特開 2024-63502 基板処理装置および搬送方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024063502

(43)【公開日】2024-05-13

(54)【発明の名称】基板処理装置および搬送方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/677 20060101AFI20240502BHJP

   H01L 21/304 20060101ALI20240502BHJP

   H01L 21/306 20060101ALI20240502BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 A

H01L21/304 642A

H01L21/304 648C

H01L21/304 648H

H01L21/306 K

H01L21/306 J

【審査請求】未請求

【請求項の数】4

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022171514

(22)【出願日】2022-10-26

(71)【出願人】

【識別番号】000207551

【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス

(74)【代理人】

【識別番号】100088672

【弁理士】

【氏名又は名称】吉竹 英俊

(74)【代理人】

【識別番号】100088845

【弁理士】

【氏名又は名称】有田 貴弘

(72)【発明者】

【氏名】二木 哲也

【テーマコード（参考）】

5F043

5F131

5F157

【Ｆターム（参考）】

5F043EE02

5F043EE35

5F043EE36

5F131AA02

5F131AA03

5F131BA18

5F131BA37

5F131CA35

5F131DA02

5F131DA22

5F131DB00

5F131DD01

5F131DD13

5F131DD27

5F131DD33

5F131DD74

5F131DD82

5F157AB03

5F157AB13

5F157AB34

5F157AB48

5F157AB51

5F157AB62

5F157AC04

5F157AC56

5F157BB02

5F157DB45

(57)【要約】

【課題】後続ワークが先行ワークを追い越すことができる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置１００は、複数の処理ユニット１０と、複数の搬送ユニット２０とを備える。複数の処理ユニット１０は１列に配列される。複数の処理ユニット１０はワークに対して所定処理を行う第１処理ユニットを含む。複数の搬送ユニット２０は複数の処理ユニット１０の配列方向に平行な共通ライン上を移動し、ワークを複数の処理ユニットの各々に搬送する。複数の搬送ユニット２０は、待機搬送ユニットと、待機搬送ユニットに対して搬送方向の上流側に位置する上流搬送ユニットとを含み、上流搬送ユニットは、待機搬送ユニットが、未だ所定処理を受けていない先行ワークを保持した状態で、先行ワークの次の後続ワークを第１処理ユニットに搬送する。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

ワークに対して所定処理を行う第１処理ユニットを含み、１列に配列された複数の処理ユニットと、
前記複数の処理ユニットの配列方向に平行な共通ライン上を移動し、ワークを前記複数の処理ユニットの各々に搬送する複数の搬送ユニットと
を備え、
前記複数の搬送ユニットは、待機搬送ユニットと、前記待機搬送ユニットに対して搬送方向の上流側に位置する上流搬送ユニットとを含み、
前記上流搬送ユニットは、前記待機搬送ユニットが、未だ前記所定処理を受けていない先行ワークを保持した状態で、前記先行ワークの次の後続ワークを前記第１処理ユニットに搬送する、基板処理装置。

【請求項2】

請求項１に記載の基板処理装置であって、
前記複数の処理ユニットは、ワークに対して前記所定処理を行う第２処理ユニットを含み、
前記待機搬送ユニットは、前記上流搬送ユニットが前記後続ワークを前記第１処理ユニットに搬送した後に、前記先行ワークを前記第２処理ユニットに搬送し、
前記複数の搬送ユニットのうち一つが、前記先行ワークの前記第２処理ユニットからの搬出よりも前に、前記後続ワークを前記第１処理ユニットから受け取る、基板処理装置。

【請求項3】

請求項１または請求項２に記載の基板処理装置であって、
前記複数の搬送ユニットは、前記待機搬送ユニットに対して搬送方向の下流側に位置する下流搬送ユニットを含み、
前記下流搬送ユニットが前記第１処理ユニットから前記後続ワークを受け取った後に、前記待機搬送ユニットが前記先行ワークを前記第１処理ユニットに搬送する、基板処理装置。

【請求項4】

ワークに対して所定処理を行う第１処理ユニットを含み、１列に配列された複数の処理ユニットの配列方向に平行な共通ライン上を移動し、ワークを前記複数の処理ユニットの各々に搬送する複数の搬送ユニットのうち、上流搬送ユニットに対して搬送方向の下流側に位置する待機搬送ユニットが先行ワークを受け取る工程と、
前記上流搬送ユニットが前記先行ワークの次の後続ワークを受け取る工程と、
前記待機搬送ユニットが、未だ前記所定処理を受けていない前記先行ワークを保持した状態で、前記上流搬送ユニットが前記後続ワークを前記第１処理ユニットに搬送する工程と
を備える、搬送方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、基板処理装置および搬送方法に関する。

【背景技術】

【0002】

従来から、基板を処理する基板処理装置が提案されている（例えば特許文献１）。特許文献１では、基板処理装置は、カセットから取り出された基板群を搬送するための複数の基板搬送装置と、基板群を一括的に処理する複数の処理槽とを含んでいる。基板処理装置は、各カセットから取り出した基板群を順次に搬送している。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００４－１８６３３１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

特許文献１に記載の基板処理装置では、複数の基板群を順次に搬送するので、いずれかの基板群（後続ワーク）を他の基板群（先行ワーク）よりも先に処理する必要がある場合に、対応できない。

【0005】

本開示は、上記課題に鑑みてなされたものであり、後続ワークが先行ワークを追い越すことができる技術を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

第１の態様は、基板処理装置であって、ワークに対して所定処理を行う第１処理ユニットを含み、１列に配列された複数の処理ユニットと、前記複数の処理ユニットの配列方向に平行な共通ライン上を移動し、ワークを前記複数の処理ユニットの各々に搬送する複数の搬送ユニットとを備え、前記複数の搬送ユニットは、待機搬送ユニットと、前記待機搬送ユニットに対して搬送方向の上流側に位置する上流搬送ユニットとを含み、前記上流搬送ユニットは、前記待機搬送ユニットが、未だ前記所定処理を受けていない先行ワークを保持した状態で、前記先行ワークの次の後続ワークを前記第１処理ユニットに搬送する。

【0007】

第２の態様は、第１の態様にかかる基板処理装置であって、前記複数の処理ユニットは、ワークに対して前記所定処理を行う第２処理ユニットを含み、前記待機搬送ユニットは、前記上流搬送ユニットが前記後続ワークを前記第１処理ユニットに搬送した後に、前記先行ワークを前記第２処理ユニットに搬送し、前記複数の搬送ユニットのうち一つが、前記先行ワークの前記第２処理ユニットからの搬出よりも前に、前記後続ワークを前記第１処理ユニットから受け取る。

