(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024058080
(43)【公開日】2024-04-25
(54)【発明の名称】縦型加熱炉
(51)【国際特許分類】
F27B 9/20 20060101AFI20240418BHJP
F27B 9/24 20060101ALI20240418BHJP
F27B 9/40 20060101ALI20240418BHJP
F27D 19/00 20060101ALI20240418BHJP
F27D 3/12 20060101ALI20240418BHJP
F27B 9/06 20060101ALN20240418BHJP
F27D 1/00 20060101ALN20240418BHJP
F27B 9/38 20060101ALN20240418BHJP
F27B 9/39 20060101ALN20240418BHJP
F27D 11/02 20060101ALN20240418BHJP
【ＦＩ】
F27B9/20
F27B9/24 W
F27B9/40
F27D19/00 Z
F27D3/12
F27B9/06
F27D1/00 G
F27B9/38
F27B9/39
F27D11/02 B
【審査請求】有
【請求項の数】9
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022165220
(22)【出願日】2022-10-14
(11)【特許番号】
(45)【特許公報発行日】2023-09-12
(71)【出願人】
【識別番号】000004293
【氏名又は名称】株式会社ノリタケカンパニーリミテド
(74)【代理人】
【識別番号】100117606
【弁理士】
【氏名又は名称】安部 誠
(74)【代理人】
【識別番号】100121186
【弁理士】
【氏名又は名称】山根 広昭
(72)【発明者】
【氏名】岡島 上士
【テーマコード（参考）】
4K050
4K051
4K055
4K056
4K063
【Ｆターム（参考）】
4K050AA01
4K050CA15
4K050CD06
4K050CD08
4K050CF01
4K050CF11
4K050CG13
4K050EA01
4K051AA03
4K051AB01
4K051AB03
4K051AB05
4K051BA02
4K051BB04
4K055AA05
4K055BA00
4K055CA06
4K056BC01
4K056BC04
4K056BC07
4K056FA01
4K063FA07
(57)【要約】
【課題】被搬送物の搬送ずれを抑制する。
【解決手段】縦型加熱炉１０は、炉体１１と、複数の回転体３１，３２，４１，４２と、回転装置５０と、昇降装置５５とを備えている。複数の回転体は、被搬送物Ａを支持する複数の支持部３０ａ１，４０ａ１を有する第１部３０ａ，４０ａと、第１部とは異なる位置に設けられた第２部３０ｂ，４０ｂとをそれぞれ備えている。回転体が被搬送物を支持する時には、回転装置は、第１部の支持部が被搬送物を支持可能な位置に移動するように回転体を回転させ、かつ、昇降装置は、複数の回転体のうち、被搬送物を支持する回転体を上昇させる。回転体が被搬送物を支持しない時には、回転装置は、第２部を被搬送物の側面に向けるように回転体を回転させる。第２部は、被搬送物のずれを矯正する予め定められた位置に配置される。
【選択図】図２
【解決手段】縦型加熱炉１０は、炉体１１と、複数の回転体３１，３２，４１，４２と、回転装置５０と、昇降装置５５とを備えている。複数の回転体は、被搬送物Ａを支持する複数の支持部３０ａ１，４０ａ１を有する第１部３０ａ，４０ａと、第１部とは異なる位置に設けられた第２部３０ｂ，４０ｂとをそれぞれ備えている。回転体が被搬送物を支持する時には、回転装置は、第１部の支持部が被搬送物を支持可能な位置に移動するように回転体を回転させ、かつ、昇降装置は、複数の回転体のうち、被搬送物を支持する回転体を上昇させる。回転体が被搬送物を支持しない時には、回転装置は、第２部を被搬送物の側面に向けるように回転体を回転させる。第２部は、被搬送物のずれを矯正する予め定められた位置に配置される。
【選択図】図２
【特許請求の範囲】
【請求項1】
高さ方向に沿って被搬送物が搬送される炉内空間を内部に有する炉体と、
前記炉内空間に設けられ、前記被搬送物が搬送される搬送領域の周囲に高さ方向に沿って回転軸が設定された複数の回転体と、
前記回転体を前記回転軸周りに回転させる回転装置と、
前記複数の回転体のうち少なくとも１つの回転体を前記回転軸に沿って昇降させる昇降装置と
を備え、
前記複数の回転体は、
前記被搬送物を支持する複数の支持部を有する第１部と、
前記第１部とは異なる位置に設けられた第２部と
をそれぞれ備え、
前記複数の支持部は、前記第１部において高さ方向に沿って予め定められた間隔で設けられており、
前記回転体が前記被搬送物を支持する時には、前記回転装置は、前記第１部の前記支持部が前記被搬送物を支持可能な位置に移動するように前記回転体を回転させ、かつ、前記昇降装置は、前記複数の回転体のうち、前記被搬送物を支持する前記回転体を上昇または下降させ、
前記回転体が前記被搬送物を支持しない時には、前記回転装置は、前記第２部を前記被搬送物の側面に向けるように前記回転体を回転させ、前記第２部は、前記被搬送物のずれを矯正する予め定められた位置に配置される、縦型加熱炉。
前記炉内空間に設けられ、前記被搬送物が搬送される搬送領域の周囲に高さ方向に沿って回転軸が設定された複数の回転体と、
前記回転体を前記回転軸周りに回転させる回転装置と、
前記複数の回転体のうち少なくとも１つの回転体を前記回転軸に沿って昇降させる昇降装置と
を備え、
前記複数の回転体は、
前記被搬送物を支持する複数の支持部を有する第１部と、
前記第１部とは異なる位置に設けられた第２部と
をそれぞれ備え、
前記複数の支持部は、前記第１部において高さ方向に沿って予め定められた間隔で設けられており、
前記回転体が前記被搬送物を支持する時には、前記回転装置は、前記第１部の前記支持部が前記被搬送物を支持可能な位置に移動するように前記回転体を回転させ、かつ、前記昇降装置は、前記複数の回転体のうち、前記被搬送物を支持する前記回転体を上昇または下降させ、
前記回転体が前記被搬送物を支持しない時には、前記回転装置は、前記第２部を前記被搬送物の側面に向けるように前記回転体を回転させ、前記第２部は、前記被搬送物のずれを矯正する予め定められた位置に配置される、縦型加熱炉。
【請求項2】
前記第２部は、前記第１部が設けられている面とは反対側の面に設けられている、請求項１に記載された縦型加熱炉。
【請求項3】
前記第１部と前記第２部は、同一平面上に設けられている、請求項１に記載された縦型加熱炉。
【請求項4】
前記支持部は、前記被搬送物の下面を支持する水平な上端面を有している、請求項１～３のいずれか一項に記載された縦型加熱炉。
【請求項5】
前記複数の回転体は、それぞれ対角線上に配置された第１回転体群と、第２回転体群とを含み、前記第１回転体群は、同じタイミングで回転し、前記第２回転体群は、同じタイミングで回転するように構成されている、請求項１～３のいずれか一項に記載された縦型加熱炉。
【請求項6】
前記第１回転体群が前記被搬送物を支持しない時には、前記第１回転体群の第２部は、前記被搬送物の一対の第１側面に向けられ、
前記第２回転体群が前記被搬送物を支持しない時には、前記第２回転体群の第２部は、前記被搬送物の、前記一対の第１側面とは異なる一対の第２側面に向けられるように構成されている、請求項５に記載された縦型加熱炉。
前記第２回転体群が前記被搬送物を支持しない時には、前記第２回転体群の第２部は、前記被搬送物の、前記一対の第１側面とは異なる一対の第２側面に向けられるように構成されている、請求項５に記載された縦型加熱炉。
【請求項7】
前記回転装置および前記昇降装置を制御する制御装置をさらに備え、
前記制御装置は、
前記第１回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持する前記第２回転体群を上昇または下降させる処理と、
前記第２回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持しない前記第２回転体群を上昇または下降させる処理と
が実行されるように構成された、請求項５に記載された縦型加熱炉。
前記制御装置は、
前記第１回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持する前記第２回転体群を上昇または下降させる処理と、
前記第２回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持しない前記第２回転体群を上昇または下降させる処理と
が実行されるように構成された、請求項５に記載された縦型加熱炉。
【請求項8】
前記回転装置および前記昇降装置を制御する制御装置をさらに備え、
前記制御装置は、
前記第２回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持する前記第１回転体群を上昇または下降させる処理と、
前記第１回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持する前記第２回転体群を上昇または下降させる処理と、が実行されるように構成された、請求項５に記載された縦型加熱炉。
前記制御装置は、
前記第２回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持する前記第１回転体群を上昇または下降させる処理と、
前記第１回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持する前記第２回転体群を上昇または下降させる処理と、が実行されるように構成された、請求項５に記載された縦型加熱炉。
【請求項9】
前記昇降装置が前記被搬送物を昇降させる時には、前記被搬送物を支持しない前記回転体の前記第２部は、前記被搬送物のずれを矯正する予め定められた位置よりも前記被搬送物から離れた位置に配置される、請求項１～３のいずれか一項に記載された縦型加熱炉。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、縦型加熱炉に関する。
【背景技術】
【0002】
特開２０２２－０３７８０６号公報には、被搬送物を上下方向に搬送可能な縦型加熱炉についていくつかの形態が開示されている。このうち同公報の図１８～図２１には、送り支持部材として、一対の第１ラック軸および一対の第２ラック軸が用いられている縦型加熱炉が開示されている。かかる形態では、第１ラック軸および第２ラック軸は、被搬送物を支持する複数の支持歯を有している。支持歯は、高さ方向に沿って一定の間隔で形成されている。被搬送物は、一対の第１ラック軸および一対の第２ラック軸によって四隅から支持される。一対の第１ラック軸および一対の第２ラック軸は、それぞれ垂直アクチュエータによって上下方向に駆動される。また、一対の第１ラック軸および一対の第２ラック軸は、それぞれロータリーアクチュエータによって回転軸線周りに９０度回転駆動される。これによって、一対の第１ラック軸および一対の第２ラック軸では、被搬送物を支持する状態と被搬送物を支持しない状態とが切り替えられる。かかる縦型加熱炉によれば、一対の第１ラック軸および一対の第２ラック軸では、被搬送物を支持する状態と被搬送物を支持しない状態とが切り替えられつつ、被搬送物が縦方向に搬送される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０２２－０３７８０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
ところで、特開２０２２－０３７８０６号公報に開示された上記形態の縦型加熱炉では、一対の第１ラック軸および一対の第２ラック軸では、被搬送物を支持する状態と被搬送物を支持しない状態とが切り替えられつつ、被搬送物が縦方向に搬送される。しかし、本発明者がさらに試行したところ、搬送が進むにつれて被搬送物の位置がずれる事象があることが分かった。
【課題を解決するための手段】
【0005】
ここで開示される縦型加熱炉は、高さ方向に沿って被搬送物が搬送される炉内空間を内部に有する炉体と、炉内空間に設けられ、被搬送物が搬送される搬送領域の周囲に高さ方向に沿って回転軸が設定された複数の回転体と、回転体を回転軸周りに回転させる回転装置と、複数の回転体のうち少なくとも１つの回転体を回転軸に沿って昇降させる昇降装置とを備えている。複数の回転体は、被搬送物を支持する複数の支持部を有する第１部と、第１部とは異なる位置に設けられた第２部とをそれぞれ備えている。複数の支持部は、第１部において高さ方向に沿って予め定められた間隔で設けられている。回転体が被搬送物を支持する時には、回転装置は、第１部の支持部が被搬送物を支持可能な位置に移動するように回転体を回転させ、かつ、昇降装置は、複数の回転体のうち、被搬送物を支持する回転体を上昇または下降させる。回転体が被搬送物を支持しない時には、回転装置は、第２部を被搬送物の側面に向けるように回転体を回転させ、第２部は、被搬送物のずれを矯正する予め定められた位置に配置される。かかる縦型加熱炉では、搬送時に被搬送物がずれる場合にも、位置が矯正されやすい。これによって、被搬送物の搬送ずれが抑制される。
【図面の簡単な説明】
【0006】
【発明を実施するための形態】
【0007】
以下、本開示における実施形態の１つについて、図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、以下の図面においては、同じ作用を奏する部材・部位には同じ符号を付して説明している。また、各図における寸法関係（長さ、幅、厚み等）は実際の寸法関係を反映するものではない。上、下、左、右、前、後の向きは、図中、Ｕ、Ｄ、Ｌ、Ｒ、Ｆ、Ｒｒの矢印でそれぞれ表されている。ここで、上、下、左、右、前、後の向きは、説明の便宜上、定められているにすぎず、特に言及されない限りにおいて本願発明を限定しない。本明細書において、「高さ方向」は、図中の矢印で示される上下方向と一致している。
【0008】
〈縦型加熱炉１０〉
図１および図２は、縦型加熱炉１０の模式的な断面図である。図１では、縦型加熱炉１０の高さ方向に沿った断面が示されている。なお、図１では、回転体に支持されている被搬送物Ａの図示が一部省略されている。図２は、図１のＩＩ－ＩＩ線に沿った炉体１１の断面が示されている。図２では、被搬送物Ａを支持しうる時の回転体３１，３２，４１，４２の位置は、実線で示されており、被搬送物Ａを支持ない時の回転体３１，３２，４１，４２の位置は、二点鎖線で示されている。
図１および図２は、縦型加熱炉１０の模式的な断面図である。図１では、縦型加熱炉１０の高さ方向に沿った断面が示されている。なお、図１では、回転体に支持されている被搬送物Ａの図示が一部省略されている。図２は、図１のＩＩ－ＩＩ線に沿った炉体１１の断面が示されている。図２では、被搬送物Ａを支持しうる時の回転体３１，３２，４１，４２の位置は、実線で示されており、被搬送物Ａを支持ない時の回転体３１，３２，４１，４２の位置は、二点鎖線で示されている。
【0009】
図１に示されているように、縦型加熱炉１０は、炉体１１と、搬送装置２０とを備えている。縦型加熱炉１０は、搬送装置２０を制御する制御装置６０をさらに備えている。縦型加熱炉１０では、被搬送物Ａが高さ方向に沿って搬送される。縦型加熱炉１０は、被処理物を加熱処理するためのヒータ１５を備えている。被処理物（図示省略）は、被搬送物Ａに載せられた状態で炉体１１内を搬送されつつ加熱処理される。
【0010】
