特開 2024-63771 肌処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024063771

(43)【公開日】2024-05-13

(54)【発明の名称】肌処理装置

(51)【国際特許分類】

   A61N 1/44 20060101AFI20240502BHJP

   A61N 5/06 20060101ALI20240502BHJP

【ＦＩ】

A61N1/44

A61N5/06 Z

【審査請求】未請求

【請求項の数】9

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023182768

(22)【出願日】2023-10-24

(31)【優先権主張番号】P 2022171344

(32)【優先日】2022-10-26

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(71)【出願人】

【識別番号】000114628

【氏名又は名称】ヤーマン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110002871

【氏名又は名称】弁理士法人坂本国際特許商標事務所

(72)【発明者】

【氏名】福井 壮一郎

【テーマコード（参考）】

4C053

4C082

【Ｆターム（参考）】

4C053MM02

4C082PC01

4C082PJ21

(57)【要約】

【課題】処理対象の肌範囲の広さや形状を変化させることを可能とする。
【解決手段】ユーザの肌に当接可能であり、ユーザの肌との間に第１プラズマ生成空間部を形成するヘッド部と、プラズマ発生源と、ヘッド部に脱離可能に取り付け可能であり、電気を導通する導通部を含み、ユーザの肌との間に第２プラズマ生成空間部を形成するアタッチメントとを備え、第１プラズマ生成空間部と第２プラズマ生成空間部は、ユーザの肌に対する作用範囲のサイズ又は形状が異なる、肌処理装置が提供される。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

ユーザの肌に当接可能であり、ユーザの肌との間に第１プラズマ生成空間部を形成するヘッド部と、
プラズマ発生源と、
前記ヘッド部に脱離可能に取り付け可能であり、電気を導通する導通部を含み、ユーザの肌との間に第２プラズマ生成空間部を形成するアタッチメントとを備え、
前記第１プラズマ生成空間部と前記第２プラズマ生成空間部は、ユーザの肌に対する作用範囲のサイズ又は形状が異なる、肌処理装置。

【請求項2】

前記アタッチメントは、前記第１プラズマ生成空間部に配置される態様で、前記ヘッド部に取り付け可能である、請求項１に記載の肌処理装置。

【請求項3】

前記ヘッド部は、前記ヘッド部に前記アタッチメントが取り付けられている第１状態及び前記ヘッド部に前記アタッチメントが取り付けられていない第２状態のいずれにおいても前記プラズマ発生源にエネルギ的に接続され、前記第１プラズマ生成空間部を境界付ける第１誘電体を有し、
前記アタッチメントは、前記第２状態において前記プラズマ発生源にエネルギ的に接続され、前記第２プラズマ生成空間部を境界付ける第２誘電体を有し、
前記第２誘電体は、前記第１誘電体よりも小型である、請求項１に記載の肌処理装置。

【請求項4】

前記アタッチメントは、磁石又は磁性体により形成される取付部を有し、
前記ヘッド部は、前記第１誘電体における前記第１プラズマ生成空間部とは逆側に、前記取付部を引き付ける磁石又は磁性体を有する、請求項３に記載の肌処理装置。

【請求項5】

前記磁石は、前記導通部を形成し、前記プラズマ発生源からのプラズマ発生用エネルギの伝達経路を形成する、請求項４に記載の肌処理装置。

【請求項6】

前記磁石は、前記第２誘電体における前記第１プラズマ生成空間部の側の表面に固定される、請求項４に記載の肌処理装置。

【請求項7】

前記ヘッド部は、前記第１誘電体におけるユーザの肌から遠い側の表面に、導体を更に有し、
前記導体は、前記第１状態及び前記第２状態において前記プラズマ発生源にエネルギ的に接続され、
前記第２誘電体は、前記第２状態において、前記導体、前記第１誘電体、及び前記磁石を介して、前記プラズマ発生源にエネルギ的に接続される、請求項６に記載の肌処理装置。

【請求項8】

ユーザの肌に照射可能な所定波長の光を発生する光源を更に備え、
前記ヘッド部は、前記第１プラズマ生成空間部の外周を境界付ける周壁部を更に有し、
前記周壁部は、前記光源からの光の出射部を形成する、請求項１から７のうちのいずれか１項に記載の肌処理装置。

【請求項9】

制御装置を更に備え、
前記制御装置は、
前記ヘッド部に前記アタッチメントが取り付けられているか否かを判定する判定処理部と、
前記判定処理部の判定結果に基づいて、前記プラズマ発生源の出力を制御する出力制御部とを有する、請求項１に記載の肌処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、肌処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

美容のためにプラズマを肌に照射する技術が知られている。例えば、特許文献１には、プローブは、片手で把持できる筒体の一方の端部にプラズマ発生用電極を備え、美顔処理をする皮膚に密着させるためにある導電性材料のＴ字形先端部と、筒体の他方の端部に外部制御装置から電力及び高周波を供給するケーブルの端末を接合させた接続部とを有する技術が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】実用新案登録第３２２３０８４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

しかしながら、上記のような従来技術では、処理対象の肌範囲の広さや形状を変化させることができず、装置の有用性が低いという問題がある。

【0005】

そこで、本開示は、処理対象の肌範囲の広さや形状を変化させることを可能とすることを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

１つの側面では、ユーザの肌に当接可能であり、ユーザの肌との間に第１プラズマ生成空間部を形成するヘッド部と、
プラズマ発生源と、
前記ヘッド部に脱離可能に取り付け可能であり、電気を導通する導通部を含み、ユーザの肌との間に第２プラズマ生成空間部を形成するアタッチメントとを備え、
前記第１プラズマ生成空間部と前記第２プラズマ生成空間部は、ユーザの肌に対する作用範囲のサイズ又は形状が異なる、肌処理装置が提供される。

【発明の効果】

【0007】

本開示によれば、処理対象の肌範囲の広さや形状を変化させることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】本実施形態の肌処理装置の外観を示す３面図である。

【図2】図１のラインＡ－Ａに沿った断面図である。

【図3】図２の一部（ヘッド部周辺）の拡大図である。

【図4】スポットアタッチメントの単品状態の斜視図である。

【図5A】スポットアタッチメントが装着されている状態のヘッド部を示す斜視図である。

【図5B】スポットアタッチメントが装着されていない状態のヘッド部を示す斜視図である。

【図6】プラズマ生成空間で発生されるプラズマによる肌処理効果の一例の説明図である。

【図7】アタッチメント非装着状態（第１プラズマ生成空間部）の説明図である。

【図8】アタッチメント装着状態（第２プラズマ生成空間部）の説明図である。

【図9】肌処理装置の制御系の全体構成を示す概略図である。

【図10】制御装置のハードウェア構成の一例を示す図である。

【図11】制御装置により実行される処理の流れの一例を示す概略的なフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【0009】

以下、添付図面を参照しながら各実施形態について詳細に説明する。なお、図面の寸法比率はあくまでも一例であり、これに限定されるものではなく、また、図面内の形状等は、説明の都合上、部分的に誇張している場合がある。また、図面では、見易さのために、複数存在する同一属性の部位には、一部のみしか参照符号が付されていない場合がある。

【0010】

図１は、本実施形態の肌処理装置１の外観を示す３面図である。図２は、図１のラインＡ－Ａに沿った断面図である。図３は、図２の一部（ヘッド部周辺）の拡大図である。

【0011】

本実施形態の肌処理装置１は、美顔器の形態であり、ユーザの顔部の肌に美容関連効果を付与する。ただし、変形例では、肌処理装置１は、ユーザの顔部に加えて又は代えて、ユーザの顔部以外に同様の美容関連効果を付与するように構成されてもよい。また、肌処理装置１は、美容関連効果とは異なる効果（例えば医薬品の経皮吸収の促進効果）を付与するために利用されてもよい。

