(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024059114
(43)【公開日】2024-05-01
(54)【発明の名称】駆動機構及び露光装置
(51)【国際特許分類】
G03F 7/20 20060101AFI20240423BHJP
【ＦＩ】
G03F7/20 521
G03F7/20 501
【審査請求】未請求
【請求項の数】16
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022166565
(22)【出願日】2022-10-18
(71)【出願人】
【識別番号】000102212
【氏名又は名称】ウシオ電機株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110003339
【氏名又は名称】弁理士法人南青山国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】曽原 直也
【テーマコード（参考）】
2H197
【Ｆターム（参考）】
2H197CD12
2H197CD17
2H197CD41
2H197HA03
2H197HA05
(57)【要約】
【課題】高精度な長距離移動を実現することが可能な駆動機構及び露光装置を提供すること。
【解決手段】本発明の一形態に係る駆動機構は、中間体と、原動体と、従動体とを具備する。前記中間体は、本体と、前記本体を回転可能に支持する主軸部と、前記本体の互いに異なる位置に設けられた第１の受部及び第２の受部とを有する。前記原動体は、アクチュエータに接続され第１の方向に沿って前記第１の受部を押す。前記従動体は、前記第２の受部に押されて第２の方向に沿って移動して対象物を動かす。前記中間体は、前記主軸部の回転軸と直交する回転面において、前記主軸部の中心から前記第１の受部の中心及び前記第２の受部の中心に向かう２直線のなす配置角度φが、前記本体の回転角度をαとして｜α｜＜９０°である場合に、下記条件式を満たすように構成される。
【数１】
【選択図】図２
【解決手段】本発明の一形態に係る駆動機構は、中間体と、原動体と、従動体とを具備する。前記中間体は、本体と、前記本体を回転可能に支持する主軸部と、前記本体の互いに異なる位置に設けられた第１の受部及び第２の受部とを有する。前記原動体は、アクチュエータに接続され第１の方向に沿って前記第１の受部を押す。前記従動体は、前記第２の受部に押されて第２の方向に沿って移動して対象物を動かす。前記中間体は、前記主軸部の回転軸と直交する回転面において、前記主軸部の中心から前記第１の受部の中心及び前記第２の受部の中心に向かう２直線のなす配置角度φが、前記本体の回転角度をαとして｜α｜＜９０°である場合に、下記条件式を満たすように構成される。
【数１】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
本体と、前記本体を回転可能に支持する主軸部と、前記本体の互いに異なる位置に設けられた第１の受部及び第２の受部とを有する中間体と、
アクチュエータに接続され第１の方向に沿って前記第１の受部を押す原動体と、
前記第２の受部に押されて第２の方向に沿って移動して対象物を動かす従動体と
を具備し、
前記中間体は、前記主軸部の回転軸と直交する回転面において、前記主軸部の中心から前記第１の受部の中心及び前記第２の受部の中心に向かう２直線のなす配置角度φが、前記本体の回転角度をαとして｜α｜＜９０°である場合に、下記条件式を満たすように構成される
駆動機構。
アクチュエータに接続され第１の方向に沿って前記第１の受部を押す原動体と、
前記第２の受部に押されて第２の方向に沿って移動して対象物を動かす従動体と
を具備し、
前記中間体は、前記主軸部の回転軸と直交する回転面において、前記主軸部の中心から前記第１の受部の中心及び前記第２の受部の中心に向かう２直線のなす配置角度φが、前記本体の回転角度をαとして｜α｜＜９０°である場合に、下記条件式を満たすように構成される
駆動機構。
【数1】
【請求項2】
請求項１に記載の駆動機構であって、
前記中間体は、前記配置角度φが、９０°の整数倍になるように構成される
駆動機構。
前記中間体は、前記配置角度φが、９０°の整数倍になるように構成される
駆動機構。
【請求項3】
請求項１又は２に記載の駆動機構であって、
前記第１の受部及び前記第２の受部の少なくとも一方は、前記回転面における平面形状が円形状となるように構成される
駆動機構。
前記第１の受部及び前記第２の受部の少なくとも一方は、前記回転面における平面形状が円形状となるように構成される
駆動機構。
【請求項4】
請求項３に記載の駆動機構であって、
前記第１の受部及び前記第２の受部の少なくとも一方は、ベアリングである
駆動機構。
前記第１の受部及び前記第２の受部の少なくとも一方は、ベアリングである
駆動機構。
【請求項5】
請求項１又は２に記載の駆動機構であって、
前記原動体は、前記第１の受部に接する第１の接触面を有し、
前記従動体は、前記第２の受部に接する第２の接触面を有し、
前記第１の接触面及び前記第２の接触面の少なくとも一方は、前記回転面に直交する平面である
駆動機構。
前記原動体は、前記第１の受部に接する第１の接触面を有し、
前記従動体は、前記第２の受部に接する第２の接触面を有し、
前記第１の接触面及び前記第２の接触面の少なくとも一方は、前記回転面に直交する平面である
駆動機構。
【請求項6】
請求項５に記載の駆動機構であって、
前記第１の接触面は、前記第１の方向に直交する平面である、及び／又は、前記第２の接触面は、前記第２の方向に直交する平面である
駆動機構。
前記第１の接触面は、前記第１の方向に直交する平面である、及び／又は、前記第２の接触面は、前記第２の方向に直交する平面である
駆動機構。
【請求項7】
請求項１又は２に記載の駆動機構であって、
前記第１の方向及び前記第２の方向は、前記回転面に平行な方向である
駆動機構。
前記第１の方向及び前記第２の方向は、前記回転面に平行な方向である
駆動機構。
【請求項8】
請求項７に記載の駆動機構であって、
前記第１の方向及び前記第２の方向は、前記回転面において互いに直交する方向である
駆動機構。
前記第１の方向及び前記第２の方向は、前記回転面において互いに直交する方向である
駆動機構。
【請求項9】
請求項１又は２に記載の駆動機構であって、
前記回転面における前記主軸部の中心と前記第１の受部の中心との距離は、前記回転面における前記主軸部の中心と前記第２の受部の中心との距離よりも大きい
駆動機構。
前記回転面における前記主軸部の中心と前記第１の受部の中心との距離は、前記回転面における前記主軸部の中心と前記第２の受部の中心との距離よりも大きい
駆動機構。
【請求項10】
請求項１又は２に記載の駆動機構であって、
前記従動体は、前記第２の受部に押し付けられる
駆動機構。
前記従動体は、前記第２の受部に押し付けられる
駆動機構。
【請求項11】
請求項１又は２に記載の駆動機構であって、
前記駆動機構は、露光装置に搭載され、
前記対象物は、前記露光装置において、露光光の光路上に配置されマスクのパターンをワークに転写する転写部、及び前記パターンが転写される前記ワークを保持するワークステージの少なくとも一方である
駆動機構。
前記駆動機構は、露光装置に搭載され、
前記対象物は、前記露光装置において、露光光の光路上に配置されマスクのパターンをワークに転写する転写部、及び前記パターンが転写される前記ワークを保持するワークステージの少なくとも一方である
駆動機構。
【請求項12】
請求項１又は２に記載の駆動機構であって、さらに、
前記中間体の前記主軸部が接続されるベース部を具備する
駆動機構
前記中間体の前記主軸部が接続されるベース部を具備する
駆動機構
【請求項13】
露光光を出射する光出射部と、
前記露光光の光路上に配置されマスクのパターンをワークに転写する転写部と
前記パターンが転写される前記ワークを保持するワークステージと、
アクチュエータと前記アクチュエータにより駆動される駆動機構とを有し、前記転写部及び前記ワークステージの少なくとも一方を対象物として、前記駆動機構により前記対象物を移動させる少なくとも１つの移動ユニットと
を具備し、
前記駆動機構は、
本体と、前記本体を回転可能に支持する主軸部と、前記本体の互いに異なる位置に設けられた第１の受部及び第２の受部とを有する中間体と、
前記アクチュエータに接続され第１の方向に沿って前記第１の受部を押す原動体と、
前記第２の受部に押されて第２の方向に沿って移動して前記対象物を動かす従動体と
を有し、
前記中間体は、前記主軸部の回転軸と直交する回転面において、前記主軸部の中心から前記第１の受部の中心及び前記第２の受部の中心に向かう２直線のなす配置角度φが、前記本体の回転角度をαとして｜α｜＜９０°である場合に、下記条件式を満たすように構成される
露光装置。
前記露光光の光路上に配置されマスクのパターンをワークに転写する転写部と
前記パターンが転写される前記ワークを保持するワークステージと、
アクチュエータと前記アクチュエータにより駆動される駆動機構とを有し、前記転写部及び前記ワークステージの少なくとも一方を対象物として、前記駆動機構により前記対象物を移動させる少なくとも１つの移動ユニットと
を具備し、
前記駆動機構は、
本体と、前記本体を回転可能に支持する主軸部と、前記本体の互いに異なる位置に設けられた第１の受部及び第２の受部とを有する中間体と、
前記アクチュエータに接続され第１の方向に沿って前記第１の受部を押す原動体と、
前記第２の受部に押されて第２の方向に沿って移動して前記対象物を動かす従動体と
を有し、
前記中間体は、前記主軸部の回転軸と直交する回転面において、前記主軸部の中心から前記第１の受部の中心及び前記第２の受部の中心に向かう２直線のなす配置角度φが、前記本体の回転角度をαとして｜α｜＜９０°である場合に、下記条件式を満たすように構成される
露光装置。
【数2】
【請求項14】
請求項１３に記載の露光装置であって、
前記中間体は、前記配置角度φが、９０°の整数倍になるように構成される
露光装置。
前記中間体は、前記配置角度φが、９０°の整数倍になるように構成される
露光装置。
【請求項15】
請求項１３又は１４に記載の露光装置であって、
