度までバッチ式に手
動で希釈し、５２５ｐｓｉｇよりも高い反応圧力まで加圧する。活性化剤は、プロ触媒に
対して１．２モルで使用する。すべての反応供給流は、マスフローメータで測定し、コン
ピュータ自動バルブ制御システムで独立して制御する。
原材料（エチレン、１－オクテン）およびプロセス溶媒（ＥｘｘｏｎＭｏｂｉｌ Ｃ
ｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから商標ＩＳＯＰＡＲ Ｅで市販されている狭い沸点範囲の高純度
イソパラフィン溶媒）を分子ふるいで精製した後、反応環境に導入する。高純度グレード
の、さらなる精製が必要ない水素を、加圧シリンダに供給する。反応器モノマー供給（エ
チレン）ストリームを、機械的圧縮機を介して５２５ｐｓｉｇの反応圧力より高い圧力ま
で加圧する。機械的容積式ポンプを介して、溶媒およびコモノマー（１ーオクテン）供給
物を５２５ｐｓｉｇよりも高い反応圧力まで加圧する。不純物捕捉剤として、ＡｋｚｏＮ
ｏｂｅｌから市販のトリエチルアルミニウムを使用する。個々の触媒成分（プロ触媒／活
性化剤／捕捉剤）を、精製溶媒（ＩＳＯＰＡＲ Ｅ）で特定の成分濃度までバッチ式に手
動で希釈し、５２５ｐｓｉｇよりも高い反応圧力まで加圧する。活性化剤は、プロ触媒に
対して１．２モルで使用する。すべての反応供給流は、マスフローメータで測定し、コン
ピュータ自動バルブ制御システムで独立して制御する。
【0191】
連続溶液重合は、１ガロンの連続撹拌槽反応器（ＣＳＴＲ）で実行する。溶媒、モノ
マー、コモノマー、および水素を組み合わせた反応器への供給物を、５℃～３０℃に温度
制御し、典型的には１５℃である。これらの材料のすべてを、溶媒供給物と共に重合反応
器に供給する。触媒は、エチレンの特定の変換率に達するように反応器に供給される。活
性化剤は、計算した特定のモル比（１．２モル当量）に基づいて、触媒成分に別個に供給
する。ＴＥＡ捕捉剤は、活性化剤と同じラインを共有し、流れは、反応器内のＡｌ濃度、
または触媒成分に対する特定のモル比のいずれかに基づく。重合反応器からの流出物（溶
媒、モノマー、コモノマー、水素、触媒成分、および溶融ポリマーを含有する）が反応器
を出る。流出物が水と接触すると、重合が停止する。また、酸化防止剤などの様々な添加
剤を、この時点で添加することができる。次いで、流れを、触媒停止剤および添加剤を均
一に分散させるために静的混合器に通す。
マー、コモノマー、および水素を組み合わせた反応器への供給物を、５℃～３０℃に温度
制御し、典型的には１５℃である。これらの材料のすべてを、溶媒供給物と共に重合反応
器に供給する。触媒は、エチレンの特定の変換率に達するように反応器に供給される。活
性化剤は、計算した特定のモル比（１．２モル当量）に基づいて、触媒成分に別個に供給
する。ＴＥＡ捕捉剤は、活性化剤と同じラインを共有し、流れは、反応器内のＡｌ濃度、
または触媒成分に対する特定のモル比のいずれかに基づく。重合反応器からの流出物（溶
媒、モノマー、コモノマー、水素、触媒成分、および溶融ポリマーを含有する）が反応器
を出る。流出物が水と接触すると、重合が停止する。また、酸化防止剤などの様々な添加
剤を、この時点で添加することができる。次いで、流れを、触媒停止剤および添加剤を均
一に分散させるために静的混合器に通す。
【0192】
他のより低沸点の反応成分からポリマーを分離するために、添加剤の添加に続いて、
流出物を熱交換器に通して調製中の流れの温度を上昇させる。全体にわたって圧力が大幅
に低減された反応器圧力制御バルブに、流れを通す。そこから、流出物は、揮発分除去機
器（ｄｅｖｏｌａｔｉｚｅｒ）および真空押出機からなる２段階の分離システムに入り、
そこで溶媒、ならびに未反応の水素、モノマー、コモノマー、および水をポリマーから除
去する。形成された溶融ポリマーのストランドは押出機を出て、冷水浴に沈められ、そこ
で固化する。次いで、ストランドチョッパーを通してストランドを供給し、空気乾燥後、
ポリマーをペレットに切断する。
流出物を熱交換器に通して調製中の流れの温度を上昇させる。全体にわたって圧力が大幅
に低減された反応器圧力制御バルブに、流れを通す。そこから、流出物は、揮発分除去機
器（ｄｅｖｏｌａｔｉｚｅｒ）および真空押出機からなる２段階の分離システムに入り、
そこで溶媒、ならびに未反応の水素、モノマー、コモノマー、および水をポリマーから除
去する。形成された溶融ポリマーのストランドは押出機を出て、冷水浴に沈められ、そこ
で固化する。次いで、ストランドチョッパーを通してストランドを供給し、空気乾燥後、
ポリマーをペレットに切断する。
【実施例0193】
実施例１は、活性化剤１の合成手順であり、実施例２は、活性化剤８の合成手順であ
る。実施例３では、様々な活性化剤を使用してポリマー樹脂を合成した。ポリマー樹脂の
特徴を測定し、表１～３に記録した。本開示の１つ以上の特徴は、次の実施例の観点で例
示される。
る。実施例３では、様々な活性化剤を使用してポリマー樹脂を合成した。ポリマー樹脂の
特徴を測定し、表１～３に記録した。本開示の１つ以上の特徴は、次の実施例の観点で例
示される。
【0194】
実施例１：活性化剤１の合成
【化10】
【0195】
トルエン（１００ｍＬ）中のノナフルオロ－ｔｅｒｔ－ブタノール（７．０ｇ、３０
ｍｍｏｌ）、およびＡｋｚｏ－Ｎｏｂｅｌから入手可能なジ（水素化タローアルキル）（
メチル）アミンであるＡＲＭＥＥＮ Ｍ２ＨＴ（３．６ｇ、６．７ｍｍｏｌ）の溶液を、
