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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024062602
(43)【公開日】2024-05-10
(54)【発明の名称】加熱調理方法及び加熱調理装置
(51)【国際特許分類】
F24C 1/00 20060101AFI20240501BHJP
F24C 15/16 20060101ALI20240501BHJP
【ＦＩ】
F24C1/00 380J
F24C15/16 B
F24C1/00 310B
F24C1/00 330Z
【審査請求】未請求
【請求項の数】8
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022170557
(22)【出願日】2022-10-25
【新規性喪失の例外の表示】特許法第３０条第２項適用申請有り 令和４年２月１５日～令和４年２月１８日に第２２回 厨房設備機器展にて公開 令和４年３月９日～令和４年３月１１日に第１回 フードテックジャパン［大阪］にて公開 令和４年６月７日～令和４年６月１０日にＦＯＯＭＡ ＪＡＰＡＮ ２０２２（国際食品工業展）にて公開 令和４年９月２８日～令和４年９月３０日にフードシステムソリューション（Ｆ－ＳＹＳ）２０２２にて公開 令和４年１０月１２日～令和４年１０月１４日に第１２回 農業Ｗｅｅｋにて公開
(71)【出願人】
【識別番号】390007456
【氏名又は名称】株式会社中西製作所
(72)【発明者】
【氏名】込山 智樹
(57)【要約】
【課題】扉部を開けたときの調理室内の温度低下を抑制する加熱調理方法及び加熱調理装置を提供する。
【解決手段】調理室の正面側に有する扉部と、調理室の壁面の一部に沿うように設け、壁面との間に間隙を形成する加熱プレートと、間隙内に位置させ、調理室内の流体と、調理室の壁面及び加熱プレートとを加熱する加熱手段と、調理物を調理室内で配置する配置手段とを備え、加熱手段により、調理室の壁面及び加熱プレートを加熱するとともに、調理室内の流体の温度を、所定の温度まで加熱し、扉部を開けて形成される調理室の開口から調理物を調理室内に配置するときに、調理室内で比較的温度の高い流体を間隙に滞留させ、調理室内へと調理物を配置して扉部を閉め、間隙に滞留させた流体及び加熱された加熱プレートにより、常温の大気の流入により温度の低下した調理室内の流体を加熱し、加熱された流体により調理物を加熱調理するものである。
【選択図】図５
【解決手段】調理室の正面側に有する扉部と、調理室の壁面の一部に沿うように設け、壁面との間に間隙を形成する加熱プレートと、間隙内に位置させ、調理室内の流体と、調理室の壁面及び加熱プレートとを加熱する加熱手段と、調理物を調理室内で配置する配置手段とを備え、加熱手段により、調理室の壁面及び加熱プレートを加熱するとともに、調理室内の流体の温度を、所定の温度まで加熱し、扉部を開けて形成される調理室の開口から調理物を調理室内に配置するときに、調理室内で比較的温度の高い流体を間隙に滞留させ、調理室内へと調理物を配置して扉部を閉め、間隙に滞留させた流体及び加熱された加熱プレートにより、常温の大気の流入により温度の低下した調理室内の流体を加熱し、加熱された流体により調理物を加熱調理するものである。
【選択図】図５
【特許請求の範囲】
【請求項1】
直方体形状の略密閉した状態の調理室内で、調理物を加熱調理する加熱調理方法において、
前記調理室の壁面と、前記調理室の壁面の一部に沿うように設けた加熱プレートとの間に間隙を形成し、前記間隙内に位置させた加熱手段により、前記調理室の壁面及び前記加熱プレートを加熱するとともに、前記調理室内の流体の温度を、調理物を加熱調理する温度である所定の温度まで加熱する加熱ステップと、
前記調理室の正面側に有する扉部を開けて形成される前記調理室の開口から、前記加熱ステップで加熱した流体が流動する前記調理室内へと調理物を配置して、前記扉部を閉める配置ステップと、
前記配置ステップで前記調理室内へと配置した調理物を、前記加熱ステップで加熱した流体で加熱調理する加熱調理ステップと、
前記加熱調理ステップで加熱調理した調理物を、前記扉部を開けて前記調理室の開口から取り出す取り出しステップと、
を含み、
前記配置ステップでは、
前記扉部を開けたとき、前記調理室内で比較的温度の高い流体を前記間隙に滞留させ、
前記調理室内へと調理物を配置して前記扉部を閉めた後、前記間隙に滞留させた流体及び前記加熱された加熱プレートにより、常温の大気の流入により温度の低下した前記調理室内の流体を加熱し、前記加熱調理ステップで前記加熱された流体により調理物を加熱調理する
ことを特徴とする加熱調理方法。
前記調理室の壁面と、前記調理室の壁面の一部に沿うように設けた加熱プレートとの間に間隙を形成し、前記間隙内に位置させた加熱手段により、前記調理室の壁面及び前記加熱プレートを加熱するとともに、前記調理室内の流体の温度を、調理物を加熱調理する温度である所定の温度まで加熱する加熱ステップと、
前記調理室の正面側に有する扉部を開けて形成される前記調理室の開口から、前記加熱ステップで加熱した流体が流動する前記調理室内へと調理物を配置して、前記扉部を閉める配置ステップと、
前記配置ステップで前記調理室内へと配置した調理物を、前記加熱ステップで加熱した流体で加熱調理する加熱調理ステップと、
前記加熱調理ステップで加熱調理した調理物を、前記扉部を開けて前記調理室の開口から取り出す取り出しステップと、
を含み、
前記配置ステップでは、
前記扉部を開けたとき、前記調理室内で比較的温度の高い流体を前記間隙に滞留させ、
前記調理室内へと調理物を配置して前記扉部を閉めた後、前記間隙に滞留させた流体及び前記加熱された加熱プレートにより、常温の大気の流入により温度の低下した前記調理室内の流体を加熱し、前記加熱調理ステップで前記加熱された流体により調理物を加熱調理する
ことを特徴とする加熱調理方法。
【請求項2】
調理室内へと蒸気を供給する蒸気供給ステップをさらに備え、
前記蒸気供給ステップを行いつつ、前記蒸気供給ステップで調理室内へと供給した流体である蒸気を所定の温度に加熱する加熱ステップを行う
ことを特徴とする請求項１に記載の加熱調理方法。
前記蒸気供給ステップを行いつつ、前記蒸気供給ステップで調理室内へと供給した流体である蒸気を所定の温度に加熱する加熱ステップを行う
ことを特徴とする請求項１に記載の加熱調理方法。
【請求項3】
加熱ステップでは、
蒸気供給ステップで調理室内へと供給した蒸気を、前記調理室の奥側壁面に沿って下方に流動させ、
前記奥側壁面側から、前記調理室の底面に沿うように設けた加熱プレートである下加熱プレートと、前記調理室の底面と、扉部側の一辺を前記底面側に折り返して下端の一辺を前記底面へと当接させた下折返し部と、により前記扉部側を略閉鎖して形成した下滞留部内へと蒸気を流動させて滞留させ、
前記下滞留部内に位置させた加熱手段である下加熱手段により蒸気を加熱して過熱水蒸気とする
ことを特徴とする請求項２に記載の加熱調理方法。
蒸気供給ステップで調理室内へと供給した蒸気を、前記調理室の奥側壁面に沿って下方に流動させ、
前記奥側壁面側から、前記調理室の底面に沿うように設けた加熱プレートである下加熱プレートと、前記調理室の底面と、扉部側の一辺を前記底面側に折り返して下端の一辺を前記底面へと当接させた下折返し部と、により前記扉部側を略閉鎖して形成した下滞留部内へと蒸気を流動させて滞留させ、
前記下滞留部内に位置させた加熱手段である下加熱手段により蒸気を加熱して過熱水蒸気とする
ことを特徴とする請求項２に記載の加熱調理方法。
【請求項4】
蒸気供給ステップを行いつつ、加熱調理ステップを行い、
前記蒸気供給ステップを、前記加熱調理ステップを行っている間に停止する
ことを特徴とする請求項２又は３に記載の加熱調理方法。
前記蒸気供給ステップを、前記加熱調理ステップを行っている間に停止する
ことを特徴とする請求項２又は３に記載の加熱調理方法。
【請求項5】
直方体形状の略密閉された調理室内で、調理物を加熱調理する加熱調理装置において、
前記調理室の正面側に有する扉部と、
前記調理室の壁面の一部に沿うように設け、前記調理室の壁面との間に間隙を形成する加熱プレートと、
前記間隙内に位置させ、前記調理室内の流体を所定の温度に加熱するとともに、前記調理室の壁面及び前記加熱プレートを加熱する加熱手段と、
載置された調理物を、前記調理室内で配置する配置手段と、
を備え、
前記加熱手段により、前記調理室の壁面及び前記加熱プレートを加熱するとともに、前記調理室内の流体の温度を、調理物を加熱調理する温度である所定の温度まで加熱し、
前記扉部を開けて形成される調理室の開口から調理物を前記調理室内に配置するときに、前記調理室内で比較的温度の高い流体を前記間隙に滞留させ、
前記調理室内へと調理物を配置して前記扉部を閉め、前記間隙に滞留させた流体及び前記加熱された加熱プレートにより、常温の大気の流入により温度の低下した前記調理室内の流体を加熱し、前記加熱された流体により調理物を加熱調理する
ことを特徴とする加熱調理装置。
前記調理室の正面側に有する扉部と、
前記調理室の壁面の一部に沿うように設け、前記調理室の壁面との間に間隙を形成する加熱プレートと、
前記間隙内に位置させ、前記調理室内の流体を所定の温度に加熱するとともに、前記調理室の壁面及び前記加熱プレートを加熱する加熱手段と、