【0012】

本実施形態の肌処理装置１は、ユーザの手により把持可能な携帯型であるが、固定機器にアーム等を介して可動に支持される可動式に適用されてもよい。

【0013】

肌処理装置１は、ヘッド部１ａと、把持部１ｂと、を含む。この場合、ユーザは、把持部１ｂを挟持して、ヘッド部１ａを自身の顔部や他人（例えば患者）の顔部における所望の部位に当てることで、所望の部位に対して肌処理装置１からの各種出力を付与できる。

【0014】

ヘッド部１ａは、把持部１ｂの端部に設けられる。なお、ヘッド部１ａは、把持部１ｂに対して固定されてもよいし、取り外し可能であってもよいし、把持部１ｂに対して可動であってもよい。

【0015】

ヘッド部１ａは、ユーザの肌に当接可能であり、ユーザの肌に当接されるのに適した形態を有する。

【0016】

本実施形態では、ヘッド部１ａは、ユーザの肌と当接可能である。具体的には、ヘッド部１ａは、ユーザの肌と当接可能な凸条部１１を有する。例えば、凸条部１１の端面（肌に接触する面）は、略平面状（比較的大きい曲率半径の曲面状を含む）の当接面を形成する。当接面は、側面視で略直線に近似できる平面である。正面視での当接面の形態（当接面に対して垂直な方向に視たときの凸条部１１の形態）は、矩形や円形、楕円形、多角形等のような任意であり、本実施形態では、一例として、円形である。

【0017】

以下では、ヘッド部１ａに関して、「径方向」及び「周方向」の各用語は、凸条部１１の円形を基準として使用される。例えば、径方向とは、凸条部１１の円形の径方向であり、径方向内側とは、当該円形の中心に近い側を指す。

【0018】

また、「軸方向」の用語は、凸条部１１の円形の中心を通り、かつ、凸条部１１の当接面に対して実質的に垂直な方向の軸Ｃ１（図３参照）に沿った方向を指す。以下で、「軸方向に視て」とは、軸Ｃ１に沿ったビューを表す。

【0019】

また、「ユーザの肌側」とは、使用時の状態（ユーザの肌に肌処理装置１を当てている状態）において軸方向でユーザの肌に近い側を指す。また、「ヘッド内部側」とは、軸方向でユーザの肌から遠い側を指す。

【0020】

本実施形態では、凸条部１１は、後述する第１プラズマ生成空間部Ｓ１の外周を境界付ける周壁部としても機能する。すなわち、凸条部１１は、ヘッド部１ａの基本面（誘電体セラミック１２におけるユーザの肌側の表面に対応）から突設された周壁部の形態であり、凸条部１１の内側（径方向内側）に、後述する第１プラズマ生成空間部Ｓ１を形成する。凸条部１１の円形の直径Φ１は、任意であるが、例えば２０ｍｍ程度であってよい。

【0021】

凸条部１１は、当接面自体が光の出射面を形成してよい。具体的には、凸条部１１は、光源７０（図９も参照）としてのＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）に光学的に接続され、当接面を介して所定波長の光を照射可能であってよい。所定波長は、任意であるが、１種類であってもよいし、複数種類であってもよい。ＬＥＤは、複数個配置されてよく、全てが同じ波長の光を発生させてもよいし、２種類以上の光が発生可能なように、複数種類のＬＥＤを含んでもよい。なお、複数のＬＥＤは、周方向に沿って等ピッチで配置されてよい
ヘッド部１ａは、外ケース７と、内ケース８と、マグネット１０と、誘電体セラミック１２と、導体１４とを含む。

【0022】

外ケース７は、把持部１ｂの上部ケース６に嵌合される。外ケース７は、樹脂等により形成されてよい。

【0023】

内ケース８は、外ケース７に固定される。内ケース８は、樹脂等により形成されてよい。内ケース８は、外ケース７よりもヘッド内部側に配置される。内ケース８は、誘電体セラミック１２を保持する。また、内ケース８は、上述した凸条部１１を形成する。

【0024】

マグネット１０は、後述するスポットアタッチメント２０のマグネット２２と引き付け合うことで、ヘッド部１ａへのスポットアタッチメント２０の脱離可能な取り付けを可能とする。

【0025】

マグネット１０の材料は、導電性を有する磁性体であればよく、例えばネオジム磁石、サマリウムコバルト磁石やアルニコ磁石などの磁性体であってよい。

【0026】

誘電体セラミック１２は、ジルコニアやアルミナ等のようなセラミックを含む任意の誘電体材料により形成されてよい。誘電体セラミック１２は、軸方向に視て、凸条部１１の径方向内側に延在する。誘電体セラミック１２は、凸条部１１の径方向内側の円形範囲全体にわたって延在してよい。この場合、誘電体セラミック１２は、軸方向に視て、凸条部１１の円形の直径Φ１と略同じ直径の円形の形態であってよい。誘電体セラミック１２は、凸条部１１の当接面よりもヘッド内部側に、当接面とほぼ平行に延在する。この場合、ヘッド部１ａは、凸条部１１及び誘電体セラミック１２が、ヘッド内部側へと凹む凹部（後述する第１プラズマ生成空間部Ｓ１）を形成する。すなわち、誘電体セラミック１２におけるユーザの肌側の表面は、後述する第１プラズマ生成空間部Ｓ１のヘッド内部側を境界付ける。誘電体セラミック１２は、プラズマ発生用の誘電体バリア放電を起こすための誘電体として機能する。また、誘電体セラミック１２におけるユーザの肌側の表面は、スポットアタッチメント２０の座面を形成する。

【0027】

導体１４は、誘電体セラミック１２におけるヘッド内部側の表面に設けられる。導体１４は、軸方向に視て、凸条部１１の径方向内側に延在する。導体１４は、軸方向に視て、凸条部１１の径方向内側の円形範囲全体（すなわち誘電体セラミック１２におけるヘッド内部側の表面全体）にわたって延在してよいし、円形範囲の一部に延在してもよい。本実施形態では、導体１４は、軸方向に視て、凸条部１１の円形の直径Φ１よりも小さい直径の円形の形態である。導体１４は、軸方向に視て、凸条部１１の円形の中心と同心に設けられてよい。

【0028】

導体１４は、プラズマ発生源６０からのプラズマ発生用エネルギの伝達経路を形成する。すなわち、導体１４は、プラズマ発生用エネルギを、誘電体セラミック１２に伝達する機能を有する。導体１４は、かかる機能を有する限り、任意の形態であってよく、例えば比較的薄い導体膜により形成されてもよい。導体１４は、プラズマ発生源６０に導線（図示せず）を介して電気的に接続されてよい。

【0029】

把持部１ｂは、ユーザの手で把持されやすい形態を有する。把持部１ｂには、電源のオン／オフボタン２やレベルボタン３、レベル表示部４を含んでよい。なお、各種ボタンは、機械式のボタンであってもよいし、タッチスイッチであってもよい。また、把持部１ｂは、底面部にＤＣジャック５を備えている。

