特開 2024-59070 オーバーレイ計測装置及び方法と、このためのシステム及びプログラム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024059070

(43)【公開日】2024-04-30

(54)【発明の名称】オーバーレイ計測装置及び方法と、このためのシステム及びプログラム

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/02 20060101AFI20240422BHJP

   H01L 21/66 20060101ALI20240422BHJP

   G03F 9/00 20060101ALI20240422BHJP

【ＦＩ】

H01L21/02 Z

H01L21/66 P

G03F9/00 H

【審査請求】有

【請求項の数】26

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023104269

(22)【出願日】2023-06-26

(31)【優先権主張番号】10-2022-0133289

(32)【優先日】2022-10-17

(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR

(71)【出願人】

【識別番号】523164931

【氏名又は名称】アウロス テクノロジー インコーポレイテッド

(74)【代理人】

【識別番号】100120891

【弁理士】

【氏名又は名称】林 一好

(74)【代理人】

【識別番号】100165157

【弁理士】

【氏名又は名称】芝 哲央

(74)【代理人】

【識別番号】100126000

【弁理士】

【氏名又は名称】岩池 満

(74)【代理人】

【識別番号】100205659

【弁理士】

【氏名又は名称】齋藤 拓也

(74)【代理人】

【識別番号】100185269

【弁理士】

【氏名又は名称】小菅 一弘

(72)【発明者】

【氏名】ファン ソル－リ

(72)【発明者】

【氏名】リム ヒ－チュル

(72)【発明者】

【氏名】ジュン ドン－ウォン

(72)【発明者】

【氏名】イ ミン－ホ

(72)【発明者】

【氏名】ション ヒュン－キョ

【テーマコード（参考）】

2H197

4M106

【Ｆターム（参考）】

2H197EB23

2H197HA03

2H197JA23

4M106AA01

4M106BA04

4M106CA21

4M106CA50

4M106DH03

4M106DH37

4M106DH50

(57)【要約】      （修正有）

【課題】管理者が計測装置を遠隔で便利に制御することができ、また、計測装置を使用せずにレシピを生成することができるオーバーレイ計測装置及び方法並びにこのためのシステム及びプログラムを提供する。
【解決手段】使用者端末（例：コンピュータ、ノートパソコン）と、少なくとも１つの計測装置とを含むオーバーレイ計測システム１００は、送受信部と、前記送受信部と電気的に連結されたプロセッサと、を含む。プロセッサは、前記送受信部を介して使用者端末から伝送されたデータを獲得し、前記データに含まれたレシピを分析し、前記レシピの分析を完了すると、前記レシピに基づくウエハの測定オプションに対する最適化過程を行うように設定する。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

オーバーレイ計測装置において、
送受信部と、
前記送受信部と電気的に連結されたプロセッサとを含み、
前記プロセッサは、
前記送受信部を介して使用者端末から伝送されたデータを獲得し、
前記データに含まれたレシピを分析し、
前記レシピの分析を完了すると、前記レシピに基づくウエハの測定オプションに対する最適化過程を行うように設定された、
オーバーレイ計測装置。

【請求項2】

前記データは、前記ウエハの測定オプションに対する最適化過程を実行するか否かを示す情報を含む、
請求項１に記載のオーバーレイ計測装置。

【請求項3】

前記データは、前記使用者端末に設置されたマネージャプログラムによって、ウエハの特性を測定するように入力されたレシピに関する情報と、前記オーバーレイ計測装置に関する固有情報とを含む、
請求項１に記載のオーバーレイ計測装置。

【請求項4】

前記固有情報は、
前記オーバーレイ計測装置に対するＩＰ（Ｉｎｔｅｒｎｅｔ Ｐｒｏｔｏｃｏｌ）アドレス、識別子（Ｉｄｅｎｔｉｆｉｅｒ）、パスワード、及びサーバのＩＰを含む、
請求項３に記載のオーバーレイ計測装置。

【請求項5】

前記プロセッサは、
前記データに含まれたレシピファイル名の形式及びファイル拡張子のうち少なくとも１つを用いて、前記レシピファイルの真偽を判断する、
請求項１に記載のオーバーレイ計測装置。

【請求項6】

前記プロセッサは、
前記オーバーレイ計測装置内において、１つ以上のフィルタを１回測定して、各フィルタ別に複数のパラメータに対する統計値を計算し、
前記計算された統計値に加重値をそれぞれ付与し、前記加重値がそれぞれ付与された統計値の和が最小となるフィルタを選択する、フィルタ最適化過程を行うように設定され、
前記複数のパラメータは、ファイナルレジデュアル３シグマ（Ｆｉｎａｌ Ｒｅｓｉｄｕａｌ ３ Ｓｉｇｍａ）、ティス３シグマ（ＴＩＳ ３ Ｓｉｇｍａ）、レジストレーション３シグマ（Ｒｅｇｉｓｔｒａｔｉｏｎ ３ Ｓｉｇｍａ）、ＴＭＵ（Ｔｏｔａｌ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ Ｕｎｃｅｒｔａｉｎｔｙ）、及びＭＡＭ（Ｍｏｖｅ ａｎｄ Ｍｅａｓｕｒｅ）ｔｉｍｅのうち少なくとも１つ、又はこれらを組み合わせた総重量を含む、
請求項１に記載のオーバーレイ計測装置。

【請求項7】

前記プロセッサは、
前記オーバーレイ計測装置内において、１つ以上の絞りを１回測定して、各絞り別に前記複数のパラメータに対する統計値を計算し、
前記計算された統計値に加重値をそれぞれ付与し、
前記加重値がそれぞれ付与された統計値の和が最小となる絞りを選択する、絞り最適化過程を行うように設定された、
請求項１に記載のオーバーレイ計測装置。

【請求項8】

前記プロセッサは、
前記オーバーレイ計測装置内の１つのサイトでフォーカススキャンを行って、フォーカス測定領域を決定し、
各サイトごとに、前記決定された測定領域内において、１つのステップずつフォーカスを移動して、前記複数のパラメータに対する統計値を計算し、
前記計算された統計値に加重値をそれぞれ付与し、
前記加重値がそれぞれ付与された統計値の和が最小となるフォーカスを選択する、フォーカス最適化過程を行うように設定された、
請求項１に記載のオーバーレイ計測装置。

【請求項9】

前記プロセッサは、
前記オーバーレイ計測装置内の絞りによる第１ピンホール位置で１回測定し、
前記第１ピンホール位置から一定距離移動した第２ピンホール位置で１回測定し、
前記第１ピンホール位置及び前記第２ピンホール位置で前記ティス３シグマを計算し、
絞りによるピンホール位置別に前記ティス３シグマをモデリングして、前記ティス３シグマが最小となるピンホールの位置を選択する、ピンホール最適化過程を行うように設定された、
請求項１に記載のオーバーレイ計測装置。

【請求項10】

前記プロセッサは、
前記フィルタ最適化過程、前記絞り最適化過程、前記フォーカス最適化過程、及び前記ピンホール最適化過程のそれぞれから選択されたオプションに関する情報をメモリに貯蔵するように設定された、
請求項１に記載のオーバーレイ計測装置。

【請求項11】

オーバーレイ計測システムの動作を制御する命令語を含むプログラムを貯蔵する、コンピュータ読み取り可能な記録媒体において、
前記プログラムは、
使用者を介して入力されたレシピに関する情報と、オーバーレイ計測装置に関する固有情報とを含むデータを生成させる命令語；及び
前記生成したデータを、前記固有情報に該当するオーバーレイ計測装置に伝送して、前記オーバーレイ計測装置が前記レシピの分析を完了すると、前記レシピに基づくウエハの測定オプションに対する最適化過程を行わせる命令語を含む、
コンピュータ読み取り可能な記録媒体。

【請求項12】

前記プログラムは、使用者端末に設置されており、
前記生成した複数のデータを少なくとも１つのオーバーレイ計測装置に伝送させる命令語を含む、
請求項１１に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。

【請求項13】

前記プログラムは、
前記オーバーレイ計測装置が、前記データに含まれたレシピファイル名の形式及びファイル拡張子のうち少なくとも１つを用いて、前記レシピファイルの真偽を判断させる命令語を含む、
請求項１１に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。

【請求項14】

前記プログラムは、
前記オーバーレイ計測装置が、前記オーバーレイ計測装置内において、１つ以上のフィルタを１回測定して、各フィルタ別に複数のパラメータに対する統計値を計算させる命令語；
前記オーバーレイ計測装置が、前記計算された統計値に加重値をそれぞれ付与させる命令語；及び
前記オーバーレイ計測装置が、前記加重値がそれぞれ付与された統計値の和が最小となるフィルタを選択する、フィルタ最適化過程を行わせる命令語を含み、
前記複数のパラメータは、ファイナルレジデュアル３シグマ、ティス３シグマ、レジストレーション３シグマ、ＴＭＵ、及びＭＡＭ ｔｉｍｅのうち少なくとも１つ、又はこれらを組み合わせた総重量を含む、
請求項１１に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。

【請求項15】

前記プログラムは、
前記オーバーレイ計測装置が、前記オーバーレイ計測装置内において、１つ以上の絞りを１回測定して、各絞り別に前記複数のパラメータに対する統計値を計算させる命令語；
前記オーバーレイ計測装置が、前記計算された統計値に加重値をそれぞれ付与させる命令語；及び
前記加重値がそれぞれ付与された統計値の和が最小となる絞りを選択する、絞り最適化過程を行わせる命令語を含む、
請求項１１に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。

