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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024060151
(43)【公開日】2024-05-02
(54)【発明の名称】洗浄剤組成物、及び洗浄剤組成物用の原液
(51)【国際特許分類】
C11D 7/50 20060101AFI20240424BHJP
C11D 7/32 20060101ALI20240424BHJP
C11D 7/26 20060101ALI20240424BHJP
C11D 7/36 20060101ALI20240424BHJP
【ＦＩ】
C11D7/50
C11D7/32
C11D7/26
C11D7/36
【審査請求】未請求
【請求項の数】11
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022167315
(22)【出願日】2022-10-19
(71)【出願人】
【識別番号】000123491
【氏名又は名称】化研テック株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001195
【氏名又は名称】弁理士法人深見特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】堀 薫夫
(72)【発明者】
【氏名】赤松 悠紀
(72)【発明者】
【氏名】石原 慧太
【テーマコード（参考）】
4H003
【Ｆターム（参考）】
4H003AB10
4H003EB04
4H003EB06
4H003EB07
4H003EB08
4H003EB13
4H003EB14
4H003EB16
4H003EB19
4H003EB20
4H003EB24
4H003ED02
4H003ED29
4H003FA04
4H003FA28
(57)【要約】
【課題】本発明は、フラックス洗浄性及び取り扱い性に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が低減された洗浄剤組成物、及び洗浄剤組成物用の原液を提供することを目的とする。
【解決手段】親水性グリコールエーテル化合物と、有機酸と、第１化合物と、水とを含む洗浄剤組成物であって、前記第１化合物は、親水性含窒素有機化合物及び／又は親水性第４級アンモニウム塩であり、前記水の含有率は、２０質量％以上であり、前記有機酸に対する前記第１化合物のモル比は、１以上３５以下である、洗浄剤組成物。
【選択図】なし
【解決手段】親水性グリコールエーテル化合物と、有機酸と、第１化合物と、水とを含む洗浄剤組成物であって、前記第１化合物は、親水性含窒素有機化合物及び／又は親水性第４級アンモニウム塩であり、前記水の含有率は、２０質量％以上であり、前記有機酸に対する前記第１化合物のモル比は、１以上３５以下である、洗浄剤組成物。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
親水性グリコールエーテル化合物と、有機酸と、第１化合物と、水とを含む洗浄剤組成物であって、
前記第１化合物は、親水性含窒素有機化合物及び／又は親水性第４級アンモニウム塩であり、
前記水の含有率は、２０質量％以上であり、
前記有機酸に対する前記第１化合物のモル比は、１以上３５以下である、洗浄剤組成物。
前記第１化合物は、親水性含窒素有機化合物及び／又は親水性第４級アンモニウム塩であり、
前記水の含有率は、２０質量％以上であり、
前記有機酸に対する前記第１化合物のモル比は、１以上３５以下である、洗浄剤組成物。
【請求項2】
前記洗浄剤組成物のｐＨは８．０以上１２．０以下である、請求項１に記載の洗浄剤組成物。
【請求項3】
前記有機酸の含有率は、０．１質量％以上４．０質量％以下であり、
前記第１化合物の含有率は、１質量％以上２０質量％以下である、請求項１又は請求項２に記載の洗浄剤組成物。
前記第１化合物の含有率は、１質量％以上２０質量％以下である、請求項１又は請求項２に記載の洗浄剤組成物。
【請求項4】
前記洗浄剤組成物は、２５℃及び５０℃の条件下で外観上均一である、請求項１又は請求項２に記載の洗浄剤組成物。
【請求項5】
前記有機酸は、１分子中に１つ以上のカルボキシ基を有する有機酸、又は１分子中に１つ以上のホスホン酸基を有する有機酸である、請求項１又は請求項２に記載の洗浄剤組成物。
【請求項6】
前記親水性グリコールエーテル化合物は、式（１）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物、又は式（２）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物である、請求項１又は請求項２に記載の洗浄剤組成物。
（式（１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、又はエチル基を示し、Ｒ４は、炭素数１～１１の鎖状及び／又は環状の炭化水素基を示し、前記炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換わっていてもよく、式（２）中、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に水素原子又はメトキシ基を示し、前記Ｒ５及び前記Ｒ６のいずれかはメトキシ基であり、Ｒ７は水素原子又はメチル基を示す。）
【化1】
（式（１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、又はエチル基を示し、Ｒ４は、炭素数１～１１の鎖状及び／又は環状の炭化水素基を示し、前記炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換わっていてもよく、式（２）中、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に水素原子又はメトキシ基を示し、前記Ｒ５及び前記Ｒ６のいずれかはメトキシ基であり、Ｒ７は水素原子又はメチル基を示す。）
【請求項7】
前記親水性グリコールエーテル化合物は、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、２－メトキシブタノール、３－メトキシブタノール、３－メトキシ－３－メチルブタノール、及びプロピルセロソルブからなる群より選択される少なくとも１種の化合物である、請求項６に記載の洗浄剤組成物。
【請求項8】
前記有機酸は、親水性酸及び／又は疎水性酸であり、
前記親水性酸は、ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸、グリコール酸、プロピオン酸、２－ホスホノブタン－１，２，４－トリカルボン酸、１－ヒドロキシエタン－１，１－ジホスホン酸、グリシン、フィチン酸、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－４－カルボン酸、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－カルボン酸、及びｐ－トルエンスルホン酸からなる群より選択される少なくとも１種の親水性酸であり、
前記疎水性酸は、ジエチレントリアミン五酢酸、ビシン、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、アレンドロン酸、及び１－アミノ－２－ナフトール－４－スルホン酸からなる群より選択される少なくとも１種の疎水性酸である、請求項１又は請求項２に記載の洗浄剤組成物。
前記親水性酸は、ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸、グリコール酸、プロピオン酸、２－ホスホノブタン－１，２，４－トリカルボン酸、１－ヒドロキシエタン－１，１－ジホスホン酸、グリシン、フィチン酸、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－４－カルボン酸、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－カルボン酸、及びｐ－トルエンスルホン酸からなる群より選択される少なくとも１種の親水性酸であり、
前記疎水性酸は、ジエチレントリアミン五酢酸、ビシン、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、アレンドロン酸、及び１－アミノ－２－ナフトール－４－スルホン酸からなる群より選択される少なくとも１種の疎水性酸である、請求項１又は請求項２に記載の洗浄剤組成物。
【請求項9】
前記親水性含窒素有機化合物は、式（３）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物、又は式（４）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物であり、
前記親水性第４級アンモニウム塩は、式（５）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物である、請求項１又は請求項２に記載の洗浄剤組成物。
（式（３）中、Ｒ８は、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基、－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ３基、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２基、又は炭素数１～４の鎖状炭化水素基を示し、Ｒ９は、水素原子、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２基、又は－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ３基を示し、Ｒ１０は、水素原子、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基、又はメチル基を示し、式（４）中、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、式（５）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４は、それぞれ独立に炭素数１～２の炭化水素基を示す。）
前記親水性第４級アンモニウム塩は、式（５）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物である、請求項１又は請求項２に記載の洗浄剤組成物。
【化2】
