特開 2024-590 タイヤモールド及びタイヤ

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024000590

(43)【公開日】2024-01-09

(54)【発明の名称】タイヤモールド及びタイヤ

(51)【国際特許分類】

   B29C 33/02 20060101AFI20231226BHJP

   B60C 13/00 20060101ALI20231226BHJP

【ＦＩ】

B29C33/02

B60C13/00 D

【審査請求】未請求

【請求項の数】5

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022099333

(22)【出願日】2022-06-21

(71)【出願人】

【識別番号】000003148

【氏名又は名称】ＴＯＹＯ ＴＩＲＥ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110000729

【氏名又は名称】弁理士法人ユニアス国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】安永 智一

【テーマコード（参考）】

3D131

4F202

【Ｆターム（参考）】

3D131BC31

3D131BC51

3D131GA03

3D131HA01

3D131LA28

4F202AA45

4F202AB03

4F202AG13

4F202AH20

4F202AR12

4F202CA21

4F202CB01

4F202CU01

4F202CU07

(57)【要約】

【課題】ベントホールにスピューが残った場合にもベアの発生を抑制できるタイヤモールド及びタイヤを提供する。
【解決手段】タイヤモールドは、タイヤのサイドウォールを成型するサイド型部を有するタイヤモールドであって、サイド型部は、タイヤ周方向に延びる周方向溝と、タイヤ径方向に延びて周方向溝と交差する径方向溝と、周方向溝と径方向溝の交差部に設けられたベントホールと、ベントホールを挟んでタイヤ周方向第１側に配置される周方向溝の第１部分と径方向溝に接続される溝状の第１バイパス、ベントホールを挟んでタイヤ周方向第２側に配置される周方向溝の第２部分と径方向溝に接続される溝状の第２バイパス、及び径方向溝と交差することなく延びて第１部分と第２部分に接続される溝状の第３バイパスのうち少なくとも一つのバイパスと、を備える。
【選択図】図６

【特許請求の範囲】

【請求項1】

タイヤのサイドウォールを成型するサイド型部を有するタイヤモールドであって、
前記サイド型部は、タイヤ周方向に延びる周方向溝と、
タイヤ径方向に延びて前記周方向溝と交差する径方向溝と、
前記周方向溝と前記径方向溝の交差部に設けられたベントホールと、
前記ベントホールを挟んでタイヤ周方向第１側に配置される前記周方向溝の第１部分と前記径方向溝に接続される溝状の第１バイパス、前記ベントホールを挟んでタイヤ周方向第２側に配置される前記周方向溝の第２部分と前記径方向溝に接続される溝状の第２バイパス、及び前記径方向溝と交差することなく延びて前記第１部分と前記第２部分に接続される溝状の第３バイパスのうち少なくとも一つのバイパスと、を備える、タイヤモールド。

【請求項2】

前記第１バイパス及び前記第２バイパスは直線状に延びる、請求項１に記載のタイヤモールド。

【請求項3】

前記第１バイパスと前記第２バイパスは、前記径方向溝上で連結される、請求項１に記載のタイヤモールド。

【請求項4】

前記第１バイパス、前記第２バイパス、及び前記第３バイパスのうち少なくとも一つのバイパスと、前記周方向溝又は前記径方向溝との接続部は、前記ベントホールの中心から１５ｍｍ以内に配置される、請求項１に記載のタイヤモールド。

【請求項5】

請求項１～４の何れか１項に記載のタイヤモールドにより加硫成型されたタイヤ。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、タイヤモールド及びタイヤに関する。

【背景技術】

【0002】

タイヤの加硫成型では、タイヤモールドのタイヤ成型面に未加硫タイヤの踏面やサイド面が押し当てられ、その未加硫タイヤに加熱と加圧が施される。このとき、タイヤ成型面と未加硫タイヤとの間に介在するエアが適切に排出されずにエア溜まりを生じると、それに起因してタイヤ外表面にベアと呼ばれる窪みが発生する。

【0003】

ベアの発生を抑制するために、未加硫タイヤのサイド面と接するサイド型部にタイヤ周方向に延びる周方向溝とタイヤ径方向に延びる径方向溝を形成し、それらの溝をエアの流通経路に使用して排気効率を高めることが知られている（下記特許文献１を参照）。周方向溝と径方向溝が交差する交差部には、ベントホールが設けられており、周方向溝と径方向溝を流通したエアがベントホールからタイヤモールドの外へ排出される。

