特開 2024-68049 太陽電池、太陽電池の製造方法及び光起電力モジュール

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024068049

(43)【公開日】2024-05-17

(54)【発明の名称】太陽電池、太陽電池の製造方法及び光起電力モジュール

(51)【国際特許分類】

   H01L 31/0224 20060101AFI20240510BHJP

   H01L 31/18 20060101ALI20240510BHJP

   H01L 31/048 20140101ALI20240510BHJP

【ＦＩ】

H01L31/04 262

H01L31/04 400

H01L31/04 560

【審査請求】有

【請求項の数】17

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022212267

(22)【出願日】2022-12-28

(31)【優先権主張番号】202211369894.2

(32)【優先日】2022-11-03

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(71)【出願人】

【識別番号】519095522

【氏名又は名称】ジョジアン ジンコ ソーラー カンパニー リミテッド

(71)【出願人】

【識別番号】512083920

【氏名又は名称】晶科能源股分有限公司

(74)【代理人】

【識別番号】100199819

【弁理士】

【氏名又は名称】大行 尚哉

(74)【代理人】

【識別番号】100087859

【弁理士】

【氏名又は名称】渡辺 秀治

(72)【発明者】

【氏名】リ ウン チー

(72)【発明者】

【氏名】謝明輝

(72)【発明者】

【氏名】陳一帆

(72)【発明者】

【氏名】張国春

(72)【発明者】

【氏名】鄭霈霆

(72)【発明者】

【氏名】楊潔

(72)【発明者】

【氏名】ヂァン シン ウ

【テーマコード（参考）】

5F151

5F251

【Ｆターム（参考）】

5F151AA02

5F151AA03

5F151AA04

5F151AA05

5F151BA11

5F151CB11

5F151CB22

5F151CB27

5F151FA06

5F151FA14

5F151FA16

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5F151FA30

5F151GA01

5F151GA04

5F151JA02

5F251AA02

5F251AA03

5F251AA04

5F251AA05

5F251BA11

5F251CB11

5F251CB22

5F251CB27

5F251FA06

5F251FA14

5F251FA16

5F251FA17

5F251FA30

5F251GA01

5F251GA04

5F251JA02

(57)【要約】

【課題】本願の実施例は、太陽電池、太陽電池の製造方法及び光起電力モジュールに関するものである
【解決手段】太陽電池は、基板と、基板の表面に位置して第２方向に沿って延びる複数のグリッド線と、を含み、基板の表面が第１方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットグループを含み、スロットグループが第２方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットを含み、第２方向に沿って、０＜ｄ＜４Ｌであり、ここで、ｄが隣接するスロット間の間隔であり、Ｌがスロットの最大寸法であり、各グリッド線は、対応するスロットグループによって限定された領域内にそれぞれ位置し、グリッド線は、基板の表面に位置する第１メッキ層を含み、第１メッキ層は、スロットグループにおける各スロット内に位置する延伸部を含み、かつ延伸部を介して基板の内部と接触する。本願の実施例には、少なくとも太陽電池セルの開放電圧損失を低減し、太陽電池の光電変換効率を向上させることに有利である。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板と、前記基板の表面に位置して第２方向に沿って延びる複数のグリッド線と、を含み、
前記基板の表面が第１方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットグループを含み、前記スロットグループが第２方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットを含み、前記第２方向に沿って、０＜ｄ＜４Ｌであり、ここで、ｄが隣接する前記スロット間の間隔であり、Ｌが前記スロットの最大寸法であり、
各前記グリッド線は、対応する前記スロットグループによって限定された領域内にそれぞれ位置し、前記グリッド線は、前記基板の表面に位置する第１メッキ層を含み、前記第１メッキ層は、前記スロットグループにおける各前記スロット内に位置する延伸部を含み、かつ前記延伸部を介して前記基板の内部と接触する、
ことを特徴とする太陽電池。

【請求項2】

前記第２方向において、前記スロットの最大寸法は３μｍ～５０μｍである、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項3】

前記第２方向において、隣接する前記スロット間の間隔は２００μｍより小さい、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項4】

前記基板の表面に垂直な方向において、前記スロットの最大深さは１μｍより小さい、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項5】

前記スロットの前記基板の表面における正投影の形状は、円形、楕円形または多角形を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項6】

前記グリッド線は、前記第１メッキ層の前記基板から離れる表面に位置する第２メッキ層と、前記第２メッキ層の前記基板から離れる表面に位置する第３メッキ層と、をさらに含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項7】

前記基板の表面に垂直な方向において、前記第２メッキ層の最大厚さは、前記第１メッキ層の最大厚さ及び前記第３メッキ層の最大厚さよりも大きい、
ことを特徴とする請求項６に記載の太陽電池。

【請求項8】

前記基板の表面に垂直な方向において、前記第２メッキ層の最大厚さは、２μｍ～３０μｍである、
ことを特徴とする請求項６に記載の太陽電池。

【請求項9】

前記基板の表面に垂直な方向において、前記第３メッキ層の最大厚さは、１０ｎｍ～５μｍである、
ことを特徴とする請求項６に記載の太陽電池。

【請求項10】

前記第１メッキ層の導電率は前記第２メッキ層の導電率以下である、
ことを特徴とする請求項６に記載の太陽電池。

【請求項11】

前記基板の表面に垂直な方向において、前記第１メッキ層の最大厚さは、１０ｎｍ～５μｍである、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項12】

前記基板の表面に垂直な方向において、前記第１メッキ層は、順次配置される２つ以上のサブメッキ層を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項13】

前記第１方向に沿って、隣接する前記スロットグループ間の間隔は、０．５ｍｍ～３ｍｍである、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項14】

基板を提供することと、
前記基板の表面に第１方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットグループを形成することであって、前記スロットグループは、第２方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットを含み、前記第２方向に沿って、０＜ｄ＜４Ｌであり、ｄが隣接する前記スロット間の間隔であり、Ｌが前記スロットの最大寸法であることと、
前記基板の表面における各前記スロットグループに前記第２方向に沿って延びる複数のグリッド線を形成することであって、前記グリッド線は、前記基板の表面に位置する第１メッキ層を含み、前記第１メッキ層は、前記スロットグループにおける各前記スロット内に位置する延伸部を含み、かつ前記延伸部を介して前記基板の内部と接触することと、を含む、
ことを特徴とする太陽電池の製造方法。

【請求項15】

前記スロットグループを形成する工程は、レーザーエッチング、イオンエッチングまたはスラリーエッチングを含む、
ことを特徴とする請求項１４に記載の太陽電池の製造方法。

【請求項16】

前記第１メッキ層を形成する工程は、電気メッキ、化学メッキまたは物理気相成長を含む、
ことを特徴とする請求項１４に記載の太陽電池の製造方法。

【請求項17】

前記グリッド線を形成する工程ステップは、電気メッキ工程によって前記第１メッキ層の前記基板から離れる表面に第２メッキ層を形成することをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１４に記載の太陽電池の製造方法。

【請求項18】

前記グリッド線を形成する工程ステップは、電気メッキ工程または化学メッキ工程によって前記第２メッキ層の前記基板から離れる表面に第３メッキ層を形成することをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１７に記載の太陽電池の製造方法。

【請求項19】

請求項１～１３のいずれか１項に記載の太陽電池を複数接続してなる電池ストリングと、
前記電池ストリングの表面を覆うための封止層と、
前記封止層の前記電池ストリングから離れた表面を覆うためのカバープレートと、を含む、
ことを特徴とする光起電力モジュール。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本願の実施例は、太陽電池の技術分野に関し、特に太陽電池、太陽電池の製造方法及び光起電力モジュールに関するものである。