前記少なくとも１つの移動ユニットは、前記対象物を同一の方向に沿って動かす複数の移動ユニットを含む
露光装置。
前記少なくとも１つの移動ユニットは、前記対象物を同一の方向に沿って動かす複数の移動ユニットを含む
露光装置。
【請求項16】
請求項１３又は１４に記載の露光装置であって、
前記転写部は、前記マスクを前記露光光の光路上で保持するマスクステージ、及び前記マスクを通過した前記露光光を前記ワークに投影する投影光学系を有し、
前記対象物は、前記マスクステージ及び前記投影光学系の少なくとも一方である
露光装置。
前記転写部は、前記マスクを前記露光光の光路上で保持するマスクステージ、及び前記マスクを通過した前記露光光を前記ワークに投影する投影光学系を有し、
前記対象物は、前記マスクステージ及び前記投影光学系の少なくとも一方である
露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ステージ等の移動に用いる駆動機構及びそれを搭載した露光装置に関する。
【背景技術】
【0002】
プリント基板、半導体基板、液晶基板等を製造する工程では、微細なパターンを作成するために加工対象や装置の各部を移動させて位置合わせが行われる。例えば露光装置には、露光光を投影する光学系、マスクを保持するマスクステージ、及びワークを保持するワークステージ等が設けられる。露光処理を行う際には、これらの光学系、マスクステージ、及びワークステージを移動して、精密に位置決めすることが求められる。
【0003】
例えば特許文献１には、フレクシャ機構を用いて、アクチュエータの動作方向を変向して、光学系を構成するレンズ等の光学素子を高精度に移動させる技術が開示されている。このフレクシャ機構は、弾性変形（たわみ）を利用した機構であるため、摩擦がなく、高精度の移動が可能であるが、移動対象である光学素子を移動可能な距離は比較的小さい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２００１－３４３５７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
近年、配線の微細化や実装密度の高密度化に伴い、十分な位置決め精度を確保することが重要となっている。一方で、位置決め精度が高くても移動可能な距離が小さい場合には、移動対象を適正な位置まで移動することが出来なくなることもあり得る。このため、高精度な長距離移動を実現可能な技術が求められている。
【0006】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、高精度な長距離移動を実現することが可能な駆動機構及び露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る駆動機構は、中間体と、原動体と、従動体とを具備する。
前記中間体は、本体と、前記本体を回転可能に支持する主軸部と、前記本体の互いに異なる位置に設けられた第１の受部及び第２の受部とを有する。
前記原動体は、アクチュエータに接続され第１の方向に沿って前記第１の受部を押す。
前記従動体は、前記第２の受部に押されて第２の方向に沿って移動して対象物を動かす。
前記中間体は、前記主軸部の回転軸と直交する回転面において、前記主軸部の中心から前記第１の受部の中心及び前記第２の受部の中心に向かう２直線のなす配置角度φが、前記本体の回転角度をαとして｜α｜＜９０°である場合に、下記条件式を満たすように構成される。
前記中間体は、本体と、前記本体を回転可能に支持する主軸部と、前記本体の互いに異なる位置に設けられた第１の受部及び第２の受部とを有する。
前記原動体は、アクチュエータに接続され第１の方向に沿って前記第１の受部を押す。
前記従動体は、前記第２の受部に押されて第２の方向に沿って移動して対象物を動かす。
前記中間体は、前記主軸部の回転軸と直交する回転面において、前記主軸部の中心から前記第１の受部の中心及び前記第２の受部の中心に向かう２直線のなす配置角度φが、前記本体の回転角度をαとして｜α｜＜９０°である場合に、下記条件式を満たすように構成される。
【数1】
【0008】
この駆動機構では、中間体の本体に第１及び第２の受部が設けられる。また本体は、主軸部により回転可能に支持される。第１の受部はアクチュエータに接続した原動体により第１の方向に沿って押され、第２の受部により押された従動体は第２の方向に移動して対象物を動かす。この時、主軸部の中心から第１及び第２の受部の各中心に向かう２直線のなす配置角度φが上記条件式を満たすように設定される。これにより、高精度な長距離移動を実現することが可能となる。
【0009】
前記中間体は、前記配置角度φが、９０°の整数倍になるように構成されてもよい。
【0010】
前記第１の受部及び前記第２の受部の少なくとも一方は、前記回転面における平面形状が円形状となるように構成されてもよい。
【0011】
前記第１の受部及び前記第２の受部の少なくとも一方は、ベアリングであってもよい。
【0012】
前記原動体は、前記第１の受部に接する第１の接触面を有してもよい。この場合、前記従動体は、前記第２の受部に接する第２の接触面を有してもよい。また前記第１の接触面及び前記第２の接触面の少なくとも一方は、前記回転面に直交する平面であってもよい。
【0013】
前記第１の接触面は、前記第１の方向に直交する平面であってもよく、及び／又は、前記第２の接触面は、前記第２の方向に直交する平面であってもよい。
【0014】
前記第１の方向及び前記第２の方向は、前記回転面に平行な方向であってもよい。
【0015】
前記第１の方向及び前記第２の方向は、前記回転面において互いに直交する方向であってもよい。
【0016】
前記回転面における前記主軸部の中心と前記第１の受部の中心との距離は、前記回転面における前記主軸部の中心と前記第２の受部の中心との距離よりも大きくてもよい。
【0017】
前記従動体は、前記第２の受部に押し付けられてもよい。
【0018】
前記駆動機構は、露光装置に搭載されてもよい。この場合、前記対象物は、前記露光装置において、露光光の光路上に配置されマスクのパターンをワークに転写する転写部、及び前記パターンが転写される前記ワークを保持するワークステージの少なくとも一方であってもよい。
【0019】
前記駆動機構は、さらに、前記中間体の前記主軸部が接続されるベース部を具備してもよい。
【0020】
本発明の一形態に係る露光装置は、光出射部と、転写部と、ワークステージと、少なくとも１つの移動ユニットとを具備する。
前記光出射部は、露光光を出射する。
前記転写部は、前記露光光の光路上に配置されマスクのパターンをワークに転写する。
前記ワークステージは、前記パターンが転写される前記ワークを保持する。
前記少なくとも１つの移動ユニットは、アクチュエータと前記アクチュエータにより駆動される駆動機構とを有し、前記転写部及び前記ワークステージの少なくとも一方を対象物として、前記駆動機構により前記対象物を移動させる。
また前記駆動機構は、中間体と、原動体と、従動体とを有する。
前記中間体は、本体と、前記本体を回転可能に支持する主軸部と、前記本体の互いに異なる位置に設けられた第１の受部及び第２の受部とを有する。
前記原動体は、前記アクチュエータに接続され第１の方向に沿って前記第１の受部を押す。
前記従動体は、前記第２の受部に押されて第２の方向に沿って移動して前記対象物を動かす。
前記中間体は、前記主軸部の回転軸と直交する回転面において、前記主軸部の中心から前記第１の受部の中心及び前記第２の受部の中心に向かう２直線のなす配置角度φが、前記本体の回転角度をαとして｜α｜＜９０°である場合に、下記条件式を満たすように構成される。
前記光出射部は、露光光を出射する。
前記転写部は、前記露光光の光路上に配置されマスクのパターンをワークに転写する。
前記ワークステージは、前記パターンが転写される前記ワークを保持する。
前記少なくとも１つの移動ユニットは、アクチュエータと前記アクチュエータにより駆動される駆動機構とを有し、前記転写部及び前記ワークステージの少なくとも一方を対象物として、前記駆動機構により前記対象物を移動させる。
また前記駆動機構は、中間体と、原動体と、従動体とを有する。
前記中間体は、本体と、前記本体を回転可能に支持する主軸部と、前記本体の互いに異なる位置に設けられた第１の受部及び第２の受部とを有する。
前記原動体は、前記アクチュエータに接続され第１の方向に沿って前記第１の受部を押す。
前記従動体は、前記第２の受部に押されて第２の方向に沿って移動して前記対象物を動かす。
前記中間体は、前記主軸部の回転軸と直交する回転面において、前記主軸部の中心から前記第１の受部の中心及び前記第２の受部の中心に向かう２直線のなす配置角度φが、前記本体の回転角度をαとして｜α｜＜９０°である場合に、下記条件式を満たすように構成される。
【数2】
【0021】
前記中間体は、前記配置角度φが、９０°の整数倍になるように構成されてもよい。
【0022】
前記少なくとも１つの移動ユニットは、前記対象物を同一の方向に沿って動かす複数の移動ユニットを含んでもおよい。
【0023】
前記転写部は、前記マスクを前記露光光の光路上で保持するマスクステージ、及び前記マスクを通過した前記露光光を前記ワークに投影する投影光学系を有してもよい。この場合、前記対象物は、前記マスクステージ及び前記投影光学系の少なくとも一方であってもよい。
【発明の効果】
【0024】
以上のように、本発明によれば、高精度な長距離移動を実現することが可能となる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれかの効果であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【0025】
【図1】本発明の一実施形態に係る露光装置の構成例を示す模式図である。
【図2】駆動機構を含む移動ユニットの構成例を示す模式図である。
【図3】駆動機構を含む移動ユニットの動作例を示す模式図である。
【図4】移動ユニットの配置例を示す模式図である。
【図5】移動ユニットの他の配置例を示す模式図である。
【図6】駆動機構のモデルを示す模式図である。
【図7】駆動機構の動作に伴う座標位置の変化について説明する模式図である。
