特開 2024-59392 減圧乾燥機

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024059392

(43)【公開日】2024-05-01

(54)【発明の名称】減圧乾燥機

(51)【国際特許分類】

   F26B 5/04 20060101AFI20240423BHJP

【ＦＩ】

F26B5/04

【審査請求】未請求

【請求項の数】7

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022167050

(22)【出願日】2022-10-18

(71)【出願人】

【識別番号】595088078

【氏名又は名称】ファインマシーンカタオカ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100095407

【弁理士】

【氏名又は名称】木村 満

(74)【代理人】

【識別番号】100165489

【弁理士】

【氏名又は名称】榊原 靖

(74)【代理人】

【識別番号】100200621

【弁理士】

【氏名又は名称】堀部 峰雄

(74)【代理人】

【識別番号】100083068

【弁理士】

【氏名又は名称】竹中 一宣

(72)【発明者】

【氏名】片岡 啓二

【テーマコード（参考）】

3L113

【Ｆターム（参考）】

3L113AA05

3L113AB06

3L113AB10

3L113AC10

3L113AC24

3L113AC35

3L113AC67

3L113AC76

3L113BA04

3L113CA10

3L113CB16

3L113CB22

3L113DA14

3L113DA17

(57)【要約】

【課題】カプセルの形状に特化した、効率的な真空乾燥をすることができる減圧乾燥機を提供する。
【解決手段】減圧乾燥機１は、躯体（基台）に設けた台座３０を備えた底部２０と、この底部に被嵌されるカプセル４０と、で形成した減圧乾燥室を備え、前記減圧乾燥室の上部にヒーター５０を、その下部に第２の反射板５２ｄを備えており、前記第２の反射板５２ｄ、前記底部２０にワーク２００を収容可能とし、前記カプセル４０を昇降可能とした構成である。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

躯体（基台）に設けた台座を備えた底部と、
この底部に被嵌されるカプセルと、
で形成した減圧乾燥室を備え、
前記減圧乾燥室の上部にヒーターを、その下部に反射板を備えており、
前記反射板と、前記底部にワークを収容可能とし、
前記カプセルを昇降可能とした減圧乾燥機。

【請求項2】

前記ヒーターは、赤外線カーボンランプヒーターである、請求項１に記載の減圧乾燥機。

【請求項3】

前記カプセルは、下面が開口した半球状の半截碗型の形状に形成されている、請求項１に記載の減圧乾燥機。

【請求項4】

前記底部の上面は、フラットな形状に形成されている、請求項１に記載の減圧乾燥機。

【請求項5】

前記カプセルを昇降可能な昇降機構を備える、請求項１に記載の減圧乾燥機。

【請求項6】

前記底部の縁部に設けられたシール材を備え、
前記シール材は、前記底部と、前記カプセルの下端部と、の間を密封する、請求項１に記載の減圧乾燥機。

【請求項7】

前記底部に排気口が形成され、
前記排気口と連通する真空ポンプを備える、請求項１に記載の減圧乾燥機。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、減圧乾燥機に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、容器内の減圧下において、飽和蒸気温度を、７０℃以下にし、低温の水蒸気で、安全な状態で、水分凍結とか、乾燥処理終了後の大気開放時、又は大気中の湿度下に於いて、水分結露が発生せず、良質な乾燥を可能とした発明である。

【0003】

その特徴は、大気圧を確保しつつ、内側容器中を窒素雰囲気で保ち、半導体不良の原因の一つである、自然酸化膜の成長を止めて、安定した表面状態を確保できる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特許第３３３６１０８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

特許文献１に開示された減圧乾燥装置においては、装置を２重容器とし、外側容器、内側容器に圧力制御弁を設けたため、真空系の逆流事故による、汚染物質が内側容器内に侵入させないようにすることができる。また、逆に、ガス供給ポートから窒素ブローを行うため、ごみを排出することができ、常に清浄な空間で乾燥することができる。また、ランプヒーターを反射板で覆い、真空容器とすることにより断熱構造となり、外部への熱放出がなくなり、クリーンルームでの発塵のもとになる断熱材等を不要にすることができ、装置を簡易、清浄なものとすることができる。更に、ヒーター制御、真空ポンプの制御、処理終了後の窒素ブロー等、一切のコントロールを、圧力制御弁及びその信号のみで行うので、構成が安価で、かつ簡単な制御で運用できる装置構成とすることができる。

