特開 2024-71246 真空ラミネート装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024071246

(43)【公開日】2024-05-24

(54)【発明の名称】真空ラミネート装置

(51)【国際特許分類】

   B29C 63/02 20060101AFI20240517BHJP

【ＦＩ】

B29C63/02

【審査請求】有

【請求項の数】5

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022182087

(22)【出願日】2022-11-14

(11)【特許番号】

(45)【特許公報発行日】2023-02-20

(71)【出願人】

【識別番号】522445608

【氏名又は名称】株式会社エヌ・シー・ティ

(74)【代理人】

【識別番号】110003096

【氏名又は名称】弁理士法人第一テクニカル国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】田渕 浩之

(72)【発明者】

【氏名】崔 鍾仁

【テーマコード（参考）】

4F211

【Ｆターム（参考）】

4F211AC03

4F211AC07

4F211AD03

4F211AD08

4F211AG01

4F211AG03

4F211AH33

4F211AM28

4F211AR06

4F211SA07

4F211SC07

4F211SD01

4F211SJ11

4F211SJ31

4F211SP05

(57)【要約】

【課題】真空チャンバー内で発生するアウトガス等による影響を低減することにより、高品質なラミネート製品を製造でき、且つ、メンテナンス回数の増加や部品の寿命の低下を抑制できる真空ラミネート装置を提供する。
【解決手段】真空ラミネート装置１は、真空ポンプ７により減圧される真空チャンバー３と、真空チャンバー３内に設けられ、基材軸３５から供給された基材６５と、ドライフィルム軸４７，４９から供給されたドライフィルム６９と、を加熱しつつ加圧する加圧ローラ５５，５７と、真空チャンバー３内において加圧ローラ５５，５７の近傍に設けられ、真空ポンプ７により加圧ローラ５５，５７の近傍の気体を吸引するための吸引フード１７と、を有する。
【選択図】図1

【特許請求の範囲】

【請求項1】

真空ポンプにより減圧されるチャンバーと、
前記チャンバー内に設けられ、基材軸から供給された基材と、ドライフィルム軸から供給されたドライフィルムと、を加熱しつつ加圧する加圧ローラーと、
前記チャンバー内において前記加圧ローラーの近傍に設けられ、前記真空ポンプにより前記加圧ローラーの近傍の気体を吸引するための第１吸引口と、
を有することを特徴とする真空ラミネート装置。

【請求項2】

前記チャンバーの壁部に設けられ、前記真空ポンプにより前記チャンバー内の空気を吸引するための第２吸引口をさらに有する
ことを特徴とする請求項１に記載の真空ラミネート装置。

【請求項3】

前記第１吸引口と前記真空ポンプとを接続する第１ダクトと、
前記第１ダクトを開閉する第１バルブと、
前記第２吸引口と前記真空ポンプとを接続する第２ダクトと、
前記第２ダクトを開閉する第２バルブと、
をさらに有することを特徴とする請求項２に記載の真空ラミネート装置。

【請求項4】

前記チャンバー内が所定の圧力に減圧されるまでは前記第１バルブ及び前記第２バルブの両方が開放され、前記所定の圧力に減圧された後は前記第１バルブの開放が維持されつつ前記第２バルブが閉止されるように構成されている
ことを特徴とする請求項３に記載の真空ラミネート装置。

【請求項5】

前記チャンバー内において前記加圧ローラーの近傍に設けられ、気体を噴射する気体噴射ノズルをさらに有する
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の真空ラミネート装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、チャンバー内において減圧下でフィルム等を接合する真空ラミネート装置に関する。

【背景技術】

【0002】

真空チャンバー内において、減圧下でベースフィルムにラミネートフィルムを積層して接合する真空ラミネート装置が知られている。例えば特許文献１には、真空チャンバー内に設けられた上下一対の加圧ローラーによって加熱および加圧を行いながら、ベースフィルムと上下のレジストフィルムとを積層し、３層の接合フィルムを製造する真空ラミネート装置が記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００２－５２６１０号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

上記特許文献１に記載の真空ラミネート装置では、真空中で接合を行うため、ベースフィルムやレジストフィルムを含む各材料からアウトガスが発生する。特に、レジストフィルムに含まれる有機溶剤は加熱によりガス化し易い。またアウトガスの発生と共に、レジストフィルムに含まれるモノマーや、その他の異物等も飛散するおそれがある。これらのアウトガス等が接合フィルムに付着すると、製品の特性や品質の低下を招き、不良発生の原因にもなり得る。また、アウトガス等がベアリング等の部品に付着して蓄積すると、動作の妨げとなる場合があり、メンテナンス回数の増加や部品の寿命の低下を招く。

【0005】

本発明の目的は、真空チャンバー内で発生するアウトガス等による影響を低減することにより、高品質なラミネート製品を製造でき、且つ、メンテナンス回数の増加や部品の寿命の低下を抑制できるラミネート装置を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0006】