【請求項16】

前記プログラムは、
前記オーバーレイ計測装置が、前記オーバーレイ計測装置内の１つのサイトでフォーカススキャンを行って、フォーカス測定領域を決定させる命令語；
前記オーバーレイ計測装置が、各サイトごとに、前記決定された測定領域内において、１つのステップずつフォーカスを移動して、前記複数のパラメータに対する統計値を計算させる命令語；及び
前記オーバーレイ計測装置が、前記計算された統計値に加重値をそれぞれ付与し、前記加重値がそれぞれ付与された統計値の和が最小となるフォーカスを選択する、フォーカス最適化過程を行わせる命令語を含む、
請求項１１に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。

【請求項17】

前記プログラムは、
前記オーバーレイ計測装置が、前記オーバーレイ計測装置内の絞りによる第１ピンホール位置で１回測定させる命令語；
前記オーバーレイ計測装置が、前記第１ピンホール位置から一定距離移動した第２ピンホール位置で１回測定させる命令語；
前記オーバーレイ計測装置が、前記第１ピンホール位置及び前記第２ピンホール位置で前記ティス３シグマを計算させる命令語；及び
前記オーバーレイ計測装置が、絞りによるピンホール位置別に前記ティス３シグマをモデリングして、前記ティス３シグマが最小となるピンホールの位置を選択する、ピンホール最適化過程を行わせる命令語を含む、
請求項１１に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。

【請求項18】

前記プログラムは、
前記オーバーレイ計測装置が、前記フィルタ最適化過程、前記絞り最適化過程、前記フォーカス最適化過程、及び前記ピンホール最適化過程のそれぞれから選択されたオプションに関する情報を貯蔵させる命令語を含む、
請求項１１に記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。

【請求項19】

オーバーレイ計測システムにおいて、
マネージャプログラムによって入力されたレシピに関する情報と、オーバーレイ計測装置に関する固有情報とを含むデータを生成し、前記生成されたデータを、前記固有情報に該当するオーバーレイ計測装置に伝送する使用者端末と、
前記使用者端末から受信されるデータに含まれたレシピを分析し、前記レシピの分析を完了すると、前記レシピに基づくウエハの測定オプションに対する最適化過程を行う、前記オーバーレイ計測装置とを含む、
オーバーレイ計測システム。

【請求項20】

オーバーレイ計測装置の方法において、
使用者端末からデータを受信する過程；
前記データに含まれたレシピを分析する過程；及び
前記レシピの分析を完了すると、前記レシピに基づくウエハの測定オプションに対する最適化過程を行う、
方法。

【請求項21】

前記データを受信する過程は、
前記データに含まれたレシピファイル名の形式及びファイル拡張子のうち少なくとも１つを用いて、前記レシピファイルの真偽を判断する過程を含む、
請求項２０に記載の方法。

【請求項22】

前記最適化過程は、
前記オーバーレイ計測装置内において、１つ以上のフィルタを１回測定して、各フィルタ別に複数のパラメータに対する統計値を計算する過程と、
前記計算された統計値に加重値をそれぞれ付与し、前記加重値がそれぞれ付与された統計値の和が最小となるフィルタを選択する、フィルタ最適化過程とをさらに含み、
前記複数のパラメータは、ファイナルレジデュアル３シグマ（Ｆｉｎａｌ Ｒｅｓｉｄｕａｌ ３ Ｓｉｇｍａ）、ティス３シグマ（ＴＩＳ ３ Ｓｉｇｍａ）、レジストレーション３シグマ（Ｒｅｇｉｓｔｒａｔｉｏｎ ３ Ｓｉｇｍａ）、ＴＭＵ（Ｔｏｔａｌ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ Ｕｎｃｅｒｔａｉｎｔｙ）、及びＭＡＭ（Ｍｏｖｅ ａｎｄ Ｍｅａｓｕｒｅ）ｔｉｍｅのうち少なくとも１つ、又はこれらを組み合わせた総重量を含む、
請求項２０に記載の方法。

【請求項23】

前記最適化過程は、
前記オーバーレイ計測装置内において、１つ以上の絞りを１回測定して、各絞り別に、前記複数のパラメータに対する統計値を計算する過程；
前記計算された統計値に加重値をそれぞれ付与する過程；及び
前記加重値がそれぞれ付与された統計値の和が最小となる絞りを選択する、絞り最適化過程をさらに含む、
請求項２０に記載の方法。

【請求項24】

前記最適化過程は、
前記オーバーレイ計測装置内の１つのサイトでフォーカススキャンを行って、フォーカス測定領域を決定する過程；
各サイトごとに、前記決定された測定領域内において、１つのステップずつフォーカスを移動して、前記複数のパラメータに対する統計値を計算する過程；
前記計算された統計値に加重値をそれぞれ付与する過程；及び
前記加重値がそれぞれ付与された統計値の和が最小となるフォーカスを選択する、フォーカス最適化過程をさらに含む、
請求項２０に記載の方法。

【請求項25】

前記最適化過程は、
前記オーバーレイ計測装置内の絞りによる第１ピンホール位置で１回測定する過程；
前記第１ピンホール位置から一定距離移動した第２ピンホール位置で１回測定する過程；
前記第１ピンホール位置及び前記第２ピンホール位置で前記ティス３シグマを計算する過程；及び
絞りによるピンホール位置別に前記ティス３シグマをモデリングして、前記ティス３シグマが最小となるピンホールの位置を選択する、ピンホール最適化過程をさらに含む、
請求項２０に記載の方法。

【請求項26】

オーバーレイ計測システムの方法において、
使用者端末が、マネージャプログラムによって入力されたレシピに関する情報と、オーバーレイ計測装置に関する固有情報とを含むデータを生成し、前記生成されたデータを、前記固有情報に該当するオーバーレイ計測装置に伝送する過程と、
前記オーバーレイ計測装置が、前記使用者端末から受信されるデータに含まれたレシピを分析し、前記レシピの分析を完了すると、前記レシピに基づくウエハの測定オプションに対する最適化過程を行う過程とを含む、
方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、オーバーレイ計測装置及び方法と、このためのシステムに関する。

【背景技術】

【0002】

通常、技術の発展に伴い、ウエハの特性を計測する半導体デバイスのサイズが小さくなり、計測装置の集積回路の密度は増えている。集積回路をウエハに形成するためには、特定の位置で所望の回路の構造及び要素が順次形成されるように複数の製造過程を経らなければならない。これらの製造過程は、ウエハ上にパターン化した層を順次生成させる。

【0003】

これらの繰り返した積層工程によって、集積回路内に電気的に活性化したパターンが生成される。このとき、各々の構造が生産工程で許容する誤差範囲内に整列されていないと、電気的に活性化したパターンの間に干渉が起こり、かかる現象により、製造された回路の性能及び信頼性に問題が生じ得る。これらの層間に整列誤差を測定及び検証するために管理者は、装置におけるウエハの特性を測定するレシピを入力するか設定した。

【0004】

ところが、従来より管理者は、計測装置でレシピを直接入力するため、時間と空間上の制約があった。

【0005】

また、従来より管理者は、直接フィルタ、絞り、フォーカス、ピンホールなどのオプションを選択、測定、及び値の確認を繰り返して行い、最適のオプションを決定していることから、管理者の熟練度、能力及び経験が大きな変数と作用し、これによって、最適化したオプションに基づいてウエハの特性を効率よく測定することができなかった。

【0006】

よって、レシピを測定しつつレシピのオプションを最適化する必要性が提起される。

【0007】

また、最適化に要する最小限の情報を計測装置に伝送することで、計測装置がオプションに対する最適化過程を行う必要性が提起される。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0008】

よって、本発明は、オーバーレイ計測装置及び方法と、このためのシステムを提供することである。

【0009】

また、本発明は、計測装置が測定オプションに対する最適化過程を行うように、管理者ＰＣで駆動されて、レシピに関する情報を伝送するマネージャプログラムを提供することである。

【0010】

また、本発明は、管理者ＰＣで受信されるデータに基づいて、ウエハの測定オプションに対する最適化過程を行う計測装置及び方法を提供することである。

【0011】

本発明の目的は、以上で言及した目的に限らず、言及していない本発明の他の目的及び長所は、下記の説明によって理解でき、本発明の実施形態によってより明らかに理解することができる。また、本発明の目的及び長所は、特許請求の範囲に示した手段及びその組み合わせによって実現できることが分かりやすい。

【課題を解決するための手段】

【0012】

かかる目的を達するために、本発明の一実施形態によるオーバーレイ計測装置は、送受信部と、前記送受信部と電気的に連結されたプロセッサとを含み、前記プロセッサは、前記送受信部を介して使用者端末から伝送されたデータを獲得し、前記データに含まれたレシピを分析し、前記レシピの分析を完了すると、前記レシピに基づくウエハの測定オプションに対する最適化過程を行うように設定することができる。

【0013】

また、本発明の一実施形態によるオーバーレイ計測システムの動作を制御する命令語を含むプログラムを貯蔵する、コンピュータ読み取り可能な記録媒体における前記プログラムは、マネージャプログラムによって入力されたレシピに関する情報と、オーバーレイ計測装置に関する固有情報とを含むデータを生成させる命令語；及び前記生成されたデータを、前記固有情報に該当するオーバーレイ計測装置に伝送して、前記オーバーレイ計測装置が前記レシピの分析を完了すると、前記レシピに基づくウエハの測定オプションに対する最適化過程を行わせる命令語を含むことができる。