【0030】

把持部１ｂは、ハウジングの形態でもあり、図２に示すように、内部に各種電子部品等を収容する。各種電子部品は、プラズマ発生源６０や後述する制御装置１００を含む。

【0031】

プラズマ発生源６０は、高圧トランス１５を含む。高圧トランス１５は、内部電源又は外部電源に基づいて、プラズマ発生用のエネルギを発生させる。例えば、プラズマ発生源６０は、放電電圧７ｋＶ～２０ｋＶ、好ましくは、放電電圧９ｋＶ～１６ｋＶを発生可能である。また、放電周波数は、１０ｋＨｚ～１００ｋＨｚ、好ましくは、３０ｋＨｚ～７０ｋＨｚの範囲内であってよく、断続周波数は１００Ｈｚ程度であってよい。

【0032】

プラズマ発生源６０は、後述する制御装置１００による制御下で動作する。プラズマ発生源６０により発生されるプラズマ発生用エネルギ（本実施形態では、高圧トランス１５を介して発生する電気エネルギ）は、導体１４を介して誘電体セラミック１２へと伝達される。

【0033】

次に、図３とともに、図４から図８を参照して、本実施形態の肌処理装置１の更なる詳細を説明する。

【0034】

図４は、スポットアタッチメント２０の単品状態の斜視図であり、図５Ａは、スポットアタッチメント２０が装着されている状態（以下、「アタッチメント装着状態」とも称する）のヘッド部１ａを示す斜視図であり、図５Ｂは、スポットアタッチメント２０が装着されていない状態（以下、「アタッチメント非装着状態」とも称する）のヘッド部１ａを示す斜視図である。

【0035】

本実施形態の肌処理装置１は、ヘッド部１ａに脱離可能に取り付け可能なスポットアタッチメント２０を備える。

【0036】

スポットアタッチメント２０は、本体部２１と、マグネット２２と、誘電体セラミック２３とを含む。

【0037】

本体部２１は、例えば樹脂等の絶縁材料により形成されてよい。本体部２１は、ヘッド部１ａに当接可能な座部２１０を有する。座部２１０は、軸方向に視て、ヘッド部１ａの内ケース８の凸条部１１の円形よりもわずかに小径の円形形態を有する。座部２１０は、アタッチメント装着状態において、ヘッド部１ａの凸条部１１の径方向内側で、ヘッド部１ａの内ケース８の座面（すなわち誘電体セラミック１２）に面接触する態様で当接する。

【0038】

このようにして、本実施形態では、スポットアタッチメント２０は、後述する第１プラズマ生成空間部Ｓ１に配置される態様で、ヘッド部１ａに取り付け可能である。そして、アタッチメント装着状態では、スポットアタッチメント２０は、ヘッド部１ａの誘電体セラミック１２におけるユーザの肌側の表面の略全体を覆う。なお、変形例では、アタッチメント装着状態では、スポットアタッチメント２０は、ヘッド部１ａの誘電体セラミック１２におけるユーザの肌側の表面の一部だけを覆ってもよい。

【0039】

本体部２１は、軸方向の貫通穴２１２を有する。貫通穴２１２は、軸Ｃ１を中心として形成されてよい。すなわち、貫通穴２１２は、軸方向に視て、座部２１０の中心（円形の中心）に形成されてよい。貫通穴２１２は、軸方向一方側でヘッド内部側に開口しかつ軸方向他方側でユーザの肌側に開口する態様で、本体部２１を貫通する。

【0040】

軸方向に視た貫通穴２１２の形態は、任意であるが、本実施形態では、一例として、円形である。本実施形態では、貫通穴２１２は、ヘッド部１ａ側に小径部２１２０を有し、ユーザの肌側に大径部２１２２を有する。小径部２１２０は、マグネット２２が固定（嵌合）される部位を形成する。

【0041】

本体部２１における大径部２１２２まわりの周壁部２１４は、上述したヘッド部１ａの凸条部１１と同様、ユーザの肌と当接可能な当接部を形成する。例えば、本体部２１の周壁部２１４の端面（ユーザの肌側の端面）は、略平面状（比較的大きい曲率半径の曲面状を含む）の当接面を形成する。当接面は、側面視で略直線に近似できる平面である。正面視での当接面の形態（当接面に対して垂直な方向に視たときの周壁部２１４の形態）は、矩形や円形、楕円形、多角形等のような任意であり、本実施形態では、一例として、円形である。

【0042】

周壁部２１４は、後述する第２プラズマ生成空間部Ｓ２の外周を境界付ける。すなわち、本体部２１の周壁部２１４は、後述する誘電体セラミック２３よりもユーザの肌側へと突設された周壁部の形態であり、周壁部２１４の内側（径方向内側）に、後述する第２プラズマ生成空間部Ｓ２を形成する。周壁部２１４は、軸方向に視て、軸Ｃ１を中心とした円形の形態である。従って、周壁部２１４は、軸方向に視て、凸条部１１と同心状の円形の形態を有する。周壁部２１４の内径（すなわち大径部２１２２の円形の直径）Φ２は、凸条部１１の円形の直径Φ１よりも有意に小さければ任意であるが、例えば凸条部１１の円形の直径Φ１の半分以下であってよい。なお、周壁部２１４の形態（軸方向に視た形態）が非円形の場合も同様に、凸条部１１の形態（軸方向に視た形態）よりも有意に小さければよい。

【0043】

マグネット２２は、本体部２１に固定される。本実施形態では、マグネット２２は、本体部２１の小径部２１２０内に配置される。マグネット２２は、貫通穴２１２を塞ぐ態様で、小径部２１２０に嵌合されてよい。

【0044】

マグネット２２は、ヘッド部１ａのマグネット１０と協動して、ヘッド部１ａへのスポットアタッチメント２０の脱離可能な取り付けを実現する。また、マグネット２２は、後述するように、アタッチメント装着状態において、プラズマ発生源６０からのプラズマ発生用エネルギの伝達経路（導通部）を形成する。具体的には、アタッチメント装着状態では、マグネット２２は、ヘッド部１ａの誘電体セラミック１２におけるユーザの肌側の表面に当接する。この当接状態は、ヘッド部１ａのマグネット１０とマグネット２２との間の引き付け合う力によって維持される。

【0045】

なお、マグネット２２の形状（軸方向に視た形状）は、ヘッド部１ａのマグネット１０と同様であってよい。なお、マグネット１０及びマグネット２２は、軸方向両側に異なる磁極を有する。この場合、マグネット１０におけるユーザの肌側の端部の磁極と、マグネット２２におけるヘッド内部側の端部の磁極とは、互いに異なる極性を有する。

【0046】

マグネット２２の材料は、導電性を有する磁性体であればよく、例えばネオジム磁石、サマリウムコバルト磁石やアルニコ磁石などの磁性体であってよい。

【0047】

誘電体セラミック２３は、ジルコニアやアルミナ等のようなセラミックを含む任意の誘電体材料により形成されてよい。誘電体セラミック２３は、マグネット２２におけるユーザの肌側の表面に固定される。誘電体セラミック２３は、マグネット２２と面接触する態様で、マグネット２２に固定されてよい。

【0048】

誘電体セラミック２３は、図３に示すように、貫通穴２１２内に設けられる。本実施形態では、誘電体セラミック２３は、大径部２１２２における小径部２１２０との境界付近に配置される。この場合、誘電体セラミック２３の組み付け性が良好となる。ただし、変形例では、誘電体セラミック２３は、小径部２１２０に配置されてもよい。この場合も、誘電体セラミック２３は、マグネット１０におけるユーザの肌側の表面上に配置されてよい。この場合、誘電体セラミック２３は、マグネット１０におけるユーザの肌側の表面に接着等により固定されてよい。