【0008】

第３の態様は、第１または第２の態様にかかる基板処理装置であって、前記複数の搬送ユニットは、前記待機搬送ユニットに対して搬送方向の下流側に位置する下流搬送ユニットを含み、前記下流搬送ユニットが前記第１処理ユニットから前記後続ワークを受け取った後に、前記待機搬送ユニットが前記先行ワークを前記第１処理ユニットに搬送する。

【0009】

第４の態様は、搬送方法であって、ワークに対して所定処理を行う第１処理ユニットを含み、１列に配列された複数の処理ユニットの配列方向に平行な共通ライン上を移動し、ワークを前記複数の処理ユニットの各々に搬送する複数の搬送ユニットのうち、上流搬送ユニットに対して搬送方向の下流側に位置する待機搬送ユニットが先行ワークを受け取る工程と、前記上流搬送ユニットが前記先行ワークの次の後続ワークを受け取る工程と、前記待機搬送ユニットが、未だ前記所定処理を受けていない前記先行ワークを保持した状態で、前記上流搬送ユニットが前記後続ワークを前記第１処理ユニットに搬送する工程とを備える。

【発明の効果】

【0010】

第１および第４の態様によれば、先行ワークよりも先に後続ワークを第１処理ユニットに搬送するので、後続ワークは先行ワークよりも先に所定処理を受ける。つまり、後続ワークが先行ワークを追い越すことができる。しかも、追い越しの際に先行ワークは待機搬送ユニットで待機するので、先行ワークを待機させる待機ユニットを基板処理装置に設ける必要がない。このため、基板処理装置のフットプリントを低減させることができる。

【0011】

第２の態様によれば、第１処理ユニットから後続ワークを受け取る搬送ユニットの選択性を向上させることができる。

【0012】

第３の態様によれば、下流搬送ユニットが後続ワークを第１処理ユニットから受け取るので、後続ワークを次の処理ユニットに搬送しやすい。

【図面の簡単な説明】

【0013】

【図1】基板処理装置の構成の一例を概略的に示す平面図である。

【図2】制御部の内部構成の一例を概略的に示すブロック図である。

【図3】各基板群が受ける一連の処理に相当するフローレシピの一例を示す図である。

【図4】基板処理装置が動作しているときの処理ブロック内の一部の様子の一例を概略的に示す図である。

【図5】追い越し搬送方法の第１例を説明するためのフローチャートである。

【図6】処理ブロック内の一部の様子の一例を概略的に示す図である。

【図7】処理ブロック内の一部の様子の一例を概略的に示す図である。

【図8】追い越し搬送方法の第２例を説明するためのフローチャートである。

【図9】処理ブロック内の一部の様子の一例を概略的に示す図である。

【図10】処理ブロック内の一部の様子の一例を概略的に示す図である。

【図11】処理ブロック内の一部の様子の一例を概略的に示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0014】

以下、添付される図面を参照しながら実施の形態について説明する。なお、図面は概略的に示されるものであり、説明の便宜のため、適宜、構成の省略、または、構成の簡略化がなされるものである。また、図面に示される構成の大きさおよび位置の相互関係は、必ずしも正確に記載されるものではなく、適宜変更され得るものである。また、図１において、ＸＹＺ直交座標系が適宜に示されている。ここでは、Ｚ軸は、鉛直方向に沿った軸である。また、以下では、Ｘ軸に平行な一方向を＋Ｘ方向と呼び、その反対方向を－Ｘ方向とも呼ぶ。また、Ｘ軸の一方側を＋Ｘ側とも呼び、他方側を－Ｘ側と呼ぶことがある。Ｙ軸およびＺ軸についても同様である。

【0015】

また、以下に示される説明では、同様の構成要素には同じ符号を付して図示し、それらの名称と機能とについても同様のものとする。したがって、それらについての詳細な説明を、重複を避けるために省略する場合がある。

【0016】

また、以下に記載される説明において、「第１」または「第２」などの序数が用いられる場合があっても、これらの用語は、実施の形態の内容を理解することを容易にするために便宜上用いられるものであり、これらの序数によって生じ得る順序などに限定されるものではない。

【0017】

相対的または絶対的な位置関係を示す表現（例えば「一方向に」「一方向に沿って」「平行」「直交」「中心」「同心」「同軸」など）が用いられる場合、該表現は、特に断らない限り、その位置関係を厳密に表すのみならず、公差もしくは同程度の機能が得られる範囲で相対的に角度または距離に関して変位された状態も表すものとする。等しい状態であることを示す表現（例えば「同一」「等しい」「均質」など）が用いられる場合、該表現は、特に断らない限り、定量的に厳密に等しい状態を表すのみならず、公差もしくは同程度の機能が得られる差が存在する状態も表すものとする。形状を示す表現（例えば、「四角形状」または「円筒形状」など）が用いられる場合、該表現は、特に断らない限り、幾何学的に厳密にその形状を表すのみならず、同程度の効果が得られる範囲で、例えば凹凸や面取りなどを有する形状も表すものとする。一の構成要素を「備える」「具える」「具備する」「含む」または「有する」という表現が用いられる場合、該表現は、他の構成要素の存在を除外する排他的表現ではない。「Ａ，ＢおよびＣの少なくともいずれか一つ」という表現が用いられる場合、該表現は、Ａのみ、Ｂのみ、Ｃのみ、Ａ，ＢおよびＣのうち任意の２つ、ならびに、Ａ，ＢおよびＣの全てを含む。

【0018】

＜１．基板処理装置の構成＞
図１は、基板処理装置１００の構成の一例を概略的に示す平面図である。基板処理装置１００は、複数の基板Ｗを一括して処理するバッチ式の処理装置である。基板Ｗは例えば平板状の形状を有している。基板Ｗの材質は特に制限されず、例えば、半導体基板、ガラス基板および樹脂基板などの種々の基板が基板Ｗに適用され得る。基板Ｗは、例えば平面視において矩形状の形状を有するパネルであってもよい。基板Ｗの縦方向の長さおよび横方向の長さは、例えば数百ｍｍ程度であってもよく、より具体的な一例として５００ｍｍ程度であってもよい。なお、基板Ｗの形状は矩形状に限らず、例えば円形状であってもよい。

【0019】

基板処理装置１００は、少なくとも、複数の処理ユニット１０と、複数の搬送ユニット２０とを含む。図１の例では、基板処理装置１００は、搬入出ブロック１１０、中継ブロック１２０および処理ブロック１３０を含んでおり、複数の処理ユニット１０および複数の搬送ユニット２０は処理ブロック１３０に設けられている。