載置された調理物を、前記調理室内で配置する配置手段と、
を備え、
前記加熱手段により、前記調理室の壁面及び前記加熱プレートを加熱するとともに、前記調理室内の流体の温度を、調理物を加熱調理する温度である所定の温度まで加熱し、
前記扉部を開けて形成される調理室の開口から調理物を前記調理室内に配置するときに、前記調理室内で比較的温度の高い流体を前記間隙に滞留させ、
前記調理室内へと調理物を配置して前記扉部を閉め、前記間隙に滞留させた流体及び前記加熱された加熱プレートにより、常温の大気の流入により温度の低下した前記調理室内の流体を加熱し、前記加熱された流体により調理物を加熱調理する
ことを特徴とする加熱調理装置。
【請求項6】
調理室内の天面に沿うように設け、前記調理室の天面との間に間隙を形成する加熱プレートである上加熱プレートと、
前記間隙内に位置させた加熱手段である上加熱手段と、を備え、
前記上加熱プレートは、扉部側の一辺を前記調理室内の天面側に折り返した上折返し部を有し、
扉部を開けて調理物を前記調理室内に配置するとき、前記上折返し部により、前記扉部を開けたときに形成される前記調理室の開口から、前記間隙に滞留させた前記調理室内で比較的温度の高い流体が大気中へと流出してしまうことを抑制する
ことを特徴とする請求項５に記載の加熱調理装置。
前記間隙内に位置させた加熱手段である上加熱手段と、を備え、
前記上加熱プレートは、扉部側の一辺を前記調理室内の天面側に折り返した上折返し部を有し、
扉部を開けて調理物を前記調理室内に配置するとき、前記上折返し部により、前記扉部を開けたときに形成される前記調理室の開口から、前記間隙に滞留させた前記調理室内で比較的温度の高い流体が大気中へと流出してしまうことを抑制する
ことを特徴とする請求項５に記載の加熱調理装置。
【請求項7】
調理室内の底面に沿うように設け、前記調理室の底面との間に間隙を形成する加熱プレートである下加熱プレートと、
前記間隙内に位置させた加熱手段である下加熱手段と、を備え、
前記下加熱プレートは、扉部側の一辺を前記調理室内の底面側に折り返した下折返し部を有し、
扉部を開けて調理物を前記調理室内に配置するとき、前記下折返し部により、前記扉部を開けたときに形成される前記調理室の開口から、前記間隙に滞留させた前記調理室内で比較的温度の高い流体が大気中へと流出してしまうことを抑制する
ことを特徴とする請求項５又は６に記載の加熱調理装置。
前記間隙内に位置させた加熱手段である下加熱手段と、を備え、
前記下加熱プレートは、扉部側の一辺を前記調理室内の底面側に折り返した下折返し部を有し、
扉部を開けて調理物を前記調理室内に配置するとき、前記下折返し部により、前記扉部を開けたときに形成される前記調理室の開口から、前記間隙に滞留させた前記調理室内で比較的温度の高い流体が大気中へと流出してしまうことを抑制する
ことを特徴とする請求項５又は６に記載の加熱調理装置。
【請求項8】
調理室内の奥側に、供給口から下方に向けて前記調理室内に蒸気を供給する蒸気供給部と、
前記調理室のいずれかの壁面で、前記蒸気供給部の供給口よりも上方に位置して、前記調理室内の流体を前記調理室外へと排気する排気口と、
を備え、
前記蒸気供給部から供給する蒸気を、下加熱プレートと前記調理室内の底面との間に形成する間隙へと流動させて、下加熱手段により加熱する
ことを特徴とする請求項７に記載の加熱調理装置。
前記調理室のいずれかの壁面で、前記蒸気供給部の供給口よりも上方に位置して、前記調理室内の流体を前記調理室外へと排気する排気口と、
を備え、
前記蒸気供給部から供給する蒸気を、下加熱プレートと前記調理室内の底面との間に形成する間隙へと流動させて、下加熱手段により加熱する
ことを特徴とする請求項７に記載の加熱調理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、加熱調理方法及び加熱調理装置に関するものである。
【背景技術】
【0002】
従来、バッチ式の加熱調理装置において、調理室内に供給した熱風や蒸気、過熱水蒸気等の流体により調理物を調理する際、予備的に調理室内を所定の温度に加熱した流体で満たすとともに調理室内を加熱し、扉部を開けて調理物を調理室内へと配置し、扉部を閉めて調理物の加熱調理をしていた。
【0003】
そのようなバッチ式の加熱調理装置では、調理室内に調理物を配置する際に、扉部を開けることにより形成される開口を通じて、調理室内の所定の温度に加熱された流体が大気中へと流出してしまい、調理室内には常温の大気が流入して調理室内の流体の温度、及び調理室内の温度が低下していた。
【0004】
これにより、調理物を調理室内に配置した後には調理室内の温度が低下してしまい、調理物を所定の温度の流体で加熱調理することが困難となってしまうという課題があった。
【0005】
特許文献１に記載されたものは、内部に電気ヒータを設けたバッチ式の加熱調理器である。この加熱調理器には、調理室の扉部である主扉を分割して開閉できるようにした小さな扉である小扉を設けている。そして、調理室内へと調理物を配置するときには主扉を開閉することなく、小扉を開閉することにより、調理室内の加熱された流体が大気中へと流出すること、及び調理室内に常温の大気が流入することを抑制し、調理室内の温度が低下することを抑制する加熱調理器である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】実公昭５８－４３６８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
しかしながら、特許文献１に記載された加熱調理器では、小扉を開閉して調理室内へと配置することのできる調理物は、小扉を開けたときに形成される開口よりも小さな調理物である必要がある。そのため、小扉を開けたときに形成される開口よりも大きな調理物を調理室内へ配置、若しくは調理室内から取り出す場合は、結局のところ主扉を開けなくてはならず、調理室内の温度を低下させてしまうという課題は解決されていなかった。
【0008】
本願では、扉部を開けたときの、調理室内の温度低下を抑制することができる加熱調理方法及び加熱調理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
上記目的を達成するために本発明に係る加熱調理方法は、
直方体形状の略密閉した状態の調理室内で、調理物を加熱調理する加熱調理方法において、
前記調理室の壁面と、前記調理室の壁面の一部に沿うように設けた加熱プレートとの間に間隙を形成し、前記間隙内に位置させた加熱手段により、前記調理室の壁面及び前記加熱プレートを加熱するとともに、前記調理室内の流体の温度を、調理物を加熱調理する温度である所定の温度まで加熱する加熱ステップと、
前記調理室の正面側に有する扉部を開けて形成される前記調理室の開口から、前記加熱ステップで加熱した流体が流動する前記調理室内へと調理物を配置して、前記扉部を閉める配置ステップと、
前記配置ステップで前記調理室内へと配置した調理物を、前記加熱ステップで加熱した流体で加熱調理する加熱調理ステップと、
前記加熱調理ステップで加熱調理した調理物を、前記扉部を開けて前記調理室の開口から取り出す取り出しステップと、
を含み、
前記配置ステップでは、
前記扉部を開けたとき、前記調理室内で比較的温度の高い流体を前記間隙に滞留させ、
前記調理室内へと調理物を配置して前記扉部を閉めた後、前記間隙に滞留させた流体及び前記加熱された加熱プレートにより、常温の大気の流入により温度の低下した前記調理室内の流体を加熱し、前記加熱調理ステップで前記加熱された流体により調理物を加熱調理する
ことを特徴とするものである。
直方体形状の略密閉した状態の調理室内で、調理物を加熱調理する加熱調理方法において、
前記調理室の壁面と、前記調理室の壁面の一部に沿うように設けた加熱プレートとの間に間隙を形成し、前記間隙内に位置させた加熱手段により、前記調理室の壁面及び前記加熱プレートを加熱するとともに、前記調理室内の流体の温度を、調理物を加熱調理する温度である所定の温度まで加熱する加熱ステップと、
前記調理室の正面側に有する扉部を開けて形成される前記調理室の開口から、前記加熱ステップで加熱した流体が流動する前記調理室内へと調理物を配置して、前記扉部を閉める配置ステップと、
前記配置ステップで前記調理室内へと配置した調理物を、前記加熱ステップで加熱した流体で加熱調理する加熱調理ステップと、
前記加熱調理ステップで加熱調理した調理物を、前記扉部を開けて前記調理室の開口から取り出す取り出しステップと、
を含み、
前記配置ステップでは、
前記扉部を開けたとき、前記調理室内で比較的温度の高い流体を前記間隙に滞留させ、
前記調理室内へと調理物を配置して前記扉部を閉めた後、前記間隙に滞留させた流体及び前記加熱された加熱プレートにより、常温の大気の流入により温度の低下した前記調理室内の流体を加熱し、前記加熱調理ステップで前記加熱された流体により調理物を加熱調理する
ことを特徴とするものである。
【0010】
また、本発明に係る加熱調理装置は、
直方体形状の略密閉された調理室内で、調理物を加熱調理する加熱調理装置において、
前記調理室の正面側に有する扉部と、
前記調理室の壁面の一部に沿うように設け、前記調理室の壁面との間に間隙を形成する加熱プレートと、
前記間隙内に位置させ、前記調理室内の流体を所定の温度に加熱するとともに、前記調理室の壁面及び前記加熱プレートを加熱する加熱手段と、
載置された調理物を、前記調理室内で配置する配置手段と、