上記目的を達成するために、本願発明の真空ラミネート装置は、真空ポンプにより減圧されるチャンバーと、前記チャンバー内に設けられ、基材軸から供給された基材と、ドライフィルム軸から供給されたドライフィルムと、を加熱しつつ加圧する加圧ローラーと、前記チャンバー内において前記加圧ローラーの近傍に設けられ、前記真空ポンプにより前記加圧ローラーの近傍の気体を吸引するための第１吸引口と、を有する。

【0007】

本発明の真空ラミネート装置では、第１吸引口が加圧ローラーの近傍に設けられており、真空ポンプにより第１吸引口を介して加圧ローラーの近傍の気体を吸引する。これにより、チャンバー内の特に加圧ローラー近傍で発生する、ドライフィルムに含まれる有機溶剤のアウトガス、モノマー、異物等を吸引することができる。その結果、チャンバー内で発生するアウトガス等による影響を低減することができるので、高品質なラミネート製品を製造でき、且つ、メンテナンス回数の増加や部品の寿命の低下を抑制することができる。また、これらの機構により吸引循環機能となり、チャンバー内環境のクリーン度が高められる。

【0008】

また、本願発明の真空ラミネート装置は、前記チャンバーの壁部に設けられ、前記真空ポンプにより前記チャンバー内の空気を吸引するための第２吸引口をさらに有する。

【0009】

本発明の真空ラミネート装置では、加圧ローラーの近傍に設けられた第１吸引口に加えて、チャンバーの壁部に第２吸引口が設けられている。チャンバー内を減圧する際には、第１吸引口を介した局所的な排気のみでは効率が悪い。そこで、第１吸引口と第２吸引口の両方から空気、気体を吸引することにより、チャンバー内を効率良く減圧することができる。

【0010】

また、本願発明の真空ラミネート装置は、前記第１吸引口と前記真空ポンプとを接続する第１ダクトと、前記第１ダクトを開閉する第１バルブと、前記第２吸引口と前記真空ポンプとを接続する第２ダクトと、前記第２ダクトを開閉する第２バルブと、をさらに有する。

【0011】

本発明の真空ラミネート装置では、第１吸引口と真空ポンプとを接続する第１ダクトに第１バルブが設けられ、第２吸引口と真空ポンプとを接続する第２ダクトに第２バルブが設けられている。これにより、第１ダクトと第２ダクトを必要に応じて切り替えたり、開閉させることができる。例えば、チャンバー内を減圧する際には、第１ダクト及び第２ダクトの両方を開放することにより、第１吸引口及び第２吸引口の両方を介してチャンバー内の空気、気体を吸引することが可能となり、効率良く減圧することができる。また、減圧完了後、基材とドライフィルムとの接合を開始した後には、第２ダクトを閉じて第１ダクトのみを開放することにより、第１吸引口を介して加圧ローラーの近傍の気体を吸引することが可能となり、加圧ローラーの近傍で発生するアウトガス等による影響を低減することができる。

【0012】

また、本願発明の真空ラミネート装置は、前記チャンバー内が所定の圧力に減圧されるまでは前記第１バルブ及び前記第２バルブの両方が開放され、前記所定の圧力に減圧された後は前記第１バルブの開放が維持されつつ前記第２バルブが閉止されるように構成されている。

【0013】

本発明の真空ラミネート装置では、チャンバー内が所定の圧力に減圧されるまでは第１バルブ及び第２バルブを開放し、所定の圧力に減圧された後は第１バルブの開放を維持しつつ第２バルブを閉止させる。これにより、チャンバー内を減圧する際には、第１吸引口及び第２吸引口の両方を介してチャンバー内の空気、気体を吸引することが可能となり、効率良く減圧することができる。また、減圧完了後、基材とドライフィルムとの接合を開始した後には、第１吸引口を介して加圧ローラーの近傍の気体を吸引することが可能となり、加圧ローラーの近傍で発生するアウトガス等による影響を低減することができる。

【0014】

また、本願発明の真空ラミネート装置は、前記チャンバー内において前記加圧ローラーの近傍に設けられ、気体を噴射する気体噴射ノズルをさらに有する。

【0015】

本発明の真空ラミネート装置では、加圧ローラーの近傍に気体噴射ノズルが設けられている。これにより、適宜のタイミングで気体噴射ノズルから気体を噴射することにより、加圧ローラーの近傍に気体噴射ノズルから第１吸引口に向かう気体の流れを作り出し、ドライフィルムから発生するアウトガス、モノマー、異物等を効率良く吸引することができる。また、チャンバー内の圧力（真空度）を所定の範囲内に制御する場合に、例えば圧力が所定の範囲の下限値に達したタイミングで噴射することにより、チャンバー内の圧力を調整することができる。

【発明の効果】

【0016】

本発明によれば、真空チャンバー内で発生するアウトガス等による影響を低減することにより、高品質なラミネート製品を製造でき、且つ、メンテナンス回数の増加や部品の寿命の低下を抑制できる。