（式（３）中、Ｒ８は、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基、－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ３基、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２基、又は炭素数１～４の鎖状炭化水素基を示し、Ｒ９は、水素原子、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２基、又は－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ３基を示し、Ｒ１０は、水素原子、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基、又はメチル基を示し、式（４）中、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、式（５）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４は、それぞれ独立に炭素数１～２の炭化水素基を示す。）
【請求項10】
前記親水性含窒素有機化合物は、モノイソプロパノールアミン、３，３’－ジアミノ－Ｎ－メチルジプロピルアミン、３，３’－ジアミノジプロピルアミン、Ｎ－エチルエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、ジエタノールアミン、Ｎ－ｎ－ブチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、及び２－メチルイミダゾールからなる群より選択される少なくとも１種の親水性含窒素有機化合物であり、
前記親水性第４級アンモニウム塩は、水酸化テトラエチルアンモニウムである、請求項９に記載の洗浄剤組成物。
前記親水性第４級アンモニウム塩は、水酸化テトラエチルアンモニウムである、請求項９に記載の洗浄剤組成物。
【請求項11】
請求項１又は請求項２に記載の洗浄剤組成物用の原液であって、
前記親水性グリコールエーテル化合物の含有率は、４０質量％以上９８．８質量％以下であり、
前記有機酸の含有率は、０．１質量％以上２０質量％以下であり、
前記第１化合物の含有率は、１．１質量％以上４０質量％以下であり、
水で１．１倍以上２０倍以下に希釈して用いられる、洗浄剤組成物用の原液。
前記親水性グリコールエーテル化合物の含有率は、４０質量％以上９８．８質量％以下であり、
前記有機酸の含有率は、０．１質量％以上２０質量％以下であり、
前記第１化合物の含有率は、１．１質量％以上４０質量％以下であり、
水で１．１倍以上２０倍以下に希釈して用いられる、洗浄剤組成物用の原液。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、洗浄剤組成物、及び洗浄剤組成物用の原液に関する。
【背景技術】
【0002】
従来から、集積回路（ＩＣ）及びコンデンサ等の電子部品をプリント基板、カメラモジュール部品等にはんだ付けする際に、ソルダペーストからフラックスが飛散し、電極の周囲に残渣として付着することが知られている（以下、上述のフラックスの残渣を「フラックス残渣」という場合がある。）。
【0003】
フラックス残渣は、はんだ接合部における腐食等の原因となるほか、ワイヤボンディングを行う工程での接合不良及び、樹脂封止をする工程におけるモールド樹脂との密着不良等の原因となりうる。そのため、フラックス残渣は洗浄剤で除去する必要があり、従来から種々の洗浄剤が提案されている（特許文献１、特許文献２、及び特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開平０５－１０５８９９号公報
【特許文献2】特開２００２－２０１４９２号公報
【特許文献3】特開平０５－０４３８９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
近年、洗浄剤組成物において、フラックス残渣の洗浄性及び取り扱い性の向上が求められている。また、環境への安全性の観点から、洗浄剤組成物において、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）の低減が求められている。しかしながら、従来の洗浄剤組成物においては、フラックス残渣の洗浄性及び取り扱い性の向上と、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）の低減とを兼備することが困難な場合があった。また、フラックス残渣の洗浄性及び取り扱い性に優れ、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が低減されている場合であっても、洗浄剤組成物に含まれる有機酸によって、洗浄対象物に含まれる金属（例えば、亜鉛（Ｚｎ）、鉄（Ｆｅ））の腐食（言い換えれば「金属影響」）を生じ易い場合があった。
【0006】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、フラックス洗浄性及び取り扱い性に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が低減された洗浄剤組成物、及び洗浄剤組成物用の原液を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本開示の一態様に係る洗浄剤組成物は、親水性グリコールエーテル化合物と、有機酸と、第１化合物と、水とを含む洗浄剤組成物であって、
該第１化合物は、親水性含窒素有機化合物及び／又は親水性第４級アンモニウム塩であり、
該水の含有率は、２０質量％以上であり、
該有機酸に対する該第１化合物のモル比は、１以上３５以下である。
該第１化合物は、親水性含窒素有機化合物及び／又は親水性第４級アンモニウム塩であり、
該水の含有率は、２０質量％以上であり、
該有機酸に対する該第１化合物のモル比は、１以上３５以下である。
【0008】
本開示の一態様に係る洗浄剤組成物用の原液は、上記の洗浄剤組成物用の原液であって、
該親水性グリコールエーテル化合物の含有率は、４０質量％以上９８．８質量％以下であり、
該有機酸の含有率は、０．１質量％以上２０質量％以下であり、
該第１化合物の含有率は、１．１質量％以上４０質量％以下であり、
水で１．１倍以上２０倍以下に希釈して用いられる。
該親水性グリコールエーテル化合物の含有率は、４０質量％以上９８．８質量％以下であり、
該有機酸の含有率は、０．１質量％以上２０質量％以下であり、
該第１化合物の含有率は、１．１質量％以上４０質量％以下であり、
水で１．１倍以上２０倍以下に希釈して用いられる。
【発明の効果】
【0009】
本発明によれば、フラックス洗浄性及び取り扱い性に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が低減された洗浄剤組成物、及び洗浄剤組成物用の原液を提供することが可能になる。
【発明を実施するための形態】
【0010】
［本開示の実施形態の説明］
最初に本開示の実施態様を列記して説明する。
［１］本開示の洗浄剤組成物は、
親水性グリコールエーテル化合物と、有機酸と、第１化合物と、水とを含む洗浄剤組成物であって、
前記第１化合物は、親水性含窒素有機化合物及び／又は親水性第４級アンモニウム塩であり、
前記水の含有率は、２０質量％以上であり、
前記有機酸に対する前記第１化合物のモル比は、１以上３５以下である。
最初に本開示の実施態様を列記して説明する。
［１］本開示の洗浄剤組成物は、
親水性グリコールエーテル化合物と、有機酸と、第１化合物と、水とを含む洗浄剤組成物であって、
前記第１化合物は、親水性含窒素有機化合物及び／又は親水性第４級アンモニウム塩であり、
前記水の含有率は、２０質量％以上であり、
前記有機酸に対する前記第１化合物のモル比は、１以上３５以下である。
【0011】
これによって、フラックス洗浄性及び取り扱い性に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が低減された洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【0012】
［２］上記［１］において、前記洗浄剤組成物のｐＨは８．０以上１２．０以下であることが好ましい。これによって、フラックス洗浄性及び取り扱い性に更に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が更に低減された洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【0013】
［３］上記［１］又は［２］において、前記有機酸の含有率は、０．１質量％以上４．０質量％以下であり、
前記第１化合物の含有率は、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましい。これによって、フラックス洗浄性及び取り扱い性に更に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が更に低減された洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
前記第１化合物の含有率は、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましい。これによって、フラックス洗浄性及び取り扱い性に更に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が更に低減された洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【0014】
［４］上記［１］から［３］のいずれかにおいて、前記洗浄剤組成物は、２５℃及び５０℃の条件下で外観上均一であることが好ましい。これによって、フラックス洗浄性及び取り扱い性に更に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が更に低減された洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【0015】
［５］上記［１］から［４］のいずれかにおいて、前記有機酸は、１分子中に１つ以上のカルボキシ基を有する有機酸、又は１分子中に１つ以上のホスホン酸基を有する有機酸であることが好ましい。これによって、フラックス洗浄性及び取り扱い性に更に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が更に低減された洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【0016】
［６］上記［１］から［５］のいずれかにおいて、前記親水性グリコールエーテル化合物は、式（１）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物、又は式（２）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物であることが好ましい。