を備え、
前記加熱手段により、前記調理室の壁面及び前記加熱プレートを加熱するとともに、前記調理室内の流体の温度を、調理物を加熱調理する温度である所定の温度まで加熱し、
前記扉部を開けて形成される調理室の開口から調理物を前記調理室内に配置するときに、前記調理室内で比較的温度の高い流体を前記間隙に滞留させ、
前記調理室内へと調理物を配置して前記扉部を閉め、前記間隙に滞留させた流体及び前記加熱された加熱プレートにより、常温の大気の流入により温度の低下した前記調理室内の流体を加熱し、前記加熱された流体により調理物を加熱調理する
ことを特徴とするものである。
直方体形状の略密閉された調理室内で、調理物を加熱調理する加熱調理装置において、
前記調理室の正面側に有する扉部と、
前記調理室の壁面の一部に沿うように設け、前記調理室の壁面との間に間隙を形成する加熱プレートと、
前記間隙内に位置させ、前記調理室内の流体を所定の温度に加熱するとともに、前記調理室の壁面及び前記加熱プレートを加熱する加熱手段と、
載置された調理物を、前記調理室内で配置する配置手段と、
を備え、
前記加熱手段により、前記調理室の壁面及び前記加熱プレートを加熱するとともに、前記調理室内の流体の温度を、調理物を加熱調理する温度である所定の温度まで加熱し、
前記扉部を開けて形成される調理室の開口から調理物を前記調理室内に配置するときに、前記調理室内で比較的温度の高い流体を前記間隙に滞留させ、
前記調理室内へと調理物を配置して前記扉部を閉め、前記間隙に滞留させた流体及び前記加熱された加熱プレートにより、常温の大気の流入により温度の低下した前記調理室内の流体を加熱し、前記加熱された流体により調理物を加熱調理する
ことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【0011】
本発明の加熱調理方法及び加熱調理装置によれば、扉部を開けたときの、調理室内の温度低下を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【図1】本発明の一実施形態の加熱調理装置の全体的な構成を示す図で、（ａ）正面側斜視図、（ｂ）背面パネルを取り除いた状態を示す背面側から見たブロック図。
【図2】上記加熱調理装置の全体的な構成を示す右側面側から見たブロック図。
【図4】上記加熱調理装置の扉部を閉めた状態で、蒸気供給ステップを開始したときの様子、及び加熱ステップを行っている様子を示す右側面側から見たブロック図。
【図5】上記加熱調理装置の扉部を開けた状態で、配置ステップを行っている様子を示す右側面側から見たブロック図。
【図6】上記加熱調理装置の扉部を閉めた状態で、加熱調理ステップを行っている様子を示す右側面側から見たブロック図。
【図7】上記加熱調理装置の扉部を開けた状態で、取り出しステップを行っている様子を示す右側面側から見たブロック図。
【図8】上記加熱調理装置を用いた加熱調理方法のステップ図。
【発明を実施するための形態】
【0013】
第１の発明は、
直方体形状の略密閉した状態の調理室内で、調理物を加熱調理する加熱調理方法において、
前記調理室の壁面と、前記調理室の壁面の一部に沿うように設けた加熱プレートとの間に間隙を形成し、前記間隙内に位置させた加熱手段により、前記調理室の壁面及び前記加熱プレートを加熱するとともに、前記調理室内の流体の温度を、調理物を加熱調理する温度である所定の温度まで加熱する加熱ステップと、
前記調理室の正面側に有する扉部を開けて形成される前記調理室の開口から、前記加熱ステップで加熱した流体が流動する前記調理室内へと調理物を配置して、前記扉部を閉める配置ステップと、
前記配置ステップで前記調理室内へと配置した調理物を、前記加熱ステップで加熱した流体で加熱調理する加熱調理ステップと、
前記加熱調理ステップで加熱調理した調理物を、前記扉部を開けて前記調理室の開口から取り出す取り出しステップと、
を含み、
前記配置ステップでは、
前記扉部を開けたとき、前記調理室内で比較的温度の高い流体を前記間隙に滞留させ、
前記調理室内へと調理物を配置して前記扉部を閉めた後、前記間隙に滞留させた流体及び前記加熱された加熱プレートにより、常温の大気の流入により温度の低下した前記調理室内の流体を加熱し、前記加熱調理ステップで前記加熱された流体により調理物を加熱調理する
ことを特徴とする加熱調理方法としたものである。
直方体形状の略密閉した状態の調理室内で、調理物を加熱調理する加熱調理方法において、
前記調理室の壁面と、前記調理室の壁面の一部に沿うように設けた加熱プレートとの間に間隙を形成し、前記間隙内に位置させた加熱手段により、前記調理室の壁面及び前記加熱プレートを加熱するとともに、前記調理室内の流体の温度を、調理物を加熱調理する温度である所定の温度まで加熱する加熱ステップと、
前記調理室の正面側に有する扉部を開けて形成される前記調理室の開口から、前記加熱ステップで加熱した流体が流動する前記調理室内へと調理物を配置して、前記扉部を閉める配置ステップと、
前記配置ステップで前記調理室内へと配置した調理物を、前記加熱ステップで加熱した流体で加熱調理する加熱調理ステップと、
前記加熱調理ステップで加熱調理した調理物を、前記扉部を開けて前記調理室の開口から取り出す取り出しステップと、
を含み、
前記配置ステップでは、
前記扉部を開けたとき、前記調理室内で比較的温度の高い流体を前記間隙に滞留させ、
前記調理室内へと調理物を配置して前記扉部を閉めた後、前記間隙に滞留させた流体及び前記加熱された加熱プレートにより、常温の大気の流入により温度の低下した前記調理室内の流体を加熱し、前記加熱調理ステップで前記加熱された流体により調理物を加熱調理する
ことを特徴とする加熱調理方法としたものである。
【0014】
これにより、扉部を開けて調理室内へと調理物を配置するときに、調理室内の流体が大気中へと流出して調理室内に常温の大気を流入させたとしても、調理室内で比較的温度の高い流体を調理室の壁面と加熱プレートとの間に設けた間隙に滞留させて、扉部を開けることによる調理室内の温度低下を抑制することができる。
【0015】
また、調理物を調理室内に配置して扉部を閉めた後には、間隙に滞留させていた調理室内で比較的温度の高い流体と、加熱された加熱プレートと、により調理室内の流体の温度を可能な限り短い時間で所定の温度まで加熱し、調理物を所定の温度の流体で加熱調理するまでの時間を可能な限り短くすることができる。
【0016】
第２の発明は、第１の発明において、
調理室内へと蒸気を供給する蒸気供給ステップをさらに備え、
前記蒸気供給ステップを行いつつ、前記蒸気供給ステップで調理室内へと供給した流体である蒸気を所定の温度に加熱する加熱ステップを行う
ことを特徴とする加熱調理方法としたものである。
調理室内へと蒸気を供給する蒸気供給ステップをさらに備え、
前記蒸気供給ステップを行いつつ、前記蒸気供給ステップで調理室内へと供給した流体である蒸気を所定の温度に加熱する加熱ステップを行う
ことを特徴とする加熱調理方法としたものである。
【0017】
これにより、調理室内で調理物を加熱した蒸気により加熱調理することができ、調理物に合わせた多様な加熱調理を行うことができる。
【0018】
第３の発明は、第２の発明において、
加熱ステップでは、
蒸気供給ステップで調理室内へと供給した蒸気を、前記調理室の奥側壁面に沿って下方に流動させ、
前記奥側壁面側から、前記調理室の底面に沿うように設けた加熱プレートである下加熱プレートと、前記調理室の底面と、扉部側の一辺を前記底面側に折り返して下端の一辺を前記底面へと当接させた下折返し部と、により前記扉部側を略閉鎖して形成した下滞留部内へと蒸気を流動させて滞留させ、
前記下滞留部内に位置させた加熱手段である下加熱手段により蒸気を加熱して過熱水蒸気とする
ことを特徴とする加熱調理方法としたものである。
加熱ステップでは、
蒸気供給ステップで調理室内へと供給した蒸気を、前記調理室の奥側壁面に沿って下方に流動させ、
前記奥側壁面側から、前記調理室の底面に沿うように設けた加熱プレートである下加熱プレートと、前記調理室の底面と、扉部側の一辺を前記底面側に折り返して下端の一辺を前記底面へと当接させた下折返し部と、により前記扉部側を略閉鎖して形成した下滞留部内へと蒸気を流動させて滞留させ、
前記下滞留部内に位置させた加熱手段である下加熱手段により蒸気を加熱して過熱水蒸気とする
ことを特徴とする加熱調理方法としたものである。
【0019】
これにより、調理室内へと供給した蒸気を下滞留部内に滞留させながら安定して過熱水蒸気へと加熱することができ、加熱調理ステップでは調理物を過熱水蒸気で加熱調理することができる。
【0020】
第４の発明は、第２又は３の発明において、
蒸気供給ステップを行いつつ、加熱調理ステップを行い、
前記蒸気供給ステップを、前記加熱調理ステップを行っている間に停止する
ことを特徴とする加熱調理方法としたものである。
蒸気供給ステップを行いつつ、加熱調理ステップを行い、
前記蒸気供給ステップを、前記加熱調理ステップを行っている間に停止する
ことを特徴とする加熱調理方法としたものである。
【0021】
これより、多様な加熱調理に対応することができる。
【0022】
第５の発明は、
直方体形状の略密閉された調理室内で、調理物を加熱調理する加熱調理装置において、
前記調理室の正面側に有する扉部と、
前記調理室の壁面の一部に沿うように設け、前記調理室の壁面との間に間隙を形成する加熱プレートと、
