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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024070850
(43)【公開日】2024-05-23
(54)【発明の名称】波形支持構造を有する電極カテーテル
(51)【国際特許分類】
A61B 5/287 20210101AFI20240516BHJP
A61B 18/14 20060101ALI20240516BHJP
【ＦＩ】
A61B5/287
A61B5/287 200
A61B18/14
【審査請求】未請求
【請求項の数】20
【出願形態】ＯＬ
【外国語出願】
(21)【出願番号】P 2023192161
(22)【出願日】2023-11-10
(31)【優先権主張番号】63/383,445
(32)【優先日】2022-11-11
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(31)【優先権主張番号】18/485,002
(32)【優先日】2023-10-11
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(71)【出願人】
【識別番号】511099630
【氏名又は名称】バイオセンス・ウエブスター・（イスラエル）・リミテッド
【氏名又は名称原語表記】Ｂｉｏｓｅｎｓｅ Ｗｅｂｓｔｅｒ （Ｉｓｒａｅｌ）， Ｌｔｄ．
(74)【代理人】
【識別番号】100088605
【弁理士】
【氏名又は名称】加藤 公延
(74)【代理人】
【識別番号】100130384
【弁理士】
【氏名又は名称】大島 孝文
(72)【発明者】
【氏名】ババク・エブラヒミ
(72)【発明者】
【氏名】ピーター・エメリウス・バン・ニーキルク
(72)【発明者】
【氏名】フアン・ロドリゲス・ソト
【テーマコード（参考）】
4C127
4C160
【Ｆターム（参考）】
4C127AA02
4C127BB05
4C127LL08
4C160KK03
4C160KK04
4C160KK16
4C160MM38
(57)【要約】
【課題】カテーテルエンドエフェクタを提供すること。
【解決手段】１つ又は２つ以上の波形支柱を含む支持フレームを有するエフェクタが、本明細書に提示される。支柱の波形は、同様の厚さの直線状非波形支柱と比較して、支柱の横方向剛性を増加させ、支柱の軸方向屈曲剛性を減少させる。波形の幾何学形状は、エンドエフェクタの電極間の所望の空間的関係を維持しながら、エンドエフェクタの組織への共形接触を提供するように選択され得る。選択され得る幾何学形状は、起伏の振幅、起伏の波長、及びエンドエフェクタ内の特定の幾何学形状の設置を含むことができる。
【選択図】図２Ａ
【解決手段】１つ又は２つ以上の波形支柱を含む支持フレームを有するエフェクタが、本明細書に提示される。支柱の波形は、同様の厚さの直線状非波形支柱と比較して、支柱の横方向剛性を増加させ、支柱の軸方向屈曲剛性を減少させる。波形の幾何学形状は、エンドエフェクタの電極間の所望の空間的関係を維持しながら、エンドエフェクタの組織への共形接触を提供するように選択され得る。選択され得る幾何学形状は、起伏の振幅、起伏の波長、及びエンドエフェクタ内の特定の幾何学形状の設置を含むことができる。
【選択図】図２Ａ
【特許請求の範囲】
【請求項1】
カテーテルであって、
長手方向軸に沿って延在し、かつ前記長手方向軸に直交する第１の直交軸において振幅を有する起伏を含む波形支柱と、
前記波形支柱の少なくとも一部分の周りに配設され、かつ前記起伏の前記振幅よりも大きい幅を含む電気絶縁構造体であって、前記幅が、前記長手方向軸に直交し、かつ前記第１の直交軸に直交する第２の直交軸に沿って測定されたものである、電気絶縁構造体と、
前記電気絶縁構造体に結合された１つ又は２つ以上の電極と、を備える、カテーテル。
長手方向軸に沿って延在し、かつ前記長手方向軸に直交する第１の直交軸において振幅を有する起伏を含む波形支柱と、
前記波形支柱の少なくとも一部分の周りに配設され、かつ前記起伏の前記振幅よりも大きい幅を含む電気絶縁構造体であって、前記幅が、前記長手方向軸に直交し、かつ前記第１の直交軸に直交する第２の直交軸に沿って測定されたものである、電気絶縁構造体と、
前記電気絶縁構造体に結合された１つ又は２つ以上の電極と、を備える、カテーテル。
【請求項2】
各々が前記長手方向軸に沿って延在し、各々が前記第１の直交軸において起伏を含む、複数の波形支柱と、
前記複数の波形支柱の周りに配設された１つ又は２つ以上の電気絶縁構造体と、
前記１つ又は２つ以上の電気絶縁構造体上に配設された電極のアレイと、を更に備える、請求項１に記載のカテーテル。
前記複数の波形支柱の周りに配設された１つ又は２つ以上の電気絶縁構造体と、
前記１つ又は２つ以上の電気絶縁構造体上に配設された電極のアレイと、を更に備える、請求項１に記載のカテーテル。
【請求項3】
前記電極のアレイが、前記第１の直交軸に直交する平面内に配置されている、請求項２に記載のカテーテル。
【請求項4】
前記起伏の前記振幅は、前記第１の直交軸に沿って間隙を画定し、前記１つ又は２つ以上の電極が、主に、前記間隙の外側に配設されている、請求項１に記載のカテーテル。
【請求項5】
前記起伏の波長は、前記波形支柱の長さに沿って変化する、請求項１に記載のカテーテル。
【請求項6】
前記長手方向軸に沿って延在するシャフトと、
前記シャフトの遠位端に配設されたエンドエフェクタであって、前記波形支柱と、前記電気絶縁構造体と、前記１つ又は２つ以上の電極とを備える、エンドエフェクタと、を更に備える、請求項１に記載のカテーテル。
前記シャフトの遠位端に配設されたエンドエフェクタであって、前記波形支柱と、前記電気絶縁構造体と、前記１つ又は２つ以上の電極とを備える、エンドエフェクタと、を更に備える、請求項１に記載のカテーテル。
【請求項7】
前記波形支柱と、前記電気絶縁構造体と、前記１つ又は２つ以上の電極とを備える直線状スパインを更に備え、前記１つ又は２つ以上の電極が、前記電気絶縁構造体を取り囲むリング電極を備え、前記リング電極が、前記起伏の前記振幅よりも大きい内径を含む、請求項１に記載のカテーテル。
【請求項8】
前記直線状スパインの前記電気絶縁構造体が、内部を通る管腔を有する細長い部材を備え、前記波形支柱の少なくとも一部分が、前記管腔を通って延在し、前記波形支柱が中を通って延在する前記細長い部材の幅が、前記管腔内の前記波形支柱の前記一部分の前記起伏の前記振幅よりも大きい、請求項７に記載のカテーテル。
【請求項9】
前記電気絶縁構造体が、前記第１の直交軸に直交する一対の平面膜を備え、前記波形支柱が、前記一対の平面膜の間に位置付けられている、請求項１に記載のカテーテル。
【請求項10】
前記１つ又は２つ以上の電極が、前記波形支柱の両側の前記一対の平面膜上に互いに反対に位置付けられた一対の電極を備える、請求項９に記載のカテーテル。
【請求項11】
カテーテルのエンドエフェクタであって、
前記カテーテルの長手方向軸が前記エンドエフェクタの平面に平行であり、第１の直交軸が前記エンドエフェクタの前記平面に直交し、第２の直交軸が前記長手方向軸に直交し、かつ前記第１の直交軸に直交するような平面構成で配置された複数のループ部材と、
前記複数のループ部材のうちの第１のループ部材を通って延在する第１の波形支柱を備える第１の支持フレームと、を備える、エンドエフェクタ。
前記カテーテルの長手方向軸が前記エンドエフェクタの平面に平行であり、第１の直交軸が前記エンドエフェクタの前記平面に直交し、第２の直交軸が前記長手方向軸に直交し、かつ前記第１の直交軸に直交するような平面構成で配置された複数のループ部材と、
前記複数のループ部材のうちの第１のループ部材を通って延在する第１の波形支柱を備える第１の支持フレームと、を備える、エンドエフェクタ。
【請求項12】
前記複数のループ部材のうちの第２のループ部材を通って延在する第２の波形支柱を備える第２の支持フレーム、を更に備える、請求項１１に記載のエンドエフェクタ。
【請求項13】
前記第１の波形支柱が、前記第２の波形支柱に平行であり、前記長手方向軸に平行に延在する、請求項１２に記載のエンドエフェクタ。
【請求項14】
前記複数のループ部材が、前記長手方向軸に平行な外側スパインを備え、前記第１の波形支柱及び前記第２の波形支柱が、前記外側スパイン内にそれぞれ位置付けられた、請求項１２に記載のエンドエフェクタ。
【請求項15】
前記複数のループ部材が、前記長手方向軸に平行な内側スパインを備え、前記第１の波形支柱及び前記第２の波形支柱が、前記内側スパイン内にそれぞれ位置付けられた、請求項１２に記載のエンドエフェクタ。
【請求項16】
前記複数のループ部材が、前記第１のループ部材と、第２のループ部材と、第３のループ部材と、を備え、
前記第１のループ部材及び前記第３のループ部材が各々、外側スパイン及び内側スパインをそれぞれ備え、
前記第２のループ部材が、前記第１のループ部材及び前記第２のループ部材の外側スパインと内側スパインとの間に各々中心スパインを備える、請求項１２に記載のエンドエフェクタ。
前記第１のループ部材及び前記第３のループ部材が各々、外側スパイン及び内側スパインをそれぞれ備え、
前記第２のループ部材が、前記第１のループ部材及び前記第２のループ部材の外側スパインと内側スパインとの間に各々中心スパインを備える、請求項１２に記載のエンドエフェクタ。
【請求項17】
前記第１の波形支柱が、前記第１のループ部材の遠位湾曲部分上に位置付けられている、請求項１１に記載のエンドエフェクタ。
【請求項18】
前記第１のループ部材が、前記第１の支持フレームを少なくとも部分的に囲む第１の管状ハウジングを備え、前記第１の管状ハウジングが、前記第１の波形支柱の起伏の振幅よりも大きい幅を含み、前記幅が、前記第２の直交軸に沿って測定されたものであり、前記振幅が、前記第１の直交軸に沿って測定されたものである、請求項１１に記載のエンドエフェクタ。
【請求項19】
前記第１のループ部材が、前記第１の支持フレームを少なくとも部分的に囲む管状ハウジングを備え、前記エンドエフェクタが、