【背景技術】

【0002】

太陽電池は優れた光電変換能力を持っているため、太陽電池はクリーンエネルギー開発の重点となっている。太陽電池の光電変換効率を確保するために、太陽電池に対する研究開発が絶え間なく行なわれている。太陽電池セルを製造する過程において、基板表面にスロットを開け、スロットにグリッド線を作製することで、太陽電池セルで発生した電流の集約を実現し、バスリボンを介して電池セルで発生した電流をモジュール側に伝送する。

【0003】

しかしながら、現在の設計プランに係る太陽電池には、太陽電池セルの光電変換効率が低いという問題がある。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本願の実施例には、少なくとも太陽電池セルの開放電圧損失を低減し、太陽電池の光電変換効率を向上させることに有利である太陽電池、太陽電池の製造方法及び光起電力モジュールが提供される。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本願の実施例は、太陽電池を提供し、基板と、前記基板の表面に位置して第２方向に沿って延びる複数のグリッド線と、を含み、前記基板の表面が第１方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットグループを含み、前記スロットグループが第２方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットを含み、前記第２方向に沿って、０＜ｄ＜４Ｌであり、ここで、ｄが隣接する前記スロット間の間隔であり、Ｌが前記スロットの最大寸法であり、各前記グリッド線は、対応する前記スロットグループによって限定された領域内にそれぞれ位置し、前記グリッド線は、前記基板の表面に位置する第１メッキ層を含み、前記第１メッキ層は、前記スロットグループにおける各前記スロット内に位置する延伸部を含み、かつ前記延伸部を介して前記基板の内部と接触する。

【0006】

また、前記第２方向において、前記スロットの最大寸法は３μｍ～５０μｍである。

【0007】

また、前記第２方向において、隣接する前記スロット間の間隔は２００μｍより小さい。

【0008】

また、前記基板の表面に垂直な方向において、前記スロットの最大深さは１μｍより小さい。

【0009】

また、前記スロットの前記基板の表面における正投影の形状は、円形、楕円形または多角形を含む。

【0010】

また、前記グリッド線は、前記第１メッキ層の前記基板から離れる表面に位置する第２メッキ層と、前記第２メッキ層の前記基板から離れる表面に位置する第３メッキ層と、をさらに含む。

【0011】

また、前記基板の表面に垂直な方向において、前記第２メッキ層の最大厚さは、前記第１メッキ層の最大厚さ及び前記第３メッキ層の最大厚さよりも大きい。

【0012】

また、前記基板の表面に垂直な方向において、前記第２メッキ層の最大厚さは、２μｍ～３０μｍである。

【0013】

また、前記基板の表面に垂直な方向において、前記第３メッキ層の最大厚さは、１０ｎｍ～５μｍである。

【0014】

また、前記第１メッキ層の導電率は前記第２メッキ層の導電率以下である。

【0015】

また、前記基板の表面に垂直な方向において、前記第１メッキ層の最大厚さは、１０ｎｍ～５μｍである。

【0016】

また、前記基板の表面に垂直な方向において、前記第１メッキ層は、順次配置される２つ以上のサブメッキ層を含む。

【0017】

また、前記第１方向に沿って、隣接する前記スロットグループ間の間隔は、０．５ｍｍ～３ｍｍである。

【0018】

それに応じて、本願の実施例は、太陽電池の製造方法をさらに提供し、基板を提供することと、前記基板の表面に第１方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットグループを形成することであって、前記スロットグループは、第２方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットを含み、前記第２方向に沿って、０＜ｄ＜４Ｌであり、ｄが隣接する前記スロット間の間隔であり、Ｌが前記スロットの最大寸法であることと、前記基板の表面における各前記スロットグループに前記第２方向に沿って延びる複数のグリッド線を形成することであって、前記グリッド線は、前記基板の表面に位置する第１メッキ層を含み、前記第１メッキ層は、前記スロットグループにおける各前記スロット内に位置する延伸部を含み、かつ前記延伸部を介して前記基板の内部と接触することと、を含む。

【0019】

また、前記スロットグループを形成する工程は、レーザーエッチング、イオンエッチングまたはスラリーエッチングを含む。

【0020】

また、前記第１メッキ層を形成する工程は、電気メッキ、化学メッキまたは物理気相成長を含む。

【0021】

また、前記グリッド線を形成する工程ステップは、電気メッキ工程によって前記第１メッキ層の前記基板から離れる表面に第２メッキ層を形成することをさらに含む。

【0022】

また、前記グリッド線を形成する工程ステップは、電気メッキ工程または化学メッキ工程によって前記第２メッキ層の前記基板から離れる表面に第３メッキ層を形成することをさらに含む。

【0023】

それに応じて、本願の実施例は、光起電力モジュールをさらに提供し、上記のいずれか１項に記載の太陽電池を複数接続してなる電池ストリングと、前記電池ストリングの表面を覆うための封止層と、前記封止層の前記電池ストリングから離れた表面を覆うためのカバープレートと、を含む。

【発明の効果】

【0024】

本願の実施例により提供される技術案は、少なくとも以下の利点を有する。

【0025】

本願の実施例により提供される太陽電池の技術案では、太陽電池の基板の表面に第１方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットグループが形成され、スロットグループは第２方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットを含み、かつ第２方向に沿って、隣接するスロット間の間隔が０より大きくかつスロットの最大寸法の４倍より小さい。スロットグループに間隔をあけて配置される複数のスロットを設置し、かつ第２方向に沿って、隣接するスロット間の間隔を０より大きくスロットの最大長さの４倍より小さくするように設定し、これによって、スロットグループのスロットパターンが不連続なドット状パターンで構成され、スロットグループにおけるスロット面積及び基板表面のスロット総面積を小さくし、さらに電池セルの開放電圧損失を低減し、太陽電池の光電変換効率を高めることができる。また、第２方向に沿って、隣接するスロット間の間隔とスロットの最大寸法とは０＜ｄ＜４Ｌという関係を満たすことで、隣接するスロット間の間隔が小さすぎると隣接するスロットが重なって型開け損傷が増大するという問題を避け、かつ隣接するスロットの間隔が大きすぎることに起因して隣接するスロットの間のグリッドセグメントの中央領域に位置するグリッド線の幅が狭すぎてグリッド線の電流伝送能力が低下するという問題を避け、太陽電池の光生成キャリアの生成能力及びグリッド線の電流伝送能力を確保することができる。第２方向に沿って延びるグリッド線を製造する過程において、各スロットグループの上方に基板の表面に位置する第１メッキ層を製造し、第１メッキ層はスロットグループにおける各スロット内に位置する延伸部を含み、かつ延伸部を介して基板の内部と接触し、スロットグループにおける各スロット内に位置する延伸部を含み、かつ延伸部を介して基板の内部と接触する第１メッキ層を製造することで、グリッド線と基板との間の結合力を向上させ、太陽電池セルのグリッド線の脱落に起因する太陽電池セルの光電変換効率の低下を避け、太陽電池セルの光電変換効率をさらに確保することができる。

【図面の簡単な説明】

【0026】

一つ又は複数の実施例は、対応する添付の図面における図で例示的に説明され、これらの例示的な説明は、実施例を限定するものではなく、特に断りのない限り、添付の図面における図は比例上の制限を形成しない。

【図1】図１は、本願の一実施例により提供される太陽電池のスロットの構成を示す図である。

【図2】図２は、本願の一実施例により提供される太陽電池のグリッド線の構成を示す図である。

【図3】図３は、本願の一実施例により提供される太陽電池の第１メッキ層の構成を示す図である。

【図4】図４は、本願の一実施例に係る太陽電池のスロットの構成を示す部分拡大図である。

【図5】図５は、本願の一実施例に係る太陽電池のスロットの構成を示す別の部分拡大図である。

【図6】図６は、本願の一実施例に係る太陽電池のスロットの構成を示す別の部分拡大図である。

【図7】図７は、本願の一実施例に係る別の太陽電池のグリッド線の構成を示す図である。

【図8】図８は、本願の別の実施例に係る太陽電池の製造方法のフローチャートである。

【図9】図９は、本願の別の実施例に係る光起電力モジュールの構成を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0027】