前記間隙内に位置させ、前記調理室内の流体を所定の温度に加熱するとともに、前記調理室の壁面及び前記加熱プレートを加熱する加熱手段と、
載置された調理物を、前記調理室内で配置する配置手段と、
を備え、
前記加熱手段により、前記調理室の壁面及び前記加熱プレートを加熱するとともに、前記調理室内の流体の温度を、調理物を加熱調理する温度である所定の温度まで加熱し、
前記扉部を開けて形成される調理室の開口から調理物を前記調理室内に配置するときに、前記調理室内で比較的温度の高い流体を前記間隙に滞留させ、
前記調理室内へと調理物を配置して前記扉部を閉め、前記間隙に滞留させた流体及び前記加熱された加熱プレートにより、常温の大気の流入により温度の低下した前記調理室内の流体を加熱し、前記加熱された流体により調理物を加熱調理する
ことを特徴とする加熱調理装置としたものである。
直方体形状の略密閉された調理室内で、調理物を加熱調理する加熱調理装置において、
前記調理室の正面側に有する扉部と、
前記調理室の壁面の一部に沿うように設け、前記調理室の壁面との間に間隙を形成する加熱プレートと、
前記間隙内に位置させ、前記調理室内の流体を所定の温度に加熱するとともに、前記調理室の壁面及び前記加熱プレートを加熱する加熱手段と、
載置された調理物を、前記調理室内で配置する配置手段と、
を備え、
前記加熱手段により、前記調理室の壁面及び前記加熱プレートを加熱するとともに、前記調理室内の流体の温度を、調理物を加熱調理する温度である所定の温度まで加熱し、
前記扉部を開けて形成される調理室の開口から調理物を前記調理室内に配置するときに、前記調理室内で比較的温度の高い流体を前記間隙に滞留させ、
前記調理室内へと調理物を配置して前記扉部を閉め、前記間隙に滞留させた流体及び前記加熱された加熱プレートにより、常温の大気の流入により温度の低下した前記調理室内の流体を加熱し、前記加熱された流体により調理物を加熱調理する
ことを特徴とする加熱調理装置としたものである。
【0023】
これにより、扉部を開けて調理室内へと調理物を配置するときに、調理室内の流体が大気中へと流出して調理室内に常温の大気を流入させたとしても、調理室内で比較的温度の高い流体を調理室の壁面と加熱プレートとの間に設けた間隙に滞留させて、扉部を開けることによる調理室内の温度低下を抑制することができる。
【0024】
また、調理物を調理室内に配置して扉部を閉めた後には、間隙に滞留させていた調理室内で比較的温度の高い流体と、加熱された加熱プレートと、により調理室内の流体の温度を可能な限り短い時間で所定の温度まで加熱し、調理物を所定の温度の流体で加熱調理するまでの時間を可能な限り短くすることができる。
【0025】
第６の発明は、第５の発明において、
調理室内の天面に沿うように設け、前記調理室の天面との間に間隙を形成する加熱プレートである上加熱プレートと、
前記間隙内に位置させた加熱手段である上加熱手段と、を備え、
前記上加熱プレートは、扉部側の一辺を前記調理室内の天面側に折り返した上折返し部を有し、
扉部を開けて調理物を前記調理室内に配置するとき、前記上折返し部により、前記扉部を開けたときに形成される前記調理室の開口から、前記間隙に滞留させた前記調理室内で比較的温度の高い流体が大気中へと流出してしまうことを抑制する
ことを特徴とする加熱調理装置としたものである。
調理室内の天面に沿うように設け、前記調理室の天面との間に間隙を形成する加熱プレートである上加熱プレートと、
前記間隙内に位置させた加熱手段である上加熱手段と、を備え、
前記上加熱プレートは、扉部側の一辺を前記調理室内の天面側に折り返した上折返し部を有し、
扉部を開けて調理物を前記調理室内に配置するとき、前記上折返し部により、前記扉部を開けたときに形成される前記調理室の開口から、前記間隙に滞留させた前記調理室内で比較的温度の高い流体が大気中へと流出してしまうことを抑制する
ことを特徴とする加熱調理装置としたものである。
【0026】
これにより、調理室内で比較的温度の高い流体が集まりやすい調理室内の天面付近で間隙を形成することができる。そして、扉部を開けたときに、調理室内で比較的温度の高い流体をその間隙に滞留させたままとしやすくすることができる。
【0027】
第７の発明は、第５又は６の発明において、
調理室内の底面に沿うように設け、前記調理室の底面との間に間隙を形成する加熱プレートである下加熱プレートと、
前記間隙内に位置させた加熱手段である下加熱手段と、を備え、
前記下加熱プレートは、扉部側の一辺を前記調理室内の底面側に折り返した下折返し部を有し、
扉部を開けて調理物を前記調理室内に配置するとき、前記下折返し部により、前記扉部を開けたときに形成される前記調理室の開口から、前記間隙に滞留させた前記調理室内で比較的温度の高い流体が大気中へと流出してしまうことを抑制する
ことを特徴とする加熱調理装置としたものである。
調理室内の底面に沿うように設け、前記調理室の底面との間に間隙を形成する加熱プレートである下加熱プレートと、
前記間隙内に位置させた加熱手段である下加熱手段と、を備え、
前記下加熱プレートは、扉部側の一辺を前記調理室内の底面側に折り返した下折返し部を有し、
扉部を開けて調理物を前記調理室内に配置するとき、前記下折返し部により、前記扉部を開けたときに形成される前記調理室の開口から、前記間隙に滞留させた前記調理室内で比較的温度の高い流体が大気中へと流出してしまうことを抑制する
ことを特徴とする加熱調理装置としたものである。
【0028】
これにより、扉部を開けたときに、調理室の底面と下加熱プレートとの間に形成する間隙に、調理室内で比較的温度の高い流体を、滞留させたままとしやすくすることができる。
【0029】
第８の発明は、第７の発明において、
調理室内の奥側に、供給口から下方に向けて前記調理室内に蒸気を供給する蒸気供給部と、
前記調理室のいずれかの壁面で、前記蒸気供給部の供給口よりも上方に位置して、前記調理室内の流体を前記調理室外へと排気する排気口と、
を備え、
前記蒸気供給部から供給する蒸気を、下加熱プレートと前記調理室内の底面との間に形成する間隙へと流動させて、下加熱手段により加熱する
ことを特徴とする加熱調理装置としたものである。
調理室内の奥側に、供給口から下方に向けて前記調理室内に蒸気を供給する蒸気供給部と、
前記調理室のいずれかの壁面で、前記蒸気供給部の供給口よりも上方に位置して、前記調理室内の流体を前記調理室外へと排気する排気口と、
を備え、
前記蒸気供給部から供給する蒸気を、下加熱プレートと前記調理室内の底面との間に形成する間隙へと流動させて、下加熱手段により加熱する
ことを特徴とする加熱調理装置としたものである。
【0030】
これにより、調理室内へと供給した蒸気を下加熱プレートと調理室内の底面との間に形成する間隙へと流動させて、下加熱手段により加熱することができる。そして、調理物を加熱調理するのに適した温度の蒸気とすることができる。
【0031】
また、排気口が蒸気供給部の供給口よりも上方に位置するため、供給口から供給された蒸気が調理物を加熱調理する前に調理室外へと排出されることを抑制し、調理室内へと供給した蒸気を無駄なく調理物の加熱調理に使用することができる。
【0032】
（実施形態１）
（加熱調理装置の構成）
まず、本発明の加熱調理装置１について、基本的な構成を説明する。
（加熱調理装置の構成）
まず、本発明の加熱調理装置１について、基本的な構成を説明する。
【0033】
図１（ａ）及び図２に示すように、加熱調理装置１は、
板金により形成されたハウジング１１内に直方体形状の調理室５０を設け、調理室５０の正面側に取手１２ａを把持することで開閉可能とした扉部１２を有する本体部１０と、
本体部１０に備える機器と接続し、接続した機器の制御を制御手段２１により行いつつ、表示手段２２に各種情報を表示する制御部２０と、
により構成される。
板金により形成されたハウジング１１内に直方体形状の調理室５０を設け、調理室５０の正面側に取手１２ａを把持することで開閉可能とした扉部１２を有する本体部１０と、
本体部１０に備える機器と接続し、接続した機器の制御を制御手段２１により行いつつ、表示手段２２に各種情報を表示する制御部２０と、
により構成される。
【0034】
（本体部）
本体部１０は、図２に示すように、
図示しない軟水器から給水配管３６を通じて給水した軟水を貯水し、熱交換器３４により加熱して蒸気を発生させる貯水槽３０と、
貯水槽３０で発生させた蒸気を、蒸気供給管４１を通じて供給口４２から調理室５０内へと供給する蒸気供給部４０と、
取手１２ａを把持して扉部１２を開くことにより、調理物Ｗを載置した調理トレイ（配置手段）５７を配置し、扉部１２を閉めて蒸気を加熱することで生成した過熱水蒸気により調理物Ｗを加熱調理する調理室５０と、
調理室５０内の過熱水蒸気や蒸気を、排気口８２から、排気管８１を通じて調理室５０外へと排気する排気部８０と、
調理室５０内で発生した水分や油等を排出口９２から、排出管９１を通じて排出する排出部９０と、
により構成される。
本体部１０は、図２に示すように、
図示しない軟水器から給水配管３６を通じて給水した軟水を貯水し、熱交換器３４により加熱して蒸気を発生させる貯水槽３０と、
貯水槽３０で発生させた蒸気を、蒸気供給管４１を通じて供給口４２から調理室５０内へと供給する蒸気供給部４０と、
取手１２ａを把持して扉部１２を開くことにより、調理物Ｗを載置した調理トレイ（配置手段）５７を配置し、扉部１２を閉めて蒸気を加熱することで生成した過熱水蒸気により調理物Ｗを加熱調理する調理室５０と、