前記管状ハウジング上に配設され、かつ前記エンドエフェクタの前記平面内に直線的に配置された１つ又は２つ以上の電極を更に備え、前記１つ又は２つ以上の電極が、前記管状ハウジングを取り囲むリング電極を備え、前記リング電極が、前記第１の波形支柱の起伏の振幅よりも大きい内径を含み、前記振幅が、前記第１の直交軸に沿って測定されたものである、請求項１８に記載のエンドエフェクタ。
前記管状ハウジング上に配設され、かつ前記エンドエフェクタの前記平面内に直線的に配置された１つ又は２つ以上の電極を更に備え、前記１つ又は２つ以上の電極が、前記管状ハウジングを取り囲むリング電極を備え、前記リング電極が、前記第１の波形支柱の起伏の振幅よりも大きい内径を含み、前記振幅が、前記第１の直交軸に沿って測定されたものである、請求項１８に記載のエンドエフェクタ。
【請求項20】
前記第１の波形支柱の起伏の波長が、前記第１の波形支柱の長さに沿って変化する、請求項１１に記載のエンドエフェクタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
（関連出願の相互参照）
本出願は、２０２２年１１月１１日に出願された先行出願の米国特許仮出願第６３／３８３，４４５号の優先権を主張するものであり、この仮出願は、その全体が本明細書に記載されているように、参照により本明細書に組み込まれる。
本出願は、２０２２年１１月１１日に出願された先行出願の米国特許仮出願第６３／３８３，４４５号の優先権を主張するものであり、この仮出願は、その全体が本明細書に記載されているように、参照により本明細書に組み込まれる。
【0002】
（技術分野）
本発明は、概して、カテーテルベースの医療デバイスに関し、特に、多電極エンドエフェクタを有するカテーテルに関する。
本発明は、概して、カテーテルベースの医療デバイスに関し、特に、多電極エンドエフェクタを有するカテーテルに関する。
【背景技術】
【0003】
心房細動などの心不整脈は、心組織の領域から隣接組織に電気信号が異常に伝導する場合に発生し、これにより、正常な心周期が乱されて非同期的リズムを引き起こす。望ましくない信号源は、心房又は心室の組織に位置する場合がある。望ましくない信号は、心臓組織を通って他の箇所に伝導し、不整脈を引き起こすか、又は不整脈を継続させる場合がある。
【0004】
不整脈を治療するための処置は、心内膜及び心容積の電気的特性をマッピングすることと、典型的には無線周波数（radiofrequency、ＲＦ）信号、より最近では、不可逆性電気穿孔（irreversible electroporation、ＩＲＥ）を誘導するためのパルス信号の形態の電気エネルギーの印加によって心臓組織を選択的にアブレーションすることと、を含むことができる。この処置を通して、心臓のある部分から他の部分への望ましくない電気信号の伝播を停止又は修正することが可能である。アブレーション過程では、非伝導病巣の形成によって望ましからざる電路を壊す。
【0005】
この処置は、典型的には、多電極エンドエフェクタを有する少なくとも１つのカテーテルを利用する。そのような多電極エンドエフェクタは、組織をマッピング及び／又はアブレーションするように構成されている。多電極エンドエフェクタは、いくつかの幾何学形状があり、典型的な幾何学形状は、球形、平面、及びレイ形状である。いくつかの多電極エンドエフェクタは、処置中にエンドエフェクタが操作される際にエンドエフェクタに構造的支持を提供するスパインを含む。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【0006】
本明細書に提示される実施例は、概して、１つ又は２つ以上の波形支柱を含む支持フレームを有するカテーテルエンドエフェクタを含む。支柱の波形は、同様の厚さの直線状非波形支柱と比較して、支柱の横方向剛性を増加させ、支柱の軸方向屈曲剛性を減少させる。波形の幾何学形状は、エンドエフェクタの電極間の所望の空間的関係を維持しながら、エンドエフェクタの組織への共形接触を提供するように選択され得る。選択され得る波形の幾何学形状は、起伏の振幅、起伏の波長、及びエンドエフェクタ内の特定の幾何学形状の設を含むことができる。電極設置を支持するために剛性又は半剛性支持フレームを現在利用する様々な幾何学形状を有するエンドエフェクタは、本発明の態様による１つ又は２つ以上の波形支柱を含むように修正され得る。本開示は、まだ開発されていないエンドエフェクタ幾何学形状に波形支柱を含めることを更に企図する。
【0007】
例示的なカテーテルは、波形支柱と、波形支柱の少なくとも一部分の周りに配設された電気絶縁構造体と、電気絶縁構造体に結合された１つ又は２つ以上の電極と、を含むことができる。波形支柱は、長手方向軸に沿って延在し得、長手方向軸に直交する第１の直交軸において振幅を有する起伏を有することができる。電気絶縁構造体は、起伏の振幅よりも大きい幅を有することができる。幅は、長手方向軸に直交し、かつ第１の直交軸に直交する第２の直交軸に沿って測定されたものである。
【0008】
カテーテルは、複数の波形支柱と電極のアレイとを更に含むことができる。支柱は各々、長手方向軸に沿って延在し得、各々第１の直交軸において起伏を有することができる。１つ又は２つ以上の電気絶縁構造体は、複数の波形支柱の周りに配設され得る。電極のアレイは、１つ又は２つ以上の電気絶縁構造体上に配設され得る。電極のアレイは、第１の直交軸に直交する平面内に配置され得る。
【0009】
起伏の振幅は、第１の直交軸に沿って間隙を画定し得、１つ又は２つ以上の電極が、主に、間隙の外側に配設されている。間隙は、起伏の山と谷との間に延在する柱として画定され得る。したがって、スパインを取り囲む電極は、第１の直交軸に沿った起伏の振幅よりも大きく寸法決めされている。
【0010】
起伏の波長は、波形支柱の長さに沿って変化することができる。
【0011】
カテーテルは、シャフトと、エンドエフェクタと、を更に含むことができる。シャフトは、長手方向軸に沿って延在し得る。エンドエフェクタは、シャフトの遠位端に配設され得る。エンドエフェクタは、波形支柱と、電気絶縁構造体と、１つ又は２つ以上の電極とを含むことができる。エンドエフェクタは、平面構成、マルチレイ構成、バスケット構成、又はラッソ構成を有することができる。
【0012】
カテーテルは、波形支柱と、電気絶縁構造体と、１つ又は２つ以上の電極とを含む直線状スパインを更に含むことができる。直線状スパインの絶縁構造体は、内部を通る管腔を有する細長い部材を備えることができ、波形支柱の少なくとも一部分が、管腔を通って延在する。波形支柱が中を通って延在する細長い部材の幅は、管腔内の波形支柱の一部分の起伏の振幅よりも大きくすることができる。細長い部材は、円形の外面を有することができる。
【0013】
１つ又は２つ以上の電極は、波形支柱を取り囲むリング電極を含むことができる。リング電極は、起伏の振幅よりも大きい内径を有することができる。
【0014】
絶縁構造体は、第１の直交軸に直交する一対の平面基板を含むことができ、波形支柱が、一対の平面基板間に位置付けられている。１つ又は２つ以上の電極は、波形支柱の両側の一対の平面基板上に互いに反対に位置付けられた一対の電極を含むことができる。
【0015】
カテーテルの例示的なエンドエフェクタは、複数のループ部材と、第１の支持フレームと、を含むことができる。カテーテルの長手方向軸がエンドエフェクタの平面に平行であり、第１の直交軸がエンドエフェクタの平面に直交し、第２の直交軸が長手方向軸に直交し、かつ第１の直交軸に直交するような平面構成で複数のループ部材が配置され得る。第１の支持フレームは、複数のループ部材のうちの第１のループ部材を通って延在する第１の波形支柱を含むことができる。
【0016】
エンドエフェクタは、複数のループ部材のうちの第２のループ部材を通って延在する第２の波形支柱を含む第２の支持フレームを更に含むことができる。第１の波形支柱は、第２の波形支柱に平行であり得る。第１の波形支柱及び第２の波形支柱は、長手方向軸に平行に延在し得る。
【0017】
複数のループ部材は、長手方向軸に平行な外側スパインを含むことができる。第１の波形支柱及び第２の波形支柱は、外側スパイン内にそれぞれ位置付けられ得る。複数のループ部材は、長手方向軸に平行な内側スパインを含むことができる。第１の波形支柱及び第２の波形支柱が外側スパイン内に位置付けられている代替例として、第１の波形支柱及び第２の波形支柱は、内側スパイン内にそれぞれ位置付けられ得る。エンドエフェクタは、外側スパイン、かつ同様に内側スパイン、又はそれらの何らかのサブコンビネーションを通る波形支柱を含むことができる。
【0018】
複数のループ部材は、第１のループ部材、第２のループ部材、及び第３のループ部材を含むことができる。第１のループ部材及び第３のループ部材は各々、外側スパイン及び内側スパインをそれぞれ含むことができる。第２のループ部材は、第１のループ部材及び第２のループ部材の外側スパインと内側スパインとの間に各々中心スパインを含むことができる。
【0019】
エンドエフェクタは、第２の支持フレーム及び第３の支持フレームを更に含むことができる。第２の支持フレームは、第２のループ部材を通って延在し得る。第３の支持フレームは、第３のループ部材を通って延在し得る。第１の支持フレームは、第１のループ部材の長さの大部分にわたって波形であり得る。第３の支持フレームは、第３のループ部材の長さの大部分にわたって波形であり得る。第２の支持フレームは、非波形であり得る。
【0020】
第１の波形支柱は、第１のループ部材の遠位湾曲部分上に位置付けられ得る。
【0021】
第１のループ部材は、第１の支持フレームを少なくとも部分的に囲む第１の管状ハウジングを含むことができる。管状ハウジングは、円形の外面を有することができる。
【0022】
第１の管状ハウジングは、第１の波形支柱の起伏の振幅よりも大きい幅を有することができる。幅は、第２の直交軸に沿って測定され得る。起伏の振幅は、第１の直交軸に沿って測定され得る。
【0023】
エンドエフェクタは、第１の管状ハウジング上に配設された１つ又は２つ以上の電極を更に含むことができる。１つ又は２つ以上の電極は、直線状に配置された複数の電極を含むことができる。複数の電極は、エンドエフェクタの平面内にあり得る。
【0024】
１つ又は２つ以上の電極は、波形支柱を取り囲むリング電極を含むことができる。リング電極は、第１の波形支柱の起伏の振幅よりも大きい内径を有することができる。振幅は、第１の直交軸に沿って測定され得る。