【図8】駆動機構の他の構成例を示す模式図である。
【図9】駆動機構の他の構成例を示す模式図である。
【図10】駆動機構の他の構成例を示す模式図である。
【図11】駆動機構の他の構成例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0026】
以下、本発明に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。
【0027】
［露光装置の構成］
図１は、本発明の一実施形態に係る露光装置の構成例を示す模式図である。露光装置１００は、ワークＷを露光する露光装置である。ここで、ワークＷは、例えば半導体基板、プリント基板、液晶基板等とすることができる。
露光装置１００は、光照射部１０と、マスクＭと、マスクステージ１１と、投影レンズ１２と、ワークステージ２０と、配管Ｌと、移動ユニット３０とを有する。
図１は、本発明の一実施形態に係る露光装置の構成例を示す模式図である。露光装置１００は、ワークＷを露光する露光装置である。ここで、ワークＷは、例えば半導体基板、プリント基板、液晶基板等とすることができる。
露光装置１００は、光照射部１０と、マスクＭと、マスクステージ１１と、投影レンズ１２と、ワークステージ２０と、配管Ｌと、移動ユニット３０とを有する。
【0028】
光照射部１０は、露光光を出射する。光照射部１０は、ランプ１５と、ミラー１６と、ランプハウス１７とを有する。ランプ１５は、紫外線を含む露光光を放射する露光用光源である。ミラー１６は、ランプ１５から放射された露光光を所定の出射方向にむけて反射する。ランプハウス１７は、ランプ１５及びミラー１６を収容するケースである。
なお、ここでは光照射部１０の光源がランプ１５である場合について説明するが、光源としてＬＥＤ（Light Emitting Diode）やレーザ光源等が用いられてもよい。また露光光の波長や帯域も限定されない。
本実施形態では、光照射部１０は、露光光を出射する光出射部に相当する。
なお、ここでは光照射部１０の光源がランプ１５である場合について説明するが、光源としてＬＥＤ（Light Emitting Diode）やレーザ光源等が用いられてもよい。また露光光の波長や帯域も限定されない。
本実施形態では、光照射部１０は、露光光を出射する光出射部に相当する。
【0029】
マスクＭには、ワークＷに露光（転写）される回路パターンなどのパターンが形成されている。
マスクステージ１１は、パターンが形成されたマスクを露光光の光路上で保持する。
投影レンズ１２は、マスクを通過した露光光をワークＷに投影する。例えば投影レンズ１２は、マスクＭのパターンを投影してワークＷの表面に結像させる投影光学系として構成される。本実施形態では、投影レンズ１２は、投影光学系に相当する。また、マスクステージ１１及び投影レンズ１２により、露光光の光路上に配置されマスクのパターンをワークに転写する転写部が構成される。
なお、図１では露光装置１００が投影レンズ１２を備える場合について説明するが、投影レンズ１２を備えない露光装置にも本発明を適用可能である。
マスクステージ１１は、パターンが形成されたマスクを露光光の光路上で保持する。
投影レンズ１２は、マスクを通過した露光光をワークＷに投影する。例えば投影レンズ１２は、マスクＭのパターンを投影してワークＷの表面に結像させる投影光学系として構成される。本実施形態では、投影レンズ１２は、投影光学系に相当する。また、マスクステージ１１及び投影レンズ１２により、露光光の光路上に配置されマスクのパターンをワークに転写する転写部が構成される。
なお、図１では露光装置１００が投影レンズ１２を備える場合について説明するが、投影レンズ１２を備えない露光装置にも本発明を適用可能である。
【0030】
ワークステージ２０は、マスクＭのパターンが転写されるワークＷを保持する。具体的には、ワークステージ２０は、ワークＷを真空吸着して保持する保持機構である。
ワークステージ２０は、中央部に凹部２４が形成された基台２１を備える。基台２１は、例えばアルミニウムにより構成することができる。凹部２４内には吸着板２３を載せる複数の凸部２５が形成される。また基台２１内部には、真空エアー導入路２６が形成されており、後述する配管Ｌに供給された真空またはエアーが真空エアー導入路２６を通って凹部２４に供給される。
ワークステージ２０は、中央部に凹部２４が形成された基台２１を備える。基台２１は、例えばアルミニウムにより構成することができる。凹部２４内には吸着板２３を載せる複数の凸部２５が形成される。また基台２１内部には、真空エアー導入路２６が形成されており、後述する配管Ｌに供給された真空またはエアーが真空エアー導入路２６を通って凹部２４に供給される。
【0031】
吸着板２３は、基台２１の表面にならうよう、ある程度の柔軟性を有する材質で構成され、凹部２４を完全に覆う大きさを有し、凹部２４と対応する位置には、全面に渡って真空吸着孔２７となる貫通孔が一定間隔で設けられている。吸着板２３に設けられる真空吸着孔２７の位置は、基台２１の凸部２５と重ならないように設けられている。また吸着板２３の外縁にはワークを吸着する際のリークを抑制するためにシール部２８が設けられる。
吸着板２３にワークＷを載置し真空を供給すると、ワークＷには吸着板２３の表面に押さえつけられる力が働き、ワークＷをワークステージ２０に保持することができる。ワークステージ２０への真空の供給は、露光処理中、ワークＷが移動しないように続けられる。
吸着板２３にワークＷを載置し真空を供給すると、ワークＷには吸着板２３の表面に押さえつけられる力が働き、ワークＷをワークステージ２０に保持することができる。ワークステージ２０への真空の供給は、露光処理中、ワークＷが移動しないように続けられる。
【0032】
配管Ｌは、一端がワークステージ２０に接続され、他端には二股に分かれた分岐路が設けられた真空引き用の配管である。分岐路の一方は、バルブＢ１を介して図示しない真空ポンプに接続される。また分岐路の他方は、バルブＢ２を介して図示しないエアー導入部に接続される。バルブＢ１及びバルブＢ２としては、流路を遮断する電磁弁等が用いられる。
【0033】
移動ユニット３０は、アクチュエータ３１と、アクチュエータ３１により駆動される駆動機構４０とを有する。移動ユニット３０は、ワークＷ、マスクＭ、及び光学系の位置合わせに用いられる。図１に示す例では、ワークステージ２０（対象物５）を移動するように配置された移動ユニット３０が模式的に図示されている。移動ユニット３０については、後に詳しく説明する。
【0034】
［露光装置の基本的な動作］
ここで、露光装置１００の基本的な露光動作の流れを説明する。
露光装置１００では、図示しない搬送手段によりプリント基板等のワークＷが搬送される。ワークＷはその表面（パターンを形成する側）を上側にしてワークステージ２０に置かれる。この時、ワークＷの表面には、露光光によって感光するレジストが塗布されている。
ここで、露光装置１００の基本的な露光動作の流れを説明する。
露光装置１００では、図示しない搬送手段によりプリント基板等のワークＷが搬送される。ワークＷはその表面（パターンを形成する側）を上側にしてワークステージ２０に置かれる。この時、ワークＷの表面には、露光光によって感光するレジストが塗布されている。
【0035】
ワークＷが置かれると、配管ＬのバルブＢ２が閉じられバルブＢ１が開かれる。この結果、配管Ｌに接続された貫通孔（真空吸着孔２７）に真空が供給され、ワークＷは吸着板２３に吸着される。このとき、ワークＷの真空吸着に伴いシール部２８は押しつぶされるように弾性変形する。これによりワークＷの裏面とワークステージ２０との間で真空がリークするといった事態が回避され、ワークＷは確実に吸着保持される。
【0036】
ワークＷが吸着されると、移動ユニット３０によりワークステージ２０が移動される。ワークステージ２０を移動することで、ワークＷの位置決めが行われる。移動ユニット３０の制御は、例えば図示しないコントローラ等により自動で行われる。また露光装置の操作者等により手動での位置決めが行われてもよい。ワークＷの位置決めが完了すると、露光が開始される。
【0037】
光照射部１０から出射された露光光が、マスクＭと投影レンズ１２とを介して、ワークステージ２０が保持するワークＷに照射される。そしてマスクＭに形成されたパターンが、ワークＷ上に投影されて所望のパターンが露光される。なお、ワークステージ２０への真空の供給は、露光処理中、ワークＷが移動しないように継続される。
【0038】
露光処理が終了すると、バルブＢ１が閉じられ、真空吸着孔２７への真空の供給が停止される。これにより、ワークＷの真空吸着が解除される。次にバルブＢ２が開かれ、真空吸着孔２７にエアーが供給される。この結果、真空吸着孔２７からはエアーが吹き出し、ワークステージ２０からワークＷが取り外される。その後、不図示の搬送手段によりワークＷが回収され、露光装置１００の外部に搬送される。
【0039】
［移動ユニットの構成］
図２は、駆動機構を含む移動ユニットの構成例を示す模式図である。
移動ユニット３０は、アクチュエータ３１により駆動された駆動機構４０を介して対象物５を移動させるユニットである。移動ユニット３０は、単体で用いることも可能であるし、複数の移動ユニット３０を組み合わせて用いることも可能である。対象物５は、例えばワークステージ２０等であるが、本発明は移動対象となる任意の対象物５に適用可能である。
図２は、駆動機構を含む移動ユニットの構成例を示す模式図である。
移動ユニット３０は、アクチュエータ３１により駆動された駆動機構４０を介して対象物５を移動させるユニットである。移動ユニット３０は、単体で用いることも可能であるし、複数の移動ユニット３０を組み合わせて用いることも可能である。対象物５は、例えばワークステージ２０等であるが、本発明は移動対象となる任意の対象物５に適用可能である。
【0040】
アクチュエータ３１は、駆動機構４０を動かす動力源である。アクチュエータ３１は、後述する駆動機構４０の原動体４３を一定の方向に沿って動かす線形駆動素子として構成される。アクチュエータ３１としては、例えばステッピングモータやサーボモータを用いた素子が用いられる。アクチュエータ３１の動作は、図示しないコントローラによりモータドライバ等を介して制御される。