【0014】

また、本発明の一実施形態によるオーバーレイ計測システムは、マネージャプログラムによって入力されたレシピに関する情報と、オーバーレイ計測装置に関する固有情報とを含むデータを生成し、前記生成されたデータを、前記固有情報に該当するオーバーレイ計測装置に伝送する使用者端末と、前記使用者端末から受信されるデータに含まれたレシピを分析し、前記レシピの分析を完了すると、前記レシピに基づくウエハの測定オプションに対する最適化過程を行う前記オーバーレイ計測装置とを含むことができる。

【0015】

また、本発明の一実施形態によるオーバーレイ計測装置の方法は、使用者端末からデータを受信する過程；前記データに含まれたレシピを分析する過程；及び前記レシピの分析を完了すると、前記レシピに基づくウエハの測定オプションに対する最適化過程を行う過程を含むことができる。

【0016】

また、本発明の一実施形態によるオーバーレイ計測システムの方法は、使用者端末が、マネージャプログラムによって入力されたレシピに関する情報と、オーバーレイ計測装置に関する固有情報とを含むデータを生成し、前記生成されたデータを、前記固有情報に該当するオーバーレイ計測装置に伝送する過程と、前記オーバーレイ計測装置が、前記使用者端末から受信されるデータに含まれたレシピを分析し、前記レシピの分析を完了すると、前記レシピに基づくウエハの測定オプションに対する最適化過程を行う過程と、を含むことができる。

【発明の効果】

【0017】

本発明は、使用者端末がマネージャプログラムによって入力されたレシピに関する情報と、計測装置に関する固有情報とを含むデータを生成し、前記生成されたデータを、前記固有情報に該当する計測装置に伝送することで、管理者は、計測装置を遠隔で便利に制御することができ、また、計測装置を使用せずにレシピを生成することができる。

【0018】

また、本発明は、計測装置が使用者端末から受信されるデータに含まれたレシピを分析し、前記レシピの分析を完了すると、前記レシピに基づくウエハの測定オプションに対する最適化過程を行うことで、最適化したオプションに基づいてウエハの特性を効率よく測定することができる。

【0019】

また、本発明は、使用者端末がウエハの測定オプションに対する最適化過程を実行するか否かを示す情報を含むデータを生成することで、計測装置がウエハの測定オプションに対する最適化過程を自動で行わせることができる。

【0020】

また、本発明は、使用者端末が計測装置の固有情報を含むデータを生成することで、使用者端末は、複数の計測装置のそれぞれに当該データを伝送することができる。

【0021】

また、本発明は、計測装置内の１つ以上のフィルタを１回測定して、各フィルタ別に複数のパラメータに対する統計値を計算し、前記計算された統計値に加重値をそれぞれ付与し、前記加重値がそれぞれ付与された統計値の和が最小となるフィルタを選択することで、フィルタ最適化過程を行うことができる。

【0022】

また、本発明は、計測装置内の１つ以上の絞りを１回測定して、各絞り別に前記複数のパラメータに対する統計値を計算し、前記計算された統計値に加重値をそれぞれ付与し、前記加重値がそれぞれ付与された統計値の和が最小となる絞りを選択することで、絞り最適化過程を行うことができる。

【0023】

また、本発明は、計測装置内の１つのサイトにおいて、フォーカススキャンを行って、フォーカス測定領域を決定し、各サイトごとに前記決定された測定領域内において、１つのステップだけフォーカスを移動して、前記複数のパラメータに対する統計値を計算し、前記計算された統計値に加重値をそれぞれ付与し、前記加重値がそれぞれ付与された統計値の和が最小となるフォーカスを選択することで、フォーカス最適化過程を行うことができる。

【0024】

また、本発明は、計測装置内の絞りによる第１ピンホール位置で１回測定し、前記第１ピンホール位置から一定距離移動した第２ピンホール位置で１回測定し、前記第１ピンホール位置及び前記第２ピンホール位置で前記ティス３シグマを計算し、絞りによるピンホール位置別に前記ティス３シグマをモデリングして、前記ティス３シグマが最小となるピンホールの位置を選択することで、ピンホール最適化過程を行うことができる。

【0025】

また、本発明は、フィルタ最適化過程、絞り最適化過程、フォーカス最適化過程、及びピンホール最適化過程のそれぞれから選択されたオプションに関する情報を貯蔵することで、使用者の経験を問わず、データに基づく一貫した自動最適化を提供することができる。

【0026】

上述した効果並びに本発明の具体的な効果は、以下の発明を実施するための形態を説明すると共に記述する。

【図面の簡単な説明】

【0027】

【図1】本発明の一実施形態によるオーバーレイ計測システムを示した例示図である。

【図2】本発明の一実施形態によるオーバーレイ計測装置の概念図である。

【図3】本発明の一実施形態によるオーバーレイ計測システムのブロック図である。

【図4】本発明の一実施形態による使用者端末が計測装置にデータを伝送する過程を示した手順図である。

【図5】本発明の一実施形態によるマネージャプログラム上に、複数のパラメータに関する情報を入力した例示図である。

【図6】本発明の一実施形態による計測装置が、レシピファイルに基づいて最適化を行う過程を示した手順図である。

【図7】本発明の一実施形態による計測装置が、レシピファイルに基づいて最適化を行う状態を示した例示図である。

【発明を実施するための形態】

【0028】

前述した目的、特徴及び長所は、添付の図面を参照して詳細に後述され、これによって、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者は、本発明の技術思想を容易に実施することができる。本発明の説明にあたり、本発明に係る公知の技術に関する具体的な説明が、本発明の要旨を曖昧にすると判断される場合には、詳細な説明を省略する。以下では、添付の図面を参照して、本発明による好ましい実施形態を詳説することとする。図面における同じ参照符号は、同一又は類似の構成要素を示すために使われる。

【0029】

たとえ第１、第２などは、様々な構成要素を述べるために使われるものの、これらの構成要素は、これらの用語によって制限されないことは勿論である。これらの用語は、単に一構成要素を他構成要素と区別するために使うものであって、特に逆の記載がない限り、第１構成要素は、第２構成要素であってもよいことは勿論である。

【0030】

以下では、構成要素の「上部（又は下部）」又は構成要素の「上（又は下）」に任意の構成が配されるということは、任意の構成が、上記構成要素の上面（又は下面）に接して配されるだけでなく、上記構成要素と、上記構成要素上に（又は下に）配された任意の構成との間に他の構成が介在し得ることを意味する。

【0031】

また、ある構成要素が他の構成要素に「連結」、「結合」又は「接続」されると記載されている場合、上記構成要素は、互いに直接に連結されるか、又は接続されていてもよいものの、各構成要素の間に他の構成要素が「介在」するか、各構成要素が他の構成要素を介して「連結」、「結合」又は「接続」されていてもよいと理解しなければならない。

【0032】

全明細書において、特に逆の記載がない限り、各構成要素は、単数であってもよく、複数であってもよい。

【0033】

本明細書で使われる単数の表現は、文脈上明らかに他に意味しない限り、複数の表現を含む。本出願における「構成される」又は「含む」などの用語は、明細書上に記載の複数の構成要素、又は複数の段階を必ずしも全て含むものと解釈されてはならず、そのうち一部の構成要素又は一部の段階は、含まれていなくてもよく、又はさらなる構成要素又は段階を含むことができると解釈しなければならない。

【0034】

全明細書において、「Ａ及び／又はＢ」とするとき、これは特に逆の記載がない限り、Ａ、Ｂ又はＡ及びＢを意味し、「Ｃ～Ｄ」とするとき、これは特に逆の記載がない限り、Ｃ以上かつＤ以下であることを意味する。

【0035】

以下では、本発明の幾つかの実施形態によるオーバーレイ計測装置及び方法と、このためのシステムを説明することとする。

【0036】

図１は、本発明の一実施形態によるオーバーレイ計測システムを示した例示図である。

【0037】

図１を参照すると、発明の一実施形態によるオーバーレイ計測システム１００は、使用者端末１１０（例：コンピュータ、ノートパソコンなど）と、少なくとも１つの計測装置１２０とを含むことができる。

【0038】

一実施形態によれば、使用者端末１１０は、通信プロトコル（例：ＦＴＰ（Ｆｉｌｅ Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｐｒｏｔｏｃｏｌ））を介して、少なくとも１つの計測装置１２０とデータ又は信号を送受信することができる。例えば、使用者端末１１０は、１つの計測装置にデータ又は信号を送信することができるか、もしくは複数の計測装置にデータ又は信号を同時に送信することができる。

【0039】

一実施形態によれば、使用者端末１１０は、少なくとも１つの計測装置１２０に関する情報が使用者から入力されるマネージャプログラム（例：ＡＲＯ（Ａｕｔｏ Ｒｅｃｉｐｅ Ｏｐｔｉｍｉｚａｔｉｏｎ）マネージャプログラム）を実行させることができる。前記マネージャプログラムは、ウエハの特性を測定する計測装置の動作に関するレシピ情報が使用者から入力されてもよい。例えば、前記マネージャプログラムは、ウエハの特性を測定する複数のパラメータに対する値が使用者から入力されてもよい。

【0040】

このように、マネージャプログラムは、使用者端末１１０に設置されている。そして、使用者端末１１０は、マネージャプログラムによって計測装置１２０と同期化を行って、信号又はデータをリアルタイムで交換することができる。