【図面の簡単な説明】

【0017】

【図1】実施形態に係る真空ラミネート装置の全体構成の一例を表す前面図である。

【図2】実施形態に係る真空ラミネート装置の全体構成の一例を表す右側面図である。

【図3】吸引フード及び気体噴射ノズルの配置構成の一例を表す加圧ローラーの近傍を拡大した前面図及び上面図である。

【図4】吸引フードの支持構成の一例を表す左側面図である。

【図5】吸引機構の回路構成の一例を表す回路図である。

【図6】変形例に係る吸引フード及び気体噴射バーの配置構成の一例を表す加圧ローラーの近傍を拡大した前面図及び上面図である。

【発明を実施するための形態】

【0018】

以下、本発明の一実施の形態について図面を参照しつつ説明する。

【0019】

＜１．真空ラミネート装置の全体構成＞
図１及び図２を用いて、本実施形態に係る真空ラミネート装置の全体構成の一例を説明する。図１は、本実施形態に係る真空ラミネート装置の全体構成の一例を表す前面図、図２は、本実施形態に係る真空ラミネート装置の全体構成の一例を表す右側面図である。なお、以下の説明においては、説明の便宜上、上下左右前後等の方向を適宜使用するが、それらの方向は各図に示す矢印の方向に対応している。

【0020】

図１及び図２に示すように、真空ラミネート装置１は、前方に位置する真空チャンバー３と、後方に位置する後方機械室５とを有する。真空チャンバー３（チャンバーの一例）の内部空間は、真空ポンプ７により空気を吸引されて所定の圧力に減圧される。真空チャンバー３と真空ポンプ７とは、ダクト９を介して接続されている。ダクト９の一端側は真空ポンプ７に連結され、ダクト９の他端側は、後方機械室５の内部において２つのダクト１１，１３に分岐する（後述の図５参照）。ダクト１１は、真空チャンバー３の後側の壁部３ａに設けられた吸引口１５に接続されている。吸引口１５（第２吸引口の一例）は、真空ポンプ７により真空チャンバー３内の空気を吸引するための吸引口である。ダクト１３は、吸引フード１７に接続されている。吸引フード１７については後述する。また、壁部３ａには、給気口１９が設けられている。給気口１９は、大気圧である後方機械室５と連通しており、開放されることで真空チャンバー３内に大気を導入する。

【0021】

図１に示すように、真空チャンバー３の前側の壁部３ｂには、２つの開口２１，２３が設けられており、これらの開口２１，２３は２つの開閉扉２２，２４（図１では図示省略。図２に開閉扉２４のみ図示）によりそれぞれ開閉される。開口２１，２３の間には柱２５が形成されており、真空チャンバー３の強度が確保されている。なお、強度を確保可能であれば開口の数は１つでもよいし、必要に応じて開口の数を３つ以上としてもよい。

【0022】

図２に示すように、真空チャンバー３の右側の壁部３ｃには、２つの点検窓２７，２７と、作業用の扉２９とが設けられている。また、後方機械室５の上部には、ダクト９を覆うダクトカバー３１と、警報ランプ３３が設置されている。

【0023】

図１に示すように、真空チャンバー３の内部には、基材軸３５と、保護材巻き取り軸３７と、ガイドローラー３９と、クリーニングユニット出口のガイドローラー４１と、予熱ローラー４３，４５と、ドライフィルム軸４７，４９と、保護フィルム巻き取り軸５１，５３と、加圧ローラー５５，５７と、冷却ローラー５９，６１と、ラミネート製品巻き取り軸６３と、が設けられている。なお、図１では、各軸及び各ローラーを支持する機構等の図示を省略している。

【0024】

基材軸３５は、基材６５が巻き取りされて構成されており、基材６５を供給する。基材６５は、例えば銅箔や金属薄膜、フレキシブル基板用途（ＦＰＣ、ＣＯＦ、メトロサーク等）、フィルム状基板用途（タッチセンサー等）、ディスプレイマスク用途（有機ＥＬ、ＬＣＤ等）等である。但し、ロール状に巻き取り可能なラミネートされる材料であれば、上記以外でもよい。

【0025】

基材軸３５から供給された基材６５は、ガイドローラー３９により所定の曲率に調整されつつ、保護材６７が剥離されて保護材巻き取り軸３７に巻き取られる。保護材６７が剥離された基材６５は、クリーニングユニット出口のガイドローラー４１を通り、２つの予熱ローラー４３，４５により予熱される。なお、予熱ローラーの数は１つでもよいし、必要に応じて予熱ローラーの数を３つ以上としてもよい。

【0026】

ドライフィルム軸４７，４９は、ロール状に巻かれたドライフィルム６９を固定しており、繰り出しながらドライフィルム６９を供給する。ドライフィルム６９は、感光性レジストをフィルム状に加工した材料である。ドライフィルム軸４７，４９から供給されたドライフィルム６９は、複数のローラーを介して搬送されつつ、保護フィルム７１が剥離されて保護フィルム巻き取り軸５１，５３にそれぞれ巻き取られる。