またアクチュエータ３１には、移動量を検出するエンコーダが搭載され、検出された移動量は適宜コントローラに送信される。これにより、アクチュエータ３１の移動量を用いたフィードバック制御等が可能となる。
またアクチュエータ３１には、移動量を検出するエンコーダが搭載され、検出された移動量は適宜コントローラに送信される。これにより、アクチュエータ３１の移動量を用いたフィードバック制御等が可能となる。
【0041】
駆動機構４０は、アクチュエータ３１により駆動されて対象物５を動かす機構である。すなわち、駆動機構４０は、アクチュエータ３１の動力を対象物５に伝達する機構であるとも言える。駆動機構４０は、中間体４２と、原動体４３と、従動体４４とを有する。中間体４２、原動体４３、及び従動体４４を構成する材料としては、例えばアルミやステンレス等の金属が用いられる。この他各部の材質は限定されず、駆動機構４０の用途や要求される精度等に応じて任意の構造材料が用いられてよい。
【0042】
中間体４２は、原動体４３の動きを従動体４４に伝える部材である。中間体４２は、本体４５と、主軸部５０と、第１の軸受部５１と、第２の軸受部５２とを有する。
本体４５は、中間体４２の本体を構成する構造部材である。本体４５には、主軸部５０、第１の軸受部５１、及び第２の軸受部５２が設けられる。図１に示す例では、板状の構造部材が中間体４２の本体４５として用いられる。なお本体４５の形状は限定されない。
本体４５は、中間体４２の本体を構成する構造部材である。本体４５には、主軸部５０、第１の軸受部５１、及び第２の軸受部５２が設けられる。図１に示す例では、板状の構造部材が中間体４２の本体４５として用いられる。なお本体４５の形状は限定されない。
【0043】
主軸部５０は、本体４５を回転可能に支持する。具体的には、主軸部５０は、所定の支持体４１に接続され、本体４５が支持体４１に対して回転可能なように、本体４５を支持する。支持体４１は、駆動機構４０の動作中に動かない部分であり、主軸部５０を介して中間体４２（本体４５）を支持する。
例えば駆動機構４０が設けられる装置（ここでは露光装置１００）そのものが、支持体４１として用いられる。このように、装置そのものに主軸部５０を接続することで駆動機構４０をコンパクトに構成することが可能となる。
例えば駆動機構４０が設けられる装置（ここでは露光装置１００）そのものが、支持体４１として用いられる。このように、装置そのものに主軸部５０を接続することで駆動機構４０をコンパクトに構成することが可能となる。
【0044】
また駆動機構４０は、中間体４２の主軸部５０が接続されるベース部を備えてもよい。ベース部は、駆動機構４０が設けられる装置（ここでは露光装置１００）の所定の位置にネジ止め等により固定される独立した部材である。この場合、ベース部が中間体４２を支持する支持体４１として機能する。ベース部を設けることで、例えば主軸部５０の取り外し等を行う必要がなくなり、メンテナンスや取付作業が容易になる。
【0045】
主軸部５０は、典型的には、ベアリングを用いて構成される。例えば主軸部５０の外輪は本体４５に設けられた開口部分に嵌め込まれ、主軸部５０の内輪は支持体４１に設けられた固定軸に嵌め込まれる。これにより、中間体４２の本体４５は主軸部５０の回転軸Ｏを中心として支持体４１に対して回転可能となる。
【0046】
図２に示す模式図は、回転軸Ｏと平行な方向から移動ユニット３０を見た場合の平面図である。以下では、主軸部５０の回転軸Ｏ（本体４５の回転軸Ｏ）と直交する平面を、回転面と記載する。また回転面内で互いに直交する方向をＸ方向及びＹ方向と記載する。図２では、図中の左右方向をＸ方向とし、図中の上下方向をＹ方向とする。また回転面（ＸＹ平面）に直交する方向（回転軸Ｏと平行な方向）をＺ方向と記載する。
また以下では、回転面において、主軸部５０の中心と第１の軸受部５１の中心とを結ぶ直線がＹ方向に平行な状態を中間体４２の初期位置とする。図２には、中間体４２が初期位置にある場合の構成例が模式的に図示されている。
また以下では、回転面において、主軸部５０の中心と第１の軸受部５１の中心とを結ぶ直線がＹ方向に平行な状態を中間体４２の初期位置とする。図２には、中間体４２が初期位置にある場合の構成例が模式的に図示されている。
【0047】
第１の軸受部５１及び第２の軸受部５２は、本体４５の互いに異なる位置に設けられる。第１の軸受部５１は、原動体４３に当接して原動体４３を受ける部分である。また第２の軸受部５２は、従動体４４に当接して従動体４４を受ける部分である。本実施形態では、第１の軸受部５１は、第１の受部に相当し、第２の軸受部５２は、第２の受部に相当する。
図２に示す例では、第１の軸受部５１は、主軸部５０の図中下側に配置され、第２の軸受部５２は、主軸部５０の図中右側に配置される。
図２に示す例では、第１の軸受部５１は、主軸部５０の図中下側に配置され、第２の軸受部５２は、主軸部５０の図中右側に配置される。
【0048】
第１の軸受部５１及び第２の軸受部５２は、回転面における平面形状が円形状となるように構成される。ここでは、第１の軸受部５１及び第２の軸受部５２として、円柱型の部材が用いられる。これらの部材は、中心軸が回転面に直交するように本体４５に取り付けられる。
これにより、本体４５が回転して本体４５の姿勢が変化しても、原動体４３や従動体４４が接する部分の形状が変化しない。このため、対象物５の移動精度を確保することが可能となる（図６等参照）。
これにより、本体４５が回転して本体４５の姿勢が変化しても、原動体４３や従動体４４が接する部分の形状が変化しない。このため、対象物５の移動精度を確保することが可能となる（図６等参照）。
【0049】
第１の軸受部５１及び第２の軸受部５２には、典型的には、ベアリングが用いられる。例えば、第１の軸受部５１（第２の軸受部５２）となるベアリングの内輪が、本体４５の所定の位置に設けられた固定軸に嵌め込まれる。従って、第１の軸受部５１（第２の軸受部５２）では、ベアリングの外輪に原動体（従動体）が当接する。このようにベアリングを用いることで、原動体や従動体との間で生じる摩擦等が十分に低減し、対象物５を滑らかに移動させることが可能となる。
以下では、回転面における第１の軸受部５１の中心をＰと記載し、第２の軸受部５２の中心をＱと記載する。回転面における主軸部５０の中心を、回転軸Ｏと同じ符号を用いて中心Ｏと記載する。
以下では、回転面における第１の軸受部５１の中心をＰと記載し、第２の軸受部５２の中心をＱと記載する。回転面における主軸部５０の中心を、回転軸Ｏと同じ符号を用いて中心Ｏと記載する。
【0050】
上記した主軸部５０、第１の軸受部５１、及び第２の軸受部５２に用いられるベアリングとしては、玉軸受（ボールベアリング）やころ軸受（ローラベアリング）等が用いられる。また、油等の作動流体を用いたすべり軸受（スリーブベアリング）等が用いられてもよい。またベアリングに代えて、他の回転機構等が用いられてもよい。
【0051】
中間体４２において、主軸部５０、第１の軸受部５１、及び第２の軸受部５２は、例えば同一平面上に配置される。この場合、例えば主軸部５０、第１の軸受部５１、及び第２の軸受部５２のＺ方向の中心位置が同一面上に揃えられる。これにより、例えば主軸部５０に不均一に荷重（モーメント）がかかるといった事態を回避することが可能となる。
なお、主軸部５０、第１の軸受部５１、及び第２の軸受部５２は、必ずしも同一平面に配置する必要は無い。つまり、各部のＺ方向の位置が、互いにずれていてもよい。
なお、主軸部５０、第１の軸受部５１、及び第２の軸受部５２は、必ずしも同一平面に配置する必要は無い。つまり、各部のＺ方向の位置が、互いにずれていてもよい。
【0052】
また図２に示す例では、主軸部５０、第１の軸受部５１、及び第２の軸受部５２の回転面における配置角度φが９０°に設定される。ここで配置角度φは、主軸部５０の回転軸Ｏと直交する回転面において、主軸部５０の中心から第１の軸受部５１の中心及び第２の軸受部５２の中心に向かう２直線のなす角度である。つまり配置角度φは、第１の軸受部５１、主軸部５０、第２の軸受部５２の回転面における各中心がなす角度である。
【0053】
この配置角度φを所定の条件式を満たすように設定することで、高精度な長距離移動が可能となる。特に、φ＝９０°とした場合には、原動体４３及び従動体４４の移動量を線形に対応付けることが可能となる。この点については、図６及び７等を参照して後に詳しく説明する。
【0054】
原動体４３は、アクチュエータ３１に接続され第１の方向に沿って第１の軸受部５１を押す部材である。ここで、第１の方向は、原動体４３が実際に移動する方向である。本実施形態では、第１の方向は、中間体４２の回転面（ＸＹ平面）に平行な方向である。これにより、不要なモーメント等を加えることなく中間体４２を適切に回転させることが可能となる。
なお原動体４３が移動する第１の方向は、例えばアクチュエータ３１の移動方向であるが、これに限定されない。例えばクランク機構等を用いてアクチュエータ３１の移動方向とは異なる方向に第１の方向が設定されてもよい。
なお原動体４３が移動する第１の方向は、例えばアクチュエータ３１の移動方向であるが、これに限定されない。例えばクランク機構等を用いてアクチュエータ３１の移動方向とは異なる方向に第１の方向が設定されてもよい。
【0055】
原動体４３は、第１の軸受部５１に接する第１の接触面４３ｓを有する。例えば原動体４３は、一端に第１の接触面４３ｓが形成された棒状の部材である。原動体４３の第１の接触面４３ｓとは反対側はアクチュエータ３１の移動軸に固定される。原動体４３が固定されたアクチュエータ３１は、原動体４３の第１の接触面４３ｓが第１の軸受部５１に当接するように配置される。
【0056】
原動体４３の第１の接触面４３ｓは、回転面に直交する平面であってもよい。これにより、第１の軸受部５１の側面に余分なモーメント等を与えることなく接触することが可能となる。具体的には、第１の接触面４３ｓは、第１の方向に直交する平面である。これにより、第１の方向に押した分の移動量をそのまま中間体４２（第１の軸受部５１）に伝えることが可能となり、移動制御が容易になる。
図２に示す例では、第１の方向は、Ｘ方向と平行に設定される。また第１の接触面４３ｓとして、原動体４３にはＹＺ平面と平行な面が形成される。これにより、図２では、主軸部５０の下側に配置された第１の軸受部５１が、原動体４３により図中左側から右側に押されることになる。