【0020】

搬入出ブロック１１０、中継ブロック１２０および処理ブロック１３０はＸ方向に沿ってこの順で配列されている。つまり、搬入出ブロック１１０が－Ｘ方向の端に設けられ、処理ブロック１３０が＋Ｘ方向の端に設けられ、中継ブロック１２０が搬入出ブロック１１０と処理ブロック１３０との間に設けられている。

【0021】

図１の例では、搬入出ブロック１１０に対して中継ブロック１２０と反対側には、ロードポートＬＰが設けられている。ロードポートＬＰには、未処理の複数の基板Ｗを収納した収納器（以下、フープＦと呼ぶ）が、基板処理装置１００の外部の搬送部（不図示）から搬入される。フープＦには、複数の基板Ｗが、例えば、水平姿勢で鉛直方向において並んだ状態で収納される。ここでいう水平姿勢とは、基板Ｗの厚み方向が鉛直方向に沿う姿勢である。ロードポートＬＰは、フープＦを載置する載置台を含んでいる。ロードポートＬＰに搬入されたフープＦは、後述のように搬入出ブロック１１０内に搬送される。フープＦ内の未処理の基板Ｗは搬入出ブロック１１０内において取り出され、中継ブロック１２０および処理ブロック１３０を往復し、再び搬入出ブロック１１０に搬送される。後述のように、複数の基板Ｗは処理ブロック１３０において処理されるので、処理済みの複数の基板Ｗが搬入出ブロック１１０に搬送されることになる。処理済みの基板Ｗは搬入出ブロック１１０において再びフープＦに収納される。該フープＦはロードポートＬＰに搬送され、ロードポートＬＰから外部の搬送部によって搬出される。なお、図１の例では、２つのロードポートＬＰがＹ方向において配列されているものの、ロードポートＬＰの個数はこれに限らず、適宜に変更され得る。

【0022】

＜１－１．搬入出ブロック＞
図１の例では、搬入出ブロック１１０は、複数の棚１１１、フープ搬送ユニット１１２，１１３，１１６、オープナ１１４，１１７および基板受渡ユニット１１５，１１８を含んでいる。

【0023】

複数の棚１１１は、例えば、ＹＺ平面においてマトリックス状に配列される。各棚１１１にはフープＦが搬送され、フープＦが載置される。フープ搬送ユニット１１２はＸ方向においてロードポートＬＰと棚１１１との間に設けられている。図１の例では、２つのフープ搬送ユニット１１２がＹ方向において配列されている。各フープ搬送ユニット１１２は各ロードポートＬＰと各棚１１１との間でフープＦを搬送する。

【0024】

フープ搬送ユニット１１３はＸ方向において棚１１１とオープナ１１４との間に設けられている。フープ搬送ユニット１１３は各棚１１１からオープナ１１４にフープＦを搬送する。オープナ１１４はフープＦを載置可能であり、かつ、載置されたフープＦの蓋を開閉可能である。基板受渡ユニット１１５はオープナ１１４と中継ブロック１２０との間に設けられており、オープナ１１４がフープＦの蓋を開いた状態で、基板ＷをフープＦから取り出し、該基板Ｗを中継ブロック１２０に渡す。フープ搬送ユニット１１３、オープナ１１４および基板受渡ユニット１１５はＸ方向において配列されている。

【0025】

フープ搬送ユニット１１６はフープ搬送ユニット１１３とＹ方向において並んでおり、フープ搬送ユニット１１３に対して－Ｙ側に設けられている。オープナ１１７はオープナ１１４とＹ方向において並んでおり、オープナ１１４に対して－Ｙ側に設けられている。オープナ１１７はフープＦを載置可能であり、かつ、載置されたフープＦの蓋を開閉可能である。基板受渡ユニット１１８は基板受渡ユニット１１５とＹ方向において並んでおり、基板受渡ユニット１１５に対して－Ｙ側に設けられている。基板受渡ユニット１１８は中継ブロック１２０から処理済みの基板Ｗを受け取り、オープナ１１７によって蓋が開いた状態のフープＦに該基板Ｗを収納する。フープ搬送ユニット１１６はオープナ１１７からフープＦを搬出し、該フープＦを棚１１１に搬送する。フープ搬送ユニット１１６、オープナ１１７および基板受渡ユニット１１８はＸ方向において配列されている。

【0026】

＜１－２．中継ブロック＞
中継ブロック１２０は、キャリア支持部１２１，１２３と、待機部１２２，１２４とを含む。基板受渡ユニット１１５、キャリア支持部１２１および待機部１２２はＸ方向においてこの順で配列されている。つまり、キャリア支持部１２１は基板受渡ユニット１１５と待機部１２２との間に設けられている。キャリア支持部１２１は、例えばフープＦよりも収納枚数が多い装置内収容器（以下、キャリアＣと呼ぶ）を支持することが可能である。キャリア支持部１２１によって支持されたキャリアＣには、基板受渡ユニット１１５によって基板Ｗが搬入される。以下では、キャリアＣに収納された複数の基板Ｗを基板群Ｇとも呼ぶ。ここでは、キャリアＣに収納された基板Ｗの枚数は、フープＦに収納された基板Ｗの枚数よりも多い。

【0027】

キャリア支持部１２１はキャリアＣの姿勢を変更可能に構成されている。例えば、キャリア支持部１２１は、キャリアＣ内の各基板Ｗの姿勢が水平姿勢から起立姿勢に変化するように、キャリアＣの姿勢を変更する。ここでいう起立姿勢とは、基板Ｗの厚み方向が水平方向（例えばＸ方向）に沿う姿勢である。待機部１２２は、キャリア支持部１２１から受け取ったキャリアＣを支持する。待機部１２２によって支持されたキャリアＣは適宜に処理ブロック１３０に渡される。

【0028】

基板受渡ユニット１１８、キャリア支持部１２３および待機部１２４はＸ方向においてこの順に配列されている。つまり、キャリア支持部１２３は基板受渡ユニット１１８と待機部１２４との間に設けられている。待機部１２４は、処理ブロック１３０から受け取った、処理済みの基板群Ｇを収納したキャリアＣを支持する。待機部１２４によって支持されたキャリアＣは適宜にキャリア支持部１２３に渡される。キャリア支持部１２３はキャリアＣを支持する。また、キャリア支持部１２３はキャリアＣの姿勢を変更可能に構成されている。例えば、キャリア支持部１２３は基板Ｗの姿勢が起立姿勢から水平姿勢に変化するように、キャリアＣの姿勢を変更する。キャリア支持部１２３によって支持されたキャリアＣの内部の基板Ｗは基板受渡ユニット１１８によって取り出される。