【0004】

ところで、加硫成型後のタイヤ外表面には、ベントホールに応じてゴム突起（以下、スピューと呼ぶ）が形成されるが、加硫成型後にタイヤをタイヤモールドから取り出す際、スピューが千切れてベントホールに残ることがある。このとき、ベントホールに残ったスピューが周方向溝と径方向溝との間の連通を遮断して、周方向溝と径方向溝の交差部付近にエアが溜まってベアが発生することがあった。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２０２１－２８２１３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

本開示の目的は、ベントホールにスピューが残った場合にもベアの発生を抑制できるタイヤモールド及びタイヤを提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本開示のタイヤモールドは、タイヤのサイドウォールを成型するサイド型部を有するタイヤモールドであって、
前記サイド型部は、タイヤ周方向に延びる周方向溝と、
タイヤ径方向に延びて前記周方向溝と交差する径方向溝と、
前記周方向溝と前記径方向溝の交差部に設けられたベントホールと、
前記ベントホールを挟んでタイヤ周方向第１側に配置される前記周方向溝の第１部分と前記径方向溝に接続される溝状の第１バイパス、前記ベントホールを挟んでタイヤ周方向第２側に配置される前記周方向溝の第２部分と前記径方向溝に接続される溝状の第２バイパス、及び前記径方向溝と交差することなく延びて前記第１部分と前記第２部分に接続される溝状の第３バイパスのうち少なくとも一つのバイパスと、を備える。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】タイヤ子午線断面に沿ったタイヤモールドの断面図

【図2】サイド型部の正面図

【図3】図２のサイド型部のIII－III線断面図

【図4】図３のIV領域拡大図

【図5】図３のＶ領域拡大図

【図6】図２のVI領域拡大図

【図7】周方向溝の断面形状の一例を示す図

【図8】径方向溝の断面形状の一例を示す図

【図9】加硫成型後のサイド型部の様子を示す断面図

【図10】他の実施形態に係るサイド型部の正面図

【図11】第２実施形態に係るサイド型部の正面図

【図12】他の実施形態に係るサイド型部の正面図

【発明を実施するための形態】

【0009】

＜第１実施形態＞
以下、タイヤモールドにおける第１実施形態について、図１～図１０を参照しながら説明する。なお、各図（図１１～図１２も同様）において、図面の寸法比と実際の寸法比とは、必ずしも一致しておらず、また、各図面の間での寸法比も、必ずしも一致していない。

【0010】

各図において、タイヤ軸方向Ｄ１とは、タイヤＴの回転中心であるタイヤ回転軸Ｏと平行な方向であり、タイヤ径方向Ｄ２とは、タイヤＴの直径方向であり、タイヤ周方向Ｄ３とは、タイヤ回転軸Ｏ周りの方向である。また、タイヤ赤道面Ｓ１とは、タイヤ回転軸Ｏに直交する面であって、タイヤＴのタイヤ軸方向Ｄ１の中心に位置する面のことであり、タイヤ子午面とは、タイヤ回転軸Ｏを含む面であり、タイヤ赤道面Ｓ１と直交する面である。

【0011】

なお、タイヤ軸方向Ｄ１において、内側とは、タイヤ赤道面Ｓ１に近い側のことであり、外側とは、タイヤ赤道面Ｓ１から遠い側のことである。また、タイヤ径方向Ｄ２において、内側とは、タイヤ回転軸Ｏに近い側のことであり、外側とは、タイヤ回転軸Ｏから遠い側のことである。

【0012】

図１は、タイヤ子午面に沿ったタイヤモールドＴＭの断面を示す。このタイヤモールドＴＭは型閉め状態にある。未加硫タイヤは、タイヤ軸方向Ｄ１を上下に向けてセットされる。図１において、右方向はタイヤ径方向外側、左方向はタイヤ径方向内側である。

【0013】

タイヤモールドＴＭは、タイヤＴのトレッドを成型するトレッド型部Ｍ１と、タイヤＴの一対のサイドウォールを成型するサイド型部Ｍ２，Ｍ３と、タイヤＴの一対のビードに接するビードリングＭ４，Ｍ５とを備える。図示を省略しているが、トレッド型部Ｍ１の内表面には、タイヤＴのトレッドにトレッドパターンを形成するための凹凸形状が設けられている。