調理室５０内の過熱水蒸気や蒸気を、排気口８２から、排気管８１を通じて調理室５０外へと排気する排気部８０と、
調理室５０内で発生した水分や油等を排出口９２から、排出管９１を通じて排出する排出部９０と、
により構成される。
【0035】
また、図１（ａ）に示すハウジング１１は、本体部１０に着脱自在に取り付けた背面パネル１１ａを有する。背面パネル１１ａの上部には、加熱調理装置１の背面側に開口する二つの排気部パネル１１ｂを設けており、二つの排気部パネル１１ｂ内では、排気管８１の上端が大気開放されている。
【0036】
【0037】
（貯水槽）
図１（ｂ）に示すように、加熱調理装置１の本体部１０の背面側には、バルブ３７を開放し、図示しない軟水器から給水配管３６を通じて給水した軟水を貯水する貯水槽３０を備える。
図１（ｂ）に示すように、加熱調理装置１の本体部１０の背面側には、バルブ３７を開放し、図示しない軟水器から給水配管３６を通じて給水した軟水を貯水する貯水槽３０を備える。
【0038】
図２に示すように、貯水槽３０は、給水した軟水の水位を検知する水位センサ（センサ）３３と、軟水の温度を検知する第１の温度センサ（センサ）３５、貯水槽３０に貯水した軟水を所定の温度、例えば６０度Ｃ～１００度Ｃに加熱する、例えばシーズヒータである熱交換器３４と、バルブ３９を開放することにより貯水槽３０内に貯水した軟水を排水する排水管３８と、を有している。
【0039】
また、貯水槽３０に被さり固定された蓋３１には、熱交換器３４により軟水を加熱することで発生させた蒸気を、蒸気供給部４０へと流動させるための開口である蒸気口３２を有する。
【0040】
なお、貯水槽３０に貯水する軟水は、熱交換器３４により加熱して蒸発させたときに、カルシウムやマグネシウム等のスケールが貯水槽３０内に残りにくい水であればよく、他の水、例えば純水等でもよい。
【0041】
（蒸気供給部）
蒸気供給部４０は、貯水槽３０に貯水した軟水を熱交換器３４により加熱して発生させた蒸気を、蒸気口３２から接続する蒸気供給管４１を通じて、調理室５０内の奥側に設けた供給口４２から下方に向けて調理室５０内へと供給する。
蒸気供給部４０は、貯水槽３０に貯水した軟水を熱交換器３４により加熱して発生させた蒸気を、蒸気口３２から接続する蒸気供給管４１を通じて、調理室５０内の奥側に設けた供給口４２から下方に向けて調理室５０内へと供給する。
【0042】
（調理室）
図２及び図３に示すように、直方体形状の調理室５０は、正面側の開口５０ａを閉鎖する扉部１２と、板金により形成された壁面である天面（壁面）５１、奥側壁面（壁面）５２、左側壁面（壁面）５３、右側壁面（壁面）５４、底面（壁面）５５により囲まれている。
図２及び図３に示すように、直方体形状の調理室５０は、正面側の開口５０ａを閉鎖する扉部１２と、板金により形成された壁面である天面（壁面）５１、奥側壁面（壁面）５２、左側壁面（壁面）５３、右側壁面（壁面）５４、底面（壁面）５５により囲まれている。
【0043】
そして、左側壁面５３の扉部１２側及び奥側壁面５２側と、右側壁面５４の扉部１２側と奥側壁面５２側とに、同じ高さ位置で計４つの断面Ｌ字状の係止手段５６を設けている。最上段の係止手段５６には上加熱プレート（加熱プレート）６２を、最下段の係止手段５６には下加熱プレート（加熱プレート）７２を着脱自在に係止する。
【0044】
上加熱プレート６２及び下加熱プレート７２は、上面視略矩形状の調理室５０の壁面５２，５３，５４及び開口５０ａに沿うように設けた略矩形状の例えば金属製のプレートである。なお、調理室５０が上面視で略矩形状以外の形状をしている場合は、上加熱プレート６２及び下加熱プレート７２は、その調理室５０の壁面５２，５３，５４及び開口５０ａに沿うような形状とするとよい。
【0045】
また、最上段の係止手段５６と最下段の係止手段５６との間に位置する係止手段５６には、例えば金属製の調理トレイ５７を着脱自在に係止する。なお、図２では１つの調理トレイ５７を係止手段５６に係止しているが、複数枚の調理トレイ５７をそれぞれの係止手段５６に係止してもよい。
【0046】
また、調理室５０は、天面５１と上加熱プレート６２との間に上加熱手段（加熱手段）６１と、底面５５と下加熱プレート７２との間に下加熱手段（加熱手段）７１と、を備える。上加熱手段６１及び下加熱手段７１は電気式のヒータ、例えばシーズヒータである。
【0047】
図２に示すように、調理室５０内を右側面側から見ると、上加熱プレート６２及び下加熱プレート７２は、奥側壁面５２との間に、流体が流通することのできる隙間を形成している。また、調理トレイ５７と扉部１２との間、及び調理トレイ５７と奥側壁面５２との間にも、流体が流通することのできる隙間を形成している。
【0048】
上加熱プレート６２の扉部１２側には、上加熱プレート６２の一辺を天面５１側に折り返した上折返し部（折返し部）６２ａを設け、上折返し部６２ａの上端と天面５１との間には、接しない程度に隙間を設けている。そして、天面５１と、上加熱プレート６２及び上折返し部６２ａと、左側壁面５３及び右側壁面５４とにより、奥側壁面５２側を開放し、扉部１２側と左側壁面５３側及び右側壁面５４側とを略閉鎖した上滞留部（滞留部）６０を形成する。
【0049】
下加熱プレート７２の扉部１２側には、下加熱プレート７２の一辺を底面５５側に折り返した下折返し部（折返し部）７２ａを設け、下折返し部７２ａの下端の一辺は、調理室５０の底面５５の扉部１２側で上方に隆起した隆起部（壁面）５５ａに接している。そして、底面５５及び隆起部５５ａと、下加熱プレート７２及び下折返し部７２ａと、左側壁面５３及び右側壁面５４とにより、奥側壁面５２側を開放し、扉部１２側と左側壁面５３側及び右側壁面５４側とを略閉鎖した下滞留部（滞留部）７０を形成する。
【0050】
なお、本実施形態でいう「略閉鎖する」とは、一方側を開放し、他方側に小さな隙間、例えば製作上の寸法誤差による微少な寸法から数ミリメートルの隙間を有した状態で袋小路となるように形成した状態を意味する。
【0051】
なお、「略閉鎖する」と記載した場合であっても、一方側を開放し、他方側には隙間を有さない状態で袋小路となるように構成してもよい。
【0052】
なお、上加熱プレート６２及び下加熱プレート７２の形状は、上面視略矩形状で奥側壁面５２側を開放する構成で説明したが、これに限定されない。例えば、上面視で左側壁面５３側及び右側壁面５４側が奥側壁面５２側へと延出して、奥側壁面５２側が部分的に開放して流体が流通することができる隙間を形成するよう、上面視コ字形状としてもよい。なお、上加熱プレート６２、下加熱プレート７２のいずれか一方のみを上面視コ字形状としてもよい。
【0053】
また、調理室５０内には、上加熱プレート６２と蒸気供給管４１の供給口４２との間の高さ位置で、調理室５０内の流体、例えば過熱水蒸気や蒸気等の流体の温度を検知する第２の温度センサ（センサ）５８を設けている。加えて、天面５１と上加熱プレート６２との間に位置するように第３の温度センサ（センサ）６３、底面５５と下加熱プレート７２との間に位置するように第４の温度センサ（センサ）７３を設けている。
【0054】
なお、本実施形態では、最上段の係止手段５６に上加熱プレート６２、最下段の係止手段５６に下加熱プレート７２、最上段の係止手段５６と最下段の係止手段５６との間の高さ位置に位置する係止手段５６に調理トレイ５７を係止したが、上加熱プレート６２及び下加熱プレート７２と、調理トレイ５７とは、異なる高さ位置の係止手段５６に係止させてもよい。
【0055】
つまり、最上段よりも下方の係止手段５６に上加熱プレート６２を係止してもよいし、最下段よりも上方の係止手段５６に下加熱プレート７２を係止してもよい。また、調理トレイ５７を最上段又は最下段の係止手段５６に係止してもよい。これにより、調理物Ｗに合わせた多様な加熱調理を行うことができる。
【0056】
（排気部）
図２及び図３（ｂ）に示すように、排気部８０は、調理室５０内の過熱水蒸気や蒸気を調理室５０外へと排気する排気口８２を、天面５１と上加熱プレート６２との間の高さ位置で、奥側壁面５２の左右両側壁面５３，５４側に有している。また、排気口８２は、蒸気供給部４０の供給口４２よりも上方となる高さ位置に設けられている。
図２及び図３（ｂ）に示すように、排気部８０は、調理室５０内の過熱水蒸気や蒸気を調理室５０外へと排気する排気口８２を、天面５１と上加熱プレート６２との間の高さ位置で、奥側壁面５２の左右両側壁面５３，５４側に有している。また、排気口８２は、蒸気供給部４０の供給口４２よりも上方となる高さ位置に設けられている。
【0057】
排気口８２は調理室５０外へと続く排気管８１へと通じており、排気口８２より上方に向けて延出した排気管８１の上端は、排気部パネル１１ｂの内部で大気開放されている。排気部パネル１１ｂは加熱調理装置１の背面側に開口しているため、排気管８１から排気された過熱水蒸気や蒸気が加熱調理装置１の正面側に立つ作業者へと向けて流動しないようにしており、これにより作業者が安全に作業をすることができる。
【0058】
なお、排気管８１は加熱調理装置１を設置する施設の排気設備へと接続するよう構成してもよい。これにより、調理室５０内の過熱水蒸気や蒸気を、排気口８２から加熱調理装置１を設置する施設の排気設備へと接続する排気管８１を通じて調理室５０外へと排気し、加熱調理装置１を配置する施設の作業環境を保全することができる。
【0059】
（排出部）