図２に示す例では、第１の方向は、Ｘ方向と平行に設定される。また第１の接触面４３ｓとして、原動体４３にはＹＺ平面と平行な面が形成される。これにより、図２では、主軸部５０の下側に配置された第１の軸受部５１が、原動体４３により図中左側から右側に押されることになる。
【0057】
従動体４４は、第２の軸受部５２に押されて第２の方向に沿って移動して対象物５を動かす部材である。ここで、第２の方向は、従動体４４が実際に移動する方向である。従動体４４は、第２の方向に沿って線形に動くように構成される。本実施形態では、第２の方向は、中間体４２の回転面（ＸＹ平面）に平行な方向である。これにより、中間体４２側に不要なモーメント等を発生させることなく従動体４４を押すことが可能となる。
【0058】
第２の方向は、基本的に第１の方向とは異なる方向に設定される。このため、駆動機構４０では、第１の方向に沿った原動体４３の動きが、それとは異なる第２の方向に沿った従動体４４の動きに変換される。従って駆動機構４０は、第１の方向に沿った移動量を、第２の方向に沿った移動量に変換する変向機構であるとも言える。
【0059】
従動体４４は、第２の軸受部５２に接する第２の接触面４４ｓを有する。例えば従動体４４は、原動体４３と同様に、一端に第２の接触面４４ｓが形成された棒状の部材である。従動体４４は、第２の接触面４４ｓが第２の軸受部５２に当接し、第２の接触面４４ｓとは反対側が対象物５に当接するように配置される。
また従動体４４は、第２の軸受部５２に押し付けられる。従動体４４を押し付けるための機構として、図示しないバネ等の弾性部材が用いられる。また、従動体４４や対象物５の重量を利用して、従動体４４が第２の軸受部５２押し付けられてもよい。これにより、従動体４４は、常に第２の軸受部５２に当接することになり、精密な往復動作が可能となる。
また従動体４４は、第２の軸受部５２に押し付けられる。従動体４４を押し付けるための機構として、図示しないバネ等の弾性部材が用いられる。また、従動体４４や対象物５の重量を利用して、従動体４４が第２の軸受部５２押し付けられてもよい。これにより、従動体４４は、常に第２の軸受部５２に当接することになり、精密な往復動作が可能となる。
【0060】
また従動体４４の第２の接触面４４ｓは、回転面に直交する平面であってもよい。これにより、第２の軸受部５２の側面に余分なモーメント等を与えることなく接触することが可能となる。具体的には、第２の接触面４４ｓは、第２の方向に直交する平面である。これにより、第２の軸受部５２が第２の方向に移動した分の移動量をそのまま従動体４４及び対象物５に伝えることが可能となり、移動制御が容易になる。
図２に示す例では、第２の方向は、Ｙ方向と平行に設定される。また第２の接触面４４ｓとして、従動体４４にはＸＺ平面と平行な面が形成される。これにより、図２では、主軸部５０の右側に配置された第２の軸受部５２により、従動体４４が図中下側から上側に押されることになる。
図２に示す例では、第２の方向は、Ｙ方向と平行に設定される。また第２の接触面４４ｓとして、従動体４４にはＸＺ平面と平行な面が形成される。これにより、図２では、主軸部５０の右側に配置された第２の軸受部５２により、従動体４４が図中下側から上側に押されることになる。
【0061】
このように、駆動機構４０では、アクチュエータ３１及び中間体４２が第１の軸受部５１に当接する原動体４３により接続され、中間体４２及び対象物５が第２の軸受部５２に当接する従動体４４により接続される。そして、第１の軸受部５１と主軸部５０と第２の軸受部５２との各中心のなす配置角度φは９０°に配置される。
【0062】
また、第１の方向及び第２の方向は、回転面において互いに直交する方向に設定される。このように、原動体４３の運動方向と従動体４４の運動方向とを９０°ずらすことが可能である。これにより、例えば細長いアクチュエータ３１を用いる場合でも、アクチュエータ３１の配置方向と直交する方向に対象物５を動かすことが可能となり、装置の小型化を図ることが可能となる。
【0063】
［移動ユニットの基本動作］
図３は、駆動機構を含む移動ユニットの動作例を示す模式図である。図３には、図２に示す初期位置から中間体４２が回転された様子が模式的に図示されている。ここでは、図３を参照して、移動ユニット３０の基本動作について説明する。
図３は、駆動機構を含む移動ユニットの動作例を示す模式図である。図３には、図２に示す初期位置から中間体４２が回転された様子が模式的に図示されている。ここでは、図３を参照して、移動ユニット３０の基本動作について説明する。
【0064】
移動ユニット３０は、アクチュエータ３１の動力を駆動機構４０を介して対象物５に伝えて対象物５を移動する。アクチュエータ３１からの動力は、まず原動体４３に伝えられる。原動体４３に伝えられた動力は、原動体４３の一端（第１の接触面４３ｓ）と当接する中間体４２の第１の軸受部５１に伝えられる。図３では、アクチュエータ３１により、原動体４３が図中右側に動かされ、その動力が第１の軸受部５１に伝えられる。
【0065】
第１の方向に直線運動する原動体４３の第１の接触面４３ｓにより、第１の軸受部５１が押される。この結果、ベアリングとして構成された第１の軸受部５１は、回転しながらアクチュエータ３１からの入力変位量と等しい距離だけ第１の方向に移動する。このとき、第１の軸受部５１が回転することで、原動体４３と第１の軸受部５１との間の摩擦は十分に低減される。
【0066】
第１の軸受部５１が第１の方向に押されることで、中間体４２（本体４５）は主軸部５０を中心に回転する。この過程で、原動体４３の動作方向（第１の方向）が変向される。具体的には、第２の軸受部５２が主軸部５０を中心に回転移動することで、第１の方向は、従動体４４の動作方向（第２の方向）に変換される。
【0067】
中間体４２の第２の軸受部５２は、回転しながら当接する従動体４４を押し、従動体４４は動力を対象物５に伝える。この結果、対象物５はアクチュエータ３１からの入力変位量に応じた距離を移動する。このとき、第２の軸受部５２が回転することで、第２の軸受部５２と従動体４４との間の摩擦は十分に低減される。
【0068】
このように、駆動機構４０は、中間体４２の回転軸Ｏを支点とする梃子の原理を利用した機構である。この機構は、例えば部材のたわみ等を利用した移動機構等と比べて、十分に長い移動距離を実現することが可能である。例えば、アクチュエータ３１と同程度の移動レンジ（例えば数ｍｍ～数十ｍｍ）を容易に実現可能である。
【0069】
また、図２及び図３に示す例では、配置角度が９０°に設定される。このため第２の方向に沿った対象物５（従動体）の移動量は、第１の方向に沿ったアクチュエータ３１（従動体）の移動量（入力変位量）と比例することになる（図６及び図７参照）。これにより、入力変位量に応じた補正等を行うことなく、対象物５を精度よく容易に長距離移動させることが可能となる。
【0070】
［移動ユニットの配置例］
本実施形態では、対象物５を同一の方向に沿って動かす複数の移動ユニット３０が配置される。これにより、例えば対象物５の傾き等を補正することが可能となる。以下では図４及び図５を参照して、複数の移動ユニット３０の配置例について説明する。
本実施形態では、対象物５を同一の方向に沿って動かす複数の移動ユニット３０が配置される。これにより、例えば対象物５の傾き等を補正することが可能となる。以下では図４及び図５を参照して、複数の移動ユニット３０の配置例について説明する。
【0071】
図４は、移動ユニット３０の配置例を示す模式図である。図４には、対象物５としてワークステージ２０を動かす場合の移動ユニット３０の配置例が模式的に図示されている。
ここではワークステージ２０の下方に、２つの移動ユニット３０が配置される。各移動ユニット３０の従動体４４の動作方向（第２の方向）は、露光光の光軸と平行な方向（図中の上下方向）に設定される。これにより、各移動ユニット３０により、ワークＷを上下に移動することが可能となる。
ここではワークステージ２０の下方に、２つの移動ユニット３０が配置される。各移動ユニット３０の従動体４４の動作方向（第２の方向）は、露光光の光軸と平行な方向（図中の上下方向）に設定される。これにより、各移動ユニット３０により、ワークＷを上下に移動することが可能となる。
【0072】
なお、ここでは説明を簡略化するために、２つの移動ユニット３０を設ける場合について説明したが、対象物５を安定して移動させるという観点では、３つの移動ユニット３０を設けることが好ましい。もちろん、２つの移動ユニット３０や、３つ以上の移動ユニット３０を設けるような構成も可能である。
また図４では、ワークステージ２０の下方に移動ユニット３０を配置したが、例えばワークステージの側面に従動体４４を接続するように構成されてもよい。
また図４では、ワークステージ２０の下方に移動ユニット３０を配置したが、例えばワークステージの側面に従動体４４を接続するように構成されてもよい。
【0073】
このような構成とすることで、ステージ上のワークＷの上下位置を精密に位置決めすることが可能となる。また複数の移動ユニット３０を独立に制御することで、例えばワークＷの傾斜等を補正するといった高度なアライメントが可能となる。
【0074】
上記では、移動ユニット３０がワークステージ２０を対象物５として移動する構成について説明したが、ワークステージ２０以外の対象物５に本発明が適用されてもよい。例えば、転写部であるマスクステージ１１や投影レンズ１２を対象物５として、移動ユニット３０（駆動機構４０）が設けられてもよい。
【0075】
図５は、移動ユニットの他の配置例を示す模式図である。図５には、対象物５としてマスクステージ１１を動かす場合の移動ユニット３０の配置例が模式的に図示されている。
マスクステージ１１は、台座部３５と、マスクＭを保持する吸着板３６と、台座部３５と吸着板３６とを接続する複数のガイド部３７とを有する。
マスクステージ１１は、台座部３５と、マスクＭを保持する吸着板３６と、台座部３５と吸着板３６とを接続する複数のガイド部３７とを有する。
【0076】
吸着板３６は、円板形状の部材であり、その中央部分にはマスクＭが配置される開口部が設けられる。吸着板３６の外縁には、１２０°の角度間隔で３つのガイド部３７が設けられる。また吸着板３６の外縁を囲むように台座部３５が設けられ、吸着板３６は３つのガイド部３７を介して台座部３５に支持される。