この実施形態では、被搬送物Ａは、板状である。かかる板状の被搬送物Ａは、セッターとも称される。被搬送物Ａとしては、特に限定されないが、所要の耐熱性および耐反応性を有する材料から構成されるものが適宜選択されうる。この実施形態では、セラミック製の被搬送物Ａが用いられている。図２に示されているように、被搬送物Ａは、平面視において略正方形状である。被搬送物Ａは、一対の第１側面Ａ１（以下、単に側面Ａ１とも称する）と、一対の第２側面Ａ２（以下、単に側面Ａ２とも称する）と、上面Ａ３と、下面Ａ４（図１参照）とを有している。一対の第１側面Ａ１は、互いに略平行に形成されている。一対の第２側面Ａ２は、互いに略平行に形成されている。この実施形態では、被搬送物Ａの上面Ａ３には、縦型加熱炉１０内で加熱処理される被処理物が載せられる。なお、被搬送物は、かかる形態に限定されない。被搬送物は、例えば、サヤまたは匣鉢とも称される箱状のものであってもよい。被搬送物には、蓋が載せられてもよい。また、被搬送物として、例えば、板状の被処理物が直接搬送されてもよい。
【0011】
〈炉体１１〉
炉体１１は、高さ方向に沿って被搬送物Ａが搬送される炉内空間１２を内部に有している。炉内空間１２において、被搬送物Ａが搬送される搬送領域１２ａが設定されている。搬送領域１２ａは、高さ方向に沿って搬送される被搬送物Ａが通る領域である。搬送領域１２ａは、高さ方向において、被搬送物Ａが搬入される高さから搬出される高さに設定されている（図１参照）。搬送領域１２ａは、炉体１１の幅方向（左右方向および前後方向）において炉内空間１２の略中央部に設定されている。搬送領域１２ａは、高さ方向に直交する平面において、被搬送物Ａの平面形状に対応した形状（この実施形態では、略正方形状）でありうる。
炉体１１は、高さ方向に沿って被搬送物Ａが搬送される炉内空間１２を内部に有している。炉内空間１２において、被搬送物Ａが搬送される搬送領域１２ａが設定されている。搬送領域１２ａは、高さ方向に沿って搬送される被搬送物Ａが通る領域である。搬送領域１２ａは、高さ方向において、被搬送物Ａが搬入される高さから搬出される高さに設定されている（図１参照）。搬送領域１２ａは、炉体１１の幅方向（左右方向および前後方向）において炉内空間１２の略中央部に設定されている。搬送領域１２ａは、高さ方向に直交する平面において、被搬送物Ａの平面形状に対応した形状（この実施形態では、略正方形状）でありうる。
【0012】
図１に示されているように、炉体１１は、炉体１１の幅方向と比較して炉体１１の高さ方向（上下方向）に長く形成されている。炉体１１は、側壁１１ａ～１１ｄ（図１および図２参照）と、底面部１１ｅと、天井部１１ｆとを有している。炉内空間１２は、側壁１１ａ～１１ｄ、底面部１１ｅおよび天井部１１ｆに囲まれている。側壁１１ａおよび側壁１１ｂは、左右方向において互いに対向している。側壁１１ｃおよび側壁１１ｄは、前後方向において互いに対向している（図２参照）。底面部１１ｅおよび天井部１１ｆは、上下方向において互いに対向している。側壁１１ａ～１１ｄの上部および下部には、段差１１ｇ，１１ｈが設けられている。炉体１１内の炉内空間１２は、下部の段差１１ｇよりも下方が狭くなっている。また、炉体１１内の炉内空間１２は、上部の段差１１ｈよりも上方が狭くなっている。
【0013】
炉体１１には、被搬送物Ａを搬入するための搬入口１３および被搬送物Ａを搬出するための搬出口１４が設けられている。この実施形態では、搬入口１３は、炉体１１の下部に設けられている。搬出口１４は、炉体１１の上部に設けられている。被搬送物Ａは、炉内空間１２内を下方から上方に向かって搬送される。
【0014】
搬入口１３は、側壁１１ａに設けられている。搬入口１３は、側壁１１ａの段差１１ｇよりも下方を炉体１１の厚み方向（左右方向）に沿って貫通して形成されている。搬入口１３からは、搬入装置１３ａによって被搬送物Ａが順次搬入される。詳細な説明は省略するが、搬入装置１３ａは、搬入口１３を介して接続されている搬入室１３ｂから炉体１１内に被搬送物Ａを搬入するための装置でありうる。
【0015】
搬出口１４は、側壁１１ｂに設けられている。搬出口１４は、側壁１１ｂの段差１１ｈよりも上方を炉体１１の厚み方向（左右方向）に沿って貫通して形成されている。搬出口１４からは、搬出装置１４ａによって被搬送物Ａが順次搬出される。詳細な説明は省略するが、搬出装置１４ａは、搬出口１４を介して接続されている搬出室１４ｂに炉体１１内から被搬送物Ａを搬出するための装置でありうる。
【0016】
炉体１１の炉内空間１２には、ヒータ１５が設けられている。ヒータ１５は、被処理物を加熱処理するための装置である。ヒータ１５は、段差１１ｇよりも上方および段差１１ｈよりも下方の領域に配置されている。この実施形態では、ヒータ１５は、円筒形状である。ヒータ１５は、側壁１１ａ～１１ｄに形成された貫通孔から炉体１１の内部に挿通されている。ヒータ１５は、炉内空間１２において、一方の側壁１１ａ，１１ｃから他方の側壁１１ｂ，１１ｄに架け渡されている。ヒータ１５は、高さ方向に沿って間欠的に配置されている。なお、ヒータ１５の種類は、特に限定されない。例えば、ヒータは、セラミック製のヒータであってもよく、金属製のヒータであってもよい。ヒータは、円筒形状のものに限られず、例えば、板状のパネルヒータが用いられていてもよい。ヒータの種類および形状は、目的とする加熱温度等の加熱条件に応じて適宜選択されうる。炉体１１の炉内空間１２には、内部の温度を測定する温度センサが設けられうる。温度センサとしては、例えば、熱電対、赤外線温度計等が用いられうる。
【0017】
この実施形態では、炉体１１の側壁１１ａ～１１ｄと、底面部１１ｅと、天井部１１ｆは、断熱材によって構成されている。断熱材としては、例えば、所定の形状に成形されたセラミックファイバーボードが用いられうる。セラミックファイバーボードは、いわゆるバルクファイバーに無機フィラーと無機・有機結合材とが添加されて板状に成形された板材である。炉体１１は、例えば、セラミックファイバーボードが炉体１１の厚み方向に重ねられて構成されうる。炉体１１の側壁１１ａ～１１ｄと、底面部１１ｅと、天井部１１ｆの厚みは、炉内空間１２の熱が十分に断熱される程度の所要の厚さに設定されている。
【0018】
炉体１１は、基台１６に載せられている。基台１６は、炉体１１が載せられている面とは反対側に、空間を有していてもよい。当該空間には、例えば、炉内空間１２内に雰囲気ガスを給排気するための配管、後述する回転体を駆動する駆動装置等が配置されていてもよい。
【0019】
炉体１１の側面および上面は、外壁１７によって囲まれている。外壁１７は、所要の耐熱性および強度を有する金属製の板によって構成されうる。外壁１７は、例えば、ステンレス製の板でありうる。この実施形態では、外壁１７は、略矩形の板である。炉体１１の天井部１１ｆには、外壁１７ａが取り付けられている。外壁１７ａは、天井部１１ｆよりも幅広に形成されている。外壁１７ａの縁部は、炉体１１よりも外側に突出している。炉体１１の側面（側壁１１ａ～１１ｄ）は、周囲を外壁１７ｂに囲まれている。外壁１７ｂの上方および下方の端部は、屈曲されている。外壁１７ｂの当該屈曲された部分は、外壁１７ａの突出した部分および基台１６に接続されている。外壁１７ｂと側壁１１ａ～１１ｄとの間には、空間が形成されている。当該空間には、例えば、炉内空間１２内に雰囲気ガスを給排気するための配管、ヒータ１５の電極等が配置されうる。
【0020】
図示は省略するが、炉体１１には、ガス供給管およびガス排気管が設けられていてもよい。ガス供給管は、炉体１１内に雰囲気ガスを供給するための配管である。ガス供給管には、雰囲気ガスを供給するためのガスボンベが接続されうる。特に限定されないが、雰囲気ガスとしては、例えば、窒素、アルゴン、空気、酸素、二酸化炭素、水素等が用いられうる。雰囲気ガスは、被処理物の加熱条件等に応じて適宜選択される。ガス排気管は、炉体１１内から雰囲気ガスを排気するための配管である。ガス排気管には、排気ポンプ等の排気装置が接続されうる。被処理物から反応ガスが発生した場合に、ガス排気管からは、当該反応ガスが排気される。炉体１１にガス供給管およびガス排気管が設けられていることによって、炉体１１内の雰囲気が調整されうる。
【0021】
〈搬送装置２０〉
搬送装置２０は、被搬送物Ａを高さ方向に沿って搬送する装置である。この実施形態では、搬送装置２０は、被搬送物Ａを下方から上方に向かって順次搬送することができるように構成されている。搬送装置２０は、複数の回転体３１，３２，４１，４２（図２参照）と、回転装置５０と、昇降装置５５とを備えている。
搬送装置２０は、被搬送物Ａを高さ方向に沿って搬送する装置である。この実施形態では、搬送装置２０は、被搬送物Ａを下方から上方に向かって順次搬送することができるように構成されている。搬送装置２０は、複数の回転体３１，３２，４１，４２（図２参照）と、回転装置５０と、昇降装置５５とを備えている。
【0022】
〈複数の回転体３１，３２，４１，４２〉
複数の回転体３１，３２，４１，４２は、炉体１１の内部の炉内空間１２に設けられている。複数の回転体３１，３２，４１，４２は、それぞれ高さ方向に延びる略矩形の板状に形成されている。回転体３１，３２，４１，４２は、被搬送物が搬送される搬送領域１２ａの周囲に配置されており、高さ方向に沿って回転軸がそれぞれ設定されている。この実施形態では、回転体３１，３２は、被搬送物が搬送される搬送領域１２ａに対して互いに対角に配置されている。回転体４１，４２は、被搬送物が搬送される搬送領域１２ａに対して互いに対角に配置されている。回転体３１，３２，４１，４２は、回転装置５０によって、回転軸周りに回転するように構成されている。回転体３１，３２，４１，４２の回転軸は、搬送領域１２ａの周囲に設定されている。
複数の回転体３１，３２，４１，４２は、炉体１１の内部の炉内空間１２に設けられている。複数の回転体３１，３２，４１，４２は、それぞれ高さ方向に延びる略矩形の板状に形成されている。回転体３１，３２，４１，４２は、被搬送物が搬送される搬送領域１２ａの周囲に配置されており、高さ方向に沿って回転軸がそれぞれ設定されている。この実施形態では、回転体３１，３２は、被搬送物が搬送される搬送領域１２ａに対して互いに対角に配置されている。回転体４１，４２は、被搬送物が搬送される搬送領域１２ａに対して互いに対角に配置されている。回転体３１，３２，４１，４２は、回転装置５０によって、回転軸周りに回転するように構成されている。回転体３１，３２，４１，４２の回転軸は、搬送領域１２ａの周囲に設定されている。
【0023】
回転体３１，３２，４１，４２は、耐熱性に優れた材料によって形成されている。この実施形態では、回転体３１，３２，４１，４２は、セラミック製である。回転体３１，３２，４１，４２は、略同一形状に形成されている。回転体３１，３２は、上端部と下端部がそれぞれブラケット３３ａ，３４ａに装着されて保持されている。回転体３１，３２の上端部および下端部には、高さ方向に沿った軸３３，３４が取り付けられている。回転体３１，３２の軸３３，３４は、ブラケット３３ａ，３４ａから上方および下方にそれぞれ延びるように設けられている。回転体４１，４２は、上端部と下端部がそれぞれブラケット４３ａ，４４ａに装着されて保持されている。回転体４１，４２の上端部および下端部には、高さ方向に沿った軸４３，４４が取り付けられている。回転体４１，４２の軸４３，４４は、ブラケット４３ａ，４４ａから上方および下方にそれぞれ延びるように設けられている。回転体４１，４２の軸４３，４４は、ブラケット４３ａ，４４ａに一体的に設けられていてもよい。図２において、回転体３１，３２，４１，４２の軸３３，３４，４３，４４に対応する位置は、それぞれ破線で描かれている。
【0024】
この実施形態では、ブラケット３３ａ，３４ａ，４３ａ，４４ａおよび軸３３，３４，４３，４４は、回転体３１，３２，４１，４２の上端部と下端部に設けられている。回転体３１，３２，４１，４２の上端部と下端部は、炉体１１の内部の温度が下げられる位置に配置されている。ブラケット３３ａ，３４ａ，４３ａ，４４ａおよび軸３３，３４，４３，４４は、所要の耐熱性と機械強度を有する金属製の部材であるとよい。回転体３１，３２は、ブラケット３３ａ，３４ａおよび軸３３，３４を介して、後述する回転装置５０が取り付けられている。回転体４１，４２は、ブラケット４３ａ，４４ａおよび軸４３，４４を介して、後述する回転装置５０と昇降装置５５が取り付けられている。
【0025】
回転体３１，３２は、適宜に、第１回転体群３０と称される。回転体４１，４２は、回転体３１，３２とは異なる位置に配置されている。回転体４１，４２は、適宜に、第２回転体群４０と称される。この実施形態では、図２に示されているように、複数の回転体３１，３２，４１，４２は、第１回転体群３０と、第２回転体群４０とを含んでいる。第１回転体群３０および第２回転体群４０は、それぞれ一対設けられている。第１回転体群３０の回転体３１，３２は、搬送領域１２ａを挟んで対角線上に配置されている。第２回転体群４０の回転体４１，４２は、搬送領域１２ａを挟んで対角線上に配置されている。この実施形態では、第１回転体群３０および第２回転体群４０は、前後方向および左右方向において略正方形状に設定された搬送領域１２ａの角部の外側にそれぞれの回転軸が設けられるように配置されている。以下では、第１回転体群３０のことを、単に回転体群３０とも称し、第２回転体群４０のことを、単に回転体群４０とも称する。
【0026】
複数の回転体３１，３２，４１，４２は、被搬送物Ａを支持する複数の支持部３０ａ１，４０ａ１を有する第１部３０ａ，４０ａと、第１部３０ａ，４０ａとは異なる位置に設けられた第２部３０ｂ，４０ｂとをそれぞれ備えている。複数の支持部３０ａ１，４０ａ１は、第１部３０ａ，４０ａにおいて高さ方向に沿って予め定められた間隔で設けられている。以下、回転体３１の形状について説明する。
【0027】
図１に示されているように、回転体３１は、高さ方向に延びる略矩形の板状に形成されている。回転体３１の高さは、回転体の幅Ｄ１（図２参照）および厚みＤ２（図２参照）と比べて長い。回転体３１は、高さ方向において炉内空間１２に収められる寸法である。回転体３１の長さは、炉体１１の底面部１１ｅと天井部１１ｆの間の距離よりも短く、かつ、高さ方向に沿った搬送領域の距離よりも長い。回転体３１は、第１部３０ａと、第２部３０ｂとを備えている（図２参照）。
【0028】
この実施形態では、第１部３０ａは、板状に形成された回転体３１の一方の面に設定されている。第１部３０ａは、複数の支持部３０ａ１を有している。支持部３０ａ１は、被搬送物Ａを支持するための部位である。支持部３０ａ１は、第１部３０ａから突出している。複数の支持部３０ａ１は、第１部３０ａにおいて高さ方向に沿って予め定められた間隔で設けられている。この実施形態では、支持部３０ａ１の間隔は、被搬送物Ａの厚みよりも広い間隔である。支持部３０ａ１の間隔は、被搬送物Ａの寸法等に応じて適宜選択されうる。
【0029】
図２に示されているように、支持部３０ａ１は、平面視において、基端から先端に向かってわずかに幅が狭くなった略台形形状である。支持部３０ａ１は、被搬送物Ａを支持する上端面３０ａ２を有している。支持部３０ａ１の上端面３０ａ２は、略水平な平面である。換言すると、支持部３０ａ１の上端面３０ａ２は、基端から先端に向かって傾斜していない。これによって、支持部３０ａ１の上端面３０ａ２に載せられた被搬送物Ａがずれにくい。支持部３０ａ１の上端面３０ａ２とは反対側の面は、支持部３０ａ１の先端から基端に向かって徐々に厚みが厚くなるように傾斜している。これによって、支持部３０ａ１の強度が向上されている。例えば、縦型加熱炉１０が長期使用に伴って支持部３０ａ１に負荷がかかった場合にも、支持部３０ａ１が折れにくい。このため、縦型加熱炉１０の耐久性が良好でありうる。なお、支持部３０ａ１の形状は、特に限定されない。
【0030】
第２部３０ｂは、回転体３１において第１部３０ａとは異なる位置に設けられている。この実施形態では、回転体３１において、第２部３０ｂは、第１部３０ａが設けられている面とは反対側の面に設けられている。第２部３０ｂは、略平坦な面である。
【0031】
回転体３２は、回転体３１と同様、第１部３０ａおよび第２部３０ｂを備えている。回転体３２の第１部３０ａは、複数の支持部３０ａ１を有している。回転体群４０の回転体４１，４２は、回転体群３０の第１部３０ａおよび第２部３０ｂと同様の第１部４０ａおよび第２部４０ｂを備えている。回転体４１，４２の第１部４０ａは、複数の支持部４０ａ１を有している。支持部４０ａ１は、被搬送物Ａを支持する上端面４０ａ２を有している。回転体４１，４２の支持部４０ａ１の構成は、支持部３０ａ１と同様であるので、詳細な説明は省略する。
【0032】