【0006】

しかしながら、カプセルの形状に特化した、効率的な真空乾燥ではない。

【0007】

本発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、請求項１～請求項７を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0008】

上記目的を達成するために、本発明の実施の形態に係る減圧乾燥機は、
躯体（基台）に設けた台座を備えた底部と、
この底部に被嵌されるカプセルと、
で形成した減圧乾燥室を備え、
前記減圧乾燥室の上部にヒーターを、その下部に反射板を備えており、
前記反射板と、前記底部にワークを収容可能とし、
前記カプセルを昇降可能とした構成でもよい。

【0009】

前記ヒーターは、赤外線カーボンランプヒーターであってもよい。

【0010】

前記カプセルは、下面が開口した半球状の半截碗型の形状に形成されていてもよい。

【0011】

前記底部の上面は、フラットな形状に形成されてもよい。

【0012】

前記カプセルを昇降可能な昇降機構を備えてもよい。

【0013】

前記底部の縁部に設けられたシール材を備え、
前記シール材は、前記底部と、前記カプセルの下端部と、の間を密封してもよい。

【0014】

前記底部に排気口が形成され、
前記排気口と連通する真空ポンプを備えてもよい。

【発明の効果】

【0015】

本発明に係る減圧乾燥機においては、ワークを収納する内部空間を小さくすることができる。そして、その内部空間に設けられたヒーターでワークを加熱することができる。これにより、本発明においては、カプセルの形状に特化した、効率的な真空乾燥をすることができる減圧乾燥機を提供する。

【図面の簡単な説明】

【0016】

【図1】実施の形態に係る減圧乾燥機の正面図である。

【図2】図１におけるＩ－Ｉ’断面図である。

【図3】実施の形態に係る減圧乾燥機の回路図である。

【図4】実施の形態に係るカプセルを降ろした状態を示す正面図である。

【図5】図４におけるＩＩＩ－ＩＩＩ’断面図である。

【図6】図５における減圧乾燥室の拡大図である。

【図7】実施の形態に係る底部及び台座の平面図である。

【図8】実施の形態に係るカプセルの底面図である。

【図9】実施の形態に係る赤外線カーボンランプヒーターの平面図である。

【発明を実施するための形態】

【0017】

以下、本発明の実施の形態に係る減圧乾燥機１を図に基づいて説明する。なお、理解を容易にするために、ＸＹＺ座標を設定し、適宜参照する。

【0018】

図１～図５に示した減圧乾燥機１は、乾燥対象であるワーク２００に含まれる水分を取り除くための装置である。減圧乾燥機１は、図１、図２に示すように、筐体１０と、底部２０と、台座３０と、カプセル４０と、ヒーター５０と、昇降機構６０と、配管室７０と、真空ポンプ８０と、制御部１００と、を備える。減圧乾燥機１は、底部２０とカプセル４０からなる減圧乾燥室により、ワーク２００を減圧乾燥する。

【0019】

筐体１０には、底部２０と、台座３０と、カプセル４０と、ヒーター５０と、昇降機構６０と、配管室７０と、真空ポンプ８０と、を備える。また、筐体１０には、タッチパネル１１と、真空圧力計１２と、円筒部１３と、を有する。

【0020】

タッチパネル１１は、筐体１０に設けられた操作盤である。タッチパネル１１は、減圧乾燥機１を操作するために用いられる。

【0021】

真空圧力計１２は、ワーク２００の乾燥作業における減圧乾燥室内の圧力を表示する。

【0022】

円筒部１３は、Ｚ軸と平行な方向に伸びるスライドシフターである。円筒部１３は、筐体１０の上面に複数設けられている。円筒部１３には、Ｚ軸と平行な方向に伸び、筐体１０の天面を貫通する貫通孔が形成されている。