背景技術から分かるように、従来技術の太陽電池には、光電変換効率が低いという問題がある。

【0028】

本願の一実施例では、太陽電池が提供され、太陽電池の表面にグリッド線を設置する過程において、基板の表面に第１方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットグループが形成され、各スロットグループは第２方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットを含み、かつ第２方向に沿って、隣接するスロット間の間隔が０より大きくかつスロットの最大寸法の４倍より小さい。第２方向に沿って、隣接するスロット間の間隔が０より大きくかつスロット最大寸法の４倍より小さい複数のスロットを設けてスロットグループを形成することにより、スロットグループのスロットパターンが不連続なドット状パターンで構成されることに類似して、スロット面積を小さくし、さらにセルの開放電圧損失を低減し、光生成キャリアの生成能力を確保し、グリッド線の幅が小さすぎるグリッドセグメントの存在を避け、グリッド線の電流伝送能力を確保し、太陽電池の光電変換効率を高めることができる。グリッド線を製造する過程において、基板表面に位置する第１メッキ層を各スロットに製造し、第１メッキ層はスロットグループにおける各スロット内に位置する延伸部を含み、かつ延伸部を介して基板内部と接触する。グリッド線に対して、スロットグループにおける各スロット内に位置する延伸部を介して基板内部と接触する第１メッキ層を設けることで、グリッド線と基板との結合力を高め、基板表面のグリッド線の脱落に起因する太陽電池セルの光電変換効率の低下を避け、太陽電池セルの光電変換効率をさらに確保することができる。

【0029】

以下、本願の各実施例について図面を結合して詳細に説明する。しかしながら、当業者は理解できるが、読者に本願をよりよく理解させるために、本願の各実施例において多数の技術的細部が提案されているが、これらの技術的細部または以下の各実施例に基づく種々の変更や修正がなくても、本願が保護を要求している技術案を実現することができる。

【0030】

図１～３に示すように、図１は太陽電池表面のスロットの構成を示す図であり、図２は太陽電池表面のグリッド線の構成を示す図であり、図３は第１メッキ層の構成を示す図であり、太陽電池は、基板１０１と、基板１０１の表面に位置して第２方向に沿って延びる複数のグリッド線１０４と、を含み、基板１０１の表面が第１方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットグループ１０２を含み、スロットグループ１０２が第２方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロット１０３を含み、第２方向に沿って、０＜ｄ＜４Ｌであり、ここで、ｄが隣接するスロット１０３間の間隔であり、Ｌがスロット１０３の最大寸法であり、各グリッド線１０４は、対応するスロットグループ１０２によって限定された領域内にそれぞれ位置し、グリッド線１０４は、基板１０１の表面に位置する第１メッキ層１０５を含み、第１メッキ層１０５は、スロットグループ１０２における各スロット１０３内に位置する延伸部１０５１を含み、かつ延伸部１０５１を介して基板１０１の内部と接触し、ここで、Ｘ方向が第１方向であり、Ｙ方向が第２方向である。

【0031】

基板１０１の表面に第１方向に沿って間隔をあけて配置されるスロットグループ１０２は、レーザーエッチング、スラリーエッチング、イオンエッチング等の方式によって形成することができ、スロットグループ１０２には、第２方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロット１０３を含み、かつ第２方向に沿って、隣接するスロット１０３間の間隔ｄが、０より大きくかつスロット１０３の最大寸法Ｌの４倍より小さく、例えば、ｄが０．５Ｌ、１Ｌ、１．５Ｌ、２Ｌまたは３Ｌ等であってもよい。太陽電池セルの基板１０１の表面にスロットを開けて、第１方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットグループ１０２を構築する過程において、各スロットグループ１０２について、第２方向に沿って複数のスロット１０３を間隔をあけて配置し、かつ隣接するスロット１０３間の間隔ｄが０より大きくスロット１０３の最大寸法Ｌの４倍より小さいことを確保する。第２方向に沿って、隣接するスロット１０３間の間隔ｄを０～ロット１０３の最大寸法Ｌの４倍に設定して、間隔をあけて配置される複数のスロット１０３からなるスロットグループ１０２を形成することで、スロットグループ１０２内のスロットパターンが不連続なドット状のスロットパターンから構成されることに類似し、基板１０１の表面におけるスロットの面積を小さくし、太陽電池の開放電圧損失を低減し、太陽電池の光電変換効率を高めることができる。第２方向に沿って延びるグリッド線１０４を製造する過程において、グリッド線１０４は基板１０１の表面に位置する第１メッキ層１０５を介して基板１０１と接触し、第１メッキ層１０５はスロットグループ１０２における各スロット１０３を介して基板１０１と内部的と接触する延伸部１０５１を含む。第１メッキ層１０５は基板１０１の表面に位置する部分だけでなく、基板１０１と内部的と接触する延伸部１０５１も含むため、グリッド線１０４と基板１０１との結合力を大幅に高め、基板１０１に設置されるグリッド線１０４の強固さを確保し、基板１０１に位置するグリッド線１０４の脱落が発生して太陽電池の電流集約能力を低下させてしまうことを可能な限り回避し、太陽電池の光電変換効率をさらに確保することができる。

【0032】

また、第２方向に沿って、隣接するスロット１０３間の間隔とスロット１０３の最大寸法とは０＜ｄ＜４Ｌという関係を満たし、隣接するスロット１０３間の間隔が０より大きいことを確保することで、隣接するスロット１０３間の間隔が小さすぎると隣接するスロット１０３が重なって型開け損傷が増大するという問題を避け、太陽電池の光生成キャリアの生成能力を確保することができる。グリッド線１０４は各スロット１０３を起点として第２方向に成長するため、成長したグリッド線１０４はスロット１０３の中央に位置する幅が最も大きく、かつグリッド線１０４の幅は現在の位置と隣接するスロット１０３の中央との間隔が大きくなるにつれて次第に小さくなる。そのため、隣接するスロット１０３間の間隔を４Ｌより小さい値に設定し、隣接するスロット１０３間のグリッドセグメントの中央領域に位置するグリッド線１０４の幅が十分に大きくなるように確保し、隣接するスロット１０３の間隔が大きすぎることに起因して隣接するスロット１０３の間のグリッドセグメントの中央領域に位置するグリッド線１０４の幅が狭すぎてグリッド線の電流伝送能力が低下するという問題を避け、グリッド線の電流伝送能力を確保することができる。また、グリッド線１０４に狭すぎるグリッドセグメントが存在しないことを確保するとともに、スロット１０３に位置するグリッド線１０４の幅が大きすぎることに起因してグリッド線１０４が基板１０１の表面に占める表面積が増加して太陽電池の光吸収面積が低下するという問題を避け、太陽電池の光吸収能力を確保することができる。

【0033】

基板１０１は入射光を受光して光生成キャリアを生成するために用いられ、いくつかの実施例では、基板１０１はシリコン基板であってもよく、シリコン基板の材料は単結晶シリコン、多結晶シリコン、アモルファスシリコンまたは微結晶シリコンの少なくとも１種であってもよい。他のいくつかの実施例では、基板１０１の材料は炭化珪素、有機材料または多成分化合物であってもよい。多成分化合物は、ペロブスカイト、ガリウム砒素、テルル化カドミウム、セレン化銅インジウムなどを含むが、これらに限定されない。

【0034】

また、第１方向と第２方向とは互いに直交してもよいし、９０度未満の挟角、例えば、６０度、４５度、３０度などが存在してもよく、第１方向と第２方向とは同一方向でなければよい。本実施例では、説明と理解の便宜上、第１方向と第２方向とが互いに直交している場合を例として説明する。具体的な応用において、実際のニーズと応用シナリオに応じて、第１方向と第２方向との挟角の設定を調整することができるが、本実施例ではこれについて限定しない。