－３５℃の冷凍庫に置いた。別個のバイアル内の、トルエン（１００ｍＬ）中のヘキサン
（６．７ｍＬ、１Ｍ、６．７ｍｍｏｌ）中のトリメチルアルミニウム溶液も冷凍庫に置い
た。トリメチルアルミニウム溶液をノナフルオロ－ｔｅｒｔ－ブタノール溶液にゆっくり
と添加した。約半分添加したところで、２つのバイアルをグローブボックスの冷凍庫に戻
し、再び３０分間冷却した。すべてのアルミニウムが添加されるまで、添加を継続した。
次いで、組み合わせた溶液を、３０分かけて室温に温めながら撹拌し、一晩撹拌を継続し
た。次いで、揮発性物質を真空下で除去し、残りの残留物をさらに精製することなく使用
して、７．８ｇの活性化剤、７７％の収率を得た。
ｍｍｏｌ）、およびＡｋｚｏ－Ｎｏｂｅｌから入手可能なジ（水素化タローアルキル）（
メチル）アミンであるＡＲＭＥＥＮ Ｍ２ＨＴ（３．６ｇ、６．７ｍｍｏｌ）の溶液を、
－３５℃の冷凍庫に置いた。別個のバイアル内の、トルエン（１００ｍＬ）中のヘキサン
（６．７ｍＬ、１Ｍ、６．７ｍｍｏｌ）中のトリメチルアルミニウム溶液も冷凍庫に置い
た。トリメチルアルミニウム溶液をノナフルオロ－ｔｅｒｔ－ブタノール溶液にゆっくり
と添加した。約半分添加したところで、２つのバイアルをグローブボックスの冷凍庫に戻
し、再び３０分間冷却した。すべてのアルミニウムが添加されるまで、添加を継続した。
次いで、組み合わせた溶液を、３０分かけて室温に温めながら撹拌し、一晩撹拌を継続し
た。次いで、揮発性物質を真空下で除去し、残りの残留物をさらに精製することなく使用
して、７．８ｇの活性化剤、７７％の収率を得た。
【0196】
１９Ｆ ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ－７５．７１．
【0197】
実施例２：活性化剤８の合成
【化11】
【0198】
ノナフルオロ－ｔｅｒｔ－ブタノール（５．０ｇ、２１ｍｍｏｌ）を小さなバイアル
内で秤量し、フルオロベンゼン（２５ｍＬ）に溶解させた。また、フルオロベンゼン（２
５ｍＬ）に溶解させたＡｌＭｅ３（０．５１ｇ、７．１ｍｍｏｌ）を、別個のバイアル内
で秤量した。両方のバイアルを冷凍庫（－３５℃）に３０分間置いた。ＡｌＭｅ３の溶液
をノナフルオロ－ｔｅｒｔ－ブタノールの溶液にゆっくりと添加し、次いで冷凍庫に３時
間置いた。この間、フルオロベンゼン（２５ｍＬ）中のペンタフルオロフェノール（１．
３ｇ、７．１ｍｍｏｌ）の溶液、およびフルオロベンゼン（２５ｍＬ）中のＡＲＭＥＥＮ
Ｍ２ＨＴ（３．８ｇ、７．１ｍｍｏｌ）の溶液を調製した。ペンタフルオロフェノール
溶液を冷却した反応混合物にゆっくりと添加した。次いで３分後、ＡＲＭＥＥＮ Ｍ２Ｈ
Ｔ溶液を添加した。反応物を室温に温め、次いで７２時間撹拌した。得られた淡黄色の溶
液を真空下に置いて揮発性物質を除去して、生成物（８．６ｇ、８４％）を得た。
内で秤量し、フルオロベンゼン（２５ｍＬ）に溶解させた。また、フルオロベンゼン（２
５ｍＬ）に溶解させたＡｌＭｅ３（０．５１ｇ、７．１ｍｍｏｌ）を、別個のバイアル内
で秤量した。両方のバイアルを冷凍庫（－３５℃）に３０分間置いた。ＡｌＭｅ３の溶液
をノナフルオロ－ｔｅｒｔ－ブタノールの溶液にゆっくりと添加し、次いで冷凍庫に３時
間置いた。この間、フルオロベンゼン（２５ｍＬ）中のペンタフルオロフェノール（１．
３ｇ、７．１ｍｍｏｌ）の溶液、およびフルオロベンゼン（２５ｍＬ）中のＡＲＭＥＥＮ
Ｍ２ＨＴ（３．８ｇ、７．１ｍｍｏｌ）の溶液を調製した。ペンタフルオロフェノール
溶液を冷却した反応混合物にゆっくりと添加した。次いで３分後、ＡＲＭＥＥＮ Ｍ２Ｈ
Ｔ溶液を添加した。反応物を室温に温め、次いで７２時間撹拌した。得られた淡黄色の溶
液を真空下に置いて揮発性物質を除去して、生成物（８．６ｇ、８４％）を得た。
【0199】
実施例３－重合結果
前述の手順に従って、バッチ式反応器内で重合を実行した。各々式（Ｉ）に従ったア
ニオン構造およびビス（フェニルフェノキシ）第ＩＶ属金属－配位子錯体を有する活性化
剤１、５～９での、助触媒効率および得られたポリマーの特徴を評価した。
前述の手順に従って、バッチ式反応器内で重合を実行した。各々式（Ｉ）に従ったア
ニオン構造およびビス（フェニルフェノキシ）第ＩＶ属金属－配位子錯体を有する活性化
剤１、５～９での、助触媒効率および得られたポリマーの特徴を評価した。
【0200】
金属活性化剤１～７の各々をプロ触媒Ａと混合して、触媒系を形成した。比較活性化
剤Ｃ１（本明細書では「比較Ｃ１」）をプロ触媒Ａと混合して、比較触媒系を形成した。
比較Ｃ１は、対カチオンとして＋ＮＨ（Ｍｅ）（Ｃ１８Ｈ３７）２を有した。
剤Ｃ１（本明細書では「比較Ｃ１」）をプロ触媒Ａと混合して、比較触媒系を形成した。
比較Ｃ１は、対カチオンとして＋ＮＨ（Ｍｅ）（Ｃ１８Ｈ３７）２を有した。
【化12】
【0201】
本発明の活性化剤１～７および比較活性化剤Ｃ１（本明細書では「比較Ｃ１」）の効
率、ならびに本発明の活性化剤１～７および比較Ｃ１から得られたポリマーのポリマー特
徴を決定した。結果を、表１および２に要約する。比較Ｃ１は、産業用途で使用実績のあ
るものである。
率、ならびに本発明の活性化剤１～７および比較Ｃ１から得られたポリマーのポリマー特
徴を決定した。結果を、表１および２に要約する。比較Ｃ１は、産業用途で使用実績のあ
るものである。
【表1】
【0202】
表１の結果は、活性化剤３、５、および７が、プロ触媒Ａの活性化およびポリオクテ