【0025】
第１の波形支柱の起伏の波長は、第１の波形支柱の長さに沿って変化し得る。
【0026】
カテーテルの別の例示的なエンドエフェクタは、電極のアレイと、複数の細長い支柱とを含むことができる。電極のアレイは、平面内に配置され得る。平面は、カテーテルの長手方向軸に沿って、第１の直交軸に直交して延在し得る。複数の波形支柱は各々、長手方向軸に沿って延在し得る。支柱は各々、電極のアレイの空間配置を維持するように構成され得る。
【0027】
エンドエフェクタは、長手方向軸に沿って延在する複数のスパインを更に含むことができる。複数の波形支柱は、複数のスパインを通って延在し得る。電極のアレイは、複数のスパイン上に配設され得る。
【0028】
エンドエフェクタは、略平面の第１の表面を画定するように、エンドエフェクタの第１の側で１つ又は２つ以上の支柱によって支持される第１の膜を更に含むことができる。電極のアレイは、第１の表面に取り付けられ得る。エンドエフェクタは、第１の表面に平行な略平面の第２の表面を画定するように、エンドエフェクタの第２の側で１つ又は２つ以上の支柱によって支持される第２の膜を更に含むことができる。
【図面の簡単な説明】
【0029】
本発明の上記及び更なる態様は、添付の図面と併せて以下の説明を参照して更に考察され、様々な図面において、同様の数字は、同様の構造要素及び特徴を示す。図面は、必ずしも縮尺どおりではなく、代わりに、本発明の原理を例示することに主眼が置かれている。図は、限定としてではなく単なる例解として、本発明のデバイスの１つ又は２つ以上の実装形態を描写している。
【図1】本発明の態様による、カテーテルの遠位部分にあるエンドエフェクタと、カテーテルの近位部分にある近位ハンドルとを有するカテーテルの図である。
【図2A】本発明の態様による、エンドエフェクタの支持フレームの等角投影図の図である。
【図3A】本発明の態様による、エンドエフェクタの別の支持フレームの図である。
【図3B】本発明の態様による、エンドエフェクタの別の支持フレームの図である。
【図4A】本発明の態様による、スパインの一部分の図である。
【図5A】本発明の態様による、スパインの長さに沿って変化する波長を有するスパインの断面の図である。
【図5B】本発明の態様による、スパインの長さに沿って変化する可変振幅を有するスパインの断面の図である。
【図5C】本発明の態様による、スパインの長さに沿って変化する可変厚さを有するスパインの断面の図である。
【図5D】本発明の態様による、波形の波の形状の図である。
【図6A】本発明の態様に係る、様々な力を加えることによる例示的な支持フレームの変形の図である。
【図6B】本発明の態様に係る、様々な力を加えることによる例示的な支持フレームの変形の図である。
【図6C】本発明の態様に係る、様々な力を加えることによる例示的な支持フレームの変形の図である。
【図6D】本発明の態様に係る、様々な力を加えることによる例示的な支持フレームの変形の図である。
【図7A】本発明の態様による、別の例示的なカテーテルの図である。
【図8】本発明の態様による、レイ形状の別の例示的なエンドエフェクタの図である 。
【図9】本発明の態様による、バスケット形状を有する別の例示的なエンドエフェクタの図である。
【図10】本発明の態様による、円形又はラッソ形状を有する別の例示的なエンドエフェクタの図である。
【図11】本発明の態様による、例示的なカテーテルベースの電気生理学的マッピング及びアブレーションシステムの図である。
【発明を実施するための形態】
【0030】
以下の詳細な説明は、図面を参照しながら読まれるべきものであり、異なる図面における同様の要素には同一の番号が付けられている。図面は、必ずしも縮尺どおりとは限らず、選択された実施形態を示しており、また本発明の範囲を限定することを意図していない。詳細な説明は、限定ではなく例として本発明の原理を示す。本明細書は、当業者が本発明を作製及び使用することを明らかに可能にし、また本発明を実施するための最良の態様であると現在考えられているものを含めて、本発明のいくつかの実施形態、適応例、変形例、代替物及び使用を説明する。
【0031】
本明細書で使用される場合、任意の数値又は範囲に対する「約」又は「ほぼ」という用語は、構成要素の一部又は集合が本明細書に記載の意図された目的のために機能することを可能にする好適な寸法公差を示す。より具体的には、「約」又は「ほぼ」は、列挙された値の±１０％の値の範囲を指してもよく、例えば、「約９０％」は、８１％～９９％の値の範囲を指してもよい。
【0032】
更に、本明細書で使用される場合、「患者」、「宿主」、「ユーザ」、及び「対象」という用語は、任意のヒト又は動物対象を指し、ヒト患者における本発明の使用が好ましい実施形態を表すが、システム又は方法をヒトの使用に限定することを意図するものではない。同様に、「近位」という用語は、操作者に近い方の位置を示す一方、「遠位部」は、操作者又は医師から更に遠い位置を示す。
【0033】
本明細書に記載の教示、表現、変形例、実施例などのうちのいずれか１つ又は２つ以上は、本明細書に記載の他の教示、表現、変形例、実施例などのうちのいずれか１つ又は２つ以上と組み合わせることができる。したがって、以下に記載されている教示、表現、変形例、実施例などは、互いに単独で考慮されるべきではない。本明細書の教示に照らして、本明細書の教示を組み合わせることができる種々の好適な方法が、当業者には容易に明らかとなろう。このような修正例及び変形例は、特許請求の範囲に含まれることが意図される。
【0034】
多電極エンドエフェクタは、電極設置を支持するための剛性又は半剛性支持フレームを含むことができる。支持フレームは、ニチノール又は他の生体適合性材料を含むことができ、絶縁材料、電極、電極への導体、及び他のエンドエフェクタ構成要素が支持フレーム上に装着される。支持フレームは、エンドエフェクタが操作されて組織に対向する際に、電極間の空間的関係を維持するように構成されている。特定のカテーテル幾何学形状、特に平面エンドエフェクタ幾何学形状に関して、機械的設計要件は、相反する可能性があり、設計上の妥協をもたらす。例えば、図６Ａ～図６Ｄに示される負荷条件の間では、図６Ａ及び図６Ｂに示される負荷条件下での変形に抵抗するように増大した横方向剛性を有する一方で、図６Ｄに示される負荷条件下での屈曲を可能にするように最小限の軸方向剛性を有し、また、図６Ｃに示されるように負荷条件の範囲内での変形に抵抗して変形を可能にするように屈曲剛性を維持することが望ましい。
【0035】
本明細書に提示される実施例では、エンドエフェクタの支持フレームの１つ又は２つ以上の支柱は、波形であり得る。支柱の波形は、同様の厚さの直線状非波形支柱と比較して、支柱の横方向剛性を増加させ、支柱の軸方向屈曲剛性を減少させる。波形の幾何学形状は、エンドエフェクタの電極間の所望の空間的関係を維持しながら、エンドエフェクタの組織への共形接触を提供するように選択され得る。選択され得る幾何学形状は、起伏の振幅、起伏の波長、及びエンドエフェクタ内の特定の幾何学形状の設置を含むことができる。波形支柱は、平面エンドエフェクタに特に有利であり得るが、波形支柱はまた、エンドエフェクタ支持フレームの所望の機械的機能性を達成するために、多くの他のエンドエフェクタ幾何学形状において使用されることもできる。波形は、改善された共形組織接触を達成するのに特に有利であり得、したがって、線維柱帯及び櫛状筋肉構造におけるより高いマッピング詳細を達成するのに特に有利であってもよい。
【0036】
図１は、カテーテル１００の遠位部分におけるエンドエフェクタ１１０と、カテーテル１００の近位部分における近位ハンドル１０６と、ハンドル１０６とエンドエフェクタ１１０との間に延在するシャフト１０９とを含むカテーテル１００の図である。細長いシャフト１０９は、細長いカテーテル本体の形状にある近位部分１０２と、中間偏向部分１０４と、遠位部分１０４Ａと、を有する。偏向制御ハンドル１０６は、カテーテル本体１０２の近位端に取り付けられる。シャフト１０９の遠位部分１０４Ａは、コネクタ管１０５を介してエンドエフェクタ１１０に結合される。細長いシャフト１０９は、脈管系を通過するようにサイズ決めされるか、他の方法で構成された管状カテーテル本体を形成する。エンドエフェクタ１１０は、複数のループ部材１、２、３を有し、複数のループ部材１、２、３は、共通の遠位頂点５０で重なり合い、当該遠位頂点にて機械的リンク部によって締結されている。
【0037】
デバイスが拘束されておらず、かつ整列しているとき、近位部分１０２、中間セクション１０４、遠位部分１０４Ａ、及びエンドエフェクタ１１０は、長手方向軸Ｌ－Ｌに沿って略一直線になる。中間セクション１０４は、長手方向軸Ｌ－Ｌから遠位部分１０４Ａ及びエンドエフェクタ１１０を偏向させるように曲がるように構成され得る。
【0038】
エンドエフェクタ１１０は、ガイドシース又はカテーテル（図示せず）内に収まるように、折り畳まれる（長手方向軸Ｌ－Ｌに向かって圧縮する）ことができる。シャフト１０９を遠位側に押すことによって、エンドエフェクタ１１０を、ガイドシースを通して遠位側に移動させることができる。エンドエフェクタ１１０は、シャフト１０９及び／又は制御ハンドル１０６の操作により、ガイドシースの遠位端から出るように移動させることができる。この目的のために好適なガイドシースの一例は、Ｂｉｏｓｅｎｓｅ Ｗｅｂｓｔｅｒ，Ｉｎｃ．（Ｉｒｖｉｎｅ、Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ、ＵＳＡ）より市販されているＰｒｅｆａｃｅ Ｂｒａｉｄｅｄ Ｇｕｉｄｉｎｇ Ｓｈｅａｔｈである。
【0039】
エンドエフェクタ１１０は、第１のループ部材１、第２のループ部材２、及び第３のループ部材３を有する。各ループ部材１、ループ部材２、ループ部材３は、２つのスパイン１Ａ、スパイン１Ｂ、スパイン２Ａ、スパイン２Ｂ、スパイン３Ａ、スパイン３Ｂと、それぞれのループ部材１、ループ部材２、ループ部材３の２つのスパインを接続するコネクタ１Ｃ、コネクタ２Ｃ、コネクタ３Ｃを有する。第１のループ部材１のスパイン１Ａ、スパイン１Ｂは、第１のコネクタ１Ｃによって接続され、第２のループ部材２のスパイン２Ａ、スパイン２Ｂは、第２のコネクタ２Ｃによって接続され、第３のループ部材３のスパイン３Ａ、スパイン３Ｂは、第３のコネクタ３Ｃによって接続されている。コネクタ１Ｃ、２Ｃ、３Ｃは、示されたような弓形部材とすることができるか、又は代替的な形状を有することができる。