（式（１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、又はエチル基を示し、Ｒ４は、炭素数１～１１の鎖状及び／又は環状の炭化水素基を示し、前記炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換わっていてもよく、式（２）中、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に水素原子又はメトキシ基を示し、前記Ｒ５及び前記Ｒ６のいずれかはメトキシ基であり、Ｒ７は水素原子又はメチル基を示す。）これによって、取り扱い性に更に優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【化1】
（式（１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、又はエチル基を示し、Ｒ４は、炭素数１～１１の鎖状及び／又は環状の炭化水素基を示し、前記炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換わっていてもよく、式（２）中、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に水素原子又はメトキシ基を示し、前記Ｒ５及び前記Ｒ６のいずれかはメトキシ基であり、Ｒ７は水素原子又はメチル基を示す。）これによって、取り扱い性に更に優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【0017】
［７］上記［６］において、前記親水性グリコールエーテル化合物は、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、２－メトキシブタノール、３－メトキシブタノール、３－メトキシ－３－メチルブタノール、及びプロピルセロソルブからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であることが好ましい。これによって、取り扱い性に更に優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【0018】
［８］上記［１］から［７］のいずれかにおいて、前記有機酸は、親水性酸及び／又は疎水性酸であり、
前記親水性酸は、ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸、グリコール酸、プロピオン酸、２－ホスホノブタン－１，２，４－トリカルボン酸、１－ヒドロキシエタン－１，１－ジホスホン酸、グリシン、フィチン酸、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－４－カルボン酸、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－カルボン酸、及びｐ－トルエンスルホン酸からなる群より選択される少なくとも１種の親水性酸であり、
前記疎水性酸は、ジエチレントリアミン五酢酸、ビシン、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、アレンドロン酸、及び１－アミノ－２－ナフトール－４－スルホン酸からなる群より選択される少なくとも１種の疎水性酸であることが好ましい。これによって、フラックス洗浄性及び取り扱い性に更に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が更に低減された洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
前記親水性酸は、ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸、グリコール酸、プロピオン酸、２－ホスホノブタン－１，２，４－トリカルボン酸、１－ヒドロキシエタン－１，１－ジホスホン酸、グリシン、フィチン酸、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－４－カルボン酸、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－カルボン酸、及びｐ－トルエンスルホン酸からなる群より選択される少なくとも１種の親水性酸であり、
前記疎水性酸は、ジエチレントリアミン五酢酸、ビシン、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、アレンドロン酸、及び１－アミノ－２－ナフトール－４－スルホン酸からなる群より選択される少なくとも１種の疎水性酸であることが好ましい。これによって、フラックス洗浄性及び取り扱い性に更に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が更に低減された洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【0019】
［９］上記［１］から［８］のいずれかにおいて、
前記親水性含窒素有機化合物は、式（３）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物、又は式（４）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物であり、
前記親水性第４級アンモニウム塩は、式（５）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物であることが好ましい。
（式（３）中、Ｒ８は、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基、－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ３基、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２基、又は炭素数１～４の鎖状炭化水素基を示し、Ｒ９は、水素原子、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２基、又は－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ３基を示し、Ｒ１０は、水素原子、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基、又はメチル基を示し、式（４）中、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、式（５）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４は、それぞれ独立に炭素数１～２の炭化水素基を示す。）これによって、フラックス洗浄性及び取り扱い性に更に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が更に低減された洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
前記親水性含窒素有機化合物は、式（３）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物、又は式（４）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物であり、
前記親水性第４級アンモニウム塩は、式（５）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物であることが好ましい。
【化2】
（式（３）中、Ｒ８は、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基、－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ３基、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２基、又は炭素数１～４の鎖状炭化水素基を示し、Ｒ９は、水素原子、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２基、又は－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ３基を示し、Ｒ１０は、水素原子、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基、又はメチル基を示し、式（４）中、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、式（５）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４は、それぞれ独立に炭素数１～２の炭化水素基を示す。）これによって、フラックス洗浄性及び取り扱い性に更に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が更に低減された洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【0020】
［１０］上記［９］において、前記親水性含窒素有機化合物は、モノイソプロパノールアミン、３，３’－ジアミノ－Ｎ－メチルジプロピルアミン、３，３’－ジアミノジプロピルアミン、Ｎ－エチルエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、ジエタノールアミン、Ｎ－ｎ－ブチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、及び２－メチルイミダゾールからなる群より選択される少なくとも１種の親水性含窒素有機化合物であり、
前記親水性第４級アンモニウム塩は、水酸化テトラエチルアンモニウムであることが好ましい。これによって、フラックス洗浄性及び取り扱い性に更に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が更に低減された洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
前記親水性第４級アンモニウム塩は、水酸化テトラエチルアンモニウムであることが好ましい。これによって、フラックス洗浄性及び取り扱い性に更に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が更に低減された洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【0021】
［１１］また、本開示の洗浄剤組成物用の原液は、上述の［１］から［１０］に記載の洗浄剤組成物用の原液であって、