ンホモポリマーの生成が可能であることを示している。表１の「最高温度」は、反応器内
の摂氏温度での最高断熱温度であった。断熱温度の増加は、生成されるポリマーの量の増
加を示したであろう。
ンホモポリマーの生成が可能であることを示している。表１の「最高温度」は、反応器内
の摂氏温度での最高断熱温度であった。断熱温度の増加は、生成されるポリマーの量の増
加を示したであろう。
【0203】
表２のデータは、１４０℃の重合温度で得、表３のデータは、１９０℃で得た。
表２および表３のバッチ式反応器条件：１．４７ｋｇのＩｓｏｐａｒ（商標）Ｅ、１０
０グラムのオクテン、４１０ｐｓｉのエチレン、活性化剤：プロ触媒の比は、およそ１．
２であり、およそ５０のＭＭＡＯ－３Ａ：プロ触媒のモル比で、ＭＭＡＯ－３Ａを不純物
捕捉剤として使用した。
電気試験条件
【表2】
０グラムのオクテン、４１０ｐｓｉのエチレン、活性化剤：プロ触媒の比は、およそ１．
２であり、およそ５０のＭＭＡＯ－３Ａ：プロ触媒のモル比で、ＭＭＡＯ－３Ａを不純物
捕捉剤として使用した。
【表3】
【表4】
【0204】
本開示に記載の炭化水素導電率試験は、生成されたポリマー樹脂を水で洗浄して触媒
および助触媒残留物を除去するときの、重合後プロセスを模倣実験する。表８に要約され
ている結果は、活性化剤１が、比較Ｃ１中に存在する－Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４アニオンよりも
低い誘電正接を有することを示しており、したがって、活性化剤１から生成されたポリマ
ーは、それらの電気的特性に関して、比較Ｃ１から生成されたポリマーよりも優れている
ことを示している。
および助触媒残留物を除去するときの、重合後プロセスを模倣実験する。表８に要約され
ている結果は、活性化剤１が、比較Ｃ１中に存在する－Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４アニオンよりも
低い誘電正接を有することを示しており、したがって、活性化剤１から生成されたポリマ
ーは、それらの電気的特性に関して、比較Ｃ１から生成されたポリマーよりも優れている
ことを示している。
【0205】
表４に要約されている結果に基づいて、水が本発明の活性化剤と相互作用して、電気
的特性における活性化剤の寄与を低減すると考えられる。そのような考えに束縛されるこ
とを望むわけではないが、水が活性化剤と化学的に反応して、電荷輸送に有意に寄与しな
い分解生成物を形成し、それにより、本発明の活性化剤によって生成されるポリマーが低
い導電率を呈することを引き起こすと考えられる。しかしながら、比較Ｃ１は、ＨＣ試験
の条件下では水と反応しないと考えられる。比較Ｃ１はイオン種－アニオンおよびカチオ
ン－からなるため、水の添加前後の両方で、イオン電荷の輸送に寄与する。
的特性における活性化剤の寄与を低減すると考えられる。そのような考えに束縛されるこ
とを望むわけではないが、水が活性化剤と化学的に反応して、電荷輸送に有意に寄与しな
い分解生成物を形成し、それにより、本発明の活性化剤によって生成されるポリマーが低
い導電率を呈することを引き起こすと考えられる。しかしながら、比較Ｃ１は、ＨＣ試験
の条件下では水と反応しないと考えられる。比較Ｃ１はイオン種－アニオンおよびカチオ
ン－からなるため、水の添加前後の両方で、イオン電荷の輸送に寄与する。
【0206】
前述のように、ＨＣ試験の炭化水素溶液は、水を除去するために加熱される。そのよ
うな考えに束縛されることを望むわけではないが、水、酸化防止剤、および／または水除
去プロセスの熱が、本発明の活性化剤を分解し、電荷輸送に有意に寄与しない分解生成物
の形成を生じると考えられる。比較Ｃ１は、重合条件下で有意に分解せず、イオン種とし
て比較Ｃ１は、エラストマーにおけるイオン電荷輸送に寄与すると予想される。本発明の
活性化剤は、電荷輸送に有意に寄与しない分解生成物の形成を生じるため、本発明の活性
化剤は、絶縁ポリマーを生成することが可能である。
うな考えに束縛されることを望むわけではないが、水、酸化防止剤、および／または水除
去プロセスの熱が、本発明の活性化剤を分解し、電荷輸送に有意に寄与しない分解生成物
の形成を生じると考えられる。比較Ｃ１は、重合条件下で有意に分解せず、イオン種とし
て比較Ｃ１は、エラストマーにおけるイオン電荷輸送に寄与すると予想される。本発明の
活性化剤は、電荷輸送に有意に寄与しない分解生成物の形成を生じるため、本発明の活性
化剤は、絶縁ポリマーを生成することが可能である。
【0207】
図中の本発明の活性化剤から生成された樹脂のＴＧＩＣスペクトルは、活性化剤１お
よび８が、比較Ｃ１中に存在する－Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４によって達成されるものと同様の、
狭い単峰性の組成分布を有するポリマー樹脂を生成することを実証した。これは、幅広い
二峰性の組成分布を示し、粘着性のペレットをもたらす比較Ｃ２とは対照的である。加え
て、表４に要約されている結果は、活性化剤１が、比較Ｃ１中に存在する－Ｂ（Ｃ６Ｆ５
）４アニオンよりも良好な誘電正接を有することを示している。
よび８が、比較Ｃ１中に存在する－Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４によって達成されるものと同様の、
狭い単峰性の組成分布を有するポリマー樹脂を生成することを実証した。これは、幅広い