【0049】

誘電体セラミック２３は、軸方向に視て、軸Ｃ１を中心とした円形の形態であり、大径部２１２２の円形範囲全体にわたって延在してよい。本実施形態では、誘電体セラミック２３は、軸方向に視て、大径部２１２２の円形よりも若干小さい円形（すなわち大径部２１２２よりも若干の小径）の形態である。

【0050】

誘電体セラミック２３は、凸条部１１の当接面よりもユーザの肌側に、当接面（及びそれに伴い誘電体セラミック１２）とほぼ平行に延在する。また、誘電体セラミック２３は、本体部２１よりもヘッド内部側に、当接面とほぼ平行に延在する。この場合、スポットアタッチメント２０は、周壁部２１４（及びその径方向内側の大径部２１２２）及び誘電体セラミック２３が、ヘッド内部側へと凹む凹部（後述する第２プラズマ生成空間部Ｓ２）を形成する。すなわち、誘電体セラミック２３におけるユーザの肌側の表面は、後述する第２プラズマ生成空間部Ｓ２のヘッド内部側を境界付ける。誘電体セラミック２３は、プラズマ発生用の誘電体バリア放電を起こすための誘電体として機能する。

【0051】

本実施形態では、肌処理装置１は、このようなスポットアタッチメント２０を備えることで、図５Ａに示すアタッチメント装着状態と、図５Ｂに示すアタッチメント非装着状態とを選択的に形成できる。

【0052】

図６は、プラズマ生成空間で発生されるプラズマによる肌処理効果の一例の説明図である。

【0053】

図６に示すように、プラズマ生成空間Ｓにプラズマ（符号６００を付した線で模式的に図示）が発生すると、プラズマ生成空間Ｓ内のプラズマがユーザの肌に作用する。図６に示す例では、ユーザの肌には、ニキビ（図６では符号６０３で指示）がある。この場合、プラズマの殺菌作用に起因して、ニキビの原因となる菌（例えばアクネ菌）を殺減することが可能となる。このようにして、ユーザは、プラズマ生成空間Ｓを利用した局所的なニキビケアを実現できる。

【0054】

また、プラズマは、肌の角質層のバリア機能を一時的に弱める作用も有しうる。このため、化粧水の浸透を助けことになり、化粧水の美容成分を効果的に浸透させる浸透効果も期待できる。

【0055】

なお、浸透対象の対象物は、任意である。対象物は、人の皮膚に付与可能な物質であり、典型的には、美容効果などの各種効果を期待できる物質である。対象物は、例えば、化粧品等に含まれる各種成分であってよい。あるいは、対象物は、皮膚外用剤に含まれる各種成分であってもよい。なお、皮膚外用剤は、医薬品、及び医薬部外品など物質担体の使用目的は任意である。また、対象物は、医薬部外品において肝臓で代謝され効果効能が発揮しきれなかった医薬品の経皮吸収の促進にも効果がある物質を含んでよい。また、さらに経皮吸収させる外用剤の使用目的は任意であり、鎮痛剤、消炎剤、美白剤、湿潤剤、抗しわ剤、抗炎症剤、抗菌剤、抗ウイルス薬をはじめとして外用剤の経皮吸収目的を問わない。

【0056】

以下は、上述した浸透対象の対象物の好適な例である。

【0057】

弱酸性～弱アルカリ性付近のｐＨにおいて
＜水溶液中で＋に帯電している化合物群＞
美白効果が知られている成分としてはトラネキサム酸、トラネキサム酸セチル塩酸塩などトラネキサム酸誘導体やナイアシンアミドが挙げられるが、これらに限られず、ニキビや肌荒れに有効とされる塩酸ピリドキシン及びその誘導体、殺菌及び消毒に使われるベンザルコニウムクロリド、更には、しわ改善に効果があるとされ等電点がアルカリ側にあるペプチド類、例としてパルミトイルトリペプチド－５、アセチルヘキサペプチド－８、ジ酢酸ジペプチドジアミノブチロイルベンジルアミドなどのペプチド及びその誘導体が挙げられる。また、アラントイン、アルジオキサ、カルニチンＨＣｌ、塩基性アミノ酸であるリジン、アルギニン、ヒスチジン、トリプトファン、オルニチン等、更にはエルゴチオネイン、保湿剤として尿素等も一例として挙げられるが、弱酸性～弱アルカリ性付近のｐＨで＋に帯電ないしは分極している官能基を持つ物質（帯電量は微小でもカチオン性であればよい）であればよく、これら化合物群に限らない。
＜水溶液中で－に帯電している化合物群＞
美白剤として有効性が認められている４－メトキシサリチル酸カリウム塩、アデノシン一リン酸二ナトリウムの他、アスコルビン酸、Ｌ－アスコルビン酸２－グルコシド、リン酸Ｌ－アスコルビルナトリウム、リン酸Ｌ－アスコルビルマグネシウム、Ｌ－アスコルビン酸硫酸エステル二ナトリウム、パルミチン酸アスコルビルリン酸３Ｎａなどアスコルビン酸及びその誘導体、ｄｌ－αートコフェリルリン酸ナトリウム等が挙げられる。また、パラフェノールスルホン酸亜鉛、サリチル酸とそのナトリウム塩など、更には乳酸ナトリウム、Ｌ－ないしＤＬ－ピロリドンカルボン酸ナトリウム液、Ｌ－グルタミン酸ナトリウムやＬ－アスパラギン酸ナトリウムなど酸性アミノ酸が挙げられる。また、炎症を鎮める効果があるとされるグリチルリチン酸、グリチルリチン酸ジカリウムやグリチルリチン酸アンモニウムなどグリチルリチン酸及びその塩、グアイアズレンスルホン酸ナトリウム、ジラウロイルグルタミン酸リシンＮａ等、弱酸性～弱アルカリ性付近のｐＨで－に帯電ないしは分極している官能基を持つ物質（帯電量は微小でもアニオン性であればよい）であればよく、上記に限らない。
＜水溶液中でほとんど解離しない化合物ないし両性電解質＞
美白効果があるとされるコウジ酸、アルブチン、ハイドロキノン、４－ｎ－ブチルレゾルシノール、５，５’－ジプロピル－ビフェニル－２，２’－ジオール、エラグ酸、３－Ｏ－エチルアスコルビン酸、３－グリセリルアスコルビン酸、ビスグリセリルアスコルビン酸、ヘキシル３－グリセリルアスコルビン酸、ミリスチル３－グリセリルアスコルビン酸、３－ラウリルグリセリルアスコルビン酸などアスコルビン酸誘導体、Ｄ－パントテニルアルコール、コレカルシフェロール、３－ｏ－シメン－５－オール（イソプロピルメチルフェノール）、グリシン、プロリン、アラニン、セリン、アセチルヒドロキシプロリン、εーアミノカプロン酸、γ－アミノ酪酸のような中性アミノ酸類及びその誘導体、トリメチルグリシンなどの両性電解質やキシロース、ソルビトール、マンニトールなどの糖類やブチレングリコール、ヘキシレングリコール、ペンチレングリコール、グリセリンなどのポリオール類、ヒノキチオールなどのテルペン類等が挙げられる。また、難溶性物質であるフラーレン、オリザノール、セラミドＥＯＰ、セラミドＥＯＳ、セラミドＮＧ、カプロオイルスフィンゴシン、セラミドＮＰ、Ｎ－ステアロイルフィトスフィンゴシン、Ｎ－ステアロイルジヒドロスフィンゴシン、セラミドＡＧ、セラミドＡＰ、ヒドロキシステアリルフィトスフィンゴシン、セラミド６ＩＩ、フィトスフィンゴシンもリポソームに内包される、されないにかかわらず、有用成分として挙げられる。さらには有用性を発揮する植物、動物から得られるエキス類、幹細胞などの培養液、培養上清液も挙げられる。