【0014】

加硫成型時には、トレッド型部Ｍ１の内表面に未加硫タイヤの踏面が押し当てられ、サイド型部Ｍ２，Ｍ３の内表面に未加硫タイヤのサイド面が押し当てられる。サイド型部Ｍ２，Ｍ３の内表面には、タイヤ周方向Ｄ３に延びる周方向溝１，２が設けられている。

【0015】

図２は、サイド型部Ｍ２の正面図である。図３は、図２のサイド型部Ｍ２のIII－III線断面図である。図４は、図３のIV領域拡大図であり、図５は、図３のＶ領域拡大図である。図６は、図２のVI領域拡大図である。なお、サイド型部Ｍ３の内表面の構成は、サイド型部Ｍ２の内表面の構成と同じとしてもよく、異なるようにしてもよいが、本実施形態では同じとしているため、サイド型部Ｍ３についての説明を省略する。

【0016】

サイド型部Ｍ２は、図２に示すように、タイヤ周方向Ｄ３に延びる周方向溝１，２と、タイヤ径方向Ｄ２に延びる径方向溝３と、周方向溝１，２と径方向溝３の交差部に設けられたベントホール４とを備えている。

【0017】

周方向溝１，２は、タイヤ径方向Ｄ２に間隔をあけて配置され、環状の帯状領域を形成している。この環状領域には、タイヤサイズ、製造年週等が表示される場合もある。帯状領域の幅寸法、すなわち周方向溝１，２の間隔は、１０ｍｍ以上４０ｍｍ以下が好ましく、１４ｍｍ以上３０ｍｍ以下がより好ましい。

【0018】

周方向溝１，２は、タイヤ最大幅位置（図示していない）よりもタイヤ径方向内側に配置されるのが好ましい。これにより、加硫成型時のベアを効果的に抑制できるとともに、タイヤＴの耐久性を向上できる。ただし、周方向溝１，２は、タイヤ径方向Ｄ２において何れの位置に配置されてもよく、例えば、一対の周方向溝１，２は、タイヤ最大幅位置を挟むように配置されてもよい。

【0019】

本実施形態では、２本の周方向溝１，２がタイヤ回転軸Ｏを中心とする同心円状に設けられているが、これに限定されず、１本のみの周方向溝が設けられてもよく、３本以上の周方向溝が設けられてもよい。また、周方向溝１，２は、タイヤ周方向Ｄ３の全周に亘って連続して形成されているが、これに限定されず、タイヤ回転軸Ｏを中心とする円の一部からなる円弧状に形成されてもよい。

【0020】

径方向溝３は、タイヤ径方向Ｄ２に沿って放射状に延びている。ただし、径方向溝３は、タイヤ径方向Ｄ２に対して傾斜して延びていてもよい。

【0021】

径方向溝３は、例えば６～２０本設けられ、好ましくは１０本前後設けられる。本実施形態では、２０本の径方向溝３がタイヤ周方向Ｄ３に等間隔で設けられているが、これに限定されない。径方向溝３同士の間隔は、一定である必要はなく、径方向溝３は、例えばタイヤサイズ、製造年週等の表示を避けるように設けられてもよい。

【0022】

径方向溝３は、周方向溝１，２と交差している。ここで、径方向溝３が周方向溝１，２と交差するとは、径方向溝３が周方向溝１，２で終端する形態のみならず、径方向溝３が周方向溝１，２を突き抜けて延びる形態も含む。

【0023】

ベントホール４は、図６に示すように、周方向溝１，２と径方向溝３の交差部３０に設けられている。ベントホール４は、タイヤサイズにもよるが、例えば１０～２４個設けられる。ベントホール４は、交差部３０以外の周方向溝１，２上にも設けられてもよく、すなわち、ベントホール４は、径方向溝３よりも多く設けられてもよい。

【0024】

ベントホール４は、サイド型部Ｍ２の内表面Ｓ２からタイヤ軸方向Ｄ１の外側へ向かって延びる貫通孔である。ベントホール４の内径４ｄ（図５を参照）は、例えば０．６～２．０ｍｍに設定される。

