特開 2024-6917 浮上ステージ目詰まり防止装置、基板処理機器及び基板処理方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024006917

(43)【公開日】2024-01-17

(54)【発明の名称】浮上ステージ目詰まり防止装置、基板処理機器及び基板処理方法

(51)【国際特許分類】

   B05C 13/02 20060101AFI20240110BHJP

   B05C 11/00 20060101ALI20240110BHJP

   B05C 11/10 20060101ALI20240110BHJP

   B05C 5/00 20060101ALI20240110BHJP

   B05D 1/26 20060101ALI20240110BHJP

   B05D 3/00 20060101ALI20240110BHJP

   B08B 3/02 20060101ALI20240110BHJP

【ＦＩ】

B05C13/02

B05C11/00

B05C11/10

B05C5/00 101

B05D1/26 Z

B05D3/00 C

B08B3/02 C

【審査請求】未請求

【請求項の数】20

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023005783

(22)【出願日】2023-01-18

(31)【優先権主張番号】10-2022-0079380

(32)【優先日】2022-06-29

(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR

(71)【出願人】

【識別番号】598123150

【氏名又は名称】セメス株式会社

【氏名又は名称原語表記】ＳＥＭＥＳ ＣＯ．， ＬＴＤ．

【住所又は居所原語表記】７７，４ｓａｎｄａｎ ５－ｇｉｌ，Ｊｉｋｓａｎ－ｅｕｐ，Ｓｅｏｂｕｋ－ｇｕ，Ｃｈｅｏｎａｎ－ｓｉ，Ｃｈｕｎｇｃｈｅｏｎｇｎａｍ－ｄｏ，３３１－８１４ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｋｏｒｅａ

(74)【代理人】

【識別番号】110000671

【氏名又は名称】ＩＢＣ一番町弁理士法人

(72)【発明者】

【氏名】イ，ボン ムン

【テーマコード（参考）】

3B201

4D075

4F041

4F042

【Ｆターム（参考）】

3B201AA02

3B201AB02

3B201BB22

3B201BB83

3B201BB92

3B201CC15

4D075AC02

4D075AC73

4D075AC78

4D075AC86

4D075CA48

4D075DA06

4D075DC24

4D075EA33

4F041AA05

4F041AB01

4F041BA05

4F041BA13

4F041BA59

4F042AA06

4F042BA08

4F042CC03

4F042CC04

4F042CC07

4F042DF05

4F042DF10

4F042DF11

4F042DF15

4F042DH09

(57)【要約】      （修正有）

【課題】浮上ステージで基板を移送する設備における浮上ステージ目詰まり防止装置、基板処理機器及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】浮上ステージ目詰まり防止装置は、基板１を浮上させる浮上ステージ１０と、浮上ステージの上側に配置されたノズル３００との間で移動する移動部材２１０と、移動部材に設置され、移動部材によって浮上ステージとノズルとの間に移動して浮上ステージをカバーリングするカバー２２０と、を含む。
【選択図】図４

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板を浮上させる浮上ステージ側に往復移動する移動部材と、
前記移動部材に設置され、前記移動部材によって前記浮上ステージ側に移動して前記浮上ステージをカバーリングするカバーと、を含む、浮上ステージ目詰まり防止装置。

【請求項2】

前記移動部材は、前記基板をホールディングして移送させるグリッパーである、請求項１に記載の浮上ステージ目詰まり防止装置。

【請求項3】

前記カバーは、前記基板がローディングされる前記グリッパーの基板ローディング部分とは反対側の部分である前記グリッパーのカバー装着部分に設けられた、請求項２に記載の浮上ステージ目詰まり防止装置。

【請求項4】

前記浮上ステージは、前記基板の移送方向に入口浮上部分、塗布浮上部分及び出口浮上部分に分けられ、
前記カバーは、プレート形状として前記浮上ステージにおいて前記ノズルの下側に配置された前記塗布浮上部分の上面をカバーできるように、前記塗布浮上部分の上面のサイズよりは大きく形成された、請求項１に記載の浮上ステージ目詰まり防止装置。

【請求項5】

前記カバーは、上面の縁に落下防止顎が形成された、請求項１に記載の浮上ステージ目詰まり防止装置。

【請求項6】

前記カバーは、上面に複数個の溝が形成された、請求項１に記載の浮上ステージ目詰まり防止装置。

【請求項7】

前記ノズルが設けられたノズル支持体に設けられ、前記ノズルの下側での前記基板を感知する基板感知センサと、をさらに含み、
前記移動部材は、前記浮上ステージの両側に配置されたレールに設けられた移動体であり、
前記移動体は、前記基板感知センサと制御部によって電気的に連携され、前記基板感知センサが前記ノズルの下側での前記基板の部材を感知する際に、前記浮上ステージと前記ノズルとの間に移動する、請求項１に記載の浮上ステージ目詰まり防止装置。

【請求項8】

前記ノズルが設けられたノズル支持体に設けられ、前記ノズルの下側での前記基板を感知する基板感知センサと、をさらに含み、
前記移動部材は、前記ノズル支持体に設けられた回転体であり、
前記回転体は、前記基板感知センサと制御部によって電気的に連携され、前記基板感知センサが前記ノズルの下側における前記基板の部材を感知する際に、前記浮上ステージと前記ノズルとの間で回転する、請求項１に記載の浮上ステージ目詰まり防止装置。