【0035】

いくつかの実施例では、第２方向において、スロット１０３の最大寸法は３μｍ～５０μｍである。グリッド線１０４は第１メッキ層１０５における延伸部１０５１を利用して、スロット１０３を介して基板１０１の内部と接触し、グリッド線１０４と基板１０１との間の接触抵抗はスロット１０３の断面積とかかわり、スロット１０３の断面積が大きいほど、グリッド線１０４が延伸部１０５１を利用して基板１０１と電気的と接触する抵抗は小さくなるが、スロット１０３の断面積が大きすぎると、セルの開放電圧損失が増加し、太陽電池の光電変換効率に影響を及ぼしてしまう。スロット１０３の幅、深さなどの条件が一致している場合、スロット１０３の第２方向における最大寸法が小さすぎると、グリッド線１０４と基板１０１との電気的接触抵抗が大きすぎるため、グリッド線１０４の電流集約及び伝送の能力を低減し、スロット１０３の第２方向における最大寸法が大きすぎると、太陽電池の開放電圧損失が大きすぎるため、電池の光電変換効率が低下してしまう。

【0036】

したがって、グリッド線１０４と基板１０１が電気的と接触する接触抵抗と太陽電池の開放電圧損失の両方の観点から、第２方向に沿って、各スロットグループ１０２を形成するスロット１０３の最大寸法を３μｍ～５０μｍに設定することができる。例えば、第２方向に沿って、スロット１０３の最大寸法を４μｍ、６μｍ、１０μｍ、２５μｍまたは４５μｍなどに設定することができる。スロット１０３の第２方向における最大寸法を３μｍ～５０μｍに設定することで、基板１０１の表面のスロット面積を小さくし、太陽電池セルの開放電圧損失を低減し、太陽電池セルの光電変換効率を高めることができると同時に、グリッド線１０４が延伸部１０５１を利用して基板１０１と接触した時の接触抵抗をできる限り小さくし、接触抵抗が大きすぎてグリッド線１０４の電流集約及び伝送の能力が低下し、電池セルの効率が低下することを避ける。

【0037】

また、基板１０１の表面におけるスロット１０３の断面積が大きすぎないように、スロット１０３を構築する過程において、スロット１０３のエッジにおける任意の２点間を結ぶ線の最大寸法を３μｍ～５０μｍに設定することができ、例えば、レーザーエッチングを採用してスロット１０３を形成する場合、レーザースポットのエッジにおける任意の２点間の距離は３μｍ～５０μｍである。これにより、基板１０１の表面におけるスロット１０３の断面積は直径が３μｍ～５０μｍである円の面積の間に制限され、グリッド線１０４と基板１０１間の接触抵抗をできる限り低減するとともに、電池セルの開放電圧損失をできる限り低減し、電池セルの効率を確保する。

【0038】

いくつかの実施例では、第２方向において、隣接するスロット１０３間の間隔は２００μｍより小さい。基板１０１の第２方向に沿った最大寸法が一致している場合、スロットグループ１０２に含まれるスロット１０３の数は、スロット１０３の第２方向に沿った最大寸法だけでなく、隣接するスロット１０３の第２方向に沿った間隔にもかかわっている。第２方向に沿って、隣接するスロット１０３間の間隔が大きすぎると、スロットグループ１０２に含まれるスロット１０３の数が少なくなり、さらに基板１０１の表面のスロット面積が小さくなり、グリッド線１０４と基板１０１との接触抵抗が大きくなり、グリッド線１０４の電流集約及び伝送の能力が悪くなり、電池セルの光電変換効率が低くなる。

【0039】

したがって、グリッド線１０４と基板１０１との接触抵抗及び電池セルの開放電圧損失の両方の観点から、スロット１０３を設置する過程において、第２方向におけるスロット１０３の最大寸法と隣接するスロット１０３の間隔との関係だけでなく、隣接するスロット１０３の第２方向における間隔の最大寸法を制限し、第２方向に沿って、隣接するスロット１０３の間隔を２００μｍより小さい範囲に設定する必要があり、例えば、スロット１０３の最大寸法に基づいて、隣接するスロット１０３の間隔を３μｍ、６μｍ、１２μｍ、６０μｍまたは１２０μｍなどに設定することができる。これにより、基板１０１の表面のスロット面積が十分に大きいことを確保し、グリッド線１０４の電流集約及び伝送の能力の低下に起因する電池セルの効率低下を避けることができる。

【0040】

理解できるように、隣接するスロット１０３間の間隔は、同じであってもよいし、異なっていてもよく、第２方向に沿って、隣接するスロット１０３の間隔が２００μｍ以下であり、かつ、０より大きくスロット１０３の最大寸法の４倍より小さいという条件を満たせばよく、本実施例では、隣接するスロット１０３間の間隔が一致するか否かについて制限しない。

【0041】

いくつかの実施例では、スロット１０３の基板１０１の表面における正投影の形状は、円形、楕円形または多角形を含む。スロット１０３は、グリッド線１０４における第１メッキ層１０５の延伸部１０５１を収容する機能を果たし、これによって、延伸部１０５１が基板１０１の内部と接触できるようになる。したがって、第１メッキ層１０５を製造する時に選択された材料とグリッド線１０４の具体的な応用シナリオに応じて、スロット１０３の基板１０１の表面における正投影の形状を設定することができる。

【0042】

例えば、第１メッキ層１０５を製造するために選択された材料自体の電気抵抗が大きい場合、正投影が面積の大きな円形または楕円形であるスロット１０３を基板１０１の表面に形成し、グリッド線１０４が延伸部１０５１を利用してスロット１０３を介して基板１０１の内部と電気的と接触する時の接触面積をできる限り増やし、グリッド線１０４と基板１０１間の接触抵抗を下げることができる。第１メッキ層１０５を製造するために選択された材料自体の電気抵抗が小さい場合、正投影が面積の小さい三角形または菱形などの多角形であるスロット１０３を基板１０１の表面に形成することができ、基板１０１におけるスロット面積をできる限り小さくし、太陽電池の開放電圧損失を低減し、太陽電池の光電変換効率を高めることができる。したがって、応用シナリオ及び必要に応じて、スロット１０３の基板１０１の表面における正投影を調整して、断面積の異なるスロット１０３を形成することができる。これにより、グリッド線１０４と基板１０１の間の接触抵抗をできる限り下げると同時に、太陽電池の開放電池損失を低減し、太陽電池の光電変換効率をできる限り高めることができる。

【0043】

いくつかの実施例では、基板１０１の表面に垂直な方向において、スロット１０３の最大深さは１μｍより小さい。スロット１０３を製造する過程において、必要に応じて製造されたスロット１０３の基板１０１の表面における正投影の形状を選択することができる。説明の便宜上、以下では、スロット１０３の基板１０１の表面における正投影が円形である場合を例として説明する。

【0044】

図２～４に示すように、図４は１つのスロット１０３を拡大する構成を示す図であり、スロット１０３が位置する基板１０１の表面に垂直な方向において、スロット１０３の最大深さＳは、スロット１０３が基板１０１内に延びる最大延伸長さであり、Ｓ＝Ｓ１－Ｓ２という式により算出されることができ、ここで、Ｓ１はスロット１０３が位置する基板１０１の表面に垂直な方向における基板１０１の最大深さであり、Ｓ２は、基板１０１の表面に垂直な方向において、スロット１０３が基板１０１内のスロット１０３から離れる基板１０１の第１表面に位置するエッジと、スロット１０３が位置する第１表面に対向する基板１０１における第２表面との間隔の最大値である。

