知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024061739
(43)【公開日】2024-05-08
(54)【発明の名称】反射防止フィルムおよび画像表示装置
(51)【国際特許分類】
G02B 1/115 20150101AFI20240426BHJP
H10K 50/00 20230101ALI20240426BHJP
H10K 59/10 20230101ALI20240426BHJP
H10K 50/86 20230101ALI20240426BHJP
G09F 9/00 20060101ALI20240426BHJP
B32B 7/023 20190101ALI20240426BHJP
B32B 9/00 20060101ALI20240426BHJP
【ＦＩ】
G02B1/115
H10K50/00
H10K59/10
H10K50/86
G09F9/00 313
B32B7/023
B32B9/00 A
【審査請求】有
【請求項の数】6
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024028443
(22)【出願日】2024-02-28
(62)【分割の表示】P 2020044632の分割
【原出願日】2020-03-13
(71)【出願人】
【識別番号】000003964
【氏名又は名称】日東電工株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000154
【氏名又は名称】弁理士法人はるか国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】宮本 幸大
(72)【発明者】
【氏名】▲高▼見 佳史
(72)【発明者】
【氏名】梨木 智剛
(57)【要約】
【課題】視認方向による反射光の特性の変化が少ない画像表示を実現する。
【解決手段】反射防止フィルム（１００）は、フィルム基材（１）上に反射防止層（５）を備える。反射防止層は、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した合計６層または８層の薄膜からなる多層膜である。低屈折率層はＳｉＯ２層であり、高屈折率層は、Ｎｂ２Ｏ５層、Ｓｉ３Ｎ４層またはＳｉＯＮ層であり、それぞれの薄膜の膜厚が所定範囲であることにより、２°入射光の正反射光と、θ°入射光の正反射光との、視感反射率の比Ｙθ／Ｙ２および色度差Δａ＊ｂ＊が小さくなる。
【選択図】図１
【解決手段】反射防止フィルム（１００）は、フィルム基材（１）上に反射防止層（５）を備える。反射防止層は、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した合計６層または８層の薄膜からなる多層膜である。低屈折率層はＳｉＯ２層であり、高屈折率層は、Ｎｂ２Ｏ５層、Ｓｉ３Ｎ４層またはＳｉＯＮ層であり、それぞれの薄膜の膜厚が所定範囲であることにより、２°入射光の正反射光と、θ°入射光の正反射光との、視感反射率の比Ｙθ／Ｙ２および色度差Δａ＊ｂ＊が小さくなる。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
フィルム基材上に複数の薄膜からなる反射防止層を備える反射防止フィルムであって、
前記反射防止層は、前記フィルム基材側から、膜厚８～１０ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、膜厚４１～４５ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚２１～２５ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、膜厚１８～２０ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚７７～９５ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、膜厚１０．５～１５ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚２５～３０ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、および膜厚６０～８９ｎｍのＳｉＯ２層を備える合計８層の薄膜からなる、
反射防止フィルム。
前記反射防止層は、前記フィルム基材側から、膜厚８～１０ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、膜厚４１～４５ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚２１～２５ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、膜厚１８～２０ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚７７～９５ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、膜厚１０．５～１５ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚２５～３０ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、および膜厚６０～８９ｎｍのＳｉＯ２層を備える合計８層の薄膜からなる、
反射防止フィルム。
【請求項2】
フィルム基材上に複数の薄膜からなる反射防止層を備える反射防止フィルムであって、
前記反射防止層は、前記フィルム基材側から、膜厚５～１０ｎｍのＳｉ３Ｎ４層、膜厚４８～６０ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚２３～２７ｎｍのＳｉ３Ｎ４層、膜厚２３～３２ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚８５～１０５ｎｍのＳｉ３Ｎ４層、膜厚４～７ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚４０～５０ｎｍのＳｉ３Ｎ４層、および膜厚７０～９５ｎｍのＳｉＯ２層を備える合計８層の薄膜からなる、
反射防止フィルム。
前記反射防止層は、前記フィルム基材側から、膜厚５～１０ｎｍのＳｉ３Ｎ４層、膜厚４８～６０ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚２３～２７ｎｍのＳｉ３Ｎ４層、膜厚２３～３２ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚８５～１０５ｎｍのＳｉ３Ｎ４層、膜厚４～７ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚４０～５０ｎｍのＳｉ３Ｎ４層、および膜厚７０～９５ｎｍのＳｉＯ２層を備える合計８層の薄膜からなる、