図２に示すように、排出部９０は、調理室５０で発生した水分や油等を、排出管９１を通じて調理室５０外へと排出するための排出口９２を、調理室５０の底面５５に有する。排出管９１に設けたバルブ９３を開放することにより、排出口９２から、排出管９１を通じて調理室５０内の水分や油等を調理室５０外へと排出することができる。
図２に示すように、排出部９０は、調理室５０で発生した水分や油等を、排出管９１を通じて調理室５０外へと排出するための排出口９２を、調理室５０の底面５５に有する。排出管９１に設けたバルブ９３を開放することにより、排出口９２から、排出管９１を通じて調理室５０内の水分や油等を調理室５０外へと排出することができる。
【0060】
（制御部）
図１（ａ）に示すように、制御部２０は、
加熱調理装置１に備える各センサからの情報の受け取り、加熱手段及び熱交換器等の運転及び停止、バルブの開閉、その他運転制御を行う制御手段２１と、
各センサから受け取った情報や、制御手段２１により演算した結果を表示するとともに、加熱調理の運転及び停止、加熱調理する温度である所定の温度の設定等の操作を行うタッチパネルである表示手段２２と、
により構成される。
図１（ａ）に示すように、制御部２０は、
加熱調理装置１に備える各センサからの情報の受け取り、加熱手段及び熱交換器等の運転及び停止、バルブの開閉、その他運転制御を行う制御手段２１と、
各センサから受け取った情報や、制御手段２１により演算した結果を表示するとともに、加熱調理の運転及び停止、加熱調理する温度である所定の温度の設定等の操作を行うタッチパネルである表示手段２２と、
により構成される。
【0061】
なお、本実施形態の加熱調理装置１で調理物Ｗを加熱調理しないときには、調理室５０内に着脱自在に係止した上加熱プレート６２及び下加熱プレート７２と、調理トレイ５７とを調理室５０内から取り外し、別途用意した給水設備により調理室５０内を洗浄することができる。
【0062】
これにより、調理物Ｗの調理を行った際に調理室５０内が汚れたとしても、調理室５０内の部材を取り外して容易に清掃することができ、清潔に加熱調理装置１を使用することができる。調理室５０内を洗浄した洗浄水は、排出部９０のバルブ９３を開放することで、調理室５０の底面５５に有する排出口９２から、排出管９１を通じて調理室５０外へと排出することができる。
【0063】
（加熱調理方法）
次に、加熱調理装置１により調理物Ｗを加熱調理する方法について説明する。
次に、加熱調理装置１により調理物Ｗを加熱調理する方法について説明する。
【0064】
なお、本実施形態では「調理室内の温度低下を抑制する」という記載は、調理室５０内に流動する流体の種類が変化することには関係がなく、調理室５０内に流動する流体の温度が高いものから低いものに変化することを抑制する、という意味を表す。
【0065】
図８に示すように、加熱調理方法は、
給水配管３６を通じて貯水槽３０に軟水を貯水し、貯水した軟水を熱交換器３４により加熱して発生させた蒸気を、調理室５０内へと供給する蒸気供給ステップＳ１００と、
蒸気供給ステップＳ１００を行いつつ、調理室５０内へと供給した蒸気を、上加熱手段６１及び下加熱手段７１で所定の温度まで加熱することにより過熱水蒸気とし、過熱水蒸気を調理室５０内に略充満させる加熱ステップＳ２００と、
蒸気供給ステップＳ１００を行いつつ、扉部１２を開けて、調理室５０内へと調理物Ｗを配置し、扉部１２を閉める配置ステップＳ３００と、
蒸気供給ステップＳ１００を行いつつ、配置ステップＳ３００で調理室５０内に配置した調理物Ｗを加熱調理する加熱調理ステップＳ４００と、
蒸気供給ステップＳ１００を行いつつ、扉部１２を開けて、加熱調理ステップＳ４００で加熱調理した調理物Ｗを、調理室５０内から取り出す取り出しステップＳ５００と、
により構成される。
給水配管３６を通じて貯水槽３０に軟水を貯水し、貯水した軟水を熱交換器３４により加熱して発生させた蒸気を、調理室５０内へと供給する蒸気供給ステップＳ１００と、
蒸気供給ステップＳ１００を行いつつ、調理室５０内へと供給した蒸気を、上加熱手段６１及び下加熱手段７１で所定の温度まで加熱することにより過熱水蒸気とし、過熱水蒸気を調理室５０内に略充満させる加熱ステップＳ２００と、
蒸気供給ステップＳ１００を行いつつ、扉部１２を開けて、調理室５０内へと調理物Ｗを配置し、扉部１２を閉める配置ステップＳ３００と、
蒸気供給ステップＳ１００を行いつつ、配置ステップＳ３００で調理室５０内に配置した調理物Ｗを加熱調理する加熱調理ステップＳ４００と、
蒸気供給ステップＳ１００を行いつつ、扉部１２を開けて、加熱調理ステップＳ４００で加熱調理した調理物Ｗを、調理室５０内から取り出す取り出しステップＳ５００と、
により構成される。
【0066】
（蒸気供給ステップ）
最初に行う蒸気供給ステップＳ１００について説明する。
最初に行う蒸気供給ステップＳ１００について説明する。
【0067】
まず、図４に示すように、調理トレイ５７を調理室５０内から取り外した状態で扉部１２を閉め、制御手段２１により給水配管３６のバルブ３７を開放し、黒塗り矢印で示すように、図示しない軟水器から給水配管３６を通じて貯水槽３０へ所定の水位となるまで軟水を貯水する。
【0068】
所定の水位となるまで軟水が貯水されると、貯水槽３０の水位センサ３３が軟水の水位を検知し、制御手段２１へと信号を送る。そして、制御手段２１はその信号を受け取ると、バルブ３７を閉鎖して貯水槽３０への給水を停止する。
【0069】
軟水が所定の水位まで貯水槽３０に貯水された後に、制御手段２１は熱交換器３４を運転する。熱交換器３４は貯水槽３０に貯水した軟水を加熱して蒸気を発生させ、貯水槽３０に被さり固定された蓋３１に有する蒸気口３２から、発生させた蒸気を図４に示す白抜き矢印で示すように蒸気供給管４１を通じて調理室５０内へと流動させる。
【0070】
なお、制御手段２１は熱交換器３４を運転する際に、熱交換器３４の出力を制御してもよい。これにより、調理物Ｗの調理方法に合わせて供給する蒸気の量を調整することができ、調理物に合わせた多様な加熱調理を行うことができる。
【0071】
図８に示すように、ここで説明した蒸気供給ステップＳ１００は、取り出しステップＳ５００を終えるまで継続する。その継続途中で貯水槽３０に貯水した軟水の水位が所定の水位よりも下方となったときには、制御部２０はバルブ３７を開放して給水配管３６を通じて貯水槽３０へと軟水を貯水する。
【0072】
【0073】
（加熱ステップ）
次に、蒸気供給ステップＳ１００を行いつつ開始する加熱ステップＳ２００について説明する。
次に、蒸気供給ステップＳ１００を行いつつ開始する加熱ステップＳ２００について説明する。
【0074】
図４に示すように、蒸気供給ステップＳ１００を行いつつ、制御手段２１により上加熱手段６１及び下加熱手段７１を運転する。上加熱手段６１及び下加熱手段７１を運転すると、調理室５０内に供給された蒸気を加熱するとともに、上加熱プレート６２及び下加熱プレート７２と、調理室５０の壁面とが加熱される。
【0075】
蒸気供給ステップＳ１００にて蒸気口３２から蒸気供給管４１へと流動した蒸気は、供給口４２から調理室５０内へと流動する。そして、調理室５０内の奥側で下方に流動し、その一部は下加熱プレート７２と奥側壁面５２との間の隙間を通じて、下加熱プレート７２と底面５５との間の間隙である下滞留部７０内へと流動する。
【0076】
下滞留部７０は、底面５５及び隆起部５５ａと、下加熱プレート７２及び下折返し部７２ａと、左側壁面５３及び右側壁面５４とにより、奥側壁面５２側を開放し、扉部１２側と左側壁面５３側及び右側壁面５４側とを略閉鎖した構成となっている。そして、下滞留部７０内には下加熱手段７１が位置しているため、下滞留部７０内へと流動した蒸気を安定して加熱し、過熱水蒸気とすることができる。
【0077】
下滞留部７０内で蒸気を加熱して生成した過熱水蒸気は、下加熱プレート７２と、左側壁面５３及び右側壁面５４との間の隙間を通じて、調理室５０内へと広がっていく。
【0078】
また、下滞留部７０内へと流動せず、下加熱プレート７２の上方を下加熱プレート７２により加熱されながら正面側へと流動し、扉部１２付近で上方へと流動した過熱水蒸気と、過熱水蒸気にならなかった蒸気の一部は、上加熱プレート６２の下面に沿って上加熱プレート６２に加熱されながら調理室５０内を奥側へと流動する。
【0079】
そして、図４で見た場合に調理室５０内を右回転で流動する過熱水蒸気と、過熱水蒸気にならなかった蒸気の一部は、上加熱プレート６２と奥側壁面５２との隙間を流動して、調理室５０の奥側壁面５２の上部に有する排気口８２から排気管８１を通じて調理室５０外へと排気される。また、他の一部は、正面側へと流動して、上加熱プレート６２と天面５１との間の間隙である上滞留部６０内へと流動する。
【0080】
上滞留部６０は、天面５１と、上加熱プレート６２及び上折返し部６２ａと、左側壁面５３及び右側壁面５４とにより、奥側壁面５２側を開放し、扉部１２側と左側壁面５３側及び右側壁面５４側とを略閉鎖した構成となっている。そして、上滞留部６０内には上加熱手段６１が位置しているため、上滞留部６０内へと流動した過熱水蒸気にならなかった蒸気を安定して加熱して、過熱水蒸気とすることができる。
【0081】
上滞留部６０内で過熱水蒸気にならなかった蒸気を加熱して生成した過熱水蒸気は、上加熱プレート６２と、左側壁面５３及び右側壁面５４との間の隙間を通じて、調理室５０内へと広がっていく。
【0082】