【0041】

これら使用者端末１１０に設置されたマネージャプログラム（例：ＡＲＯマネージャプログラム）のＵＩ（Ｕｓｅｒ Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）は、計測装置に設置されたＵＩと類似であってもよい。そして、マネージャプログラムは、レシピに設定しようとするオプションがチェックして貯蔵されると、レシピファイルを生成することができる。レシピオプションは、レシピの生成時、初期値が基本的に設定されており、使用者が所望する場合、変更可能である。そして、使用者端末１１０で生成したファイルは、ＦＴＰを介してレシピを測定しようとする計測装置に伝送することができる。

【0042】

そして、計測装置にレシピファイルを送るためには、マネージャプログラムに当該装置のＰＣ ＩＰ、識別子（Ｉｄｅｎｔｉｆｉｅｒ）、パスワード（Ｐａｓｓｗｏｒｄ）、及びＳｅｒｖｅｒ ＩＰ情報が入力されていなければならない。これら情報が正常に入力されると、使用者端末１１０は、レシピの生成時に使用するために、計測装置に貯蔵されているファイルのＦＴＰ経路を登録することができる。そして、当該情報は、計測装置では入力しないマネージャプログラムを使用するために必要なものである。

【0043】

装備に貯蔵されているファイルとは、それぞれ装備で使用するフィルタリスト、絞りリスト、フォーカス、及びピンホールに使用されるテンプレートリスト、そして各計測装置のバージョン情報などを貯蔵しているファイルであってもよい。

【0044】

マネージャプログラムは、レシピを複数本の計測装置に同時に伝送させることができるため、上記過程を繰り返して、複数の計測装置をさらに登録することができる。各計測装置は、最初一回の登録が必要である。また、必要な際に追加された計測装置の削除、修正も可能である。

【0045】

そして、レシピは、使用者がウエハの情報を予め知っていた状態で生成可能であるが、当該ツールでは、データファイルを用いてウエハ情報を再構成することができる。よって、ウエハ情報が分からなくても、当該ウエハを測定していたデータファイルをロードして、レシピを生成可能である。

【0046】

一実施形態によれば、使用者端末１１０は、入力されたレシピに関する情報と、計測装置１２０に関する固有情報（例：計測装置のＩＰ（Ｉｎｔｅｒｎｅｔ Ｐｒｏｔｏｃｏｌ）アドレス、計測装置の識別子（Ｉｄｅｎｔｉｆｉｅｒ）、パスワード、及びサーバのＩＰアドレス）とを含むデータを生成することができる。例えば、使用者端末１１０は、計測装置別にレシピに関する情報と、計測装置に関する固有情報とを含むデータをそれぞれ生成することができる。

【0047】

一実施形態によれば、使用者端末１１０は、計測装置別にウエハの測定オプションに対する最適化過程を実行するか否かを示す情報を含めてデータを生成することができる。

【0048】

一実施形態によれば、使用者端末１１０は、前記生成されたデータを固有情報に該当する計測装置に伝送することができる。例えば、使用者端末１１０は、データ又は信号を１つの計測装置に送信することができるか、もしくはデータ又は信号を複数の計測装置のそれぞれに同時に送信することができる。

【0049】

上述したように、使用者端末１１０は、複数の計測装置の個々の固有情報を含む複数のデータを生成し、前記生成された複数のデータを当該計測装置に同時に伝送することができる。

【0050】

一実施形態によれば、計測装置１２０は、使用者端末１１０から受信されるデータに含まれたレシピを分析し、レシピの分析を完了すると、レシピに基づくウエハの測定オプションに対する最適化過程を行うことができる。

【0051】

例えば、使用者端末１１０に設置されたマネージャプログラムと、計測装置１２０に設置された計測ソフトウェア（例：オーバーレイアプリケーション）は、ＦＴＰを介してデータを送受信することができる。

【0052】

一実施形態によれば、計測装置１２０に設置された計測ソフトウェア（例：オーバーレイアプリケーション）は、使用者端末１１０に設置されたマネージャプログラムと互いに連動して動作され、使用者端末１１０から受信されたデータ（例：レシピ情報）に基づいて計測装置を動作させる命令語を含むことができる。

【0053】

一実施形態によれば、計測装置１２０は、計測ソフトウェアが実行されている状態で、スレッド（ｔｈｒｅａｄ）を用いて使用者端末１１０からレシピファイルが受信される経路を継続して確認することができる。

【0054】

一実施形態によれば、計測装置１２０は、レシピファイルが受信されると、レシピファイル名の形式及びファイル拡張子のうち少なくとも１つを用いて、当該ファイルがレシピファイルであるかを確認することができる。

【0055】

例えば、名の形式は、００００＠＠００００であってもよく、拡張子は、ｘｍｌであってもよい。

【0056】

一実施形態によれば、計測装置１２０は、レシピファイルを１行１行ずつ（ｌｉｎｅ ｂｙ ｌｉｎｅ）読み取って、レシピ情報を構成することができる。そして、最後の行まで読み取った後、レシピ情報構成を完了すると、当該レシピを貯蔵することができる。

【0057】

一実施形態によれば、計測装置１２０は、レシピ情報の構成が失敗する場合、レシピファイルが伝送される経路を介してレシピ構成の失敗を示すエラーメッセージを伝送し、失敗の理由をログファイルに記録して貯蔵する。

【0058】

一実施形態によれば、計測装置１２０は、レシピ情報の構成を完了して、受信されたデータにウエハの測定オプションに対する最適化過程の実行を示す情報が含まれていると、フィルタ最適化過程、絞り最適化過程、フォーカス最適化過程、ピンホール最適化過程、及び選択されたオプションを貯蔵する過程を手順に関係なく行うことができる。

【0059】

また、計測装置１２０は、上述したフィルタ最適化過程、絞り最適化過程、フォーカス最適化過程、ピンホール最適化過程、及び選択されたオプションを貯蔵する過程を順に行うこともできる。

【0060】

一実施形態によれば、計測装置１２０は、レシピの測定オプションを自動で最適化させることができ、これら機能をＡＲＯ（Ａｕｔｏ Ｒｅｃｉｐｅ Ｏｐｔｉｍｉｚａｔｉｏｎ）機能と言える。このとき、代表的に最適化オプションでは、フィルタ（Ｆｉｌｔｅｒ）、絞り開口数（ＮＡ）、フォーカス（Ｆｏｃｕｓ）、ピンホール（Ｐｉｎｈｏｌｅ）があり、追って様々なオプションを追加することができる。

【0061】

よって、レシピは、ウエハ情報及び測定ターゲット位置情報さえあれば、ＡＲＯを介して最適のオプションを自動貯蔵することができる。

【0062】

ＡＲＯ機能を使用すると、プログラムで様々なオプションを自動で測定、選択して最適化するため、作業者の空数を減らすことができる。また、作業者個人の能力に大きく影響されている最適化速度を一定に短縮することができる。

【0063】

図２は、本発明の一実施形態によるオーバーレイ計測装置の概念図である。

【0064】

図２を参照すると、本発明の一実施形態によるオーバーレイ計測装置１２０は、ウエハ２４０に形成された相異する層にそれぞれ形成された第１オーバーレイマーク（ＯＭ１）と、第２オーバーレイマーク（ＯＭ２）との間の誤差を計測する装置である。

【0065】

例えば、第１オーバーレイマーク（ＯＭ１）は、以前層に形成されたオーバーレイマークであり、第２オーバーレイマーク（ＯＭ２）は、現在層に形成されたオーバーレイマークであってもよい。オーバーレイマークは、ダイ領域に半導体デバイスを形成するための層を形成するとともに、スクライブレーンに形成される。例えば、第１オーバーレイマーク（ＯＭ１）は、絶縁膜パターンと共に形成されて、第２オーバーレイマーク（ＯＭ２）は、絶縁膜パターン上に形成されるフォトレジストパターンと共に形成されていてもよい。

【0066】

かかる場合、第２オーバーレイマーク（ＯＭ２）は、外部に露出しているが、第１オーバーレイマーク（ＯＭ１）は、フォトレジスト層によって遮られた状態であり、フォトレジスト材料からなる第２オーバーレイマーク（ＯＭ２）とは、光学的性質が異なる酸化物からなる。また、第１オーバーレイマーク（ＯＭ１）と第２オーバーレイマーク（ＯＭ２）の焦点面は、同一であるか相異する。

【0067】

本発明の一実施形態によるオーバーレイ計測装置１２０は、光源２１０、第１ビームスプリッタ（ｂｅａｍ ｓｐｌｉｔｔｅｒ）２１２、第１ミラー２１３、第１スペクトラムフィルタ（ｃｏｌｏｒ ｆｉｌｔｅｒ）２１４、第２スペクトラムフィルタ２１５、ビームコンバイナ（ｂｅａｍ ｃｏｍｂｉｎｅｒ）２１６、第２ミラー２１７、リレーレンズ２１８、偏光フィルタ２２１、絞り２５１、第２検出機２３３、焦点アクチュエータ２３４、ズームレンズ２３２、第１検出機２３１、第２ビームスプリッタ２３０、光学素子２２７、第３ビームスプリッタ２２４、ラムダ波長板２２２、対物レンズ２２０、レンズ焦点アクチュエータ２２５、絞り２５１、ＡＦ（Ａｕｔｏ Ｆｏｃｕｓ）２６１、及びプロセッサ２７０を含むことができる。

【0068】

図２に示されたオーバーレイ計測装置１２０の構成は、一実施形態によるものであり、オーバーレイ計測装置１２０の構成要素が、図２に示された実施形態に限定されるものではなく、必要に応じて、一部の構成要素を付加、変更又は削除することができる。例えば、オーバーレイ計測装置１２０は、プロセッサ２７０によってオーバーレイ計測装置１２０の各構成の動作を抑制する命令語、プログラム、ロジッグなどを貯蔵するメモリ（不図示）を含むことができる。