二峰性の組成分布を示し、粘着性のペレットをもたらす比較Ｃ２とは対照的である。加え
て、表４に要約されている結果は、活性化剤１が、比較Ｃ１中に存在する－Ｂ（Ｃ６Ｆ５
）４アニオンよりも良好な誘電正接を有することを示している。
【0208】
ＴＧＩＣによる高コモノマー含有量（ＨＣＣ）方法
市販の結晶化溶出分別装置（ＣＥＦ）（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈａｒ、Ｓｐａｉｎ）を
使用して、高温熱勾配相互作用クロマトグラフィー（ＴＧＩＣ）測定を行った（Ｃｏｎｇ
ら、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、２０１１、４４（８）、３０６２～３０７２）。Ｈ
ＹＰＥＲＣＡＲＢカラム（１００Ｘ４．６ｍｍ、部品＃３５００５～１０４６４６、Ｔｈ
ｅｒｍｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を分離に使用した。２７ミクロンのガラスビーズ（カ
タログ＃ＧＬ０１９１８／２０～２７μｍ、ＭＯ－ＳＣＩ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｐｒｏ
ｄｕｃｔｓ，ＬＬＣ（Ｒｏｌｌａ，ＭＯ，ＵＳＡ））を充填した「８ｃｍ×０．４８ｃｍ
（内径３／１６インチ）」のステンレス鋼カラムを、ＩＲ検出器の前、ＣＥＦ機器のトッ
プオーブンに設置した。実験パラメータは次の通りである：トップオーブン／輸送ライン
／針温度１５０℃、溶解温度１６０℃、溶解撹拌設定２、試料充填容量０．４００ｍＬ、
ポンプ安定化時間１５秒、洗浄カラムのポンプ流量０．５００ｍＬ／分、カラム充填のポ
ンプ流量０．３００ｍＬ／分、安定化温度１５０℃、安定化時間（カラム充填前）３．０
分、安定化時間（カラム充填後）１．０分、ＳＦ（可溶性画分）時間３．０分、１５０℃
～３０℃の冷却速度３．００℃／分、冷却プロセス中の流量０．０１ｍＬ／分、３０℃～
１６０℃の加熱速度２．００℃／分、等温時間１６０℃で１０分間、溶出流量０．５００
ｍＬ／分、および注入ループサイズ１４０マイクロリットル。
市販の結晶化溶出分別装置（ＣＥＦ）（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈａｒ、Ｓｐａｉｎ）を
使用して、高温熱勾配相互作用クロマトグラフィー（ＴＧＩＣ）測定を行った（Ｃｏｎｇ
ら、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、２０１１、４４（８）、３０６２～３０７２）。Ｈ
ＹＰＥＲＣＡＲＢカラム（１００Ｘ４．６ｍｍ、部品＃３５００５～１０４６４６、Ｔｈ
ｅｒｍｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を分離に使用した。２７ミクロンのガラスビーズ（カ
タログ＃ＧＬ０１９１８／２０～２７μｍ、ＭＯ－ＳＣＩ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｐｒｏ
ｄｕｃｔｓ，ＬＬＣ（Ｒｏｌｌａ，ＭＯ，ＵＳＡ））を充填した「８ｃｍ×０．４８ｃｍ
（内径３／１６インチ）」のステンレス鋼カラムを、ＩＲ検出器の前、ＣＥＦ機器のトッ
プオーブンに設置した。実験パラメータは次の通りである：トップオーブン／輸送ライン
／針温度１５０℃、溶解温度１６０℃、溶解撹拌設定２、試料充填容量０．４００ｍＬ、
ポンプ安定化時間１５秒、洗浄カラムのポンプ流量０．５００ｍＬ／分、カラム充填のポ
ンプ流量０．３００ｍＬ／分、安定化温度１５０℃、安定化時間（カラム充填前）３．０
分、安定化時間（カラム充填後）１．０分、ＳＦ（可溶性画分）時間３．０分、１５０℃
～３０℃の冷却速度３．００℃／分、冷却プロセス中の流量０．０１ｍＬ／分、３０℃～
１６０℃の加熱速度２．００℃／分、等温時間１６０℃で１０分間、溶出流量０．５００
ｍＬ／分、および注入ループサイズ１４０マイクロリットル。
【0209】
ＰｏｌｙｍｅｒＣｈａｒオートサンプラーによって１６０℃で６０分間、ＯＤＣＢ中
４．０ｍｇ／ｍｌの濃度で、試料を調製した。使用前に、シリカゲル４０（粒径０．２～
０．５ｍｍ、カタログ番号１０１８１－３、ＥＭＤ）を、１６０℃の真空オーブン中で約
２時間乾燥させた。一定量の２，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノール（１
．６グラム、ＢＨＴ、カタログ番号Ｂ１３７８－５００Ｇ、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ
）、およびシリカゲル（５．０グラム）を、２リットルのオルト－ジクロロベンゼン（Ｏ
ＤＣＢ、９９％無水グレード、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ）に添加して、ＯＤＣＢ溶液
を作り出した。使用前に、ＯＤＣＢ溶液を乾燥窒素（Ｎ２）で１時間パージした。
４．０ｍｇ／ｍｌの濃度で、試料を調製した。使用前に、シリカゲル４０（粒径０．２～
０．５ｍｍ、カタログ番号１０１８１－３、ＥＭＤ）を、１６０℃の真空オーブン中で約
２時間乾燥させた。一定量の２，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノール（１