【0040】
エンドエフェクタ１００が、図１に示されるように、非拘束構成に拡張されている場合には、各ループ部材１、２、３に関して、それぞれのスパインの対中の、スパイン１Ａ、１Ｂ、２Ａ、２Ｂ、３Ａ、３Ｂは、それぞれの長さの大部分に沿って実質的に互いに平行であり得る。エンドエフェクタ１１０は、ループ部材１、２、３のうちの１つ又は２つ以上を通って延在する１つ又は２つ以上の支持フレームを含む支持フレームアセンブリを含むことができる。支持フレームアセンブリは、スパインの所望の横方向剛性を提供し、かつスパインの屈曲剛性を減少させるためにスパイン１Ａ、１Ｂ、２Ａ、２Ｂ、３Ａ、３Ｂのうちの一部又は全部を通る１つ又は２つ以上の波形支柱を含むことができる。波形の幾何学形状は、エンドエフェクタの電極間の所望の空間的関係を維持しながら、エンドエフェクタの組織への共形接触を提供するように選択され得る。
【0041】
好ましくは、エンドエフェクタ１００が非拘束構成にあるとき、エンドエフェクタの全てのスパインは、それらのそれぞれの長さの大部分に沿って互いに平行である。エンドエフェクタは、概して平面Ｐ１内にある電極３７のアレイを提供する。拘束されていないとき、エンドエフェクタ１１０がハンドル１０６及びシャフト１０９の操作によって平面に押し付けられるときに、電極３７は各々平面に接触し、正確に平面になるように、電極はほぼ同一平面上にある。シャフト１０９の中間セクション１０４が偏向されていないときに、長手方向軸Ｌ－Ｌは、平面Ｐ１に平行である。第１の直交軸Ｏ１は、平面Ｐ１及び長手方向軸Ｌ－Ｌに直交する。第２の直交軸Ｏ２は、長手方向軸Ｌ－Ｌ及び第１の直交軸Ｏ１に直交する。平面Ｐ１は、第２の直交軸Ｏ２に平行である。
【0042】
各スパイン１Ａ、１Ｂ、２Ａ、２Ｂ、３Ａ、３Ｂは、約５～５０ｍｍの範囲、好ましくは約１０～３５ｍｍの範囲、より好ましくは約２８ｍｍの長さを有してもよい。各スパイン１Ａ、１Ｂ、２Ａ、２Ｂ、３Ａ、３Ｂの平行な部分は、約１ｍｍ～約２０ｍｍの範囲、好ましくは約２～１０ｍｍの範囲、より好ましくは約４ｍｍの距離だけ互いに離間してもよい。代替的には、スパインの少なくとも一部の平行な部分が、接触し得るか、個別のスパインが、固着され得るか、又は複数の支柱が単一スパインを通って延在し得る。各スパイン１Ａ、１Ａ、１Ｂ、２Ａ、２Ｂ、３Ａ、３Ｂは、好ましくは、スパイン部材あたり少なくとも８つの電極を担持する。エンドエフェクタは、好ましくは、示されるように６つのスパインを含む。６つのスパインが８個の電極を有する場合、エンドエフェクタ１００は４８個の電極を含む。スパインの数、電極の数、スパインの寸法、及び電極の間隔は、特定のエンドエフェクタ設計の設計目的を満たすように変化し得る。
【0043】
シャフト１０９の遠位部分１０４Ａの近くには、遠位電極１０３Ｄ及び近位電極１０３Ｐが位置付けられている。電極１０３Ｄ及び１０３Ｐは、一緒になって（例えば、一方の電極の一部分をマスキングし、他方の電極の異なる部分をマスキングすることによって）基準電極（組織と接触していない電極）を画定するように構成され得る。米国特許第５，９４４，０２２号、同第５，９８３，１２６号、及び同第６，４４５，８６４号に記載されているように、１つ以上のインピーダンス検知電極１０３Ｒを、インピーダンス位置検知技術による位置検知を可能にするように構成することができ、これらの複製が、参照により本明細書に組み込まれ、優先権特許出願米国第６３／３８３，４４５号の付録に添付される。シャフト１０９の遠位部分１０４上の電極１０３Ｄ、１０３Ｐ、１０３Ｒの構成及び設置は、特定のカテーテル設計の設計目的を満たすように変更され得る。
【0044】
図２Ａは、非拘束構成にあるエンドエフェクタの支持フレームアセンブリ１８０の等角投影図の図である。支持フレームアセンブリ１８０は、第１の支持フレーム１８１、第２の支持フレーム１８２、及び第３の支持フレーム１８３を含む。第１の支持フレーム１８１は波形であり、第３の支持フレーム１８３は波形である。第２の支持フレーム１８２は波形ではない。支持フレームアセンブリ１８０は、当業者によって理解されるように、第１の支持フレーム１８１及び第３の支持フレーム１８３のループ経路を修正することによって、又は第１のループ１及び第３のループ３のループ経路を修正することによって、図１に示されるエンドエフェクタ１１０と同様のエンドエフェクタを支持するように構成され得る。支持フレーム１８１、１８２、１８３は、プラスチック若しくは金属の切り出し（cut-off）シート、プラスチック若しくは金属の丸形ワイヤ、プラスチック若しくは金属の正方形ワイヤ、又は他の好適な生体適合性材料を含むことができる。好ましい実施形態では、支持フレームは、例えばニチノールなどの形状記憶材料から作製される。
【0045】
図２Ｂは、図２Ａに示される支持フレームアセンブリ１８０の平面図の図である。エンドエフェクタが拘束されていないときに、それぞれの支持フレーム１８１、１８２、１８３の各々は、（例えば、図１に示されたループ部材１、２、３と同様の）それぞれのループ部材のそれぞれのループ経路を画定する。各支持フレーム１８１、１８２、１８３は、エンドエフェクタ１００の（例えば、図１に示されたスパイン１Ａ、２Ａ、３Ａ、１Ｂ、２Ｂ、３Ｂと同様の）対応するスパインを通って延在するそれぞれの平行セグメント１８１ａ、１８２ａ、１８３ａ、１８１ｂ、１８２ｂ、１８３ｂを含む。各支持フレーム１８１、１８２、１８３は、それぞれのループ部材の対応する近位セグメントを通って延在するそれぞれの近位セグメント１８１ｄ、１８２ｄ、１８３ｄ、１８１ｅ、１８２ｅ、１８３ｅを含む。エンドエフェクタ１１０をシャフト１０９に接合させるために、近位セグメント１８１ｄ、１８２ｄ、１８３ｄ、１８１ｅ、１８２ｅ、１８３ｅは、コネクタ管１０５内に延在する。各支持フレーム１８１、１８２、１８３は、それぞれの一対の平行セグメント１８１ａ、１８２ａ、１８３ａ、１８１ｂ、１８２ｂ、１８３ｂの間に延在し、それぞれのループ部材の（例えば、図１に示されたコネクタ１Ｃ、２Ｃ、３Ｃと同様の）それぞれのコネクタを通るそれぞれの接続セグメント１８１ｃ、１８２ｃ、１８３ｃを含む。
【0046】
第１の支持フレーム１８１及び第３の支持フレーム１８３の接続セグメント１８１ｃ、１８３ｃは各々、第１の支持フレーム１８１及び第３の支持フレーム１８３の接続セグメント１８１ｃ、１８３ｃが支持フレームアセンブリ１８０の遠位頂点において互いに重なり合わないように、第２の支持フレーム１８２の接続セグメント１８２ｃの頂点の近くにそれぞれの屈曲部１８１ｆ、１８３ｆを含むことができる。
【0047】
図２Ａ及び図２Ｂに示された支持フレームアセンブリ１８０は、４つの波形支柱１８１ａ、１８１ｂ、１８３ｂ、１８３ａを含む。波形支柱は、互いに平行であり、ほぼ平面である。代替的には、支持フレームアセンブリ１８０の６つの支柱１８１ａ、１８２ａ、１８１ｂ、１８３ｂ、１８２ａ、１８３ａの任意の組み合わせは、波形であることができる。好ましくは、少なくとも外側支柱１８１ａ、１８３ａは、図６Ａ及び図６Ｂに示される負荷条件下でエンドエフェクタの変形に抵抗するために、増加した横方向剛性を提供するように波形である。したがって、第１の支持フレーム１８１の内側スパイン１８１ｂ、第３の支持フレーム１８３の内側スパイン１８３ｂ、第２の支持フレーム１８２の中央スパイン１８２ａ、１８２ｂ、及び任意の組み合わせは、図６Ｄに示される付加条件下での屈曲を可能にするように軸方向剛性を低減するように波形にされ得る。
【0048】
波形は、波形支柱１８１ａ、１８１ｂ、１８３ｂ、１８３ａの全長に沿って示されているが、波形支柱１８１ａ、１８１ｂ、１８３ｂ、１８３ａの１つ又は複数の部分は、支持フレームアセンブリ１８０の所望の機械的機能性を提供するために非波形であり得る。更に、波形は、波形支柱１８１ａ、１８１ｂ、１８３ｂ、１８３ａの全長に沿って均一であるように示されているが、振幅及び／又は波長などの波形の幾何学形状は、波形支柱１８１ａ、１８１ｂ、１８３ｂ、１８３ａの長さに沿って変化して、支持フレームアセンブリ１８０の所望の機械的機能性を提供することができる。
【0049】
接続セグメント１８１ｃ、１８２ｃ、１８３ｃは波形であり得る。示されるように、第１の支持フレーム１８１の接続セグメント１８１ｃ及び第３の支持フレーム１８３の接続セグメント１８３ｃは波形である。これらの接続セグメント１８１ｃ、１８３ｃの波形は、図６Ａ及び／又は図６Ｂに示される負荷条件下での変形に対する抵抗を増加させることができる。接続セグメント１８１ｃ、１８２ｃ、１８３ｃのいずれかの波形を利用して、図６Ｃに示された負荷条件下で支持フレームアセンブリ１８０の所望の変形を達成することができる。
【0050】
支持フレームアセンブリ１８０は、それぞれの支持フレーム１８１、１８２、１８３のループ経路に沿って略均一な幅及び厚さを有する支持フレームを有して示されているが、支持フレームの断面は、支持フレームアセンブリ１８０の所望の機械的機能性を提供するために、ループ経路に沿って変化し得る。例えば、支持フレームの断面積は、参照により本明細書に組み込まれ、優先権特許出願米国第６３／３８３，４４５号の付録に添付されている米国特許出願公開第２０２１／０３６９３３９号に開示されているものと同様に変化させることができる。
【0051】
図３Ａ及び図３Ｂは、代替的な平面エンドエフェクタ支持フレームアセンブリ構成の図である。多数の代替的な平面エンドエフェクタ幾何学形状は、本開示による関連技術の当業者によって理解されるように、波形を含むことができる。
【0052】