【0025】

図９は、加硫成型後のサイド型部Ｍ２の様子を示す断面図である。タイヤモールドＴＭ内で加硫成型を行うと、ベントホール４からエアが抜け、その後、ベントホール４内に未加硫タイヤのゴムが流れ込む。これにより、加硫成型後にタイヤモールドＴＭから取り出されたタイヤＴのサイドウォールには、突起状のスピュー９が形成される。しかしながら、タイヤＴをタイヤモールドＴＭから取り出す際、形成されたスピュー９が千切れ、ベントホール４に残る場合がある。そして、図９に示すようにスピュー９がサイド型部Ｍ２の内表面Ｓ２に達する状態で残った場合、スピュー９によって周方向溝１と径方向溝３の連通が遮断されることとなる。図９に示す状態で、次の未加硫タイヤの加硫成型を行うと、周方向溝１と径方向溝３の交差部３０の付近ではエアが抜けにくく、ベアが発生しやすくなる。この対策として、径方向溝３やベントホール４を増やすことも考えられるが、タイヤ外観が悪化したり、廃棄するゴムが増加したりする。また、径方向溝３を増やすと、タイヤサイズ、製造年週等の表示のためのスペースを確保しにくくなる。本発明者は、交差部３０の周辺に後述するバイパス（第１バイパス～第３バイパス）を設けることで、径方向溝３やベントホール４を増やすことなく、ベントホール４にスピュー９が残った場合にもベアの発生を抑制できることを見出した。

【0026】

図６に示すように、溝状の第１バイパス５１は、ベントホール４を挟んでタイヤ周方向第１側Ｄ３１に配置される周方向溝１，２の第１部分１１，２１と径方向溝３に接続されている。これにより、周方向溝１，２と径方向溝３の交差部３０に設けられたベントホール４にスピュー９が残って周方向溝１，２と径方向溝３の連通が遮断された場合にも、第１バイパス５１によって周方向溝１，２と径方向溝３の連通を確保することができる。その結果、ベントホール４にスピュー９が残った場合にも、交差部３０の付近のエアが抜けやすくなり、ベアの発生を抑制することができる。

【0027】

また、溝状の第２バイパス５２は、ベントホール４を挟んでタイヤ周方向第２側Ｄ３２に配置される周方向溝１，２の第２部分１２，２２と径方向溝３に接続されている。第１バイパス５１と同様に、周方向溝１，２と径方向溝３の交差部３０に設けられたベントホール４にスピュー９が残った場合にも、第２バイパス５２によって周方向溝１，２と径方向溝３の連通を確保することができるため、ベアの発生を抑制することができる。

【0028】

第１バイパス５１及び第２バイパス５２は円弧状に延びている。ただし、第１バイパス５１及び第２バイパス５２は、バイパス経路を短くする観点から、図１０に示すように直線状に延びることが好ましい。

【0029】

第１バイパス５１と第２バイパス５２は、径方向溝３上で連結されることが好ましい。すなわち、第１バイパス５１と第２バイパス５２は、同じ位置で径方向溝３に接続されることが好ましい。これにより、第１バイパス５１と第２バイパス５２が連通するため、エアがさらに抜けやすくなる。

【0030】

第１バイパス５１と周方向溝１，２との接続部５１ａ、第１バイパス５１と径方向溝３との接続部５１ｂ、第２バイパス５２と周方向溝１，２との接続部５２ａ、及び第２バイパス５２と径方向溝３との接続部５２ｂは、ベントホール４の中心から１５ｍｍ以内に配置されることが好ましい。接続部５１ａ，５１ｂ，５２ａ，５２ｂをベントホール４の中心から１５ｍｍ以内に配置することで、交差部３０の付近のエアを効果的に抜くことができる。

【0031】

図７は、周方向溝１の断面形状の一例を示す図である。図８は、径方向溝３の断面形状の一例を示す図である。

【0032】

周方向溝１の断面形状は、深さ方向に先細りとなる三角形であり、その先端が小さい円弧で形成されている。サイド型部Ｍ２の内表面Ｓ２を基準とした周方向溝１の深さ１ｄは、例えば０．５～１．２ｍｍに設定される。周方向溝２の断面形状及び深さは、周方向溝１と同じとしてもよい。なお、内表面Ｓ２は、タイヤＴのプロファイル面を成型する面である。

【0033】

径方向溝３の断面形状は、矩形状であり、その先端が小さい円弧で形成されている。サイド型部Ｍ２の内表面Ｓ２を基準とした径方向溝３の深さ３ｄは、例えば０．５～１．２ｍｍに設定される。すなわち、径方向溝３の深さ３ｄは、周方向溝１の深さ１ｄと略同じである。