【請求項9】

基板を浮上させる浮上ステージの両側で前記浮上ステージの長さ方向に沿って配置されたレールと、
前記レールに配置され、前記レールに沿って移動し、前記基板をホールディングして移送させる移動部材と、
前記移動部材に設置され、前記移動部材によって前記浮上ステージ側に移動して前記浮上ステージをカバーリングするカバーと、
前記浮上ステージの上側に配置され、前記浮上ステージ側に移動した前記基板に薬液を塗布して前記基板を処理するノズルと、を含む、基板処理機器。

【請求項10】

前記浮上ステージは、前記基板の移送方向に入口浮上部分、塗布浮上部分及び出口浮上部分に分けられ、
前記カバーは、プレート形状として前記浮上ステージにおいて、前記ノズルの下側に配置された前記塗布浮上部分の上面をカバーできるように、前記塗布浮上部分の上面のサイズよりは大きく形成された、請求項９に記載の基板処理機器。

【請求項11】

前記カバーは、上面の両側部に落下防止顎が形成された、請求項９に記載の基板処理機器。

【請求項12】

前記カバーは、上面に複数個の溝が形成された、請求項９に記載の基板処理機器。

【請求項13】

前記浮上ステージの上側に配置され、前記カバーをクリーニングするクリーニングユニットをさらに含む、請求項９に記載の基板処理機器。

【請求項14】

前記クリーニングユニットは、前記カバーの上面のパーティクルを吸入するサクション部材を含む、請求項１３に記載の基板処理機器。

【請求項15】

前記クリーニングユニットは、前記カバーの上面に洗浄液を噴射する洗浄部材を含む、請求項１３に記載の基板処理機器。

【請求項16】

前記クリーニングユニットは、前記洗浄部材と並んで配置され、前記洗浄液を超音波振動させる超音波発生部材をさらに含む、請求項１５に記載の基板処理機器。

【請求項17】

前記クリーニングユニットは、前記洗浄部材と並んで配置され、前記洗浄液で濡れた前記カバーを乾燥させる乾燥部材をさらに含む、請求項１５に記載の基板処理機器。

【請求項18】

前記クリーニングユニットは、
前記カバーの上面の異物パーティクルやインクを吸入するサクション部材と、
前記カバーの上面に洗浄液を噴射する洗浄部材と、
前記洗浄液を超音波振動させる超音波発生部材と、
前記洗浄液で濡れた前記カバーを乾燥させる乾燥部材と、を含み、
前記サクション部材、洗浄部材、超音波発生部材及び乾燥部材が前記移動部材の移動方向に順次配置された、請求項１３に記載の基板処理機器。

【請求項19】

基板のローディング位置にグリッパーを移動させて前記グリッパーに基板をローディングする基板ローディング段階と、
前記基板を浮上させる浮上ステージの上側に配置されたノズルと前記浮上ステージとの間にカバーを移動させて前記浮上ステージをカバーリングするカバーリング段階と、
前記基板がローディングされた前記グリッパーを前記浮上ステージ側に移動させて前記浮上ステージ上で前記基板を処理する基板移送段階と、を含む、基板処理方法。

【請求項20】

前記カバーが前記基板がローディングされる前記グリッパーの基板ローディング部分とは反対側の部分である前記グリッパーのカバー装着部分に設けられ、前記基板ローディング段階の進行時に、前記カバーリング段階が行われる、請求項１９に記載の基板処理方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、浮上ステージで基板を移送する設備における浮上ステージ目詰まり防止装置、基板処理機器及び基板処理方法に関するものである。

【背景技術】

【0002】

フラットパネル形状のディスプレイを製造する工程では、ガラスなどで製作された被処理基板の表面にＲＧＢインク（ＲＥＤ、ＧＲＥＥＮ、ＢＬＡＣＫ）、レジスト液などの薬液を塗布するコーティング工程が伴われる。

【0003】

ディスプレイのサイズが小さかった従来には、ディスプレイの素材となる基板の中央部に薬液を塗布しながら基板を回転させることにより、基板の表面に薬液を塗布するスピンコーティング方法が用いられていた。

【0004】

しかしながら、ディスプレイのサイズが大型化するにつれて、スピンコーティング方式はほとんど使用されなくなり、基板の幅に対応する長さを有するスリット形状のノズルの下側を通過するように基板を浮上ステージ上で移動させながら、基板の表面にノズルから噴射された薬液を塗布する方式のコーティング方法が使用されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】韓国公開特許公報第１０－２０２０－００９７６４０号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

本発明は、浮上ステージのエア吸入孔が詰まることを防止する浮上ステージ目詰まり防止装置、基板処理機器及び基板処理方法を提供することにその目的がある。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記の目的を達成するために、本発明による浮上ステージ目詰まり防止装置は、基板を浮上させる浮上ステージ側に移動する移動部材と、上記移動部材に設置され、上記移動部材によって上記浮上ステージ側に移動して上記浮上ステージをカバーリングするカバーと、を含む。

【0008】

上記移動部材は、上記基板をホールディングして移送させるグリッパーであることができる。

【0009】

上記カバーは、上記基板がローディングされる上記グリッパーの基板ローディング部分とは反対側の部分である上記グリッパーのカバー装着部分に設けられることができる。

【0010】

上記浮上ステージは、上記基板の移送方向に入口浮上部分、塗布浮上部分、及び出口浮上部分に分けられ、上記カバーはプレート形状として上記浮上ステージにおいて上記ノズルの下側に配置された部分の上面をカバーできるように上記塗布浮上部分の上面サイズよりは大きく形成されることができる。