【0045】

スロット１０３を製造する時に、スロット１０３が位置する基板１０１の表面に垂直な方向において、スロット１０３の最大深さは太陽電池の開放電圧損失に影響を与え、さらに太陽電池の光電変換効率に影響を与える。したがって、スロット１０３のスロット深さが大きすぎる場合、すなわちスロット１０３が位置する基板１０１の表面に垂直な方向において、スロット１０３が基板１０１の内部に向かって延びる距離が大きすぎる場合、太陽電池に大きな開放電圧損失が発生し、太陽電池の光電変換効率が低下してしまう。このため、スロット１０３を設置する場合、基板１０１の表面に垂直な方向において、スロット１０３の最大深さを１μｍより小さい範囲内、例えば０．１μｍ、０．１５μｍ、０．３μｍ、０．５μｍ、０．８５μｍなどに設定する必要がある。これにより、スロット１０３のスロット深さの太陽電池の開放電圧損失に対する影響を低減し、開放電圧損失が大きすぎることに起因する太陽電池の光電変換効率の低下を避けるとともに、第１メッキ層１０５と基板１０１の間の結合力が十分に大きいことをできる限り確保し、基板１０１の表面におけるグリッド線１０４が脱落して太陽電池の電流集約及び伝送の能力が低下して太陽電池の効率に影響を与えることを避けることができる。

【0046】

また、図１、図５及び図６に示すように、図５は基板１０１の平面構造に誘電体膜層１０６が存在するスロット１０３の構成を示す図であり、図６は基板１０１のテクスチャー構造に誘電体膜層１０６が存在するスロット１０３の構成を示す図である。基板１０１の表面が平面構造であり、かつ平面構造に誘電体膜層１０６が存在する場合、基板１０１の表面に垂直な方向において、スロット１０３の最大深さは、スロット１０３の基板１０１内部における延伸距離だけでなく、スロット１０３が貫通する誘電体膜層１０６の最大厚さも含み、スロット１０３の基板１０１内部における延伸距離が１μｍを超えないように制御する必要がある。したがって、スロット１０３を製造する過程において、スロット１０３が位置する基板１０１の表面に垂直な方向において、誘電体膜層１０６の最大厚さに応じて、スロット１０３の最大深さを適切に増やすことにより、スロット１０３の最大深さが誘電体膜層１０６の最大厚さより大きく、かつ誘電体膜層１０６の最大厚さ＋１μｍより小さいことを確保することができる。基板１０１の表面がテクスチャー構造であり、かつテクスチャー構造に誘電体膜層１０６が存在した場合、スロット領域は隣接する２つのテクスチャー突起部の間の領域であってもよく、スロット１０３が位置する基板１０１の表面に垂直な方向において、スロット１０３の最大深さは、スロット領域に含まれないテクスチャー突起部における誘電体膜層１０６のエッジと基板１０１の表面との最大間隔Ａと、スロット領域に含まれるテクスチャー突起部における誘電体膜層１０６のエッジと基板１０１の表面との最大間隔Ｂと、の差である。したがって、テクスチャー構造の基板１０１にスロット１０３を形成する過程において、選択された隣接する２つのテクスチャー突起部の間では、スロット１０３が位置する基板１０１の表面に垂直な方向において基板１０１内に向かってエッチングし、かつエッチング前後において、テクスチャー突起部における誘電体膜層１０６と基板１０１の表面間の最大間隔の差は１μｍを超えない。

【0047】

図１～７に示すように、いくつかの実施例では、グリッド線１０４は、第１メッキ層１０５の基板１０１から離れる表面に位置する第２メッキ層１０７と、第２メッキ層１０７の基板１０１から離れる表面に位置する第３メッキ層１０８と、をさらに含む。

【0048】

グリッド線１０４を構築する過程において、グリッド線１０４と基板１０１との間の結合の強固さだけでなく、太陽電池使用中、グリッド線１０４の電流伝送能力及びスクレーピング、衝突などが発生した後の作動能力も配慮する必要がある。したがって、グリッド線１０４を製造する過程において、グリッド線１０４を第１メッキ層１０５と、第１メッキ層１０５の基板１０１から離れる表面に位置する第２メッキ層１０７と、第２メッキ層１０７の基板１０１から離れる表面に位置する第３メッキ層１０８とから構成かれるように設置することができる。ここで、第１メッキ層１０５の主な機能は、基板１０１の表面と接触する部分と、スロット１０３に位置しかつ基板１０１の内部と接触する延伸部１０５１とによって、基板１０１と十分に結合し、グリッド線１０４と基板１０１の結合の安定性を高めることであり、第２メッキ層１０７の主な機能は、グリッド線１０４の電流伝送中核として集約された電流を伝送することであり、第３メッキ層１０８の主な機能は、第２メッキ層１０７の保護層として、スクレーピングまたは衝突が発生した場合に、第２メッキ層１０７が損傷したり破断したりすることを避け、グリッド線１０４の電流集約及び伝送の能力を確保することである。

【0049】

したがって、グリッド線１０４を製造する過程において、３つのメッキ層を重ねてグリッド線１０４を構成し、第１メッキ層１０５によってグリッド線１０４と基板１０１の間の結合安定性を効果的に向上させ、第２メッキ層１０７によってグリッド線１０４の電流伝送能力を確保し、第３メッキ層１０８によってグリッド線１０４の実際応用における適応能力を効果的に向上させ、グリッド線１０４が破断する可能性を低減し、グリッド線１０４の作動安定性を向上させ、太陽電池の光電変換効率を確保する。

【0050】

いくつかの実施例では、基板１０１の表面に垂直な方向において、第２メッキ層１０７の最大厚さは、第１メッキ層１０５の最大厚さ及び第３メッキ層１０８の最大厚さよりも大きい。

【0051】

第２メッキ層１０７は、基板１０１と接触する第１メッキ層１０５と上層に位置する第３メッキ層１０８との間に位置し、第２メッキ層１０７の中核機能は基板１０１で発生した電流を集約して伝送することであり、第２メッキ層１０７の電流集約及び伝送の能力は自身の電気抵抗と相関がある。製造過程で採用される材質と方法が一致している場合、同じ長さの第２メッキ層１０７の電気抵抗の大きさが自身の断面積と相関があり、断面積は、第２メッキ層１０７の基板１０１の表面に垂直な方向における最大厚さ及び第２メッキ層１０７の第２方向に垂直な方向における最大厚さと相関がある。第２メッキ層１０７の第２方向に垂直な方向における最大厚さが一定である場合、第２メッキ層１０７の電気抵抗は、基板１０１の表面に垂直な方向における第２メッキ層１０７の最大厚さと負の相関がある。

【0052】

したがって、グリッド線１０４自体の全体厚さが一定であることを考慮した上で、基板１０１の表面に垂直な方向において、第２メッキ層１０７の最大厚さを可能な限り増やし、第２メッキ層１０７の最大厚さを第１メッキ層１０５の最大厚さ及び第３メッキ層１０８の最大厚さより大きくするようにすることで、グリッド線１０４の全体抵抗を低減し、グリッド線１０４の電流集約及び伝送の能力を高め、太陽電池の光電変換効率を確保する。

【0053】

いくつかの実施例では、基板１０１の表面に垂直な方向において、第２メッキ層１０７の最大厚さは、２μｍ～３０μｍである。第２メッキ層１０７の中核機能は、電流を集約かつ伝送するグリッド線１０４の中核層とすることで、第２メッキ層１０７は、その断面積が大きいほどその電気抵抗が小さくなり、電流に対する集約伝送能力も高くなる。グリッド線１０４の全体厚さ及び電流集約及び伝送の能力の両方の要求を配慮して、メッキ層が位置する基板１０１の表面に垂直な方向において、第２メッキ層１０７は、最大厚さが小さすぎる場合、その断面積が小さすぎるため、電気抵抗が大きすぎるようになり、効果的に電流集約と電流伝送を行うことができなくなる。第２メッキ層１０７の最大厚さが大きすぎる場合、グリッド線１０４の全体厚さが大きすぎるため、グリッド線１０４の製造コストが増加し、かつ太陽電池の重量が大きすぎるようになってしまう。