【0058】

また、フラボノイドとしてはイソフラボン、カンゾウ根エキス、カンゾウフラボノイド、甘草フラボノイドなどが挙げられるがこの限りではない。エキス類としてはカモミラＥＴ、クララ根エキス、センブリエキス、ニンジン及びその根のエキス、ダイズエキス及びダイズ種子エキス、チャ葉エキス、ガラクトミセス培養液、ライスパワーＮｏ．１１（米エキスＮｏ．１１）、アスタキサンチン液や紅藻類のエキス、プラセンタエキス及びプラセンタエキス（１）～（５）、水溶性及び加水分解プラセンタエキスなどが挙げられる。
＜脂質及び油溶性物質＞
スクワラン、リノール酸、テトラ２－ヘキシルデカン酸アスコルビル、ジパルミチン酸アスコルビル、レチノール、酢酸レチノール、パルミチン酸レチノール、水添レチノール、リノール酸レチノールなどレチノール及びその誘導体、ニコチン酸トコフェロール、ｄｌ－α－トコフェロール、ｄ－δ－トコフェロール、天然ビタミンＥ、酢酸ＤＬ－α－トコフェロールなどトコフェロールとその誘導体、グリチルレチン酸ステアリル、エストラジオール、エチニルエストラジオール、アスタキサンチン、コメ胚芽油、スフィンゴミエリンなどのリン脂質、合成、植物性を含むスクワラン、グアイアズレン及びグアイアズレンスルホン酸エステル、ステアリン酸アスコルビル、パルミチン酸アスコルビルなどアスコルビン酸の脂肪酸エステル、ラウロイルグルタミン酸ジ（フィトステリル／オクチルドデシル）、油溶性プラセンタなどが挙げられる。
＜比較的分子量の高い化合物及び高分子化合物＞
ヒト遺伝子組換オリゴペプチド－１、パルミトイルヘキサペプチド－４を含むパルミトイルヘキサペプチド類、パルミトイルペンタペプチド類、加水分解コラーゲン及びその誘導体、ヒアルロン酸、ヒアルロン酸Ｎａ、アセチル化ヒアルロン酸ナトリウムなどヒアルロン酸及びその誘導体、シロキクラゲ多糖体、アルカリゲネス産生多糖体、ポリクオタニウム類が挙げられる。

【0059】

図６に示す例では、プラズマ生成空間Ｓは、ユーザの肌により閉塞された空間である。この場合、プラズマ生成空間Ｓと外部空間との連通が実質的に遮断されるので、殺菌効果を効果的に高めることができる。

【0060】

本実施形態では、以下で説明するように、肌処理装置１は、アタッチメント非装着状態では、プラズマ発生源６０からのプラズマ発生用エネルギに基づいて、第１プラズマ生成空間部Ｓ１にプラズマを発生可能であり、かつ、アタッチメント装着状態では、プラズマ発生源６０からのプラズマ発生用エネルギに基づいて、第２プラズマ生成空間部Ｓ２にプラズマを発生可能である。

【0061】

なお、プラズマの発生原理は、任意であるが、本実施形態では、誘電体バリア放電が利用される。誘電体バリア放電は、誘電体を介した電極と人体（ユーザ）との間に交流電圧をかけることで形成される。この場合、誘電体により過度で急激な人体への放電が抑えられるため、大気圧で低温のプラズマを照射できる。

【0062】

具体的には、アタッチメント非装着状態では、プラズマ発生源６０により発生されるプラズマ発生用エネルギ（本実施形態では、高圧トランス１５を介して発生する電気エネルギ）は、上述したように、導体１４を介して誘電体セラミック１２へと伝達される。そして、誘電体セラミック１２を介した誘電体バリア放電により第１プラズマ生成空間部Ｓ１にプラズマを発生させることができる。

【0063】

アタッチメント装着状態では、アタッチメント非装着状態の場合と同様、プラズマ発生源６０により発生されるプラズマ発生用エネルギ（本実施形態では、高圧トランス１５を介して発生する電気エネルギ）は、上述したように、導体１４を介して誘電体セラミック１２へと伝達される。そして、プラズマ発生用エネルギは、誘電体セラミック１２に当接するスポットアタッチメント２０のマグネット２２を介して誘電体セラミック２３へと伝達される。そして、誘電体セラミック２３を介した誘電体バリア放電により第２プラズマ生成空間部Ｓ２にプラズマを発生させることができる。

【0064】

このようにして、アタッチメント装着状態では、プラズマ発生源６０により発生されるプラズマ発生用エネルギは、導体１４、誘電体セラミック１２及びマグネット２２を介して、誘電体セラミック２３に伝達される。なお、この場合、マグネット２２は、導通部として導体がアンテナとなり、出力（プラズマ発生用エネルギ）を誘電体セラミック２３に伝達できる。

【0065】

本実施形態では、上述したように、ヘッド部１ａへのスポットアタッチメント２０の脱着を可能とするマグネット２２は、アタッチメント装着状態でのプラズマ発生用エネルギの伝達経路としても機能する。これにより、スポットアタッチメントを、例えば爪等による係合のような機械的な接続方法でヘッド部に装着するような構成に比べて、ヘッド部１ａの内部へ侵入しうる液体に対する保護性能（例えば防水性）を高めることができる。すなわち、ヘッド部１ａの誘電体セラミック１２は、凸条部１１を形成するケース部材１１０と実質的に隙間無く結合できるので、防水性等を高めることができる。なお、本実施形態では、このように比較的高い防水性を実現できるので、凸条部１１を形成するケース部材１１０と誘電体セラミック１２との間に、シール部材が不要となり、部品点数低減を図ることができる。しかしながら、変形例では、かかるシール部材が設けられてもよい。

【0066】

本実施形態において、第１プラズマ生成空間部Ｓ１の高さ、すなわちアタッチメント非装着状態において、ヘッド部１ａが肌と正常に当接した状態での肌と誘電体セラミック１２における肌側の表面との軸方向の寸法ｄ１（図７参照）は、プラズマが適切に生成されるように適合される。第１プラズマ生成空間部Ｓ１の高さは、例えば、１ｍｍから３ｍｍの範囲内であってよい。これは、第２プラズマ生成空間部Ｓ２についても同様である（図８の寸法ｄ２参照）。１ｍｍ以上とすることで、肌に近づき過ぎることが防止され、局所的に過度で急激なプラズマが発生しない構造を実現できる。また、３ｍｍ以下（例えば、１．５～２ｍｍの範囲）とすることで、安定的にプラズマを発生させることができる。

【0067】

ここで、図７及び図８を参照して、本実施形態の更なる効果を説明する。

【0068】

図７は、アタッチメント非装着状態（第１プラズマ生成空間部Ｓ１）の説明図であり、図８は、アタッチメント装着状態（第２プラズマ生成空間部Ｓ２）の説明図である。

【0069】

ところで、図６を参照して上述したように、プラズマ生成空間Ｓにプラズマを発生させることで、ニキビケアが可能となる。しかしながら、ニキビの状態はユーザごとに様々でありえる。例えば広範囲にわたってニキビができているユーザもいれば、狭い範囲にしかニキビができていないユーザ（例えば１つだけしかニキビのないユーザ）もいる可能性がある。これに対して、プラズマ生成空間Ｓが一律に一定の大きさ（肌に作用する範囲が一定）であると、ユーザごとに異なりうるニーズに適合できないおそれがある。例えば、狭い範囲にしかニキビができていないユーザにとっては、大きすぎるプラズマ生成空間Ｓとなりえ、広範囲にわたってニキビができているユーザにとっては、小さいすぎるプラズマ生成空間Ｓとなりえる。なお、広範囲にわたってニキビができているユーザにとっては、小さいすぎるプラズマ生成空間Ｓは、施工回数の増加を意味する。