反射防止フィルム。
【請求項3】
フィルム基材上に複数の薄膜からなる反射防止層を備える反射防止フィルムであって、
前記反射防止層は、前記フィルム基材側から、膜厚９～１０．５ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、膜厚４１～４７ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚２５～２８ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、膜厚３９～４２ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚１７～２３ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、および膜厚９０～１０６ｎｍのＳｉＯ２層を備える合計６層の薄膜からなる、
反射防止フィルム。
前記反射防止層は、前記フィルム基材側から、膜厚９～１０．５ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、膜厚４１～４７ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚２５～２８ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、膜厚３９～４２ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚１７～２３ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、および膜厚９０～１０６ｎｍのＳｉＯ２層を備える合計６層の薄膜からなる、
反射防止フィルム。
【請求項4】
フィルム基材上に複数の薄膜からなる反射防止層を備える反射防止フィルムであって、
前記反射防止層は、前記フィルム基材側から、膜厚１３～１６．５ｎｍのＳｉ３Ｎ４層、膜厚３２～４０ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚４７～５５ｎｍのＳｉ３Ｎ４層、膜厚２０．５～２４ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚３４～４４．５ｎｍのＳｉ３Ｎ４層、および８２～９８ｎｍのＳｉＯ２層を備える合計６層の薄膜からなる、
反射防止フィルム。
前記反射防止層は、前記フィルム基材側から、膜厚１３～１６．５ｎｍのＳｉ３Ｎ４層、膜厚３２～４０ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚４７～５５ｎｍのＳｉ３Ｎ４層、膜厚２０．５～２４ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚３４～４４．５ｎｍのＳｉ３Ｎ４層、および８２～９８ｎｍのＳｉＯ２層を備える合計６層の薄膜からなる、
反射防止フィルム。
【請求項5】
フィルム基材上に複数の薄膜からなる反射防止層を備える反射防止フィルムであって、
前記反射防止層は、前記フィルム基材側から、膜厚１３～１９．５ｎｍのＳｉＯＮ層、膜厚２２～３７ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚５８～８０ｎｍのＳｉＯＮ層、膜厚２～１０ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚５９～８５ｎｍのＳｉＯＮ層、および膜厚６５～９５ｎｍのＳｉＯ２層を備える合計６層の薄膜からなる、
反射防止フィルム。
前記反射防止層は、前記フィルム基材側から、膜厚１３～１９．５ｎｍのＳｉＯＮ層、膜厚２２～３７ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚５８～８０ｎｍのＳｉＯＮ層、膜厚２～１０ｎｍのＳｉＯ２層、膜厚５９～８５ｎｍのＳｉＯＮ層、および膜厚６５～９５ｎｍのＳｉＯ２層を備える合計６層の薄膜からなる、
反射防止フィルム。
【請求項6】
画像表示媒体の視認側表面に、請求項１～５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムが配置されている、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、反射防止フィルムおよび画像表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の画像表示装置の表面には、表示画像の視認性向上を目的として反射防止フィルムが設けられる場合がある。反射防止フィルムは、フィルム基材上に、屈折率の異なる複数の薄膜からなる反射防止層を備えている。
【0003】
反射防止層による光の反射特性は、一般に視感反射率（Ｙ値）により評価される。比視感度の高い波長５５０ｎｍ付近の反射率を小さくすることにより、視感反射率が小さくなる。反射防止フィルムでは、視感反射率が小さいことに加えて、反射光色相がニュートラルであることも要求されている。
【0004】
正面から視認した場合の反射特性だけでなく、斜め方向の反射光の特性も制御した反射防止フィルムが提案されている。例えば、特許文献１では、５～４５°のあらゆる角度からの入射光に対する正反射光の色相が所定範囲である反射防止フィルムが開示されている。特許文献２では、入射角度２０～３０°の範囲の色度が最も小さくなるように光学設計を行うことにより、５～４５°の範囲内での反射光の色差を小さくすることが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２００４－１３８６６２号公報
【特許文献2】特開２０１６－１７７１８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
従来の反射防止フィルムでは、特定の視認方向の反射率を小さくすることが可能であるが、広い視認方向で反射率の変化が小さく、かつ反射光の色の変化を小さくすることは困難であった。
【課題を解決するための手段】
【0007】
反射防止フィルムは、フィルム基材上に複数の薄膜からなる反射防止層を備える。反射防止層は、薄膜として、低屈折率層および高屈折率層を、それぞれ少なくも１層含む多層薄膜である。本発明の反射防止フィルムにおいて、反射防止層は、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した合計６層または８層の薄膜からなる多層膜である。低屈折率層はＳｉＯ２層であり、高屈折率層は、Ｎｂ２Ｏ５層、Ｓｉ３Ｎ４層またはＳｉＯＮ層である。それぞれの薄膜の膜厚が所定範囲であることにより、反射防止層側から照射したＤ６５光源の正反射光が所定の特性を満たし得る。