【0077】
ガイド部３７としては、例えば板バネが用いられる。板バネを用いることで吸着板３６の傾斜が抑制される。この結果、吸着板３６は、露光光の光軸方向（図５の紙面に直交する方向）にだけ変位可能なように支持される。
【0078】
図５に示す例では、３つのガイド部３７にそれぞれ対応して、吸着板３６を光軸方向に移動させる３つの移動ユニット３０が配置される。ここでは、マスクステージ１１の下方に配置された移動ユニット３０が点線を用いて模式的に図示されている。各移動ユニット３０の従動体４４は、吸着板３６とガイド部３７との接続箇所に当接するように配置され、その動作方向（第２の方向）は、露光光の光軸と平行な方向に設定される。
【0079】
これにより、各移動ユニット３０により、マスクＭ（吸着板３６）を上下に移動することが可能となる。また、吸着板３６の移動方向は、ガイド部３７により制限されている。これにより、吸着板３６に当接する従動体４４の移動方向（第２の方向）も、吸着板３６の移動方向と同じく露光光の光軸と平行な方向に限定される。このように、従動体４４そのものをガイドしなくても、従動体４４の移動可能な方向を制限することが可能である。
このような構成とすることで、ステージ上のマスクの上下位置を精密に位置決めすることが可能となる。
このような構成とすることで、ステージ上のマスクの上下位置を精密に位置決めすることが可能となる。
【0080】
この他、移動ユニット３０を用いて投影レンズ１２が移動されてもよい。例えば投影レンズ１２は、レンズ素子、アパーチャー、インテグレータ等の各種の光学素子を組み合わせて構成される。このような場合、各光学素子を保持する光学素子保持機構が、移動ユニット３０を用いて移動される。あるいは、投影レンズ１２を構成する光学素子の一部を移動可能なように構成してもよい。
このような構成とすることで、マスクパターンをワーク上に精密に投影露光することが可能となる。
このような構成とすることで、マスクパターンをワーク上に精密に投影露光することが可能となる。
【0081】
［駆動機構の動作特性］
図６は、駆動機構のモデルを示す模式図である。図７は、駆動機構の動作に伴う座標位置の変化について説明する模式図である。以下では、図６及び図７を参照して、駆動機構の動作特性について説明する。
図６は、駆動機構のモデルを示す模式図である。図７は、駆動機構の動作に伴う座標位置の変化について説明する模式図である。以下では、図６及び図７を参照して、駆動機構の動作特性について説明する。
【0082】
図６では、回転面における中間体４２の各部の配置をモデル化して図示している。ここでは、初期状態における第１の軸受部５１の中心位置をＰ１と記載し、第２の軸受部５２の中心位置をＱ１と記載する。また、回転面における主軸部５０の中心位置を回転軸Ｏと同じ符号を用いて中心位置Ｏと記載する。
【0083】
また、回転面における主軸部５０と第１の軸受部５１との中心間距離（ＯからＰ１までの距離）をＲ１とし、主軸部５０と第２の軸受部５２との中心間距離（ＯからＱ１までの距離）をＲ２とする。Ｒ１及びＲ２は、中間体４２が回転しても変化しない。
なお図６では、中間体４２は回転しておらず回転角度α＝０°であるものとし、この状態を初期状態とする。
なお図６では、中間体４２は回転しておらず回転角度α＝０°であるものとし、この状態を初期状態とする。
【0084】
初期状態におけるＰ１のＸＹ座標は、初期角度をθとすると以下のように表される。なお初期角度θは、基準となる角度位置に対する初期状態での中間体４２の角度である。
【0085】
【数3】
【0086】
また、初期状態におけるＰ２のＸＹ座標は、以下のように表される。
【0087】
【数4】
【0088】
次に、初期状態から中間体４２が回転角度αで回転した状態を考える。図７には、回転角度αで回転した中間体４２が点線を用いて模式的に図示されている。以下では、回転角度αで回転した回転状態における第１の軸受部５１の中心位置をＰ２と記載し、第２の軸受部５２の中心位置をＱ２と記載する。
【0089】
回転角度αの回転状態におけるＰ１のＸＹ座標は、以下のように表される。
【0090】
【数5】
【0091】
また回転角度αの回転状態におけるＰ２のＸＹ座標は、以下のように表される。
【0092】
【数6】
【0093】
ここで、回転角度αの回転による第１の軸受部５１の中心及び第２の軸受部５２の中心の移動量を考える。
例えば第１の軸受部５１は、原動体４３の移動量（アクチュエータ３１の入力変位量）の分だけ第１の方向に沿って移動する。従って、Ｐ２のＸ座標からＰ１のＸ座標を引いた値が、第１の方向（Ｘ方向）に沿った第１の軸受部５１の中心の移動量ｌ'となり、以下のように表される。
例えば第１の軸受部５１は、原動体４３の移動量（アクチュエータ３１の入力変位量）の分だけ第１の方向に沿って移動する。従って、Ｐ２のＸ座標からＰ１のＸ座標を引いた値が、第１の方向（Ｘ方向）に沿った第１の軸受部５１の中心の移動量ｌ'となり、以下のように表される。
【0094】
【数7】
【0095】
同様に、第２の軸受部５２は、回転角度αの分だけ第２の方向（Ｙ方向）に沿って移動する。従って、Ｑ２のＹ座標からＱ１のＹ座標を引いた値が、第２の方向（Ｙ方向）に沿った第２の軸受部５２の中心の移動量ｌとなり、以下のように表される。
【0096】
【数8】
【0097】
また（５）式から、回転角度αをアクチュエータ３１による入力変位量ｌ'を用いて以下のように表すことが可能である。
【0098】
【数9】
【0099】
（７）式を（６）式に代入すると、従動体４４によるの第２の方向に対する出力変位量ｌは、入力変位量ｌ'を用いて以下のように表される。
【0100】
【数10】
【0101】
（８）式は、入力変位量ｌ'と出力変位量ｌとの一般的な関係を表す式である。この式では、配置角度φと、初期角度θは定数である。従って（８）式は、入力変位量ｌ'をパラメータとして出力変位量ｌを算出する式となる。つまり（８）式を用いることで、φ及びθに応じた駆動機構４０の入力と出力の関係を数値的に計算可能となる。
【0102】
ここで、初期角度θ＝０°とする。この場合、（７）式及び（８）式は、以下に示す（９）式及び（１０）式のように書き換えられる。
【0103】
【数11】
【0104】
【数12】
（１０）式のｌrealとは、配置角度φに応じた実際の出力変位量ｌを意味する。
【0105】
さらに、初期角度θ＝０°かつ配置角度φ＝９０°とする。これは、図２、図３、図６、図７等に示す駆動機構４０の構成である。この場合、（５）式及び（６）式では、回転角度αを含む項だけが残る。この結果、入力変位量ｌ'と出力変位量ｌとの関係は、以下のように表される。
【0106】
【数13】
（１１）式のｌidealとは、配置角度φ＝９０°での出力変位量ｌを意味する。
【0107】
（１１）式からもわかるように、配置角度φ＝９０°の場合、駆動機構４０における入力変位量ｌ'と出力変位量ｌとの関係は、Ｒ１及びＲ２の比率（Ｒ２／Ｒ１）を比例係数とする線形な関係となる。すなわち、配置角度φ＝９０°である場合には、入力変位量ｌ'に係数をかけるだけで出力変位量ｌを算出可能となる。
これは、回転角度α、すなわち入力変位量ｌ'に依存しない関係であり、ｌ'の大小にかかわらず出力変位量ｌは、ｌ'に比例することになる。
これは、回転角度α、すなわち入力変位量ｌ'に依存しない関係であり、ｌ'の大小にかかわらず出力変位量ｌは、ｌ'に比例することになる。
【0108】
駆動機構４０では、このように配置角度φ＝９０°であり、入力変位量ｌ'と出力変位量ｌとが線形な関係となる状態を理想状態として、理想状態からのずれが所定の範囲に収まるように配置角度φが設定される。
上記した駆動機構４０は、一方向に押して駆動されるため、その回転角度αの最大値は、大きくても９０°を超えない。このため、ここでは回転角度αの絶対値が９０°未満（つまり｜α｜＜９０°）である場合を想定する。
上記した駆動機構４０は、一方向に押して駆動されるため、その回転角度αの最大値は、大きくても９０°を超えない。このため、ここでは回転角度αの絶対値が９０°未満（つまり｜α｜＜９０°）である場合を想定する。
【0109】
本開示では、｜α｜＜９０°の範囲において、対象物５の実際の移動量ｌrealと理想状態での移動量ｌidealとのずれが、理想状態での移動量ｌidealの±１０％以内に収まるように、配置角度φが設定される。この条件を書き下すと、以下のようになる。
【0110】
【数14】
【0111】
（１２）式を、（１０）式及び（１１）式を用いて書き換えると以下の条件式が得られる。
【0112】
【数15】
【0113】
このように、中間体４２は、配置角度φが、｜α｜＜９０°である場合に、上記（１３）式を満たすように構成される。
（１３）式を満たすことで、線形な状態からのずれ量（誤差）が小さくなる。具体的には、アクチュエータ３１のフルストロークに対して、対象物５の移動量が±１０％以内の誤差とすることができる。これにより、精度のよい移動制御が可能となり、高精度な長距離移動を実現することが可能となる。
（１３）式を満たすことで、線形な状態からのずれ量（誤差）が小さくなる。具体的には、アクチュエータ３１のフルストロークに対して、対象物５の移動量が±１０％以内の誤差とすることができる。これにより、精度のよい移動制御が可能となり、高精度な長距離移動を実現することが可能となる。
【0114】
例えば、図６及び図７に示す構成では、回転角度α＝９０°となる場合に、出力変位量ｌが最大となる。この時φ＝９０°を中心として（１３）式を満たす配置角度φの範囲は、８３．９４°≦φ≦９５．４８°であった。例えば配置角度φをこのような角度範囲に設定することで、対象物５の移動量の誤差を±１０％以内にすることが可能である。
【0115】
また配置角度φの範囲は、好ましくは、対象物５の移動量の誤差が±５％以内、より好ましくは、対象物５の移動量の誤差が±３％以内となる範囲に設定される。移動量の誤差が±５％となる配置角度φの範囲は、（１３）式の右辺の上限値を０．１から０．０５に変更した不等式により規定される。同様に、移動量の誤差が±３％となる範囲は、（１３）式の上限値を０．０３に変更した不等式により規定される。これにより、非常に精度のよい移動制御が可能となる。