【0027】

基材軸３５から供給された基材６５と、ドライフィルム軸４７，４９から供給されたドライフィルム６９とは、加圧ローラー５５，５７により加熱及び加圧されて接合される。加熱温度は、例えば１００℃～１１０℃である。これにより、基材６５の上下両面に対してドライフィルム６９がそれぞれ接合され、ラミネートされた製品７３が生成される。なお、基材６５の片面に対してドライフィルム６９が接合されてもよい。

【0028】

ラミネート製品７３は、２つの冷却ローラー５９，６１により所定の温度まで冷却される。なお、十分に冷却可能であれば冷却ローラーの数は１つでもよいし、必要に応じて冷却ローラーの数を３つ以上としてもよい。冷却されたラミネート製品７３は、ラミネート製品巻き取り軸６３に巻き取られる。

【0029】

＜２．アウトガスの吸引機構＞
ラミネート装置１では、真空中で接合を行うため、基材６５やドライフィルム６９を含む各材料からアウトガスが発生する。特に、ドライフィルム６９に含まれる有機溶剤は加熱によりガス化し易い。またアウトガスの発生と共に、ドライフィルム６９に含まれるモノマーや、その他の異物等も飛散するおそれがある。これらのアウトガス等が基材６５やラミネート製品７３に付着すると、製品の特性や品質の低下を招く。また、アウトガス等が各軸や各ローラーを回転可能に支持するベアリング等の部品に付着して蓄積すると、回転動作の妨げとなる場合があり、メンテナンス回数の増加や部品の寿命の低下を招く。

【0030】

そこで真空ラミネート装置１は、アウトガス等の吸引機構を有する。具体的には、吸引フード１７が加圧ローラー５５，５７の近傍に設けられており、真空ポンプ７により吸引フード１７を介して加圧ローラー５５，５７の近傍の気体を吸引する。これにより、真空チャンバー３内の特に加圧ローラー５５，５７近傍で発生する、ドライフィルム６９からのアウトガス、モノマー、異物等を吸引することができる。さらに、加圧ローラー５５，５７の近傍に気体噴射ノズル７５が設けられている。これにより、適宜のタイミングで気体噴射ノズル７５から気体を噴射することにより、加圧ローラー５５，５７の近傍に気体噴射ノズル７５から吸引フード１７に向かう気体の流れを作り出し、ドライフィルム６９から発生するアウトガス、モノマー、異物等を効率良く吸引することができる。

【0031】

以下、図３～図４を用いて、上記アウトガスの吸引機構の構成の詳細について説明する。図３（ａ）は、吸引フード１７及び気体噴射ノズル７５の配置構成の一例を表す加圧ローラー５５，５７の近傍を拡大した前面図、図３（ｂ）は、吸引フード１７及び気体噴射ノズル７５の配置構成の一例を表す加圧ローラー５５，５７の近傍を拡大した上面図、図４は、吸引フード１７の支持構成の一例を表す左側面図である。

【0032】

図３（ａ）、図３（ｂ）及び図４に示すように、吸引フード１７（第１吸引口の一例）は、前後方向に長い略直方体形状の箱状部材であり、加圧ローラー５５，５７と対向する右側及び右斜め下側が開口部１７ａとして開口している。図３（ｂ）に示すように、吸引フード１７の前後方向の長さは、加圧ローラー５５，５７よりも長く、加圧ローラー５５，５７の前後方向両側に配置された２つの気体噴射ノズル７５，７５の間隔と同等またはそれよりも長くなるように形成されている。吸引フード１７は、加圧ローラー５５，５７の近傍、具体的には加圧ローラー５５，５７の左側上方に略水平に配置されている。言い換えると、吸引フード１７は、基材６５の搬送方向において加圧ローラー５５，５７の上流側の上方に配置されている。図３（ａ）に示す例では、例えば予熱ローラー４５の上方に配置されている。なお、吸引効果を高めるために、吸引フード１７を予熱ローラー４５の下部に追加することもできる。

【0033】

吸引フード１７の上面には、前後方向の両側に一対のロッド７７，７７が連結されている。図４に示すように、ロッド７７，７７は、真空チャンバー３の後側のフレーム３ｄから前側に向けて略水平に突出した支持部材７９により、上下方向に昇降可能に支持されている。これにより、作業者は手動で吸引フード１７を昇降させることが可能であり、適宜の高さで固定具８１によって固定することができる。図３（ａ）に実線で示した位置は、吸引フード１７が最も下端に移動した場合の位置であり、真空ラミネート装置１において基材６５とドライフィルム６９が接合される実稼動中に当該位置に移動される。図３（ａ）に一点鎖線で示した位置は、吸引フード１７が最も上端に移動した場合の位置であり、例えば真空ラミネート装置１においてメンテナンスが実行される際に当該位置に移動される。

