特開2024-70339IP Force 特許公報全文掲載

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研磨スラリーの製造方法及び研磨スラリーに関する。詳しくは、化学機械研磨において、簡易な構成でありながら、被加工物の研磨能率を向上させることが可能な研磨スラリーの製造方法及び研磨スラリーに係るものである。

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】化学機械研磨において、簡易な構成でありながら、被加工物の研磨能率を向上させることが可能な研磨スラリーの製造方法及び研磨スラリーを提供する。
【解決手段】研磨スラリーＡは、溶媒となる純水に酸化クロム砥粒（Ｃｒ２Ｏ３）を含有しており、スラリー供給ボトル１に充填されている。また、スラリー供給ボトル１の内部には、研磨スラリーＡにオゾンガスＧを供給するオゾンガス供給部２が設けられている。また、スラリー供給ボトル１の下側には、ヒーター３が配置され、研磨スラリーＡを加熱している。また、スラリー供給ボトルＡは、その内部に撹拌子１０が配置されている。また、スラリー供給ボトル１の内部には、研磨スラリーＡに紫外光Ｌを照射する紫外光照射部４が設けられている。
【選択図】図１

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかしながら、従前の化学機械研磨に用いられる研磨スラリーでは、種々の材料に対する研磨加工において、効率が不充分であり、生産性を向上するために、研磨処理の加工能率を高めることが求められていた。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

［研磨スラリーの製造方法について］ の目的を達成するために、本発明の研磨スラリーの製造方法は、研磨砥粒と溶媒を混合した混合物にオゾンガスを供給するオゾンガス供給工程と、前記オゾンガス供給工程中に、前記混合物を加熱する加熱工程を備える。

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明を適用した研磨スラリーの製造方法及び研磨スラリーでは、化学機械研磨において、簡易な構成でありながら、被加工物の研磨能率を向上させることができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 （ａ）は、本発明を適用した研磨スラリーの製造方法を説明するための模式図であり、（ｂ）は、本発明を適用した研磨スラリーを用いた加工方法における加工装置を説明するための模式図である。
【図2】 ＧａＮを被加工物とした実施例１、実施例２、比較例１及び比較例２の加工能率を示すグラフである。
【図3】 ＳｉＣを被加工物とした実施例１、実施例２、比較例１及び比較例２の加工能率を示すグラフである。
【図4】 実施例３及び比較例３の研磨スラリーのＦＴ－ＩＲ（フーリエ変換赤外分光光度計）による解析結果のスペクトルである。
【図5】 実施例３及び比較例３の加工能率を示すグラフである。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

Ａ 研磨スラリー Ｇ オゾンガス Ｌ 紫外光 １ スラリー供給ボトル １０ 撹拌子 ２ オゾンガス供給部 ３ ヒーター ４ 真空紫外光照射部 ５ 加工装置 ６ 研磨定盤 ７ ＧａＮ ８ 試料ホルダー ９ 研磨パッド １００ スラリー供給部

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