【0069】

一実施形態によれば、光源２１０としては、ハロゲンランプ、ゼノンランプ、スーパーコンティニウムレーザ（ｓｕｐｅｒｃｏｎｔｉｎｕｕｍ ｌａｓｅｒ）、発光ダイオード、レーザ励起ランプ（ｌａｓｅｒ ｉｎｄｕｃｅｄ ｌａｍｐ）などを用いることができる。

【0070】

一実施形態によれば、第１ビームスプリッタ２１２は、光源２１０から出たビームを２つのビームに分離させる役割を担う。第１ビームスプリッタ２１２は、光源２１０から出たビームの一部は透過させ、一部は反射させて、光源２１０から出たビームを２つのビームに分離させる。

【0071】

一実施形態によれば、第１ミラー２１３は、第１ビームスプリッタ２１２と第２スペクトラムフィルタ２１５との間に設置され、第１ビームスプリッタ２１２で反射したビームを第２スペクトラムフィルタ２１５に向けてビームの経路を変更させる。

【0072】

一実施形態によれば、第１スペクトラムフィルタ２１４は、第１ビームスプリッタ２１２で分離されたビームのうち、第１ビームスプリッタ２１２を透過したビームの中心波長及びバンド幅を現在層に形成された第２オーバーレイマーク（ＯＭ２）のイメージ獲得に好適に調節する役割を担う。スペクトラムフィルタは、フィルタホイール、線状並進デバイス、フリッパデバイスのうち１つを用いることができる。

【0073】

一実施形態によれば、第２スペクトラムフィルタ２１５は、第１ビームスプリッタ２１２から分離されたビームのうち、第１ビームスプリッタ２１２で反射したビームの中心波長及びバンド幅を以前層に形成された第１オーバーレイマーク（ＯＭ１）のイメージ獲得に好適に調節する役割を担う。本発明は、第１スペクトラムフィルタと第２スペクトラムフィルタを種々のフィルタに取り替えることができる。そして、スペクトラムフィルタは、フィルタホイール、線状並進デバイス、フリッパデバイスのうち少なくとも１つを含むことができる。

【0074】

一実施形態によれば、ビームコンバイナ（ｂｅａｍ ｃｏｍｂｉｎｅｒ）２１６は、第１スペクトラムフィルタ２１４と第２スペクトラムフィルタ２１５を通過した光を合わせる役割を担う。第１スペクトラムフィルタ２１４を通過した光は、ビームコンバイナ２１６を透過し、第２スペクトラムフィルタ２１５を通過したビームは、第２ミラー２１７によってビームコンバイナ２１６に向けてビームの経路が変更した後、ビームコンバイナ２１６で反射して、ビームコンバイナ２１６を透過したビームとさらに合わさった後、絞り２５１を通過する。

【0075】

一実施形態によれば、絞り２５１は、ビームコンバイナを透過したビームを第１オーバーレイマーク１の撮影に適した形態に変更する役割を担う。

【0076】

一実施形態によれば、第２検出機２３３は、第２ビームスプリッタ２３０で反射したビームを検出する。第２検出機２３３は、焦点アクチュエータ（ｆｏｃｕｓ ａｃｔｕａｔｏｒ）２３４に設置されて、第２ビームスプリッタ２３０と第２検出機２３３との間の距離が調節される。第２検出機２３３は、第１オーバーレイマーク（ＯＭ１）のイメージを獲得する。

【0077】

一実施形態によれば、第１検出機２３１は、第２ビームスプリッタ２３０を通過したビームを検出する。第１検出機２３１は、第２オーバーレイマーク（ＯＭ２）のイメージを獲得することができる。

【0078】

または、使用者の設定によって、第２検出機は動作せず、第１検出機でのみ第１オーバーレイマーク（ＯＭ１）と第２オーバーレイマーク（ＯＭ２）のイメージ獲得を実施することができる。

【0079】

一実施形態によれば、ズームレンズ２３２は、第２ビームスプリッタ２３０と焦点アクチュエータ２３４との間に設置される。ズームレンズ２３２は、第２検出機２３３の位置変化値を焦点アクチュエータ２３４から受信し、これに基づいて、第２オーバーレイマーク（ＯＭ２）のイメージと、第１オーバーレイマーク（ＯＭ１）のイメージの倍率を一致させる役割を担う。第１オーバーレイマーク（ＯＭ１）と第２オーバーレイマーク（ＯＭ２）との高さ差によって、第２検出機２３３と第２ビームスプリッタ２３０との間の光経路距離は、第１検出機２３１と第２ビームスプリッタ２３０との間の光経路距離と異なるため、第１検出機２３１で獲得されたイメージと第２検出機２３３で獲得されたイメージの倍率が相異し得る。正確なオーバーレイ誤差を測定するためには、倍率を一致させなければならない。

【0080】

一実施形態によれば、第２ビームスプリッタ２３０は、対物レンズ２２０で収集したビームを２つのビームに分離する役割を担う。第２ビームスプリッタ２３０は、チューブビームスプリッタと、ダイクロイックフィルタ（ｄｉｃｈｒｏｉｃ ｆｉｌｔｅｒ）とを含むことができる。ダイクロイックフィルタは、特定の波長ビームを透過させるフィルタである。対物レンズ２２０で収集したビームは、ラムダ波長板２２２、第３ビームスプリッタ２２４及び光学素子２２７を経て、第２ビームスプリッタ２３０で２つのビームに分離される。すなわち、第１オーバーレイマーク（ＯＭ１）の検出に適したビームと、第２オーバーレイマーク（ＯＭ２）の検出に適したビームとに分離される。

【0081】

一実施形態によれば、前記光学素子２２７は、ホットミラー（ｈｏｔ ｍｉｒｒｏｒ）及びコールドミラー（ｃｏｌｄ ｍｉｒｒｏｒ）を含むことができる。

【0082】

一実施形態によれば、第３ビームスプリッタ２２４は、コンバイナ２１６を介して合わさったビームをさらに２つのビームに分離する役割を担う。ビームコンバイナ２１６を介して合わさったビームは、リレーレンズ２１８及び偏光フィルタ２２１を経て偏光した状態で、第３ビームスプリッタ２２４で２つのビームに分離される。

【0083】

一実施形態によれば、対物レンズ２２０は、コンバイナ２１６で合わさった後、第３ビームスプリッタ２２４で反射した後、ラムダ波長板２２２を経て円偏光になったビームをウエハ２４０の測定位置で集光させ、測定位置で反射したビームを収集する役割を担う。対物レンズ２２０は、レンズ焦点アクチュエータ（ｌｅｎｓ ｆｏｃｕｓ ａｃｔｕａｔｏｒ）２２５に設置される。

【0084】

一実施形態によれば、レンズ焦点アクチュエータ２２５は、対物レンズ２２０とウエハ２４０との間の距離を調節して、焦点面が第１オーバーレイマーク（ＯＭ１）又は第２オーバーレイマーク（ＯＭ２）に位置するように調節することができる。レンズ焦点アクチュエータ２２５は、プロセッサ２７０の制御下で、対物レンズ２４０をウエハ方向に垂直移動させて、焦点距離を調節することができる。

【0085】

一実施形態によれば、光学素子は、ビームスプリッタを透過したビームの経路に対して４５゜をなすように設置される。これは、オートフォーカスモジュールにビームを送るためのものであり、長波長ビームを反射させて、短波長ビームを透過させるか、又は短波長ビームを反射させて、長波長ビームを透過させることを特徴とする。光学素子は、ホットミラー又はコールドミラーのうち１つから構成可能である。

【0086】

一実施形態によれば、オートフォーカスモジュールは、フォーカスを調節するためのものであり、対物レンズとウエハとの間の距離による信号を生成する役割を担う。すなわち、検出機の焦点位置変化による信号を生成する役割を担う。オートフォーカスモジュールは、位相差方式のオートフォーカスセンサモジュールを用いることができる。例えば、オートフォーカスセンサモジュールで獲得した焦点が「標準焦点」と一致する場合は、センサで出力される信号値である位相差の値が０であってもよく、一致していない場合は、焦点の位置によって＋又は －値であってもよい。「標準焦点」とは、センサの信号を基準に決定された第１又は第２検出機、オートフォーカスセンサの焦点である。「標準焦点」は、実際の整列イメージの獲得に適した「測定焦点」と一致することもあるが、第１オーバーレイマーク（ＯＭ１）と第２オーバーレイマーク（ＯＭ２）との高さ差が大きい場合には、ほとんど相異する。

【0087】

ウエハの測定領域で反射した反射光によって、焦点位置による信号をオートフォーカスセンサが獲得して、焦点位置を調節するように、アクチュエータでウエハの測定領域と対物レンズとの間の距離を調節するアクチュエータを調節することを特徴とする。

【0088】

図３は、本発明の一実施形態によるオーバーレイ計測システムのブロック図である。

【0089】

図３を参照すると、本発明の一実施形態によるオーバーレイ計測システム１００は、使用者端末１１０及び計測装置１２０を含むことができる。

【0090】

一実施形態によれば、使用者端末１１０は、送受信部３１１、表示部３１２、メモリ３１３、及びプロセッサ３１４を含むことができる。

【0091】

例えば、送受信部３１１は、通信プロトコル（例：ＦＴＰ）を介して計測装置１２０にデータ又は信号を送信することができる。

【0092】

例えば、表示部３１２は、プロセッサ３１４の制御下で、使用者から計測装置に対するレシピ設定値が入力されるマネージャプログラムを表示することができる。

【0093】

例えば、メモリ３１３は、使用者端末１１０の少なくとも１つの他の構成要素に係る命令又はデータを貯蔵することができる。メモリ３１３は、使用者から入力されるレシピに関する情報、計測装置１２０に関する固有情報を計測装置１２０に伝送するために必要な命令語、アルゴリズム、ソフトウェア、及びプログラム（例：ＡＲＯマネージャプログラム）のうち少なくとも一部を貯蔵することができる。