【0029】

＜１－３．処理ブロック＞
図１の例では、処理ブロック１３０は、複数の処理ユニット１０と、複数の搬送ユニット２０と、キャリア搬送ユニット３０，３１とを含んでいる。キャリア搬送ユニット３０は待機部１２２とＸ方向において並んでいる。キャリア搬送ユニット３０は、待機部１２２から受け取ったキャリアＣを＋Ｘ方向に沿って搬送し、該キャリアＣをキャリア搬送ユニット３１に渡す。キャリア搬送ユニット３１は、キャリア搬送ユニット３０から受け取ったキャリアＣを－Ｙ方向に沿って搬送し、該キャリアＣを複数の搬送ユニット２０のいずれかに渡す。

【0030】

複数の搬送ユニット２０の各々はキャリア搬送ユニット３１からキャリアＣを受け取ることができる。各搬送ユニット２０は後述のようにキャリアＣを複数の処理ユニット１０に搬送する。

【0031】

複数の処理ユニット１０はキャリア搬送ユニット３０に対して－Ｙ側に設けられ、Ｘ方向に沿って１列に配列されている。図１の例では、複数の処理ユニット１０は待機部１２４とＸ方向において並んでいる。図１の例では、複数の処理ユニット１０として、１０個の処理ユニット１０ａから処理ユニット１０ｊが示されている。処理ユニット１０ａから処理ユニット１０ｊはこの順で設けられている。ここでは、処理ユニット１０ｊが中継ブロック１２０に最も近い位置に設けられ、処理ユニット１０ａが中継ブロック１２０から最も離れた位置に設けられている。

【0032】

各処理ユニット１０は処理槽１１を含んでいる。処理槽１１には、例えば、処理液が貯留されている。処理液は、例えば、エッチング液等の薬液および該薬液を洗い流す純水等のリンス液を含む。各処理槽１１には、処理ユニット１０が行う処理に応じた種類の処理液が貯留され得る。ここでは、処理ユニット１０ａから処理ユニット１０ｃはそれぞれ処理Ｐ１から処理Ｐ３を基板群Ｇに対して行うことが可能であり、処理ユニット１０ｄおよび処理ユニット１０ｅは処理Ｐ４を基板群Ｇに対して行うことが可能であり、処理ユニット１０ｆから処理ユニット１０ｇはそれぞれ処理Ｐ５および処理Ｐ６を基板群Ｇに対して行うことが可能であり、処理ユニット１０ｈから処理ユニット１０ｊは処理Ｐ７を基板群Ｇに対して行うことが可能である。処理Ｐ１から処理Ｐ７の具体的な内容は特に限定されないものの、例えば、各基板Ｗのエッチング対象を除去するエッチング処理、各基板Ｗに付着した薬液を洗い流すリンス処理、各基板Ｗを乾燥させる乾燥処理等の種々の処理を含む。

【0033】

上述の例では、処理ユニット１０ｄおよび処理ユニット１０ｅは互いに同じ処理Ｐ４を基板群Ｇに対して行う。このため、２つの基板群Ｇはそれぞれ処理ユニット１０ｄおよび処理ユニット１０ｅにおいて並行して処理Ｐ４を受けることが可能である。以下では、同じ処理を行う複数の処理ユニット１０を並行槽とも呼び、同じ処理を行う他の処理ユニット１０が設けられていない処理ユニット１０を非並行槽とも呼ぶ。上述の例では、処理ユニット１０ａから処理ユニット１０ｃ、処理ユニット１０ｆおよび処理ユニット１０ｇが非並行槽に該当し、処理ユニット１０ｄ、処理ユニット１０ｅ、処理ユニット１０ｈから処理ユニット１０ｊが並行槽に該当する。

【0034】

並行槽による処理の処理時間は非並行槽による処理の処理時間よりも長い。つまり、処理Ｐ４および処理Ｐ７の処理時間は処理Ｐ１から処理Ｐ３、処理Ｐ５および処理Ｐ６の処理時間に比べて長い。そこで、スループット向上のために、処理Ｐ４を実行する２つの並行槽（処理ユニット１０ｄおよび処理ユニット１０ｅ）が設けられ、処理Ｐ７を実行する３つ並行槽（処理ユニット１０ｈから処理ユニット１０ｊ）が設けられている。

【0035】

図１の例では、各処理ユニット１０はホルダ１２を含んでいる。ホルダ１２は、キャリアＣを処理槽１１に浸漬させた処理位置と、処理槽１１よりも上方の受渡位置との間で、キャリアＣを昇降させる。キャリアＣが処理位置に位置する状態では、キャリアＣ内の基板群Ｇに処理液が作用し、処理液に応じた処理が基板群Ｇに対して行われる。例えば処理ユニット１０ａはキャリアＣ内の基板群Ｇに対して処理Ｐ１を行う。一方で、キャリアＣが受渡位置に位置する状態では、ホルダ１２と搬送ユニット２０との間でキャリアＣの受け渡しが行われる。

【0036】

各搬送ユニット２０はキャリアＣを複数の処理ユニット１０の間で搬送する。各搬送ユニット２０は、複数の処理ユニット１０の直上の搬送空間内で、Ｘ方向に沿ってキャリアＣを搬送する。図１の例では、複数の搬送ユニット２０として、搬送ユニット２０ａから搬送ユニット２０ｄが示されている。図１の例では、搬送ユニット２０ａから搬送ユニット２０ｄはＸ方向においてこの順で配列されている。ここでは、搬送ユニット２０ａが中継ブロック１２０に最も近い位置に設けられ、搬送ユニット２０ｄが中継ブロック１２０から最も遠い位置に設けられている。

【0037】

図１の例では、複数の搬送ユニット２０は、複数の処理ユニット１０の配列方向に平行な共通ライン上を移動する。複数の搬送ユニット２０は、複数の処理ユニット１０に対して＋Ｘ側の待機空間Ｈ１にも移動できる。言い換えれば、該共通ラインには、待機空間Ｈ１と、複数の処理ユニット１０に対応する搬送空間Ｈ２とが含まれる。各搬送ユニット２０は待機空間Ｈ１内の所定の受渡位置で、キャリア搬送ユニット３１からキャリアＣを受け取る。

【0038】

図１の例では、複数の搬送ユニット２０は、キャリアＣを保持する一対の保持部材２１を含んでいる。一対の保持部材２１はＹ方向に延びた棒状の形状を有している。ここでは、各搬送ユニット２０はキャリアＣを１つのみ保持することができる。

【0039】

複数の搬送ユニット２０は共通ライン上を移動するので、各搬送ユニット２０は他の搬送ユニット２０を追い越すことができない。そのため、搬送ユニット２０ａから搬送ユニット２０ｄの配列順序は常に一定である。