【0054】

したがって、第２メッキ層１０７を製造する時、基板１０１の表面に垂直な方向において、第２メッキ層１０７の最大厚さは、２μｍ～３０μｍ、例えば、３μｍ、５μｍ、８μｍ、１５μｍまたは２５μｍなどに設定される。第２メッキ層１０７の断面積が十分に大きくることを確保し、第２メッキ層１０７の電気抵抗が大きすぎることを避け、グリッド線１０４の電流集約及び伝送の能力を確保すると同時に、グリッド線１０４の全体厚さが適切であり、グリッド線１０４の製造コストと太陽電池の重量を下げることを確保する。

【0055】

理解できるように、第２メッキ層１０７を製造する過程において、太陽電池の正面と裏面の性能に一定の相違点があることを配慮して、太陽電池の正面に位置するグリッド線１０４を製造する過程では、メッキ層が位置する基板１０１の表面に垂直な方向における第２メッキ層１０７の最大厚さは３μｍ～１５μｍ、例えば、４μｍ、６μｍ、９μｍまたは１３μｍなどに設定されることができる。太陽電池の裏面に位置するグリッド線１０４を製造する過程では、基板１０１の表面に垂直な方向における第２メッキ層１０７の最大厚さは７μｍ～２０μｍ、例えば８μｍ、１０μｍ、１３μｍまたは１６μｍなどに設定されることができる。本実施例では、基板１０１の表面に垂直な方向における第２メッキ層１０７の最大厚さの具体的な値について制限しない。

【0056】

いくつかの実施例では、基板１０１の表面に垂直な方向において、第３メッキ層１０８の最大厚さは、１０ｎｍ～５μｍである。第３メッキ層１０８の中核機能は、第２メッキ層１０７の保護層として、グリッド線１０４にスクレーピングまたは衝突が発生した場合、第２メッキ層１０７が損傷したり破断したりすることを避けることである。グリッド線１０４の全体厚さ及び第３メッキ層１０８の第２メッキ層１０７に対する保護能力の両方の要求を配慮して、メッキ層が位置する基板１０１の表面に垂直な方向において、第３メッキ層１０８の最大厚さが小さすぎる場合、保護能力は第３メッキ層１０８の最大厚さと正比例するため、その保護能力は限られており、グリッド線１０４に衝突またはスクレーピングが発生した場合、第２メッキ層１０７を損傷から保護することを確保できない。第３メッキ層１０８の最大厚さが大きすぎる場合、グリッド線１０４の全体厚さが大きすぎるため、グリッド線１０４の製造コストが増加し、太陽電池の重量が大きすぎるようになってしまう。

【0057】

したがって、他の条件が一致している場合、基板１０１の表面に垂直な方向において、第３メッキ層１０８の最大厚さは１０ｎｍ～５μｍ、例えば、５０ｎｍ、１５０ｎｍ、５００ｎｍ、１μｍ、２μｍまたは４μｍなどに設定されることができる。第３メッキ層１０８の第２メッキ層１０７に対する保護能力を確保すると同時に、グリッド線１０４の全体厚さが適切であり、グリッド線１０４の製造コストと太陽電池の重量を削減することを確保する。

【0058】

いくつかの実施例では、基板１０１の表面に垂直な方向において、第１メッキ層１０５の最大厚さは、１０ｎｍ～５μｍである。第１メッキ層１０５の中核機能は、グリッド線１０４と基板１０１の間の結合力を高め、太陽電池の使用中にグリッド線１０４が脱落したり仮想短絡したりすることを避ける。グリッド線１０４の全体厚さ及び第１メッキ層１０５の結合力に対する向上効果の両方の要求を配慮して、メッキ層が位置する基板１０１の表面に垂直な方向において、第１メッキ層１０５の最大厚さが小さすぎる場合、受力限界が小さく、太陽電池使用中にグリッド線１０４が脱落したり仮想短絡したりするなどの問題を効果的に避けることができない。第１メッキ層１０５の最大厚さが大きすぎる場合、グリッド線１０４の全体厚さが大きすぎて、さらにグリッド線１０４の製造コストが増加し、太陽電池の重量が大きすぎるようになってしまう。

【0059】

したがって、他の条件が一致している場合、基板１０１の表面に垂直な方向において、第１メッキ層１０５の最大厚さは１０ｎｍ～５μｍ、例えば、１００ｎｍ、５００ｎｍ、１μｍ、２μｍまたは４μｍなどに設定されることができる。第１メッキ層１０５のグリッド線１０４と基板１０１間の結合力に対する向上効果を確保し、グリッド線１０４の脱落を避けると同時に、グリッド線１０４の全体厚さが適切であり、グリッド線１０４の製造コストと太陽電池の重量を削減することを確保する。

【0060】

いくつかの実施例では、基板１０１の表面に垂直な方向において、第１メッキ層１０５は、順次配置される２つ以上のサブメッキ層を含む。第１メッキ層１０５の中核機能は、グリッド線１０４と基板１０１との結合力を高めることであるため、第１メッキ層１０５を製造する過程では、メッキ層が位置する基板１０１の表面に垂直な方向において第１メッキ層１０５を２つ以上のサブメッキ層に分割し、各サブメッキ層を１つずつ製造して第１メッキ層１０５を形成することができる。１つずつ製造された２つ以上のサブメッキ層で第１メッキ層１０５を構成することで、第１メッキ層１０５は構造のより均一な複数のサブメッキ層によって結合して形成され、第１メッキ層１０５自体の構造の密着度をさらに向上させ、第１メッキ層１０５の受力限界を高め、さらにグリッド線１０４と基板との結合力を向上させ、グリッド線１０４の脱落や仮想短絡などの問題を可能な限り避けることができる。

【0061】

いくつかの実施例では、第１メッキ層１０５の導電率は第２メッキ層１０７の導電率以下である。第１メッキ層１０５の中核機能はグリッド線１０４と基板１０１の間の結合力を高めることであり、第２メッキ層１０７の中核機能はグリッド線１０４の電流集約及び伝送の能力を確保することである。したがって、第１メッキ層１０５を製造する過程において、第１メッキ層１０５と基板１０１の間の結合力に対する選択された材料の影響を優先的に考慮し、結合力のより良好な材料を選択して第１メッキ層１０５を製造する。第２メッキ層１０７を製造する過程において、選択された材料の導電率を優先的に考慮し、導電率のより良好な材料を選択して第２メッキ層１０７を製造することで、導電率が低くいが基板１０１との結合力がより強い第１メッキ層１０５及び導電率が高い第２メッキ層１０７を形成し、グリッド線１０４と基板１０１との結合安定性を確保するとともに、グリッド線１０４の電流集約と輸送能力を同時に考慮し、太陽電池の光電変換効率を確保する。

【0062】

いくつかの実施例では、第１方向に沿って、隣接するスロットグループ１０２間の間隔は、０．５ｍｍ～３ｍｍである。グリッド線１０４は、対応するスロットグループ１０２によって限定された領域内にそれぞれ位置するため、隣接するスロットグループ１０２間の間隔は太陽電池の表面におけるグリッド線１０４の密度に影響を与え、グリッド線１０４の機能は太陽電池によって発生した電流を集約かつ伝送することである。第１方向に沿って、隣接するスロットグループ１０２間の間隔が小さいほど、グリッド線１０４の密度が高くなり、太陽電池の電流集約及び伝送の能力が高くなるとともに、隣接するスロットグループ１０２の密度が大きいほど、太陽電池の表面のスロット面積も大きくなり、さらに開放電圧損失も大きくなり、電池の電流生成能力が低下してしまう。