図３Ａは、図１に示されたエンドエフェクタ１１０と同様のループ経路を有するエンドエフェクタの代替的な支持フレーム２８０の図である。第１の支持フレーム２１８は、第１の支持フレーム２８１、第２の支持フレーム２８２、及び第３の支持フレーム２８３を含む。各支持フレーム２８１、２８２、２８３は、エンドエフェクタ１１０の対応するスパイン１Ａ、２Ａ、３Ａ、１Ｂ、２Ｂ、３Ｂを通って延在するそれぞれの平行セグメント２８１Ａ、２８２Ａ、２８３Ａ、２８１Ｂ、２８２Ｂ、２８３Ｂを含む。各支持フレーム２８１、２８２、２８３は、それぞれのループ部材１、２、３の対応する近位セグメントを通って延在するそれぞれの近位セグメント２８１Ｄ、２８２Ｄ、２８３Ｄ、２８１Ｅ、２８２Ｅ、２８３Ｅを含む。エンドエフェクタ１１０をシャフト１０９に接合させるために、近位セグメント２８１Ｄ、２８２Ｄ、２８３Ｄ、２８１Ｅ、２８２Ｅ、２８３Ｅは、コネクタ管１０５内に延在する。各支持フレーム２８１、２８２、２８３は、平行セグメント２８１Ａ、２８２Ａ、２８３Ａ、２８１Ｂ、２８２Ｂ、２８３Ｂのそれぞれの対の間に、それぞれのループ部材１、２、３のそれぞれの接続セグメント１Ｃ、２Ｃ、３Ｃを通って延在するそれぞれの接続セグメント２８１Ｃ、２８２Ｃ、２８３Ｃを含む。
【0053】
平行セグメント２８１Ａ、２８２Ａ、２８３Ａ、２８１Ｂ、２８２Ｂ、２８３Ｂは、拘束されていないときにほぼ同一平面上にあり、シャフト１０９の近位部分１０２がエンドエフェクタ１１０を平面に押し付けるように操作されるときに正確に同一平面上になることができる。
【0054】
支持フレーム２８１、２８２、２８３のいずれかの部分は、所望の機械的機能性を達成するために波形であり得る。
【0055】
図３Ｂは、第１の支持フレーム３８１、第２の支持フレーム３８２、及び第３の支持フレーム３８３を含むエンドエフェクタの別の支持フレームアセンブリ３８０の図である。支持フレーム３８１、３８２、３８３は、共通の遠位頂点５０で重なり合う。支持フレームアセンブリ３８０は、図２Ａ、図２Ｂ、及び図３Ａに示された例示的な支持フレーム１８０、２８０の近位セグメント及び平行セグメントと同様に構成された近位セグメント３８１Ｄ、３８２Ｄ、３８３Ｄ及び平行セグメント３８１Ａ、３８１Ｂ、３８２Ａ、３８２Ｂ、３８３Ａ、３８３Ｂを含む。
【0056】
第１の支持フレーム３８１は、第１の対の平行セグメント３８１Ａ、３８１Ｂの遠位端間に湾曲形状を有する第１の接続部材３８１Ｃを含む。第２の支持フレーム３８２は、平行セグメント３８２Ａ、３８２Ｂの遠位端から延在し、長手方向軸Ｌ－Ｌから離れ、遠位に曲がり、長手方向軸Ｌ－Ｌに向かって曲がる一対の湾曲部３８２Ｆを有する第２の接続部材３８２Ｃを含む。第２の接続部材３８２Ｃは、一対の湾曲部３８２Ｆの間に湾曲形状の円弧を有する。第３の支持フレーム３８３は、平行セグメント３８３Ａ、３８３Ｂの遠位端から延在し、長手方向軸Ｌ－Ｌから離れ、遠位に曲がり、長手方向軸Ｌ－Ｌに向かって曲がる一対の湾曲部３８３Ｆを有する第３の接続部材３８３Ｃを含む。第２の接続部材３８３Ｃは、一対の湾曲部３８３Ｆの間に湾曲形状の円弧を有する。
【0057】
平行セグメント３８１Ａ、３８１Ｂ、３８２Ａ、３８２Ｂ、３８３Ａ、３８３Ｂの各々は、長手方向軸Ｌ－Ｌに対して平行に測定した場合に、長さが互いにほぼ等しくなり得る。同様に、エンドエフェクタのスパインは、長手方向軸Ｌ－Ｌに平行に測定して、互いにほぼ等しい長さとすることができる。
【0058】
支持フレーム３８１、３８２、３８３の各々は、ループ経路に沿って変化するループ経路に直交する断面形状を有するそれぞれのループ経路を画定することができる。断面形状は、屈曲部３８１Ｋ、３８２Ｋにおいてより小さい面積を有することができる。断面形状は、平行セグメント３８１Ａ、３８１Ｂ、３８２Ａ、３８２Ｂ、３８３Ａ、３８３Ｂを通るループ経路の大部分と比較して、接続部材３８１Ｃ、３８２Ｃ、３８３Ｃを通るループ経路の大部分にわたってより小さい面積を有することができる。
【0059】
示された支持フレームアセンブリ３８０は、３つの支持フレーム３８１、３８２、３８３を含む。代替的には、支持フレームアセンブリ３８０は、第１の支持フレーム３８１と同様に構成された外側支持フレームと、第２の支持フレーム３８２と同様に構成された内側支持フレームと、第３の支持フレーム３８３とを含む２つの支持フレームを含むことができる。
【0060】
支持フレーム３８１、３８２、３８３のいずれかの部分は、所望の機械的機能性を達成するために波形であり得る。
【0061】
図４Ａは、スパイン１の部分の図である。スパイン１は、１つ又は２つ以上の電極１３７を担持し、支持フレームの支柱８１によって支持される、エンドエフェクタの一部分を含む。示されたスパイン１は直線状である。代替的には、開口部１は湾曲され得る。示されるように、スパイン１は、長手方向軸Ｌ－Ｌと直線状に整列され、スパイン１上の電極１３７は、長手方向軸Ｌ－Ｌとに整列される。
【0062】
【0063】
【0064】
図４Ｂ及び図４Ｃをまとめて参照すると、スパイン１は、それを通る管腔を有する細長い部材９０と、細長い部材９０の管腔を通って延在する灌注チューブ９６と、細長い部材９０の管腔を通って延在する波形支柱８１と、細長い部材９０の管腔を通って延在する導電体４０（例えば、ワイヤ）と、細長い部材９０の外面に結合された電極１３７と、を含む。細長い部材９０は、電極１３７を担持するように構成された例示的な電気絶縁構造体である。細長い部材９０は、示されるように、外管を含むことができる。外管は、示されるような円形断面、楕円形断面、長方形断面、又は当業者によって理解されるような代替的な断面を有することができる。電極１３７は、示されるように細長い部材９０を取り囲むリング形状を有することができるか、又はスポット形状であるか、若しくは当業者によって理解されるような他の形状を有することができる。灌注チューブ９６は任意選択である。導電体４０は、示されるように絶縁ワイヤを含むことができ、代替的な断面形状を有することができ、フレックス回路に取り付けられ得るか、又は当業者によって理解されるように他の方法で構成され得る。
【0065】
細長い部材９０は、第２の直交軸Ｏ２に沿って、長手方向軸Ｌ－Ｌに直交して測定される幅Ｗ１を有する。支柱８１は、細長い部材９０の幅Ｗ１よりも小さい第２の直交軸Ｏ２に沿った幅Ｗ２を有する。支柱８１は、第１の直交軸Ｏ１に沿って測定される振幅Ａ１を有する起伏を有する。振幅Ａ１は、細長い部材９０の幅Ｗ１よりも小さい。支柱８１は、厚さＴ１を有する。支柱８１を収容する細長い部材９０は、示された長さにわたって実質的に直線状であるが、支柱は、複数の山及び谷（示された２周期の起伏）を有して起伏する。細長い部材９０は、示されるように円形である必要はなく、第２の直交方向Ｏ２と比較して第１の直交方向Ｏ１により長い楕円形であってもよい。この場合、振幅Ａ１は、細長い部材９０の幅Ｗ１よりも大きくてもよく、細長い部材９０は、支柱の複数周期の起伏にわたって実質的に直線状のままである。例えば、支柱の振幅Ａ１は、細長い部材９０の幅Ｗ１の１．５倍であってもよい。
【0066】
電極１３７は、細長い部材９０を取り囲むリング形状であり得る。したがって、電極１３７の内径は、支柱８１の幅Ｗ２よりも大きく、支柱８１の起伏の振幅Ａ１よりも大きくすることができる。起伏Ａ１の振幅は、スパイン１の経路（例えば、示されるように直線状）が起伏に従わないように、十分に小さい。起伏は、振幅Ａ１が間隙を画定し、かつ電極が完全に間隙の外側に配設されるように成形される。電極１３７の内径は、支柱８１が、起伏の形状に従う電極１３７の配置なしに電極１３７を通って延在するように、振幅Ａ１よりも大きい。これは、リング電極の直径よりも大きい振幅を有する波の形状を有する支持フレームを有するエンドエフェクタ支持体とは対照的であり、そのようなリング電極は、必然的に、より大きい振幅の波の形状の谷と山との間に位置付けられる電極の少なくとも一部分を有する。
【0067】
代替として、起伏は、振幅Ａ１が間隙を画定するように成形され得、スパイン８１は、電極１３７が主に間隙の外側に配設されるように、わずかに起伏に追従することができる。
【0068】
図５Ａは、スパイン８１の長さに沿って変化する可変波長λ１、λ１を有するスパインの断面の図である。波長λ１、λ１は、支持フレームアセンブリの所望の機械的特性を達成するために変化させることができる。
【0069】
図５Ｂは、スパイン８１の長さに沿って変化する可変振幅Ａ１、Ａ２を有するスパインの断面の図である。振幅Ａ１、Ａ２は、支持フレームアセンブリの所望の機械的特性を達成するために変化させることができる。
【0070】
図５Ｃは、スパイン８１の長さに沿って変化する可変厚さＴ１、Ｔ２を有するスパインの断面の図である。厚さＴ１、Ｔ２は、支持フレームアセンブリの所望の機械的特性を達成するために変化させることができる。
【0071】
図５Ｄは、波形の波の形状の図である。起伏は、図４Ｃ及び図５Ａに示されたようなものと同様の正弦波、図５Ｂ及び図５Ｃに示されたようなものと同様の半月、図５Ｄに示されたような三角波、三角若しくはジグザグ、図５Ｄに示されたような他の波形の波の形状、又は当技術分野で知られているような他の波形の波の形状とすることができる。デューティサイクルなどの波形の波の形状の他の寸法は、支持フレームアセンブリの所望の機械的特性を達成するために変化させることができる。スパイン８１は、支持フレームアセンブリの所望の機械的特性を達成するために、異なるセクションにわたって異なる波の形状を有することができる。
【0072】
図６Ａ、図６Ｂ、図６Ｃ、及び図６Ｄは、様々な力を加えることによる例示的な支持フレームアセンブリ８０の変形の図である。例示的な支持フレームアセンブリ８０は、第１の支持フレーム８１、第２の支持フレーム８２、及び第３の支持フレーム８３を含む。
【0073】
図６Ａは、ウェッジＷから支持フレームアセンブリ８０の第３の支持フレーム８３の外側支柱８３Ｂへの横方向の力Ｆ１を加えることを示す。第１の支持フレーム８１の反対側の外側支柱は、平面Ｓに当接している。変形により、第３の支持フレーム８３の外側支柱８３Ｂが第２の支持フレーム８２の支柱に接触することがもたらされる。外側支柱８３Ｂ上に担持される電極と第２の支持フレーム８２の隣接する支柱によって担持される電極との間の分離を維持するために、エンドエフェクタ使用中に支持フレームアセンブリ８０のこのタイプの変形に抵抗するように支持フレームアセンブリ８０を設計することが望ましいことがある。外側支柱８３Ｂを波形にすることは、同様の厚さの非波形支柱と比較して、図示された変形に抵抗するように外側支柱８３Ｂを強化してもよい。
【0074】