前記親水性グリコールエーテル化合物の含有率は、４０質量％以上９８．８質量％以下であり、
前記有機酸の含有率は、０．１質量％以上２０質量％以下であり、
前記第１化合物の含有率は、１．１質量％以上４０質量％以下であり、
水で１．１倍以上２０倍以下に希釈して用いられる。
前記親水性グリコールエーテル化合物の含有率は、４０質量％以上９８．８質量％以下であり、
前記有機酸の含有率は、０．１質量％以上２０質量％以下であり、
前記第１化合物の含有率は、１．１質量％以上４０質量％以下であり、
水で１．１倍以上２０倍以下に希釈して用いられる。
【0022】
これによって、フラックス洗浄性及び取り扱い性に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が低減された洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【0023】
［本開示の実施形態の詳細］
本開示の一実施形態（以下、「本実施形態」とも記す。）について説明する。ただし、本実施形態はこれに限定されるものではない。本明細書において「Ａ～Ｚ」という形式の表記は、範囲の上限下限（すなわちＡ以上Ｚ以下）を意味する。Ａにおいて単位の記載がなく、Ｚにおいてのみ単位が記載されている場合、Ａの単位とＺの単位とは同じである。
本開示の一実施形態（以下、「本実施形態」とも記す。）について説明する。ただし、本実施形態はこれに限定されるものではない。本明細書において「Ａ～Ｚ」という形式の表記は、範囲の上限下限（すなわちＡ以上Ｚ以下）を意味する。Ａにおいて単位の記載がなく、Ｚにおいてのみ単位が記載されている場合、Ａの単位とＺの単位とは同じである。
【0024】
［実施形態１：洗浄剤組成物］
本開示の一実施形態に係る洗浄剤組成物について説明する。
本開示の一実施形態（以下、「本実施形態」とも記す。）の洗浄剤組成物は、
親水性グリコールエーテル化合物と、有機酸と、第１化合物と、水とを含む洗浄剤組成物であって、
該第１化合物は、親水性含窒素有機化合物及び／又は親水性第４級アンモニウム塩であり、
該水の含有率は、２０質量％以上であり、
該有機酸に対する該第１化合物のモル比は、１以上３５以下である。
本開示の一実施形態に係る洗浄剤組成物について説明する。
本開示の一実施形態（以下、「本実施形態」とも記す。）の洗浄剤組成物は、
親水性グリコールエーテル化合物と、有機酸と、第１化合物と、水とを含む洗浄剤組成物であって、
該第１化合物は、親水性含窒素有機化合物及び／又は親水性第４級アンモニウム塩であり、
該水の含有率は、２０質量％以上であり、
該有機酸に対する該第１化合物のモル比は、１以上３５以下である。
【0025】
本開示によって、フラックス洗浄性及び取り扱い性に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が低減された洗浄剤組成物を提供することが可能になる。その理由は、以下の通りと推察される。
【0026】
（ａ１）本開示の洗浄剤組成物は、親水性グリコールエーテル化合物と、有機酸と、第１化合物と、水とを含む洗浄剤組成物であって、該第１化合物は、親水性含窒素有機化合物及び／又は親水性第４級アンモニウム塩であり、該有機酸に対する該第１化合物のモル比は、１以上３５以下である。有機酸と、該第１化合物（親水性含窒素有機化合物及び／又は親水性第４級アンモニウム塩）との組合せによって、極性的な環境が作られ易い。その為、洗浄の際に有機酸と形成される塩の安定性が高まる。その結果として、該第１化合物によるフラックス残渣の膨潤、溶解作用だけでなく、該塩が形成されることによって該有機酸のフラックス洗浄性が向上すると共に、有機酸が洗浄対象物に含まれる金属に吸着し難くなるため金属影響が低減される。
【0027】
また、該親水性グリコールエーテルと該第１化合物とは親水性である為、該洗浄剤組成物において、疎水性化合物の水への溶解性を高めることができる。加えて、上述の通り、該有機酸と、該第１化合物（親水性含窒素有機化合物及び／又は親水性第４級アンモニウム塩）との組合せによって、該第１化合物と有機酸とによって塩が形成され、該第１化合物の親水性が更に向上する。その為、該洗浄剤組成物に疎水性化合物が添加された場合であっても、該洗浄剤組成物全体が均一になり易く、該洗浄剤組成物は取り扱い性に優れる。なお本願において、分離に起因する撹拌等の追加作業を要しない場合や、洗浄剤組成物の安全性が低いことに起因する使用の制限が生じない場合に、洗浄剤組成物の「取り扱い性」が優れていることを示す。
【0028】
（ｂ１）更に、該洗浄剤組成物において、該水の含有率は、２０質量％以上である。これによって、該洗浄剤組成物中の水の含有率が十分に高い為、ＶＯＣを低減することができる。
【0029】
以上により、本実施形態に係る洗浄剤組成物は、フラックス洗浄性及び取り扱い性に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）を低減することができる。
【0030】
≪洗浄剤組成物の組成≫
＜親水性グリコールエーテル化合物＞
上記洗浄剤組成物は、親水性グリコールエーテル化合物を含む。これによって、上記洗浄剤組成物において水との分離を抑制することができる。なお、本実施形態において「グリコールエーテル化合物」とは、二価アルコールのエーテル化合物を意味する。本実施形態において、「親水性」とは、２０℃の環境下において、対象の化合物に対する水の溶解度が５０質量％を超える性質を意味する。ちなみに「疎水性」とは、２０℃の環境下において、対象の化合物に対する水の溶解度が５０質量％以下である性質を意味する。上記親水性のグリコールエーテル化合物は、公知の出発物質から公知の方法によって合成してもよい。上記親水性のグリコールエーテル化合物は、市販品をそのまま用いてもよい。
＜親水性グリコールエーテル化合物＞
上記洗浄剤組成物は、親水性グリコールエーテル化合物を含む。これによって、上記洗浄剤組成物において水との分離を抑制することができる。なお、本実施形態において「グリコールエーテル化合物」とは、二価アルコールのエーテル化合物を意味する。本実施形態において、「親水性」とは、２０℃の環境下において、対象の化合物に対する水の溶解度が５０質量％を超える性質を意味する。ちなみに「疎水性」とは、２０℃の環境下において、対象の化合物に対する水の溶解度が５０質量％以下である性質を意味する。上記親水性のグリコールエーテル化合物は、公知の出発物質から公知の方法によって合成してもよい。上記親水性のグリコールエーテル化合物は、市販品をそのまま用いてもよい。
【0031】
上記親水性グリコールエーテル化合物は、式（１）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物、又は式（２）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物であることが好ましい。
（式（１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、又はエチル基を示し、Ｒ４は、炭素数１～１１の鎖状及び／又は環状の炭化水素基を示し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換わっていてもよく、式（２）中、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に水素原子又はメトキシ基を示し、該Ｒ５及び該Ｒ６のいずれかはメトキシ基であり、Ｒ７は水素原子又はメチル基を示す。）
【化3】
（式（１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、又はエチル基を示し、Ｒ４は、炭素数１～１１の鎖状及び／又は環状の炭化水素基を示し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換わっていてもよく、式（２）中、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に水素原子又はメトキシ基を示し、該Ｒ５及び該Ｒ６のいずれかはメトキシ基であり、Ｒ７は水素原子又はメチル基を示す。）
【0032】
上記親水性グリコールエーテル化合物は、エチレングリコールモノメチルエーテル（ＭＧ）、エチレングリコールモノブチルエーテル（ＢＣ）、エチレングリコールモノアリルエーテル（ＡＧ）、プロピレングリコールモノプロピルエーテル（ＰＦＧ）、エチレングリコールモノイソブチルエーテル（ｉＢＧ）、エチレングリコールモノ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル（ＥＴＢ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＭＦＧ）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＭＦＤＧ）、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＭＦＴＧ）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（ＭＤＧ）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ＢＤＧ）、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル（ｉＢＤＧ）、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル（ｉＰＤＧ）、ジエチレングリコールモノベンジルエーテル（ＢｚＤＧ）、エチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＧ）、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル（ＭＥＤＧ）、ジエチレングリコールジエチルエーテル（ＤＥＤＧ）、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル（ＩＰＤＭ）、トリエチレングリコールモノメチルエーテル（ＭＴＧ）、トリエチレングリコールモノブチルエーテル（ＢＴＧ）、トリエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＴＧ）、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル（ＨｅＤＧ）、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル（ｉＰＧ）、２－メトキシブタノール（２ＭＢ）、３－メトキシブタノール（３ＭＢ）、３－メトキシ－３－メチルブタノール（ＭＭＢ）、及びプロピルセロソルブ（ＰＣ）からなる群より選択される少なくとも１種の化合物であることが好ましく、プロピルセロソルブ、３－メトキシ－３－メチルブタノール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、及びトリエチレングリコールモノブチルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であることがより好ましい。