【0040】

各搬送ユニット２０の移動機構は特に限定されないものの、その具体的な一例について概説する。各搬送ユニット２０は、Ｘ方向に沿って延びる固定子２５に移動可能に結合されていてもよい。固定子２５は例えば装置のフレームに固定されている。固定子２５はラックであってもよい。ラックの例えば上面には、Ｘ方向に沿って配列された複数の凹凸（歯）が形成される。各搬送ユニット２０は、固定子２５に対して移動可能に結合する移動子２２と、移動子２２を固定子２５に対して移動させる駆動部２３とを有している。移動子２２は、例えばラックに噛合する歯車を含んでもよい。駆動部２３は、例えば、該歯車を回転させるモータと、該モータに電力を供給する駆動回路とを含む。駆動回路はモータに電力を供給し、モータの動作を制御する。駆動回路は例えばインバータ回路などのモータ駆動回路である。モータが歯車を回転させることにより、移動子２２がＸ方向に沿って移動する。これにより、移動子２２を内蔵する搬送ユニット２０がＸ方向に沿って移動する。

【0041】

各搬送ユニット２０は各処理ユニット１０の直上でキャリアＣをホルダ１２に渡す。ホルダ１２は受け取ったキャリアＣを受渡位置から処理位置に下降させることにより、キャリアＣを処理槽１１内の処理液に浸漬させる。これにより、処理液に応じた処理がキャリアＣ内の基板群Ｇに対して行われる。

【0042】

＜１－４．制御部＞
基板処理装置１００は制御部９０も含んでいる。図１の例では、制御部９０は搬入出ブロック１１０に設けられている。制御部９０は基板処理装置１００の各種構成を制御することができる。図２は、制御部９０の内部構成の一例を概略的に示すブロック図である。制御部９０は電子回路であって、例えばデータ処理部９１および記憶部９２を有している。図２の具体例では、データ処理部９１と記憶部９２とはバス９３を介して相互に接続されている。データ処理部９１は例えばＣＰＵ（Central Processor Unit）などの演算処理装置であってもよい。記憶部９２は非一時的な記憶部（例えばＲＯＭ（Read Only Memory）またはハードディスク）９２１および一時的な記憶部（例えばＲＡＭ（Random Access Memory））９２２を有していてもよい。非一時的な記憶部９２１には、例えば制御部９０が実行する処理を規定するプログラムが記憶されていてもよい。データ処理部９１がこのプログラムを実行することにより、制御部９０が、プログラムに規定された処理を実行することができる。もちろん、制御部９０が実行する処理の一部または全部が専用の論理回路などのハードウェアによって実行されてもよい。

【0043】

＜２．基板処理＞
図３は、各基板群Ｇが受ける一連の処理に相当するフローレシピＦＲの一例を示す図である。フローレシピＦＲは、基板処理装置１００が基板群Ｇに対して行う処理の順序を示している。図３に例示されたフローレシピＦＲにおいては、各基板群Ｇは処理Ｐ１から処理Ｐ７をこの順で受ける。つまり、フローレシピＦＲに従った基板処理装置１００の動作において、搬送ユニット２０はキャリアＣを処理ユニット１０ａから処理ユニット１０ｃに順次に搬送した後、キャリアＣを処理ユニット１０ｄおよび処理ユニット１０ｅのいずれか一方に搬送し、その後、キャリアＣを処理ユニット１０ｆおよび処理ユニット１０ｇに順次に搬送し、その後、キャリアＣを処理ユニット１０ｈから処理ユニット１０ｉのいずれか一つに搬送する。これにより、基板群Ｇには処理Ｐ１から処理Ｐ７がこの順で行われる。

【0044】

上述のように、各キャリアＣは処理ユニット１０ａから処理ユニット１０ｊに向かって搬送される。よって、以下では、処理ユニット１０ａから処理ユニット１０ｊに向かう方向（ここでは、－Ｘ方向）を搬送方向とも呼ぶ。

【0045】

また、処理ブロック１３０には、中継ブロック１２０から順次にキャリアＣが搬入される。処理ブロック１３０のキャリア搬送ユニット３０、キャリア搬送ユニット３１および複数の搬送ユニット２０は互いに協働して、順次に搬入されるキャリアＣを各処理ユニット１０に順に搬送する。これにより、処理ブロック１３０は複数のキャリアＣのそれぞれに対して処理Ｐ１から処理Ｐ７を順に行うことができる。

【0046】

この処理ブロック１３０においては、各キャリアＣは、例えば、処理ブロック１３０に搬入された順に搬送され得る。この場合、各キャリアＣは処理ブロック１３０に搬入された順に処理され、処理後のキャリアＣが処理ブロック１３０から搬出される。

【0047】

ここで、あるキャリアＣ（後続キャリアＣとも呼ぶ）に対する処理を、後続キャリアＣよりも一つ先行するキャリアＣ（以下、先行キャリアＣとも呼ぶ）よりも先に完了させる要求が、基板処理装置１００に入力される場合がある。例えば、基板処理装置１００よりも上流側の装置によって該要求が送信されたり、作業員によって該要求が基板処理装置１００に入力されたりする。

【0048】

基板処理装置１００は該要求に応答して、後続キャリアＣが先行キャリアＣを追い越すように、先行キャリアＣおよび後続キャリアＣを搬送する。以下、このような追い越し搬送方法について説明する。

【0049】

＜３．追い越し搬送方法＞
＜３－１．並行槽＞
図４は、基板処理装置１００が動作しているときの処理ブロック１３０内の一部の様子の一例を概略的に示す図である。図４（ａ）の例では、処理ブロック１３０に搬入された複数のキャリアＣとして、キャリアＣ１からキャリアＣ６が示されている。キャリアＣｎは、ｎ番目に処理ブロック１３０に搬入されたキャリアＣを示している。つまり、キャリアＣ１は、１番目に処理ブロック１３０に搬入されたキャリアＣである。図４（ａ）の例では、キャリアＣ１は処理ユニット１０ｈにおいて処理Ｐ７を受けており、キャリアＣ２は処理ユニット１０ｉにおいて処理Ｐ７を受けており、キャリアＣ３は処理ユニット１０ｄにおいて処理Ｐ４を受けており、キャリアＣ４は処理ユニット１０ｅにおいて処理Ｐ４を受けており、キャリアＣ５は処理ユニット１０ｃにおいて処理Ｐ３を受けている。なお、図では、処理ユニット１０において処理を受けているキャリアＣを、模式的に砂地のハッチングで示している。