【0094】

例えば、メモリ３１３は、使用者端末１１０に設置されたマネージャプログラムによって計測装置１２０が最適化過程を行う機能を実行できる命令語を貯蔵することができる。

【0095】

例えば、プロセッサ３１４は、少なくとも１つの計測装置１２０と送受信部３１１を介して互いに連動して、計測装置に対するレシピ情報を含むデータを少なくとも１つの計測装置１２０に伝送することができる。

【0096】

例えば、プロセッサ３１４は、少なくとも１つの計測装置１２０のレシピに対する設定値が入力されるマネージャプログラム（例：ＡＲＯマネージャプログラム）を実行して、表示部３１２上に表示することができる。マネージャプログラムは、ウエハの特性を測定する計測装置の動作に関するレシピ情報が使用者から入力されるか、又は送受信部３１１を介して受信することができる。

【0097】

例えば、プロセッサ３１４は、入力されたレシピに関する情報と、計測装置１２０に関する固有情報（例：計測装置のＩＰアドレス、計測装置の識別子、パスワード、及びサーバのＩＰ）とを含むデータを生成することができる。例えば、プロセッサ３１４は、計測装置別にレシピに関する情報と、計測装置に関する固有情報とを含むデータをそれぞれ生成することができる。

【0098】

例えば、プロセッサ３１４は、計測装置別にウエハの測定オプションに対する最適化過程を実行するか否かを示す情報を含むデータを生成することができる。

【0099】

例えば、プロセッサ３１４は、前記生成されたデータを固有情報に該当する計測装置に伝送することができる。例えば、使用者端末１１０は、データ又は信号を１つの計測装置に送信することができるか、もしくはデータ又は信号を複数の計測装置のそれぞれに同時に送信することができる。

【0100】

また、プロセッサ３１４は、ウエハ２４０の測定オプションに対する最適化過程を実行するか否かを示す情報を含むデータを生成することができる。

【0101】

上述したように、プロセッサ３１４は、複数の計測装置の個々の固有情報を含む複数のデータを生成し、前記生成した複数のデータを当該計測装置に同時に伝送することができる。

【0102】

一実施形態によれば、計測装置１２０は、送受信部３２１、表示部３２２、メモリ３２３、測定部３２４、及びプロセッサ２７０を含むことができる。

【0103】

例えば、送受信部３２１は、通信プロトコル（例：ＦＴＰ）を介して使用者端末１１０からデータ又は信号を受信することができる。

【0104】

例えば、表示部３２２は、プロセッサ２７０の制御下で、使用者端末１１０から受信されたレシピに関する情報をマネージャソフトウェア（例：計測ソフトウェア）を介して表示することができる。

【0105】

例えば、メモリ３２３は、計測装置１２０の少なくとも１つの他の構成要素に係る命令又はデータを貯蔵することができる。メモリ３２３は、レシピに関する情報、計測装置１２０に関する固有情報を使用者端末１１０から受信するために必要な命令語、アルゴリズム、ソフトウェアのうち少なくとも一部を貯蔵することができる。

【0106】

例えば、メモリ３２３は、使用者端末１１０から受信されたレシピに対する設定値、計測装置１２０に既設定された設定値、及びプロセッサ２７０の動作に基づいて生成されるデータ（例；オプションに対して最適化したデータ）を貯蔵することができる。

【0107】

例えば、メモリ３２３は、計測装置１２０に設置されたソフトウェアを介して計測装置１２０が最適化過程を行う機能を実行できる命令語を貯蔵することができる。

【0108】

例えば、測定部３２４は、プロセッサ２７０の制御下で、計測装置１２０に設定されたレシピ情報によってウエハ２４０の特性を測定することができる。

【0109】

例えば、プロセッサ２７０は、使用者端末１１０と送受信部３２１を介して計測装置に関するレシピ情報を含むデータを使用者端末１１０から受信することができる。

【0110】

例えば、プロセッサ２７０は、計測装置１２０のレシピに対する設定値が入力されるソフトウェアを表示部３２２上に表示することができる。また、プロセッサ２７０は、使用者端末１１０から受信された計測装置に関するレシピ情報を計測ソフトウェアを介して表示することができる。

【0111】

一実施形態によれば、プロセッサ２７０は、使用者端末１１０から受信されるデータに含まれたレシピを分析することができる。例えば、レシピは、ウエハ２４０の特性を測定する複数のパラメータに対する値を含むことができる。

【0112】

また、レシピは、ファイナルレジデュアル３シグマ（Ｆｉｎａｌ Ｒｅｓｉｄｕａｌ ３ Ｓｉｇｍａ）、ティス３シグマ（ＴＩＳ ３ Ｓｉｇｍａ）、レジストレーション３シグマ（Ｒｅｇｉｓｔｒａｔｉｏｎ ３ Ｓｉｇｍａ）計測精密度を示すＴＭＵ（Ｔｏｔａｌ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ Ｕｎｃｅｒｔａｉｎｔｙ）、及び測定間移動後の計測時間を示すＭＡＭ（Ｍｏｖｅ ａｎｄ Ｍｅａｓｕｒｅ）ｔｉｍｅのうち少なくとも１つを含むか、又はこれらを組み合わせた総重量を含むことができる。

【0113】

また、データは、ウエハ２４０の測定オプションに対する最適化過程を実行するか否かを示す情報を含むことができる。

【0114】

一実施形態によれば、プロセッサ２７０は、前記使用者端末１１０から受信されたデータに含まれたレシピファイル名の形式及びファイル拡張子のうち少なくとも１つを用いて、レシピファイルの真偽を判断することができる。例えば、ファイル名の形式は、００００＠＠００００であってもよく、拡張子は、ｘｍｌであってもよい。

【0115】

一実施形態によれば、プロセッサ２７０は、レシピ分析を完了すると、レシピに基づくウエハの測定オプションに対する最適化過程を行うことができる。例えば、プロセッサ２７０は、レシピファイルを１行１行ずつ（ｌｉｎｅ ｂｙ ｌｉｎｅ）読み取って、レシピ情報を構成することができる。そして、プロセッサ２７０は、最後の行まで読み取った後、レシピ情報の構成を完了すると、当該レシピをメモリ３２３に貯蔵することができる。

【0116】

一実施形態によれば、プロセッサ２７０は、計測装置１２０内の１以上のフィルタ（例：スペクトラムフィルタ）を１回測定して、各フィルタ別に複数のパラメータに対する統計値を計算することができる。または、プロセッサ２７０は、計測装置１２０内の１つ以上のフィルタ（例：スペクトラムフィルタ）を少なくとも１回測定することができる。このように、１回測定する理由は、最小測定回数だからである。そして、プロセッサ２７０は、前記計算された統計値に加重値をそれぞれ付与し、前記加重値がそれぞれ付与された統計値の和が最小となるフィルタを選択する、フィルタ最適化過程を行うことができる。

【0117】

例えば、プロセッサ２７０は、各フィルタ別にオーバーレイ測定値、つまりティス３シグマ（ＴＩＳ ３ Ｓｉｇｍａ）及びレジストレーション３シグマ（Ｒｅｇｉｓｔｒａｔｉｏｎ ３ Ｓｉｇｍａ）を測定し、前記測定されたティス３シグマ及びレジストレーション３シグマをモデリングして、ファイナルレジデュアル３シグマ（Ｆｉｎａｌ Ｒｅｓｉｄｕａｌ ３ Ｓｉｇｍａ）を獲得することができる。

【0118】

また、プロセッサ２７０は、ファイナルレジデュアル３シグマ（Ｆｉｎａｌ Ｒｅｓｉｄｕａｌ ３ Ｓｉｇｍａ）、ティス３シグマ（ＴＩＳ ３ Ｓｉｇｍａ）、レジストレーション３シグマ（Ｒｅｇｉｓｔｒａｔｉｏｎ ３ Ｓｉｇｍａ）、計測精密度を示すＴＭＵ（Ｔｏｔａｌ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ Ｕｎｃｅｒｔａｉｎｔｙ）、及び測定間移動後の計測時間を示すＭＡＭ（Ｍｏｖｅ ａｎｄ Ｍｅａｓｕｒｅ）ｔｉｍｅのうち少なくとも１つを獲得するか、又はこれらを組み合わせた総重量を獲得することができる。

【0119】

そして、プロセッサ２７０は、各フィルタの少なくとも１つのパラメータの統計値に加重値をそれぞれ付与し、加重値が付与された結果値の和が最小となるフィルタを選択することができる。

【0120】

一実施形態によれば、プロセッサ２７０は、前記フィルタ最適化過程を行うと、計測装置１２０内の１つ以上の絞りを１回測定して、各絞り別に複数のパラメータに対する統計値を計算することができる。

【0121】

また、プロセッサ２７０は、前記フィルタ最適化過程を行うと、計測装置１２０内の１つ以上の絞りを１回測定して、各絞り別に複数のパラメータに対する統計値を計算することができる。そして、プロセッサ２７０は、前記計算された統計値に加重値をそれぞれ付与し、前記加重値がそれぞれ付与された統計値の和が最小となる絞り（Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ Ａｐｅｒｔｕｒｅ，ＮＡ）を選択する、絞り最適化過程を行うことができる。絞りは、同じレンズを１つだけ使用するため、開口数が変更し得、これによって、光の量と模様を変更させることができる。