【0011】

上記カバーは、上面の縁に落下防止顎が形成されることができる。

【0012】

上記カバーは、上面に複数個の溝が形成されることができる。

【0013】

他の実施形態として、本発明は、上記ノズルが設けられたノズル支持体に設けられ、上記ノズルの下側での上記基板を感知する基板感知センサと、をさらに含むことができる。

【0014】

このとき、一例として、上記移動部材は、上記浮上ステージの両側に配置されたレールに設けられた移動体であり、上記移動体は上記基板感知センサと制御部によって電気的に連携されて、上記基板感知センサが上記ノズルの下側での上記基板の部材を感知する際に、上記浮上ステージと上記ノズルとの間に移動することができる。

【0015】

他の一例として、上記移動部材は上記ノズル支持体に設けられた回転体であり、上記回転体は上記基板感知センサと制御部によって電気的に連携され、上記基板感知センサが上記ノズルの下側での上記基板の部材を感知する際に、上記浮上ステージと上記ノズルとの間で回転することができる。

【0016】

一方、本発明の他の側面によると、基板を浮上させる浮上ステージの両側で上記浮上ステージの長さ方向に沿って配置されたレールと、上記レールに配置され、上記レールに沿って移動し、上記基板をホールディングして移送させる移動部材と、上記移動部材に設置され、上記移動部材によって上記浮上ステージ側に移動して上記浮上ステージをカバーリングするカバーと、上記浮上ステージの上側に配置され、上記浮上ステージ側に移動した上記基板に薬液を塗布して上記基板を処理するノズルと、を含む基板処理機器が提供されることができる。

【0017】

上記カバーの上側に配置され、上記カバーをクリーニングするクリーニングユニットと、をさらに含むことができる。上記クリーニングユニットは、上記カバーの上面の異物パーティクルやインクを吸入するサクション部材を含むことができる。上記クリーニングユニットは、上記カバーの上面に洗浄液を噴射する洗浄部材を含むことができる。このとき、上記クリーニングユニットは、上記洗浄部材と並んで配置され、上記洗浄液を超音波振動させる超音波発生部材をさらに含むことができる。上記クリーニングユニットは、上記洗浄部材と並んで配置され、上記洗浄液で濡れた上記カバーを乾燥させる乾燥部材をさらに含むことができる。

【0018】

上記クリーニングユニットは、他の一例として、上記カバーの上面の異物パーティクルやインクを吸入するサクション部材と、上記カバーの上面に洗浄液を噴射する洗浄部材と、上記洗浄液を超音波振動させる超音波発生部材と、上記洗浄液で濡れた上記カバーを乾燥させる乾燥部材と、を含み、上記サクション部材、洗浄部材、超音波発生部材及び乾燥部材が上記移動部材の移動方向に順次配置されることができる。

【0019】

さらに、本発明のまた他の側面によると、基板のローディング位置にグリッパーを移動させて上記グリッパーに基板をローディングする基板ローディング段階と、上記基板を浮上させる浮上ステージ側にカバーを移動させて上記浮上ステージをカバーリングするカバーリング段階と、上記基板がローディングされた上記グリッパーを上記浮上ステージ側に移動させて上記浮上ステージ上で上記基板を処理する基板処理段階と、を含む基板処理方法が提供されることができる。

【0020】

このとき、上記カバーが上記基板がローディングされる上記グリッパーの基板ローディング部分とは反対側の部分である上記グリッパーのカバー装着部分に設けられ、上記基板ローディング段階の進行時の上記カバーリング段階が行われることができる。

【発明の効果】

【0021】

本発明は、浮上ステージとノズルとの間に移動して浮上ステージをカバーリングするカバーを含むことで、浮上ステージのエア吸入孔が詰まることを防止する効果を有する。

【0022】

また、本発明は、カバーをクリーニングするクリーニングユニットを含むことで、異物パーティクルやインクが付着されたカバーの上面をクリーニングすることができる利点を有する。

【図面の簡単な説明】

【0023】

【図1】浮上ステージの一側で従来技術によるグリッパーが基板をローディングすることを示した平面図である。

【図2】図１の浮上ステージが異物パーティクル及びインクによって詰まることを示した側断面図である。

【図3】本発明の第１実施形態による基板処理機器の浮上ステージ目詰まり防止装置において移動部材にカバーが設けられたことを示した平面図である。

【図4】浮上ステージ目詰まり防止装置のカバーによって浮上ステージの塗布浮上部分がカバーリングされることを示した平面図である。

【図5】図４のカバーによって異物パーティクル及びインクによる浮上ステージの汚染が遮断されることを示した断面図である。

【図6】本発明の第２実施形態による基板処理機器の浮上ステージ目詰まり防止装置におけるカバーを示した平面図及び断面図である。

【図7】本発明の第３実施形態による基板処理機器の浮上ステージ目詰まり防止装置におけるクリーニングユニットとしてサクション部材を示した図面である。

【図8】本発明の第４実施形態による基板処理機器の浮上ステージ目詰まり防止装置におけるクリーニングユニットとして洗浄部材及び乾燥部材を示した図面である。

【図9】本発明の第５実施形態による基板処理機器の浮上ステージ目詰まり防止装置におけるクリーニングユニットとして洗浄部材、超音波発生部材及び乾燥部材を示した図面である。