【0034】

吸引フード１７の上面には、ロッド７７，７７の間の例えば前後方向における３箇所に、吸引ホース８３が分岐されて接続されている。吸引ホース８３が前後方向の複数箇所に分岐されて接続されることで、前後方向に長い吸引フード１７を介してアウトガス等を前後方向に満遍なく吸引することが可能である。１本に合流された吸引ホース８３は、真空チャンバー３の後側の壁部３ａに設けられたフランジ８５を介してダクト１３に接続されている（後述の図５参照）。

【0035】

なお、吸引フード１７は、アウトガス、モノマー、異物などが付着するため、製品交換時又は作業終了後に、清掃を行うために着脱することが可能である。

【0036】

図３（ａ）及び図３（ｂ）に示すように、２つの気体噴射ノズル７５，７５は、加圧ローラー５５，５７の近傍、具体的には加圧ローラー５５，５７の右側におけるラミネート製品７３の前後方向両側に配置されている。言い換えると、気体噴射ノズル７５，７５は、基材６５の搬送方向において加圧ローラー５５，５７の下流側の両側方に配置されている。気体噴射ノズル７５，７５は、加圧ローラー５５，５７の回転軸５５ａ，５７ａの間の空間を左側に向けて気体を噴射する。図３（ａ）に示すように、アウトガスは主としてドライフィルム６９が加圧ローラー５５，５７により加熱及び加圧されるエリア８７において発生する。適宜のタイミングで気体噴射ノズル７５，７５から気体を噴射することにより、加圧ローラー５５，５７の近傍に気体噴射ノズル７５，７５から吸引フード１７に向かう気体の流れを作り出し、エリア８７等から発生するアウトガス、モノマー、異物等を効率良く吸引することができる。

【0037】

図５は、吸引機構の回路構成の一例を表す回路図である。図５に示すように、例えば気体流量源８９からクリーン濾過フィルタ９１を介して供給された気体は、例えば後方機械室５内に設けられた流量調整弁９３と、真空チャンバー３内に設けられた流量調整弁９５，９７により流量を調整されて、各気体噴射ノズル７５，７５に供給される。気体噴射ノズル７５，７５は、所定のタイミングで気体を噴射するように制御される。例えば、真空チャンバー３内の圧力が所定の範囲の下限値に達したタイミングで噴射することにより、真空チャンバー３内の圧力（真空度）を所定の範囲に調整することができる。

【0038】

吸引フード１７に連結された吸引ホース８３は、真空チャンバー３の後側の壁部３ａに設けられたフランジ８５を介してダクト１３に接続されている。ダクト１３（第１ダクトの一例）は、吸引フード１７と真空ポンプ７とを接続するためのダクトである。ダクト１３にはクリーン濾過フィルタ９９が設けられており、吸引フード１７から吸引されたモノマー、異物等を除去する。また、ダクト１３には、開閉バルブ１０１（第１バルブの一例）が設けられており、ダクト１３が適宜のタイミングで開閉される。クリーン濾過フィルタ９９の設置により、モノマーや異物等の付着による開閉バルブ１０１の動作不良を防止できる。

【0039】

一方、ダクト１１は、真空チャンバー３の後側の壁部３ａに設けられた吸引口１５に接続されている。ダクト１１（第２ダクトの一例）は、吸引口１５と真空ポンプ７とを接続するためのダクトである。ダクト１１には、開閉バルブ１０３（第２バルブの一例）が設けられており、ダクト１１が適宜のタイミングで開閉される。ダクト１１，１３は合流してダクト９となり、真空ポンプ７に接続されている。

【0040】

上記構成である吸引機構は、真空チャンバー３内が所定の圧力に減圧されるまでは開閉バルブ１０１，１０３の両方が開放され、真空チャンバー３内が所定の圧力まで減圧された後は、開閉バルブ１０１の開放が維持されつつ、開閉バルブ１０３が閉止されるように制御される。これにより、真空チャンバー３内を減圧する際には、吸引フード１７及び吸引口１５の両方を介して真空チャンバー３内の空気、気体を吸引することが可能となり、効率良く減圧することができる。また、減圧完了後、基材６５とドライフィルム６９との接合を開始した後には、吸引フード１７を介して加圧ローラー５５，５７の近傍の気体を吸引することが可能となり、加圧ローラー５５，５７の近傍で発生するアウトガス等による影響を低減することができる。

【0041】

なお、真空チャンバー３内が所定の圧力に減圧されるまでは開閉バルブ１０３が開放されると共に開閉バルブ１０１が閉止され、真空チャンバー３内が所定の圧力まで減圧された後は、開閉バルブ１０１が開放されると共に開閉バルブ１０３が閉止されるように制御されてもよい。これにより、真空チャンバー３内を減圧する際には吸引口１５を介して真空チャンバー３内の空気を吸引し、減圧完了後、基材６５とドライフィルム６９との接合を開始した後には、吸引フード１７を介して加圧ローラー５５，５７の近傍の気体を吸引することができる。