【0034】

なお、周方向溝１，２、径方向溝３の断面形状は、特に限定されるものではなく、種々の形状を採用できる。これらの断面形状が深さ方向に先細りとなる形状、例えば三角形や台形、半円形であると、加硫成型後のタイヤＴをタイヤモールドＴＭから取り出す際に抵抗となりにくい。

【0035】

また、第１バイパス５１及び第２バイパス５２の断面形状は、特に限定されるものではなく、周方向溝１，２と同じであってもよく、径方向溝３と同じであってもよい。

【0036】

サイド型部Ｍ２の内表面Ｓ２を基準とした第１バイパス５１及び第２バイパス５２の深さは、周方向溝１，２、径方向溝３と異なっていてもよいが、同じであるのが好ましい。すなわち、サイド型部Ｍ２の内表面Ｓ２を基準とした第１バイパス５１及び第２バイパス５２の深さは、例えば０．５～１．２ｍｍに設定される。ただし、第１バイパス５１及び第２バイパス５２の幅は、第１バイパス５１及び第２バイパス５２によって形成される突条を目立ち難くする観点から、周方向溝１，２、径方向溝３の幅よりも狭いことが好ましい。

【0037】

なお、周方向溝１，２の間の帯状領域には、不図示の細溝が形成される場合もある。この細溝の深さは、例えば０．３～０．６ｍｍであり、周方向溝１，２、径方向溝３、バイパス５１，５２の深さよりも小さいことが好ましい。

【0038】

上述したタイヤモールドＴＭは、タイヤＴのサイドウォールを成型するサイド型部Ｍ２，Ｍ３に、上記の如き周方向溝１，２、径方向溝３、ベントホール４、バイパス（第１バイパス５１、第２バイパス５２）を設けること以外は、通常のタイヤモールドと同様に構成され、従来公知の材料、形状、構造などは何れも本開示に採用できる。

【0039】

＜第２実施形態＞
次に、タイヤモールドＴＭにおける第２実施形態について、図１１を参照しながら説明する。なお、図１１において、図１～図１０の符号と同一の符号を付した部分は、第１実施形態と略同様の構成又は略同様の機能（作用）を有する要素を表し、その説明は、繰り返さない。

【0040】

本実施形態に係るサイド型部Ｍ２，Ｍ３は、径方向溝３と交差することなく延びて第１部分１１と第２部分１２に接続される溝状の第３バイパス５３を備えている。これにより、ベントホール４にスピュー９が残った場合にも、第３バイパス５３によって第１部分１１と第２部分１２の連通を確保することができるため、ベアの発生を抑制することができる。なお、径方向溝３に関しては、第１バイパス５１と第２バイパス５２によって周方向溝２との連通が確保されている。

【0041】

第３バイパス５３と周方向溝１との接続部５３ａ，５３ｂは、ベントホール４の中心から１５ｍｍ以内に配置されることが好ましい。接続部５３ａ，５３ｂをベントホール４の中心から１５ｍｍ以内に配置することで、交差部３０の付近のエアを効果的に抜くことができる。

【0042】

［１］
以上のように、第１又は第２実施形態に係るタイヤモールドＴＭは、タイヤＴのサイドウォールを成型するサイド型部Ｍ２，Ｍ３を有するタイヤモールドＴＭであって、サイド型部Ｍ２，Ｍ３は、タイヤ周方向Ｄ３に延びる周方向溝１，２と、タイヤ径方向Ｄ２に延びて周方向溝１，２と交差する径方向溝３と、周方向溝１，２と径方向溝３の交差部３０に設けられたベントホール４と、ベントホール４を挟んでタイヤ周方向第１側Ｄ３１に配置される周方向溝１，２の第１部分１１，２１と径方向溝３に接続される溝状の第１バイパス５１、ベントホール４を挟んでタイヤ周方向第２側Ｄ３２に配置される周方向溝１，２の第２部分１２．２２と径方向溝３に接続される溝状の第２バイパス５２、及び径方向溝３と交差することなく延びて第１部分１１と第２部分１２に接続される溝状の第３バイパス５３のうち少なくとも一つのバイパスと、を備える。