【図10】本発明の第６実施形態による基板処理機器の浮上ステージ目詰まり防止装置におけるクリーニングユニットとして、サクション部材、洗浄部材、超音波発生部材及び乾燥部材を示した図面である。

【図11】本発明の第７実施形態による基板処理機器の浮上ステージ目詰まり防止装置を示した図面である。

【図12】本発明の第８実施形態による基板処理機器の浮上ステージ目詰まり防止装置を示した図面である。

【図13】本発明の他の側面による基板処理方法を示したフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【0024】

以下、添付の図面を参照して、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者が本発明を容易に実施することができるように好ましい実施形態を詳細に説明する。但し、本発明の好ましい実施形態を詳細に説明するに当たり、関連する公知の機能又は構成に対する具体的な説明が本発明の要旨を曖昧にする可能性があると判断される場合には、その詳細な説明を省略する。なお、類似した機能及び作用をする部分については、図面全体にわたって同一符号を付与する。なお、本明細書において、「上」、「上部」、「上面」、「下」、「下部」、「下面」、「側面」などの用語は図面を基準としたものであり、実際には構成要素が配置される方向によって変わることができる。

【0025】

なお、明細書全体において、ある部分が他の部分と「連結」されているとするとき、これは「直接的に連結」されている場合だけでなく、その間に他の構成要素を挟んで「間接的に連結」されている場合も含まれる。さらに、ある構成要素を「含む」とは、特に反対される記載がない限り、他の構成要素を除外するのではなく、他の構成要素をさらに含むことができることを意味する。

【0026】

図１は、浮上ステージの一側で従来技術によるグリッパーが基板をローディングすることを示した平面図であり、図２は、図１の浮上ステージが異物パーティクル及びインクによって詰まることを示した側断面図である。

【0027】

図面を参照すると、従来技術によるグリッパー２は、基板１をローディングした後、基板１に対する薬液塗布のために基板１をホールディングして浮上ステージ１０側に移送させる。

【0028】

浮上ステージ１０の上側にはノズル２１が配置され、ノズル２１は浮上ステージ１０とノズル２１との間を移送される基板１に薬液を噴射する。このとき、薬液は一例としてＲＧＢインク（ＲＥＤ、ＧＲＥＥＮ、ＢＬＵＥ）であることができ、ディスプレイの素材として使用される基板１をカラー基板にするために使用される。また、浮上ステージ１０は、基板１をエアで浮上させるためのエア孔１０ａを含む。このとき、エア孔１０ａは、エアを噴出するエア噴出孔１０ａａと、エアが吸入されるエア吸入孔１０ａｂを含む。エア噴出孔１０ａａは、エアを基板１が位置された上側に噴出して基板１を一定程度浮上させる。エア吸入孔１０ａｂは、基板１が位置された上側のエアを吸入して基板１を引っ張る。このようなエア吸入孔１０ａｂは、エア噴出孔１０ａａから噴出されたエアによって浮上された基板１が揺らさずに安定した状態で浮上されるようにする。浮上ステージ１０は、基板１の移送方向に入口浮上部分１１、塗布浮上部分１２及び出口浮上部分１３に分けられることができる。浮上ステージ１０においてノズル２１の下側に位置された部分である塗布浮上部分１２は、他の部分に比べて比較的より多くのエア噴出孔１０ａａ及びエア吸入孔１０ａｂが形成される。これはノズル２１によって薬液が基板１の上面に吐出する段階で、基板１の浮上高さを下げながら基板１と浮上ステージ１０の離隔距離を精密に制御し、基板１の揺れをさらに防止して、安定した浮上が維持されるようにする。

【0029】

ノズル２１によって薬液が噴射される際に、基板１の上面が薬液で塗布されるが、このような塗布の前にグリッパー２が基板１のローディングのために基板ローディング位置（図１における浮上ステージ１０の左側位置）に移動する。

【0030】

基板１がグリッパー２によってノズル２１の下側に配置される際に、ノズル２１によって薬液が噴射されて、基板１の上面が薬液で塗布される。ところで、基板１の塗布前にグリッパー２が基板１のローディングのために基板ローディング位置に移動して待機する間、浮上ステージ１０で塗布浮上部分１２は基板１によって覆われないため、オープンされた状態を維持するようになる。浮上ステージ１０は、基板１を浮上させない間にも継続的に作動された状態を維持するため、周辺にある異物のパーティクルＰが浮上ステージ１０における塗布浮上部分１２のエア孔１０ａを詰めることがある。特に、周辺にある異物のパーティクルＰがエア孔１０ａのうちエア吸入孔１０ａｂに流入されると、エア吸入孔１０ａｂは詰まり易くなる。また、ノズル２１に残っていたインクＩが落ちてエア吸入孔１０ａｂに流入される場合、エア吸入孔１０ａｂは詰まるようになる。これにより、基板１の塗布段階で基板１の浮上が精密に制御されないため、吐出される薬液の弾着不良が発生するようになる。しかし、このようなエア吸入孔１０ａｂの目詰まりはリアルタイムで感知することは難しく、追って基板１の検査段階で不良検出時に認識するようになる。結局的に汚染された浮上ステージ１０を分解した後に洗浄作業を行う必要があるため、基板１の塗布工程が長時間行われず、生産性が低下する。