【0008】
θ°入射光の正反射光の視感反射率Ｙθは、５～５０°の範囲の任意の角度θにおいて、Ｙθ／Ｙ２≦６．０を満たすことが好ましい。Ｙ２は２°入射光の正反射光の視感反射率である。θ°入射光の正反射光のクロマティクネス指数ａ＊
θおよびｂ＊
θは、５～５０°の範囲の任意の角度θにおいて、Δａ＊ｂ＊＝｛（ａ＊
２－ａ＊
θ）２＋（ｂ＊
２－ｂ＊
θ）２｝１／２で表される色度差Δａ＊ｂ＊が、Δａ＊ｂ＊≦６．０を満たすことが好ましい。
【発明の効果】
【0009】
本発明の反射防止フィルムを用いることにより、視認方向による反射光の特性の変化が少ない画像表示を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【発明を実施するための形態】
【0011】
［反射防止フィルムの構成］
図１は、一実施形態にかかる反射防止フィルムの構成を模式的に示す断面図である。反射防止フィルム１００は、フィルム基材１上に反射防止層５を備える。反射防止層５は、複数の薄膜の積層体である。図１に示す反射防止層５は、フィルム基材１側から、高屈折率層５１，５３，５５と低屈折率層５２，５４，５６とを交互に積層した６層の薄膜からなる多層膜である。
図１は、一実施形態にかかる反射防止フィルムの構成を模式的に示す断面図である。反射防止フィルム１００は、フィルム基材１上に反射防止層５を備える。反射防止層５は、複数の薄膜の積層体である。図１に示す反射防止層５は、フィルム基材１側から、高屈折率層５１，５３，５５と低屈折率層５２，５４，５６とを交互に積層した６層の薄膜からなる多層膜である。
【0012】
＜フィルム基材＞
フィルム基材１は、可撓性のフィルム１０を含む。フィルム基材１の厚みは特に限定されないが、強度や取扱性等の作業性、薄層性等の観点から、５～３００μｍ程度が好ましく、１０～２５０μｍがより好ましく、２０～２００μｍがさらに好ましい。
フィルム基材１は、可撓性のフィルム１０を含む。フィルム基材１の厚みは特に限定されないが、強度や取扱性等の作業性、薄層性等の観点から、５～３００μｍ程度が好ましく、１０～２５０μｍがより好ましく、２０～２００μｍがさらに好ましい。
【0013】
フィルム１０としては、一般に透明フィルムが用いられる。透明フィルムの可視光透過率は、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上である。フィルム１０を構成する樹脂材料としては、例えば、透明性、機械強度、および熱安定性に優れる熱可塑性樹脂が挙げられる。このような熱可塑性樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂）、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、およびこれらの混合物が挙げられる。
【0014】
フィルム１０の反射防止層５形成面側には、ハードコート層１１が設けられていることが好ましい。フィルム１０の表面にハードコート層１１が設けられることにより、反射防止フィルムの硬度や弾性率等の機械特性を向上できる。ハードコート層１１は、表面の硬度が高く、耐擦傷性に優れるものが好ましい。
【0015】
硬化性樹脂としては、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等が挙げられる。硬化性樹脂の種類としてはポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、アミド系、シリコーン系、シリケート系、エポキシ系、メラミン系、オキセタン系、アクリルウレタン系等の各種の樹脂があげられる。これら硬化性樹脂は、一種または二種以上を、適宜に選択して使用できる。
【0016】
ハードコート層は微粒子を含むものであってもよい。例えば、ハードコート層に微粒子を含めることによりハードコート層１１の表面に凹凸を形成して、防眩性を持たせてもよい。防眩性を付与するために用いられる微粒子は、μｍオーダーの粒子径を有するマイクロ粒子であることが好ましい。マイクロ粒子の平均粒子径は、０．５～１０μｍが好ましく、１～５μｍがより好ましい。ハードコート層１１の表面に微細な凹凸が形成されることにより、その上に設けられる反射防止層５（またはプライマー層３）との密着性が向上する傾向がある。ハードコート層１１の表面に、プライマー層３や反射防止層５等の薄膜との密着性に優れる凹凸を形成するために用いられる微粒子は、ｎｍオーダーの粒子径を有するナノ粒子であることが好ましい。ナノ粒子の平均粒子径は、１０～１５０ｎｍが好ましく、２０～１００ｎｍがより好ましく、２５～８０ｎｍがさらに好ましい。
【0017】
ハードコート層１１は、例えば、フィルム１０上に、硬化性樹脂を含有する溶液を塗布することにより形成できる。ハードコート層を形成するための溶液には、重合開始剤が配合されていることが好ましい。微粒子を含む防眩性ハードコート層を形成するためには、硬化性樹脂に加えて上記の微粒子を含有する溶液を透明フィルム上に塗布することが好ましい。溶液中には、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤等の添加剤を含有させてもよい。
【0018】
ハードコート層１１の厚みは特に限定されないが、高い硬度を実現するためには、０．５μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましい。塗布による形成の容易性を考慮すると、ハードコート層の厚みは１５μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましい。
【0019】
＜プライマー層＞
フィルム基材１上には、反射防止層５の密着性向上等を目的として、プライマー層３が設けられてもよい。プライマー層３を構成する材料としては、例えば、シリコン、ニッケル、クロム、インジウム、スズ、金、銀、白金、亜鉛、チタン、タングステン、アルミニウム、ジルコニウム、パラジウム等の金属；これらの金属の合金；これらの金属の酸化物、フッ化物、硫化物または窒化物；等が挙げられる。中でも、プライマー層の材料は好ましくは無機酸化物層であり、化学量論組成よりも酸素量が少ない酸化物でもよい。
フィルム基材１上には、反射防止層５の密着性向上等を目的として、プライマー層３が設けられてもよい。プライマー層３を構成する材料としては、例えば、シリコン、ニッケル、クロム、インジウム、スズ、金、銀、白金、亜鉛、チタン、タングステン、アルミニウム、ジルコニウム、パラジウム等の金属；これらの金属の合金；これらの金属の酸化物、フッ化物、硫化物または窒化物；等が挙げられる。中でも、プライマー層の材料は好ましくは無機酸化物層であり、化学量論組成よりも酸素量が少ない酸化物でもよい。