【0042】

＜３．実施形態の効果＞
以上説明したように、本実施形態に係る真空ラミネート装置１では、吸引フード１７が加圧ローラー５５，５７の近傍に設けられており、真空ポンプ７により吸引フード１７を介して加圧ローラー５５，５７の近傍の気体を吸引する。これにより、真空チャンバー３内の特に加圧ローラー５５，５７近傍で発生する、ドライフィルム６９に含まれる有機溶剤のアウトガス、モノマー、異物等を吸引することができる。その結果、真空チャンバー３内で発生するアウトガス等による影響を低減することができるので、高品質なラミネート製品を製造でき、且つ、メンテナンス回数の増加や部品の寿命の低下を抑制することができる。また、これらの機構により吸引循環機能となり、真空チャンバー３内環境のクリーン度が高められる。

【0043】

また、真空ラミネート装置１では、加圧ローラー５５，５７の近傍に設けられた吸引フード１７に加えて、真空チャンバー３の後側の壁部３ａに吸引口１５が設けられている。真空チャンバー３内を減圧する際には、吸引フード１７を介した局所的な排気のみでは効率が悪い。そこで、吸引フード１７と吸引口１５の両方から空気、気体を吸引することにより、真空チャンバー３内を効率良く減圧することができる。

【0044】

また、本実施形態の真空ラミネート装置１では、吸引フード１７と真空ポンプ７とを接続するダクト１３に開閉バルブ１０１が設けられ、吸引口１５と真空ポンプ７とを接続するダクト１１に開閉バルブ１０３が設けられている。これにより、ダクト１１とダクト１３を必要に応じて切り替えたり、開閉させることができる。例えば、真空チャンバー３内を減圧する際には、開閉バルブ１０１，１０３の両方を開放することにより、吸引フード１７及び吸引口１５の両方を介して真空チャンバー３内の空気、気体を吸引することが可能となり、効率良く減圧することができる。また、減圧完了後、基材６５とドライフィルム６９との接合を開始した後には、開閉バルブ１０３を閉じて開閉バルブ１０１のみを開放することにより、真空ラミネート装置１の稼働中には常に吸引フード１７を介して加圧ローラー５５，５７の近傍の気体を吸引することが可能となり、加圧ローラー５５，５７の近傍で発生するアウトガス等による影響を低減することができる。

【0045】

また、本実施形態の真空ラミネート装置１では、加圧ローラー５５，５７の近傍に気体噴射ノズル７５が設けられている。これにより、適宜のタイミングで気体噴射ノズル７５から気体を噴射することにより、加圧ローラー５５，５７の近傍に気体噴射ノズル７５から吸引フード１７に向かう気体の流れを作り出し、ドライフィルム６９から発生するアウトガス、モノマー、異物等を効率良く吸引することができる。また、真空チャンバー３内の圧力を所定の範囲内に制御する場合に、例えば圧力が所定の範囲の下限値に達したタイミングで気体を噴射することにより、真空チャンバー３内の圧力（真空度）を調整することができる。

【0046】

＜４．変形例＞
本発明は、以上説明した実施形態に限られるものではなく、その趣旨及び技術的思想を逸脱しない範囲内で種々の変形が可能である。以下、そのような変形例を説明する。

【0047】

上記実施形態では、吸引フード１７を加圧ローラー５５，５７の左側上方に略水平に配置したが、吸引フードの配置構成は上記に限定されるものではない。例えば、吸引フードを加圧ローラー５５，５７の側方に略垂直に配置してもよい。以下、図６を用いて本変形例の詳細について説明する。図６（ａ）は、本変形例に係る吸引フード及び気体噴射バーの配置構成の一例を表す加圧ローラー５５，５７の近傍を拡大した前面図、図６（ｂ）は、吸引フード及び気体噴射バーの配置構成の一例を表す加圧ローラー５５，５７の近傍を拡大した上面図である。

【0048】

図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、吸引フード１０５（第１吸引口の一例）は、上下方向に長い略直方体形状の箱状部材であり、加圧ローラー５５，５７と対向する右側前方が開口部１０５ａとして開口している。図６（ａ）に示すように、吸引フード１０５の上下方向の長さは、加圧ローラー５５，５７の上下方向の寸法よりも長く、加圧ローラー５５，５７の前後方向両側に配置された、気体噴射バー１０７，１０９の上下方向の寸法と同等またはそれよりも長くなるように形成されている。吸引フード１０５は、加圧ローラー５５，５７の近傍、具体的には加圧ローラー５５，５７の左側後方に略垂直に配置されている。言い換えると、吸引フード１０５は、基材６５の搬送方向において加圧ローラー５５，５７の上流側の後側方に配置されている。図６（ａ）に示す例では、例えば予熱ローラー４５の後方に配置されている。