【0063】

したがって、第１方向に沿って、隣接するスロットグループ１０２を設置する過程において、グリッド線１０４の電流集約及び伝送の能力及び、太陽電池の開放電圧損失と電流発生能力を同時に考慮する必要があり、隣接するスロットグループ１０２間の間隔を０．５ｍｍ～３ｍｍ、例えば、０．６ｍｍ、１ｍｍ、１．５ｍｍ、２ｍｍまたは２．８ｍｍなどに設定することにより、太陽電池の表面のグリッド線１０４の密度を確保し、太陽電池の電流集約及び伝送の能力を高めることができるだけでなく、太陽電池の開放電圧損失が大きすぎないように確保し、太陽電池の電流生成能力と光電変換効率に影響を与えることを避けることができる。

【0064】

以上のように、本願の一実施例が提供する太陽電池では、基板１０１の表面に第１方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットグループ１０２を構築し、各スロットグループ１０２が第２方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロット１０３を含み、かつ第２方向に沿って、隣接するスロット１０３間の間隔が０より大きくスロット１０３の最大厚さの４倍より小さく、これによって、スロットグループ１０２のスロットパターンが不連続なドット状パターンで構成され、スロット面積を小さくし、さらに電池セルの開放電圧損失を低減し、太陽電池の光電変換効率を高めることができる。グリッド線１０４を製造する過程において、各スロットグループ１０２に基板１０１の表面に位置する第１メッキ層１０５を製造し、第１メッキ層１０５はスロットグループ１０２における各スロット１０３内に位置する延伸部１０５１を含み、かつ延伸部１０５１を介して基板１０１の内部と接触し、グリッド線１０４と基板１０１との間の結合力を向上させ、基板１０１の表面におけるグリッド線１０４の脱落に起因する太陽電池セルの光電変換効率の低下を避け、太陽電池セルの光電変換効率をさらに確保できる。

【0065】

また、本願の他の一実施例は、上記の実施例に係る太陽電池を形成できる太陽電池の製造方法をさらに提供する。図８に示すように、製造方法の具体的な流れは、以下のステップを含む。

【0066】

基板１０１を提供する。

【0067】

図１と図３に示すように、基板１０１に複数のスロットグループ１０２を形成する。

【0068】

基板１０１の表面に複数のスロットグループ１０２を形成する過程において、第１方向に沿って複数のスロットグループ１０２を間隔をあけて配置し、各スロットグループ１０２には、第２方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロット１０３が含まれ、かつ第２方向に沿って、０＜ｄ＜４Ｌであり、ｄが隣接するスロット１０３間の間隔であり、Ｌがスロット１０３の最大寸法である。

【0069】

いくつかの実施例では、スロットグループ１０２を形成する工程は、レーザーエッチング、イオンエッチングまたはスラリーエッチングを含む。複数のエッチング工程から、応用シナリオと必要に応じて適切な工程を選択し、考案の適応性を高める。

【0070】

図２と図３に示すように、各スロットグループ１０２に第２方向に沿って延びる複数のグリッド線１０４をそれぞれ形成する。

【0071】

複数のグリッド線１０４を形成する過程において、基板１０１の表面に位置し、スロットグループ１０２における各スロット１０３内に位置する延伸部１０５１を含み、かつ延伸部１０５１を介して基板１０１の内部と接触する第１メッキ層１０５を各スロットグループ１０２に形成し、そして、第１メッキ層１０５に各グリッド線１０４を形成する。

【0072】

いくつかの実施例では、第１メッキ層１０５を形成する工程は、電気メッキ、化学メッキまたは物理気相成長を含む。複数のメッキ層の生産工程で応用シナリオと必要に応じて適切な工程を選択し、考案の適応性と実用性を高める。

【0073】

図２と図７に示すように、いくつかの実施例では、グリッド線１０４を形成する工程ステップは、電気メッキ工程によって第１メッキ層１０５の基板１０１から離れる表面に第２メッキ層１０７を形成することをさらに含む。

【0074】

いくつかの実施例では、グリッド線１０４を形成する工程ステップは、電気メッキ工程または化学メッキ工程によって第２メッキ層１０７の基板１０１から離れる表面に第３メッキ層１０８を形成することをさらに含む。

【0075】

第１メッキ層１０５の材料は、ニッケル、銅、チタン、アルミニウム、金、亜鉛、コバルト、パラジウム、インジウム、クロム、タングステンのうちの１種または複数種を含み、第２メッキ層１０７は銅などであってもよく、第３メッキ層１０８は錫または銀などであってもよい。

【0076】

それに対応して、本願の別の実施例は、光起電力モジュールをさらに提供し、図９を参照すると、光起電力モジュールは、上記実施例で提供された太陽電池１００を複数接続してなる電池ストリングと、電池ストリングの表面を覆うための封止層１２０と、封止層１２０の電池ストリングから離れた表面を覆うためのカバープレート１３０と、を含む。太陽電池１１０は、全体または複数のスライスの形で電気的に接続されることで複数の電池ストリングを形成し、複数の電池ストリングは、直列及び／又は並列に電気的に接続されている。

【0077】

具体的には、いくつかの実施例において、複数のセルストリング間は、伝導バンド１４０によって電気的に接続されていてもよい。封止層１２０は、太陽電池１１０の正面又は裏面を覆い、具体的には、封止層１２０は、エチレン－酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）接着フィルム、ポリエチレンオクテン－エラストマー（ＰＯＥ）接着フィルム、またはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）接着フィルム等の有機封止フィルムであってもよい。いくつかの実施例において、カバープレート１３０は、ガラスカバープレートやプラスチックカバープレートなどの光透過機能を有するカバープレートであってもよい。具体的には、カバープレート１３０の封止層１２０に向かう表面を凹凸面にしてもよく、これによって、入射光線の利用率を高めることができる。

【0078】

本願は、好ましい実施例で上記のように開示されているが、特許請求の範囲を限定するものではなく、いずれの当業者であれば、本願の構想から逸脱することなく、若干の可能な変動及び修正を加えることができるため、本願の保護範囲は、本願の請求項によって規定される範囲に従うべきである。

【0079】

当業者であれば、前記の各実施形態は本願を実現する具体的な実施例であるが、実用上では本願の精神と範囲を逸脱することなく、形式及び細部において様々な変更が可能であることが理解できる。いずれの当業者は、本願の精神と範囲を逸脱しない限り、それぞれ変更及び修正を行うことが可能であるため、本願の保護範囲は、請求項に限定された範囲を基準にすべきである。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【手続補正書】

【提出日】2023-07-13

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板と、前記基板の表面に位置して第２方向に沿って延びる複数のグリッド線と、を含み、
前記基板の表面が第１方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットグループを含み、前記スロットグループが第２方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットを含み、前記第２方向に沿って、０＜ｄ＜４Ｌであり、ここで、ｄが隣接する前記スロット間の間隔であり、Ｌが前記スロットの最大寸法であり、
各前記グリッド線は、対応する前記スロットグループによって限定された領域内にそれぞれ位置し、前記グリッド線は、前記基板の表面に位置する第１メッキ層を含み、前記第１メッキ層は、前記スロットグループにおける各前記スロット内に位置する延伸部を含み、かつ前記延伸部を介して前記基板の内部と接触し、前記グリッド線は、前記第１メッキ層の前記基板から離れる表面に位置する第２メッキ層と、前記第２メッキ層の前記基板から離れる表面に位置する第３メッキ層と、をさらに含む、
ことを特徴とする太陽電池。

【請求項2】

前記第２方向において、前記スロットの最大寸法は３μｍ～５０μｍである、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項3】

前記第２方向において、隣接する前記スロット間の間隔は２００μｍより小さい、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項4】

前記基板の表面に垂直な方向において、前記スロットの最大深さは１μｍより小さい、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項5】

前記スロットの前記基板の表面における正投影の形状は、円形、楕円形または多角形を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項6】

前記基板の表面に垂直な方向において、前記第２メッキ層の最大厚さは、前記第１メッキ層の最大厚さ及び前記第３メッキ層の最大厚さよりも大きい、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項7】