【0031】

図３は、本発明の第１実施形態による基板処理機器の浮上ステージ目詰まり防止装置において移動部材にカバーが設けられたことを示した平面図であり、図４は、浮上ステージ目詰まり防止装置のカバーによって浮上ステージの塗布浮上部分がカバーリングされることを示した平面図であり、図５は、図４のカバーによってパーティクル及びインクによる浮上ステージの汚染が遮断されることを示した断面図である。

【0032】

図面を参照すると、本発明の基板処理機器１０００は、浮上ステージ目詰まり防止装置２００及びノズル３００を含む。浮上ステージ目詰まり防止装置２００は、移動部材２１０及びカバー２２０を含む。移動部材２１０は、基板１を浮上させる浮上ステージ１０側に往復移動する。具体的には、移動部材２１０は、浮上ステージ１０と浮上ステージ１０の上側に配置されたノズル３００との間で移動する。カバー２２０は、移動部材２１０に設けられ、移動部材２１０によって浮上ステージ１０側に、すなわち、浮上ステージ１０とノズル３００との間に移動して浮上ステージ１０をカバーリングする。具体的に浮上ステージ（図４の１０）は、基板１の移送方向に入口浮上部分１１、塗布浮上部分１２、及び出口浮上部分１３に分けられることができるが、カバー２２０はノズル３００の下側の塗布浮上部分１２をカバーリングすることができる。

【0033】

ここで、本発明の基板処理機器１０００はレール１００をさらに含むことができる。レール１００は、基板１を浮上させる浮上ステージ１０の両側において、浮上ステージ１０の長さ方向に沿って配置される。移動部材２１０はレール１００に配置され、レール１００に沿って移動する構造をとることができる。移動部材２１０は、図面には示されていないが、モータによって駆動力を受けて移動することができる。

【0034】

一例として、移動部材２１０は、図面に示されたように基板１をホールディングして移送させるグリッパー２１１であることができる。このとき、カバー２２０はグリッパー２１１の一部分に設けられることができる。具体的には、図面に示されたように、グリッパー２１１で基板１がローディングされる基板ローディング部分２１１ａとは反対側の部分であるカバー装着部分２１１ｂにカバー２２０が設けられることができる。カバー２２０は、プレート形状として浮上ステージ１０においてノズル３００の下側に配置された部分である、浮上ステージ１０の塗布浮上部分１２の上面をカバー可能な大きさで、すなわち塗布浮上部分１２の上面のサイズよりも大きく形成される。

【0035】

基板１の塗布前にグリッパー２１１が基板１のローディングのために、移動部材２１０は図３の位置から図４の位置である基板ローディング位置に移動して待機する間、カバー２２０が塗布浮上部分１２の上面を覆うことができる。これにより、カバー２２０は、周辺にある異物のパーティクル（図５のＰ）が浮上ステージ１０の塗布浮上部分１２にあるエア孔（図５の１０ａ）に流入されることを防ぐことができる。また、カバー２２０は、ノズル３００に残っていたインク（図５のＩ）が落ちて浮上ステージ１０の塗布浮上部分１２のエア孔１０ａに流入されることを防ぐことができる。

【0036】

すなわち、グリッパー２１１で基板１がローディングされる基板ローディング部分２１１ａが基板ローディング位置にある間、グリッパー２１１で基板１がローディングされる基板ローディング部分２１１ａとは反対側の部分であるカバー装着部分２１１ｂに設けられたカバー２２０は、ノズル３００と浮上ステージ１０の塗布浮上部分１２との間に配置される。これにより、周辺の異物パーティクルＰやノズル３００のインクＩが塗布浮上部分１２のエア孔１０ａではなくカバー２２０に落ちることにより、異物パーティクルＰやインクＩが浮上ステージ１０のエア孔１０ａを詰めることを防止することができる。これにより、エア孔１０ａを詰めている異物パーティクルＰやインクＩの除去のための浮上ステージ１０の洗浄作業が不要となることによって、時間及び費用的な側面において生産性を向上させることができる。

【0037】

さらに、移動部材２１０は、図面には示されていないが、他の一例としてグリッパー２１１ではなく別途の部材であることができる。すなわち、移動部材２１０は、グリッパー２１１ではなく別途の部材としてレール１００に設けられて移動する構造を取ることもでき、レール１００に設けられずに移動する構造を取ることもできる。

【0038】

一方、上記ノズル３００は、浮上ステージ１０の上側に配置され、浮上ステージ１０側に移動した、すなわち浮上ステージ１０とノズル３００との間に移送された基板１に薬液を塗布して、基板１をコーティング処理する。この場合、薬液は一例としてＲＧＢインク（ＲＥＤ、ＧＲＥＥＮ、ＢＬＵＥ）であることができ、ディスプレイの素材として使用される基板１をカラー基板とするために使用されることができる。

【0039】

図６は、本発明の第２実施形態による基板処理機器の浮上ステージ目詰まり防止装置におけるカバーを示した平面図及び断面図である。

【0040】

図面を参照すると、上記カバー２２０は、上面の縁に落下防止顎２２１が形成されることができる。落下防止顎２２１は、カバー２２０の上面から縁に沿って上側に突出するように形成される。落下防止顎２２１は、カバー２２０の上面に落ちた周辺の異物パーティクルＰやノズル（図５の２１）のインクＩがカバー２２０の外側に離脱して落下することを遮断することができる。