上述したように、回転体３１，３２には、高さ方向（回転体３１，３２の長さ方向）に沿って回転軸が設定されている。回転軸は、回転体３１，３２の幅方向において一方に偏った位置に設定されている（図２参照）。軸３３，３４は、回転体３１，３２に設定されている回転軸に沿って取り付けられている。この実施形態では、軸３３，３４は、回転体３１，３２の幅方向の端部に取り付けられている。軸３３と軸３４は、高さ方向において重なっている。軸３３，３４は、縦型加熱炉１０の高さ方向に直交する平面において、搬送領域１２ａの周囲に設けられている。軸３３，３４は、高さ方向に垂直な平面が略正方形状である搬送領域１２ａの角部の外側に配置されている。回転体４１，４２と軸４３，４４の構成および配置は、回転体３１，３２と軸３３，３４の構成と同様であるので、詳細な説明は省略する。
【0033】
図１に示されているように、下方の軸３４，４４は、炉体１１の底面部１１ｅに形成されている貫通孔に挿通されている。貫通孔と軸３４，４４の間は、断熱性および耐熱性を有するシール材によって隙間が埋められていてもよい。底面部１１ｅに挿通されている軸３４，４４は、基台１６に取り付けられたガイド１８に挿通されている。ガイド１８は、基台１６の裏面（炉体１１が載せられている面とは反対側の面）に取り付けられている。ガイド１８としては、例えば、ブッシュ等が用いられうる。
【0034】
上方の軸３３，４３は、炉体１１の天井部１１ｆに形成されている貫通孔に挿通されている。貫通孔と軸３３，４３の間は、断熱性および耐熱性を有するシール材によって隙間が埋められていてもよい。軸３３，４３は、炉体１１の外部において、回転装置５０に接続されている。この実施形態では、第１回転体群３０の回転体３１，３２に取り付けられている軸３３には、回転装置５０が接続されている。第２回転体群４０の回転体４１，４２に取り付けられている軸４３には、回転装置５０および昇降装置５５が接続されている。
【0035】
〈回転装置５０〉
回転装置５０は、回転体３１，３２，４１，４２を回転軸周りに回転させる装置である。詳細な図示は省略するが、この実施形態では、回転装置５０は、回転体３１，３２，４１，４２と同数設けられている。特に限定されないが、回転装置５０は、第１回転体群３０の回転体３１，３２それぞれに接続されている２つの回転装置５０ａと、第２回転体群４０の回転体４１，４２それぞれに接続されている２つの回転装置５０ｂとを含んでいる。回転装置５０ａは、第１回転体群３０を回転軸周りに回転させる。回転装置５０ｂは、第２回転体群４０を回転軸周りに回転させる。
回転装置５０は、回転体３１，３２，４１，４２を回転軸周りに回転させる装置である。詳細な図示は省略するが、この実施形態では、回転装置５０は、回転体３１，３２，４１，４２と同数設けられている。特に限定されないが、回転装置５０は、第１回転体群３０の回転体３１，３２それぞれに接続されている２つの回転装置５０ａと、第２回転体群４０の回転体４１，４２それぞれに接続されている２つの回転装置５０ｂとを含んでいる。回転装置５０ａは、第１回転体群３０を回転軸周りに回転させる。回転装置５０ｂは、第２回転体群４０を回転軸周りに回転させる。
【0036】
回転装置５０は、接続されているそれぞれの回転体３１，３２，４１，４２の回転角度を制御し、回転体３１，３２，４１，４２を予め定められた角度に回転させる。この実施形態では、回転装置５０は、回転体３１，３２，４１，４２を回転させることによって、被搬送物Ａを支持しうる支持姿勢と、被搬送物Ａの位置を矯正しうる矯正姿勢とを切り替える。回転装置５０は、例えば、サーボモータ、ロータリーアクチュエータ等によって実現されうる。
【0037】
回転装置５０は、炉体１１の外部に設けられている。回転装置５０は、炉体１１の上部の外壁１７ａに載せられていてもよい。なお、回転装置５０は、必ずしも上方の軸３３，４３に接続されている必要はない。例えば、回転装置５０は、下方の軸３４，４４に接続されていてもよい。このとき、回転装置５０は、基台１６の、炉体１１が載せられている面とは反対側の空間に設けられうる。回転装置５０は、上方の軸３３，４３および下方の軸３４，４４の両方に接続されていてもよい。
【0038】
回転装置５０に接続されている回転体３１，３２，４１，４２には、回転軸が設定されている。この実施形態では、回転体３１，３２の回転軸は、円柱状の軸３３，３４の軸中心と一致している。回転体４１，４２の回転軸は、円柱状の軸４３，４４の軸中心と一致している。換言すると、回転体３１，３２，４１，４２それぞれの回転軸は、取り付けられている軸３３，３４，４３，４４によって定められている。
【0039】
図２に示されているように、回転装置５０（図１参照）は、回転体３１，３２，４１，４２を回転させることによって、支持姿勢と矯正姿勢とを切り替える。なお、回転体３１，３２，４１，４２は、それぞれ独立に回転を制御可能に構成されていてもよい。回転体３１，３２，４１，４２のうち、いくつかの回転体が同時に回転するように回転が制御されていてもよい。
【0040】
被搬送物Ａを支持する時には、回転装置５０は、回転体３１，３２，４１，４２の第１部３０ａ，４０ａの支持部３０ａ１，４０ａ１が被搬送物Ａを支持可能な位置に移動させるように回転体３１，３２，４１，４２を回転させる。この実施形態では、第１回転体群３０が被搬送物Ａを支持する時には、第１回転体群３０の第１部３０ａは、被搬送物Ａの一対の第２側面Ａ２に向けられるように配置される。第２回転体群４０が被搬送物Ａを支持する時には、第２回転体群４０の第１部４０ａは、被搬送物Ａの一対の第１側面Ａ１に向けられるように配置される。これによって、被搬送物Ａを支持する回転体は、支持姿勢をとる。
【0041】
この時、第１部３０ａ，４０ａの支持部３０ａ１，４０ａ１の上端面３０ａ２，４０ａ２は、被搬送物Ａの下面Ａ４と対向する位置に配置される。これによって、回転体３１，３２，４１，４２は、被搬送物Ａを支持可能になる。この時の回転体３１，３２，４１，４２の角度を、支持角度とも称する。
【0042】
回転体３１，３２，４１，４２が被搬送物Ａを支持しない時には、回転装置５０は、第２部３０ｂ，４０ｂを被搬送物Ａの側面Ａ１，Ａ２に向けるように回転体３１，３２，４１，４２を回転させる。この実施形態では、第１回転体群３０が被搬送物Ａを支持しない時には、第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａの一対の第１側面Ａ１に向けられるように配置される。第２回転体群４０が被搬送物Ａを支持しない時には、第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａの一対の第２側面Ａ２に向けられるように配置される。これによって、被搬送物Ａを支持しない回転体は、矯正姿勢をとる。
【0043】
この時、第２部３０ｂ，４０ｂは、被搬送物Ａのずれを矯正する予め定められた位置に配置される。この時の回転体３１，３２，４１，４２の角度を、矯正角度とも称する。この実施形態では、第２部３０ｂ，４０ｂは、隙間が開けられた状態で被搬送物Ａの側面Ａ１，Ａ２と対向する位置に配置される。被搬送物Ａの位置が横方向（高さ方向と直交する方向）にずれる場合には、第２部３０ｂ，４０ｂが被搬送物Ａの側面Ａ１，Ａ２に当たることによって、被搬送物Ａの位置が矯正されうる。第２部３０ｂ，４０ｂの位置は、被搬送物Ａの寸法に合わせて適宜設定されうる。
【0044】
特に限定されないが、図２に示されている実施形態では、回転体３１，３２，４１，４２は、支持角度から時計回りに２７０度回転することによって、矯正角度に切り替えられる。回転体３１，３２，４１，４２は、矯正角度から反時計回りに２７０度回転することによって、支持角度に切り替えられる。なお、回転体の回転する向きおよび角度は、かかる形態に限定されない。回転体の回転する向きおよび角度は、回転体の数、形状、被搬送物の形状等によって適宜設定されうる。
【0045】
この実施形態では、回転体３１，３２が被搬送物Ａを支持せず、かつ、回転体４１，４２が被搬送物Ａを支持した状態で、被搬送物Ａが搬送される。回転装置５０ｂは、回転体４１，４２を、上述した被搬送物Ａを支持可能な支持位置に移動させる。回転装置５０ａは、回転体３１，３２を、上述した被搬送物Ａのずれを矯正する位置に移動させる。この状態で、回転体３１，３２，４１，４２のうち、被搬送物Ａを支持する回転体４１，４２は、昇降装置５５によって駆動される。これによって、被搬送物Ａが上方に搬送される。
【0046】
〈昇降装置５５〉
昇降装置５５は、回転体を回転軸に沿って昇降させる装置である。昇降装置５５は、複数の回転体３１，３２，４１，４２のうち、回転体４１，４２（第２回転体群４０）を昇降させる。昇降装置５５としては、例えば、シリンダ等が用いられうる。昇降装置５５は、炉体１１の上部の外壁１７ａに設けられている。特に限定されないが、昇降装置５５は、第２回転体群４０に接続された回転装置５０ａを介して第２回転体群４０の上方の軸４３に接続されている。この実施形態では、昇降装置５５は、第２回転体群４０および第２回転体群４０が接続された回転装置５０ｂを昇降させる。
昇降装置５５は、回転体を回転軸に沿って昇降させる装置である。昇降装置５５は、複数の回転体３１，３２，４１，４２のうち、回転体４１，４２（第２回転体群４０）を昇降させる。昇降装置５５としては、例えば、シリンダ等が用いられうる。昇降装置５５は、炉体１１の上部の外壁１７ａに設けられている。特に限定されないが、昇降装置５５は、第２回転体群４０に接続された回転装置５０ａを介して第２回転体群４０の上方の軸４３に接続されている。この実施形態では、昇降装置５５は、第２回転体群４０および第２回転体群４０が接続された回転装置５０ｂを昇降させる。
【0047】
第２回転体群４０は、昇降装置５５によって予め設定された位置に昇降されるように構成されている。昇降装置５５には、第２回転体群４０の基準位置が設定されている。基準位置は、第２回転体群４０を昇降させる基準となる位置である。この実施形態では、昇降しない第１回転体群３０と第２回転体群４０とが同じ高さに配置されるように、基準位置が設定されている。換言すると、第２回転体群４０が基準位置にある時には、第１回転体群３０と第２回転体群４０が同じ高さに配置される。昇降装置５５には、第２回転体群４０を昇降させる際の昇降位置が設定されている。この実施形態では、第２回転体群４０を上昇させる際の上位置が設定されている。上位置は、基準位置から支持部３０ａ１，４０ａ１のピッチ分高い位置に設定されている。昇降装置５５は、第２回転体群４０を、上述した基準位置および上位置よりもわずかに高い位置または低い位置に昇降させることができるように構成されている。これによって、一方の支持部に支持された被搬送物Ａに対して他方の支持部が干渉しない位置に調整されうる。
【0048】
昇降装置５５による第２回転体群４０の昇降と、回転装置５０による第１回転体群３０および第２回転体群４０の回転が組み合わせられることによって、被搬送物Ａは、順次高さ方向に沿って搬送される。この実施形態では、被搬送物Ａは、支持部３０ａ１，４０ａ１のピッチに相当する距離ずつ上方に搬送される。
【0049】
この実施形態では、図１に示されているように、昇降装置５５は、炉体１１上部の外壁１７ａの略中央部に載せられている。昇降装置５５からは、上方に向かってロッド５１が延びている。ロッド５１には、支持板５２が取り付けられている。支持板５２には、回転装置５０ｂが取り付けられている。この実施形態では、支持板５２には、第２回転体群４０の回転体４１，４２に接続された回転装置５０ｂの両方が取り付けられている。これによって、第２回転体群４０の回転体４１，４２それぞれに昇降装置５５を設ける必要がない。また、一対の第２回転体群４０が１つの昇降装置５５に接続されていることによって、第２回転体群４０を昇降させるタイミングを合わせやすい。
【0050】
なお、昇降装置５５は、下方の軸４４に接続されていてもよく、上方の軸４３および下方の軸４４の両方に接続されていてもよい。第２回転体群４０には、それぞれ別の昇降装置５５が接続されていてもよい。この実施形態では、第２回転体群４０のみに昇降装置５５が接続されているが、かかる形態に限定されない。第１回転体群３０および第２回転体群４０の両方に昇降装置５５が接続され、それぞれ独立に昇降可能に構成されていてもよい。
【0051】
ところで、本発明者の試行では、被搬送物が高さ方向に沿って順次搬送される縦型加熱炉を用いて被搬送物を高さ方向に沿って搬送した場合に、被搬送物が横方向（高さ方向と直交する方向）にずれる事象が発生した。被搬送物を下方から上方に向かって順次搬送する縦型加熱炉において、このような被搬送物の横方向へのずれは、上方に向かうほど大きくなりうる。上方に向かうほど被搬送物の横方向へのずれが大きくなるこのような現象は、下方から上方に向かうに従って、被搬送物の横方向のずれが積み重なることに由来すると、本発明者は考えている。
【0052】
上述した実施形態では、縦型加熱炉１０は、炉体１１と、炉内空間１２に設けられた複数の回転体３１，３２，４１，４２と、回転装置５０と、昇降装置５５とを備えている。炉体１１は、高さ方向に沿って被搬送物Ａが搬送される炉内空間１２を内部に有している。複数の回転体３１，３２，４１，４２の回転軸は、被搬送物Ａが搬送される搬送領域１２ａの周囲に高さ方向に沿って設定されている。回転装置５０は、回転体３１，３２，４１，４２を回転軸周りに回転させる。昇降装置５５は、回転体４１，４２を回転軸に沿って昇降させる。複数の回転体３１，３２，４１，４２は、被搬送物Ａを支持する複数の支持部３０ａ１，４０ａ１を有する第１部３０ａ，４０ａと、第１部３０ａ，４０ａとは異なる位置に設けられた第２部３０ｂ，４０ｂとをそれぞれ備えている。複数の支持部３０ａ１，４０ａ１は、第１部３０ａ，４０ａにおいて高さ方向に沿って予め定められた間隔で設けられている。
【0053】
回転体が被搬送物Ａを支持する時には、回転装置５０は、第１部３０ａ，４０ａの支持部３０ａ１，４０ａ１が被搬送物Ａを支持可能な位置に移動するように回転体を回転させ、かつ、昇降装置５５は、複数の回転体３１，３２，４１，４２のうち、被搬送物Ａを支持する回転体を上昇させる。回転体が被搬送物Ａを支持しない時には、回転装置５０は、第２部３０ｂ，４０ｂを被搬送物Ａの側面Ａ１，Ａ２に向けるように回転体を回転させる。第２部３０ｂ，４０ｂは、被搬送物Ａのずれを矯正する予め定められた位置に配置される。
【0054】
かかる構成を有する縦型加熱炉１０では、被搬送物Ａが上昇する時には、被搬送物Ａは、昇降装置５５に接続された回転体群４０の第１部４０ａの支持部４０ａ１に支持されている。この時、被搬送物Ａを支持しない回転体群３０は、第２部３０ｂが被搬送物Ａの側面Ａ１に向けられる。この状態で被搬送物Ａが搬送されることによって、搬送の際に発生しうる被搬送物Ａのずれは、回転体群３０の第２部３０ｂによって適宜矯正されつつ搬送される。このため、縦型加熱炉１０内を搬送される被搬送物Ａは、搬送ずれによる搬送トラブルが起こりにくい。
【0055】
また、上昇した第２回転体群４０が下降する際には、第２回転体群４０の第２部４０ｂが被搬送物Ａの側面Ａ２に向けられる。これによって、被搬送物Ａが側面Ａ２の方向にずれた場合にも、第２回転体群４０の第２部４０ｂによってずれが矯正されうる。このため、縦型加熱炉１０内を搬送される被搬送物Ａは、ずれが矯正された状態で、搬送されやすい。
【0056】
上述した実施形態では、第１回転体群３０が被搬送物Ａを支持しない時には、第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａの一対の第１側面Ａ１に向けられるように配置されている。第２回転体群４０が被搬送物Ａを支持しない時には、第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａの一対の第２側面Ａ２に向けられるように配置されている。このため、被搬送物Ａを支持しない時には、第１回転体群３０と第２回転体群４０は、互いに異なる方向から異なる側面Ａ１，Ａ２を矯正する位置に配置される。これによって、被搬送物Ａは、両方の側面Ａ１，Ａ２から位置を矯正される。その結果、被搬送物Ａの搬送ずれによる搬送トラブルが起こりにくくなる。
【0057】
〈制御装置６０〉