【0023】

底部２０は、図６及び図７に示すように、減圧乾燥室の床を構成する。底部２０は、例えば、ステンレスにより形成されている。底部２０は、底部本体２１と、排気口２２と、シール材２３と、円孔２４と、を有する。

【0024】

底部本体２１は、上方（＋Ｚ軸方向）から見て、円盤状に形成されている。さらに、底部本体２１の上面は、フラットな形状に形成されている。底部本体２１は、台座３０を設ける躯体（基台）となる。

【0025】

排気口２２は、減圧乾燥室の外部と連通する孔である。排気口２２は、底部２０の中央に形成されている。しかしながら、これに限られない。排気口２２は、減圧乾燥室内に位置するように形成されていればよい。排気口２２は、減圧乾燥室内を減圧するとき、減圧乾燥室内の空気を外部に排出するための孔である。

【0026】

シール材２３は、環状に形成され、底部２０の外縁部に沿って設けられている。シール材２３は、底部２０の上面に設けられたパッキンである。しかしながら、これに限られない。シール材２３は、減圧乾燥室の気密性を保つことができる部材であればよい。

【0027】

円孔２４は、図６及び図７に示すように、底部２０の上面に複数形成されている。複数の円孔２４は、底部２０の中心から放射線状に位置するように形成されている。しかしながら、これに限られない。円孔２４は、底部２０の中心から一定の距離に少なくとも３つ形成されていればよい。円孔２４は、その内面の側壁に雌ネジ面が形成されている。

【0028】

台座３０は、底部２０の上面の中央部に設けられている。台座３０は、ワーク２００を支持する。台座３０は、ワーク受け３１と、ワークガイド３２と、からなる。しかしながら、これに限られない。台座３０は、ワーク２００を載置するものであれば形状は問わない。

【0029】

ワーク受け３１は、上端が丸みを帯びた柱状に形成され、底部２０の上面に設けられている。ワーク受け３１は、ワーク２００が載置され、ワーク２００を支持する。ワーク受け３１は、底部２０の中央を中心とした同一円上に４つ設けられている。しかしながら、これに限られない。ワーク受け３１は、ワーク２００を支持することができる位置に設けられていればよい。ワーク受け３１は、下端に溝の設けられた雄ネジとなる部分を有し、雄ネジとなる部分を底部２０の円孔２４に差し込むことで固定される。尚、ワーク受け３１の形状、固定方法は限定されない。

【0030】

ワークガイド３２は、底部２０の上面に設けられた上端が丸みを帯びた柱状の部材である。ワークガイド３２は、ワーク２００がワーク受け３１に載置されるように、ワーク２００をガイドする。ワークガイド３２は、底部２０の中央を中心とした同一円上に４つ設けられている。しかしながら、これに限られない。ワークガイド３２は、ワーク２００をガイドすることができる位置に設けられていればよい。ワークガイド３２は、上部ガイド部材３２ａと、円形支柱３２ｂと、を有する。

【0031】

上部ガイド部材３２ａは、上端が丸みを帯びた柱状に形成された部材である。上部ガイド部材３２ａは、下端に溝の設けられた雄ネジとなる部分を有する。上部ガイド部材３２ａは、ワーク受け３１と同じ部材からなってもよい。

【0032】

円形支柱３２ｂは、円柱状に形成され、底部２０の上面に設けられている。円形支柱３２ｂは、上部ガイド部材３２ａの高さを調節するために上部ガイド部材３２ａに取り付けられる。円形支柱３２ｂは、下端に溝の設けられた雄ネジとなる部分を有する。さらに、円形支柱３２ｂは、上面に内面の側壁に雌ネジ面が形成された孔が形成されている。円形支柱３２ｂは、上面の孔に上部ガイド部材３２ａの雄ネジとなる部分が差し込まれる。さらに、円形支柱３２ｂは、雄ネジとなる部分を底部２０の円孔２４に差し込むことで固定される。

【0033】

カプセル４０は、図５及び図６に示すように、減圧乾燥室の天井面及び側面を構成する筐体１０である。カプセル４０は、底部２０の上面に当接する。カプセル４０は、例えば、ステンレスにより形成されている。カプセル４０は、カプセル本体４１と、鍔部４２と、コネクタ４３と、支柱４４と、天板４５と、を有する。