【0070】

この点、本実施形態によれば、アタッチメント非装着状態とアタッチメント装着状態とで異なる大きさのプラズマ生成空間Ｓ（すなわち第１プラズマ生成空間部Ｓ１と第２プラズマ生成空間部Ｓ２）を形成できる。

【0071】

具体的には、本実施形態では、第１プラズマ生成空間部Ｓ１は、軸方向に視た面積が比較的広い。すなわち、アタッチメント非装着状態では、図７に示すように、軸Ｃ１を通る断面視では、凸条部１１の直径Φ１に対応する範囲で、ユーザの肌との間に第１プラズマ生成空間部Ｓ１を形成できる。それ故に、アタッチメント非装着状態では、ユーザの肌の比較的広い範囲（例えば顔全体）にプラズマを作用させることができる。

【0072】

他方、第２プラズマ生成空間部Ｓ２は、軸方向に視た面積が比較的狭い。すなわち、アタッチメント装着状態では、図８に示すように、軸Ｃ１を通る断面視では、スポットアタッチメント２０の大径部２１２２の直径Φ２に対応する範囲で、ユーザの肌との間に第２プラズマ生成空間部Ｓ２を形成できる。それ故に、アタッチメント装着状態では、ユーザの肌の比較的狭い範囲（局所的な範囲）にプラズマを作用させることができる。

【0073】

このように、本実施形態によれば、アタッチメント非装着状態では、ユーザの肌における比較的広い範囲に作用できるプラズマを発生可能であり、かつ、アタッチメント装着状態では、ユーザの肌における比較的狭い範囲に作用できるプラズマを発生可能である。従って、ユーザは、それぞれのニーズに応じて、アタッチメント装着状態とアタッチメント非装着状態とを使い分けて、それぞれの状態に応じたニキビケアを行うことができる。例えば、広範囲にわたってニキビができているユーザは、アタッチメント非装着状態でニキビケアを行うことで、効率的なケアが可能となる。また、狭い範囲にしかニキビができていないユーザは、アタッチメント装着状態でニキビケアを行うことで、不必要な肌範囲にプラズマを作用させない態様の局所的なケアが可能となる。

【0074】

また、本実施形態によれば、スポットアタッチメント２０を着脱するだけでアタッチメント装着状態とアタッチメント非装着状態とを切り替えることができるので、例えばヘッド部１ａを２種類以上設けて交換可能とする構成に比べて、切替の操作負担が少なくて済む。また、スポットアタッチメント２０は、ヘッド部１ａに比べて小型であるので、例えばヘッド部１ａを２種類以上設けて交換可能とする構成に比べて、肌処理装置１全体の保管スペース（収納スペース等）の低減を図ることができる。

【0075】

また、本実施形態によれば、第１プラズマ生成空間部Ｓ１及び第２プラズマ生成空間部Ｓ２は、ともに軸Ｃ１を中心とした空間であるので、アタッチメント装着状態とアタッチメント非装着状態とで、共通のエネルギ伝達路（誘電体セラミック１２や導体１４）を効率的に利用できる。換言すると、共通のエネルギ伝達路を利用しても、第１プラズマ生成空間部Ｓ１及び第２プラズマ生成空間部Ｓ２のそれぞれにおいて、比較的均一な放電を実現できる。

【0076】

次に、図９から図１１を参照して、本実施形態の肌処理装置１の制御系について説明する。

【0077】

本実施形態の肌処理装置１は、上述したプラズマ発生源６０を制御する制御装置１００を備える。なお、制御装置１００は、把持部１ｂ内に収容されてよい。

【0078】

図９は、肌処理装置１の制御系の全体構成を示す概略図である。

【0079】

肌処理装置１は、操作ボタン４０、表示部４２、プラズマ発生源６０、光源７０、照度センサ７２、及び制御装置１００を備える。プラズマ発生源６０、光源７０、照度センサ７２は、制御装置１００に接続される。

【0080】

操作ボタン４０は、上述したオン／オフボタン２やレベルボタン３を含む。レベルボタン３は、例えばプラズマ発生源６０からの出力のレベルを４段階で調整可能とする。なお、レベルボタン３により調整可能な段階数は、任意であり、より多段階で調整可能とされてもよいし、より少ない段階で調整可能とされてもよい。

【0081】

表示部４２は、肌処理装置１の各種状態を表示する。表示部４２は、上述したレベル表示部４を含む。

【0082】

プラズマ発生源６０は、上述したとおり高圧トランス１５を含んでよい。

【0083】

光源７０は、上述したとおりヘッド部１ａの凸条部１１に光学的に接続される態様で設けられてもよい。光源７０は、凸条部１１の周方向に沿って複数、設けられてもよい。光源７０は、ユーザの肌に照射可能な所定波長の光を発生する。光源７０は、凸条部１１の端面（ユーザの肌側の端面）を出射面として、所定波長の光を出射する。所定波長は、任意であるが、好ましくは、殺菌効果を期待できる青色の波長領域（例えば４３０－４９０ｎｍ）内の波長であるが、他の効果（例えばメラニン産生の抑制）を期待できる緑色の波長領域（例えば（４９０－５５０ｎｍ）内の波長であってもよい。また、所定波長が異なる複数の種類の光を出射可能となるように、複数の種類の光源７０が設けられてもよい。

【0084】

照度センサ７２は、肌処理装置１のヘッド部１ａにおけるスポットアタッチメント２０でカバーされる位置に配置されてよい（図３等では図示せず）。この場合、照度センサ７２からのセンサ情報に基づいて、アタッチメント装着状態とアタッチメント非装着状態とを判別できる。

【0085】

制御装置１００は、プラズマ発生源６０からの出力を制御する。例えば、制御装置１００は、レベルボタン３からの入力に応じて、プラズマ発生源６０からの出力を制御する。プラズマ発生源６０からの出力は、放電電圧及び周波数のうちの少なくともいずれかを変化させることで、制御されてもよい。

【0086】

本実施形態では、制御装置１００は、アタッチメント装着状態及びアタッチメント非装着状態の相違に応じて、プラズマ発生源６０からの出力を制御する。この制御については、後出の図１１を参照して後述する。

【0087】

また、制御装置１００は、光源７０を制御する。制御装置１００は、プラズマ発生源６０が動作している場合に、光源７０を点灯させてよい。この場合、光源７０の出力は、プラズマ発生源６０の出力とは無関係であってもよいし、プラズマ発生源６０の出力に連動して変化されてもよい。また、制御装置１００は、アタッチメント装着状態及びアタッチメント非装着状態のいずれにおいても、光源７０を点灯させてもよい。あるいは、制御装置１００は、アタッチメント装着状態及びアタッチメント非装着状態のうちの、一方の状態（例えばアタッチメント非装着状態）においてのみ、光源７０を点灯させてもよい。

【0088】

このようにプラズマと光源７０からの光（特に青色の光）の照射を併用する場合、双方の殺菌効果を同時に肌に適用でき、相乗的な殺菌効果を期待できる。

【0089】

図１０は、制御装置１００のハードウェア構成の一例を示す図である。図１０には、制御装置１００のハードウェア構成に関連付けて、周辺装置１６０が模式的に図示されている。周辺装置１６０は、図９に示すような操作ボタン４０、表示部４２、プラズマ発生源６０、光源７０、及び照度センサ７２等を含む。