【0049】

吸引フード１０５の後側には、例えば上下方向における３箇所に、吸引ホース８３が分岐されて接続されている。なお、図６（ａ）には、吸引ホース８３に連通する３つの吸引口１０５ｂが図示されている。吸引ホース８３が上下方向の複数箇所に分岐されて接続されることで、上下方向に長い吸引フード１０５を介してアウトガス等を上下方向に満遍なく吸引することが可能である。１本に合流された吸引ホース８３は、真空チャンバー３の後側の壁部３ａに設けられたフランジ８５を介してダクト１３に接続されている（前述の図５参照）。

【0050】

加圧ローラー５５，５７の左側上方には、フードカバー１１１が略水平に配置されている。図６（ａ）に示すように、フードカバー１１１は、前後方向から見た形状が略Ｌ字型である屈曲した板状部材である。図６（ｂ）に示すように、フードカバー１１１の前後方向の長さは、加圧ローラー５５，５７よりも長く、加圧ローラー５５，５７の前後方向両側に配置された２つの気体噴射バー１０９，１０９の間隔と同等またはそれよりも長くなるように形成されている。フードカバー１１１は、昇降機構（図示省略）により上下方向に昇降可能に支持されている。図６（ａ）に実線で示した位置は、フードカバー１１１が最も下端に移動した場合の位置であり、真空ラミネート装置１の実稼動中に当該位置に移動される。図６（ａ）に一点鎖線で示した位置は、フードカバー１１１が最も上端に移動した場合の位置であり、例えばメンテナンスが実行される際に当該位置に移動される。なお、吸引効果を高めるために、フードカバー１１１を加圧ローラー５５，５７の左側下部に追加することもできる。

【0051】

なお、吸引フード１０５及びフードカバー１１１は、アウトガス、モノマー、異物などが付着するため、製品交換時又は作業終了後に、清掃を行うために着脱することが可能である。

【0052】

図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、２つの気体噴射バー１０９，１０９（気体噴射ノズルの一例）は、加圧ローラー５５，５７の近傍、具体的には加圧ローラー５５，５７の右側におけるラミネート製品７３の前後方向両側に配置されている。気体噴射バー１０９，１０９は、上下方向に幅広で且つ前後方向に薄い層状（カーテン状）の気体を左側に向けて噴射する。また、気体噴射バー１０７（気体噴射ノズルの一例）は、加圧ローラー５５，５７の近傍、具体的には加圧ローラー５５，５７の左側における基材６５の前方に配置されている。気体噴射バー１０７は、上下方向に幅広で且つ前後方向に薄い層状（カーテン状）の気体を後側に向けて噴射する。気体噴射バー１０７から噴射された気体は、フードカバー１１１により後方の吸引フード１０５に向けて誘導される。適宜のタイミングで気体噴射バー１０７，１０９のそれぞれから気体を噴射することにより、加圧ローラー５５，５７の周囲に吸引フード１０５に向かう気体の流れを作り出し、ドライフィルム６９のエリア８７から発生するアウトガス、モノマー、異物等を効率良く吸引することができる。なお、気体噴射バー１０９，１０９と気体噴射バー１０７の噴射タイミングは同時でもよいし、例えば気体噴射バー１０９，１０９を先に噴射させて気体噴射バー１０７を後に噴射させる等、時間差を設けてもよい。

【0053】

以上説明した変形例によっても、前述の実施形態と同様の効果を得ることができる。

【0054】

なお、前述の実施形態及び上記変形例においては、真空チャンバー３の後側の壁部３ａに設けられた吸引口１５とは別に、壁部３ａにフランジ８５を設けて吸引フード１７又は吸引フード１０５を接続するようにしたが、例えば吸引フード１７又は吸引フード１０５を吸引口１５に直接接続してもよい。このようにしても、吸引フード１７又は吸引フード１０５から吸引口１５及びダクト１１，９を介して、加圧ローラー５５，５７の近傍の気体を吸引することができる。この場合、フランジ８５、ダクト１３、開閉バルブ１０１，１０３等が不要となり、真空ラミネート装置１の構造を簡素化できる。