．６グラム、ＢＨＴ、カタログ番号Ｂ１３７８－５００Ｇ、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ
）、およびシリカゲル（５．０グラム）を、２リットルのオルト－ジクロロベンゼン（Ｏ
ＤＣＢ、９９％無水グレード、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ）に添加して、ＯＤＣＢ溶液
を作り出した。使用前に、ＯＤＣＢ溶液を乾燥窒素（Ｎ２）で１時間パージした。
【0210】
ＴＧＩＣデータは、ＰｏｌｙｍｅｒＣｈａｒ（Ｓｐａｉｎ）の「ＧＰＣ Ｏｎｅ」ソ
フトウェアプラットフォームで処理した。７ｍＬのＯＤＣＢを充填した１０ｍＬバイアル
内で、約４～６ｍｇのエイコサン、１４．０ｍｇのアイソタクチックホモポリマーポリプ
ロピレンｉＰＰ（３．６～４．０の多分散性、および１５０，０００～１９０，０００等
量のポリエチレンとして報告する分子量（Ｍｗ）、および３．６～４．０の多分散性（Ｍ
ｗ／Ｍｎ））、および１４．０ｍｇのホモポリマーポリエチレンＨＤＰＥ（コモノマー含
有量ゼロ、１１５，０００～１２５，０００等量のポリエチレンとして報告するＭｗ、お
よび２．５～２．８の多分散性）の混合物を用いて、温度較正を実施した。溶解時間は、
１６０℃で２時間であった。
フトウェアプラットフォームで処理した。７ｍＬのＯＤＣＢを充填した１０ｍＬバイアル
内で、約４～６ｍｇのエイコサン、１４．０ｍｇのアイソタクチックホモポリマーポリプ
ロピレンｉＰＰ（３．６～４．０の多分散性、および１５０，０００～１９０，０００等
量のポリエチレンとして報告する分子量（Ｍｗ）、および３．６～４．０の多分散性（Ｍ
ｗ／Ｍｎ））、および１４．０ｍｇのホモポリマーポリエチレンＨＤＰＥ（コモノマー含
有量ゼロ、１１５，０００～１２５，０００等量のポリエチレンとして報告するＭｗ、お
よび２．５～２．８の多分散性）の混合物を用いて、温度較正を実施した。溶解時間は、
１６０℃で２時間であった。
【0211】
較正プロセス（エイコサン溶出物およびＨＤＰＥ溶出物では３０℃～１５０℃）は、
次のステップを含んだ：（１）加熱速度に従った溶出中の等温ステップの各々の溶出温度
を外挿した（図１に示されている）。（２）遅延容量を計算し、エイコサンピーク（ｙ軸
）が３０．０℃の溶出温度と一致するように、ＩＲ測定チャネルクロマトグラム（ｙ軸）
に対応して温度（ｘ軸）をシフトさせた。遅延容量は、温度差（３０℃－エイコサンピー
クの実際の溶出温度）を、方法の加熱速度で除算し、次いで溶出流量を乗算することから
計算する。（３）これと同じ遅延容量調節を用いて、記録した各溶出温度を調節した。（
４）ＨＤＰＥ標準物質が１５０．０℃の溶出ピーク温度を有しながら、エイコサンの溶出
ピーク温度を３０．０℃に維持するように、加熱速度を線形に合わせた。最後に、（５）
ポリプロピレンのピーク温度が１１９．３～１２０．２℃であることを観察し、これが較
正方法の検証である。
次のステップを含んだ：（１）加熱速度に従った溶出中の等温ステップの各々の溶出温度
を外挿した（図１に示されている）。（２）遅延容量を計算し、エイコサンピーク（ｙ軸
）が３０．０℃の溶出温度と一致するように、ＩＲ測定チャネルクロマトグラム（ｙ軸）
に対応して温度（ｘ軸）をシフトさせた。遅延容量は、温度差（３０℃－エイコサンピー
クの実際の溶出温度）を、方法の加熱速度で除算し、次いで溶出流量を乗算することから
計算する。（３）これと同じ遅延容量調節を用いて、記録した各溶出温度を調節した。（
４）ＨＤＰＥ標準物質が１５０．０℃の溶出ピーク温度を有しながら、エイコサンの溶出
ピーク温度を３０．０℃に維持するように、加熱速度を線形に合わせた。最後に、（５）
ポリプロピレンのピーク温度が１１９．３～１２０．２℃であることを観察し、これが較
正方法の検証である。
【0212】
ＴＧＩＣのポリマー試料についてのデータ処理
ポリマー試料と同じ実験条件下で、溶媒ブランク（純粋溶媒注入）を実施した。ポリ
マー試料のデータ処理は、較正の加熱速度から計算した、各検出器チャネルの溶媒ブラン
クの減算、較正プロセスで説明されている温度外挿、較正プロセスから決定した遅延容量
を用いた温度の補正、および溶出温度軸の３０℃～１６０℃の範囲への調節を含む。
ポリマー試料と同じ実験条件下で、溶媒ブランク（純粋溶媒注入）を実施した。ポリ
マー試料のデータ処理は、較正の加熱速度から計算した、各検出器チャネルの溶媒ブラン
クの減算、較正プロセスで説明されている温度外挿、較正プロセスから決定した遅延容量
を用いた温度の補正、および溶出温度軸の３０℃～１６０℃の範囲への調節を含む。
【0213】
クロマトグラムをＰｏｌｙｍｅｒＣｈａｒ「ＧＰＣ Ｏｎｅ」ソフトウェアと統合し
た。ピークが、高溶出温度で平らなベースライン（ブランク減算クロマトグラムではおお
よそゼロの値）に、および可溶性画分（ＳＦ）の高温側の検出器シグナルの最小または平
らな領域に落ちるとき、可視的差異から直線のベースラインを引いた。
た。ピークが、高溶出温度で平らなベースライン（ブランク減算クロマトグラムではおお
よそゼロの値）に、および可溶性画分（ＳＦ）の高温側の検出器シグナルの最小または平
らな領域に落ちるとき、可視的差異から直線のベースラインを引いた。
【0214】
ピークが平らなベースライン領域（ブランク減算クロマトグラムではおおよそゼロの
値）に落ちるときの、可視的差異に基づいて、温度積分上限値を確立した。ベースライン