【0034】

カプセル本体４１は、下面が開口した半球状の半截碗型の筐体である。しかしながら、これに限られない。カプセル本体４１は、第１内部空間Ｓ１が上端に向かうほど収斂していればよい。カプセル本体４１は、その内部空間である第１内部空間Ｓ１の内部に、台座３０、及びワーク２００を収納可能である。底部２０とカプセル本体４１からなる減圧乾燥室は、従来の角柱状の減圧乾燥室や、球状の減圧乾燥室よりも内部空間の体積を小さくすることができる。さらに、減圧乾燥室は球形に近いほど圧力に対する耐久性が向上するため、カプセル本体４１は、半球状の半截碗型の筐体とすることで、耐久性を向上させることができる。

【0035】

カプセル本体４１の下端部である開口の開口縁部は、図５及び図６に示すように、底部２０のシール材２３の上に載置され、底部２０と、の間を密閉し、底部２０とカプセル４０からなる減圧乾燥室を密封する。

【0036】

鍔部４２は、ＸＹ平面に平行な面から構成された板材である。鍔部４２は、カプセル本体４１の開口の開口縁部からカプセル本体４１の外部空間へと延設されている。

【0037】

コネクタ４３は、カプセル本体４１の側面に設けられている。コネクタ４３は、外部の電源に接続されている。

【0038】

支柱４４は、図１及び図２に示すように、Ｚ軸と平行な方向に伸びる柱状の部材である。支柱４４は、下端が鍔部４２に接続されている。支柱４４は、カプセル本体４１を囲むように４つ設けられている。しかしながら、これに限られない。支柱４４は、２つ、３つ、又は５つ以上設けられていてもよい。

【0039】

天板４５は、ＸＹ平面に平行な面から構成された板材である。天板４５は、支柱４４の上端に接続されている。

【0040】

ヒーター５０は、フィラメントとしてカーボンを用いた赤外線カーボンランプヒーターである。ヒーター５０は、減圧乾燥室内の温度を上げるために用いられる。ヒーター５０は、水の吸収波長域である２．０μｍから４．０μｍ、及び、金属の吸収波長域である１．０μｍから２．０μｍの波長を含む近・中赤外線において強い放射強度を示す。そして、ヒーター５０を用いることで、水及び金属を短時間で加熱することができる。ヒーター５０は、コネクタ４３を介して、外部の電源からの電力の供給を受ける。図４では、ヒーター５０と、コネクタ４３と、を繋ぐ配線は省略している。ヒーター５０は、ヒーター取り付けユニット５１と、ヒーターユニット５２と、を有する。

【0041】

ヒーター取り付けユニット５１は、カプセル本体４１に取り付けられている。ヒーター取り付けユニット５１は、取付具５１ａと、取り付けプレート５１ｂと、を有する。

【0042】

取付具５１ａは、Ｚ軸と平行な方向に伸びる柱状の部材である。取付具５１ａの上端は、カプセル本体４１の天井面に固定されている。取付具５１ａは、取り付けプレート５１ｂを吊設している。

【0043】

取り付けプレート５１ｂは、ＸＹ面と平行な板材である。取り付けプレート５１ｂの上面は、取付具５１ａに吊設されている。取り付けプレート５１ｂの下面には、ヒーターユニット５２が固定されている。ヒーターユニット５２は、赤外線カーボンランプヒーターの放射する近・中赤外線をワーク２００に照射する。ヒーターユニット５２は、フィラメント５２ａと、電極５２ｂと、第１の反射板５２ｃと、第２の反射板５２ｄと、を有する。

【0044】

フィラメント５２ａは、カーボンからなる。フィラメント５２ａは、Ｘ軸と平行な方向に伸びる。フィラメント５２ａは、Ｘ軸方向に並列するように４本設けられている。しかしながら、これに限られない。フィラメント５２ａは、１本から３本、又は、５本以上設けられてもよい。フィラメント５２ａの両端（Ｘ軸方向端部）には、それぞれ電極５２ｂが設けられている。