【0033】
上記親水性グリコールエーテル化合物の含有率は、５質量％以上７８質量％以下であることが好ましい。これによって、フラックス残渣に対する洗浄性を更に向上することができる。該親水性グリコールエーテル化合物の含有率の下限は、５質量％以上であることが好ましく、１５質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることが更に好ましい。該親水性グリコールエーテル化合物の含有率の上限は、７８質量％以下であることが好ましく、５０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以下であることが更に好ましい。該親水性グリコールエーテル化合物の含有率は、５質量％以上７８質量％以下であることが好ましく、１５質量％以上５０質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以上３０質量％以下であることが更に好ましい。
【0034】
上記親水性グリコールエーテル化合物の含有率は、ガスクロマトグラフィーによる分析で求めることができる。ガスクロマトグラフィーによる分析の条件は以下の通りである。
（分析の条件）
装置：ガスクロマトグラフ ＧＣ－１４Ｂ（株式会社島津製作所製）
検出器：熱伝導度型検出器（ＴＣＤ）
カラム：Ｔｈｅｒｍｏｎ－３０００（信和化工株式会社製）
気化室温度：１６０℃
検出器温度：１６０℃
（分析の条件）
装置：ガスクロマトグラフ ＧＣ－１４Ｂ（株式会社島津製作所製）
検出器：熱伝導度型検出器（ＴＣＤ）
カラム：Ｔｈｅｒｍｏｎ－３０００（信和化工株式会社製）
気化室温度：１６０℃
検出器温度：１６０℃
【0035】
＜有機酸＞
上記洗浄剤組成物は、有機酸を含む。本実施形態において「有機酸」とは、カルボキシ基、ホスホン酸基、スルホ基等を含む酸性の有機化合物を意味する。上記有機酸は、公知の出発物質から公知の方法によって合成してもよい。上記有機酸は、市販品をそのまま用いてもよい。
上記洗浄剤組成物は、有機酸を含む。本実施形態において「有機酸」とは、カルボキシ基、ホスホン酸基、スルホ基等を含む酸性の有機化合物を意味する。上記有機酸は、公知の出発物質から公知の方法によって合成してもよい。上記有機酸は、市販品をそのまま用いてもよい。
【0036】
上記有機酸は、１分子中に１つ以上のカルボキシ基を有する有機酸、又は１分子中に１つ以上のホスホン酸基を有する有機酸であることが好ましい。これによって、フラックス残渣中の金属塩にキレート効果を発揮し、かつ第１化合物と安定的な塩を形成する為、本実施形態に係る洗浄剤組成物は、フラックス洗浄性及び取り扱い性に優れ、且つ金属影響を低減することができる。
【0037】
上記有機酸は、親水性酸及び／又は疎水性酸であり、該親水性酸は、ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸、グリコール酸、プロピオン酸、２－ホスホノブタン－１，２，４－トリカルボン酸、１－ヒドロキシエタン－１，１－ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）、グリシン、フィチン酸、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－４－カルボン酸、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－カルボン酸、及びｐ－トルエンスルホン酸からなる群より選択される少なくとも１種の親水性酸であり、該疎水性酸は、ジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）、ビシン（ＤＨＥＧ）、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）（ＥＤＴＭＰ）、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、アレンドロン酸、及び１－アミノ－２－ナフトール－４－スルホン酸からなる群より選択される少なくとも１種の疎水性酸であることが好ましい。これによって、フラックス残渣中の金属塩にキレート効果を発揮し、かつ第１化合物と安定的な塩を形成する為、本実施形態に係る洗浄剤組成物は、フラックス洗浄性及び取り扱い性に優れ、且つ金属影響を低減することができる。該有機酸は、親水性酸及び／又は疎水性酸であり、該親水性酸は、ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸、グリコール酸、プロピオン酸、２－ホスホノブタン－１，２，４－トリカルボン酸、１－ヒドロキシエタン－１，１－ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）、及びグリシン、フィチン酸、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－４－カルボン酸、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－カルボン酸、からなる群より選択される少なくとも１種の親水性酸であり、該疎水性酸は、ジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）、ビシン（ＤＨＥＧ）、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）（ＥＤＴＭＰ）、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、及びアレンドロン酸からなる群より選択される少なくとも１種の疎水性酸であることがより好ましい。これらの親水性酸及びこれらの疎水性酸は１分子中に１つ以上のカルボキシ基を有する有機酸、又は１分子中に１つ以上のホスホン酸基を有する有機酸であることから、フラックス残渣中の金属塩にキレート効果を発揮し、かつ第１化合物と安定的な塩を形成する為、本実施形態に係る洗浄剤組成物は、フラックス洗浄性及び取り扱い性に優れ、且つ金属影響を低減することができる。
【0038】
上記有機酸の含有率は、０．１質量％以上４．０質量％以下であることが好ましい。これによって、フラックス洗浄性及び取り扱い性に更に優れ、且つ金属影響を更に低減することができる。該有機酸の含有率の下限値は、０．１質量％以上であることが好ましく、０．３質量％以上であることがより好ましく、０．５質量％以上であることが更に好ましい。該有機酸の含有率の上限値は、４．０質量％以下であることが好ましく、２．０質量％以下であることがより好ましく、１．０質量％以下であることが更に好ましい。該有機酸の含有率は、０．１質量％以上４．０質量％以下であることが好ましく、０．３質量％以上２．０質量％以下であることがより好ましく、０．５質量％以上１．０質量％以下であることが更に好ましい。
【0039】
上記有機酸の含有率は、電位差滴定法により求めることができる。該電位差滴定法による分析の条件は以下の通りである。
（条件）
装置：電位差自動滴定装置 Ｍｏｄｅｌ ＡＴ－７１０Ｍ（京都電子工業株式会社製）
測定温度：２０℃
（条件）
装置：電位差自動滴定装置 Ｍｏｄｅｌ ＡＴ－７１０Ｍ（京都電子工業株式会社製）
測定温度：２０℃
【0040】
＜第１化合物＞
上記洗浄剤組成物は、第１化合物を含み、該第１化合物は、親水性含窒素有機化合物及び／又は親水性第４級アンモニウム塩である。親水性含窒素有機化合物及び親水性第４級アンモニウム塩の鹸化作用によって、フラックスを構成する樹脂の分子構造が切断される結果、該樹脂が溶け易くなる。その為、フラックス洗浄性及び取り扱い性に更に優れ、且つ金属影響を更に低減することができる。なお、該「第１化合物」は、公知の出発物質から公知の方法によって合成してもよい。該「第１化合物」は、市販品をそのまま用いてもよい。
上記洗浄剤組成物は、第１化合物を含み、該第１化合物は、親水性含窒素有機化合物及び／又は親水性第４級アンモニウム塩である。親水性含窒素有機化合物及び親水性第４級アンモニウム塩の鹸化作用によって、フラックスを構成する樹脂の分子構造が切断される結果、該樹脂が溶け易くなる。その為、フラックス洗浄性及び取り扱い性に更に優れ、且つ金属影響を更に低減することができる。なお、該「第１化合物」は、公知の出発物質から公知の方法によって合成してもよい。該「第１化合物」は、市販品をそのまま用いてもよい。
【0041】
上記親水性含窒素有機化合物は、式（３）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物、又は式（４）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物であることが好ましい。
（式（３）中、Ｒ８は、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基、－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ３基、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２基、又は炭素数１～４の鎖状炭化水素基を示し、Ｒ９は、水素原子、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２基、又は－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ３基を示し、Ｒ１０は、水素原子、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基、又はメチル基を示し、式（４）中、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。）
【化4】
（式（３）中、Ｒ８は、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基、－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ３基、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２基、又は炭素数１～４の鎖状炭化水素基を示し、Ｒ９は、水素原子、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２基、又は－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ３基を示し、Ｒ１０は、水素原子、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ基、又はメチル基を示し、式（４）中、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。）