【0050】

図４（ａ）の例では、キャリアＣ６が待機空間Ｈ１において搬送ユニット２０に保持されている。つまり、キャリアＣ６は未だ処理Ｐ１を受けていない。

【0051】

ここで、特にキャリアＣ５およびキャリアＣ６を参照して、キャリアＣの追い越し搬送方法について説明する。キャリアＣ５はキャリアＣ６よりも先に処理ブロック１３０に搬入されるので、以下では、キャリアＣ５を先行キャリアＣ５とも呼び、キャリアＣ６を後続キャリアＣ６とも呼ぶ。後続キャリアＣ６は、先行キャリアＣ５の次に処理ブロック１３０に搬入されたキャリアＣである。図では、先行キャリアＣ５および後続キャリアＣ６を太線で示している。ここでは、複数の搬送ユニット２０は後続キャリアＣ６が先行キャリアＣ５を追い越すように、互いに協働して複数のキャリアＣを搬送する。

【0052】

図５は、追い越し搬送方法の第１例を説明するためのフローチャートであり、図６および図７は、処理ブロック１３０内の一部の様子の一例を概略的に示す図である。まず、搬送ユニット２０が先行キャリアＣ５を受け取る（ステップＳ１）。図４（ａ）の例に即して説明すれば、搬送ユニット２０ｃは、処理Ｐ３が完了した先行キャリアＣ５を処理ユニット１０ｃから受け取る。複数の搬送ユニット２０は共通ライン上を移動するので、ステップＳ１において、搬送ユニット２０ｃよりも－Ｘ側に位置する搬送ユニット２０ａおよび搬送ユニット２０ｂは、処理ユニット１０ｃよりも－Ｘ側に位置し、搬送ユニット２０ｃよりも＋Ｘ側に位置する搬送ユニット２０ｄは処理ユニット１０ｃよりも＋Ｘ側に位置している（図４（ａ）参照）。これにより、搬送ユニット２０ｃは他の搬送ユニット２０と衝突せずに、処理ユニット１０ｃから先行キャリアＣ５を受け取ることができる。以下でも、搬送ユニット２０は互いに衝突しないように移動する。

【0053】

搬送ユニット２０ｃは、受け取った先行キャリアＣ５を未だ次の処理ユニット１０には搬送せずに、先行キャリアＣ５を保持し続ける。つまり、先行キャリアＣ５は搬送ユニット２０ｃにおいて待機する。したがって、搬送ユニット２０ｃは、先行キャリアＣを待機させる待機搬送ユニットに相当する。

【0054】

搬送ユニット２０ｄは後続キャリアＣ６を処理ユニット１０ａから処理ユニット１０ｃに順次に搬送する。これにより、後続キャリアＣ６は処理Ｐ１から処理Ｐ３をこの順で受ける。

【0055】

また、キャリアＣ３に対する処理Ｐ４が完了すると、例えば、搬送ユニット２０ｃよりも搬送方向の下流側の搬送ユニット２０ａがキャリアＣ３を処理ユニット１０ｄから受け取る。搬送ユニット２０ａはキャリアＣ３を処理ユニット１０ｆ、処理ユニット１０ｇおよび処理ユニット１０ｊに順に搬送する。これにより、キャリアＣ３は処理Ｐ５から処理Ｐ７をこの順で受ける。

【0056】

次に、後続キャリアＣ６に対する処理Ｐ３が完了すると、搬送ユニット２０ｃよりも搬送方向の上流側の搬送ユニット２０ｄ（上流搬送ユニットに相当）が後続キャリアＣ６を処理ユニット１０ｃから受け取る（ステップＳ２：図４（ｂ）参照）。なお、ステップＳ２において、搬送ユニット２０ｃは先行キャリアＣ５を保持した状態で、処理ユニット１０ｃよりも－Ｘ側に移動している（図４（ｂ）参照）。このため、搬送ユニット２０ｄは搬送ユニット２０ｃと衝突することなく、後続キャリアＣ６を処理ユニット１０ｃから受け取ることができる。

【0057】

次に、搬送ユニット２０ｄ（上流搬送ユニット）は、搬送ユニット２０ｃ（待機搬送ユニット）が先行キャリアＣ５を保持した状態で、後続キャリアＣ６を、処理Ｐ４（所定処理）を行う処理ユニット１０ｄ（第１処理ユニットに相当）に搬送する（ステップＳ３：図６（ａ）参照）。なお、ステップＳ３においては、搬送ユニット２０ｃは処理ユニット１０ｄに対して－Ｘ側に位置しいている。このため、搬送ユニット２０ｄは搬送ユニット２０ｃと衝突することなく、後続キャリアＣ６を処理ユニット１０ｄに搬送することができる。そして、処理ユニット１０ｄは、搬入された後続キャリアＣ６に対して処理Ｐ４を行う。つまり、後続キャリアＣ６は先行キャリアＣ５よりも先に処理Ｐ４を受ける。言い換えれば、後続キャリアＣ６は先行キャリアＣ５を追い越す。

【0058】

続けて、処理ユニット１０ｅがキャリアＣ４に対する処理Ｐ４を完了すると、例えば、搬送ユニット２０ｃよりも搬送方向の下流側の搬送ユニット２０ａがキャリアＣ４を処理ユニット１０ｅから受け取り、キャリアＣ４を処理ユニット１０ｆに搬送する。処理ユニット１０ｆは、搬入されたキャリアＣ４に対して処理Ｐ５を行う。

【0059】

処理ユニット１０ｅからキャリアＣ４が搬出されると、搬送ユニット２０ｃ（待機搬送ユニット）は先行キャリアＣ５を処理ユニット１０ｅ（第２処理ユニットに相当）に搬送する（ステップＳ４：図６（ｂ）参照）。処理ユニット１０ｅは、搬入された先行キャリアＣ５に対して処理Ｐ４を行う。つまり、先行キャリアＣ５は後続キャリアＣ６よりも後に処理Ｐ４を受ける。

【0060】

続けて、例えばキャリアＣ１からキャリアＣ３に対する処理Ｐ７が順に完了すると、キャリアＣ１からキャリアＣ３は例えば搬送ユニット２０ａによって順に中継ブロック１２０に搬送される。また、例えばキャリアＣ４に対する処理Ｐ５が完了すると、キャリアＣ４は例えば搬送ユニット２０ａによって処理ユニット１０ｆから処理ユニット１０ｇを経由して処理ユニット１０ｈに搬送される。これにより、キャリアＣ４は処理Ｐ６および処理Ｐ７を順に受ける。また、例えば新たなキャリアＣ７およびキャリアＣ８が搬入される。例えば搬送ユニット２０ｃがキャリアＣ７を処理ユニット１０ａから処理ユニット１０ｃに順に搬送し、例えば搬送ユニット２０ｄがキャリアＣ８を処理ユニット１０ａおよび処理ユニット１０ｂに順に搬送する。