と、可溶画分を含むクロマトグラムとの交点に基づいて、温度積分下限値を確立した。
値）に落ちるときの、可視的差異に基づいて、温度積分上限値を確立した。ベースライン
と、可溶画分を含むクロマトグラムとの交点に基づいて、温度積分下限値を確立した。
【0215】
「高コモノマー含有量（ＨＣＣ）」は、６５．０℃以下の温度で溶出する材料の重量
パーセントとして定義する。ＨＣＣは、６５．０℃以下の温度でＩＲ測定チャネルを積分
し、この値をＩＲ測定チャネルの総積分で除算することによって計算した。
パーセントとして定義する。ＨＣＣは、６５．０℃以下の温度でＩＲ測定チャネルを積分
し、この値をＩＲ測定チャネルの総積分で除算することによって計算した。
【図1】
【手続補正書】
【提出日】2024-01-30
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
オレフィンを重合するプロセスであって、触媒系の存在下で、エチレンと（Ｃ３－Ｃ４０）アルファ－オレフィンコモノマーとを接触させて、エチレン系ポリマーを生成することを含み、前記触媒系が、プロ触媒と、イオン性金属活性化剤錯体とを含み、前記イオン性金属活性化剤錯体が、アニオンおよび対カチオンを含み、前記アニオンが、式（Ｉ）に従った構造を有し、
式中、
Ｍが、アルミニウム、ホウ素、またはガリウムであり、
ｎが２、３、または４であり、
各Ｒが独立して、式（ＩＩ）を有するラジカル、および式（ＩＩＩ）を有するラジカルからなる群から選択され、
各Ｙが独立して、炭素またはケイ素であり、
各Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、およびＲ２５が独立して、（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、－ＯＲＣ、－Ｏ－、－ＳＲＣ、－Ｈ、または－Ｆから選択され、Ｒが、式（ＩＩＩ）に従ったラジカルであるとき、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、またはＲ２５のうちの少なくとも１つが、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、または－Ｆであるが、
ただし、
各Ｒが式（ＩＩ）に従ったラジカルであり、Ｙが炭素であるとき、Ｒ１１、Ｒ１２、もしくはＲ１３のうちの少なくとも１つが、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、もしくは－Ｆであるか、あるいは
Ｍがアルミニウムであり、ｎが４であり、各Ｒが式（ＩＩ）に従ったラジカルであり、各Ｙが炭素であるとき、
各Ｒのうちの各Ｒ１１、Ｒ１２、およびＲ１３が、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、もしくは－Ｆであるか、または
各ＲのうちのＲ１１、Ｒ１２、およびＲ１３のハロゲン原子の総数が、少なくとも６であることを条件とし、
各Ｘが、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、トリフラート、または－Ｓ（Ｏ）３ＲＣから独立して選択された単座配位子であり、
任意選択的に、式（Ｉ）の２つの基Ｒが、共有結合しており、
各ＲＣが独立して、（Ｃ１－Ｃ３０）ヒドロカルビル、または－Ｈである、プロセス。
【化1】
Ｍが、アルミニウム、ホウ素、またはガリウムであり、
ｎが２、３、または４であり、
各Ｒが独立して、式（ＩＩ）を有するラジカル、および式（ＩＩＩ）を有するラジカルからなる群から選択され、
【化2】
各Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、およびＲ２５が独立して、（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、－ＯＲＣ、－Ｏ－、－ＳＲＣ、－Ｈ、または－Ｆから選択され、Ｒが、式（ＩＩＩ）に従ったラジカルであるとき、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、またはＲ２５のうちの少なくとも１つが、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、または－Ｆであるが、
ただし、
各Ｒが式（ＩＩ）に従ったラジカルであり、Ｙが炭素であるとき、Ｒ１１、Ｒ１２、もしくはＲ１３のうちの少なくとも１つが、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、もしくは－Ｆであるか、あるいは
Ｍがアルミニウムであり、ｎが４であり、各Ｒが式（ＩＩ）に従ったラジカルであり、各Ｙが炭素であるとき、
各Ｒのうちの各Ｒ１１、Ｒ１２、およびＲ１３が、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、もしくは－Ｆであるか、または
各ＲのうちのＲ１１、Ｒ１２、およびＲ１３のハロゲン原子の総数が、少なくとも６であることを条件とし、
各Ｘが、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、トリフラート、または－Ｓ（Ｏ）３ＲＣから独立して選択された単座配位子であり、
任意選択的に、式（Ｉ）の２つの基Ｒが、共有結合しており、
各ＲＣが独立して、（Ｃ１－Ｃ３０）ヒドロカルビル、または－Ｈである、プロセス。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0215】