【0042】
上記親水性含窒素有機化合物は、モノイソプロパノールアミン（第一級アミン）、３，３’－ジアミノ－Ｎ－メチルジプロピルアミン（第一級アミン）、３，３’－ジアミノジプロピルアミン（第一級アミン）、Ｎ－エチルエタノールアミン（第二級アミン）、ジイソプロパノールアミン（第二級アミン）、ジエタノールアミン（第二級アミン）、Ｎ－ｎ－ブチルジエタノールアミン（第三級アミン）、トリエタノールアミン（第三級アミン）、メチルジエタノールアミン（第三級アミン）、及び２－メチルイミダゾールからなる群より選択される少なくとも１種の親水性含窒素有機化合物であることが好ましい。これによって、フラックス残渣を膨潤、溶解する為、フラックス洗浄性及び取り扱い性に更に優れ、且つ金属影響を更に低減することができる。
【0043】
上記親水性第４級アンモニウム塩は、式（５）で表され、且つ２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える化合物であることが好ましい。
（式（５）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４は、それぞれ独立に炭素数１～２の炭化水素基を示す。）
【化5】
（式（５）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４は、それぞれ独立に炭素数１～２の炭化水素基を示す。）
【0044】
上記親水性第４級アンモニウム塩は、水酸化テトラエチルアンモニウム（ＴＥＡＨ）であることが好ましい。これによって、フラックス残渣を膨潤、溶解する為、フラックス洗浄性及び取り扱い性に更に優れ、且つ金属影響を更に低減することができる。
【0045】
上記第１化合物の含有率は、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましい。該含有率が１質量％未満の場合、洗浄性の低下及び金属影響が生じ易くなる傾向があり、該含有率が２０質量％超の場合、ｐＨが上昇し作業者の安全性が損なわれる易くなる傾向がある。その為、上記第１化合物の含有率を上記範囲に調整することで、フラックス洗浄性及び取り扱い性に更に優れ、且つ金属影響を更に低減することができる。該第１化合物の含有率の下限値は、１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上であることがより好ましく、４質量％以上であることが更に好ましい。該第１化合物の含有率の上限値は、２０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以下であることが更に好ましい。該第１化合物の含有率は、１質量％以上２０％以下であることが好ましく、２質量％以上１５質量％以下であることがより好ましく、４質量％以上１０質量％以下であることが更に好ましい。
【0046】
上記第１化合物の含有率は、電位差滴定法により求めることができる。該電位差滴定法による分析の条件は、上述の「有機酸の含有率」の分析条件と同一である。
【0047】
上記有機酸に対する上記第１化合物のモル比は、１以上３５以下である。これによって、該有機酸に対する該第１化合物の量が十分である為、該有機酸が該第１化合物と結合することにより、該有機酸による洗浄対象物中の金属への影響を防ぐことができる。該モル比の下限値は、１以上であることが好ましく、５以上であることがより好ましく、１０以上であることが更に好ましい。該モル比の上限値は、３５以下であることが好ましく、３０以下であることがより好ましく、２５以下であることが更に好ましい。該モル比は、１以上３５以下であることが好ましく、５以上３０以下であることがより好ましく、１０以上２５以下であることが更に好ましい。
【0048】
該モル比は、上述の方法により求められた「第１化合物の含有率」と、上述の方法により求められた「有機酸の含有率」とに基づいて算出することにより求めることができる。
【0049】
＜水＞
上記洗浄剤組成物は、水を含む。上記水は、各種工業製品の原料として用いられる水、水道水等であれば特に制限はない。上記水は、蒸留水であってもよいし、イオン交換水であってもよい。本実施形態の一側面において、上記水は、その電気伝導率が１～３００μＳ／ｃｍであってもよいし、１～１００μＳ／ｃｍであってもよい。
上記洗浄剤組成物は、水を含む。上記水は、各種工業製品の原料として用いられる水、水道水等であれば特に制限はない。上記水は、蒸留水であってもよいし、イオン交換水であってもよい。本実施形態の一側面において、上記水は、その電気伝導率が１～３００μＳ／ｃｍであってもよいし、１～１００μＳ／ｃｍであってもよい。
【0050】
上記水の含有率は、２０質量％以上である。これによって、本実施形態に係る洗浄剤組成物においてＶＯＣを低減することができる。上記水の含有率の下限値は、２５質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、６０質量％以上であることが更に好ましい。上記水の含有率の上限値は、９３質量％以下であることが好ましく、８０質量％以下であることがより好ましく、７５質量％以下であることが更に好ましい。上記水の含有率は、２０質量％以上９３質量％以下であることが好ましく、４０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましく、６０質量％以上７５質量％以下であることが更に好ましい。
【0051】
上記水の含有率は、カールフィッシャー水分計による分析で求めることができる。カールフィッシャー水分計による分析の条件は以下の通りである。
（カールフィッシャー水分計の分析条件）
装置：カールフィッシャー水分計 ＭＫＳ－５００（京都電子工業株式会社製）
測定方法：容量滴定法
測定温度：２０℃
（カールフィッシャー水分計の分析条件）
装置：カールフィッシャー水分計 ＭＫＳ－５００（京都電子工業株式会社製）
測定方法：容量滴定法
測定温度：２０℃
【0052】
＜その他の成分＞
本実施形態に係る洗浄剤組成物は、本発明の効果が奏される限り、その他の成分を更に含んでいてもよい。該その他の成分としては、例えば、界面活性剤、防錆剤、ｐＨ調整剤、キレート剤、増粘剤、湿潤剤、蒸発遅延剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、顔料、香料及び防腐剤等が挙げられる。
本実施形態に係る洗浄剤組成物は、本発明の効果が奏される限り、その他の成分を更に含んでいてもよい。該その他の成分としては、例えば、界面活性剤、防錆剤、ｐＨ調整剤、キレート剤、増粘剤、湿潤剤、蒸発遅延剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、顔料、香料及び防腐剤等が挙げられる。
【0053】
≪洗浄剤組成物の特性≫
＜ｐＨ＞
上記洗浄剤組成物のｐＨは８．０以上１２．０以下であることが好ましい。該ｐＨが８．０未満の場合、該洗浄剤組成物において洗浄性の低下及び金属影響が認められ易くなる傾向があり、該ｐＨが１２．０超の場合、作業者の安全性が損なわれ易くなる傾向がある。その為、上記洗浄剤組成物のｐＨを上記範囲に調整することで、フラックス洗浄性及び取り扱い性に更に優れ、且つ金属影響を更に低減することができる。上記洗浄剤組成物のｐＨの下限値は、８．０以上であることが好ましく、８．５以上であることがより好ましく、９．０以上であることが更に好ましい。上記洗浄剤組成物のｐＨの上限値は、１２．０以下であることが好ましく、１１．０以下であることがより好ましく、１０．０以下であることが更に好ましい。上記洗浄剤組成物のｐＨは、８．０以上１２．０以下であることが好ましく、８．５以上１１．０以下であることがより好ましく、９．０以上１０．０以下であることが更に好ましい。
＜ｐＨ＞
上記洗浄剤組成物のｐＨは８．０以上１２．０以下であることが好ましい。該ｐＨが８．０未満の場合、該洗浄剤組成物において洗浄性の低下及び金属影響が認められ易くなる傾向があり、該ｐＨが１２．０超の場合、作業者の安全性が損なわれ易くなる傾向がある。その為、上記洗浄剤組成物のｐＨを上記範囲に調整することで、フラックス洗浄性及び取り扱い性に更に優れ、且つ金属影響を更に低減することができる。上記洗浄剤組成物のｐＨの下限値は、８．０以上であることが好ましく、８．５以上であることがより好ましく、９．０以上であることが更に好ましい。上記洗浄剤組成物のｐＨの上限値は、１２．０以下であることが好ましく、１１．０以下であることがより好ましく、１０．０以下であることが更に好ましい。上記洗浄剤組成物のｐＨは、８．０以上１２．０以下であることが好ましく、８．５以上１１．０以下であることがより好ましく、９．０以上１０．０以下であることが更に好ましい。
【0054】
上記洗浄剤組成物のｐＨは、以下の方法により求めることができる。すなわち、ｐＨ計（Ｄｏｃｕ－ＰＨ ザルトリウス株式会社製）を用いて、測定温度２５℃の条件で測定することにより求めることができる。
【0055】
＜外観＞
前記洗浄剤組成物は、２５℃及び５０℃の条件下で外観上均一であることが好ましい。これによって、保管、運送、使用時に撹拌等の特別な制限なく運用し易くなる為、取り扱い性に更に優れる。ここで「外観上均一である」とは、静置時に上記洗浄剤組成物が外観上２層以上に分離しないことを意味する。「静置時」とは、上記洗浄剤組成物が、重力以外の外力を受けていない状態を４時間維持した時を意味する。より具体的には、上記「静置時」は上記洗浄剤組成物が、振動、回転及び撹拌されていない状態を４時間維持した時と把握することもできる。本実施形態の一側面において、上記洗浄剤組成物は、２５℃及び５０℃以外の温度において、外観上均一であってもよいし、外観上２層以上に分離していてもよい。
前記洗浄剤組成物は、２５℃及び５０℃の条件下で外観上均一であることが好ましい。これによって、保管、運送、使用時に撹拌等の特別な制限なく運用し易くなる為、取り扱い性に更に優れる。ここで「外観上均一である」とは、静置時に上記洗浄剤組成物が外観上２層以上に分離しないことを意味する。「静置時」とは、上記洗浄剤組成物が、重力以外の外力を受けていない状態を４時間維持した時を意味する。より具体的には、上記「静置時」は上記洗浄剤組成物が、振動、回転及び撹拌されていない状態を４時間維持した時と把握することもできる。本実施形態の一側面において、上記洗浄剤組成物は、２５℃及び５０℃以外の温度において、外観上均一であってもよいし、外観上２層以上に分離していてもよい。
【0056】
≪洗浄剤組成物の製造方法≫