【0090】

制御装置１００は、バス１１９で接続されたＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）１１１、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）１１２、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）１１３、補助記憶装置１１４、及び通信インターフェース１１７、並びに、通信インターフェース１１７に接続された有線送受信部１２５及び無線送受信部１２６を含む。

【0091】

補助記憶装置１１４は、例えばＨＤＤ（Ｈａｒｄ Ｄｉｓｋ Ｄｒｉｖｅ）や、ＳＳＤ（Ｓｏｌｉｄ Ｓｔａｔｅ Ｄｒｉｖｅ）などであり、アプリケーションソフトウェアなどに関連するデータを記憶する記憶装置である。

【0092】

有線送受信部１２５は、有線ネットワークを利用して通信可能な送受信部を含む。有線送受信部１２５には、周辺装置１６０が接続される。ただし、周辺装置１６０の一部又は全部は、バス１１９に接続されてもよいし、無線送受信部１２６に接続されてもよい。

【0093】

無線送受信部１２６は、無線ネットワークを利用して通信可能な送受信部である。無線ネットワークは、携帯電話の無線通信網、インターネット、ＶＰＮ（Ｖｉｒｔｕａｌ Ｐｒｉｖａｔｅ Ｎｅｔｗｏｒｋ）、ＷＡＮ（Ｗｉｄｅ Ａｒｅａ Ｎｅｔｗｏｒｋ）等を含んでよい。また、無線送受信部１２６は、近距離無線通信（ＮＦＣ：Ｎｅａｒ Ｆｉｅｌｄ Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ）部、ブルートゥース（Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ、登録商標）通信部、Ｗｉ－Ｆｉ（Ｗｉｒｅｌｅｓｓ－Ｆｉｄｅｌｉｔｙ）送受信部、赤外線送受信部などを含んでもよい。

【0094】

図１１は、制御装置１００により実行される処理の流れの一例を示す概略的なフローチャートである。

【0095】

ステップＳ１１００では、制御装置１００は、照度センサ７２からのセンサ情報を取得する。

【0096】

ステップＳ１１０２では、制御装置１００は、ステップＳ１１００で得たセンサ情報に基づいて、アタッチメント装着状態であるか否かを判定する。アタッチメント装着状態では、アタッチメント非装着状態に比べて、照度センサ７２からのセンサ情報が示す照度（明るさ）が有意に小さくなる。従って、制御装置１００は、センサ情報が示す照度が閾値以下である場合に、アタッチメント装着状態であると判定してよい。判定結果が“ＹＥＳ”の場合、ステップＳ１１０４に進み、それ以外の場合は、ステップＳ１１０６に進む。

【0097】

ステップＳ１１０４では、制御装置１００は、プラズマ発生源６０からの出力を低出力に設定する。低出力は、後出のステップＳ１１０６での通常出力よりも有意に小さい。例えば、放電電圧は、第１電圧Ｖ１に設定される。例えば、放電周波数が３０ｋＨｚ程度の場合、第１電圧Ｖ１は、８．５ｋＶから１０．５ｋＶの範囲内であり、放電周波数が７０ｋＨｚ程度の場合、第１電圧Ｖ１は、５．５ｋＶから７．５ｋＶの範囲内であってもよい。

【0098】

ステップＳ１１０６では、制御装置１００は、プラズマ発生源６０からの出力を通常出力に設定する。放電電圧は、第１電圧Ｖ１よりも有意に高い第２電圧Ｖ２に設定される。例えば、放電周波数が３０ｋＨｚ程度の場合、第２電圧Ｖ２は、１１．５ｋＶから１３．５ｋＶの範囲内であり、放電周波数が７０ｋＨｚ程度の場合、第２電圧Ｖ２は、７．０ｋＶから９．０ｋＶの範囲内であってもよい。

【0099】

ステップＳ１１０８では、制御装置１００は、ステップＳ１１０４又はステップＳ１１０６で設定した出力でプラズマ発生源６０を制御し、かつ、光源７０を点灯させる。

【0100】

ところで、アタッチメント装着状態では、比較的狭い第２プラズマ生成空間部Ｓ２でプラズマが生成されるので、放電エネルギ―が集中して、体感が強くなりやすい。この点、図１１に示す処理によれば、アタッチメント装着状態とアタッチメント非装着状態とを判別し、それぞれの状態に応じた出力レベルにプラズマ発生源６０からの出力を設定できる。すなわち、アタッチメント装着状態では、プラズマ発生源６０からの出力を低出力に設定することで、体感が強くなりすぎる可能性を効果的に低減できる。

【0101】

なお、本実施形態では、照度センサ７２からのセンサ情報に基づいて、アタッチメント装着状態か否か（アタッチメント非装着状態であるか）を判別しているが、これに代えて又は加えて、他の情報に基づいて、アタッチメント装着状態か否か（アタッチメント非装着状態であるか）を判別してもよい。

【0102】

例えば、アタッチメント装着状態用のモードを設定し、当該モードをユーザが設定するか否かに基づいて、アタッチメント装着状態か否かを判定してもよい。また、スポットアタッチメント２０の裏面（ヘッド内部側の表面）を鏡面加工として、ヘッド部１ａから変調した光を照射し、当該光の反射強度に基づいて、アタッチメント装着状態か否かを判定してもよい。また、ヘッド部１ａのヘッド内部側にＴｏＦ（Ｔｉｍｅ ｏｆ Ｆｌｉｇｈｔ）センサのような反射型レーザセンサ（赤外線の距離センサ）を配置し、当該センサからのセンサ情報に基づいて、アタッチメント装着状態か否かを判定してもよい。

【0103】

なお、図９以降の説明では、肌処理装置１は、単体で動作しているが、スマートフォンのようなユーザ端末及び／又は外部のサーバ装置と連携して動作可能とされてもよい。

【0104】

以上、各実施形態について詳述したが、特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された範囲内において、種々の変形及び変更が可能である。また、前述した実施形態の構成要素を全部又は複数を組み合わせることも可能である。

【0105】

例えば、上述した実施形態では、第１プラズマ生成空間部Ｓ１と第２プラズマ生成空間部Ｓ２とは、人の肌に対する作用範囲のサイズが異なるが、それに加えて又は代えて、作用範囲の形状が異なってもよい。例えば、第１プラズマ生成空間部Ｓ１に係る作用範囲の形状が丸であるのに対して、第２プラズマ生成空間部Ｓ２に係る作用範囲の形状が矩形（線状を含む）や楕円など他の形状であってもよい。また、逆に、第１プラズマ生成空間部Ｓ１に係る作用範囲の形状が矩形（線状を含む）や楕円など他の形状であるのに対して、第２プラズマ生成空間部Ｓ２に係る作用範囲の形状が丸であってもよい。
また、上述した実施形態では、第１プラズマ生成空間部Ｓ１は第２プラズマ生成空間部Ｓ２よりも作用範囲が大きいが、逆であってもよい。すなわち、第２プラズマ生成空間部Ｓ２は第１プラズマ生成空間部Ｓ１よりも作用範囲が大きくてもよい。この場合、例えば、第２プラズマ生成空間部Ｓ２を介して弱い出力で広域に放電作用させることで、ニキビ予防や、浸透などの効果が期待できるような構成を実現してもよい。