前記基板の表面に垂直な方向において、前記第２メッキ層の最大厚さは、２μｍ～３０μｍである、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項8】

前記基板の表面に垂直な方向において、前記第３メッキ層の最大厚さは、１０ｎｍ～５μｍである、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項9】

前記第１メッキ層の導電率は前記第２メッキ層の導電率以下である、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項10】

前記基板の表面に垂直な方向において、前記第１メッキ層の最大厚さは、１０ｎｍ～５μｍである、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項11】

前記基板の表面に垂直な方向において、前記第１メッキ層は、順次配置される２つ以上のサブメッキ層を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項12】

前記第１方向に沿って、隣接する前記スロットグループ間の間隔は、０．５ｍｍ～３ｍｍである、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項13】

基板を提供することと、
前記基板の表面に第１方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットグループを形成することであって、前記スロットグループは、第２方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットを含み、前記第２方向に沿って、０＜ｄ＜４Ｌであり、ｄが隣接する前記スロット間の間隔であり、Ｌが前記スロットの最大寸法であることと、
前記基板の表面における各前記スロットグループに前記第２方向に沿って延びる複数のグリッド線を形成することであって、前記グリッド線は、前記基板の表面に位置する第１メッキ層を含み、前記第１メッキ層は、前記スロットグループにおける各前記スロット内に位置する延伸部を含み、かつ前記延伸部を介して前記基板の内部と接触し、前記グリッド線は、前記第１メッキ層の前記基板から離れる表面に位置する第２メッキ層と、前記第２メッキ層の前記基板から離れる表面に位置する第３メッキ層と、をさらに含むことと、を含む、
ことを特徴とする太陽電池の製造方法。

【請求項14】

前記スロットグループを形成する工程は、レーザーエッチング、イオンエッチングまたはスラリーエッチングを含む、
ことを特徴とする請求項１３に記載の太陽電池の製造方法。

【請求項15】

前記第１メッキ層を形成する工程は、電気メッキまたは化学メッキを含む、
ことを特徴とする請求項１３に記載の太陽電池の製造方法。

【請求項16】

前記グリッド線を形成する工程ステップは、電気メッキ工程によって前記第１メッキ層の前記基板から離れる表面に前記第２メッキ層を形成することをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１３に記載の太陽電池の製造方法。

【請求項17】

前記グリッド線を形成する工程ステップは、電気メッキ工程または化学メッキ工程によって前記第２メッキ層の前記基板から離れる表面に前記第３メッキ層を形成することをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１６に記載の太陽電池の製造方法。

【請求項18】

請求項１～１２のいずれか１項に記載の太陽電池を複数接続してなる電池ストリングと、
前記電池ストリングの表面を覆うための封止層と、
前記封止層の前記電池ストリングから離れた表面を覆うためのカバープレートと、を含む、
ことを特徴とする光起電力モジュール。

【手続補正2】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００７２

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0072】

いくつかの実施例では、第１メッキ層１０５を形成する工程は、電気メッキまたは化学メッキを含む。複数のメッキ層の生産工程で応用シナリオと必要に応じて適切な工程を選択し、考案の適応性と実用性を高める。

【手続補正書】

【提出日】2023-12-21

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板と、前記基板の表面に位置して第２方向に沿って延びる複数のグリッド線と、を含み、
前記基板の表面が第１方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットグループを含み、前記スロットグループが第２方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットを含み、前記第２方向に沿って、０＜ｄ＜４Ｌであり、ここで、ｄが隣接する前記スロット間の間隔であり、Ｌが前記スロットの最大寸法であり、
各前記グリッド線は、対応する前記スロットグループによって限定された領域内にそれぞれ位置し、前記グリッド線は、前記基板の表面に位置する第１メッキ層を含み、前記第１メッキ層は、前記基板の表面に位置する部分と、前記スロットグループにおける各前記スロット内に位置しかつ前記基板の内部と接触する延伸部と、を含み、前記グリッド線は、前記第１メッキ層の前記基板から離れる表面に形成される第２メッキ層と、前記第２メッキ層の前記基板から離れる表面に形成される第３メッキ層と、をさらに含み、前記基板の表面に垂直な方向において、前記第２メッキ層の最大厚さは、前記第１メッキ層の最大厚さ及び前記第３メッキ層の最大厚さよりも大きく、前記第３メッキ層の材料は錫または銀である、
ことを特徴とする太陽電池。

【請求項2】

前記第２方向において、前記スロットの最大寸法は３μｍ～５０μｍである、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項3】

前記第２方向において、隣接する前記スロット間の間隔は２００μｍより小さい、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項4】

前記基板の表面に垂直な方向において、前記スロットの最大深さは１μｍより小さい、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項5】

前記スロットの前記基板の表面における正投影の形状は、円形、楕円形または多角形を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項6】

前記基板の表面に垂直な方向において、前記第２メッキ層の最大厚さは、２μｍ～３０μｍである、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項7】

前記基板の表面に垂直な方向において、前記第３メッキ層の最大厚さは、１０ｎｍ～５μｍである、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項8】

前記第１メッキ層の導電率は前記第２メッキ層の導電率以下である、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項9】

前記基板の表面に垂直な方向において、前記第１メッキ層の最大厚さは、１０ｎｍ～５μｍである、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項10】

前記基板の表面に垂直な方向において、前記第１メッキ層は、順次配置されかつ１つずつ製造された２つ以上のサブメッキ層を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項11】

前記第１方向に沿って、隣接する前記スロットグループ間の間隔は、０．５ｍｍ～３ｍｍである、
ことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池。

【請求項12】

基板を提供することと、
前記基板の表面に第１方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットグループを形成することであって、前記スロットグループは、第２方向に沿って間隔をあけて配置される複数のスロットを含み、前記第２方向に沿って、０＜ｄ＜４Ｌであり、ｄが隣接する前記スロット間の間隔であり、Ｌが前記スロットの最大寸法であることと、
前記基板の表面における各前記スロットグループに前記第２方向に沿って延びる複数のグリッド線を形成することであって、前記グリッド線は、前記基板の表面に位置する第１メッキ層を含み、前記第１メッキ層は、前記基板の表面に位置する部分と、前記スロットグループにおける各前記スロット内に位置しかつ前記基板の内部と接触する延伸部と、を含み、前記グリッド線は、前記第１メッキ層の前記基板から離れる表面に形成される第２メッキ層と、前記第２メッキ層の前記基板から離れる表面に形成される第３メッキ層と、をさらに含み、前記基板の表面に垂直な方向において、前記第２メッキ層の最大厚さは、前記第１メッキ層の最大厚さ及び前記第３メッキ層の最大厚さよりも大きく、前記第３メッキ層の材料は錫または銀であることと、を含む、
ことを特徴とする太陽電池の製造方法。

【請求項13】

前記スロットグループを形成する工程は、レーザーエッチング、イオンエッチングまたはスラリーエッチングを含む、
ことを特徴とする請求項１２に記載の太陽電池の製造方法。

【請求項14】

前記第１メッキ層を形成する工程は、電気メッキまたは化学メッキを含む、
ことを特徴とする請求項１２に記載の太陽電池の製造方法。

【請求項15】

前記グリッド線を形成する工程ステップは、電気メッキ工程によって前記第１メッキ層の前記基板から離れる表面に前記第２メッキ層を形成することをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１２に記載の太陽電池の製造方法。

【請求項16】

前記グリッド線を形成する工程ステップは、電気メッキ工程または化学メッキ工程によって前記第２メッキ層の前記基板から離れる表面に前記第３メッキ層を形成することをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１５に記載の太陽電池の製造方法。

【請求項17】

請求項１～１１のいずれか１項に記載の太陽電池を複数接続してなる電池ストリングと、
前記電池ストリングの表面を覆うための封止層と、
前記封止層の前記電池ストリングから離れた表面を覆うためのカバープレートと、を含む、
ことを特徴とする光起電力モジュール。