「高コモノマー含有量（ＨＣＣ）」は、６５．０℃以下の温度で溶出する材料の重量パーセントとして定義する。ＨＣＣは、６５．０℃以下の温度でＩＲ測定チャネルを積分し、この値をＩＲ測定チャネルの総積分で除算することによって計算した。
本願発明には以下の態様が含まれる。
項１．
オレフィンを重合するプロセスであって、触媒系の存在下で、エチレンと（Ｃ３－Ｃ４０）アルファ－オレフィンコモノマーとを接触させて、エチレン系ポリマーを生成することを含み、前記触媒系が、プロ触媒と、イオン性金属活性化剤錯体とを含み、前記イオン性金属活性化剤錯体が、アニオンおよび対カチオンを含み、前記アニオンが、式（Ｉ）に従った構造を有し、
式中、
Ｍが、アルミニウム、ホウ素、またはガリウムであり、
ｎが２、３、または４であり、
各Ｒが独立して、式（ＩＩ）を有するラジカル、および式（ＩＩＩ）を有するラジカルからなる群から選択され、
各Ｙが独立して、炭素またはケイ素であり、
各Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、およびＲ２５が独立して、（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、－ＯＲＣ、－Ｏ－、－ＳＲＣ、－Ｈ、または－Ｆから選択され、Ｒが、式（ＩＩＩ）に従ったラジカルであるとき、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、またはＲ２５のうちの少なくとも１つが、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、または－Ｆであるが、
ただし、
各Ｒが式（ＩＩ）に従ったラジカルであり、Ｙが炭素であるとき、Ｒ１１、Ｒ１２、もしくはＲ１３のうちの少なくとも１つが、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、もしくは－Ｆであるか、あるいは
Ｍがアルミニウムであり、ｎが４であり、各Ｒが式（ＩＩ）に従ったラジカルであり、各Ｙが炭素であるとき、
各Ｒのうちの各Ｒ１１、Ｒ１２、およびＲ１３が、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、もしくは－Ｆであるか、または
各ＲのうちのＲ１１、Ｒ１２、およびＲ１３のハロゲン原子の総数が、少なくとも６であることを条件とし、
各Ｘが、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、トリフラート、または－Ｓ（Ｏ）３ＲＣから独立して選択された単座配位子であり、
任意選択的に、式（Ｉ）の２つの基Ｒが、共有結合しており、
各ＲＣが独立して、（Ｃ１－Ｃ３０）ヒドロカルビル、または－Ｈである、プロセス。
項２．
前記プロ触媒が、ビス（フェニルフェノキシ）金属－配位子錯体である、項１に記載の重合プロセス。
項３．
ｎが４であり、各Ｒが独立して、－Ｃ（Ｈ）（ＣＦ３）２、－Ｃ６Ｆ５、または－Ｃ（ＣＦ３）３である、項１または項２に記載の重合プロセス。
項４．
ｎが３であり、Ｘが、－ＯＨ、トリフラート（－ＯＴｆ）、メチル、またはハロゲンから選択される、項１または項２に記載の重合プロセス。
項５．
ｎが４であり、４つの基Ｒのうちの３つが、－Ｃ（ＣＦ３）３であり、４つの基Ｒのうちの１つが、－Ｃ６Ｆ５である、項１または項２に記載の重合プロセス。
項６．
前記対カチオンが、正の１（＋１）の形式的変化を有する、項１～５のいずれか一項に記載の重合プロセス。
項７．
前記対カチオンが、＋Ｎ（Ｈ）ＲＮ ３であり、式中、各ＲＮが、（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、または（Ｃ６－Ｃ２０）アリールから選択される、項１～６のいずれか一項に記載の重合プロセス。
項８．
前記対カチオンが、＋Ｎ（Ｈ）ＲＮ ３であり、式中、少なくとも２つのＲＮが、（Ｃ１０－Ｃ２０）アルキルから選択される、項６に記載の重合プロセス。
項９．
前記対カチオンが、＋Ｃ（Ｃ６Ｈ５）３である、項１～６のいずれか一項に記載の重合プロセス。
項１０．
前記対カチオンが、＋Ｃ（Ｃ６Ｈ４ＲＣ）３であり、式中、ＲＣが、（Ｃ１－Ｃ２０）アルキルである、項１～６のいずれか一項に記載の重合プロセス。
項１１．
２つの基Ｒが、共有結合しており、前記アニオンが、式（ＩＶ）に従った構造を有し、
式中、
ＭおよびＸが、式（Ｉ）で定義されたとおりであり、
ｎが１、または２であり、
Ｌが、共有結合している前記２つの基Ｒを表し、
各Ｌが独立して、（Ｃ２－Ｃ４０）アルキレン、（Ｃ２－Ｃ４０）ヘテロアルキレン、またはまたは－（Ｓｉ（ＲＣ）２－Ｏ）ｚ－Ｓｉ（ＲＣ）２－から選択され、ｚが、０、１、２、または３であり、ＲＣが独立して、（Ｃ１－Ｃ３０）ヒドロカルビルまたは－Ｈであり、
ｎが１のとき、Ｘが、ハロゲン、ハロゲン化－（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、またはトリフラートから独立して選択された単座配位子である、項１に記載の重合プロセス。
項１２．
高沸点完全飽和炭化水素溶液中に、２００マイクロモルの濃度のイオン性金属活性化剤錯体および２０ミリモルの水を有する、高沸点完全飽和炭化水素溶液中の前記イオン性金属活性化剤錯体が、炭化水素導電率試験によって測定すると、０．１以下の誘電正接パーセントを有する、項１～１１のいずれか一項に記載の重合プロセス。