【0106】

また、上述した実施形態では、スポットアタッチメント２０は、マグネット２２により形成される取付部を有することで、ヘッド部１ａへの脱着が可能とされているが、これに限られない。例えば、スポットアタッチメント２０は、マグネット２２に代えて磁性体により形成される取付部を有してもよい。この場合も、スポットアタッチメント２０は、ヘッド部１ａ側のマグネット１０により、ヘッド部１ａへの脱着が可能であり、また、磁性体の取付部は、プラズマ発生用エネルギの伝達経路として機能できる。また、同様の観点から、スポットアタッチメント２０がマグネット２２により形成される取付部を有する場合、ヘッド部１ａ側のマグネット１０は磁性体（磁石ではない磁性体）に置換されてもよい。

【0107】

また、上述した実施形態では、スポットアタッチメント２０は、１種類であるが、第２プラズマ生成空間部Ｓ２のサイズが異なる態様で複数種類が設定されてもよい。この場合、各種のスポットアタッチメント２０は、その作用範囲のサイズや形状、出力等が、肌の各種状態に適合されてよい。この場合ユーザは、複数のスポットアタッチメント２０の中から、自身の肌状態に合わせて、特定種類のスポットアタッチメント２０を選択できる。また、一のスポットアタッチメント２０の第２プラズマ生成空間部Ｓ２内に、他の一のスポットアタッチメント２０が配置される態様で、複数のスポットアタッチメント２０が装着可能とされてもよい。

【0108】

また、上述した実施形態では、光源７０の配置は、軸方向に視て第１プラズマ生成空間部Ｓ１を囲むようにリング状（凸条部１１の円周に沿ったリング状）になるが、これに限られない。また、光源７０の光軸を内側や外側に角度をつけることで（軸Ｃ１に対して傾斜させることで）、第１プラズマ生成空間部Ｓ１内の所定領域や第１プラズマ生成空間部Ｓ１外の所定領域に作用が集中するように設定されてもよい。

【0109】

また、上述した実施形態では、肌処理装置１により実現可能な各種処理は、プラズマの生成とともに、光の出力に基づくが、これに限られない。例えば、光の出力が省略され、プラズマ単独であってもよい。また、プラズマに加えて、例えば電気的な出力波形（ＥＭＳやイオン導入等の電気パルス）に代えて又は加えて、ヒータ等による熱を用いる方法、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）以外の光やＩＰＬ（Ｉｎｔｅｎｓｅ Ｐｕｌｓｅｄ Ｌｉｇｈｔ）のような光を用いる方法、超音波を用いる方法、磁気的方法、及び電磁波を用いる方法のうちのいずれか１つ以上が利用されてもよい。

【0110】

上記の各実施形態に関して、更に以下の付記を開示する。

【0111】

［付記１］
ユーザの肌に当接可能であり、ユーザの肌との間に第１プラズマ生成空間部を形成するヘッド部と、
プラズマ発生源と、
前記ヘッド部に脱離可能に取り付け可能であり、ユーザの肌との間に第２プラズマ生成空間部を形成するアタッチメントとを備え、
前記第１プラズマ生成空間部と前記第２プラズマ生成空間部は、ユーザの肌に対する作用範囲のサイズ又は形状が異なり、
前記ヘッド部に前記アタッチメントが取り付けられていない第１状態では、前記プラズマ発生源からのプラズマ発生用エネルギに基づいて、前記第１プラズマ生成空間部にプラズマを発生可能であり、かつ、前記ヘッド部に前記アタッチメントが取り付けられている第２状態では、前記プラズマ発生源からのプラズマ発生用エネルギに基づいて、前記第２プラズマ生成空間部にプラズマを発生可能である、肌処理装置。

【0112】

［付記２］
前記アタッチメントは、前記第１プラズマ生成空間部に配置される態様で、前記ヘッド部に取り付け可能である、付記１に記載の肌処理装置。

【0113】

［付記３］
前記ヘッド部は、前記第１状態及び前記第２状態において前記プラズマ発生源にエネルギ的に接続され、前記第１プラズマ生成空間部を境界付ける第１誘電体を有し、
前記アタッチメントは、前記第２状態において前記プラズマ発生源にエネルギ的に接続され、前記第２プラズマ生成空間部を境界付ける第２誘電体を有し、
前記第２誘電体は、前記第１誘電体よりも小型である、付記１又は２に記載の肌処理装置。

【0114】

［付記４］
前記アタッチメントは、磁石又は磁性体により形成される取付部を有し、
前記ヘッド部は、前記第１誘電体における前記第１プラズマ生成空間部とは逆側に、前記取付部を引き付ける磁石又は磁性体を有する、付記１から３のうちのいずれか１項に記載の肌処理装置。

【0115】

［付記５］
前記磁石は、前記導通部を形成し、前記プラズマ発生源からのプラズマ発生用エネルギの伝達経路を形成する、付記４に記載の肌処理装置。

【0116】

［付記６］
前記磁石は、前記第２誘電体における前記第１プラズマ生成空間部の側の表面に固定される、付記４に記載の肌処理装置。

【0117】

［付記７］
前記ヘッド部は、前記第１誘電体におけるユーザの肌から遠い側の表面に、導体を更に有し、
前記導体は、前記第１状態及び前記第２状態において前記プラズマ発生源にエネルギ的に接続され、
前記第２誘電体は、前記第２状態において、前記導体、前記第１誘電体、及び前記磁石を介して、前記プラズマ発生源にエネルギ的に接続される、付記６に記載の肌処理装置。

【0118】

［付記８］
前記アタッチメントは、前記磁石が固定される貫通穴を有する本体部を有し、
前記本体部は、前記第２状態において、前記第１誘電体における前記第１プラズマ生成空間部の側の表面を覆う、付記６に記載の肌処理装置。

【0119】

［付記９］
前記本体部の前記貫通穴は、前記第２プラズマ生成空間部におけるユーザの肌側の開口部を形成する、付記８に記載の肌処理装置。

【0120】

［付記１０］
前記開口部は、前記第２状態において、前記第１状態における前記第１プラズマ生成空間部よりもユーザの肌に近い側に位置する、付記９に記載の肌処理装置。

【0121】

［付記１１］
ユーザの肌に照射可能な所定波長の光を発生する光源を更に備え、
前記ヘッド部は、前記第１プラズマ生成空間部の外周を境界付ける周壁部を更に有し、
前記周壁部は、前記光源からの光の出射部を形成する、付記１から１０のうちのいずれか１項に記載の肌処理装置。

【0122】

［付記１２］
制御装置を更に備え、
前記制御装置は、
前記第１状態と前記第２状態とを判別する判別処理部と、
前記判別処理部の判別結果に基づいて、前記プラズマ発生源の出力を制御する出力制御部とを有する、付記１から１１のうちのいずれか１項に記載の肌処理装置。

【符号の説明】

【0123】

１ 肌処理装置
１ａ ヘッド部
１ｂ 把持部
２ オフボタン
３ レベルボタン
４ レベル表示部
５ ＤＣジャック
８ ケース部材
１０ マグネット
１１ 凸条部
１２ 誘電体セラミック
１４ 導体
１５ 高圧トランス
２０ スポットアタッチメント
２１ 本体部
２１０ 座部
２１２ 貫通穴
２１２０ 小径部
２１２２ 大径部
２２ マグネット
２３ 誘電体セラミック
４０ 操作ボタン
４２ 表示部
６０ プラズマ発生源
７０ 光源
７２ 照度センサ
１００ 制御装置
１１４ 補助記憶装置
１１７ 通信インターフェース
１１９ バス
１２５ 有線送受信部
１２６ 無線送受信部
１６０ 周辺装置

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5A】

【図5B】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】