【0045】

電極５２ｂは、外部の電源からの電力の供給を受けるための端子である。電極５２ｂ…は、コネクタ４３を介して、外部の電源からの電力の供給を受ける。図８及び図９では、ヒーター５０と、コネクタ４３と、を繋ぐ配線は省略している。

【0046】

第１の反射板５２ｃは、図６、又は図８に示すように、フィラメント５２ａの上方を囲むように形成された板体である。第１の反射板５２ｃは、４本のフィラメント５２ａにそれぞれ設けられている。第１の反射板５２ｃは、フィラメント５２ａの発する赤外線を反射し、下方（－Ｚ軸方向）へと向かわせる。

【0047】

第２の反射板５２ｄは、取り付けプレート５１ｂの各側端から垂下した板材である。第２の反射板５２ｄは、カプセル４０が底部２０に当接した状態で、ヒーター５０の熱が拡散しないように、ワーク２００を囲繞する。これにより、ワーク２００を効果的に加熱し、水分の蒸発を促進することができる。

【0048】

昇降機構６０は、図３～図５に示すように、カプセル４０を昇降させるための機構である。昇降機構６０は、昇降部材６１と、シリンダ６２と、ロッド６３と、を有する。

【0049】

昇降部材６１は、カプセル４０に上下方向（Ｚ軸方向）の力を伝達する。昇降部材６１は、シャフト６１ａと、連結部６１ｂと、を有する。

【0050】

シャフト６１ａは、Ｚ軸と平行な方向に伸びる形態である。シャフト６１ａの下端は、カプセル４０の天板４５に固定されている。シャフト６１ａは、筐体１０の円筒部１３を通して、筐体１０の上方に伸びている。シャフト６１ａは、２つ設けられている。しかしながら、これに限られない。シャフト６１ａは、３つ以上設けられてもよい。

【0051】

連結部６１ｂは、シャフト６１ａの上端に固定される。連結部６１ｂは、複数のシャフト６１ａの上端を繋いでいる。

【0052】

シリンダ６２は、物体を上下方向に移動させる部品である。シリンダ６２は、筐体１０の上面に設けられている。

【0053】

ロッド６３は、Ｚ軸と平行な方向に伸びる柱状の部材である。ロッド６３の上端は、昇降部材６１の連結部６１ｂに固定されている。ロッド６３の下端は、シリンダ６２に接続されている。ロッド６３は、シリンダ６２により上下方向に移動させられる。そして、ロッド６３の上下方向への移動により、昇降部材６１もまた上下方向に移動させられる。

【0054】

配管室７０は、カプセル４０の下方に設けられ、かつ底部２０の下側（減圧乾燥室の下側）に位置し、真空ポンプ８０に連通させる配管及び機器を備える。配管室７０は、その他、第１の配管７１と、エア制御部７２と、第２の配管７３と、を有する。

【0055】

第１の配管７１は、減圧乾燥室とエア制御部７２を連通させる減圧配管である。第１の配管７１の一端は、底部２０の排気口２２と連通している。

【0056】

エア制御部７２は、減圧乾燥室から排気されたエアを誘導する手段であり、かつこのエア制御部７２は、真空ポンプ８０の働きで生成される真空をコントロール（解除を図る）真空破壊弁７２ａと、排気音を抑制するマフラー７２ｂと、結露した水滴を収集するドレンボックス７２ｃを備える。

【0057】

第２の配管７３は、エア制御部７２と真空ポンプ８０とを連通させる減圧配管である。第２の配管７３の一端は、真空ポンプ８０と連通している。

【0058】

真空ポンプ８０は、気体を排出し、減圧状態にするためのポンプである。真空ポンプ８０は、配管室７０を介して減圧乾燥室内の空気を排出するポンプである。

【0059】

制御部１００は、図３に示すように、フィルタレギュレータ１０１と、電磁弁１０２と、サイレンサ１０３と、スピードコントローラ１０４と、残圧排気弁１０５と、真空圧検知器１０６と、真空破壊弁７２ａと、を備える。