制御装置６０は、回転装置５０および昇降装置５５を制御している。制御装置６０は、例えば、マイクロコンピュータによって実現されている。制御装置６０には、回転装置５０によって回転体３１，３２，４１，４２を回転させる角度およびタイミングがプログラムされている。制御装置６０には、昇降装置５５によって回転体３１，３２，４１，４２を昇降させる高さおよびタイミングがプログラムされている。なお、この実施形態では、昇降装置５５は、回転体３１，３２，４１，４２のうち、回転体４１，４２（第２回転体群４０）を昇降させる。
制御装置６０は、回転装置５０および昇降装置５５を制御している。制御装置６０は、例えば、マイクロコンピュータによって実現されている。制御装置６０には、回転装置５０によって回転体３１，３２，４１，４２を回転させる角度およびタイミングがプログラムされている。制御装置６０には、昇降装置５５によって回転体３１，３２，４１，４２を昇降させる高さおよびタイミングがプログラムされている。なお、この実施形態では、昇降装置５５は、回転体３１，３２，４１，４２のうち、回転体４１，４２（第２回転体群４０）を昇降させる。
【0058】
制御装置６０は、予め定められたプログラムに従って回転装置５０を制御し、回転体３１，３２，４１，４２を回転させる。これによって、制御装置６０は、回転体３１，３２，４１，４２の角度を、被搬送物Ａを支持しうる支持角度と、被搬送物Ａを支持せず被搬送物Ａの位置を矯正する矯正角度とに切り替える。
【0059】
この実施形態では、一対の第１回転体群３０の回転体３１，３２は、同じタイミングで回転し、一対の第２回転体群４０の回転体４１，４２は、同じタイミングで回転するように構成されている。換言すると、制御装置６０は、第１回転体群３０を同じタイミングで回転させるように回転装置５０ａを制御している。制御装置６０は、第２回転体群４０を同じタイミングで回転させるように回転装置５０ｂを制御している。被搬送物Ａは、被搬送物Ａを挟んで一対の第１回転体群３０および一対の第２回転体群４０のうち少なくともいずれかによって支持される。また、第１回転体群３０または第２回転体群４０によって、被搬送物Ａを挟むように両側（この実施形態では、側面Ａ１または側面Ａ２）から矯正される。このため、被搬送物Ａは、側面Ａ１，Ａ２のうち、相対する側面が略同時に支持および矯正される。このため、被搬送物Ａが安定して支持されやすい。
【0060】
制御装置６０は、予め定められたプログラムに従って昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を昇降させる。この実施形態では、制御装置６０は、第２回転体群４０を予め定められた位置に移動させるように、昇降装置５５を制御している。基準位置は、上述したように、昇降装置５５に接続されてない第１回転体群３０と同じ高さになる位置に設定されている。第２回転体群４０が基準位置に位置している時には、第１回転体群３０と第２回転体群４０の上端および下端は、略同一の高さに配置される。第２回転体群４０が上位置に位置している時には、第２回転体群４０は、基準位置よりも支持部３０ａ１，４０ａ１のピッチ分高い位置に配置される。第２回転体群４０が移動する位置としては、上位置および基準位置の他に、上位置および基準位置とはわずかに異なる高さの位置も設定されている。第２回転体群４０を上位置および基準位置よりも高い位置または低い位置に移動させることによって、一方の支持部に支持された被搬送物Ａに対して他方の支持部が干渉することを抑制しうる。換言すると、第２回転体群４０を上位置および基準位置よりもわずかに高い位置または低い位置に移動させることによって、第１回転体群３０と第２回転体群４０との間で被搬送物Ａの受け渡しがスムーズになりうる。なお、回転体が昇降される位置は、かかる位置に限定されない。
【0061】
回転装置５０による第１回転体群３０および第２回転体群４０の回転と、昇降装置５５による第２回転体の昇降が組み合わせられることによって、被搬送物Ａは、下方から上方に向かって順次搬送される。被搬送物Ａは、第１回転体群３０による支持と第２回転体群４０による支持とが繰り返されながら搬送される。以下、制御装置６０によって実現される回転装置５０および昇降装置５５の制御の一例を説明する。
【0062】
図３は、制御装置６０による制御を示すタイムチャートである。図３では、制御装置６０によって回転装置５０および昇降装置５５が制御されることによって実現される第１回転体群３０および第２回転体群４０の動作が時系列に沿って示されている。図３では、第１回転体群３０の角度および位置は二点鎖線で示されており、第２回転体群４０の角度および位置は実線で示されている。図４～図６は、第１回転体群３０および第２回転体群４０の動作を示す模式図である。図４～６では、各ステップで回転体３１，３２，４１，４２が回転する方向は、矢印で示されている。
【0063】
〈ステップＳ０〉
ステップＳ０（図３参照）は、初期状態でありうる。ステップＳ０では、第１回転体群３０および第２回転体群４０の角度は、いずれも支持角度に設定されている。第１回転体群３０の位置は、基準位置に設定されている。第２回転体群４０の位置は、基準位置よりもわずかに低い位置に設定されている。この時、図４に示されているように、第１回転体群３０の第１部３０ａは、被搬送物Ａの第２側面Ａ２に向けられている。第２回転体群４０の第１部４０ａは、被搬送物Ａの第１側面Ａ１に向けられている。被搬送物Ａは、第１回転体群３０の支持部３０ａ１によって支持されている。
ステップＳ０（図３参照）は、初期状態でありうる。ステップＳ０では、第１回転体群３０および第２回転体群４０の角度は、いずれも支持角度に設定されている。第１回転体群３０の位置は、基準位置に設定されている。第２回転体群４０の位置は、基準位置よりもわずかに低い位置に設定されている。この時、図４に示されているように、第１回転体群３０の第１部３０ａは、被搬送物Ａの第２側面Ａ２に向けられている。第２回転体群４０の第１部４０ａは、被搬送物Ａの第１側面Ａ１に向けられている。被搬送物Ａは、第１回転体群３０の支持部３０ａ１によって支持されている。
【0064】
〈ステップＳ１〉
ステップＳ１（図３参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を上昇させる処理を実行する。昇降装置５５は、第２回転体群４０を基準位置よりも高い位置に上昇させる。昇降装置５５は、第２回転体群４０の支持部４０ａ１が被搬送物Ａを支持し、かつ、被搬送物Ａ（または被搬送物Ａに載せられた被処理物）が上方の第１回転体群３０の支持部３０ａ１に当たらない位置まで上昇させる。ここでは、昇降装置５５は、第１回転体群３０よりもわずかに高くなるように第２回転体群４０を上昇させる。これによって、被搬送物Ａは、第２回転体群４０に支持された状態になる。このため、後の処理で第１回転体群３０を回転させた場合にも支持部３０ａ１が被搬送物Ａの側面Ａ２に当たりにくく、被搬送物Ａのずれが生じにくくなる。
ステップＳ１（図３参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を上昇させる処理を実行する。昇降装置５５は、第２回転体群４０を基準位置よりも高い位置に上昇させる。昇降装置５５は、第２回転体群４０の支持部４０ａ１が被搬送物Ａを支持し、かつ、被搬送物Ａ（または被搬送物Ａに載せられた被処理物）が上方の第１回転体群３０の支持部３０ａ１に当たらない位置まで上昇させる。ここでは、昇降装置５５は、第１回転体群３０よりもわずかに高くなるように第２回転体群４０を上昇させる。これによって、被搬送物Ａは、第２回転体群４０に支持された状態になる。このため、後の処理で第１回転体群３０を回転させた場合にも支持部３０ａ１が被搬送物Ａの側面Ａ２に当たりにくく、被搬送物Ａのずれが生じにくくなる。
【0065】
〈ステップＳ２〉
ステップＳ２（図３参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ａを制御し、第１回転体群３０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ａは、第１回転体群３０を２７０度時計回りに回転させる。図５に示されているように、第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａの第１側面Ａ１に向けられる。このとき、第１回転体群３０の角度は、矯正角度に設定される。これによって、第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａのずれを第１側面Ａ１側から矯正する位置に配置される。第２回転体群４０の角度は、支持角度のままである。
ステップＳ２（図３参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ａを制御し、第１回転体群３０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ａは、第１回転体群３０を２７０度時計回りに回転させる。図５に示されているように、第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａの第１側面Ａ１に向けられる。このとき、第１回転体群３０の角度は、矯正角度に設定される。これによって、第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａのずれを第１側面Ａ１側から矯正する位置に配置される。第２回転体群４０の角度は、支持角度のままである。
【0066】
〈ステップＳ３〉
ステップＳ３（図３参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を上昇させる処理を実行する。このとき、第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａの第１側面Ａ１に向けられた状態である。この実施形態では、昇降装置５５は、支持部３０ａ１，４０ａ１のピッチ分、第２回転体群４０を上昇させる。これによって、被搬送物Ａを支持する第２回転体群４０は、上位置よりも上方に持ち上げられる。被搬送物Ａは、一段上方の支持部３０ａ１よりも上方であり、かつ、後の処理で第１回転体群３０が回転する際にも支持部３０ａ１が被搬送物Ａの側面Ａ２に当たらない位置に持ち上げられる。
ステップＳ３（図３参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を上昇させる処理を実行する。このとき、第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａの第１側面Ａ１に向けられた状態である。この実施形態では、昇降装置５５は、支持部３０ａ１，４０ａ１のピッチ分、第２回転体群４０を上昇させる。これによって、被搬送物Ａを支持する第２回転体群４０は、上位置よりも上方に持ち上げられる。被搬送物Ａは、一段上方の支持部３０ａ１よりも上方であり、かつ、後の処理で第１回転体群３０が回転する際にも支持部３０ａ１が被搬送物Ａの側面Ａ２に当たらない位置に持ち上げられる。
【0067】
〈ステップＳ４〉
ステップＳ４（図３参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ａを制御し、第１回転体群３０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ａは、第１回転体群３０を２７０度反時計回りに回転させる。図４に示されているように、第１回転体群３０の第１部３０ａは、再び被搬送物Ａの第２側面Ａ２に向けられる。第１回転体群３０の角度は、支持角度に設定される。これによって、第１回転体群３０の第１部３０ａの支持部３０ａ１は、被搬送物Ａを支持する位置に配置される。第１回転体群３０の角度および第２回転体群４０の角度は、いずれも支持角度に設定される。
ステップＳ４（図３参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ａを制御し、第１回転体群３０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ａは、第１回転体群３０を２７０度反時計回りに回転させる。図４に示されているように、第１回転体群３０の第１部３０ａは、再び被搬送物Ａの第２側面Ａ２に向けられる。第１回転体群３０の角度は、支持角度に設定される。これによって、第１回転体群３０の第１部３０ａの支持部３０ａ１は、被搬送物Ａを支持する位置に配置される。第１回転体群３０の角度および第２回転体群４０の角度は、いずれも支持角度に設定される。
【0068】
〈ステップＳ５〉
ステップＳ５（図３参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を下降させる処理を実行する。昇降装置５５は、第２回転体群４０を、第１回転体群３０の支持部３０ａ１が被搬送物Ａを支持する位置まで下降させる。ここでは、昇降装置５５は、第２回転体群４０を上位置まで下降させる。これによって、被搬送物Ａは、第２回転体群４０から第１回転体群３０に受け渡され、第１回転体群３０に支持された状態になる。このため、後の処理で第２回転体群４０を回転させた場合にも支持部４０ａ１が被搬送物Ａの側面Ａ１に当たりにくく、被搬送物Ａのずれが生じにくくなる。
ステップＳ５（図３参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を下降させる処理を実行する。昇降装置５５は、第２回転体群４０を、第１回転体群３０の支持部３０ａ１が被搬送物Ａを支持する位置まで下降させる。ここでは、昇降装置５５は、第２回転体群４０を上位置まで下降させる。これによって、被搬送物Ａは、第２回転体群４０から第１回転体群３０に受け渡され、第１回転体群３０に支持された状態になる。このため、後の処理で第２回転体群４０を回転させた場合にも支持部４０ａ１が被搬送物Ａの側面Ａ１に当たりにくく、被搬送物Ａのずれが生じにくくなる。
【0069】
〈ステップＳ６〉
ステップＳ６（図３参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ｂを制御し、第２回転体群４０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ｂは、第２回転体群４０を２７０度時計回りに回転させる。図６に示されているように、第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａの第２側面Ａ２に向けられる。このとき、第２回転体群４０の角度は、矯正角度に設定されている。第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａのずれを第２側面Ａ２側から矯正する位置に配置される。第１回転体群３０の角度は、支持角度に設定されている。
ステップＳ６（図３参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ｂを制御し、第２回転体群４０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ｂは、第２回転体群４０を２７０度時計回りに回転させる。図６に示されているように、第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａの第２側面Ａ２に向けられる。このとき、第２回転体群４０の角度は、矯正角度に設定されている。第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａのずれを第２側面Ａ２側から矯正する位置に配置される。第１回転体群３０の角度は、支持角度に設定されている。
【0070】
〈ステップＳ７〉