図６Ｂは、支持フレームアセンブリ８０の外側支柱８３Ｂ、８１Ａに対する２つの平面Ｓ１、Ｓ２からの横方向の力Ｆ２を加えることを示す。変形により、外側支柱８３Ｂ、８１Ａが第２の支持フレーム８２の支柱に接触することがもたらされる。外側支柱８３Ｂ、８１Ａ上に担持される電極と第２の支持フレーム８２のそれぞれ隣接する支柱によって担持される電極との間の分離を維持するために、エンドエフェクタ使用中に支持フレームアセンブリ８０のこのタイプの変形に抵抗するように支持フレームアセンブリ８０を設計することが望ましいことがある。外側支柱８３Ｂ、８１Ａを波形にすることは、同様の厚さの非波形支柱と比較して、図示された変形に抵抗するように外側支柱８３Ｂ、８１Ａを強化してもよい。
【0075】
図６Ｃは、支持フレームアセンブリ８０の接続セグメント８１Ｃ、８３Ｃに加えられる平面Ｓからの軸方向の力Ｆ３の図である。接続セグメント８１Ｃ、８３Ｃ及び支持フレームアセンブリ８０の他の部分は、軸方向の力Ｆ３の結果として所望の偏向を提供するように波形であり得る。
【0076】
図６Ｄは、支持フレームアセンブリ８０の遠位端に加えられる屈曲負荷の力Ｆ４の図である。屈曲負荷の力Ｆ４は、長手方向軸Ｌ－Ｌからの支持フレームアセンブリ８０の偏向をもたらす。エンドエフェクタが組織に押し付けられたときにエンドエフェクタが容易に組織に共形となるように、屈曲負荷の力Ｆ４による偏向を可能にすることが望ましいことがある。平行セグメント及び支持フレームアセンブリ８０の他の部分は、屈曲負荷の力Ｆ４の結果として所望の偏向を提供するように波形であり得る。
【0077】
図７Ａは、実質的に平面の別の例示的なエンドエフェクタ７１０の図である。
【0078】
【0079】
図７Ａ及び図７Ｂをまとめて参照すると、エンドエフェクタ７１０は、第１の膜７１２ａ、第１の電極７３７ａ、第２の膜７１２ｂ、第２の電極７３７ｂ、波形支柱８１、及び可撓性充填材７１４（例えば、ポリマー）を含む。第１の膜７１２ａは、エンドエフェクタ７１０の第１の側７０１ａに位置付けられ得、第２の膜７１２ｂは、エンドエフェクタ７１０の第２の側７０１ｂに位置付けられ得る。第１の電極７３７ａは、第１の表面７０１ａ上で周囲環境に露出された第１の膜７１２ａに結合され得る。第２の電極７３７ｂは、第２の膜７１２ｂに結合され、第２の表面７０１ｂ上で周囲環境に露出され得る。
【0080】
波形支柱８１は、第１の膜７１２ａと第２の膜７１２ｂとの間に位置付けられる。膜７１２ａ、７１２ｂは、互いに平行であり、第１の直交軸に直交することができる。波形支柱８１の振幅は、間隙を画定することができ、電極７３７ａ、７３７ｂは、間隙の完全に外側に配設され得る。第１の電極７３７ａの少なくとも一部分は、電極７３７ａ、７３７ｂの１つ又は２つ以上の対が、波形支柱８１の両側の一対の平面膜７１２ａ、７１２ｂ上で互いに反対に位置付けられるように、第２の電極７３７ｂの少なくとも一部分に反対に位置付けられ得る。
【0081】
図８は、レイ形状を有する別の例示的なエンドエフェクタ４００の図である。スパイン４１０は、シャフト４０９の遠位端に接合された近位端と、自由遠位端とを有する。スパイン４１０のうちの１つ又は２つ以上は、図４Ａ～図４Ｃに示されたスパイン１と同様に構成され得る。
【0082】
図９は、バスケット形状を有する別の例示的なエンドエフェクタ５００の図である。スパイン５１０は、シャフト５０９の遠位端に接合される近位端と、ハブにおいて接合される遠位端と、を有する。スパイン５１０のうちの１つ又は２つ以上は、図４Ａ～図４Ｃに示されたスパイン１と同様に構成され得る。
【0083】
図１０は、円形又はラッソ形状を有する別の例示的なエンドエフェクタ６００の図である。エンドエフェクタ６００は、シャフト６０９から延在する単一スパイン６１０を含む。カテーテルは、スパインを直線構成から円形形状に移動させるためにスパイン６１０及びシャフト６０９を通って延在するプルワイヤを含むことができ、及び／又はスパイン６１０内の支柱は、拘束されていないときにスパイン６１０をラッソ形状に移動させるように事前設定され得る。スパイン６１０は、図４Ａ～図４Ｃに示されたスパイン１と同様に構成され得る。
【0084】
図１１は、例示的なカテーテルベースの電気生理学的マッピング及びアブレーションシステム１０を示す図である。システム１０は、患者の血管系を通じて、心臓１２の腔又は血管構造内に医師２４によって経皮的に挿入される複数のカテーテルを含む。典型的には、送達シースカテーテルは、心臓１２内の所望の場所付近の左心房又は右心房に挿入される。その後、複数のカテーテルを送達シースカテーテルに挿入して、所望の場所に到達させることができる。複数のカテーテルは、心内電位図（Intracardiac Electrogram、ＩＥＧＭ）信号の検知専用のカテーテル、アブレーション専用のカテーテル、及び／又は検知及びアブレーションの両方に専用のカテーテルを含んでもよい。ＩＥＧＭを検知するように構成された例示的なカテーテル１４が本明細書に示されている。医師２４は、心臓１２の標的部位を検知するために、カテーテル１４の遠位先端部２８を心臓壁と接触させる。アブレーションのために、医師２４は、同様に、アブレーションカテーテルの遠位端をアブレーションのための標的部位に運ぶ。
【0085】
示されたカテーテル１４は、遠位先端部２８において複数のスパイン２２にわたって任意選択で分布し、ＩＥＧＭ信号を検知するように構成された１つ、好ましくは複数の電極２６を含む例示的なカテーテルである。カテーテル１４は、遠位先端部２８の位置及び配向を追跡するために、遠位先端部２８内又はその近くに埋め込まれた位置センサ２９を更に含むことができる。任意選択的にかつ好ましくは、位置センサ２９は、三次元（three-dimensional、３Ｄ）位置及び配向を検知するための３つの磁気コイルを含む磁気に基づく位置センサである。当業者に理解されるように、カテーテル１４は、他の方法で、本明細書に提示される他の例示的なカテーテル、それらの変形例、及びそれらの代替物と同様に構成され得る。遠位部分２８は、１つ又は２つ以上の波形支柱を含むことができる。
【0086】
磁気に基づく位置センサ２９は、所定の作業体積内に磁場を生成するように構成された複数の磁気コイル３２を含む位置パッド２５とともに動作してもよい。カテーテル１４の遠位先端部２８のリアルタイム位置は、位置パッド２５を用いて生成され、磁気に基づく位置センサ２９によって検知される磁場に基づいて追跡されてもよい。磁気ベースの位置検知技術の詳細は、米国特許第５，３９１，１９９号、同第５，４４３，４８９号、同第５，５５８，０９１号、同第６，１７２，４９９号、同第６，２３９，７２４号、同第６，３３２，０８９号、同第６，４８４，１１８号、同第６，６１８，６１２号、同第６，６９０，９６３号、同第６，７８８，９６７号、同第６，８９２，０９１号、これらは参照により本明細書に組み込まれ、また、優先権特許出願米国第６３／３８３，４４５号の付録に添付されている。
【0087】
システム１０は、位置パッド２５の位置基準及び電極２６のインピーダンスベースの追跡を確立するために、患者２３上の皮膚接触のために位置付けられた１つ又は２つ以上の電極パッチ３８を含む。インピーダンスベースの追跡のために、電流が電極２６に向けられ、電極皮膚パッチ３８において検知され、それにより、各電極の位置を、電極パッチ３８を介して三角測量することができる。インピーダンスベースの場所追跡技術の詳細は、米国特許第７，５３６，２１８号、同第７，７５６，５７６号、同第７，８４８，７８７号、同第７，８６９，８６５号、及び同第８，４５６，１８２号に記載され、これらは参照により本明細書に組み込まれ、また、優先権特許出願米国第６３／３８３，４４５号の付録に添付されている。
【0088】
レコーダ１１は、体表面ＥＣＧ電極１８で捕捉された電位図２１と、カテーテル１４の電極２６で捕捉された心内電位図（ＩＥＧＭ）とを表示する。レコーダ１１は、心拍リズムをペーシングするためのペーシング能力を含んでもよく、及び／又は独立型ペーサに電気的に接続されてもよい。
【0089】
システム１０は、アブレーションするように構成されたカテーテルの遠位先端部にある１つ又は２つ以上の電極にアブレーションエネルギーを伝達するように適合されたアブレーションエネルギー発生器５１を含むことができる。アブレーションエネルギー発生器５１によって生成されるエネルギーは、不可逆性電気穿孔（ＩＲＥ）をもたらすために使用され得るような単極又は双極高電圧ＤＣパルスを含む、無線周波数（ＲＦ）エネルギー若しくはパルス場アブレーション（pulsed-field ablation、ＰＦＡ）エネルギー、又はそれらの組み合わせを含み得るが、それらに限定されない。
【0090】
患者インターフェースユニット（patient interface unit、ＰＩＵ）３０は、カテーテル、電気生理学的機器、電源、及びシステム１０の動作を制御するためのワークステーション５５の間の電気通信を確立するように構成されたインターフェースである。システム１０の電気生理学的機器は、例えば、複数のカテーテル、場所パッド２５、体表面ＥＣＧ電極１８、電極パッチ３８、アブレーションエネルギー発生器５１、及びレコーダ１１を含んでもよい。任意選択的に、かつ好ましくは、ＰＩＵ３０は、カテーテルの場所のリアルタイム計算を実施するため、かつＥＣＧ計算を実行するための処理能力を含む。
【0091】
ワークステーション５５は、メモリと、適切なオペレーティングソフトウェアがロードされたメモリ又は記憶装置を有するプロセッサユニットと、ユーザインターフェース機能とを含む。ワークステーション５５は、複数の機能を提供するように構成することができ、任意選択的に、（１）心内膜解剖学的構造を三次元（３Ｄ）でモデル化し、そのモデル又は解剖学的マップ２０を表示デバイス２７に表示するためにレンダリングすることと、（２）表示デバイス２７上に、記録された電位図２１からコンパイルされた活性化シーケンス（又は他のデータ）を、レンダリングされた解剖学的マップ２０上に重ね合わされた代表的な視覚的印又は画像で表示することと、（３）心腔内の複数のカテーテルのリアルタイムの場所及び配向を表示することと、（４）アブレーションエネルギーが印加されたところなどの関心部位を表示デバイス２７上に表示することとを含む。システム１０の各要素を具現化する１つの市販製品は、Ｂｉｏｓｅｎｓｅ Ｗｅｂｓｔｅｒ，Ｉｎｃ．３１Ａ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｄｒｉｖｅ，Ｉｒｖｉｎｅ，ＣＡ，９２６１８、から市販されている、ＣＡＲＴＯ（登録商標）３システムとして入手可能である。