【0020】
プライマー層３の厚みは、例えば、１～２０ｎｍ程度であり、好ましくは２～１５ｎｍ、より好ましくは３～１５ｎｍである。プライマー層の膜厚が上記範囲であれば、密着性向上と光透過性とを両立できる。
【0021】
＜反射防止層＞
反射防止層５は、屈折率の異なる複数の薄膜の積層体である。なお、本明細書において、「屈折率」は、特に断りがない場合は波長５５０ｎｍにおける屈折率である。
反射防止層５は、屈折率の異なる複数の薄膜の積層体である。なお、本明細書において、「屈折率」は、特に断りがない場合は波長５５０ｎｍにおける屈折率である。
【0022】
屈折率の異なる複数の薄膜を積層することにより、可視光の広帯域の波長範囲において、反射率を小さくできる。反射防止層５を構成する薄膜としては、金属または半金属の酸化物、窒化物、フッ化物等からなるセラミック材料が好ましい。反射防止層５を構成する薄膜は、樹脂バインダー中に高屈折率または低屈折率の微粒子を含有させることにより屈折率を調整したものでもよい。
【0023】
低屈折率層５２，５４，５６は、例えば屈折率が１．６以下、好ましくは１．５以下である。低屈折率材料としては、酸化シリコン、窒化チタン、フッ化マグネシウム、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化ハフニウム、フッ化ランタン等が挙げられる。
【0024】
高屈折率層５１，５３，５３は、例えば屈折率が１．８以上、好ましくは１．９以上である。高屈折率材料としては、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、窒化シリコン、酸窒化シリコン等が挙げられる。
【0025】
反射防止層５は、好ましくは、高屈折率層と低屈折率層の交互積層体である。空気界面での反射を低減するために、反射防止層５の最外層（フィルム基材１から最も離れた層）として設けられる薄膜５６は、低屈折率層であることが好ましい。反射防止層は、低屈折率層および高屈折率層に加えて、高屈折率層と低屈折率層の中間的な屈折率を有する中屈折率層を含んでいてもよい。中屈折率層の屈折率は、例えば、１．６～１．９程度である。
【0026】
高屈折率層および低屈折率層の膜厚は、それぞれ、５～２００ｎｍ程度であり、１０～１５０ｎｍ程度が好ましい。屈折率や積層構成等に応じて、可視光の反射率が小さくなるように、各層の膜厚を設計すればよい。
【0027】
反射防止層５を構成する薄膜の成膜方法は特に限定されず、ウェットコーティング法、ドライコーティング法のいずれでもよい。膜厚が均一な薄膜を形成できることから、真空蒸着、ＣＶＤ，スパッタ、電子線蒸等のドライコーティング法が好ましい。中でも、膜厚の均一性に優れることから、スパッタ法が好ましい。
【0028】
＜反射防止層上への付加層＞
反射防止フィルムは、反射防止層５上に、付加的な機能層を備えていてもよい。例えば、外部環境からの汚染防止や、付着した汚染物質の除去を容易とする等の目的で、反射防止層５上に防汚層（不図示）を設けてもよい。
反射防止フィルムは、反射防止層５上に、付加的な機能層を備えていてもよい。例えば、外部環境からの汚染防止や、付着した汚染物質の除去を容易とする等の目的で、反射防止層５上に防汚層（不図示）を設けてもよい。
【0029】
反射防止フィルムの表面に防汚層を設ける場合は、界面での反射を低減する観点から、反射防止層５の最表面の低屈折率層５６と防汚層との屈折率差が小さいことが好ましい。防汚層の屈折率は、１．６以下が好ましく、１．５５以下がより好ましい。防汚層の材料としては、フッ素基含有のシラン系化合物や、フッ素基含有の有機化合物等が好ましい。防汚層は、リバースコート法、ダイコート法、グラビアコート法等のウェットコーティング法や、真空蒸着法、ＣＶＤ法等のドライコーティング法等により形成できる。防汚層の厚みは、通常、１～１００ｎｍ程度であり、好ましくは２～５０ｎｍ、より好ましくは３～３０ｎｍである。
【0030】
［反射光の特性］
反射防止フィルムは、視認角度による反射光の特性の変化が小さいことが好ましい。光の特性は、色相、彩度および明度の３つの指標により評価できる。反射光の特性は、照射する光のスペクトルに依存する。以下では、反射防止フィルムの反射防止層５側（フィルム基材１と反対側）の面に、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５を照射した際の反射光の特性について言及する。
反射防止フィルムは、視認角度による反射光の特性の変化が小さいことが好ましい。光の特性は、色相、彩度および明度の３つの指標により評価できる。反射光の特性は、照射する光のスペクトルに依存する。以下では、反射防止フィルムの反射防止層５側（フィルム基材１と反対側）の面に、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５を照射した際の反射光の特性について言及する。
【0031】
反射防止層５側から光を入射して反射光を測定する場合、裏面側（フィルム基材１と空気との界面）での可視光の反射率が４％程度であり、大半が裏面からの反射光となる。裏面反射の影響を排除するために、反射光の特性の評価には、フィルム基材１の裏面側（反射防止層５の形成面と反対側の面）に、黒色フィルムや黒色板を貼り合わせた試料を用いる。
【0032】
＜視感反射率＞
視感反射率Ｙは、反射光の明度を表す指標であり、ＸＹＺ表色系（またはＹｘｙ表色系）におけるＹ値である。視感反射率Ｙは、完全反射体のＹ値が１００％となるように規格化されている。
視感反射率Ｙは、反射光の明度を表す指標であり、ＸＹＺ表色系（またはＹｘｙ表色系）におけるＹ値である。視感反射率Ｙは、完全反射体のＹ値が１００％となるように規格化されている。
【0033】
一般に、反射防止フィルムは、正面から光を照射した際の反射率が小さくなるように設計されており、入射角度θが大きいほど正反射光の反射率が大きくなる傾向がある。光の入射角度（視認方向）の変化に伴う反射光量の差を小さくする観点から、２°入射光の正反射光の視感反射率Ｙ２と、θ°入射光の正反射光の視感反射率Ｙθとの比Ｙθ／Ｙ２は、θ＝５～５０°の任意の入射角度θにおいて、６．０以下であることが好ましい。Ｙθ／Ｙ２は、θ＝５～５０°の範囲において、５．５以下がより好ましく、５．０以下がさらに好ましく、４．５以下が特に好ましい。
【0034】
２°入射光の正反射光の視感反射率Ｙ２は、１．０％以下が好ましく、０．９％以下がより好ましく、０．８％以下がさらに好ましい。Ｙ２はできる限り小さい方が好ましいが、特定方向の入射光に対する反射率が小さくなるように光学設計を行うと、入射角度θが変化した際の反射率変化が大きくなる場合がある。そのため、Ｙ２は、０．１％以上、０．２％以上、または０．３％以上であってもよい。
【0035】