ステップＳ７（図３参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を下降させる処理を実行する。このとき、第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａの第２側面Ａ２に向けられた状態である。昇降装置５５は、被搬送物Ａが第１回転体群３０に支持される位置まで第２回転体群４０を下降させる。昇降装置５５は、第２回転体群４０を、後の処理で第２回転体群４０が回転する際にも支持部４０ａ１が被搬送物Ａの側面に当たらない位置まで下降させる。ここでは、昇降装置５５は、第２回転体群４０が基準位置よりもわずかに低くなるように、支持部３０ａ１，４０ａ１のピッチ分、第２回転体群４０を下降させる。第２回転体群４０は、第２部４０ｂを被搬送物Ａの側面Ａ２に向けた状態で下降する。なお、被搬送物Ａは、第１回転体群３０に支持されているため、昇降されない。
ステップＳ７（図３参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を下降させる処理を実行する。このとき、第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａの第２側面Ａ２に向けられた状態である。昇降装置５５は、被搬送物Ａが第１回転体群３０に支持される位置まで第２回転体群４０を下降させる。昇降装置５５は、第２回転体群４０を、後の処理で第２回転体群４０が回転する際にも支持部４０ａ１が被搬送物Ａの側面に当たらない位置まで下降させる。ここでは、昇降装置５５は、第２回転体群４０が基準位置よりもわずかに低くなるように、支持部３０ａ１，４０ａ１のピッチ分、第２回転体群４０を下降させる。第２回転体群４０は、第２部４０ｂを被搬送物Ａの側面Ａ２に向けた状態で下降する。なお、被搬送物Ａは、第１回転体群３０に支持されているため、昇降されない。
【0071】
〈ステップＳ８〉
ステップＳ８（図３参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ｂを制御し、第２回転体群４０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ｂは、第２回転体群４０を２７０度反時計回りに回転させる。図４に示されているように、第２回転体群４０の第１部４０ａは、再び被搬送物Ａの第１側面Ａ１に向けられる。このとき、第１回転体群３０の角度および第２回転体群４０の角度は、支持角度に設定されている。
ステップＳ８（図３参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ｂを制御し、第２回転体群４０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ｂは、第２回転体群４０を２７０度反時計回りに回転させる。図４に示されているように、第２回転体群４０の第１部４０ａは、再び被搬送物Ａの第１側面Ａ１に向けられる。このとき、第１回転体群３０の角度および第２回転体群４０の角度は、支持角度に設定されている。
【0072】
ステップＳ８で第２回転体群４０の角度が支持角度に設定された後は、再びステップＳ１の処理が実行される。制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を基準位置よりも高い位置に上昇させる。ここでは、昇降装置５５は、第２回転体群４０を基準位置よりもわずかに高い位置に上昇させる。これによって、被搬送物Ａは、第１回転体群３０から第２回転体群４０に受け渡され、第２回転体群４０に支持された状態になる。
【0073】
このように、ステップＳ１～Ｓ８の処理によって、被搬送物Ａは、一段ずつ上方の支持部３０ａ１，４０ａ１に搬送される。縦型加熱炉１０では、制御装置６０によって、ステップＳ１～Ｓ８の処理が繰り返し実行されうる。このとき、昇降装置５５によって昇降される回転体は、第２回転体群４０に限られている。このため、制御装置６０による制御がシンプルになりうる。また、回転体３１，３２が昇降されないため、回転体３１，３２，４１，４２の駆動がシンプルになる。これによって、比較的簡易な装置構成が実現されうる。また、第１回転体群３０の駆動が回転だけになるため、第１回転体群３０に取り付けられている軸３３，３４と炉体１１との間のシール材が劣化しにくくなる。これによって、耐久性やメンテナンス性が良好でありうる。
【0074】
また、上述した実施形態では、第１回転体群３０の第２部３０ｂが被搬送物Ａの側面Ａ１に向けられた状態で被搬送物Ａを支持する第２回転体群４０を上昇させる処理（ステップＳ３）と、第２回転体群４０の第２部４０ｂが被搬送物Ａの側面Ａ２に向けられた状態で被搬送物Ａを支持しない第２回転体４０の下降させる処理（ステップＳ７）とが実行されている。このため、被搬送物Ａが搬送される際に、被搬送物Ａは、第１側面Ａ１側と第２側面Ａ２側から交互に位置矯正される。被搬送物Ａは、第１回転体群３０の第２部３０ｂによって横方向（前後方向および左右方向）へのずれが適宜矯正されつつ、第２回転体群４０によって高さ方向に沿って順次搬送される。このため、被搬送物Ａが搬送時にずれることによる搬送トラブルが起こりにくい。
【0075】
上述した実施形態では、第１回転体群３０は昇降されず、第２回転体群４０の昇降によって被搬送物Ａが順次上方に搬送されている。しかしながら、縦型加熱炉１０で実現される被搬送物Ａの搬送および制御装置６０による制御は、上述した形態に限定されない。例えば、第１回転体群３０にも、第２回転体群４０と同様に昇降装置が接続されていてもよい。第１回転体群３０に接続される昇降装置は、第２回転体群４０に接続されている昇降装置５５とは異なるタイミングで昇降可能に構成されうる。以下、第１回転体群３０および第２回転体群４０の両方が昇降可能な形態について説明する。なお、以下で説明する形態では、第１回転体群３０にも制御装置６０によって制御される昇降装置５５が接続されていること、および、制御装置６０では上述した実施形態とは異なる制御が実行されること以外は、上述した実施形態と同様である。
【0076】
図７は、制御装置６０による制御を示すタイムチャートである。図７では、他の実施形態にかかる制御装置６０の制御が示されている。図７では、図３と同様に、第１回転体群３０の角度および位置は二点鎖線で示されており、第２回転体群４０の角度および位置は実線で示されている。
【0077】
〈ステップＳ０～Ｓ７〉
はじめに、上述した実施形態と同様に、ステップＳ０～Ｓ７（図７参照）の処理が実行される。これによって、被搬送物Ａは、第２回転体群４０によって一段上方の支持部３０ａ１に搬送され、第１回転体群３０によって支持される。このとき、第１回転体群３０の角度は、支持角度に設定されている。第１回転体群３０は、基準位置に配置されている。第２回転体群４０の角度は、矯正角度に設定されている。第２回転体群４０は、基準位置よりも低く、かつ、被搬送物Ａと干渉しない位置に配置されている。この実施形態では、ステップ７以降のステップＳ１１～Ｓ２０では、上述した実施形態とは異なる制御が実行される。
はじめに、上述した実施形態と同様に、ステップＳ０～Ｓ７（図７参照）の処理が実行される。これによって、被搬送物Ａは、第２回転体群４０によって一段上方の支持部３０ａ１に搬送され、第１回転体群３０によって支持される。このとき、第１回転体群３０の角度は、支持角度に設定されている。第１回転体群３０は、基準位置に配置されている。第２回転体群４０の角度は、矯正角度に設定されている。第２回転体群４０は、基準位置よりも低く、かつ、被搬送物Ａと干渉しない位置に配置されている。この実施形態では、ステップ７以降のステップＳ１１～Ｓ２０では、上述した実施形態とは異なる制御が実行される。
【0078】
〈ステップＳ１１〉
ステップＳ１１（図７参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第１回転体群３０を上昇させる処理を実行する。ここでは、第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａの側面Ａ２に向けられた状態である。昇降装置５５は、第１回転体群３０を上位置よりも上方まで上昇させる。これによって、被搬送物Ａは、一段上方の支持部４０ａ１よりも上方であり、かつ、後の処理で第２回転体群４０が回転する際にも支持部４０ａ１が被搬送物Ａの側面に当たらない位置に持ち上げられる。また、ステップＳ１１では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を基準位置まで上昇させる。
ステップＳ１１（図７参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第１回転体群３０を上昇させる処理を実行する。ここでは、第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａの側面Ａ２に向けられた状態である。昇降装置５５は、第１回転体群３０を上位置よりも上方まで上昇させる。これによって、被搬送物Ａは、一段上方の支持部４０ａ１よりも上方であり、かつ、後の処理で第２回転体群４０が回転する際にも支持部４０ａ１が被搬送物Ａの側面に当たらない位置に持ち上げられる。また、ステップＳ１１では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を基準位置まで上昇させる。
【0079】
〈ステップＳ１２〉
ステップＳ１２（図７参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ｂを制御し、第２回転体群４０を回転させる処理（図４参照）を実行する。これによって、第１回転体群３０の角度および第２回転体群４０の角度は、いずれも支持角度に設定される。
ステップＳ１２（図７参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ｂを制御し、第２回転体群４０を回転させる処理（図４参照）を実行する。これによって、第１回転体群３０の角度および第２回転体群４０の角度は、いずれも支持角度に設定される。
【0080】
〈ステップＳ１３〉
ステップＳ１３（図７参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第１回転体群３０を下降させる処理を実行する。昇降装置５５は、第１回転体群３０を、第２回転体群４０の支持部４０ａ１が被搬送物Ａを支持し、かつ、第１回転体群３０の支持部３０ａ１が被搬送物Ａに当たらない位置まで下降させる。ここでは、昇降装置５５は、第１回転体群３０を上位置よりもわずかに下方に下降させる。これによって、被搬送物Ａは、第２回転体群４０に支持される。
ステップＳ１３（図７参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第１回転体群３０を下降させる処理を実行する。昇降装置５５は、第１回転体群３０を、第２回転体群４０の支持部４０ａ１が被搬送物Ａを支持し、かつ、第１回転体群３０の支持部３０ａ１が被搬送物Ａに当たらない位置まで下降させる。ここでは、昇降装置５５は、第１回転体群３０を上位置よりもわずかに下方に下降させる。これによって、被搬送物Ａは、第２回転体群４０に支持される。
【0081】
〈ステップＳ１４〉
ステップＳ１４（図７参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ａを制御し、第１回転体群３０を回転させる処理（図５参照）を実行する。これによって、第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａのずれを第１側面Ａ１側から矯正する位置に配置される。これによって、被搬送物Ａがずれている場合にも、第１側面Ａ１側から被搬送物Ａの位置が矯正されうる。
ステップＳ１４（図７参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ａを制御し、第１回転体群３０を回転させる処理（図５参照）を実行する。これによって、第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａのずれを第１側面Ａ１側から矯正する位置に配置される。これによって、被搬送物Ａがずれている場合にも、第１側面Ａ１側から被搬送物Ａの位置が矯正されうる。
【0082】
〈ステップＳ１５〉
ステップＳ１５（図７参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第１回転体群３０を下降させる処理を実行する。昇降装置５５は、被搬送物Ａが第２回転体群４０に支持される位置まで第１回転体群３０を下降させる。ここでは、昇降装置５５は、第１回転体群３０が基準位置よりもわずかに低くなるように、第１回転体群３０を下降させる。これによって、被搬送物Ａは、第２回転体群４０に支持される。
ステップＳ１５（図７参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第１回転体群３０を下降させる処理を実行する。昇降装置５５は、被搬送物Ａが第２回転体群４０に支持される位置まで第１回転体群３０を下降させる。ここでは、昇降装置５５は、第１回転体群３０が基準位置よりもわずかに低くなるように、第１回転体群３０を下降させる。これによって、被搬送物Ａは、第２回転体群４０に支持される。
【0083】
〈ステップＳ１６〉
ステップＳ１６（図７参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を上昇させる処理を実行する。ここでは、第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａの側面Ａ１に向けられた状態である。昇降装置５５は、第２回転体群４０を上位置よりも上方まで上昇させる。これによって、被搬送物Ａは、一段上方の支持部３０ａ１よりも上方であり、かつ、後の処理で第１回転体群３０が回転する際にも支持部３０ａ１が被搬送物Ａの側面Ａ２に当たらない位置に持ち上げられる。また、ステップＳ１６では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第１回転体群３０を基準位置まで上昇させる。
ステップＳ１６（図７参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を上昇させる処理を実行する。ここでは、第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａの側面Ａ１に向けられた状態である。昇降装置５５は、第２回転体群４０を上位置よりも上方まで上昇させる。これによって、被搬送物Ａは、一段上方の支持部３０ａ１よりも上方であり、かつ、後の処理で第１回転体群３０が回転する際にも支持部３０ａ１が被搬送物Ａの側面Ａ２に当たらない位置に持ち上げられる。また、ステップＳ１６では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第１回転体群３０を基準位置まで上昇させる。
【0084】
〈ステップＳ１７〉
ステップＳ１７（図７参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ａを制御し、第１回転体群３０を回転させる処理（図４参照）を実行する。第１回転体群３０の角度および第２回転体群４０の角度は、いずれも支持角度に設定される。
ステップＳ１７（図７参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ａを制御し、第１回転体群３０を回転させる処理（図４参照）を実行する。第１回転体群３０の角度および第２回転体群４０の角度は、いずれも支持角度に設定される。
【0085】
〈ステップＳ１８〉
ステップＳ１８（図７参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第１回転体群３０を下降させる処理を実行する。昇降装置５５は、第２回転体群４０を、第１回転体群３０の支持部３０ａ１が被搬送物Ａを支持し、かつ、第２回転体群４０の支持部４０ａ１が被搬送物Ａに当たらない位置まで下降させる。ここでは、昇降装置５５は、第２回転体群４０を上位置よりもわずかに下方に下降させる。これによって、被搬送物Ａは、第１回転体群３０に支持される。