このようにして、加熱ステップＳ２００では調理室５０内を図４で見た場合に、調理室５０内へと供給された蒸気を右回転で流動させて下滞留部７０に滞留させてより安定して加熱して過熱水蒸気とし、過熱水蒸気とならなかった蒸気を上滞留部６０へと流動させて安定して加熱して過熱水蒸気とし、調理室５０内に過熱水蒸気を略充満させることができる。また、調理室５０へは継続的に蒸気が供給されているが、調理室５０内の体積を超える量の過熱水蒸気及び蒸気を、排気口８２から排気管８１を通じて調理室５０外へと排気することができる。
【0083】
供給口４２から供給され調理室５０内を下方へと流動する蒸気により、調理室５０内の流体の流動を促し、下滞留部７０及び上滞留部６０へと流体を略充満させるとともに、調理室５０内の流体の温度の均一化を促進することができる。
【0084】
なお、本実施形態でいう「略充満させる」とは、調理室５０内を過熱水蒸気で満たし、調理室５０内に存在する空気の量を５％以下とし、存在する酸素の量を１％以下とすることを意味する。これにより、調理室５０内に略充満した過熱水蒸気により調理物Ｗを加熱調理することができ、調理物Ｗに含まれる油の酸化、及び調理物Ｗに含まれるビタミンＣの破壊を抑制して、美味しく加熱調理された調理物Ｗを製造することができる。
【0085】
そして、第２の温度センサ５８により検知する調理室５０内の過熱水蒸気の温度が、調理物Ｗを加熱調理する温度である所定の温度、例えば１００～３７０度Ｃとなるまで加熱する。なお、本実施形態でいう「所定の温度」は、あらかじめ加熱調理を行う作業者により決定された調理物Ｗを加熱調理する温度であるとともに、調理室５０内に供給された蒸気を過熱水蒸気へと加熱することのできる温度をいう。
【0086】
第２の温度センサ５８により検知する温度である調理室５０内の過熱水蒸気の温度が所定の温度まで加熱されたときに、制御手段２１は表示手段２２に、調理室５０内が調理物Ｗの加熱調理に適した温度、つまり所定の温度となったことを表示する。
【0087】
また、本実施形態では、調理室５０内の過熱水蒸気が所定の温度まで加熱された後は、あらかじめ用意した調理物Ｗの加熱調理を終えるまで、制御手段２１により調理室５０内の温度を所定の温度にある程度の幅をもたせた温度に維持するよう、上加熱手段６１および下加熱手段７１の運転と停止を制御する。
【0088】
（配置ステップ）
加熱ステップＳ２００の次に行う配置ステップＳ３００について説明する。
加熱ステップＳ２００の次に行う配置ステップＳ３００について説明する。
【0089】
図５に示すように、扉部１２を開けて調理物Ｗを載置した調理トレイ５７を調理室５０内へと入れ、調理トレイ５７を係止手段５６に係止した後に扉部１２を閉める。
【0090】
（加熱調理ステップ）
配置ステップＳ３００の次に行う加熱調理ステップＳ４００について説明する。
配置ステップＳ３００の次に行う加熱調理ステップＳ４００について説明する。
【0091】
図６に示すように、加熱調理ステップＳ４００では、調理室５０内で調理トレイ５７に載置した調理物Ｗを過熱水蒸気により加熱調理する。
【0092】
具体的には、上加熱手段６１により加熱された上加熱プレート６２の放射熱により調理物Ｗを上方から加熱し、下加熱手段７１により加熱された下加熱プレート７２の放射熱により調理トレイ５７を加熱して調理物Ｗを下方から加熱することができる。
【0093】
さらに、調理室５０内に略充満させた過熱水蒸気により、調理物Ｗに含まれる油の酸化、及び調理物Ｗに含まれるビタミンＣの破壊を抑制し、さらに調理物Ｗに水分を与えて調理物Ｗの乾燥を防ぎつつ、加熱調理することができる。
【0094】
これにより、加熱調理ステップＳ４００では、調理物Ｗの乾燥を防ぎつつ、調理物Ｗをあらゆる方向から加熱調理し、調理物Ｗの加熱むらを抑制して意図した加熱調理を行うことができる。
【0095】
また、加熱調理ステップＳ４００の間も蒸気供給ステップＳ１００を継続しているため、調理室５０内には蒸気供給部４０の供給口４２から蒸気が供給されている。そのため、調理物Ｗに付着、若しくは調理室５０の壁面、上加熱プレート６２及び下加熱プレート７２、上加熱手段６１及び下加熱手段７１に接触して過熱水蒸気が消費されたとしても、継続的に供給される蒸気が加熱されて過熱水蒸気となるため、調理室５０内を過熱水蒸気で略充満させた状態に維持することができる。
【0096】
調理室５０内で消費されず、調理室５０内を流動する過熱水蒸気は、調理室５０の奥側壁面５２の上部に有する排気口８２から、排気管８１を通じて調理室５０外へと排気される。
【0097】
排気口８２は蒸気供給部４０の供給口４２よりも上方に位置しており、かつ供給口４２から供給する蒸気の流動方向は下向きとなっているため、供給口４２から調理室５０内へと供給された蒸気がそのまま排気口８２へと向かうことを抑制することができる。そして、調理室５０内へと供給された蒸気を加熱して過熱水蒸気とし、無駄なく調理物Ｗの加熱調理に使用することができる。
【0098】
（取り出しステップ）
加熱調理ステップＳ４００の次に行う取り出しステップＳ５００について説明する。
加熱調理ステップＳ４００の次に行う取り出しステップＳ５００について説明する。
【0099】
図７に示すように、扉部１２を開けて調理室５０内から調理物Ｗを載置した調理トレイ５７を取り出す。以上が、本実施形態の加熱調理装置１による加熱調理方法の基本的な流れである。
【0100】
（上滞留部及び下滞留部について）
次に、上滞留部６０及び下滞留部７０の具体的な作用効果について記載する。
次に、上滞留部６０及び下滞留部７０の具体的な作用効果について記載する。
【0101】
図４に示すように、本実施形態の加熱調理装置１は、調理室５０内の上部には上滞留部６０を形成し、調理室５０内の下部には下滞留部７０を形成している。
【0102】
上滞留部６０内には上加熱手段６１が位置しているため、上滞留部６０に滞留している過熱水蒸気は効果的に加熱され、加熱ステップＳ２００の間は、調理室５０内で比較的温度の高い過熱水蒸気が上滞留部６０内に滞留することとなる。
【0103】
また、下滞留部７０内には下加熱手段７１が位置しているため、下滞留部７０に滞留している過熱水蒸気は効果的に加熱され、加熱ステップＳ２００の間は、調理室５０内で比較的温度の高い過熱水蒸気が下滞留部７０内に滞留することとなる。
【0104】
上滞留部６０内及び下滞留部７０内に、調理室５０内で比較的温度の高い過熱水蒸気が滞留している状態で次のステップである配置ステップＳ３００に移り、図５に示すように扉部１２を開けると、調理室５０の開口５０ａを通じて調理室５０内に略充満した過熱水蒸気は調理室５０外へと流出し、調理室５０内には常温の大気が流入する。
【0105】
しかし、本実施形態の加熱調理装置１では、上滞留部６０の正面側に上折返し部６２ａを設けて天面５１とで扉部１２側を略閉鎖し、下滞留部７０の正面側に下折返し部７２ａを設けて隆起部５５ａとで接して扉部１２側を略閉鎖しているため、上滞留部６０及び下滞留部７０内に滞留する調理室５０内で比較的温度の高い過熱水蒸気が、調理室５０の開口５０ａを通じて調理室５０外へと流出してしまうのを抑制することができる。つまり、上滞留部６０及び下滞留部７０内に滞留する調理室５０内で比較的温度の高い過熱水蒸気を滞留させたままとしやすくすることができる。
【0106】
これらの作用により、配置ステップＳ３００で調理室５０内に過熱水蒸気が略充満している状態で扉部１２を開けたときの、調理室５０内の温度低下を抑制することができる。
【0107】
扉部１２を閉めた後には、継続して行われる蒸気供給ステップＳ１００により調理室５０内へと蒸気が供給されるが、上滞留部６０及び下滞留部７０に滞留した過熱水蒸気と、加熱された上加熱プレート６２及び下加熱プレート７２と、上加熱手段６１及び下加熱手段７１と、により調理室５０内へと供給される蒸気を可能な限り短い時間で所定の温度まで加熱することができる。
【0108】
これにより、次のステップである加熱調理ステップＳ４００では、配置ステップＳ３００から可能な限り短い時間で、所定の温度の過熱水蒸気により調理物Ｗを加熱調理することが可能となる。
【0109】
なお、図２～図７では上加熱手段６１は上加熱プレート６２との間に隙間を設けており、下加熱手段７１は下加熱プレート７２との間に隙間を設けているよう記載しているが、上加熱手段６１及び上加熱プレート６２、下加熱手段７１及び下加熱プレート７２はそれぞれ接していてもよい。
【0110】
これにより、上加熱手段６１の熱は直接上加熱プレート６２へと伝わり、下加熱手段７１の熱は直接下加熱プレート７２へと伝わるため、加熱調理ステップＳ４００では、上加熱プレート６２及び下加熱プレート７２の放射熱により、効果的に調理物Ｗを加熱調理することができる。
【0111】
なお、本実施形態では、上加熱プレート６２の上折返し部６２ａの上端と天面５１との間には接しない程度に隙間を設けたが、上加熱プレート６２を取り外さない、若しくは上加熱プレート６２の上折返し部６２ａが天面５１を擦ったとしても問題がない等の理由があれば、隙間を設けなくともよい。
【0112】
これにより、扉部１２を開けたときに、上加熱プレート６２の上折返し部６２ａの上端と天面５１との間に設けた隙間から、上滞留部６０に滞留する調理室５０内で比較的温度の高い過熱水蒸気が調理室５０の開口５０ａを通じて、調理室５０外へと流出するのを、より効果的に抑制することができる。
【0113】