本願発明には以下の態様が含まれる。
項１．
オレフィンを重合するプロセスであって、触媒系の存在下で、エチレンと（Ｃ３－Ｃ４０）アルファ－オレフィンコモノマーとを接触させて、エチレン系ポリマーを生成することを含み、前記触媒系が、プロ触媒と、イオン性金属活性化剤錯体とを含み、前記イオン性金属活性化剤錯体が、アニオンおよび対カチオンを含み、前記アニオンが、式（Ｉ）に従った構造を有し、
【化1】
Ｍが、アルミニウム、ホウ素、またはガリウムであり、
ｎが２、３、または４であり、
各Ｒが独立して、式（ＩＩ）を有するラジカル、および式（ＩＩＩ）を有するラジカルからなる群から選択され、
【化2】
各Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、およびＲ２５が独立して、（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、－ＯＲＣ、－Ｏ－、－ＳＲＣ、－Ｈ、または－Ｆから選択され、Ｒが、式（ＩＩＩ）に従ったラジカルであるとき、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、またはＲ２５のうちの少なくとも１つが、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、または－Ｆであるが、
ただし、
各Ｒが式（ＩＩ）に従ったラジカルであり、Ｙが炭素であるとき、Ｒ１１、Ｒ１２、もしくはＲ１３のうちの少なくとも１つが、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、もしくは－Ｆであるか、あるいは
Ｍがアルミニウムであり、ｎが４であり、各Ｒが式（ＩＩ）に従ったラジカルであり、各Ｙが炭素であるとき、
各Ｒのうちの各Ｒ１１、Ｒ１２、およびＲ１３が、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ４０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、もしくは－Ｆであるか、または
各ＲのうちのＲ１１、Ｒ１２、およびＲ１３のハロゲン原子の総数が、少なくとも６であることを条件とし、
各Ｘが、ハロゲン置換（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、ハロゲン置換（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、（Ｃ６－Ｃ４０）アリール、トリフラート、または－Ｓ（Ｏ）３ＲＣから独立して選択された単座配位子であり、
任意選択的に、式（Ｉ）の２つの基Ｒが、共有結合しており、
各ＲＣが独立して、（Ｃ１－Ｃ３０）ヒドロカルビル、または－Ｈである、プロセス。
項２．
前記プロ触媒が、ビス（フェニルフェノキシ）金属－配位子錯体である、項１に記載の重合プロセス。
項３．
ｎが４であり、各Ｒが独立して、－Ｃ（Ｈ）（ＣＦ３）２、－Ｃ６Ｆ５、または－Ｃ（ＣＦ３）３である、項１または項２に記載の重合プロセス。
項４．
ｎが３であり、Ｘが、－ＯＨ、トリフラート（－ＯＴｆ）、メチル、またはハロゲンから選択される、項１または項２に記載の重合プロセス。
項５．
ｎが４であり、４つの基Ｒのうちの３つが、－Ｃ（ＣＦ３）３であり、４つの基Ｒのうちの１つが、－Ｃ６Ｆ５である、項１または項２に記載の重合プロセス。
項６．
前記対カチオンが、正の１（＋１）の形式的変化を有する、項１～５のいずれか一項に記載の重合プロセス。
項７．
前記対カチオンが、＋Ｎ（Ｈ）ＲＮ ３であり、式中、各ＲＮが、（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、または（Ｃ６－Ｃ２０）アリールから選択される、項１～６のいずれか一項に記載の重合プロセス。
項８．
前記対カチオンが、＋Ｎ（Ｈ）ＲＮ ３であり、式中、少なくとも２つのＲＮが、（Ｃ１０－Ｃ２０）アルキルから選択される、項６に記載の重合プロセス。
項９．
前記対カチオンが、＋Ｃ（Ｃ６Ｈ５）３である、項１～６のいずれか一項に記載の重合プロセス。
項１０．
前記対カチオンが、＋Ｃ（Ｃ６Ｈ４ＲＣ）３であり、式中、ＲＣが、（Ｃ１－Ｃ２０）アルキルである、項１～６のいずれか一項に記載の重合プロセス。
項１１．
２つの基Ｒが、共有結合しており、前記アニオンが、式（ＩＶ）に従った構造を有し、
【化3】
ＭおよびＸが、式（Ｉ）で定義されたとおりであり、
ｎが１、または２であり、
Ｌが、共有結合している前記２つの基Ｒを表し、
各Ｌが独立して、（Ｃ２－Ｃ４０）アルキレン、（Ｃ２－Ｃ４０）ヘテロアルキレン、またはまたは－（Ｓｉ（ＲＣ）２－Ｏ）ｚ－Ｓｉ（ＲＣ）２－から選択され、ｚが、０、１、２、または３であり、ＲＣが独立して、（Ｃ１－Ｃ３０）ヒドロカルビルまたは－Ｈであり、
ｎが１のとき、Ｘが、ハロゲン、ハロゲン化－（Ｃ１－Ｃ２０）アルキル、またはトリフラートから独立して選択された単座配位子である、項１に記載の重合プロセス。
項１２．
高沸点完全飽和炭化水素溶液中に、２００マイクロモルの濃度のイオン性金属活性化剤錯体および２０ミリモルの水を有する、高沸点完全飽和炭化水素溶液中の前記イオン性金属活性化剤錯体が、炭化水素導電率試験によって測定すると、０．１以下の誘電正接パーセントを有する、項１～１１のいずれか一項に記載の重合プロセス。
【外国語明細書】