ステップＳ１８（図７参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第１回転体群３０を下降させる処理を実行する。昇降装置５５は、第２回転体群４０を、第１回転体群３０の支持部３０ａ１が被搬送物Ａを支持し、かつ、第２回転体群４０の支持部４０ａ１が被搬送物Ａに当たらない位置まで下降させる。ここでは、昇降装置５５は、第２回転体群４０を上位置よりもわずかに下方に下降させる。これによって、被搬送物Ａは、第１回転体群３０に支持される。
【0086】
〈ステップＳ１９〉
ステップＳ１９（図７参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ｂを制御し、第２回転体群４０を回転させる処理（図６参照）を実行する。これによって、第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａのずれを第２側面Ａ２側から矯正する位置に配置される。これによって、被搬送物Ａがずれている場合にも、第２側面Ａ２側から被搬送物Ａの位置が矯正されうる。
ステップＳ１９（図７参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ｂを制御し、第２回転体群４０を回転させる処理（図６参照）を実行する。これによって、第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａのずれを第２側面Ａ２側から矯正する位置に配置される。これによって、被搬送物Ａがずれている場合にも、第２側面Ａ２側から被搬送物Ａの位置が矯正されうる。
【0087】
〈ステップＳ２０〉
ステップＳ２０（図７参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を下降させる処理を実行する。昇降装置５５は、被搬送物Ａが第１回転体群３０に支持される位置まで第２回転体群４０を下降させる。昇降装置５５は、後の処理で第２回転体群４０が回転する際にも支持部４０ａ１が被搬送物Ａの側面に当たらない位置まで下降させる。ここでは、昇降装置５５は、第２回転体群４０が基準位置よりもわずかに低くなるように、第２回転体群４０を下降させる。これによって、被搬送物Ａは、第１回転体群３０に支持される。
ステップＳ２０（図７参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を下降させる処理を実行する。昇降装置５５は、被搬送物Ａが第１回転体群３０に支持される位置まで第２回転体群４０を下降させる。昇降装置５５は、後の処理で第２回転体群４０が回転する際にも支持部４０ａ１が被搬送物Ａの側面に当たらない位置まで下降させる。ここでは、昇降装置５５は、第２回転体群４０が基準位置よりもわずかに低くなるように、第２回転体群４０を下降させる。これによって、被搬送物Ａは、第１回転体群３０に支持される。
【0088】
このように、ステップＳ１１～Ｓ２０の処理によって、被搬送物Ａは、第１回転体群３０および第２回転体群４０に交互に持ち上げられる。これによって、被搬送物Ａは、一段ずつ上方の支持部３０ａ１，４０ａ１に搬送される。縦型加熱炉１０では、制御装置６０によって、ステップＳ１１～Ｓ２０の処理が繰り返し実行されうる。ここでは、第２回転体群４０の第２部４０ｂが被搬送物Ａの側面Ａ２に向けられた状態で被搬送物Ａを支持する第１回転体群３０を上昇させる処理（ステップＳ１１）と、第１回転体群３０の第２部３０ｂが被搬送物Ａの側面Ａ１に向けられた状態で被搬送物Ａを支持する第２回転体群４０を上昇させる処理（ステップＳ１６）とが実行される。これによって、被搬送物Ａは、第１回転体群３０および第２回転体群４０によって交互に一段ずつ搬送される。被搬送物Ａは、同じ回転体群によって連続的に搬送されない。被搬送物Ａは、第１回転体群３０および第２回転体群４０によって、交互に搬送および位置矯正される。このため、被搬送物Ａの搬送ずれによる搬送トラブルが起こりにくい。
【0089】
また、制御装置６０では、より簡潔な制御が実行されるように構成されていてもよい。図８は、他の実施形態にかかる制御装置６０による制御を示すタイムチャートである。図８では、図３と同様に、第１回転体群３０の角度および位置は二点鎖線で示されており、第２回転体群４０の角度および位置は実線で示されている。図８に示されている実施形態では、図３に示されている実施形態とは異なり、第２回転体群４０は、制御装置６０によって基準位置および上位置のうちいずれかの位置に制御される。
【0090】
〈ステップＳ３０〉
ステップＳ３０（図８参照）は、初期状態でありうる。ステップＳ３０では、第１回転体群３０および第２回転体群４０の角度は、いずれも支持角度に設定されている。第１回転体群３０および第２回転体群４０の位置は、いずれも基準位置に設定されている。この時、図４に示されているように、第１回転体群３０の第１部３０ａは、被搬送物Ａの第２側面Ａ２に向けられている。第２回転体群４０の第１部４０ａは、被搬送物Ａの第１側面Ａ１に向けられている。被搬送物Ａは、第１回転体群３０の支持部３０ａ１および第２回転体群４０の支持部４０ａ１によって支持されうる。
ステップＳ３０（図８参照）は、初期状態でありうる。ステップＳ３０では、第１回転体群３０および第２回転体群４０の角度は、いずれも支持角度に設定されている。第１回転体群３０および第２回転体群４０の位置は、いずれも基準位置に設定されている。この時、図４に示されているように、第１回転体群３０の第１部３０ａは、被搬送物Ａの第２側面Ａ２に向けられている。第２回転体群４０の第１部４０ａは、被搬送物Ａの第１側面Ａ１に向けられている。被搬送物Ａは、第１回転体群３０の支持部３０ａ１および第２回転体群４０の支持部４０ａ１によって支持されうる。
【0091】
〈ステップＳ３１〉
ステップＳ３１（図８参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ａを制御し、第１回転体群３０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ａは、第１回転体群３０を２７０度時計回りに回転させる。図５に示されているように、第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａの第１側面Ａ１に向けられる。このとき、第１回転体群３０の角度は、矯正角度に設定される。これによって、第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａのずれを第１側面Ａ１側から矯正する位置に配置される。第２回転体群４０の角度は、支持角度のままである。
ステップＳ３１（図８参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ａを制御し、第１回転体群３０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ａは、第１回転体群３０を２７０度時計回りに回転させる。図５に示されているように、第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａの第１側面Ａ１に向けられる。このとき、第１回転体群３０の角度は、矯正角度に設定される。これによって、第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａのずれを第１側面Ａ１側から矯正する位置に配置される。第２回転体群４０の角度は、支持角度のままである。
【0092】
〈ステップＳ３２〉
ステップＳ３２（図８参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を上昇させる処理を実行する。このとき、第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａの第１側面Ａ１に向けられた状態である。この実施形態では、昇降装置５５は、第２回転体群４０を上位置まで上昇させる。被搬送物Ａは、一段上方の支持部４０ａ１の位置に持ち上げられる。
ステップＳ３２（図８参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を上昇させる処理を実行する。このとき、第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａの第１側面Ａ１に向けられた状態である。この実施形態では、昇降装置５５は、第２回転体群４０を上位置まで上昇させる。被搬送物Ａは、一段上方の支持部４０ａ１の位置に持ち上げられる。
【0093】
〈ステップＳ３３〉
ステップＳ３３（図８参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ａを制御し、第１回転体群３０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ａは、第１回転体群３０を２７０度反時計回りに回転させる。図４に示されているように、第１回転体群３０の第１部３０ａは、再び被搬送物Ａの第２側面Ａ２に向けられる。第１回転体群３０の角度は、支持角度に設定される。これによって、第１回転体群３０の第１部３０ａの支持部３０ａ１は、被搬送物Ａを支持する位置に配置される。第１回転体群３０の角度および第２回転体群４０の角度は、いずれも支持角度に設定される。
ステップＳ３３（図８参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ａを制御し、第１回転体群３０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ａは、第１回転体群３０を２７０度反時計回りに回転させる。図４に示されているように、第１回転体群３０の第１部３０ａは、再び被搬送物Ａの第２側面Ａ２に向けられる。第１回転体群３０の角度は、支持角度に設定される。これによって、第１回転体群３０の第１部３０ａの支持部３０ａ１は、被搬送物Ａを支持する位置に配置される。第１回転体群３０の角度および第２回転体群４０の角度は、いずれも支持角度に設定される。
【0094】
〈ステップＳ３４〉
ステップＳ３４（図８参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ｂを制御し、第２回転体群４０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ｂは、第２回転体群４０を２７０度時計回りに回転させる。図６に示されているように、第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａの第２側面Ａ２に向けられる。このとき、第２回転体群４０の角度は、矯正角度に設定されている。第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａのずれを第２側面Ａ２側から矯正する位置に配置される。第１回転体群３０の角度は、支持角度に設定されている。被搬送物Ａは、第１回転体群３０によって支持されている。
ステップＳ３４（図８参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ｂを制御し、第２回転体群４０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ｂは、第２回転体群４０を２７０度時計回りに回転させる。図６に示されているように、第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａの第２側面Ａ２に向けられる。このとき、第２回転体群４０の角度は、矯正角度に設定されている。第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａのずれを第２側面Ａ２側から矯正する位置に配置される。第１回転体群３０の角度は、支持角度に設定されている。被搬送物Ａは、第１回転体群３０によって支持されている。
【0095】
〈ステップＳ３５〉
ステップＳ３５（図８参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を下降させる処理を実行する。このとき、第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａの第２側面Ａ２に向けられた状態である。昇降装置５５は、被搬送物Ａが第１回転体群３０に支持される位置まで第２回転体群４０を下降させる。ここでは、昇降装置５５は、第２回転体群４０を基準位置まで下降させる。第２回転体群４０は、第２部４０ｂを被搬送物Ａの側面Ａ２に向けた状態で下降する。なお、被搬送物Ａは、第１回転体群３０に支持されているため、昇降されない。
ステップＳ３５（図８参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を下降させる処理を実行する。このとき、第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａの第２側面Ａ２に向けられた状態である。昇降装置５５は、被搬送物Ａが第１回転体群３０に支持される位置まで第２回転体群４０を下降させる。ここでは、昇降装置５５は、第２回転体群４０を基準位置まで下降させる。第２回転体群４０は、第２部４０ｂを被搬送物Ａの側面Ａ２に向けた状態で下降する。なお、被搬送物Ａは、第１回転体群３０に支持されているため、昇降されない。
【0096】
〈ステップＳ３６〉
ステップＳ３６（図８参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ｂを制御し、第２回転体群４０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ｂは、第２回転体群４０を２７０度反時計回りに回転させる。図４に示されているように、第２回転体群４０の第１部４０ａは、再び被搬送物Ａの第１側面Ａ１に向けられる。このとき、第１回転体群３０の角度および第２回転体群４０の角度は、支持角度に設定されている。
ステップＳ３６（図８参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ｂを制御し、第２回転体群４０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ｂは、第２回転体群４０を２７０度反時計回りに回転させる。図４に示されているように、第２回転体群４０の第１部４０ａは、再び被搬送物Ａの第１側面Ａ１に向けられる。このとき、第１回転体群３０の角度および第２回転体群４０の角度は、支持角度に設定されている。
【0097】
ステップＳ３６で第２回転体群４０の角度が支持角度に設定された後は、再びステップＳ３１の処理が実行される。これによって、被搬送物Ａは、第１回転体群３０によって被搬送物Ａのずれが調整された状態で第２回転体群４０によって一段上方の支持部３０ａ１に受け渡され、一段ずつ上方に搬送される。また、この実施形態では、回転体（この実施形態では、第２回転体群４０）が基準位置および上位置のいずれかに位置するように設定されている。これによって、より簡潔な制御によって被搬送物Ａは、搬送方向に搬送されうる。
【0098】
また、制御装置６０は、第１回転体群３０および第２回転体群４０の角度を、支持角度および矯正角度以外の角度に制御してもよい。図９は、第１回転体群３０および第２回転体群４０の模式図である。図９では、第１回転体群３０および第２回転体群４０には、退避角度が設定されている。退避角度では、第２部３０ｂ，４０ｂは、矯正角度よりも被搬送物Ａから離れた位置に配置される。図９では、回転体３１，３２，４１，４２が支持角度に設定されている場合は実線、矯正角度に設定されている場合は二点鎖線、退避角度に設定されている場合は破線で示されている。退避角度は、支持角度と矯正角度の間の角度に設定されている。この実施形態では、退避角度は、矯正角度よりも９０度反時計回りに回転した位置であり、支持角度よりも１８０度時計回りに回転した位置である。なお、支持角度は、かかる角度に限定されず、矯正角度と支持角度の間の任意の角度に設定されうる。
【0099】
図１０は、他の実施形態にかかる制御装置６０による制御を示すタイムチャートである。図１０では、回転装置５０によって回転体３１，３２，４１，４２を回転させる角度として、退避角度が設定されている制御装置６０の制御が示されている。図１０では、図３と同様に、第１回転体群３０の角度および位置は二点鎖線で示されており、第２回転体群４０の角度および位置は実線で示されている。