視認方向に関わらず環境光の反射を低減して視認性を高める観点から、θ°入射光の正反射光の視感反射率Ｙθは、５～５０°の範囲の任意の角度θにおいて、３．０％以下であることが好ましく、２．５％以下であることがより好ましい。
【0036】
＜クロマティクネス指数＞
ＣＩＥＬＡＢ色空間（Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間）では、明度をＬ＊で表現し、色相および彩度をクロマティクネス指数ａ＊およびｂ＊で表現する。ａ＊およびｂ＊が０の場合は無彩色であり、＋ａ＊は赤方向、－ａ＊は緑方向、＋ｂ＊は黄方向、－ｂ＊は青方向を示す。図２に示すａ＊ｂ＊平面では、半径方向が彩度、周方向が色相に対応している。
ＣＩＥＬＡＢ色空間（Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間）では、明度をＬ＊で表現し、色相および彩度をクロマティクネス指数ａ＊およびｂ＊で表現する。ａ＊およびｂ＊が０の場合は無彩色であり、＋ａ＊は赤方向、－ａ＊は緑方向、＋ｂ＊は黄方向、－ｂ＊は青方向を示す。図２に示すａ＊ｂ＊平面では、半径方向が彩度、周方向が色相に対応している。
【0037】
Ｃ＊＝｛（ａ＊）２＋（ｂ＊）２｝１／２で定義される彩度は、色付きの度合いを表し、Ｃ＊が０の場合は無彩色であり、Ｃ＊が大きいほど色付きが大きい。色空間をａ＊ｂ＊平面空に投影した場合の２点間の距離が大きいほど、２つの光の色の違いが大きいことを意味する。
【0038】
光の入射角度（視認方向）の変化に伴う反射光の色の違いを小さくする観点から、２°入射光の正反射光のクロマティクネス指数ａ＊
２およびｂ＊
２と、θ°入射光の正反射光のクロマティクネス指数ａ＊
θおよびｂ＊
θは、θ＝５～５０°の範囲の任意の角度θにおいて、Δａ＊ｂ＊≦６．０を満たすことが好ましい。図２に示すように、Δａ＊ｂ＊は、２°入射光の正反射光（Ａ）と、θ°入射光の正反射光の、ａ＊ｂ＊平面における距離であり、Δａ＊ｂ＊＝｛（ａ＊
２－ａ＊
θ）２＋（ｂ＊
２－ｂ＊
θ）２｝１／２で表される。以下ではΔａ＊ｂ＊を「色度差」と称する場合がある。色度差Δａ＊ｂ＊は、θ＝５～５０°の範囲において、５．５以下がより好ましく、５．０以下がさらに好ましく、４．５以下が特に好ましい。Δａ＊ｂ＊は、４．０以下、３．５以下または３．０以下であってもよい。
【0039】
２°入射光の正反射光の彩度Ｃ＊は、５．０以下が好ましく、４．０以下がより好ましく、３．０以下がさらに好ましい。２°入射光の正反射光の彩度Ｃ＊は、２．５以下または２．０以下であってもよい。
【0040】
視認方向に関わらず反射光をニュートラル色として色付きを抑制する観点から、θ°入射光の正反射光の彩度Ｃ＊は、５～５０°の範囲の任意の角度θにおいて、９．０以下が好ましく、７．０以下がより好ましく、５．０以下が特に好ましい。
【0041】
＜反射防止層の光学設計＞
反射防止層を構成する薄膜の膜厚を適切に設計することにより、上記の特性を有する反射防止フィルムが得られる。反射光の特性（スペクトル）は、光学モデル計算により正確に評価することが可能である。光学計算により多層光学薄膜の反射スペクトルを求める方法としては、薄膜のそれぞれの界面に対して薄膜干渉の公式を繰り返し適用して、多重反射した波を全て足し合わせる方法；およびマックスウェル方程式の境界条件を考慮して転送行列により反射スペクトルを計算する方法、等が知られている。
反射防止層を構成する薄膜の膜厚を適切に設計することにより、上記の特性を有する反射防止フィルムが得られる。反射光の特性（スペクトル）は、光学モデル計算により正確に評価することが可能である。光学計算により多層光学薄膜の反射スペクトルを求める方法としては、薄膜のそれぞれの界面に対して薄膜干渉の公式を繰り返し適用して、多重反射した波を全て足し合わせる方法；およびマックスウェル方程式の境界条件を考慮して転送行列により反射スペクトルを計算する方法、等が知られている。
【0042】
Ｄ６５光源を入射した際の正反射光の反射スペクトルを、複数の入射角度θについて計算し、それぞれのθについて、反射スペクトルから、視感反射率Ｙ、ならびにクロマティクネス指数ａ＊およびｂ＊を算出する。反射防止層を構成する薄膜の膜厚を変更しながら、これらの光学計算を繰り返し実施することにより、薄膜の設定膜厚の最適化が可能であり、反射光が上記の特性を満たす反射防止フィルムが得られる。
【0043】
反射防止層を構成する薄膜の数が少ない場合は、θ＝５～５０°の任意の範囲において、Ｙθ／Ｙ２およびΔａ＊ｂ＊の両方が小さくなるように膜厚を設計することが困難である。後の実施例に示すように、反射防止層の積層数（薄膜の総数）が大きい場合は、反射防止層を構成する材料に関わらず、Ｙθ／Ｙ２およびΔａ＊ｂ＊の両方が小さくなるように薄膜の膜厚を設計することが可能である。反射防止層は、低屈折率層と高屈折率層を合計で５層以上含むことが好ましく、低屈折率層を３層以上含むことが好ましい。反射防止層は、低屈折率層と高屈折率層を合計で６層以上含むことがより好ましい。
【0044】
視感反射率Ｙを小さくする観点から、反射防止層は、低屈折率層と高屈折率層の屈折率差が大きいことが好ましい。低屈折率層と高屈折率層の屈折率差は、０．３０以上が好ましく、０．３５以上がより好ましく、０．４０以上がさらに好ましい。
【0045】
低屈折率層の屈折率は、１．５０以下が好ましく、１．４８以下がより好ましく、１．４７以下がさらに好ましい。低屈折率層の屈折率は一般に１．００以上であり、１．２０以上、１．３０以上または１．３５以上であってもよい。高屈折率層の屈折率は、１．８０以上が好ましく、１．８４以上がより好ましく、１．８７以上がさらに好ましい。高屈折率層の屈折率は一般に３．００以下であり、２．５０以下、２．４０以下または２．３０以下であってもよい。高屈折率層の波長４００ｎｍにおける屈折率は、１．８４～２．５５が好ましく、１．８８～２．５０がより好ましい。高屈折率層の波長７００ｎｍにおける屈折率は１．７８～２．３５が好ましく、１．８０～２．３０がより好ましい。
【0046】
波長５５０ｎｍ付近における反射率を小さくすれば、視感反射率Ｙが小さくなる傾向がある。一方で、波長５５０ｎｍ付近の反射率が最小となるように光学設計を行うと、他の波長における反射率が大きくなり、反射光のクロマティクネス指数ａ＊および／またはｂ＊が大きくなり、反射光が色付く傾向がある。
【0047】
反射光の色付きを低減するためには、可視光の広い波長範囲において、反射率が一様であることが好ましい。反射防止層を構成する薄膜の屈折率の波長依存が小さい場合に、波長による反射率の変化が小さくなり、反射光の彩度が小さくなる（ニュートラル化する）傾向がある。屈折率の波長分散が大きい材料を用いた場合でも、反射光の色付きが小さくなるように光学設計を実施することが可能であるが、薄膜の膜厚がわ僅かに異なると、反射光の色付きを生じる場合がある。光学設計の自由度を高めるとともに、膜厚の許容可能範囲（プロセスマージン）を確保する観点から、反射防止層を構成する薄膜は、屈折率の波長分散（波長の変化に伴う屈折率の変化）が小さいことが好ましい。