【0041】

具体的には、カバー２２０の上面に離れた周辺の異物パーティクルＰがカバー２２０の上面からカバー２２０の移動などの外力によって移動することができるが、カバー２２０は異物パーティクルＰがカバー２２０の外側に移動することを遮断する。また、カバー２２０の上面に落ちたインクＩがカバー２２０の上面からカバー２２０の移動などの外力によって流れることがあるが、カバー２２０はインクＩがカバー２２０の外側に流れることを遮断する。

【0042】

そして、カバー２２０は、上面に複数個の溝２２２が形成されることができる。カバー２２０の上面に落ちたインクＩが複数個の溝２２２に吸収されることで、カバー２２０の上面からインクＩが脱落することを確実に防止することができる。

【0043】

具体的には、複数個の溝２２２はカバー２２０の上面に、図示されたように一例として斜めに交差した配列構造をなすことができる。さらに、複数個の溝２２２は、図面には示されていないが垂直に交差した配列構造をなすことができる。これによって、インクＩがカバー２２０の上面からどの方向に流れても、交差した複数個の溝２２２に当たるようになり、複数個の溝２２２に吸収される。

【0044】

図７は、本発明の第３実施形態による基板処理機器の浮上ステージ目詰まり防止装置におけるクリーニングユニットとしてサクション部材を示した図面である。

【0045】

図面を参照すると、本発明は、クリーニングユニット２３０をさらに含むことができる。クリーニングユニット２３０は、カバー２２０の上側に配置され、カバー２２０をクリーニングする役割を果たす。このようなクリーニングユニット２３０によるカバー２２０のクリーニングは、適正期間を経て周期的に行うことができる。

【0046】

具体的には、クリーニングユニット２３０は、サクション部材２３１を含むことができる。

【0047】

上記サクション部材２３１は、カバー２２０の上面の異物パーティクル（図６のＰ）またはインク（図６のＩ）を吸入する。サクション部材２３１は、強い吸入力でカバー２２０の上面の異物パーティクルやインクを吸入することで、カバー２２０の上面で異物パーティクルやインクを除去することができる。このようなサクション部材２３１は、具体的な構成が本発明によって限定されず、従来の如何なるサクション構成も活用することができる。

【0048】

図８は、本発明の第４実施形態による基板処理機器の浮上ステージ目詰まり防止装置におけるクリーニングユニットとして洗浄部材及び乾燥部材を示した図面である。

【0049】

図面を参照すると、クリーニングユニット２３０は洗浄部材２３２及び乾燥部材２３４を含むことができる。

【0050】

上記洗浄部材２３２は、カバー２２０の上面に洗浄液を噴射する。洗浄液は、純水などが活用されることができる。カバー２２０の上面に落ちた異物パーティクルは、時間が経つとカバー２２０の上面に固着される。固着された異物パーティクルは、カバー２２０の上面から容易に除去されず、洗浄部材２３２によって洗浄液が噴射されることで、容易に除去されることができる。また、カバー２２０の上面に落ちたインクは、すぐ乾燥して固くなる。固くなったインクは、洗浄部材２３２によってカバー２２０の上面に洗浄液が噴射されることで溶解し、容易に除去されることができる。このような洗浄部材２３２は、具体的な構成が本発明によって限定されず、従来の如何なる洗浄構成も活用できる。一方、異物パーティクルまたはインクによって汚染された洗浄液は除去されることができる。一例として、カバー２２０の一側に排水口（図示せず）が形成され、カバー２２０の上面の洗浄液が一側に排水できるが、このとき、カバー２２０の一側の下側には排水された洗浄液を受ける収容部材（図示せず）が配置されることができる。

【0051】

上記乾燥部材２３４は、洗浄部材２３２と並んで配置され、洗浄液で濡れたカバー２２０を乾燥させる。クリーニング段階から再び塗布段階に迅速に切り替えるために、乾燥部材２３４は、洗浄液によって濡れたカバー２２０を乾燥させることができる。乾燥部材２３４は、乾燥方式として複数列を用いた乾燥方式、熱風を用いた乾燥方式などの従来の如何なる乾燥方式も用いられることができる。このような乾燥部材２３４は、具体的な構成が本発明によって限定されず、従来の如何なる乾燥構成も活用できる。

【0052】

図９は、本発明の第５実施形態による基板処理機器の浮上ステージ目詰まり防止装置におけるクリーニングユニットとして洗浄部材、超音波発生部材及び乾燥部材を示した図面である。

【0053】

図面を参照すると、クリーニングユニット２３０は、洗浄部材２３２、超音波発生部材２３３、及び乾燥部材２３４を含むことができる。このとき、洗浄部材２３２及び乾燥部材２３４に対する具体的な説明は、図８に基づいて既に詳述したため省略する。

【0054】

上記超音波発生部材２３３は、洗浄部材２３２と並んで配置され、洗浄液を超音波振動させる。すなわち、超音波発生部材２３３は、洗浄部材２３２から噴射された洗浄液に超音波を発生させて洗浄液を超音波で振動させる。このように超音波によって洗浄液が振動されることで、カバー２２０の上面の異物パーティクルやインクに対する除去率を高めることができる。すなわち、超音波によって振動された洗浄液により洗浄効果を増大させることができる。このような超音波発生部材２３３は、具体的な構成が本発明によって限定されず、従来の如何なる超音波発生の構成も活用できる。