【0100】
〈ステップＳ４０〉
ステップＳ４０（図１０参照）は、初期状態でありうる。ステップＳ４０では、第１回転体群３０および第２回転体群４０の角度は、いずれも支持角度に設定されている。第１回転体群３０の位置は、基準位置に設定されている。第２回転体群４０の位置は、基準位置よりもわずかに低い位置に設定されている。
ステップＳ４０（図１０参照）は、初期状態でありうる。ステップＳ４０では、第１回転体群３０および第２回転体群４０の角度は、いずれも支持角度に設定されている。第１回転体群３０の位置は、基準位置に設定されている。第２回転体群４０の位置は、基準位置よりもわずかに低い位置に設定されている。
【0101】
〈ステップＳ４１〉
ステップＳ４１（図１０参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を上昇させる処理を実行する。昇降装置５５は、第２回転体群４０を基準位置よりも高い位置に上昇させる。ここでは、昇降装置５５は、第１回転体群３０よりもわずかに高くなるように第２回転体群４０を上昇させる。これによって、被搬送物Ａは、第２回転体群４０に支持された状態になる。
ステップＳ４１（図１０参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を上昇させる処理を実行する。昇降装置５５は、第２回転体群４０を基準位置よりも高い位置に上昇させる。ここでは、昇降装置５５は、第１回転体群３０よりもわずかに高くなるように第２回転体群４０を上昇させる。これによって、被搬送物Ａは、第２回転体群４０に支持された状態になる。
【0102】
〈ステップＳ４２〉
ステップＳ４２（図１０参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ａを制御し、第１回転体群３０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ａは、第１回転体群３０を２７０度時計回りに回転させる。第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａの第１側面Ａ１に向けられる。このとき、第１回転体群３０の角度は、矯正角度に設定される。これによって、第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａのずれを第１側面Ａ１側から矯正する位置に配置される。第２回転体群４０の角度は、支持角度のままである。
ステップＳ４２（図１０参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ａを制御し、第１回転体群３０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ａは、第１回転体群３０を２７０度時計回りに回転させる。第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａの第１側面Ａ１に向けられる。このとき、第１回転体群３０の角度は、矯正角度に設定される。これによって、第１回転体群３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａのずれを第１側面Ａ１側から矯正する位置に配置される。第２回転体群４０の角度は、支持角度のままである。
【0103】
〈ステップＳ４３〉
ステップＳ４３（図１０参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ａを制御し、第１回転体群３０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ａは、第１回転体群３０を９０度反時計回りに回転させる。これによって、第１回転体群３０は、退避角度に設定される。第１回転体３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａの側面Ａ１から離される。
ステップＳ４３（図１０参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ａを制御し、第１回転体群３０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ａは、第１回転体群３０を９０度反時計回りに回転させる。これによって、第１回転体群３０は、退避角度に設定される。第１回転体３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａの側面Ａ１から離される。
【0104】
〈ステップＳ４４〉
ステップＳ４４（図１０参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を上昇させる処理を実行する。昇降装置５５は、支持部３０ａ１，４０ａ１のピッチ分、第２回転体群４０を上昇させる。これによって、被搬送物Ａを支持する第２回転体群４０は、上位置よりも上方に持ち上げられる。このとき、被搬送物Ａは、第１回転体群３０の第２部３０ｂから離された状態で搬送される。
ステップＳ４４（図１０参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を上昇させる処理を実行する。昇降装置５５は、支持部３０ａ１，４０ａ１のピッチ分、第２回転体群４０を上昇させる。これによって、被搬送物Ａを支持する第２回転体群４０は、上位置よりも上方に持ち上げられる。このとき、被搬送物Ａは、第１回転体群３０の第２部３０ｂから離された状態で搬送される。
【0105】
〈ステップＳ４５〉
ステップＳ４５（図１０参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ａを制御し、第１回転体群３０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ａは、第１回転体群３０を１８０度反時計回りに回転させる。第１回転体群３０の第１部３０ａは、再び被搬送物Ａの第２側面Ａ２に向けられる。第１回転体群３０の角度は、支持角度に設定される。第１回転体群３０の角度および第２回転体群４０の角度は、いずれも支持角度に設定される。
ステップＳ４５（図１０参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ａを制御し、第１回転体群３０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ａは、第１回転体群３０を１８０度反時計回りに回転させる。第１回転体群３０の第１部３０ａは、再び被搬送物Ａの第２側面Ａ２に向けられる。第１回転体群３０の角度は、支持角度に設定される。第１回転体群３０の角度および第２回転体群４０の角度は、いずれも支持角度に設定される。
【0106】
〈ステップＳ４６〉
ステップＳ４６（図１０参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を下降させる処理を実行する。昇降装置５５は、第２回転体群４０を上位置まで下降させる。これによって、被搬送物Ａは、第２回転体群４０から第１回転体群３０に受け渡され、第１回転体群３０に支持された状態になる。
ステップＳ４６（図１０参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を下降させる処理を実行する。昇降装置５５は、第２回転体群４０を上位置まで下降させる。これによって、被搬送物Ａは、第２回転体群４０から第１回転体群３０に受け渡され、第１回転体群３０に支持された状態になる。
【0107】
〈ステップＳ４７〉
ステップＳ４７（図１０参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ｂを制御し、第２回転体群４０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ｂは、第２回転体群４０を２７０度時計回りに回転させる。第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａの第２側面Ａ２に向けられる。このとき、第２回転体群４０の角度は、矯正角度に設定される。これによって、第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａのずれを第２側面Ａ２側から矯正する位置に配置される。第１回転体群３０の角度は、支持角度のままである。
ステップＳ４７（図１０参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ｂを制御し、第２回転体群４０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ｂは、第２回転体群４０を２７０度時計回りに回転させる。第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａの第２側面Ａ２に向けられる。このとき、第２回転体群４０の角度は、矯正角度に設定される。これによって、第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａのずれを第２側面Ａ２側から矯正する位置に配置される。第１回転体群３０の角度は、支持角度のままである。
【0108】
〈ステップＳ４８〉
ステップＳ４８（図１０参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ｂを制御し、第２回転体群４０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ｂは、第２回転体群４０を９０度反時計回りに回転させる。これによって、第２回転体群４０は、退避角度に設定される。第２回転体４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａの側面Ａ２から離される。
ステップＳ４８（図１０参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ｂを制御し、第２回転体群４０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ｂは、第２回転体群４０を９０度反時計回りに回転させる。これによって、第２回転体群４０は、退避角度に設定される。第２回転体４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａの側面Ａ２から離される。
【0109】
〈ステップＳ４９〉
ステップＳ４９（図１０参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を下降させる処理を実行する。昇降装置５５は、支持部３０ａ１，４０ａ１のピッチ分、第２回転体群４０を下降させる。第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａから離れた状態で下降する。
ステップＳ４９（図１０参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、第２回転体群４０を下降させる処理を実行する。昇降装置５５は、支持部３０ａ１，４０ａ１のピッチ分、第２回転体群４０を下降させる。第２回転体群４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａから離れた状態で下降する。
【0110】
〈ステップＳ５０〉
ステップＳ５０（図１０参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ｂを制御し、第２回転体群４０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ｂは、第２回転体群４０を１８０度反時計回りに回転させる。第２回転体群４０の第１部４０ａは、再び被搬送物Ａの第１側面Ａ１に向けられる。このとき、第１回転体群３０の角度および第２回転体群４０の角度は、支持角度に設定されている。
ステップＳ５０（図１０参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ｂを制御し、第２回転体群４０を回転させる処理を実行する。回転装置５０ｂは、第２回転体群４０を１８０度反時計回りに回転させる。第２回転体群４０の第１部４０ａは、再び被搬送物Ａの第１側面Ａ１に向けられる。このとき、第１回転体群３０の角度および第２回転体群４０の角度は、支持角度に設定されている。
【0111】
ステップＳ５０で第２回転体群４０の角度が支持角度に設定された後は、再びステップＳ４１の処理が実行される。このように、ステップＳ４１～Ｓ５０の処理によって、被搬送物Ａは、一段ずつ上方の支持部３０ａ１，４０ａ１に搬送される。昇降装置５５が被搬送物Ａを上昇させる時には、被搬送物Ａを支持しない第１回転体３０の第２部３０ｂは、被搬送物Ａのずれを矯正する予め定められた位置よりも被搬送物Ａから離れた位置に配置される。これによって、被搬送物Ａが上方に搬送される際に被搬送物Ａの側面Ａ１，Ａ２が回転体３１，３２，４１，４２に擦れるような不具合が発生しにくくなる。また、被搬送物Ａが搬送されない時においても、第２回転体群４０が下降する時には、第２回転体４０の第２部４０ｂは、被搬送物Ａから離れた位置に配置された状態で下降するように構成されている。これによって、第２回転体群４０が下降する際に被搬送物Ａの側面Ａ１，Ａ２に擦れるような不具合が発生しにくくなる。
【0112】
以上、制御装置６０による制御の例を複数挙げて被搬送物Ａの搬送について説明したが、被搬送物Ａの搬送は、上述した形態に限定されない。
【0113】
上述した実施形態では、縦型加熱炉１０において、被搬送物Ａが上方に向かって搬送されているが、かかる形態に限定されない。縦型加熱炉１０では、炉体１１の上方に搬入口、下方に搬出口が設定されており、上方から下方に向かって被搬送物Ａが搬送されてもよい。かかる形態は、例えば、制御装置６０にプログラムされている、回転装置５０によって回転体３１，３２，４１，４２を回転させるタイミング、および、昇降装置５５によって回転体３１，３２，４１，４２を昇降させるタイミングを変更することにより、実現されうる。
【0114】
上述した実施形態では、縦型加熱炉１０において、被搬送物Ａは、上下方向に並ぶ支持部３０ａ１，４０ａ１において一段ずつ搬送されているが、かかる形態に限定されない。縦型加熱炉１０では、被搬送物Ａを上下方向に並ぶ支持部３０ａ１，４０ａ１において複数段ずつ搬送されてもよい。かかる形態は、例えば、制御装置６０によって、昇降装置５５が回転体３１，３２，４１，４２を昇降させる高さを変更することにより、実現されうる。このように、制御装置６０の制御プログラムを変更することによって、被搬送物Ａの搬送の方向、速度、タイミング等の搬送条件は、適宜設定されうる。搬送条件は、被処理物の処理条件等に応じて設定されうる。
【0115】
また、回転体３１，３２，４１，４２の構成は、上述した実施形態に限定されず、種々の変更が可能である。図１１は、他の実施形態にかかる縦型加熱炉１０Ａを示す模式図である。図１１では、縦型加熱炉１０Ａの高さ方向を横切る断面が模式的に示されている。図１１に示されている縦型加熱炉１０Ａは、回転体７０を除いて縦型加熱炉１０と同様の構成である。
【0116】
図１１に示されているように、縦型加熱炉１０Ａは、複数の回転体７０（この実施形態では、４つ）を備えている。回転体７０は、高さ方向に延びる略矩形の板状に形成されている（図示省略）。回転体７０の回転軸は、縦型加熱炉１０の高さ方向に沿って設定されている。回転体７０の回転軸は、高さ方向を横切る平面において、回転体７０の略中央部に設定されている。複数の回転体７０の回転軸は、それぞれ回転体３１，３２，４１，４２（図２参照）と同様、搬送領域１２ａの角部の外側に設定されている。
【0117】