本実施形態に係る洗浄剤組成物の製造方法は、上記親水性グリコールエーテル化合物と、上記有機酸と、上記第１化合物と、上記水とを準備する工程と、該親水性グリコールエーテル化合物と、該有機酸と、該第１化合物とを、該水に添加する工程を含む。当該添加する工程は、どのような手法を用いてもよい。添加する工程としては、例えば、フラスコに該親水性グリコールエーテル化合物、該有機酸、該第１化合物、及び該水を加えること、及び化学プラント等において、工業的規模で該親水性グリコールエーテル化合物、該有機酸、該第１化合物、及び該水を加えること等が挙げられる。
本実施形態に係る洗浄剤組成物の製造方法は、上記親水性グリコールエーテル化合物と、上記有機酸と、上記第１化合物と、上記水とを準備する工程と、該親水性グリコールエーテル化合物と、該有機酸と、該第１化合物とを、該水に添加する工程を含む。当該添加する工程は、どのような手法を用いてもよい。添加する工程としては、例えば、フラスコに該親水性グリコールエーテル化合物、該有機酸、該第１化合物、及び該水を加えること、及び化学プラント等において、工業的規模で該親水性グリコールエーテル化合物、該有機酸、該第１化合物、及び該水を加えること等が挙げられる。
【0057】
≪洗浄対象物の洗浄方法≫
本実施形態に係る洗浄対象物の洗浄方法は、
洗浄対象物の洗浄方法であって、上記洗浄剤組成物を上記洗浄対象物の表面又は隙間に接触させることを含む。
本実施形態に係る洗浄対象物の洗浄方法は、
洗浄対象物の洗浄方法であって、上記洗浄剤組成物を上記洗浄対象物の表面又は隙間に接触させることを含む。
【0058】
上記洗浄剤組成物を上記洗浄対象物の表面又は隙間に接触させる方法は特に制限されない。当該方法は、例えば、浸漬、塗布、及びスプレー又はシャワーによる噴霧などの方法によって、大気中、減圧下、又は加圧下で常温下又は加熱下で接触させることが挙げられる。浸漬によって上記洗浄剤組成物を上記洗浄対象物の表面又は隙間に接触させる場合、必要に応じて、撹拌処理、超音波処理、バブリング処理、揺動等の操作を行ってもよい。当該方法は、加温した上記洗浄剤組成物が投入された洗浄剤槽に、上記洗浄対象物を浸漬して、洗浄することが好ましい。浸漬する時間は、１分間～６０分間であることが好ましい。
【0059】
本実施形態の一側面において、上記洗浄対象物の隙間を洗浄する場合、撹拌されている上記洗浄剤組成物に上記洗浄対象物を浸漬することが好ましい。この場合、シャワー洗浄及び超音波洗浄のときと比較して、洗浄対象物への負荷が低減される傾向がある。
【0060】
本実施形態の洗浄対象物の洗浄方法は、上記洗浄剤組成物の温度を２０～７０℃とすることが好ましく、３０～６０℃とすることがより好ましく、４０～５０℃とすることが更に好ましい。
【0061】
その後、水、含水アルコール、又は含水グリコールエーテルによるリンスを行って、乾燥で洗浄剤組成物を、上記洗浄対象物から除去すればよい。
【0062】
本実施形態に係る洗浄剤組成物は、フラックス残渣を除去するために好適に用いることができる。すなわち、上記洗浄剤組成物は、フラックス洗浄用であることが好ましい。
【0063】
［実施形態２：洗浄剤組成物用の原液］
本開示の一実施形態に係る洗浄剤組成物用の原液について説明する。
本開示の一実施形態（以下、「本実施形態」とも記す。）の洗浄剤組成物用の原液は、
本実施形態１に係る洗浄剤組成物用の原液であって、
該親水性グリコールエーテル化合物の含有率は、４０質量％以上９８．８質量％以下であり、
該有機酸の含有率は、０．１質量％以上２０質量％以下であり、
該第１化合物の含有率は、１．１質量％以上４０質量％以下であり、
水で１．１倍以上２０倍以下に希釈して用いられる。
本開示の一実施形態に係る洗浄剤組成物用の原液について説明する。
本開示の一実施形態（以下、「本実施形態」とも記す。）の洗浄剤組成物用の原液は、
本実施形態１に係る洗浄剤組成物用の原液であって、
該親水性グリコールエーテル化合物の含有率は、４０質量％以上９８．８質量％以下であり、
該有機酸の含有率は、０．１質量％以上２０質量％以下であり、
該第１化合物の含有率は、１．１質量％以上４０質量％以下であり、
水で１．１倍以上２０倍以下に希釈して用いられる。
【0064】
本開示によって、フラックス洗浄性及び取り扱い性に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が低減された洗浄剤組成物を提供することが可能になる。なお、上記洗浄剤組成物用原液を上述の倍率（体積比率）で希釈することで、実施形態１に係る洗浄剤組成物を得ることができる。
【実施例0065】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0066】
≪洗浄剤組成物の作製≫
以下のようにして、試料１～試料３１、試料３３～試料５４、及び試料１０１～試料１０６、試料１１０、及び試料１１１に係る洗浄剤組成物を作製した。
以下のようにして、試料１～試料３１、試料３３～試料５４、及び試料１０１～試料１０６、試料１１０、及び試料１１１に係る洗浄剤組成物を作製した。
【0067】
＜準備する工程＞
試料１～試料３１、試料３３～試料５４、及び試料１０１～試料１０６、試料１１０、及び試料１１１に係る洗浄剤組成物を作製する為の原料として、以下の親水性グリコールエーテル化合物と、以下の有機酸と、以下の親水性含窒素有機化合物と、以下の第４級アンモニウム塩と、以下の水とを準備した。
（親水性グリコールエーテル化合物）
プロピルセロソルブ：ダウ・ケミカル日本株式会社製
３－メトキシ－３－メチルブタノール：株式会社クラレ製
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル：日本乳化剤株式会社製
ジエチレングリコールエチルメチルエーテル：日本乳化剤株式会社製
トリエチレングリコールモノブチルエーテル：日本乳化剤株式会社製
（有機酸）
ニトリロトリスメチレンホスホン酸（親水性酸）：キレスト株式会社製
クエン酸（親水性酸）：富士フイルム和光純薬株式会社製
リンゴ酸（親水性酸）：富士フイルム和光純薬株式会社製
グリコール酸（親水性酸）：ケマーズ株式会社製
プロピオン酸（親水性酸）：富士フイルム和光純薬株式会社製
２－ホスホノブタン－１，２，４－トリカルボン酸：キレスト株式会社製
ＨＥＤＰ（親水性酸）：キレスト株式会社製
グリシン（親水性酸）：富士フイルム和光純薬株式会社製
ｐ－トルエンスルホン酸一水和物（親水性酸）：富士フイルム和光純薬株式会社製
ＤＴＰＡ：キレスト株式会社製
ＤＨＥＧ：キレスト株式会社製
ＥＤＴＭＰ：キレスト株式会社製
ラウリン酸：富士フイルム和光純薬株式会社製
アレンドロン酸：東京化成工業株式会社製
１－アミノ－２－ナフトール－４－スルホン酸：富士フイルム和光純薬株式会社製
（親水性含窒素有機化合物）
モノイソプロパノールアミン（第一級アミン）：東京化成工業株式会社製
３，３’－ジアミノ－Ｎ－メチルジプロピルアミン（第一級アミン）：東京化成工業株式会社製
Ｎ－エチルエタノールアミン（第二級アミン）：日本乳化剤株式会社製
２－メチルイミダゾール：東京化成工業株式会社製
Ｎ－ｎ－ブチルジエタノールアミン（第三級アミン）：日本乳化剤株式会社製
トリエタノールアミン（第三級アミン）：東京化成工業株式会社製
（第４級アンモニウム塩）
ＴＥＡＨ：東京化成工業株式会社製
（疎水性含窒素有機化合物）
ジメチルステアリルアミン：富士フイルム和光純薬株式会社製
ｎ－ドデシルアミン：富士フイルム和光純薬株式会社製
ジ－ｎ－ブチルアミン：富士フイルム和光純薬株式会社製
１，２，３－ベンゾトリアゾール：東京化成工業株式会社製
（疎水性溶剤）
プロピレングリコールモノブチルエーテル：日本乳化剤株式会社製
ジプロピレングリコールジメチルエーテル：日本乳化剤株式会社製
ジプロピレングリコールモノブチルエーテル：日本乳化剤株式会社製
ベンジルアルコール：東京応化工業株式会社製
（水）
蒸留水
試料１～試料３１、試料３３～試料５４、及び試料１０１～試料１０６、試料１１０、及び試料１１１に係る洗浄剤組成物を作製する為の原料として、以下の親水性グリコールエーテル化合物と、以下の有機酸と、以下の親水性含窒素有機化合物と、以下の第４級アンモニウム塩と、以下の水とを準備した。
（親水性グリコールエーテル化合物）
プロピルセロソルブ：ダウ・ケミカル日本株式会社製
３－メトキシ－３－メチルブタノール：株式会社クラレ製
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル：日本乳化剤株式会社製
ジエチレングリコールエチルメチルエーテル：日本乳化剤株式会社製
トリエチレングリコールモノブチルエーテル：日本乳化剤株式会社製
（有機酸）
ニトリロトリスメチレンホスホン酸（親水性酸）：キレスト株式会社製
クエン酸（親水性酸）：富士フイルム和光純薬株式会社製
リンゴ酸（親水性酸）：富士フイルム和光純薬株式会社製
グリコール酸（親水性酸）：ケマーズ株式会社製
プロピオン酸（親水性酸）：富士フイルム和光純薬株式会社製
２－ホスホノブタン－１，２，４－トリカルボン酸：キレスト株式会社製
ＨＥＤＰ（親水性酸）：キレスト株式会社製
グリシン（親水性酸）：富士フイルム和光純薬株式会社製
ｐ－トルエンスルホン酸一水和物（親水性酸）：富士フイルム和光純薬株式会社製
ＤＴＰＡ：キレスト株式会社製
ＤＨＥＧ：キレスト株式会社製
ＥＤＴＭＰ：キレスト株式会社製
ラウリン酸：富士フイルム和光純薬株式会社製
アレンドロン酸：東京化成工業株式会社製
１－アミノ－２－ナフトール－４－スルホン酸：富士フイルム和光純薬株式会社製
（親水性含窒素有機化合物）
モノイソプロパノールアミン（第一級アミン）：東京化成工業株式会社製
３，３’－ジアミノ－Ｎ－メチルジプロピルアミン（第一級アミン）：東京化成工業株式会社製
Ｎ－エチルエタノールアミン（第二級アミン）：日本乳化剤株式会社製
２－メチルイミダゾール：東京化成工業株式会社製
Ｎ－ｎ－ブチルジエタノールアミン（第三級アミン）：日本乳化剤株式会社製
トリエタノールアミン（第三級アミン）：東京化成工業株式会社製
（第４級アンモニウム塩）
ＴＥＡＨ：東京化成工業株式会社製
（疎水性含窒素有機化合物）
ジメチルステアリルアミン：富士フイルム和光純薬株式会社製
ｎ－ドデシルアミン：富士フイルム和光純薬株式会社製
ジ－ｎ－ブチルアミン：富士フイルム和光純薬株式会社製
１，２，３－ベンゾトリアゾール：東京化成工業株式会社製
（疎水性溶剤）
プロピレングリコールモノブチルエーテル：日本乳化剤株式会社製
ジプロピレングリコールジメチルエーテル：日本乳化剤株式会社製
ジプロピレングリコールモノブチルエーテル：日本乳化剤株式会社製
ベンジルアルコール：東京応化工業株式会社製
（水）
蒸留水
【0068】
＜添加する工程＞
次いで、上記原料のうち該蒸留水（水）以外の原料を、表１～表４に記載された組成で、該蒸留水（水）に添加した。なお、表１～表４の「配合組成［質量％］」の欄において、「－」で示されている成分は、試料に含まれていないことを意味する。