【0055】

図１０は、本発明の第６実施形態による基板処理機器の浮上ステージ目詰まり防止装置におけるクリーニングユニットとして、サクション部材、洗浄部材、超音波発生部材及び乾燥部材を示した図面である。

【0056】

図面を参照すると、クリーニングユニット２３０は、サクション部材２３１、洗浄部材２３２、超音波発生部材２３３、及び乾燥部材２３４を含むことができる。このとき、サクション部材２３１、洗浄部材２３２、超音波発生部及び乾燥部材２３４に対する具体的な説明は、図７～図９に基づいて既に詳述したため省略する。

【0057】

クリーニングユニット２３０は、サクション部材２３１、洗浄部材２３２、超音波発生部材２３３、及び乾燥部材２３４が移動部材２１０の移動方向に順次配置される。すなわち、移動部材２１０が移動しながら移動部材２１０に設けられたカバー２２０が移動するが、カバー２２０の移動方向にサクション部材２３１、洗浄部材２３２、超音波発生部材２３３及び乾燥部材２３４が順次配置される。カバー２２０が移動すると、最初にサクション部材２３１によってカバー２２０の上面の異物パーティクルやインクが吸入される。この後、洗浄部材２３２によりカバー２２０の上面に洗浄液を噴射する。次に、超音波発生部材２３３により洗浄液を超音波振動させて洗浄効果を増大させる。最後に、乾燥部材２３４によって洗浄液で濡れたカバー２２０を乾燥させる。このように、最初はサクション部材２３１の吸入によって異物パーティクルやインクを除去した後、洗浄部材２３２の洗浄液噴射で固着された異物パーティクルやインクを除去する。また、洗浄時に超音波発生部材２３３で洗浄効果を高め、乾燥部材２３４によって洗浄液で濡れたカバー２２０を迅速に乾燥させる。このような順次的な過程を介して、カバー２２０の上面の異物パーティクル及びインクを効果的に除去することができる。

【0058】

図１１は、本発明の第７実施形態による基板処理機器の浮上ステージ目詰まり防止装置を示した図面である。

【0059】

図面を参照すると、本発明は基板感知センサＳをさらに含むことができる。基板感知センサＳは、ノズル３００が設けられたノズル支持体３１０に設けられ、ノズル３００の下側での基板１を感知する。基板１の塗布前にグリッパー２１１が基板１のローディングのために、基板ローディング位置に移動して待機する間、浮上ステージ１０において塗布浮上部分１２は基板１によって覆われなくなるが、このとき、ノズル３００の下側の基板１がない状態である基板１の部材（ａｂｓｅｎｓｅ）を基板感知センサＳが感知することができる。

【0060】

移動部材２１０は、浮上ステージ１０とノズル３００との間で移動するように構成される。このような移動部材２１０は、上述した実施形態とは異なって、グリッパー２１１ではなく別途の部材である移動体２１２であることができる。具体的に移動体２１２は、図示されたように、浮上ステージ１０の両側に配置されたレール１００に設けられる。このとき、レール１００はグリッパー２１１が設けられた部材であることができ、これとは別途の部材であることができる。また、移動体２１２は、制御部Ｃによって基板感知センサＳと電気的に連携される。このような移動体２１２は、基板感知センサＳがノズル３００の下側での基板１の部材感知時に浮上ステージ１０とノズル３００との間に移動する構造をとることができる。基板感知センサＳがノズル３００の下側の基板１の部材（基板１がない状態）を感知すると、移動体２１２はレール１００から移動しながら浮上ステージ１０とノズル３００との間に移動する。このとき、移動体２１２が周辺構成と干渉しないようにノズル３００が設けられたノズル支持体３１０は上昇することができる。これにより、移動体２１２に設けられたカバー２２０は、浮上ステージ１０においてノズル３００の下側に位置された塗布浮上部分１２の上面を覆うことができる。これにより、カバー２２０は、周辺にある異物のパーティクルが浮上ステージ１０から塗布浮上部分１２のエア孔１０ａに流入されることを防ぐことができる。また、カバー２２０は、ノズル３００に残っていたインクが落ちてエア孔１０ａに流入されることを防ぐことができる。具体的には、移動体２１２に含まれた駆動モータ（図示せず）は、基板感知センサＳと制御部Ｃによって電気的に連携されることができる。よって、移動体２１２は、基板感知センサＳのデータに基づいて制御部Ｃによって駆動モータが制御され、駆動モータによって移動する構造をとることができる。

【0061】

図１２は、本発明の第８実施形態による基板処理機器の浮上ステージ目詰まり防止装置を示した図面である。

【0062】

図面を参照すると、本発明は基板感知センサＳをさらに含むことができる。基板感知センサＳは、ノズル３００が設けられたノズル支持体３１０に設けられ、ノズル３００の下側での基板１を感知する。基板１の塗布前にグリッパー２１１が基板１のローディングのために基板ローディング位置に移動して待機する間、浮上ステージ１０における塗布浮上部分１２は、基板１によって覆われなくなるが、このとき、ノズル３００の下側の基板１がない状態である基板１の部材を基板感知センサＳが感知することができる。