【0092】
以下の条項は、本開示の非限定的な実施形態を列挙する。
【0093】
条項１．カテーテルであって、長手方向軸に沿って延在し、かつ長手方向軸に直交する第１の直交軸において振幅を有する起伏を含む波形支柱と、波形支柱の少なくとも一部分の周りに配設され、かつ起伏の振幅よりも大きい幅を含む電気絶縁構造体であって、幅が、長手方向軸に直交し、かつ第１の直交軸に直交する第２の直交軸に沿って測定されたものである、電気絶縁構造体と、電気絶縁構造体に結合された１つ又は２つ以上の電極と、を備える、カテーテル。
【0094】
条項２．各々が長手方向軸に沿って延在し、各々が第１の直交軸において起伏を含む、複数の波形支柱と、複数の波形支柱の周りに配設された１つ又は２つ以上の電気絶縁構造体と、１つ又は２つ以上の電気絶縁構造体上に配設された電極のアレイと、を更に備える、条項１に記載のカテーテル。
【0095】
条項３．電極のアレイが、第１の直交軸に直交する平面内に配置されている、条項２に記載のカテーテル。
【0096】
条項４．起伏の振幅は、第１の直交軸に沿って間隙を画定し、１つ又は２つ以上の電極が、主に、間隙の外側に配設されている、条項１～３のいずれか１つに記載のカテーテル。
【0097】
条項５．起伏の波長は、波形支柱の長さに沿って変化する、条項１～４のいずれか１つに記載のカテーテル。
【0098】
条項６．長手方向軸に沿って延在するシャフトと、シャフトの遠位端に配設されたエンドエフェクタであって、波形支柱と、電気絶縁構造体と、１つ又は２つ以上の電極とを備える、エンドエフェクタと、を更に備える、条項１～５のいずれか１つに記載のカテーテル。
【0099】
条項７．エンドエフェクタは、平面構成、マルチレイ構成、バスケット構成、又はラッソ構成を含む、条項６に記載のカテーテル。
【0100】
条項８．波形支柱と、電気絶縁構造体と、１つ又は２つ以上の電極とを備える直線状スパインを更に備える、条項１～７のいずれか１つに記載のカテーテル。
【0101】
条項９．直線状スパインの電気絶縁構造体が、内部を通る管腔を有する細長い部材を備え、波形支柱の少なくとも一部分が、管腔を通って延在し、波形支柱が中を通って延在する細長い部材の幅が、管腔内の波形支柱の一部分の起伏の振幅よりも大きい、条項８に記載のカテーテル。
【0102】
条項１０．細長い部材が、円形の外面を含む、条項９に記載のカテーテル。
【0103】
条項１１．１つ又は２つ以上の電極が、波形支柱を取り囲むリング電極を備え、リング電極は、起伏の振幅よりも大きい内径を含む、条項１～１０のいずれか１つに記載のカテーテル。
【0104】
条項１２．電気絶縁構造体が、第１の直交軸に直交する一対の平面膜を備え、波形支柱が、一対の平面膜の間に位置付けられている、条項１～７のいずれか１つに記載のカテーテル。
【0105】
条項１３．１つ又は２つ以上の電極は、波形支柱の両側の一対の平面膜上に互いに反対に位置付けられた一対の電極を備える、条項１２に記載のカテーテル。
【0106】
条項１４．カテーテルのエンドエフェクタであって、カテーテルの長手方向軸がエンドエフェクタの平面に平行であり、第１の直交軸がエンドエフェクタの平面に直交し、第２の直交軸が長手方向軸に直交し、かつ第１の直交軸に直交するような平面構成で配置された複数のループ部材と、複数のループ部材のうちの第１のループ部材を通って延在する第１の波形支柱を備える第１の支持フレームと、を備える、エンドエフェクタ。
【0107】
条項１５．複数のループ部材のうちの第２のループ部材を通って延在する第２の波形支柱を備える第２の支持フレーム、を更に備える、条項１４に記載のエンドエフェクタ。
【0108】
条項１６．第１の波形支柱が、第２の波形支柱に平行である、条項１５に記載のエンドエフェクタ。
【0109】
条項１７．第１の波形支柱及び第２の波形支柱が、長手方向軸に平行に延在する、条項１５又は１６に記載のエンドエフェクタ。
【0110】
条項１８．複数のループ部材が、長手方向軸に平行な外側スパインを備え、第１の波形支柱及び第２の波形支柱が、外側スパイン内にそれぞれ位置付けられた、条項１５～１７のいずれか１つに記載のエンドエフェクタ。
【0111】
条項１９．複数のループ部材が、長手方向軸に平行な内側スパインを備え、第１の波形支柱及び第２の波形支柱が、内側スパイン内にそれぞれ位置付けられた、条項１５～１７のいずれか１つに記載のエンドエフェクタ。
【0112】
条項２０．複数のループ部材が、第１のループ部材、第２のループ部材、及び第３のループ部材を備え、第１のループ部材及び第３のループ部材が各々、外側スパイン及び内側スパインをそれぞれ備え、第２のループ部材が、第１のループ部材及び第２のループ部材の外側スパインと内側スパインとの間に各々中心スパインを備える、条項１５～１９のいずれか１つに記載のエンドエフェクタ。
【0113】
条項２１．第２のループ部材を通って延在する第２の支持フレームと、第３のループ部材を通って延在する第３の支持フレームと、を更に備える、条項２０に記載のエンドエフェクタ。
【0114】
条項２２．第１の支持フレームが、第１のループ部材の長さの大部分にわたって波形であり、第３の支持フレームが、第３のループ部材の長さの大部分にわたって波形である、条項２１に記載のエンドエフェクタ。
【0115】
条項２３．第２の支持フレームが、非波形である、条項２１又は２２に記載のエンドエフェクタ。
【0116】
条項２４．第１の波形支柱が、第１のループ部材の遠位湾曲部分上に位置付けられている、条項１４に記載のエンドエフェクタ。
【0117】
条項２５．第１のループ部材は、第１の支持フレームを少なくとも部分的に囲む第１の管状ハウジングを備える、条項１４～２４のいずれか１つに記載のエンドエフェクタ。
【0118】
条項２６．管状ハウジングは、円形の外面を含む、条項２５に記載のエンドエフェクタ。
【0119】
条項２７．第１の管状ハウジングが、第１の波形支柱の起伏の振幅よりも大きい幅を含み、幅が、第２の直交軸に沿って測定されたものであり、振幅が、第１の直交軸に沿って測定されたものである、条項２５又は２６に記載のエンドエフェクタ。
【0120】
条項２８．第１の管状ハウジング上に配設された１つ又は２つ以上の電極を更に備える、条項２５～２７のいずれか１つに記載のエンドエフェクタ。
【0121】
条項２９．１つ又は２つ以上の電極が、直線的に配置された複数の電極を含む、条項２８に記載のエンドエフェクタ。
【0122】
条項３０．複数の電極が、エンドエフェクタの平面内にある、条項２９に記載のエンドエフェクタ。
【0123】
条項３１．１つ又は２つ以上の電極が、波形支柱を取り囲むリング電極を備える、条項２８～２９のいずれか１つに記載のエンドエフェクタ。
【0124】
条項３２．リング電極が、第１の波形支柱の起伏の振幅よりも大きい内径を備え、振幅は、第１の直交軸に沿って測定されたものである、条項３１に記載のエンドエフェクタ。
【0125】
条項３３．第１の波形支柱の起伏の波長が、第１の波形支柱の長さに沿って変化する、条項１４～３２のいずれか１つに記載のエンドエフェクタ。
【0126】
条項３４．カテーテルのエンドエフェクタであって、カテーテルの長手方向軸に沿って、かつ第１の直交軸に直交する平面内に配置された電極のアレイと、各々が長手方向軸に沿って延在し、かつ電極のアレイの空間配置を維持するように構成された複数の波形支柱と、を備える、エンドエフェクタ。
【0127】
条項３５．長手方向軸に沿って延在する複数のスパインを更に備え、複数の波形支柱が、複数のスパインを通って延在し、電極アレイが複数のスパイン上に配設されている、条項３４に記載のエンドエフェクタ。
【0128】
条項３６．略平面の第１の表面を画定するためにエンドエフェクタの第１の側で１つ又は２つ以上の支柱によって支持された第１の膜であって、電極のアレイが、第１の表面に取り付けられている、第１の膜と、第１の表面に平行な略平面の第２の表面を画定するためにエンドエフェクタの第２の側で１つ又は２つ以上の支柱によって支持された第２の膜と、を更に備える、条項３４に記載のエンドエフェクタ。
【0129】
本発明に含まれる主題の例示的な実施形態について図示及び説明したが、本明細書に記載の方法及びシステムの更なる適合は、特許請求の範囲から逸脱することなく適切な修正によって達成することができる。更に、上記の方法及びステップが特定の順序で発生する特定の事象を示す場合、特定のステップは、説明された順序で実行される必要はなく、ステップが、実施形態がそれらの意図された目的のために機能することを可能にする限り、任意の順序で実行されることが意図される。したがって、本開示の趣旨の範囲内であるか、又は特許請求の範囲に見出される本発明と同等である本発明の変形例が存在する限り、本特許はそれらの変形例も包含することが意図されている。一部のそのような修正は、当業者には明らかであるはずである。例えば、上述の実施例、実施形態、幾何学的形状、材料、寸法、比率、ステップなどは、例示的なものである。したがって特許請求の範囲は、明細書及び図面に記載される構造及び操作の特定の詳細に限定されるべきではない。
【0130】
〔実施の態様〕
（１） カテーテルであって、
長手方向軸に沿って延在し、かつ前記長手方向軸に直交する第１の直交軸において振幅を有する起伏を含む波形支柱と、
前記波形支柱の少なくとも一部分の周りに配設され、かつ前記起伏の前記振幅よりも大きい幅を含む電気絶縁構造体であって、前記幅が、前記長手方向軸に直交し、かつ前記第１の直交軸に直交する第２の直交軸に沿って測定されたものである、電気絶縁構造体と、
前記電気絶縁構造体に結合された１つ又は２つ以上の電極と、を備える、カテーテル。
（２） 各々が前記長手方向軸に沿って延在し、各々が前記第１の直交軸において起伏を含む、複数の波形支柱と、
前記複数の波形支柱の周りに配設された１つ又は２つ以上の電気絶縁構造体と、
前記１つ又は２つ以上の電気絶縁構造体上に配設された電極のアレイと、を更に備える、実施態様１に記載のカテーテル。
（３） 前記電極のアレイが、前記第１の直交軸に直交する平面内に配置されている、実施態様２に記載のカテーテル。