【0043】

この構成によれば、ベントホール４にスピュー９が残った場合にもベアの発生を抑制できる。

【0044】

［２］
上記［１］のタイヤモールドＴＭにおいて、第１バイパス５１及び第２バイパス５２は直線状に延びることが好ましい。

【0045】

この構成によれば、バイパス経路を短くして、排気効率を高めることができる。

【0046】

［３］
上記［１］又は［２］のタイヤモールドＴＭにおいて、第１バイパス５１と第２バイパス５２は、径方向溝３上で連結されることが好ましい。

【0047】

この構成によれば、第１バイパス５１と第２バイパス５２が連通するため、エアがさらに抜けやすくなる。

【0048】

［４］
上記［１］～［３］何れか一つのタイヤモールドＴＭにおいて、第１バイパス５１、第２バイパス５２、及び第３バイパス５３のうち少なくとも一つのバイパスと、周方向溝１，２又は径方向溝３との接続部５１ａ，５１ｂ，５２ａ，５２ｂ，５３ａ，５３ｂは、ベントホール４の中心から１５ｍｍ以内に配置されることが好ましい。

【0049】

この構成によれば、交差部３０の付近のエアを効果的に抜くことができる。

【0050】

［５］
また、タイヤＴは、上記［１］～［４］何れか一つのタイヤモールドＴＭにより加硫成型されたものである。

【0051】

以上、本開示の実施形態について図面に基づいて説明したが、具体的な構成は、これらの実施形態に限定されるものでないと考えられるべきである。本開示の範囲は、上記した実施形態の説明だけではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。

【0052】

上記の各実施形態で採用している構造を他の任意の実施形態に採用することは可能である。各部の具体的な構成は、上述した実施形態のみに限定されるものではなく、本開示の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形が可能である。

【0053】

なお、タイヤモールドＴＭは、上記した実施形態の構成に限定されるものではなく、また、上記した作用効果に限定されるものではない。また、タイヤモールドＴＭは、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上記した複数の実施形態の各構成や各方法等を任意に採用して組み合わせてもよく（１つの実施形態に係る各構成や各方法等を他の実施形態に係る構成や方法等に適用してもよく）、さらに、下記する各種の変更例に係る構成や方法等を任意に一つ又は複数選択して、上記した実施形態に係る構成や方法等に採用してもよいことは勿論である。

【0054】

上記実施形態に係るタイヤモールドＴＭにおいては、第１バイパス５１と第２バイパス５２は、径方向溝３上で連結される、という構成である。しかしながら、タイヤモールドＴＭは、斯かる構成に限られない。例えば、周方向溝１と径方向溝３に接続されるバイパスを第１バイパス５１又は第２バイパス５２の一方のみとし、周方向溝２と径方向溝３に接続されるバイパスを第１バイパス５１又は第２バイパス５２の一方のみとしてもよい。

【0055】

また、図１２に示す実施形態では、１本の径方向溝３に対して、タイヤ径方向Ｄ２の外側に第１バイパス５１を設け、タイヤ径方向Ｄ２の内側に第２バイパス５２を設けている。この構成によれば、加硫成型後のタイヤＴにおいて、第１バイパス５１と第２バイパス５２によって形成される突条がタイヤ径方向Ｄ２及びタイヤ周方向Ｄ３の異なる位置にそれぞれ配置されるため、タイヤ径方向Ｄ２及びタイヤ周方向Ｄ３において剛性が部分的に高くなり過ぎるのを防ぐことができ、タイヤ全体の剛性バランスが良好となる。

【符号の説明】

【0056】

１…周方向溝、１ｄ…周方向溝の深さ、２…周方向溝、３…径方向溝、３ｄ…径方向溝の深さ、４…ベントホール、４ｄ…ベントホールの内径、９…スピュー、１１…周方向溝の第１部分、１２…周方向溝の第２部分、２１…周方向溝の第１部分、２２…周方向溝の第２部分、３０…交差部、５１…第１バイパス、５１ａ…接続部、５１ｂ…接続部、５２…第２バイパス、５２ａ…接続部、５２ｂ…接続部、５３…第３バイパス、５３ａ…接続部、５３ｂ…接続部、ＴＭ…タイヤモールド、Ｍ１…トレッド型部、Ｍ２…サイド型部、Ｍ３…サイド型部、Ｍ４…ビードリング、Ｍ５…ビードリング、Ｓ２…サイド型部の内表面、Ｔ…タイヤ、Ｓ１…タイヤ赤道面、Ｏ…タイヤ回転軸、Ｄ１…タイヤ軸方向、Ｄ２…タイヤ径方向、Ｄ３…タイヤ周方向、Ｄ３１…タイヤ周方向第１側、Ｄ３２…タイヤ周方向第２側

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】