次いで、上記原料のうち該蒸留水（水）以外の原料を、表１～表４に記載された組成で、該蒸留水（水）に添加した。なお、表１～表４の「配合組成［質量％］」の欄において、「－」で示されている成分は、試料に含まれていないことを意味する。
【0069】
【表1】
【0070】
【表2】
【0071】
【表3】
【0072】
【表4】
【0073】
以上の工程を実行することにより、表１～表４に示した構成を有する試料１～試料３１、試料３３～試料５４、試料１０１～試料１０６、試料１１０、及び試料１１１に係る洗浄剤組成物を作製した。
【0074】
≪洗浄剤組成物の特性評価≫
各試料に係る洗浄剤組成物について、「ｐＨ」を測定し、「外観」、「洗浄性」、「金属影響」、及び「取り扱い性」を評価した。
各試料に係る洗浄剤組成物について、「ｐＨ」を測定し、「外観」、「洗浄性」、「金属影響」、及び「取り扱い性」を評価した。
【0075】
＜ｐＨ＞
各試料に係る洗浄剤組成物について、ｐＨを上記実施形態１に記載の方法により求めた。得られた結果をそれぞれ表１～表４の「ｐＨ（水で１００倍に希釈された場合）」の欄に記す。
各試料に係る洗浄剤組成物について、ｐＨを上記実施形態１に記載の方法により求めた。得られた結果をそれぞれ表１～表４の「ｐＨ（水で１００倍に希釈された場合）」の欄に記す。
【0076】
＜外観＞
各試料に係る洗浄剤組成物について、外観を上記実施形態１に記載の方法により求めた。なお、各試料に係る洗浄剤組成物に関し、試料作製直後と、該試料作製から１週間後との両方において、外観を評価した。得られた結果をそれぞれ表１～表４の「外観」の欄に記す。
各試料に係る洗浄剤組成物について、外観を上記実施形態１に記載の方法により求めた。なお、各試料に係る洗浄剤組成物に関し、試料作製直後と、該試料作製から１週間後との両方において、外観を評価した。得られた結果をそれぞれ表１～表４の「外観」の欄に記す。
【0077】
＜洗浄性＞
各試料に係る洗浄剤組成物について、以下の手順で洗浄性を評価した。
各試料に係る洗浄剤組成物について、以下の手順で洗浄性を評価した。
【0078】
（テストピースの準備）
以下の手順で洗浄性を評価するためのテストピースを準備した。まず、２０ｍｍ×４０ｍｍの銅板（株式会社スタンダードテストピース製）を用意した。該銅板に対し、評価ペーストとして「ＭＢ－Ｔ１００」（千住金属工業株式会社製）を印刷した。その後、該銅板を２５０℃で３分間ホットプレート上で静置することでリフローを行った。以上の手順で、テストピースを作製した。
以下の手順で洗浄性を評価するためのテストピースを準備した。まず、２０ｍｍ×４０ｍｍの銅板（株式会社スタンダードテストピース製）を用意した。該銅板に対し、評価ペーストとして「ＭＢ－Ｔ１００」（千住金属工業株式会社製）を印刷した。その後、該銅板を２５０℃で３分間ホットプレート上で静置することでリフローを行った。以上の手順で、テストピースを作製した。
【0079】
（洗浄性の評価試験）
以下の手順で、各試料に係る洗浄剤組成物の洗浄性を評価した。まず、ビーカー（５００ｍｌ）に上記洗浄剤組成物を４００ｍｌ加えて、５０℃になるまで加温した。次に加温された洗浄剤組成物を５００ｒｐｍで撹拌して水相と有機相とが分散するようにした。上述の分散した状態を維持しながら上記洗浄剤組成物に上記テストピースを浸漬した。上記テストピースを上記洗浄剤組成物に浸漬してから所定時間経過後に上記テストピースを取り出し、水洗及び乾燥を行った後、実体顕微鏡（倍率４０倍）を用いて表面観察し、フラックス残渣が完全に除去することが可能な時間を測定するとともに、以下の基準に照らして、洗浄性評価を行った。なお、洗浄性の評価がＡ又はＢであることは、洗浄剤組成物の洗浄性が高いことを意味する。得られた結果を表１～表４の「洗浄性」の欄に記す。但し、フラックスの焦げ付き箇所は該評価の対象外とした。
（評価の基準）
Ａ：洗浄時間が１０分未満である。
Ｂ：洗浄時間が１０分以上１５分未満である。
Ｃ：洗浄時間が１５分以上２０分未満である。
Ｄ：洗浄時間が２０分以上２５分以下である。
Ｅ：洗浄時間が２５分以上である。
以下の手順で、各試料に係る洗浄剤組成物の洗浄性を評価した。まず、ビーカー（５００ｍｌ）に上記洗浄剤組成物を４００ｍｌ加えて、５０℃になるまで加温した。次に加温された洗浄剤組成物を５００ｒｐｍで撹拌して水相と有機相とが分散するようにした。上述の分散した状態を維持しながら上記洗浄剤組成物に上記テストピースを浸漬した。上記テストピースを上記洗浄剤組成物に浸漬してから所定時間経過後に上記テストピースを取り出し、水洗及び乾燥を行った後、実体顕微鏡（倍率４０倍）を用いて表面観察し、フラックス残渣が完全に除去することが可能な時間を測定するとともに、以下の基準に照らして、洗浄性評価を行った。なお、洗浄性の評価がＡ又はＢであることは、洗浄剤組成物の洗浄性が高いことを意味する。得られた結果を表１～表４の「洗浄性」の欄に記す。但し、フラックスの焦げ付き箇所は該評価の対象外とした。
（評価の基準）
Ａ：洗浄時間が１０分未満である。
Ｂ：洗浄時間が１０分以上１５分未満である。
Ｃ：洗浄時間が１５分以上２０分未満である。
Ｄ：洗浄時間が２０分以上２５分以下である。
Ｅ：洗浄時間が２５分以上である。
【0080】
試料１～試料３１、及び試料３３～試料５４に係る洗浄剤組成物は、実施例に該当する。一方、試料１０１～試料１０６、試料１１０、及び試料１１１に係る洗浄剤組成物は、比較例に該当する。試料１～試料３１、及び試料３３～試料５４に係る洗浄剤組成物（実施例）は、試料１０１～試料１０４、及び試料１１０（比較例）に比して、優れた洗浄性を有することが確認された。
【0081】
＜金属影響＞
各試料に係る洗浄剤組成物について、以下の手順で金属影響を評価した。
（鉄（Ｆｅ）への影響）
冷間圧延鋼板ＳＰＣＣ（ＪＩＳ Ｇ ３１４１：２０１７）をアセトンに２０分間浸漬させて脱脂を行った。脱脂後のＳＰＣＣを各試料に係る洗浄剤組成物に５０℃で３０分間浸漬させた。その後、ＳＰＣＣを水でリンスした後、該ＳＰＣＣの外観変化を目視にて確認し、以下の「金属影響の評価の基準」に照らして鉄（Ｆｅ）への影響を評価した。
（亜鉛（Ｚｎ）への影響）
純亜鉛板を各試料に係る洗浄剤組成物に５０℃で３０分間浸漬させた。次いで、水でリンスした後、外観変化を実体顕微鏡（倍率：４０倍）にて確認し、以下の「金属影響の評価の基準」に照らして亜鉛（Ｚｎ）への影響を評価した。
（金属影響の評価の基準）
Ａ：６０分以上変化が認められない。
Ｂ：４５分以上６０分未満で変化が認められる。
Ｃ：３０分以上４５分未満で変化が認められる。
Ｄ：１５分以上３０分未満で変化が認められる。
Ｅ：１５分未満で変化が認められる。
各試料に係る洗浄剤組成物について、以下の手順で金属影響を評価した。
（鉄（Ｆｅ）への影響）
冷間圧延鋼板ＳＰＣＣ（ＪＩＳ Ｇ ３１４１：２０１７）をアセトンに２０分間浸漬させて脱脂を行った。脱脂後のＳＰＣＣを各試料に係る洗浄剤組成物に５０℃で３０分間浸漬させた。その後、ＳＰＣＣを水でリンスした後、該ＳＰＣＣの外観変化を目視にて確認し、以下の「金属影響の評価の基準」に照らして鉄（Ｆｅ）への影響を評価した。
（亜鉛（Ｚｎ）への影響）
純亜鉛板を各試料に係る洗浄剤組成物に５０℃で３０分間浸漬させた。次いで、水でリンスした後、外観変化を実体顕微鏡（倍率：４０倍）にて確認し、以下の「金属影響の評価の基準」に照らして亜鉛（Ｚｎ）への影響を評価した。
（金属影響の評価の基準）
Ａ：６０分以上変化が認められない。
Ｂ：４５分以上６０分未満で変化が認められる。
Ｃ：３０分以上４５分未満で変化が認められる。
Ｄ：１５分以上３０分未満で変化が認められる。
Ｅ：１５分未満で変化が認められる。
【0082】
試料１～試料３１、及び試料３３～試料５４に係る洗浄剤組成物（実施例）は、試料１０１、試料１０４～試料１０６、及び試料１１１（比較例）に比して、金属影響が低減されていることが確認された。
【0083】
＜取り扱い性＞
洗浄剤組成物の外観が均一であることは、該洗浄剤組成物の「取り扱い性」が優れていることを意味する。ここで、該「取り扱い性」が優れていることとは、特に分離に起因する撹拌等の追加作業を要しないことを意味する。試料１～試料３１、及び試料３３～試料５４に係る洗浄剤組成物（実施例）は外観が均一である一方で、試料１０２に係る洗浄剤組成物（比較例）は外観が均一でない（言い換えれば、分離が生じている）ことが分かった。よって、試料１～試料３１、及び試料３３～試料５４に係る洗浄剤組成物（実施例）は、試料１０２に係る洗浄剤組成物（比較例）に比して、優れた「取り扱い性」を有することが分かった。
洗浄剤組成物の外観が均一であることは、該洗浄剤組成物の「取り扱い性」が優れていることを意味する。ここで、該「取り扱い性」が優れていることとは、特に分離に起因する撹拌等の追加作業を要しないことを意味する。試料１～試料３１、及び試料３３～試料５４に係る洗浄剤組成物（実施例）は外観が均一である一方で、試料１０２に係る洗浄剤組成物（比較例）は外観が均一でない（言い換えれば、分離が生じている）ことが分かった。よって、試料１～試料３１、及び試料３３～試料５４に係る洗浄剤組成物（実施例）は、試料１０２に係る洗浄剤組成物（比較例）に比して、優れた「取り扱い性」を有することが分かった。
【0084】
＜ＶＯＣの低減＞
洗浄剤組成物において、水の含有率が２０質量％以上であることは、水の含有率が高いことを意味し、且つ揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が低減されていることを意味する。試料１～試料３１、及び試料３３～試料５４に係る洗浄剤組成物（実施例）において、水の含有率は２０質量％以上である為、ＶＯＣが低減されていることが分かった。
洗浄剤組成物において、水の含有率が２０質量％以上であることは、水の含有率が高いことを意味し、且つ揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が低減されていることを意味する。試料１～試料３１、及び試料３３～試料５４に係る洗浄剤組成物（実施例）において、水の含有率は２０質量％以上である為、ＶＯＣが低減されていることが分かった。
【0085】
以上により、試料１～試料３１、及び試料３３～試料５４に係る洗浄剤組成物（実施例）は、フラックス洗浄性及び取り扱い性に優れ、且つ金属影響及び揮発性有機化合物（ＶＯＣ）が低減されていることが分かった。
【0086】
以上のように本発明の実施形態及び実施例について説明を行なったが、上述の各実施形態及び各実施例の構成を適宜組み合わせることも当初から予定している。
【0087】
今回開示された実施の形態及び実施例はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した実施の形態及び実施例ではなく特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味、及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。