【0122】

例えば、プロセッサ２７０は、各絞り別にオーバーレイ測定値、つまりティス３シグマ及びレジストレーション３シグマを測定し、前記測定されたティス３シグマ及びレジストレーション３シグマをモデリングして、ファイナルレジデュアル３シグマを獲得することができる。

【0123】

また、プロセッサ２７０は、ファイナルレジデュアル３シグマ（Ｆｉｎａｌ Ｒｅｓｉｄｕａｌ ３ Ｓｉｇｍａ）、ティス３シグマ（ＴＩＳ ３ Ｓｉｇｍａ）、レジストレーション３シグマ（Ｒｅｇｉｓｔｒａｔｉｏｎ ３ Ｓｉｇｍａ）、ＴＭＵ、及びＭＡＭ ｔｉｍｅのうち少なくとも１つを獲得するか、又はこれらを組み合わせた総重量を獲得することができる。

【0124】

そして、プロセッサ２７０は、各絞りの各パラメータの統計値に加重値をそれぞれ付与し、加重値が付与された結果値の和が最小となる絞りを選択することができる。

【0125】

一実施形態によれば、プロセッサ２７０は、絞り最適化過程を行うと、計測装置１２０内の１つのサイトでフォーカススキャンを行って、フォーカス測定領域を決定し、各サイトごとに前記決定された測定領域内において、１つのステップずつフォーカスを移動して、複数のパラメータに対する統計値を計算することができる。そして、プロセッサ２７０は、前記計算された統計値に加重値をそれぞれ付与し、前記加重値がそれぞれ付与された統計値の和が最小となるフォーカスを選択する、フォーカス最適化過程を行うことができる。

【0126】

例えば、プロセッサ２７０は、各フォーカス別にオーバーレイ測定値、つまりティス３シグマ及びレジストレーション３シグマを測定し、前記測定されたティス３シグマ及びレジストレーション３シグマをモデリングして、ファイナルレジデュアル３シグマを獲得することができる。

【0127】

そして、プロセッサ２７０は、各フォーカスの各パラメータの統計値に加重値をそれぞれ付与し、加重値が付与された結果値の和が最小となるフォーカスを選択することができる。

【0128】

一実施形態によれば、プロセッサ２７０は、前記フォーカス最適化過程を行うと、計測装置１２０内の絞りを第１ピンホール位置で１回測定し、前記第１ピンホール位置から一定距離（例：３μｍ）移動した第２ピンホール位置で１回測定することができる。そして、プロセッサ２７０は、前記第１ピンホール位置及び前記第２ピンホール位置でティス３シグマを計算し、絞りによるピンホール位置別に前記ティス３シグマをモデリングすることができる。そして、プロセッサ２７０は、前記ティス３シグマが最小となるピンホールの位置を選択する、ピンホール最適化過程を行うことができる。

【0129】

一実施形態によれば、プロセッサ２７０は、前記ピンホール最適化過程を行うと、前記フィルタ最適化過程、前記絞り最適化過程、前記フォーカス最適化過程、及び前記ピンホール最適化過程のそれぞれから選択されたオプションに関する情報（例：最適化結果値）をメモリ３２３に貯蔵することができる。

【0130】

図４は、本発明の一実施形態による使用者端末がデータを計測装置に伝送する過程を示した手順図である。図５は、本発明の一実施形態によるマネージャプログラム上に複数のパラメータに関する情報を入力した例示図である。

【0131】

以下、図３～図５を参照して、本発明の一実施形態による使用者端末が、データを計測装置に伝送する過程を詳説すると、次のとおりである。

【0132】

一実施形態によれば、プロセッサ３１４は、マネージャプログラムを実行させることができる（Ｓ４１０）。プロセッサ３１４は、計測装置を遠隔で管理及び制御するマネージャプログラム（例：ＡＲＯマネージャプログラム）を実行させた後、表示部３１２上に表示することができる。マネージャプログラムは、ウエハの特性について測定する計測装置の動作に関するレシピ情報が使用者から入力されるか、又は送受信部３１１を介して獲得することができる。

【0133】

一実施形態によれば、プロセッサ３１４は、ウエハの測定に対するレシピが入力されるかを識別することができる（Ｓ４１２）。前記マネージャプログラムは、ウエハの特性を測定する複数のパラメータに対する値が使用者から入力されてもよい。例えば、複数のパラメータは、ファイナルレジデュアル３シグマ（Ｆｉｎａｌ Ｒｅｓｉｄｕａｌ ３ Ｓｉｇｍａ）、ティス３シグマ（ＴＩＳ ３ Ｓｉｇｍａ）、及びレジストレーション３シグマ（Ｒｅｇｉｓｔｒａｔｉｏｎ ３ Ｓｉｇｍａ）を含むことができる。また、複数のパラメータは、少なくとも１つ以上のパラメータの組み合わせからなる総重量（Ｔｏｔａｌ Ｗｅｉｇｈｔ）を含むことができる。

【0134】

また、前記マネージャプログラムは、ファイナルレジデュアル３シグマ（Ｆｉｎａｌ Ｒｅｓｉｄｕａｌ ３ Ｓｉｇｍａ）、ティス３シグマ（ＴＩＳ ３ Ｓｉｇｍａ）、レジストレーション３シグマ（Ｒｅｇｉｓｔｒａｔｉｏｎ ３ Ｓｉｇｍａ）、計測精密度を示すＴＭＵ（Ｔｏｔａｌ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ Ｕｎｃｅｒｔａｉｎｔｙ）、及び測定間移動後の計測時間を示すＭＡＭ（Ｍｏｖｅ ａｎｄ Ｍｅａｓｕｒｅ）ｔｉｍｅのうち少なくとも１つを入力するか、又はこれらを組み合わせた総重量を入力することができる。

【0135】

一実施形態によれば、プロセッサ３１４は、入力されたレシピを実行されたマネージャプログラム上に表示することができる（Ｓ４１４）。プロセッサ３１４は、複数のパラメータのそれぞれに対して使用者から入力された値（例：割合）をリアルタイムでマネージャプログラム上に表示することができる。

【0136】

図５を参照すると、マネージャプログラム（例：ＡＲＯマネージャプログラム）５１０は、使用者から複数のパラメータに対する値が入力されてもよいポップアップ５２０を表示することができる。例えば、前記ポップアップ５２０は、ファイナルレジデュアル３シグマ（Ｆｉｎａｌ Ｒｅｓｉｄｕａｌ ３ Ｓｉｇｍａ）５２１の割合、ティス３シグマ（ＴＩＳ ３ Ｓｉｇｍａ）５２１の割合、及びレジストレーション３シグマ（Ｒｅｇｉｓｔｒａｔｉｏｎ ３ Ｓｉｇｍａ）５２１の割合が入力されてもよい。また、前記ポップアップ５２０は、少なくとも１つ以上のパラメータに対する割合が入力されてもよい。

【0137】

例えば、これらファイナルレジデュアル３シグマ５２１の割合、ティス３シグマ５２１の割合、及びレジストレーション３シグマ５２１の割合がいずれも入力されると、総重量（Ｔｏｔａｌ Ｗｅｉｇｈｔ）値を表示することができる。そして、使用者が重量値適用ボタン５３０をクリックすると、プロセッサ３１４は、入力されたパラメータに関する情報、計測装置の固有情報を含むデータを生成することができる。

【0138】

一実施形態によれば、プロセッサ３１４は、レシピ入力が終了するかを識別することができる（Ｓ４１６）。プロセッサ３１４は、ファイナルレジデュアル３シグマ、ティス３シグマ、及びレジストレーション３シグマのそれぞれに対するの割合がいずれも入力されるかを識別することができる。

【0139】

また、プロセッサ３１４は、入力された複数のパラメータに対するレシピが適用される、少なくとも１つの計測装置に関する固有情報が入力されるかを識別することができる。例えば、固有情報は、計測装置のＩＰアドレス、計測装置の識別子、パスワード、及びサーバのＩＰアドレスを含むことができる。

【0140】

また、プロセッサ３１４は、計測装置別にウエハの測定オプションに対する最適化過程を実行するか否かを示す情報が入力されるかを識別することができる。

【0141】

一実施形態によれば、プロセッサ３１４は、入力されたレシピに関する情報と、既に指定された少なくとも１つの計測装置に関する情報とを含むデータを生成することができる。プロセッサ３１４は、計測装置別にレシピに関する情報と、計測装置に関する固有情報とを含むデータをそれぞれ生成することができる。

【0142】

また、プロセッサ３１４は、計測装置別にウエハの測定オプションに対する最適化過程を実行するか否かを示す情報を含むデータを生成することができる。

【0143】

一実施形態によれば、プロセッサ３１４は、前記生成されたデータを少なくとも１つの計測装置に伝送することができる（Ｓ４２０）。プロセッサ３１４は、前記生成されたデータを固有情報に該当する計測装置へ送受信部３１１を介して伝送することができる。例えば、プロセッサ３１４は、データ又は信号を１つの計測装置に送信することができるか、又はデータ又は信号を複数の計測装置のそれぞれに同時に送信することができる。

【0144】

上述したように、プロセッサ３１４は、複数の計測装置の個々の固有情報を含む複数のデータをそれぞれ生成し、それぞれ生成された複数のデータを当該計測装置へ送受信部３１１を介して同時に伝送することもできる。