【0063】

移動部材２１０は、浮上ステージ１０とノズル３００との間で移動するように構成される。このような移動部材２１０は、上述した実施形態とは異なって、グリッパー２１１ではなく別途の部材である回転体２１３であることができる。具体的に回転体２１３は、図示されたようにノズル支持体３１０に設けられる。また、回転体２１３は、制御部Ｃによって基板感知センサＳと電気的に連携される。このような回転体２１３は、基板感知センサＳがノズル３００の下側における基板１の部材感知時に浮上ステージ１０とノズル３００との間で回転する構造をとることができる。基板感知センサＳがノズル３００の下側の基板１の部材（基板１がない状態）を感知すると、回転体２１３は回転しながら浮上ステージ１０とノズル３００との間に移動する。このとき、回転体２１３が周辺構成と干渉しないようにノズル３００が設けられたノズル支持体３１０は上昇することができる。これによって、回転体２１３に設けられたカバー２２０は、浮上ステージ１０においてノズル３００の下側に位置された塗布浮上部分１２の上面を覆うことができる。これにより、カバー２２０は、周辺にある異物のパーティクルが浮上ステージ１０から塗布浮上部分１２のエア孔１０ａに流入されることを防ぐことができる。また、カバー２２０は、ノズル３００に残っていたインクが落ちてエア孔に流入されることを防ぐことができる。具体的には、図面のように回転体２１３に含まれた駆動モータ２１３ａが基板感知センサＳと制御部Ｃによって電気的に連携されることができる。よって、回転体２１３は、基板感知センサＳのデータに基づいて制御部Ｃにより駆動モータ２１３ａが制御され、駆動モータ２１３ａによって回転される構造をとることができる。

【0064】

図１３は、本発明の他の側面による基板処理方法を示したフローチャートである。

【0065】

図面を参照すると、本発明の基板処理方法は、基板ローディング段階Ｓ１００、カバーリング段階Ｓ１１０及び基板処理段階Ｓ２００を含む。

【0066】

上記基板ローディング段階Ｓ１００は、図４に示されたように、基板１のローディング位置にグリッパー２１１を移動させてグリッパー２１１に基板１をローディングする段階である。また、カバーリング段階Ｓ１１０は、図４に示されたように、基板１を浮上させる浮上ステージ１０側にカバー２２０を移動させ、すなわち浮上ステージ１０の上側に配置されたノズル３００と浮上ステージ１０との間にカバー２２０を移動させて浮上ステージ１０をカバーリングする段階である。最後に、基板処理段階Ｓ２００は、浮上ステージ１０側にグリッパー２１１を移動させて、浮上ステージ１０上で基板１を処理する段階である。このとき、基板１の処理は、ノズル３００によって薬液が塗布されるコーティング工程であることができる。

【0067】

このとき、カバー２２０がグリッパー２１１で基板１がローディングされる基板ローディング部分２１１ａとは反対側の部分であるカバー装着部分２１１ｂに設けられることができるが、このような設置構造によって基板ローディング段階Ｓ１００の進行時にカバーリング段階Ｓ１１０が行われる。すなわち、図４に示されたように、グリッパー２１１で基板１がローディングされる基板ローディング部分２１１ａが基板ローディング位置に移動する間、グリッパー２１１で基板１がローディングされる基板ローディング部分２１１ａとは反対側の部分であるカバー装着部分２１１ｂに設けられたカバー２２０は、ノズル３００と浮上ステージ１０との間に移動するようになる。さらに、グリッパー２１１に基板１がローディングされる間、カバー２２０はノズル３００と浮上ステージ１０との間に配置され、浮上ステージ１０をカバーリングする。

【0068】

このようにカバー２２０によって浮上ステージ１０がカバーリングされることで、周辺の異物パーティクルやノズル３００のインクが浮上ステージ１０のエア孔１０ａに落ちないようになる。すなわち、周辺の異物パーティクルやノズル３００のインクがカバー２２０に落ちることによって、異物パーティクルやインクが浮上ステージ１０のエア孔１０ａを詰めることを防止することができる。結果的に、エア孔１０ａを詰めている異物パーティクルやインクを除去するための浮上ステージ１０の洗浄作業が不要となるため、時間及び費用的な側面において生産性を向上させることができる。

【0069】

以上、添付された図面を参照して、本発明の実施形態を説明したが、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者は、本発明の技術的思想や必須の特徴を変更せず、他の具体的な形態で実施されることができるということが理解できる。それ故に、以上で記述した実施形態はすべての面で例示的なものであり、限定的ではないものと理解すべきである。

【符号の説明】

【0070】

１ 基板１０ 浮上ステージ
１０ａ エア孔１０ａａ エア噴出孔
１０ａｂ エア吸入孔１１ 入口浮上部分
１２ 塗布浮上部分１３ 出口浮上部分
１００ レール２００ 浮上ステージ目詰まり防止装置
２１０ 移動部材２１１ グリッパー
２１１ａ 基板ローディング部分２１１ｂ カバー装着部分
２１２ 移動体２１３ 回転体
２１３ａ 駆動モータ２２０ カバー
２２１ 落下防止顎２２２ 溝
２３０ クリーニングユニット２３１ サクション部材
２３２ 洗浄部材２３３ 超音波発生部材
２３４ 乾燥部材３００ ノズル
３１０ ノズル支持体Ｓ 基板感知センサ
Ｃ 制御部Ｐ パーティクル
Ｉ インクＳ１００ 基板ローディング段階
Ｓ１１０ カバーリング段階Ｓ２００ 基板処理段階

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】