【0048】
高屈折率層のアッベ数νＤは、２０以上が好ましく、２３以上がより好ましく、２５以上がさらに好ましい。アッベ数νＤは、波長５８９ｎｍにおける屈折率ｎＤ、波長４８６ｎｍにおける屈折率ｎＦ、および波長６５６ｎｍにおける屈折率ｎＣを用いて、νＤ＝（ｎＤ－１）／（ｎＦ－ｎＣ）で表される。アッベ数νＤが大きいほど、屈折率の波長分散が小さい。高屈折率層のアッベ数νＤの上限は特に限定されないが、一般的なセラミック材料では、アッベ数νＤが大きい（屈折率の波長分散が小さい）ほど、屈折率が小さくなる傾向がある。高屈折率層の屈折率を十分に高めて、反射率を小さくする観点から、高屈折率層のアッベ数νＤは、４０以下が好ましく、３０以下がより好ましく、２８以下がさらに好ましい。
【0049】
反射防止層は、それぞれの薄膜の屈折率、積層数等を考慮して、反射光が上記の特性を満たすように、それぞれの薄膜の膜厚を設定すればよい。上述の通り、光学モデルを用いて反射防止フィルムの反射スペクトルを計算することにより、反射防止層の膜厚を最適化することが可能である。
【0050】
［反射防止フィルムの使用形態］
反射防止フィルムは、例えば液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の画像表示装置の表面に配置して用いられる。例えば、液晶セルや有機ＥＬセル等の画像表示媒体を含むパネルの視認側表面に反射防止フィルムを配置することにより、外光の反射を低減して、画像表示装置の視認性を向上できる。反射防止フィルムを他のフィルムと積層してもよい。例えば、フィルム基材１の反射防止層形成面と反対側に偏光子を貼り合わせることにより、反射防止層付き偏光板を形成できる。
反射防止フィルムは、例えば液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の画像表示装置の表面に配置して用いられる。例えば、液晶セルや有機ＥＬセル等の画像表示媒体を含むパネルの視認側表面に反射防止フィルムを配置することにより、外光の反射を低減して、画像表示装置の視認性を向上できる。反射防止フィルムを他のフィルムと積層してもよい。例えば、フィルム基材１の反射防止層形成面と反対側に偏光子を貼り合わせることにより、反射防止層付き偏光板を形成できる。
【0051】
本発明の反射防止フィルムは、視認方向による反射光の特性の差が小さいため、視認方向を変化させた場合でも、反射光の特性の変化が小さく、画像表示装置を均一化することが可能である。
【実施例0052】
以下では、光学モデル計算により、反射防止フィルムの反射光の諸特性を算出した例を示す。
【0053】
［反射光の特性の評価方法］
反射防止フィルムに、波長λの光を入射角度θ°で入射した際の正反射率を、波長３８０～７８０ｎｍの範囲の１ｎｍ刻みで光学モデル計算により算出し、反射率スペクトルＲ（λ）を求めた。
反射防止フィルムに、波長λの光を入射角度θ°で入射した際の正反射率を、波長３８０～７８０ｎｍの範囲の１ｎｍ刻みで光学モデル計算により算出し、反射率スペクトルＲ（λ）を求めた。
【0054】
得られた正反射率スペクトルＲ（λ）に、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５のスペクトルを掛け合わせて反射光のスペクトルを得た。得られた反射光スペクトルから、視感反射率Ｙ、ならびにＣＩＥＬＡＢ表色系のクロマティクネス指数ａ＊およびｂ＊を算出し、ａ＊およびｂ＊の数値から彩度Ｃ＊＝｛（ａ＊）２＋（ｂ＊）２｝１／２を算出した。
【0055】
入射角２°、および入射角度θ＝５～５０°の範囲の５°刻みで、上記の評価を実施し、２°入射光の正反射光の視感反射率Ｙ２と、θ°入射光の正反射光の視感反射率Ｙθとの比Ｙθ／Ｙ２、および２°入射光の正反射光とθ°入射光の正反射光のａ＊ｂ＊平面での距離Δａ＊ｂ＊＝｛（ａ＊
２－ａ＊
θ）２＋（ｂ＊
２－ｂ＊
θ）２｝１／２を算出した。
【0056】
＜薄膜の屈折率＞
各実施例および比較例では、低屈折率層として酸化シリコン（ＳｉＯ２）を用い、高屈折率層として、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、窒化シリコン（Ｓｉ３Ｎ４）、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）を用いた。酸窒化シリコンは、スパッタ成膜時の酸素導入量を変更して、相対的に酸素量の少ないＳｉＯＮ（１）と相対的に酸素量の多いＳｉＯＮ（２）の２種類の薄膜を形成し、分光エリプソメトリーにより測定した屈折率を用いた。それ以外の薄膜の屈折率は、データベースの値を用いた。それぞれの薄膜の波長４００ｎｍ，５００ｎｍおよび７００ｎｍにおける屈折率ｎ４００、ｎ５５０、ｎ７００、ならびにアッベ数νＤを表１に示す。
各実施例および比較例では、低屈折率層として酸化シリコン（ＳｉＯ２）を用い、高屈折率層として、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、窒化シリコン（Ｓｉ３Ｎ４）、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）を用いた。酸窒化シリコンは、スパッタ成膜時の酸素導入量を変更して、相対的に酸素量の少ないＳｉＯＮ（１）と相対的に酸素量の多いＳｉＯＮ（２）の２種類の薄膜を形成し、分光エリプソメトリーにより測定した屈折率を用いた。それ以外の薄膜の屈折率は、データベースの値を用いた。それぞれの薄膜の波長４００ｎｍ，５００ｎｍおよび７００ｎｍにおける屈折率ｎ４００、ｎ５５０、ｎ７００、ならびにアッベ数νＤを表１に示す。
【0057】
【表1】
【0058】
＜実施例１＞
ハードコートフィルムのアクリル系ハードコート層上に、８．２ｎｍの酸化ニオブ層、４２．２ｎｍの酸化シリコン層、２４．６ｎｍの酸化ニオブ層、１８．６ｎｍの酸化シリコン層、８０．８ｎｍの酸化ニオブ層、１０．８ｎｍの酸化シリコン層、２５．６ｎｍの酸化ニオブ層、および２５．６ｎｍの酸化シリコン層を順に積層した８層構成の反射防止層を備え、その上に厚み５ｎｍのフッ素系樹脂からなる防汚層を備える反射防止フィルムについて上記の光学シミュレーションを実施した。ハードコートフィルム（アクリル系ハードコート層）およびフッ素系樹脂からなる防汚層の屈折率は、分光エリプソメトリーによる実測値（ハードコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率；１．５４、防汚層の波長５５０ｎｍにおける屈折率：１．３２）を用いた。光学シミュレーションにおいては、裏面反射の影響を排除するために、ハードコートフィルムのフィルム基材の厚みを∞とした。