【0055】

また、以上既に述べた以外にも、上記実施形態や各変形例による手法を適宜組み合わせて利用しても良い。

【0056】

その他、一々例示はしないが、本発明は、その趣旨を逸脱しない範囲内において、種々の変更が加えられて実施されるものである。

【符号の説明】

【0057】

１ 真空ラミネート装置
３ 真空チャンバー（チャンバーの一例）
３ａ 壁部
３ｂ 壁部
３ｃ 壁部
３ｄ フレーム
５ 後方機械室
７ 真空ポンプ
９ ダクト
１１ ダクト（第２ダクトの一例）
１３ ダクト（第１ダクトの一例）
１５ 吸引口（第２吸引口の一例）
１７ 吸引フード（第１吸引口の一例）
１７ａ 開口部
１９ 給気口
２１ 開口
２２ 開閉扉
２３ 開口
２４ 開閉扉
２５ 柱
２７ 点検窓
２９ 扉
３１ ダクトカバー
３３ 警報ランプ
３５ 基材軸
３７ 保護材巻き取り軸
３９ ガイドローラー
４１ ガイドローラー
４３ 予熱ローラー
４５ 予熱ローラー
４７ ドライフィルム軸
４９ ドライフィルム軸
５１ 保護フィルム巻き取り軸
５３ 保護フィルム巻き取り軸
５５ 加圧ローラー
５５ａ 回転軸
５７ 加圧ローラー
５７ａ 回転軸
５９ 冷却ローラー
６１ 冷却ローラー
６３ ラミネート製品巻き取り軸
６５ 基材
６７ 保護材
６９ ドライフィルム
７１ 保護フィルム
７３ ラミネート製品
７５ 気体噴射ノズル
７７ ロッド
７９ 支持部材
８１ 固定具
８３ 吸引ホース
８５ フランジ
８７ エリア
８９ 気体流量源
９１ クリーン濾過フィルタ
９３ 流量調整弁
９５ 流量調整弁
９７ 流量調整弁
９９ クリーン濾過フィルタ
１０１ 開閉バルブ（第１バルブの一例）
１０３ 開閉バルブ（第２バルブの一例）
１０５ 吸引フード（第１吸引口の一例）
１０５ａ 開口部
１０５ｂ 吸引口
１０７ 気体噴射バー（気体噴射ノズルの一例）
１０９ 気体噴射バー（気体噴射ノズルの一例）
１１１ フードカバー

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【手続補正書】

【提出日】2022-12-23

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

真空ポンプにより減圧されるチャンバーと、
前記チャンバー内に設けられ、基材軸から供給された基材と、ドライフィルム軸から供給されたドライフィルムと、を加熱しつつ加圧する加圧ローラーと、
前記チャンバー内において前記基材の搬送方向において前記加圧ローラーの上流側に設けられ、前記真空ポンプにより前記ドライフィルムが前記加圧ローラーにより加熱及び加圧されるエリアにおいて発生するアウトガスを含む気体を吸引するための第１吸引口と、
を有し、
前記第１吸引口は、
開口部を備えた部材であり、前記開口部が前記加圧ローラーと対向するように前記チャンバーの壁部により支持されている
ことを特徴とする真空ラミネート装置。

【請求項2】

前記チャンバーの前記壁部に設けられ、前記真空ポンプにより前記チャンバー内の空気を吸引するための第２吸引口をさらに有する
ことを特徴とする請求項１に記載の真空ラミネート装置。

【請求項3】

前記第１吸引口と前記真空ポンプとを接続する第１ダクトと、
前記第１ダクトを開閉する第１バルブと、
前記第２吸引口と前記真空ポンプとを接続する第２ダクトと、
前記第２ダクトを開閉する第２バルブと、
をさらに有することを特徴とする請求項２に記載の真空ラミネート装置。

【請求項4】

真空ポンプにより減圧されるチャンバーと、
前記チャンバー内に設けられ、基材軸から供給された基材と、ドライフィルム軸から供給されたドライフィルムと、を加熱しつつ加圧する加圧ローラーと、
前記チャンバー内において前記基材の搬送方向において前記加圧ローラーの上流側に設けられ、前記真空ポンプにより前記ドライフィルムが前記加圧ローラーにより加熱及び加圧されるエリアにおいて発生するアウトガスを含む気体を吸引するための第１吸引口と、
前記チャンバーの壁部に設けられ、前記真空ポンプにより前記チャンバー内の空気を吸引するための第２吸引口と、
前記第１吸引口と前記真空ポンプとを接続する第１ダクトと、
前記第１ダクトを開閉する第１バルブと、
前記第２吸引口と前記真空ポンプとを接続する第２ダクトと、
前記第２ダクトを開閉する第２バルブと、
を有し、
前記チャンバー内が所定の圧力に減圧されるまでは前記第１バルブ及び前記第２バルブの両方が開放され、前記所定の圧力に減圧された後は前記第１バルブの開放が維持されつつ前記第２バルブが閉止されるように構成されている
ことを特徴とする真空ラミネート装置。

【請求項5】

真空ポンプにより減圧されるチャンバーと、
前記チャンバー内に設けられ、基材軸から供給された基材と、ドライフィルム軸から供給されたドライフィルムと、を加熱しつつ加圧する加圧ローラーと、
前記チャンバー内において前記基材の搬送方向において前記加圧ローラーの上流側に設けられ、前記真空ポンプにより前記ドライフィルムが前記加圧ローラーにより加熱及び加圧されるエリアにおいて発生するアウトガスを含む気体を吸引するための第１吸引口と、
前記チャンバー内に設けられ、気体を噴射することで前記加圧ローラーの周囲に前記第１吸引口に向かう気体の流れを作り出す気体噴射ノズルと、を有する
ことを特徴とする真空ラミネート装置。