この実施形態では、複数の回転体７０は、第１部７０ａと、第２部７０ｂとをそれぞれ備えている。第１部７０ａは、複数の支持部７０ａ１を有している。第２部７０ｂは、被搬送物Ａのずれを矯正する位置に配置される部位である。第２部７０ｂは、第１部７０ａとは異なる位置に設けられている。この実施形態では、第１部７０ａおよび第２部７０ｂは、板状に形成された回転体７０の一方の面（この実施形態では、被搬送物Ａと対向する面）に設けられている。換言すると、第１部７０ａと第２部７０ｂは、同一平面上に設けられている。第１部７０ａおよび第２部７０ｂは、板状に形成された回転体７０の一方の面の略半分に設定されている。第１部７０ａと第２部７０ｂの境界は、高さ方向に沿って形成されている。
【0118】
複数の回転体７０には、それぞれ回転装置５０（図１参照）が接続されている。複数の回転体７０は、回転装置５０によって回転され、支持角度と矯正角度とを切り替えられる。図１１では、支持角度に設定されている回転体７０は実線で示されており、矯正角度に設定されている回転体７０は、破線で示されている。図１１に示されている実施形態では、回転体７０は、支持角度から時計回りに９０度回転することによって、矯正角度に切り替えられる。回転体７０は、矯正角度から反時計回りに９０度回転することによって、支持角度に切り替えられる。
【0119】
以上、具体的な実施形態を挙げて詳細な説明を行ったが、これらは例示にすぎず、請求の範囲を限定するものではない。このように、請求の範囲に記載の技術には、以上に記載した実施形態を様々に変形、変更したものが含まれる。
【0120】
なお、本明細書は以下の項目１～９を含んでいる。以下の項目１～９は、上記した実施形態には限定されない。
【0121】
項目１は、縦型加熱炉に関する。項目１における、縦型加熱炉は、
高さ方向に沿って被搬送物が搬送される炉内空間を内部に有する炉体と、
前記炉内空間に設けられ、前記被搬送物が搬送される搬送領域の周囲に高さ方向に沿って回転軸が設定された複数の回転体と、
前記回転体を前記回転軸周りに回転させる回転装置と、
前記複数の回転体のうち少なくとも１つの回転体を前記回転軸に沿って昇降させる昇降装置と
を備え、
前記複数の回転体は、
前記被搬送物を支持する複数の支持部を有する第１部と、
前記第１部とは異なる位置に設けられた第２部と
をそれぞれ備え、
前記複数の支持部は、前記第１部において高さ方向に沿って予め定められた間隔で設けられており、
前記回転体が前記被搬送物を支持する時には、前記回転装置は、前記第１部の前記支持部が前記被搬送物を支持可能な位置に移動するように前記回転体を回転させ、かつ、前記昇降装置は、前記複数の回転体のうち、前記被搬送物を支持する前記回転体を上昇または下降させ、
前記回転体が前記被搬送物を支持しない時には、前記回転装置は、前記第２部を前記被搬送物の側面に向けるように前記回転体を回転させ、前記第２部は、前記被搬送物のずれを矯正する予め定められた位置に配置される。
高さ方向に沿って被搬送物が搬送される炉内空間を内部に有する炉体と、
前記炉内空間に設けられ、前記被搬送物が搬送される搬送領域の周囲に高さ方向に沿って回転軸が設定された複数の回転体と、
前記回転体を前記回転軸周りに回転させる回転装置と、
前記複数の回転体のうち少なくとも１つの回転体を前記回転軸に沿って昇降させる昇降装置と
を備え、
前記複数の回転体は、
前記被搬送物を支持する複数の支持部を有する第１部と、
前記第１部とは異なる位置に設けられた第２部と
をそれぞれ備え、
前記複数の支持部は、前記第１部において高さ方向に沿って予め定められた間隔で設けられており、
前記回転体が前記被搬送物を支持する時には、前記回転装置は、前記第１部の前記支持部が前記被搬送物を支持可能な位置に移動するように前記回転体を回転させ、かつ、前記昇降装置は、前記複数の回転体のうち、前記被搬送物を支持する前記回転体を上昇または下降させ、
前記回転体が前記被搬送物を支持しない時には、前記回転装置は、前記第２部を前記被搬送物の側面に向けるように前記回転体を回転させ、前記第２部は、前記被搬送物のずれを矯正する予め定められた位置に配置される。
【0122】
項目２は、項目１に記載された縦型加熱炉であって、
前記第２部は、前記第１部が設けられている面とは反対側の面に設けられている。
前記第２部は、前記第１部が設けられている面とは反対側の面に設けられている。
【0123】
項目３は、項目１に記載された縦型加熱炉であって、
前記第１部と前記第２部は、同一平面上に設けられている。
前記第１部と前記第２部は、同一平面上に設けられている。
【0124】
項目４は、項目１～３のいずれかひとつに記載された縦型加熱炉であって、
前記支持部は、前記被搬送物の下面を支持する水平な上端面を有している。
前記支持部は、前記被搬送物の下面を支持する水平な上端面を有している。
【0125】
項目５は、項目１～４のいずれかひとつに記載された縦型加熱炉であって、
前記複数の回転体は、それぞれ対角線上に配置された第１回転体群と、第２回転体群とを含み、前記第１回転体群は、同じタイミングで回転し、前記第２回転体群は、同じタイミングで回転するように構成されている。
前記複数の回転体は、それぞれ対角線上に配置された第１回転体群と、第２回転体群とを含み、前記第１回転体群は、同じタイミングで回転し、前記第２回転体群は、同じタイミングで回転するように構成されている。
【0126】
項目６は、項目５に記載された縦型加熱炉であって、
前記第１回転体群が前記被搬送物を支持しない時には、前記第１回転体群の第２部は、前記被搬送物の一対の第１側面に向けられ、
前記第２回転体群が前記被搬送物を支持しない時には、前記第２回転体群の第２部は、前記被搬送物の、前記一対の第１側面とは異なる一対の第２側面に向けられるように構成されている。
前記第１回転体群が前記被搬送物を支持しない時には、前記第１回転体群の第２部は、前記被搬送物の一対の第１側面に向けられ、
前記第２回転体群が前記被搬送物を支持しない時には、前記第２回転体群の第２部は、前記被搬送物の、前記一対の第１側面とは異なる一対の第２側面に向けられるように構成されている。
【0127】
項目７は、項目５または６に記載された縦型加熱炉であって、
前記回転装置および前記昇降装置を制御する制御装置をさらに備え、
前記制御装置は、
前記第１回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持する前記第２回転体群を上昇または下降させる処理と、
前記第２回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持しない前記第２回転体群を上昇または下降させる処理と
が実行されるように構成されている。
前記回転装置および前記昇降装置を制御する制御装置をさらに備え、
前記制御装置は、
前記第１回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持する前記第２回転体群を上昇または下降させる処理と、
前記第２回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持しない前記第２回転体群を上昇または下降させる処理と
が実行されるように構成されている。
【0128】
項目８は、項目５または６に記載された縦型加熱炉であって、
前記回転装置および前記昇降装置を制御する制御装置をさらに備え、
前記制御装置は、
前記第２回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持する前記第１回転体群を上昇または下降させる処理と、
前記第１回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持する前記第２回転体群を上昇または下降させる処理と
が実行されるように構成されている。
前記回転装置および前記昇降装置を制御する制御装置をさらに備え、
前記制御装置は、
前記第２回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持する前記第１回転体群を上昇または下降させる処理と、
前記第１回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持する前記第２回転体群を上昇または下降させる処理と
が実行されるように構成されている。
【0129】
項目９は、項目１～８のいずれかひとつに記載された縦型加熱炉であって、
前記昇降装置が前記被搬送物を昇降させる時には、前記被搬送物を支持しない前記回転体の前記第２部は、前記被搬送物のずれを矯正する予め定められた位置よりも前記被搬送物から離れた位置に配置される。
前記昇降装置が前記被搬送物を昇降させる時には、前記被搬送物を支持しない前記回転体の前記第２部は、前記被搬送物のずれを矯正する予め定められた位置よりも前記被搬送物から離れた位置に配置される。
【符号の説明】
【0130】
Ａ 被搬送物
Ａ１，Ａ２ 側面
Ａ３ 上面
Ａ４ 下面
１０，１０Ａ 縦型加熱炉
１１ 炉体
１１ａ～１１ｄ 側壁
１１ｅ 底面部
１１ｆ 天井部
１２ 炉内空間
１２ａ 搬送領域
１３ 搬入口
１４ 搬出口
２０ 搬送装置
３０ 第１回転体群
３０ａ，４０ａ 第１部
３０ｂ，４０ｂ 第２部
３０ａ１，４０ａ１ 支持部
３０ａ２，４０ａ２ 上端面
３１，３２，４１，４２ 回転体
３３，３４，４３，４４ 軸
４０ 第２回転体群
５０，５０ａ，５０ｂ 回転装置
５５ 昇降装置
６０ 制御装置
７０ 回転体
Ａ１，Ａ２ 側面
Ａ３ 上面
Ａ４ 下面
１０，１０Ａ 縦型加熱炉
１１ 炉体
１１ａ～１１ｄ 側壁
１１ｅ 底面部
１１ｆ 天井部
１２ 炉内空間
１２ａ 搬送領域
１３ 搬入口
１４ 搬出口
２０ 搬送装置
３０ 第１回転体群
３０ａ，４０ａ 第１部
３０ｂ，４０ｂ 第２部
３０ａ１，４０ａ１ 支持部
３０ａ２，４０ａ２ 上端面
３１，３２，４１，４２ 回転体
３３，３４，４３，４４ 軸
４０ 第２回転体群
５０，５０ａ，５０ｂ 回転装置
５５ 昇降装置
６０ 制御装置
７０ 回転体
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【手続補正書】
【提出日】2023-06-26
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
高さ方向に沿って被搬送物が搬送される炉内空間を内部に有する炉体と、
前記炉内空間に設けられ、前記被搬送物が搬送される搬送領域の周囲に高さ方向に沿って回転軸が設定された複数の回転体と、
前記回転体を前記回転軸周りに回転させる回転装置と、
前記複数の回転体のうち少なくとも１つの回転体を前記回転軸に沿って昇降させる昇降装置と
を備え、
前記複数の回転体は、
前記被搬送物を支持する複数の支持部を有する第１部と、
前記第１部とは異なる位置に設けられた第２部と
をそれぞれ備え、
前記複数の支持部は、前記第１部において高さ方向に沿って予め定められた間隔で設けられており、
前記回転体が前記被搬送物を支持する時には、前記回転装置は、前記第１部の前記支持部が前記被搬送物を支持可能な位置に移動するように前記回転体を回転させ、かつ、前記昇降装置は、前記複数の回転体のうち、前記被搬送物を支持する前記回転体を上昇または下降させ、
前記回転体が前記被搬送物を支持しない時には、前記回転装置は、前記第２部を前記被搬送物の側面に向けるように前記回転体を回転させ、前記第２部は、前記被搬送物のずれを矯正する予め定められた位置であって、前記回転軸の周方向において前記被搬送物の前記側面と対向する位置に配置される、縦型加熱炉。
前記炉内空間に設けられ、前記被搬送物が搬送される搬送領域の周囲に高さ方向に沿って回転軸が設定された複数の回転体と、
前記回転体を前記回転軸周りに回転させる回転装置と、
前記複数の回転体のうち少なくとも１つの回転体を前記回転軸に沿って昇降させる昇降装置と
を備え、
前記複数の回転体は、
前記被搬送物を支持する複数の支持部を有する第１部と、
前記第１部とは異なる位置に設けられた第２部と
をそれぞれ備え、
前記複数の支持部は、前記第１部において高さ方向に沿って予め定められた間隔で設けられており、
前記回転体が前記被搬送物を支持する時には、前記回転装置は、前記第１部の前記支持部が前記被搬送物を支持可能な位置に移動するように前記回転体を回転させ、かつ、前記昇降装置は、前記複数の回転体のうち、前記被搬送物を支持する前記回転体を上昇または下降させ、
前記回転体が前記被搬送物を支持しない時には、前記回転装置は、前記第２部を前記被搬送物の側面に向けるように前記回転体を回転させ、前記第２部は、前記被搬送物のずれを矯正する予め定められた位置であって、前記回転軸の周方向において前記被搬送物の前記側面と対向する位置に配置される、縦型加熱炉。
【請求項2】
前記第２部は、前記第１部が設けられている面とは反対側の面に設けられている、請求項１に記載された縦型加熱炉。
【請求項3】
前記第１部と前記第２部は、同一平面上に設けられている、請求項１に記載された縦型加熱炉。
【請求項4】
前記支持部は、前記被搬送物の下面を支持する水平な上端面を有している、請求項１～３のいずれか一項に記載された縦型加熱炉。
【請求項5】
前記複数の回転体は、それぞれ対角線上に配置された第１回転体群と、第２回転体群とを含み、前記第１回転体群は、同じタイミングで回転し、前記第２回転体群は、同じタイミングで回転するように構成されている、請求項１～３のいずれか一項に記載された縦型加熱炉。
【請求項6】
前記第１回転体群が前記被搬送物を支持しない時には、前記第１回転体群の第２部は、前記被搬送物の一対の第１側面に向けられ、
前記第２回転体群が前記被搬送物を支持しない時には、前記第２回転体群の第２部は、前記被搬送物の、前記一対の第１側面とは異なる一対の第２側面に向けられるように構成されている、請求項５に記載された縦型加熱炉。
前記第２回転体群が前記被搬送物を支持しない時には、前記第２回転体群の第２部は、前記被搬送物の、前記一対の第１側面とは異なる一対の第２側面に向けられるように構成されている、請求項５に記載された縦型加熱炉。
【請求項7】
前記回転装置および前記昇降装置を制御する制御装置をさらに備え、
前記制御装置は、
前記第１回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持する前記第２回転体群を上昇または下降させる処理と、
前記第２回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持しない前記第２回転体群を上昇または下降させる処理と
が実行されるように構成された、請求項５に記載された縦型加熱炉。
前記制御装置は、
前記第１回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持する前記第２回転体群を上昇または下降させる処理と、
前記第２回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持しない前記第２回転体群を上昇または下降させる処理と
が実行されるように構成された、請求項５に記載された縦型加熱炉。
【請求項8】
前記回転装置および前記昇降装置を制御する制御装置をさらに備え、
前記制御装置は、
前記第２回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持する前記第１回転体群を上昇または下降させる処理と、
前記第１回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持する前記第２回転体群を上昇または下降させる処理と、が実行されるように構成された、請求項５に記載された縦型加熱炉。
前記制御装置は、
前記第２回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持する前記第１回転体群を上昇または下降させる処理と、
前記第１回転体群の前記第２部が前記被搬送物の側面に向けられた状態で前記被搬送物を支持する前記第２回転体群を上昇または下降させる処理と、が実行されるように構成された、請求項５に記載された縦型加熱炉。
【請求項9】
前記昇降装置が前記被搬送物を昇降させる時には、前記被搬送物を支持しない前記回転体の前記第２部は、前記被搬送物のずれを矯正する予め定められた位置よりも前記被搬送物から離れた位置に配置される、請求項１～３のいずれか一項に記載された縦型加熱炉。