【0060】

制御部１００は、フィルタレギュレータ１０１により、昇降シリンダと真空破壊弁（不図示）のパイロットエアのみ取り込まれる外気に含まれるゴミや水分を取り除き、ゴミや水分の侵入を抑制する。さらに、制御部１００は、フィルタレギュレータ１０１により、外気の圧力を一定に保つ。

【0061】

制御部１００は、電磁弁１０２により、カプセル４０を昇降するとき、昇降機構６０のシリンダ６２の動作状態を切り替える。そして、制御部１００は、サイレンサ１０３により、シリンダ６２の排気音を抑制する。さらに、制御部１００は、スピードコントローラ１０４により、シリンダ６２のシリンダの昇降速度を制御する。必要により、残圧排気弁１０５を作用する。

【0062】

制御部１００は、真空圧検知器１０６により、カプセル４０内、第１の配管７１、エア制御部７２、及び第２の配管７３の圧力調整を図る。また、制御部１００は、底部２０とカプセル４０からなる減圧乾燥室を真空引きする場合、減圧乾燥室と真空ポンプ８０との連繋を図ることも有る。

【0063】

次に、減圧乾燥機１の使用方法の一例について説明する。

【0064】

最初に、減圧乾燥機１は、図２に示すように、カプセル４０が持ち上げられた状態で使用される。台座３０のワークガイド３２でガイドするように、ワーク２００をワーク受け３１の上に載置する。

【0065】

次に、タッチパネル１１を操作し、乾燥作業を開始させる。まず、昇降機構６０が作動し、カプセル４０を降下させる。

【0066】

降下したカプセル４０が底部２０のシール材２３に当接し、ワーク２００がカプセル４０の内部空間に収納される。これにより、底部２０とカプセル４０は、密封された減圧乾燥室を構成する。

【0067】

さらに、ヒーター５０が作動し、ワーク２００が加熱される。

【0068】

その後、乾燥作業が開始される。真空ポンプ８０が作動し、減圧乾燥室内の空気が排気され、減圧乾燥室内の圧力が減圧される。

【0069】

減圧乾燥室内の圧力が減圧されると、水の蒸発が促進される。ワーク２００についた水分が蒸発するとき、ワーク２００の熱が下がり、水分が蒸発しにくくなる。

【0070】

しかしながら、ヒーター５０の放出する熱により、下がった熱が補われるため、ワーク２００の熱が維持され、水分の蒸発が促進されたまま、乾燥することができる。

【0071】

減圧乾燥機１は、真空ポンプ８０の作動を介して負圧が上昇源に達したときは、エア制御部７２の真空破壊弁７２ａにより外気を取り込む。即ち、ユーザは、定期的に真空破壊弁７２ａから外気を取り込むように設定することができる。

【0072】

乾燥が終わったのち、自動的にヒーター５０及び真空ポンプ８０が停止し、真空破壊弁７２ａにより、減圧乾燥室内に外気が取り込まれる。

【0073】

最後に、ユーザは、自動的に昇降機構６０が作動し、カプセル４０が持ち上げられる。これにより、減圧乾燥機１からワーク２００を取り出すことができる。

【0074】

以上、説明したように、本実施の形態１に係る減圧乾燥機１において、上面の形状がフラットな底部２０と、第１内部空間が上端に向かうほど収斂するカプセル本体４１と、からなる減圧乾燥室は、従来の角柱状の減圧乾燥室や、球状の減圧乾燥室よりも内部空間の体積を小さくすることができる。そのため、減圧乾燥機１では、真空ポンプ８０により、従来よりも短時間で減圧乾燥室内を減圧することができる。

【0075】

さらに、減圧乾燥機１において、減圧乾燥室は、球形に近いほど圧力に対する耐久性が向上するため、従来の角柱状の減圧乾燥室よりも耐久性を向上させることができる。

【0076】

減圧乾燥機１において、ヒーター５０は、フィラメント５２ａがカーボンからなるため、水の吸収波長域である２．０μｍから４．０μｍ、及び、金属の吸収波長域である１．０μｍから２．０μｍの波長を含む近・中赤外線において強い放射強度を示す。そのため、減圧乾燥機１は、従来のニクロム線及びタングステンからなるフィラメントを用いた減圧乾燥機よりも水及び金属を短時間で加熱することができる。