ハードコートフィルムのアクリル系ハードコート層上に、８．２ｎｍの酸化ニオブ層、４２．２ｎｍの酸化シリコン層、２４．６ｎｍの酸化ニオブ層、１８．６ｎｍの酸化シリコン層、８０．８ｎｍの酸化ニオブ層、１０．８ｎｍの酸化シリコン層、２５．６ｎｍの酸化ニオブ層、および２５．６ｎｍの酸化シリコン層を順に積層した８層構成の反射防止層を備え、その上に厚み５ｎｍのフッ素系樹脂からなる防汚層を備える反射防止フィルムについて上記の光学シミュレーションを実施した。ハードコートフィルム（アクリル系ハードコート層）およびフッ素系樹脂からなる防汚層の屈折率は、分光エリプソメトリーによる実測値（ハードコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率；１．５４、防汚層の波長５５０ｎｍにおける屈折率：１．３２）を用いた。光学シミュレーションにおいては、裏面反射の影響を排除するために、ハードコートフィルムのフィルム基材の厚みを∞とした。
【0059】
＜実施例２～７、比較例１，２＞
高屈折率層の材料、積層構成（反射防止（ＡＲ）層を構成する薄膜の合計数）および各層の膜厚を表２に示すように変更した反射防止フィルムについて、実施例１と同様の光学シミュレーションを実施した。
高屈折率層の材料、積層構成（反射防止（ＡＲ）層を構成する薄膜の合計数）および各層の膜厚を表２に示すように変更した反射防止フィルムについて、実施例１と同様の光学シミュレーションを実施した。
【0060】
［評価結果］
実施例１～７および比較例１，２の反射防止フィルムの構成および光学シミュレーションの結果を表２に示す。表２において、各層の厚みの数値の単位はｎｍであり、フィルム基材に近い側から１層目、２層目、３層目…として記載している。反射光の特性は、θ＝２°（正面）と、θ＝２０°、４０°、５０°の結果を示している。
実施例１～７および比較例１，２の反射防止フィルムの構成および光学シミュレーションの結果を表２に示す。表２において、各層の厚みの数値の単位はｎｍであり、フィルム基材に近い側から１層目、２層目、３層目…として記載している。反射光の特性は、θ＝２°（正面）と、θ＝２０°、４０°、５０°の結果を示している。
【0061】
【表2】
【0062】
反射防止層が高屈折率層と低屈折率層をそれぞれ４層含む計８層からなる実施例１および実施例２では、Ｙθ／Ｙ２の最大値が小さく、かつΔａ＊ｂ＊の最大値も小さいことが分かる。反射防止層が高屈折率層と低屈折率層をそれぞれ３層含む計６層からなる実施例３～６も、Ｙθ／Ｙ２の最大値が小さく、かつΔａ＊ｂ＊の最大値も小さいことが分かる。高屈折率層としてアッベ数νＤが大きい（屈折率の波長分散が小さい）ＳｉＯＮ（２）を用いた実施例６では、Δａ＊ｂ＊が小さくなる傾向がみられた反面、正面から視認した場合の反射率が高くなっていた。これは、高屈折率層と低屈折率層の屈折率差が小さいために、反射率を十分に低減できなかったことが関連していると考えられる。
【0063】
反射防止層が高屈折率層と低屈折率層をそれぞれ２層含む計４層からなる比較例１では、正面（２°）の反射率が低減されていたが、Ｙθ／Ｙ２の最大値が６を超えていた。また、比較例１では、Δａ＊ｂ＊の最大値も６を超えていた比較例２では、Ｙθ／Ｙ２の最大値は６以下であったが、視認方向による反射光のａ＊の変化が大きく、Δａ＊ｂ＊の最大値が約１１となっていた。
【0064】
［反射防止層の膜厚の変更］
＜実施例１Ａ＞
実施例１の反射防止フィルムにおいて、反射防止層を構成する８層の薄膜の膜厚を、１層ずつ変化させて同様のシミュレーションを実施した。それぞれの反射防止フィルムにおける反射防止層の膜厚、２°正反射光の特性、およびθ＝５～４５°の範囲におけるＹθ／Ｙ２およびΔａ＊ｂ＊の最大値を表３に示す。表３において、Ｎｏ．１の反射防止フィルムは、実施例１と同じである。Ｎｏ．２～５は第１層（高屈折率層）の厚みを変更したものであり、Ｎｏ．６～９は第２層（低高屈折率層）の厚みを変更したものであり、Ｎｏ．１０～１３は第３層（高屈折率層）の厚みを変更したものであり、Ｎｏ．１４～１７は第４層（低高屈折率層）の厚みを変更したものであり、Ｎｏ．１８～２１は第５層（高屈折率層）の厚みを変更したものであり、Ｎｏ．２２～２５は第６層（低高屈折率層）の厚みを変更したものであり、Ｎｏ．２６～２９は第７層（高屈折率層）の厚みを変更したものであり、Ｎｏ．３０～３３は第８層（低高屈折率層）の厚みを変更したものである。
＜実施例１Ａ＞
実施例１の反射防止フィルムにおいて、反射防止層を構成する８層の薄膜の膜厚を、１層ずつ変化させて同様のシミュレーションを実施した。それぞれの反射防止フィルムにおける反射防止層の膜厚、２°正反射光の特性、およびθ＝５～４５°の範囲におけるＹθ／Ｙ２およびΔａ＊ｂ＊の最大値を表３に示す。表３において、Ｎｏ．１の反射防止フィルムは、実施例１と同じである。Ｎｏ．２～５は第１層（高屈折率層）の厚みを変更したものであり、Ｎｏ．６～９は第２層（低高屈折率層）の厚みを変更したものであり、Ｎｏ．１０～１３は第３層（高屈折率層）の厚みを変更したものであり、Ｎｏ．１４～１７は第４層（低高屈折率層）の厚みを変更したものであり、Ｎｏ．１８～２１は第５層（高屈折率層）の厚みを変更したものであり、Ｎｏ．２２～２５は第６層（低高屈折率層）の厚みを変更したものであり、Ｎｏ．２６～２９は第７層（高屈折率層）の厚みを変更したものであり、Ｎｏ．３０～３３は第８層（低高屈折率層）の厚みを変更したものである。
【0065】
【表3】
【0066】
表３に示す結果から、第１層（Ｎｂ２Ｏ５）の厚みが８～１０ｎｍ、第２層（ＳｉＯ２）の厚みが４１～４５ｎｍ、第３層（Ｎｂ２Ｏ５）の厚みが２１～２５ｎｍ、第４層（ＳｉＯ２）の厚みが１８～２０ｎｍ、第５層（Ｎｂ２Ｏ５）の厚みが７７～９５ｎｍ、第６層（ＳｉＯ２）の厚みが１０．５～１５ｎｍ、第７層（Ｎｂ２Ｏ５）の厚みが２５～３０ｎｍ、第８層（ＳｉＯ２）の厚みが６０～８９ｎｍ程度の範囲であれば、θ＝５～４５°の範囲におけるＹθ／Ｙ２が６％以下、かつΔａ＊ｂ＊が６以下である反射防止フィルムが得られることが分かる。
【0067】
＜実施例２Ａ＞
実施例２の反射防止フィルムにおいて、反射防止層を構成する８層の薄膜の膜厚を、１層ずつ変化させて同様のシミュレーションを実施した。各層の膜厚および評価結果を表４に示す。
実施例２の反射防止フィルムにおいて、反射防止層を構成する８層の薄膜の膜厚を、１層ずつ変化させて同様のシミュレーションを実施した。各層の膜厚および評価結果を表４に示す。
【0068】
【表4】
【0069】