【0116】
また実際には、回転角度αが９０°近くになるまで中間体４２を回転させることは少なく、αが比較的小さい範囲で変化する状況が考えられる。このような状況では、（１３）式を満たす範囲であれば配置角度φが９０°からずれていても、入力変位量ｌ'と出力変位量ｌとの関係はほとんど線形な関係と見做すことが可能となる。これにより十分に高精度な移動制御を実現することが可能となり、ワークステージ２０やマスクステージ１１を精密に移動させることが可能となる。
【0117】
［配置角度φが９０°の場合の特性］
特に、図２等に示すように、中間体４２の配置角度φが９０°である場合には、上記したように、入力変位量ｌ'と出力変位量ｌとが線形な関係となる。この場合、ｌrealとｌidealとのずれは無くなり、（１３）式の左辺は回転角度αによらずゼロとなる。
特に、図２等に示すように、中間体４２の配置角度φが９０°である場合には、上記したように、入力変位量ｌ'と出力変位量ｌとが線形な関係となる。この場合、ｌrealとｌidealとのずれは無くなり、（１３）式の左辺は回転角度αによらずゼロとなる。
【0118】
出力変位量ｌが入力変位量ｌ'に比例することがわかっている状態では、アクチュエータ３１から読み出した入力変位量ｌ'の値に比例係数をかけるだけで出力変位量ｌが得られる。逆に、要求される出力変位量ｌから、必要な入力変位量ｌ'を容易に算出することが可能である。
【0119】
このように、φ＝９０°に設定した駆動機構４０では、出力変位量ｌをモニタリングする必要がない。すなわち、従動体４４（対象物５）の移動量や位置を検出するエンコーダ等のセンサが無くても、入力変位量ｌ'を参照することで高精度な位置決めが可能となる。これにより、製造コストを抑えつつ高精度な長距離移動を実現することが可能となる。また、エンコーダ等を設ける必要がないため、装置サイズの小型化を図ることや、装置を組み立てやすくすることが可能となる。
【0120】
なお、配置角度φが９０°である場合においても、対象物５の位置を検出するエンコーダ等を設けてもよい。これにより、対象物５の実際の位置をモニタリングしながら、より高精度な移動制御を行うことが可能となる。
【0121】
また、入力変位量ｌ'と出力変位量ｌとの比例関係は、回転角度αの値によらず成立する。すなわち、アクチュエータ３１が移動を始める開始位置に関係なく、その移動量に対して線形な出力が得られる。これにより、移動の開始位置等を気にすることなく、所望の出力変位量ｌを精度よく実現することが可能となる。
【0122】
この特性により、複数の移動ユニット３０を容易に連動して動作させることが可能となる。例えば図４や図５等を参照して説明したように、複数の移動ユニット３０を用いて１つの対象物５を同一方向に移動させる構成を考える。この場合、各移動ユニット３０の入力変位量ｌ'は、共通の出力変位量ｌと比例係数とを用いて設定される。
このとき、移動ユニット３０ごとに開始位置に応じた変位量の補正等を行う必要は無く、シンプルな演算処理で移動ユニット３０を容易に連動させることが可能である。また、各移動ユニット３０の出力変位量ｌがずれにくいため、対象物５が意図せず傾斜するといった事態を十分に回避することが可能となる。
このとき、移動ユニット３０ごとに開始位置に応じた変位量の補正等を行う必要は無く、シンプルな演算処理で移動ユニット３０を容易に連動させることが可能である。また、各移動ユニット３０の出力変位量ｌがずれにくいため、対象物５が意図せず傾斜するといった事態を十分に回避することが可能となる。
【0123】
また、図２や図６に示すように、本実施形態では、回転面における主軸部５０の中心Ｏと第１の軸受部５１の中心Ｐ１との距離Ｒ１は、回転面における主軸部５０の中心Ｏと第２の軸受部５２の中心Ｑ１との距離Ｒ２よりも大きく設定される。
ここで、出力変位量ｌと入力変位量ｌ'との比例係数をＳとして、ｌ＝Ｓ×ｌ'とする。（１１）式より、Ｓ＝Ｒ２／Ｒ１である。従って、Ｒ１＞Ｒ２よりも大きい場合、Ｓは１未満の正数（０＜Ｓ＜１）となる。つまり、出力変位量ｌは、入力変位量ｌ'よりも小さくなる。すなわち、入力変位量ｌ'は一定の割合Ｓで縮小される。
ここで、出力変位量ｌと入力変位量ｌ'との比例係数をＳとして、ｌ＝Ｓ×ｌ'とする。（１１）式より、Ｓ＝Ｒ２／Ｒ１である。従って、Ｒ１＞Ｒ２よりも大きい場合、Ｓは１未満の正数（０＜Ｓ＜１）となる。つまり、出力変位量ｌは、入力変位量ｌ'よりも小さくなる。すなわち、入力変位量ｌ'は一定の割合Ｓで縮小される。
【0124】
例えば、アクチュエータ３１の移動量が線形に縮小されて出力される。このとき、アクチュエータ３１の位置精度も縮小される。このため、出力変位量ｌの位置精度はアクチュエータ３１の位置精度よりも高くなる。例えばアクチュエータ３１の位置精度が±１μｍである場合に、Ｓ＝１／２の駆動機構４０を用いることで、出力変位量ｌの位置精度をおよそ±０．５μｍに向上することが可能である。
【0125】
このように、Ｒ１＞Ｒ２とすることで、アクチュエータ３１の位置精度を向上することが可能となる。これにより、例えばアクチュエータ３１をそのまま使用する場合と比べて、対象物５を精度よく移動させることが可能となる。また例えば、位置精度の粗いアクチュエータ３１であっても、移動ユニット３０として用いることが可能となる。
なおＲ１＞Ｒ２であることで、ｌ'＞ｌとなり移動量が縮小される関係は、φが９０°以外の値に設定された場合にもなりたつ。
なおＲ１＞Ｒ２であることで、ｌ'＞ｌとなり移動量が縮小される関係は、φが９０°以外の値に設定された場合にもなりたつ。
【0126】
本発明者は、配置角度φ＝９０°に設定した駆動機構４０を露光装置１００に用いる構成について検証した。この結果、駆動機構４０をワークステージ２０やマスクステージ１１のＺ方向の移動に用いることで、ステージ側にエンコーダ等を搭載することなく、５μｍＬ／Ｓ以下の解像力を担保することが可能であることが分かった。なおＬ／Ｓは、ラインアンドスペースのことである。
このように、本駆動機構４０を用いることで、エンコーダが不要で、安価であり、高精度にステージ等を長距離移動させることが可能となる。
このように、本駆動機構４０を用いることで、エンコーダが不要で、安価であり、高精度にステージ等を長距離移動させることが可能となる。
【0127】
【0128】
図８に示す駆動機構６０では、配置角度φが９０°からずれた値に設定される。また原動体４３及び従動体４４の動作方向はＸ方向及びＹ方向に設定され、第１の軸受部５１及び第２の軸受部５２は円形ベアリングとして構成される。これは、図６等に示す駆動機構４０の配置角度φを変化させた構成であると言える。
【0129】
駆動機構６０の配置角度φは、（１３）式に示す条件を満たす範囲で設定される。このように、配置角度φが９０°から多少ずれた場合であっても、上記したように、（１３）式を満たすことで、線形な状態からの誤差が±１０％以内に収まり、精度のよい移動制御が可能となる。
【0130】
例えば、駆動機構６０に要求される精度によっては、配置角度φが９０°からずれている場合でも、入出力の関係が略線形となるものとして、φ＝９０°の場合と同様にエンコーダ等を設けることなく駆動機構６０を制御することも可能である。
また、対象物５にエンコーダを設けて対象物５の変位量を検出してもよい。あるいは、対象物５を移動させた際の位置情報を座標化（数値化）し、その数値データから現在の対象物５の位置情報を逆算するマッピング処理等が行われてもよい。このように、エンコーダやマッピング処理を用いることで、長距離移動を精度よく実現することが可能となる。
また、対象物５にエンコーダを設けて対象物５の変位量を検出してもよい。あるいは、対象物５を移動させた際の位置情報を座標化（数値化）し、その数値データから現在の対象物５の位置情報を逆算するマッピング処理等が行われてもよい。このように、エンコーダやマッピング処理を用いることで、長距離移動を精度よく実現することが可能となる。
【0131】
図９に示す駆動機構７０では、第１の軸受部５１及び第２の軸受部５２として、回転面における平面形状が長円形となる部材が用いられる。また配置角度φは９０°に設定され、原動体４３及び従動体４４の動作方向はＸ方向及びＹ方向に設定される。これは、図６等に示す駆動機構４０の第１の軸受部５１及び第２の軸受部５２の形状を変化させた構成であると言える。
【0132】
第１の軸受部５１及び第２の軸受部５２は、長円形の長軸方向及び短軸方向が主軸部５０の中心Ｏを向くようにそれぞれ配置される。なお第１の軸受部５１及び第２の軸受部５２は、各中心Ｐ及びＱに固定され回転しないものとする。
この場合、図９に示す初期位置では、原動体４３は、比較的曲率が小さい曲面側から第１の軸受部５１に当接し、従動体４４は、比較的曲率が大きい曲面側から第２の軸受部５２に当接する。従って、駆動機構７０では、原動体４３及び従動体４４が各軸受部と当接する面の形状が異なる。
この場合、図９に示す初期位置では、原動体４３は、比較的曲率が小さい曲面側から第１の軸受部５１に当接し、従動体４４は、比較的曲率が大きい曲面側から第２の軸受部５２に当接する。従って、駆動機構７０では、原動体４３及び従動体４４が各軸受部と当接する面の形状が異なる。
【0133】
なお、第１の軸受部５１の中心ＰのＸ方向の移動量と、第２の軸受部５２の中心ＱのＹ方向の移動量との関係は、配置角度φが９０°であるため線形となる。このため、原動体４３の移動量（入力変位量ｌ'）と、従動体４４の移動量（出力変位量ｌ）との関係を算出する際には、基本的には第１の軸受部５１及び第２の軸受部５２の形状に応じた補正のみを行えばよい。
このように、各軸受部の平面形状が円形でない場合でも、適正に長距離移動を行うことが可能である。
このように、各軸受部の平面形状が円形でない場合でも、適正に長距離移動を行うことが可能である。
【0134】
図１０に示す駆動機構８０では、配置角度φが１８０°に設定される。また第１の軸受部５１及び第２の軸受部５２は円形ベアリングとして構成される。これは、図６等に示す駆動機構４０の配置角度φを１８０°に設定した構成であると言える。
【0135】