【0061】

次に、後続キャリアＣ６に対する処理Ｐ４が完了すると、例えば搬送ユニット２０ｂは処理ユニット１０ｄから後続キャリアＣ６を受け取る。なお、この時点では先行キャリアＣ５に対する処理Ｐ４は完了していないので、処理ユニット１０ｅからの先行キャリアＣ５の搬出前に、後続キャリアＣ６が処理ユニット１０ｄから搬出される。つまり、後続キャリアＣ６が先行キャリアＣ５よりも先に、処理Ｐ４用の処理ユニット１０から搬出される。そして、搬送ユニット２０ｂは後続キャリアＣ６を次の処理ユニット１０ｆ（第３処理ユニットに相当）に搬送する（ステップＳ５：図７（ａ）参照）。処理ユニット１０ｆは、搬入された後続キャリアＣ６に対して処理Ｐ５を行う。つまり、後続キャリアＣ６は先行キャリアＣ５よりも先に処理Ｐ５を受ける。

【0062】

次に、例えばキャリアＣ７に対する処理Ｐ３が完了すると、例えば搬送ユニット２０ｃがキャリアＣ７を処理ユニット１０ｃから処理ユニット１０ｄに搬送する。また、例えばキャリアＣ８に対する処理Ｐ２が完了すると、例えば搬送ユニット２０ｄがキャリアＣ８を処理ユニット１０ｂから処理ユニット１０ｃに搬送する。また、後続キャリアＣ６に対する処理Ｐ５が完了すると、例えば搬送ユニット２０ａが後続キャリアＣ６を処理ユニット１０ｆから処理ユニット１０ｇに搬送する。

【0063】

次に、先行キャリアＣ５に対する処理Ｐ４が完了すると、例えば搬送ユニット２０ｂが先行キャリアＣ５を処理ユニット１０ｅから受け取る。搬送ユニット２０ｂは先行キャリアＣ５を次の処理ユニット１０ｆ（第３処理ユニットに相当）に搬送する（ステップＳ６：図７（ｂ）参照）。処理ユニット１０ｆは、搬入された先行キャリアＣ５に対して処理Ｐ５を行う。つまり、先行キャリアＣ５は後続キャリアＣ６よりも後に処理Ｐ５を受ける。

【0064】

その後は、各処理が完了するたびに、搬送ユニット２０が適宜にキャリアＣを次の処理ユニット１０に搬送する。

【0065】

以上のように、基板処理装置１００は複数のキャリアＣの各々に対して処理Ｐ１から処理Ｐ７を順に行うことができる。

【0066】

しかも、上述の追い越し搬送方法の第１例によれば、搬送ユニット２０ｃ（待機搬送ユニット）が、未だ処理Ｐ４を受けていない先行キャリアＣ５を保持した状態で、搬送ユニット２０ｃよりも搬送方向の上流側の搬送ユニット２０ｄ（上流搬送ユニット）が後続キャリアＣ６を処理ユニット１０ｄに搬送する（ステップＳ３）。これにより、処理ユニット１０ｄは先行キャリアＣ５よりも先に後続キャリアＣ６に対して処理Ｐ４を行うことができる。つまり、後続キャリアＣ６が先行キャリアＣ５を追い越すことができる。

【0067】

また、上述の追い越し搬送方法の第１例によれば、後続キャリアＣ６が先行キャリアＣ５を追い越す際に、搬送ユニット２０ｃが先行キャリアＣ５を保持している。つまり、この追い越しの際に、先行キャリアＣ５は搬送ユニット２０ｃにおいて待機している。このため、先行キャリアＣ５を待機させる待機ユニットを別途に基板処理装置１００に設ける必要がない。したがって、基板処理装置１００の製造コストおよびフットプリントを低減させることができる。

【0068】

ところで、上述の例では、処理ユニット１０ｄが後続キャリアＣ６に対して処理Ｐ４を行っている最中に、搬送ユニット２０ｃが、同じ処理Ｐ４を行う処理ユニット１０ｅに先行キャリアＣ５を搬送する（ステップＳ４）。このため、後続キャリアＣ６に対する処理Ｐ４の完了時点では、搬送ユニット２０ｃはもはや先行キャリアＣ５を保持していない（図７（ａ）参照）。そのため、処理ユニット１０ｄからの後続キャリアＣ６の搬出のために、搬送ユニット２０ｃを用いることも可能である。つまり、後続キャリアＣ６の搬出に用いる搬送ユニット２０の選択性を向上させることができる。なお、図７（ａ）の例では、複数の搬送ユニット２０のうち一つである搬送ユニット２０ｂが後続キャリアＣ６を処理ユニット１０ｄから受け取っている。もちろん、他の搬送ユニット２０ａ、搬送ユニット２０ｃおよび搬送ユニット２０ｄのいずれかが後続キャリアＣ６を受け取ってもよい。

【0069】

＜３－２．非並行槽＞
上述の具体例では、複数の搬送ユニット２０は、複数の処理ユニット１０（並行槽）が実行可能な処理Ｐ４で、後続キャリアＣ６が先行キャリアＣ５を追い越すように、キャリアＣを搬送していた。しかしながら、必ずしもこれに限らない。例えば、複数の搬送ユニット２０は、単一の処理ユニット１０（非並行槽）が実行可能な処理（例えば処理Ｐ１）で、後続キャリアＣ６が先行キャリアＣ５を追い越すように、キャリアＣを搬送してもよい。

【0070】

図８は、追い越し搬送方法の第２例を説明するためのフローチャートであり、図９から図１１は、処理ブロック１３０内の一部の様子の一例を概略的に示している。ここでは、キャリアＣ１を先行キャリアＣ１とし、キャリアＣ２を後続キャリアＣ２とする。後続キャリアＣ２は、先行キャリアＣ１の次に処理ブロック１３０に搬入されるキャリアＣである。複数の搬送ユニット２０は、後続キャリアＣ２が先行キャリアＣ１を追い越すように、先行キャリアＣ１および後続キャリアＣ２を搬送する。