（４） 前記起伏の前記振幅は、前記第１の直交軸に沿って間隙を画定し、前記１つ又は２つ以上の電極が、主に、前記間隙の外側に配設されている、実施態様１に記載のカテーテル。
（５） 前記起伏の波長は、前記波形支柱の長さに沿って変化する、実施態様１に記載のカテーテル。
（１） カテーテルであって、
長手方向軸に沿って延在し、かつ前記長手方向軸に直交する第１の直交軸において振幅を有する起伏を含む波形支柱と、
前記波形支柱の少なくとも一部分の周りに配設され、かつ前記起伏の前記振幅よりも大きい幅を含む電気絶縁構造体であって、前記幅が、前記長手方向軸に直交し、かつ前記第１の直交軸に直交する第２の直交軸に沿って測定されたものである、電気絶縁構造体と、
前記電気絶縁構造体に結合された１つ又は２つ以上の電極と、を備える、カテーテル。
（２） 各々が前記長手方向軸に沿って延在し、各々が前記第１の直交軸において起伏を含む、複数の波形支柱と、
前記複数の波形支柱の周りに配設された１つ又は２つ以上の電気絶縁構造体と、
前記１つ又は２つ以上の電気絶縁構造体上に配設された電極のアレイと、を更に備える、実施態様１に記載のカテーテル。
（３） 前記電極のアレイが、前記第１の直交軸に直交する平面内に配置されている、実施態様２に記載のカテーテル。
（４） 前記起伏の前記振幅は、前記第１の直交軸に沿って間隙を画定し、前記１つ又は２つ以上の電極が、主に、前記間隙の外側に配設されている、実施態様１に記載のカテーテル。
（５） 前記起伏の波長は、前記波形支柱の長さに沿って変化する、実施態様１に記載のカテーテル。
【0131】
（６） 前記長手方向軸に沿って延在するシャフトと、
前記シャフトの遠位端に配設されたエンドエフェクタであって、前記波形支柱と、前記電気絶縁構造体と、前記１つ又は２つ以上の電極とを備える、エンドエフェクタと、を更に備える、実施態様１に記載のカテーテル。
（７） 前記波形支柱と、前記電気絶縁構造体と、前記１つ又は２つ以上の電極とを備える直線状スパインを更に備え、前記１つ又は２つ以上の電極が、前記電気絶縁構造体を取り囲むリング電極を備え、前記リング電極が、前記起伏の前記振幅よりも大きい内径を含む、実施態様１に記載のカテーテル。
（８） 前記直線状スパインの前記電気絶縁構造体が、内部を通る管腔を有する細長い部材を備え、前記波形支柱の少なくとも一部分が、前記管腔を通って延在し、前記波形支柱が中を通って延在する前記細長い部材の幅が、前記管腔内の前記波形支柱の前記一部分の前記起伏の前記振幅よりも大きい、実施態様７に記載のカテーテル。
（９） 前記電気絶縁構造体が、前記第１の直交軸に直交する一対の平面膜を備え、前記波形支柱が、前記一対の平面膜の間に位置付けられている、実施態様１に記載のカテーテル。
（１０） 前記１つ又は２つ以上の電極が、前記波形支柱の両側の前記一対の平面膜上に互いに反対に位置付けられた一対の電極を備える、実施態様９に記載のカテーテル。
前記シャフトの遠位端に配設されたエンドエフェクタであって、前記波形支柱と、前記電気絶縁構造体と、前記１つ又は２つ以上の電極とを備える、エンドエフェクタと、を更に備える、実施態様１に記載のカテーテル。
（７） 前記波形支柱と、前記電気絶縁構造体と、前記１つ又は２つ以上の電極とを備える直線状スパインを更に備え、前記１つ又は２つ以上の電極が、前記電気絶縁構造体を取り囲むリング電極を備え、前記リング電極が、前記起伏の前記振幅よりも大きい内径を含む、実施態様１に記載のカテーテル。
（８） 前記直線状スパインの前記電気絶縁構造体が、内部を通る管腔を有する細長い部材を備え、前記波形支柱の少なくとも一部分が、前記管腔を通って延在し、前記波形支柱が中を通って延在する前記細長い部材の幅が、前記管腔内の前記波形支柱の前記一部分の前記起伏の前記振幅よりも大きい、実施態様７に記載のカテーテル。
（９） 前記電気絶縁構造体が、前記第１の直交軸に直交する一対の平面膜を備え、前記波形支柱が、前記一対の平面膜の間に位置付けられている、実施態様１に記載のカテーテル。
（１０） 前記１つ又は２つ以上の電極が、前記波形支柱の両側の前記一対の平面膜上に互いに反対に位置付けられた一対の電極を備える、実施態様９に記載のカテーテル。
【0132】
（１１） カテーテルのエンドエフェクタであって、
前記カテーテルの長手方向軸が前記エンドエフェクタの平面に平行であり、第１の直交軸が前記エンドエフェクタの前記平面に直交し、第２の直交軸が前記長手方向軸に直交し、かつ前記第１の直交軸に直交するような平面構成で配置された複数のループ部材と、
前記複数のループ部材のうちの第１のループ部材を通って延在する第１の波形支柱を備える第１の支持フレームと、を備える、エンドエフェクタ。
（１２） 前記複数のループ部材のうちの第２のループ部材を通って延在する第２の波形支柱を備える第２の支持フレーム、を更に備える、実施態様１１に記載のエンドエフェクタ。
（１３） 前記第１の波形支柱が、前記第２の波形支柱に平行であり、前記長手方向軸に平行に延在する、実施態様１２に記載のエンドエフェクタ。
（１４） 前記複数のループ部材が、前記長手方向軸に平行な外側スパインを備え、前記第１の波形支柱及び前記第２の波形支柱が、前記外側スパイン内にそれぞれ位置付けられた、実施態様１２に記載のエンドエフェクタ。
（１５） 前記複数のループ部材が、前記長手方向軸に平行な内側スパインを備え、前記第１の波形支柱及び前記第２の波形支柱が、前記内側スパイン内にそれぞれ位置付けられた、実施態様１２に記載のエンドエフェクタ。
前記カテーテルの長手方向軸が前記エンドエフェクタの平面に平行であり、第１の直交軸が前記エンドエフェクタの前記平面に直交し、第２の直交軸が前記長手方向軸に直交し、かつ前記第１の直交軸に直交するような平面構成で配置された複数のループ部材と、
前記複数のループ部材のうちの第１のループ部材を通って延在する第１の波形支柱を備える第１の支持フレームと、を備える、エンドエフェクタ。
（１２） 前記複数のループ部材のうちの第２のループ部材を通って延在する第２の波形支柱を備える第２の支持フレーム、を更に備える、実施態様１１に記載のエンドエフェクタ。
（１３） 前記第１の波形支柱が、前記第２の波形支柱に平行であり、前記長手方向軸に平行に延在する、実施態様１２に記載のエンドエフェクタ。
（１４） 前記複数のループ部材が、前記長手方向軸に平行な外側スパインを備え、前記第１の波形支柱及び前記第２の波形支柱が、前記外側スパイン内にそれぞれ位置付けられた、実施態様１２に記載のエンドエフェクタ。
（１５） 前記複数のループ部材が、前記長手方向軸に平行な内側スパインを備え、前記第１の波形支柱及び前記第２の波形支柱が、前記内側スパイン内にそれぞれ位置付けられた、実施態様１２に記載のエンドエフェクタ。
【0133】
（１６） 前記複数のループ部材が、前記第１のループ部材と、第２のループ部材と、第３のループ部材と、を備え、
前記第１のループ部材及び前記第３のループ部材が各々、外側スパイン及び内側スパインをそれぞれ備え、
前記第２のループ部材が、前記第１のループ部材及び前記第２のループ部材の外側スパインと内側スパインとの間に各々中心スパインを備える、実施態様１２に記載のエンドエフェクタ。
（１７） 前記第１の波形支柱が、前記第１のループ部材の遠位湾曲部分上に位置付けられている、実施態様１１に記載のエンドエフェクタ。
（１８） 前記第１のループ部材が、前記第１の支持フレームを少なくとも部分的に囲む第１の管状ハウジングを備え、前記第１の管状ハウジングが、前記第１の波形支柱の起伏の振幅よりも大きい幅を含み、前記幅が、前記第２の直交軸に沿って測定されたものであり、前記振幅が、前記第１の直交軸に沿って測定されたものである、実施態様１１に記載のエンドエフェクタ。
（１９） 前記第１のループ部材が、前記第１の支持フレームを少なくとも部分的に囲む管状ハウジングを備え、前記エンドエフェクタが、
前記管状ハウジング上に配設され、かつ前記エンドエフェクタの前記平面内に直線的に配置された１つ又は２つ以上の電極を更に備え、前記１つ又は２つ以上の電極が、前記管状ハウジングを取り囲むリング電極を備え、前記リング電極が、前記第１の波形支柱の起伏の振幅よりも大きい内径を含み、前記振幅が、前記第１の直交軸に沿って測定されたものである、実施態様１８に記載のエンドエフェクタ。
（２０） 前記第１の波形支柱の起伏の波長が、前記第１の波形支柱の長さに沿って変化する、実施態様１１に記載のエンドエフェクタ。
前記第１のループ部材及び前記第３のループ部材が各々、外側スパイン及び内側スパインをそれぞれ備え、
前記第２のループ部材が、前記第１のループ部材及び前記第２のループ部材の外側スパインと内側スパインとの間に各々中心スパインを備える、実施態様１２に記載のエンドエフェクタ。
（１７） 前記第１の波形支柱が、前記第１のループ部材の遠位湾曲部分上に位置付けられている、実施態様１１に記載のエンドエフェクタ。
（１８） 前記第１のループ部材が、前記第１の支持フレームを少なくとも部分的に囲む第１の管状ハウジングを備え、前記第１の管状ハウジングが、前記第１の波形支柱の起伏の振幅よりも大きい幅を含み、前記幅が、前記第２の直交軸に沿って測定されたものであり、前記振幅が、前記第１の直交軸に沿って測定されたものである、実施態様１１に記載のエンドエフェクタ。
（１９） 前記第１のループ部材が、前記第１の支持フレームを少なくとも部分的に囲む管状ハウジングを備え、前記エンドエフェクタが、
前記管状ハウジング上に配設され、かつ前記エンドエフェクタの前記平面内に直線的に配置された１つ又は２つ以上の電極を更に備え、前記１つ又は２つ以上の電極が、前記管状ハウジングを取り囲むリング電極を備え、前記リング電極が、前記第１の波形支柱の起伏の振幅よりも大きい内径を含み、前記振幅が、前記第１の直交軸に沿って測定されたものである、実施態様１８に記載のエンドエフェクタ。
（２０） 前記第１の波形支柱の起伏の波長が、前記第１の波形支柱の長さに沿って変化する、実施態様１１に記載のエンドエフェクタ。
【図1】
【図2A】
【図2B】
【図3A】
【図3B】
【図4A】
【図4B】
【図4C】
【図5A】
【図5B】
【図5C】
【図5D】
【図6A】
【図6B】
【図6C】
【図6D】
【図7A】
【図7B】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【外国語明細書】