なお、下加熱プレート７２の下折返し部７２ａの下端と底面５５の隆起部５５ａとの間には、接しない程度に隙間を設けてもよい。
【0114】
なお、上加熱プレート６２及び下加熱プレート７２の表面にセラミックコーティングやセラミック溶射を施してもよい。これにより、上加熱手段６１により加熱された上加熱プレート６２及び下加熱手段７１により加熱された下加熱プレート７２からの遠赤外線の放射率を高くすることができ、放射熱による調理物Ｗ及び調理トレイ５７の加熱をより効果的に行うことができる。
【0115】
なお、調理室５０内の上部に上加熱手段６１及び上加熱プレート６２、下部に下加熱手段７１及び下加熱プレート７２を備えるよう記載したが、調理室５０内の左側壁面５３側に左加熱手段及び左加熱プレート、右側壁面５４側には右加熱手段及び右加熱プレートを備えるよう構成してもよい。
【0116】
またさらに、左加熱プレートには左加熱プレートの扉部１２側の一辺を左側壁面５３側へと折り返した左折返し部を、右加熱プレートには右加熱プレートの扉部１２側の一辺を右側壁面５４側へと折り返した右折返し部を設けてもよい。
【0117】
これにより、配置ステップＳ３００で調理室５０内に過熱水蒸気が略充満している状態で扉部１２を開けたときの、調理室５０内の温度低下を抑制することができる。この場合、構成によっては係止手段５６を左側壁面５３及び右側壁面５４に取付けられない場合はあるが、係止手段５６は本実施形態で例示した以外の形状でもよいし、又は下加熱手段７１や、下加熱プレート７２及び下加熱手段７１を備えない場合は、調理トレイ５７を底面５５の上に載置してもよい。
【0118】
なお、本実施形態では、蒸気供給ステップＳ１００を行いつつ開始する加熱調理ステップＳ４００では、調理室５０内の状態を過熱水蒸気を略充満させた状態として記載したが、少なくとも、調理室５０内に配置した調理物Ｗの周囲に、過熱水蒸気を略充満させた状態とすればよく、調理室５０のあらゆる箇所で過熱水蒸気を略充満させた状態としなくともよい。
【0119】
つまり、調理物Ｗに接触する流体に含まれる空気の量を５％以下とし、存在する酸素の量を１％以下として、調理物Ｗに含まれる油の酸化、及び調理物Ｗに含まれるビタミンＣの破壊を抑制しつつ加熱調理することができればよい。
【0120】
なお、本実施形態の加熱調理装置１はバッチ式であるため、一度の加熱調理ステップＳ４００で全ての調理物Ｗが調理室５０内に収まりきることは少なく、複数回にわたって同一種類の調理物Ｗを加熱調理する、若しくは異なる種類の調理物Ｗごとに分けて調理室５０内へと配置して加熱調理する場合が多い。
【0121】
そのため、本実施形態の加熱調理装置１による加熱調理方法では、第２の配置ステップ、第２の加熱調理ステップ、第２の取り出しステップを行ってもよい。
【0122】
第２の配置ステップは、取り出しステップＳ５００で調理物Ｗを載置した調理トレイ５７を調理室５０内から取り出した後に行う。扉部１２が開いた状態であるので、加熱調理する調理物Ｗを載置した調理トレイ５７を調理室５０内へと入れて係止手段５６に係止した後に、扉部１２を閉める。
【0123】
この場合も、上滞留部６０及び下滞留部７０の作用により、調理室５０内に過熱水蒸気が略充満している状態で扉部１２を開けたときの、調理室５０内の温度低下を抑制することができる。
【0124】
また、第２の配置ステップで扉部１２を閉めた後には、所定の温度の過熱水蒸気が調理室５０内に略充満した状態を可能な限り短い時間で作り出すことができる。そして、次のステップである第２の加熱調理ステップでは、第２の配置ステップから可能な限り短い時間で、所定の温度の過熱水蒸気により調理物Ｗを加熱調理することができる。
【0125】
なお、第２の取り出しステップの後、さらに引き続き、第３の配置ステップ、第３の加熱調理ステップ、第３の取り出しステップ等を行ってもよい。この場合も、同様の作用効果を発揮することができる。
【0126】
なお、本実施形態においては、図８に示すように蒸気供給ステップＳ１００を行いながら、加熱ステップＳ２００、配置ステップＳ３００、加熱調理ステップＳ４００、取り出しステップＳ５００を行っているが、いずれのステップも順番を変更する、若しくは行うタイミングや長さを変更してもよい。
【0127】
例えば、加熱調理ステップＳ４００を行っている間に蒸気供給ステップＳ１００を停止してもよい。その場合、制御手段２１は貯水槽３０に貯水した軟水の熱交換器３４による加熱を停止する、又は貯水槽３０に貯水した軟水を熱交換器３４により加熱することにより発生した蒸気を逃がす配管を別途設けておき、蒸気を逃がす配管のバルブを開放した後に、調理室５０内へと蒸気を供給する蒸気供給管４１に新たに設けたバルブを閉鎖して、発生した蒸気を調理室５０内へと流動しないようにするとよい。
【0128】
これにより、調理物Ｗに合わせた多様な調理を行うことができる。
【0129】
また、配置ステップＳ３００及び／又は取り出しステップＳ５００を行っている間に蒸気供給ステップＳ１００を停止してもよい。
【0130】
これにより、取り出しステップＳ５００の前に調理室５０内へと蒸気を供給しないようにすることで、取り出しステップＳ５００を行う際には、調理室５０の開口５０ａから流出する過熱水蒸気による熱が扉部１２を開けた作業者へと向かうことを抑制することができ、安全に加熱調理を行うことができる。
【0131】
なお、本実施形態において、加熱ステップＳ２００で所定の温度を例えば１００度Ｃ以下として、調理室５０内で蒸気を過熱水蒸気へと加熱することなく調理物Ｗの蒸し調理を行ってもよい。これにより、加熱調理装置１の構成の変更を行わなくとも、調理物Ｗに合わせた多様な調理、例えば調理物Ｗの蒸し調理を行うことができる。
【0132】
なお、本実施形態では調理物Ｗを加熱調理する流体の代表として過熱水蒸気及び蒸気を例示したが、その他にも流体として、加熱された空気である熱風や、アクアガス（登録商標）等を使用してもよい。
【0133】
調理物Ｗを加熱調理する流体として熱風を用いる場合は、蒸気供給ステップＳ１００を行わなくてよい。すなわち、貯水槽３０に貯水した軟水を熱交換器３４により加熱しない。この場合でも、調理室５０内の流体の温度を均一化するために、外気を蒸気供給部４０で調理室５０内へと取り込んで調理室５０内の流体を流動させてもよい。そのために外気を吸い込んで調理室５０内へと吐出するブロアやファン、及び吸い込んだ外気を加熱する加熱手段を、加熱調理装置１に備えるとよい。
【0134】
また、アクアガスを用いる場合は、公知の技術であるアクアガス生成装置等を貯水槽３０の代わりに加熱調理装置１に組み込むとよい。
【符号の説明】
【0135】
１ 加熱調理装置
１０ 本体部
１１ ハウジング
１１ａ 背面パネル
１１ｂ 排気部パネル
１２ 扉部
１２ａ 取手
２０ 制御部
２１ 制御手段
２２ 表示手段
３０ 貯水槽
３１ 蓋
３２ 蒸気口
３３ 水位センサ（センサ）
３４ 熱交換器
３５ 第１の温度センサ（センサ）
３６ 給水配管
３７ バルブ
３８ 排水管
３９ バルブ
４０ 蒸気供給部
４１ 蒸気供給管
４２ 供給口
５０ 調理室
５０ａ 開口
５１ 天面（壁面）
５２ 奥側壁面（壁面）
５３ 左側壁面（壁面）
５４ 右側壁面（壁面）
５５ 底面（壁面）
５５ａ 隆起部（壁面）
５６ 係止手段
５７ 調理トレイ（配置手段）
５８ 第２の温度センサ（センサ）
６０ 上滞留部（滞留部）
６１ 上加熱手段（加熱手段）
６２ 上加熱プレート（加熱プレート）
６２ａ 上折返し部（折返し部）
６３ 第３の温度センサ（センサ）
７０ 下滞留部（滞留部）
７１ 下加熱手段（加熱手段）
７２ 下加熱プレート（加熱プレート）
７２ａ 下折返し部（折返し部）
７３ 第４の温度センサ（センサ）
８０ 排気部
８１ 排気管
８２ 排気口
９０ 排出部
９１ 排出管
９２ 排出口
９３ バルブ
Ｗ 調理物
Ｓ１００ 蒸気供給ステップ
Ｓ２００ 加熱ステップ
Ｓ３００ 配置ステップ
Ｓ４００ 加熱調理ステップ
Ｓ５００ 取り出しステップ
１０ 本体部
１１ ハウジング
１１ａ 背面パネル
１１ｂ 排気部パネル
１２ 扉部
１２ａ 取手
２０ 制御部
２１ 制御手段
２２ 表示手段
３０ 貯水槽
３１ 蓋
３２ 蒸気口
３３ 水位センサ（センサ）
３４ 熱交換器
３５ 第１の温度センサ（センサ）
３６ 給水配管
３７ バルブ
３８ 排水管
３９ バルブ
４０ 蒸気供給部
４１ 蒸気供給管
４２ 供給口
５０ 調理室
５０ａ 開口
５１ 天面（壁面）
５２ 奥側壁面（壁面）
５３ 左側壁面（壁面）
５４ 右側壁面（壁面）
５５ 底面（壁面）
５５ａ 隆起部（壁面）
５６ 係止手段
５７ 調理トレイ（配置手段）
５８ 第２の温度センサ（センサ）
６０ 上滞留部（滞留部）
６１ 上加熱手段（加熱手段）
６２ 上加熱プレート（加熱プレート）
６２ａ 上折返し部（折返し部）
６３ 第３の温度センサ（センサ）
７０ 下滞留部（滞留部）
７１ 下加熱手段（加熱手段）
７２ 下加熱プレート（加熱プレート）
７２ａ 下折返し部（折返し部）
７３ 第４の温度センサ（センサ）
８０ 排気部
８１ 排気管
８２ 排気口
９０ 排出部
９１ 排出管
９２ 排出口
９３ バルブ
Ｗ 調理物
Ｓ１００ 蒸気供給ステップ
Ｓ２００ 加熱ステップ
Ｓ３００ 配置ステップ
Ｓ４００ 加熱調理ステップ
Ｓ５００ 取り出しステップ
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】