【0071】

まず、例えば搬送ユニット２０ｂがキャリア搬送ユニット３１から先行キャリアＣ１を受け取る（ステップＳ１１：図９（ａ）参照）。このとき、搬送ユニット２０ａは、待機空間Ｈ１に対して－Ｘ側に位置している。このため、搬送ユニット２０ｂは搬送ユニット２０ａと衝突することなく、先行キャリアＣ１を受け取ることができる。次に、搬送ユニット２０ｂは先行キャリアＣ１を保持した状態で－Ｘ方向に沿って移動する。搬送ユニット２０ｂは未だ先行キャリアＣ１を処理ユニット１０ａに搬送しない。先行キャリアＣ１は搬送ユニット２０ｂにおいて待機するので、搬送ユニット２０ｂは待機搬送ユニットに相当する。

【0072】

次に、搬送ユニット２０ｂよりも搬送方向の上流側に位置する搬送ユニット２０ｃ（上流搬送ユニットに相当）がキャリア搬送ユニット３１から後続キャリアＣ２を受け取る（ステップＳ１２：図９（ｂ）参照））。このとき、搬送ユニット２０ｂは、待機空間Ｈ１に対して－Ｘ側に位置している。このため、搬送ユニット２０ｃは搬送ユニット２０ｂと衝突することなく、後続キャリアＣ２を受け取ることができる。

【0073】

次に、搬送ユニット２０ｂが先行キャリアＣ１を保持した状態で、搬送ユニット２０ｃが後続キャリアＣ２を処理ユニット１０ａ（第１処理ユニットに相当）に搬送する（ステップＳ１３：図１０（ａ）参照）。処理ユニット１０ａは、搬入された後続キャリアＣ２に対して処理Ｐ１を行う。このため、後続キャリアＣ２は先行キャリアＣ１よりも先に処理Ｐ１を受ける。つまり、後続キャリアＣ２は先行キャリアＣ１を追い越す。

【0074】

後続キャリアＣ２に対する処理Ｐ１が完了すると、搬送ユニット２０ｂよりも搬送方向の下流側に位置する搬送ユニット２０ａ（下流搬送ユニットに相当）が後続キャリアＣ２を処理ユニット１０ａから処理ユニット１０ｂ（第２処理ユニットに相当）に搬送し、搬送ユニット２０ｂが先行キャリアＣ１を処理ユニット１０ａに搬送する（ステップＳ１４）。具体的には、まず、搬送ユニット２０ａが処理ユニット１０ａに到達するように、搬送ユニット２０ａから搬送ユニット２０ｃが－Ｘ方向に沿って移動する。そして、搬送ユニット２０ａが処理ユニット１０ａから後続キャリアＣ２を受け取る（図１０（ｂ）参照）。そして、搬送ユニット２０ａが後続キャリアＣ２を次の処理ユニット１０ｂに搬送する。処理ユニット１０ｂは、搬入された後続キャリアＣ２に対して処理Ｐ２を行う。このため、後続キャリアＣ２は先行キャリアＣ１よりも先に処理Ｐ２を受ける。

【0075】

また、搬送ユニット２０ａが後続キャリアＣ２を保持した状態で処理ユニット１０ｂに向かって移動すると、搬送ユニット２０ｂが先行キャリアＣ１を処理ユニット１０ａに搬送する（図１１参照）。そして、処理ユニット１０ａは、搬入された先行キャリアＣ１に対して処理Ｐ１を行う。このため、先行キャリアＣ１は後続キャリアＣ２よりも後に処理Ｐ１を受ける。

【0076】

以後、処理が完了するたびに、搬送ユニット２０が適宜にキャリアＣを次の処理ユニット１０に搬送する。

【0077】

以上のように、追い越し搬送方法の第２例によれば、搬送ユニット２０ｂ（待機搬送ユニット）が、未だ処理Ｐ１を受けていない先行キャリアＣ１を保持した状態で、搬送ユニット２０ｂよりも搬送方向の上流側の搬送ユニット２０ｃ（上流搬送ユニット）が後続キャリアＣ２を処理ユニット１０ａに搬送する（ステップＳ１３）。これにより、処理ユニット１０ａは先行キャリアＣ１よりも先に後続キャリアＣ２に対して処理Ｐ１を行うことができる。つまり、後続キャリアＣ２が先行キャリアＣ１を追い越すことができる。

【0078】

また、上述の追い越し搬送方法の第２例によれば、先行キャリアＣ１を保持した搬送ユニット２０ｂよりも搬送方向の下流側の搬送ユニット２０ａ（下流搬送ユニット）が処理ユニット１０ａから後続キャリアＣ２を受け取る（図１０（ｂ）参照）。このため、搬送ユニット２０ａ（下流搬送ユニット）が後続キャリアＣ２を次の処理ユニット１０ｂに搬送するに際して、搬送ユニット２０ｂ（待機搬送ユニット）が邪魔にならない。したがって、搬送ユニット２０ｂ（待機搬送ユニット）の位置によらず、搬送ユニット２０ａ（下流搬送ユニット）は後続キャリアＣ２を処理ユニット１０ｂに速やかに搬送することができる。

【0079】

また、搬送ユニット２０ｂ（待機搬送ユニット）は搬送ユニット２０ａ（下流搬送ユニット）が次の処理ユニット１０ｂへ移動しているときに、先行キャリアＣ１を処理ユニット１０ａに搬送することもできる。つまり、より短時間で搬送ユニット２０ｂ（待機搬送ユニット）は先行キャリアＣ１を処理ユニット１０ａに搬送することができる。したがって、基板処理装置１００のスループットを向上させることができる。

【0080】

以上のように、基板処理装置１００および搬送方法は詳細に説明されたが、上記した説明は、全ての局面において例示であって、この開示がそれに限定されるものではない。また、上述した各種変形例は、相互に矛盾しない限り組み合わせて適用可能である。そして、例示されていない多数の変形例が、この開示の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。

【0081】

上述の例では、搬送ユニット２０は、キャリアＣに基板群Ｇを収納した状態で、キャリアＣを搬送している。しかしながら、必ずしも基板群ＧをキャリアＣに収納する必要はない。搬送ユニット２０が基板群Ｇを搬送し、各処理ユニット１０が基板群Ｇを搬送ユニット２０から受け取り、基板群Ｇを処理槽１１内の処理液に浸漬させてもよい。要するに、搬送ユニット２０は、基板群Ｇ、あるいは、基板群Ｇを収納したキャリアＣであるワークを搬送し、処理ユニット１０が該ワークに対して処理を行えばよい。この場合、上述の先行キャリアＣは先行ワークと呼ぶことができ、上述の後続キャリアＣは後続ワークと呼ぶことができる。

【符号の説明】

【0082】

１０，１０ａ～１０ｊ 処理ユニット
１００ 基板処理装置
２０，２０ａ～２０ｄ 搬送ユニット
９０ 制御部
Ｓ１～Ｓ４ 第１工程（ステップ）
Ｓ５ 第２工程（ステップ）

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】