表４に示す結果から、第１層（Ｓｉ３Ｎ４）の厚みが５～１０ｎｍ、第２層（ＳｉＯ２）の厚みが４８～６０ｎｍ、第３層（Ｓｉ３Ｎ４）の厚みが２３～２７ｎｍ、第４層（ＳｉＯ２）の厚みが２３～３２ｎｍ、第５層（Ｓｉ３Ｎ４）厚みが８５～１０５ｎｍ、第６層（ＳｉＯ２）の厚みが４～７ｎｍ、第７層（Ｓｉ３Ｎ４）の厚みが４０～５０ｎｍ、第８層（ＳｉＯ２）の厚みが７０～９５ｎｍ程度の範囲であれば、θ＝５～４５°の範囲におけるＹθ／Ｙ２が６％以下、かつΔａ＊ｂ＊が６以下である反射防止フィルムが得られることが分かる。
【0070】
＜実施例３Ａ＞
実施例３の反射防止フィルムにおいて、反射防止層を構成する６層の薄膜の膜厚を、１層ずつ変化させて同様のシミュレーションを実施した。各層の膜厚および評価結果を表５に示す。
実施例３の反射防止フィルムにおいて、反射防止層を構成する６層の薄膜の膜厚を、１層ずつ変化させて同様のシミュレーションを実施した。各層の膜厚および評価結果を表５に示す。
【0071】
【表5】
【0072】
表５に示す結果から、第１層（Ｎｂ２Ｏ５）の厚みが９～１０．５ｎｍ、第２層（ＳｉＯ２）の厚みが４１～４７ｎｍ、第３層（Ｎｂ２Ｏ５）の厚みが２５～２８ｎｍ、第４層（ＳｉＯ２）の厚みが３９～４２ｎｍ、第５層（Ｎｂ２Ｏ５）の厚みが１７～２３ｎｍ、第６層（ＳｉＯ２）の厚みが９０～１０６ｎｍ程度の範囲であれば、θ＝５～４５°の範囲におけるＹθ／Ｙ２が６％以下、かつΔａ＊ｂ＊が６以下である反射防止フィルムが得られることが分かる。
【0073】
＜実施例４Ａ＞
実施例４の反射防止フィルムにおいて、反射防止層を構成する６層の薄膜の膜厚を、１層ずつ変化させて同様のシミュレーションを実施した。各層の膜厚および評価結果を表６に示す。
実施例４の反射防止フィルムにおいて、反射防止層を構成する６層の薄膜の膜厚を、１層ずつ変化させて同様のシミュレーションを実施した。各層の膜厚および評価結果を表６に示す。
【0074】
【表6】
【0075】
表６に示す結果から、第１層（Ｓｉ３Ｎ４）の厚みが１３～１６．５ｎｍ、第２層（ＳｉＯ２）の厚みが３２～４０ｎｍ、第３層（Ｓｉ３Ｎ４）の厚みが４７～５５ｎｍ、第４層（ＳｉＯ２）の厚みが２０．５～２４ｎｍ、第５層（Ｓｉ３Ｎ４）厚みが３４～４４．５ｎｍ、第６層（ＳｉＯ２）の厚みが８２～９８ｎｍ程度の範囲であれば、θ＝５～４５°の範囲におけるＹθ／Ｙ２が６％以下、かつΔａ＊ｂ＊が６以下である反射防止フィルムが得られることが分かる。
【0076】
＜実施例５Ａ＞
実施例５の反射防止フィルムにおいて、反射防止層を構成する６層の薄膜の膜厚を、１層ずつ変化させて同様のシミュレーションを実施した。各層の膜厚および評価結果を表７に示す。
実施例５の反射防止フィルムにおいて、反射防止層を構成する６層の薄膜の膜厚を、１層ずつ変化させて同様のシミュレーションを実施した。各層の膜厚および評価結果を表７に示す。
【0077】
【表7】
【0078】
表７に示す結果から、第１層（ＳｉＯＮ）の厚みが１３～１９．５ｎｍ、第２層（ＳｉＯ２）の厚みが２２～３７ｎｍ、第３層（ＳｉＯＮ）の厚みが５８～８０ｎｍ、第４層（ＳｉＯ２）の厚みが２～１０ｎｍ、第５層（ＳｉＯＮ）厚みが５９～８５ｎｍ、第６層（ＳｉＯ２）の厚みが６５～９５ｎｍ程度の範囲であれば、θ＝５～４５°の範囲におけるＹθ／Ｙ２が６％以下、かつΔａ＊ｂ＊が６以下である反射防止フィルムが得られることが分かる。
【0079】
＜比較例１Ａ＞
比較例１の反射防止フィルムにおいて、反射防止層を構成する４層の薄膜の膜厚を、１層ずつ変化させて同様のシミュレーションを実施した。各層の膜厚および評価結果を表８に示す。
比較例１の反射防止フィルムにおいて、反射防止層を構成する４層の薄膜の膜厚を、１層ずつ変化させて同様のシミュレーションを実施した。各層の膜厚および評価結果を表８に示す。
【0080】
【表8】
【0081】
＜比較例２Ａ＞
比較例２の反射防止フィルムにおいて、反射防止層を構成する４層の薄膜の膜厚を、１層ずつ変化させて同様のシミュレーションを実施した。各層の膜厚および評価結果を表９に示す。
比較例２の反射防止フィルムにおいて、反射防止層を構成する４層の薄膜の膜厚を、１層ずつ変化させて同様のシミュレーションを実施した。各層の膜厚および評価結果を表９に示す。
【0082】
【表9】
【0083】
表８，９に示すように、反射防止層を構成する薄膜の数が４層の場合は、薄膜の厚みを変更しても、θ＝５～４５°の範囲の任意のθに対してＹθ／Ｙ２が６％以下、かつΔａ＊ｂ＊が６以下である反射防止フィルムは得られなかった。
【0084】
上記の結果から、反射防止フィルムを構成する薄膜の数を５層以上、好ましくは６層以上とすることにより、より緻密な光学設計が可能となり、視認方向を変化させた際の反射光の特性変化が小さい反射防止フィルムが得られることが分かる。
【0085】
薄膜の膜厚の最適値は、薄膜を構成する材料の屈折率等によって異なるため、一概に規定することは困難である。一方で、表３～７に示したように、反射防止フィルムを構成する薄膜の厚みを変更しながら光学シミュレーションを繰り返すことにより、Ｙθ／Ｙ２やΔａ＊ｂ＊がより小さい条件を見出すことが可能である。そのため、上記の実施例に示した材料以外の薄膜を用いた場合においても、視認方向を変化させた際の反射光の特性変化が小さい反射防止フィルムを設計することが可能である。
【0086】
［プライマー層の挿入］
＜実施例１Ｂ＞
実施例１の反射防止フィルムにおいて、ハードコートフィルムのアクリル系ハードコート層と反射防止層（１層目のＮｂ２Ｏ５層）との間に、厚み３ｎｍのＳｉＯｘプライマー層（ｘ＝０．６５、波長５５０ｎｍにおける屈折率；１．７２）を追加して、同様のシミュレーションを実施した。実施例１Ｂの光学シミュレーションの結果を、実施例１の結果とともに表１０に示す。
＜実施例１Ｂ＞
実施例１の反射防止フィルムにおいて、ハードコートフィルムのアクリル系ハードコート層と反射防止層（１層目のＮｂ２Ｏ５層）との間に、厚み３ｎｍのＳｉＯｘプライマー層（ｘ＝０．６５、波長５５０ｎｍにおける屈折率；１．７２）を追加して、同様のシミュレーションを実施した。実施例１Ｂの光学シミュレーションの結果を、実施例１の結果とともに表１０に示す。
【0087】
【表10】
【0088】
実施例１Ｂでは、正反射光のクロマティクネス指数ａ＊
２およびｂ＊
２が実施例１から若干変化していたが、角度θを変化させた際の反射光特性の変化の指標であるＹθ／Ｙ２およびΔａ＊ｂ＊の数値は、実施例１と特段の差はみられなかった。この結果から、フィルム基材と反射防止層との間にプライマー層を設けた場合も、上記の各実施例と同様に反射防止層の積層構成および膜厚を調整することにより、視認方向を変化させた際の反射光の特性変化が小さい反射防止フィルムが得られることが分かる。
【符号の説明】
【0089】
１ フィルム基材
３ プライマー層
５ 反射防止層
５１，５３，５５ 低屈折率層
５２，５４，５６ 高屈折率層
１００ 反射防止フィルム
３ プライマー層
５ 反射防止層
５１，５３，５５ 低屈折率層
５２，５４，５６ 高屈折率層
１００ 反射防止フィルム
【図1】
【図2】