【0145】

図６は、本発明の一実施形態による計測装置が、レシピファイルに基づいて最適化を行う過程を示した手順図である。図７は、本発明の一実施形態による計測装置が、レシピファイルに基づいて最適化を行う状態を示した例示図である。

【0146】

以下、図３、６及び７を参照して、本発明の一実施形態による計測装置が、レシピファイルに基づいて最適化を行う過程を詳説すると、次のとおりである。

【0147】

一実施形態によれば、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、使用者端末１１０からデータが受信されるかを識別することができる（Ｓ６１０）。計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、計測ソフトウェアが実行されている状態で、スレッド（ｔｈｒｅａｄ）を用いて使用者端末１１０からレシピファイルが受信される経路を継続して確認することで、使用者端末１１０からデータが受信されるかを識別することができる。

【0148】

例えば、前記データは、マネージャプログラムによって使用者が入力したレシピに関する情報と、計測装置に関する固有情報とを含むことができる。また、前記データは、ウエハの測定オプションに対する最適化過程を実行するか否かを示す情報を含むことができる。

【0149】

一実施形態によれば、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、受信されたデータが計測装置のレシピファイルに該当するかを識別することができる（Ｓ６１２）。計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、レシピファイルが送受信部３２１を介して受信されると、レシピファイル名の形式及びファイル拡張子のうち少なくとも１つを用いて、レシピファイルが当該計測装置に関するレシピファイルであることを確認することができる。例えば、名の形式は、００００＠＠００００であってもよく、拡張子は、ｘｍｌであってもよい。本発明は、特定の名の形式又は特定の拡張子に限らない。

【0150】

一実施形態によれば、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、レシピファイルが計測装置に該当すると、レシピファイルを分析することができる（Ｓ６１４，Ｓ６１６）。計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、受信されたレシピファイルを１行１行ずつ（ｌｉｎｅ ｂｙ ｌｉｎｅ）読み取って、レシピ情報を構成することができる。

【0151】

例えば、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、使用者端末１１０から受信されるデータに含まれたレシピを分析することができる。例えば、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、ウエハ２４０の特性を測定する複数のパラメータに対する値を分析することができる。例えば、複数のパラメータは、ファイナルレジデュアル３シグマの割合、ティス３シグマの割合、レジストレーション３シグマの割合、ＴＭＵの割合、ＭＡＭ Ｔｉｍｅの割合、及び総重量の割合を含むことができる。

【0152】

一実施形態によれば、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、レシピファイルの分析を完了するかを識別することができる（Ｓ６１８）。計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、最後の行まで読み取って、レシピ情報の構成を完了すると、当該レシピをメモリ３２３に貯蔵することができる。

【0153】

一実施形態によれば、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、最適化オプションが選択されたかを識別することができる（Ｓ６２０）。計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、上記過程（Ｓ６１０）で受信されたデータに最適化オプションを示す情報が含まれているかを識別することができる。これら最適化オプションに関する情報は、使用者端末１１０のマネージャアプリケーションを介して使用者によって入力されてもよい。

【0154】

一実施形態によれば、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、レシピに対する最適化過程を行うことができる（Ｓ６２２）。計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、計測装置１２０内の１つ以上のフィルタ（例：スペクトラムフィルタ）を１回測定して、各フィルタ別に複数のパラメータに対する統計値を計算することができる。そして、プロセッサ２７０は、前記計算された統計値に加重値をそれぞれ付与し、前記加重値がそれぞれ付与された統計値の和が最小となるフィルタを選択する、フィルタ最適化過程を行うことができる。

【0155】

そして、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、各フィルタ別にオーバーレイ測定値、つまりティス３シグマ及びレジストレーション３シグマを測定し、前記測定されたティス３シグマ及びレジストレーション３シグマをモデリングして、ファイナルレジデュアル３シグマを獲得することができる。

【0156】

そして、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、各フィルタの各パラメータの統計値に加重値をそれぞれ付与し、加重値が付与された結果値の和が最小となるフィルタを選択することができる。

【0157】

図７を参照すると、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、スペクトラムフィルタ（１～ｎ）のそれぞれについて、複数のパラメータに対する統計値を計算し、計算された統計値に加重値をそれぞれ付与し、前記加重値がそれぞれ付与された統計値の和が最小となるフィルタを選択する、フィルタ最適化過程７１０を行うことができる。

【0158】

一実施形態によれば、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、フィルタ最適化過程を行うと、計測装置１２０内の１以上の絞りを１回測定して、各絞り別に複数のパラメータに対する統計値を計算することができる。そして、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、前記計算された統計値に加重値をそれぞれ付与し、加重値がそれぞれ付与された統計値の和が最小となる絞りを選択する、絞り最適化過程を行うことができる。絞りは、同じレンズを１つのみ使用するため、開口数が変更し得、これによって、光の量と模様を変更させることができる。

【0159】

そして、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、各絞り別にオーバーレイ測定値、つまりティス３シグマ及びレジストレーション３シグマを測定し、前記測定されたティス３シグマ及びレジストレーション３シグマをモデリングして、ファイナルレジデュアル３シグマを獲得することができる。

【0160】

そして、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、各絞りの各パラメータの統計値に加重値をそれぞれ付与し、加重値が付与された結果値の和が最小となる絞りを選択することができる。

【0161】

図７を参照すると、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、絞り（１～ｎ）のそれぞれについて、複数のパラメータに対する統計値を計算し、計算された統計値に加重値をそれぞれ付与し、前記加重値がそれぞれ付与された統計値の和が最小となる絞りを選択する、絞り最適化過程７２０を行うことができる。

【0162】

一実施形態によれば、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、絞り最適化過程を行うと、計測装置１２０内の１つのサイトでフォーカススキャンを行って、フォーカス測定領域を決定し、各サイトごとに、前記決定された測定領域内において、１つのステップずつフォーカスを移動して、複数のパラメータに対する統計値を計算することができる。そして、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、前記計算された統計値に加重値をそれぞれ付与し、加重値がそれぞれ付与された統計値の和が最小となるフォーカスを選択する、フォーカス最適化過程を行うことができる。

【0163】

例えば、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、各フォーカス別にオーバーレイ測定値、つまりティス３シグマ及びレジストレーション３シグマを測定し、前記測定されたティス３シグマ及びレジストレーション３シグマをモデリングして、ファイナルレジデュアル３シグマを獲得することができる。

【0164】

そして、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、各フォーカスの各パラメータの統計値に加重値をそれぞれ付与し、加重値が付与された結果値の和が最小となるフォーカスを選択することができる。

【0165】

図７を参照すると、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、各フォーカス別にティス３シグマ及びレジストレーション３シグマを測定し、前記測定されたティス３シグマ及びレジストレーション３シグマをモデリングして、ファイナルレジデュアル３シグマを獲得する、フォーカス最適化過程７３０を行うことができる。

【0166】

一実施形態によれば、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、フォーカス最適化過程を行うと、計測装置１２０内の絞りによる第１ピンホール位置で１回測定し、前記第１ピンホール位置から一定距離（例：３μｍ）移動した第２ピンホール位置で１回測定することができる。そして、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、前記第１ピンホール位置及び前記第２ピンホール位置でティス３シグマを計算し、絞りによるピンホール位置別に前記ティス３シグマをモデリングすることができる。そして、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、前記ティス３シグマが最小となるピンホールの位置を選択する、ピンホール最適化過程を行うことができる。

【0167】

図７を参照すると、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、第１ピンホール位置及び第２ピンホール位置でティス３シグマを計算し、絞りによるピンホール位置別に前記ティス３シグマをモデリングして、前記ティス３シグマが最小となるピンホールの位置を選択する、ピンホール最適化過程７４０を行うことができる。

【0168】

一実施形態によれば、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、選択されたオプションに関する情報を貯蔵することができる（Ｓ６２４）。計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、ピンホール最適化過程を行うと、前記フィルタ最適化過程、前記絞り最適化過程、前記フォーカス最適化過程、及び前記ピンホール最適化過程のそれぞれから選択されたオプションに関する情報（例：最適化結果値）をメモリ３２３に貯蔵することができる。

【0169】

図７を参照すると、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、上述したフィルタ最適化過程、絞り最適化過程、フォーカス最適化過程、及びピンホール最適化過程のそれぞれから選択されたオプションに関する情報（例：最適化結果値）をメモリ３２３に貯蔵することができる。そして、計測装置１２０（例：プロセッサ２７０）は、測定部３２４を制御して、ウエハ２４０に対する特性を選択されたオプションに基づいて測定することができる。

【0170】

以上で上述した各々の手順図における各ステップは、図示の順序に関係なく動作することができるか、又は同時に行うことができる。また、本発明の少なくとも１つの構成要素と、上記少なくとも１つの構成要素で行われる少なくとも１つの動作は、ハードウェア及び／又はソフトウェアで具現可能である。

【0171】

以上のように、本発明について例示の図面を参照して説明したが、本発明は、本明細書で開示の実施形態と図面によって限定されるものではなく、本発明の技術思想範囲内における通常の技術者にとって様々な変形を行えることは自明である。さらに、本発明の実施形態を前述しながら、本発明の構成による作用効果を明示的に記載して説明しなかったとしても、当該構成によって予測可能な効果も認めるべきであることは当然である。

【符号の説明】

【0172】

１００ オーバーレイ計測システム
１１０ 使用者端末
１２０ オーバーレイ計測装置
２７０ プロセッサ
３２１ 送受信部
３２２ 表示部
３２３ メモリ
３２４ 測定部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】