【0077】

減圧乾燥機１において、カプセル本体４１は、半球状の半截碗型の形状に形成されている。これにより、減圧乾燥機１は、底部２０とカプセル本体４１からなる減圧乾燥室の体積を小さくしつつ、カプセル本体４１の上部の丸みを帯びた部分にヒーター５０を設ける空間を確保することができる。

【0078】

さらに、減圧乾燥機１において、カプセル本体４１は、直接手で作業することなく、昇降機構６０により昇降させることができる。そのため、減圧乾燥機１では、減圧乾燥室の開閉時に、ヒーター５０がワーク２００に干渉する危険性を抑制することができる。

【0079】

減圧乾燥機１において、一つの実験例では、ワーク２００についた水分が蒸発するとき、ワーク２００の熱が下がるが、ヒーター５０の放出する熱により、下がった熱が補われ、水分の蒸発が促進される。この減圧乾燥機１において、ヒーター５０を使用しなかった場合の温度変化を調べた。この実験に使用したワークは、暖めたのち、水に沈め、水を切らない状態であった。ワーク２００に含まれる水分の量は、ワーク２００に水を含ませる前の重量と、水を含ませた後の重量を比較して測定された。この比較実験において、真空引きと真空破壊を繰り返し、２２秒間の真空乾燥を行った。その結果、例えば、水を付けずにヒーター５０で加熱したらワークの温度は６℃上昇し（真空無しの状態で）、一方、水を付けた状態で、ヒーター５０で加熱せずに真空のワークの温度は８℃低下した。即ち、２℃の差である。

【0080】

また、減圧乾燥機１において、水分を含まないワーク２００について、検討すると、真空乾燥を行うことなくヒーター５０により加熱した場合、ワークの温度は約６．０℃上昇した。従って、ヒーター５０を使用しなかった場合のワークの温度変化に比べ、ヒーター５０により加熱した場合のワークの温度変化が大きいことを示している。

【0081】

以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明は上記実施の形態によって限定されるものではない。

【0082】

上記実施の形態１では、図５及び図６に示すように、底部２０には、シール材２３を備える。

【0083】

上記実施の形態１では、図６に示すように、本実施の形態１に係る排気口２２は、カプセル４０の底部２０に形成されている。即ち、排気口２２は、好ましくは、カプセル４０に設けられている。

【0084】

本発明は、本発明の広義の精神と範囲を逸脱することなく、様々な実施の形態及び変形が可能とされるものである。上述した実施の形態は、本発明を説明するためのものであり、本発明の範囲を限定するものではない。

【符号の説明】

【0085】

１ 減圧乾燥機
１０ 筐体
１１ タッチパネル
１２ 真空圧力計
１３ 円筒部
２０ 底部
２１ 底部本体
２２ 排気口
２３ シール材
２４ 円孔
３０ 台座
３１ ワーク受け
３２ ワークガイド
３２ａ 上部ガイド部材
３２ｂ 円形支柱
４０ カプセル
４１ カプセル本体
４２ 鍔部
４３ コネクタ
４４ 支柱
４５ 天板
５０ ヒーター
５１ ヒーター取り付けユニット
５１ａ 取付具
５１ｂ 取り付けプレート
５２ ヒーターユニット
５２ａ フィラメント
５２ｂ 電極
５２ｃ 第１の反射板
５２ｄ 第２の反射板
６０ 昇降機構
６１ 昇降部材
６１ａ シャフト
６１ｂ 連結部
６２ シリンダ
６３ ロッド
７０ 配管室
７１ 第１の配管
７２ エア制御部
７２ａ 真空破壊弁
７２ｂ マフラー
７２ｃ ドレンボックス
７３ 第２の配管
８０ 真空ポンプ
１００ 制御部
１０１ フィルタレギュレータ
１０２ 電磁弁
１０３ サイレンサ
１０４ スピードコントローラ
１０５ 残圧排気弁
１０６ 真空圧検知器
２００ ワーク
Ｓ１ 第１内部空間

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】