なお、駆動機構８０において、原動体４３及び従動体４４の動作方向は、Ｘ方向にそった互いに反対の方向に設定される。例えば、原動体４３が図中の右方向に移動すると、中間体４２の回転に伴い従動体４４は図中の左方向に押される。
【0136】
図１１に示す駆動機構９０では、配置角度φが２７０°に設定される。ここで、配置角度φは、アクチュエータ３１（原動体４３）から押されて中間体４２が回転する方向に線分ＯＰを回転させて、線分ＯＱと重なるまでの角度とする。また第１の軸受部５１及び第２の軸受部５２は円形ベアリングとして構成される。これは、図６等に示す駆動機構４０の配置角度φを２７０°に設定した構成であると言える。
【0137】
なお、駆動機構９０において、原動体４３の動作方向は、Ｘ方向に設定され、従動体４４の動作方向は、Ｙ方向に設定される。例えば、原動体４３が図中の右方向に移動すると、中間体４２の回転に伴い第２の軸受部５２は図中の下方向に移動する。このため、図中上側から第２の軸受部５２に当接する従動体は、図中下側に移動する。これは、φ＝９０°の場合と反対の移動方向となる。
【0138】
このように、中間体は、配置角度φが、９０°の整数倍になるように構成されてもよい。この場合、図１０や図１１ではφ＝９０°の場合と同様に、出力変位量ｌと入力変位量ｌ'とが比例係数Ｓ＝Ｒ２／Ｒ１で、互いに比例した関係となる。これにより、例えば図１０のようにアクチュエータ３１の動作と平行な方向に対象物５を駆動することや、図１１のようにφ＝９０°の場合と反対方向に対象物５を移動するといった構成が可能となる。
これにより、ステージの動作や、移動ユニット３０の配置等の自由度を向上することが可能となる。また、これらの構成では入出力の比例関係が維持されるため、例えばエンコーダ等を用いなくても、高精度な長距離移動が可能な様々なステージを安価に実現することが可能である。
これにより、ステージの動作や、移動ユニット３０の配置等の自由度を向上することが可能となる。また、これらの構成では入出力の比例関係が維持されるため、例えばエンコーダ等を用いなくても、高精度な長距離移動が可能な様々なステージを安価に実現することが可能である。
【0139】
以上、本実施形態に係る駆動機構４０（駆動機構６０、７０、８０、９０）では、中間体４２の本体４５に第１の軸受部５１及び第２の軸受部５２が設けられる。また本体４５は、主軸部５０により回転可能に支持される。第１の軸受部５１はアクチュエータ３１に接続した原動体４３により第１の方向に沿って押され、第２の軸受部５２により押された従動体４４は第２の方向に移動して対象物５を動かす。この時、主軸部５０の中心Ｏから第１の軸受部５１及び第２の軸受部５２の各中心Ｐ及びＱに向かう２直線のなす配置角度φが上記の（１３）式を満たすように設定される。これにより、高精度な長距離移動を実現することが可能となる。
【0140】
本実施形態では、露光装置１００に設けられた、ワークステージ２０、マスクステージ１１、及び投影レンズ１２等が対象物５として移動される。本発明の駆動機構４０によれば、このようなステージ等の対象物５を高精度で長距離を移動させることが可能となる。
また、このような駆動機構４０を使用したステージ等では、基板等のワークＷを精密に位置決めすることが可能となる。さらに、このようなステージを使用した露光装置１００では、重ね合わせ精度が確保され、例えば露光処理の歩留まりの悪化を抑制することが可能となる。
また、このような駆動機構４０を使用したステージ等では、基板等のワークＷを精密に位置決めすることが可能となる。さらに、このようなステージを使用した露光装置１００では、重ね合わせ精度が確保され、例えば露光処理の歩留まりの悪化を抑制することが可能となる。
【0141】
＜その他の実施形態＞
本発明は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。
本発明は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。
【0142】
上記の実施形態では、第１の軸受部及び第２の軸受部の各構成がほぼ同様であった。これに限定されず、第１の軸受部及び第２の軸受部は、互いに異なるように構成されてもよい。例えば、各軸受部を構成するベアリングの直径や幅等のサイズ、ベアリングの種類等が互いに異なっていてもよい。また一方の軸受部をベアリングにして、もう一方の軸受部に他の形状の部材を用いるといったことも可能である。
【0143】
また第１の軸受部及び第２の軸受部に当接する原動体及び従動体の構成も限定されない。例えば原動体の第１の接触面及び従動体の第２の接触面の少なくとも一方の面が、移動方向に直交する状態から傾いた平面として構成されてもよい。或いは第１の接触面及び第２の接触面として、ベアリング等が用いられてもよい。この場合、第１の軸受部及び第２の軸受部は平面であってもよい。
この他、入力側（原動体及び第１の軸受部）の構成や、出力側（第２の軸受部及び従動体）の構成は限定されず、中間体を回転可能な任意の構成が用いられてよい。
この他、入力側（原動体及び第１の軸受部）の構成や、出力側（第２の軸受部及び従動体）の構成は限定されず、中間体を回転可能な任意の構成が用いられてよい。
【0144】
上記の実施形態では、主に露光装置において露光光の光軸方向（Ｚ方向）に対象物を移動する構成について説明した。これに限定されず、本発明に係る駆動機構は、光軸方向と直交する平面方向（Ｘ方向及びＹ方向）に対象物（ワークステージ、マスクステージ、投影レンズ等）を移動する機構として用いられてもよい。これにより、長距離の平面移動を高精度に実現することが可能となる。
なお、ここで記載したＸ方向、Ｙ方向、及びＺ方向は、図２を参照して説明した各方向とは無関係である。
なお、ここで記載したＸ方向、Ｙ方向、及びＺ方向は、図２を参照して説明した各方向とは無関係である。
【0145】
本開示において、説明の理解を容易とするために、「略」「ほぼ」「おおよそ」等の文言が適宜使用されている。一方で、これら「略」「ほぼ」「おおよそ」等の文言を使用する場合と使用しない場合とで、明確な差異が規定されるわけではない。
すなわち、本開示において、「中心」「中央」「均一」「等しい」「同じ」「直交」「平行」「対称」「延在」「軸方向」「円柱形状」「円筒形状」「リング形状」「円環形状」等の、形状、サイズ、位置関係、状態等を規定する概念は、「実質的に中心」「実質的に中央」「実質的に均一」「実質的に等しい」「実質的に同じ」「実質的に直交」「実質的に平行」「実質的に対称」「実質的に延在」「実質的に軸方向」「実質的に円柱形状」「実質的に円筒形状」「実質的にリング形状」「実質的に円環形状」等を含む概念とする。
例えば「完全に中心」「完全に中央」「完全に均一」「完全に等しい」「完全に同じ」「完全に直交」「完全に平行」「完全に対称」「完全に延在」「完全に軸方向」「完全に円柱形状」「完全に円筒形状」「完全にリング形状」「完全に円環形状」等を基準とした所定の範囲（例えば±１０％の範囲）に含まれる状態も含まれる。
従って、「略」「ほぼ」「おおよそ」等の文言が付加されていない場合でも、いわゆる「略」「ほぼ」「おおよそ」等を付加して表現され得る概念が含まれ得る。反対に、「略」「ほぼ」「おおよそ」等を付加して表現された状態について、完全な状態が必ず排除されるというわけではない。
すなわち、本開示において、「中心」「中央」「均一」「等しい」「同じ」「直交」「平行」「対称」「延在」「軸方向」「円柱形状」「円筒形状」「リング形状」「円環形状」等の、形状、サイズ、位置関係、状態等を規定する概念は、「実質的に中心」「実質的に中央」「実質的に均一」「実質的に等しい」「実質的に同じ」「実質的に直交」「実質的に平行」「実質的に対称」「実質的に延在」「実質的に軸方向」「実質的に円柱形状」「実質的に円筒形状」「実質的にリング形状」「実質的に円環形状」等を含む概念とする。
例えば「完全に中心」「完全に中央」「完全に均一」「完全に等しい」「完全に同じ」「完全に直交」「完全に平行」「完全に対称」「完全に延在」「完全に軸方向」「完全に円柱形状」「完全に円筒形状」「完全にリング形状」「完全に円環形状」等を基準とした所定の範囲（例えば±１０％の範囲）に含まれる状態も含まれる。
従って、「略」「ほぼ」「おおよそ」等の文言が付加されていない場合でも、いわゆる「略」「ほぼ」「おおよそ」等を付加して表現され得る概念が含まれ得る。反対に、「略」「ほぼ」「おおよそ」等を付加して表現された状態について、完全な状態が必ず排除されるというわけではない。
【0146】
本開示において、「Ａより大きい」「Ａより小さい」といった「より」を使った表現は、Ａと同等である場合を含む概念と、Ａと同等である場合を含なまい概念の両方を包括的に含む表現である。例えば「Ａより大きい」は、Ａと同等は含まない場合に限定されず、「Ａ以上」も含む。また「Ａより小さい」は、「Ａ未満」に限定されず、「Ａ以下」も含む。
本技術を実施する際には、上記で説明した効果が発揮されるように、「Ａより大きい」及び「Ａより小さい」に含まれる概念から、具体的な設定等を適宜採用すればよい。
本技術を実施する際には、上記で説明した効果が発揮されるように、「Ａより大きい」及び「Ａより小さい」に含まれる概念から、具体的な設定等を適宜採用すればよい。
【0147】
以上説明した本技術に係る特徴部分のうち、少なくとも２つの特徴部分を組み合わせることも可能である。すなわち各実施形態で説明した種々の特徴部分は、各実施形態の区別なく、任意に組み合わされてもよい。また上記で記載した種々の効果は、あくまで例示であって限定されるものではなく、また他の効果が発揮されてもよい。
【符号の説明】
【0148】
１１…マスクステージ
１２…投影レンズ
２０…ワークステージ
３０…移動ユニット
３１…アクチュエータ
４０、６０、７０、８０、９０…駆動機構
４１…支持体
４２…中間体
４３…原動体
４４…従動体
４５…本体
５０…主軸部
５１…第１の軸受部
５２…第２の軸受部
１００…露光装置
１２…投影レンズ
２０…ワークステージ
３０…移動ユニット
３１…アクチュエータ
４０、６０、７０、８０、９０…駆動機構
４１…支持体
４２…中間体
４３…原動体
４４…従動体
４５…本体
５０…主軸部
５１…第１の軸受部
５２…第２の軸受部
１００…露光装置
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】